JP2023133156A - 混合組成物及び積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】撥水コーティングのプライマー層形成用に適した組成物の保存安定性を向上させることを目的とする。【解決手段】本発明は、アミノ基又はアミン骨格と、メトキシ基とを含む有機ケイ素化合物（Ｃ）と、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（δＨ）と分散項（δＤ）との比率をδＨ／δＤとしたとき、δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅα）の混合組成物であって、前記混合組成物１００質量％に対する前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量が０．００１質量％以上、０．２５質量％未満である混合組成物である。【選択図】なし

Description

本発明は、混合組成物及び該混合組成物から積層された中間層を含む積層体に関する。

タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車や建物の窓ガラス等の種々の分野において、基材の表面に撥水性を付与することが求められている。そのため、様々な撥水コーティングを備えた部材が用いられている。

撥水性の皮膜は、通常、基材の上に形成して用いられ、撥水性皮膜形成用組成物を基材に塗布するに際しては、基材に予めプライマー層などの他の層を形成した後に、前記組成物を塗布して撥水コーティングを形成する場合がある。

例えば、特許文献１では、表面の少なくとも一部が有機材料からなる基材と、前記有機材料からなる表面上に設けられるプライマー層と、前記プライマー層上に設けられる防汚層と、を有する防汚性物品であって、前記プライマー層は、加水分解性シリル基と、反応性有機基とを有する第１のシラン化合物を用いて形成される層であることが記載されている。特許文献１の防汚性物品は、防汚性に優れると共に、該防汚性について耐摩耗性等の耐久性に優れることが開示されている。

ＷＯ２０１８／２０７８１１号

上記したようなプライマー層を形成するための組成物は、調整後に大気雰囲気下で一定期間保管した後に使用される場合があるが、保管後の組成物を用いてプライマー層を形成し、その上に撥水コーティングを形成すると良好な撥水性が発揮できないことがあり、プライマー形成用組成物の保存安定性が求められる。しかし、上記した特許文献１では、このような保存安定性については何ら検討されていない。

そこで、本発明は撥水コーティングのプライマー層形成用に適した組成物の保存安定性を向上させることを目的とする。

上記課題を達成した本発明は以下の通りである。
［１］アミノ基又はアミン骨格と、メトキシ基とを含む有機ケイ素化合物（Ｃ）と、
ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（δＨ）と分散項（δＤ）との比率をδＨ／δＤとしたとき、δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅ_α）の混合組成物であって、
前記混合組成物１００質量％に対する前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量が０．００１質量％以上、０．２５質量％未満である混合組成物。
［２］前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の一分子中、前記アミン骨格が２つ以上である［１］に記載の混合組成物。
［３］前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の一分子中、ケイ素原子が２つ以上である［１］又は［２］に記載の混合組成物。
［４］前記溶剤（Ｅ_α）は、一分子中に１以上のヒドロキシ基を有する［１］～［３］のいずれかに記載の混合組成物。
［５］前記混合組成物に含まれる全溶剤の合計１００質量％における前記溶剤（Ｅ_α）の割合が７５質量％以上である［１］～［４］のいずれかに記載の混合組成物。
［６］下記式（Ｅ．１）に基づいて算出される、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）と溶剤（Ｅ_α）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ１が３．０～２０．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である［１］～［５］のいずれかに記載の混合組成物。

式中、
δＤ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＤ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。
［７］前記溶剤（Ｅ_α）は、非フッ素型脂肪族モノアルコール（Ｅ_α1）と、非フッ素型脂肪族モノアルコール以外の溶剤（Ｅ_α2）を含み、下記式（Ｅ．２）で表される前記溶剤（Ｅ_α1）と前記溶剤（Ｅ_α2）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ２が４．０～１４．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である［１］～［６］のいずれかに記載の混合組成物。

式中、
δＤ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＤ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。
［８］前記溶剤（Ｅ_α）は、１気圧での沸点が１００℃以下の溶剤を含む［１］～［７］のいずれかに記載の混合組成物。
［９］前記溶剤（Ｅ_α）は、オクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０以上である溶剤（Ｅ_αO）と、オクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０未満である溶剤（Ｅ_αi）
を含む［１］～［８］のいずれかに記載の混合組成物。
［１０］溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値は６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上である［１］～［９］のいずれかに記載の混合組成物。
［１１］基材（ｓ）及び撥水層（ｒ）が、中間層（ｃ）を介して積層された積層体であって、
前記中間層（ｃ）が、［１］～［１０］のいずれかに記載の組成物から形成される層である積層体。

本発明によれば、保存安定性に優れた組成物を提供できる。

＜組成物＞
本発明の組成物は、アミノ基又はアミン骨格と、メトキシ基とを含む有機ケイ素化合物（Ｃ）と、ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（δＨ）と分散項（δＤ）との比率をδＨ／δＤとしたとき、δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅ_α）の混合組成物であって、前記混合組成物１００質量％に対する前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量が０．００１質量％以上、０．２５質量％未満であることを特徴とする。なお、本発明には、上記成分を混合した後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。有機ケイ素化合物（Ｃ）、溶剤（Ｅ_α）について、以下に順に説明する。

１．有機ケイ素化合物（Ｃ）
有機ケイ素化合物（Ｃ）は、アミノ基又はアミン骨格と、メトキシ基とを含む有機ケイ素化合物である。本発明の組成物に有機ケイ素化合物（Ｃ）が混合されていることにより、該組成物から形成される中間層（ｃ）は、後述する積層体における撥水層（ｒ）のプライマー層として機能することができる。そのため、後述する積層体において、撥水層（ｒ）の基材（ｓ）への密着性が良好となり、その結果積層体の耐摩耗性を向上することもできる。

本発明の組成物に混合される有機ケイ素化合物（Ｃ）としては１種でもよいし、２種以上でもよい。有機ケイ素化合物（Ｃ）中には、アミノ基及びアミン骨格の少なくとも一方が含まれており、いずれも含まれていてもよく、少なくともアミン骨格が含まれていることがより好ましく、アミン骨格が含まれておりアミノ基が含まれていないことが更に好ましい。前記アミン骨格とは、－ＮＲ¹⁰－で表され、Ｒ¹⁰は水素又はアルキル基である。Ｒ¹⁰は水素又は炭素数１～５のアルキル基であることが好ましい。また有機ケイ素化合物（Ｃ）中に複数個のアミン骨格が含まれる場合、複数のアミン骨格は同一であってもよいし、異なっていてもよい。有機ケイ素化合物（Ｃ）の一分子中、前記アミン骨格は２つ以上であることが好ましく、通常５つ以下であり、４つ以下であることが好ましく、特に２つであることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ）が有するケイ素原子は、一分子中２つ以上であることが好ましく、通常５つ以下であり、４つ以下であることが好ましく、３つ以下であることがより好ましく、特に２つであることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ）一分子中における少なくとも１つのケイ素原子には、１つのメトキシ基と共に、更に加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ１）と呼ぶ）が結合していることが好ましい。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基（ｈ１）は、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが好ましい。有機ケイ素化合物（Ｃ）中の反応性基（ｈ１）が複数存在する場合には、複数の反応性基（ｈ１）は同一であってもよいし、互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ）は、下記式（ｃ１）又は下記式（ｃ２）で表される化合物であることが好ましい。

１－１．下記式（ｃ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ１））

上記式（ｃ１）中、
Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ¹¹は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ¹¹の少なくとも１つはメトキシ基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ¹¹は、－ＮＨ－、又は－Ｓ－であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｚ¹¹は、ビニル基、α－メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
ｐ１は、１～２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｐ５は、０～１０の整数であり、
ｐ６は、１～３の整数であり、
Ｚ¹¹がアミノ基でない場合は－ＮＨ－であるＹ¹¹を少なくとも１つ有し、Ｙ¹¹が全て－Ｓ－である場合又はｐ５が０である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
Ｚ¹¹－、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6、ｐ１個の－｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝－単位（Ｕ_c11）、ｐ２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝－単位（Ｕ_c12）、ｐ３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝－単位（Ｕ_c13）、ｐ４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝－単位（Ｕ_c14）、ｐ５個の－Ｙ¹¹－単位（Ｕ_c15）は、Ｚ¹¹－が式（ｃ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ｘ¹¹）_p6（Ｒ^x15）_3-p6が他方の末端となり、－Ｏ－が－Ｏ－と連結しない限り、それぞれの単位（Ｕ_c11）～単位（Ｕ_c15）が任意の順で並んで結合する。

Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、及びＲ^x14は、水素原子であることが好ましい。

Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、及びＲｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

Ｒ^x15は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。

Ｘ¹¹の１つはメトキシ基である。残りのＸ¹¹はアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。全てのＸ¹¹がメトキシ基であることが特に好ましい。

Ｙ¹¹は、－ＮＨ－であることが好ましい。

Ｚ¹¹は、メタクリロイル基、アクリロイル基、メルカプト基又はアミノ基であることが好ましく、メルカプト基又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が特に好ましい。

ｐ１は１～１５が好ましく、より好ましくは２～１０である。ｐ２、ｐ３及びｐ４は、それぞれ独立して、０～５が好ましく、より好ましくは全て０～２である。ｐ５は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３、更に好ましくは０である。ｐ６は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、上記式（ｃ１）において、Ｒ^x11及びＲ^x12がいずれも水素原子であり、Ｙ¹¹が－ＮＨ－であり、Ｘ¹¹の１つがメトキシ基であり、残りのＸ¹¹がアルコキシ基又はヒドロキシ基（残りのＸ¹¹がメトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、全てのＸ¹¹がメトキシ基であることがより好ましい）であり、Ｚ¹¹がアミノ基又はメルカプト基であり、ｐ１が１～１０であり、ｐ２、ｐ３及びｐ４がいずれも０であり、ｐ５が０～５（特に０）であり、ｐ６が３である化合物を用いることが好ましい。

なお、ｐ１個の単位（Ｕ_c11）は、単位（Ｕ_c11）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｐ１個であればよい。ｐ２～ｐ５で括られる単位（Ｕ_c12）～単位（Ｕ_c15）についても同様である。

有機ケイ素化合物（Ｃ１）は、下記式（ｃ１－２）で表されることが好ましい。

上記式（ｃ１－２）中、
Ｘ¹²は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ¹²の少なくとも１つはメトキシ基であり、Ｘ¹²が複数存在する場合は複数のＸ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ¹²は、－ＮＨ－であり、
Ｚ¹²は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
Ｒ^x16は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x16が複数存在する場合は複数のＲ^x16がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐは、１～３の整数であり、ｑは２～５の整数であり、ｒは０～５の整数であり、ｓは０又は１であり、
ｓが０である場合は、Ｚ¹²はアミノ基である。

Ｘ¹²の１つはメトキシ基であり、残りのＸ¹²は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数が１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。全てのＸ¹²がメトキシ基であることが好ましい。

Ｚ¹²は、アミノ基であることが好ましい。

Ｒ^x16は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。

ｐは、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

ｓが１である場合にはｑが２～３の整数であり、ｒが２～４の整数であることが好ましく、ｓが０である場合には、ｑとｒの合計が１～５であることが好ましい。ｓが０であって、ｑとｒの合計が１～５であることが特に好ましい。

１－２．下記式（ｃ２）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ２））

上記式（ｃ２）中、
Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹の少なくとも１つはメトキシ基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ２０は、１～３０の整数であり、ｐ２１は、０～３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１～３の整数であり、
ｐ２０個の－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝－単位（Ｕ_c21）、ｐ２１個の－｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝－単位（Ｕ_c22）は、ｐ２０個の単位（Ｕ_c21）又はｐ２１個の単位（Ｕ_c22）が連続である必要はなく、それぞれの単位（Ｕ_c21）及び単位（Ｕ_c22）が任意の順で並んで結合し、式（ｃ２）で表される化合物の一方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²⁰）_p22（Ｒ^x22）_3-p22となり、他方の末端が－Ｓｉ（Ｘ²¹）_p23（Ｒ^x23）_3-p23となる。

Ｒ^x20及びＲ^x21は、水素原子であることが好ましい。

Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

Ｒ^x22及びＲ^x23は、炭素数が１～５のアルキル基であることが好ましい。

Ｘ²⁰及びＸ²¹の１つはメトキシ基であり、残りのＸ²⁰及びＸ²¹は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。全てのＸ²⁰及びＸ²¹がメトキシ基であることが最も好ましい。

アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、上記の通り分子内に少なくとも１つ存在すればよく、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位のいずれかが前記アミン骨格に置き換わっていればよいが、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位の一部であることが好ましい。前記アミン骨格は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることが更に好ましく、２～４であることが特に好ましく、２であることが最も好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間に－｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝_p200－を有することが好ましく、ｐ２００は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。ｐ２００は、ｐ２０の総数に含まれる。

アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－において、Ｒ¹⁰⁰がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、－ＮＨ－（Ｒ¹⁰⁰が水素原子）であることが好ましい。

ｐ２０は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、１～１５が好ましく、より好ましくは１～１０である。

ｐ２１は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。

ｐ２２及びｐ２３は、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

有機ケイ素化合物（Ｃ２）としては、上記式（ｃ２）において、Ｒ^x20及びＲ^x21がいずれも水素原子であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹の１つがメトキシ基であって、残りのＸ²⁰及びＸ²¹がアルコキシ基又はヒドロキシ基（特にメトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基）であり（全てのＸ²⁰及びＸ²¹がメトキシ基であることが最も好ましい）、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位が、少なくとも１つアミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており（アミン骨格に置き換わった数、すなわちアミン骨格の数は２以上、４以下が好ましく、特に２が好ましい）、Ｒ¹⁰⁰が水素原子であり、ｐ２０が１～１０であり（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０であり、ｐ２２及びｐ２３が３である化合物を用いることが好ましい。

なお、後記する実施例で化合物（Ｃ）として用いる、特開２０１２－１９７３３０号公報に記載のＮ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ－１２－５２６３ＨＰ、信越化学工業（株）製）を上記式（ｃ２）で表すと、Ｒ^x20及びＲ^x21がいずれも水素原子、ｐ２０が８（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０、アミン骨格が２つ（いずれもＲ¹⁰⁰が水素原子）、両末端が同一で、ｐ２２及びｐ２３が３でＸ²⁰及びＸ²¹がメトキシ基である。

有機ケイ素化合物（Ｃ２）は、下記式（ｃ２－２）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（ｃ２－２）中、
Ｘ²²及びＸ²³は、それぞれ独立して、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ｘ²²及びＸ²³の少なくとも１つはメトキシ基であり、Ｘ²²及びＸ²³が複数存在する場合は複数のＸ²²及びＸ²³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x24及びＲ^x25は、それぞれ独立して、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^x24及びＲ^x25が複数存在する場合は複数のＲ^x24及びＲ^x25がそれぞれ異なっていてもよく、
－Ｃ_wＨ_2w－は、その一部のメチレン基の少なくとも１つがアミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－に置き換わっており、Ｒ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
ｗは１～３０の整数であり（ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く）、
ｐ２４及びｐ２５は、それぞれ独立して、１～３の整数である。

Ｘ²²及びＸ²³の１つはメトキシ基であり、その他のＸ²²及びＸ²³は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、イソシアネート基、又はヒドロキシ基であることが好ましく、アルコキシ基又はヒドロキシ基であることがより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基又はヒドロキシ基であることが更に好ましく、メトキシ基、エトキシ基、又はヒドロキシ基であることが特に好ましい。全てのＸ²²及びＸ²³がメトキシ基であることが最も好ましい。

アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、２～５であることが更に好ましく、２～４であることが特に好ましく、２であることが最も好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましい。前記アルキレン基の炭素数は、１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、ｗの総数に含まれる。

アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－において、Ｒ¹⁰⁰がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格－ＮＲ¹⁰⁰－は、－ＮＨ－（Ｒ¹⁰⁰が水素原子）であることが好ましい。

Ｒ^x24及びＲ^x25は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましい。

ｐ２４及びｐ２５は、２～３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

ｗは、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましい。

本発明の混合組成物１００質量％中、有機ケイ素化合物（Ｃ）は０．００１質量％以上、０．２５質量％未満である。このような範囲とすることによって、混合組成物の保存安定性が向上する。有機ケイ素化合物（Ｃ）は、０．００５質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０１質量％以上であり、更に好ましくは０．０３質量％以上であり、また０．２０質量％以下が好ましく、より好ましくは０．１５質量％以下であり、更に好ましくは０．１質量％未満である。混合組成物１００質量％中の有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、特に０．０３質量％以上、０．１質量％未満であることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の調製時に調整できる。前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。組成物の分析結果から特定する方法としては、例えば、組成物に含まれる各化合物の種類をガスクロマトグラフィー質量分析法や液体クロマトグラフィー質量分析法等により分析し、得られた分析結果をライブラリ検索することで特定し、また組成物に含まれる各化合物の量を、検量線法を用いて上記分析結果から算出する方法を挙げることができる。なお、本明細書において、各成分の量や質量比の範囲を記載している場合、該範囲は、組成物の調製時に調整できる。

本発明の組成物は、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）、並びにδＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（後述する溶剤（Ｅ_α））が混合された組成物である。本発明の組成物は、有機ケイ素化合物（Ｃ）、溶剤（Ｅ_α）を混合することにより得られ、上記成分以外の成分が混合されている場合は、有機ケイ素化合物（Ｃ）、溶剤（Ｅ_α）と、他の成分を混合することにより得られる。本発明の組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、例えば、前記組成物が、好ましい態様における上記有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物を含むことが挙げられる。また、組成物の保管中に反応が進んだ例としては、前記組成物が、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、例えば、好ましい態様における有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

２．δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅ_α）
ハンセン（Hansen）溶解度パラメータは、ヒルデブランド（Hildebrand）によって導入された溶解度パラメータを、分散項（δＤ），極性項（δＰ），水素結合項（δＨ）の３成分に分割し、３次元空間に表したものである。分散項（δＤ）は分散力による効果、極性項（δＰ）は双極子間力による効果、水素結合項（δＨ）は水素結合力の効果を示す。

なお、ハンセン溶解度パラメータの定義と計算は、Charles M.Hansen著、Hansen Solubility Parameters: A Users Handbook（ＣＲＣプレス，２００７年）に記載されている。また、コンピュータソフトウエアHansen Solubility Parameters in Practice（ＨＳＰｉＰ）を用いることにより、文献値等が知られていない化合物に関しても、その化学構造から簡便にハンセン溶解度パラメータを推算することができる。さらに、文献値等が知られていない化合物については、後述の溶解球法を用いることによっても、ハンセン溶解度パラメータを算出することが可能である。本発明では、溶剤のハンセン溶解度パラメータを決定する際、ＨＳＰｉＰバージョン５．２．０５を用いて、データベースに登録されている溶剤に関しては登録されたハンセン溶解度パラメータの値を用い、登録されていない溶剤に関しては後述の溶解球法を用いることによりハンセン溶解度パラメータを算出する。

溶解球法とは、目的物のハンセン溶解度パラメータを算出する方法であって、目的物を、ハンセン溶解度パラメータが確定している数多くの異なる溶剤に溶解又は分散させて、目的物の特定の溶剤に対する溶解性又は分散性を評価する溶解度試験によって決定され得る。溶解度試験に用いる溶剤の種類は、各溶剤のＨＳＰの分散項、極性項及び水素結合項の合計の値が、溶剤間で幅広く異なるように選ばれることが好ましく、より具体的には、好ましくは１０種以上、より好ましくは１５種以上、更に好ましくは１７種以上の溶剤を用いて評価することが好ましい。具体的には、上記溶解度試験に用いた溶剤のうち、目的物を溶解又は分散した溶剤の３次元上の点をすべて球の内側に内包し、溶解又は分散しない溶剤の点は球の外側になるような球であり、且つ半径が最小となる球（溶解度球）を探し出し、その球の中心座標を目的物のハンセン溶解度パラメータとする。溶解性及び分散性の評価は、それぞれ対象とする目的物が溶剤に溶解したか否か及び分散したか否かを目視で判定して行う。溶解度試験の具体的な方法については、実施例の欄で詳述する。

例えば、目的物のハンセン溶解度パラメータの測定に用いられなかったある別の溶剤のハンセン溶解度パラメータが（δｄ，δｐ，δｈ）であった場合、その座標で示される点が目的物の溶解度球の内側に内包されれば、その溶剤は、目的物を溶解又は分散すると考えられる。一方、その座標点が目的物の溶解度球の外側にあれば、この溶剤は目的物を溶解又は分散することができないと考えられる。

本発明では、溶剤のハンセン溶解度パラメータにおいて、水素結合項（δＨ）と分散項（δＤ）との比率：δＨ／δＤが０．４１以上の溶剤（Ｅ_α）を含むことが重要である。本発明の組成物が溶剤（Ｅ_α）を含むことにより、混合組成物の保存安定性が良好となる。有機ケイ素化合物（Ｃ）はメトキシ基を有しており、また特に、有機ケイ素化合物（Ｃ）の少なくとも１つのケイ素原子にメトキシ基と共に前記反応性基（ｈ１）が結合する好ましい態様においては、組成物の保存中に、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基同士の縮合反応が進行することが、組成物の保存安定性の劣化を加速させる一因であると考えられている。しかし、本発明の組成物が、溶剤（Ｅ_α）を含むことにより、このような縮合反応等を抑制できるためか、組成物の保存安定性が一層向上する一因となることが考えられる。なお本明細書において、溶剤とは室温で液体である化合物を指す。

溶剤（Ｅ_α）は、一分子中に１以上のヒドロキシ基を有することが好ましく、ヒドロキシ基数の上限は、例えば３以下であり、２以下であることが好ましい。

溶剤（Ｅ_α）としては、前記比率：δＨ／δＤが０．４１以上の１種の溶剤を用いてもよいし、前記比率：δＨ／δＤがそれぞれ０．４１以上の２種以上の溶剤を用いてもよい。前記比率：δＨ／δＤは、０．５以上が好ましく、より好ましくは０．７以上であり、更に好ましくは０．９以上であり、また上限は特に限定されないが、例えば１．７以下であってもよいし、１．３以下であってもよい。

溶剤（Ｅ_α）としては、具体的に、
メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール（イソプロピルアルコール）、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコール、ｎ―アミルアルコール等の脂肪族モノアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオール等の脂肪族ジオール、ベンジルアルコール等の芳香族アルコールを含む非フッ素型アルコール系溶剤；
ジアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－２－ブタノン、メチル－２－ヒドロキシイソブチレート、４－ヒドロキシ－４－メチルペンタン－２－オン、メチル－（Ｒ）－（－）－３－ヒドロキシブチレート等のヒドロキシケトン（ケトール）系溶剤；
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７－ドデカフルオロ－１－ヘプタノール、パーフルオロオクチルエタノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３－テトラフルオロ－1－プロパノール、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－１－ペンタノール、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１－ノナオール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－トリデカフルオロ－１－ｎ－オクタノール、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ノナフルオロ－１－ヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロ－１－ブタノール等の含フッ素型アルコール系溶剤；
アセトン等のケトン系溶剤；
テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤；
３－メトキシ－１－プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール等のエーテルアルコール系溶剤；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエーテルエステル系溶剤；
ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物系溶剤；
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルラクトアミド等の窒素化合物系溶剤；等の溶剤が挙げられる。
なお、本明細書において、非フッ素型アルコール系溶剤とは、フッ素原子を有さないアルコール系溶剤を指し、含フッ素型アルコール系溶剤とは、フッ素原子を１つ以上有するアルコール系溶剤を指す。

溶剤（Ｅ_α）は、本発明の混合組成物１００質量％中、７５質量％以上が好ましく、より好ましくは８５質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上であり、また上限は通常１００質量％未満である。

溶剤（Ｅ_α）と、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）とのハンセン溶解度パラメータの距離を所定範囲にすることも好ましく、このようにすることで前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の溶解性を向上できる。具体的には、下記式（Ｅ．１）に基づいて算出される、溶剤（Ｅ_α）と有機ケイ素化合物（Ｃ）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ１が３．０～２０．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5であることが好ましい。Ｒａ１は、好ましくは７．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上である。

式中、
δＤ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＤ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。

なお、溶剤（Ｅ_α）及び有機ケイ素化合物（Ｃ）の少なくとも一方が複数種で構成される場合には、上記Ｒａ１の算出に際しては、溶剤（Ｅ_α）の１種及び有機ケイ素化合物（Ｃ）の１種の全ての組み合わせにおいて、上記Ｒａ１の要件を満たすことが好ましい。

