JP2023117711A - 排ガス浄化触媒の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】シャワーノズルの待機時間を短縮した排ガス浄化触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法は、一のハニカム基材の一端に触媒金属含有スラリーをシャワーノズルから供給するスラリー供給工程Ｓ１０と、第１の吸引デバイスを用いて、上記スラリーが供給された上記一のハニカム基材に対して該ハニカム基材の他端方向への加圧または減圧を行い、上記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む第１吸引工程Ｓ２１と、第２の吸引デバイスを用いて、第１吸引工程Ｓ２１後の上記一のハニカム基材に対して、さらに当該ハニカム基材の上記他端方向への加圧または減圧を行い、上記供給されたスラリーを上記ハニカム基材の内部に引き込む第２吸引工程Ｓ２２とを包含する。そして、スラリー供給工程Ｓ１０と、上記複数の吸引工程Ｓ２１、Ｓ２２とが同一の生産ラインでパラレルに実施される。【選択図】図３
Description
本発明は、車両の内燃機関の排気系統に設けられる排ガス浄化触媒の製造方法に関する。
車両エンジン等の内燃機関から排出される排ガスから炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）等の排ガス成分を酸化または還元反応によって除去するための排ガス浄化触媒として、いわゆる三元触媒（ＴＷＣ）が用いられている。
一般的に三元触媒には、コージェライト等からなるハニカム基材上に、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）等の無機酸化物からなる多孔質担体と、該担体に担持された酸化触媒及び／又は還元触媒として機能するパラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）等の金属（以下「触媒金属」ともいう。）を含む触媒コート層が形成されている。
一般的に三元触媒には、コージェライト等からなるハニカム基材上に、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）等の無機酸化物からなる多孔質担体と、該担体に担持された酸化触媒及び／又は還元触媒として機能するパラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）等の金属（以下「触媒金属」ともいう。）を含む触媒コート層が形成されている。
排ガス浄化触媒の製造方法の一例として、触媒コート層形成用スラリーをハニカム基材の端面に供給し、吸引によって、当該スラリーをハニカム基材の内部に引き込む技術が知られている。例えば、特許文献１には、シャワーノズルによって触媒金属含有溶液をハニカム基材の上部に供給することを含む製造技術が開示されている。また、特許文献２には、吸引により基材にコーティング懸濁液をコーティングした後、再吸引をすることでコーティング量を調整する技術が開示されている。
ところで、排ガス浄化触媒の生産ラインの一例では、シャワーノズルによってハニカム基材に触媒コート層形成用スラリーを供給するスラリー供給工程と、当該スラリーが供給されたハニカム基材を吸引して、ハニカム基材の内部に当該スラリーを引き込む吸引工程とが続けて実施される。一般的に、吸引工程に要する時間は、スラリー供給工程が要する時間よりも長いため、吸引工程が終了するまでシャワーノズルからの当該スラリーの供給を停止する時間（待機時間）が生じる。このような待機時間が長いと、シャワーノズルの吐出口付近の当該スラリーが乾燥し、吐出口の目詰まりが生じるおそれがある。シャワーノズルの吐出口の目詰まりが生じると、当該スラリーが不均一に基材に供給されるようになり、触媒コート層が不均一に形成され易くなる。
そこで、本発明は上記事情に鑑みて創出されたものであり、その主な目的はシャワーノズルの待機時間を短縮した排ガス浄化触媒の製造方法を提供することにある。
本開示により、生産ラインを用いて複数の排ガス浄化触媒を製造する方法が提供される。ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法は、一のハニカム基材の一端に触媒金属含有スラリーをシャワーノズルから供給するスラリー供給工程と、第１の吸引デバイスを用いて、上記スラリーが供給された上記一のハニカム基材に対して該ハニカム基材の他端方向への加圧または減圧を行い、上記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む第１吸引工程と、第２の吸引デバイスを用いて、上記第１吸引工程後の上記一のハニカム基材に対して、さらに該ハニカム基材の上記他端方向への加圧または減圧を行い、上記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む第２吸引工程とを包含する。そして、上記スラリー供給工程と、上記複数の吸引工程とが同一の生産ラインでパラレルに実施されることを特徴とする。
かかる構成によれば、複数の吸引デバイスを用いることで、吸引工程を少なくとも２回に分割して実施することができるため、１台の吸引デバイスが吸引する時間を短縮することができる。これにより、シャワーノズルの待機時間が短縮され、シャワーノズルの吐出口の目詰まりを防止することができる。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の好ましい一態様では、上記第２吸引工程後、さらに、他の吸引デバイスにより、上記一のハニカム基材に対して、該ハニカム基材の上記他端方向への加圧または減圧を行い、上記供給されたスラリーを上記ハニカム基材の内部に引き込む吸引工程を１または２以上追加してもよい。これにより、さらに吸引デバイス１台あたりの吸引時間を短縮することができるため、シャワーノズルの待機時間がさらに短縮される。
