JP2023181832A - 電磁波抑制シート、積層型電磁波抑制シート、電磁波抑制シートの反射損失調整方法及び積層型電磁波抑制シートの反射損失調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】可視光の反射を防止する構造を有する反射防止構造層を電磁波照射面に組み込むことで、電磁波の表面反射を低減させることを可能とする電磁波抑制シート、積層型電磁波抑制シート、およびこれらを用いて電磁波の反射を調整する調整方法を提供する。【解決手段】本発明の電磁波抑制シート５０は、シート状基材５０Ｂと、このシート状基材５０Ｂの一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層５０Ａとを含み、シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、反射防止構造層５０Ａはシート状基材の一方の面の面積に対して面積比で３０％以上である。なお、シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとは熱可塑性樹脂および／または電磁波抑制材料が異なる材料を用いてもよい。これにより、反射防止構造層の電磁波抑制材料を適宜選択できる。【選択図】 図１

Description

本発明は、可視光の反射を防止するための反射防止構造を用いて不要電磁波を吸収あるいは抑制するための電磁波抑制シート、積層型電磁波抑制シート及びこれらを用いて電磁波の反射損失を調整する方法に関する。

可視光線（波長３６０ｎｍ～８００ｎｍ、周波数４００ＴＨｚ～８００ＴＨｚ）の反射を抑制する反射防止構造体として、例えば特許文献１および２に記載の構造体が開示されている。また、周波数７０ＧＨｚ～８０ＧＨｚでの電磁波の抑制率が高く、かつ、透過率および反射率の小さい電磁波抑制体として特許文献３の組成物が開示されている。

特許第６２９８２２４号公報 特許第６８４３４００号公報 特開２０２２－８１７６号公報

電気・電子機器の高速化、低遅延化に伴い、これらの電子・電気機器の使用周波数は更なる高周波数化が求められるようになってきている。高周波においては電磁波の透過だけでなく、反射も誤作動の原因となるため、電子・電気機器に組み込まれる電磁波吸収体や電磁波抑制体には、電磁波の抑制率が高く、かつ、透過率、反射率が小さい材料が求められるようになってきている。

しかし、上記特許文献１および２は、可視光反射防止構造体に関する発明であり、これを電磁波抑制材として用いることについては開示も示唆もない。また、特許文献３は、電磁波の吸収率が高く、かつ、電磁波の透過率および反射率が小さい電磁波吸収体用樹脂組成物であって、電磁波の周波数の違いによる反射率の差が小さい電磁波吸収体用樹脂組成物および電磁波吸収体を目的としている。また、ミリ波領域（波長１ｍｍ～１０ｍｍ、周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚ）における電磁波抑制材についての電磁波の反射を調整する手法については開示も示唆もない。

電磁波の反射は空気と電磁波抑制材との比誘電率の差によるものであり、抑制材の種類や厚み、電磁波の周波数や入射角度などに応じて変化するので、電磁波の反射を制御するためには周波数や入射角度に応じて多種多様な部材を用意する必要がある。

本発明者は、上記特許文献１、２に開示された可視光反射防止構造体の応用について鋭意検討した結果、この可視光反射防止構造層を組み込むことにより、ミリ波帯域における大きな電磁波抑制効果が得られることを見出し、本発明に至った。

そこで本発明は、可視光の反射を防止する構造を有する反射防止構造層を電磁波照射面に組み込むことで、電磁波の表面反射を低減させることを可能とする電磁波抑制シート、積層型電磁波抑制シート、およびこれらを用いて電磁波の反射を調整する調整方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の電磁波抑制シートは、シート状基材と、このシート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、シート状基材と反射防止構造層とは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、反射防止構造層はシート状基材の一方の面の面積に対して面積比で３０％以上であることを特徴とする。なお、シート状基材と反射防止構造層とに用いられる熱可塑性樹脂は、目的に応じて各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、有機リン系、チオエーテル系等の酸化防止剤；ヒンダードアミン系等の光安定剤；ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤；帯電防止剤；ビスアミド系、ワックス系、有機金属塩系等の分散剤；アミド系、有機金属塩系等の滑剤；含臭素系有機系、リン酸系、メラミンシアヌレート系、三酸化アンチモン等の難燃剤；低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン等の延伸助剤；有機顔料；無機顔料；無機充填剤；有機充填剤；金属イオン系等の無機抗菌剤、有機抗菌剤等が挙げられる。

このような構成とすることにより、電磁波抑制シートは周波数３０ＧＨｚ以上のミリ波帯域において反射損失を大きくすることができ、不要な電磁波を吸収・抑制することができる。

上記構成において、シート状基材と反射防止構造層とは熱可塑性樹脂および／または電磁波抑制材料が異なる材料を用いてもよい。このような構成とすることにより、可視光の反射を防止するための微細で精密な構造である反射防止構造層中の電磁波抑制材料を適宜選択することができる。また、シート状基材は主として電磁波の抑制と低コスト化のために、例えば金属粒子などを選択することができる。これらの積層構成の製造は、例えば公知の共押出成型機を用いれば容易にできる。

つぎに、本発明の積層型電磁波抑制シートは、シート状基材と、このシート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、シート状基材と反射防止構造層とは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、シート状基材の反射防止構造層が設けられた面の反対側の面には、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制材層が積層され、反射防止構造層はシート状基材の一方の面の面積に対して面積比で３０％以上であることを特徴とする。

なお、シート状基材と反射防止構造層とに用いられる熱可塑性樹脂には、電磁波抑制材料の添加だけでなく、長期間の安定性を確保するための種々の添加剤を加えることができる。また、電磁波抑制材層についても電磁波抑制材料の添加だけでなく、長期間の安定性を確保するための種々の添加剤を加えることができる。

このような構成とすることにより、可視光の反射を防止するための微細で精密な構造である反射防止構造層中の電磁波抑制材料を適宜選択することができる。一方、電磁波抑制材層は別途最適な電磁波抑制材料を添加した熱可塑性樹脂でシート状に形成して、例えば接着剤等で貼り付ければ積層型電磁波抑制シートを得ることができる。これにより、それぞれ最適な電磁波抑制材料を選択することができる。

上記構成において、シート状基材と反射防止構造層とは、熱可塑性樹脂および／または電磁波抑制材料が異なる材料を用いてもよい。このような構成とすることにより、可視光の反射を防止するための微細で、かつ精密な構造である反射防止構造層中の電磁波抑制材料を適宜選択することができる。また、シート状基材は主として電磁波の抑制と低コスト化のために、例えば金属粒子などを選択することができる。これらの積層構成の製造は、例えば公知の共押出成型機を用いれば容易にできる。