溶剤（Ｅ_α）は、１気圧での沸点が１００℃以下である溶剤（Ｅ_αL）を含むことが好ましく、１気圧での沸点が１００℃以下である溶剤（Ｅ_αL）と、１気圧での沸点が１００℃超である溶剤（Ｅ_αH）とを含むことがより好ましい。溶剤（Ｅ_α）が、溶剤（Ｅ_αL）と溶剤（Ｅ_αH）とを含むことにより、製膜安定性が向上し、本発明の組成物を撥水層のプライマー層として用いた積層体の耐摩耗性（特にスチールウール耐摩耗性）を向上できる。溶剤（Ｅ_αL）の沸点（１気圧）は９０℃以下が好ましく、８５℃以下がより好ましく、下限は特に限定されないが、例えば６５℃以上である。また、溶剤（Ｅ_αH）の沸点（１気圧）は１２０℃以上が好ましく、１５０℃以上がより好ましく、上限は特に限定されないが、例えば２５０℃以下である。

溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値は６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上であることが好ましく、溶剤（Ｅ_α）が２種以上の溶剤で構成される場合には、いずれの溶剤（Ｅ_α）についてもδＰの値が６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上であることが好ましい。溶剤（Ｅ_α）は、ハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値が８．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上の溶剤を含むことが好ましく、ハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値が８．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上の溶剤と、ハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値が６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上８．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5未満の溶剤を共に含むことがより好ましい。このようにすることで、耐摩耗性（特に、後述の実施例で示すスチールウール試験機を用いた耐摩耗性）を向上できる。

溶剤（Ｅ_α）はオクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０以上である溶剤（Ｅ_αO）と、オクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０未満である溶剤（Ｅ_αi）を含むことが好ましい。溶剤（Ｅ_αO）のＣｌｏｇＰ値は０．０５以上であることが好ましく、上限は例えば０．２以下であってもよい。溶剤（Ｅ_αi）のＣｌｏｇＰ値は－０．５以下がより好ましく、より好ましくは－１．０以下であり、下限は例えば－２．０以上であってもよい。２種以上の溶剤のＣｌｏｇＰ値を前記範囲とすることによって、脂溶性の官能基と、水溶性の官能基の両方の溶剤への溶解性が向上し、保存安定性を向上することができる。
なお、ＣｌｏｇＰ値は、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｓｏｆｔ社のＣｈｅｍＰｒｏｐ／ＬｏｇＰという手法を用いて算出された、ＣｈｅｍＤｒａｗ１９．１のデータベースに格納されている値を用いることができる。

前記溶剤（Ｅ_α）は、非フッ素型脂肪族モノアルコール（Ｅ_α1）と、非フッ素型脂肪族モノアルコール以外の溶剤（Ｅ_α2）を含み、下記式（Ｅ．２）で表される前記溶剤（Ｅ_α1）と前記溶剤（Ｅ_α2）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ２が４．０～１４．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5であることが好ましい。前記Ｒａ２は６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上であることがより好ましい。

式中、
δＤ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＤ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＰ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
δＨ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。

なお、溶剤（Ｅ_α1）及び溶剤（Ｅ_α2）は、それぞれ１種であってもよいし、複数種であってもよく、溶剤（Ｅ_α1）及び溶剤（Ｅ_α2）の少なくとも一方が複数種の溶媒で構成されるとき、上記Ｒａ２の算出に際しては、溶剤（Ｅ_α1）の１種及び溶剤（Ｅ_α2）の１種の全ての組み合わせにおいて、上記Ｒａ２の要件を満たすことが好ましい。

溶剤（Ｅ_α）が、溶剤（Ｅ_α1）及び溶剤（Ｅ_α2）を含む場合、溶剤（Ｅ_α1）の量に対する溶剤（Ｅ_α2）の量の質量比（Ｅ_α2／Ｅ_α1）は、０．０５％以下であることが好ましい。Ｅ_α2／Ｅ_α1の比率が大きくなると、初期の消しゴム耐摩耗性、及び保存安定性がともに低下する傾向がある。Ｅ_α2／Ｅ_α1の下限は、例えば０．０１％以上であってもよい。

また、溶剤（Ｅ_α）が、溶剤（Ｅ_α1）及び溶剤（Ｅ_α2）を含む場合、本発明の組成物１００質量％に対する溶剤（Ｅ_α1）の量は、９９．５質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９９．６質量％以上であり、更に好ましくは９９．７質量％以上であり、上限は特に限定されないが例えば９９．９９質量％以下であってもよい。

溶剤（Ｅ_α）は、少なくとも非フッ素型アルコール系溶剤を含むことが好ましく、非フッ素型アルコール系溶剤と共に、ヒドロキシケトン系溶剤、窒素化合物系溶剤、エーテルアルコール系溶剤、硫黄化合物系溶剤及びケトン系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことも好ましく、溶剤（Ｅ_α）が非フッ素型アルコール系溶剤であること、又は非フッ素型アルコール系溶剤と、ヒドロキシケトン系溶剤、窒素化合物系溶剤、硫黄化合物系溶剤及びケトン系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種の混合溶剤であることがより好ましい。前記混合溶剤において、ヒドロキシケトン系溶剤は４－ヒドロキシー２－ブタノン又はメチル－（Ｒ）－（－）－３－ヒドロキシブチレートでることが好ましく、窒素化合物系溶剤はジメチルホルムアミドであることが好ましく、硫黄化合物系溶剤はジメチルスルホキシドであることが好ましく、ケトン系溶剤はアセトンであることが好ましい。

非フッ素型アルコール系溶剤の中でも、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブチルアルコール等のアルキルアルコールが好ましく、炭素数１～３のアルキルアルコールがより好ましく、イソプロパノールが特に好ましい。

溶剤（Ｅ_α）が非フッ素型アルコール系溶剤及びヒドロキシケトン系溶剤を含む場合、両溶剤の合計１００質量％に対する非フッ素型アルコール系溶剤の割合は、９０質量％以上が好ましく、より好ましくは９５質量％以上であり、更に好ましくは９８質量％以上であり、また９９．９９質量％以下であってもよい。

本発明の混合組成物の溶剤は、溶剤（Ｅ_α）のみで構成されていてもよいし、溶剤（Ｅ_α）以外の溶剤（例えば比率：δＨ／δＤが０．４１未満である溶剤（Ｅ_β））を含んでいてもよく、混合組成物に含まれる全ての溶剤の合計１００質量％における溶剤（Ｅ_α）の割合は、７５質量％以上が好ましく、より好ましくは８５質量％以上であり、更に好ましくは９５質量％以上である。

有機ケイ素化合物（Ｃ）の量に対する溶剤（Ｅ_α）の量は、３００質量倍以上であることが好ましく、より好ましくは５００質量倍以上であり、更に好ましくは１０００質量倍以上であり、また１００，０００質量倍以下であってもよいし、５０，０００質量倍以下であってもよいし、１０，０００質量倍以下であってもよいし、５，０００質量倍以下であってもよい。

本発明の組成物の全体を１００質量％としたときの、有機ケイ素化合物（Ｃ）、溶剤（Ｅ_α）の合計量は、９０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは９８質量％以上であり、また１００質量％であってもよい。

本発明の組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量は、本発明の混合組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。

本発明の組成物は、プライマー層用組成物であることが好ましく、基材と撥水層の間である中間層用の組成物として用いることができ、本発明の組成物は撥水成分（特に、後述する有機ケイ素化合物（Ａ））を含まないことが好ましい。本発明の組成物（以下、中間層形成用組成物という場合がある。）は保存安定性に優れている。また、本発明の一態様によれば、調製直後の中間層形成用組成物を用いて得られる積層体であっても、調製後に保存した後の中間層形成用組成物を用いて得られる積層体であっても、撥水性が良好なままである。以下、本発明の中間層形成用組成物から形成される中間層を含む積層体について説明する。

＜積層体＞
本発明の積層体は、基材（ｓ）及び撥水層（ｒ）が、中間層（ｃ）を介して積層された積層体であって、前記中間層（ｃ）は、本発明の組成物から形成される層であることを特徴とする。本発明の積層体は、撥水性が良好である。本発明の積層体において、中間層（ｃ）と撥水層（ｒ）とは直接積層されていることが好ましい。また基材（ｓ）と中間層（ｃ）は直接積層されていてもよいし、基材（ｓ）と中間層（ｃ）の間に、後記する層（Ｘ）のような基材（ｓ）及び中間層（ｃ）とは異なる層が設けられていてもよいが、基材（ｓ）と中間層（ｃ）の間に異なる層が設けられていることが好ましい。

１．基材（ｓ）
基材（ｓ）の材質は特に限定されず、有機系材料、無機系材料のいずれでもよく、また基材の形状は平面、曲面のいずれであってもよいし、これらが組み合わさった形状でもよい。有機系材料としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート等）、スチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等）、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、及びこれら共重合体などの熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。無機系材料としては、鉄、シリコン、銅、亜鉛、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、ランタン等の金属、これらの金属酸化物、又はこれら金属を含む合金、セラミックス、ガラスなどが挙げられる。この中でも特に、有機系材料が好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、及びウレタン樹脂の少なくとも１種がより好ましく、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂がさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。

基材（ｓ）には、無機粒子、有機粒子、ゴム粒子を分散させることも好ましく、また顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。

基材（ｓ）の厚みは、例えば５μｍ以上であり、１０μｍ以上が好ましく、より好ましくは２０μｍ以上、更に好ましくは３０μｍ以上であり、５００μｍ以下であってよく、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは６０μｍ以下である。

２．層（Ｘ）
本発明の積層体において、基材（ｓ）と中間層（ｃ）との間に、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）とは異なる層（Ｘ）が設けられていることが好ましい。層（Ｘ）としては、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂よりなる群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層が挙げられる。前記活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。前記活性エネルギー線硬化型樹脂には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂（ポリエチレン、塩化ビニル系樹脂など）、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、ビニルエーテル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型樹脂や、電子線硬化型樹脂が含まれ、特に紫外線硬化型樹脂が好ましい。群（Ｘ１）としては、特にアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノール系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。また、層（Ｘ）としては、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウム酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、ランタン酸化物、及びＳｉＯ₂よりなる群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を挙げることもできる。層（Ｘ）の厚みは、例えば０．１ｎｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは１ｎｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上１０μｍ以下である。

２－１．ハードコート層（ｈｃ）
層（Ｘ）が、前記群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（Ｘ）は表面硬度を有するハードコート層（ｈｃ）として機能することができ、基材（ｓ）に耐擦傷性を付与することができる。ハードコート層（ｈｃ）の硬度は通常、鉛筆硬度でＢ以上であり、好ましくはＨＢ以上、さらに好ましくはＨ以上、ことさら好ましくは２Ｈ以上である。層（Ｘ）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、すなわち層（Ｘ）がハードコート層の機能を有する場合、ハードコート層（ｈｃ）は単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。ハードコート層（ｈｃ）は、例えば前記した紫外線硬化型樹脂を含むことが好ましく、特にアクリル系樹脂又はシリコーン系樹脂を含むことが好ましく、高硬度を発現するためには、アクリル系樹脂を含むことが好ましい。また、上記中間層（ｃ）を介した撥水層（ｒ）との密着性が良好となる傾向が見られることから、エポキシ系樹脂を含むことも好ましい。なお、群（Ｘ１）を構成する活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂を形成する具体的な方法については、後述の表示装置の欄で説明する。

層（Ｘ）がハードコート層（ｈｃ）を含む場合、ハードコート層（ｈｃ）は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。添加剤としては、紫外線吸収剤、シリカ、アルミナ等の金属酸化物、ポリオルガノシロキサン等の無機フィラーを挙げることができる。無機フィラーを含むことによって、上記中間層（ｃ）を介した上記撥水層（ｒ）との密着性を向上できる。ハードコート層（ｈｃ）の厚みは、例えば１μｍ以上が好ましく、より好ましくは１．２μｍ以上であり、更に好ましくは１．４μｍ以上であり、また１００μｍ以下が好ましく、より好ましくは５０μｍ以下であり、更に好ましくは２０μｍ以下であり、一層好ましくは１０μｍ以下である。前記ハードコート層（ｈｃ）の厚みが１μｍ以上の場合、十分な耐擦傷性を確保することができ、１００μｍ以下の場合、耐屈曲性を確保でき、その結果硬化収縮によるカール発生の抑制が可能となる。