ここで開示される排ガス浄化触媒製造方法の一態様では、上記複数の吸引工程の後、上記一のハニカム基材を乾燥させる乾燥工程を含んでもよい。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の好ましい一態様では、上記シャワーノズルが上記ハニカム基材一つあたりに上記触媒金属含有スラリーを供給するのに要する時間が、上記シャワーノズルが上記一のハニカム基材に上記触媒金属含有スラリーを供給した後から、上記シャワーノズルが他のハニカム基材への上記触媒金属含有スラリーの供給を開始するまでの待機時間よりも長い。これにより、シャワーノズルの待機時間が短縮され、シャワーノズルの吐出口の目詰まりが好適に防止される。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の好ましい一態様では、上記待機時間が４秒以下である。これにより、シャワーノズルの吐出口の目詰まりがさらに好適に防止される。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の好ましい一態様では、上記複数の吸引工程における吸引時間が全て同じである。複数の吸引工程における吸引時間が異なる場合には、吸引時間が最も長い吸引が律速となるため、上記構成にすることにより、シャワーノズルの待機時間がより短縮される。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の一態様では、上記ハニカム基材が、ウォールフロー型のハニカム基材であってよい。ウォールフロー型のハニカム基材は、ストレートフロー型のハニカム基材よりも吸引時間を要するため、シャワーノズルの待機時間が長くなる傾向があるが、本技術によってシャワーノズルの待機時間が短縮されるため、ウォールフロー型の排ガス浄化触媒であっても生産性を高めることができる。
ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法の一態様では、上記触媒金属含有スラリーが、少なくとも一種の排ガス成分を酸化若しくは還元し得る触媒として機能する触媒金属を含んでよい。これにより、排ガス浄化性能の高い排ガス浄化触媒を製造することができる。
以下、図面を適宜参照しつつ、ここで開示される技術の好適ないくつかの実施形態について説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本技術の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本技術は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術知識とに基づいて実施することができる。なお、本明細書において、数値範囲を「Ａ～Ｂ（ここでＡ、Ｂは任意の数値）」と記載している場合は、「Ａ以上Ｂ以下」を意味すると共に、「Ａを超えてＢ未満」、「Ａを超えてＢ以下」、および「Ａ以上Ｂ未満」の意味を包含する。
まず、本技術によって提供される排ガス浄化触媒１の構成の一例について説明する。図１は、排ガス浄化触媒の構成の一例を模式的に示す斜視図である。図２は、排ガス浄化触媒１の筒軸方向Ｘに沿った断面の構成の一例を模式的に示す図である。図１および図２中において、符号Ａは排ガスの流動方向を示す。また、符号Ｘは基材の筒軸方向を示す。
図１および図２に示すように、排ガス浄化触媒１は、基材１０と、触媒コート層２０とを備える。
＜基材＞
基材１０は、排ガス浄化触媒１の骨格を構成する部材である。基材１０としては、排ガス浄化触媒を構成する基材として従来からよく用いられている種々の素材および形態のものを採用することができる。例えば、高耐熱性を有するコージェライト、チタン酸アルミニウム、炭化ケイ素（ＳｉＣ）などのセラミック基材、或いはステンレス鋼などのメタル基材を使用することができる。
基材１０は、排ガス浄化触媒１の骨格を構成する部材である。基材１０としては、排ガス浄化触媒を構成する基材として従来からよく用いられている種々の素材および形態のものを採用することができる。例えば、高耐熱性を有するコージェライト、チタン酸アルミニウム、炭化ケイ素（ＳｉＣ）などのセラミック基材、或いはステンレス鋼などのメタル基材を使用することができる。
基材の形状についても従来の排ガス浄化触媒と同様であってよい。基材の形状としては、ハニカム構造であることが好ましい。本明細書において、ハニカム構造とは、流体（例えば排ガス）の流路となるセルが複数集合した構造のことをいう。一例として、図１に示す排ガス浄化触媒１の基材１０は、外形が円筒形状である例えばコージェライト製のハニカム構造を有している。なお、基材１０の外形は、円筒形状以外でも、例えば、楕円筒形状、多角筒形状等であり得る。また、基材１０の全長や容量も特に限定されるものではなく、排ガス浄化触媒１が設置される排気管の寸法や、排ガスを放出する内燃機関の性能等に応じて適宜変更することができる。基材１０の容量（容積）としては、例えば、０．５Ｌ～１０Ｌであってよく、０．９Ｌ～２．０Ｌであり得る。
図１および図２に示す排ガス浄化触媒１は、いわゆるウォールフロー型の基材１０を備えている。基材１０は、排ガス流入側の端部のみが開口した入側セル１２と、排ガス流出側の端部のみが開口した出側セル１４と、入側セル１２と出側セル１４とを仕切る多孔質な隔壁１６とを備えている。具体的には、入側セル１２は、排ガス流入側の端部が開口し、かつ、排ガス流出側の端部が封止部１２ａで塞がれたガス流路である。一方、出側セル１４は、排ガス流入側の端部が封止部１４ａで塞がれ、かつ、排ガス流出側の端部が開口したガス流路である。また、隔壁１６は、排ガスが通過可能な細孔が複数形成された仕切り材である。この隔壁１６は、入側セル１２と出側セル１４とを連通させる細孔を複数有している。図２に示す排ガス浄化触媒１では、筒軸方向Ｘに垂直な断面における入側セル１２（出側セル１４）の形状が正方形である。しかし、かかる断面における当該入側セル（出側セル）の形状は、正方形に限定されず、種々の形状を採用できる。例えば、平行四辺形、長方形、台形などの矩形状、三角形状、その他の多角形状（例えば、六角形、八角形）、円形など種々の幾何学形状であり得る。また、隔壁１６の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、０．０５ｍｍ～２ｍｍであって、好ましくは０．１ｍｍ～１ｍｍである。
なお、基材１０はウォールフロー型に限定されるものではなく、例えば、基材１０の筒軸方向Ｘに排ガス通路としての複数の貫通孔を有する、いわゆるストレートフロー型の基材であってよい。
なお、基材１０はウォールフロー型に限定されるものではなく、例えば、基材１０の筒軸方向Ｘに排ガス通路としての複数の貫通孔を有する、いわゆるストレートフロー型の基材であってよい。
＜触媒コート層＞
触媒コート層２０は、典型的には、少なくとも一種の排ガス成分を酸化若しくは還元し得る触媒として機能する触媒金属と、該触媒金属を担持する無機担体とを備える。触媒金属としては、例えばパラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）等の白金族元素に属する金属あるいはその他の酸化若しくは還元触媒として機能する金属が挙げられる。ＰｄおよびＰｔは、一酸化炭素および炭化水素の浄化性能（酸化浄化能）に優れ、ＲｈはＮＯｘの浄化性能（還元浄化能）に優れるため、これらは三元触媒として特に好ましい触媒金属である。これらに加えて、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）その他のアルカリ土類金属、アルカリ金属、遷移金属等からなる金属を助触媒成分として併用してもよい。触媒金属の平均粒子径は、特に限定されるものではないが、例えば０．５ｎｍ～５０ｎｍであり、好ましくは１ｎｍ～２０ｎｍであり得る。
