JP2023184251A - クーラント循環装置 - Google Patents

Abstract

【課題】装置の大型化を抑えつつ、クーラントの回収経路におけるスラッジの堆積を抑えることのできるクーラント循環装置を提供する。【解決手段】第１供給部２３は、研削加工機１０による研削加工の実行時において、ポンプ２２によって圧送されるクーラントを研削加工機１０の加工部分に供給する。回収経路２４１は、クーラントが流入する樋状をなす態様で研削加工機１０の支持台１１の外縁に沿って延びるとともに、下流側の端部がタンク２１に連通されている。第２供給部２５は、ポンプ２２によって圧送されるクーラントを、回収経路２４１の噴射バルブ５１～５４に供給する。電子制御装置２６は、研削加工の実行時における第２供給部２５によるクーラントの供給量と比較して、研削加工の実行停止時において第２供給部２５によってクーラントを供給するときにおける同クーラントの供給量が多くなる態様で、第２供給部２５の作動を制御する。【選択図】図２

Description

本発明は、クーラント循環装置に関するものである。

従来、支持台に支持された加工対象物（いわゆるワーク）の表面を、回転砥石などの研削工具によって研削加工する研削加工機が多用されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１に記載の研削加工機は、研削工具によってワークを加工する部分（以下、加工部分）にクーラントを供給する供給部と、加工部分における加工に供された後のクーラントを回収する回収部とを有する。

供給部は、クーラントを貯留するタンクや、同タンク内のクーラントを圧送するためのポンプ、タンクと加工部分とを接続する供給経路を有する。供給部は、研削加工機による研削加工の実行に際して、タンク内のクーラントをポンプによって圧送することで、供給経路を介して加工部分にクーラントを供給する。

回収部は、支持台の外縁部分とタンクとを接続する回収経路を有する。研削工具による加工に供されたクーラントは、支持台を伝い落ちる等して、回収経路に流入する。この回収経路によって、クーラントは集められてタンクに戻される。

特許第６５５７７５９号公報

上記研削加工機では、研削工具による加工に供された後に回収経路に流入するクーラントは、スラッジを含んでいる。そのため、クーラントは、スラッジを含んだ状態で回収経路の内部を流れている。

回収経路を流れるクーラントの量は、加工部分におけるワークの加工のために必要なクーラントの量によって定まる。そのため、回収経路の各部におけるクーラントの流量や流速は、クーラントに含まれるスラッジを下流側に押し流すために十分な流量や流速になるとは限らない。そして、回収経路を流れるクーラントの量や速度が不足すると、クーラントに含まれるスラッジの一部が回収経路に残留して溜まるようになる。この場合には、回収経路に溜まったスラッジを定期的に掃除（除去）するといった煩雑な作業が必要になってしまう。

回収経路にスラッジが溜まることを回避するために、供給部によって加工部分に供給されるクーラントの量を増やすことも考えられる。この場合には、クーラントを圧送するポンプなど、クーラント循環装置の構成部品の大型化を招いてしまう。

上記課題を解決するためのクーラント循環装置の各態様を記載する。
［態様１］支持台に支持されたワークを研削工具によって研削加工する研削加工機に適用されて、クーラントを貯留するタンクと、前記タンク内の前記クーラントを圧送するポンプと、前記研削加工機による研削加工の実行時において前記ポンプによって圧送される前記クーラントを前記研削加工機の加工部分に供給する第１供給部と、前記加工部分における加工に供された後の前記クーラントを前記タンクに回収する回収部と、を有するクーラント循環装置であって、前記回収部は、前記クーラントが流入する樋状をなす態様で前記支持台の外縁に沿って延びるとともに、前記クーラントの流れ方向における下流側の端部が前記タンクに連通された回収経路を有し、前記クーラント循環装置は、前記回収経路の内部で前記下流側に向けて前記クーラントを噴射する噴射バルブと、前記ポンプによって圧送される前記クーラントを前記噴射バルブに供給する第２供給部と、前記研削加工の実行時における前記第２供給部による前記クーラントの供給量と比較して、前記研削加工の実行停止時において前記第２供給部によって前記クーラントを供給するときにおける同クーラントの供給量が多くなる態様で、前記第２供給部の作動を制御する制御部と、を有するクーラント循環装置。

上記構成によれば、研削加工機による研削加工の実行時においては、第１供給部によって研削加工機の加工部分に供給されたクーラントが回収経路に流入しているため、回収経路の内部をクーラントは連続的に流れている。そのため、回収経路の内部において、クーラントに含まれるスラッジをクーラントともども下流側に流すことができる。

また、研削加工機による研削加工の実行停止時においては、回収経路に設けられた噴射バルブから、クーラントの流れ方向における下流側に向けて同クーラントが噴射される。そのため、回収経路の底にスラッジが溜まっている場合には、同スラッジを、噴射バルブから噴射されるクーラントによって押し流して除去することができる。これにより、回収経路におけるスラッジの堆積を抑えることができる。

