JP2023130599A - 周面発光線状導光体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】放射される光の強度の均一性を高めることが可能な周面発光線状導光体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】周面発光線状導光体３は、長手方向の一端部においてコア４１がクラッド４２から露出した光ファイバ４と、クラッド４２から露出した部分のコア４１の先端部４１１を含む所定長さ範囲Ｅにわたってコア４１の外周面４１ａを覆う光散乱部材５とを備える。光散乱部材５は、光透過性の基材５０に光散乱粒子５００が分散混合されており、コア４１の外周囲における光散乱粒子５００の量が、クラッド４２側の端部よりもコア４１の先端側の端部において多く、コア４１の先端部４１１の端面４１１ａには反射膜７が形成されている。周面発光線状導光体３の製造方法は、コア４１がクラッド４２から露出した光ファイバ４のコア４１の端面４１１ａに反射膜７を形成した後、コア４１の先端部４１１を含む所定長さ範囲Ｅにわたって光散乱部材５を形成する。【選択図】図３

Description

本発明は、光ファイバと光散乱部材とを備えた周面発光線状導光体、及びその製造方法に関する。

従来、例えば人体の食道や腸などの管腔臓器、あるいは血管や心臓内に光ファイバを備えた光ファイバカテーテルを挿入し、光ファイバカテーテルから放射される光によって患部の治療を行うカテーテル治療が行われている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１の医療用照明システムは、レーザ光源と、レーザ光源から発せられるレーザ光を導く光導波路（光ファイバ）と、光導波路の遠位端に取り付けられるディフューザ要素とを有している。ディフューザ要素は、石英ガラス等の透明体からなるディフューザ基体を有しており、このディフューザ基体に光を散乱させる散乱要素が含まれている。ディフューザ要素は、光導波路よりも直径が大きい円筒状であり、光導波路によって導かれたレーザ光がディフューザ要素の長手方向の一方の端部から入射する。ディフューザ要素に入射したレーザ光は、散乱要素によって散乱され、治療対象部位を照射する。ディフューザ要素の他方の端部には、ディフューザ基体を長手方向に通過したレーザ光を反射してディフューザ要素に戻す反射面が設けられている。

特表２０２０－５３４９５６号公報

上記のような光ファイバカテーテルは、治療の精度と安全性の向上のため、側方に放射される光の強度が長手方向において高い均一性を有することが望ましい。しかし、例えば特許文献１に記載のものにおいて、ディフューザ基体の長手方向に沿って散乱要素を均等に配置した場合には、側方に放射される光の強度が長手方向の部位によってばらついてしまう。

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、放射される光の強度の均一性を高めることが可能な周面発光線状導光体、及びその製造方法を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決することを目的として、長手方向の一端部においてコアがクラッドから露出した光ファイバと、前記クラッドから露出した部分の前記コアの先端部を含む所定長さ範囲にわたって前記コアの外周面を覆う光散乱部材とを備え、前記光散乱部材は、光透過性の基材に光散乱粒子が分散混合されており、前記コアの外周囲における前記光散乱粒子の量が、前記クラッド側の端部よりも前記コアの先端側の端部において多く、前記コアの前記先端部の端面に反射膜が形成されている、周面発光線状導光体を提供する。

また、本発明は、上記課題を解決することを目的として、コアと前記コアの外周面を覆うクラッドとを有する光ファイバの長手方向の一端部における前記クラッドを除去して前記コアを露出させる光ファイバ加工工程と、前記クラッドから露出した部分の前記コアの先端部の端面に反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記コアの前記先端部を含む所定長さ範囲にわたって、光透過性の基材に光散乱粒子が分散混合された光散乱部材を形成する光散乱部材形成工程と、を有し、前記光散乱部材形成工程において、前記コアの外周囲における前記光散乱粒子の量が前記クラッド側の端部よりも前記コアの先端側の端部において多くなるように前記光散乱部材を形成する、周面発光線状導光体の製造方法を提供する。

