JP2023104921A - 発光素子及び発光素子用アミン化合物 - Google Patents

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Abstract

【課題】高効率及び長寿命特性が改善された発光素子特性を具現する。【解決手段】一実施例の有機電界発光素子は、第1電極と、第2電極と、第1電極と第2電極との間に配置され、下記化学式1で表されるアミン化合物を含む少なくとも一つの機能層と、を含むことで高効率及び長寿命特性を示す。【化1】TIFF2023104921000178.tif42170【選択図】図3

Description

本発明はアミン化合物及びそれを含む発光素子に関し、より詳しくは、正孔輸送領域に新規のアミン化合物を含む発光素子に関する。
最近、映像表示装置として、有機電界発光表示装置(Organic Electroluminescence Display Device)などの開発が盛んに行われている。有機電界発光表示装置などは、第1電極及び第2電極から注入される正孔及び電子を、発光層で再結合させることで、発光層の発光材料を発光させて表示を実現する、いわゆる自発光型の発光素子を含む表示装置である。
発光素子を表示装置に応用するに当たっては、低駆動電圧化、高発光効率化及び長寿命化が要求されており、これを安定的に具現し得る発光素子用材料の開発が持続的に要求されている。
また、高効率の発光素子を具現するために発光層のエキシトンエネルギーの拡散などを抑制するための正孔輸送領域の材料に関する開発が行われている。
KR10-2020-0131929A KR10-2076884B KR10-1967383B
本発明の目的は、優れた発光効率及び長寿命特性を示す発光素子を提供することである。
本発明の他の目的は、高効率及び長寿命特性を有する発光素子用材料であるアミン化合物を提供することである。
一実施例は、下記化学式1で表されるアミン化合物を提供する。
<化学式1>
Figure 2023104921000002
化学式1において、XはOまたはSであり、L及びLは、それぞれ独立して、直接結合(direct linkage;単結合)、置換または非置換の環形成炭素数6以上15以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上12以下のヘテロアリーレン基である。nは0以上7以下の整数であり、oは0以上4以下の整数であり、pは0以上6以下の整数である。R、R、及びRは、それぞれ独立して、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であり、Arは、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下のヘテロアリール基であり、FGは、下記化学式2乃至化学式5のうちのいずれか一つで表される。
<化学式2>
Figure 2023104921000003
<化学式3>
Figure 2023104921000004
<化学式4>
Figure 2023104921000005
<化学式5>
Figure 2023104921000006
前記化学式2及び前記化学式3において、Ar乃至Arは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下ヘテロアリール基である。化学式2乃至5において、Rd1乃至Rd5は、それぞれ独立して、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成する。m1及びm2はそれぞれ独立して0以上7以下の整数であり、m3及びm4はそれぞれ独立して0以上4以下の整数であり、m5は0以上8以下の整数である。前記化学式4において、R乃至Rは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。
前記化学式1は、下記化学式1-1乃至化学式1-4のうちいずれか一つで表される。
<化学式1-1>
Figure 2023104921000007
<化学式1-2>
Figure 2023104921000008
<化学式1-3>
Figure 2023104921000009
<化学式1-4>
Figure 2023104921000010
前記化学式1-1乃至化学式1-4において、X、L、L、n、R、及びArは前記化学式1で定義した通りである。前記化学式1-1及び化学式1-2において、Ar乃至Arは前記化学式2及び化学式3で定義した通りである。前記化学式1-3において、R乃至Rは前記化学式4で定義した通りであり、前記化学式1-1乃至化学式1-4において、Rd1乃至Rd5、及びm1乃至m5は前記化学式2乃至化学式5で定義した通りである。
は、直接結合、非置換のフェニレン基、または非置換の2価のビフェニル基である。
は、直接結合、非置換のフェニレン基、非置換のナフタレン基、非置換の2価のジベンゾフラン基、または非置換の2価のジベンゾチオフェン基である。
Arは、置換または非置換のフェニル基、置換または非置換のナフチル基、置換または非置換のフェナントレニル基、置換または非置換のジベンゾチオフェン基、または、置換または非置換のジベンゾフラン基である。
Arは、Ar1-1乃至Ar1-5のうちのいずれか一つで表される。
<Ar1-1乃至Ar1-5>
Figure 2023104921000011
前記化学式4において、R乃至Rは、R乃至Rが置換されたベンゼン環と互いに結合してジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、またはカルバゾール環を形成する。
前記化学式1のアミン化合物は、少なくとも一つの水素原子が重水素原子に置換された構造を含む。
前記化学式1で表される化合物はモノアミン化合物である。
他の実施例は、第1電極と、前記第1電極の上に配置される第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に配置され、上述した一実施例によるアミ化合物を含む少なくとも一つの機能層と、を含む発光素子を提供する。
前記少なくとも一つの機能層は、発光層と、前記第1電極と前記発光層との間に配置される正孔輸送領域と、前記発光層と前記第2電極との間に配置される電子輸送領域と、を含み、前記正孔輸送領域は一実施例によるアミン化合物を含む。
前記正孔輸送領域は正孔注入層、正孔輸送層、及び電子阻止層のうちの少なくとも一つを含み、前記正孔注入層、前記正孔輸送層、及び前記電子阻止層のうち少なくとも一つは一実施例のアミン化合物を含む。
前記発光層は下記化学式E-1で表される化合物を含む。
<化学式E-1>
Figure 2023104921000012
化学式E-1において、c及びdはそれぞれ独立して0以上5以下の整数であり、R31乃至R40は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のシリル基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上10以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリールであるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成したものである。
一実施例の発光素子は、一実施例のアミン化合物を含むことで高効率及び長寿命特性を示す。
一実施例のアミン化合物は、高効率及び長寿命特性が改善された発光素子特性を具現するための材料として使用される。
一実施例による表示装置を示す平面図である。 一実施例による表示装置の断面図である。 一実施例による発光素子を概略的に示す断面図である。 一実施例による発光素子を概略的に示す断面図である。 一実施例による発光素子を概略的に示す断面図である。 一実施例による発光素子を概略的に示す断面図である。 一実施例による表示装置の断面図である。 一実施例による表示装置の断面図である。 一実施例による表示装置を示す断面図である。 一実施例による表示装置を示す断面図である。
本発明は、多様な変更を加えることができ、多様な形態を有することができるゆえ、特定実施例を図面に例示し、本文に詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定な開示形態に対して限定しようとするのではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物乃至代替物を含むと理解すべきである。
各図面を説明しながら、類似した参照符号を類似した構成要素に対して使用している。添付した図面において、構造物の寸法は本発明の明確性のために実際より拡大して示している。第1、第2などの用語は、多様な構成要素を説明するのに使用されるが、前記構成要素は前記用語に限らない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的にのみ使用される。例えば、本発明の権利範囲を逸脱しないながらも第1構成要素は第2構成要素と命名されてもよく、同様に第2構成要素も第1構成要素と命名されてもよい。単数の表現は、文脈上明白に異なるように意味しない限り、複数の表現を含む。
本出願において、「含む」または「有する」などの用語は、明細書の上に記載された特徴、数字、ステップ、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、ステップ、動作、構成要素、部分品またはこれらを組み合わせたものの存在または付加可能性を予め排除しないと理解すべきである。
本出願において、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」または「上部に」あるとする場合、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。逆に、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「下に」または「下部に」にあるとする場合、これは他の部分の「直下」にある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。また、本出願において、「上に」配置されるとは、上部だけでなく下部に配置される場合も含む。
本明細書において、「置換または非置換の」とは、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、シリル基、オキシ基、チオ基、スルフィニル基、スルホニル基、カルボニル基、ホウ素基、ホスフィンオキシド基、ホスフィンスルフィド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、炭化水素環基、アリール基、及びヘテロ環基からなる群より選択される一つ以上の置換基により置換されたか、または非置換であることを意味する。また、前記例示した置換基のそれぞれは、置換されたか、または非置換のものであってもよい。例えば、ビフェニル基は、アリール基と解釈されてもよく、フェニル基に置換されたフェニル基と解釈されてもよい。
本明細書において、「隣接する基と互いに結合して環を形成」するとは、隣接する基と互いに結合することで、置換または非置換された炭化水素環、または置換または非置換されたヘテロ環を形成することを意味する。炭化水素環は、脂肪族炭化水素環及び芳香族炭化水素環を含む。ヘテロ環は、脂肪族ヘテロ環及び芳香族ヘテロ環を含む。炭化水素環及びヘテロ環は、単環または多環である。また、互いに結合して形成される環は、他の環と連結されてスピロ構造を形成してもよい。
本明細書において、「隣接する基」とは、該当置換基が置換されて結合された原子に、直接に連結された原子に置換されれて結合された置換基を意味するか、該当置換基が置換されて結合された原子に、置換されて結合された他の置換基を意味するか、または、該当置換基と立体構造的に最も隣接する置換基を意味する。例えば、1、2-ジメチルベンゼンにおける2つのメチル基は互いに「隣接する基」と解釈され、1、1-ジエチルシクロペンテンにおける2つのエチル基は互いに「隣接する基」と解釈される。また、4,5-ジメチルフェナントレンにおける2つのメチル基は互いに「隣接する基」と解釈される。
本明細書において、ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられる。
本明細書において、アルキル基は直鎖、分枝鎖、または環状である。アルキル基の炭素数は、1以上50以下、1以上30以下、1以上20以下、1以上10以下、または1以上6以下である。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、i-ブチル基、2-エチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基、n-ペンチル基、i-ペンチル基、ネオペンチル基、t-ペンチル基、シクロペンチル基、1-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-エチルペンチル基、4-メチル-2-ペンチル基、n-ヘキシル基、1-メチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-ブチルヘキシル基、シクロヘキシル基、4-メチルシクロヘキシル基、4-t-ブチルシクロヘキシル基、n-ヘプチル基、1-メチルペプチル基、2,2-ジメチルヘプチル基、2-エチルヘプチル基、2-ブチルヘプチル基、n-オクチル基、tーオクチル基、2-エチルオクチル基、2-ブチルオクチル基、2-ヘキシルオクチル基、3,7-ジメチルオクチル基、シクロオクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、アダマンチル基、2-エチルデシル基、2-ブチルデシル基、2-ヘキシルデシル基、2-オクチルデシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、2-エチルドデシル基、2-ブチルドデシル基、2-ヘキシルドデシル基、2-オクチルデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、2-エチルヘキサデシル基、2-ブチルヘキサデシル基、2-ヘキシルヘキサデシル基、2-オクチルヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-ノナデシル基、n-イコシル基、2-エチルイコシル基、2-ブチルイコシル基、2-ヘキシルイコシル基、2-オクチルイコシル基、n-ヘンイコシル基、n-ドコシル基、n-トリコシル基、n-テトラコシル基、n-ペンタコシル基、n-ヘキサコシル基、n-ヘプタコシル基、n-オクタコシル基、n-ノナコシル基、及びn-トリアコンチル基などが挙げられるが、これに限らない。
本明細書において、アルケニル基は、炭素数2以上のアルキル基の中間または末端に一つ以上の炭素二重結合を含む炭化水素グループを意味する。アルケニル基は直鎖または分枝鎖である。炭素数は特に限らないが、2以上30以下、2以上20以下、または2以上10以下である。アルケニル基の例としては、ビニル基、1-ブテニル基、1-ペンテニル基、1,3-ブタジエニルアリール基、スチレニル基、スチリルビニル基などが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、炭化水素環基は脂肪族炭化水素環から誘導される任意の作用基または置換基を意味する。炭化水素環基は環形炭素数5以上20以下の飽和炭化水素環基である。
本明細書において、アリール基は芳香族炭化水素環から誘導される任意の作用基または置換基を意味する。アリール基は、単環式アリール基または多環式アリール基である。アリール基の環形成炭素数は、6以上30以下、6以上20以下、または6以上15以下である。アリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ビフェニル基、テルフェニル基、クォーターフェニル基、クインクフェニル基、セクシフェニル基、トリフェニルエニル基、ピレニル基、ベンゾフルオランテニル基、クリセニル基などが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、フルオレニル基は置換されてもよく、2つの置換基が互いに結合してスピロ構造を形成してもよい。フルオレニル基が置換される場合の例示は以下のようである。但し、これに限られない。
Figure 2023104921000013
本明細書において、ヘテロ環基は、ヘテロ原子としてB、O、N、P、Si、及びSのうちの一つ以上を含む環から誘導される任意の作用基または置換基を意味する。ヘテロ環基は、脂肪族ヘテロ環基及び芳香族ヘテロ環基を含む。芳香族ヘテロ環基はヘテロアリール基であってもよい。脂肪族ヘテロ環及び芳香族ヘテロ環は、単環及び多環であってもよい。
本明細書において、ヘテロ環基は、ヘテロ原子としてB、O、N、P、Si、及びSのうちの一つ以上を含む。ヘテロ環基がヘテロ原子を2つ以上含めば、2つ以上のヘテロ原子は互いに同じであってもよく、異なってもよい。本明細書において、ヘテロ環基は単環式ヘテロ環基または多環式ヘテロ環基であり、ヘテロアリール基を含む概念である。ヘテロ環基の環形成炭素数は、2以上30以下、2以上20以下、または2以上10以下である。
本明細書において、脂肪族ヘテロ環基は、ヘテロ原子としてB、O、N、P、Si、及びSのうちの一つ以上を含む。脂肪族ヘテロ環基の環形成炭素数は、2以上30以下、2以上20以下、または2以上10以下である。脂肪族ヘテロ環基の例としては、オキシラン基、チイラン基、ピロリジン基、ピペリジン基、テトラヒドロフラン基、テトラヒドロチオフェン基、チアン基、テトラヒドロピラン基、1,4-ジオキサン基などが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、ヘテロアリール基は、ヘテロ原子としてB、O、N、P、Si、及びSのうち一つ以上を含む。ヘテロアリール基がヘテロ原子を2つ以上含めば、2つ以上のヘテロ原子は互いに同じであってもよく、異なってもよい。ヘテロアリール基は、単環式ヘテロ環基または多環式ヘテロ環基である。ヘテロアリール基の環形成炭素数は、2以上30以下、2以上20以下、または2以上10以下である。ヘテロアリール基の例としては、チオフェン基、フラン基、ピロール基、イミダゾール基、トリアゾール基、ピリジン基、ビピリジン基、ピリミジン基、トリアジン基、トリアゾール基、アクリジル基、ピリダジン基、ピリジニル基、キノリン基、キナゾリン基、キノキサリン基、フェノキサン基、フタラジン基、ピリドピリミジン基、ピリドピラジン基、ピラジノピラジン基、イソキノリン基、インドール基、カルバゾール基、N-アリールカルバゾール基、N-ヘテロアリールカルバゾール基、N-アルキルカルバゾール基、ベンゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾカルバゾール基、ベンゾチオフェン基、ジベンゾチオフェン基、チエノチオフェン基、ベンゾフラン基、フェナントロリン基、チアゾール基、イソオキサゾール基、オキサゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、フェノチアジン基、ジベンゾシロール基、及びジベンゾフラン基などが挙げられるが、これに限らない。
