JP2023177169A - Method for producing film - Google Patents
Method for producing film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023177169A JP2023177169A JP2022089956A JP2022089956A JP2023177169A JP 2023177169 A JP2023177169 A JP 2023177169A JP 2022089956 A JP2022089956 A JP 2022089956A JP 2022089956 A JP2022089956 A JP 2022089956A JP 2023177169 A JP2023177169 A JP 2023177169A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- less
- coating liquid
- base material
- shim
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 105
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 103
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 64
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 63
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 17
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 229910052604 silicate mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920005612 synthetic inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005613 synthetic organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
Abstract
Description
本発明は、フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a film.
従来、スロットダイコーターを用いて基材の上に塗工液を塗布する、フィルムの製造方向が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 BACKGROUND ART Conventionally, a film manufacturing method is known in which a coating liquid is applied onto a base material using a slot die coater (see, for example, Patent Document 1).
上記した特許文献1に記載されるようなフィルムの製造方法において、幅広かつ薄い被膜を基材の上に形成する場合に、より均一に形成すること要望されている。 In the film manufacturing method as described in Patent Document 1 mentioned above, when forming a wide and thin film on a base material, it is desired to form it more uniformly.
本発明は、スロットダイを用いて、幅広かつ薄い被膜を基材の上に均一に形成できるフィルムの製造方法を提供する。 The present invention provides a method for producing a film that can uniformly form a wide and thin coating on a substrate using a slot die.
本発明[1]は、スロットダイを用いて、幅が1600mm以上であり、かつ、厚みが30μm以下である被膜を基材の上に形成するフィルムの製造方法であって、塗工液を基材に塗工する塗工工程と、前記基材に塗工された前記塗工液を乾燥させる乾燥工程とを含み、前記スロットダイのシムの厚みが、20μm以上、100μm以下である、フィルムの製造方法を含む。 The present invention [1] is a method for producing a film in which a film having a width of 1,600 mm or more and a thickness of 30 μm or less is formed on a base material using a slot die, and the method comprises using a coating liquid as a base material. A film comprising a coating step of coating the material and a drying step of drying the coating liquid applied to the base material, and the thickness of the shim of the slot die is 20 μm or more and 100 μm or less. Including manufacturing method.
本発明[2]は、前記スロットダイが、第1ブロックと、前記基材の搬送方向において前記第1ブロックよりも下流側に配置され、前記第1ブロックとの間にスロットを形成する第2ブロックと、前記第1ブロックと前記第2ブロックとの間に配置される前記シムとを備え、前記第2ブロックが、本体部と、前記塗工液の吐出方向において前記本体部の下流側の端面から、前記吐出方向の下流側に向かって突出する突出部とを有し、前記突出部の突出量が、10μm以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [2] is characterized in that the slot die is arranged downstream of the first block in the conveyance direction of the base material and forms a slot between the first block and the second block. a block, and the shim disposed between the first block and the second block, and the second block includes a main body and a downstream side of the main body in the discharging direction of the coating liquid. The method includes a method for manufacturing a film according to [1] above, wherein the film has a protrusion that protrudes from the end face toward the downstream side in the discharge direction, and the protrusion amount of the protrusion is 10 μm or less.
本発明[3]は、前記スロットダイが、第1ブロックと、前記基材の搬送方向において前記第1ブロックよりも下流側に配置され、前記第1ブロックとの間にスロットを形成する第2ブロックと、前記第1ブロックと前記第2ブロックとの間に配置される前記シムとを備え、前記第2ブロックが、前記塗工液の吐出方向における前記第2ブロックの下流端から前記吐出方向における前記第2ブロックの上流端に向かうにつれて前記第1ブロックから離れる方向に傾斜する傾斜面を有し、前記塗工液の吐出方向と前記傾斜面とがなす鈍角の角度が、110°以上、170°以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [3] is characterized in that the slot die is arranged downstream of the first block in the transport direction of the base material and forms a slot between the first block and the second block. a block, and the shim disposed between the first block and the second block, wherein the second block is arranged in the discharging direction from the downstream end of the second block in the discharging direction of the coating liquid. has a slope that slopes away from the first block toward the upstream end of the second block, and an obtuse angle between the coating liquid discharge direction and the slope is 110° or more, It includes the method for producing a film according to [1] above, in which the angle is 170° or less.
本発明[4]は、前記基材の搬送速度が、15m/分以上、30m/分以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [4] includes the method for producing a film according to the above [1], wherein the transport speed of the base material is 15 m/min or more and 30 m/min or less.
本発明[5]は、前記塗工液の固形分濃度が、10質量%以上、50質量%以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [5] includes the method for producing a film according to the above [1], wherein the solid content concentration of the coating liquid is 10% by mass or more and 50% by mass or less.
本発明[6]は、前記塗工液が、多官能オリゴマーと、3官能モノマーとを含有し、前記塗工液中の前記多官能オリゴマーの割合が、20質量%以上、70質量%以下であり、前記塗工液中の前記3官能モノマーの割合が、20質量%以上、70質量%以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 In the present invention [6], the coating liquid contains a polyfunctional oligomer and a trifunctional monomer, and the proportion of the polyfunctional oligomer in the coating liquid is 20% by mass or more and 70% by mass or less. The present invention includes the method for producing a film according to [1] above, wherein the proportion of the trifunctional monomer in the coating liquid is 20% by mass or more and 70% by mass or less.
本発明[7]は、前記シムの弾性率が、1500MPa以上、6000MPa以下である、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [7] includes the method for producing a film according to the above [1], wherein the shim has an elastic modulus of 1500 MPa or more and 6000 MPa or less.
本発明[8]は、前記シムが、ポリエチレンテレフタレートからなる、上記[1]のフィルムの製造方法を含む。 The present invention [8] includes the method for producing a film according to the above [1], wherein the shim is made of polyethylene terephthalate.
本発明のフィルムの製造方法によれば、スロットダイのシムの厚みが、30μm以上、100μm以下に調節されている。 According to the film manufacturing method of the present invention, the thickness of the shim of the slot die is adjusted to 30 μm or more and 100 μm or less.
