JP2023150316A - Polarizing plate - Google Patents

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Abstract

To provide a polarizing plate having favorable flexibility and favorable impact resistance.SOLUTION: A polarizing plate includes a polarizer containing a polyvinyl alcohol-based resin and boron, and a protective film. A boron content of the polarizer is 2.8 mass% or more and 4.7 mass% or less. The protective film includes a base material layer and an easily adhesive layer laminated on the polarizer side of the base material layer. The thickness of the base material layer is 30 μm or less. The thickness of the easily adhesive layer is 70 nm or more and 800 nm or less. Both fracture elongations of the polarizing plate in an absorption axis direction and a transmission axis direction at a temperature of 25°C and a relative humidity of 55% are 4.0% or more and 14.0% or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、偏光板に関し、さらに光学積層体及び表示装置に関する。 The present invention relates to a polarizing plate, and further relates to an optical laminate and a display device.

液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置には、その視認側に偏光板が配置されることが知られている。偏光板は一般に、偏光子の片面又は両面に、偏光子を保護するための保護フィルムを備える。保護フィルムと偏光子との接着性を向上するために、保護フィルムの表面に易接着層を設けることがある(例えば、特許文献1等)。 It is known that a polarizing plate is disposed on the viewing side of a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device. A polarizing plate generally includes a protective film on one or both sides of the polarizer to protect the polarizer. In order to improve the adhesiveness between the protective film and the polarizer, an easily adhesive layer may be provided on the surface of the protective film (for example, Patent Document 1, etc.).

特許第6580769号公報Patent No. 6580769

近年、折り畳み等が可能なフレキシブル表示装置が注目されている。フレキシブル表示装置では、繰返し屈曲することが可能な偏光板を用いることが求められている。繰返し屈曲することが可能な偏光板では、良好な屈曲性を得るために、偏光子及び保護フィルムの厚みを小さくする等により偏光板全体の厚みを小さくする傾向にあるため、偏光板の耐衝撃性が低下しやすい。 In recent years, flexible display devices that can be folded and the like have attracted attention. Flexible display devices are required to use polarizing plates that can be repeatedly bent. For polarizing plates that can be repeatedly bent, in order to obtain good flexibility, there is a tendency to reduce the overall thickness of the polarizing plate by reducing the thickness of the polarizer and protective film. Sexuality tends to decrease.

本発明は、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を有する偏光板、並びにそれを備えた光学積層体及び表示装置の提供を目的とする。 An object of the present invention is to provide a polarizing plate having good flexibility and good impact resistance, and an optical laminate and display device equipped with the same.

本発明は、以下の偏光板、光学積層体及び表示装置を提供する。
〔1〕 ポリビニルアルコール系樹脂及びホウ素を含有する偏光子と、保護フィルムと、を備える偏光板であって、
前記偏光子のホウ素含有量は、2.8質量%以上4.7質量%以下であり、
前記保護フィルムは、基材層と、前記基材層の前記偏光子側に積層された易接着層とを有し、
前記基材層の厚みは、30μm以下であり、
前記易接着層の厚みは、70nm以上800nm以下であり、
前記偏光板の温度25℃、相対湿度55%における吸収軸方向及び透過軸方向の破断伸度はいずれも、4.0%以上14.0%以下である、偏光板。
〔2〕 前記偏光子の厚みは、12μm以下である、〔1〕に記載の偏光板。
〔3〕 前記保護フィルムの温度25℃、相対湿度55%における突刺し弾性率は、210g/mm以上550g/mm以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の偏光板。
〔4〕 前記基材層は、(メタ)アクリル系樹脂フィルムである、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の偏光板。
〔5〕 前記易接着層は、ウレタン系樹脂を含む、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の偏光板。
〔6〕 前記保護フィルムと前記偏光子とは、貼合層を介して積層されている、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の偏光板。
〔7〕 〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の偏光板と、位相差体と、粘着剤層とをこの順に備える光学積層体。
〔8〕 前記偏光板は、前記偏光子の片面に前記保護フィルムを備え、
前記光学積層体は、前記偏光子の前記保護フィルム側とは反対側に、位相差体を備え、
前記位相差体は、液晶硬化層を含む、〔7〕に記載の光学積層体。
〔9〕 〔7〕又は〔8〕に記載の光学積層体を備えた表示装置。
The present invention provides the following polarizing plate, optical laminate, and display device.
[1] A polarizing plate comprising a polarizer containing a polyvinyl alcohol resin and boron, and a protective film,
The boron content of the polarizer is 2.8% by mass or more and 4.7% by mass or less,
The protective film has a base layer and an easily adhesive layer laminated on the polarizer side of the base layer,
The thickness of the base material layer is 30 μm or less,
The thickness of the easily adhesive layer is 70 nm or more and 800 nm or less,
The polarizing plate has a breaking elongation of 4.0% or more and 14.0% or less in both the absorption axis direction and the transmission axis direction at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55%.
[2] The polarizing plate according to [1], wherein the polarizer has a thickness of 12 μm or less.
[3] The polarizing plate according to [1] or [2], wherein the protective film has a puncture elastic modulus of 210 g/mm or more and 550 g/mm or less at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55%.
[4] The polarizing plate according to any one of [1] to [3], wherein the base layer is a (meth)acrylic resin film.
[5] The polarizing plate according to any one of [1] to [4], wherein the easily adhesive layer contains a urethane resin.
[6] The polarizing plate according to any one of [1] to [5], wherein the protective film and the polarizer are laminated via a bonding layer.
[7] An optical laminate comprising the polarizing plate according to any one of [1] to [6], a retardation material, and an adhesive layer in this order.
[8] The polarizing plate includes the protective film on one side of the polarizer,
The optical laminate includes a retardation member on a side of the polarizer opposite to the protective film side,
The optical laminate according to [7], wherein the retardation body includes a liquid crystal hardening layer.
[9] A display device comprising the optical laminate according to [7] or [8].

本発明の偏光板によれば、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を有することができる。 According to the polarizing plate of the present invention, it can have good flexibility and good impact resistance.

本発明の一実施形態に係る偏光板を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る光学積層体を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an optical laminate according to an embodiment of the present invention. 突刺し弾性率の測定に使用する空隙部を有する糊付き台紙を上面からみた模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a glued mount having voids used for measuring the puncture modulus of elasticity, viewed from above. (a)は、図3に示す糊付き台紙に測定フィルムを貼り合わせる際の要部を示す模式斜視図であり、(b)は、図3に示す糊付き台紙に測定フィルムを貼り合わせた後の上部を模式的に示す図である。(a) is a schematic perspective view showing the main parts when pasting the measurement film on the adhesive mount shown in FIG. 3, and (b) is a schematic perspective view after pasting the measurement film on the adhesive mount shown in FIG. It is a figure which shows typically the upper part of. 図3に示す糊付き台紙に測定フィルムを貼り合わせた後のサンプルにニードルを突刺す際の断面を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a cross section when a needle is pierced into the sample after the measurement film has been pasted onto the glued mount shown in FIG. 3 . 突刺し弾性率測定時の断面を模式的に示す図であり、(a)及び(b)は、ニードルを測定フィルムに突刺すことにより、測定フィルムに変形が生じている状態を示す。It is a figure which shows typically the cross section at the time of a puncture elastic modulus measurement, (a) and (b) show the state where deformation|transformation has arisen in the measurement film by piercing the measurement film with the needle.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.

(偏光板)
図1は、本発明の一実施形態に係る偏光板を模式的に示す断面図である。本実施形態の偏光板1は、ポリビニルアルコール系樹脂及びホウ素を含有する偏光子10と、保護フィルム20とを備える。偏光板1は、直線偏光板であることができる。保護フィルム20は、基材層21と、基材層21の偏光子10側に積層された易接着層22とを有する。
(Polarizer)
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate according to an embodiment of the present invention. The polarizing plate 1 of this embodiment includes a polarizer 10 containing a polyvinyl alcohol resin and boron, and a protective film 20. The polarizing plate 1 can be a linear polarizing plate. The protective film 20 has a base material layer 21 and an easily adhesive layer 22 laminated on the polarizer 10 side of the base material layer 21 .

偏光板1は、図1に示すように、偏光子10の片面にのみ保護フィルム20を有していてもよいが、偏光子10の両面に保護フィルム20を有していてもよい。偏光子10の片面にのみ保護フィルム20を有する場合、保護フィルム20は、偏光子10の視認側に配置されることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the polarizing plate 1 may have the protective film 20 only on one side of the polarizer 10, or may have the protective film 20 on both sides of the polarizer 10. When the polarizer 10 has the protective film 20 on only one side, the protective film 20 is preferably placed on the visible side of the polarizer 10.

偏光子1と保護フィルム20とは、図1に示すように、第1貼合層41(貼合層)を介して積層されていることが好ましい。この場合、偏光子10及び保護フィルム20の易接着層22が第1貼合層41に直接接していることが好ましい。第1貼合層41は、接着剤層又は粘着剤層であり、接着剤層であることが好ましい。 As shown in FIG. 1, the polarizer 1 and the protective film 20 are preferably laminated with a first bonding layer 41 (bonding layer) interposed therebetween. In this case, it is preferable that the easily adhesive layer 22 of the polarizer 10 and the protective film 20 is in direct contact with the first bonding layer 41. The first bonding layer 41 is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer, and is preferably an adhesive layer.

偏光板1の、温度25℃、相対湿度55%における吸収軸方向及び透過軸方向の破断伸度はいずれも、4.0%以上14.0%以下である。偏光板1において、吸収軸方向の破断伸度は通常、透過軸方向の破断伸度よりも大きく、透過軸方向の破断伸度の1.2倍以上であってもよく、1.4倍以上であってもよく、1.5倍以上であってもよい。 The elongation at break of the polarizing plate 1 in both the absorption axis direction and the transmission axis direction at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55% is 4.0% or more and 14.0% or less. In the polarizing plate 1, the elongation at break in the absorption axis direction is usually larger than the elongation at break in the transmission axis direction, and may be 1.2 times or more, and may be 1.4 times or more, the elongation at break in the transmission axis direction. It may be 1.5 times or more.

偏光板1の吸収軸方向の上記破断伸度は、6.0%以上13.0%以下であってもよく、7.0%以上12.0%以下であってもよく、8.0%以上11.0%以下であってもよい。偏光板1の透過軸方向の上記破断伸度は、4.2%以上12.0%以下であってもよく、4.5%以上10.0%以下であってもよく、4.7%以上9.0%以下であってもよく、5.0%以上8.0%以下であってもよい。偏光板1の上記破断伸度が上記の範囲であることにより、偏光板1の良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を両立しやすくなる。偏光板1の上記破断伸度は、偏光子10の種類及び厚み、保護フィルム20の種類及び厚み、基材層21の種類及び厚み、易接着層22の種類及び厚み等により調整することができる。上記破断伸度は、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。 The elongation at break in the absorption axis direction of the polarizing plate 1 may be 6.0% or more and 13.0% or less, 7.0% or more and 12.0% or less, and 8.0%. It may be greater than or equal to 11.0%. The elongation at break in the transmission axis direction of the polarizing plate 1 may be 4.2% or more and 12.0% or less, 4.5% or more and 10.0% or less, and 4.7%. It may be greater than or equal to 9.0%, or may be greater than or equal to 5.0% and less than or equal to 8.0%. When the elongation at break of the polarizing plate 1 is within the above range, it becomes easy to achieve both good flexibility and good impact resistance of the polarizing plate 1. The above-mentioned breaking elongation of the polarizing plate 1 can be adjusted by the type and thickness of the polarizer 10, the type and thickness of the protective film 20, the type and thickness of the base layer 21, the type and thickness of the easily adhesive layer 22, etc. . The elongation at break can be measured by the method described in the Examples below.

偏光板1は、当該偏光板1の破断伸度が上記の範囲にあり、かつ、後述するように、ホウ素含有量が2.8質量%以上4.7質量%以下である偏光子10、及び、厚みが30μm以下である基材層21と厚みが70nm以上800nm以下である易接着層22とを有する保護フィルム20を備える。このような偏光板1は、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を両立することができる。 The polarizing plate 1 has a breaking elongation of the polarizing plate 1 in the above range, and, as described later, a polarizer 10 having a boron content of 2.8% by mass or more and 4.7% by mass or less, and , a protective film 20 having a base layer 21 having a thickness of 30 μm or less and an easily bonding layer 22 having a thickness of 70 nm or more and 800 nm or less. Such a polarizing plate 1 can have both good flexibility and good impact resistance.

本明細書において、良好な屈曲性は、後述する実施例に記載のように、偏光板1の屈曲試験により、屈曲軸部分において偏光板1に発生するクラック、及び、偏光板1の層間に発生する剥がれ等によって評価することができる。偏光子10の片面にのみ保護フィルム20を有する偏光板1の場合、上記の屈曲は保護フィルム20側を内側にして行うことが好ましい。 In this specification, good flexibility refers to cracks occurring in the polarizing plate 1 at the bending axis portion and cracks occurring between the layers of the polarizing plate 1 in a bending test of the polarizing plate 1, as described in the Examples described later. It can be evaluated by peeling, etc. In the case of the polarizing plate 1 having the protective film 20 on only one side of the polarizer 10, the above bending is preferably performed with the protective film 20 side facing inside.

良好な耐衝撃性は、後述する実施例に記載のように、評価用ペンを用いた耐衝撃性試験において偏光子10に発生する割れや傷等によって評価することができる。 Good impact resistance can be evaluated based on cracks, scratches, etc. that occur in the polarizer 10 in an impact resistance test using an evaluation pen, as described in Examples below.

本実施形態の偏光板1は、繰返し屈曲させた場合にも、屈曲軸部分において、偏光子10と保護フィルム20との間の剥がれの発生、及び偏光板1に発生するクラックを抑制できるため、フレキシブル表示装置に好適に用いることができる。偏光板1の屈曲形態として屈曲半径は限定されない。偏光板1の屈曲には、内面の屈折角が0°より大きく180°未満である屈折の形態、及び内面の屈曲半径がゼロに近似、又は内面の屈折角が0°である折り畳みの形態が含まれる。 Even when the polarizing plate 1 of this embodiment is bent repeatedly, it is possible to suppress the occurrence of peeling between the polarizer 10 and the protective film 20 and the occurrence of cracks in the polarizing plate 1 at the bending axis portion. It can be suitably used for flexible display devices. The bending radius of the polarizing plate 1 is not limited. The bending of the polarizing plate 1 includes a form of refraction in which the refraction angle of the inner surface is greater than 0° and less than 180°, and a form of folding in which the bending radius of the inner surface is close to zero or the refraction angle of the inner surface is 0°. included.

偏光板1において、偏光子10と保護フィルム20との温度23℃、相対湿度60%RHにおける密着力は、1N以上20N以下であることが好ましく、3N以上15N以下であってもよく、6N以上12N以下であってもよい。偏光板1における上記密着力が上記の範囲であることにより、屈曲に伴って偏光板1の層間に発生する剥がれが抑制された偏光板1を得やすくなる。上記密着力は、保護フィルム20が有する基材層21の種類と易接着層22の種類との組み合わせ、易接着層22の厚み等により調整することができる。 In the polarizing plate 1, the adhesion between the polarizer 10 and the protective film 20 at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 60% RH is preferably 1N or more and 20N or less, may be 3N or more and 15N or less, and 6N or more. It may be 12N or less. When the adhesion force in the polarizing plate 1 is within the above range, it becomes easy to obtain a polarizing plate 1 in which peeling between the layers of the polarizing plate 1 that occurs due to bending is suppressed. The above-mentioned adhesion force can be adjusted by the combination of the type of base material layer 21 and the type of easily bonding layer 22 that the protective film 20 has, the thickness of the easily bonding layer 22, and the like.

偏光板1は、平面視において、例えば方形形状であってよく、好ましくは長辺と短辺とを有する方形形状であり、より好ましくは長方形である。偏光板1全体、又は、偏光板1を構成する層のうちの1層以上は、角部がR加工されたり、端部が切り欠き加工されたり、穴あき加工されたりしていてもよい。 In plan view, the polarizing plate 1 may have, for example, a rectangular shape, preferably a rectangular shape having long sides and short sides, and more preferably a rectangular shape. The entire polarizing plate 1 or one or more of the layers constituting the polarizing plate 1 may have rounded corners, cutouts, or perforations at the edges.

偏光板1の厚みは、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を有することができれば特に制限されないが、好ましくは40μm以下であり、より好ましくは30μm以下である。偏光板1の厚みは、通常10μm以上である。偏光板1の厚みが上記の範囲内であることにより、偏光板1のさらなる薄型化を実現することができ、偏光板1を屈曲させやすくなる。例えば図1に示す偏光板1の厚みとは、当該偏光板1を構成する偏光子10及び保護フィルム20の厚みの合計と、これら同士を接合する第1貼合層41の厚みとの合計をいう。 The thickness of the polarizing plate 1 is not particularly limited as long as it has good flexibility and impact resistance, but is preferably 40 μm or less, more preferably 30 μm or less. The thickness of the polarizing plate 1 is usually 10 μm or more. When the thickness of the polarizing plate 1 is within the above range, the polarizing plate 1 can be further made thinner, and the polarizing plate 1 can be easily bent. For example, the thickness of the polarizing plate 1 shown in FIG. 1 refers to the total thickness of the polarizer 10 and the protective film 20 that constitute the polarizing plate 1, and the total thickness of the first bonding layer 41 that joins these together. say.