本明細書において、アリーレン基については、2価基であることを除いては、上述したアリール基に関する説明が適用される。ヘテロアリーレン基については、2価基であることを除いては、上述したヘテロアリール基に関する説明が適用される。
本明細書において、ボリル基は、アルキルボリル基及びアリールボリル基を含む。ボリル基の例としては、ジメチルボリル基、ジエチルボリル基、t-ブチルメチルボリル基、ジフェニルボリル基、フェニルボリル基などがあるが、これに限らない。例えば、アルキルボリル基の中のアルキル基は、上述したアルキル基の例示のとおりであり、アリールボリル基の中のアアリール基は、上述したアリール基の例示と同じである。
本明細書において、シリル基はアルキルシリル基及びアリールシリル基を含む。シリル基の例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、ジフェニルシリル基、フェニルシリル基などが挙げられるが、これに限らない。
本明細書において、カルボニル基の炭素数は、特に限られないが、炭素数1乃至40以下、1以上30以下、または1乃至20以下であってもよい。例えば、下記構造を有してもよいが、これに限られない。
Figure 2023104921000014
本明細書において、スルフィニル基及びするスルホニル基の炭素数は特に限らないが、1以上30以下であってもよい。スルフィニル基は、アルキルスルフィニル基及びアリールスルフィニル基を含む。スルホニル基は、アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基を含む。
本明細書において、チオ基はアルキルチオ基及びアリールチオ基を含む。チオ基は、前記定義されたアルキル基またはアリール基に硫黄原子が結合されているものを意味する。チオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基などが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、オキシ基は、前記定義されたアルキル基またはアリール基に酸素原子が結合されているものを意味する。オキシ基は、アルコキシオキシ基及びアリールオキシ基を含む。アルコキシ基は直鎖、分枝鎖、または環鎖状である。アルコキシ基の炭素数は、特に限られないが、例えば、1以上20以下、または1以上10以下であってもよい。オキシ基の例としては、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ベンジルオキシなどが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、アミン基の炭素数は、特に限られないが、1以上30以下である。アミン基は、アルキルアミン基及びアリールアミン基を含む。アミン基の例としては、メチルアミン基、ジメチルアミン基、フェニルアミン基、ジフェニルアミン基、ナフチルアミン基、9-メチル-アントラセニルアミン基などが挙げられるが、これに限られない。
本明細書において、アルキルチオ基、アルキルスルホキシ基、アルキルアリール基、アルキルアミノ基、アルキルホウ素基、アルキルシリル基、アルキルアミン基の中における、アルキル基は、上述したアルキル基の例示のとおりである。
本明細書において、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールスルホキシ基、アリールアミノ基、アリールホウ素基、アリールシリル基、アリールアミン基の中における、アリール基は、上述したアリールのとおりである。
本明細書において、直接結合(direct linkage)は、単一結合(単結合)を意味しうる。
一方、本明細書において、
Figure 2023104921000015
または
Figure 2023104921000016
は、連結される位置を意味する。
以下、図面を参照して本発明の一実施例について説明する。
図1は、表示装置DDの一実施例を示す平面図である。図2は、一実施例の表示装置DDの断面図である。図2は、図1のI-I’線に対応する部分を示す断面図である。
表示装置DDは、表示パネルDPと、表示パネルDPの上に配置される光学層PPとを含む。表示パネルPPは発光素子ED-1、ED-2、ED-3を含む。表示装置DDは複数個の発光素子ED-1、ED-2、ED-3を含む。光学層PPは、表示パネルDPの上に配置され、外部光による表示パネルDPにおける反射光を制御する。光学層PPは、例えば、偏光層を含むか、またはカラーフィルタ層を含んでもよい。一方、図示とは異なって、一実施例の表示装置DDから光学層PPが省略されてもよい。
光学層PPの上にはベース基板BLが配置される。ベース基板BLは、光学層PPが配置されるベース面を提供する部材である。ベース基板BLは、ガラス基板、金属基板、プラスチック基板などである。しかし、実施例はこれに限らず、ベース基板BLは無機層、有機層、または複合材料層であってもよい。また、図示とは異なって、一実施例においてベース基板BLは省略されてもよい。
一実施例による表示装置DDは充填層(図示せず)を更に含む。充填層(図示せず)は表示素子層DP-EDとベース基板BLとの間に配置される。充填層(図示せず)は有機物層である。充填層(図示せず)は、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、及びエポキシ系樹脂のうちの少なくとも一つを含む。
表示パネルDPは、ベース層BS、ベース層BSの上に提供される回路層DP-CL、及び表示素子層DP-EDを含む。表示素子層DP-EDは、画素画定膜PDL、画素画定膜PDL同士の間に配置される発光素子ED-1、ED-2、ED-3、及び発光素子ED-1、ED-2、ED-3の上に配置される封止層TFEを含む。
ベース層BSは、表示素子層EP-EDが配置されるベース面を提供する部材である。ベース層BSは、ガラス基板、金属基板、プラスチック基板などでありうる。しかし、実施例はこれに限らず、ベース層BSは、無機層、有機層、または複合材料層であってもよい。
一実施例において、回路層DP-CLはベース層BSの上に配置されるが、回路層DP-CLは複数のトランジスタ(図示せず)を含む。トランジスタ(図示せず)は、それぞれ、制御電極、入力電極、及び出力電極を含む。例えば、回路層DP-CLは、表示層思想DP-EDの発光素子ED-1、ED-2、ED-3を駆動するためのスイッチングトランジスタ、及び駆動トランジスタを含んでもよい。
発光素子ED-1、ED-2、ED-3は、いずれも、後述する図3乃至図6による一実施例の発光素子EDの構造を有する。発光素子ED-1、ED-2、ED-3は、いずれも、第1電極EL1、正孔輸送領域HTR、発光層EML-R、EML-G、EML-B、電子輸送領域ETR、及び第2電極EL2を含む。
図2は、画素画定膜PDLにより画定された開口部OH内に発光素子ED-1、ED-2、ED-3、の発光層EML-R、EML-G、EML-Bが配置され、正孔輸送領域HTR、電子輸送領域ETR、及び第2電極EL2は発光素子ED-1、ED-2、ED-3全体で共通層として提供される実施例を示している。しかし、実施例はこれに限られないのであり、図2の図示とは異なって、一実施例において、正孔輸送領域HTR及び電子輸送領域ETRは、画素画定膜PDLにより画定された開口部OHの内部にパターニングされて提供されてもよい。例えば、一実施例において、発光素子ED-1、ED-2、ED-3の正孔輸送領域HTR、発光層EML-R、EML-G、EML-B、及び電子輸送領域ETRなどはインクジェットプリント法でパターニングされて提供されてもよい。
封止層TFEは、有機電界発光素ED-1、ED-2、ED-3をカバーする。封止層TFEは、表示素子層DP-EDを密封する。封止層TFEは薄膜封止層である。封止層TFEは、一層であるか、または複数の層が積層されている。封止層TFEは少なくとも一つの絶縁層を含む。一実施例による封止層TFEは、少なくとも一つの無機膜(以下、封止無機膜)を含む。また、一実施例による封止層TFEは、少なくとも一つの有機膜(以下、封止有機膜)、及び少なくとも一つの封止無機膜を含む。
封止無機膜は水分/酸素から表示素子層DP-EDを保護し、封止有機膜は、ほこり粒子といった異物から表示素子層DP-EDを保護する。封止無機膜は、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化チタン、または酸化アルミニウムなどを含みうるが、特にこれに限られない。封止有機膜は、アクリル系化合物、エポキシ系化合物などを含みうる。封止有機膜は、光重合可能な有機物質を含みうるが、特にこれに限られない。
封止層TFEは、第2電極EL2の上に配置され、開口部OHを埋めるようにして配置される。
図1及び図2を参照すると、表示装置DDは、非発光領域NPXA、及び発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bを含む。発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bのそれぞれは、発光素子ED-1、ED-2、ED-3のそれぞれから生成された光が放出される領域である。発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bは、平面上にて互いに離隔されている。
発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bのそれぞれは、画素画定膜PPLで区分される領域である。非発光領域NPXAは隣り合う発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの間の領域であって、画素画定膜PDLと対応する領域である。一方、本明細書において、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bのそれぞれは、画素(Pixel)に対応する。画素画定膜PDLは、発光素子ED-1、ED-2、ED-3を区分する。発光素子ED-1、ED-2、ED-3の発光層EML-R、EML-G、EML-Bは、画素画定膜PDLにより区画された開口部OHにそれぞれ配置されることで互いに分け隔てられている。
発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bは、発光素子ED-1、ED-2、ED-3から生成される光のカラーに応じて複数個のグループに区分される。図1及び図2に示した一実施例の表示装置DDには、赤色光、緑色光、及び青色光を発光する3つの発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bを例示的に示している。例えば、一実施例の表示装置DDは、互いに区分される赤色発光領域PXA-R、緑色発光領域PXA-G、及び青色発光領域PXA-Bを含んでもよい。
一実施例による表示装置DDにおいて、複数の発光素子ED-1、ED-2、ED-3は互いに異なる波長領域の色の光を放出する。例えば、一実施例において、表示装置DDは、赤色光を放出する発光素子ED-1、緑色光を放出する第2発光素子ED-3、及び青色光を放出する第3発光素子ED-3を含んでもよい。つまり、表示装置DDの赤色発光領域PXA-R、緑色発光領域PXA-G、及び青色発光領域PXA-Bは、それぞれ第1発光素子ED-1、第2発光素子ED-2、及び第3発光素子ED-3に対応する。
しかし、実施例はこれに限られず、第1乃至第3発光素子ED-1、ED-2、ED-3は、同じ波長領域の光を放出するか、または、少なくとも一つが他とは異なる波長領域の光を放出してもよい。また、第1乃至第3発光素子ED-1、ED-2、ED-3はいずれも青色光を放出してもよい。
一実施例による表示装置DDにおける発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bは、縞状に配列される。図1を参照すると、複数個の赤色発光領域PXA-R、複数個の緑色発光領域PXA-G、及び複数個の青色発光領域PXA-Bが、それぞれ第2方向軸DR2に沿って整列されている。また、第1方向軸DR1に沿って、赤色発光領域PXA-R、緑色発光領域PXA-G、及び青色発光領域PXA-Bの順に交互に配列されている。
図1及び図2では、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの面積がいずれも類似しているように示したが、実施例はこれにかぎられず、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの面積は放出する光の波長領域によって互いに異なり得る。一方、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの面積は、第1方向軸DR1と第2方向軸DR2が定義する平面上から見た際の面積を意味する。
一方、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの配列形態は、図1の図示に限らず、赤色発光領域PXA-R、緑色発光領域PXA-G、及び青色発光領域PXA-Bが配列される順番は表示装置DDから要求される表示品質の特性に応じて多様に組み合わせられて提供される。例えば、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの配列形態はペンタイル(PENTILETM(登録商標))配列形態であるか、ダイヤモンド(Diamond PixelTM(登録商標))配列の形態を有してもよい。
また、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bの面積は互いに異なりうる。例えば、一実施例において、緑色発光領域PXA-Gが青色発光領域PXA-Bの面積より小さくてもよいが、実施例はこれに限られない。
以下、図3乃至図6は一実施例による発光素子を概略的に示す断面図である。一実施例による発光素子EDは、第1電極EL1と、第1電極EL1と向かい合う第2電極EL2と、第1電極EL1と第2電極EL2との間に配置される少なくとも一つの機能層とを含む。一実施例の発光素子EDは、少なくとも一つの機能層に後述する一実施例のアミン化合物を含む。
発光素子EDは、少なくとも一つの機能層として順次に積層される正孔輸送領域HTR、発光層EML、電子輸送領域ETRなどを含む。図3を参照すると、一実施例の発光素子EDは、順次に積層される第1電極EL1と、正孔輸送領域HTRと、発光層EML、電子輸送領域ETRと、第2電極EL2とを含む。
図4は、図3と同様の積層構造において、正孔輸送領域HTRが正孔注入層HIL及び正孔輸送層HTLを含み、電子輸送領域ETRが電子注入層EIL及び電子輸送層ETLを含む一実施例の発光素子EDの断面図を示す。また、図5は、図3と同様の積層構造において、正孔輸送領域HTRが正孔注入層HIL、正孔輸送層HTL、及び電子阻止層EBLを含み、電子輸送領域ETRが電子注入層EIL、電子輸送層ETL、及び正孔阻止層HBLを含む一実施例の発光素子EDの断面図を示す。図6は、図4と同様の積層構造において、第2電極EL2の上に配置されるキャッピング層CPLを含む一実施例の発光素子EDの断面図を示す。
一実施例の発光素子EDは、正孔輸送領域HTRに、後述する一実施例のアミン化合物を含む。一実施例発光素子EDにおいて、正孔輸送領域HTRの正孔孔注入層HIL、正孔輸送層HTL、及び電子阻止層EBLのうち少なくとも一つに一実施例のアミン化合物を含む。
一実施例による発光素子EDにおいて、第1電極EL1は導電性を有する。第1電極EL1は、金属材料、金属合金、または導電性化合物から形成される。第1電極EL1は、アノード(anode)またはカソード(cathode)でありうる。しかし、実施例はこれに限られない。また、第1電極EL1は画素電極である。第1電極EL1は、透過型電極、半透過型電極、または反射型電極である。第1電極EL1は、Ag、Mg、Cu、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、LiF、Mo、Ti、W、In、Sn、及びZnのうちから選択される少なくとも一つ、これらのうちから選択される2種以上の混合物、またはこれらの酸化物を含む。
第1電極EL1が透過型電極であれば、第1電極EL1は透明金属酸化物を含み、例えば、ITO(indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、ZnO(zinc oxide)、ITZO(indium tin zinc oxide)などを含む。第1電極EL1が半透過型電極または反射型電極であれば、第1電極EL1は、Ag、Mg、Cu、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、LiF/Ca(LiFとCaの積層構造)、LiF/Al(LiFとAlの積層構造)、Mo、Ti、W、またはこれらの化合物や混合物(例えば、AgとMgの混合物)を含みうる。または、第1電極EL1は前記物質からなる反射膜や半透過膜、及びITO、IZO、ZnO、ITZOなどからなる透明導電膜を含む複数層の構造でありうる。例えば、第1電極EL1はITO/Ag/ITOの3層構造を有してもよいが、これに限られない。また、実施例はこれに限らず、第1電極EL1は、上述した金属材料、上述した金属材料のうちから選択される2種以上の金属材料の組み合わせ、または上述した金属材料の酸化物などを含んでもよい。第1電極EL1の厚さは、約700Å乃至約10000Åでありうる。例えば、第1電極EL1の厚さは、約1000Å乃至約3000Åであってもよい。
正孔輸送領域HTRは第1電極EL1の上に提供される。正孔輸送領域HTRは、単一物質からなる単一層、複数の互いに異なる物質からなる単一層、または複数の互いに異なる物質からなる複数の層を有する多層構造を有する。
正孔輸送領域HTRHTRは、正孔注入層HIL、正孔輸送層HTL、及び電子阻止層EBLのうちの少なくとも一つを含む。また、図示していないが、正孔輸送領域HTRは複数個の積層された正孔輸送層を含んでもよい。
また、これとは異なって、正孔輸送領域HTRは、正孔注入層HILまたは正孔輸送層HTLの単一層の構造を有してもよく、正孔注入物質及び正孔輸送物質からなる単一層の構造を有してもよい。一実施例において、正孔輸送領域HTRは、複数の互いに異なる物質を有する単一層の構造を有するか、第1電極EL1から順に積層される、正孔注入層HIL/正孔輸送層HTL、正孔注入層HIL/正孔輸送層HTL/バッファ層(図示せず)、正孔注入層HIL/バッファ層(図示せず)、または正孔輸送層HTL/バッファ層(図示せず)の構造を有してもよいが、実施例はこれに限られない。