上記構成では、研削加工の実行停止時においては、第１供給部による加工部分へのクーラントの供給が停止される。したがって、このときにはポンプの圧送能力（クーラントの供給能力）に余裕がある状態になる。上記構成によれば、そうした研削加工の実行停止時において、ポンプの圧送能力の余裕分を利用する態様で、第２供給部によって噴射バルブにクーラントを供給することができる。そのため、研削加工の実行停止時において噴射バルブからクーラントを噴射する構成を採用するとはいえ、これに起因してポンプの圧送能力が大きくなることを抑えることができる。したがって、クーラント循環装置の大型化を抑えることができる。

［態様２］前記回収部は、前記回収経路と前記タンクとの間に設けられるとともに、磁力によって前記クーラントに含まれる磁性粉体を吸着するマグネットセパレータを有しており、前記マグネットセパレータは、同マグネットセパレータの内部と前記回収経路の前記下流側の端部とが一体の１つの容器状をなす態様で、前記回収経路の前記下流側の端部に接続されてなる、［態様１］に記載のクーラント循環装置。

通常、マグネットセパレータは、磁力を有する吸着部と、クーラントが溜まる貯留部とを有する。そして、マグネットセパレータの使用に際しては、貯留部に溜まったクーラントに上記吸着部が浸かった状態になる。これにより、クーラント中の磁性粉体（スラッジを含む）が吸着部に吸着されて除去される。

上記構成によれば、回収経路の下流側の端部を、クーラントが溜まる貯留部として利用することができる。そのため、貯留部付きのマグネットセパレータを採用する場合と比較して、回収経路の一部を貯留部として流用可能になる分だけ、マグネットセパレータを小型化することができる。これにより、クーラント循環装置の小型化を図ることができる。

［態様３］前記噴射バルブは、前記回収経路の下流側の端部において前記クーラントが溜まる部分に設けられる、［態様２］に記載のクーラント循環装置。
研削加工機による研削加工の実行が停止されると、加工部分へのクーラントの供給も停止される。単にクーラントの供給を停止すると、樋状をなす回収経路の下流側の端部、詳しくはクーラントが溜まる部分において、クーラントに含まれるスラッジが沈殿して溜まるようになる。こうしたことから、回収経路の下流側の端部においてクーラントが溜まる部分は、スラッジが溜まり易い部分であると云える。

上記構成によれば、研削加工の実行停止時においてスラッジが溜まり易い部分に、クーラントを噴射する噴射バルブが設けられる。そのため、噴射バルブから噴射されるクーラントによってスラッジを押し流すことで、樋状をなす回収経路の底にスラッジが溜まることを好適に抑えることができる。

［態様４］前記噴射バルブは、前記クーラントが溜まる部分のうちの前記流れ方向における上流側の端部に設けられる、［態様３］に記載のクーラント循環装置。
上記構成によれば、回収経路の下流側の端部において前記クーラントが溜まる部分の全体に対して、噴射バルブから噴射されるクーラントによってスラッジを押し流すことができる。

［態様５］前記クーラントが溜まる部分は、前記流れ方向において屈曲して延びる角部を有し、前記噴射バルブは、前記角部に設けられる、［態様３］または［態様４］に記載のクーラント循環装置。

上記角部は、クーラントの流れに乱流が発生し易い部分であるため、スラッジが溜まり易い部分であると云える。上記構成によれば、そうした角部に噴射バルブが設けられるため、同角部にスラッジが溜まることを好適に抑えることができる。

［態様６］前記噴射バルブは、前記回収経路と前記マグネットセパレータとの連通部分に向けて前記クーラントを噴射する態様で設けられる、［態様３］～［態様５］のいずれか１つに記載のクーラント循環装置。

上記構成によれば、噴射バルブから噴射されるクーラントの勢いを利用して、スラッジを含むクーラントを、マグネットセパレータの内部に送ることができる。
［態様７］前記制御部は、前記研削加工の実行時においては、前記第２供給部による前記噴射バルブへの前記クーラントの供給を停止するものである、［態様１］～［態様６］のいずれか１つに記載のクーラント循環装置。

上記構成によれば、研削加工機による研削加工の実行時においては、第２供給部による噴射バルブへのクーラントの供給が停止されるため、ポンプの圧送能力の全てを、第１圧送部による加工部分へのクーラントの供給のために利用することができる。これにより、研削加工の実行時においても噴射バルブからのクーラントの噴射を実行する場合と比較して、圧送能力の低いポンプを採用することができる。したがって、ポンプの大型化、ひいてはクーラント循環装置の大型化を抑えることができる。

本発明によれば、クーラント循環装置の大型化を抑えつつ、クーラントの回収経路におけるスラッジの堆積を抑えることができる。

一実施形態のクーラント循環装置が適用される研削加工機の概略構成図である。 同実施形態のクーラント循環装置の概略構成図である。 同実施形態の回収経路およびマグネットセパレータの斜視図である。 同実施形態の回収経路およびマグネットセパレータの平面図である。 同実施形態のマグネットセパレータの側断面図である。 同実施形態の第３通路およびマグネットセパレータの側断面図である。 同実施形態の作動制御処理の実行態様を示すフローチャートである。