２－２．反射防止層（ａｒ）
層（Ｘ）が、前記群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される層を有する場合、層（Ｘ）は入射した光の反射を防止する反射防止層（ａｒ）として機能することができる。層（Ｘ）が反射防止層（ａｒ）を含む場合、反射防止層（ａｒ）は、３８０～７８０ｎｍの可視光領域において、反射率が５．０％以下程度に低減された反射特性を示す層であることが好ましい。反射防止層（ａｒ）は、シリカから形成される層を含むことが好ましい。

反射防止層（ａｒ）の構造は特に限定されず、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましく、積層数は合計で２～２０であることが好ましい。高屈折率層を構成する材料としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル又はランタンの酸化物などが挙げられ、低屈折率層を構成する材料としてはシリカなどが挙げられる。多層構造の反射防止層としては、ＳｉＯ₂（シリカ）とＺｒＯ₂、又は、ＳｉＯ₂とＮｂ₂Ｏ₅が交互に積層され、基材（ｓ）と反対側の最外層がＳｉＯ₂である構造が好ましい。反射防止層（ａｒ）は、例えば蒸着法によって形成することができる。反射防止層（ａｒ）の厚みは、例えば０．１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。

層（Ｘ）は、少なくともハードコート層（ｈｃ）を含むことが好ましく、ハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含んでいてもよい。層（Ｘ）がハードコート層（ｈｃ）及び反射防止層（ａｒ）の両方を含んでいる場合、本発明の積層体は、基材側から、基材（ｓ）、ハードコート層（ｈｃ）、反射防止層（ａｒ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）の順に積層されていることが好ましい。

３．中間層（ｃ）
中間層（ｃ）は、前記中間層形成用組成物から形成される層であり、前記中間層形成用組成物の硬化層であることが好ましい。中間層（ｃ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の構造を有している。前述の通り、好ましい態様においては、有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子には加水分解性基又はヒドロキシ基が結合している。従って、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有する－ＳｉＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において中間層（ｃ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、中間層（ｃ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の縮合構造を有することが好ましい。中間層（ｃ）は撥水層（ｒ）のプライマー層として機能することができる。

中間層（ｃ）の厚みは、例えば１ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であり、好ましくは１～５００ｎｍであり、より好ましくは１～１００ｎｍであり、更に好ましくは１～３０ｎｍである。

中間層（ｃ）の厚みは、中間層（ｃ）形成用組成物中の固形分の濃度や、中間層（ｃ）形成用組成物の塗布条件により調整することができる。中間層（ｃ）の厚みは断面方向のＳＴＥＭ測定により測定することができる。断面方向のＳＴＥＭ測定にて中間層（ｃ）の厚みを測定する際には、積層体を基材（ｓ）の厚み方向に平行な面を含むように薄片化して超薄切片を切り出し、該超薄切片の断面をＳＴＥＭ観察することにより測定してもよいし、撥水層（ｒ）形成用組成物を塗布する前（すなわち、基材（ｓ）に中間層（ｃ）のみが設けられた状態）の積層中間体を上記と同様の方法にて薄片化し、断面をＳＴＥＭ観察することにより測定してもよい。なお、積層中間体の断面をＳＴＥＭ観察する場合、中間層（ｃ）と外界との界面を分かりやすくするために、薄片化の前に、中間層（ｃ）の上面を、フェルトペン等にて黒塗りしてから測定してもよい。

４．撥水層（ｒ）
撥水層（ｒ）は、後述する有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物（以下、撥水層形成用組成物という場合がある。）から形成される層であることが好ましく、前記撥水層形成用組成物の硬化層であることがより好ましい。

４－１．有機ケイ素化合物（Ａ）
有機ケイ素化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル構造を含む。前記フルオロポリエーテル構造は、フルオロオキシアルキレン基ともいうことができ、両端が酸素原子である構造を意味する。フルオロポリエーテル構造は、撥水性又は撥油性などの撥液性を有する。フルオロポリエーテル構造は、パーフルオロポリエーテル構造であることが好ましい。フルオロポリエーテル構造の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、例えば５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、更により好ましくは２０以上である。前記炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００であり、好ましくは１５０である。前記有機ケイ素化合物（Ａ）１分子中のケイ素原子の数は１～１０であることが好ましく、より好ましくは１～６である。

有機ケイ素化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル構造とケイ素原子に加えて、加水分解性基又はヒドロキシ基（以下、両者を合わせて、反応性基（ｈ３）と呼ぶ）を含むことが好ましく、該反応性基（ｈ３）は、連結基を介して又は連結基を介さずに前記ケイ素原子に結合していることがより好ましい。前記反応性基（ｈ３）は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物（Ａ）同士；有機ケイ素化合物（Ａ）と他の単量体；又は有機ケイ素化合物（Ａ）と撥水層形成用組成物が塗布される面の活性水素（水酸基など）；と共に縮合反応を通じて結合する作用を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。前記反応性基（ｈ３）は、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数が１～４であるアルコキシ基又は塩素原子であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。

有機ケイ素化合物（Ａ）がフルオロポリエーテル構造とケイ素原子と反応性基（ｈ３）を含む態様において、フルオロポリエーテル構造の酸素原子を結合手側の末端に有する１価の基（以下、ＦＰＥ基と呼ぶ）と、ケイ素原子が、連結基を介して又は連結基を介さずに結合しており、かつ、ケイ素原子と反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合していることが好ましい。前記ＦＰＥ基とケイ素原子が連結基を介して結合している場合、前記反応性基（ｈ３）が連結基を介して又は連結基を介さずに結合したケイ素原子は、有機ケイ素化合物（Ａ）の一分子中に１又は複数存在していてもよく、その数は例えば１以上、１０以下である。

前記ＦＰＥ基は、直鎖状であってもよいし、側鎖を有していてもよく、側鎖を有していることが好ましい。側鎖を有している態様として特に、ＦＰＥ基中のフルオロポリエーテル構造が側鎖を有していることが好ましい。側鎖としてフルオロアルキル基を有することが好ましく、該フルオロアルキル基はより好ましくはパーフルオロアルキル基であり、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。前記ＦＰＥ基とケイ素原子を連結する連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１５以下である。前記したＦＰＥ基は、末端にフルオロアルキル基を有する含フッ素基とパーフルオロポリエーテル構造が直接結合した基であることが好ましい。含フッ素基は、フルオロアルキル基であってもよく、フルオロアルキル基に２価の芳香族炭化水素基等の連結基が結合した基であってもよいが、フルオロアルキル基であることが好ましい。該フルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～２０のパーフルオロアルキル基であることがより好ましい。

前記含フッ素基としては、例えば、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ｐは、例えば１～１９であり、好ましくは１～１０である）、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_n－、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－Ｃ₆Ｈ₄－（ｍはいずれも１～１０であり、好ましくは３～７であり、ｎはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）が挙げられ、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－又はＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_n－が好ましい。

前記反応性基（ｈ３）は連結基を介してケイ素原子に結合していてもよいし、連結基を介さずに直接ケイ素原子に結合していてもよく、直接ケイ素原子に結合していることが好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。２つ以上の反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合している場合、異なる反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ反応性基（ｈ３）がケイ素原子に結合しているのが好ましい。１つのケイ素原子に結合する反応性基（ｈ３）の数が２以下の場合、残りの結合手には、反応性基（ｈ３）以外の１価の基が結合していてもよく、例えば、アルキル基（特に炭素数が１～４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯなどが結合できる。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（ａ１）中、
Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のフッ化アルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a26が複数存在する場合は複数のＲｆ^a26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a27が複数存在する場合は複数のＲｆ^a27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a28が複数存在する場合は複数のＲｆ^a28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a29が複数存在する場合は複数のＲｆ^a29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、又は１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換された炭素数１～４のハロゲン化アルキル基であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、Ｒ²⁵が複数存在する場合は複数のＲ²⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁶が複数存在する場合は複数のＲ²⁶がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、又は単結合であり、Ｒ²⁷が複数存在する場合は複数のＲ²⁷がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁸が複数存在する場合は複数のＲ²⁸がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、それぞれ独立して、炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ²⁹が複数存在する場合は複数のＲ²⁹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ³⁰が複数存在する場合は複数のＲ³⁰がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁷は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、又は－Ｃ₆Ｈ₄－（フェニレン基）であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ⁷が複数存在する場合は複数のＭ⁷がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁵は、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、Ｍ⁵が複数存在する場合は複数のＭ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ¹⁰は、水素原子、又はハロゲン原子であり、
Ｍ⁸及びＭ⁹は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基、又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｍ⁸が複数存在する場合は複数のＭ⁸がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ⁹が複数存在する場合は複数のＭ⁹がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０～６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６は、０～２０の整数であり、
ｆ２７は、それぞれ独立して、０～２の整数であり、
ｇ２１は１～３の整数、ｇ２２は０～２の整数、ｇ２１＋ｇ２２≦３であり、
ｇ３１は１～３の整数、ｇ３２は０～２の整数、ｇ３１＋ｇ３２≦３であり、
Ｍ¹⁰－、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_ｇ３１（Ｈ）_ｇ３２（Ｒ³⁰）_{３－ｇ３１－ｇ３２}、ｆ２１個の－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、ｆ２２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、ｆ２３個の－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）、ｆ２４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^a28）（Ｒｆ^a29）｝－単位（Ｕ_a4）、ｆ２５個の－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）、及びｆ２６個の－［Ｃ（Ｍ⁵）｛（ＣＨ_２）_ｆ２７－Ｓｉ（Ｍ⁸）_ｇ２１（Ｈ）_ｇ２２（Ｒ²⁹）_{３－ｇ２１－ｇ２２}｝］－単位（Ｕ_a6）は、Ｍ¹⁰－が式（ａ１）における一方の末端であり、－Ｓｉ（Ｍ⁹）_ｇ３１（Ｈ）_ｇ３２（Ｒ³⁰）_{３－ｇ３１－ｇ３２}が他方の末端であり、少なくとも一部でフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、－Ｏ－が－Ｏ－と連続しない限り、それぞれの単位が任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合するとは、各繰り返し単位が連続して上記式（ａ１）に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されないことを意味し、またｆ２１個の単位（Ｕ_a1）が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｆ２１個あればよいことを意味する。ｆ２２～ｆ２６で括られる単位（Ｕ_a2）～（Ｕ_a6）についても同様である。

また、Ｒ²⁷及びＲ²⁸の少なくとも一方が単結合である場合には、ｆ２３で括られる単位の単結合部分と、Ｍ⁷における－Ｏ－とが、繰り返し結合して、分岐鎖状又は環状のシロキサン結合を形成することができる。

Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、好ましくはそれぞれ独立して、フッ素原子、又は１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることが好ましく、フッ素原子、又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であることがより好ましい。
Ｒ²⁵及びＲ²⁶は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又はフッ素原子であり、一つの炭素原子に結合するＲ²⁵及びＲ²⁶の少なくとも一方は水素原子であり、より好ましくはいずれも水素原子である。
Ｒ²⁷及びＲ²⁸は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｒ²⁹及びＲ³⁰は、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。
Ｍ⁷は、好ましくは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－であり、より好ましくはすべて－Ｏ－である。
Ｍ⁵は、好ましくは水素原子又は炭素数１～２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。
Ｍ¹⁰は、好ましくはフッ素原子である。
Ｍ⁸及びＭ⁹は、好ましくはそれぞれ独立して、アルコキシ基、ハロゲン原子であり、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましく、特にメトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。
好ましくは、ｆ２１、ｆ２３、及びｆ２４は、それぞれｆ２２の１／２以下であり、より好ましくは１／４以下であり、更に好ましくはｆ２３又はｆ２４は０であり、特に好ましくはｆ２３及びｆ２４は０である。
ｆ２５は、好ましくはｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値の１／５以上であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４の合計値以下である。
ｆ２１は０～２０が好ましく、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは１～１５であり、特に２～１０が好ましい。ｆ２２は、５～６００が好ましく、８～６００がより好ましく、更に好ましくは２０～２００であり、一層好ましくは３０～２００であり、より一層好ましくは３５～１８０であり、最も好ましくは４０～１８０である。ｆ２３及びｆ２４は、０～５が好ましく、より好ましくは０～３であり、更に好ましくは０である。ｆ２５は４～６００が好ましく、より好ましくは４～２００であり、更に好ましくは１０～２００であり、一層好ましくは３０～６０である。ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、ｆ２５の合計値は、２０～６００が好ましく、２０～２５０がより好ましく、５０～２３０が更に好ましい。ｆ２６は、好ましくは０～１８であり、より好ましくは０～１５であり、更に好ましくは０～１０であり、一層好ましくは０～５である。ｆ２７は、好ましくは０～１であり、より好ましくは０である。ｇ２１及びｇ３１は、それぞれ独立して２～３が好ましく、３がより好ましい。ｇ２２及びｇ３２は、それぞれ独立して０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２は３であることが好ましい。