本発明に係る周面発光線状導光体及びその製造方法によれば、放射される光の強度の均一性を高めることが可能となる。

本発明の実施の形態に係る周面発光線状導光体を用いて構成されたカテーテルを有する治療装置を、治療対象の患者と共に示す模式図である。 患者の体内に挿入されたカテーテルの先端部を示す模式図である。 （ａ）は、周面発光線状導光体の一端部を示す斜視図である。（ｂ）は、軸方向に沿った周面発光線状導光体の断面図である。（ｃ）は、周面発光線状導光体の軸方向における先端部の断面図である。 （ａ）～（ｄ）は、光ファイバの加工工程を示す説明図である。 （ａ）～（ｅ）は、露出したコアの外周に第１乃至第４の光散乱層及び保護コート層を順次形成する状態を示す説明図である。 （ａ）及び（ｂ）は、第１乃至第４の光散乱層を形成するための光散乱層形成装置を示す概略構成図である。

［実施の形態］
図１は、本発明の実施の形態に係る周面発光線状導光体をカテーテルとして用いる治療装置を、治療対象の患者と共に示す模式図である。治療装置１は、本体２と周面発光線状導光体３とを有し、周面発光線状導光体３の先端部が患者Ｐの体内に挿入されている。本体２は、レーザ光を発する光源２１を有しており、光源２１で発生したレーザ光が周面発光線状導光体３の基端部に入射する。

＜周面発光線状導光体３の構成＞
図２は、患者Ｐの体内に挿入された周面発光線状導光体３の一部を示す模式図である。図２では、患者Ｐの血管Ｐ_１の一部を切り欠いて、血管Ｐ_１内に挿入された周面発光線状導光体３を示している。周面発光線状導光体３から散乱放射されたレーザ光Ｌｒは、治療部Ｐ_２を照射し、予め治療部Ｐ_２に含ませた薬剤を反応させる。これにより、血管内レーザ治療が行われる。

図３（ａ）は、周面発光線状導光体３の一端部を示す斜視図である。図３（ｂ）は、軸方向に沿った周面発光線状導光体３の断面図である。図３（ｃ）は、周面発光線状導光体３の軸方向における先端部の断面図である。

周面発光線状導光体３は、光源２１で発生したレーザ光を伝搬光として治療部Ｐ_２に導く光ファイバ４と、光ファイバ４の一端部に設けられた光散乱部材５と、光散乱部材５を覆う保護コート層６とを備えている。光ファイバ４は、コア４１、クラッド４２、及びシース４３を有している。光ファイバ４の長手方向の一端部では、クラッド４２の外周面４２ａがシース４３から露出しており、さらにコア４１の外周面４１ａがクラッド４２から露出している。

クラッド４２から露出した部分のコア４１の先端部４１１の端面４１１ａには、光源２１で発生してコア４１を伝搬した伝搬光であるレーザ光を反射する反射膜７が形成されている。本実施の形態では、反射膜７がスパッタ加工によって形成されている。なお、ここでスパッタ加工とは、真空中で金属のターゲットにアルゴンガス等の不活性ガスを衝突させ、放出されたターゲットの原子又は分子を対象物に付着させる加工である。スパッタ加工のターゲットに用いられる金属は、コア４１に付着しやすく光の反射率が高い、金（Ａｕ）あるいは銀（Ａｇ）を好適に用いることができる。スパッタ加工によって形成される反射膜７の厚さｔ_０（図３（ｃ）参照）は、例えば数ｎｍである。

反射膜７は、コア４１の先端部４１１の端面４１１ａの全体を覆う円盤部７１と、端面４１１ａの近傍におけるコア４１の外周面４１ａを覆う円筒部７２とが一体に形成されている。つまり、反射膜７は、コア４１の端面４１１ａと共にコア４１の外周面４１ａの一部を覆っている。ただし、コア４１の長手方向における円筒部７２の長さは、できるだけ短いことが好ましく、コア４１の端面４１１ａの直径よりも短いことが望ましい。なお、本実施の形態では、反射膜７が金属製であるが、これに限らず、白色の樹脂やセラミック等の誘電体材料によって反射膜７を形成してもよい。