以下、クーラント循環装置の一実施形態について説明する。
先ず、本実施形態のクーラント循環装置が適用される研削加工機について説明する。
図１に示すように、研削加工機１０は支持台１１を有している。支持台１１は、平面視において外縁が長方形状をなしている。支持台１１の上部には、ワークテーブル１２が設けられている。ワークテーブル１２は、支持台１１に対して同支持台１１の長手方向Ｘに往復移動可能になっている。この研削加工機１０によって加工対象物（以下、ワークＷ）を加工する際には、ワークテーブル１２上にワークＷが支持される。

研削加工機１０は、加工ヘッド１３を有している。加工ヘッド１３には、研削工具としての回転砥石１４が装着されている。加工ヘッド１３は、支持台１１に対して上下方向Ｙに往復移動可能になっている。また加工ヘッド１３は、支持台１１に対して、同支持台１１の幅方向Ｚに往復移動可能になっている。

研削加工機１０による研削加工に際しては、先ず、加工ヘッド１３が幅方向Ｚおよび上下方向Ｙに移動される。これにより、研削加工機１０は、回転砥石１４をワークＷの加工面上の所望の位置に接触させることの可能な状態になる。そして、この状態で、回転砥石１４が回転駆動されるとともに、ワークテーブル１２およびワークＷが長手方向Ｘに往復移動される。これにより、ワークＷの加工面が研削加工される。

次に、本実施形態のクーラント循環装置２０について説明する。
図２に示すように、本実施形態のクーラント循環装置２０は、タンク２１、ポンプ２２、第１供給部２３、回収部２４、第２供給部２５、および電子制御装置２６を有している。

タンク２１には、クーラントＣが貯留されている。ポンプ２２は、タンク２１内のクーラントＣを圧送する。ポンプ２２の作動制御は、電子制御装置２６により実行される。
（第１供給部）
第１供給部２３は、研削加工機１０による研削加工の実行時において、ポンプ２２によって圧送されるクーラントＣを研削加工機１０の加工部分（具体的には、加工ヘッド１３）に供給するためのものである。第１供給部２３は、第１供給経路２３１と第１切替弁２３２とを有する。

第１供給経路２３１は、ホースや配管などによって構成されている。第１供給経路２３１は、クーラントＣが内部を通過する経路である。第１供給経路２３１は、ポンプ２２の出力ポートと加工ヘッド１３とを繋ぐ態様で延びている。この第１供給経路２３１を介して、ポンプ２２から吐出されるクーラントＣは加工ヘッド１３に供給される。

第１切替弁２３２としては、電磁駆動式の開閉弁が採用されている。第１切替弁２３２の作動制御は、電子制御装置２６により実行される。第１切替弁２３２は、第１供給経路２３１の途中に設けられている。第１切替弁２３２が開弁されると、ポンプ２２の吐出ポートと加工ヘッド１３とが連通される。これにより、ポンプ２２から加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給が可能になる。一方、第１切替弁２３２が閉弁されると、ポンプ２２の吐出ポートと加工ヘッド１３との連通が遮断される。これにより、ポンプ２２から加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給が不能になる。

（回収部）
回収部２４は、加工ヘッド１３における加工に供された後のクーラントＣをタンク２１に回収するためのものである。回収部２４は、回収経路２４１、マグネットセパレータ２４２、およびフィルタ部２４３を有している。

回収経路２４１は、クーラントＣが流入する樋状をなしている。図１および図２に示すように、回収経路２４１は、支持台１１の側方および下方を覆う態様で、支持台１１の下方において同支持台１１の外縁に沿って延びている。回収経路２４１は、クーラントＣの流れ方向における下流側（以下、単に下流側）の端部がタンク２１（具体的には、マグネットセパレータ２４２）に連通されている。

図３および図４に示すように、回収経路２４１は、平面視でコの字状をなす態様で延びている。具体的には、回収経路２４１は、第１通路３１、第２通路３２、および第３通路３３を有している。第１通路３１は、支持台１１（図２参照）の幅方向Ｚにおける一方側（図４の上側）の外縁に沿う態様で、長手方向Ｘにおいて延びている。第２通路３２は、支持台１１の幅方向Ｚにおける他方側（図４の下側）の外縁に沿う態様で、長手方向Ｘにおいて延びている。第３通路３３は、第１通路３１および第２通路３２の長手方向Ｘにおける一方側（図４の左側）の端部同士を繋ぐ態様であって、且つ、支持台１１の長手方向Ｘにおける一方側（図４の左側）の外縁に沿う態様で、幅方向Ｚにおいて延びている。