そのため、幅広(幅が1600mm以上)かつ薄い(厚みが30μm以下)被膜を基材の上に均一に形成できる。 Therefore, a wide (width: 1600 mm or more) and thin (thickness: 30 μm or less) coating can be uniformly formed on the base material.
1.フィルムの製造方法
本発明のフィルムFの製造方法では、スロットダイDを用いて、「幅広」かつ「薄い」被膜Cを基材Sの上に形成する。「幅広」とは、幅が1600mm以上であることをいう。「薄い」とは、厚みが30μm以下であることをいう。
1. Method for manufacturing film In the method for manufacturing film F of the present invention, a slot die D is used to form a "wide" and "thin" coating C on a base material S. "Wide" means that the width is 1600 mm or more. "Thin" means that the thickness is 30 μm or less.
(1)フィルム
まず、フィルムFについて説明する。図1に示すように、フィルムFは、基材Sと、被膜Cとを備える。
(1) Film First, film F will be explained. As shown in FIG. 1, the film F includes a base material S and a coating C.
基材Sは、シート形状を有する。基材Sは、基材Sの厚み方向において、第1面S1と、第2面S2とを有する。基材Sは、熱可塑性樹脂からなる。 The base material S has a sheet shape. The base material S has a first surface S1 and a second surface S2 in the thickness direction of the base material S. The base material S is made of thermoplastic resin.
熱可塑性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、および、アセテート樹脂が挙げられる。アセテート樹脂として、例えば、ジアセチルセルロース、および、トリアセチルセルロースが挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin include acrylic resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyamide resin, polyimide resin, and acetate resin. Examples of acetate resins include diacetylcellulose and triacetylcellulose.
なお、基材Sは、添加剤を含有してもよい。添加剤として、例えば、酸化防止剤、安定剤、補強材、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、着色剤、充填剤、可塑剤、滑剤、および、フィラーが挙げられる。 In addition, the base material S may contain an additive. Examples of additives include antioxidants, stabilizers, reinforcing materials, ultraviolet absorbers, flame retardants, antistatic agents, colorants, fillers, plasticizers, lubricants, and fillers.
被膜Cは、基材Sの第1面S1の上に配置される。被膜Cは、基材Sの第1面S1を覆う。被膜Cの機能として、例えば、防眩性、反射防止性および耐擦傷性が挙げられる。 The coating C is arranged on the first surface S1 of the substrate S. The coating C covers the first surface S1 of the base material S. Functions of the coating C include, for example, anti-glare properties, anti-reflection properties and scratch resistance.
被膜Cは、樹脂を含有する。樹脂として、例えば、熱硬化性樹脂、および、熱可塑性樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂として、例えば、ウレタン樹脂、および、エポキシ樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂として、例えば、アクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂および、ポリエステル樹脂が挙げられる。 Coating C contains resin. Examples of the resin include thermosetting resins and thermoplastic resins. Examples of thermosetting resins include urethane resins and epoxy resins. Examples of thermoplastic resins include acrylic resins, urethane acrylic resins, and polyester resins.
被膜Cは、粒子を含有してもよい。粒子として、例えば、酸化物、炭酸塩、ケイ酸塩、ケイ酸塩鉱物、および、リン酸塩などが挙げられる。酸化物として、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン(チタニア)、酸化アルミニウム(アルミナ)、および、酸化ジルコニウム(ジルコニア)が挙げられる。炭酸塩として、例えば、炭酸カルシウムが挙げられる。ケイ酸塩として、例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、および、ケイ酸マグネシウムが挙げられる。ケイ酸塩鉱物として、例えば、タルク、および、カオリンが挙げられる。リン酸塩として、例えば、リン酸カルシウムが挙げられる。 Coating C may contain particles. Examples of the particles include oxides, carbonates, silicates, silicate minerals, and phosphates. Examples of the oxide include silicon oxide (silica), titanium oxide (titania), aluminum oxide (alumina), and zirconium oxide (zirconia). Examples of carbonates include calcium carbonate. Examples of silicates include calcium silicate, aluminum silicate, and magnesium silicate. Examples of silicate minerals include talc and kaolin. Examples of phosphates include calcium phosphate.
(2)フィルムの製造システム
次に、フィルムFの製造方法を実施するためのフィルムFの製造システム1を説明する。図2に示すように、フィルムFの製造システム1は、スロットダイDを備える塗工装置2と、乾燥装置3とを備える。
(2) Film Manufacturing System Next, a film F manufacturing system 1 for carrying out the film F manufacturing method will be described. As shown in FIG. 2, the film F manufacturing system 1 includes a coating device 2 including a slot die D and a drying device 3.
塗工装置2は、塗工液を基材Sの第1面S1に塗工する(塗工工程)。つまり、フィルムFの製造方法は、塗工工程を含む。なお、基材Sの第1面S1には、塗工工程の前に、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理が、施されてもよい。 The coating device 2 coats the coating liquid onto the first surface S1 of the base material S (coating process). That is, the method for manufacturing film F includes a coating step. Note that the first surface S1 of the base material S may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment before the coating step.
塗工工程において、基材Sの搬送速度は、例えば、10m/分以上、好ましくは、15m/分以上、より好ましくは、20m/分以上であり、例えば、40m/分以下、好ましくは、35m/分以下、より好ましくは、30m/分以下である。 In the coating step, the conveyance speed of the substrate S is, for example, 10 m/min or more, preferably 15 m/min or more, more preferably 20 m/min or more, and, for example, 40 m/min or less, preferably 35 m/min. /min, more preferably 30m/min or less.
基材Sの搬送速度が上記上限値以下であると、塗工液を基材Sに均一に塗工できる。基材Sの搬送速度が上記下限値以上であると、フィルムFの生産効率の向上を図ることができる。 When the conveyance speed of the substrate S is equal to or less than the above upper limit, the coating liquid can be uniformly applied to the substrate S. When the transport speed of the base material S is equal to or higher than the above lower limit value, the production efficiency of the film F can be improved.