また、スパッタ加工に限らず、例えば銀鏡反応によって反射膜７を形成してもよく、溶融した半田を付着させて固化させることによって反射膜７を形成してもよい。また、超音波振動によってコア４１の先端部４１１に半田を接合してもよい。このようにして金属製の反射膜７を例えば１μｍ以上の厚さで形成した場合には、反射膜７の熱伝導により、レーザ光によって発熱する部分の放熱性の向上が図られる。

光散乱部材５は、クラッド４２から露出した部分のコア４１の先端部４１１を含む所定長さ範囲Ｅにわたって、反射膜７と共にコア４１の外周面４１ａの全周を覆っている。光散乱部材５に覆われた部分のコア４１の軸方向長さは、例えば１～５ｃｍである。コア４１の長手方向の一部は、クラッド４２にも光散乱部材５にも覆われていない非被覆部４１０となっている。保護コート層６は、光透過性を有しており、光散乱部材５、コア４１の非被覆部４１０、及びシース４３から露出した部分のクラッド４２を覆っている。

本実施の形態では、一例として、コア４１が石英ガラスからなり、クラッド４２がポリマーからなる。シース４３は、フッ素系樹脂であり、より具体的にはＥＴＦＥ（エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー）である。コア４１の直径は、例えば２００μｍである。コア４１の屈折率は、クラッド４２の屈折率よりも高く、クラッド４２内におけるコア４１を伝搬する光がクラッド４２との界面で全反射する。コア４１がクラッド４２から露出した部分では、コア４１の外周面４１ａから光が出射される。

光散乱部材５は、コア４１の外周面４１ａから出射した光を散乱放射する。光散乱部材５は、コア４１よりも屈折率が高い光透過性の基材５０に多数の光散乱粒子５００が分散混合されている。ここで、分散混合されているとは、光散乱粒子５００が基材５０内の一部に固まってしまうことがないよう、基材５０内に光散乱粒子５００が均等に散らばるように混合されていることをいう。本実施の形態では、基材５０が熱硬化性の樹脂である。光散乱粒子５００は、肉眼では認識できない程度の微細な粒子であるが、図３（ｃ）では光散乱粒子５００の大きさを誇張して示している。

基材５０の屈折率はコア４１よりも高いため、コア４１の内部から外周面４１ａに向かう光が高い割合で光散乱部材５に入射する。本実施の形態では、基材５０が熱硬化性のシリコーン樹脂であり、その屈折率が例えば１．５２である。コア４１の屈折率は、例えば１．４６である。なお、保護コート層６の屈折率は、基材５０の屈折率と同じか、あるいは基材５０の屈折率よりも高い。

光散乱粒子５００は、光散乱部材５に入射した光を反射する金属粒子である。本実施の形態では、光散乱粒子５００としてルチル型の酸化チタン（ＴｉＯ_２）を用いる。ただし、これに限らず、酸化アルミニウム（アルミナ）や、銀、銅、鉄、もしくはこれらの合金の微細な金属粉を光散乱粒子５００として用いてもよい。

光散乱部材５は、コア４１の外周面４１ａからの厚さがコア４１の先端部４１１側ほど段階的に厚くなる多段構造である。また、光散乱部材５は、複数の光散乱層からなる多層構造であり、所定長さ範囲Ｅにおけるクラッド４２側の端部からコア４１の先端部４１１に向かって、徐々にコア４１の外周に積層された複数の光散乱層の層数が多くなる。光散乱部材５の厚さは、コア４１の径方向に重なる光散乱層の層数が多い部分ほど厚くなっている。本実施の形態では、光散乱部材５の光散乱層の層数が４であり、コア４１の先端部４１１の外周では４つの光散乱層の全てが径方向に重なっている。光散乱部材５のクラッド４２側の端部では、一つの光散乱層のみがコア４１の外周に形成されている。

以下、これら４つの光散乱層を、内側から順に、第１の光散乱層５１、第２の光散乱層５２、第３の光散乱層５３、及び第４の光散乱層５４とする。第１乃至第４の光散乱層５１～５４は、それぞれ基材５０に光散乱粒子５００が分散混合されている。第１乃至第４の光散乱層５１～５４のそれぞれの基材５０に対する光散乱粒子５００の濃度は、例えば０～２００ｍｇ／ｍＬ（１ｍＬあたり０ｍｇ以上２００ｍｇ以下）である。