偏光板1は、その片面に粘着剤層を積層して粘着剤層付き偏光板としてもよい。粘着剤層付き偏光板はさらに、粘着剤層の偏光板1側とは反対側に、粘着剤層に対して剥離可能な剥離フィルムを有していてもよい。図1に示す偏光板1のように片面にのみ保護フィルム20を有する場合、偏光子10側に粘着剤層を設けることが好ましい。 The polarizing plate 1 may be formed into a polarizing plate with an adhesive layer by laminating an adhesive layer on one side thereof. The polarizing plate with an adhesive layer may further include a release film that can be peeled off from the adhesive layer on the opposite side of the adhesive layer to the polarizing plate 1 side. When the polarizing plate 1 shown in FIG. 1 has the protective film 20 on only one side, it is preferable to provide an adhesive layer on the polarizer 10 side.

(光学積層体)
図2は、本発明の一実施形態に係る光学積層体を模式的に示す断面図である。光学積層体2は、偏光板1と位相差体30とを有する。光学積層体2は、さらに、位相差体30の偏光板1側とは反対側に粘着剤層を有していてもよく、当該粘着剤層の位相差体30側とは反対側に、当該粘着剤層に対して剥離可能な剥離フィルムを有していてもよい。光学積層体2は、例えば円偏光板としての機能を有していてもよい。
(optical laminate)
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an optical laminate according to an embodiment of the present invention. The optical laminate 2 includes a polarizing plate 1 and a retardation body 30. The optical laminate 2 may further include an adhesive layer on the side opposite to the polarizing plate 1 side of the retardation plate 30, and the adhesive layer on the side opposite to the retardation plate 30 side of the adhesive layer. It may have a release film that can be peeled off from the adhesive layer. The optical laminate 2 may have a function as, for example, a circularly polarizing plate.

光学積層体2に含まれる位相差体30は、液晶硬化層を含むことができる。位相差体30は、偏光子10の一方の側に積層されることが好ましく、偏光子10の片面にのみ保護フィルム20を有する場合は、例えば図2に示すように、偏光子10の保護フィルム20側とは反対側に位相差体30を備えていてもよい。この場合、偏光子10と位相差体30とは第2貼合層42を介して積層されていることが好ましい。第2貼合層42は、偏光子10及び位相差体30に含まれる後述する位相差層に直接接していてもよい。第2貼合層42は、接着剤層又は粘着剤層であり、粘着剤層であることが好ましい。 The retardation body 30 included in the optical laminate 2 can include a liquid crystal hardening layer. It is preferable that the retardation body 30 is laminated on one side of the polarizer 10, and when the protective film 20 is provided on only one side of the polarizer 10, for example, as shown in FIG. A retardation body 30 may be provided on the side opposite to the side 20. In this case, it is preferable that the polarizer 10 and the retardation body 30 are laminated with the second bonding layer 42 interposed therebetween. The second bonding layer 42 may be in direct contact with a retardation layer included in the polarizer 10 and the retardation body 30, which will be described later. The second bonding layer 42 is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer, and is preferably a pressure-sensitive adhesive layer.

位相差体30は、1以上の位相差層を含み、当該位相差層が液晶硬化層を含んでいてもよい。位相差体30が2以上の位相差層を含む場合、2以上の位相差層は貼合層を介して積層されていることが好ましい。位相差体30は、例えば図2に示すように、第1位相差層31、第3貼合層33、第2位相差層32がこの順に積層された積層体であることができる。この場合、第1位相差層31及び第2位相差層32のうちの少なくとも一方は、液晶硬化層を含むことが好ましく、これらの両方が液晶硬化層を含んでいてもよい。第3貼合層33は、接着剤層又は粘着剤層であり、接着剤層であることが好ましい。 The retardation body 30 includes one or more retardation layers, and the retardation layers may include a liquid crystal hardening layer. When the retardation body 30 includes two or more retardation layers, it is preferable that the two or more retardation layers are laminated via a bonding layer. For example, as shown in FIG. 2, the retardation body 30 can be a laminate in which a first retardation layer 31, a third bonding layer 33, and a second retardation layer 32 are laminated in this order. In this case, at least one of the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 preferably includes a liquid crystal hardening layer, and both may include a liquid crystal hardening layer. The third bonding layer 33 is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer, and is preferably an adhesive layer.

第1位相差層31は、配向層と液晶硬化層とを有していてもよい。第1位相差層31は、液晶硬化層又は配向層の表面を保護するオーバーコート層、配向層及び液晶配向層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。第2位相差層32は、配向層と液晶硬化層とを有していてもよい。第2位相差層32は、液晶硬化層又は配向層の表面を保護するオーバーコート層、配向層及び液晶配向層を支持する基材フィルム等を有していてもよい。 The first retardation layer 31 may include an alignment layer and a liquid crystal hardening layer. The first retardation layer 31 may include an overcoat layer that protects the surface of the liquid crystal cured layer or the alignment layer, a base film that supports the alignment layer and the liquid crystal alignment layer, and the like. The second retardation layer 32 may include an alignment layer and a liquid crystal hardening layer. The second retardation layer 32 may include an overcoat layer that protects the surface of the liquid crystal cured layer or the alignment layer, a base film that supports the alignment layer and the liquid crystal alignment layer, and the like.

位相差体30が第1位相差層31及び第2位相差層32を有する場合、第1位相差層31及び第2位相差層32の組み合わせとしては、例えば[i]λ/4の位相差を与える位相差層(λ/4層)とλ/2の位相差を与える位相差層(λ/2層)との組み合わせ、又は、[ii]λ/4の位相差を与える位相差層(λ/4層)とポジティブC層との組み合わせ等が挙げられる。第1位相差層31及び第2位相差層32は正波長分散性を有していてもよく、逆波長分散性を有していてもよい。λ/4層は、逆波長分散性のλ/4層であってもよい。光学積層体2において位相差体30がλ/4層を含む場合、偏光子10の吸収軸とλ/4層の遅相軸とのなす角度は、45°±10°であることができる。これにより、光学積層体2は反射防止機能を有し、円偏光板として機能し得る。 When the retardation body 30 has the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32, the combination of the first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 has a retardation of [i]λ/4, for example. or [ii] a combination of a retardation layer (λ/4 layer) giving a phase difference of Examples include a combination of a λ/4 layer) and a positive C layer. The first retardation layer 31 and the second retardation layer 32 may have positive wavelength dispersion or reverse wavelength dispersion. The λ/4 layer may be a reverse wavelength dispersion λ/4 layer. When the retardation body 30 includes the λ/4 layer in the optical laminate 2, the angle between the absorption axis of the polarizer 10 and the slow axis of the λ/4 layer can be 45°±10°. Thereby, the optical laminate 2 has an antireflection function and can function as a circularly polarizing plate.

光学積層体2の厚みは、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を有することができれば特に制限されないが、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは40μm以下である。光学積層体2の厚みは、通常10μm以上である。光学積層体2の厚みが上記の範囲内であることにより、光学積層体2のさらなる薄型化を実現することができ、光学積層体2を屈曲させやすくなる。例えば図2に示す光学積層体2のの厚みとは、当該光学積層体2のを構成する偏光子10、保護フィルム20、及び位相差体30の厚みの合計と、これらを接合する第1貼合層41及び第2貼合層42の厚みとの合計をいう。 The thickness of the optical laminate 2 is not particularly limited as long as it has good flexibility and impact resistance, but is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less. The thickness of the optical laminate 2 is usually 10 μm or more. When the thickness of the optical laminate 2 is within the above range, the optical laminate 2 can be further made thinner, and the optical laminate 2 can be easily bent. For example, the thickness of the optical laminate 2 shown in FIG. It refers to the total thickness of the laminating layer 41 and the second laminating layer 42.

以下、偏光板1及び光学積層体2を構成する各層の詳細について説明する。
(偏光子)
偏光子は、自然光等の非偏光な光線から直線偏光を選択的に透過させる機能を有する。偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂及びホウ素を含有する。偏光子は、二色性色素を吸着させた延伸フィルムであることが好ましい。二色性色素が、延伸により異方性が生じた高分子鎖(ポリビニルアルコール系樹脂鎖)に分散していると、ある方向からは着色して見え、それと垂直な方向からはほとんど無色に見えることがある。
The details of each layer constituting the polarizing plate 1 and the optical laminate 2 will be described below.
(polarizer)
A polarizer has a function of selectively transmitting linearly polarized light from unpolarized light such as natural light. The polarizer contains polyvinyl alcohol resin and boron. The polarizer is preferably a stretched film on which a dichroic dye is adsorbed. When a dichroic dye is dispersed in a polymer chain (polyvinyl alcohol resin chain) that has become anisotropic through stretching, it appears colored from a certain direction, but appears almost colorless from a direction perpendicular to it. Sometimes.

二色性色素を吸着させた延伸フィルムとして、単体のポリビニルアルコール系樹脂フィルム(以下、「PVA樹脂フィルム」ということがある。)に二色性色素を吸着・延伸して得られる偏光子のほか、例えば、特開2012-73563号公報に記載されているような、エステル系熱可塑性樹脂フィルム等の基材フィルム(熱可塑性樹脂フィルム)上に、ポリビニルアルコール系樹脂層(以下、「PVA樹脂層」ということがある。)を設け、このPVA樹脂層を基材ごと延伸してから、二色性色素を吸着・配向するようにして、偏光子を製造することもできる。このような方法により得られる偏光子を以下、「延伸層」ということがある。なお、この延伸層を製造するための一般的な方法については後述する。偏光子が延伸層である場合、上記に示すように適当な基材フィルム(熱可塑性樹脂フィルム)を用いて製造されることから、延伸層である偏光子を基材フィルム(熱可塑性樹脂フィルム)で支持した構成となる。偏光板は、偏光子を支持する基材フィルムが偏光子の保護層とされているような構成であってもよい。 Stretched films with dichroic dyes adsorbed include polarizers obtained by adsorbing and stretching dichroic dyes on a single polyvinyl alcohol resin film (hereinafter sometimes referred to as "PVA resin film"). For example, as described in JP-A-2012-73563, a polyvinyl alcohol resin layer (hereinafter referred to as "PVA resin layer") is placed on a base film (thermoplastic resin film) such as an ester thermoplastic resin film. ), and then the PVA resin layer is stretched together with the base material, and then the dichroic dye is adsorbed and oriented to produce a polarizer. A polarizer obtained by such a method may be hereinafter referred to as a "stretched layer". Note that a general method for manufacturing this stretched layer will be described later. When the polarizer is a stretched layer, it is manufactured using a suitable base film (thermoplastic resin film) as shown above. The configuration is supported by The polarizing plate may have a structure in which the base film supporting the polarizer serves as a protective layer for the polarizer.

偏光板が備える偏光子のホウ素含有量は、2.8質量%以上4.7質量%以下である。偏光子のホウ素含有量は、3.0質量%以上4.5質量%以下であってもよく、3.2質量%以上4.3質量%以下であってもよい。偏光子のホウ素含有量が上記の範囲であることにより、屈曲に伴うクラックの発生を抑制できるとともに、良好な耐衝撃性を有する偏光板が得られやすくなる。ホウ素含有量が上記の範囲である偏光子は、湿熱環境における収縮を抑制することができる。 The boron content of the polarizer included in the polarizing plate is 2.8% by mass or more and 4.7% by mass or less. The boron content of the polarizer may be 3.0% by mass or more and 4.5% by mass or less, or 3.2% by mass or more and 4.3% by mass or less. When the boron content of the polarizer is within the above range, the occurrence of cracks due to bending can be suppressed, and a polarizing plate having good impact resistance can be easily obtained. A polarizer having a boron content within the above range can suppress shrinkage in a moist heat environment.

偏光子のホウ素含有量は、偏光子の全質量に対する、偏光子が含有するホウ素の質量の割合であり、後述する実施例に記載の方法によって決定することができる。偏光子中のホウ素は、ホウ酸(HBO)として遊離の状態で存在するか、又はホウ素がポリビニルアルコール系樹脂のユニットと架橋構造を形成した状態で存在すると考えられる。本明細書において、ホウ素含有量は、上記のように化合物の状態で存在するものを含めたホウ素原子(B)自体の量である。偏光子のホウ素含有量は、後述するように、偏光子の製造に用いるホウ酸量又はホウ酸による処理条件等によって調整することができる。 The boron content of the polarizer is the ratio of the mass of boron contained in the polarizer to the total mass of the polarizer, and can be determined by the method described in the Examples below. It is thought that boron in the polarizer exists in a free state as boric acid (H 3 BO 3 ) or in a state where boron forms a crosslinked structure with a unit of a polyvinyl alcohol resin. In this specification, the boron content is the amount of boron atoms (B) themselves, including those present in the form of compounds as described above. The boron content of the polarizer can be adjusted by adjusting the amount of boric acid used in manufacturing the polarizer, the conditions for treatment with boric acid, etc., as described below.

偏光子の吸収軸方向の収縮力は、好ましくは2.4N/2mm以下であり、より好ましくは2.1N/2mm以下である。偏光子の吸収軸方向の収縮力が上記の範囲内であると、屈曲に伴うクラックの発生を抑制できるとともに、良好な耐衝撃性を有する偏光板が得られやすくなる。偏光子の吸収軸方向の収縮力は通常、1.3N/2mm以上である。偏光子の吸収軸方向の収縮力は、後述する実施例に記載のように、温度80℃で4時間保持した偏光子について測定する。偏光子の吸収軸方向の収縮力は、ホウ素含有量、偏光子に用いる二色性色素の種類やその量、延伸倍率等によって調整することができる。 The contraction force of the polarizer in the absorption axis direction is preferably 2.4 N/2 mm or less, more preferably 2.1 N/2 mm or less. When the shrinkage force in the absorption axis direction of the polarizer is within the above range, the occurrence of cracks due to bending can be suppressed, and a polarizing plate having good impact resistance can be easily obtained. The shrinkage force of the polarizer in the absorption axis direction is usually 1.3 N/2 mm or more. The shrinkage force in the direction of the absorption axis of the polarizer is measured on a polarizer maintained at a temperature of 80° C. for 4 hours, as described in Examples below. The shrinkage force of the polarizer in the absorption axis direction can be adjusted by the boron content, the type and amount of dichroic dye used in the polarizer, the stretching ratio, and the like.

偏光子の厚みは、通常30μm以下であり、好ましくは18μm以下、より好ましくは12μm以下であり、10μm以下であってもよく、9μm以下であってもよく、8μm以下であってもよい。偏光子の厚みを小さくすることにより、偏光板の薄型化を実現することができ、良好な屈曲性を有する偏光板を実現しやすくなる。偏光子の厚みは、通常1μm以上であり、例えば5μm以上であってよい。偏光子の厚みは、延伸前のPVA樹脂フィルム(原反フィルム)又は延伸前のPVA樹脂層の厚み及び延伸倍率によって調整することができる。偏光子が二色性色素を吸着させた延伸層である場合は、基材フィルム上に形成するPVA樹脂層の厚み及び延伸倍率によって調整することができる。 The thickness of the polarizer is usually 30 μm or less, preferably 18 μm or less, more preferably 12 μm or less, and may be 10 μm or less, 9 μm or less, or 8 μm or less. By reducing the thickness of the polarizer, it is possible to make the polarizing plate thinner, and it becomes easier to realize a polarizing plate having good flexibility. The thickness of the polarizer is usually 1 μm or more, and may be, for example, 5 μm or more. The thickness of the polarizer can be adjusted by the thickness and stretching ratio of the PVA resin film (original film) or the PVA resin layer before stretching. When the polarizer is a stretched layer adsorbing a dichroic dye, it can be adjusted by adjusting the thickness and stretching ratio of the PVA resin layer formed on the base film.

偏光子は、PVA樹脂フィルムを一軸延伸する工程、PVA樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたPVA樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。一軸延伸前のPVA系樹脂フィルムは、市場から容易に入手でき、後述のように、ポリ酢酸ビニル系樹脂を公知の手段により製造し、ケン化してポリビニルアルコール系樹脂を製造し、当該ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化してもよい。ポリ酢酸ビニル系樹脂の段階でフィルム化し、当該フィルムに含まれるポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化してもよい。 Polarizers are produced through a process of uniaxially stretching a PVA resin film, a process of dyeing the PVA resin film with a dichroic dye such as iodine, and adsorbing the dichroic dye, and a PVA resin with the dichroic dye adsorbed. It can be manufactured through the steps of treating the film with an aqueous boric acid solution and washing with water after the treatment with the aqueous boric acid solution. A PVA resin film before uniaxial stretching is easily available on the market, and as described below, a polyvinyl acetate resin is produced by a known method, saponified to produce a polyvinyl alcohol resin, and the polyvinyl alcohol The resin may be formed into a film. The polyvinyl acetate resin may be formed into a film at the stage, and the polyvinyl acetate resin contained in the film may be saponified.