乾燥装置3は、基材Sに塗布された塗工液を乾燥させる(乾燥工程)。つまり、フィルムFの製造方法は、乾燥工程を含む。塗工液が乾燥されることにより、基材Sの上に被膜Cが形成され、上記したフィルムFが得られる。なお、被膜Cは、必要により、紫外線硬化処理、または、熱硬化処理されてもよい。 The drying device 3 dries the coating liquid applied to the base material S (drying step). That is, the method for manufacturing film F includes a drying step. By drying the coating liquid, a coating C is formed on the base material S, and the above-described film F is obtained. Note that the coating C may be subjected to an ultraviolet curing treatment or a thermosetting treatment, if necessary.
2.塗工液の詳細
塗工液の粘度は、例えば、100mPa・s以下、好ましくは、50mPa・s以下、より好ましくは、10mPa・s以下、例えば、1mPa・s以上である。塗工液の粘度が上記上限値以下であると、塗工液を基材Sに均一に塗工できる。
2. Details of Coating Liquid The viscosity of the coating liquid is, for example, 100 mPa·s or less, preferably 50 mPa·s or less, more preferably 10 mPa·s or less, for example, 1 mPa·s or more. When the viscosity of the coating liquid is below the above upper limit, the coating liquid can be uniformly applied to the substrate S.
塗工液の表面張力は、例えば、30mN/m以上、好ましくは、35mN/m以上であり、例えば、60mN/m以下、好ましくは、55mN/m以下である。 The surface tension of the coating liquid is, for example, 30 mN/m or more, preferably 35 mN/m or more, and, for example, 60 mN/m or less, preferably 55 mN/m or less.
塗工液の固形分濃度は、塗工液の粘度が上記上限値以下になるように調節される。塗工液の固形分濃度は、例えば、10質量%以上、好ましくは、20質量%以上、より好ましくは、30質量%以上、より好ましくは、40質量%以上であり、例えば、50質量%以下、好ましくは、45質量%以下である。 The solid content concentration of the coating liquid is adjusted so that the viscosity of the coating liquid is equal to or less than the above upper limit. The solid content concentration of the coating liquid is, for example, 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and, for example, 50% by mass or less. , preferably 45% by mass or less.
塗工液は、樹脂成分と、溶媒とを含有する。塗工液は、必要により、上記した粒子、および、添加剤を含有する。樹脂成分は、上記した樹脂であってもよく、上記した樹脂の前駆体であってもよい。 The coating liquid contains a resin component and a solvent. The coating liquid contains the above-mentioned particles and additives, if necessary. The resin component may be the resin described above or a precursor of the resin described above.
具体的には、塗工液は、多官能オリゴマー、多官能モノマー、水酸基モノマー、光重合開始剤、上記した粒子、表面張力調整剤、および、増粘剤を含有する。多官能オリゴマー、多官能モノマー、および、水酸基モノマーは、樹脂成分(樹脂の前駆体)であり、光重合開始剤、表面張力調整剤、および、増粘剤は、添加剤である。 Specifically, the coating liquid contains a polyfunctional oligomer, a polyfunctional monomer, a hydroxyl monomer, a photopolymerization initiator, the above particles, a surface tension modifier, and a thickener. The polyfunctional oligomer, polyfunctional monomer, and hydroxyl monomer are resin components (resin precursors), and the photopolymerization initiator, surface tension adjuster, and thickener are additives.
多官能オリゴマーは、複数のエチレン性不飽和基を有する。エチレン性不飽和基として、例えば、アクリル基、メタクリル基、ビニル基が挙げられる。 A polyfunctional oligomer has multiple ethylenically unsaturated groups. Examples of the ethylenically unsaturated group include an acrylic group, a methacryl group, and a vinyl group.
多官能オリゴマーの重量平均分子量は、例えば、300以上、好ましくは、400以上であり、例えば、5000以下、好ましくは、3000以下である。 The weight average molecular weight of the polyfunctional oligomer is, for example, 300 or more, preferably 400 or more, and, for example, 5,000 or less, preferably 3,000 or less.
多官能オリゴマーの官能基当量は、例えば、1以上、好ましくは、2以上であり、例えば、6以下、好ましくは、5以下である。 The functional group equivalent of the polyfunctional oligomer is, for example, 1 or more, preferably 2 or more, and is, for example, 6 or less, preferably 5 or less.
多官能オリゴマーとして、例えば、ウレタンアクリレート、エリスリトール系アクリレートが挙げられる。 Examples of the polyfunctional oligomer include urethane acrylate and erythritol acrylate.
塗工液中の多官能オリゴマーの割合は、例えば、20質量%以上、好ましくは、30質量%以上であり、例えば、70質量%以下、好ましくは、50質量%以下、である。 The proportion of the polyfunctional oligomer in the coating liquid is, for example, 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and, for example, 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less.
多官能モノマーは、複数のエチレン性不飽和基を有する。エチレン性不飽和基として、例えば、アクリル基、メタクリル基、ビニル基が挙げられる。 A polyfunctional monomer has multiple ethylenically unsaturated groups. Examples of the ethylenically unsaturated group include an acrylic group, a methacryl group, and a vinyl group.
多官能モノマーとして、例えば、ペンタエリスリトールとアクリル酸の縮合物が挙げられる。 Examples of the polyfunctional monomer include a condensate of pentaerythritol and acrylic acid.
塗工液中の多官能モノマーの割合は、例えば、20質量%以上、好ましくは、30質量%以上であり、例えば、70質量%以下、好ましくは、50質量%以下、である。 The proportion of the polyfunctional monomer in the coating liquid is, for example, 20% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and, for example, 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less.
水酸基モノマーは、1つのエチレン性不飽和基と、1つの水酸基とを有する。水酸基モノマーとして、例えば、4-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレートが挙げられる。 The hydroxyl monomer has one ethylenically unsaturated group and one hydroxyl group. Examples of the hydroxyl monomer include 4-hydroxybutyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate.
光重合開始剤は、紫外線照射により、多官能オリゴマー、多官能モノマーおよび水酸基モノマーをラジカル重合させる。光重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン系光重合開始剤、フォスフィンオキサイド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤が挙げられる。 The photopolymerization initiator radically polymerizes a polyfunctional oligomer, a polyfunctional monomer, and a hydroxyl monomer by UV irradiation. Examples of the photopolymerization initiator include benzophenone photopolymerization initiators, phosphine oxide photopolymerization initiators, oxime ester photopolymerization initiators, and cationic photopolymerization initiators.