図３（ｃ）に示すように、コア４１の径方向における第１乃至第４の光散乱層５１～５４のそれぞれの厚みｔ_１～ｔ_４は、互いに同程度である。ｔ_１～ｔ_４は、それぞれ例えば５～１０μｍである。なお、保護コート層６の厚みｔ_５は、一例としてｔ_１～ｔ_４と同じであるが、ｔ_１～ｔ_４と異なっていてもよい。

図３（ｂ）に示すように、光散乱部材５に覆われたコア４１の所定長さ範囲Ｅを層の数（本実施の形態では４）に応じて第１乃至第４の領域Ｅ_１～Ｅ_４に分割したとき、最もコア４１の先端側の第１の領域Ｅ_１では、コア４１の外周に第１乃至第４の光散乱層５１～５４が形成されており、最もクラッド４２側の第４の領域Ｅ_４では、コア４１の外周に第４の光散乱層５４のみが形成されている。第１の領域Ｅ_１に隣り合う第２の領域Ｅ_２では、コア４１の外周に第２乃至第４の光散乱層５２～５４が形成されており、第４の領域Ｅ_４に隣り合う第３の領域Ｅ_３では、コア４１の外周に第３及び第４の光散乱層５３，５４が形成されている。コア４１の外周面４１ａ及び第１乃至第４の光散乱層５１～５４は、それぞれ隙間なく互いに密着している。

この多層構造により、コア４１の径方向における光散乱部材５の厚みは、第４の領域Ｅ_４の外周（クラッド４２側の端部）よりも、第１の領域Ｅ_１の外周（コア４１の先端部４１１側の端部）において厚くなっている。また、コア４１の外周囲における光散乱粒子５００の量は、第４の領域Ｅ_４の外周（クラッド４２側の端部）よりも第１の領域Ｅ_１の外周（コア４１の先端部４１１側の端部）において多くなっている。

第１乃至第４の光散乱層５１～５４は、基材５０への光散乱粒子５００の混合割合が互いに異なっている。本実施の形態において、第１乃至第４の光散乱層５１～５４における光散乱粒子５００の濃度をそれぞれＣ_１～Ｃ_４としたとき、第１の光散乱層５１の濃度Ｃ_１は例えば２０ｍｇ／ｍＬ、第２の光散乱層５２の濃度Ｃ_２は例えば１０ｍｇ／ｍＬ、第３の光散乱層５３の濃度Ｃ_３は例えば０ｍｇ／ｍＬ、第４の光散乱層５４の濃度Ｃ_４は例えば７ｍｇ／ｍＬである。つまり、本実施の形態では、第１乃至第４の光散乱層５１～５４における光散乱粒子５００の濃度Ｃ_１～Ｃ_４が、Ｃ_１＞Ｃ_２＞Ｃ_４＞Ｃ_３の関係にある。

このように、本実施の形態では、第１乃至第４の光散乱層５１～５４のうち最も光散乱粒子５００の混合割合が高い第１の光散乱層５１が、最もコア４１の先端側の第１の領域Ｅ_１に形成されている。

また、本実施の形態では、第４の領域Ｅ_４におけるコア４１の外周面４１ａに接して形成された第４の光散乱層５４の濃度Ｃ_４が、第３の領域Ｅ_３におけるコア４１の外周面４１ａに接して形成された第３の光散乱層５３の濃度Ｃ_３よりも高くなっている。これは、例えば濃度Ｃ_３と濃度Ｃ_４とを同じにした場合に光散乱部材５から放射される光の強度が光散乱部材５のクラッド４２側の端部から軸方向に少し離れたところでピークとなる現象が認められたため、光散乱部材５から放射される光の強度の均一性を高めると共に、光散乱部材５のクラッド４２側の端部における光強度の立ち上がりを良くするよう、調整を行った結果である。なお、上記の例では、第３の光散乱層５３の濃度Ｃ_３が０ｍｇ／ｍＬであり、第３の光散乱層５３に光散乱粒子５００が含まれていないが、第３の光散乱層５３に光散乱粒子５００を含めてもよい。ただし、この場合でも、第３の光散乱層５３の濃度Ｃ_３が第４の光散乱層５４の濃度Ｃ_４よりも低いことが望ましい。