偏光子が二色性色素を吸着させた延伸層である場合、当該偏光子は通常、ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布して、基材フィルム上にPVA樹脂層を形成した積層フィルム(以下、「PVA積層フィルム」ということがある。)とする工程、得られたPVA積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸されたPVA積層フィルムのPVA樹脂層を二色性色素で染色することにより、PVA樹脂層に二色性色素を吸着させて偏光子とする工程、二色性色素が吸着されたPVA樹脂層をホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光子を形成するために用いる基材フィルムは、偏光子上の保護層として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料及び厚みとしては、後述する保護フィルムを構成する基材層の材料及び厚みが挙げられる。 When the polarizer is a stretched layer on which a dichroic dye is adsorbed, the polarizer is usually made by applying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol resin onto the base film to form a PVA resin layer on the base film. A step of making the formed laminate film (hereinafter sometimes referred to as "PVA laminate film"), a step of uniaxially stretching the obtained PVA laminate film, and a dichroic dye for the PVA resin layer of the uniaxially stretched PVA laminate film. A process of adsorbing a dichroic dye to the PVA resin layer to make a polarizer by dyeing it with a process, a process of treating the PVA resin layer with the dichroic dye adsorbed with a boric acid aqueous solution, and a process with a boric acid aqueous solution. It can be manufactured through a subsequent step of washing with water. The base film used to form the polarizer may be used as a protective layer on the polarizer. If necessary, the base film may be peeled off and removed from the polarizer. Examples of the material and thickness of the base film include the material and thickness of the base layer constituting the protective film described below.

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド系化合物等が挙げられる。本明細書において、(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタクリルのうちの少なくとも一方をいう。(メタ)アクリロイル等の記載についても同様である。 Polyvinyl alcohol resin is obtained by saponifying polyvinyl acetate resin. As the polyvinyl acetate resin, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate, copolymers of vinyl acetate and other monomers copolymerizable therewith are used. Examples of other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acid compounds, olefin compounds, vinyl ether compounds, unsaturated sulfone compounds, and (meth)acrylamide compounds having an ammonium group. It will be done. In this specification, (meth)acrylic refers to at least one of acrylic and methacryl. The same applies to the description of (meth)acryloyl and the like.

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常85モル%以上100モル%以下程度であり、好ましくは98モル%以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等も使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常1000以上10000以下であり、好ましくは1500以上5000以下である。 The degree of saponification of the polyvinyl alcohol resin is usually about 85 mol% or more and 100 mol% or less, preferably 98 mol% or more. The polyvinyl alcohol resin may be modified, and polyvinyl formal, polyvinyl acetal, etc. modified with aldehydes can also be used. The degree of polymerization of the polyvinyl alcohol resin is usually 1,000 or more and 10,000 or less, preferably 1,500 or more and 5,000 or less.

二色性色素としては、ヨウ素や有機染料が使用可能であるが、ヨウ素を用いることが好ましい。二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化物を含有する染色浴に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム又は、基材フィルム及びPVA樹脂層を含むPVA積層フィルムを浸漬して、ポリビニルアルコール系樹脂をヨウ素で染色する。ヨウ化物としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化亜鉛等が挙げられるが、ヨウ化カリウムであることが好ましい。この染色浴におけるヨウ素の含有量は、水100質量部あたり0.003~1質量部であることができる。ヨウ化物の含有量は、水100質量部あたり0.15~20質量部であることができる。また染色浴の温度は、10~45℃程度であることができる。 Iodine and organic dyes can be used as the dichroic dye, but it is preferable to use iodine. When using iodine as a dichroic dye, usually a polyvinyl alcohol resin film or a PVA laminated film including a base film and a PVA resin layer is immersed in a dyeing bath containing iodine and iodide. Stain the resin with iodine. Examples of the iodide include potassium iodide and zinc iodide, but potassium iodide is preferable. The content of iodine in this dye bath can be from 0.003 to 1 part by weight per 100 parts by weight of water. The iodide content can be from 0.15 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of water. Further, the temperature of the dyeing bath can be about 10 to 45°C.

二色性色素として特にヨウ素が吸着されたPVA樹脂フィルム又は、PVA樹脂層及び基材フィルムを含むPVA積層フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程では、通常、二色性色素が吸着されたPVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムをホウ酸水溶液(架橋浴)に浸漬する。ホウ酸水溶液に含まれるホウ酸源としては、ホウ酸、ホウ砂のようなホウ素化合物を用いる。ホウ素化合物とともに、グリオキザール、グルタルアルデヒド等の架橋剤を用いてもよい。ホウ酸水溶液の溶媒としては、水が使用できるが、水と相溶性のある有機溶媒をさらに含んでもよい。 In the process of treating a PVA resin film to which iodine has been particularly adsorbed as a dichroic dye or a PVA laminated film containing a PVA resin layer and a base film with an aqueous boric acid solution, the PVA resin to which a dichroic dye has been adsorbed is usually used. The film or PVA laminate film is immersed in an aqueous boric acid solution (crosslinking bath). As the boric acid source contained in the boric acid aqueous solution, boron compounds such as boric acid and borax are used. A crosslinking agent such as glyoxal or glutaraldehyde may be used together with the boron compound. Although water can be used as a solvent for the boric acid aqueous solution, it may further contain an organic solvent that is compatible with water.

偏光子のホウ素含有量は、二色性色素が吸着されたPVA樹脂フィルム又はPVA樹脂層をホウ酸水溶液で処理する工程の条件を調整することで制御できる。例えば、当該ホウ酸水溶液におけるホウ酸の濃度・使用量を変えたり、ホウ酸水溶液の温度を変えたり、ホウ酸水溶液への浸漬時間を変えたりすることにより、偏光子のホウ素含有量を調整することができる。適当な予備実験を行って、偏光子が所望のホウ素含有量となる条件を導き出すこともできる。偏光子のホウ素含有量を調整するためには、ホウ酸水溶液におけるホウ酸の濃度を、水100質量部あたり2.0~6.5質量部とし、架橋浴への浸漬時間を適宜調整することが好ましく、水100質量部あたりホウ酸の濃度を3.0~6.0質量部とし、架橋浴への浸漬時間を適宜調整することがより好ましい。 The boron content of the polarizer can be controlled by adjusting the conditions of the step of treating the PVA resin film or PVA resin layer on which the dichroic dye is adsorbed with a boric acid aqueous solution. For example, the boron content of the polarizer can be adjusted by changing the concentration and amount of boric acid in the boric acid aqueous solution, changing the temperature of the boric acid aqueous solution, or changing the immersion time in the boric acid aqueous solution. be able to. Appropriate preliminary experiments may be conducted to derive conditions under which the polarizer has the desired boron content. In order to adjust the boron content of the polarizer, the concentration of boric acid in the boric acid aqueous solution should be 2.0 to 6.5 parts by mass per 100 parts by mass of water, and the immersion time in the crosslinking bath should be adjusted as appropriate. More preferably, the concentration of boric acid is 3.0 to 6.0 parts by mass per 100 parts by mass of water, and the immersion time in the crosslinking bath is adjusted as appropriate.

ホウ酸水溶液はヨウ化物をさらに含むことができる。ヨウ化物の添加により、得られる偏光子の面内における偏光性能をより均一化させることができる。ヨウ化物としては、上記で説明した化合物が挙げられ、ヨウ化カリウムであることが好ましい。ホウ酸水溶液におけるヨウ化物の濃度は、水100質量部あたり好ましくは0.1~20質量部である。 The boric acid aqueous solution can further contain iodide. By adding iodide, the in-plane polarization performance of the obtained polarizer can be made more uniform. Examples of the iodide include the compounds described above, and potassium iodide is preferred. The concentration of iodide in the boric acid aqueous solution is preferably 0.1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of water.

ホウ酸水溶液(架橋浴)の温度は、通常40~80℃、好ましくは50~70℃とすることができる。架橋浴の温度が低すぎると、PVA樹脂フィルム又はPVA樹脂層中のポリビニルアルコール系樹脂のユニットとホウ素とによる架橋反応の進行が不十分になりやすい。一方、架橋浴の温度が高すぎると、架橋浴中でPVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムの切断が起きやすくなって、加工安定性が著しく低下しやすい。架橋浴への浸漬時間は、通常10~600秒、好ましくは60~420秒、より好ましくは90~300秒である。 The temperature of the boric acid aqueous solution (crosslinking bath) can be generally 40 to 80°C, preferably 50 to 70°C. If the temperature of the crosslinking bath is too low, the crosslinking reaction between the polyvinyl alcohol resin units in the PVA resin film or PVA resin layer and boron tends to proceed insufficiently. On the other hand, if the temperature of the crosslinking bath is too high, the PVA resin film or PVA laminate film is likely to be cut in the crosslinking bath, and processing stability is likely to be significantly reduced. The immersion time in the crosslinking bath is usually 10 to 600 seconds, preferably 60 to 420 seconds, and more preferably 90 to 300 seconds.

PVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムの一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸水溶液で処理する工程で行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。PVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムは、MD方向(フィルム搬送方向)に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、PVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムは、TD方向(フィルム搬送方向に垂直な方向)に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、上記延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にてPVA樹脂フィルム又はPVA積層フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。偏光子の性能を発現するためには延伸倍率は3.0倍以上であり、3.5倍以上であることが好ましく、特に4.0倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特に限定されないが、破断等を抑制する観点から8.0倍以下が好ましい。 The uniaxial stretching of the PVA resin film or PVA laminate film may be carried out before dyeing, during dyeing, or in the step of treatment with a boric acid aqueous solution after dyeing, and these plural Uniaxial stretching may be performed in each step. The PVA resin film or PVA laminated film may be uniaxially stretched in the MD direction (film transport direction). In this case, it may be uniaxially stretched between rolls with different circumferential speeds, or it may be uniaxially stretched using hot rolls. It may be stretched. Further, the PVA resin film or PVA laminate film may be uniaxially stretched in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction), and in this case, a so-called tenter method can be used. Further, the above-mentioned stretching may be dry stretching in which the film is stretched in the atmosphere, or wet stretching in which the PVA resin film or PVA laminated film is stretched in a state in which it is swollen with a solvent. In order to exhibit the performance of the polarizer, the stretching ratio is 3.0 times or more, preferably 3.5 times or more, and particularly preferably 4.0 times or more. Although the upper limit of the stretching ratio is not particularly limited, it is preferably 8.0 times or less from the viewpoint of suppressing breakage and the like.

(保護フィルム)
保護フィルムは、偏光子の片面又は両面に設けられ、偏光子の表面を保護する機能を有する。保護フィルムは、基材層と易接着層とを有する。基材層と易接着層とは通常、直接接している。易接着層は通常、基材層の片面に設けられるが、両面に設けられていてもよい。
(Protective film)
The protective film is provided on one or both sides of the polarizer and has the function of protecting the surface of the polarizer. The protective film has a base layer and an easily adhesive layer. The base material layer and the easily adhesive layer are usually in direct contact with each other. The easily adhesive layer is usually provided on one side of the base layer, but may be provided on both sides.

保護フィルムの温度25℃、相対湿度55%における突刺し弾性率Eは、210g/mm以上550g/mm以下であることが好ましい。保護フィルムの突刺し弾性率Eは、250g/mm以上500g/mm以下であってもよく、300g/mm以上450g/mm以下であってもよく、320g/mm以上420g/mm以下であってもよい。保護フィルムの突刺し弾性率Eが上記の範囲内であることにより、偏光板が有する上記範囲の破断伸度を実現しやすくなり、良好な屈曲性及び良好な耐衝撃性を両立した偏光板が得られやすくなる。保護フィルムの突刺し弾性率Eは、保護フィルムの種類及び厚み、基材層の種類及び厚み等により調整することができる。 The puncture elastic modulus E of the protective film at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55% is preferably 210 g/mm or more and 550 g/mm or less. The puncture elastic modulus E of the protective film may be 250 g/mm or more and 500 g/mm or less, 300 g/mm or more and 450 g/mm or less, or 320 g/mm or more and 420 g/mm or less. good. By having the puncture elastic modulus E of the protective film within the above range, it becomes easier to achieve the elongation at break within the above range that the polarizing plate has, and a polarizing plate that has both good flexibility and good impact resistance can be obtained. easier to obtain. The puncture elastic modulus E of the protective film can be adjusted by the type and thickness of the protective film, the type and thickness of the base layer, and the like.

保護フィルムの突刺し弾性率Eを測定する方法を、図3~図6を参照しながら説明する。本明細書において、突刺し弾性率Eは、後述する実施例に記載のとおり、中央部を30mm×30mmの正方形に切り抜いて形成した空隙部16を有する糊付き台紙17に(図3)、保護フィルム(測定フィルム12)を貼合した測定試料を用い(図4)、温度25℃、相対湿度55%の環境下において、先端径が1mmφ0.5Rのニードルを0.33cm/秒の速度で、空隙部16にある当該保護フィルム(測定フィルム12)の面に対し垂直に突刺し(図5及び図6)、破断が生じたときに測定される、当該保護フィルム(測定フィルム12)の突刺し方向の撓みによる変位量をひずみ量S[mm]とし、当該保護フィルム(測定フィルム12)に加えられた応力をF[g]としたとき、応力FとひずみSの間の比例定数(応力F/ひずみS)として、式(1):
突刺し弾性率E[g/mm]=F[g]/S[mm] (1)
により算出される物性値である。
A method of measuring the puncture elastic modulus E of a protective film will be explained with reference to FIGS. 3 to 6. In this specification, the puncture elastic modulus E is defined as the puncture elastic modulus E, as described in the Examples described below, when the adhesive mount 17 (FIG. 3), which has a gap 16 formed by cutting out a 30 mm x 30 mm square in the center, protects Using a measurement sample pasted with a film (measurement film 12) (Fig. 4), a needle with a tip diameter of 1 mmφ0.5R was used at a speed of 0.33 cm/sec in an environment of a temperature of 25°C and a relative humidity of 55%. Pierce the protective film (measurement film 12) perpendicularly to the surface of the protective film (measurement film 12) in the cavity 16 (FIGS. 5 and 6), and measure when breakage occurs. When the amount of displacement due to deflection in the direction is the amount of strain S [mm], and the stress applied to the protective film (measurement film 12) is F [g], the proportionality constant between stress F and strain S (stress F /strain S), equation (1):
Puncture elastic modulus E [g/mm] = F [g]/S [mm] (1)
This is a physical property value calculated by

突刺し弾性率Eの測定は、ロードセルを備えた圧縮試験機を用いて行うことができる。このような圧縮試験機を用いて求められる応力-ひずみ曲線から、破断が生じた際に測定フィルム12に加えられた応力とそれまでに測定フィルム12に生じたひずみ量を測定することができる。なお、突刺し冶具を押圧時に測定フィルム12に生じる破断には、冶具先端により測定フィルム12に貫通穴が生じる場合も含まれる。 The puncture elastic modulus E can be measured using a compression testing machine equipped with a load cell. From the stress-strain curve obtained using such a compression tester, it is possible to measure the stress applied to the measurement film 12 when the break occurs and the amount of strain that has occurred in the measurement film 12 up to that point. Note that the breakage that occurs in the measurement film 12 when the piercing jig is pressed includes the case where a through hole is formed in the measurement film 12 by the tip of the jig.

例えば、ロードセルを備えた圧縮試験機として、カトーテック株式会社製の突刺し試験機「NDG5」を用いた場合の突刺し弾性率Eの測定方法の要部について説明する。図3は、保護フィルムの突刺し弾性率Eを求めるための空隙部16を有する糊付き台紙17を上部からみた模式図である。図3に示すように、糊付き台紙17は、中央部に、測定に供する保護フィルム(以下、「測定フィルム12」ともいう)を貼り合わせる部分となる、30mm×30mmの正方形に刳り貫かれた部分(空隙部16)を有する。 For example, the main part of a method for measuring the puncture elastic modulus E using a puncture tester "NDG5" manufactured by Kato Tech Co., Ltd. as a compression testing machine equipped with a load cell will be described. FIG. 3 is a schematic diagram of a glued mount 17 having a void 16 for determining the puncture elastic modulus E of the protective film, viewed from above. As shown in FIG. 3, the glued mount 17 has a 30 mm x 30 mm square hollowed out in the center, where a protective film for measurement (hereinafter also referred to as "measurement film 12") will be pasted. (void portion 16).

図4は、糊付き台紙17に測定フィルム12を貼り合わせる際の要部を示す模式図であり、図4(a)は、糊付き台紙17に測定フィルム12を貼り合わせる際の斜視図であり、図4(b)は、糊付き台紙17に測定フィルム12を貼り合わせた後の測定フィルム付き台紙11を上部(図4(a)の方向A)からみた模式図である。図4(b)中の破線は空隙部16の外周18を示す。空隙部16の中央部に位置する、ニードルNを突刺す位置Mは、空隙部16の外周18の斜め方向に対向する点(R及びR’)を結んだ2つの直線の交点である。図5は、図4に示す測定フィルム付き台紙11において、I-I’に沿った断面図(ニードルNを突刺す前)を模式的に示す。 FIG. 4 is a schematic diagram showing the main parts when pasting the measuring film 12 onto the adhesive mount 17, and FIG. 4(a) is a perspective view when pasting the measuring film 12 onto the adhesive mount 17. , FIG. 4(b) is a schematic diagram of the measuring film-attached mount 11 after the measuring film 12 has been bonded to the glue-attached mount 17, viewed from above (direction A in FIG. 4(a)). The broken line in FIG. 4(b) indicates the outer periphery 18 of the cavity 16. The position M where the needle N is inserted, which is located in the center of the cavity 16, is the intersection of two straight lines connecting diagonally opposite points (R and R') on the outer periphery 18 of the cavity 16. FIG. 5 schematically shows a cross-sectional view (before being pierced with the needle N) along II' of the mounting board 11 with the measurement film shown in FIG. 4.