正孔輸送領域HTRの厚さは、例えば、約50Å乃至約15,000Åあってもよい。正孔輸送領域HTRは、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法(Langmuir-Blodgett)、インクジェットプリント法、レーザプリント法、レーザ熱転写法(Laser Induced Thermal Imaging、LITI)などのような多様な方法を利用して形成されうる。
一実施例の発光素子EDは、正孔輸送領域HTRに下記化学式1で表される一実施例のアミン化合物を含む。一実施例の発光素子EDにおいて、正孔輸送層HTLは、下記化学式1で表される一実施例のアミン化合物を含む。
<化学式1>
Figure 2023104921000017
化学式1において、FGは、下記化学式2乃至化学式5のうちのいずれか一つで表される。
<化学式2>
Figure 2023104921000018
<化学式3>
Figure 2023104921000019
<化学式4>
Figure 2023104921000020
<化学式5>
Figure 2023104921000021
一実施例のアミン化合物は、窒素原子に直接結合される、置換されたジベンゾヘテロール基、リンカー(linker)を介して窒素原子に結合されるナフチル基、及びカルバゾール基、フルオレン基、またはテルフェニル誘導体から選択される一つの置換基を含む。また、一実施例のアミン化合物において、窒素原子に結合されるジベンゾヘテロール基は、アリール基またはヘテロアリール基の置換基により置換されたものであり、置換基の結合位置はアミン化合物の窒素原子に対するパラ(para)位に当たる。
化学式1において、XはOまたはSである。つまり、一実施例のアミン化合物において、窒素原子に直接結合されるジベンゾヘテロール基は、ジベンゾフランまたはジベンゾチオフェンである。
化学式1において、Arは、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下のヘテロアリール基である。つまり、一実施例のアミン化合物において、窒素原子に直接結合されるジベンゾヘテロール基は、アリール基またはヘテロアリール基により置換されたものである。
例えば、以下のように表示されるジベンゾヘテロール基の1番位置(第1位)にて窒素原子と結合され、4番位置(第4位)にてArの置換基が置換されるのであってもよい。
Figure 2023104921000022
化学式1において、Arは、置換または非置換のフェニル基、置換または非置換のナフチル基、置換または非置換のフェナントレニル基、置換または非置換のジベンゾチオフェン基、または、置換または非置換のジベンゾフラン基である。例えば、Arは、Ar1-1乃至Ar1-5のうちいずれか一つで表される。
Figure 2023104921000023
化学式1において、L及びLは、それぞれ独立して、直接結合(単結合)、置換または非置換の環形成炭素数6以上15以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上12以下のヘテロアリーレン基である。
例えば、化学式1で表される一実施例のアミン化合物において、Lは、直接結合、非置換のフェニレン基、または非置換の2価のビフェニル基でありうる。また、Lは、直接結合、非置換のフェニレン基、非置換のナフタレン基、非置換の2価のジベンゾフラン基、または非置換の2価のジベンゾチオフェン基でありうる。しかし、実施例はこれに限られない。
化学式1において、nは0以上7以下の整数である。化学式1でnが0であれば、ナフチル基は置換されていない。一方、nが2以上の整数であれば、複数のRは、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。
は、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基である。
化学式1において、oは0以上4以下の整数である。Rは、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基である。一方、oが2以上であれば、複数のRは、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、一実施例において、oは0であってもよい。
化学式1において、pは0以上6以下の整数である。Rは、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基である。一方、pが2以上であれば、複数のRは、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、一実施例において、pは0であってもよい。
化学式1で表される一実施例のアミン化合物において、FGは、化学式2または化学式5で表されるカルバゾール誘導体、化学式3で表されるフルオレン誘導体、または、化学式4で表されるテルフェニル誘導体である。一方、化学式4で表されるテルフェニル誘導体は、中央のフェニレンを基準に2つの環が互いにオルト(ortho)位に結合される形態である。本明細書では、化学式4で表されるテルフェニル誘導体の形態を、z-typeのアリール基を含む置換基と称する。化学式4で表されるテルフェニル誘導体は、ベンゼン環のうち一つが置換基と互いに結合して飽和または不飽和環を形成する。
化学式2において、Arは、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下のヘテロアリール基である。例えば、Arは、非置換のフェニル基、非置換のナフチル基、重水素に置換されたフェニル基、または重水素に置換されたナフチル基などでありうる。しかし、実施例はこれに限られない。
また、化学式2において、m1は0以上7以下の整数であり、Rd1は、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。m1が2以上であれば、複数のRd1は、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、m1は0であってもよい。しかし、実施例はこれに限られない。
化学式3において、Ar乃至Arは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下のヘテロアリール基である。Ar及びArは互いに同じでありうる。しかし、実施例はこれに限られない。
例えば、Ar及びArは、それぞれ独立して、非置換のフェニル基、または重水素に置換されたフェニル基などであってもよい。しかし、実施例はこれに限られない。
また、化学式3において、m2は0以上7以下の整数であり、Rd2は、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したもおのである。m2が2以上であれば、複数のRd2はいずれも同じであるか少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、m2は0であってもよい。しかし、実施例はこれに限られない。
化学式4において、R乃至Rは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。
例えば、R乃至Rは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のフェニル基、または、置換または非置換のナフチル基である。また、一実施例において、R乃至Rのうちから選択される一つまたは2つは置換または非置換のフェニル基であり、残りは水素原子である。
一方、化学式4において、R乃至Rが、隣接する基と互いに結合して環を形成する場合、R乃至RはR乃至Rが、置換されたベンゼン環と互いに結合して、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、またはカルバゾール環を形成しうる。しかし、実施例はこれに限られない。
また、化学式4において、m3及びm4はそれぞれ独立しては0以上4以下の整数であり、Rd3及びRd4は、それぞれ独立して、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。m3が2以上であれば、複数のRd3はいずれも同じであるか少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、m3は0であってもよい。m4が2以上であれば、複数のRd4は、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。
化学式5において、m5は0以上8以下の整数であり、Rd5は重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。m5が2以上であれば、複数のRd5は、いずれも同じであるか、少なくとも一つが残りとは異なる。例えば、m5は0であってもよい。
化学式1で表される一実施例のアミン化合物において、R乃至R、Ar、及びFGのうちの少なくとも一つは、重水素原子を含むか、または重水素原子を含む置換基を含む。つまり、一実施例のアミン化合物は、少なくとも一つの重水素原子を置換基として含む。
一方、一実施例のアミン化合物はモノアミン化合物である。一実施例のアミン化合物は、置換基としてアミン基を含まない。
一実施例において、化学式1は、下記化学式1-1乃至化学式1-4のうちのいずれか一つで表される。前記化学式1-1乃至化学式1-4において、X、L、L、n、R、及びArについては、上述した化学式1で説明した内容と同じ内容が適用される。
<化学式1-1>
Figure 2023104921000024
<化学式1-2>
Figure 2023104921000025
<化学式1-3>
Figure 2023104921000026
<化学式1-4>
Figure 2023104921000027
一方、化学式1-1及び化学式1-2において、Ar乃至Arは上述した化学式2及び化学式3で説明した内容と同じ内容が適用され、化学式1-3において、R乃至Rは上述した化学式4で説明した内容と同じ内容が適用され、化学式1-1乃至化学式1-4において、Rd1乃至Rd5及びm1乃至m5は、前記化学式2及び化学式5で説明した内容と同じ内容が適用される。
化学式1で表される一実施例のアミン化合物は、下記第1化合物群のうちのいずれか一つで表される。一実施例の発光素子EDの正孔輸送領域HTRは、下記第1化合物群に開示されるアミン化合物のうち少なくとも一つを含む。下記第1化合物群において、Dは重水素原子である。
[第1化合物群]
[第1化合物A1~A8]
Figure 2023104921000028
[第1化合物A9~A16]
Figure 2023104921000029
[第1化合物A17~A24]
Figure 2023104921000030
[第1化合物A25~A32]
Figure 2023104921000031
[第1化合物A33~A40]
Figure 2023104921000032
[第1化合物A41~A48]
Figure 2023104921000033
[第1化合物A49~A56]
Figure 2023104921000034
[第1化合物A57~A64]
Figure 2023104921000035
[第1化合物A65~A72]
Figure 2023104921000036
[第1化合物A73~A80]
Figure 2023104921000037
[第1化合物A81~A88]
Figure 2023104921000038
[第1化合物A89~A96]
Figure 2023104921000039
[第1化合物A97~A104]
Figure 2023104921000040
[第1化合物A105~A112]
Figure 2023104921000041
[第1化合物A113~A120]
Figure 2023104921000042
[第1化合物A121~A128]
Figure 2023104921000043
[第1化合物A129~A136]
Figure 2023104921000044
[第1化合物A137~A144]
Figure 2023104921000045
[第1化合物A145~A152]
Figure 2023104921000046
[第1化合物A153~A160]
Figure 2023104921000047
[第1化合物A161~A168]
Figure 2023104921000048
[第1化合物A169~A176]
Figure 2023104921000049
[第1化合物A177~A184]
Figure 2023104921000050
[第1化合物A185~A192]
Figure 2023104921000051
[第1化合物A193~A200]
Figure 2023104921000052
[第1化合物A201~A208]
Figure 2023104921000053
[第1化合物B1~B8]
Figure 2023104921000054
[第1化合物B9~B16]
Figure 2023104921000055
[第1化合物B17~B24]
Figure 2023104921000056
[第1化合物B25~B32]
Figure 2023104921000057
[第1化合物B33~B40]
Figure 2023104921000058
[第1化合物B41~B48]
Figure 2023104921000059
[第1化合物B49~B56]
Figure 2023104921000060
[第1化合物B57~B64]
Figure 2023104921000061
[第1化合物B65~B72]
Figure 2023104921000062
[第1化合物B73~B76]
Figure 2023104921000063
[第1化合物C1~C8]
Figure 2023104921000064
[第1化合物C9~C16]
Figure 2023104921000065
[第1化合物C17~C24]
Figure 2023104921000066
[第1化合物C25~C32]
Figure 2023104921000067
[第1化合物C33~C40]
Figure 2023104921000068
[第1化合物C41~C48]
Figure 2023104921000069
[第1化合物C49~C56]
Figure 2023104921000070
[第1化合物C57~C64]
Figure 2023104921000071
[第1化合物C65~C72]
Figure 2023104921000072
[第1化合物C73~C80]
Figure 2023104921000073
[第1化合物C81~C88]
Figure 2023104921000074
[第1化合物C89~C96]
Figure 2023104921000075
[第1化合物C97~C104]
Figure 2023104921000076
[第1化合物C105~C112]
Figure 2023104921000077
[第1化合物C113~C120]
Figure 2023104921000078
[第1化合物C121~C128]
Figure 2023104921000079
[第1化合物C129~C136]
Figure 2023104921000080
[第1化合物C137~C144]
Figure 2023104921000081
[第1化合物C145~C152]
Figure 2023104921000082
[第1化合物C153~C160]
Figure 2023104921000083
[第1化合物C161~C168]
Figure 2023104921000084
[第1化合物C169~C176]
Figure 2023104921000085
[第1化合物C177~C184]
Figure 2023104921000086
[第1化合物C185~C192]
Figure 2023104921000087
[第1化合物C193~C200]
Figure 2023104921000088
[第1化合物C201~C208]
Figure 2023104921000089
[第1化合物C209~C216]
Figure 2023104921000090
[第1化合物C217~C224]
Figure 2023104921000091
[第1化合物C225~C231]
Figure 2023104921000092
化学式1で表される一実施例のアミン化合物は、アリール基またはヘテロアリール基に置換されたジベンゾヘテロール基を含み、更にフルオレン、カルバゾール、またはZ-typeのアリール誘導体を置換基として含む。一実施例のアミン化合物は、このような置換基の導入及び置換位置の特定によって、優れた電気的安定性と高い電荷輸送能力を有する。それによって、一実施例のアミン化合物の寿命が向上される。また、一実施例のアミン化合物を含む一実施例の発光素子についての発光効率及び寿命も改善される。
一実施例の発光素子EDにおいて、正孔輸送領域HTRは、下記化学式H-1で表される化合物を更に含む。
<化学式H-1>
Figure 2023104921000093
化学式H-1において、L及びLは、それぞれ独立して直接結合、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。a及びbは、それぞれ独立して0以上10以下の整数である。一方、aまたはbが2以上の整数であれば、複数のL及びLは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。
化学式H-1において、Ar乃至Arは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。また、化学式H-1において、Arは、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基である。
前記化学式H-1で表される化合物はモノアミン化合物でありうる。または、前記化学式H-1で表される化合物は、Ar乃至Arのうち少なくとも一つがアミン基を置換基として含むジアミン化合物でありうる。または、前記化学式H-1で表される化合物は、Ar乃至Arのうち少なくとも一つに置換または非置換のカルバゾール基を含むカルバゾール系化合物、または、Ar乃至Arのうち少なくとも一つに置換または非置換フルオレン基を含むカフルオレン系化合物でありうる。
化学式H-1で表される化合物は、下記化合物群Hの化合物のうちいずれか一つで表される。しかし、下記化合物群Hに並べられた化合物は例示的なものであって、化学式H-1で表される化合物は下記化合物群Hに示されたものに限らない。
[化合物群H]
[化合物H-1-1~H-1-7]
Figure 2023104921000094
[化合物H-1-8~H-1-13]
Figure 2023104921000095

