JP2023151482A - 電磁波吸収シート - Google Patents

Abstract

【課題】窓ガラス等に用いられる型板ガラスに防犯性を付与することができる電磁波吸収シートを提供する。【解決手段】電磁波吸収層２０と、スペーサ層３０と、反射層４０と、粘着層５０とを有し、電磁波吸収層２０と、ペーサ層３０と、反射層４０と、粘着層５０とがこの順に積層されており、粘着層５０は、厚さが１０μｍ以上１００μｍ以下であり、ガラス基材に対する粘着力が７Ｎ／２５ｍｍ以上であり、粘着層５０以外の構成する層の総厚が３００μｍ以上である、電磁波吸収シート１０。【選択図】図１

Description

本発明は、電磁波吸収シートに関する。

窓ガラスに熱線遮蔽性や電磁波吸収性を付与するために、窓ガラスに前記の性能を有する透明フィルムを貼付することが検討されている。
熱線遮蔽フィルムとしては、例えば、熱線吸収性金属化合物微粒子を含み、熱線吸収性金属化合物微粒子の平均粒径が１０～１００ｎｍであり、熱線遮蔽係数が０．７０以下であり、可視光線反射率が１０％以上であり、可視光透過率が５５％以上であるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
透明電磁波遮蔽フィルムとしては、例えば、透明基材と、０．１Ω／□～１０Ω／□の高屈折率透明導電層と、金属薄膜層との積層体からなり、３０ＭＨｚ～１００００ＭＨｚの周波数帯域で４０ｄＢ以上の電磁遮蔽性を有するものが知られている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１５－２１７５１５号公報 特開２００５－１１６６４６号公報

しかしながら、特許文献１の熱線遮蔽フィルムおよび特許文献２の透明電磁波遮蔽フィルムは、窓ガラスに防犯性を付与することができないという課題があった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、窓ガラス等に用いられる型板ガラスに防犯性を付与することができる電磁波吸収シートを提供することを目的とする。

本発明は、以下の電磁波吸収シートを提供する。
［１］電磁波吸収層と、スペーサ層と、反射層と、粘着層とを有し、
前記電磁波吸収層と、前記スペーサ層と、前記反射層と、前記粘着層とがこの順に積層されており、
前記粘着層は、厚さが１０μｍ以上１００μｍ以下であり、ガラス基材に対する粘着力が７Ｎ／２５ｍｍ以上であり、
前記粘着層以外の構成する層の総厚が３００μｍ以上である、電磁波吸収シート。

［２］前記スペーサ層の厚さｔが、前記スペーサ層の比誘電率εｒ´との関係において、下記の式（１）を満たす、［１］に記載の電磁波吸収シート。

［３］前記電磁波吸収層の最表面にハードコート層が形成された、［１］に記載の電磁波吸収シート。

［４］前記スペーサ層および前記粘着層の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および金属酸化物から選択される少なくとも１種を含む、［１］に記載の電磁波吸収シート。

［５］全光線透過率が４０％以上である、［１］～［４］のいずれかに記載の電磁波吸収シート。

本発明によれば、窓ガラス等に用いられる型板ガラスに防犯性を付与することができる電磁波吸収シートを提供することができる。

本発明の一実施形態に係る電磁波吸収部材を模式的に示し、厚みに沿う面の断面図である。 本発明の一実施形態に係る電磁波吸収部材を構成する電磁波吸収層の一例を示す上面図である。 本発明の一実施形態に係る電磁波吸収部材を構成する電磁波吸収層の第１の電磁波吸収パターンの一例を示す上面図である。 本発明の一実施形態に係る電磁波吸収部材を構成する電磁波吸収層の第２の電磁波吸収パターンの一例を示す上面図である。 本発明の一実施形態に係る電磁波吸収部材を構成する電磁波吸収層の第３の電磁波吸収パターンの一例を示す上面図である。 図２のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ断面図である。

本発明の電磁波吸収シートの実施の形態について説明する。
なお、本実施の形態は、本発明の電磁波吸収シートの趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。

本明細書において「電磁波吸収パターン」とは、幾何学的な図形である単位の集合体であり、ある周波数の電磁波を選択的に吸収する物体を意味する。「電磁波吸収パターン」はいわゆるアンテナと同様の機能を有するともいえる。
本明細書において「ミリ波領域の電磁波」とは、波長が１ｍｍ～１０ｍｍの電磁波を意味する。「ミリ波領域の電磁波」とは、周波数が３０ＧＨｚ～３００ＧＨｚである電磁波ともいえる。
本明細書において数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値および上限値として含むことを意味する。

図１は、本発明の一実施形態に係る電磁波吸収シートを模式的に示し、厚さに沿う面の断面図である。
図１に示すように、本実施形態の電磁波吸収シート１０は、電磁波吸収層２０と、スペーサ層３０と、反射層４０と、粘着層（第１の粘着層）５０と、を有する。また、電磁波吸収層２０と、スペーサ層３０と、反射層４０と、粘着層５０とがこの順に積層されている。
本実施形態の電磁波吸収シート１０は、例えば、型板ガラス２００の一方の面２００ａに貼付される。本実施形態の電磁波吸収シート１０は、型板ガラス２００の屋内側の面または屋外側の面に貼付される。

反射層４０は、電磁波吸収層２０の他方の面（裏面）２０ｂ側に配置される。スペーサ層３０は、電磁波吸収層２０と反射層４０の間に配置される。すなわち、電磁波吸収層２０と反射層４０は、スペーサ層３０を介して積層されている。

電磁波吸収層２０は、単層であってもよく、図１に示すように基材２１と、基材２１上に形成された電磁波吸収パターン２２とを含んでもよい。
電磁波吸収層２０が単層である場合、電磁波吸収層２０は後述する電磁波吸収パターン２２と同様の材料から構成される。

本実施形態の電磁波吸収シート１０は、電磁波吸収層２０とスペーサ層３０との間に、両者を接合する第２の粘着層８０を有していてもよい。また、本実施形態の電磁波吸収シート１０は、スペーサ層３０と反射層４０との間に、両者を接合する第３の粘着層９０を有していてもよい。本実施形態の電磁波吸収シート１０が、第２の粘着層８０と第３の粘着層９０とを有する場合、電磁波吸収層２０と、第２の粘着層８０と、スペーサ層３０と、第３の粘着層９０と、反射層４０と、粘着層５０（第１の粘着層）とがこの順に積層されている。

「電磁波吸収層」
電磁波吸収層２０は周波数選択表面（ＦＳＳ：Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ Ｓｕｒｆａｃｅ）からなる。周波数選択表面とは、導電性部材などで波長以下の形状の連続構造を形成することにより、特定の周波数の電磁波のみを遮断することができる面のことである。

図２は、本実施形態における電磁波吸収層の一例を示す上面図である。図２に示すように、電磁波吸収層２０は、平板状である基材２１と、基材２１の一方の面２１ａに形成された電磁波吸収パターン２２とを有する電磁波吸収フィルムである。電磁波吸収パターン２２は、第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２および第３の電磁波吸収パターン７３からなる。

（第１の電磁波吸収パターン）
図３（ａ）は、第１の電磁波吸収パターン７１を示す上面図である。
図３（ａ）に示すように第１の電磁波吸収パターン７１は、複数の第１の単位ｕ１で構成されている。第１の単位ｕ１のそれぞれは、幾何学的な図形である。
すなわち、第１の電磁波吸収パターン７１は、幾何学的な図形である第１の単位ｕ１の集合体であるともいえる。
第１の単位ｕ１は、それぞれが一つのアンテナとして機能する。第１の電磁波吸収パターン７１は、例えば、ＦＳＳ素子の細線パターンでもよい。

第１の電磁波吸収パターン７１においては、複数の第１の単位ｕ１が図３（ａ）中の両矢印Ｐで示す方向に沿って配列された第１の配列Ｒ１が複数形成されている。第１の電磁波吸収パターン７１は複数の第１の配列Ｒ１を有するともいえる。第１の電磁波吸収パターン７１は、複数の第１の配列Ｒ１を両矢印Ｐで示す方向に沿って、所定の間隔で基材２１上に形成することで構成できる。
複数の第１の配列Ｒ１同士の間隔は特に制限されない。第１の配列Ｒ１同士の間隔は、規則的でも不規則的でもよい。

図３（ｂ）は、第１の単位ｕ１を示す上面図である。
図３（ｂ）は第１の電磁波吸収パターン７１を構成する第１の単位ｕ１を示す上面図である。
図３（ｂ）に示すように、第１の単位ｕ１の形状は上下左右対称の十字状である。具体的に第１の単位ｕ１は、１つの十字部分Ｓ１と、４つの端部Ｔ１とを有する。十字部分Ｓ１は、図３（ｂ）中のｘ軸方向に平行な直線部分とｙ軸方向に平行な直線部分とで構成される。ｘ軸方向に平行な直線部分の両端とｙ軸方向に平行な直線部分の両端のそれぞれに、各直線部分と直交するように直線状の各端部Ｔ１が接している。