触媒コート層２０は、典型的には、少なくとも一種の排ガス成分を酸化若しくは還元し得る触媒として機能する触媒金属と、該触媒金属を担持する無機担体とを備える。触媒金属としては、例えばパラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）等の白金族元素に属する金属あるいはその他の酸化若しくは還元触媒として機能する金属が挙げられる。ＰｄおよびＰｔは、一酸化炭素および炭化水素の浄化性能（酸化浄化能）に優れ、ＲｈはＮＯｘの浄化性能（還元浄化能）に優れるため、これらは三元触媒として特に好ましい触媒金属である。これらに加えて、バリウム（Ｂａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）その他のアルカリ土類金属、アルカリ金属、遷移金属等からなる金属を助触媒成分として併用してもよい。触媒金属の平均粒子径は、特に限定されるものではないが、例えば０．５ｎｍ～５０ｎｍであり、好ましくは１ｎｍ～２０ｎｍであり得る。
なお、本明細書において「平均粒子径」とは、電子顕微鏡観察に基づく個数基準の粒度分布における累積５０％粒径（Ｄ５０）である。具体的には、先ず、触媒コート層の電子顕微鏡観察画像を画像解析に供し、観察される目的の粒子の円相当径を１００個測定し、個数基準の粒度分布を作成する。そして、かかる粒度分布において、粒径の小さい方から累積５０％に相当する粒子径を「平均粒子径Ｄ５０」とみなす。なお、本明細書における平均粒子径は、凝集やシンタリングなどによって形成された二次粒子の粒子径を包含して算出したものである。すなわち、平均粒子径を算出する際には、一次粒子および二次粒子の区別をせずに、電子顕微鏡観察において確認された粒子の円相当径を測定し、当該測定した粒子の円相当径に基づいて平均粒子径を測定する。
触媒金属を担持する無機担体としては、触媒金属を担持可能な限り、特に制限されず、従来公知の無機化合物粒子からなる担体を用いることができる。例えば、セリア（ＣｅＯ２）、該セリアを含む複合酸化物（例えば、セリア－ジルコニア複合酸化物（ＣＺ又はＺＣ複合酸化物））などの酸素吸蔵能（ＯＳＣ）を有する無機化合物粒子（いわゆるＯＳＣ材）、；アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、チタニア（ＴｉＯ２）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、シリカ（ＳｉＯ２）等の酸化物粒子；等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。ＯＳＣ材は排ガス浄化の助触媒として機能し得ることから、ＯＳＣ材を含む担体がより好ましい。例えばイットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、ニオブ（Ｎｂ）、プラセオジム（Ｐｒ）その他の希土類元素を含む酸化物が微量添加されたセリア、セリア－ジルコニア複合酸化物等のＯＳＣ材は、耐熱性が向上するため、好適である。
触媒コート層２０は、触媒金属成分および無機担体以外の成分、例えばバインダ、助触媒成分、その他の添加材等をさらに含有していてもよい。バインダとしては、従来のこの種の触媒コート層と同様、アルミナゾル、シリカゾルなどを用いることができる。助触媒成分としては、上述したＢａ、Ｓｒ等の金属が挙げられる。触媒コート層２０における触媒金属の含有率は特に制限されない。例えば、触媒金属の含有率は、触媒コート層２０に含まれる無機担体の全質量に対して０．０１質量％～１０質量％であり得、０．１質量％～５質量％であることが好ましい。
図２に示す排ガス浄化触媒１では、触媒コート層２０は、隔壁１６の内部（所謂ｉｎ－ｗａｌｌ）に形成されている。具体的には、触媒コート層２０は、入側セル１２側の隔壁１６の表面から出側セル１４側に向かう所定の範囲（厚み）において、隔壁１６の細孔の壁面に形成されている。触媒コート層２０の厚みは特に限定されるものではなく、例えば、隔壁１６の厚み方向全体に形成されていてもよく、隔壁１６の厚みに対して、８０％以下、６０％以下、４０％以下となるように形成されていてもよい。また、触媒コート層２０は、隔壁１６の筒軸方向の全長全体に形成されていてもよく、基材１０の端部から所定の割合で形成されていてもよい。例えば、隔壁１６の筒軸方向の全長に対して、１００％であってよく、８０％以下、６０％以下、４０％以下の長さの触媒コート層２０を形成してもよい。触媒コート層２０の厚みや長さは、基材１０の入側セル１２および出側セル１４の大きさや、排ガス通路に導入される排ガス流量等に応じて適宜決定すればよい。
触媒コート層２０の基材１０の容量１Ｌあたりのコート量は、特に限定されるものではないが、排ガス浄化性能向上の観点から、例えば、２０ｇ／Ｌ以上であって、３０ｇ／Ｌ以上、５０ｇ／Ｌ以上であり得る。一方、触媒コート層２０の形成量の上限値は、圧力損失を低減させる観点から、２００ｇ／Ｌ以下が好ましく、１５０ｇ／Ｌ以下がより好ましく、１２０ｇ／Ｌ以下がさらに好ましい。なお、本明細書において、基材１０の容量は、基材１０の純容積に加え、入側セル１２、出側セル１４、隔壁１６の細孔等の空隙の容積を含む嵩容積のことをいう。
なお、触媒コート層２０は、隔壁１６の内部に限られず、隔壁１６の表面に形成されていてもよい。また、触媒コート層２０は入側セル１２側ではなく、出側セル１４側の隔壁１６の内部及び／又は表面に形成されていてもよい。また、触媒コート層２０は、隔壁１６の入側セル１２側と出側セル１４側の両方に形成されていてもよい。
排ガス浄化触媒１は、種々の内燃機関から排出される排ガスの浄化触媒として利用することができる。例えば、ガソリンエンジン用の排ガス浄化触媒や、ディーゼルエンジン用の排ガス浄化触媒として好適に用いることができる。
＜排ガス浄化触媒の製造方法＞
以下、ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法について、一好適例を示しながら説明する。図３は、一実施形態に係る排ガス浄化触媒の製造方法の大まかな工程を示すフローチャートである。ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、シャワーノズルを用いて基材に触媒コート層形成用スラリー（触媒金属含有スラリー）を供給するスラリー供給工程Ｓ１０と、当該スラリーが供給された基材に対して複数回（少なくとも２回）の吸引を実施する吸引工程Ｓ２０とを含む。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、乾燥工程Ｓ３０を含み得る。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、焼成工程Ｓ４０を含み得る。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、さらに、任意の段階で他の工程を含んでもよい。