回収経路２４１は、クーラントＣが流れる経路として、第１経路２４１１および第２経路２４１２を有する。
第１経路２４１１は、第１通路３１および第３通路３３によって構成される。第１通路３１の長手方向Ｘにおける上記第３通路３３から遠い側（図４の右側）の端部が、第１経路２４１１において上記流れ方向の最も上流側の部分にあたる。また、第１通路３１と第３通路３３との接続部分が、第１経路２４１１における上記流れ方向の中間部分にあたる。さらに、第３通路３３の幅方向Ｚにおける上記第１通路３１から遠い側の端部が、第１経路２４１１において最も下流側の部分にあたる。第１経路２４１１の各部は、クーラントＣの流れ方向の下流側に向かって下り坂になる態様で傾斜している。また第１経路２４１１の各部は、底に向かうほど幅狭の断面形状をなしている。

第２経路２４１２は、第２通路３２によって構成される。第２通路３２の長手方向Ｘにおける上記第３通路３３から遠い側（図４の右側）の端部が、第２経路２４１２において最も上流側の部分にあたる。また、第２通路３２の長手方向Ｘにおける上記第３通路３３に近い側の端部が、第２経路２４１２において最も下流側の部分にあたる。第２経路２４１２の各部は、クーラントＣの流れ方向の下流側に向かって下り坂になる態様で傾斜している。また第２経路２４１２の各部は、底に向かうほど幅狭の断面形状をなしている。

図４に示すように、回収経路２４１の内部には、第２通路３２と第３通路３３との接続部分において、第２通路３２と第３通路３３との間を仕切る仕切壁３４が設けられている。この仕切壁３４によって、第１経路２４１１におけるクーラントＣの流れと、第２経路２４１２におけるクーラントＣの流れとの干渉が抑えられる。

（マグネットセパレータ）
マグネットセパレータ２４２は、磁力によってクーラントＣに含まれる磁性粉体（スラッジなど）を吸着するものである。図２に示すように、マグネットセパレータ２４２は、回収経路２４１とタンク２１との間に設けられる。このマグネットセパレータ２４２により、クーラントＣがタンク２１に戻る前に、クーラントＣに含まれるスラッジが除去される。

図５および図６に示すように、マグネットセパレータ２４２は、ケース４０、吸着部４１、絞りローラ４３、および掻取部４４を有している。
ケース４０は、流入口４０１を有している。流入口４０１には、回収経路２４１（具体的には、第１経路２４１１および第２経路２４１２）の下流側の端部が接続されている。この流入口４０１を介して、回収経路２４１からケース４０の内部にクーラントＣが流入するようになっている。具体的には、マグネットセパレータ２４２の内部と第１経路２４１１の下流側の端部とが一体の１つの容器状をなす態様で、マグネットセパレータ２４２（詳しくは、ケース４０の流入口４０１）が第１経路２４１１の下流側の端部に接続されている。また、マグネットセパレータ２４２の内部と第２経路２４１２の下流側の端部とが一体の１つの容器状をなす態様で、マグネットセパレータ２４２（詳しくは、ケース４０の流入口４０１）が第２経路２４１２の下流側の端部に接続されている。本実施形態のクーラント循環装置２０は、そうした容器状をなす部分、具体的には回収経路２４１の下流側の端部およびマグネットセパレータ２４２のケース４０の内部に、クーラントＣが溜まる構造になっている。また、ケース４０は流出口４０２を有している。この流出口４０２からクーラントＣは流出する。

吸着部４１は、ケース４０の内部に配置されている。吸着部４１は永久磁石を内蔵している。吸着部４１は円柱状をなしている。吸着部４１は、円柱形状における軸線を回転中心に回転可能に設けられている。吸着部４１は、その使用に際して、モータ（図示略）によって回転駆動される。吸着部４１は一部がクーラントＣに浸かった状態になっている。そのため、吸着部４１には、クーラントＣに含まれるスラッジが吸着される。

絞りローラ４３は、ケース４０の内部に配置されている。絞りローラ４３は円柱状をなしている。絞りローラ４３の軸線と吸着部４１の軸線とは平行に延びている。絞りローラ４３の外周面と吸着部４１の外周面とが接触する態様で、絞りローラ４３は設けられている。マグネットセパレータ２４２においては、絞りローラ４３が吸着部４１とともに回転することで、吸着部４１と絞りローラ４３との接触部分において同吸着部４１に付着しているクーラントＣが絞られる。

掻取部４４は、吸着部４１の外周面に付着したスラッジを掻き取るためのものである。掻取部４４はケース４０に固定されている。掻取部４４は、ケース４０の内部から外部まで延びている。掻取部４４は、掻取板４４１、案内部４４２を有している。掻取板４４１は、ケース４０の内部において掻取部４４の先端部分を構成している。掻取板４４１の先端は平板状をなしている。掻取板４４１の先端は、吸着部４１の外周面に対向した状態になっている。案内部４４２は、掻取部４４における上記ケース４０の外部側の部分を構成している。案内部４４２は、断面コの字状をなす態様で、ケース４０の内部から外部まで延びている。マグネットセパレータ２４２においては、吸着部４１の回転に伴い、同吸着部４１の外周面に付着しているスラッジが掻取部４４の掻取板４４１によって掻き取られるようになっている。掻取板４４１によって掻き取られたスラッジは、掻取部４４の案内部４４２によって案内されることでケース４０の外部に排出される。