第１の単位ｕ１のｘ軸方向の長さＬ１、４つの端部Ｔ１のそれぞれのｘ軸方向の長さＷ１をそれぞれ調整することで、１つのアンテナとして機能する第１の単位ｕ１による電磁波の吸収特性を調節できる。ｙ軸方向も同様にして、電磁波の吸収特性を調節できる。

ただし、第１の単位の形状は十字状に限定されない。第１の単位の形状は、第１の電磁波吸収パターン７１によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値が、Ａ［ＧＨｚ］となる態様であれば、特に限定されない。
例えば、第１の単位である図形の形状としては、円形状、環状、直線状、方形状、多角形状、Ｈ字状、Ｙ字状、Ｖ字状等が挙げられる。

電磁波吸収層２０においては、複数の第１の単位ｕ１の形状は互いに同一である。ただし、複数の第１の単位ｕ１の形状は互いに同一の図形でなくてもよい。本発明の他の例においては、複数の第１の単位の形状は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、互いに同一でもよく、異なってもよい。

第１の電磁波吸収パターン７１は、周波数がＡ［ＧＨｚ］である電磁波を選択的に吸収する。周波数の値Ａ［ＧＨｚ］は、第１の電磁波吸収パターン７１によって吸収される電磁波の吸収量が２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲で極大値を示すときの周波数の値である。
第１の電磁波吸収パターン７１によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値Ａ［ＧＨｚ］は、例えば、下記の方法Ｘ、方法Ｙによって特定できる。

方法Ｘ：周波数を２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲内で変化させながら電磁波を後述の標準フィルムに照射し、標準フィルムによって吸収される電磁波の吸収量が最大値をとるときの電磁波の周波数をＡ［ＧＨｚ］とする。
方法Ｙ：基材と前記基材上に形成された複数の電磁波吸収パターンを有する電磁波吸収フィルムから、単一の電磁波吸収パターンのみが残るように、基材から電磁波吸収パターンを除去する。次いで、単一の電磁波吸収パターンのみを有するフィルムに、周波数を２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲内で変化させながら電磁波を照射し、当該フィルムの電磁波の吸収量が最大値をとるときの電磁波の周波数をＡ［ＧＨｚ］とする。

標準フィルムは、平板状である標準基材と標準基材に形成された標準パターンとを有する。
標準基材の詳細は、基材２１と同内容とすることができる。そのため、標準基材の詳細は、後述の基材２１の説明において詳細に説明する。

標準パターンは、形状が互いに同一の図形である複数の標準単位のみからなる。標準フィルムにおいては、形状が同一である１種類の図形のみからなる標準パターンが標準基材に形成されているともいえる。標準パターンは通常のＦＳＳ素子の細線パターンによって形成できる。通常、標準パターンは、第１の電磁波吸収パターン７１と同一の電磁波吸収パターンである。
標準パターンにおいては、複数の標準単位の形状は、互いに同一の図形であれば特に限定されない。標準単位である図形の形状としては、円形状、環状、直線状、方形状、多角形状、十字状、Ｈ字状、Ｙ字状、Ｖ字状等が挙げられる。通常、標準単位の形状は第１の単位ｕ１と同一である。

標準フィルムにおいて複数の標準単位は、図形の端部同士の間隔が１ｍｍとなるように標準基材上に配置されている。例えば、標準単位の図形が十字形状である場合、十字の交差部分が図形の中心であり、図形の端部は十字を構成する２つの直線部分の方向のそれぞれに沿って中心から最も距離が離れている部分である。

標準パターンを構成する標準単位の材質は、２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲内で変化させながら電磁波を標準フィルムに照射したときに、標準フィルムによって吸収される電磁波の吸収量が最大値をとり得る態様であれば、特に限定されない。
標準単位の材質の詳細は、第１の単位と同内容とすることができる。

標準フィルムによって吸収される電磁波の吸収量は、下記式（１）で算出できる。
吸収量＝入力信号－反射特性（Ｓ１１）－透過特性（Ｓ２１）・・・（１）
入力信号は、標準フィルムに電磁波を照射した際の照射源における電磁波の強度の指標である。
反射特性（Ｓ１１）は、照射源から標準フィルムに電磁波を照射した際に標準フィルムによって反射される電磁波の強度の指標である。反射特性（Ｓ１１）は、例えば、ベクトルネットワークアナライザを用いてフリースペース法によって測定できる。
透過特性（Ｓ２１）は、照射源から標準フィルムに電磁波を照射した際に標準フィルムを透過する電磁波の強度の指標である。透過特性（Ｓ２１）は、例えば、ベクトルネットワークアナライザを用いてフリースペース法によって測定できる。

周波数Ａ［ＧＨｚ］は例えば、下記の方法で特定できる。
まず、周波数を２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲内で変化させながら電磁波を標準フィルムに照射し、標準フィルムによって吸収される電磁波の吸収量を上記式（１）で算出する。
次いで、横軸に変化させた周波数をプロットし、縦軸に上記式（１）で算出される吸収量をプロットした吸収スペクトル図を作成する。通常、この吸収スペクトル図において、吸収量が最大値となる周波数の値が横軸に１つ存在する。そのためプロット図には、電磁波の吸収量が極大値となる単一のピークが形成される。このように、電磁波の吸収量が最大値をとるときの電磁波の周波数をＡ［ＧＨｚ］とすることができる。

方法Ｘにおいて、あらかじめ周波数Ａの数値を予測できる場合には、標準フィルムに照射する電磁波の周波数を、２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚよりも狭い範囲内で変化させてもよい。例えば、標準フィルムに照射する電磁波の周波数を、５０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚの範囲内で変化させてもよい。

第１の電磁波吸収パターン７１は、上述の方法Ｘによって特定される周波数がＡ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収する。
本実施形態における電磁波吸収層２０においては、周波数の値Ａは、２０ＧＨｚ～１１０ＧＨｚが好ましく、６０ＧＨｚ～１００ＧＨｚがより好ましく、６５ＧＨｚ～９５ＧＨｚがさらに好ましく、７０ＧＨｚ～９０ＧＨｚが特に好ましい。周波数の値Ａが前記数値範囲内であると、電磁波吸収層１１０がミリ波領域の電磁波を吸収でき、自動車用部品、道路周辺部材、建築外壁関連材、窓、通信機器、電波望遠鏡等に適用しやすく易くなる。

方法Ｙにおいては、方法Ｘと同様に、フィルムの電磁波の吸収量を測定できる。すなわち、周波数を２０～１１０［ＧＨｚ］の範囲内で変化させながら電磁波をフィルムに照射し、フィルムによって吸収される電磁波の吸収量を上記式（１）で算出する。
次いで、横軸に周波数をプロットし、縦軸に上記式（１）で算出される吸収量をプロットした吸収スペクトル図を作成する。通常、この吸収スペクトル図において、吸収量が最大値となる周波数の値が横軸に１つ存在する。そのためプロット図には、電磁波の吸収量が極大値となる単一のピークが形成される。このように、電磁波の吸収量が最大値をとるときの電磁波の周波数をＡ［ＧＨｚ］とすることができる。

第１の単位ｕ１の材質は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
第１の単位の材質としては、例えば、金属の細線、導電性薄膜、導電性ペーストの定着物等が挙げられる。
金属の材質としては、銅、アルミニウム、タングステン、鉄、モリブデン、ニッケル、チタン、銀、金またはこれらの金属を２種以上含む合金（例えば、ステンレス鋼、炭素鋼等の鋼鉄、真鍮、りん青銅、ジルコニウム銅合金、ベリリウム銅、鉄ニッケル、ニクロム、ニッケルチタン、カンタル、ハステロイ、レニウムタングステン等）が挙げられる。
導電性薄膜の材質としては、金属粒子、カーボンナノ粒子、カーボンファイバー等が挙げられる。

第１の単位ｕ１である図形の端部同士の間隔は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
例えば、第１の単位ｕ１である図形の端部同士の間隔は、全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。ただし、周囲環境の影響を受けにくい電磁波吸収フィルムを設計しやすくなり、吸収される電磁波の周波数帯の精度が製造時に向上することから、第１の単位ｕ１である図形の端部同士の間隔は、互いに同一であることが好ましい。

（第２の電磁波吸収パターン）
図４（ａ）は、第２の電磁波吸収パターン７２を示す上面図である。
図４（ａ）に示すように、第２の電磁波吸収パターン７２は、複数の第２の単位ｕ２で構成される。第２の単位ｕ２のそれぞれは、幾何学的な図形である。すなわち、第２の電磁波吸収パターン７２は、幾何学的な図形である第２の単位ｕ２の集合体であるともいえる。
第２の単位ｕ２は、それぞれが１つのアンテナとして機能する。第２の電磁波吸収パターン７２は、例えば、ＦＳＳ素子の細線パターンでもよい。

第２の電磁波吸収パターン７２においては、複数の第２の単位ｕ２が図４（ａ）中の両矢印Ｐで示す方向に沿って配列された第２の配列Ｒ２が形成されている。第２の電磁波吸収パターン７２は複数の第２の配列Ｒ２を有するともいえる。第２の電磁波吸収パターン７２は、第２の配列Ｒ２を両矢印Ｐで示す方向に沿って、所定の間隔で基材２１上に形成することで構成できる。
複数の第２の配列Ｒ２同士の間隔は特に制限されない。第２の配列Ｒ２同士の間隔は、規則的でも不規則的でもよい。