上記式（ａ１）において、Ｒ²⁵及びＲ²⁶がいずれも水素原子であり、Ｒｆ^a26及びＲｆ^a27がフッ素原子又は全ての水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２のフッ化アルキル基であり、Ｍ⁷が全て－Ｏ－であり、Ｍ⁸及びＭ⁹が全てメトキシ基、エトキシ基又は塩素原子（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｍ⁵が水素原子であり、Ｍ¹⁰がフッ素原子であり、ｆ２１が１～１０（好ましくは２～７）、ｆ２２が３０～２００（より好ましくは４０～１８０）、ｆ２３及びｆ２４が０、ｆ２５が３０～６０、ｆ２６が０～６であり、ｆ２７が０～１（特に好ましくは０）であり、ｇ２１及びｇ３１が１～３（いずれも好ましくは２以上であり、より好ましくは３）であり、ｇ２２及びｇ３２が０～２（いずれも好ましくは０又は１であり、より好ましくは０）であり、ｇ２１＋ｇ２２及びｇ３１＋ｇ３２が３である化合物（ａ１１）を有機ケイ素化合物（Ａ）として用いることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ａ）は下記式（ａ２）で表されることが好ましい。

上記式（ａ２）中、
Ｒｆ^a1は、両端が酸素原子である２価のフルオロポリエーテル構造であり、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して炭素数１～２０のアルキル基であり、Ｒ¹¹が複数存在する場合は複数のＲ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹²が複数存在する場合は複数のＲ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹³が複数存在する場合は複数のＲ¹³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³、Ｅ⁴、及びＥ⁵は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、Ｅ¹が複数存在する場合は複数のＥ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ²が複数存在する場合は複数のＥ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ³が複数存在する場合は複数のＥ³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁴が複数存在する場合は複数のＥ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁵が複数存在する場合は複数のＥ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～１０価のオルガノシロキサン基であり、
Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、加水分解性基、ヒドロキシ基又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ７は１～５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｊ¹が複数存在する場合は複数のＪ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ²が複数存在する場合は複数のＪ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ³が複数存在する場合は複数のＪ³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１～１２の２価の連結基であって、－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）、－｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝－単位（Ｕ_a3）又は－Ｍ⁷－単位（Ｕ_a5）の一つ以上が任意の順で並んで結合した連結基であり（Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｍ⁷は上記式（ａ１）におけるものと同じ）、
ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０～９であり、
ａ１３は、０～４であり、
ａ１１が０の時、又はａ１１が１であってＧ¹が２価の時はｄ１１は１であり、ａ１１が１であってＧ¹が３～１０価のときは、ｄ１１はＧ¹の価数より一つ少ない数であり、
ａ１５が０の時、又はａ１５が１であってＧ²が２価の時はｄ１２が１であり、ａ１５が１であってＧ²が３～１０価のときは、ｄ１２はＧ²の価数より一つ少ない数であり、
ａ２１及びａ２３は、それぞれ独立して０～２であり、
ｅ１１は１～３、ｅ１２は０～２であり、ｅ１１＋ｅ１２≦３であり、
ｅ２１は１～３、ｅ２２は０～２であり、ｅ２１＋ｅ２２≦３であり、
ｅ３１は１～３、ｅ３２は０～２であり、ｅ３１＋ｅ３２≦３である。

なお、ａ１０が０であるとは、ａ１０を付して括られた部分が単結合であることを意味し、ａ１１、ａ１２、ａ１３、ａ１４、ａ１５、ａ１６、ａ２１又はａ２３が０である場合も同様である。

Ｒｆ^a1は、－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e4－、－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5－、－Ｏ－（ＣＦ₂－ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ）_e6－が好ましい。ｅ４、及びｅ５は、いずれも１５～８０であり、ｅ６は３～６０である。また、Ｒｆ^a1は、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基であることも好ましく、ｐ＋ｑが１５～８０であり、Ｒｆ^a1としてはこの態様が最も好ましい。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１～２のアルキル基である。

Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³及びＥ⁴はいずれも水素原子であることが好ましく、Ｅ⁵はフッ素原子であることが好ましい。

Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、－｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝－単位（Ｕ_a1）、又は－｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝－単位（Ｕ_a2）の一つ以上が任意の順で並んで結合したフッ素原子を含んだ炭素数１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）の２価の連結基が好ましく、ｘが１～１２（好ましくは１～１０、より好ましくは１～５）である－（ＣＦ₂）_x－であることがより好ましい。

Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２～５価のオルガノシロキサン基が好ましい。

Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基又は－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃が好ましく、より好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。

ａ１０は１が好ましく、ａ１１は０が好ましく、ａ１２は０～７が好ましく、より好ましくは０～５であり、ａ１３は１～３が好ましく、ａ１４は１が好ましく、ａ１５は０が好ましく、ａ１６は０～６が好ましく、より好ましくは０～３であり、ａ２１及びａ２３はいずれも０又は１が好ましく（より好ましくはいずれも０）、ｄ１１は１が好ましく、ｄ１２は１が好ましく、ｅ１１、ｅ２１及びｅ３１はいずれも２以上が好ましく、３であることも好ましい。ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２はいずれも０又は１が好ましく、より好ましくは０である。ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２は、いずれも３であることが好ましい。これらの好ましい範囲は、単独で満たしていてもよいし、２つ以上組み合わせて満たしていてもよい。

有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆ^a1が、ｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑ＝１５～８０）であり、Ｌ¹及びＬ²がいずれも炭素数１～５（好ましくは１～３）のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ¹、Ｅ²、及びＥ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁴が水素原子であり、Ｅ⁵がフッ素原子であり、Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³がいずれもメトキシ基又はエトキシ基（特にメトキシ基）であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０～７（好ましくは０～５）であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０～６（特に０）であり、ａ２１及びａ２３が、それぞれ独立して、０又は１であり（より好ましくはａ２１及びａ２３がいずれも０）、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ１１、ｅ２１及びｅ３１がいずれも２～３（特に３）であり、ｅ１２、ｅ２２及びｅ３２がいずれも０又は１（特に０）であり、ｅ１１＋ｅ１２、ｅ２１＋ｅ２２、及びｅ３１＋ｅ３２がいずれも３である化合物（ａ２１）を用いることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ２）のＲｆ^a1が－Ｏ－（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5－であり、ｅ５が２５～４０であり、Ｌ¹がフッ素原子及び酸素原子を含む炭素数３～６の２価の連結基であり、Ｌ²が炭素数２～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ²、Ｅ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁵がフッ素原子であり、Ｊ²が－（ＣＨ₂）_e7－Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃であり、ｅ７が２～４であり、ａ１０が１であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０であり、ａ１３が２であり、ａ１４が１であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０であり、ｄ１１が１であり、ｄ１２が１であり、ｅ２１が３である化合物（ａ２２）を用いることも好ましい。

有機ケイ素化合物（Ａ）として、より具体的には下記式（ａ３）の化合物が挙げられる。

上記式（ａ３）中、Ｒ³⁰は炭素数が１～６のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ³¹はｐモルのパーフルオロプロピレングリコールとｑモルのパーフルオロメタンジオールがランダムに脱水縮合した構造の両末端の水酸基から水素原子が外れて残った基（ｐ＋ｑは１５～８０）であり、Ｒ³²は炭素数が１～１０のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ³³は炭素数が２～６の３価の飽和炭化水素基であり、Ｒ³⁴は炭素数が１～３のアルキル基である。Ｒ³⁰の炭素数は、１～４が好ましく、１～３がより好ましい。Ｒ³²の炭素数は、好ましくは１～５である。ｈ１は１～１０であり、１～８が好ましく、１～６がより好ましい。ｈ２は１以上であり、２以上が好ましく、３であってもよい。

有機ケイ素化合物（Ａ）としては、下記式（ａ４）で表される化合物も挙げることができる。

上記式（ａ４）中、Ｒ⁴⁰は炭素数が２～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁴¹は炭素数が２～５のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴²は炭素数２～５のアルキレン基の水素原子の一部がフッ素に置換されたフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴はそれぞれ独立に炭素数が２～５のアルキレン基であり、Ｒ⁴⁵はメチル基又はエチル基である。ｋ１は１～５の整数である。ｋ２は１～３の整数であり、２以上であることが好ましく、３であってもよい。

有機ケイ素化合物（Ａ）の数平均分子量は、２，０００以上が好ましく、より好ましくは４，０００以上であり、更に好ましくは５，０００以上、一層好ましくは６，０００以上、特に好ましくは７，０００以上であり、また４０，０００以下が好ましく、より好ましくは２０，０００以下であり、更に好ましくは１５，０００以下である。

有機ケイ素化合物（Ａ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。

なお、前記撥水層形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ａ）の混合組成物であり、有機ケイ素化合物（Ａ）を混合することにより得られる。また、有機ケイ素化合物（Ａ）以外の成分が混合されている場合には、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と他の成分とを混合することにより撥水層形成用組成物が得られる。前記撥水層形成用組成物は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。反応が進んだ例としては、例えば、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ａ）のケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）となった化合物を含むことが挙げられる。また、前記撥水層形成用組成物が有機ケイ素化合物（Ａ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、例えば、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

撥水層（ｒ）が、前記撥水層形成用組成物から形成される層である場合、撥水層（ｒ）は上記有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造を有する。上述の通り、好ましい態様において、上記有機ケイ素化合物（Ａ）はケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、有機ケイ素化合物（Ａ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）が、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の－ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において撥水層（ｒ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、撥水層（ｒ）は、通常有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造を有することが好ましい。

撥水層（ｒ）中、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造は、５０質量％以上含まれることが好ましく、より好ましくは６０質量％以上であり、また１００質量％であってもよく、好ましくは９５質量％以下、更に好ましくは９０質量％以下である。ここで、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造とは、有機ケイ素化合物（Ａ）及び有機ケイ素化合物（Ａ）が脱水縮合した後の残基を指す。

４－２．有機ケイ素化合物（Ｂ）
撥水層形成用組成物は、更に下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合されていてもよい。前記撥水層形成用組成物に有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合される場合、撥水層形成用組成物は、有機ケイ素化合物（Ａ）及び有機ケイ素化合物（Ｂ）を混合することにより得られる。有機ケイ素化合物（Ｂ）は、硬化皮膜中で有機ケイ素化合物（Ａ）の間に存在することで、水滴などの滑落性をより向上させる作用を有する。有機ケイ素化合物（Ｂ）は、後述する通り、Ａ²で表される加水分解性基又はヒドロキシ基を有している。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。

上記式（ｂ１）中、
Ｒｆ^b10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、Ｒ^b14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１～４のアルキル基であり、Ｒ^b11が複数存在する場合は複数のＲ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b12が複数存在する場合は複数のＲ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b13が複数存在する場合は複数のＲ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b14が複数存在する場合は複数のＲ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^b11、Ｒｆ^b12、Ｒｆ^b13、Ｒｆ^b14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１～２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^b11が複数存在する場合は複数のＲｆ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b12が複数存在する場合は複数のＲｆ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b13が複数存在する場合は複数のＲｆ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b14が複数存在する場合は複数のＲｆ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^b15は、炭素数が１～２０のアルキル基であり、Ｒ^b15が複数存在する場合は複数のＲ^b15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ¹は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＲ－、－ＮＲＣ（＝Ｏ）－、又は－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ－であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４の含フッ素アルキル基であり、Ａ¹が複数存在する場合は複数のＡ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ²は、加水分解性基又はヒドロキシ基であり、Ａ²が複数存在する場合は複数のＡ²がそれぞれ異なっていてもよく、
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、ｂ１５は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、
ｃは、１～３の整数であり、
Ｒｆ^b10－、－Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-c、ｂ１１個の－｛Ｃ（Ｒ^b11）（Ｒ^b12）｝－単位（Ｕ_b1）、ｂ１２個の－｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝－単位（Ｕ_b2）、ｂ１３個の－｛Ｓｉ（Ｒ^b13）（Ｒ^b14）｝－単位（Ｕ_b3）、ｂ１４個の－｛Ｓｉ（Ｒｆ^b13）（Ｒｆ^b14）｝－単位（Ｕ_b4）、ｂ１５個の－Ａ¹－単位（Ｕ_b5）は、Ｒｆ^b10－が式（ｂ１）で表される化合物の一方の末端となり、－Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-cが他方の末端となり、フルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ－Ｏ－が－Ｏ－乃至－Ｆと連結しない限り、それぞれの単位（Ｕ_b1）～単位（Ｕ_b5）が任意の順で並んで結合する。