上記構成において、反射防止構造層が形成された面に対して、電磁波が照射されたときの反射損失の値が電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上であるようにしてもよい。これにより、電磁波抑制シートをミリ波の幅広い帯域にわたり使用することができる。

つぎに本発明の電磁波抑制シートの反射損失の調整方法は、シート状基材と、このシート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、シート状基材と反射防止構造層とは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制シートに対して、電磁波が照射されたときの反射損失の値をあらかじめ設定した値に調整するために、シート状基材の一方の面に形成する反射防止構造層の形成面積を変化させることを特徴とする。
この場合において、反射損失の値が電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上とすることが好ましい。

この調整方法によれば、電磁波を抑制したい機器に応じて反射損失の値を設定し、それに合わせて反射防止構造層の形成面積を変化させることでその値を得ることができる。

つぎに本発明の積層型電磁波抑制シートの反射損失の調整方法は、シート状基材と、このシート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、シート状基材と反射防止構造層とは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、シート状基材の反射防止構造層が設けられた面の反対側の面には、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制剤層が積層されてなる積層型電磁波抑制シートに対して、電磁波が照射されたときの反射損失の値をあらかじめ設定した値に調整するために、シート状基材の一方の面に形成する反射防止構造層の形成面積を変化させることを特徴とする。
この場合において、反射損失の値が電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上とすることが好ましい。

この調整方法によれば、電磁波を抑制したい機器に応じて反射損失の値を設定し、それに合わせて反射防止構造層の形成面積を変化させることでその値を得ることができる。

本発明によれば、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなるシート状基材の一方の面に可視光の反射を防止する構造である反射防止構造層を設けることにより、電磁波の表面反射を低減させることができるという効果を有する。また、積層型電磁波抑制シートの場合には、電磁波の表面反射を低減させることができるだけでなく、反射防止構造層と電磁波抑制材層とを別々に作製して接着すればよいので、製造工程を簡略化できるという効果も得られる。

本発明の第１の実施の形態に係る電磁波抑制シートの概要を示す断面図である。 反射防止構造層の形状を示す図で、（Ａ）は概略断面図、（Ｂ）は部分拡大断面図である。 シート状基材の一方の面に形成する反射防止構造層の配置パターンを示す平面図で、（Ａ）は市松模様の配置構成、（Ｂ）は縦縞模様の配置構成、（Ｃ）は横縞模様の配置構成である。 第１の実施の形態に係る実施例において、反射損失と透過損失とを測定するための装置構成を示す図であり、（Ａ）はＪＩＳ Ｒ－１６７９に準拠してフリースペース法にて測定する構成を示す図で、（Ｂ）は電磁波照射角度４５°での測定構成を示す図である。 本発明の第２の実施の形態に係る積層型電磁波抑制シートの概要を示す断面図である。

（第１の実施の形態）

以下、本発明の第１の実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態に係る電磁波抑制シート５０の概要を示す断面図である。図２は、反射防止構造層５０Ａの形状を示す図で、（Ａ）は概略断面図、（Ｂ）は部分拡大断面図である。本実施の形態に係る電磁波抑制シート５０は、シート状基材５０Ｂと、このシート状基材５０Ｂの一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層５０Ａとを含み、シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、反射防止構造層５０Ａはシート状基材５０Ｂの一方の面の面積に対して面積比で３０％以上としている。

本実施の形態では、反射防止構造層５０Ａは可視光の反射防止効果を有する黒色の色材を添加し、かつ、複数の凹部を形成した構造からなり、シート状基材５０Ｂはそれを支えるための成型シートからなる。以下、これらについて説明する。
（反射防止構造層）

反射防止構造層５０Ａは少なくとも黒色の色材を含有した熱可塑性樹脂材料からなる。反射防止構造層５０Ａは、電磁波照射面においてその外面に対して凹んで形成された複数の凹部６と、隣り合う凹部６の境界部を形成し、かつ外面において頂部を有するベース部７とを含み、凹部６の深さ方向におけるベース部７の断面曲線は曲線状に形成された頂部８、１０を含み、曲線状の頂部８、１０の一部を円弧として含む仮想円６Ｃ、７Ｃは５０μｍ以下の直径を有している。仮想円６Ｃ、７Ｃの直径は、１．０μｍ～５０μｍであってもよい。凹部６の深さＤは、反射防止構造層５０Ａとシート状基材５０Ｂとを含めた本体の厚さＴの１／２未満の大きさであってもよい。

本実施形態に係る反射防止構造層５０Ａの場合には、本体の厚みＴは、０．０１ｍｍ～５ｍｍであり、凹部６の深さＤは、０．００５ｍｍ～２．５ｍｍの範囲に設定している。本実施形態に係る反射防止構造層５０Ａでは、凹部６は深さ方向における断面視において、互いに交差する一対の傾斜面１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄを有しており、この一対の傾斜面の間の角度θは、９０°以下である。なお、一対の傾斜面の間の角度θは、５°～９０°の範囲に設定してもよい。

反射防止構造層５０Ａに用いる樹脂材料としては熱可塑性樹脂が好ましい。それらの材料としては、特に制限されず、例えば、弾性樹脂あるいは熱可塑性樹脂等を用いることもできる。弾性樹脂としては、スチレン・ブタジエンゴム、アクリロニトリル・ブタジエンゴム、オレフィン系エラストマー樹脂、スチレン系エラストマー樹脂、ウレタン系エラストマー樹脂、ポリエステル系エラストマー樹脂、ポリアミド系またはアラミド系エラストマー樹脂を用いることができる。

また熱可塑性樹脂としては、高圧法低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体等のエチレン系重合体、ポリプロピレン、プロピレンを主成分とするプロピレン・α－オレフィン共重合体等のプロピレン系重合体、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミドあるいはアクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。なお、上記した熱可塑性樹脂は、それぞれ単独使用または併用することができる。

また、反射防止構造層５０Ａに用いる熱可塑性樹脂には、黒色を付与するための黒色の色料を含有している。黒色の色料としては、特に制限されず、例えば、カーボンブラック、グラファイト、チタンブラック等が挙げられる。また、ベース原料に対する黒色の色料の含有割合の一例としては、例えば、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、カーボンブラックが０．１～１５重量部である。