図４（ｂ）は、第２の単位ｕ２を示す上面図である。
図４（ｂ）に示すように、第２の単位ｕ２の形状は上下左右対称の十字状である。具体的に第２の単位ｕ２は、１つの十字部分Ｓ２と、４つの端部Ｔ２とを有する。十字部分Ｓ２は、図４（ｂ）中のｘ軸方向に平行な直線部分とｙ軸方向に平行な直線部分とで構成される。ｘ軸方向に平行な直線部分の両端とｙ軸方向に平行な直線部分の両端のそれぞれに、各直線部分と直交するように直線状の各端部Ｔ２が接している。

電磁波吸収層２０においては、第２の単位ｕ２のｘ軸方向の長さＬ２は、第１の単位ｕ１のｘ軸方向の長さＬ１より短い。加えて、４つの端部Ｔ２のそれぞれのｘ軸方向またはｙ軸方向の長さＷ２は、第１の単位ｕ１の４つの端部Ｔ１のそれぞれの長さＷ１より短い。
第２の単位ｕ２のｘ軸方向の長さＬ２、４つの端部Ｔ２のそれぞれのｘ軸方向の長さＷ２をそれぞれ調整することで、１つのアンテナとして機能する第２の単位ｕ２による電磁波の吸収特性を調節できる。ｙ軸方向も同様にして、電磁波の吸収特性を調節できる。

電磁波吸収層２０においては、複数の第２の単位ｕ２の形状は互いに同一である。ただし、複数の第２の単位ｕ２の形状は互いに同一の図形でなくてもよい。本発明の他の例においては、複数の第２の単位の形状は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、互いに同一でもよく、異なってもよい。

第２の電磁波吸収パターン７２は、周波数が下記式（２）を満たすＢ［ＧＨｚ］である電磁波を選択的に吸収する。周波数の値Ｂ［ＧＨｚ］は、第２の電磁波吸収パターン７２によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示すときの周波数の値である。周波数の値Ｂ［ＧＨｚ］は、下記式（２）を満たす。
１．０３７×Ａ≦Ｂ≦１．３０×Ａ・・・式（２）

上記式（２）に示すように、第２の電磁波吸収パターン７２は、周波数が１．０３７×Ａ［ＧＨｚ］～１．３０×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収する。第２の電磁波吸収パターン７２は、周波数が１．１７×Ａ［ＧＨｚ］～１．３０×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収することが好ましい。
第２の電磁波吸収パターン７２が１．０３７×Ａ［ＧＨｚ］以上の周波数の電磁波を吸収するため、Ａ［ＧＨｚ］より高周波数の周波数帯で第２の電磁波吸収パターン７２による電磁波の吸収量のピークと第１の電磁波吸収パターン７１による電磁波の吸収量のピークとが充分に重なりあう。その結果、第１の電磁波吸収パターン７１を単独で有するフィルムと比較して、電磁波吸収フィルム全体で吸収可能な電磁波の周波数帯がＡ［ＧＨｚ］より高周波数側の周波数帯に拡張される。
第２の電磁波吸収パターン７２が１．３０×Ａ［ＧＨｚ］以下の周波数の電磁波を吸収するため、Ａ［ＧＨｚ］より高周波数の周波数帯で第２の電磁波吸収パターン７２による電磁波の吸収量のピークと第１の電磁波吸収パターン７１による電磁波の吸収量のピークとの周波数の差が少なくなる。その結果、電磁波吸収フィルム全体で吸収される電磁波の吸収量が極大値となる単一のピークが形成される。
以上より、第２の電磁波吸収パターン７２は周波数が１．０３７×Ａ［ＧＨｚ］～１．３０×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収するため、電磁波吸収フィルム全体で吸収される電磁波の吸収量が高周波数側の周波数帯に拡張される。

ただし、第２の単位の形状は十字状に限定されない。第２の単位の形状は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。例えば、第２の単位である図形の形状としては、円形状、環状、直線状、方形状、多角形状、Ｈ字状、Ｙ字状、Ｖ字状等が挙げられる。

第２の電磁波吸収パターン７２を構成する第２の単位の材質は、Ｂ［ＧＨｚ］の電磁波を吸収できる態様であれば、特に限定されず、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
第２の単位の材質としては、第１の単位ｕ１の材質について説明した内容と同内容である。

第２の単位ｕ２である図形の端部同士の間隔は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
例えば、第２の単位ｕ２である図形の端部同士の間隔は、全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。ただし、周囲環境の影響を受け難い電磁波吸収フィルムを設計し易くなり、吸収される電磁波の周波数帯の精度が製造時に向上することから、第２の単位ｕ２である図形の端部同士の間隔は、互いに同一であることが好ましい。

（第３の電磁波吸収パターン）
図５（ａ）は、第３の電磁波吸収パターン７３を示す上面図である。
図５（ａ）に示すように第３の電磁波吸収パターン７３は、複数の第３の単位ｕ３で構成される。第３の単位ｕ３のそれぞれは、幾何学的な図形である。すなわち、第３の電磁波吸収パターン７３は、幾何学的な図形である第３の単位ｕ３の集合体であるともいえる。
第３の単位ｕ３は、それぞれが１つのアンテナとして機能する。第３の電磁波吸収パターン７３は、例えば、ＦＳＳ素子の細線パターンでもよい。

第３の電磁波吸収パターン７３においては、複数の第３の単位ｕ３が図５（ａ）中の両矢印Ｐで示す方向に沿って配列された第３の配列Ｒ３が形成されている。第３の電磁波吸収パターン７３は複数の第３の配列Ｒ３を有するともいえる。第３の電磁波吸収パターン７３は、第３の配列Ｒ３を両矢印Ｐで示す方向に沿って、所定の間隔で基材２１上に形成することで構成できる。
複数の第３の配列Ｒ３同士の間隔は特に制限されない。第３の配列Ｒ３同士の間隔は、規則的でも不規則的でもよい。

図５（ｂ）は、第３の単位ｕ３を示す上面図である。
図５（ｂ）に示すように、第３の単位ｕ３の形状は上下左右対称の十字状である。具体的に第３の単位ｕ３は、１つの十字部分Ｓ３と、４つの端部Ｔ３とを有する。十字部分Ｓ３は、図５（ｂ）中のｘ軸方向に平行な直線部分とｙ軸方向に平行な直線部分とで構成される。ｘ軸方向に平行な直線部分の両端とｙ軸方向に平行な直線部分の両端のそれぞれに、各直線部分と直交するように直線状の各端部Ｔ３が接している。

電磁波吸収層２０においては、第３の単位ｕ３のｘ軸方向の長さＬ３は、第１の単位ｕ１のｘ軸方向の長さＬ１より長い。加えて、４つの端部Ｔ３のそれぞれのｘ軸方向またはｙ軸方向の長さＷ３は、第１の単位ｕ１の４つの端部Ｔ１のそれぞれの長さＷ１より長い。
第３の単位ｕ３のｘ軸方向の長さＬ３、４つの端部Ｔ３のそれぞれのｘ軸方向の長さＷ３をそれぞれ調整することで、１つのアンテナとして機能する第３の単位ｕ３による電磁波の吸収特性を調節できる。ｙ軸方向も同様にして、電磁波の吸収特性を調節できる。

電磁波吸収層２０においては、複数の第３の単位ｕ３の形状は互いに同一である。ただし、複数の第３の単位ｕ３の形状は互いに同一の図形でなくてもよい。本発明の他の例においては、複数の第３の単位の形状は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、互いに同一でもよく、異なってもよい。

第３の電磁波吸収パターン７３は、周波数が下記式（３）を満たすＣ［ＧＨｚ］である電磁波を選択的に吸収する。周波数の値Ｃ［ＧＨｚ］は、第３の電磁波吸収パターン７３によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示すときの周波数の値である。周波数の値Ｃ［ＧＨｚ］は、下記式（３）を満たす。
０．６０×Ａ≦Ｃ≦０．９６３×Ａ・・・式（３）

上記式（３）に示すように、第３の電磁波吸収パターン７３は、周波数が０．６０×Ａ［ＧＨｚ］～０．９６３×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収する。第３の電磁波吸収パターン７３は、周波数が０．６０×Ａ［ＧＨｚ］～０．８３×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収することが好ましい。
第３の電磁波吸収パターン７３が０．６０×Ａ［ＧＨｚ］以上の周波数の電磁波を吸収するため、Ａ［ＧＨｚ］より低周波数の周波数帯で第３の電磁波吸収パターン７３による電磁波の吸収量のピークと第１の電磁波吸収パターン７１による電磁波の吸収量のピークとの周波数の差が少なくなる。その結果、電磁波吸収層２０全体で吸収される電磁波の吸収量が極大値となる単一のピークが形成される。
第３の電磁波吸収パターン７３が０．９６３×Ａ［ＧＨｚ］以下の周波数の電磁波を吸収するため、Ａ［ＧＨｚ］より低周波数の周波数帯で第３の電磁波吸収パターン７３による電磁波の吸収量のピークと第１の電磁波吸収パターン７１による電磁波の吸収量のピークとが充分に重なりあう。その結果、電磁波吸収フィルム全体で吸収可能な電磁波の周波数帯が第１の電磁波吸収パターン７１を単独で有するフィルムと比較して、Ａ［ＧＨｚ］より低周波数側の周波数帯に拡張される。
以上より、第３の電磁波吸収パターン７３は周波数が０．６０×Ａ［ＧＨｚ］～０．９６３×Ａ［ＧＨｚ］である電磁波を吸収するため、電磁波吸収層２０全体で吸収される電磁波の吸収量が低周波数側の周波数帯に拡張される。