なお、ここでは光散乱部材５の層の数が４である場合について説明したが、光散乱部材５の層の数は４に限らず、２又は３もしくは５以上であってもよい。層の数をｎ（ｎは２以上の自然数）とし、コア４１の軸方向長さ範囲Ｅを層数に応じたｎ個の領域に分割した場合、このｎ個の領域のうち、最もコア４１の先端側の領域における層の数がｎであり、最もクラッド４２側の領域における層の数が１となる。

また、光散乱部材５は、多層構造に限らず、基材５０への光散乱粒子５００の混合割合が均一な単層構造であってもよい。この場合、コア４１の径方向における光散乱部材５の厚みを、コア４１の先端部４１１側の端部においてクラッド４２側の端部よりも厚くすることで、コア４１の外周囲における光散乱粒子５００の量を、コア４１の先端部４１１側の端部においてクラッド４２側の端部よりも多くすることができる。

＜周面発光線状導光体３の製造方法＞
次に、周面発光線状導光体３の製造方法について説明する。周面発光線状導光体３の製造方法は、光ファイバ４の長手方向の一端部におけるクラッド４２を除去してコア４１を露出させる光ファイバ加工工程と、クラッド４２から露出した部分のコア４１の先端部４１１の端面４１１ａに反射膜７を形成する反射膜形成工程と、コア４１の外周囲における光散乱粒子５００の量がコア４１の先端部４１１側の端部においてクラッド４２側の端部よりも多くなるように光散乱部材５を形成する光散乱部材形成工程とを有している。光散乱部材形成工程はさらに、硬化によって光散乱部材５となる液状体を準備する準備工程と、この液状体の上方にクラッド４２の端部から突出したコア４１が鉛直方向に垂れるように光ファイバ４を配置する配置工程と、コア４１と液状体とを鉛直方向に相対移動させ、コア４１の軸方向の一部を液状体の液面よりも下方に移動させた後にコア４１を液状体から引き上げる移動工程と、コア４１を引き上げることにより付着した液状体を硬化させる硬化工程とを有している。

図４（ａ）～（ｄ）は、光ファイバ加工工程及び反射膜形成工程を示す説明図である。図４（ａ）は、例えばクリーブカットによって所定の長さに切り出された加工前の光ファイバ４の一端を示している。この状態では、コア４１の外周がクラッド４２に覆われ、さらにクラッド４２の外周がシース４３に覆われている。図４（ｂ）は、シース４３を軸方向の端部から所定の長さにわたって除去し、クラッド４２の外周面４２ａを露出させた状態である。図４（ｃ）は、シース４３から露出した部分のクラッド４２を軸方向の端部から所定の長さにわたって除去し、コア４１の外周面４１ａを露出させた状態である。反射膜形成工程では、図４（ｄ）に示すように、クラッド４２から露出した部分のコア４１の先端部４１１に反射膜７を形成する。

図５（ａ）～（ｄ）は、露出したコア４１の外周に第１乃至第４の光散乱層５１～５４及び保護コート層６を順次形成する状態を示す説明図である。図５（ａ）～（ｄ）に示すように、光散乱部材５は、コア４１の第１の領域Ｅ_１の外周に第１の光散乱層５１が形成された後、第１の光散乱層５１及びコア４１の第２の領域Ｅ_２の外周に第２の光散乱層５２が形成される。さらにその後、第２の光散乱層５２及びコア４１の第３の領域Ｅ_３の外周に第３の光散乱層５３が形成され、第３の光散乱層５３及びコア４１の第４の領域Ｅ_４の外周に第４の光散乱層５４が形成される。

図６（ａ）及び（ｂ）は、第１乃至第４の光散乱層５１～５４を形成するための光散乱層形成装置８を示す概略構成図である。図６（ａ）及び（ｂ）では、図面上下方向が鉛直方向の上下にあたる。光散乱層形成装置８は、ベースプレート８１と、ベースプレート８１に対して垂直に立接された支柱８２と、支柱８２に対して上下方向に移動可能な昇降台８３と、光ファイバ４を保持するホルダ８４と、支柱８２に固定されたヒータ８５とを備えている。