ニードルNを測定フィルム12の中央部M(例えば、図4(b)の空隙部の外周18の頂点のうち、R及びR’を結ぶ対角線2つの交点)に突刺す。かかる突刺しにおいて、ニードルNに印加した応力F[g]を測定フィルム12の突刺し方向の撓みによるひずみ量S[mm]の相関を求め、測定フィルム12の破断が生じた際の応力F[g]及びひずみ量S[mm]から、上記式(1)によって突刺し弾性率Eを求める。突刺し弾性率Eを求める際には、測定フィルム12に変形が生じた状態で破断が生じる場合(図6(a)の状態で破断が生じる場合)、測定フィルム12にさらに変形が生じた状態で破断が生じる場合(図6(b)の状態で破断が生じる場合)があるが、本明細書における突刺し弾性率Eは、突刺し試験機における印加応力と、ひずみ量Sとから求めることとし、ひずみ量Sは、図6(a)の状態で破断が生じる場合のSであってもよいし、図6(b)の状態で破断が生じる場合のSであってもよい。なお、測定フィルム12に破断が生じることによって、印加応力が上昇傾向から低下傾向に変わるため、この変更点で破断が生じたと理解することができる。 The needle N is inserted into the center M of the measurement film 12 (for example, at the intersection of two diagonal lines connecting R and R' among the vertices of the outer periphery 18 of the gap in FIG. 4(b)). In such piercing, the stress F [g] applied to the needle N is correlated with the amount of strain S [mm] due to the deflection of the measuring film 12 in the piercing direction, and the stress F [ when the measuring film 12 breaks] is calculated. g] and the strain amount S [mm], the piercing elastic modulus E is determined by the above formula (1). When determining the puncture elastic modulus E, if the breakage occurs in a state where the measurement film 12 is deformed (if the breakage occurs in the state shown in FIG. 6(a)), then in a state where the measurement film 12 is further deformed. However, the puncture elastic modulus E in this specification can be determined from the stress applied in the puncture tester and the amount of strain S. The amount of strain S may be S when a break occurs in the state shown in FIG. 6(a), or may be S when a break occurs in the state shown in FIG. 6(b). Note that when the measurement film 12 breaks, the applied stress changes from an upward trend to a downward trend, so it can be understood that a break occurs at this change point.

糊付き台紙7において、測定フィルム12を固定するための糊は、突刺し弾性率Eの測定の途中で、測定フィルム付き台紙11から部分的にでも、測定フィルム12が剥がれないようにできるものであれば、特に限定されない。突刺し弾性率Eの測定に用いる糊付き台紙17の糊を見出すための、適当な予備実験を行ってもよい。 In the adhesive mount 7, the adhesive for fixing the measurement film 12 is one that can prevent the measurement film 12 from peeling off even partially from the measurement film mount 11 during the measurement of the puncture elastic modulus E. If so, there are no particular limitations. Appropriate preliminary experiments may be conducted to find out the glue of the glued mount 17 used for measuring the puncture modulus of elasticity E.

保護フィルム20の厚みは、8μm以上31μm以下であり、好ましくは10μm以上30μm以下であり、15μm以上25μm以下であってもよい。保護フィルムの厚みを小さくすると、偏光板を薄型化できることから偏光板を屈曲させやすくなる。 The thickness of the protective film 20 is 8 μm or more and 31 μm or less, preferably 10 μm or more and 30 μm or less, and may be 15 μm or more and 25 μm or less. Reducing the thickness of the protective film allows the polarizing plate to be made thinner, making it easier to bend the polarizing plate.

(基材層)
保護フィルムを構成する基材層は、保護フィルムに機械的強度等を付与し、偏光子を保護する機能を有する。
(Base material layer)
The base layer constituting the protective film has the function of imparting mechanical strength to the protective film and protecting the polarizer.

基材層の厚みは、30μm以下である。基材層の厚みは、8μm以上30μm以下であってもよく、10μm以上29μm以下であってもよく、15μm以上25μm以下であってもよい。基材層の厚みを小さくすると、偏光板を薄型化できることから偏光板を屈曲させやすくなる。 The thickness of the base material layer is 30 μm or less. The thickness of the base material layer may be 8 μm or more and 30 μm or less, 10 μm or more and 29 μm or less, or 15 μm or more and 25 μm or less. If the thickness of the base material layer is reduced, the polarizing plate can be made thinner, which makes it easier to bend the polarizing plate.

基材層には、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは熱可塑性樹脂フィルムであってもよい。このような樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリエーテルスルホン系樹脂;ポリスルホン系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂;ポリイミド系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂;シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう);(メタ)アクリル系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリスチレン系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。樹脂フィルムは、一軸延伸フィルム又は二軸延伸フィルムであることが好ましい。 For example, a resin film having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, stretchability, etc. can be used for the base layer. The resin film may be a thermoplastic resin film. Specific examples of such resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyether sulfone resins; polysulfone resins; polycarbonate resins; nylon and aromatic polyamides. polyamide resins such as; polyimide resins; polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymers; cyclic polyolefin resins with cyclo and norbornene structures (also referred to as norbornene resins); (meth)acrylic resins Examples include resins; polyarylate resins; polystyrene resins; polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. The resin film is preferably a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film.

基材層としては、(メタ)アクリル系樹脂からなる樹脂フィルムが好適に用いられる。(メタ)アクリル系樹脂は、ポリメチルメタクリレート樹脂であることが好ましい。(メタ)アクリル系樹脂からなる樹脂フィルムは延伸処理が施されていることが好ましい。(メタ)アクリル系樹脂からなる樹脂フィルムは、厚みが小さい場合、特に厚みが30μm以下(好ましくは25μm以下)の場合に、適度な突刺し弾性率Eを有することができるため好ましい。 As the base material layer, a resin film made of (meth)acrylic resin is suitably used. The (meth)acrylic resin is preferably a polymethyl methacrylate resin. The resin film made of (meth)acrylic resin is preferably subjected to a stretching treatment. A resin film made of (meth)acrylic resin is preferable because it can have an appropriate puncture modulus E when the thickness is small, particularly when the thickness is 30 μm or less (preferably 25 μm or less).

(易接着層)
保護フィルムを構成する易接着層は、保護フィルムと偏光子とを貼合するための第1貼合層に対する接着性を向上し、偏光板における保護フィルムと偏光子との接着性を向上することができる。そのため、易接着層は通常、保護フィルムの偏光子側の表面を構成するように、基材層の表面に設けられる。
(Easy adhesive layer)
The easy adhesion layer constituting the protective film improves the adhesiveness to the first laminating layer for laminating the protective film and the polarizer, and improves the adhesiveness between the protective film and the polarizer in the polarizing plate. I can do it. Therefore, the easily adhesive layer is usually provided on the surface of the base material layer so as to constitute the surface of the protective film on the polarizer side.

易接着層の厚みは、70nm以上800nm以下である。易接着層の厚みは、80nm以上750nm以下であってもよく、100nm以上700nm以下であってもよく、200nm以上650nm以下であってもよく、280nm以上600nm以下であってもよく、290nm以上600nm以下であってもよい。易接着層の厚みが上記の範囲内であることにより、保護フィルムと偏光子との密着性を向上することができ、また、屈曲に伴って層間に剥がれが発生にくい偏光板を得やすくなる。 The thickness of the easily adhesive layer is 70 nm or more and 800 nm or less. The thickness of the easily adhesive layer may be 80 nm or more and 750 nm or less, 100 nm or more and 700 nm or less, 200 nm or more and 650 nm or less, 280 nm or more and 600 nm or less, and 290 nm or more and 600 nm or less. It may be the following. When the thickness of the easily bonding layer is within the above range, it is possible to improve the adhesion between the protective film and the polarizer, and it is also easier to obtain a polarizing plate that is less likely to peel off between the layers upon bending.

易接着層は、樹脂成分を含み、さらに有機又は無機のフィラーの添加剤等を含むことができる。易接着層に含まれる樹脂成分は、架橋されていてもよい。樹脂成分としては、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、又はポリエステル系樹脂等が挙げられる。易接着層に含まれる樹脂成分は、ウレタン系樹脂であることが好ましく、ポリエステルウレタン系樹脂又はポリエーテルウレタン系樹脂であることがより好ましい。樹脂成分は、ポリエステルウレタン系樹脂及びポリエーテルウレタン系樹脂を併用してもよい。ポリエステルウレタン系樹脂は、分子の主鎖にエステル結合を有するウレタン系樹脂である。ポリエーテルウレタン系樹脂は、分子の主鎖にエーテル結合を有するウレタン系樹脂である。 The easily adhesive layer contains a resin component, and may further contain an organic or inorganic filler additive. The resin component contained in the easily adhesive layer may be crosslinked. Examples of the resin component include urethane resin, (meth)acrylic resin, and polyester resin. The resin component contained in the easily adhesive layer is preferably a urethane resin, more preferably a polyester urethane resin or a polyether urethane resin. As the resin component, a polyester urethane resin and a polyether urethane resin may be used in combination. A polyester urethane resin is a urethane resin having an ester bond in the main chain of the molecule. Polyether urethane resin is a urethane resin having an ether bond in the main chain of the molecule.

無機フィラーとしては、シリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア等の無機酸化物;炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、燐酸カルシウム等が挙げられる。有機フィラーとしては、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましく、コロイダルシリカがより好ましい。 Examples of the inorganic filler include inorganic oxides such as silica, titania, alumina, and zirconia; calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and the like. Examples of the organic filler include silicone resin, fluororesin, and acrylic resin. Among these, silica is preferred, and colloidal silica is more preferred.

易接着層は、易接着組成物を用いて形成することができる。易接着組成物は、樹脂成分、フィラー、架橋剤、塩基成分、溶剤等を含むことができ、樹脂成分が溶剤に溶解又は分散した組成物であることが好ましい。易接着組成物は、樹脂成分に代えて、樹脂成分を形成するためのモノマーと重合開始剤とを含んでいてもよい。 The easily adhesive layer can be formed using an easily adhesive composition. The easily adhesive composition may contain a resin component, a filler, a crosslinking agent, a base component, a solvent, etc., and is preferably a composition in which the resin component is dissolved or dispersed in a solvent. Instead of the resin component, the easily adhesive composition may contain a monomer and a polymerization initiator for forming the resin component.

架橋剤としては、樹脂成分の架橋性官能基と反応可能なものであればよい。樹脂成分がカルボキシル基等の架橋性官能基を有するウレタン樹脂である場合、アミノ基、オキサゾリン基、エポキシ基、又はカルボジイミド基等を含む架橋剤を用いることができる。 Any crosslinking agent may be used as long as it is capable of reacting with the crosslinkable functional group of the resin component. When the resin component is a urethane resin having a crosslinkable functional group such as a carboxyl group, a crosslinking agent containing an amino group, an oxazoline group, an epoxy group, a carbodiimide group, or the like can be used.

塩基成分としては、アンモニア、アミン化合物(一級アミン、二級アミン、三級アミン等)、ヒドラジド化合物、イミダゾール化合物、又はイミダゾリン化合物等が挙げられる。 Examples of the base component include ammonia, amine compounds (primary amines, secondary amines, tertiary amines, etc.), hydrazide compounds, imidazole compounds, imidazoline compounds, and the like.

溶剤としては、水又は水溶性の溶剤が挙げられる。水溶性の溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。溶剤は、水であることが好ましい。 Examples of the solvent include water and water-soluble solvents. Examples of water-soluble solvents include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, acetone, tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, and the like. Preferably, the solvent is water.

易接着層は、基材層の偏光子と対向する面に易接着組成物を塗布し、乾燥等することによって形成することができる。易接着組成物を塗布する方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーター等を用いた塗布方法が挙げられる。塗布した易接着組成物は、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて、乾燥することができる。易接着組成物が樹脂成分を形成するためのモノマーと重合開始剤を含む場合、塗布した易接着組成物を乾燥し、硬化させた後、必要に応じて養生工程を設けることにより、易接着層を形成すればよい。 The easy-adhesive layer can be formed by applying an easy-adhesive composition to the surface of the base layer facing the polarizer and drying the composition. Examples of methods for applying the easily adhesive composition include methods using a die coater, comma coater, reverse roll coater, gravure coater, rod coater, wire bar coater, doctor blade coater, air doctor coater, and the like. The applied easily adhesive composition can be dried using, for example, a hot air dryer or an infrared dryer. When the easy-adhesive composition contains a monomer and a polymerization initiator for forming the resin component, the easy-adhesive layer can be formed by drying and curing the applied easy-adhesive composition, and then providing a curing step as necessary. All you have to do is form.

(位相差体)
位相差体は、液晶硬化層を含み、偏光板に位相差を付与する層である。位相差体は、液晶硬化層を含む位相差層を1以上有することが好ましい。位相差体が2以上の位相差層を含む場合、少なくとも1層の位相差層が液晶硬化層を含んでいれば、残りの位相差層は、延伸フィルムによって形成されていてもよい。位相差体が2以上の位相差層を含む場合、位相差体は、これらの層を貼合するための貼合層を有することが好ましい。
(phase difference material)
A retardation body is a layer that includes a liquid crystal hardening layer and provides a retardation to a polarizing plate. It is preferable that the retardation body has one or more retardation layers including a liquid crystal hardening layer. When the retardation body includes two or more retardation layers, and at least one retardation layer includes a liquid crystal hardening layer, the remaining retardation layers may be formed of a stretched film. When the retardation material includes two or more retardation layers, the retardation material preferably has a bonding layer for bonding these layers together.

位相差体の厚みは、例えば0.1μm以上50μm以下であり、好ましくは0.5μm以上30μm以下であり、より好ましくは1μm以上10μm以下である。 The thickness of the retardation body is, for example, 0.1 μm or more and 50 μm or less, preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 10 μm or less.

(位相差層(第1位相差層、第2位相差層))
位相差体に含まれる位相差層(第1位相差層、第2位相差層)は、上記した保護フィルムを構成する基材層の材料として例示した樹脂フィルムから形成してもよいし、液晶硬化層から形成してもよい。液晶硬化層は、重合性液晶化合物が重合硬化してなる層であることが好ましい。第1位相差層及び第2位相差層は、上記したように、液晶硬化層に加えて配向層、基材フィルム、オーバーコート層等を含んでいてもよい。
(Retardation layer (first retardation layer, second retardation layer))
The retardation layer (first retardation layer, second retardation layer) included in the retardation material may be formed from the resin film exemplified as the material for the base layer constituting the above-mentioned protective film, or may be formed from the resin film exemplified as the material for the base layer constituting the protective film described above. It may also be formed from a hardened layer. The liquid crystal cured layer is preferably a layer formed by polymerizing and curing a polymerizable liquid crystal compound. As described above, the first retardation layer and the second retardation layer may include an alignment layer, a base film, an overcoat layer, etc. in addition to the liquid crystal hardening layer.

液晶硬化層が重合性液晶化合物が重合硬化してなる層である場合、重合性液晶化合物を含む組成物を、基材フィルムに塗布し硬化させることにより形成することができる。基材フィルムと塗布層との間に配向層を形成してもよい。基材フィルムの材料及び厚みとしては、上記した保護フィルムを構成する基材層の材料及び厚みが挙げられる。 When the liquid crystal cured layer is a layer formed by polymerizing and curing a polymerizable liquid crystal compound, it can be formed by applying a composition containing the polymerizable liquid crystal compound to a base film and curing it. An alignment layer may be formed between the base film and the coating layer. Examples of the material and thickness of the base film include the material and thickness of the base layer that constitutes the above-mentioned protective film.

重合性液晶化合物は、少なくとも1つの重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性液晶化合物としては、公知の重合性液晶化合物を用いることができる。液晶硬化層を形成するために用いる重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物を重合することによって形成される硬化物層は、重合性液晶化合物を適した方向に配向させた状態で硬化することにより位相差を発現する。棒状の重合性液晶化合物が、光学積層体の平面方向に対して水平配向又は垂直配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。棒状の重合性液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報(請求項1等)に記載のものを好適に用いることができる。円盤状の重合性液晶化合物としては、特開2007-108732号公報(段落[0020]~[0067]等)、特開2010-244038号公報(段落[0013]~[0108]等)に記載のものを好適に用いることができる。 A polymerizable liquid crystal compound is a compound that has at least one polymerizable group and has liquid crystallinity. As the polymerizable liquid crystal compound, a known polymerizable liquid crystal compound can be used. The type of polymerizable liquid crystal compound used to form the liquid crystal cured layer is not particularly limited, and rod-like liquid crystal compounds, discotic liquid crystal compounds, and mixtures thereof can be used. A cured material layer formed by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound exhibits a retardation by curing the polymerizable liquid crystal compound while oriented in a suitable direction. When the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound is aligned horizontally or vertically with respect to the plane direction of the optical laminate, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound coincides with the long axis direction of the polymerizable liquid crystal compound. When the disc-shaped polymerizable liquid crystal compound is oriented, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound is in a direction perpendicular to the disc surface of the polymerizable liquid crystal compound. As the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound, for example, those described in Japanese Patent Publication No. 11-513019 (claim 1, etc.) can be suitably used. Disc-shaped polymerizable liquid crystal compounds include those described in JP-A-2007-108732 (paragraphs [0020] to [0067], etc.) and JP-A-2010-244038 (paragraphs [0013] to [0108], etc.). can be suitably used.