さらに、反射防止構造層５０Ａには、目的に応じて各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えばエポキシ樹脂、カルボジイミド化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物等の反応性化合物；有機リン系、チオエーテル系等の酸化防止剤；ヒンダードアミン系等の光安定剤；ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤；帯電防止剤；ビスアミド系、ワックス系、有機金属塩系等の分散剤；アミド系、有機金属塩系等の滑剤；含臭素系有機系、リン酸系、メラミンシアヌレート系、三酸化アンチモン等の難燃剤；低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン等の延伸助剤；有機顔料；無機顔料；無機充填剤；有機充填剤；金属イオン系等の無機抗菌剤、有機抗菌剤等が挙げられる。
これらの混練は、例えば、高速分散機、縦型分散機、ニーダー、ボールミル、３本ロールミル、ジェットミル、インペラー等を用いて行うことができる。

反射防止構造層５０Ａの面積は電磁波が照射される一つの面全体に対し、３０％以上であり、好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。反射防止構造層１Ａの面積が３０％未満であると、電磁波の反射防止機能を阻害し、調整困難になる。図３は、シート状基材５０Ｂの一方の面に形成する反射防止構造層５０Ａの配置パターンを示す平面図で、（Ａ）は市松模様の配置構成、（Ｂ）は縦縞模様の配置構成、（Ｃ）は横縞模様の配置構成である。

本実施の形態に係る電磁波抑制シート５０における反射の調整方法は、図３に示すように反射防止構造層５０Ａの形成面積をシート状基材５０Ｂの一方の面に対して適当な割合に設定することで可能である。その場合、電磁波の反射を抑制する周波数帯域は３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚであり、周波数帯域４５ＧＨｚ～２５０ＧＨｚであることが好ましく、周波数帯域６０ＧＨｚ～２００ＧＨｚであることがさらに好ましく、周波数帯域７０ＧＨｚ～１５０ＧＨｚであることが特に好ましく、周波数帯域８０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚであることが最も好ましい。

なお、本実施の形態に係る電磁波抑制シート５０においては、反射防止構造層５０Ａの形状を図２に示すように、表面から内部に向かうにつれて先端が尖った四角錐形状としたが、本発明はこのような形状に限定されない。例えば、内部から表面に向かうにつれて先端が尖った四角錐形状や円錐形状としてもよいし、表面を微細な凸凹形状とした反射防止構造であってもよい。
（シート状基材）

シート状基材５０Ｂは電磁波が照射されたときに、その電磁波を吸収・抑制する材料（以下、「電磁波抑制材料」とよぶ。）を含有する熱可塑性樹脂からなる。シート状基材５０Ｂに用いる熱可塑性樹脂と反射防止構造層５０Ａに用いる熱可塑性樹脂とは、それぞれ異なる材料を用いることもできるが、同じ弾性樹脂あるいは熱可塑性樹脂等を用いることもできる。用いることが可能な熱可塑性樹脂は、反射防止構造層５０Ａで説明した材料から適宜選択することができる。

次に、シート状基材５０Ｂに用いる電磁波抑制材料としては、従来電磁波を吸収・抑制する効果があるとして用いられている各種の導電性粉末があげられる。具体的には、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、磁性粉、フェライト等の金属粉末や、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物粉末、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブ（単層・二層・多層タイプ、カップスタック型）、カーボンナノファイバー、カーボンナノコイル、炭素繊維、カーボンナノホーン、金属で表層を被覆した導電性複合粒子等があげられ、これらは、単独で用いても２種以上を組み合わせてもよい。

また、導電性粉末を用いるのではなく、熱可塑性樹脂中に、空気等の気泡を分散含有させ、その気泡によって電磁波を散乱させる場合は、上記気泡が電磁波抑制材料となる。

金属粉末としては、さらにアルミニウム、銅、ニッケル、銀、亜鉛、錫、クロム、金、白金、鉄、コバルト、ジルコニウム、モリブテン、チタンから選択される１種又は２種以上の合金、ハロゲン化物、錯体、酸化物、硫化物が挙げられ、中でも磁性粉であるマグネタイト（Ｆｅ_３Ｏ４）、パーマロイ（Ｆｅ－Ｎｉ系合金）、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ系合金、Ｆｅ―Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｃｏ－Ｖ系合金のような合金が好ましい。この金属粉末は、粉砕機で粉砕し、その後分級して粗大粒子を除去したものが好ましく用いられる。分級後の粉末粒子の平均粒子径は、０．１～２００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．１５～１５０μｍであり、特に好ましくは０．２～１００μｍの範囲である。金属粉末の形状は、球状、扁平状、棒状、針状、不定形等のいかなる形状でもよい。

本実施の形態において、電磁波抑制材料の含有量は、熱可塑性樹脂と電磁波抑制材料の合計１００重量部に対して、０．３～６０重量部であることが好ましく、より好ましくは０．５～５５重量部、特に好ましくは１～５０重量部である。少なすぎると所望の電磁波抑制性能が得られにくくなる傾向があり、多すぎると電磁波抑制シート５０の強度が低下したりして物理的性能が低下する傾向が生じることがある。

これらの電磁波抑制材料は、単独で用いても２種以上を併用しても差し支えないが、なかでも、カーボンナノチューブ、カーボンブラック、グラファイト等の炭素材料を、単独もしくは２種以上組み合わせて用いることが好適である。なお、カーボンブラックとグラファイトとは、カーボンブラックが非晶質であるのに対しグラファイトが網目構造を持つ結晶であることによって区別される。このため、カーボンブラック粒子はグラファイト粒子よりも細かい形状となる。

本発明で用いることのできるカーボンナノチューブを用いる場合、その平均径（軸方向に対して直交する方向の直径または横断面径）は、例えば、０．５ｎｍ～１μｍ程度から選択でき、単層カーボンナノチューブの場合には、例えば、０．５～１０ｎｍ程度であり、多層カーボンナノチューブの場合は、例えば、５～３００ｎｍ程度である。カーボンナノチューブの平均長は、例えば、１～１０００μｍ程度である。また、カーボンナノファイバーを用いる場合、分散性と導電性に優れたものが好適に用いられる。その平均直径は、１ｎｍ～３５０ｎｍが例示できる。炭素繊維としては、重質油、副生油、コールタール等から作られるピッチ系や、ポリアクリロニトリルから作られるＰＡＮ系等があげられる。このようなカーボンナノチューブは、市販品として入手可能であり、例えば、バイエルマテリアルサイエンス社製、ナノシル社製、昭和電工株式会社製、ハイペリオン・キャタリシス・インターナショナル社から入手可能なカーボンナノチューブが挙げられる。なお、カーボンナノチューブという名称の他にグラファイトフィブリル、カーボンフィブリルなどと称されることもある。