表面張力調整剤は、塗工液の表面張力を調整する。表面張力調整剤として、例えば、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤が挙げられる。 The surface tension adjuster adjusts the surface tension of the coating liquid. Examples of the surface tension adjusting agent include cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, silicone leveling agents, and fluorine leveling agents.
増粘剤は、塗工液の粘度を調整する。増粘剤として、例えば、合成無機高分子、合成有機高分子、天然有機高分子が挙げられる。 The thickener adjusts the viscosity of the coating solution. Examples of thickeners include synthetic inorganic polymers, synthetic organic polymers, and natural organic polymers.
3.スロットダイの詳細
図3に示すように、スロットダイDは、第1ブロック11と、第2ブロック12と、シム13とを備える。スロットダイDは、第1ブロック11と第2ブロック12との間にスロット10を有する。塗工液は、スロット10から吐出される。
3. Details of Slot Die As shown in FIG. 3, the slot die D includes a first block 11, a second block 12, and a shim 13. The slot die D has a slot 10 between a first block 11 and a second block 12. The coating liquid is discharged from the slot 10.
(1)第1ブロック
第1ブロック11は、基材Sの搬送方向において、第2ブロック12よりも上流側に配置される。本実施形態では、第1ブロック11は、第2ブロック12の下方に配置される。第1ブロック11は、基材Sの幅方向に延びる。図4に示すように、第1ブロック11は、塗工液の吐出方向において、上流端E1と、下流端E2とを有する。また、第1ブロック11は、マニホールド111と、流路112と、スロット面113と、傾斜面114とを有する。
(1) First block The first block 11 is arranged upstream of the second block 12 in the transport direction of the base material S. In this embodiment, the first block 11 is arranged below the second block 12. The first block 11 extends in the width direction of the base material S. As shown in FIG. 4, the first block 11 has an upstream end E1 and a downstream end E2 in the coating liquid discharge direction. Further, the first block 11 has a manifold 111, a flow path 112, a slot surface 113, and an inclined surface 114.
マニホールド111は、塗工液の吐出方向において、上流端E1と下流端E2との間に配置される。マニホールド111は、幅方向に延びる。マニホールド111は、第2ブロック12に向かって開放されている。 Manifold 111 is arranged between upstream end E1 and downstream end E2 in the coating liquid discharge direction. Manifold 111 extends in the width direction. The manifold 111 is open toward the second block 12.
流路112は、幅方向において、第1ブロック11の中央部に配置される。流路112は、マニホールド111に通じる。塗工液は、流路112を通って、マニホールド111内に入る。 The flow path 112 is arranged at the center of the first block 11 in the width direction. Flow path 112 communicates with manifold 111 . The coating liquid passes through the flow path 112 and enters the manifold 111 .
スロット面113は、基材Sの搬送方向において、スロット10の上流側の内面である。スロット面113は、第2ブロック12と向かい合う。スロット面113は、塗工液の吐出方向において、マニホールド111から下流端E2まで延びる。スロット面113は、幅方向にも延びる。スロット面113は、平坦面である。 The slot surface 113 is an inner surface on the upstream side of the slot 10 in the conveying direction of the base material S. The slot surface 113 faces the second block 12. The slot surface 113 extends from the manifold 111 to the downstream end E2 in the coating liquid discharge direction. The slot surface 113 also extends in the width direction. Slot surface 113 is a flat surface.
傾斜面114は、基材Sの搬送方向において、第1ブロック11の上流側の外面である。傾斜面114は、塗工液の吐出方向に対して傾斜する。詳しくは、傾斜面114は、第1ブロック11の下流端E2から上流端E1に向かうにつれて、第2ブロック12から離れる方向に傾斜する。塗工液の吐出方向と傾斜面114とがなす鈍角θ1は、例えば、110°以上、好ましくは、140°以上であり、例えば、170°以下、好ましくは、160°以下である。 The inclined surface 114 is the outer surface of the first block 11 on the upstream side in the conveying direction of the base material S. The inclined surface 114 is inclined with respect to the coating liquid discharge direction. Specifically, the slope 114 slopes away from the second block 12 from the downstream end E2 of the first block 11 toward the upstream end E1. The obtuse angle θ1 between the coating liquid discharge direction and the inclined surface 114 is, for example, 110° or more, preferably 140° or more, and is, for example, 170° or less, preferably 160° or less.
鈍角θ1が上記下限値以上であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に、過度に塗工液が溜まることを抑制できる。突出部122については、後で説明する。鈍角θ1が上記上限値以下であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に溜まる塗工液の量が過度に少なくなることを抑制できる。 When the obtuse angle θ1 is equal to or greater than the lower limit value, it is possible to prevent the coating liquid from accumulating excessively on the upstream side of the protrusion 122 in the conveyance direction of the base material S. The protrusion 122 will be explained later. When the obtuse angle θ1 is less than or equal to the above upper limit value, it is possible to suppress the amount of the coating liquid that accumulates on the upstream side of the protruding portion 122 in the transport direction of the substrate S from becoming excessively small.
(2)第2ブロック
図3に示すように、第2ブロック12は、基材Sの搬送方向において、第1ブロック11よりも下流側に配置される。本実施形態では、第2ブロック12は、第1ブロック11の上方に配置される。第2ブロック12は、基材Sの幅方向に延びる。図4に示すように、第2ブロック12は、塗工液の吐出方向において、上流端E11と、下流端E12とを有する。また、第2ブロック12は、本体部121と突出部122とを有する。
(2) Second block As shown in FIG. 3, the second block 12 is arranged downstream of the first block 11 in the conveyance direction of the base material S. In this embodiment, the second block 12 is arranged above the first block 11. The second block 12 extends in the width direction of the base material S. As shown in FIG. 4, the second block 12 has an upstream end E11 and a downstream end E12 in the coating liquid discharge direction. Further, the second block 12 has a main body portion 121 and a protrusion portion 122.