フィルタ部２４３は、濾紙を有している。図２に示すように、フィルタ部２４３は、マグネットセパレータ２４２よりも下流側に設けられている。クーラントＣは、マグネットセパレータ２４２を通過した後に、フィルタ部２４３を通過するようになっている。このフィルタ部２４３により、クーラントＣに含まれるスラッジ、すなわちマグネットセパレータ２４２では除去しきれないスラッジが除去される。本実施形態では、フィルタ部２４３を通過したクーラントＣがタンク２１に戻される。

（第２供給部）
第２供給部２５は、回収経路２４１に設けられた噴射バルブ５１～５４に対して、ポンプ２２によって圧送されるクーラントＣを供給するためのものである。第２供給部２５は、第２供給経路２５１と第２切替弁２５２とを有する。

第２供給経路２５１は、ホースや配管などによって構成されている。第２供給経路２５１は、クーラントＣが内部を通過する経路である。第２供給経路２５１は、ポンプ２２の吐出ポートと各噴射バルブ５１～５４とを繋ぐ態様で延びている。この第２供給経路２５１を介して、ポンプ２２によって圧送されるクーラントＣは各噴射バルブ５１～５４に供給される。

第２切替弁２５２としては、電磁駆動式の開閉弁が採用されている。第２切替弁２５２の作動制御は、電子制御装置２６により実行される。第２切替弁２５２は、第２供給経路２５１の途中に設けられている。第２切替弁２５２が開弁されると、ポンプ２２の吐出ポートと各噴射バルブ５１～５４とが連通される。これにより、ポンプ２２から各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給が可能になる。一方、第２切替弁２５２が閉弁されると、ポンプ２２の吐出ポートと各噴射バルブ５１～５４との連通が遮断される。これにより、ポンプ２２から各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給が不能になる。

（噴射バルブ）
図２～図４に示すように、各噴射バルブ５１～５４は、回収経路２４１の内部においてクーラントＣを下流側に噴射する態様で設けられる。各噴射バルブ５１～５４からクーラントＣを噴射することで、スラッジを含むクーラントＣを下流側に押し流したり、回収経路２４１の底に溜まっているスラッジを下流側に押し流したりすることができる。これにより、回収経路２４１にスラッジが溜まることを抑えることができる。

回収経路２４１には、２つの第１噴射バルブ５１が設けられている。第１噴射バルブ５１は、第１経路２４１１における上流側（図４の右側）の端部と、第２経路２４１２における上流側の端部とに１つずつ設けられている。第１噴射バルブ５１は、回収経路２４１においてクーラントＣが溜まらない部分に設けられる。

回収経路２４１においてクーラントＣが溜まる部分である溜部２４４（図２中にドットハッチングで示す部分）には、２つの第２噴射バルブ５２と、１つの第３噴射バルブ５３と、１つの第４噴射バルブ５４とが設けられている。

研削加工機１０による研削加工の実行が停止されると、加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給も停止される。単にクーラントＣの供給を停止すると、樋状をなす回収経路２４１の下流側の端部、詳しくはクーラントＣが溜まる溜部２４４（図４における破線Ｌよりも左側の部分）において、クーラントＣに含まれるスラッジが沈殿して溜まるようになる。こうしたことから、回収経路２４１の溜部２４４は、スラッジが溜まり易い部分であると云える。本実施形態では、研削加工の実行停止時においてスラッジが溜まり易い部分である溜部２４４に、噴射バルブ５２～５４が設けられている。そのため、これら噴射バルブ５２～５４から噴射されるクーラントＣによってスラッジを押し流すことで、樋状をなす回収経路２４１の底にスラッジが溜まることを抑えることができる。

第２噴射バルブ５２は、第１経路２４１１の溜部２４４における上流側（図４の右側）の端部と、第２経路２４１２の溜部２４４における上流側の端部とに１つずつ設けられている。これにより、第１経路２４１１の溜部２４４の略全体に対して第２噴射バルブ５２からクーラントＣを噴射することができる。また、第２経路２４１２の溜部２４４の略全体に対して、第２噴射バルブ５２からクーラントＣを噴射することができる。したがって、本実施形態によれば、第２噴射バルブ５２から噴射されるクーラントＣによって、回収経路２４１における溜部２４４の全体においてスラッジを下流側に押し流すことができる。

第３噴射バルブ５３は、第１通路３１と第３通路３３との接続部分、詳しくは、クーラントＣの流れ方向において屈曲して延びる部分（以下、角部２４５）に設けられている。ここで、回収経路２４１の溜部２４４の中でも、上記角部２４５は、クーラントＣの流れにおいて乱流が発生し易い部分であるため、クーラントＣに含まれるスラッジが溜まり易い部分であると云える。本実施形態によれば、第３噴射バルブ５３から噴射されるクーラントＣによって、角部２４５に溜まるスラッジを押し流すことができる。そのため、角部２４５にスラッジが溜まることを好適に抑えることができる。