以下、ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法について、一好適例を示しながら説明する。図３は、一実施形態に係る排ガス浄化触媒の製造方法の大まかな工程を示すフローチャートである。ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、シャワーノズルを用いて基材に触媒コート層形成用スラリー（触媒金属含有スラリー）を供給するスラリー供給工程Ｓ１０と、当該スラリーが供給された基材に対して複数回（少なくとも２回）の吸引を実施する吸引工程Ｓ２０とを含む。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、乾燥工程Ｓ３０を含み得る。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、焼成工程Ｓ４０を含み得る。また、ここで開示される排ガス浄化触媒を製造する方法は、さらに、任意の段階で他の工程を含んでもよい。
複数の排ガス浄化触媒を工業的に生産するために、例えば、シャワーノズルによるスラリー供給工程と、当該スラリーが供給された基材を吸引する吸引工程とが順番に実施可能な生産ラインが用いられる。一般的に、吸引工程で用いられる吸引デバイスは、一つの生産ラインにつき１台設置される。このような生産ラインでは、一の基材に対してシャワーノズルでスラリーを供給した後、当該１台の吸引デバイスによって吸引が実施される。そして、当該一の基材の吸引と並行して、他の基材にシャワーノズルによるスラリーの供給が行われる。しかしながら、特に基材の容量が比較的大きい場合（例えば０．９Ｌ以上）や、ウォールフロー型の基材の隔壁内部に触媒コート層を形成する場合等には、吸引に必要な時間がシャワーノズルによるスラリー供給時間よりも顕著に長くなる。そのため、生産ラインでは、吸引工程が終了する時間が律速になり、シャワーノズルによるスラリー供給を停止する時間（待機時間）が長くなる。これにより、シャワーノズルの吐出口付近のスラリーが乾燥し易くなり、シャワーノズルの吐出口の目詰まりが生じるおそれがある。シャワーノズルの吐出口の目詰まりが生じると、スラリーが不均一に基材に供給されるようになり、触媒コート層が不均一に形成され易くなるため、排ガス浄化触媒の品質信頼性が低下し得る。
そこで、ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法では、吸引デバイスを複数台準備し、従来、１台の吸引デバイスで実施していた吸引を分割して実施することを特徴とする。本発明者らの検討により、１台の吸引デバイスで吸引を完了するのにＸ秒間を要する工程を、Ｎ台（Ｎは２以上の自然数）の吸引デバイスを用いて順次吸引を行ったとき、吸引時間の合計がＸ秒間であれば、１台の吸引デバイスで吸引した場合と同等の触媒コート層が形成できることが見出された。これにより、従来、１台の吸引デバイスによるＸ秒間の吸引が終了するのに合わせてシャワーノズルの停止時間が制御されていたが、本技術によれば、例えば、３台の吸引デバイスを準備し、３台の吸引デバイスそれぞれの吸引時間を同じにした場合には、１台あたりが吸引に要する時間をＸ／３秒とすることができるため、シャワーノズルの待機時間を短縮することができる。その結果、シャワーノズルの吐出口の目詰まりが防止され、触媒コート層も均一に形成され易くなるため、排ガス浄化触媒の品質信頼性や、生産性を向上させることができる。また、ウォールフロー型のハニカム基材は、ストレートフロー型のハニカム基材よりも吸引時間を要するため、シャワーノズルの待機時間が長くなる傾向があるが、本技術によってシャワーノズルの待機時間が短縮されるため、ウォールフロー型の排ガス浄化触媒であっても生産性を高めることができる。
＜スラリー供給工程Ｓ１０＞
スラリー供給工程Ｓ１０では、シャワーノズルを用いて触媒金属含有スラリーを基材の片側の端部（端面）に供給する。ここで、基材の端部（端面）とは、筒軸方向における端部（端面）のことをいう。基材としては、上述の排ガス浄化触媒１に用いられる基材１０として例示したものと同じものを使用することができ、ハニカム構造を有する基材（ハニカム基材）が好ましく用いられる。シャワーノズルについては、この種の技術で使用される従来公知のシャワーノズルを特に制限なく使用することができる。典型的には、シャワーノズルは、スラリーを吐出するための複数の吐出口を有している。シャワーノズルの吐出口の平均孔径は、例えば、０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下であってよく、０．５ｍｍ以上１．５ｍｍ以下であってもよい。
スラリー供給工程Ｓ１０では、シャワーノズルを用いて触媒金属含有スラリーを基材の片側の端部（端面）に供給する。ここで、基材の端部（端面）とは、筒軸方向における端部（端面）のことをいう。基材としては、上述の排ガス浄化触媒１に用いられる基材１０として例示したものと同じものを使用することができ、ハニカム構造を有する基材（ハニカム基材）が好ましく用いられる。シャワーノズルについては、この種の技術で使用される従来公知のシャワーノズルを特に制限なく使用することができる。典型的には、シャワーノズルは、スラリーを吐出するための複数の吐出口を有している。シャワーノズルの吐出口の平均孔径は、例えば、０．３ｍｍ以上３ｍｍ以下であってよく、０．５ｍｍ以上１．５ｍｍ以下であってもよい。
シャワーノズルによる触媒金属含有スラリーの供給時間は、形成する触媒コート層のコート量や、基材の大きさ等によって適宜変更すればよく、特に限定されるものではない。かかる供給時間は、例えば、２秒～１０秒であり得る。
触媒金属含有スラリーは、例えば、触媒金属と、当該触媒金属を担持するための無機担体と、これらを分散させるための分散媒とを含む。触媒金属と無機担体については、上述した排ガス浄化触媒１の触媒コート層２０が含み得るものとして例示したものと同じであってよい。分散媒としては、従来この種のスラリーに用いられている分散媒を特に制限なく使用することができ、例えば、水などの水系分散媒が好ましく使用される。
触媒金属含有スラリーは、さらに、バインダ、助触媒成分、増粘剤、分散剤、その添加材等をさらに含有していてもよい。バインダと助触媒成分については、上述した排ガス浄化触媒１の触媒コート層２０が含み得るものとして例示したものと同じであってよい。増粘剤としては、水溶性有機ポリマーを挙げることができる。