ただし、第３の単位ｕ３の形状は十字状に限定されない。第３の単位ｕ３の形状は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。例えば、第３の単位である図形の形状としては、円形状、環状、直線状、方形状、多角形状、Ｈ字状、Ｙ字状、Ｖ字状等が挙げられる。

第３の電磁波吸収パターン７３を構成する第３の単位ｕ３の材質は、Ｃ［ＧＨｚ］の電磁波を吸収できる態様であれば、特に限定されず、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
第３の単位ｕ３の材質としては、第１の単位ｕ１の材質について説明した内容と同内容である。

第３の単位ｕ３である図形の端部同士の間隔は、目的とする周波数に吸収特性を調整できれば、特に限定されない。
例えば、第３の単位ｕ３である図形の端部同士の間隔は、全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。ただし、周囲環境の影響を受け難い電磁波吸収フィルムを設計し易くなり、吸収される電磁波の周波数帯の精度が製造時に向上することから、第３の単位ｕ３である図形の端部同士の間隔は、互いに同一であることが好ましい。

図２に示す電磁波吸収層２０においては、第１の配列Ｒ１と第２の配列Ｒ２と第３の配列Ｒ３とが互いに隣り合うように両矢印Ｐで示す方向に沿って配列されている。このように、第１の配列Ｒ１と第２の配列Ｒ２と第３の配列Ｒ３とが互いに隣り合うように基材２１に配置されているため、第１の電磁波吸収パターン７１が選択的に吸収する電磁波のピーク位置の周波数の値Ａ［ＧＨｚ］を基準として、第２の電磁波吸収パターン７２が選択的に吸収する電磁波の周波数帯と、第３の電磁波吸収パターン７３が選択的に吸収する電磁波の周波数帯の両方が重なりあう。その結果、電磁波吸収層２０全体で吸収される電磁波の吸収域が、ピーク位置の周波数の値Ａ［ＧＨｚ］を基準として、高周波数側と低周波数側との両方に拡張され易くなる。

図２にそれぞれ示す、第１の単位ｕ１と第２の単位ｕ２との間隔ｄ１、第２の単位ｕ２と第３の単位ｕ３との間隔ｄ２、第３の単位ｕ３と第１の単位ｕ１との間隔ｄ３は、互いに同一でもよく、異なってもよい。
間隔ｄ１は、例えば、０．２ｍｍ～４ｍｍでもよく、０．３ｍｍ～２ｍｍでもよく、０．５ｍｍ～１ｍｍでもよい。
間隔ｄ２は、例えば、０．２ｍｍ～４ｍｍでもよく、０．３ｍｍ～２ｍｍでもよく、０．５ｍｍ～１ｍｍでもよい。
間隔ｄ３は、例えば、０．２ｍｍ～４ｍｍでもよく、０．３ｍｍ～２ｍｍでもよく、０．５ｍｍ～１ｍｍでもよい。
間隔ｄ１、間隔ｄ２、間隔ｄ３がそれぞれ前記数値範囲内であると、電磁波吸収層２０全体で吸収される電磁波の吸収域が、ピーク位置の周波数の値Ａ［ＧＨｚ］を基準としてさらに拡張されやすくなる。

電磁波吸収層２０においては、第１の単位ｕ１、第２の単位ｕ２、第３の単位ｕ３の形状は互いに同一である。ただし、第１の単位ｕ１、第２の単位ｕ２、第３の単位ｕ３の形状は互いに同一の図形でなくてもよい。すなわち、本発明の他の例においては、第１の単位ｕ１、第２の単位ｕ２、第３の単位ｕ３の形状は、互いに同一でもよく、異なってもよい。

電磁波吸収層２０は、複数の第２の電磁波吸収パターン７２を有してもよい。例えば、電磁波吸収層２０は、第２の電磁波吸収パターン７２に加えて、下記の電磁波吸収パターン７２ａ、電磁波吸収パターン７２ｂをさらに有してもよい。
電磁波吸収パターン７２ａ：吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値が下記式（４）を満たすＤ［ＧＨｚ］である電磁波吸収パターン。
電磁波吸収パターン７２ｂ：吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値が下記式（５）を満たすＥ［ＧＨｚ］である電磁波吸収パターン。
１．０３７×Ａ≦Ｄ＜１．０９×Ａ・・・式（４）
１．０９×Ａ≦Ｅ＜１．１７×Ａ・・・式（５）
上記式（４）、上記式（５）中、Ａは上述の方法Ｘまたは方法Ｙで特定される周波数［ＧＨｚ］である。

電磁波吸収層２０が、第２の電磁波吸収パターン７２に加えて、電磁波吸収パターン７２ａと電磁波吸収パターン７２ｂとをさらに有する場合、第２の電磁波吸収パターン７２によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値は、１．１７×Ａ［ＧＨｚ］～１．３０×Ａ［ＧＨｚ］が好ましい。この場合、電磁波吸収層２０全体で吸収可能な電磁波の周波数帯の高周波数側への拡張効果がさらに顕著であり、本発明の効果がさらに顕著に得られる。

電磁波吸収層２０は、複数の第３の電磁波吸収パターンを有してもよい。例えば、電磁波吸収層２０は、第３の電磁波吸収パターン７３に加えて、下記の電磁波吸収パターン７３ａと電磁波吸収パターン７３ｂとをさらに有してもよい。
電磁波吸収パターン７３ａ：吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値が下記式（６）を満たすＦ［ＧＨｚ］である電磁波吸収パターン。
電磁波吸収パターン７３ｂ：吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値が下記式（７）を満たすＧ［ＧＨｚ］である電磁波吸収パターン。
０．９１×Ａ＜Ｆ≦０．９６３×Ａ・・・式（６）
０．８３×Ａ＜Ｇ≦０．９１×Ａ・・・式（７）
下記式（６）、下記式（７）中、Ａは上述の方法Ｘまたは方法Ｙで特定される周波数［ＧＨｚ］である。

電磁波吸収層２０が、第３の電磁波吸収パターン７３に加えて、電磁波吸収パターン７３ａ、電磁波吸収パターン７３ｂをさらに有する場合、第３の電磁波吸収パターン７３によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値は、０．６０×Ａ［ＧＨｚ］～０．８３×Ａ［ＧＨｚ］が好ましい。この場合、電磁波吸収層２０全体で吸収可能な電磁波の周波数帯の低周波数側への拡張効果がさらに顕著であり、本発明の効果がさらに顕著に得られる。

図６は、図２の電磁波吸収層２０のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ断面図である。
基材２１は、互いに対向する２つの面２１ａ，２１ｂを有する。そして、基材２１の一方の面２１ａに、第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２、第３の電磁波吸収パターン７３が形成されている。図６に示すように、基材２１の一方の面２１ａに、複数の第１の単位ｕ１、複数の第２の単位ｕ２、複数の第３の単位ｕ３がそれぞれ設けられている。

基材２１は、平板状であり、かつ、一方の面２１ａに第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２および第３の電磁波吸収パターン７３を形成できる形態であれば、特に限定されない。基材７１は単層構造でも多層構造でもよい。

基材２１の厚さＫは、例えば、５μｍ～５００μｍでもよく、１５μｍ～２００μｍでもよく、２５μｍ～１００μｍでもよい。
第１の電磁波吸収パターン７１の厚さＨ１、第２の電磁波吸収パターン７２の厚さＨ２、第３の電磁波吸収パターン７３の厚さＨ３は特に限定されない。厚さＨ１、厚さＨ２、厚さＨ３は所望する特性に応じて任意に変更可能である。また、厚さＨ１、厚さＨ２、厚さＨ３は互いに同一でもよく、異なっていてもよい。
厚さＨ１、厚さＨ２、厚さＨ３は、例えば、１μｍ～１００μｍでもよく、５μｍ～５０μｍでもよく、１０μｍ～３０μｍでもよい。厚さＨ１、厚さＨ２、厚さＨ３のそれぞれが厚いほど、電磁波吸収性がよくなる一方、製造コストが高くなる。この点を考慮して、厚さＨ１、厚さＨ２、厚さＨ３のそれぞれを設定してもよい。

基材２１の材料は、電磁波吸収シート１０の用途に応じて適宜選択できる。
例えば、電磁波吸収シート１０の透明性の具備を目的として、基材２１を透明な材料で構成してもよい。他にも、電磁波吸収シート１０の曲面に対する追従性の具備を目的として、基材２１を柔軟性のある材料で構成してもよい。電磁波吸収シート１０の透明性、三次元成形性の向上を目的として、基材２１の表面を平滑にしてもよい。