[化合物H-1-14~H-1-19]
Figure 2023104921000096
正孔輸送領域HTRは、銅フタロシアニンなどのフタロシアニン化合物、DNTPD(N,N1’-([1,1’-ビフェニル]-4,4’-ジイル)ビス(N-フェニル-N,N-ジ-m-トリルベンゼン-1,4-ジアミン))、m-MTDATA(4,4’,4”-[トリス(3-メチルフェニル)フェニルアミノ)トリフェニルアミノ]、TDATA(4,4’,4”-トリス(N,N-ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン)、1-TNATA(4,4’,4”-トリス[N(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ]-トリフェニルアミン)、2-TNATA(4,4’,4”-トリス[2-ナフチル(フェニル)アミノ]-トリフェニルアミン)、PEDOT/PSS(ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(4-スチレンスルフォナート)、PANI/DBSA(ポリアニリン/ドデシルベンゼンスルホン酸)、PANI/CSA(ポリアニリン/カンファースルホン酸)、PANI/PSS((ポリアニリン)/ポリ(4-スチレンスルフォナート))、NPB (またはNPD、α-NPD)(N,N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ジフェニル-ベンジジン)、トリフェニルアミンを含むポリエテールケトン(TPAPEK)、4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨードニウム[テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート]、HATCN-CN(ジピラジノ[2,3-f:2’,3’-h]キノキサリン-2,3,6,7,10,11-ヘキサカルボニトリル)などを更に含んでもよい。
正孔輸送領域HTRは、N-フェニルカルバゾール、ポリビニルカルバゾールなどのカルバゾール系誘導体、フルオレン系誘導体、TPD(N、N’-ビス(3-メチルフェニル)-N、N’-ジフェニル-[1、1’-ビフェニル]-4、4’-ジアミン)、TCTA(4、4’、4”-トリス(N-カルバゾリル)トリフェニルアミン)などのようなトリフェニルアミン系誘導体、NPB(N、N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N、N’-ジフェニル-ベンジジン)、TAPC(4、4’-シクロへキシリデンビス[N、N-ビス(4-メチルフェニル)ベンゼンアミン])、HMTPD(4、4’-ビス[N、N’-(3-トリル)アミノ]-3、3’-ジメチルビフェニル)、mCP(1,3-ビス(N-カルバゾリル)ベンゼン)などを更に含んでもよい。
また、正孔輸送領域HTRは、CzSi(9-(4-tert-ブチルフェニル)-3,6-ビス(トリフェニルシリル)-9H-カルバゾール)、CCP(9-フェニル-9H-3,9’-ビカルバゾール)、またはmDCP(1,3-ビス(1,8-ジメチル-9H-カルバゾール-9-イル)ベンゼン)などを更に含む。
正孔輸送領域HTRは、上述した正孔輸送領域の化合物を正孔注入層HIL、正孔輸送層HTL、及び電子阻止層EBLのうち少なくとも一つを含む。
正孔輸送領域HTRの厚さは、約100Å乃至約10000Å、例えば約100Å乃至約5000Åであってもよい。正孔輸送領域HTRが正孔注入層HILを含む場合、正孔注入層HILの厚さは、例えば約30Å乃至約1000Åである。正孔輸送領域HTRが正孔輸送層HTLを含む場合、正孔輸送層HTLの厚さは約30Å乃至約1000Åである。例えば、正孔輸送領域HTRが電子阻止層EBLを含む場合、電子阻止層EBLの厚さは例えば約10Å乃至約1000Åである。正孔輸送領域HTR、正孔注入層HIL、正孔輸送層HTL、及び電子阻止層EBLの厚さが、上述したような範囲を満足すれば、実質的な駆動電圧の上昇なしに満足できる程度の正孔輸送特性が得られる。
正孔輸送領域HTRは、上述した物質以外に、導電性を向上するために電荷生成物質を更に含む。電荷発生物質は、正孔輸送領域HTR内に均一にまたは不均一に分散されている。電荷発生物質は、例えば、p-ドーパント(dopant)である。p-ドーパントは、ハロゲン化金属化合物、キノン誘導体、金属酸化物及びシアノ基含有化合物のうち少なくとも一つを含んでもよいが、これに限られない。例えば、p-ドーパントは、CuI及びRBIなどのハロゲン化金属化合物、TCNQ(テトラシアノキノジメタン)及びF4-TCNQ(2,3,5,6-テトラフルオロ-7,7,8,8-テトラシアノキノジメタン)などのようなキノン誘導体、タングステン酸化物、及びモリブデン酸化物のような金属酸化物、HATCN(ジピラジノ[2,3-f:2’,3’-h]キノキサリン-2,3,6,7,10,11-ヘキサカルボニトリル)、及びNDP9(4-[[2,3-ビス[シアノ-(4-シアノ-2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)メチリデン]シクロプロピリデン]-シアノメチル]-2,3,5,6-テトラフルオロベンゾニトリル)のようなシアノ基含有化合物などが挙げられるが、実施例はこれに限られない。
上述したように、正孔輸送領域HTRは、正孔輸送層HTL及び正孔注入層HIL以外に、バッファ層(図示せず)及び電子阻止層EBLのうちの少なくとも一つを更に含む。バッファ層(図示せず)は、発光層EMLから放出される光の波長による共振距離を補償して光放出効率を増加させる。バッファ層(図示せず)に含まれる物質としては、正孔輸送領域HTRに含まれ得る物質を使用する。電子阻止層EBLは、電子輸送領域ETRから正孔輸送領域HTRへの電子の注入を防止する役割をする層である。
発光層EMLは正孔輸送領域HTRの上に提供される。発光層EMLは、例えば、約100Å乃至約1000Å、または約100Å乃至約300Åの厚さを有する。発光層EMLは、単一物質からなる単一層、複数の互いに異なる物質からなる単一層、または、複数の互いに異なる物質からなる複数の層を有する多層構造を有する。
一実施例の発光素子EDにおいて、発光層EMLは青色光を放出する。一実施例発光素子EDは、正孔輸送領域HTRに上述した一実施例のアミン化合物を含むことで、青色発光領域において高効率及び長寿命特性を示す。しかし、実施例はこれに限られない。
一実施例の発光素子EDにおいて、発光層EMLは、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、フルオランテン誘導体、クリセン誘導体、ジヒドロベンズアントラセン誘導体、またはトリフェニレン誘導体を含むものである。詳しくは、発光層EMLは、アントラセン誘導体またはピレン誘導体を含む。
図3乃至図6に示した一実施例の発光素子EDにおいて、発光層EMLはホスト及びドーパントを含むが、発光層EMLは下記化学E-1で表される化合物を含む。下記化学式E-1で表される化合物は、蛍光ホスト材料として使用される。
<化学式E-1>
Figure 2023104921000097
化学式E-1において、R31乃至R40は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のシリル基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上10以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリールであるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成たものである。一方、R31乃至R40は、隣接する基と互いに結合して、飽和炭化水素環、不飽和炭化水素環、飽和ヘテロ環、または不飽和ヘテロ環を形成する。
化学式E-1において、c及びdはそれぞれ独立して0以上5以下の整数である。
化学式E-1は、下記化合物E1乃至化合物E19のうちいずれか一つで表される。
[化合物E1~E6]
Figure 2023104921000098
[化合物E7~E12]
Figure 2023104921000099
[化合物E13~E19]
Figure 2023104921000100
一実施例において、発光層EMLは、下記化学式E-2aまたは化学式E-2bで表される化合物を含む。下記化学式E-2aまたは化学式E-2bで表される化合物は、りん光ホスト材料として使用される。
<化学式E-2a>
Figure 2023104921000101
化学式E-2aにおいて、aは0以上10以下の整数であリ、Lは,直接結合、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。一方、aが2以上の整数であれば、複数個のLはそれぞれ独立して置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。
化学式E-2aにおいて、A乃至Aはそれぞれ独立してNまたはCRである。R乃至Rはそれぞれ独立して水素原子、重水素原子、置換または非置換のアミン基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリールであるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成する。R乃至Rは、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはN、O、Sなどを環形成原子として含むヘテロ環を形成する。
一方、化学式E-2aにおいて、A乃至Aのうちから選択される2つまたは3つはNで、残りはCRである。
<化学式E-2b>
Figure 2023104921000102
前記化学式E-2bにおいて、Cbz1及びCbz2は、それぞれ独立して、非置換のカルバゾール基、または環形成炭素数6以上30以下のアリール基に置換されたカルバゾール基である。Lは、直接結合、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。一方、bは0以上10以下の整数であり、bが2以上の整数であれば、複数個のLは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。
化学式E-2aまたは化合物E-2bで表される化合物は、下記化合物群E-2の化合物のうちのいずれか一つで表されうる。しかし、下記化合物群E-2に並べられた化合物は例示的なものであって、化学式E-2aまたは化学式E-2bで表される化合物は下記化合物群E-2に示されたものに限られない。
[化合物群E-2]
[化合物E-2-1~E-2-8]
Figure 2023104921000103
[化合物E-2-9~E-2-15]
Figure 2023104921000104
[化合物E-2-16~E-2-21]
Figure 2023104921000105
[化合物E-2-22~E-2-24]
Figure 2023104921000106
発光層EMLは、ホスト物質として該当技術分野で知られている一般的な材料を更に含みうる。例えば、発光層EMLはホスト材料として、BCPDS(ビス(4-(9H-カルバゾール-9-イル)フェニル)ジフェニルシラン)、POPCPA((4-(1-(4-(ジフェニルアミノ)フェニル)シクロヘキシル)フェニル)ジフェニル-ホスフィンオキシド)、DPEPO(ビス[2-(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテルオキシド)、CBP(4,4’-ビス(N-カルバゾリル)-1,1’-ビフェニル)、mCP(1,3-ビス(カルバゾール-9-イル)ベンゼン)、PPF(2,8-ビス(ジフェニルホスホリル)ジベンゾ[b,d]フラン)、TCTA(4,4’,4”-トリス(カルバゾール-9-イル)-トリフェニルアミン)、及びTPBi(1,3,5-トリス(1-フェニル-1H-ベンゾ[d]イミダゾール-2-イル)ベンゼン)のうち少なくとも一つを含んでもよい。但し、これに限らず、例えば、Alq(トリス(8-ヒドロキシキノリノ)アルミニウム)、ADN(9、10-ジ(ナフタレン-2-イル)アントラセン)、TBADN(3-tert-ブチル-9、10-ジ(ナフト-2-イル)アントラセン)、DSA(ジスチリルアリーレン)、CDBP(4、4’-ビス(9-カルバゾリル)-2、2’-ジメチル-ビフェニル)、MADN(2-メチル-9、10-ビス(ナフタレン-2-イル)アントラセン)、CP1(ヘキサフェニルシクロトリホスファゼン)、UGH2(1、4-ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン)、DPSiO(ヘキサフェニルシクロトリシロキサン)、DPSiO(オクタフェニルシクロテトラシロキサン)などを、ホスト材料として使用してもよい。
一実施例において、発光層EMLは、下記化学式M-aまたは化学式M-bで表される化合物を含む。下記化学式M-aまたは化学式M-bで表される化合物は、りん光ドーパント材料として使用される。また、一実施例において、化学式M-aまたは化学式M-bで表される化合物は、補助ドーパント材料として使用される。
<化学式M-a>
Figure 2023104921000107
前記化学式M-aにおいて、Y乃至Y、及びZ乃至Zは、それぞれ独立して、CRまたはNであり、R乃至Rはそれぞれ独立して水素原子、重水素原子、置換または非置換のアミン基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリールであるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成する。化学式M-aにおいて、mは0または1で、nは2または3である。化学式M-aにおいて、mが0であればnは3で、mが1であれば、nは2である。
化学式M-aで表される化合物はりん光ドーパントとして使用される。
化学式M-aで表される化合物は、下記化合物群M-a1乃至M-a25の化合物のうちいずれか一つで表されうる。しかし、下記化合物M-a1乃至M-a25は例示的なものであって、化学式M-aで表される化合物は、下記化合物M-a1乃至M-a25で表されるものに限られない。
[化合物M-a1~M-a2]
Figure 2023104921000108
[化合物M-a3~M-a7]
Figure 2023104921000109
[化合物M-a8~M-a19]
Figure 2023104921000110
[化合物M-a20~M-a25]
Figure 2023104921000111
化合物M-a1及び化合物M-a2は赤色ドーパント材料として使用され、化合物M-a3乃至化合物M-a7は緑色ドーパント材料として使用される。
<化学式M-b>
Figure 2023104921000112
M-b化学式M-bにおいて、Q及びQはそれぞれ独立してCまたはNであり、C1乃至C4は、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数5以上30以下の炭化水素環、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロ環である。L21乃至L24は、それぞれ独立して、直接結合、
Figure 2023104921000113
置換または非置換の炭素数1以上20以下の2価のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基であり、e1乃至e4はそれぞれ独立して0または1である。R31乃至R39は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成したものであり、d1乃至d4は、それぞれ独立して0以上4以下の整数である。
化学式M-bで表される化合物は、青色りん光ドーパントまたは緑色りん光ドーパントとして使用される。また、化学式M-bで表される化合物は、一実施例において、補助ドーパントとして発光層EMLに更に含まれる。
化学式M-bで表される化合物は、下記化合物のうちのいずれか一つで表される。しかし、下記化合物は例示的なものであって、化学式M-bで表される化合物は、下記化合物で表されるものに限らない。
[化合物M-b-1~M-b-11]
Figure 2023104921000114
化学式化合物において、R、R38、及びR39は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。
発光層EMLは、下記化学式F-a乃至化学式F-cのうちのいずれか一つで表される化合物を更に含む。下記化学式F-a乃至化学式F-cで表される化合物は、蛍光ドーパント材料として使用される。
<化学式F-a>
Figure 2023104921000115
前記化学式F-aにおいて、R乃至Rのうちから選択される2つは、それぞれ独立して
Figure 2023104921000116
に置換される。R乃至Rのうち
Figure 2023104921000117
に置換されていない残りは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。
Figure 2023104921000118
において、Ar及びArはそれぞれ独立して置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。例えば、Ar及びArのうち少なくとも一つは、環形成原子としてOまたはSを含むヘテロアリール基である。
<化学式F-b>
Figure 2023104921000119
化学式F-bにおいて、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成の2以上20以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成したものである。Ar及びArは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。
化学式F-bにおいて、U及びVは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数5以上30以下の炭化水素環、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロ環である。
化学式F-bにおいて、U及びVで表される環の個数はそれぞれ独立して0または1である。例えば、化学式F-bにおいて、UまたはVの個数が1であればUまたはVで記載の部分に一つの環が縮合環を構成し、UまたはVの個数が0であればUまたはVが記載の環は存在しないことを意味する。詳しくは、Uの個数が0でVの個数が1であれば、またはUの個数が1でVの個数が0であれば、化学式F-bのフルオレンコアを有する縮合環は4環の環式化合物である。また、U及びVの個数がいずれも0であれば、化学式F-bの縮合環は、3環の環式化合物である。また、U及びVの個数がいずれも1であれば、化学式F-bのフルオレンコアを有する縮合環は5環の環式化合物である。
<化学式F-c>
Figure 2023104921000120
前記化学式F-cにおいて、A及びAは、それぞれ独立してO、S、Se、またはNRであり、Rは水素原子、重水素原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。R乃至R11は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換のボリル基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素2以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成したものである。
化学式F-cにおいて、A及びAは、それぞれ独立して隣り合う環の置換基と結合して縮合環を形成する。例えば、A及びAがそれぞれ独立してNRであれば、AはRまたはRと結合して環を形成する。また、AはRまたはRと結合して環を形成する。
一実施例において、発光層EMLは、公知のドーパント材料として、スチリル誘導体(例えば、1,4-ビス[2-(3-N-エチルカルバゾリル)ビニル]ベンゼン(BCzVB)、4-(ジ-p-トリルアミノ)-4’-[(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]スチルベン(DPAVB)、N-(4-((E)-2-(6-((E)-4-(ジフェニルアミノ)スチリル)ナフタレン-2-イル)ビニル)フェニル)-N-フェニルベンゼンアミン(N-BDAVBi))、4,4’-ビス[2-(4-(N,N-ジフェニルアミノ)フェニル)ビニル]ビフェニル(DPAVBi)、ぺリレン及びその誘導体(例えば、2,5,8,11-テトラ-t-ブチルぺリレン(TBP))、ピレン及びその誘導体(例えば、1,1-ジピレン、1,4-ジピレニルベンゼン、1,4-ビス(N、N-ジフェニルアミノ)ピレン)などを含む。