第４噴射バルブ５４は、第３通路３３の幅方向Ｚにおける中間位置に設けられている。第４噴射バルブ５４は、マグネットセパレータ２４２の流入口４０１に向けて、言い換えれば回収経路２４１とマグネットセパレータ２４２との連通部分に向けてクーラントＣを噴射する態様で設けられている。本実施形態によれば、第４噴射バルブ５４から噴射されるクーラントＣの勢いを利用して、スラッジを含むクーラントＣをマグネットセパレータ２４２の内部に送ることができる。

（電子制御装置）
電子制御装置２６は、１つ以上のプロセッサからなる演算処理部２６１や、各種機器の作動制御に関する各種のデータを記憶する記憶部２６２を有する。記憶部２６２には、ポンプ２２の作動制御や、第１切替弁２３２の作動制御、第２切替弁２５２の作動制御にかかる各種処理を演算処理部２６１に実行させるためのプログラムが記憶されている。演算処理部２６１は、上記プログラムを実行することにより、ポンプ２２の作動制御や、第１切替弁２３２の作動制御、第２切替弁２５２の作動制御にかかる各種処理を実行する。本実施形態では、電子制御装置２６により、クーラント循環装置２０の作動制御にかかる処理（作動制御処理）が実行される。本実施形態では、電子制御装置２６が制御部に相当する。

以下、作動制御処理の実行態様について説明する。
図７に示すように、研削加工機１０による研削加工の実行時においては（ステップＳ１：ＹＥＳ）、第１供給部２３による加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給が実行される（ステップＳ２）。このときには、第２供給部２５による各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給は停止される。具体的には、ポンプ２２が作動している状態で、第１切替弁２３２が開弁されるとともに第２切替弁２５２が閉弁される。

本実施形態では、研削加工機１０による研削加工の実行時においては、第１供給部２３によって加工ヘッド１３に供給されたクーラントＣが回収経路２４１に流入している。そのため、回収経路２４１の内部をクーラントＣが連続的に流れている。したがって、回収経路２４１の内部においては、クーラントＣに含まれるスラッジをクーラントＣともども下流側に流すことができる。

しかも本実施形態では、研削加工機１０による研削加工の実行時においては、第２供給部２５による噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給が停止される。このときには、ポンプ２２の圧送能力（クーラントＣの供給能力）は、第２供給部２５による各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給のためには利用されない。そのため、ポンプ２２の圧送能力の全てを、第１供給部２３による加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給のために利用することができる。これにより、研削加工機１０による研削加工の実行時においても噴射バルブ５１～５４からクーラントＣを噴射する場合と比較して、圧送能力の低いポンプ２２を採用することができるようになる。したがって、ポンプ２２の大型化、ひいてはクーラント循環装置２０の大型化を抑えることができる。

一方、研削加工機１０による研削加工の実行停止時においては（ステップＳ１：ＮＯ）、第１供給部２３による加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給が停止される（ステップＳ３）。そして、このときには、第２供給部２５による各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給が実行される。具体的には、ポンプ２２が作動している状態で、第１切替弁２３２が閉弁されるとともに第２切替弁２５２が開弁される。

本実施形態では、研削加工機１０による研削加工の実行停止時においては、回収経路２４１に設けられた噴射バルブ５１～５４から下流側に向けてクーラントＣが噴射される。そのため、回収経路２４１の底にスラッジが溜まっている場合には、同スラッジを、噴射バルブ５１～５４から噴射されるクーラントＣによって押し流して除去することができる。これにより、回収経路２４１におけるスラッジの堆積を抑えることができる。

また本実施形態では、研削加工機１０による研削加工の実行停止時においても、回収経路２４１、マグネットセパレータ２４２、フィルタ部２４３、およびタンク２１によって構成される循環経路におけるクーラントＣの循環が継続される。そのため、研削加工機１０による研削加工の実行停止に合わせてクーラントＣの循環も停止される場合と比較して、マグネットセパレータ２４２やフィルタ部２４３をクーラントＣが通過するようになる期間を長くすることができる。しかも、マグネットセパレータ２４２やフィルタ部２４３を通過するクーラントＣの総量を増加させることもできる。これにより、クーラントＣに含まれるスラッジをしっかり除去することができるため、クーラントＣをクリーンな状態に保つことができるようになる。

しかも本実施形態では、研削加工機１０による研削加工の実行停止時においては、第１供給部２３による加工ヘッド１３へのクーラントＣの供給が停止される。そのため、このときにはポンプ２２の圧送能力に余裕がある状態になる。本実施形態によれば、そうした研削加工の実行停止時において、ポンプ２２の圧送能力の余裕分を利用する態様で、第２供給部２５による噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給を実行することができる。そのため、研削加工の実行停止時において噴射バルブ５１～５４からクーラントＣを噴射する構成が採用されるとはいえ、これに起因してポンプ２２の圧送能力が大きくなることを抑えることができる。したがって、ポンプ２２の大型化、ひいてはクーラント循環装置２０の大型化を抑えることができる。

本実施形態によれば、回収経路２４１におけるスラッジの堆積が抑えられるため、回収経路２４１に溜まったスラッジを定期的に掃除するといった煩雑なメンテナンス作業を少なくすることができる。しかも、ポンプ２２の大型化が抑えられるために、その分だけ、クーラント循環装置２０の省エネルギーでの運転を実現することができる。