重合性液晶化合物が有する重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。中でも、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物の硬化物層を形成するために重合性液晶化合物を2種類以上を併用する場合、少なくとも1種類が分子内に2以上の重合性基を有することが好ましい。 The polymerizable group that the polymerizable liquid crystal compound has means a group that participates in a polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. The photopolymerizable group refers to a group that can participate in a polymerization reaction by active radicals, acids, etc. generated from a photopolymerization initiator. Examples of the polymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, (meth)acryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, styryl group, allyl group, etc. . Among these, (meth)acryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferred, and acryloyloxy group is more preferred. The liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, and if the thermotropic liquid crystal is classified by the degree of order, it may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal. When using two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds in combination to form a cured product layer of the polymerizable liquid crystal compound, it is preferable that at least one kind has two or more polymerizable groups in the molecule.

液晶硬化層は、重合性液晶化合物と溶剤、必要に応じて各種添加剤を含む液晶硬化層形成用の組成物を、後述する配向層上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を固化(硬化)させることによって、重合性液晶化合物を重合硬化させた層を形成することができる。あるいは、基材フィルム上に上記組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸し、硬化させることによって形成してもよい。上記組成物は、上記した重合性液晶化合物及び溶剤の他に、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等を含んでいてもよい。重合性液晶化合物、溶剤、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等は、公知のものを適宜用いることができる。 The liquid crystal hardening layer is formed by applying a composition for forming a liquid crystal hardening layer containing a polymerizable liquid crystal compound, a solvent, and various additives as necessary onto the alignment layer described below to form a coating film. By solidifying (hardening), a layer in which the polymerizable liquid crystal compound is polymerized and hardened can be formed. Alternatively, the composition may be applied onto a base film to form a coating film, and this coating film may be stretched and cured together with the base film. In addition to the polymerizable liquid crystal compound and solvent described above, the composition may also contain a polymerization initiator, a reactive additive, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and the like. As the polymerizable liquid crystal compound, solvent, polymerization initiator, reactive additive, leveling agent, polymerization inhibitor, etc., known ones can be used as appropriate.

液晶硬化層の厚みは、0.1μm以上であってもよく、0.5μm以上であってもよく、1μm以上であってもよく、また、10μm以下であってもよく、8μm以下であってもよく、5μm以下であってもよく、3μm以下であってもよい。 The thickness of the liquid crystal hardened layer may be 0.1 μm or more, 0.5 μm or more, 1 μm or more, 10 μm or less, and 8 μm or less. It may be 5 μm or less, or 3 μm or less.

配向層は、重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有する。配向層は、重合性液晶化合物の分子軸を光学積層体の平面方向に対して垂直配向した垂直配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を積層体の平面方向に対して水平配向した水平配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を光学積層体の平面方向に対して傾斜配向させる傾斜配向層であってもよい。 The alignment layer has an alignment regulating force that aligns the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction. The alignment layer may be a vertical alignment layer in which the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound is aligned perpendicularly to the plane direction of the optical laminate, or a vertical alignment layer in which the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound is aligned horizontally to the plane direction of the laminate. It may be an oriented horizontal alignment layer, or it may be an inclined alignment layer that aligns the molecular axis of the polymerizable liquid crystal compound obliquely with respect to the plane direction of the optical laminate.

配向層としては、重合性液晶化合物を含む液晶硬化層形成用の組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理に対する耐熱性を有するものが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面にラビング処理等を行って形成した凹凸パターンや複数のグルブ(溝)を有するグルブ配向層等を挙げることができる。 The alignment layer has a solvent resistance that does not dissolve when coating a composition for forming a liquid crystal hardened layer containing a polymerizable liquid crystal compound, and has heat resistance against solvent removal and heat treatment for aligning the polymerizable liquid crystal compound. It is preferable to have the following. As the alignment layer, an oriented polymer layer formed of an oriented polymer, a photo-aligned polymer layer formed of a photo-aligned polymer, an uneven pattern or a plurality of grooves formed by rubbing the layer surface, etc. Examples include a groove orientation layer having the following.

(貼合層(第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層))
貼合層(第1貼合層、第2貼合層、第3貼合層)は、接着剤層又は粘着剤層である。
(Lamination layer (first lamination layer, second lamination layer, third lamination layer))
The bonding layer (first bonding layer, second bonding layer, third bonding layer) is an adhesive layer or a pressure-sensitive adhesive layer.

粘着剤層は、粘着剤を用いて形成された層である。粘着剤は、それ自体を被着体に貼り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。粘着剤は、公知の光学的な透明性に優れる粘着剤を用いることができる。公知の粘着剤は、例えば、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、シリコーンポリマー、ポリビニルエーテル等のベースポリマーを含有する粘着剤を用いることができる。また、粘着剤は、活性エネルギー線硬化型粘着剤、又は、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性(リワーク性)、耐候性、耐熱性等に優れるアクリル樹脂をベースポリマーとした粘着剤が好適である。粘着剤層は、(メタ)アクリル樹脂、架橋剤、シランカップリング剤を含む粘着剤から構成されることが好ましく、その他の成分を含んでいてもよい。 The adhesive layer is a layer formed using an adhesive. An adhesive exhibits adhesive properties by pasting itself onto an adherend, and is a so-called pressure-sensitive adhesive. As the adhesive, a known adhesive having excellent optical transparency can be used. As a known adhesive, for example, an adhesive containing a base polymer such as an acrylic polymer, a urethane polymer, a silicone polymer, or a polyvinyl ether can be used. Further, the adhesive may be an active energy ray-curable adhesive, a thermosetting adhesive, or the like. Among these, a pressure-sensitive adhesive having an acrylic resin as a base polymer, which is excellent in transparency, adhesive strength, removability (reworkability), weather resistance, heat resistance, etc., is suitable. The adhesive layer is preferably composed of an adhesive containing a (meth)acrylic resin, a crosslinking agent, and a silane coupling agent, and may also contain other components.

粘着剤層の厚みは特に限定されないが、好ましくは5μm以上であり、10μm以上であってもよく、15μm以上であってもよく、20μm以上であってもよく、25μm以上であってもよく、通常300μm以下であり、250μm以下であってもよく、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよい。 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more, may be 10 μm or more, may be 15 μm or more, may be 20 μm or more, may be 25 μm or more, It is usually 300 μm or less, may be 250 μm or less, may be 100 μm or less, or may be 50 μm or less.

接着剤層は、接着剤組成物を用いて形成することができる。接着剤層を形成するための接着剤組成物としては、感圧型接着剤(粘着剤)以外の接着剤であって、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。 The adhesive layer can be formed using an adhesive composition. Examples of the adhesive composition for forming the adhesive layer include adhesives other than pressure-sensitive adhesives (adhesives), such as water-based adhesives and active energy ray-curable adhesives.

水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール樹脂を水に溶解、又は分散させた接着剤が挙げられる。水系接着剤を用いた場合の乾燥方法については特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて乾燥する方法が採用できる。 Examples of water-based adhesives include adhesives in which polyvinyl alcohol resin is dissolved or dispersed in water. The drying method when using a water-based adhesive is not particularly limited, but for example, a method of drying using a hot air dryer or an infrared dryer can be adopted.

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含む無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることにより、層間の密着性を向上させることができる。 Examples of active energy ray-curable adhesives include solvent-free active energy ray-curable adhesives containing a curable compound that is cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Can be mentioned. By using a solvent-free active energy ray-curable adhesive, it is possible to improve the adhesion between layers.

活性エネルギー線硬化型接着剤としては、良好な接着性を示すことから、カチオン重合性の硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるための光カチオン重合開始剤等のカチオン重合開始剤、又はラジカル重合開始剤をさらに含むことができる。 The active energy ray-curable adhesive preferably contains one or both of a cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound, since it exhibits good adhesive properties. The active energy ray-curable adhesive may further contain a cationic polymerization initiator such as a photocationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator for starting the curing reaction of the curable compound.

接着剤層の厚みは、0.1μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であってもよく、また10μm以下であることが好ましく、5μm以下であってもよい。 The thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 μm or more, may be 0.5 μm or more, and is preferably 10 μm or less, and may be 5 μm or less.

(粘着剤層)
粘着剤層付き偏光板が有する粘着剤層、及び、光学積層体2が有していてもよい粘着剤層としては、上記したものを用いることができる。
(Adhesive layer)
As the adhesive layer that the polarizing plate with an adhesive layer has and the adhesive layer that the optical laminate 2 may have, those described above can be used.

(剥離フィルム)
粘着剤層付き偏光板が有していてもよい剥離フィルム、及び、光学積層体2が有していてもよい剥離フィルムは、基材フィルム及び離型処理層を有することができる。基材フィルムは樹脂フィルムであってもよい。樹脂フィルムは、例えば、上記した保護フィルムを構成する基材層を形成する材料から形成することができる。離型処理層は、公知の離型処理層であればよく、例えばフッ素化合物やシリコーン化合物等の離型剤を基材フィルムにコーティングして形成された層が挙げられる。
(Release film)
The release film that the adhesive layer-attached polarizing plate may have and the release film that the optical laminate 2 may have may have a base film and a release treatment layer. The base film may be a resin film. The resin film can be formed, for example, from the material that forms the base layer that constitutes the above-mentioned protective film. The release treatment layer may be any known release treatment layer, such as a layer formed by coating a base film with a release agent such as a fluorine compound or a silicone compound.

(表示装置)
粘着剤層付き偏光板及び光学積層体は表示装置に用いることができ、フレキシブル表示装置にも用いることができる。表示装置は、表示素子と、表示素子の視認側に積層された粘着剤層付き偏光板又は光学積層体とを備える構成であってもよい。粘着剤層付き偏光板及び光学積層体はその粘着剤層により、表示素子に貼合することができる。粘着剤層付き偏光板及び又は光学積層体が偏光子の片面にのみ保護フィルムを有する偏光板を備え、粘着剤層付き偏光板及び光学積層体を表示素子の視認側に配置する場合、保護フィルムが偏光子よりも視認側に位置することが好ましい。表示装置は特に限定されず、例えば有機EL表示装置、無機EL表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。表示装置はタッチパネル機能を有していてもよい。粘着剤層付き偏光板及び光学積層体は、屈曲又は折り曲げ等が可能な可撓性を有するフレキシブル表示装置に好適に用いることができる。
(display device)
The polarizing plate with an adhesive layer and the optical laminate can be used for display devices, and can also be used for flexible display devices. The display device may be configured to include a display element and a polarizing plate with an adhesive layer or an optical laminate laminated on the viewing side of the display element. A polarizing plate with an adhesive layer and an optical laminate can be bonded to a display element using the adhesive layer. When the polarizing plate with an adhesive layer and/or the optical laminate has a protective film on only one side of the polarizer, and the polarizing plate with an adhesive layer and the optical laminate are placed on the viewing side of the display element, the protective film It is preferable that the polarizer be located closer to the viewing side than the polarizer. The display device is not particularly limited, and examples thereof include image display devices such as organic EL display devices, inorganic EL display devices, liquid crystal display devices, and electroluminescent display devices. The display device may have a touch panel function. The polarizing plate with an adhesive layer and the optical laminate can be suitably used in a flexible display device having flexibility that allows bending or folding.

表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器や計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができるが、特に、今後も一層の小型化が求められるモバイル機器に搭載される表示装置として、特に好適である。 Display devices can be used as mobile devices such as smartphones and tablets, televisions, digital photo frames, electronic signboards, measuring instruments and instruments, office equipment, medical equipment, computer equipment, etc., but in particular, they will continue to become more popular in the future. It is particularly suitable as a display device installed in a mobile device that requires miniaturization.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<偏光子の作製>
(偏光子aの作製)
厚み20μm、重合度2400、ケン化度99%以上のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを準備した。このポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、熱ロール上で延伸倍率4.1倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水100質量部あたりヨウ素0.05質量部及びヨウ化カリウム5質量部を含有する、28℃の染色浴に60秒間浸漬した。
<Preparation of polarizer>
(Preparation of polarizer a)
A polyvinyl alcohol resin film having a thickness of 20 μm, a degree of polymerization of 2400, and a degree of saponification of 99% or more was prepared. This polyvinyl alcohol-based resin film was uniaxially stretched at a stretching ratio of 4.1 times on a hot roll, and while maintaining tension, 0.05 parts by mass of iodine and 5 parts by mass of potassium iodide were added per 100 parts by mass of water. The sample was immersed in a dyeing bath at 28°C for 60 seconds.

次いで、水100質量部あたりホウ酸5.5質量部及びヨウ化カリウム15質量部を含有する、温度64℃のホウ酸水溶液(1)に、110秒間浸漬した。その後、水100質量部あたりホウ酸3.9質量部及びヨウ化カリウム15質量部を含有する、温度67℃のホウ酸水溶液(2)に、30秒間浸漬した。その後、温度10℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、偏光子aを得た。後述する手順で偏光子aの厚み、ホウ素含有量、及び収縮力を測定した。結果を表1及び表2に示す。 Next, it was immersed for 110 seconds in a boric acid aqueous solution (1) containing 5.5 parts by mass of boric acid and 15 parts by mass of potassium iodide per 100 parts by mass of water at a temperature of 64°C. Thereafter, it was immersed for 30 seconds in a boric acid aqueous solution (2) containing 3.9 parts by mass of boric acid and 15 parts by mass of potassium iodide per 100 parts by mass of water at a temperature of 67°C. Thereafter, it was washed with pure water at a temperature of 10°C and dried to obtain a polarizer a. The thickness, boron content, and shrinkage force of polarizer a were measured using the procedures described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(偏光子bの作製)
ホウ酸水溶液(2)のホウ酸含有量を、水100質量部あたり2.3質量部に変更した点以外は、偏光子aと同じ方法で偏光子bを作製した。後述する手順で偏光子bの厚み、ホウ素含有量、及び収縮力を測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of polarizer b)
Polarizer b was produced in the same manner as polarizer a, except that the boric acid content of the boric acid aqueous solution (2) was changed to 2.3 parts by mass per 100 parts by mass of water. The thickness, boron content, and shrinkage force of polarizer b were measured using the procedures described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(偏光子cの作製)
ホウ酸水溶液(2)のホウ酸含有量を、水100質量部あたり5.5質量部に変更した点以外は、偏光子aと同じ方法で偏光子cを作製した。後述する手順で偏光子cの厚み、ホウ素含有量、及び収縮力を測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of polarizer c)
Polarizer c was produced in the same manner as polarizer a, except that the boric acid content of the boric acid aqueous solution (2) was changed to 5.5 parts by mass per 100 parts by mass of water. The thickness, boron content, and shrinkage force of polarizer c were measured using the procedures described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(偏光子dの作製)
ホウ酸水溶液(2)のホウ酸含有量を、水100質量部あたり6.8質量部に変更した点以外は、偏光子aと同じ方法で偏光子dを作製した。後述する手順で偏光子dの厚み、ホウ素含有量、及び収縮力を測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of polarizer d)
Polarizer d was produced in the same manner as polarizer a, except that the boric acid content of the boric acid aqueous solution (2) was changed to 6.8 parts by mass per 100 parts by mass of water. The thickness, boron content, and shrinkage force of polarizer d were measured using the procedures described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(偏光子eの作製)
ホウ酸水溶液(2)のホウ酸含有量を、水100質量部あたり1.5質量部に変更した点以外は、偏光子aと同じ方法で偏光子eを作製した。後述する手順で偏光子eの厚み、ホウ素含有量、及び収縮力を測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of polarizer e)
Polarizer e was produced in the same manner as polarizer a, except that the boric acid content of the boric acid aqueous solution (2) was changed to 1.5 parts by mass per 100 parts by mass of water. The thickness, boron content, and shrinkage force of polarizer e were measured using the procedures described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

[厚みの測定]
偏光子、保護フィルムの各層、位相差体の各層の厚みは、接触式膜厚計〔株式会社ニコン製の商品名“DIGIMICRO(登録商標)MH-15M”〕で測定した。
[Measurement of thickness]
The thickness of each layer of the polarizer, protective film, and retardation material was measured using a contact film thickness meter [trade name "DIGIMICRO (registered trademark) MH-15M" manufactured by Nikon Corporation].

[偏光子のホウ素含有量]
偏光子0.2gを1.9質量%マンニトール水溶液200gに溶解した。得られた水溶液を1mol/L NaOH水溶液で滴定し、中和に要したNaOH液の量と検量線との比較により、ホウ素量(質量)を算出した。偏光子の質量に対する算出したホウ素量として、偏光子のホウ素含有量を算出した。
[Boron content of polarizer]
0.2 g of a polarizer was dissolved in 200 g of a 1.9% by mass mannitol aqueous solution. The obtained aqueous solution was titrated with a 1 mol/L NaOH aqueous solution, and the amount of boron (mass) was calculated by comparing the amount of NaOH solution required for neutralization with a calibration curve. The boron content of the polarizer was calculated as the calculated amount of boron relative to the mass of the polarizer.