触媒金属含有スラリーの粘度は特に限定されるものではないが、例えば、粘度は１ｍＰａ・ｓ以上１００００ｍＰａ・ｓ以下であってよく、５ｍＰａ・ｓ以上１０００ｍＰａ・ｓ以下であってよく、１０ｍＰａ・ｓ以上３００ｍＰａ・ｓ以下であってもよい。粘度の測定は、Ｅ型粘度計（陶器産業株式会社製、ＴＶＥ－３５Ｈ）を用いて、ロータ種：１°３４’×Ｒ２４を使用し、測定温度２５℃で行うことができる。また、本明細書において、粘度は、せん断速度０．４ｓ－１で測定される粘度のことをいう。
＜吸引工程Ｓ２０＞
吸引工程Ｓ２０は、少なくとも第１吸引工程Ｓ２１と、第２吸引工程Ｓ２２とを含む。さらに、吸引工程Ｓ２０は、第２吸引工程の後、さらに１または２以上の吸引工程を追加で含み得る。換言すれば、吸引工程Ｓ２０は、第１吸引工程～第Ｎ吸引工程（Ｎは２以上の自然数）の複数の吸引工程を含み得る。図３に示す本実施形態では、吸引工程Ｓ２０は、第１吸引工程Ｓ２１と、第２吸引工程Ｓ２２と、第３吸引工程Ｓ２３とを含むように構成されている。
吸引工程Ｓ２０は、少なくとも第１吸引工程Ｓ２１と、第２吸引工程Ｓ２２とを含む。さらに、吸引工程Ｓ２０は、第２吸引工程の後、さらに１または２以上の吸引工程を追加で含み得る。換言すれば、吸引工程Ｓ２０は、第１吸引工程～第Ｎ吸引工程（Ｎは２以上の自然数）の複数の吸引工程を含み得る。図３に示す本実施形態では、吸引工程Ｓ２０は、第１吸引工程Ｓ２１と、第２吸引工程Ｓ２２と、第３吸引工程Ｓ２３とを含むように構成されている。
吸引工程Ｓ２０に含まれる複数の吸引工程（第１吸引工程～第Ｎ吸引工程）では、それぞれの工程において、吸引デバイスを用いて、触媒金属含有スラリーが供給された基材に対して、当該スラリーが供給された端部（端面）とは反対側の他端方向へ加圧または減圧を行うことで、当該スラリーを基材の内部に引き込む吸引を実施する。吸引デバイスは、複数の吸引工程それぞれで１台ずつ用意する（即ち、Ｎ台用意する）。吸引デバイスの種類は、複数の吸引工程で同じであってもよく、それぞれ異なる種の吸引デバイスを準備してもよい。なお、吸引デバイスとしては、従来この種の技術で使用されているものを特に制限なく使用することができる。
吸引工程Ｓ２０を含まれる複数の吸引工程（第１吸引工程～第Ｎ吸引工程）で要する合計の吸引時間は、特に限定されるものではないが、例えば、従来１台の吸引デバイスで要していた吸引時間と同じであってよい。また、従来１台の吸引デバイスで要していた吸引時間をＸ秒としたとき、複数の吸引工程それぞれで要する吸引時間は、例えば、Ｘ／Ｎ秒ずつとしてもよく、複数の吸引工程の吸引時間の合計がＸ秒となるように、それぞれ異なる吸引時間を設定してもよい。生産ラインにおける律速を低減させ、シャワーノズルの待機時間を短縮する観点から、複数の吸引工程の吸引時間は同じ（即ちＸ／Ｎ秒）であることが好ましい。複数の吸引工程のそれぞれの吸引時間は、例えば、１秒～１５秒であってよく、５秒～７秒であり得る。
基材を吸引する条件は、基材の種類、大きさ、形成する触媒コート層の形状、場所等にあわせて適宜変更すればよく、従来１台の吸引デバイスで実施されている条件と同様であってよい。例えば、従来１台の吸引デバイスで風速Ｙｍ／秒で吸引を実施していた場合、複数の吸引工程それぞれにおける吸引の風速はＹｍ／秒であってよい。また、必要な吸引を達成できる限りにおいて、複数の吸引工程における吸引の風速がそれぞれ異なるように設定してもよい。特に限定されるものではないが、風速Ｙｍ／秒は、例えば、２０ｍ／秒～８０ｍ／秒、３０ｍ／秒～５０ｍ／秒に設定することができる。
吸引工程Ｓ２０に含まれる吸引工程の回数（即ち、第Ｎ吸引工程のＮの値）は、２回以上であればよく、その上限は特に限定されるものではないが、コスト削減の観点から、例えば、１０回以下であるとよく、好ましくは５回以下、４回以下、３回以下であってよい。
また、シャワーノズルが基材一つあたりに触媒金属含有スラリーを供給するのに要する時間が、シャワーノズルが一の基材に触媒金属含有スラリーを供給した後から、当該シャワーノズルが他の基材への触媒金属含有スラリーの供給を開始するまでの待機時間よりも長くなるように、吸引工程の回数を設定することが好ましい。例えば、かかる待機時間は４秒以下であるとよく、好ましくは３秒以下、より好ましくは２秒以下である。さらには、生産ラインの律速段階が吸引工程Ｓ２０ではなく、スラリー供給工程Ｓ１０となるように（即ち、待機時間よりも、複数の吸引工程の中で最も長い吸引時間の方が短くなるように）、吸引工程の回数を設定してもよい。シャワーノズルの待機時間が短いほど、シャワーノズルの吐出口の目詰まりが生じ難くなるため好ましい。
スラリー供給工程Ｓ１０と、吸引工程Ｓ２０とは、同一の生産ライン上で実施されており、それぞれの工程がパラレルに実施されている。例えば、基材Ａに対して、スラリー供給工程が実施されているとき、基材Ｂに対して、第１吸引工程Ｓ２１が実施されていてもよく、さらに基材Ｃに対して第Ｎ吸引工程が実施されていてもよい。このように、ここで開示される排ガス浄化触媒の製造方法は、複数の排ガス浄化触媒の製造を並行して実施することができる。なお、基材Ａ、Ｂ、Ｃの表記は、それぞれ異なる基材であることを示す。
＜乾燥工程Ｓ３０＞
乾燥工程Ｓ３０は、従来この種の技術で実施されている乾燥と同様の条件で実施することができ、特に限定されない。例えば、５０℃～２００℃の温度で、１分～３０分程度で乾燥を行うことができる。
乾燥工程Ｓ３０は、従来この種の技術で実施されている乾燥と同様の条件で実施することができ、特に限定されない。例えば、５０℃～２００℃の温度で、１分～３０分程度で乾燥を行うことができる。
＜焼成工程Ｓ４０＞
焼成工程Ｓ４０は、従来この種の技術で実施されている焼成と同様の条件で実施することができ、特に限定されない。例えば、４００℃～１０００℃の温度で、３０秒～５時間程度の焼成を行うことができる。
焼成工程Ｓ４０は、従来この種の技術で実施されている焼成と同様の条件で実施することができ、特に限定されない。例えば、４００℃～１０００℃の温度で、３０秒～５時間程度の焼成を行うことができる。
図３に示す実施形態においては、乾燥工程Ｓ３０の後に焼成工程Ｓ４０を実施しているが、例えば、乾燥工程Ｓ３０の後に、再度スラリー供給工程Ｓ１０を実施してもよい。これにより、複数の触媒コート層を形成することができる。例えば、ウォールフロー型の基材の入側セル側と出側セル側にそれぞれ触媒コート層を形成することができる。
以下、本技術に関する実施例について説明するが、本技術をかかる具体例に示すものに限定することを意図したものではない。
＜製造例＞