カーボンナノチューブの直径としては０．５～１００ｎｍが好ましく、１～３０ｎｍがより好ましい。カーボンナノチューブのアスペクト比としては、良好な電磁波抑制性を付与する観点から、５以上が好ましく、５０以上がより好ましい。上限は特に定めるものではないが、例えば、５００以下である。

本発明で用いることのできるカーボンブラックも、分散性と導電性に優れたものが好適に用いられる。そのため、好ましいカーボンブラックの平均粒子径は、通常１～５００ｎｍであり、より好ましくは５～３００ｎｍ、さらに望ましくは１０～１００ｎｍ、特に好ましくは２０～６０ｎｍの範囲である。すなわち、カーボンブラックの平均粒子径が大きすぎると、所望の導電性が得られにくく電磁波抑制効果が低下する傾向があり、逆に、小さすぎると、分散性が低下する傾向がある。

なお、上記「カーボンブラックの平均粒子径」は、カーボンブラック凝集体を構成する一次粒子を電子顕微鏡で観察し計測することによって求められるものである（以下同じ）。このようなカーボンブラック（ａ２）としては、市販品として、例えば、シーストＳ、導電性カーボンブラック＃５５００，＃４５００，＃４４００，＃４３００、黒鉛化カーボンブラック＃３８５５，＃３８４５，＃３８００（以上、東海カーボン社製）、＃３０５０Ｂ、＃３０３０Ｂ、＃３２３０Ｂ、＃３４００Ｂ（以上、三菱ケミカル社製）、アセチレンブラック（デンカブラック、デンカ社製）、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ ２０００、ＳＴＥＲＬＩＮＧ Ｃ、ＶＵＬＣＡＮ Ｐ、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ－７２（以上、キャボット社製）、ケッチェンブラックＥＣ３００Ｊ、ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ（以上、ライオン社製）等があげられる。

また、本発明で用いることのできるグラファイトも、カーボンナノチューブ、カーボンブラックと同様、分散性と導電性に優れたものが好適に用いられる。そのため、好ましいグラファイトの平均粒子径は、通常１～３００μｍであり、好ましくは３～２００μｍ、さらに望ましくは５～１００μｍ、特に好ましくは８～５０μｍの範囲である。なお、上記「グラファイトの平均粒子径」は、レーザー回折式粒度分布測定装置によって求められるものである（以下同じ）。グラファイトの平均粒子径は、大きすぎても小さすぎても、所望の導電性が得られにくく電磁波抑制効果が低下する傾向がある。

このようなグラファイトは、天然黒鉛や人造黒鉛を精製・粉砕・分級することによって得られ、その形状は、長さおよび幅が、厚さの３～５００倍である板状のものが好ましい。ここで、「板状」とは、一方向が縮んだ形状を意味し、例えば扁平球状や鱗片状であってもよい。上記グラファイトとしては、市販品として、例えば、ＳＮＥシリーズ、ＳＮＯシリーズ、ＳＧＰシリーズ、ＳＧＤシリーズ、ＳＧＸシリーズ、ＳＧＬシリーズ、ＳＣＮシリーズ、ＳＣＬシリーズ（以上、ＳＥＣカーボン社製）や、鱗状黒鉛粉末（ＣＰシリーズ、ＣＢシリーズ、Ｆ＃シリーズ）、高純度黒鉛粉末（ＡＣＰシリーズ、ＡＣＢシリーズ、ＳＰシリーズ、ＨＣＰシリーズ）、人造黒鉛粉末（ＰＡＧシリーズ、ＨＡＧシリーズ）、土状黒鉛粉末、薄片化黒鉛粉末、球状化黒鉛粉末（以上、日本黒鉛工業社製）等があげられる。また、これらの市販品をさらに粉砕し、精密分級してもよい。

シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとについて、それぞれ異なる電磁波抑制材料や熱可塑性樹脂を用いる場合、シート状基材５０Ｂは目的に応じて、反射防止構造体層５０Ａと同様の各種の添加剤を添加することもできるし、異なる添加剤を添加することもできる。その場合、シート状基材５０Ｂを成形するための原料である熱可塑性樹脂と電磁波抑制材料などの混練は、反射防止構造層５０Ａの原料の混練の場合と同様に、例えば、高速分散機、縦型分散機、ニーダー、ボールミル、３本ロールミル、ジェットミル、インペラー等を用いて行うことができる。
（電磁波抑制シートの製造方法）
以下では、シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとが同一の熱可塑性樹脂材料と電磁波抑制材料を用いる場合についての製造方法を説明する。

電磁波抑制シート５０を製造するには、例えば、前述の熱可塑性樹脂、電磁波抑制材料、および必要により添加される添加剤（例えば、色料、フィラー等）を所定の比率で混合して押出機に投入し、押出機から押し出し成形される。これにより、シート本体が成形される。押し出し成形工程では、例えば、押出機に備えたＴダイから熱可塑性樹脂を押し出すことによって、樹脂原料をシート状にすればよい。

次に、縦延伸機を通過することによって、シート本体が縦軸方向（シート本体の進行方向）に引き伸ばされ、その後、横延伸機を通過することによって、縦軸方向に延ばされたシート本体が、さらに、横軸方向（前記進行方向と直交する方向）に引き伸ばされる。これにより、縦軸方向および横軸方向の２軸において延伸されてシート状基材（二軸延伸フィルム）５０Ｂが得られる。

次の工程は、このシート状基材５０Ｂの一方の面に反射防止構造層５０Ａを形成するための転写工程である。転写工程では、二軸延伸されたシート状基材５０Ｂが、例えば、上下一対のピンチロールの間に挟み込まれる。一対のピンチロールの一方には、反転パターンが設けられている。