例えば、基材２１は樹脂で構成できる。樹脂は、熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でもよい。ただし、電磁波吸収シート１０の三次元成形性を考慮する場合、基材２１は熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂が挙げられる。
ポリオレフィン樹脂の具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン等が挙げられる。ポリエステル樹脂の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。

熱硬化性樹脂として、例えば、エポキシ樹脂組成物、ウレタン反応により硬化する樹脂組成物、ラジカル重合反応により硬化する樹脂組成物を用いることができる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

電磁波吸収シート１０の電磁波の吸収性能のさらなる改良を考慮して、基材２１の厚さ、誘電率、電気伝導率、透磁率は適宜設定可能である。
吸収対象となる電磁波の電気的特性を考慮する場合、基材２１は高誘電率の層であってもよい。基材２１が高誘電率の層であると、電磁波吸収シート１０の厚さを相対的に薄くできる。

電磁波吸収層２０は、例えば、下記の方法によって作製できる。
まず、基材２１を準備する。次いで、基材２１の一方の面２１ａに第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２および第３の電磁波吸収７３を形成する。
ここで、第１の電磁波吸収パターン７１を形成する際には、第１の電磁波吸収パターン７１によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値がＡ［ＧＨｚ］となるように形成する。
第２の電磁波吸収パターン７２を形成する際には、第２の電磁波吸収パターン７２によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値がＢ［ＧＨｚ］となるように形成する。
第３の電磁波吸収パターン７３を形成する際には、第３の電磁波吸収パターン７３によって吸収される電磁波の吸収量が極大値を示す周波数の値がＣ［ＧＨｚ］となるように形成する。
第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２および第３の電磁波吸収パターン７３を形成する順序は特に限定されない。第１の電磁波吸収パターン７１、第２の電磁波吸収パターン７２および第３の電磁波吸収パターン７３は、同一の工程内で形成してもよく、それぞれ別々の工程で形成してもよい。

各電磁波吸収パターンの形成方法は、所定の周波数を形成できる態様であれば特に限定されない。各電磁波吸収パターンの形成方法の例としては、例えば、下記の方法がある。
導電性ペーストを用いて基材２１の一方の面２１ａに各電磁波吸収パターンを印刷する印刷方法。
基材２１の一方の面２１ａに各電磁波吸収パターンを現像する現像方法。
スパッタ法、真空蒸着または金属箔の積層によって基材２１の一方の面２１ａに金属薄膜を設け、フォトリソグラフィによって金属薄膜のパターンを基材２１の一方の面２１ａに形成する方法。
金属ワイヤーを基材２１の一方の面２１ａに配置する方法。

印刷方法では、基材２１の一方の面２１ａに各電磁波吸収パターンを印刷して図形である各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３を形成する。印刷方法は特に限定されない。例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット方式等の方法が挙げられる。
印刷に使用する導電性ペーストとしては、例えば、金属粒子、カーボンナノ粒子およびカーボンファイバーからなる群より選ばれる少なくとも１種以上とバインダー樹脂成分とを含むペースト状の組成物が挙げられる。金属粒子としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム等の金属の粒子が挙げられる。
バインダー樹脂成分としては、例えば、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂；エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。ただし、金属粒子およびバインダー樹脂成分はこれらの例示に限定されない。
導電性ペーストは、さらにカーボンブラック等の黒色顔料を含んでもよい。導電性ペーストが黒色顔料をさらに含むと、印刷された電磁波吸収パターンを構成する金属粉末の金属光沢を抑え、外光の反射を抑制できる。

現像方法では、基材２１の一方の面２１ａに電磁波吸収パターンを現像して図形である各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３を形成する。
現像方法としては、露光マスクに覆われず、露光された部分に現像物が発現するネガ型の現像方法と露光マスクに覆われ、未露光の部分には現像物が発現するポジ型の現像方法がある。すなわち、ネガ型の現像方法では、露光マスクと反対の形に現像物として各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３が形成される。一方、ポジ型の現像方法では、露光マスクと同じ形に現像物として各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３が形成される。現像物に用いる金属としては通常、銀が使用される。

フォトリソグラフィによる電磁波吸収パターンの形成方法の一例としては、例えば、下記の方法がある。
まず、基材２１の一方の面２１ａにレジストを塗布し、熱処理した後、レジストから溶媒を除去する。次に、レジストに所望のパターンを露光し、レジストパターンを現像してレジストパターンからなる層を形成する。次に、基材とレジストパターンからなる層の上に、全面にわたって蒸着膜を形成し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンからなる層とその上に乗っている蒸着膜とを同時に除去する。これにより、基材の表面に電磁波吸収パターンを形成できる。
その他の一例として、基材２１の一方の面２１ａに金属薄膜を設け、金属薄膜の表面の一部にレジストを塗布し、熱処理する。次に、エッチング処理によりレジストが塗布されていない部分の金属薄膜を除去する。その後、必要に応じレジストを除去し、電磁波吸収パターンを形成する。各電磁波吸収パターンを構成する各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３の表面には、図示略の金属メッキ層をさらに設けてもよい。

金属ワイヤーを構成する金属の具体例としては、各単位ｕ１，ｕ２，ｕ３の材質として上述した金属と同様の金属が挙げられる。加えて、金属ワイヤーは錫、亜鉛、銀、ニッケル、クロム、ニッケルクロム合金、はんだ等でめっきされてもよく、炭素材料、ポリマー等により表面が被覆されていてもよい。金属ワイヤーの表面を被覆する炭素材料としては、カーボンブラック、活性炭、ハードカーボン、ソフトカーボン、メソポーラスカーボン、カーボンファイバー等の非晶質炭素；グラファイト；フラーレン；グラフェン；カーボンナノチューブ等が挙げられる。

「スペーサ層」
スペーサ層３０は、電磁波吸収層２０が有する基材２１の他方の面２１ｂに設けられている。
スペーサ層３０は２つの面３０ａ，３０ｂを有する。スペーサ層３０の一方の面３０ａは、基材２１の他方の面２１ｂと接している。スペーサ層３０の他方の面３０ｂには、反射層４０が設けられている。
スペーサ層３０は、単層構造でも多層構造でもよい。

スペーサ層３０の材料は、パーテーションの用途に応じて適宜選択できる。例えば、パーテーションの透明性の具備を目的として、スペーサ層３０を透明な材料で構成してもよい。他にも、パーテーションの曲面に対する追従性の具備を目的として、スペーサ層３０を柔軟性のある材料で構成してもよい。
柔軟性のある材料としては、プラスチックフィルム、ゴム、紙、布、不織布、発泡体、ゴムシート等が挙げられる。これらの中でも、電磁波吸収シート１０を軽量にする点から、発泡体が好ましい。
プラスチックフィルムを構成する樹脂の具体例としては、例えば、上述の基材２１について説明した熱可塑性樹脂と同様のものを用いることができる。
発泡体としては、例えば、前記プラスチックフィルムを構成する樹脂を発泡させ、シート状に形成した発泡シートを用いることができる。発泡シートの具体例としては、ポリエチレンフォーム、ポリプロピレンフォーム、ポリウレタンフォーム等が挙げられる。

スペーサ層３０による波長短縮効果を考慮する場合、スペーサ層３０の厚さは、吸収対象となる電磁波の波長およびスペーサ層３０の比誘電率に合わせて適宜変更される。
スペーサ層３０による波長短縮効果を考慮する場合、スペーサ層３０のｚ軸方向の厚さは、下記式（８）を満たすことが好ましい。
（スペーサ層３０のｚ軸方向の厚さ）＝（λ）×（１／４）／（ε）^１／２・・・式（８）
上記式（８）中、λは飛来する電磁波の波長であり、εはスペーサ層３０の比誘電率である。スペーサ層３０のｚ軸方向の厚さは、吸収特性のために適宜調整してもよい。例えば、式（８）で得られるスペーサ層３０のｚ軸方向の厚さの、０．１倍から３．０倍の範囲で変更することができる。

スペーサ層３０のｚ軸方向の厚さと波長λとの関係が上記式（８）を満たす場合、電磁波吸収シート１０はいわゆるλ／４構造となる。これにより、電磁波吸収シート１０による電磁波の吸収量の極大値がさらに高くなる。
スペーサ層３０の厚さは、吸収対象となる電磁波の波長λに応じて適宜設定できる。スペーサ層３０の厚さは、例えば、２５μｍ～５０００μｍでもよく、５０μｍ～４５００μｍでもよく、１００μｍ～４０００μｍでもよい。
スペーサ層３０は高誘電率の材質で構成してもよい。スペーサ層３０が高誘電率の層であると、スペーサ層３０の厚さを相対的に薄くできる。
スペーサ層３０の誘電率を考慮する場合、スペーサ層３０はチタン酸バリウム、酸化チタン、チタン酸ストロンチウムからなる１群から選ばれる少なくとも１種以上を含むことが好ましい。