基材として、基材容積１．３１４Ｌ、筒軸方向の長さ１２２ｍｍのウォールフロー型の円筒状のハニカム基材（コージェライト製、セル数３００ｃｐｓｉ、隔壁厚み８ミル（１ミルは１／１０００インチ）、平均細孔径１５μｍ）を準備した。また、硝酸パラジウムを含む水溶液に、アルミナ粉末、セリア－ジルコニア粉末を添加、懸濁した触媒金属含有スラリーを準備した。次に、排出口にシャワーノズルを備える溶液連続排出装置に当該触媒金属含有スラリーを充填し、後述する各例に示したサイクルで、当該スラリーが自動で排出されるように設定をした。そして、当該スラリーの自動排出を開始してから１０時間経過したところで、基材に当該スラリーを供給した。当該基材を用いて、排ガス浄化触媒を製造し、触媒コート層状態およびシャワーノズル目詰まり状態を評価した。
以下、各例における、触媒金属スラリーの排出サイクルと、基材の吸引条件について説明する。
基材として、基材容積１．３１４Ｌ、筒軸方向の長さ１２２ｍｍのウォールフロー型の円筒状のハニカム基材（コージェライト製、セル数３００ｃｐｓｉ、隔壁厚み８ミル（１ミルは１／１０００インチ）、平均細孔径１５μｍ）を準備した。また、硝酸パラジウムを含む水溶液に、アルミナ粉末、セリア－ジルコニア粉末を添加、懸濁した触媒金属含有スラリーを準備した。次に、排出口にシャワーノズルを備える溶液連続排出装置に当該触媒金属含有スラリーを充填し、後述する各例に示したサイクルで、当該スラリーが自動で排出されるように設定をした。そして、当該スラリーの自動排出を開始してから１０時間経過したところで、基材に当該スラリーを供給した。当該基材を用いて、排ガス浄化触媒を製造し、触媒コート層状態およびシャワーノズル目詰まり状態を評価した。
以下、各例における、触媒金属スラリーの排出サイクルと、基材の吸引条件について説明する。
＜比較例１＞
比較例１では、吸引デバイス１台を用いた生産ラインを想定して、溶液連続排出装置の排出サイクルを設定した。具体的には、シャワーノズルからのスラリー供給時間を４秒間（以下の例でも同様）、吸引デバイスによる吸引時間を６秒間に設定し、４秒間のスラリー排出、２秒間の待機時間（スラリーを排出しない時間）が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給した。次に、触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から、市販の吸引デバイスを用いて、風速５０ｍ／ｓｅｃ．で６秒間の吸引を行った。その後、吸引後の基材を乾燥した後、焼成することにより、比較例１における排ガス浄化触媒を得た。
比較例１では、吸引デバイス１台を用いた生産ラインを想定して、溶液連続排出装置の排出サイクルを設定した。具体的には、シャワーノズルからのスラリー供給時間を４秒間（以下の例でも同様）、吸引デバイスによる吸引時間を６秒間に設定し、４秒間のスラリー排出、２秒間の待機時間（スラリーを排出しない時間）が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給した。次に、触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から、市販の吸引デバイスを用いて、風速５０ｍ／ｓｅｃ．で６秒間の吸引を行った。その後、吸引後の基材を乾燥した後、焼成することにより、比較例１における排ガス浄化触媒を得た。
＜比較例２＞
比較例１のうち、吸引時間の設定を１８秒間に変更した。即ち、シャワーノズルが一の基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、次の基材に当該スラリーを供給するまで１４秒間の待機時間となるような生産ラインとした。したがって、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、１４秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。これ以外は、比較例１と同様にして、比較例２における排ガス浄化触媒を得た。
比較例１のうち、吸引時間の設定を１８秒間に変更した。即ち、シャワーノズルが一の基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、次の基材に当該スラリーを供給するまで１４秒間の待機時間となるような生産ラインとした。したがって、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、１４秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。これ以外は、比較例１と同様にして、比較例２における排ガス浄化触媒を得た。
＜実施例１＞
実施例１では、市販の吸引デバイスを３台用いて、一の基材に対する吸引をかかる３台の吸引デバイスで順番に実施する生産ラインを想定して、溶液連続排出装置の排出サイクルを設定した。なお、３台の吸引デバイスによる吸引を、それぞれ「第１吸引」、「第２吸引」、「第３吸引」と称呼する。３台の吸引デバイスそれぞれにおける吸引条件は、すべて風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間とした。即ち、シャワーノズルが一の基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、次の基材に当該スラリーを供給するまで２秒間の待機時間となるような生産ラインとした。したがって、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、２秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給し、第１吸引、第２吸引、第３吸引のいずれにおいても触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から吸引を行った。これ以外は、比較例１と同様にして、実施例１における排ガス浄化触媒を得た。
実施例１では、市販の吸引デバイスを３台用いて、一の基材に対する吸引をかかる３台の吸引デバイスで順番に実施する生産ラインを想定して、溶液連続排出装置の排出サイクルを設定した。なお、３台の吸引デバイスによる吸引を、それぞれ「第１吸引」、「第２吸引」、「第３吸引」と称呼する。３台の吸引デバイスそれぞれにおける吸引条件は、すべて風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間とした。即ち、シャワーノズルが一の基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、次の基材に当該スラリーを供給するまで２秒間の待機時間となるような生産ラインとした。したがって、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、２秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給し、第１吸引、第２吸引、第３吸引のいずれにおいても触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から吸引を行った。これ以外は、比較例１と同様にして、実施例１における排ガス浄化触媒を得た。