本体部121は、突出部122を除く第2ブロック12の全体である。本体部121は、スロット面1211と、傾斜面1212と、端面1213とを有する。 The main body portion 121 is the entire second block 12 excluding the protruding portion 122. The main body portion 121 has a slot surface 1211, an inclined surface 1212, and an end surface 1213.
スロット面1211は、基材Sの搬送方向において、スロット10の下流側の内面である。スロット面1211は、第1ブロック11と向かい合う。詳しくは、スロット面113は、マニホールド111およびスロット面113と向かい合う。スロット面1211は、塗工液の吐出方向に延びる。スロット面1211は、スロット面113と平行に延びる。なお、スロット面1211は、幅方向にも延びる。スロット面1211は、平坦面である。 The slot surface 1211 is the downstream inner surface of the slot 10 in the conveyance direction of the base material S. The slot surface 1211 faces the first block 11 . Specifically, slot surface 113 faces manifold 111 and slot surface 113. The slot surface 1211 extends in the coating liquid discharge direction. Slot surface 1211 extends parallel to slot surface 113. Note that the slot surface 1211 also extends in the width direction. Slot surface 1211 is a flat surface.
傾斜面1212は、基材Sの搬送方向において、第2ブロック12の下流側の外面である。傾斜面1212は、塗工液の吐出方向に対して傾斜する。詳しくは、傾斜面1212は、第2ブロック12の下流端E12から上流端E11に向かうにつれて、第1ブロック11から離れる方向に傾斜する。塗工液の吐出方向と傾斜面1212とがなす鈍角θ2は、例えば、110°以上、好ましくは、140°以上であり、例えば、170°以下、好ましくは、160°以下である。 The inclined surface 1212 is the outer surface of the second block 12 on the downstream side in the conveyance direction of the base material S. The inclined surface 1212 is inclined with respect to the coating liquid discharge direction. Specifically, the slope 1212 slopes away from the first block 11 from the downstream end E12 of the second block 12 toward the upstream end E11. The obtuse angle θ2 between the coating liquid discharge direction and the inclined surface 1212 is, for example, 110° or more, preferably 140° or more, and is, for example, 170° or less, preferably 160° or less.
鈍角θ2が上記下限値以上であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に、過度に塗工液が溜まることを抑制できる。鈍角θ2が上記上限値以下であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に溜まる塗工液の量が過度に少なくなることを抑制できる。 When the obtuse angle θ2 is equal to or greater than the lower limit value, it is possible to prevent the coating liquid from accumulating excessively on the upstream side of the protrusion 122 in the conveyance direction of the base material S. When the obtuse angle θ2 is less than or equal to the above upper limit value, it is possible to suppress the amount of the coating liquid that accumulates on the upstream side of the protruding portion 122 in the conveyance direction of the substrate S from becoming excessively small.
端面1213は、塗工液の吐出方向において、本体部121の下流側の端面である。端面1213は、第2ブロックの下流端E12に配置される。端面1213は、スロット面1211と直交する。端面1213は、基材Sの搬送方向に延びる。 The end surface 1213 is a downstream end surface of the main body portion 121 in the coating liquid discharge direction. The end surface 1213 is arranged at the downstream end E12 of the second block. End surface 1213 is perpendicular to slot surface 1211. The end surface 1213 extends in the conveyance direction of the base material S.
突出部122は、端面1213から、吐出方向の下流側に向かって突出する。言い換えると、突出部122は、基材Sに向かって突出する。 The protruding portion 122 protrudes from the end surface 1213 toward the downstream side in the discharge direction. In other words, the protrusion 122 protrudes toward the base material S.
突出部122の突出量は、例えば、15μm以下、好ましくは、10μm以下、好ましくは、5μm以下であり、例えば、1μm以上である。 The amount of protrusion of the protruding portion 122 is, for example, 15 μm or less, preferably 10 μm or less, preferably 5 μm or less, and, for example, 1 μm or more.
突出部122の突出量が上記上限値以下であると、突出部122が基材Sに触れてしまうことを抑制できる。突出部122の突出量が上記下限値以上であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に、塗工液を溜めることができ、基材Sの搬送速度が上がっても塗工液を基材Sに均一に塗工できる。 When the amount of protrusion of the protrusion 122 is equal to or less than the upper limit value, the protrusion 122 can be prevented from touching the base material S. When the amount of protrusion of the protruding portion 122 is equal to or greater than the above lower limit value, the coating liquid can be stored upstream of the protruding portion 122 in the conveying direction of the substrate S, and even if the conveying speed of the substrate S increases, the coating will not be applied. The solution can be uniformly applied to the base material S.
吐出方向における端面1213と基材Sとの距離に対して、突出部122の突出量は、例えば、20%以下、好ましくは、10%以下であり、例えば、1%以上である。 The amount of protrusion of the protrusion 122 is, for example, 20% or less, preferably 10% or less, and, for example, 1% or more with respect to the distance between the end surface 1213 and the base material S in the discharge direction.
吐出方向における端面1213と基材Sとの距離に対する突出部122の突出量の割合が上記上限値以下であると、突出部122が基材Sに触れてしまうことを抑制できる。吐出方向における端面1213と基材Sとの距離に対する突出部122の突出量の割合が上記下限値以上であると、基材Sの搬送方向における突出部122の上流側に、塗工液を溜めることができ、基材Sの搬送速度が上がっても塗工液を基材Sに均一に塗工できる。 When the ratio of the amount of protrusion of the protrusion 122 to the distance between the end face 1213 and the base material S in the discharge direction is equal to or less than the above upper limit value, it is possible to suppress the protrusion 122 from touching the base material S. When the ratio of the protrusion amount of the protrusion 122 to the distance between the end face 1213 and the base material S in the discharge direction is equal to or greater than the lower limit value, the coating liquid is stored upstream of the protrusion 122 in the conveyance direction of the base material S. Therefore, even if the conveyance speed of the substrate S increases, the coating liquid can be uniformly applied to the substrate S.