一実施例において、複数個の発光層EMLを含む場合、少なくとも一つの発光層EMLは公知のりん光ドーパント物質を含む。例えば、りん光ドーパントとしては、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、オスミウム(Os)、金(Au)、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、ユウロピウム(Eu)、テルビウム(Tb)、またはツリウム(Tm)を含む金属錯体が使用されてもよい。詳しくは、Flrpic(イリジウム(III)ビス(4,6-ジフルオロフェニルピリジナト-N,C2’)ピコリナート)、Fir6(ビス(2,4-ジフルオロフェニルピリジナト)-テトラキス(1-ピラゾリル)ボラートイリジウム(III))、またはPtOEP(白金-オクタエチルポルフィリン)がりん光ドーパントとして使用されてもよい。しかし、実施例はこれに限らない。
一方、一実施例において、発光層EMLは正孔輸送性ホストと電子輸送性ホストとを含む。また、発光層EMLは補助ドーパント及び発光ドーパントを含む。一方、補助ドーパントとしてはりん光ドーパント材料または熱活性遅延蛍光ドーパント材料が含まれる。つまり、一実施例において、発光層EMLは正孔輸送性ホストと、電子輸送性ホストと、補助ドーパントと、発光ドーパントとを含む。
また、発光層EMLにおいて、正孔輸送性ホストと電子輸送性ホストによってエキシプレックスが形成される。この際、正孔輸送性ホストと電子輸送性ホストによって形成されるエキシプレックスの三重項エネルギーは、電子輸送性ホストのLUMOエネルギーレベルと正孔輸送性ホストのHOMOエネルギーレベルの間隔であるT1に当たる。
一実施例において、正孔輸送性ホストと電子輸送性ホストによって形成されるエキシプレックスの三重項エネルギー(T1)は、2.4eV以上3.0eV以下である。また、エキシプレックスの三重項エネルギーは各ホスト物質のエネルギーギャップより小さい値である。よって、エキシプレックスは、正孔輸送性ホストと電子輸送性ホストのエネルギーギャップである3.0eV以下の三重項エネルギーを有する。
一方、少なくとも一つの発光層EMLは量子ドット(Quantom dot)物質を含む。量子ドットのコアはII-VI族化合物、III-VI族化合物、I-III-VI族、III-V族化合物、III-II-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族元素、IV族化合物、及びこれらの組み合わせから選択される。
II-VI族化合物は、CdSe、CdTe、CdS、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、MgSe、MgS、及びこれらの混合物からなる群より選択される二元化合物、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HeZnSe、HeZnTe、MgZnSe、MgZnS、及びこれらの混合物からなる群より選択される三元化合物、及びHgZnTeS、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe、及びこれらの混合物からなる群より選択される四元化合物からなる群より選択される。
III-VI族化合物は、In、InSeなどのような二元素化合物、InGaS、InGaSeなどのような三元化合物、またはこれらの任意の組み合わせを含む。
I-III-VI族化合物は、AgInS、AgInS、CuInS、CuInS、AgGaS、CuGaS、CuGaO、AgGaO、AgAlO、及びこれらの混合物からなる群より選択される三元化合物、またはAgInGaS、CuInGaSなどの四元化合物から選択される。
III-V族化合物は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、及びこれらの混合物からなる群より選択される二元化合物と、GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InGaP、InAlP、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、及びこれらの混合物からなる群より選択される三元化合物と、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb、及びこれらの混合物からなる群より選択される四元化合物とからなる群より選択される。一方、III-V族化合物はII族金属を更に含む。例えば、III-II-V族化合物としてInZnPなどが選択されてもよい。
IV-VI族化合物は、SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、及びこれらの混合物からなる群より選択される二元化合物、SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、及びこれらの混合物からなる群より選択される三元化合物、及びSnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe、及びこれらの混合物からなる群より選択される四元化合物からなる群より選択される。IV族元素は、Si、Ge、及びこれらの混合物からなる群より選択される。IV族化合物は、SiC、SiGe、及びこれらの混合物からなる群より選択される二元化合物である。
この際、二元化合物、三元化合物、または四元化合物は、均一な濃度で粒子内に存在するか、濃度分布が部分的に異なる状態に分けられて同一粒子内に存在する。また、一つの量子ドットが、他の量子ドットを囲むコア/シェル構造を有してもよい。コア/シェル構造において、シェルに存在する元素の濃度が、コアに行くほど低くなる濃度勾配(gradient)を有する。
いくつかの実施例において、量子ドットは、上述したナノ結晶を含むコア、及び前記コアを囲むシェルを含むコア-シェル構造を有する。前記量子ドットのシェルは、前記コアの化学的変性を防止して半導体特性を維持するための保護層の役割、及び/または量子ドットに電気泳動特性を与えるためのチャージング層(charging layer)の役割をする。前記シェルは単層または多重(複数)層である。前記量子ドットのシェルの例としては、金属または非金属の酸化物、半導体化合物、またはこれらの組み合わせなどが挙げられる。
例えば、前記金属または非金属の酸化物は、SiO、Al、TiO、ZnO、MnO、Mn、Mn、CuO、FeO、Fe、Fe、CoO、Co、NiOなどの二元素化合物、またはMgAl、CoFe、NiFe、CoMnなどの三元素化合物が挙げられるが、本発明はこれに限らない。
また、前記半導体化合物は、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnSeS、ZnTeS、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InGaP、InSb、AlAs、AlP、AlSbなどが挙げられるが、本発明はこれに限らない。
量子ドットは、約45nm以下、好ましくは約40nm以下、より好ましくは約30nm以下の発光波長スペクトルの半値幅(full width of half maximum、FWHM)を有し、この範囲で色純度や色再現性を向上させることができる。また、このような量子ドットを介して発光される光は、全方向に放出されるので、光視野角が向上される。
また、量子ドットの形態は、当分野で一般的に使用する形態のものであって特に限られないが、より詳しくは、球状、ピラミッド状、多腕(multi-arm)状、立方体(cubic)のナノ粒子、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノ繊維、ナノ板状粒子などの形態のものを使用してもよい。
量子ドットは、粒子のサイズに応じて放出する光の色相を調節することができるのであり、したがって、量子ドットは青色、赤色、緑色などの多様な発光色相を有する。
図3乃至図6に示した一実施例の発光素子EDにおいて、電子輸送領域ETRは、発光層EMLの上に提供される。電子輸送領域ETRは、正孔阻止層HBL、電子輸送層ETL、及び電子注入層のEILのうちの少なくとも一つを含むが、実施例はこれに限られない。
電子輸送領域ETRは、単一物質からなる単一層、複数の互いに異なる物質からなる単一層、または複数の互いに異なる物質からなる複数の層を有する多層構造を有する。
例えば、電子輸送領域ETRは電子注入層のEILまたは電子輸送層ETLの単一層構造を有してもよく、電子注入物質と電子輸送物質からなる単一層構造を有してもよい。また、電子輸送領域ETRは、複数の互いに異なる物質からなる単一層の構造を有するか、または、発光層EMLの側から順に積層される、電子輸送層ETL/電子注入層EIL、正孔阻止層HBL/電子輸送層ETL/電子注入層EIL、電子輸送層ETL/バッファ層(図示せず)/電子注入層EILなどの構造を有してもよいが、これに限られない。電子輸送領域ETRの厚さは、例えば、約1000Å乃至約1500Åであってもよい。
電子輸送領域ETRは、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェットプリント法、レーザプリント法、レーザ熱転写法(LITI)などといいった多様な方法を利用して形成される。
電子輸送領域ETRは下記化学式ET-1で表される化合物を含む。
<化学式ET-1>
Figure 2023104921000121
化学式ET-1において、X乃至Xのうちの少なくとも一つはNで残りはCRである。Rは、水素原子、重水素原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基であり、Ar乃至Arは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリール基である。
化学式ET-1において、a乃至cはそれぞれ独立して0以上10以下の整数である。化学式ET-1において、L及びLは、それぞれ独立して、直接結合(単結合)、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。一方、a乃至cが2以上の整数であれば、複数のL及びLは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリーレン基である。
電子輸送領域ETRはアントラセン系化合物を含む。但し、これに限らず、電子輸送領域ETRは、例えば、Alq(トリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム)、1,3,5-トリ[(3-ピリジル)-フェン-3-イル]ベンゼン、2,4,6-トリス(3’-ピリジン-3-イル)ビフェニル-3-イル)-1,3,5-トリアジン、2-(4-(N-フェニルベンゾイミダゾール-1-イル)フェニル)-9,10-ジナフチルアントラセン、TPBi(1,3,5-トリ(1-フェニル-1H-ベンゾ[d]イミダゾール-2-イル)ベンゼン)、BCP(2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン)、Bphen(4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン)、TAZ(3-(4-ビフェニルイル)-4-フェニル-5-テルト-ブチルフェニル-1,2,4-トリアゾール)、NTAZ(4-(ナフタレン-1-イル)-3,5-ジフェニル-4H-1,2,4-トリアゾール)、tBu-PBD(2-(4-ビフェニルイル)-5-(4-テルトーブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール)、BAlq(ビス(2-メチル-8-キノリノラト-N1,O8)-(1,1’-ビフェニル-4-オラト)アルミニウム)、Bebq(ベリリウムビス(ベンゾキノリン-10-オラト)、ADN(9,10-ジ(ナフタレン-2-イル)アントラセン)、BmPyPhB(1,3-ビス[3,5-ジ(ピリジン-3-イル)フェニル]ベンゼン)、TSPO1(ジフェニル(4-(トリフェニルシリル)フェニル)ホスフィンオキシド)、及びこれらの混合物を含んでもよい。
電子輸送領域ETRは下記化合物ET1乃至ET36のうち少なくとも一つを含む。
[化合物ET1~ET9]
Figure 2023104921000122
[化合物ET10~ET15]
Figure 2023104921000123
[化合物ET16~ET21]
Figure 2023104921000124
[化合物ET22~ET27]
Figure 2023104921000125
[化合物ET28~ET36]
Figure 2023104921000126
また、電子輸送領域ETRは、LiF、NaCl、CsF、RbCl、RbI、CuI、KIといったハロゲン化金属、Ybといったランタン族金属、または、前記ハロゲン化金属とランタン族金属との共蒸着材料を含む。例えば、電子輸送領域ETRは共蒸着材料としてKI:Yb、RbI:Yb、LiF:Ybなどを含んでもよい。一方、電子輸送領域ETRは、LiO、BaOといった金属酸化物、またはLiq(8-ヒドロキシ-リチウムキノラート)などが使用されてもよいが、実施例はこれに限らない。電子輸送領域ETRはまた、電子輸送物質と絶縁性の有機金属塩(organo metal salt)が混合された物質からなる。有機金属塩は、エネルギーバンドギャップ(energy band gap)が約4eV以上の物質である。詳しくは、例えば、有機金属塩は、酢酸金属塩(metal acetate)、安息香酸金属塩(metal benzoate)、アセト酢酸金属塩(metal acetoacetate)、金属アセチルアセトネート(metal acetylacetonate)、またはステアリン酸金属塩(stearate)を含む。
電子輸送領域ETRは、上述した材料以外に、BCP(2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン)、TSPO1(ジフェニル(4-(トリフェニルシリル)フェニル)ホスフィンオキシド)、及びBphen(4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン)のうち少なくとも一つを更に含んでもよいが、実施例はこれに限らない。
電子輸送領域ETRは、上述した電子輸送領域の化合物を電子注入層EIL、電子輸送層ETL、及び正孔阻止層HBLのうち少なくとも一つを含む。
電子輸送領域ETRが電子輸送層ETLを含む場合、電子輸送層ETLの厚さは、約100Å乃至約1000Å、例えば約150Å乃至約500Åであってもよい。電子輸送層HTLの厚さが上述したような範囲を満足すれば、実質的な駆動電圧の上昇なしに満足できる程度の電子輸送特性が得られる。電子輸送領域ETRが電子注入層EILを含む場合、電子注入層EILの厚さは、約1Å乃至約100Å、約3Å乃至約90Åであってもよい。電子注入層EILの厚さが上述したような範囲を満足すれば、実質的な駆動電圧の上昇なしに満足できる程度の電子注入特性が得られる。
第2電極EL2は電子輸送領域ETRの上に提供される。第2電極EL2は共通電極である。第2電極EL2はカソードまたはアノールロンドであってもよいが、実施例はこれに限られない。例えば、第1電極EL1がアノードであれば第2電極はカソードで、第1電極EL1がカソードであれば第2電極EL2はアノードであってもよい。第2電極EL2は、Ag、Mg、Cu、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、LiF、Mo、Ti、W、In、Sn、及びZnのうちから選択される少なくとも一つ、これらのうちから選択される2種以上の化合物、これらのうちから選択される2種以上の混合物、または、これらの酸化物を含む。
第2電極EL2は、透過型電極、半透過型電極、または反射型電極である。第2電極EL2が透過型電極であれば、第2電極EL2は透明金属酸化物、例えば、ITO、IZO、ZnO、ITZOなどからなる。
第2電極EL2が半透過型電極または反射型電極であれば、第2電極EL2は、Ag、Mg、Cu、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、LiF/Ca(LiFとCaの積層構造)、LiF/Al(LiFとAlの積層構造)、Mo、Ti、Yb、W、または、これらを含む化合物や混合物(例えば、AgMg、AgYb、またはMgYb)を含む。または、第2電極EL2は、前記物質からなる反射膜や半透過膜、及びITO、IZO、ZnO、ITZOなどからなる透明導電膜を含む複数の層構造でありうる。例えば、第2電極EL2は、上述した金属材料、上述した金属材料のうちから選択される2種以上の金属材料の組み合わせ、または上述した金属材料の酸化物などを含んでもよい。
図示していないが、第2電極EL2は補助電極と連結される。第2電極EL2が補助電極と連結されれば、第2電極EL2の抵抗を減少させる。
一方、一実施例の発光素子EDの第2電極EL2の上には、キャッピング層CPLが更に配置される。キャピング層CPLは、多層または単層を含む。
一実施例において、キャッピング層CPLは有機層または無機層である。例えば、キャッピング層CPLが無機物を含めば、無機物はLiFなどのアルカリ金属化合物、MgFなどのアルカリ土類化合物、SiON、SiNx、SiOyなどを含んでもよい。
例えば、キャッピング層CPLが有機物を含めば、有機物は、α-NPD、NPB、TPD、m-MTDATA、Alq、CuPc、TPD15(N4,N4,N4’,N4’-テトラ(ビフェニル-4-イル)ビフェニル-4,4’-ジアミン;N4,N4,N4’,N4’-tetra(biphenyl-4-yl) biphenyl-4,4’-diamine)、TCTA(4,4’,4”-トリス(カルバゾール ソル-9-イル)トリフェニルアミン;4,4’,4”-tris(carbazol sol-9-yl) triphenylamine)などを含むか、エポキシ樹脂、またはメタクリレートのようなアクリレートを含んでもよい。但し、実施例はこれに限らず、キャッピング層CPLは下記のような化合物P1乃至P5のうち少なくとも一つを含んでもよい。
[化合物P1~P5]
Figure 2023104921000127
一方、キャッピング層CPLの屈折率は1.6以上である。詳しくは、550nm以上660nm以下の波長範囲の光に対してキャッピング層CPLの屈折率は1.6以上である。
図7及び図10は、それぞれ一実施例による表示装置に対する断面図である。以下、図7乃至図10を参照して説明する一実施例に対する表示装置に関する説明において、上述した図1乃至図6で説明した内容と重複する内容については再度説明せず、差を中心に説明する。
図7を参照すると、一実施例による表示装置DD-aは、表示素子層DP-EDを含む表示パネルDPと、表示パネルDPの上に配置される光制御層CCLと、カラーフィルタ層CFLとを含む。
図7に示した一実施例において、表示パネルDPは、ベース層BSと、ベース層BSの上に提供される回路層DP-CLと、表示素子層DP-EDとを含み、表示素子層DP-EDは発光素子EDを含む。
発光素子EDは、第1電極EL1、第1電極EL1の上に配置される正孔輸送領域HTR、正孔輸送領域HTRの上に配置される発光層EML、発光層EMLの上に配置される電子輸送領域ETR、及び電子輸送領域ETRの上に配置される第2電極EL2を含む。一方、図7に示した発光素子EDの構造には、上述した図3乃至図6の発光素子の構造が同じく適用される。
一実施例による表示装置DD-aに含まれる発光素子EDの正孔輸送領域HTRは上述した一実施例のアミン化合物を含む。
図7を参照すると、発光層EMLは画素画定画膜PDLにより画定される開口部OH内に配置される。例えば、画素画定膜PDLにより区画されて、各発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-Bに対応して提供される発光層EMLは、同じ波長領域の光を放出する。一実施例の表示装置DD-aにおいて、発光層EMLは青色光を放出する。一方、図示とは異なって、一実施例において、発光層EMLは、発光領域PXA-R、PXA-G、PXA-B全体に共通層として提供されてもよい。