＜実施例２＞
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速４０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第３吸引における吸引条件を風速６０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間に変更した。また、溶液連続排出装置の排出サイクルは実施例１と同じとなるように設定した。これ以外は同様にして、実施例２における排ガス浄化触媒を得た。
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速４０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第３吸引における吸引条件を風速６０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間に変更した。また、溶液連続排出装置の排出サイクルは実施例１と同じとなるように設定した。これ以外は同様にして、実施例２における排ガス浄化触媒を得た。
＜実施例３＞
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速６０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第３吸引における吸引条件を風速４０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間とした。また、溶液連続排出装置の排出サイクルは実施例１と同じとなるように設定した。これ以外は同様にして、実施例３における排ガス浄化触媒を得た。
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速６０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間、第３吸引における吸引条件を風速４０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間とした。また、溶液連続排出装置の排出サイクルは実施例１と同じとなるように設定した。これ以外は同様にして、実施例３における排ガス浄化触媒を得た。
＜実施例４＞
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、７秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、５秒間、第３吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間に変更した。これに伴い、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、３秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。これ以外は同様にして、実施例４における排ガス浄化触媒を得た。
実施例１のうち、第１吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、７秒間、第２吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、５秒間、第３吸引における吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、６秒間に変更した。これに伴い、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、３秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。これ以外は同様にして、実施例４における排ガス浄化触媒を得た。
＜実施例５＞
実施例１に、さらにもう１台の市販の吸引デバイスを準備し、第４吸引を追加した。実施例５では、第１吸引～第４吸引のいずれにおいても吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、５秒間とした。これに伴い、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、１秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給し、第１吸引、第２吸引、第３吸引、第４吸引のいずれにおいても触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から吸引を行った。これ以外は実施例１と同様にして、実施例５における排ガス浄化触媒を得た。
実施例１に、さらにもう１台の市販の吸引デバイスを準備し、第４吸引を追加した。実施例５では、第１吸引～第４吸引のいずれにおいても吸引条件を風速５０ｍ／ｓｅｃ．、５秒間とした。これに伴い、溶液連続排出装置の排出サイクルを、４秒間のスラリー排出、１秒間の待機時間が繰り返されるように設定した。かかるサイクルで溶液連続排出装置を１０時間稼働させた後、シャワーノズルから排出される触媒金属含有スラリーを基材の筒軸方向の一方の端面に供給し、第１吸引、第２吸引、第３吸引、第４吸引のいずれにおいても触媒金属含有スラリーが供給されていない基材の筒軸方向の他方の端面から吸引を行った。これ以外は実施例１と同様にして、実施例５における排ガス浄化触媒を得た。
＜シャワーノズルの目詰まりの評価＞
各例において、溶液連続排出装置を１０時間稼働させ、基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、シャワーノズルの吐出口の目詰まり率を確認した。具体的には、目詰まり率［％］＝（目詰まりした吐出口数）／（吐出口の総数）×１００で計算した。目詰まり率が１％未満であれば「〇」、１％以上であれば「×」として、結果を表１に示す。
各例において、溶液連続排出装置を１０時間稼働させ、基材に触媒金属含有スラリーを供給した後、シャワーノズルの吐出口の目詰まり率を確認した。具体的には、目詰まり率［％］＝（目詰まりした吐出口数）／（吐出口の総数）×１００で計算した。目詰まり率が１％未満であれば「〇」、１％以上であれば「×」として、結果を表１に示す。
＜触媒コート層の評価＞
各例で製造した排ガス浄化触媒において、触媒コート層が基材の隔壁全体に形成されているかを確認した。具体的には、排ガス浄化触媒の隔壁の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定用サンプルを作製し、当該サンプルを樹脂に埋めた後、隔壁断面を走査型電子顕微鏡（株式会社日立ハイテクフィールディング製、ＴＭ４０００Ｐｌｕｓ）で観察した。隔壁断面全体にわたって触媒コート層が形成されていた場合を「〇」、形成されていなかった場合を「×」として、結果を表１に示す。