反転パターンは、反射防止構造層５０Ａの凹部を反転された凸部と、この凸部を取り囲む格子形状であり、可視光反射防止構造のベース部に対応する凹部が形成されている。つまり、反転パターンは、図２に示す反射防止構造層５０Ａの反転パターンで形成されている。したがって、凸部の先端部は、先端部の仮想円の直径と同じ直径を有する弧状に形成されており、凹部の頂部は、頂部の仮想円の直径と同じ直径を有する弧状に形成されている。このような反転パターンは表面を平坦に研削した真鍮板上にダイヤモンドバイト等による精密切削加工、レーザー加工することによって形成することができる。さらに、電鋳法により反転パターンの大型化ができる。シート状基材５０Ｂが一対のピンチロールの間を通過する際に、反転パターンがシート状基材５０Ｂの電磁波照射面に転写されて反射防止構造層５０Ａが形成される。

電磁波抑制シート５０の厚みは０．００５ｍｍ～４ｍｍ、好ましくは０．０１ｍｍ～３ｍｍ、より好ましくは０．０１５ｍｍ～２ｍｍ、さらに好ましくは０．０２ｍｍ～１ｍｍ、特に好ましくは０．０３ｍｍ～０．５ｍｍの範囲とすることができる。厚みが薄すぎると電磁波抑制効果が低下する傾向があり、厚すぎると剛直化し柔軟性が低下する傾向がある。
つぎに、シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとについて、少なくとも一部異なる材料からなる原料を用いて製造する方法について説明する。

シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとは、熱可塑性樹脂および／または電磁波抑制材料が異なる材料を用いてもよい。異なる材料を用いる場合には、可視光の反射を防止するための微細で精密な構造が要求される反射防止構造層５０Ａ中の電磁波抑制材料としては微細で黒色を有する材料、例えばカーボンブラックの微粒子を選択することができる。一方、シート状基材５０Ｂは主として電磁波の抑制と低コスト化のために、例えばアルミニウムや銅などの粒子からなる電磁波抑制材料を選択することができる。熱可塑性樹脂は同じ材料を用いてもよいし、異なる材料を用いてもよい。

これらの材料をそれぞれ混錬し、例えば公知の共押出成型機を用いて押出成型すれば積層構成のシート本体を製造できる。押し出されたシート本体は、冷却ロールによって固化する。その後、反射防止構造層５０Ａを形成するためのシートの表面上に、上記と同じようにピンチロールで反射防止構造層５０Ａを転写すれば、異なる材料を用いた電磁波抑制シート５０が得られる。

シート状基材５０Ｂと反射防止構造層５０Ａとを異なる材料で作製し、積層してなる電磁波抑制シート５０の場合、その厚みは０．００５ｍｍ～４ｍｍ、好ましくは０．０１ｍｍ～３ｍｍ、より好ましくは０．０１５ｍｍ～２ｍｍ、さらに好ましくは０．０２ｍｍ～１ｍｍ、特に好ましくは０．０３ｍｍ～０．５ｍｍの範囲とすることができる。厚みが薄すぎると電磁波抑制効果が低下する傾向があり、厚すぎると剛直化し柔軟性が低下する傾向がある。

また、本発明は、例えば反射防止構造層とシート状基材とからなる電磁波抑制シートをさらに複数層積層した構成とした電磁波抑制シートとしてもよい。この場合、複数の電磁波抑制シートは、それぞれの厚みや組成が互いに同一であっても異なっていてもよい。
（実施例）

以下、本実施の形態に係る電磁波抑制シート５０について、実施例および比較例を用いて本発明を更に具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。
以下の実施例および比較例における各特性値の測定方法は次の通りである。
（１）厚み測定：ＪＩＳ Ｐ－８１１８に準拠して荷重を５０ｋＰａとして測定した。

（２）可視光反射率：ＪＩＳ Ｚ－８７２４に準拠して測定した。可視光反射率は４３５ｎｍ、５４６ｎｍ、７００ｎｍの各波長において５％以下であることが好ましく、４％以下であることがさらに好ましい。

（３）反射損失、透過損失：ＪＩＳ Ｒ－１６７９に準拠して、アンテナ間距離５０ｃｍにてフリースペース法にて測定した（図４（Ａ）参照）。電磁波照射角度４５°での測定は、図４（Ｂ）のように反射受信アンテナを設置して測定した。図４（Ａ）は、電磁波照射角度を９０°として測定する装置であり、図４（Ｂ）は４５°の角度で電磁波を照射して測定する装置である。

反射損失は８０ＧＨｚ、９０ＧＨｚ、１１０ＧＨｚ各周波数において４ｄＢ以上であり、５ｄＢ以上であることが好ましく、６ｄＢ以上であることが特に好ましい。透過損失は８０ＧＨｚ、９０ＧＨｚ、１１０ＧＨｚ各周波数において１０ｄＢ以上あることが好ましく、１５ｄＢ以上であることがさらに好ましく、２０ｄＢ以上であることが特に好ましい。
つぎに本実施例で使用するペレットＡの製造方法について説明する。

熱可塑性樹脂としてポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ、三菱エンジニアリングプラスチックス社製ノバデュラン５００８）１００重量部、電磁波抑制材料として多層カーボンナノチューブマスターバッチ（ＰＢＴベース１５重量％、Ｎａｎｏｃｙｌ社製ＰＬＡＳＴＩＣＹＬ ＰＢＴ１５０１）２．２重量部、フィラーとしてガラス繊維（日本電気硝子社製Ｔ－１２７）４４．３重量部、反応性化合物としてエポキシ樹脂ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＡＤＥＫＡ社製ＥＰ－１７）０．６重量部、安定剤としてヒンダードフェノール系安定剤（ＡＤＥＫＡ社製アデカスタブＡＯ－６０）０．３重量部、および離型剤としてポリエチレンワックス（三井化学社製ハイワックス１００Ｐ）０．３重量部をステンレス製タンブラーに入れ、２時間攪拌混合した。得られた混合物を噛み合い型同方向二軸押し出し機に供給した。混錬部のバレル設定温度２６０℃にて吐出量４０ｋｇ／ｈ、スクリュー回転数２００ｒｐｍで溶融混錬し、φ４ｍｍ×長さ１．５ｃｍのストランドとして押出した。押出したストランドを水槽にて冷却し、ペレタイザーにてカットしてペレットＡを得た。
以下、実施例である電磁波抑制シート（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）と比較例（Ａ）、（Ｂ）の作製方法について説明する。