スペーサ層３０の誘電率を上げることにより、スペーサ層３０の厚さを薄くすることができる。これにより、電磁波吸収シート１０を軽量にすることができる。

スペーサ層３０の２つの面３０ａ、３０ｂは、接着性であることが好ましい。これにより、２つの面３０ａ、３０ｂのそれぞれに、電磁波吸収層２０と反射層４０を貼り合わせることができる。例えば、２つの面３０ａ、３０ｂが接着剤を含む接着層である多層構造を採用することで、２つの面３０ａ、３０ｂを接着性とすることができる。
接着層の詳細および好ましい態様については、基材２１における接着層について説明した内容と同内容とすることができる。

本実施形態の電磁波吸収シート１０では、スペーサ層３０の厚さｔが、スペーサ層３０の比誘電率εｒ´との関係において、下記の式（１）を満たすことが好ましい。

上記の式（１）を満たすことにより、電磁波吸収シート１０は７９ＧＨｚ帯の電波を吸収することができる。

スペーサ層３０の比誘電率εｒ´は、例えば、自由空間法により測定することができる。

「反射層」
反射層４０は２つの面４０ａ，４０ｂを有する。反射層４０の一方の面４０ａは、スペーサ層３０の他方の面３０ｂと接している。
反射層４０は、電磁波吸収シート１０の表面に飛来し、電磁波吸収シート１０を透過した電磁波を反射できる形態であれば、特に限定されない。電磁波吸収シート１０に飛来する電磁波のうち、一部は電磁波吸収層２０で反射されるか、電磁波吸収層２０に吸収される。一方で、電磁波吸収層２０で反射も吸収もされなかった電磁波は、電磁波吸収層２０を透過する。電磁波吸収層２０を透過した電磁波は、反射層４０で電磁波吸収層２０に向けて反射される。
例えば、２つの面４０ａ，４０ｂの面方向において反射層４０が導電性を具備する形態であれば、電磁波吸収層２０を透過した電磁波を反射できる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィルムに銅箔等の金属箔や、銅板等の金属板を貼り合わせたものを反射層４０として使用してもよい。金属箔や金属板の代わりに、ＩＴＯ等の透明導電膜、金属ワイヤー等で形成されたメッシュシートを使用してもよい。これらの中でも、導電性の高さの点から金属板が好ましい。

反射層４０の反射特性を考慮して反射層４０の他方の面４０ｂに金属ワイヤー、導電性糸、金属ワイヤーおよび導電性糸を含む撚糸、導電性薄膜を設けてもよい。導電性薄膜は、例えば、スクリーン印刷、グラビア印刷、インクジェット方式等の印刷方法；スパッタ法または真空蒸着；フォトリソグラフィによって面４０ｂに設けることができる。

「粘着層」
粘着層５０は２つの面５０ａ，５０ｂを有する。粘着層５０の一方の面５０ａは、反射層４０の他方の面４０ｂと接している。粘着層５０の他方の面５０ｂは、型板ガラス２００の一方の面２００ａに貼付される。型板ガラス２００としては、建物や乗り物などに設置されている窓ガラスなどが想定される。

粘着層５０は、所定以上の厚さを有することにより十分な粘着力を発揮し、ガラス飛散防止性及び耐久性に優れたものとなる。また、所定以下の厚さを有することにより粘着剤層５０の表面の平滑性を維持することができる。かかる観点から、粘着層５０の厚さは、１０μｍ以上１００μｍ以下であり、２０μｍ以上６０μｍ以下であることが好ましい。また、上述のように、電磁波吸収層２０とスペーサ層３０との間に第２の粘着層８０を設けてもよく、スペーサ層３０と反射層４０との間に第３の粘着層９０を設けてもよい。この場合、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０は、生産性及びコストなどの観点から粘着層５０と同様なものを使用することが好ましい。この場合、粘着剤層５０及びその他の粘着剤層は、電磁波吸収層２０やスペーサ層３０の電磁波に関する設計に影響を与えない観点から、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０の厚さは、粘着層５０と同一であることが好ましく、４０μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以下であることがさらに好ましい。

粘着層５０は、比誘電率の制約を受けない。一方、上述のように、電磁波吸収層２０とスペーサ層３０との間に第２の粘着層８０を設け、スペーサ層３０と反射層４０との間に第３の粘着層９０を設ける場合、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０としては、粘着層５０と同様なものを使用する場合、粘着層５０の比誘電率が１以上１０以下であり、１．５以上６以下であることが好ましく、２以上４以下であることがより好ましい。粘着層５０の比誘電率が前記下限値以上であると、粘着力との両立が容易となる。粘着層５０の比誘電率が前記上限値以下であると、電磁波吸収層２０やスペーサ層３０の電磁波制御に影響を与えないものとすることができる。

粘着層５０の比誘電率は、スペーサ層３０の比誘電率と同様に測定することができる。

粘着層５０のガラス基材に対する粘着力は、７Ｎ／２５ｍｍ以上であり、１２Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、１７Ｎ／２５ｍｍ以上であることがより好ましく、２０Ｎ／２５ｍｍ以上であることが特に好ましい。粘着層５０の粘着力が７Ｎ／２５ｍｍ以上であることで、型板ガラスが割れた際に、ガラスを保持し、飛散を防止することができる。また、粘着層５０のガラス基材に対する粘着力は、１００Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、４０Ｎ／２５ｍｍ以下であることがより好ましい。粘着層５０の粘着力が１００Ｎ／２５ｍｍ以下であることで、貼付作業時に位置直しを容易に行うことができる。粘着層５０の粘着力は、例えば、粘着層を形成する際に用いられる粘着剤組成物を構成する粘着剤の組成、ガラス転移温度、粘着剤組成物中の架橋剤の量等により制御することができる。粘着剤組成物中に高極性なモノマーを含まない場合は粘着力が低くなる傾向にあり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が低いほど粘着力が高くなる傾向にあり、粘着剤組成物中の架橋剤の量が少なくなるほど粘着力が高くなる傾向にある。

また、電磁波吸収層２０とスペーサ層３０との間に第２の粘着層８０を設け、スペーサ層３０と反射層４０との間に第３の粘着層９０を設ける場合、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０は、電磁波吸収層（電磁波吸収パターン形成面と反対側の面）２０との粘着力、スペーサ層３０との粘着力、および反射層４０との粘着力が以下の範囲にあることが好ましい。当該範囲にあることにより、比誘電率を前記範囲に設計し易く、かつ、得られる電磁波吸収シート１０の耐久性に優れたものとすることができる。
このような観点から、電磁波吸収層２０、スペーサ層３０、および反射層４０に対する粘着力は、７Ｎ／２５ｍｍ以上１００Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、１２Ｎ／２５ｍｍ以上６０Ｎ／２５ｍｍ以下であることがより好ましく、１８Ｎ／２５ｍｍ以上４０Ｎ／２５ｍｍ以下であることが特に好ましい。

粘着層５０の粘着力は、ＪＩＳ Ｚ０２３７：２０００によりにより測定することができる。

粘着層５０、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０は粘着剤組成物を用いて形成される。粘着剤組成物に用いられる粘着剤としては、特に限定されず、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などを用いることができる。上記粘着剤は１種単独で用いても２種以上併用してもよい。

粘着剤としては、粘着の信頼性の観点から、特にアクリル系粘着剤を好適に用いることができる。アクリル系粘着剤を構成するアクリル系共重合体は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを単量体主成分とし、必要に応じて（メタ）アクリル酸アルキルエステルに共重合可能な単量体（共重合性単量体）を用いることにより形成される。ここで、主成分とは、単量体中５０質量％以上（上限１００質量％）であることを指し、好ましくは６５質量％以上、より好ましくは８５質量％以上である。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基のいずれであってもよい。アルキル基は炭素数１～２４のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～１８のアルキル基であることがより好ましい。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（アルキル（メタ）アクリレート）の具体例としては、以下に制限されないが、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－オクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４－ｎ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらのアルキル（メタ）アクリレートは１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

アクリル系共重合体の分子量は、特に制限されるものではないが、重量平均分子量（Ｍｗ）が４０万以上であることが好ましい。アクリル系共重合体の重量平均分子量が４０万以上であることで、粘着剤の凝集力が向上する。アクリル系共重合体の重量平均分子量は、大きければ大きいほど好ましいが、製造上、通常２００万以下となる。アクリル系共重合体の重量平均分子量は、６０万～１５０万であることがより好ましく、７０万～１２０万であることがさらに好ましい。本明細書において重量平均分子量（Ｍｗ）はゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により標準ポリスチレン換算分子量として測定されたものを用いる。具体的には下記測定条件により測定された値を採用する。

＜測定条件＞
・ＧＰＣ測定装置：東ソー社製，ＨＬＣ－８２２０ ＧＰＣ
・ＧＰＣカラム（以下の順に通過）：東ソー社製
ＴＳＫ ｇｕａｒｄ ｃｏｌｕｍｎ ＨＸＬ－Ｈ
ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ
ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ
ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ
・測定溶媒：テトラヒドロフラン
・測定温度：４０℃