各例で製造した排ガス浄化触媒において、触媒コート層が基材の隔壁全体に形成されているかを確認した。具体的には、排ガス浄化触媒の隔壁の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）測定用サンプルを作製し、当該サンプルを樹脂に埋めた後、隔壁断面を走査型電子顕微鏡（株式会社日立ハイテクフィールディング製、ＴＭ４０００Ｐｌｕｓ）で観察した。隔壁断面全体にわたって触媒コート層が形成されていた場合を「〇」、形成されていなかった場合を「×」として、結果を表１に示す。
表１から明らかなように、触媒金属含有スラリーを複数回に分けて吸引する生産ラインを模した実施例１～５では、シャワーノズルの目詰まりが抑制された。これは、シャワーノズルの待機時間が３秒間以下という短い時間に抑えられたことで、シャワーノズルの吐出口付近の触媒金属含有スラリーが乾燥する前に、次の基材への当該スラリーの供給を行うことができたからだと考えられる。また、触媒コート層についても、実施例１～５では、従来実施されているような一つの吸引デバイスで吸引した比較例２のものと同様に、触媒コート層が隔壁断面全体に形成されていることが確認できた。また、実施例１～５では、触媒コート層が均一に形成されていたことが確認できた。これは、シャワーノズルの目詰まりが抑制されていたため、シャワーノズルによる触媒金属含有スラリーの供給が均一であったからと考えられる。また、これにより、吸引工程を複数回に分けた場合でも、触媒金属含有スラリーの吸引を十分に行うことができることが確かめられた。
一方で、比較例１では、シャワーノズルの目詰まりが抑制されたものの、触媒コート層が基材全長に形成されていなかった。これは、吸引時間が短かったことが原因と考えられる。また、比較例２では、シャワーノズルの目詰まり率が高かった。これは、シャワーノズルの待機時間が１４秒間と比較的長かったため、シャワーノズル吐出口付近の触媒金属含有スラリーが乾燥したことが原因であると考えられる。
以上、ここで開示される技術の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
１ 排ガス浄化触媒
１０ 基材
１２ 入側セル
１２ａ 封止部
１４ 出側セル
１４ａ 封止部
１６ 隔壁
２０ 触媒コート層
１０ 基材
１２ 入側セル
１２ａ 封止部
１４ 出側セル
１４ａ 封止部
１６ 隔壁
２０ 触媒コート層
Claims (8)
- 複数の排ガス浄化触媒を製造する方法であって、
一のハニカム基材の一端に触媒金属含有スラリーをシャワーノズルから供給するスラリー供給工程と、
第１の吸引デバイスを用いて、前記スラリーが供給された前記一のハニカム基材に対して該ハニカム基材の他端方向への加圧または減圧を行い、前記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む第１吸引工程と、
第２の吸引デバイスを用いて、前記第１吸引工程後の前記一のハニカム基材に対して、さらに該ハニカム基材の前記他端方向への加圧または減圧を行い、前記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む第２吸引工程と
を包含し、
ここで、前記スラリー供給工程と、前記複数の吸引工程とが同一の生産ラインでパラレルに実施される、排ガス浄化触媒の製造方法。 - 前記第２吸引工程後、さらに、他の吸引デバイスにより、前記一のハニカム基材に対して、該ハニカム基材の前記他端方向への加圧または減圧を行い、前記供給されたスラリーを該ハニカム基材の内部に引き込む吸引工程を１または２以上追加する、請求項１に記載の製造方法。
- 前記複数の吸引工程の後、前記一のハニカム基材を乾燥させる乾燥工程を含む、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記シャワーノズルが前記ハニカム基材一つあたりに前記触媒金属含有スラリーを供給するのに要する時間が、前記シャワーノズルが前記一のハニカム基材に前記触媒金属含有スラリーを供給した後から、前記シャワーノズルが他のハニカム基材への前記触媒金属含有スラリーの供給を開始するまでの待機時間よりも長い、請求項１～３のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記待機時間が４秒以下である、請求項４に記載の製造方法。
- 前記複数の吸引工程における吸引時間が全て同じである、請求項１～５のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記ハニカム基材が、ウォールフロー型のハニカム基材である、請求項１～６のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記触媒金属含有スラリーが、少なくとも一種の排ガス成分を酸化若しくは還元し得る触媒として機能する触媒金属を含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の製造方法。
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| JP2022020422A JP2023117711A (ja) | 2022-02-14 | 2022-02-14 | 排ガス浄化触媒の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2022020422A JP2023117711A (ja) | 2022-02-14 | 2022-02-14 | 排ガス浄化触媒の製造方法 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2022020422A Pending JP2023117711A (ja) | 2022-02-14 | 2022-02-14 | 排ガス浄化触媒の製造方法 |
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|---|---|
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2023
- 2023-01-27 WO PCT/JP2023/002728 patent/WO2023153244A1/ja unknown
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| WO2023153244A1 (ja) | 2023-08-17 |
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