電磁波抑制シート（Ａ）の作製は、ペレットＡを使用して射出成型した後、図２に示すような可視光反射防止構造を転写して形成した。具体的な形状は、図２に示すように先端直径φ＝１．３μｍ、ピッチＰ＝０．１ｍｍ、深さＤ＝０．１３ｍｍの反射防止構造層５０Ａを作製した。こうして作製した電磁波抑制シート（Ａ）の厚みは２ｍｍである。この場合には、反射防止構造層５０Ａとシート状基材５０Ｂとは同じ材料からなる。得られた電磁波抑制シート（Ａ）の物性測定値を表１に示した。

なお、電磁波抑制シート（Ａ）については、物性測定時の照射角度を４５°（図４（Ｂ）参照）とした場合についても測定した。４５°とした場合の電磁波抑制シート（Ａ）の物性測定値を表１に示した。

電磁波抑制シート（Ｂ）の作製は、電磁波抑制シート（Ａ）と同じようにペレットＡを用いて射出成型した後、同じように所定の可視光反射防止構造を転写したが、転写する場合に、転写する面積をシート状基材５０Ｂの一方の面の全面積に対して９０％とした。面積比を９０％とするために、図３（Ａ）に示す市松模様の配置構成とした。また、全体の厚みは２ｍｍである。

電磁波抑制シート（Ｃ）の作製は、電磁波抑制シート（Ａ）と同じようにペレットＡを用いて射出成型した後、同じように所定の可視光反射防止構造を転写したが、転写する場合に、転写する面積をシート状基材５０Ｂの一方の面の全面積に対して５０％とした。面積比を５０％とするために、図３（Ａ）に示す市松模様の配置構成とした。また、全体の厚みは２ｍｍである。

比較例（Ａ）の作製は、電磁波抑制シート（Ａ）と同じようにペレットＡを用いて射出成型した後、同じように所定の可視光反射防止構造を転写したが、転写する場合に、転写する面積をシート状基材５０Ｂの一方の面の全面積に対して１５％とした。面積比を１５％とするために、図３（Ａ）に示す市松模様の配置構成とした。また、全体の厚みは２ｍｍである。

比較例（Ｂ）の作製は、電磁波抑制シート（Ａ）と同じようにペレットＡを用いて射出成型した後、同じように所定の可視光反射防止構造を転写したが、転写する場合に、転写する面積をシート状基材５０Ｂの一方の面の全面積に対して０％とした。すなわち、この比較例（Ｂ）は、図２に示すような可視光反射防止構造を全く設けないシート構造である。厚みは２ｍｍである。

表１からわかるように、電磁波抑制シート（Ａ）は、電磁波が照射面に対して９０°の角度で照射された場合、反射損失はいずれの周波数でも１０ｄＢであったが、透過損失は８０ＧＨｚでは２９ｄＢ、９０ＧＨｚでは３３ｄＢ、１１０ＧＨｚでは４０ｄＢとなった。すなわち、透過損失は周波数が高くなるにつれて大きくなった。

一方、電磁波が照射面に対して４５°の角度で照射された場合、反射損失はいずれの波長でも６ｄＢであったが、透過損失は８０ＧＨｚでは２８ｄＢ、９０ＧＨｚでは３３ｄＢ、１１０ＧＨｚでは４０ｄＢとなった。この結果から、電磁波抑制シート（Ａ）は、９０°の照射に比べて反射損失は４５°の照射のほうが低下した。しかし、この場合でも特に好ましい目標値である６ｄＢをクリアーしていることが分かった。一方、透過損失は、１０ｄＢ以上を大きくクリアーした。

つぎに、反射損失の調整方法としての反射防止面積比の効果について説明する。電磁波抑制シート（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）は、それぞれ面積比が１００％、９０％および５０％である。反射損失は、電磁波抑制シート（Ａ）が１０ｄＢに対し、電磁波抑制シート（Ｂ）は９ｄＢ、電磁波抑制シート（Ｃ）は６ｄＢとなり、面積比が５０％である電磁波抑制シート（Ｃ）でも特に好ましい値である６ｄＢをクリアーした。透過損失は、電磁波抑制シート（Ａ）が２９ｄＢ、３３ｄＢおよび４０ｄＢであるのに対して、電磁波抑制シート（Ｂ）は３０ｄＢ、３３ｄＢおよび４０ｄＢ、電磁波抑制シート（Ｃ）は２９ｄＢ、３４ｄＢおよび４０ｄＢとなった。面積比が５０％である電磁波抑制シート（Ｃ）についても透過損失は、特に好ましい目標値である２０ｄＢ以上をクリアーした。

一方、面積比が１５％である比較例（Ａ）では、反射損失は２ｄＢ、３ｄＢおよび３ｄＢで、透過損失は３０ｄＢ、３４ｄＢおよび４０ｄＢであった。さらに、面積比が０％である比較例（Ｂ）についてみると、反射損失は１ｄＢ、２ｄＢおよび２ｄＢで、透過損失は３２ｄＢ、３６ｄＢおよび４０ｄＢであった。

これらの結果から、比較例（Ａ）、（Ｂ）ともに、反射損失は目標とする４ｄＢ以上を達成していないことがわかった。なお、透過損失は比較例（Ａ）、（Ｂ）ともに、すべて特に好ましい目標値である２０ｄＢ以上をクリアーしていることが分かった。また、表１には示していないが、面積比が３０％を有する電磁波抑制シートも製作して反射損失を評価したところ４ｄＢが得られた。この結果から、面積比は３０％以上とすることが好ましいことが見いだされた。

なお、表１においては、ＰＢＴ、ＣＮＴ１５０１およびカーボンブラックのみについて材料と重量部を記載している。上記したように、ペレットＡは、その他に、フィラーとしてガラス繊維（日本電気硝子社製Ｔ－１２７）４４．３重量部、反応性化合物としてエポキシ樹脂ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＡＤＥＫＡ社製ＥＰ－１７）０．６重量部、安定剤としてヒンダードフェノール系安定剤（ＡＤＥＫＡ社製アデカスタブＡＯ－６０）０．３重量部、および離型剤としてポリエチレンワックス（三井化学社製ハイワックス１００Ｐ）０．３重量部を混合しているが、ペレットＡを用いている場合には同じであるので表１には記載していない。