アクリル系共重合体の製造方法は、特に制限されず、重合開始剤を使用する溶液重合法、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法など従来公知の方法を用いることができる。また、重合開始剤により重合を開始させる方法の他に、電子線、紫外線等を照射して重合を開始させる方法を採用することもできる。中でも重合開始剤を使用する溶液重合法が、分子量の調節が容易であり、また不純物も少なくできるために好ましい。例えば、溶剤として酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトンなどを用い、モノマーの合計量１００質量部に対して、重合開始剤を好ましくは０．０１質量部～０．５０質量部を添加し、窒素雰囲気下で、例えば反応温度６０℃～９０℃で、３時間～１０時間反応させることで得られる。

粘着剤組成物は、上記した粘着剤（好ましくはアクリル系粘着剤）に加えて、さらに架橋剤を含むことが好ましい。架橋させることで粘着層のはみ出しを抑制することができる。

架橋剤としては、公知の架橋剤が使用できる。例えば、以下に制限されないが、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート系架橋剤などが挙げられる。

イソシアネート系架橋剤としては、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）などの脂肪族ジイソシアネート；トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート；イソホロンジイソシアネートなどの脂環式ジイソシアネート；ならびにジイソシアネート化合物とトリメチロールプロパン等のポリオール化合物とのアダクト体、ジイソシアネート化合物のビウレット体やイソシアヌレート体などのイソシアネート誘導体が挙げられる。

また、エポキシ系架橋剤としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミンや１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロへキサン等が挙げられる。

金属キレート系架橋剤としては、アルミニウム、チタン、ニッケル、クロム、鉄、亜鉛、コバルト、マンガン、ジルコニウム等の金属のアセチルアセトネート錯体等が挙げられる。

これらの架橋剤は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて使用することができる。

本発明の所望の物性を有する粘着層を得やすい観点から、架橋剤は、イソシアネート系化合物であることが好ましい。

粘着剤組成物における架橋剤の含有量は、粘着剤１００質量部に対して、下限値として０．１質量部以上であることが好ましく、０．５質量部以上であることがより好ましい。また、粘着剤組成物における架橋剤の含有量は、粘着剤１００質量部に対して、上限値として５．０質量部以下であることが好ましく、４．０質量部以下であることがより好ましく、３．７５質量部以下であることがさらに好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲内であると、架橋の程度を適度なものとし、得られる粘着層の諸特性を所望の範囲に制御しやすい。

粘着剤組成物は、従来公知のその他の添加剤をさらに含みうる。かような添加剤としては、例えば、染料、顔料等の着色剤、アニリド系、フェノール系等の酸化防止剤、光安定剤、ロジン、ロジンエステル等の粘着付与剤、スメクタイト、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム等の充填剤、難燃剤、加水分解防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、可塑剤、硬化促進剤、反応抑制剤などが挙げられる。

粘着層５０、第２の粘着層８０および第３の粘着層９０の形成方法は特に限定されないが、例えば、粘着剤組成物を剥離ライナー上に塗布した後、乾燥することで、粘着層を形成することができる。粘着剤組成物の塗布方法は特に限定されず、例えば、ロールコーター、ナイフコーター、エアーナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スロットダイコーター、リップコーター、グラビアコーターなどの公知の塗布装置を用いて塗布することができる。粘着剤組成物を剥離ライナー上に塗布後、乾燥処理を行うことによって、粘着層が形成される。この際の乾燥条件としては特に限定されず、例えば、６０℃～１５０℃にて１０秒～６０秒の条件で行われる。剥離ライナー上に形成した粘着層を反射層４０の他方の面４０ｂに転写して、反射層４０の他方の面４０ｂに粘着層５０を形成する。

本実施形態の電磁波吸収シート１０では、スペーサ層３０、粘着層５０、粘着層８０、及び粘着層９０の少なくとも１つが、紫外線吸収剤および金属酸化物から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。耐光性と当該層の本来の機能の両立の観点から、これらいずれかの層に、紫外線吸収剤または金属酸化物は、０．０１質量％以上３０質量％以下含まれることが好ましく、０．１質量％以上１５質量％以下含まれることがより好ましく、１質量％以上１０質量％以下含まれることが特に好ましい。

紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系等が挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。
スペーサ層３０および粘着層５０の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および金属酸化物から選択される少なくとも１種を含むことにより、電磁波吸収シート１０の紫外線遮蔽性が向上する。

「ハードコート層」
本実施形態の電磁波吸収シート１０は、電磁波吸収層２０の最表面、すなわち、電磁波吸収層２０の一方の面（表面）２０ａに形成されるハードコート層１００を備えていてもよい。
ハードコート層１００は、電磁波吸収層２０を保護できる形態であれば、特に限定されない。

ハードコート層１００の厚さは、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、２μｍ以上１０μｍ以下であることがさらに好ましい。ハードコート層１００の厚さが上記下限値以上であると、十分な耐擦傷性を発揮することができる。ハードコート層１００の厚さが上記上限値以下であると、ハードコート層１００を構成する組成物の側面からの染み出しが抑制され、電磁波吸収シート１０に柔軟性を付与できる。

本実施形態の電磁波吸収シート１０は、全光線透過率が４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、５４％以上であることがさらに好ましい。電磁波吸収シート１０の全光線透過率が４０％以上であると、電磁波吸収シート１０を窓ガラス等に貼付した場合にも窓ガラス等の透明性を確保することができる。

電磁波吸収シート１０の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１：１９９７により測定することができる。

本実施形態の電磁波吸収シート１０では、粘着層５０以外の構成する層の総厚、すなわち、電磁波吸収シート１０の総厚から粘着層５０の厚さを除いた厚さは、３００μｍ以上であり、６００μｍ以上であることが好ましく、７５５μｍ以上であることがより好ましい。粘着層５０以外の構成する層の総厚が前記下限値以上であると、電磁波吸収性に優れたものとし易い。なお、上限は特に制約されないが、全光線透過率に優れたものとする観点から、３０００μｍ以下であることが好ましく、１０００μｍ以下であることがより好ましく、９００μｍ以下であることが特に好ましく、８００μｍ以下であることが最も好ましい。

また、第２の粘着層８０の厚さと第３の粘着層９０の厚さの合計は、電磁波吸収性を優れたものとする観点から、２０～２００μｍであることが好ましく、２８～１００μｍであることがより好ましく、３８～５０μｍであることがさらに好ましい。

［電磁波吸収部材の製造方法］
電磁波吸収シート１０は、例えば、下記の方法によって製造できる。
電磁波吸収パターン２２が一方の面に形成された電磁波吸収層２０を準備する。必要に応じて、電磁波吸収パターンの形成面と反対の面上に、ハードコート層を設けることができる。
次に、電磁波吸収層２０における、電磁波吸収パターン２２が形成された面に、第２粘着層８０を貼付し、スペーサ層３０に積層する。これにより、電磁波吸収層２０／第２粘着層８０／スペーサ層３０からなる積層体Ａを得る。
また、剥離層を有する第３粘着層９０および第１粘着層５０を用い、反射層４０の各面に、第３粘着層９０および粘着層５０を貼付する。これにより、剥離フィルム／第３粘着層９０／反射層４０／第１粘着層５０／剥離フィルムからなる積層体Ｂを得る。
次に、前記積層体Ｂにおける、第３粘着層７０側の剥離フィルムを剥がし、露出した第３粘着層９０と、前記積層体Ａにおけるスペーサ層露出面とを積層する。
これにより、ハードコート層／電磁波吸収層２０／第２粘着層８０／スペーサ層３０／第３粘着層９０／反射層４０／第１粘着層５０／剥離フィルム、を順に有する電磁波吸シートを得ることができる。
なお、粘着層は、全て粘着層５０と同一とすることもできるし、異なる粘着層であってもよい。