本実施形態によれば、以下に記載する効果が得られる。
（１）研削加工機１０による研削加工の実行時には、第２供給部２５による噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給を停止する。研削加工機１０による研削加工の実行停止時には、第２供給部２５による噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給を実行する。これにより、クーラント循環装置２０の大型化を抑えつつ、回収経路２４１におけるスラッジの堆積を抑えることができる。

（２）回収経路２４１とタンク２１との間にはマグネットセパレータ２４２が設けられている。マグネットセパレータ２４２の内部と回収経路２４１の下流側の端部とが一体の１つの容器状をなす態様で、マグネットセパレータ２４２は回収経路２４１の下流側の端部に接続されている。

通常、マグネットセパレータ２４２は、磁力を有する吸着部４１と、クーラントＣが溜まる貯留部（図５中に破線で示す部分）とを有している。そして、マグネットセパレータ２４２の使用に際しては、貯留部に溜まったクーラントＣに上記吸着部４１が浸かった状態になる。これにより、クーラントＣ中の磁性粉体が吸着部４１に吸着されて除去される。本実施形態によれば、回収経路２４１の下流側の端部を、クーラントＣが溜まる貯留部として利用することができる。そのため、貯留部付きのマグネットセパレータを採用する場合と比較して、回収経路２４１の一部を貯留部として流用可能になる分だけ、マグネットセパレータ２４２を小型化することができ、ひいてはクーラント循環装置２０の小型化を図ることができる。

（３）第２噴射バルブ５２、第３噴射バルブ５３、および第４噴射バルブ５４は、回収経路２４１の溜部２４４に設けられる。この構成によれば、研削加工の実行停止時においてスラッジが溜まり易い部分である溜部２４４に、噴射バルブ５２～５４を設けることができる。そのため、噴射バルブ５２～５４から噴射されるクーラントＣによってスラッジを押し流すことで、樋状をなす回収経路２４１の底にスラッジが溜まることを好適に抑えることができる。

（４）第２噴射バルブ５２は、第１経路２４１１の溜部２４４における上流側の端部と、第２経路２４１２の溜部２４４における上流側の端部とに１つずつ設けられている。この構成によれば、第２噴射バルブ５２から噴射されるクーラントＣによって、回収経路２４１における溜部２４４の全体においてスラッジを押し流すことができる。

（５）第３噴射バルブ５３は、回収経路２４１の角部２４５に設けられている。この構成によれば、第３噴射バルブ５３から噴射されるクーラントＣによって、角部２４５に溜まるスラッジを押し流すことができる。これにより、角部２４５にスラッジが溜まることを好適に抑えることができる。

（６）第４噴射バルブ５４は、回収経路２４１とマグネットセパレータ２４２との連通部分に向けてクーラントＣを噴射する態様で設けられている。この構成によれば、第４噴射バルブ５４から噴射されるクーラントＣの勢いを利用して、スラッジを含むクーラントＣを、マグネットセパレータ２４２の内部に送ることができる。

（変更例）
なお、上記実施形態は、以下のように変更して実施することができる。上記実施形態および以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。

・第１切替弁２３２および第２切替弁２５２に代えて、１つの三方弁を設けるようにしてもよい。この場合には、ポンプ２２の吐出ポートと加工ヘッド１３とを連通する第１作動状態、および、ポンプ２２の吐出ポートと各噴射バルブ５１～５４とを連通する第２作動状態のいずれかになるように、三方弁の作動を制御すればよい。

・フィルタ部２４３を省略してもよい。
・仕切壁３４を省略してもよい。
・研削加工機１０による研削加工の実行時において、各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給を停止することに限らず、噴射バルブ５１～５４の全てに対して少量のクーラントＣを供給するようにしてもよい。その他、研削加工機１０による研削加工の実行時において、噴射バルブ５１～５４のうちの１つ（あるいは複数）に対して少量のクーラントＣを供給することなども可能である。要は、研削加工の実行時における第２供給部２５によるクーラントＣの供給量と比較して、研削加工の実行停止時における第２供給部２５によるクーラントＣの供給量が多くなる態様で、第２供給部２５（詳しくは、その構成機器）の作動制御を実行すればよい。この構成によれば、研削加工機１０による研削加工の実行停止時において、前述したポンプ２２の圧送能力の余裕分を利用する態様で、第２供給部２５によって噴射バルブ５１～５４にクーラントＣを供給することができる。

・噴射バルブ５１～５４のうちの１つ（あるいは複数）を省略してもよい。また、回収経路２４１の内部に、１つ（あるいは複数）の噴射バルブを新たに設けることなども可能である。

・研削加工機１０による研削加工の実行が停止されてから所定時間が経過するまでの期間（実行期間）に限り、第２供給部２５による各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給を実行するようにしてもよい。この構成によっても、回収経路２４１におけるスラッジの堆積を抑えることができる。