（第２の実施の形態）

本発明の第２の実施の形態に係る積層型電磁波抑制シート７０について図面をもとに説明する。図５は、本実施の形態に係る積層型電磁波抑制シート７０の概要を示す断面図である。本実施の形態に係る積層型電磁波抑制シート７０は、シート状基材６０Ｂと、このシート状基材６０Ｂの一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層６０Ａとを含み、シート状基材６０Ｂと反射防止構造層６０Ａとは少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、シート状基材６０Ｂの反射防止構造層６０Ａが設けられた面の反対側の面には、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制材層６５が積層され、反射防止構造層６０Ａはシート状基材６０Ｂの一方の面の面積に対して面積比で３０％以上であることを特徴とする。

すなわち、本実施の形態に係る積層型電磁波抑制シート７０は、第１の実施の形態で述べた電磁波抑制シート５０と構造的には同じであるが、反射防止構造層６０Ａが形成されているシート状基材６０Ｂの反対側面に電磁波抑制材層６５を貼り付けた構成としたことが異なる点である。

このような構成とすることにより、可視光の反射を防止するための微細で精密な構造である反射防止構造層６０Ａ中の電磁波抑制材料を適宜選択することができる。一方、電磁波抑制材層６５は別途最適な電磁波抑制材料を添加した熱可塑性樹脂でシート状に形成して、例えば接着等で張り付ければよく、製造工程が簡略化できるだけでなく、それぞれ最適な電磁波抑制材料を選択することができる。

反射防止構造層６０Ａとシート状基材６０Ｂとからなる電磁波抑制シート６０に用いる熱可塑性樹脂や電磁波抑制材料は、第１の実施の形態で説明した熱可塑性樹脂や電磁波抑制材料を同じように用いることができる。また、電磁波抑制材層６５についても、第１の実施の形態で説明した熱可塑性樹脂や電磁波抑制材料を適宜用いることができる。

また、電磁波抑制シート６０と電磁波抑制材層６５との積層は、接着剤による貼り付けや両面テープによる貼り付けだけでなく、共押出成形機を用いて押出成型して積層構成とすることもできる。

なお、本実施の形態に係る積層型電磁波抑制シート７０においては、電磁波抑制シート６０の反射防止構造層６０Ａの形状を図２に示すように、表面から内部に向かうにつれて先端が尖った四角錐形状としたが、本発明はこのような形状に限定されない。例えば、内部から表面に向かうにつれて先端が尖った四角錐形状や円錐形状としてもよいし、表面を微細な凸凹形状とした反射防止構造であってもよい。
最初に、本実施例で使用するペレットＢの製造方法について説明する。

第1の実施の形態に係る実施例に用いたペレットＡの材料構成を基本としているが、ペレットＢではペレットＡで用いたＣＮＴ１５０１にかえてカーボンブラックマスターバッチ（ＰＢＴベースの三菱ケミカル社製カーボンブラック６５０の１５重量％マスターバッチ）２．２重量部を用いた。これ以外の材料構成及び製造方法はペレットＡと同様にして作製した。
（実施例）
本実施例では、積層型電磁波抑制シート（Ｄ）と比較例（Ｃ）とを作製して物性を評価した。
積層型電磁波抑制シート（Ｄ）の反射防止構造層６０Ａとシート状基材６０Ｂについては、ペレットＢを用いた。

なお、表２においては、ＰＢＴ、ＣＮＴ１５０１およびカーボンブラックのみについて材料と重量部を記載している。上記したように、ペレットＢは、その他に、フィラーとしてガラス繊維（日本電気硝子社製Ｔ－１２７）４４．３重量部、反応性化合物としてエポキシ樹脂ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＡＤＥＫＡ社製ＥＰ－１７）０．６重量部、安定剤としてヒンダードフェノール系安定剤（ＡＤＥＫＡ社製アデカスタブＡＯ－６０）０．３重量部、および離型剤としてポリエチレンワックス（三井化学社製ハイワックス１００Ｐ）０．３重量部を混合している。本実施例では、ペレットＢを用いているので表２には記載していない。

さらに、ペレットＢを用いて共押出成形機で成形してシート状に加工する工程、延伸加工する工程、および、ピンチロールで転写して反射防止構造層６０Ａを形成する工程などについては、第１の実施の形態の実施例と同じであるので説明を省略する。

つぎに、電磁波抑制材層６５の製造方法について説明する。熱可塑性樹脂としてポリウレタン（大日精化工業社製レザミンＭＥ－３４１２ＬＰ）４０重量部、電磁波抑制材料としてカーボンブラック（ライオン社製ケッチェンブラックＥＣ３００Ｊ）４５重量部、およびグラファイト（日本黒鉛工業社製ＵＰ－１５Ｎ）１５重量部、さらに高分子量ポリエステル酸アマイドアミン塩系分散剤（楠本化成社製ディスパロン７０３－５０）１５重量部を、三本ロールミルを用いて混錬して電磁波抑制材組成物を得た。得られた電磁波抑制材組成物を支持フィルム（易接着処理されたポリエステルフィルム：東洋紡社製１２μｍ厚Ｔ４１００）の易接着処理面に流延塗布し８０℃で５分乾燥して、厚さ０．０４ｍｍの電磁波抑制材層６５を得た。

そして、この電磁波抑制剤層６５を、反射防止構造層６０Ａが形成されている面とは反対側のシート状基材６０Ｂの面上に両面テープ（３Ｍ社製４６７）を使用して接着して積層型電磁波抑制シート（Ｄ）を製造した。得られた積層型電磁波抑制シート（Ｄ）の物性測定結果を表２に示した。

比較例（Ｃ）は、反射防止構造層とシート状基材については、積層型電磁波抑制シート（Ｄ）の反射防止構造層６０Ａとシート状基材６０Ｂの作製と同じ材料および工法で製造したので具体的な製造方法については説明を省略する。すなわち、積層型電磁波抑制シート（Ｄ）は、裏面に電磁波抑制材層６５を接着した構成からなるが、一方比較例（Ｃ）は電磁波抑制材層６５を接着していないことが異なるのみである。得られた電磁波抑制シートの物性測定結果を表２に示した。

表２からわかるように、積層型電磁波抑制シート（Ｄ）は反射損失がすべての周波数で１１ｄＢであり、透過損失は８０ＧＨｚで２６ｄＢ、９０ＧＨｚで２５ｄＢおよび１１０ＧＨｚで２５ｄＢであった。すなわち、反射損失も特に好ましい目標値である６ｄＢ以上が得られ、かつ、透過損失についても特に好ましい目標値である２０ｄＢ以上が得られた。