昇降台８３は、不図示のアクチュエータによって支柱８２に対して上下方向に移動する。このアクチュエータとしては、例えば電動モータの回転をボールねじ等によって直線運動に変換する構成のものを用いることができる。昇降台８３は、ホルダ８４を支持する支持部８３１を有しており、この支持部８３１によってホルダ８４を支持している。

ホルダ８４は、シース４３に覆われた部分の光ファイバ４を所定の長さ範囲にわたって鉛直方向に保持している。これにより、配置工程において、クラッド４２の端部から突出したコア４１が鉛直方向下方に向かって垂れるように配置される。ホルダ８４は、光ファイバ４を保持した状態で昇降台８３と共に上下方向に移動する。

ヒータ８５は、光ファイバ４を上下に挿通させる挿通孔８５０を有している。挿通孔８５０の周囲には、赤外線を放射する円筒状の放射材８５１が配置されており、放射材８５１が電熱線８５２によって加熱されることにより、赤外線が挿通孔８５０内に放射される。これにより、光ファイバ４のコア４１の周囲を全方位から均等に加熱することが可能である。放射材８５１及び電熱線８５２は、ケース部材８５３に収容されており、ケース部材８５３が連結アーム８５４によって支柱８２に連結されている。

準備工程では、光散乱粒子５００の混合割合が異なる複数種類の液状体（第１乃至第４の液状体９１１～９１４）を準備する。第１の液状体９１１は、硬化によって第１の光散乱層５１となり、第２の液状体９１２は、硬化によって第２の光散乱層５２となる。また、第３の液状体９１３は、硬化によって第３の光散乱層５３となり、第４の液状体９１４は、硬化によって第４の光散乱層５４となる。

第１乃至第４の液状体９１１～９１４には、硬化する前の液状の基材５０Ｌに多数の光散乱粒子５００が分散混合されている。液状の基材５０Ｌは、加熱工程前において常温で液状であり、ヒータ８５によって加熱されることにより硬化して、固体の基材５０となる。第１乃至第４の液状体９１１～９１４における光散乱粒子５００の濃度は、上記のＣ_１＞Ｃ_２＞Ｃ_４＞Ｃ_３の関係に応じた濃度である。

第１乃至第４の液状体９１１～９１４は、それぞれ第１乃至第４の容器９２１～９２４に収容されている。第１乃至第４の容器９２１～９２４は、上方が開口したカップ状である。図６（ａ）では、第１乃至第４の容器９２１～９２４を断面で示し、その内部の第１乃至第４の液状体９１１～９１４を図示している。また、図６（ａ）及び（ｂ）では、第２の容器９２２がベースプレート８１におけるヒータ８５の下方にあたる載置面８１ａに載置された状態を示している。

光散乱部材５を形成する際には、第１乃至第４の液状体９１１～９１４ごとに移動工程と硬化工程とを繰り返す。本実施の形態では、光散乱部材５が４層構造であるので、移動工程及び硬化工程をそれぞれ４回繰り返す。ベースプレート８１の載置面８１ａには、１回の移動工程及び硬化工程が終わる度に、第１乃至第４の液状体９１１～９１４が順次載置される。

移動工程では、昇降台８３の下方への移動によってコア４１の軸方向の一部を第１乃至第４の液状体９１１～９１４の液面よりも下方に移動させた後、コア４１を第１乃至第４の液状体９１１～９１４から引き上げる。液状の基材５０Ｌは、粘性を有しており、昇降台７３が上方へ移動すると、基材５０Ｌがその粘性によって周囲に付着した状態でコア４１が引き上げられる。図６（ａ）では、コア４１を第２の液状体９１２の液面９１２ａから上方に引き上げている状態を示している。