(3)シム
図3および図4に示すように、シム13は、第1ブロック11と第2ブロック12との間に配置される。シム13は、第1ブロック11のスロット面113と第2ブロック12のスロット面1211との間隔を調節する。言い換えると、シム13は、基材Sの搬送方向におけるスロット10の内寸を調節する。
(3) Shim As shown in FIGS. 3 and 4, the shim 13 is arranged between the first block 11 and the second block 12. The shim 13 adjusts the distance between the slot surface 113 of the first block 11 and the slot surface 1211 of the second block 12. In other words, the shim 13 adjusts the inner dimension of the slot 10 in the conveyance direction of the base material S.
シム13の厚みは、20μm以上、好ましくは、30μm以上、より好ましくは、60μm以上であり、例えば、100μm以下、好ましくは、80μm以下である。 The thickness of the shim 13 is 20 μm or more, preferably 30 μm or more, more preferably 60 μm or more, and, for example, 100 μm or less, preferably 80 μm or less.
シム13の厚みが上記下限値以上であると、基材Sの幅方向における被膜Cの中央部の厚みが基材Sの幅方向における被膜Cの端部の厚みに対して過度に増大することを、抑制できる。シム13の厚みが上記上限値以下であると、基材Sの幅方向における被膜Cの端部の厚みが基材Sの幅方向における被膜Cの中央部の厚みに対して過度に増大することを、抑制できる。 If the thickness of the shim 13 is greater than or equal to the above lower limit, the thickness of the central portion of the coating C in the width direction of the base material S will increase excessively relative to the thickness of the end portion of the coating C in the width direction of the base material S. can be suppressed. If the thickness of the shim 13 is below the above upper limit value, the thickness of the end portion of the coating C in the width direction of the base material S will increase excessively relative to the thickness of the center portion of the coating C in the width direction of the base material S. can be suppressed.
シム13の材料として、例えば、ステンレス、および、ポリエチレンテレフタレートが挙げられる。 Examples of the material for the shim 13 include stainless steel and polyethylene terephthalate.
シム13の弾性率は、1500MPa以上、6000MPa以下である。シム13の弾性率が上記上限値以下である場合、第1ブロック11と第2ブロック12との間にシム13を挟むときに、シム13をわずかに変形させることができる。これにより、第1ブロック11とシム13との間に隙間ができないようにシム13を第1ブロック11に接触させるとともに、第2ブロック12とシム13との間に隙間ができないようにシム13を第2ブロック12に接触させることができる。その結果、第1ブロック11とシム13との間、または、第2ブロック12とシム13との間から塗工液が漏れてしまうことを抑制できる。また、シム13の弾性率が上記上限値以下である場合、シム13が保管中にわずかに湾曲した場合や、シム13に微細なキズがついた場合であっても、第1ブロック11および第2ブロック12に追従させて、第1ブロック11と第2ブロック12との間にシム13を挟むことができる。一方、シム13の弾性率が上記下限値以上である場合、第1ブロック11と第2ブロック12との間にシム13を挟むときに、シム13が過度に変形してしまうことを抑制できる。 The elastic modulus of the shim 13 is 1500 MPa or more and 6000 MPa or less. When the elastic modulus of the shim 13 is less than or equal to the above upper limit value, the shim 13 can be slightly deformed when the shim 13 is sandwiched between the first block 11 and the second block 12. As a result, the shim 13 is brought into contact with the first block 11 so that there is no gap between the first block 11 and the shim 13, and the shim 13 is brought into contact with the first block 11 so that no gap is created between the second block 12 and the shim 13. It can be brought into contact with the second block 12. As a result, it is possible to prevent the coating liquid from leaking between the first block 11 and the shim 13 or between the second block 12 and the shim 13. In addition, if the elastic modulus of the shim 13 is below the upper limit value, even if the shim 13 is slightly bent during storage, or if the shim 13 has minute scratches, the first block 11 and the first block 11 A shim 13 can be sandwiched between the first block 11 and the second block 12 so as to follow the second block 12. On the other hand, when the modulus of elasticity of the shim 13 is equal to or greater than the above lower limit value, when the shim 13 is sandwiched between the first block 11 and the second block 12, excessive deformation of the shim 13 can be suppressed.
シム13は、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートからなる。シム13がポリエチレンテレフタレートからなる場合、シム13の弾性率を上記した範囲内に設定できる。また、シム13がポリエチレンテレフタレートからなる場合、シム13を容易に加工できる。 Shim 13 preferably consists of polyethylene terephthalate. When the shim 13 is made of polyethylene terephthalate, the elastic modulus of the shim 13 can be set within the above range. Moreover, when the shim 13 is made of polyethylene terephthalate, the shim 13 can be easily processed.
4.被膜の均一性
上記した塗工液を、上記したスロットダイDを用いて基材Sに塗布し、乾燥させることにより、被膜Cの厚みが基材Sの幅方向にわたって均一なフィルムFを製造することができる。
4. Uniformity of the film By applying the above-mentioned coating liquid to the base material S using the above-mentioned slot die D and drying it, a film F having a uniform thickness of the film C across the width direction of the base material S is manufactured. be able to.
得られたフィルムFでは、基材Sの幅方向において、被膜Cの中央部の厚みと、被膜Cの端部の厚みとの差は、例えば、2.5μm以下、好ましくは、2.0μm以下、より好ましくは、1.5μm以下、より好ましくは、1.0μm以下、より好ましくは、0.5μm以下である。なお、被膜Cの中央部の厚みと、被膜Cの端部の厚みとの差の下限値は、限定されない。被膜Cの中央部の厚みと、被膜Cの端部の厚みとの差は、0μmであってもよい。 In the obtained film F, in the width direction of the base material S, the difference between the thickness of the center part of the coating C and the thickness of the edge part of the coating C is, for example, 2.5 μm or less, preferably 2.0 μm or less. , more preferably 1.5 μm or less, more preferably 1.0 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less. Note that the lower limit of the difference between the thickness of the central portion of the coating C and the thickness of the end portions of the coating C is not limited. The difference between the thickness of the central portion of the coating C and the thickness of the end portions of the coating C may be 0 μm.
4.作用効果
フィルムFの製造方法によれば、スロットダイDのシム13の厚みが、30μm以上、100μm以下に調節されている。
4. Effects According to the method for manufacturing the film F, the thickness of the shim 13 of the slot die D is adjusted to be 30 μm or more and 100 μm or less.