一方、比較例（Ｃ）は、反射損失および透過損失ともに８ｄＢであり、反射損失については特に好ましい目標値である６ｄＢ以上であったが、透過損失は目標値とする１０ｄＢよりも低い値しか得られなかった。これらの比較から、電磁波抑制材層６５を接着すれば電磁波抑制特性を大きく改善できることが分かった。

第１の実施の形態に係る電磁波抑制シートや第２の実施の形態に係る積層型電磁波抑制シートは、配線板やケーブル、電子素子、樹脂製筐体の上に直接または間接的に貼り付けて使用する透過法だけでなく、金属製筐体やシールドケース等の金属製の反射板に貼り付けて使用する反射法に用いることも可能である。

上記反射法での使用の場合、反射板と、反射防止構造層を有する電磁波抑制シートあるいは積層型電磁波抑制シートとの間に、誘電体層を設け、吸収する周波数に合わせてそれらの厚みを調整して使用してもよい。そして、上記反射法での使用において、反射防止構造層を有する電磁波抑制シートあるいは積層型電磁波抑制シート、および、誘電体層は、それぞれ単層で用いても複数の層を積層してもよい。積層する場合、それぞれの厚みや組成が互いに同一であっても異なっていてもよい。

上記誘電体層としては、誘電性を備えたフィルムやシートが用いられ、例えば、ゴムシート、シリコーンゴムシート、ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、発泡ポリスチレン、ガラス等、種々の材料のものを使用することができる。また、上記反射板としては、電磁波を全反射するものが用いられ、例えば、金属板や金属箔、金網、メッキ布、メッキ不織布、金属棒、導電性フィルム、蒸着フィルム等が好適に用いられる。

また、本発明の電磁波抑制シートおよび積層型電磁波抑制シートは、斜め入射に対して良好な電磁波抑制性能を発揮するので、抑制対象の電磁波の入射方向に対して斜めに、例えば１０°～１７０°、好ましくは２０°～１６０°、さらに好ましくは３０°～１５０°に配置しても、好適に使用することができる。

本発明の電磁波抑制シートは、次世代通信機器やレーダー用途に好適に用いられる。具体的にはミリ波を使用する機器の筐体やカバー等に用いられる。例えば、ブレーキ自動制御装置、車間距離制御装置、歩行者事故低減ステアリング装置、誤発信抑制制御装置、ペダル踏み間違い時加速抑制装置、接近車両注意喚起装置、車線維持支援装置、被追突防止警報装置、駐車支援装置、車両周辺障害物注意喚起装置などに用いられる車載用ミリ波レーダー；ホーム監視／踏切障害物検知装置、電車内コンテンツ伝送装置、路面電車／鉄道衝突防止装置、滑走路内異物検知装置などに用いられる鉄道・航空用ミリ波レーダー；交差点監視装置、エレベータ監視装置などの交通インフラ向けミリ波レーダー；各種セキュリティ装置向けミリ波レーダー；子供、高齢者見守りシステムなどの医療・介護用ミリ波レーダー；各種情報コンテンツ伝送用ミリ波レーダー；等に好適に利用することができる。さらに、次世代通信機器おける小型化、および高速かつ通信容量の増大に伴う使用周波数帯域の高域化に大きく貢献することができる。

本発明の電磁波抑制シートはミリ波を使用する種々の機器の筐体やカバー等に用いて不要な電磁波を吸収・抑制することにより、例えばブレーキ自動制御装置などの誤作動を防止することができ、ミリ波を使用する各種機器の安全対策分野に広く利用可能性を有する。

６ 凹部
６Ｃ、７Ｃ 仮想円
７ ベース部
８、１０ 頂部
９ ベース表面
１０ 頂部
１１、１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ 傾斜面
５０、６０ 電磁波抑制シート
５０Ａ、６０Ａ 反射防止構造層
５０Ｂ、６０Ｂ シート状基材
６５ 電磁波抑制材層
７０ 積層型電磁波抑制シート
１００、１０６ 送信アンテナ
１０１、１０７ 反射受信アンテナ
１０２、１０８ 透過受信アンテナ
１０５、１０９ 測定サンプル

Claims (9)

1. シート状基材と、
   前記シート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、
   前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、
   前記反射防止構造層は、前記シート状基材の前記一方の面の面積に対して面積比で３０％以上であることを特徴とする電磁波抑制シート。
2. 前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、前記熱可塑性樹脂および／または前記電磁波抑制材料が異なる材料を用いたことを特徴とする請求項１に記載の電磁波抑制シート。
3. シート状基材と、
   前記シート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、
   前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、
   前記シート状基材の前記反射防止構造層が設けられた面の反対側の面には、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制材層が積層され、
   前記反射防止構造層は、前記シート状基材の前記一方の面の面積に対して面積比で３０％以上であることを特徴とする積層型電磁波抑制シート。
4. 前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、前記熱可塑性樹脂および／または前記電磁波抑制材料が異なる材料を用いたことを特徴とする請求項３に記載の積層型電磁波抑制シート。
5. 前記反射防止構造層が形成された面に対して、電磁波が照射されたときの反射損失の値が、前記電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上であることを特徴とする請求項１に記載の電磁波抑制シート。
6. 前記反射防止構造層が形成された面に対して、電磁波が照射されたときの反射損失の値が、前記電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上であることを特徴とする請求項３に記載の積層型電磁波抑制シート。
7. シート状基材と、前記シート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制シートに対して、
   電磁波が照射されたときの反射損失の値をあらかじめ設定した値に調整するために、前記シート状基材の一方の面に形成する前記反射防止構造層の形成面積を変化させることを特徴とする電磁波抑制シートの反射損失の調整方法。
8. シート状基材と、前記シート状基材の一方の面上に設けられた可視光の反射を防止する反射防止構造層とを含み、前記シート状基材と前記反射防止構造層とは、少なくとも電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなり、前記シート状基材の前記反射防止構造層が設けられた面の反対側の面には、電磁波抑制材料が添加された熱可塑性樹脂からなる電磁波抑制剤層が積層されてなる積層型電磁波抑制シートに対して、
   電磁波が照射されたときの反射損失の値をあらかじめ設定した値に調整するために、前記シート状基材の一方の面に形成する前記反射防止構造層の形成面積を変化させることを特徴とする積層型電磁波抑制シートの反射損失の調整方法。
9. 前記反射損失の値が、前記電磁波の周波数３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚの全域にわたり４ｄＢ以上であることを特徴とする請求項７または８に記載の電磁波抑制シートの反射損失の調整方法。
   
   

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