コア４１を引き上げる際には、可及的に均一な厚みで基材５０Ｌが付着するように、昇降台８３を例えば秒速０．０２ｍｍ程度の低速で引き上げる。コア４１の引き上げ速度は、０．１ｍｍ／秒以下であることが望ましく、０．０５ｍｍ／秒以下であることがより望ましい。図６（ａ）では、第２の液状体９１２が第１の光散乱層５１及びコア４１の第２の領域Ｅ_２の外周に均一な厚みで付着した状態を示している。

硬化工程では、図６（ｂ）に示すように、クラッド４２から露出したコア４１がヒータ８５の挿通孔８５０内に位置するまで昇降台８３を上昇させ、移動工程において付着した第１乃至第４の液状体９１１～９１４を放射材８５１から放射される赤外線によって加熱し、硬化させる。

そして、コア４１の外周に第１乃至第４の光散乱層５１～５４を形成した後、保護コート層６を形成することにより周面発光線状導光体３が得られる。保護コート層６は、例えば第１乃至第４の光散乱層５１～５４と同様にして形成してもよいが、第１乃至第４の光散乱層５１～５４と異なる工程により保護コート層６を形成してもよい。

（実施の形態の作用及び効果）
以上説明した実施の形態によれば、光散乱部材５の厚さがコア４１の先端部４１１側ほど段階的に厚くなる多段構造であり、光散乱粒子５００の量をコア４１の先端部４１１側の端部においてクラッド４２側の端部よりも多くすることにより、光散乱部材５から放射される光の強度の均一性が高められる。また、本実施の形態では、コア４１の先端部４１１の端面４１１ａに反射膜７が形成されているので、コア４１の先端部４１１から軸方向に放射される強い光によって治療対象の患者Ｐの人体に損傷を与えてしまうことを防ぐことができる。またさらに、反射膜７で反射した反射光がコア４１の外周面４１ａから出射されて光散乱部材５によって散乱され、治療部Ｐ_２を照射するので、光源２１で発生したレーザ光の利用効率を高めることができると共に、光散乱部材５から放射される光の強度の均一性をより高めることができる。

（実施の形態のまとめ）
次に、以上説明した実施の形態から把握される技術思想について、実施の形態における符号等を援用して記載する。ただし、以下の記載における各符号は、特許請求の範囲における構成要素を実施の形態に具体的に示した部材等に限定するものではない。

［１］長手方向の一端部においてコア（４１）がクラッド（４２）から露出した光ファイバ（４）と、前記クラッド（４２）から露出した部分の前記コア（４１）の先端部（４１１）を含む所定長さ範囲（Ｅ）にわたって前記コア（４１）の外周面（４１ａ）を覆う光散乱部材（５）とを備え、前記光散乱部材（５）は、光透過性の基材（５０）に光散乱粒子（５００）が分散混合されており、前記コア（４１）の外周囲における前記光散乱粒子（５００）の量が、前記クラッド（４２）側の端部よりも前記コア（４１）の先端側の端部において多く、前記コア（４１）の前記先端部（４１１）の端面（４１１ａ）に反射膜（７）が形成されている、周面発光線状導光体（３）。

［２］前記光散乱部材（５）は、前記コア（４１）よりも屈折率が高い熱硬化性のシリコーン樹脂に光散乱粒子（５００）が分散混合されている、上記［１］に記載の周面発光線状導光体（３）。

［３］前記光散乱部材（５）は、複数の光散乱層（５１～５４）からなり、前記所定長さ範囲（Ｅ）における前記クラッド（４２）側の端部から前記先端部（４１１）に向かって、徐々に前記コア（４１）の外周に積層された前記複数の光散乱層（５１～５４）の層数が多くなる、上記［１］又は［２］に記載の周面発光線状導光体（３）。

［４］前記光散乱粒子（５００）が酸化チタンからなり、前記複数の光散乱層（５１～５４）のそれぞれの前記シリコーン樹脂に対する前記光散乱粒子（５００）の濃度が１ｍＬあたり０ｍｇ以上２００ｍｇ以下である、上記［２］に従属する上記［３］に記載の周面発光線状導光体（３）。

［５］前記反射膜（７）は、前記コア（４１）の前記端面（４１１ａ）と共に前記コア（４１）の外周面（４１ａ）の一部を覆っている、上記［１］乃至［４］の何れかに記載の周面発光線状導光体（３）。