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
厚さが５０μｍのＰＥＴフィルム（商品名：ＰＥＴ５０Ａ４１６０、東洋紡株式会社製）からなる基材上に銅を蒸着して銅薄膜を形成した。
その後、フォトリソグラフィにより、銅薄膜を電磁波吸収パターンにパターニングし、図２に示すような電磁波吸収パターンを形成し、電磁波吸収パターンを有する電磁波吸収層を得た。電磁波吸収パターンの厚さを２０μｍとした。
前記基材の電磁波吸収パターンを形成した面とは反対の面に、多官能アクリレート樹脂であるオプスターＺ７５３０（荒川化学工業製）を塗布して、マイヤーバーで厚さ２μｍとなるように塗工し、乾燥後、ＵＶ照射してハードコート層を形成した。
また、２－エチルヘキシルアクリレート７０質量％、ｎ－ブチルアクリレート２９質量％、アクリル酸０．５質量％、２－ヒドロキシエチルアクリレート０．５質量％からなる重量平均分子量８０万のアクリル共重合体を用意した。当該アクリル共重合体１００質量部（固形分換算値）に対して、イソシアネート系架橋剤１質量部（固形分換算値）と、紫外線吸収剤としてチヌビン４７７を８質量部とを添加し、酢酸エチルで希釈することによりアクリル系粘着剤溶液を作製した。
そして、当該アクリル系粘着剤溶液を剥離フィルム上に塗工し、９０℃、１分間乾燥させ、常温で１週間養生することにより、厚さ２０μｍの粘着層を得た。粘着層は３つ用意した。
１つ目の粘着層を、前記電磁波吸収パターンを形成した面に貼付し、さらに、当該粘着層の剥離フィルムを剥がし、スペーサ層に積層した。
スペーサ層としては、三井ダウ・ポリケミカル株式会社製のペレット樹脂ＥＶ５６０（εｒ′＝２．３）を用いて、油圧式加熱プレス機（テスター産業株式会社製、ＳＡ－３０２）で、２００℃で１０分間プレスを行い、厚さ６２５μｍとしたシートを用いた。
次に、反射層として、ＭＡＤＩＣＯ社製のフィルムＲＬＷ ３００ ＳＰＳ ８０ ＰＳ ＳＲ（厚さ５０μｍ）を、２つ目の粘着層と、３つ目の粘着層とで、両面を覆うように積層した。すなわち、剥離フィルム／粘着層／反射層／粘着層／剥離フィルムという積層体を得た。その後、一方の剥離フィルムを剥がし、露出した粘着層をスペーサ層の電磁波吸収パターンとは反対側の面に積層した。
これにより、ハードコート層（厚さ２μｍ）／基材／電磁波吸収パターン・粘着層（厚さ２０μｍ）／スペーサ層（厚さ６２５μｍ）／粘着層（厚さ２０μｍ）／反射層（厚さ５０μｍ）／粘着層（厚さ２０μｍ）／剥離フィルムからなる電磁波吸収シート（剥離フィルムを除く、総厚７８７μｍ）を得た。

［実施例２］
スペーサ層と反射層の間、および、反射層と剥離フィルムの間の粘着層の厚さを１０μｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして、実施例２の電磁波吸収シートを作製した。

［実施例３］
ハードコート層を設けず、かつ粘着層の厚さを４０μｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして、実施例３の電磁波吸収シートを作製した。

［比較例１］
ハードコート層を設けず、かつ、スペーサ層と反射層の間、及び、反射層と剥離フィルムの間の粘着層の厚さを５μｍに変更したこと、および粘着層が紫外線吸収剤を含まないこと以外は実施例１と同様にして、比較例１の電磁波吸収シートを作製した。

［比較例２］
ハードコート層を設けず、スペーサ層の厚さを１００μｍとし、スペーサ層と反射層の間、および、反射層と剥離フィルムの間の粘着層の厚さを１０μｍとしたこと、および粘着層が紫外線吸収剤を含まないこと以外は実施例１と同様にして、比較例２の電磁波吸収シートを作製した。

［比較例３］
スペーサ層と反射層の間、および、反射層と剥離フィルムの間の粘着層の粘着剤をシリコーン系粘着剤に変更したこと、および粘着層が紫外線吸収剤を含まないこと以外は実施例１と同様にして、比較例３の電磁波吸収シートを作製した。

［評価］
実施例１～３および比較例１～３の電磁波吸収シートについて、下記の評価を行った。結果を表１に示す。

「粘着層および電磁波吸収シートの厚さの測定」
テクロック株式会社製の定圧厚さ測定器（ＰＧ－２０Ｊ）を用いて、粘着層の厚さおよび電磁波吸収シートの総厚を測定した。

「電磁波吸収シートの全光線透過率の測定」
ヘイズメーター（製品名：ＮＤＨ－５０００、日本電色工業社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００に準拠して、電磁波吸収シートの全光線透過率を測定した。

「電磁波吸収シートの紫外線透過率の測定」
島津製作所製ＵＶ－ｖｉｓ（ＵＶ－３６００）で電磁波吸収シートの紫外線透過率のを測定し、平均値を算出した。

「スペーサ層および粘着層の比誘電率の測定」
株式会社ＡＥＴ製の誘電率測定装置（４０ＧＨｚ ＴＥモード）を用い、アンリツ株式会社製のネッワークトアナライザー（ＭＳ４６１２２Ｂ）を用いて、スペーサ層および粘着層の比誘電率を測定した。

「粘着層の粘着力の測定」
実施例および比較例で得られた電磁波吸収シートを、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍに裁断し、剥離フィルムを剥がし、１）電磁波吸収層の作製に使用したＰＥＴフィルム、２）実施例１で作製したスペーサ層、３）実施例１で使用した反射層、４）ソーダライムガラス板のいずれかに貼付し、表１に対応する各粘着力測定用サンプルを作製した。当該サンプルを、２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間放置した後、引張試験機を用いて１８０°の剥離角度、３００ｍｍ／ｍｉｎの剥離速度で保護シートを剥離し、粘着層の粘着力を測定した。なお、上記以外の測定条件は、ＪＩＳ Ｚ０２３７：２００９に準拠して行った。

「耐久試験」
前記粘着力測定用サンプルを８５℃、８５％ＲＨの環境下に、２４０時間放置し、その後、同様に粘着力を測定した。

「ガラス飛散防止試験」
（ガラス飛散防止性能試験（防犯性試験））
幅９００±５ｍｍ、長さ１００±５ｍｍのサンプルを厚さ５ｍｍの板ガラスに貼り、温度２３±２℃、湿度５０±５％の環境室にて３０日以上静置した。
直径１００±０．２ｍｍ、質量４．１１±０．０６ｋｇの磨き仕上げされた鋼球を用い、３０００±５０ｍｍの高さからＰＧ－フィルム付板ガラスに落下し、ガラス飛散防止性を評価した。また、前記サンプルを８５℃、８５％ＲＨの環境下に、２４０時間放置し、前記同様にガラス飛散防止性（耐久後）を評価した。

「電波吸収性の評価」
フリースペース型Ｓパラメータ法を用いて、６０ＧＨｚから９０ＧＨｚの帯域で電波の反射特性（Ｓ１１）を測定し、下式により吸収量を算出し、電波吸収特性を求めた。
吸収量＝入力信号－反射特性（Ｓ１１）
下記の基準で電波特性を評価した。

「文字の視認性の評価」
ガラスに貼付した電磁波吸収シートを通してガラスから１ｍ離れた文字の視認性を評価した。

「耐光性の評価」
実施例および比較例で得られた電磁波吸収シートの剥離フィルムを剥がし、厚さ１ｍｍの無アルカリガラス板へ貼付し、測定サンプルとした。当該サンプルを、耐光性試験機（スガ試験機社製，製品名「紫外線フェードメーターＵ４８」、光源：カーボンアークランプ）に投入し、ガラス板側から紫外線（照度：５００ｍＷ／ｍ２）を５００時間照射した。当該試験により、電磁波吸収シートにおける各層のいずれかで着色が見られたものを「×」、変化がなかったものを「〇」として評価した。

表１に示す結果から、実施例１～３の電磁波吸収シートは、粘着層の厚さが１０μｍ以上１００μｍ以下であり、粘着層のガラス基材に対する粘着力が７Ｎ／２５ｍｍ以上であり、第１の粘着層以外の構成する層の総厚が３００μｍ以上であるため、防犯性および電波吸収性に優れることが分かった。
一方、比較例１の電磁波吸収シートは、粘着層の厚さが５μｍであるため、防犯性および電波吸収性に劣ることが分かった。比較例２の電磁波吸収シートは、第１の粘着層以外の構成する層の総厚が２３０μｍであるため、電波吸収性に劣ることが分かった。比較例３の電磁波吸収シートは、粘着層のガラス基材に対する粘着力が５Ｎ／２５ｍｍであるため、防犯性および電波吸収性に劣ることが分かった。

本発明の電磁波吸収部材は、自動車のエーミングに使用されるエーミング用パーテーションに好適に用いることができる。

１０ 電磁波吸収シート
２０ 電磁波吸収層
２１ 基材
２２ 電磁波吸収パターン
３０ スペーサ層
４０ 反射層
５０ 粘着層（第１粘着層）
７１ 第１の電磁波吸収パターン
７２ 第２の電磁波吸収パターン
７３ 第３の電磁波吸収パターン
８０ 第２の粘着層
９０ 第３の粘着層
２００ 型板ガラス

Claims (5)

1. 電磁波吸収層と、スペーサ層と、反射層と、粘着層とを有し、
   前記電磁波吸収層と、前記スペーサ層と、前記反射層と、前記粘着層とがこの順に積層されており、
   前記粘着層は、厚さが１０μｍ以上１００μｍ以下であり、ガラス基材に対する粘着力が７Ｎ／２５ｍｍ以上であり、
   前記粘着層以外の構成する層の総厚が３００μｍ以上である、電磁波吸収シート。
2. 前記スペーサ層の厚さｔが、前記スペーサ層の比誘電率εｒ´との関係において、下記の式（１）を満たす、請求項１に記載の電磁波吸収シート。
   

   
3. 前記電磁波吸収層の最表面にハードコート層が形成された、請求項１に記載の電磁波吸収シート。
4. 前記スペーサ層および前記粘着層の少なくとも一方が、紫外線吸収剤および金属酸化物から選択される少なくとも１種を含む、請求項１に記載の電磁波吸収シート。
5. 全光線透過率が４０％以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の電磁波吸収シート。

Images