Ｒｆ^b10は、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～１０（より好ましくは炭素数１～５）のパーフルオロアルキル基が好ましい。

Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、及びＲ^b14は、水素原子が好ましい。

Ｒ^b15は、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。

Ａ¹は、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、又は－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－が好ましい。

Ａ²で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。

Ａ²は、炭素数１～４のアルコキシ基、又はハロゲン原子が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、塩素原子である。

ｂ１１は１～３０が好ましく、１～２５がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５が特に好ましく、最も好ましくは１～２である。

ｂ１２は、０～１５が好ましく、より好ましくは０～１０である。

ｂ１３は、０～５が好ましく、より好ましくは０～２である。

ｂ１４は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。

ｂ１５は、０～４が好ましく、より好ましくは０～２である。

ｃは、２～３が好ましく、より好ましくは３である。

ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５の合計値は、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、また８０以下が好ましく、より好ましくは５０以下であり、更に好ましくは２０以下である。

特に、Ｒｆ^b10がフッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子であり、Ａ²がメトキシ基又はエトキシ基であると共に、ｂ１１が１～５、ｂ１２が０～５であり、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０であり、ｃが３であることが好ましい。

なお、後記する実施例にて、有機ケイ素化合物（Ｂ）として用いるＦＡＳ１３Ｅを上記式（ｂ１）で表すと、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子、ｂ１１が２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０、ｃが３、Ａ²がエトキシ基であり、Ｒｆ^b10－｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝_b12－が末端となり、Ｃ₆Ｆ₁₃－となるように定められる。

上記式（ｂ１）で表される化合物としては、具体的に、Ｃ_jＦ_2j+1－Ｓｉ－（ＯＣＨ₃）₃、Ｃ_jＦ_2j+1－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃（ｊは１～１２の整数）が挙げられ、この中で特にＣ₄Ｆ₉－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₆Ｆ₁₃－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₇Ｆ₁₅－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇－Ｓｉ－（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が好ましい。また、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が挙げられる（ｋはいずれも５～２０であり、好ましくは８～１５である）。また、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m－（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃を挙げることもできる（ｍはいずれも０～１０であり、好ましくは０～７であり、ｎはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_q－Ｓｉ－（ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂）₃を挙げることもできる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは２～８であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。更に、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃Ｃｌ₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p－（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂が挙げられる（ｐはいずれも２～１０であり、好ましくは３～７であり、ｑはいずれも１～５であり、好ましくは２～４である）。

上記式（ｂ１）で表される化合物の中で、下記式（ｂ２）で表される化合物が好ましい。

上記式（ｂ２）中、Ｒ⁶⁰は炭素数１～８のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁶¹は炭素数１～５のアルキレン基であり、Ｒ⁶²は炭素数１～３のアルキル基である。

有機ケイ素化合物（Ｂ）としては１種のみ用いてもよいし、２種以上用いてもよい。

前記撥水層形成用組成物は、上述した通り、有機ケイ素化合物（Ａ）及び必要に応じて用いられる有機ケイ素化合物（Ｂ）を混合した後に、反応が進んだものも含み、反応が進んだ例としては、前記撥水層形成用組成物が、上記有機ケイ素化合物（Ｂ）のケイ素原子に結合した加水分解性基が加水分解により－ＳｉＯＨ基となった化合物を含むことが挙げられる。また、前記混合組成物が有機ケイ素化合物（Ｂ）の縮合物を含むことも挙げられ、該縮合物としては、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、又は他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基と脱水縮合して形成された縮合物が挙げられる。

前記撥水層形成用組成物に、前記有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合される場合、撥水層（ｒ）は、前記有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造を有する。上記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）は、Ａ²で表される加水分解性基又はヒドロキシ基を有しており、有機ケイ素化合物（Ｂ）が有する－ＳｉＯＨ基又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の－ＳｉＯＨ基が、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の－ＳｉＯＨ基、他の化合物由来の－ＳｉＯＨ基、又は積層体において撥水層（ｒ）が形成される面の活性水素（水酸基など）と脱水縮合するため、撥水層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の縮合構造を有することが好ましい。

撥水層（ｒ）に有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造が含まれる場合、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造は、撥水層（ｒ）中、３質量％以上含まれることが好ましく、より好ましくは５質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上であり、また５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以下である。ここで、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造とは、有機ケイ素化合物（Ｂ）及び有機ケイ素化合物（Ｂ）が脱水縮合した後の残基を指す。

撥水層（ｒ）における、有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造に対する有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の構造の質量比は、０．０５以上が好ましく、より好ましくは０．０８以上、更に好ましくは０．１０以上であり、また２．０以下が好ましく、より好ましくは１．０以下であり、更に好ましくは０．６以下である。

４－３．溶剤（Ｄ）
前記撥水層形成用組成物は、通常、溶剤（Ｄ）が混合されている。前記溶剤（Ｄ）としてはフッ素系溶剤を用いることが好ましく、例えばフッ素化エーテル系溶剤、フッ素化アミン系溶剤、フッ素化炭化水素系溶剤等を用いることができ、特に沸点が１００℃以上であることが好ましい。フッ素化エーテル系溶剤としては、フルオロアルキル（特に炭素数２～６のパーフルオロアルキル基）－アルキル（特にメチル基又はエチル基）エーテルなどのハイドロフルオロエーテルが好ましく、例えばエチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルが挙げられる。エチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルとしては、例えばＮｏｖｅｃ（登録商標）７２００（３Ｍ社製、分子量約２６４）が挙げられる。フッ素化アミン系溶剤としては、アンモニアの水素原子の少なくとも１つがフルオロアルキル基で置換されたアミンが好ましく、アンモニアの全ての水素原子がフルオロアルキル基（特にパーフルオロアルキル基）で置換された第三級アミンが好ましく、具体的にはトリス（ヘプタフルオロプロピル）アミンが挙げられ、フロリナート（登録商標）ＦＣ－３２８３（３Ｍ社製、分子量約５２１）がこれに該当する。フッ素化炭化水素系溶剤としては、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、パーフルオロヘキサンなどのフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤、１，３－ビス（トリフルオロメチルベンゼン）などのフッ素化芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタンとしては、例えばソルブ５５（ソルベックス社製）等が挙げられる。

前記フッ素系溶剤としては、上記の他、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５（ＡＧＣ社製）などのハイドロクロロフルオロカーボン、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ２０００（ＡＧＣ社製）などのハイドロフルオロカーボンなどを用いることができる。

前記溶剤（Ｄ）として、少なくともフッ素化アミン系溶剤を用いることが好ましい。

前記撥水層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの前記有機ケイ素化合物（Ａ）の量は、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０５質量％以上であり、また０．５質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．３質量％以下である。

前記撥水層形成用組成物の全体を１００質量％としたときの前記有機ケイ素化合物（Ｂ）の量は、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０３質量％以上であり、また０．３質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以下である。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）に対する前記有機ケイ素化合物（Ｂ）の質量比は、０．２以上が好ましく、より好ましくは０．４以上であり、また３．０以下が好ましく、より好ましくは１．５以下である。

また撥水層形成用組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。前記添加剤の量は、撥水層形成用組成物１００質量％中、５質量％以下が好ましく、より好ましくは１質量％以下である。

前記撥水層（ｒ）の厚みは、例えば１～１０００ｎｍ程度であり、好ましくは１～５０ｎｍであり、より好ましくは１～１００ｎｍであり、更に好ましくは１～３０ｎｍである。

撥水層（ｒ）の厚みは、撥水層形成用組成物中の固形分の濃度や、撥水層形成用組成物の塗布条件により調整することができる。撥水層（ｒ）の厚みは、後述の実施例に記載のように、基材（ｓ）の材質としてガラスを使用した積層体サンプルから得られた検量線に基づいて算出することができる。具体的には、基材（ｓ）の材質としてガラスを使用し、中間層（ｃ）の厚みが同じで、撥水層（ｒ）の厚みが異なる積層体サンプルを複数（好ましくは３以上）用意し、エリプソメーターを用いて撥水層（ｒ）の厚みを各々測定する。また該サンプルに対してＸＰＳ測定を行い、撥水層（ｒ）に由来する特定の元素量と中間層（ｃ）に由来する特定の元素量の比を求め、撥水層（ｒ）の厚みに対する上記比の検量線を作成する。そして、実際に得られた積層体についてＸＰＳ測定を行うことにより、撥水層（ｒ）に由来する特定の元素量と中間層（ｃ）に由来する特定の元素量の比を求め、上記の検量線に従って、撥水層（ｒ）の厚みを算出することができる。

５．積層体の特性
本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面の水接触角（初期接触角）は、例えば１０５°以上、好ましくは１１０°以上であり、より好ましくは１１５°以上であり、また例えば１２５°以下である。
本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面に、直径６ｍｍの円の面積に対して１０００ｇの荷重をかけて３０００回往復して擦る耐摩耗性試験を行った後の、撥水層（ｒ）表面における水接触角（初期耐摩耗性）は、例えば１０４°以上、好ましくは１０５°以上、より好ましくは１１０°以上であり、更に好ましくは１１５°以上であり、また例えば１２５°以下である。前記耐摩耗性試験は、本発明の積層体の撥水層（ｒ）側表面に、直径６ｍｍの円の面積に対して１０００ｇの荷重をかけて３０００回往復して擦る試験であり、擦る際に弾性体（好ましくは消しゴム）で擦ることが好ましい。例えば、消しゴムを用い、耐摩耗性試験のストローク距離を４０ｍｍとし、擦る速度を４０往復／分として、ストローク領域の略中央で接触角を測定することが好ましい。荷重を負荷する際には、直径６ｍｍの円の面積当たり１０００ｇの荷重を掛けることと同等の圧力がかかっていればよい。
また、２５０ｇ／ｃｍ²の圧力をかけて、本発明の積層体の撥水層（ｒ）表面をスチールウールで擦る摩耗試験を、１５００往復した際の傷の本数は、例えば５本以下であり、４本以下であることが好ましく、より好ましくは２本以下であり、最も好ましくは１本以下である。
本発明の積層体を、温度２２℃湿度５５％の雰囲気で２４時間撹拌する加速試験後の中間層形成用組成物を用いて作製した際、前記積層体の撥水層（ｒ）表面に、直径６ｍｍの円の面積に対して１０００ｇの荷重をかけて３０００回往復して擦る耐摩耗性試験を行った後の、撥水層（ｒ）表面における水接触角（加速試験後の耐摩耗性）は、例えば９０°超、好ましくは９５°以上、より好ましくは１００°以上であり、更に好ましくは１０５°以上であり、また例えば１２０°以下である。前記耐摩耗性試験は、上述の初期耐摩耗性を測定する際の耐摩耗性試験と同様である。なお、各特性の評価の具体的な方法については、実施例の欄で詳述する。

６．積層体の製造方法
次に、本発明の積層体の製造方法について説明する。

本発明の積層体を製造する方法は、（ｉ）基材（ｓ）上に中間層（ｃ）を形成する工程と、（ｉｉ）撥水層（ｒ）を形成する工程とを含む。

前記工程（ｉ）では、基材（ｓ）又は基材（ｓ）上に設けられる層（Ｘ）に、中間層形成用組成物を塗布する。中間層形成用組成物を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられ、特に、バーコート法、スピンコート法、ダイコート法、グラビアコート法が好ましい。