光制御層CCLは表示パネルDPの上に配置される。光制御層CCLは光変換体を含む。光変換体は量子ドットまたは蛍光体などである。光変換体は、提供された光を波長変換して放出する。つまり、光制御層CCLは、量子ドットを含む層であるか、または蛍光体を含む層である。
光制御層CCLは、複数個の光制御部CCP1、CCP2、CCP3を含む。光制御部CCP1、CCP2、CCP3は、互いに離隔されている。
図7を参照すると、互いに離隔されている光制御部CCP1、CCP2、CCP3同士の間に分割パターンBMPが提供されるが、実施例はこれに限られない。図8において、分割パターンBMPは、光制御部CCP1、CCP2、CCP3と重ならないとして示されているが、光制御部CCP1、CCP2、CCP3のエッジは、分割パターンBMPと少なくとも一部が重畳してもよい。
光制御層CCLは、発光素子EDから提供される第1色光を第2色光に変換する第1量子ドットQD1を含む第1光制御部CCP1と、第1色光を第3色光に変換する第2量子ドットQD2を含む第2光制御部CCP2と、第1色光を透過させる第3光制御部CCP3とを含む。
一実施例において、第1光制御部CCP1は第2色光である赤色光を提供し、第2光制御部CCP2は第3色光である緑色光を提供する。第3光制御部CCP3は、発光素子EDから提供された第1色光である青色光を透過させて提供する。例えば、第1量子ドットQD1は赤色の量子ドットで、第2量子ドットQD2は緑色の量子ドットであってもよい。量子ドットQD1、QD2については上述した内容と同じ内容が適用される。
また、光制御層CCLは散乱体SPを更に含む。第1光制御部CCP1は第1量子ドットQD1と散乱体SPを含み、第2光制御部CCP2は第2量子ドットQD2と散乱体SPを含み、第3光制御部CCP3は量子ドットを含まずに散乱体SPを含む。
散乱体SPは無機粒子である。例えば、散乱体SPは、TiO、ZnO、Al、SiO、及び中空シリカのうち少なくとも一つを含む。散乱体SPは、TiO、ZnO、Al、SiO、及び中空シリカのうち少なくともいずれか一つを含むか、TiO、ZnO、Al、SiO、及び中空シリカのうちから選択される2種以上の物質が混合されたものであってもよい。
第1光制御部CCP1、第2光制御部CCP2、及び第3光制御部CCP3のそれぞれは、量子ドットQD1、QD2及び散乱体SPを分散させるベース樹脂BR1、BR2、BR3を含む。一実施例において、第1光制御部CCP1は第1ベース樹脂BR1内に分散された第1量子ドットQD1と散乱体SPを含み、第2光制御部CCP2は第2ベース樹脂BR2内に分散された第2量子ドットQD2と散乱体SPを含み、第3光制御部CCP1は第3ベース樹脂BR3内に分散された散乱体SPを含む。ベース樹脂BR1、BR2、BR3は、量子ドットQD1、QD2及び散乱体SPが分散される媒質であって、一般にバインダと称される多様な樹脂組成物からなる。例えば、ベース樹脂BR1、BR2、BR3はアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などであってもよい。ベース樹脂BR1、BR2、BR3は透明樹脂である。一実施例において、第1ベース樹脂BR1、第2ベース樹脂BR2、及び第3ベース樹脂BR3それぞれは互いに同じであるか異なる。
光制御層CCLはバリア層BFL1を含む。バリア層BFL1は、水分及び/または酸素(以下、「水分/酸素」と称する)の浸透を防ぐ役割をする。バリア層BFL1は、光制御部CCP1、CCP2、CCP3の上に配置されて光制御部CCP1、CCP2、CCP3が水分/酸素に露出されることを遮断する。一方、バリア層BFL1は、光制御部CCP1、CCP2、CCP3をカバーする。また、光制御部CCP1、CCP2、CCP3とカラーフィルタ層CFLとの間にも、バリア層BLF2が提供されてもよい。
バリア層BFL1、BFL2は少なくとも一つの無機層を含む。つまり、バリア層BFL1、BFL2は無機物質を含んで形成される。例えば、バリア層BFL1、BFL2は、シリコン窒化物、アルミニウム窒化物、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、錫酸化物、セリウム酸化物、及びシリコン酸窒化物や、光透過率が確保された金属薄膜などを含んで形成される。一方、バリア層BFL1、BFL2は有機膜を更に含む。バリア層バリア層BFL1、BFL2は単一層または複数の層からなる。
一実施例の表示装置DDにおいて、カラーフィルタ層CFLは色制御層CCLの上に配置される。例えば、カラーフィルタ層CFLは、色制御層CCLの上に直接配置されてもよい。この場合、バリア層BFL2は省略される。
カラーフィルタ層CFLはフィルタCF1、CF2、CF3を含む。カラーフィルタCFLは、第2色光を透過させる第1フィルタCF1、第3色光を透過させる第2フィルタCF2、及び第1色光を透過させる第3フィルタCF3を含む。例えば、第1フィルタCF1は赤色フィルタ、第2フィルタCF2は緑色フィルタで、第3フィルタCF3は青色フィルタであってもよい。フィルタCF1、CF2、CF3それぞれは、高分子感光樹脂と、顔料または染料を含む。第1フィルタCF1は赤色の顔料または染料を含み、第2フィルタCF2は緑色の顔料または染料を含み、第3フィルタCF3は青色の顔料または染料を含む。一方、実施例はこれに限らず、第3フィルタCF3は顔料または染料を含まなくてもよい。第3フィルタCF3は高分子感光樹脂を含み、顔料または染料を含まない。第3フィルタCF3は透明である。第3フィルタCF3は透明な感光樹脂からなる。
また、一実施例において、第1フィルタCF1と第2フィルタCF2は黄色(yellow)フィルタである。第1フィルタCF1と第2フィルタCF2は互いに区分されずに一体で提供されてもよい。第1乃至第3フィルタCF1、CF2、CF3それぞれは、赤色発光領域PXA-R、緑色発光領域PXA-G、及び青色発光領域PXA-Bそれぞれに対応して配置される。
一方、図示していないが、カラーフィルタ層CFLは遮光部(図示せず)を含む。カラーフィルタ層CFLは、隣り合うフィルタCF1、CF2、CF3の境界に重なるように配置される遮光部(図示せず)を含む。遮光部(図示せず)はブラックマトリクスである。遮光部(図示せず)は、黒色顔料または黒色染料を含む有機遮光物質または無機遮光物質を含んで形成される。遮光部(図示せず)は、隣接するフィルタCF1、CF2、CF3同士の間の区分する境界をなす。また、一実施例において、遮光部(図示せず)は青色フィルタで形成される。
カラーフィルタ層CFLの上にはベース基板BLが配置される。ベース基板BLは、カラーフィルタ層CFL及び光制御層CCLなどが配置されるベース面を提供する部材である。ベース基板BLは、ガラス基板、金属基板、プラスチック基板などである。しかし、実施例はこれに限らず、ベース基板BLは無機層、有機層、または複合材料層であってもよい。また、図示とは異なって、一実施例においてベース基板BLは省略されてもよい。
図8は、一実施例による表示装置の一部を示す断面図である。図8では、図7の表示パネルDPに対応する一部分の断面図を示す。一実施例の表示装置DD-TDにおいて、発光素子ED-BTは、複数個の発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3を含む。発光素子ED-BTは、互いに向き合う第1電極EL1と第2電極EL2との間にて、厚さ方向に順次に積層されて提供される複数の発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3を含む。発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3のそれぞれは、発光層EML(図7)、並びに、発光層EML(図7)を挟むようにして配置される正孔輸送領域HTRと電子輸送領域ETRとを含む。
つまり、一実施例の表示装置DD-TDに含まれる発光素子ED-BTは複数の発光層を含むタンデム構造の発光素子である。
図8に示した一実施例において、発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3のそれぞれから放出される光は、いずれも青色光である。しかし、実施例はこれに限らず、発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3のそれぞれから放出される光の波長領域は互いに異なり得る。例えば、互いに異なる波長領域の光を放出する複数個の発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3を含む発光素子ED-BTは白色光を放出してもよい。
隣り合う発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3の間には電荷生成層CGL1、CGL2が配置される。電荷生成層CGL1、CGL2は、p型電荷生成層及び/またはn型電荷生成層を含む。
一実施例の表示装置DD-TDに含まれる発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3のうちの少なくとも一つに上述した一実施例のアミン化合物を含む。
図9を参照すると、一実施例による表示装置DD-bは、2つの発光層が積層される発光素子ED-1、ED-2、ED-3を含む。図2に示した一実施例の表示装置DDと同様の構造にて、図9に示した一実施例であると、第1乃至第3発光素子ED-1、ED-2、ED-3は、それぞれ厚さ方向に積層される2つの発光層を含むことに差がある。第1乃至第3発光素子ED-1、ED-2、ED-3のそれぞれにおいて、2つの発光層は同じ波長領域の光を放出する。
第1発光素子ED-1は、第1赤色発光層EML-R1及び第2赤色発光層EML-R2を含む。第2発光素子ED-2は第1緑色発光層EML-G1及び第2緑色発光層EML-G2を含む。また、第3発光素子ED-3は、第1青色発光層EML-B1及び第2青色発光層EML-B2を含む。第1赤色発光層EML-R1と第2赤色発光層EML-R2との間、第1緑色発光層EML-G1と第2緑色発光層EML-G2との間、及び第1青色発光層EML-B1と第2青色発光層EML-B2との間には、発光補助部OGが配置される。
発光補助部OGは単層または多層を含む。発光補助部OGは電荷生成層を含む。より詳しくは、発光補助部OGは順次に積層される電子輸送領域と、電荷生成層と、正孔輸送領域とを含む。発光補助部OGは第1乃至第3発光素子ED-1、ED-2、ED-3全体で共通層として提供される。但し、実施例はこれに限らず、発光補助部OGは、画素画定膜PDLにより画定された開口部OH内にパターニングされて提供されてもよい。
第1赤色発光層EML-R1、第1緑色発光層EML-G1、及び第1青色発光層EML-B1は、電子輸送領域HTRと発光補助部OGとの間に配置される。第2赤色発光層EML-R2、第2緑色発光層EML-G2、及び第2青色発光層EML-B2は、発光補助部OGと正孔輸送領域ETRとの間に配置される。
つまり、第1発光素子ED-1は、順次に積層される第1電極EL1と、正孔輸送領域HTRと、第2赤色発光層EML-R2と、発光補助部OGと、第1赤色発光層EML-R1と、電子輸送領域ETRと、第2電極EL2とを含む。第2発光素子ED-2は、順次に積層される第1電極EL1と、正孔輸送領域HTRと、第2緑色発光層EML-G2と、発光補助部OGと、第1緑色発光層EML-G1と、電子輸送領域ETRと、第2電極EL2とを含む。第3発光素子ED-3は、順次に積層される第1電極EL1と、正孔輸送領域HTRと、第2青色発光層EML-B2と、発光補助部OGと、第1青色発光層EML-B1と、電子輸送領域ETRと、第2電極EL2とを含む。
一方、表示素子層DP-EDの上に光学補助層PLが配置される。光学補助層PLは偏光層を含む。光学補助層PLは表示パネルDPの上に配置され、外部光による表示パネルDPにおける反射光を制御する。図示とは異なって、一実施例による表示装置において光学補助層PLは省略されてもよい。
図8及び図9とは異なって、図10の表示装置DD-cは、4つの発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1を含むと示されている。発光素子ED-CTは、互いに向かい合う第1電極EL1と第2電極EL2、第1電極EL1と第2電極EL2との間で厚さ方向に順次に積層される第1乃至第4発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1を含む。第1乃至第4発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1の間には電荷生成層CGL1、CGL2、CGL3が配置される。4つの発光構造うち第1乃至第3発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3は青色光を発光し、第4発光構造OL-C1は緑色光を発行する。しかし、実施例はこれに限らず、第1乃至第4発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1は互いに異なる波長領域の光を発光してもよい。
隣り合う発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1同士の間に配置される電荷生成層GCL1、CGL2、CGL3はp型の電荷生成層及び/またはn型の電荷生成層を含む。
一実施例の表示装置DD-cに含まれる発光構造OL-B1、OL-B2、OL-B3、OL-C1のうち少なくとも一つに上述した一実施例のアミン化合物を含む。
本発明の一実施例による発光素子EDは、上述した一実施例のアミン化合物を第1電極EL1と第2電極EL2との間に配置される少なくとも一つの機能層に含むことで、改善された発光効率と改善された長寿命特性を示す。一実施例の発光素子EDは、上述した一実施例のアミン化合物を第1電極EL1と第2電極EL2との間に配置される正孔輸送領域HTR、発光層EML、及び電子輸送領域ETRのうち少なくとも一つに含むか、またはキャッピング層CPLに含む。
例えば、一実施例によるアミン化合物は一実施例の発光素子EDの正孔輸送領域HTRに含まれてもよく、一実施例の発光素子は優れた発光効率と長寿命特性を示す。
上述した一実施例のアミン化合物は、アリール基またはヘテロアリール基に置換されたジベンゾヘテロール基及びカルバゾール誘導体、フルオレン誘導体、またはテルフェニル誘導体のうちから選択される置換基を含むことで、低い駆動電圧、高効率、及び増加された寿命特性を示す。
以下では、実施例及び比較例を参照し、本発明の一実施例によるアミン化合物及び一実施例の発光素子について詳しく説明する。また、以下に示す実施例は本発明の理解を助けるための一例示であって、本発明の範囲はこれに限らない。
[実施例]
1.アミン化合物の合成
まず、本実施形態によるアミン化合物の合成方法について、化合物A2、化合物A13、化合物A29、化合物A73、化合物B1、化合物B2、及び化合物C3の合成方法を例示して具体的に説明する。また、以下で説明するアミン化合物の合成法は一実施例であって、本発明の実施形態によるアミン化合物の合成法は下記実施例に限られない。
(1)化合物A2の合成
一実施例による縮合アミン化合物A2は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式1>
Figure 2023104921000128
<中間体A-2の合成>
アルゴン(Ar)雰囲気下、1000mLの三口フレスコに、上記反応式1の化合物S1 10.18g(46.41mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(Pd(dba))1.33g(0.05equiv、2.32mmol)、ナトリウムtert-ブトキシド(NaOBu)4.46g(1equiv、46.41mmol)、トルエン(Toluene)464mL、上記反応式1の化合物S2 15.48g(1.0equiv、46.41 mmol)、及びトリ-tert-ブチルホスフィン(P(tBu))1.88g(0.2equiv、9.28 mmol)を順次に加えて、6時間加熱還流撹拌した。常温まで空冷した後、反応溶媒に水を加えて有機層を分取した。次に、水層にトルエンを加えて有機層を更に抽出した後、これら2つの有機層を合わせて、食塩水で洗浄し、MgSOで乾燥した。MgSOのろ別と有機層の濃縮を実施し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(silica gel columnchromatography)で精製して、白色固体の化合物中間体A-2(18.6g、収率87%)を得た。
FAB-MSを測定し、質量数m/z=461が分子イオンピーク(ion peak)として観測されたことにより、中間体A-2であることを確認した。
<化合物A2の合成>
アルゴン雰囲気下、500mLの三口フレスコに、中間体A-2 10.0g(21.67mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(Pd(dba))0.62g(0.05equiv、1.08mmol)、ナトリウムtert-ブトキシド(NaOBu)2.08g(1equiv、21.67mmol)、トルエン216mL、化合物S3 6.98g(1.0equiv、21.67 mmol)、及びトリ-tert-ブチルホスフィン(P(tBu))0.88g(0.2equiv、4.33 mmol)を順次に加えて、6時間加熱還流撹拌した。常温まで空冷した後、反応溶媒に水を加えて有機層を分取した。次に、水層にトルエンを加えて有機層を更に抽出した後、これら2つの有機層を合わせて、食塩水で洗浄し、MgSOで乾燥した。MgSOのろ別と有機層の濃縮を実施し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製して、白色固体の化合物A2(10.7g、収率70%)を得た。
FAB-MSを測定し、質量数m/z=702が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物A2であることを確認した。
(2)化合物A13の合成
一実施例によるアミン化合物A13は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<中間体M1の合成>
<反応式2-1>
Figure 2023104921000129
アルゴン雰囲気下、1000mLの三口フレスコに、上記反応式2の化合物S4 20.0g(116.29mmol)、上記反応式2の化合物S5 31.1g(1.0equiv、116.29 mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh)4.03g(0.03equiv、3.49mmol)、2MのKPOaq 96.90g、トルエン387mL、及びエタノール(Ethanol)194mlを順次に加えて、6時間加熱還流撹拌した。常温まで空冷した後、反応溶媒に水を加えて有機層を分取した。次に、水層にトルエンを加えて有機層を更に抽出した後、これら2つの有機層を合わせて、食塩水で洗浄し、MgSOで乾燥した。MgSOのろ別と有機層の濃縮を実施し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製して、白色固体の中間体M1(27.0g、収率73%)を得た。
FAB-MSを測定し、質量数m/z=314が分子イオンピークとして観測されたことにより、中間体M1であることを確認した。
<化合物A13の合成>
<反応式2-2>
Figure 2023104921000130
化合物S2の代わりに、上記反応式2-2の化合物S6を使用したことを除いては、上述した中間体A-2の合成方法と同じ方法で、中間体A-13を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=500が分子イオンピークとして観測されたことにより、中間体A-13であることを確認した。
中間体A-13に中間体M1を加えたことを除いては、上述した化合物A2の合成方法と同じ方法で、化合物A13を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=778が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物A13であることを確認した。
(3)化合物A29の合成
一実施例による縮合アミン化合物A29は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式3-1>
Figure 2023104921000131