そのため、幅広(幅が1600mm以上)かつ薄い(厚みが30μm以下)被膜Cを基材Sの上に均一に形成できる。 Therefore, a wide (width of 1600 mm or more) and thin (thickness of 30 μm or less) coating C can be uniformly formed on the base material S.
具体的には、塗工液の粘度が100mPa以下である場合、基材Sの幅方向において、被膜Cの中央部の厚みと、被膜Cの端部の厚みとの差を、2.5μm以下にできる。 Specifically, when the viscosity of the coating liquid is 100 mPa or less, the difference between the thickness of the center portion of the coating C and the thickness of the edge portion of the coating C in the width direction of the substrate S is 2.5 μm or less. Can be done.
次に、本発明を、実施例および比較例に基づいて説明する。本発明は、下記の実施例によって限定されない。また、以下の記載において用いられる物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する、物性値、パラメータなどの上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限値(「以上」、「よりも大きい」として定義されている数値)に代替することができる。 Next, the present invention will be explained based on Examples and Comparative Examples. The invention is not limited by the examples below. In addition, specific numerical values of physical property values, parameters, etc. used in the following description are the corresponding upper limit values of physical property values, parameters, etc. described in the above "Detailed Description" (a numerical value defined as "less than or equal to" or "less than") or a lower limit value (a numerical value defined as "more than" or "greater than").
1.塗工液の製造
以下の材料をトルエンに配合し、塗工液を得た。塗工液の固形分は、42質量%であり、塗工液の粘度は、6mPa・sであった。
1. Manufacture of coating liquid The following materials were blended with toluene to obtain a coating liquid. The solid content of the coating liquid was 42% by mass, and the viscosity of the coating liquid was 6 mPa·s.
多官能オリゴマー:
NKオリゴマーUA-53H-80BK(新中村化学工業社製) 50質量部
多官能モノマー:
ビスコート#300(大阪有機化学工業社製) 50質量部
水酸基モノマー:
4-ヒドロキシブチルアクリレート(大阪有機化学工業社製) 20質量部
光重合開始剤:
Omnirad907(IGM Resin社製) 5質量部
表面張力調整剤
GRANDIC PC4100(DIC社製) 1質量部
シリカ粒子
テクポリマーSSX-103DXE(積水化成品工業社製) 0.5質量部
増粘剤
スメクトン-SAN溶液(日東電工社製) 1.5質量部
2.フィルムの製造
図3に示すスロットダイ(ブロック高さ:76mm)を用いて、表1から表3に示す条件で、基材(材質:アクリルフィルム)に塗工液を塗工し、95℃で、1分、乾燥させて、基材の上にアクリルウレタン樹脂の被膜を有する、各実施例および各比較例のフィルムを得た。
Multifunctional oligomer:
NK oligomer UA-53H-80BK (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 50 parts by mass Polyfunctional monomer:
Viscoat #300 (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 50 parts by mass Hydroxyl group monomer:
4-Hydroxybutyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 20 parts by mass Photopolymerization initiator:
Omnirad907 (manufactured by IGM Resin) 5 parts by mass Surface tension regulator GRANDIC PC4100 (manufactured by DIC) 1 part by mass Silica particles Techpolymer SSX-103DXE (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) 0.5 parts by mass Thickener Smectone-SAN Solution (manufactured by Nitto Denko Corporation) 1.5 parts by mass 2. Production of film The coating liquid was applied to the base material (material: acrylic film) using the slot die (block height: 76 mm) shown in Figure 3 under the conditions shown in Tables 1 to 3, and the coating solution was heated at 95°C. , and dried for 1 minute to obtain films of each Example and each Comparative Example having an acrylic urethane resin coating on the base material.
得られたフィルムの被膜の厚みを、基材の幅方向において5カ所(中央、一端部、他端部、一端部と中央との間、他端部と中央との間)測定し、最大の厚みと最小の厚みとの差を計算した。結果を表1に示す。 The thickness of the resulting film was measured at five locations in the width direction of the base material (the center, one end, the other end, between one end and the center, and between the other end and the center). The difference between the thickness and the minimum thickness was calculated. The results are shown in Table 1.
また、以下の基準に基づき、被膜の外観を評価した。結果を表1から表3に示す。 In addition, the appearance of the film was evaluated based on the following criteria. The results are shown in Tables 1 to 3.
<外観評価基準>
A:目視検査にて外観不良が全くない。
<Appearance evaluation criteria>
A: There is no appearance defect at all in visual inspection.
B:目視検査にてわずかにムラが見えるが、製品として使用可能である。 B: Slight unevenness is visible in visual inspection, but it can be used as a product.
C:目視検査にて外観不良が見えるが、製品として使用可能である。 C: Appearance defects are visible in visual inspection, but it can be used as a product.
D:全面的に外観不良が発生しており、製品として使用不可である。 D: Appearance defects occur throughout the product and it cannot be used as a product.
D スロットダイ
10 スロット
11 第1ブロック
12 第2ブロック
13 シム
D Slot die 10 Slot 11 1st block 12 2nd block 13 Shim
Claims (8)
塗工液を基材に塗工する塗工工程と、
前記基材に塗工された前記塗工液を乾燥させる乾燥工程と
を含み、
前記スロットダイのシムの厚みが、20μm以上、100μm以下である、フィルムの製造方法。 A method for producing a film in which a film having a width of 1600 mm or more and a thickness of 30 μm or less is formed on a base material using a slot die, the method comprising:
a coating process of applying a coating liquid to a base material;
a drying step of drying the coating liquid applied to the base material,
A method for manufacturing a film, wherein the thickness of the shim of the slot die is 20 μm or more and 100 μm or less.
前記第2ブロックは、
本体部と、
前記塗工液の吐出方向において前記本体部の下流側の端面から、前記吐出方向の下流側に向かって突出する突出部と
を有し、
前記突出部の突出量は、10μm以下である、請求項1に記載のフィルムの製造方法。 The slot die includes a first block, a second block that is disposed downstream of the first block in the conveying direction of the base material and forms a slot between the first block, and the first block. and the shim disposed between the shim and the second block,
The second block is
The main body and
a protruding portion that protrudes from a downstream end face of the main body portion toward the downstream side in the discharging direction of the coating liquid;
The method for producing a film according to claim 1, wherein the protrusion amount of the protrusion is 10 μm or less.