中間層形成用組成物を塗布する前に、基材（ｓ）又は基材（ｓ）上に設けられる層（Ｘ）に易接着処理を施しておくことが好ましい。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の親水化処理が挙げられる。プラズマ処理等の易接着処理を行うことで、基材（ｓ）又は層（Ｘ）の表面にＯＨ基（特に基材（ｓ）又は層（Ｘ）の材質がエポキシ樹脂の場合）やＣＯＯＨ基（特に基材（ｓ）又は層（Ｘ）の材質がアクリル樹脂の場合）などの官能基を形成させることができ、中間層（ｃ）を形成する側の表面にこのような官能基が形成されている場合に特に中間層（ｃ）と基材（ｓ）、又は中間層（ｃ）と層（Ｘ）との密着性がより向上する。特に、基材（ｓ）又は前記群（Ｘ１）から形成される層（Ｘ）に易接着処理を行うことが好ましい。

層（Ｘ）は、前記群（Ｘ１）から選択される少なくとも１種から形成される場合、例えば、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含む組成物を基材（ｓ）上に塗布し、硬化することによって、層（Ｘ）を形成できる。また、層（Ｘ）が、前記群（Ｘ２）から選択される少なくとも１種から形成される場合、例えば蒸着法によって層（Ｘ）を形成できる。

中間層形成用組成物を塗布した後、常温で又は加熱して硬化させることで、中間層（ｃ）を形成できる。硬化条件は、特に限定されず、常温、大気中で、例えば１０秒以上静置すればよい。本発明において常温とは、５～６０℃であり、好ましくは１５～４０℃の温度範囲で静置することで、中間層（ｃ）を形成可能である。常温での静置後さらに、又は昇温での静置に代えて５０～３００℃、好ましくは１００～２００℃の温度にて、１０秒～６０分程度加温（焼成）してもよい。

中間層形成用組成物を塗布して中間層（ｃ）を形成させた後、前記撥水層形成用組成物を塗布し、常温で又は加熱して硬化させることで、撥水層（ｒ）を形成できる。撥水層形成用組成物を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。

撥水層形成用組成物を中間層（ｃ）の上に塗布した後の条件は、特に限定されず、常温、大気中で、例えば１０秒以上静置することで、撥水層（ｒ）を形成可能である。常温での静置後さらに、又は昇温での静置に代えて５０～３００℃、好ましくは１００～２００℃の温度にて、１０秒～６０分程度加温（焼成）してもよい。

＜表示装置＞
本発明の積層体は、表示装置に好適に用いられ、特にフレキシブル表示装置に好適に用いられる。本発明の積層体は、好ましくは表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。

前記表示装置は、ウインドウフィルム（すなわち、本発明の積層体）を含む表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側に表示装置用積層体が配置されている。また、フレキシブル表示装置においては、フレキシブルな特性を有するウインドウフィルムを含むフレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。表示装置用積層体（好ましくはフレキシブル表示装置用積層体）は、さらに偏光板（好ましくは円偏光板）、タッチセンサ等を含有してタッチパネルディスプレイを構成してもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサの順、又は、ウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一方の面に形成された遮光パターンを具備することができる。

（ウインドウフィルム）
ウインドウフィルムは、表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。このような保護層としてはガラスを使用してもよく、フレキシブル画像表示装置においては、ウインドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する材料を使用してもよい。従って、本発明の積層体をフレキシブル表示装置におけるウインドウフィルムとして用いる場合には、基材（ｓ）はフレキシブルな透明基材からなる層を有することが好ましく、基材（ｓ）が、少なくとも一方の面にハードコート層が積層されている複層構造を有してもよい。

前記透明基材は、可視光線の透過率が例えば７０％以上、好ましくは８０％以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン－酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよく、未延伸１軸又は２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは５μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。特にフレキシブル画像表示装置に用いる場合、前記透明基材の厚さは５μｍ以上６０μｍ以下が好ましい。

本発明の積層体がウインドウフィルムとして用いられる場合のハードコート層も、上記したハードコート層（ｈｃ）と同様である。上述の通り、ハードコート層（ｈｃ）は、活性エネルギー線硬化型樹脂及び熱硬化型の樹脂から形成されることが好ましく、このような樹脂は活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。

前記ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素－炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられる。具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましい。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、１分子中に２～６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上を含むことが好ましい。

前記カチオン重合性化合物とは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましく、更に３つ以上であることが好ましい。また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体１００重量％に対して０．１～１０重量％を含むことができる。前記重合開始剤の含量が０．１重量％未満の場合、硬化を十分に進行させることができず、最終的に得られた塗膜の機械的物性や密着力を具現することが難しく、１０重量％を超える場合、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生することがある。

前記ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られているものなら制限なく使用することができる。前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。

（円偏光板）
本発明の表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５度である必要があるが、実用的には４５±１０度である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一方の面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは０．５μｍ以上、１００μｍ以下である。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。

前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルム（延伸用樹脂基材）と積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは３～１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２～１０倍である。延伸用樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を作製する方法としては、延伸用樹脂基材の表面に、ＰＶＡ系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥する方法が好ましい。

特にＰＶＡ系樹脂層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。

前記偏光子の厚さは、２０μｍ以下であり、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは９μｍ以下であり、更に好ましくは１～８μｍであり、特に好ましくは３～６μｍである。前記範囲内であれば、屈曲を阻害することなく、好ましい態様となる。

さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００～１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５ｎｍ以上１０，０００ｎｍ以下であり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。保護フィルムは、ウインドウフィルムの透明基材の役割を兼ねることもできる。

前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。

さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下である。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、より好ましくは１３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下となるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７－２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０－３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０－９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４－２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは－２００ｎｍ以上－２０ｎｍ以下、より好ましくは－１４０ｎｍ以上－４０ｎｍ以下である。

（タッチセンサ）
本発明の積層体を備える表示装置（好ましくはフレキシブル表示装置）は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサは、好ましくはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上、３０，０００ＭＰａ％以下である。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力（ＭＰａ）－ひずみ（％）曲線（Stress-strain curve）で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４－ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。

前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

（接着層）
前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１～５００μｍ、より好ましくは０．１～３００μｍである。前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。

前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン－酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン－ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～１０μｍ、より好ましくは０．１～１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。

活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１～２０μｍ、より好ましくは０．１～１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類される何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１～５００μｍ、より好ましくは１～３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

（遮光パターン）
前記遮光パターンは、前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記表示装置（好ましくはフレキシブル画像表示装置）の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１～１００μｍ、より好ましくは２～５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

［中間層形成用組成物の調製］
実施例１－１
有機ケイ素化合物（Ｃ）として下記式で示す、特開２０１２－１９７３３０号公報に記載のＮ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ－１２－５２６３ＨＰ、信越化学工業株式会社製）を０．０５質量％、溶剤（Ｅ_α）としてイソプロパノールを９９．９５質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｅ１を得た。

実施例１－２
溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．９０質量％、４－ヒドロキシ－２－ブタノンを０．０５質量％混合したこと以外は実施例１－１と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ２を得た。

実施例１－３
溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．９０質量％、エチレングリコールを０．０５質量％混合したこと以外は実施例１－１と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ３を得た。

実施例１―４
溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．９２５質量％、４－ヒドロキシ－２－ブタノンを０．０２５質量％混合したこと以外は実施例１－１と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ４を得た。

実施例１－５
有機ケイ素化合物（Ｃ）としてＸ－１２－５２６３ＨＰを０．１２５質量％、溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．８７５質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｅ５を得た。

実施例１－６
有機ケイ素化合物（Ｃ）としてＸ－１２－５２６３ＨＰを０．０２０質量％、溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．９８０質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｅ６を得た。

実施例１－７
有機ケイ素化合物（Ｃ）としてＸ－１２－５２６３ＨＰを０．０５質量％、溶剤（Ｅ_α）として、イソプロパノールを９９．９００質量％、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドを０．０５質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｅ７を得た。

実施例１－８
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミドを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ８を得た。

実施例１－９
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、３－メトキシ－１－プロパノールを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ９を得た。

実施例１－１０
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ１０を得た。

実施例１－１１
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、ジメチルスルホキシドを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ１１を得た。

実施例１－１２
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、メチル（Ｒ）－（－）－３－ヒドロキシブチレートを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ１２を得た。

実施例１－１３
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、ジエチレングリコールを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ１３を得た。

実施例１－１４
Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドに代えて、アセトンを用いたこと以外は実施例１－７と同様にして、中間層形成用組成物Ｅ１４を得た。

比較例１－１
有機ケイ素化合物（Ｃ）に代えて、ＫＢＰ－９０（下記構造を有する化合物を３０質量％含有する水分散体、信越化学社製）を０．３３質量％、イソプロパノールを９９．６７質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｃ１を得た。

比較例１－２
有機ケイ素化合物（Ｃ）に代えて、ＫＢＥ－９０３（３－アミノプロピルトリエトキシシラン、信越化学社製）を０．０５質量％、イソプロパノールを９９．９５質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｃ２を得た。

比較例１－３
有機ケイ素化合物（Ｃ）としてＸ－１２－５２６３ＨＰを０．２５質量％、溶剤（Ｅ_α）としてイソプロパノールを９９．７５質量％混合した溶液を室温で撹拌し、中間層形成用組成物Ｃ３を得た。

以下、表１には中間層形成用組成物に使用された溶剤（Ｅ_α）及び有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータ、比率：δＨ／δＤ、溶剤（Ｅ_α）と有機ケイ素化合物（Ｃ）とのＨＳＰ距離Ｒａ１、非フッ素型脂肪族モノアルコール（Ｅ_α1）であるＩＰＡ（イソプロパノール）と非フッ素型脂肪族モノアルコール以外の溶剤（Ｅ_α2）とのＨＳＰ距離Ｒａ２、溶剤（Ｅ_α）の沸点、溶剤（Ｅ_α）のＣｌｏｇＰ値を示す。ＣｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＤｒａｗ１９．１のデータベースに格納されている値である。

表１におけるハンセン溶解度パラメータは、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、４－ヒドロキシ－２－ブタノン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルラクトアミド、３－メトキシ－１－プロパノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチル（Ｒ）－（－）－３－ヒドロキシブチレート、ジエチレングリコール及びアセトンについては、ポリマーハンドブック第４版に記載されている値を、Ｘ－１２－５２６３ＨＰについては、後述の「溶解球法によるハンセン溶解度パラメータの測定」により算出された値を示す。

溶解球法によるハンセン溶解度パラメータの測定
透明の容器に、表２に示すような溶解度パラメータが既知の溶媒（出典：ポリマーハンドブック第４版）１ｍＬと、Ｘ－１２－５２６３ＨＰ １ｍＬを投入し混合液を調製した。得られた混合物を振とうした後、混合液の外観を目視にて観察し、得られた観察結果から下記の評価基準に基づいてＸ－１２－５２６３ＨＰの溶媒への溶解性を評価した。なお、評価基準が１又は２の場合は溶媒が測定試料を溶解したと判断し、評価基準が０の場合は溶媒が測定試料を溶解しなかったと判断した。評価結果を表２に示す。
（評価基準）
２：混合液の外観は半透明である。
１：混合液の外観は無色透明である。
０：混合液の外観は白濁している。

得られた溶解性の評価結果から、上述の溶解球法を用いて溶解度球を作成した。得られた溶解度球の中心座標をＸ－１２－５２６３ＨＰのハンセン溶解度パラメータとした。

また、上記の中間層形成用組成物Ｅ１～Ｅ１４及びＣ１～Ｃ３については、それぞれ以下の加速試験を行った。

加速試験
調製した中間層形成用組成物Ｅ１～Ｅ１４及びＣ１～Ｃ３を各４０ｍＬ用意し、それぞれポリプロピレン製使い捨て容器に取り分け、ポリ塩化ビニリデン製の耐熱ガスバリア性フィルムで蓋をした後、温度２２℃湿度５５％の大気雰囲気下、４００ｒｐｍで２４時間攪拌し、中間層形成用組成物Ｅ１（加速２４時間）～Ｅ１４（加速２４時間）Ｃ１（加速２４時間）、Ｃ２（加速２４時間）、Ｃ３（加速２４時間）を作製した。