<反応式3-2>
Figure 2023104921000132
<中間体M2の合成>
アルゴン雰囲気下、1000mLの三口フレスコに、上記反応式3-1の化合物S7 15.0g(60.95mmol)、上記反応式3-1の化合物S8 15.49g(1.0equiv、60.95 mmol)、Pd(dba) 3.15g(0.05equiv、3.05mmol)、NaOBu 5.86 g(1equiv、60.95mmol)、トルエン610mlを順次に加えて、6時間加熱還流撹拌した。常温まで空冷した後、反応溶媒に水を加えて有機層を分取した。次に、水層にトルエンを加えて有機層を更に一層抽出した後、有機層を合わせて食塩水で洗浄し、MgSOで乾燥した。MgSOのろ別と有機層の濃縮を実施し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製して、白色固体の化合物である中間体M2(18.0g、収率79%)を得た。
FAB-MSを測定し、質量数m/z=371が分子イオンピークとして観測されたことにより、中間体M2であることを確認した。
<中間体M3の合成>
中間体M2に上記反応式3-1の化合物S9を加えたことを除いては、中間体M1の合成方法と同じ方法で中間体M3を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=403が分子イオンピークとして観測されたことにより、中間体M3であることを確認した。
<中間体A-29の合成>
化合物S2に代わって上記反応式3-2化合物S10を使用したことを除いては、中間体A-2の合成方法と同じ方法を利用して中間体A-29を合成した。
<化合物A29の合成>
中間体A-29に中間体M3を加えたことを除いては、上述した化合物A2の合成方法と同じ方法で、化合物A29を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=828が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物A29であることを確認した。
(4)化合物A73の合成
一実施例によるアミン化合物A73は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式4>
Figure 2023104921000133
化合物S11、上記反応式4の化合物S10、化合物S3などを反応物として使用したことを除いては、化合物A2の合成方法と同じ方法で化合物73を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=718が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物A73であることを確認した。
(5)化合物B1の合成
一実施例によるアミン化合物B1は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式5>
Figure 2023104921000134
化合物S2に代わって上記反応式5の化合物S13を使用したことを除いては、中間体A-2の合成方法と同じ方法を利用して中間体B-1を合成した。
中間体B-1に上記反応式5の化合物S12を加えて、化合物A2の合成方法と同じ方法で化合物B1を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=777が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物B1であることを確認した。
(6)化合物B2の合成
一実施例による縮合アミン化合物B2は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式6>
Figure 2023104921000135
化合物S2に代わって上記反応式6の化合物S13を使用したことを除いては、中間体A-2の合成方法と同じ方法を利用して中間体B-1を合成した。
中間体B-1に上記反応式6の化合物S15を加えて、化合物B1の合成方法と同じ方法で化合物B2を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=777が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物B2であることを確認した。
(7)化合物C3の合成
一実施例によるアミン化合物C3は、例えば、下記反応ステップによって合成される。
<反応式7>
Figure 2023104921000136
化合物S1に代わって上記反応式7の化合物S14を使用したことを除いては、中間体A-29の合成方法と同じ方法を利用して中間体C-3を合成した。
次に、中間体C-3に上記反応式7の化合物S16を加えて、化合物A2の合成方法と同じ方法を利用して化合物C3を合成した。FAB-MSを測定し、質量数m/z=815が分子イオンピークとして観測されたことにより、化合物C3であることを確認した。
2.発光素子の製作と評価
実施例及び比較例の化合物を正孔輸送層に含む発光素子に対する評価を下記方法で行った。素子評価のための発光素子の製作方法は以下に記載した。
(1)発光素子の製作
厚さ150nmのITOがパターニングされたガラス基板を、イソプロピルアルコールと純水を利用してそれぞれ5分間超音波洗浄を実施した。超音波洗浄後、30分間UV照射し、オゾン処理を実施した。2-TNATAを厚さ60nmに蒸着して正孔注入層を形成した。
次に、実施例化合物または比較例化合物を厚さ30nmで蒸着して正孔輸送層を形成した。次に、ADN及びTBPを97:3の重量比で同時に蒸着し、厚さ25nmの発光層を形成した。次に、Alqを25nm蒸着して電子輸送層を形成し、LiFを厚さ1nmで蒸着して電子注入層を形成した。
次に、Alを厚さ100nmで蒸着して第2電極を形成した。
実施例において、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電気注入層、及び第2電極は、真空蒸着装置を利用して形成した。
発光素子の製作に使用された実施例化合物及び比較例化合物は以下のようである。
<実施例化合物>
Figure 2023104921000137
<比較例化合物>
Figure 2023104921000138
(2)発光素子の評価
表1は、実施例1乃至実施例7、及び比較例1乃至比較例8に対する発光素子の評価結果を示している。表1では製作された発光素子の駆動電圧、発光効率、及び半減寿命を比較して示している。表1に示した実施例及び比較例に対する特性評価の結果では、発光効率は10mA/cmの電流効率値を示しており、寿命は初期輝度1000cd/mにおける輝度の半減時間を示している。
素子電流密度、駆動電圧、及び発光効率の評価は、Keithley Instruments社製の2400 SeriesのSource Meter、Konica Minolta社製の色彩輝度計CS-200、及びNational Instruments Japan社製の製品測定用のPC Program LabVIEW8.2を使用し、暗室で行った。
Figure 2023104921000139
表1の結果を参照すると、本発明の実施例1乃至実施例7は比較例1乃至比較例8に比べ、低電圧、長寿命、及び高効率の素子特性を示している。
カルバゾール基を置換基として必須に含む実施例化合物を含む実施例1乃至実施例4は、カルバゾール基を含むアミン化合物である比較例化合物R1を含む比較例1に比べ、低電圧、高効率、及び長寿命特性を示している。これは実施例化合物の場合、1-ジベンゾフラン(または1-ジベンゾチオフェン)の4番位置にアリール基を更に置換し、共役が更に伸長されたためであると考えられる。
実施例6で使用された実施例化合物は、比較例2で使用された比較例化合物R2に比べ、フルオレンとアミンの窒素原子の結合位置が異なっており、ナフチル基を含まないという差がある。このような差のため、実施例6は比較例2に比べ、低電圧、長寿命、及び高効率の素子特性を示している。
一方、比較例3で使用された比較例化合物R3はフルオレンとアミンの窒素原子の結合位置が本発明の実施例化合物と同じであるが、本発明の実施例化合物とは異なってナフチル基の代わりにm-ビフェニル基を置換基として含んでおり、それによって実施例に比べ短い寿命特性を示している。
実施例7で使用された実施例化合物は置換基としてZ-typeのアリール基を含んでおり、それによって低電圧、長寿命、及び高効率の素子特性を示している。
一方、比較例5乃至比較例8で使用された比較例化合物は実施例化合物に比べ、ジベンゾヘテロール基に対するアミンの窒素原子の結合位置またはジベンゾヘテロール基に置換された置換基の結合位置が異なる。実施例化合物の比較例とは区別されるこのような結合形態の差は、本発明のアミン化合物の重要な特徴であり、それによって本発明の一実施例による発光素子は、比較例に比べ低電圧、長寿命、及び高効率の素子特性を示す。
つまり、表1の結果から、本発明の一実施例によるアミン化合物を正孔輸送層の材料として使用する場合、比較例化合物を正孔輸送層の材料として使用する場合に比べ長寿命及び高効率特性を有することが分かる。
一実施例のアミン化合物は、ジベンゾヘテロール基の4番位置(第4位)にアリール基またはヘテロアリール基を、置換して結合するか、またはアミン化合物の窒素原子にp-フェニレンをリンカー(linker)にして結合したナフタレンを含むことで共役が伸長され、更にフルオレン、カルバゾール、Z-typeのアリールなどを置換基として導入することで、電気的安定性と高い電荷輸送能力を有するようになる。それによって、一実施例のアミン化合物が発光素子の材料として使用されれば、発光素子の低電圧化、長寿命化、及び高効率化に寄与することができる。
これまで本発明の好ましい実施例を参照して説明したが、該当技術分野における熟練した当業者または該当技術分野における通常の知識を有する者であれば、後述する特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び技術領域から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更し得ることを理解できるはずである。
よって、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に記載されている内容に限らず、特許請求の範囲によって決められるべきである。
好ましい一実施形態によると、下記のとおりである。
本件の背景及び課題は下記(i)~(v)のとおりである。
(i) 有機発光素子(OLED)の低駆動電圧化、高発光効率化及び長寿命化が要求されており、特には、高効率の発光素子を具現するために発光層のエキシトンエネルギーの拡散などを抑制するための正孔輸送領域の材料に関する開発が行われている。
(ii) 特許文献1(KR10-2020-0131929A)の実施例には、非常に多くのアミン化合物が示されており、この中には、中心窒素原子(N)に、DibenzofuranまたはDibenzothiopheneと、Phenyl-naphthylphenylとが結合したもの(実施例19~28のA64~73)が示されている。
・表1に示されるように、実施例だけでも205種の化合物を用いており、構造も多様である。得られる性能の点で、どのような構造のものが優れているのか、良く分からない。
・なお、使用可能な化合物として非常に多数が列挙された中には、4-Phenyldibenzothiopheneが結合したもの(A60)も含まれている。但し、実施例には含まれていない。4-Phenyldibenzothiopheneは6位で中心N原子に結合している。
・また、実施例中には、fluorenylが中心N原子に結合したものも用いているが、実施例で用いた化合物中には、fluorenylと、DibenzofuranまたはDibenzothiopheneとが共に中心N原子に結合したものは、含まれてないようである。但し、使用可能なものとして列挙された中には含まれている。
(iii) 一方、特許文献2には、電子抑制という本願とは異なる目的で、アリールアミン化合物を用いており、請求項7によると、中心N原子に、4-Phenyldibenzofuranが2位で結合するとともに、ジベンジル、テルフェニルなどが結合した多数の化合物が列挙されている。
(iv) また、特許文献3には、電子遮断というは異なる目的で、アリールアミン化合物を用いており、請求項10によると、中心N原子に、2-Phenyldibenzofuranが1位置で結合したものなどが列挙されている。
(v) しかし、発光効率及び素子寿命に優れた発光素子を提供すべく、正孔輸送領域の材料についての、さらなる改良や改変が求められる。
そこで、好ましい一実施形態によると、下記A1~A3のとおりとする。
A1 中心N原子に、 4-Phenyldibenzofuranまたは4-Phenyldibenzothiopheneが1位で結合しする。
A2 中心N原子に、NaphthylphenylまたはNaphthyl dibenzylがパラ位で結合する。
A3 中心N原子に、さらに、phenylcarbazoleまたはNaphthyl carbazoleが直接に結合するか、フェニル基を介して結合するか、または、
9,9-diphenyl fluorenylが2位で結合するか、または、Quaterphenylが結合する。
また、好ましくは、下記A4のとおりである。
A4 具体的には、本願[0141]~[0205]に示された[第1化合物群]の化合物を用いる。
一具体例では、本願[0400]に示された「実施例化合物」を用いる。
10:有機電界発光素子 EL1:第1電極
EL2:第2電極 HTR:正孔輸送領域
EML:発光層 ETR:電子輸送領域
HTL:正孔輸送層 CPL:キャッピング層