前記第2ブロックは、
前記塗工液の吐出方向における前記第2ブロックの下流端から前記吐出方向における前記第2ブロックの上流端に向かうにつれて前記第1ブロックから離れる方向に傾斜する傾斜面を有し、
前記塗工液の吐出方向と前記傾斜面とがなす鈍角の角度は、110°以上、170°以下である、請求項1に記載のフィルムの製造方法。 The slot die includes a first block, a second block that is disposed downstream of the first block in the conveying direction of the base material and forms a slot between the first block, and the first block. and the shim disposed between the shim and the second block,
The second block is
having an inclined surface that slopes away from the first block from the downstream end of the second block in the discharging direction of the coating liquid toward the upstream end of the second block in the discharging direction;
The method for producing a film according to claim 1, wherein an obtuse angle between the discharge direction of the coating liquid and the inclined surface is 110° or more and 170° or less.
前記塗工液中の前記多官能オリゴマーの割合は、20質量%以上、70質量%以下であり、
前記塗工液中の前記多官能オリゴマーの割合は、20質量%以上、70質量%以下である、請求項1に記載のフィルムの製造方法。 The coating liquid contains a polyfunctional oligomer and a trifunctional monomer,
The proportion of the polyfunctional oligomer in the coating liquid is 20% by mass or more and 70% by mass or less,
The method for producing a film according to claim 1, wherein the proportion of the polyfunctional oligomer in the coating liquid is 20% by mass or more and 70% by mass or less.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022089956A JP2023177169A (en) | 2022-06-01 | 2022-06-01 | Method for producing film |
PCT/JP2023/019553 WO2023234177A1 (en) | 2022-06-01 | 2023-05-25 | Method for producing film |
TW112120348A TW202404812A (en) | 2022-06-01 | 2023-05-31 | Method for producing film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022089956A JP2023177169A (en) | 2022-06-01 | 2022-06-01 | Method for producing film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023177169A true JP2023177169A (en) | 2023-12-13 |
Family
ID=89024916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022089956A Pending JP2023177169A (en) | 2022-06-01 | 2022-06-01 | Method for producing film |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023177169A (en) |
TW (1) | TW202404812A (en) |
WO (1) | WO2023234177A1 (en) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3899485B2 (en) * | 2002-03-22 | 2007-03-28 | 富士フイルム株式会社 | Application method and apparatus |
JP5007168B2 (en) * | 2007-07-10 | 2012-08-22 | 日東電工株式会社 | Die coater adjusting method and optical film manufacturing method |
JP5498826B2 (en) * | 2010-03-18 | 2014-05-21 | 株式会社城北精工所 | Coating die |
JP2012115788A (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Nitto Denko Corp | Method and apparatus for applying coating solution, and method for producing coated product |
JP5315453B1 (en) * | 2012-03-07 | 2013-10-16 | 日東電工株式会社 | Shim member, die coater and coating film manufacturing method |
JP2015073928A (en) * | 2013-10-08 | 2015-04-20 | 株式会社カネカ | Manufacturing method of coating film using slot die having local vent, and slot die having local vent |
JP6367076B2 (en) * | 2014-10-08 | 2018-08-01 | 株式会社ヒラノテクシード | Die |
JP6813293B2 (en) * | 2016-07-20 | 2021-01-13 | 日東電工株式会社 | Optical film manufacturing method and optical film manufacturing equipment |
JP2021124616A (en) * | 2020-02-05 | 2021-08-30 | 日東電工株式会社 | Antiglare hard coat film, manufacturing method of antiglare hard coat film, optical member and image display apparatus |
-
2022
- 2022-06-01 JP JP2022089956A patent/JP2023177169A/en active Pending
-
2023
- 2023-05-25 WO PCT/JP2023/019553 patent/WO2023234177A1/en unknown
- 2023-05-31 TW TW112120348A patent/TW202404812A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2023234177A1 (en) | 2023-12-07 |
TW202404812A (en) | 2024-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2975439B1 (en) | Laminated film and display device | |
WO2022181354A1 (en) | Decorative sheet | |
US20100151204A1 (en) | Light diffusion film and method for manufacturing the same | |
JP2016188344A (en) | Release film, adhesive sheet, and method for producing release film | |
JP2008230057A (en) | Sheet-like molding and its manufacturing method | |
JPWO2018079596A1 (en) | Release film | |
WO2023234177A1 (en) | Method for producing film | |
JP7260474B2 (en) | release film | |
JP2007265100A (en) | Touch panel | |
US10544596B2 (en) | Anti-slip, liquid management flooring surface cover article and method of manufacture | |
US10288265B1 (en) | Optical assembly and the method to make the same | |
JP2003089152A (en) | Method for manufacturing uniaxially oriented polyester film | |
TW201643650A (en) | Scattering prevention sheet | |
WO2023243391A1 (en) | Film producing system, and film producing method | |
JP2010066744A (en) | Transparent multi-layer sheet for display plate | |
JP2015063357A (en) | Manufacturing method of optical film, transfer method, and transfer roller | |
US9138851B2 (en) | Method of manufacturing member made by stainless steel and method of manufacturing coating film | |
JP5429979B2 (en) | Method for producing film having coating film, method for producing optical film | |
JP2013226667A (en) | Method of manufacturing sheet-shaped member including fine irregular pattern and sheet-shaped member | |
KR20210039946A (en) | laminated film having wrinkle surface | |
JP2020026102A (en) | Antifouling film, production method of antifouling film, antifouling laminate and display device | |
KR102183226B1 (en) | Manufacturing method of uv paint coating layer on film | |
WO2023047977A1 (en) | Mold release film for processing, method for producing same, and use of same | |
JP6179211B2 (en) | Laminated film for transparent substrate and display panel using the same | |
KR101259954B1 (en) | Release Film for Making Multilayer Ceramic Capacitor and Manufacturing Method thereof |