［撥水層形成用組成物の調製］
有機ケイ素化合物（Ａ）として上記式（ａ３）を満たす化合物（ａ１０）、有機ケイ素化合物（Ｂ）としてＦＡＳ１３Ｅ（Ｃ₆Ｆ₁₃－Ｃ₂Ｈ₄－Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、東京化成工業株式会社製）、溶剤（Ｄ）としてＦＣ-３２８３（Ｃ₉Ｆ₂₁Ｎ、フロリナート、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌し、撥水層形成用組成物を得た。撥水層形成用組成物中の有機ケイ素化合物（Ａ）の割合は０．０８５質量％、有機ケイ素化合物（Ｂ）の割合は０．０５質量％であった。なお、有機ケイ素化合物（Ａ）として使用した化合物（ａ１０）は、上述の化合物（ａ１１）及び（ａ２１）の要件を満たすとともに、好ましい態様も含めた式（ａ３）の要件を満たす化合物である。

［積層体の作製］
実施例２－１－１
大気圧プラズマ装置（富士機械製造株式会社製）を用いて被塗布面を活性化処理したアクリル系ハードコート層を有するポリエチレンテレフタレート基材（ハードコート層厚み：５μｍ、基材厚み：５０μｍ）におけるハードコート層上に、前記で得られた中間層形成用組成物Ｅ１を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ ＭＳ－Ａ１００（バーコーター）、＃５のバーを用い、０．５ｍｌ、１００ｍｍ／ｓｅｃの条件で塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、中間層を形成させた。その後、撥水層形成用組成物を、前記と同様の条件で中間層上に塗布し、１００℃で３０秒乾燥させ、撥水層を形成させた。前記以下の方法で測定した中間層、および、撥水層の厚みは、実施例２－１－１において、それぞれ、５．０ｎｍ、３．７ｎｍであった。

中間層（ｃ）の厚み測定
中間層（ｃ）及び撥水層(ｒ)が塗工された積層体に対して、ＦＩＢ－ＳＥＭで超薄切片を作製し、断面方向から走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することにより中間層（ｃ）の厚みを測定した。
＜ＦＩＢ加工条件＞
装置名：ＨｅｌｉｏｓＧ４ＵＸ（日本ＦＥＩ社製）
イオン源：Ｇａ
加速電圧：３０ｋＶ
試料厚み：１００ｎｍ以下
＜ＳＴＥＭ測定条件＞
装置名：ＨｅｌｉｏｓＧ４ＵＸ（日本ＦＥＩ社製）
加速電圧：２３ｋＶ
電流値：５０ｐＡ
倍率：１００万倍

撥水層（ｒ）の厚み測定
撥水層（ｒ）の膜厚は下記の記載に従い、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて測定した。まず、大気圧プラズマ処理したガラス基板上に実施例２－１－１と同様の方法で中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）を作製した。その際、撥水層形成用組成物の塗布量を４点変えて塗布し、中間層層（ｃ）の厚みが同じで、撥水層（ｒ）の膜厚が違う積層体を合計４種類作製した。
次にエリプソメーターを用いて各撥水層（ｒ）の膜厚を測定した。また、同層に対してＸＰＳ法を用いてＦ元素の量、及びＦ元素に結合している以外のＣ元素の量を測定して、その比（Ｆ／Ｃ（Ｃ－Ｆ以外））を算出し、撥水層（ｒ）の膜厚に対する検量線を作成した。この場合、Ｆ元素の量は撥水層（ｒ）に由来し、Ｆ元素と結合したＣ元素以外のＣ元素の量は中間層（ｃ）に由来している。
次に実施例２－１－１で作製した積層体について、ＸＰＳ測定を実施し、上記で作製した検量線に従って撥水層（ｒ）の膜厚を算出した。
＜ＸＰＳ測定条件＞
装置名：Ｔｈｅｒｍｏｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製 Ｋ－ａｌｐｈａ
Ｘ線源：モノクロＡｌ Ｋα
出力：７２Ｗ（１２ｋＶ， ６ｍＡ）
スポットサイズ：４００μｍ
パスエネルギー：５０ｅＶ
Ｄｗｅｌｌ ｔｉｍｅ：５０ｍｓ
モード(元素)：ナロー（Ｆ，Ｃ）
中和銃：ｏｎ

実施例２－１－２
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ１（加速２４時間）を使用したこと以外は、実施例２－１－１と同様にして実施例２－１－２（加速２４時間）の積層体を得た。

実施例２－２－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ２を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

実施例２－２－２
中間層形成用組成物Ｅ２の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ２（加速２４時間）を使用したこと以外は、実施例２－２－１と同様にして実施例２－２－２（加速２４時間）の積層体を得た。

実施例２－３－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ３を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

実施例２－３－２
中間層形成用組成物Ｅ３の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ３（加速２４時間）を使用したこと以外は、実施例２－３－１と同様にして実施例２－３－２（加速２４時間）の積層体を得た。

実施例２－４－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ４を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

実施例２－４－２
中間層形成用組成物Ｅ４の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ４（加速２４時間）を使用したこと以外は、実施例２－４－１と同様にして、実施例２－４－２（加速２４時間）の積層体を得た。

実施例２－５－１～実施例２－１４－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｅ５～Ｅ１４をそれぞれ用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして実施例２－５－１～実施例２－１４－１の積層体を得た。

実施例２－５－２～実施例２－１４－２
実施例２－５－１～実施例２－１４－１で用いた中間層形成用組成物Ｅ５～Ｅ１４に代えて、それぞれ中間層形成用組成物Ｅ５（加速２４時間）～Ｅ１４（加速２４時間）を用いて、実施例２－５－２（加速２４時間）～実施例２－１４－２（加速２４時間）の積層体を得た。

比較例２－１－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ１を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

比較例２－１－２
中間層形成用組成物Ｃ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ１（加速２４時間）を使用したこと以外は、比較例２－１－１と同様にして比較例２－１－２（加速２４時間）の積層体を得た。

比較例２－２－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ２を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

比較例２－２－２
中間層形成用組成物Ｃ２の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ２（加速２４時間）を使用したこと以外は、比較例２－２－１と同様にして比較例２－２－２（加速２４時間）の積層体を得た。

比較例２－３－１
中間層形成用組成物Ｅ１の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ３を用いたこと以外は実施例２－１－１と同様にして積層体を得た。

比較例２－３－２
中間層形成用組成物Ｃ３の代わりに、中間層形成用組成物Ｃ３（加速２４時間）を使用したこと以外は、比較例２－３－１と同様にして比較例２－３－２（加速２４時間）の積層体を得た。

上記実施例及び比較例で得られた組成物及び積層体を、下記の方法で評価した。

接触角の測定（初期接触角）
実施例２－Ｘ－１（Ｘは１～１４を意味する）及び比較例２－１－１、２－２－１、２－３－１で得られた積層体における撥水層側の表面に、３μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、液滴法（解析方法：θ／２法）にて、水の接触角を測定した。

耐摩耗性の測定（初期耐摩耗性１）
実施例２－Ｘ－１（Ｘは１～１４を意味する）及び比較例２－１－１、２－２－１、２－３－１で得られた積層体に、ｍｉｎｏａｎ製消しゴムを具備したスクラッチ装置を用い、消しゴムが積層体の撥水層（ｒ）面に接した状態（接触面：直径６ｍｍの円）で荷重１０００ｇをかけ、消しゴムを４０ｒ／ｍｉｎの速度（一分間に４０往復する速度）、ストローク４０ｍｍで積層体上を往復させ、耐摩耗試験を行った。消しゴムが積層体を３０００回往復した後の水の接触角を測定した。

耐摩耗性の測定（初期耐摩耗性２）
実施例２－Ｘ－１（Ｘは１～１４を意味する）及び比較例２－１－１、２－２－１、２－３－１で得られた積層体に、スチールウール♯００００（ボンスター社製）を具備したスチールウール試験機（大栄精機社製）を用い、スチールウールが積層体の表面（撥水層（ｒ））に接した状態で、荷重１０００ｇ（圧力に換算すると、約２５０ｇ／ｃｍ²）をかけて摩耗試験を行い、１５００往復試験した際の傷の本数を目視にて確認した。なお、傷の本数の確認は、照度１０００ルクスにて行った。

加速試験後の耐摩耗性の測定
実施例２－Ｙ－２（Ｙは１～１４を意味する）及び比較例２－１－２、２－２－２、２－３－２で得られた積層体に、ｍｉｎｏａｎ製消しゴムを具備したスクラッチ装置を用い、消しゴムが積層体の撥水層（ｒ）面に接した状態（接触面：直径６ｍｍの円）で荷重１０００ｇをかけ、消しゴムを４０ｒ／ｍｉｎの速度（一分間に４０往復する速度）、ストローク４０ｍｍで積層体上を往復させ、耐摩耗試験を行った。消しゴムが積層体を３０００回往復した後の水の接触角を測定した。

結果を表３－１、３－２、３－３及び表４に示す。

表３－１～表３－３によれば、アミン骨格及びメトキシ基を含む有機ケイ素化合物（Ｃ）と、比率：δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅ_α）の混合組成物であって、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量が０．００１質量％以上、０．２５質量％未満である本発明の混合組成物を撥水層のプライマー層として用いると、一定期間保存した後にも良好な撥水性を示すことができ、保存安定性に優れていることが分かる。

本発明の積層体は、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、ナノインプリント技術、太陽電池、自動車や建物の窓ガラス、調理器具などの金属製品、食器などのセラミック製品、プラスチック製の自動車部品等に好適に用いることができ、産業上有用である。また、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周りの各部材の物品などにも好ましく用いられる。

Claims (11)

1. アミノ基又はアミン骨格と、メトキシ基とを含む有機ケイ素化合物（Ｃ）と、
   ハンセン溶解度パラメータにおける水素結合項（δＨ）と分散項（δＤ）との比率をδＨ／δＤとしたとき、δＨ／δＤが０．４１以上である溶剤（Ｅ_α）の混合組成物であって、
   前記混合組成物１００質量％に対する前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量が０．００１質量％以上、０．２５質量％未満である混合組成物。
2. 前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の一分子中、前記アミン骨格が２つ以上である請求項１に記載の混合組成物。
3. 前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の一分子中、ケイ素原子が２つ以上である請求項１又は２に記載の混合組成物。
4. 前記溶剤（Ｅ_α）は、一分子中に１以上のヒドロキシ基を有する請求項１又は２に記載の混合組成物。
5. 前記混合組成物に含まれる全溶剤の合計１００質量％における前記溶剤（Ｅ_α）の割合が７５質量％以上である請求項１又は２に記載の混合組成物。
6. 下記式（Ｅ．１）に基づいて算出される、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）と溶剤（Ｅ_α）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ１が３．０～２０．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である請求項１又は２に記載の混合組成物。
   

   

   式中、
   δＤ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＤ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＰ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＰ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＨ_ｃ：有機ケイ素化合物（Ｃ）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＨ_α：溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。
7. 前記溶剤（Ｅ_α）は、非フッ素型脂肪族モノアルコール（Ｅ_α1）と、非フッ素型脂肪族モノアルコール以外の溶剤（Ｅ_α2）を含み、下記式（Ｅ．２）で表される前記溶剤（Ｅ_α1）と前記溶剤（Ｅ_α2）とのハンセン溶解度パラメータの距離Ｒａ２が４．０～１４．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である請求項１又は２に記載の混合組成物。
   

   

   式中、
   δＤ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＤ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの分散項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＰ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＰ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの極性項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＨ_α1：溶剤（Ｅ_α1）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5、
   δＨ_α2：溶剤（Ｅ_α2）のハンセン溶解度パラメータの水素結合項（Ｊ／ｃｍ³）^0.5である。
8. 前記溶剤（Ｅ_α）は、１気圧での沸点が１００℃以下の溶剤を含む請求項１又は２に記載の混合組成物。
9. 前記溶剤（Ｅ_α）は、オクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０以上である溶剤（Ｅ_αO）と、オクタノール／水分配係数：ＣｌｏｇＰ値が０未満である溶剤（Ｅ_αi）を含む請求項１又は２に記載の混合組成物。
10. 溶剤（Ｅ_α）のハンセン溶解度パラメータの極性項（δＰ）の値は６．０（Ｊ／ｃｍ³）^0.5以上である請求項１又は２に記載の混合組成物。
11. 基材（ｓ）及び撥水層（ｒ）が、中間層（ｃ）を介して積層された積層体であって、
    前記中間層（ｃ）が、請求項１又は２に記載の組成物から形成される層である積層体。