[偏光子の収縮力の測定]
偏光子の吸収軸が長辺と一致するように、偏光子を短辺2mm、長辺50mmの矩形にスーパーカッター(株式会社荻野精機製作所製)により切り出し、試験片とした。試験片の収縮力を熱機械分析装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型式TMA/6100)を用いて測定した。この測定は、寸法一定モードにおいて、チャック間距離を10mmとし、静荷重を0mNとし、治具にはSUS製のプローブを使用して、次の手順で実施した。まず、試験片を温度20℃の室内に十分な時間放置した。その後、試験片を置いた室内の温度設定を20℃から80℃まで10分間で昇温させた。昇温後は室内の温度を80℃で維持するように設定し、さらに4時間放置した後、温度80℃の環境下で試験片の長辺方向(吸収軸方向)の収縮力を測定した。
[Measurement of shrinkage force of polarizer]
The polarizer was cut into a rectangle with a short side of 2 mm and a long side of 50 mm using a super cutter (manufactured by Ogino Seiki Seisakusho Co., Ltd.) to prepare a test piece so that the absorption axis of the polarizer coincided with the long side. The shrinkage force of the test piece was measured using a thermomechanical analyzer (manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd., model TMA/6100). This measurement was carried out in the constant dimension mode, with an inter-chuck distance of 10 mm, a static load of 0 mN, and an SUS probe as the jig, using the following procedure. First, the test piece was left in a room at a temperature of 20° C. for a sufficient period of time. Thereafter, the temperature setting in the room where the test piece was placed was raised from 20°C to 80°C in 10 minutes. After raising the temperature, the room temperature was set to be maintained at 80°C, and after being left for another 4 hours, the shrinkage force in the long side direction (absorption axis direction) of the test piece was measured in an environment at a temperature of 80°C.

<保護フィルムの作製>
(易接着組成物の調製)
ポリエステルウレタン(第一工業製薬株式会社製、商品名:スーパーフレックス210、固形分:33%)16.8g、架橋剤(オキサゾリン含有ポリマー、株式会社日本触媒製、商品名:エポクロスWS-700、固形分:25%)4.2g、1質量%のアンモニア水2.0g、コロイダルシリカ(扶桑化学工業株式会社製、クォートロンPL-3、固形分:20質量%)0.42g、及び純水76.6gを混合し、易接着組成物を得た。
<Production of protective film>
(Preparation of easily adhesive composition)
Polyester urethane (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product name: Superflex 210, solid content: 33%) 16.8 g, crosslinking agent (oxazoline-containing polymer, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., product name: Epocross WS-700, solid 25%) 4.2g, 1% by mass ammonia water 2.0g, colloidal silica (Fuso Chemical Co., Ltd., Quartron PL-3, solid content: 20% by mass) 0.42g, and pure water 76%. 6 g were mixed to obtain an easily adhesive composition.

(保護フィルムAの作製)
アクリル系樹脂であるポリメチルメタクリレート樹脂[ガラス転移温度:135℃、溶融粘度:700Pa・s(温度270℃、せん断速度100(1/sec))]のペレットを、単軸押出機(φ=20.0mm、L/D=25)及びコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて、温度280℃で溶融押出した。押出された樹脂を、温度110℃に保持した冷却ロールで冷却することにより、厚み80μmの未延伸のアクリル系樹脂フィルムを成形した。こうして得た未延伸のアクリル系樹脂フィルムを、テーブル延伸機を用いて長手方向に延伸倍率2.0倍で延伸して、延伸フィルムを得た。
(Preparation of protective film A)
Pellets of polymethyl methacrylate resin, which is an acrylic resin [glass transition temperature: 135°C, melt viscosity: 700 Pa・s (temperature 270°C, shear rate 100 (1/sec))], were fed into a single-screw extruder (φ = 20 0 mm, L/D=25) and a coat hanger type T die (width 150 mm) at a temperature of 280°C. The extruded resin was cooled with a cooling roll maintained at a temperature of 110° C. to form an unstretched acrylic resin film with a thickness of 80 μm. The thus obtained unstretched acrylic resin film was stretched in the longitudinal direction at a stretching ratio of 2.0 times using a table stretching machine to obtain a stretched film.

延伸フィルムの一方の表面に、上記で調製した易接着組成物を、バーコーターを用いて塗布した後、熱風乾燥機に投入して温度100℃で90秒間乾燥して、塗布膜付き延伸フィルムを得た。この塗布膜付き延伸フィルムを、テーブル延伸機を用いて幅方向に延伸(延伸倍率:2.35倍)し、厚み20μmの基材層の表面に、厚み600nmの易接着層を有する保護フィルムAを得た。後述する手順で保護フィルムAの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。 The adhesive composition prepared above was applied to one surface of the stretched film using a bar coater, and then put into a hot air dryer and dried at a temperature of 100°C for 90 seconds to obtain a stretched film with a coated film. Obtained. This stretched film with a coating film was stretched in the width direction using a table stretching machine (stretching ratio: 2.35 times), and a protective film A having a 600 nm thick easy-adhesion layer on the surface of a 20 μm thick base material layer was formed. I got it. The puncture elastic modulus E of the protective film A was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムBの作製)
易接着組成物を用いて形成した塗布膜の厚みを変更した点以外は、保護フィルムAと同じ方法で、厚み20μmの基材層の表面に、厚み300nmの易接着層を有する保護フィルムBを得た。後述する手順で保護フィルムBの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film B)
A protective film B having a 300 nm thick adhesive layer was formed on the surface of a 20 μm thick base layer using the same method as the protective film A except that the thickness of the coating film formed using the easy adhesive composition was changed. Obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film B was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムCの作製)
易接着組成物を用いて形成した塗布膜の厚みを変更した点以外は、保護フィルムAと同じ方法で、厚み20μmの基材層の表面に、厚み280nmの易接着層を有する保護フィルムCを得た。後述する手順で保護フィルムCの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film C)
A protective film C having a 280 nm thick adhesive layer was formed on the surface of a 20 μm thick base material layer using the same method as the protective film A except that the thickness of the coating film formed using the easy adhesive composition was changed. Obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film C was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムDの作製)
易接着組成物を用いて形成した塗布膜の厚みを変更した点以外は、保護フィルムAと同じ方法で、厚み20μmの基材層の表面に、厚み180nmの易接着層を有する保護フィルムDを得た。後述する手順で保護フィルムDの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film D)
Protective film D having a 180 nm thick adhesive layer on the surface of a 20 μm thick base layer was prepared in the same manner as protective film A, except that the thickness of the coating film formed using the adhesive composition was changed. Obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film D was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムEの作製)
易接着組成物を用いて形成した塗布膜の厚みを変更した点以外は、保護フィルムAと同じ方法で、厚み20μmの基材層の表面に、厚みが80nmの易接着層を有する保護フィルムEを得た。後述する手順で保護フィルムEの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film E)
A protective film E having an 80 nm thick easy adhesive layer on the surface of a 20 μm thick base layer was prepared using the same method as the protective film A, except that the thickness of the coating film formed using the easy adhesive composition was changed. I got it. The puncture elastic modulus E of the protective film E was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムFの作製)
易接着組成物を用いて形成した塗布膜の厚みを変更した点以外は、保護フィルムAと同じ方法で、厚み20μmの基材層の表面に、厚みが65nmの易接着層を有する保護フィルムFを得た。後述する手順で保護フィルムFの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film F)
A protective film F having an easily adhesive layer with a thickness of 65 nm on the surface of a base material layer with a thickness of 20 μm was prepared in the same manner as the protective film A, except that the thickness of the coating film formed using the easily adhesive composition was changed. I got it. The puncture elastic modulus E of the protective film F was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムGの作製)
保護フィルムAの作製と同様にして得た延伸フィルムの一方の表面に、上記で調製した易接着組成物を、バーコーターを用いて塗布した後、熱風乾燥機に投入して温度100℃で90秒間乾燥して、塗布膜付き延伸フィルムを得た。この塗布膜付き延伸フィルムを、テーブル延伸機を用いて幅方向に延伸(延伸倍率:2.0倍)し、厚み40μmの基材層の表面に、厚み180nmの易接着層を有する保護フィルムGを得た。後述する手順で保護フィルムGの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film G)
The easy-adhesive composition prepared above was applied to one surface of the stretched film obtained in the same manner as in the preparation of protective film A using a bar coater, and then put into a hot air dryer and dried at a temperature of 100°C for 90 minutes. It was dried for seconds to obtain a stretched film with a coated film. This stretched film with a coated film was stretched in the width direction using a table stretching machine (stretching ratio: 2.0 times), and a protective film G having a 180 nm thick easy-adhesive layer on the surface of a 40 μm thick base material layer was formed. I got it. The puncture elastic modulus E of the protective film G was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムHの作製)
コートハンガータイプTダイを調整して、溶融押出する樹脂の厚みを変更したこと以外は、保護フィルムAの作製と同様にして、厚み20μmの未延伸のアクリル系樹脂フィルムを得た。得られた未延伸のアクリル系樹脂フィルムの一方の表面に、上記で調製した易接着組成物を、バーコーターを用いて塗布した後、熱風乾燥機に投入して温度100℃で90秒間乾燥した。これにより、厚み20μmの基材層の表面に、厚み500nmの易接着層を有する保護フィルムHを得た。後述する手順で保護フィルムHの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film H)
An unstretched acrylic resin film with a thickness of 20 μm was obtained in the same manner as in the production of protective film A, except that the thickness of the resin to be melt-extruded was changed by adjusting the coat hanger type T die. The easily adhesive composition prepared above was applied to one surface of the obtained unstretched acrylic resin film using a bar coater, and then placed in a hot air dryer and dried at a temperature of 100°C for 90 seconds. . Thereby, a protective film H having a 500 nm thick easily adhesive layer on the surface of a 20 μm thick base material layer was obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film H was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムIの作製)
コートハンガータイプTダイを調整して、溶融押出する樹脂の厚みを変更したこと以外は、保護フィルムAの作製と同様にして、厚み40μmの未延伸のアクリル系樹脂フィルムを得た。得られた未延伸のアクリル系樹脂フィルムの一方の表面に、上記で調製した易接着組成物を、バーコーターを用いて塗布した後、熱風乾燥機に投入して温度100℃で90秒間乾燥した。これにより、厚み40μmの基材層の表面に、厚み500nmの易接着層を有する保護フィルムIを得た。後述する手順で保護フィルムIの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film I)
An unstretched acrylic resin film with a thickness of 40 μm was obtained in the same manner as in the production of protective film A, except that the thickness of the resin to be melt-extruded was changed by adjusting the coat hanger type T die. The easily adhesive composition prepared above was applied to one surface of the obtained unstretched acrylic resin film using a bar coater, and then placed in a hot air dryer and dried at a temperature of 100°C for 90 seconds. . As a result, a protective film I having a 500 nm thick easy-adhesive layer on the surface of a 40 μm thick base material layer was obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film I was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムJの作製)
ノルボルネン重合体を含む熱可塑性樹脂[ガラス転移点:137℃]のペレットを、温度100℃で5時間乾燥した。乾燥後のペレットを押出機に供給し、押出機内で溶融させ、ポリマーパイプ及びポリマーフィルターを経て、Tダイからキャスティングドラム上にフィルム状に押出した。押し出された樹脂をキャスティングドラムで冷却することにより、厚み50μm、幅1500mmの長尺の未延伸の環状ポリオレフィン(COP)系樹脂フィルムを得た。こうして得たCOP系樹脂フィルムを、長手方向に、延伸温度145℃、延伸倍率1.5倍で延伸して、厚み40μm、幅1000mmの長尺の延伸COPフィルムを得た。
(Preparation of protective film J)
Pellets of a thermoplastic resin [glass transition point: 137°C] containing a norbornene polymer were dried at a temperature of 100°C for 5 hours. The dried pellets were supplied to an extruder, melted in the extruder, passed through a polymer pipe and a polymer filter, and extruded into a film from a T-die onto a casting drum. By cooling the extruded resin with a casting drum, a long unstretched cyclic polyolefin (COP) resin film with a thickness of 50 μm and a width of 1500 mm was obtained. The COP resin film thus obtained was stretched in the longitudinal direction at a stretching temperature of 145° C. and a stretching ratio of 1.5 times to obtain a long stretched COP film with a thickness of 40 μm and a width of 1000 mm.

内側クリップチェーン及び外側クリップチェーンを備えたテンター延伸装置と、このテンター延伸装置を覆うオーブンとを備えた製造装置を用意した。テンター延伸装置に上記で得た延伸COPフィルムを連続的に供給して、斜め延伸を行った。延伸条件は、延伸倍率2.1倍、延伸温度142℃、内側クリップチェーン及び外側クリップチェーンの張力比率Tin/Tout×100は105%であった。これにより、厚み18μmの基材層のみからなる保護フィルムJを得た。後述する手順で保護フィルムJの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。 A manufacturing apparatus was prepared that included a tenter stretching device with an inner clip chain and an outer clip chain, and an oven covering the tenter stretching device. The stretched COP film obtained above was continuously supplied to a tenter stretching device to perform diagonal stretching. The stretching conditions were a stretching ratio of 2.1 times, a stretching temperature of 142° C., and a tension ratio Tin/Tout×100 of the inner clip chain and the outer clip chain of 105%. Thereby, a protective film J consisting only of a base material layer with a thickness of 18 μm was obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film J was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(保護フィルムKの作製)
コアシェル構造を持つアクリル系ブロック共重合体であるポリメチルメタクリレート樹脂[ガラス転移温度:105℃、溶融粘度:700Pa・s(温度240℃、せん断速度100(1/sec))]のペレットを、単軸押出機(φ=20.0mm、L/D=25)及びコートハンガータイプTダイ(幅150mm)を用いて、温度250℃で溶融押出した。押出された樹脂を、温度90℃に保持した冷却ロールで冷却することにより、厚み25μmの基材層のみからなる保護フィルムKを得た。後述する手順で保護フィルムKの突刺し弾性率Eを測定した。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of protective film K)
Pellets of polymethyl methacrylate resin, which is an acrylic block copolymer with a core-shell structure [glass transition temperature: 105°C, melt viscosity: 700 Pa・s (temperature 240°C, shear rate 100 (1/sec))], were Melt extrusion was performed at a temperature of 250° C. using a shaft extruder (φ = 20.0 mm, L/D = 25) and a coat hanger type T die (width 150 mm). By cooling the extruded resin with a cooling roll maintained at a temperature of 90° C., a protective film K having a thickness of 25 μm and consisting only of a base material layer was obtained. The puncture elastic modulus E of the protective film K was measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

[保護フィルムの突刺し弾性率Eの測定]
中央部が30mm×30mmの正方形で切り抜いて形成した空隙部を有する糊付き台紙に、測定対象の保護フィルムを貼合した測定試料を作製した。保護フィルムが易接着層を有する場合、保護フィルムの易接着層側が糊付き台紙との貼合面となるように測定試料を作製した。測定試料の空隙部にある保護フィルムの中央部を、温度25℃、相対湿度55%の環境下において、先端径1mmφ0.5Rのニードルを0.33cm/秒の速度で、当該保護フィルムの面に対して略垂直に突き刺した。そして、破断が生じた時点で測定される、当該保護フィルムの突き差し方向の撓みによる変位量をひずみ量S[mm]とし、当該保護フィルムに加えられた応力をF[g]とし、応力Fをひずみ量Sで除して突刺し弾性率E[g/mm]を求めた。すなわち、以下の式(1)により突刺し弾性率Eを求めた。表1及び表2に結果を示す。
突刺し弾性率E[g/mm]=F[g]/S[mm] (1)
[Measurement of puncture elastic modulus E of protective film]
A measurement sample was prepared by laminating a protective film to be measured on a glue-backed mount having a gap formed by cutting out a 30 mm x 30 mm square in the center. When the protective film had an easily adhesive layer, the measurement sample was prepared such that the easily adhesive layer side of the protective film was the surface to be bonded to the adhesive mount. A needle with a tip diameter of 1 mmφ0.5R was applied to the surface of the protective film at a speed of 0.33 cm/sec in an environment of a temperature of 25°C and a relative humidity of 55%, at a speed of 0.33 cm/sec. It was stabbed almost perpendicularly. Then, the amount of displacement due to the deflection of the protective film in the thrusting direction measured at the time of breakage is defined as the amount of strain S [mm], the stress applied to the protective film is defined as F [g], and the stress F was divided by the amount of strain S to determine the puncture elastic modulus E [g/mm]. That is, the puncture elastic modulus E was determined using the following equation (1). The results are shown in Tables 1 and 2.
Puncture elastic modulus E [g/mm] = F [g]/S [mm] (1)

<基材フィルム付き位相差体(A)の準備>
(第1積層体(A)の作製)
下記に示す構造の光配向性材料5質量部(重量平均分子量:30,000)とシクロペンタノン95質量部とを混合し、得られた混合物を80℃で1時間撹拌することにより、配向層形成用の組成物としての水平配向層形成用塗工液(1)を得た。

Figure 2023150316000002
<Preparation of retardation material with base film (A)>
(Preparation of first laminate (A))
By mixing 5 parts by mass of a photo-alignable material (weight average molecular weight: 30,000) with the structure shown below and 95 parts by mass of cyclopentanone and stirring the resulting mixture at 80°C for 1 hour, an alignment layer is formed. A coating liquid (1) for forming a horizontal alignment layer was obtained as a composition for formation.
Figure 2023150316000002

下記に示す構造の重合性液晶化合物a、及び重合性液晶化合物bを90:10の質量比で混合した混合物100質量部に対して、レベリング剤(F-556;DIC株式会社製)を1.0質量部、及び重合開始剤である2-ジメチルアミノ-2-ベンジル-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン(「イルガキュア369(Irg369)」、BASFジャパン株式会社製)を6質量部添加した。さらに、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を添加し、80℃で1時間撹拌することにより、液晶硬化層形成用の組成物としての液晶層形成用塗工液(1)を得た。 A leveling agent (F-556; manufactured by DIC Corporation) was added to 100 parts by mass of a mixture of a polymerizable liquid crystal compound a having the structure shown below and a polymerizable liquid crystal compound b at a mass ratio of 90:10. 0 parts by mass, and 6 parts by mass of 2-dimethylamino-2-benzyl-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one ("Irgacure 369 (Irg369)", manufactured by BASF Japan Ltd.), which is a polymerization initiator. Part was added. Furthermore, by adding N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to a solid concentration of 13% and stirring at 80°C for 1 hour, a composition for forming a liquid crystal layer was prepared. A coating liquid (1) was obtained.