［６］前記反射膜（７）は、スパッタ加工により形成されている、上記［１］乃至［５］の何れかに記載の周面発光線状導光体（３）。

［７］コア（４１）と前記コア（４１）の外周面（４１ａ）を覆うクラッド（４２）とを有する光ファイバ（４）の長手方向の一端部における前記クラッド（４２）を除去して前記コア（４１）を露出させる光ファイバ加工工程と、前記クラッド（４２）から露出した部分の前記コア（４１）の先端部（４１１）の端面（４１１ａ）に反射膜（７）を形成する反射膜形成工程と、前記コア（４１）の前記先端部（４１１）を含む所定長さ範囲（Ｅ）にわたって、光透過性の基材（５０）に光散乱粒子（５００）が分散混合された光散乱部材（５）を形成する光散乱部材形成工程と、を有し、前記光散乱部材形成工程において、前記コア（４１）の外周囲における前記光散乱粒子（５００）の量が前記クラッド（４２）側の端部よりも前記コア（４１）の先端側の端部において多くなるように前記光散乱部材（５）を形成する、周面発光線状導光体（３）の製造方法。

（付記）
以上、本発明の実施の形態を説明したが、上記に記載した実施の形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。

３…周面発光線状導光体 ４…光ファイバ
４１…コア ４１１…先端部
４１１ａ…端面 ４１ａ…外周面
４２…クラッド ５…光散乱部材
５０…基材 ５００…光散乱粒子
５１…第１の光散乱層 ５２…第２の光散乱層
５３…第３の光散乱層 ５４…第４の光散乱層
７…反射膜 Ｅ…所定長さ範囲

Claims (7)

1. 長手方向の一端部においてコアがクラッドから露出した光ファイバと、前記クラッドから露出した部分の前記コアの先端部を含む所定長さ範囲にわたって前記コアの外周面を覆う光散乱部材とを備え、
   前記光散乱部材は、光透過性の基材に光散乱粒子が分散混合されており、
   前記コアの外周囲における前記光散乱粒子の量が、前記クラッド側の端部よりも前記コアの先端側の端部において多く、
   前記コアの前記先端部の端面に反射膜が形成されている、
   周面発光線状導光体。
2. 前記光散乱部材は、前記コアよりも屈折率が高い熱硬化性のシリコーン樹脂に前記光散乱粒子が分散混合されている、
   請求項１に記載の周面発光線状導光体。
3. 前記光散乱部材は、複数の光散乱層からなり、
   前記所定長さ範囲における前記クラッド側の端部から前記先端部に向かって、徐々に前記コアの外周に積層された前記複数の光散乱層の層数が多くなる、
   請求項１又は２に記載の周面発光線状導光体。
4. 前記光散乱粒子が酸化チタンからなり、
   前記複数の光散乱層のそれぞれの前記シリコーン樹脂に対する前記光散乱粒子の濃度が１ｍＬあたり０ｍｇ以上２００ｍｇ以下である、
   請求項２に従属する請求項３に記載の周辺発光線状導光体。
5. 前記反射膜は、前記コアの前記端面と共に前記コアの外周面の一部を覆っている、
   請求項１乃至４の何れか１項に記載の周面発光線状導光体。
6. 前記反射膜は、スパッタ加工により形成されている、
   請求項１乃至５の何れか１項に記載の周面発光線状導光体。
7. コアと前記コアの外周面を覆うクラッドとを有する光ファイバの長手方向の一端部における前記クラッドを除去して前記コアを露出させる光ファイバ加工工程と、
   前記クラッドから露出した部分の前記コアの先端部の端面に反射膜を形成する反射膜形成工程と、
   前記コアの前記先端部を含む所定長さ範囲にわたって、光透過性の基材に光散乱粒子が分散混合された光散乱部材を形成する光散乱部材形成工程と、を有し、
   前記光散乱部材形成工程において、前記コアの外周囲における前記光散乱粒子の量が前記クラッド側の端部よりも前記コアの先端側の端部において多くなるように前記光散乱部材を形成する、
   周面発光線状導光体の製造方法。

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