上記構成においては、実験やシミュレーションの結果をもとに回収経路２４１にスラッジが溜まることが適正に抑えられるようになる噴射バルブ５１～５４の噴射期間を求めるとともに、同噴射期間を上記実行期間として予め定めておけばよい。

また、上記構成においては、次のように第２供給部２５の作動を制御すればよい。すなわち、研削加工機１０による研削加工の実行時における第２供給部２５による各噴射バルブ５１～５４へのクーラントＣの供給量を「ＶＣ１」とする。研削加工機１０による研削加工の実行停止時において、第２供給部２５によって各噴射バルブ５１～５４にクーラントＣを供給するとき（上記実行期間）における同クーラントＣの供給量を「ＶＣ２」とする。そして、上記供給量ＶＣ１よりも供給量ＶＣ２が多くなる態様で、第２供給部２５の作動を制御すればよい。

・上記実施形態にかかるクーラント循環装置は、回収経路が支持台の外縁に沿って四角環状で延びるタイプのクーラント循環装置にも適用することができる。また、上記実施形態にかかるクーラント循環装置は、楕円形状（あるいは円形状）の支持台の外縁に沿って回収経路がＣ字状で延びるタイプのクーラント循環装置にも適用することができる。その他、楕円形状（あるいは円形状）の支持台の外縁に沿って回収経路が環状で延びるタイプのクーラント循環装置などにも、上記実施形態にかかるクーラント循環装置は適用可能である。

・上記実施形態にかかるクーラント循環装置は、上述した貯留部付きのマグネットセパレータが採用されるクーラント循環装置など、回収経路の下流側の端部にクーラントＣが溜まらない構造のクーラント循環装置にも適用することができる。

・上記実施形態にかかるクーラント循環装置は、マグネットセパレータ２４２に代えてサイクロン式のセパレータが設けられるクーラント循環装置など、マグネットセパレータ２４２を備えていないクーラント循環装置にも適用可能である。

１０ 研削加工機
１１ 支持台
１２ ワークテーブル
１３ 加工ヘッド
１４ 回転砥石
２０ クーラント循環装置
２１ タンク
２２ ポンプ
２３ 第１供給部
２４ 回収部
２４１ 回収経路
２４２ マグネットセパレータ
２４４ 溜部
２４５ 角部
２５ 第２供給部
２６ 電子制御装置
５１ 第１噴射バルブ
５２ 第２噴射バルブ
５３ 第３噴射バルブ
５４ 第４噴射バルブ

Claims (7)

1. 支持台に支持されたワークを研削工具によって研削加工する研削加工機に適用されて、クーラントを貯留するタンクと、前記タンク内の前記クーラントを圧送するポンプと、前記研削加工機による研削加工の実行時において前記ポンプによって圧送される前記クーラントを前記研削加工機の加工部分に供給する第１供給部と、前記加工部分における加工に供された後の前記クーラントを前記タンクに回収する回収部と、を有するクーラント循環装置であって、
   前記回収部は、前記クーラントが流入する樋状をなす態様で前記支持台の外縁に沿って延びるとともに、前記クーラントの流れ方向における下流側の端部が前記タンクに連通された回収経路を有し、
   前記クーラント循環装置は、
   前記回収経路の内部で前記下流側に向けて前記クーラントを噴射する噴射バルブと、
   前記ポンプによって圧送される前記クーラントを前記噴射バルブに供給する第２供給部と、
   前記研削加工の実行時における前記第２供給部による前記クーラントの供給量と比較して、前記研削加工の実行停止時において前記第２供給部によって前記クーラントを供給するときにおける同クーラントの供給量が多くなる態様で、前記第２供給部の作動を制御する制御部と、を有するクーラント循環装置。
2. 前記回収部は、前記回収経路と前記タンクとの間に設けられるとともに、磁力によって前記クーラントに含まれる磁性粉体を吸着するマグネットセパレータを有しており、
   前記マグネットセパレータは、同マグネットセパレータの内部と前記回収経路の前記下流側の端部とが一体の１つの容器状をなす態様で、前記回収経路の前記下流側の端部に接続されてなる
   請求項１に記載のクーラント循環装置。
3. 前記噴射バルブは、前記回収経路の下流側の端部において前記クーラントが溜まる部分に設けられる
   請求項２に記載のクーラント循環装置。
4. 前記噴射バルブは、前記クーラントが溜まる部分のうちの前記流れ方向における上流側の端部に設けられる
   請求項３に記載のクーラント循環装置。
5. 前記クーラントが溜まる部分は、前記流れ方向において屈曲して延びる角部を有し、
   前記噴射バルブは、前記角部に設けられる
   請求項３に記載のクーラント循環装置。
6. 前記噴射バルブは、前記回収経路と前記マグネットセパレータとの連通部分に向けて前記クーラントを噴射する態様で設けられる
   請求項３に記載のクーラント循環装置。
7. 前記制御部は、前記研削加工の実行時においては、前記第２供給部による前記噴射バルブへの前記クーラントの供給を停止するものである
   請求項１～６のいずれか１項に記載のクーラント循環装置。

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