Claims (14)

  1. 下記化学式1で表されるアミン化合物:
    <化学式1>
    Figure 2023104921000140

    前記化学式1において、
    XはOまたはSであり、
    及びLは、それぞれ独立して、直接結合、置換または非置換の環形成炭素数6以上15以下のアリーレン基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上12以下のヘテロアリーレン基であり、
    nは0以上7以下の整数であり、oは0以上4以下の整数であり、pは0以上6以下の整数であり、
    、R、及びRは、それぞれ独立して、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であり、
    Arは、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下のヘテロアリール基であり、
    FGは下記化学式2乃至化学式5のうちいずれか一つで表される:
    <化学式2>
    Figure 2023104921000141

    <化学式3>
    Figure 2023104921000142

    <化学式4>
    Figure 2023104921000143

    <化学式5>
    Figure 2023104921000144

    前記化学式2及び前記化学式3において、Ar乃至Arは、それぞれ独立して、置換または非置換の環形成炭素数6以上40以下のアリール基、または、置換または非置換の環形成炭素数1以上40以下ヘテロアリール基であり、
    化学式2乃至5において、Rd1乃至Rd5は、それぞれ独立して、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成ししたものであり、
    m1及びm2はそれぞれ独立して0以上7以下の整数であり、
    m3及びm4はそれぞれ独立して0以上4以下の整数であり、
    m5は0以上8以下の整数であり、
    前記化学式4において、R乃至Rは、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1以上20以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上20以下のアルケニル基、置置換または非置換のオキシ基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のアミン基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数1以上30以下のヘテロアリール基であるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して炭化水素環またはヘテロ環を形成したものである。
  2. 前記化学式1は、下記化学式1-1乃至化学式1-4のうちのいずれか一つで表される請求項1に記載のアミン化合物:
    <化学式1-1>
    Figure 2023104921000145

    <化学式1-2>
    Figure 2023104921000146

    <化学式1-3>
    Figure 2023104921000147

    <化学式1-4>
    Figure 2023104921000148

    前記化学式1-1乃至化学式1-4において、
    X、L、L、n、R、及びArは、前記化学式1で定義した通りであり、
    前記化学式1-1及び化学式1-2において、Ar乃至Arは、前記化学式2及び化学式3で定義した通りであり、
    前記化学式1-3において、R乃至Rは、前記化学式4で定義した通りであり、
    前記化学式1-1乃至化学式1-4において、Rd1乃至Rd5、及びm1乃至m5は、前記化学式2乃至化学式5で定義した通りである。
  3. は、直接結合、非置換のフェニレン基、または非置換の2価のビフェニル基である請求項1に記載のアミン化合物。
  4. は、直接結合、非置換のフェニレン基、非置換のナフタレン基、非置換の2価のジベンゾフラン基、または非置換の2価のジベンゾチオフェン基である請求項1に記載のアミン化合物。
  5. Arは、置換または非置換のフェニル基、置換または非置換のナフチル基、置換または非置換のフェナントレニル基、置換または非置換のジベンゾチオフェン基、または置換または非置換のジベンゾフラン基である請求項1に記載のアミン化合物。
  6. Arは、Ar1-1乃至Ar1-5のうちのいずれか一つで表される請求項1に記載のアミン化合物:
    Figure 2023104921000149
  7. 前記化学式4において、R乃至Rは、R乃至Rが置換されたベンゼン環と互いに結合してジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、またはカルバゾール環を形成する請求項1に記載のアミン化合物。
  8. 前記化学式1のアミン化合物は、少なくとも一つの水素原子が重水素原子に置換された構造を含む請求項1に記載のアミン化合物。
  9. 前記化学式1で表されるアミン化合物はモノアミン化合物である請求項1に記載のアミン化合物。
  10. 前記化学式1で表されるアミン化合物は、下記第1化合物群の化合物のうちのいずれか一つである請求項1に記載のアミン化合物:
    [第1化合物群]
    Figure 2023104921000150
    Figure 2023104921000151

    Figure 2023104921000152

    Figure 2023104921000153

    Figure 2023104921000154

    Figure 2023104921000155

    Figure 2023104921000156

    Figure 2023104921000157

    Figure 2023104921000158

    Figure 2023104921000159

    Figure 2023104921000160

    Figure 2023104921000161

    Figure 2023104921000162

    Figure 2023104921000163

    Figure 2023104921000164

    Figure 2023104921000165

    Figure 2023104921000166

    Figure 2023104921000167

    Figure 2023104921000168
    Figure 2023104921000169
    Figure 2023104921000170
    Figure 2023104921000171
    Figure 2023104921000172
    Figure 2023104921000173
    Figure 2023104921000174
    Figure 2023104921000175
    Figure 2023104921000176
    前記第1化合物群において、Dは重水素原子である。
  11. 第1電極と、
    前記第1電極の上に配置される第2電極と、
    前記第1電極と第2電極との間に配置され、前記請求項1乃至~10のうちいずれか一項によっての化学式1で表されるアミン化合物を含む少なくとも一つの機能層と、を含む発光素子。
  12. 前記少なくとも一つの機能層は、発光層と、前記第1電極と前記発光層との間に配置される正孔輸送領域と、前記発光層と前記第2電極との間に配置される電子輸送領域と、を含み、
    前記正孔輸送領域は前記アミン化合物を含む請求項11に記載の発光素子。
  13. 前記正孔輸送領域は正孔注入層、正孔輸送層、及び電子阻止層のうち少なくとも一つを含み、
    前記正孔注入層、前記正孔輸送層、及び前記電子阻止層のうち少なくとも一つは前記アミン化合物を含む請求項12に記載の発光素子。
  14. 前記発光層は、下記化学式E-1で表される化合物を含む請求項12に記載の発光素子:
    <化学式E-1>
    Figure 2023104921000177

    化学式E-1において、
    c及びdはそれぞれ独立して0以上5以下の整数であり、
    31乃至R40は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換のシリル基、置換または非置換のチオ基、置換または非置換のオキシ基、置換または非置換の炭素数1以上10以下のアルキル基、置換または非置換の炭素数2以上10以下のアルケニル基、置換または非置換の環形成炭素数6以上30以下のアリール基、または置換または非置換の環形成炭素数2以上30以下のヘテロアリールであるか、または、これらのいずれかの炭素鎖、炭素環または複素環が、隣接する基と互いに結合して環を形成したものである。
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