重合性液晶化合物a:

Figure 2023150316000003

重合性液晶化合物b:
Figure 2023150316000004
Polymerizable liquid crystal compound a:
Figure 2023150316000003

Polymerizable liquid crystal compound b:
Figure 2023150316000004

重合性液晶化合物aは、特開2010-31223号公報に記載された方法で製造した。重合性液晶化合物bは、特開2009-173893号公報に記載された方法に準じて製造した。 Polymerizable liquid crystal compound a was produced by the method described in JP-A No. 2010-31223. Polymerizable liquid crystal compound b was produced according to the method described in JP-A No. 2009-173893.

基材フィルムとしてのシクロオレフィンポリマー(COP)フィルム(日本ゼオン株式会社製、ZF-14、厚み23μm)に、コロナ処理装置(AGF-B10、春日電機株式会社製)を用いて出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回コロナ処理した。コロナ処理を施した基材フィルムの表面に、水平配向層形成用塗工液(1)をバーコーターにより塗布した。塗布膜を温度80℃で1分間乾燥し、偏光UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ電機株式会社製)を用いて、100mJ/cmの積算光量で偏光UV露光を実施した。これにより、基材フィルム上に水平配向層が形成された水平配向層付き基材フィルムを得た。水平配向層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ、100nmであった。 A cycloolefin polymer (COP) film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., ZF-14, thickness 23 μm) as a base film was treated with a corona treatment device (AGF-B10, manufactured by Kasuga Denki Co., Ltd.) with an output of 0.3 kW. Corona treatment was performed once at a treatment speed of 3 m/min. The horizontal alignment layer forming coating liquid (1) was applied to the surface of the corona-treated base film using a bar coater. The coating film was dried at a temperature of 80° C. for 1 minute, and polarized UV exposure was performed using a polarized UV irradiation device (SPOT CURE SP-7; manufactured by Ushio Inc.) at an integrated light intensity of 100 mJ/cm 2 . Thereby, a base film with a horizontal alignment layer was obtained, in which a horizontal alignment layer was formed on the base film. The thickness of the horizontal alignment layer was measured using a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 100 nm.

続いて、温度25℃、相対湿度30%の環境下において、液晶層形成用塗工液(1)を孔径0.2μmのPTFE製メンブレンフィルタ(アドバンテック東洋株式会社製、品番;T300A025A)に通した。その後、この液晶硬化層形成用塗工液(1)を、温度25℃に保温した水平配向層付き基材フィルムの水平配向層上に、バーコーターを用いて塗布し、塗布層を温度120℃で1分間乾燥した後、高圧水銀ランプ(ユニキュアVB―15201BY-A、ウシオ電機株式会社製)を用いて、紫外線を照射(窒素雰囲気下、波長:365nm、波長365nmにおける積算光量:1000mJ/cm)した。得られた第1液晶硬化層の厚みをレーザー顕微鏡(LEXT、オリンパス株式会社製)で測定したところ2μmであった。これにより、基材フィルム上に第1位相差層が形成された第1積層体(A)を得た。第1積層体(A)は、基材フィルム側から順に、配向層、及び、ネマチック液晶化合物が硬化した第1液晶硬化層を有する、第1位相差層はλ/4位相差層である。 Subsequently, the liquid crystal layer forming coating solution (1) was passed through a PTFE membrane filter (manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd., product number: T300A025A) with a pore size of 0.2 μm under an environment of a temperature of 25° C. and a relative humidity of 30%. . Thereafter, this coating liquid for forming a liquid crystal cured layer (1) was applied using a bar coater onto the horizontal alignment layer of the horizontal alignment layer-attached base film kept at a temperature of 25°C, and the coating layer was coated at a temperature of 120°C. After drying for 1 minute, use a high-pressure mercury lamp (Unicure VB-15201BY-A, manufactured by Ushio Inc.) to irradiate with ultraviolet light (under nitrogen atmosphere, wavelength: 365 nm, cumulative light amount at wavelength 365 nm: 1000 mJ/cm 2 )did. The thickness of the obtained first liquid crystal cured layer was measured using a laser microscope (LEXT, manufactured by Olympus Corporation) and was found to be 2 μm. Thereby, a first laminate (A) in which the first retardation layer was formed on the base film was obtained. The first laminate (A) includes, in order from the base film side, an alignment layer and a first liquid crystal cured layer in which a nematic liquid crystal compound is cured, and the first retardation layer is a λ/4 retardation layer.

(第2積層体(A)の作製)
ポリエチレングリコールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、A-600)10.0質量部と、トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業株式会社製、A-TMPT)10.0質量部と、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(新中村化学工業株式会社製、A-HD-N)10.0質量部と、光重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製、Irg-907)1.50質量部とを、溶媒メチルエチルケトン70.0質量部中で溶解させ、配向層形成用の組成物としての配向層形成用塗工液(2)を調製した。
(Preparation of second laminate (A))
10.0 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., A-600), 10.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMPT), 1 , 10.0 parts by mass of 6-hexanediol diacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., A-HD-N) and 1.50 parts by mass of Irgacure 907 (manufactured by BASF, Irg-907) as a photopolymerization initiator. were dissolved in 70.0 parts by mass of the solvent methyl ethyl ketone to prepare a coating liquid for forming an alignment layer (2) as a composition for forming an alignment layer.

基材フィルムとして厚み20μmの長尺状の環状オレフィン系樹脂(COP)フィルム(日本ゼオン株式会社製)を準備し、基材フィルムの片面に、配向層形成用塗工液(2)をバーコーターにて塗布した。塗工後の塗布層に温度80℃で60秒間の熱処理を施した後、紫外線(UVB)を220mJ/cm照射し、配向層形成用塗工液(2)中の単量体成分を重合し、硬化させて、基材フィルム上に厚み2.3μmの配向層を形成した。 A long cyclic olefin resin (COP) film (manufactured by Zeon Corporation) with a thickness of 20 μm was prepared as a base film, and the coating liquid for forming an alignment layer (2) was coated on one side of the base film using a bar coater. It was applied at. After applying heat treatment to the coated layer at a temperature of 80°C for 60 seconds, it was irradiated with ultraviolet light (UVB) at 220 mJ/ cm2 to polymerize the monomer components in the alignment layer forming coating liquid (2). This was then cured to form an alignment layer with a thickness of 2.3 μm on the base film.

液晶硬化層形成用の組成物として、光重合性ネマチック液晶化合物(メルク社製、RMM28B)20.0質量部と、光重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製、Irg-907)1.0質量部とを、溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート80.0質量部中に溶解させ、液晶層形成用塗工液(2)を調整した。 As a composition for forming a liquid crystal cured layer, 20.0 parts by mass of a photopolymerizable nematic liquid crystal compound (manufactured by Merck & Co., Ltd., RMM28B) and 1.0 parts by mass of Irgacure 907 (manufactured by BASF, Irg-907) as a photopolymerization initiator. parts were dissolved in 80.0 parts by mass of a solvent propylene glycol monomethyl ether acetate to prepare a liquid crystal layer forming coating liquid (2).

基材フィルム上に形成した配向層上に、液晶層形成用塗工液(2)を塗布し、塗布層に温度80℃で60秒間の熱処理を施した。その後、紫外線(UVB)を220mJ/cm照射し、光重合性ネマチック液晶化合物を重合硬化させて、配向層上に厚み0.7μmの第2液晶硬化層を形成した。これにより、基材フィルム上に、配向層及び第2液晶硬化層からなる第2位相差層が形成された第2積層体(A)を得た。第2位相差層は、ポジティブC層である。第2位相差層の厚みは3μmであった。 The liquid crystal layer forming coating liquid (2) was applied onto the alignment layer formed on the base film, and the applied layer was heat-treated at a temperature of 80° C. for 60 seconds. Thereafter, the photopolymerizable nematic liquid crystal compound was polymerized and cured by irradiating ultraviolet light (UVB) at 220 mJ/cm 2 to form a second liquid crystal cured layer with a thickness of 0.7 μm on the alignment layer. Thereby, a second laminate (A) was obtained in which a second retardation layer consisting of an alignment layer and a second liquid crystal cured layer was formed on the base film. The second retardation layer is a positive C layer. The thickness of the second retardation layer was 3 μm.

(基材フィルム付き位相差体(A)の作製)
第1積層体(A)と第2積層体(A)とを、第1位相差層側と第2位相差層側とが紫外線硬化型接着剤を介して対向するように積層した。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させて厚み1μmの接着剤層を形成し、基材フィルム付き位相差体(A)を作製した。
(Production of retardation material (A) with base film)
The first laminate (A) and the second laminate (A) were laminated so that the first retardation layer side and the second retardation layer side faced each other with an ultraviolet curable adhesive interposed therebetween. Next, the ultraviolet curable adhesive was cured by irradiation with ultraviolet rays to form an adhesive layer with a thickness of 1 μm, thereby producing a retardation material with a base film (A).

<水系接着剤の調製>
水100質量部に対し、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール(株式会社クラレ、商品名「KL-318」)を3質量部溶解し、その水溶液に水溶性エポキシ樹脂であるポリアミドエポキシ系添加剤(田岡化学工業株式会社、商品名「スミレーズレジン(登録商標)650(30)、固形分濃度30質量%の水溶液)を1.5質量部添加して、水系接着剤を調製した。
<Preparation of water-based adhesive>
Dissolve 3 parts by mass of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., trade name "KL-318") in 100 parts by mass of water, and add a polyamide epoxy additive (Taoka Chemical Co., Ltd.), which is a water-soluble epoxy resin, to the aqueous solution. A water-based adhesive was prepared by adding 1.5 parts by mass of Sumiraze Resin (registered trademark) 650 (30), an aqueous solution with a solid content concentration of 30% by mass, manufactured by Co., Ltd., under the trade name.

〔実施例1~7、比較例1~8〕
(偏光板の作製)
表1及び表2に示す偏光子及び保護フィルムを用い、偏光子の片面に上記で調製した水系接着剤を用いて保護フィルムを貼合し、水系接着剤を硬化させて接着剤層(貼合層)形成することにより、偏光板を作製した。保護フィルムが易接着層を有する場合、易接着層側が偏光子側となるように偏光子と保護フィルムとを積層した。作製した偏光板について、後述する手順で、破断伸度及び密着力を測定した。結果を表1及び表2に示す。
[Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 8]
(Preparation of polarizing plate)
Using the polarizer and protective film shown in Tables 1 and 2, the protective film is laminated on one side of the polarizer using the water-based adhesive prepared above, and the water-based adhesive is cured to form an adhesive layer (laminated). A polarizing plate was produced by forming a layer). When the protective film had an easily adhesive layer, the polarizer and the protective film were laminated so that the easily adhesive layer side was on the polarizer side. The elongation at break and adhesion of the produced polarizing plate were measured according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

(アクリル系粘着剤層aの作製)
アクリル酸ブチル/アクリル酸共重合体(アクリル酸ブチル及びアクリル酸を、質量比95:5の割合で用いて重合してなる、重量平均分子量200万、分子量分布(Mw/Mn)3.0の共重合体)100質量部に対し、多官能アクリレート系モノマー(トリス(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート(分子量:423、3官能型(東亜合成株式会社製、アロニックスM-315)を20部、光重合開始剤として(ベンゾフェノンと1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとの質量比1:1の混合物、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、イルガキュア500)を1.5質量部、架橋剤としてコロネートL(東ソー株式会社製)を1質量部、シランカップリング剤としてKBM-403(信越化学工業株式会社製)を0.2質量部配合し、粘着剤組成物の塗工溶液を調整した。剥離フィルム(厚み38μmポリエチレンテレフタレート製剥離フィルム、リンテック株式会社製、SP-PET3811)の離型処理面に、乾燥及び後述の紫外線照射後の厚みが5μmになるように上記塗工溶液をナイフ式塗工機で塗布した後、温度90℃で1分間乾燥処理して粘着剤組成物の層を形成した。この粘着剤組成物の層に、紫外線照射(照度600mW/cm、光量15mJ/cm、フュージョン社製無電極ランプ Hバルブ使用)を行い、アクリル系粘着剤層aを得た。紫外線照射の照度及び光量は、UV照度・光量計(アイグラフィックス社製、UVPF-36)を使用して求めた。
(Preparation of acrylic adhesive layer a)
Butyl acrylate/acrylic acid copolymer (polymerized using butyl acrylate and acrylic acid at a mass ratio of 95:5, weight average molecular weight 2 million, molecular weight distribution (Mw/Mn) 3.0) copolymer), 20 parts of a polyfunctional acrylate monomer (tris(acryloyloxyethyl) isocyanurate (molecular weight: 423, trifunctional type (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-315), 1.5 parts by mass of a polymerization initiator (a mixture of benzophenone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone in a mass ratio of 1:1, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 500), and Coronate L (Tosoh Corporation) as a crosslinking agent. A coating solution of the adhesive composition was prepared by blending 1 part by mass of KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent and 0.2 parts by mass of KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent. After applying the above coating solution to the release-treated surface of a terephthalate release film (manufactured by Lintec Corporation, SP-PET3811) using a knife-type coating machine so that the thickness after drying and irradiation with ultraviolet rays described below becomes 5 μm. A layer of the adhesive composition was formed by drying at a temperature of 90° C. for 1 minute.The layer of the adhesive composition was irradiated with ultraviolet light (illuminance 600 mW/cm 2 , light amount 15 mJ/cm 2 , electrodeless manufactured by Fusion). The acrylic adhesive layer a was obtained by using a lamp H bulb.The illuminance and light amount of ultraviolet irradiation were determined using a UV illuminance/photometer (manufactured by Eye Graphics, UVPF-36).

(光学積層体の作製)
上記で作製した偏光板と、基材フィルム付き位相差体(A)から2つの基材フィルムを剥離除去した位相差体とを含む光学積層体を作製した。光学積層体は、偏光板の保護フィルム側とは反対側に、上記で得たアクリル系粘着剤層aを介して位相差体が積層されたものであった。位相差体と偏光板とは、第1位相差層側が偏光子側となるように積層した。作製した光学積層体について、後述する手順で、耐衝撃性試験及び屈曲試験を行った。結果を表1及び表2に示す。
(Preparation of optical laminate)
An optical laminate containing the polarizing plate produced above and a retardation body obtained by peeling and removing two base films from the base film-attached retardation body (A) was produced. The optical laminate was one in which a retardation material was laminated on the opposite side of the polarizing plate from the protective film side via the acrylic adhesive layer a obtained above. The retardation body and the polarizing plate were laminated so that the first retardation layer side was on the polarizer side. The produced optical laminate was subjected to an impact resistance test and a bending test according to the procedure described below. The results are shown in Tables 1 and 2.

[偏光板の破断伸度の測定]
偏光子及び保護フィルムを有する偏光板について破断伸度を測定した。吸収軸方向の長さが100mm、透過軸方向の長さが25mmとなるように矩形状に偏光板を切り出した。標点距離を50mmとし、引張試験機(株式会社島津製作所製オートグラフAG-1S)を用いて、温度25℃、相対湿度55%の環境下で、引張速度を10mm/minとして、切り出した偏光板の吸収軸方向について180°引張試験を行って、吸収軸方向の破断伸度を測定した。
[Measurement of breaking elongation of polarizing plate]
The elongation at break was measured for a polarizing plate having a polarizer and a protective film. A polarizing plate was cut into a rectangular shape so that the length in the absorption axis direction was 100 mm and the length in the transmission axis direction was 25 mm. Polarized light was cut out using a tensile tester (Autograph AG-1S manufactured by Shimadzu Corporation) with a gauge length of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min in an environment of a temperature of 25°C and a relative humidity of 55%. A 180° tensile test was conducted in the absorption axis direction of the plate to measure the elongation at break in the absorption axis direction.

透過軸方向の長さが100mm、吸収軸方向の長さが25mmとなるように矩形状に偏光板を切り出した。標点距離を50mmとし、引張試験機(株式会社島津製作所製オートグラフAG-1S)を用いて、温度25℃、相対湿度55%の環境下で、引張速度を10mm/minとして、切り出した偏光板の透過軸方向について180°引張試験を行って、透過軸方向の破断伸度を測定した。 A rectangular polarizing plate was cut out so that the length in the transmission axis direction was 100 mm and the length in the absorption axis direction was 25 mm. Polarized light was cut out using a tensile tester (Autograph AG-1S manufactured by Shimadzu Corporation) with a gauge length of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min in an environment of a temperature of 25°C and a relative humidity of 55%. A 180° tensile test was performed on the plate in the transmission axis direction to measure the elongation at break in the transmission axis direction.

[偏光板の密着力の測定]
(アクリル系粘着剤層bの作製)
撹拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置及び窒素導入管を備えた反応容器に、アクリル酸n-ブチル97.0質量部、アクリル酸1.0質量部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル0.5質量部、酢酸エチル200質量部、及び2,2'-アゾビスイソブチロニトリル0.08質量部を仕込み、上記反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。窒素雰囲気下で撹拌しながら、反応溶液を60℃に昇温し、6時間反応させた後、室温まで冷却し、重量平均分子量180万の(メタ)アクリル酸エステル重合体を得た。この(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部(固形分換算値;以下同じ)と、イソシアネート系架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー株式会社製、コロネートL)0.30質量部と、シランカップリング剤としての3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、KBM403)0.30質量部とを混合し、十分に撹拌して、酢酸エチルで希釈することにより、粘着剤組成物の塗工溶液を得た。剥離フィルム(リンテック株式会社製、SP-PLR382190)の離型処理面に、アプリケーターにより、乾燥後の厚みが25μmとなるように上記塗工溶液を塗布した後、温度100℃で1分間乾燥することで、アクリル系粘着剤層bを得た。
[Measurement of adhesion of polarizing plate]
(Preparation of acrylic adhesive layer b)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen inlet tube, 97.0 parts by mass of n-butyl acrylate, 1.0 parts by mass of acrylic acid, and 0.0 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate were added. 5 parts by mass, 200 parts by mass of ethyl acetate, and 0.08 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile, and the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. The reaction solution was heated to 60° C. while stirring under a nitrogen atmosphere, reacted for 6 hours, and then cooled to room temperature to obtain a (meth)acrylic acid ester polymer having a weight average molecular weight of 1.8 million. 100 parts by mass of this (meth)acrylic acid ester polymer (solid content equivalent; the same applies hereinafter) and 0.30 parts by mass of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, Coronate L) as an isocyanate-based crosslinking agent. and 0.30 parts by mass of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM403) as a silane coupling agent, stirred thoroughly, and diluted with ethyl acetate. A coating solution of an adhesive composition was obtained. After applying the above coating solution to the release-treated surface of a release film (manufactured by Lintec Corporation, SP-PLR382190) using an applicator so that the thickness after drying is 25 μm, drying at a temperature of 100 ° C. for 1 minute. Thus, an acrylic adhesive layer b was obtained.

(密着力の測定)
吸収軸方向の長さが100mm、透過軸方向の長さが25mmとなるように矩形状に偏光板を切り出した。切り出した偏光板の偏光子側を、上記で得たアクリル系粘着剤層bを介して無アルカリガラスに圧着し、温度50℃、荷重5kgで20分間オートクレーブ処理した後、温度23℃、相対湿度60%RHの環境下で10時間静置した。その後、無アルカリガラスに圧着した偏光板の保護フィルムの端部を剥離し、引張り試験機〔株式会社島津製作所製“オートグラフAG-I”〕を用いて、温度25℃の環境下、引張速度を300m/minとして180°剥離試験を行った。
(Measurement of adhesion)
A polarizing plate was cut into a rectangular shape so that the length in the absorption axis direction was 100 mm and the length in the transmission axis direction was 25 mm. The polarizer side of the cut out polarizing plate was pressure-bonded to alkali-free glass via the acrylic adhesive layer b obtained above, and autoclaved at a temperature of 50°C and a load of 5 kg for 20 minutes, and then heated at a temperature of 23°C and relative humidity. It was left standing in an environment of 60% RH for 10 hours. After that, the edge of the protective film of the polarizing plate that was pressure-bonded to the alkali-free glass was peeled off, and using a tensile tester ["Autograph AG-I" manufactured by Shimadzu Corporation], it was tested at a tensile speed of 25°C. A 180° peel test was conducted at a speed of 300 m/min.

[光学積層体の耐衝撃性試験(ペンドロップ試験)]
スーパーカッターを用いて、吸収軸方向の長さが150mm、透過軸方向の長さが70mmとなるように矩形状に光学積層体を切り出した。切り出した光学積層体の位相差体側を、粘着剤層を介してアクリル板に貼合した。温度23℃、相対湿度55%RHの環境下で、アクリル板に貼合した光学積層体に対して、当該光学積層体の保護フィルムの最表面から5cmの高さにペン先が位置しかつペン先が下向きとなるように評価用ペンを保持し、その位置から評価用ペンを落下させた。評価用ペンとして、質量が11gであり、ペン先の直径が0.7mmのペンを用いた。評価用ペンを落下させた後の光学積層体について、目視での観察を行い、以下の基準で評価を行った。表1及び表2に評価結果を示す。
A:偏光子及び保護フィルムのいずれにも、割れ及び傷が発生していない。
B:偏光子には割れ及び傷が発生しておらず、保護フィルムに割れ又は傷が発生している。
C:偏光子に割れ又は傷が発生している。
[Impact resistance test of optical laminate (pen drop test)]
Using a super cutter, the optical laminate was cut into a rectangular shape having a length in the absorption axis direction of 150 mm and a length in the transmission axis direction of 70 mm. The retardation body side of the cut out optical laminate was bonded to an acrylic plate via an adhesive layer. In an environment with a temperature of 23° C. and a relative humidity of 55% RH, the pen tip was positioned at a height of 5 cm from the outermost surface of the protective film of the optical laminate against the optical laminate bonded to the acrylic board. The evaluation pen was held with the tip facing downward, and the evaluation pen was dropped from that position. As a pen for evaluation, a pen having a mass of 11 g and a pen tip diameter of 0.7 mm was used. After dropping the evaluation pen, the optical laminate was visually observed and evaluated based on the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
A: No cracks or scratches occurred on either the polarizer or the protective film.
B: No cracks or scratches occur on the polarizer, but cracks or scratches occur on the protective film.
C: Cracks or scratches have occurred in the polarizer.

[光学積層体の屈曲試験]
光学積層体を、屈曲評価設備(Science Town社製、STS-VRT-500)を用いて、温度25℃の環境下で、曲げに対する耐久性を確認する屈曲試験を行った。屈曲軸を決め、屈曲軸に沿って屈曲半径が1.5mmでかつ屈曲軸の両側の領域が平行となるように対向するまで、保護フィルム側を内側にして屈曲させ、その後屈曲を解放する動きを13万5千回繰り返して行った。屈曲評価(1)として、屈曲軸に沿って生じた剥がれを目視判定し、以下の基準で評価を行った。屈曲評価(2)として、屈曲軸に沿って生じたクラックの長さを測定し、以下の基準で評価を行った。
(屈曲評価(1))
AA:光学積層体の屈曲軸部分において、剥がれが発生していない。
A:光学積層体の屈曲軸部分において、点状の剥がれが発生している。
B:光学積層体の屈曲軸部分において、部分的に線状の剥がれが発生している。
C:光学積層体の屈曲軸部分において、全体に剥がれが発生している。
(屈曲評価(2))
A:光学積層体の屈曲軸部分に発生するクラックが1mm以下である。
B:光学積層体の屈曲軸部分に発生するクラックが1mm超5mm以下である。
C:光学積層体の屈曲軸部分に発生するクラック5mm超である。
[Bending test of optical laminate]
The optical laminate was subjected to a bending test to confirm its durability against bending in an environment at a temperature of 25° C. using bending evaluation equipment (STS-VRT-500, manufactured by Science Town). Determine the bending axis, bend it along the bending axis with the protective film side inward until the bending radius is 1.5 mm and the areas on both sides of the bending axis are parallel, and then release the bending. was repeated 135,000 times. As bending evaluation (1), peeling that occurred along the bending axis was visually judged and evaluated based on the following criteria. As bending evaluation (2), the length of a crack that occurred along the bending axis was measured, and the evaluation was performed based on the following criteria.
(Bending evaluation (1))
AA: No peeling occurred at the bending axis portion of the optical laminate.
A: Point-like peeling occurs at the bent axis portion of the optical laminate.
B: Partial linear peeling occurred at the bent axis portion of the optical laminate.
C: Peeling occurred throughout the bending axis portion of the optical laminate.
(Bending evaluation (2))
A: The crack that occurs in the bending axis portion of the optical laminate is 1 mm or less.
B: The crack that occurs in the bending axis portion of the optical laminate is more than 1 mm and less than 5 mm.
C: Cracks occurring in the bending axis portion of the optical laminate exceed 5 mm.

Figure 2023150316000005
Figure 2023150316000005

Figure 2023150316000006
Figure 2023150316000006

<基材フィルム付き位相差体(B)の準備>
(第1積層体(B)の作製)
基材フィルム上に第1位相差層が形成された第1積層体(B)を準備した。第1積層体(B)は、基材フィルム(シクロオレフィンポリマーフィルム)上に、配向層、及び液晶化合物が硬化した第1液晶層を有し、第1位相差層はλ/2位相差層である。第1積層体(B)は、特開2015-163935号公報の実施例2に記載の層B(B-1)の製造の手順で作製した。
<Preparation of retardation material with base film (B)>
(Preparation of first laminate (B))
A first laminate (B) in which a first retardation layer was formed on a base film was prepared. The first laminate (B) has an alignment layer and a first liquid crystal layer in which a liquid crystal compound is cured on a base film (cycloolefin polymer film), and the first retardation layer is a λ/2 retardation layer. It is. The first laminate (B) was produced using the procedure for manufacturing layer B (B-1) described in Example 2 of JP-A-2015-163935.

(第2積層体(B)の作製)
基材フィルム上に第2位相差層が形成された第2積層体(B)を準備した。第2積層体(B)は、基材フィルム(シクロオレフィンポリマーフィルム)に、配向層、及び液晶化合物が硬化した第2液晶層を有し、第2位相差層はλ/4位相差層である。第2積層体(B)は、特開2015-163935号公報の実施例2に記載の層A(A-1)の製造の手順で作製した。
(Preparation of second laminate (B))
A second laminate (B) in which a second retardation layer was formed on a base film was prepared. The second laminate (B) has a base film (cycloolefin polymer film), an alignment layer, and a second liquid crystal layer in which a liquid crystal compound is hardened, and the second retardation layer is a λ/4 retardation layer. be. The second laminate (B) was produced using the procedure for producing layer A (A-1) described in Example 2 of JP-A-2015-163935.

(紫外線硬化型接着剤の調製)
下記の成分を混合して、紫外線硬化型接着剤を得た。
・3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:CEL2021P、株式会社ダイセル製):70質量部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(商品名:EX-211、ナガセケムテックス株式会社製):20質量部
・2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(商品名:EX-121、ナガセケムテックス株式会社製):10質量部
・カチオン重合開始剤(商品名:CPI-100_50%溶液、サンアプロ株式会社製):4.5質量部(実質固形分2.25質量部)
・1,4-ジエトキシナフタレン:2質量部
(Preparation of ultraviolet curable adhesive)
The following components were mixed to obtain an ultraviolet curable adhesive.
・3',4'-Epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexane carboxylate (product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 70 parts by mass ・Neopentyl glycol diglycidyl ether (product name: EX-211, Nagasechem) (manufactured by Tex Corporation): 20 parts by mass 2-ethylhexyl glycidyl ether (trade name: EX-121, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 10 parts by mass / cationic polymerization initiator (trade name: CPI-100_50% solution, San-Apro Co., Ltd.): 4.5 parts by mass (substantially solid content 2.25 parts by mass)
・1,4-diethoxynaphthalene: 2 parts by mass

(基材フィルム付き位相差体(B)の作製)
第1積層体(B)と第2積層体(B)とを、第1位相差層側と第2位相差層側とが上記で調製した紫外線硬化型接着剤を介して対向するように積層した。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させて厚み1μmの接着剤層を形成し、基材フィルム付き位相差体(B)を作製した。
〔実施例8~14〕
基材フィルム付き位相差体(A)に代えて基材フィルム付き位相差体(B)を用いたこと以外は、実施例1~7と同様にして光学積層体を作製した。上記した手順で、光学積層体の耐衝撃性試験及び屈曲試験を行ったところ、実施例1~7の結果と変わらなかった。
(Production of retardation material (B) with base film)
The first laminate (B) and the second laminate (B) are laminated such that the first retardation layer side and the second retardation layer side face each other via the ultraviolet curable adhesive prepared above. did. Next, the ultraviolet curable adhesive was cured by irradiation with ultraviolet rays to form an adhesive layer with a thickness of 1 μm, thereby producing a retardation material with a base film (B).
[Examples 8 to 14]
Optical laminates were produced in the same manner as Examples 1 to 7, except that the retardation material with a base film (B) was used instead of the retardation material with a base film (A). When the optical laminate was subjected to an impact resistance test and a bending test using the above-described procedure, the results were the same as those of Examples 1 to 7.

1 偏光板、2 光学積層体、10 偏光子、11 測定フィルム付き台紙、12 測定フィルム、16 空隙部、17 糊付き台紙、18 外周、20 保護フィルム、21 基材層、22 易接着層、30 位相差体、31 第1位相差層、32 第2位相差層、33 第3貼合層、41 第1貼合層(貼合層)、42 第2貼合層。 1 polarizing plate, 2 optical laminate, 10 polarizer, 11 mount with measurement film, 12 measurement film, 16 void, 17 mount with adhesive, 18 outer periphery, 20 protective film, 21 base layer, 22 easily adhesive layer, 30 Retardation material, 31 first retardation layer, 32 second retardation layer, 33 third bonding layer, 41 first bonding layer (bonding layer), 42 second bonding layer.

Claims (9)

ポリビニルアルコール系樹脂及びホウ素を含有する偏光子と、保護フィルムと、を備える偏光板であって、
前記偏光子のホウ素含有量は、2.8質量%以上4.7質量%以下であり、
前記保護フィルムは、基材層と、前記基材層の前記偏光子側に積層された易接着層とを有し、
前記基材層の厚みは、30μm以下であり、
前記易接着層の厚みは、70nm以上800nm以下であり、
前記偏光板の温度25℃、相対湿度55%における吸収軸方向及び透過軸方向の破断伸度はいずれも、4.0%以上14.0%以下である、偏光板。
A polarizing plate comprising a polarizer containing a polyvinyl alcohol resin and boron, and a protective film,
The boron content of the polarizer is 2.8% by mass or more and 4.7% by mass or less,
The protective film has a base layer and an easily adhesive layer laminated on the polarizer side of the base layer,
The thickness of the base material layer is 30 μm or less,
The thickness of the easily adhesive layer is 70 nm or more and 800 nm or less,
The polarizing plate has a breaking elongation of 4.0% or more and 14.0% or less in both the absorption axis direction and the transmission axis direction at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55%.
前記偏光子の厚みは、12μm以下である、請求項1に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1, wherein the thickness of the polarizer is 12 μm or less. 前記保護フィルムの温度25℃、相対湿度55%における突刺し弾性率は、210g/mm以上550g/mm以下である、請求項1又は2に記載の偏光板。 The polarizing plate according to claim 1 or 2, wherein the protective film has a puncture elastic modulus of 210 g/mm or more and 550 g/mm or less at a temperature of 25° C. and a relative humidity of 55%. 前記基材層は、(メタ)アクリル系樹脂フィルムである、請求項1~3のいずれか1項に記載の偏光板。 The polarizing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the base layer is a (meth)acrylic resin film. 前記易接着層は、ウレタン系樹脂を含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の偏光板。 The polarizing plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the easily adhesive layer contains a urethane resin. 前記保護フィルムと前記偏光子とは、貼合層を介して積層されている、請求項1~5のいずれか1項に記載の偏光板。 The polarizing plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the protective film and the polarizer are laminated with a bonding layer interposed therebetween. 請求項1~6のいずれか1項に記載の偏光板と、位相差体と、粘着剤層とをこの順に備える光学積層体。 An optical laminate comprising the polarizing plate according to any one of claims 1 to 6, a retardation material, and an adhesive layer in this order. 前記偏光板は、前記偏光子の片面に前記保護フィルムを備え、
前記光学積層体は、前記偏光子の前記保護フィルム側とは反対側に、位相差体を備え、
前記位相差体は、液晶硬化層を含む、請求項7に記載の光学積層体。
The polarizing plate includes the protective film on one side of the polarizer,
The optical laminate includes a retardation member on a side of the polarizer opposite to the protective film side,
The optical laminate according to claim 7, wherein the retardation body includes a liquid crystal hardening layer.
請求項7又は8に記載の光学積層体を備えた表示装置。 A display device comprising the optical laminate according to claim 7 or 8.
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