JP2023083746A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】走査光学装置の大型化を抑制することを目的とする。
【解決手段】走査光学装置は、第１走査光学系ＬｏＹと、第２走査光学系ＬｏＭと、第３走査光学系ＬｏＣと、４走査光学系ＬｏＫとを備える。各走査光学系は、第１走査レンズ６０と、少なくとも１つの反射ミラー（第１反射ミラー８１）と、ビームを副走査方向に集光する第２走査レンズ７０とを有する。第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向における中心Ｃ１，Ｃ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍを通るビームＢＹ，ＢＭに対し第２方向の前記一方側にオフセットしている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫにおいて、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向における中心Ｃ３，Ｃ４は、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｌを通るビームＢＣ，ＢＫに対し第２方向の前記他方側にオフセットしている。
【選択図】図６

Description

本発明は、ポリゴンミラーを備えた光走査装置に関する。

従来、光源と、光源から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、ポリゴンミラーを駆動するモータと、ベース壁および側壁を有する筐体と、を備えた光走査装置が知られている（特許文献１参照）。この光走査装置は、４つの走査光学系を有しており、それぞれの走査光学系が第１走査レンズと、第２走査レンズと、反射ミラーとを有している。４つの走査光学系に対応する４つの第２走査レンズは、ポリゴンミラーを中心に一列に並んでおり、２つがポリゴンミラーの一方側に位置し、残りの２つが他方側に位置している。各第２走査レンズは、レンズの光学特性が損なわれないように、出射されるビームに対し、レンズの中心と少しずれるように、オフセットされて配置されている。

特開２００７－１７８６０５号公報

しかしながら、特許文献１の光走査装置では、この光走査装置では、各第２走査レンズが出射されるビームに対しすべて同じ方向にオフセットされている。このため、ポリゴンミラーの一方側に位置する第２走査レンズのうちポリゴンミラーに近い第２走査レンズと、ポリゴンミラーの他方側に位置する第２走査レンズのうちポリゴンミラーに近い第２走査レンズとの間のスペースに余裕がなくなり、走査光学装置の大型化を抑制することが難しかった。

そこで、本発明は、走査光学装置の大型化を抑制することを目的とする。

前記課題を解決するため、本発明に係る走査光学装置は、光源と、ポリゴンミラーと、モータと、第１走査光学系と、第２走査光学系と、第３走査光学系と、４走査光学系と、
を備える。
光源は、ビームを出射する。ポリゴンミラーは、光源から出射されたビームを偏向する。モータは、第１方向に延びる回転軸線を中心にポリゴンミラーを回転させる。第１走査光学系は、第１方向に直交する第２方向において、ポリゴンミラーの一方側に配置され、ポリゴンミラーで偏向されたビームを第１像面に向けて出射する。第２走査光学系は、第２方向において、ポリゴンミラーの一方側に配置され、ポリゴンミラーで偏向されたビームを第２像面に向けて出射する。第２走査光学系は、第２方向において、第１走査光学系のビームよりポリゴンミラーに近い位置でビームを第２像面に向けて出射する。第３走査光学系は、第２方向において、ポリゴンミラーの他方側に配置され、ポリゴンミラーで偏向されたビームを第３像面に向けて出射する。第４走査光学系は、第２方向において、ポリゴンミラーの他方側に配置され、ポリゴンミラーで偏向されたビームを第４像面に向けて出射する。第４走査光学系は、第２方向において、第３走査光学系のビームよりポリゴンミラーから遠い位置でビームを第４像面に向けて出射する。
第１走査光学系、第２走査光学系、第３走査光学系および第４走査光学系は、ポリゴンミラーで偏向されたビームが通る第１走査レンズと、第１走査レンズを通過したビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有する。
第１走査光学系および第２走査光学系において、第２走査レンズの副走査方向における中心は、第２走査レンズを通るビームに対し第２方向の前記一方側にオフセットしている。
第３走査光学系および第４走査光学系において、第２走査レンズの副走査方向における中心は、第２走査レンズを通るビームに対し第２方向の前記他方側にオフセットしている。

この構成によれば、第１、第２走査光学系の第２走査レンズが第３、第４走査光学系の第２走査レンズのオフセット方向とは反対方向にオフセットしていることで、第２走査光学系の第２走査レンズと、第３走査光学系の第２走査レンズとの間隔を大きくできる。このため、出射される各ビームの間隔が大きくならずに、第２走査光学系の第２走査レンズと第３走査光学系の第２走査レンズとの間のスペースが広くなるので、走査光学装置の大型化を抑制することができる。

また、前記した走査光学装置において、第１走査光学系、第２走査光学系、第３走査光学系および第４走査光学系の第２走査レンズのそれぞれは、第２方向に直線状に並ぶ構成としてもよい。

これによれば、各第２走査レンズから像面までの距離を等しくすることができる。

また、前記した走査光学装置において、第１走査光学系の第１走査レンズと、第２走査光学系の第１走査レンズと、は共通の１つのレンズであり、第３走査光学系の第１走査レンズと、第４走査光学系の第１走査レンズと、は共通の１つのレンズである構成としてもよい。

これによれば、第１走査レンズを共通とすることで、走査光学装置を小型化できる。

また、前記した走査光学装置において、第１走査光学系および第４走査光学系は、それぞれ、反射ミラーとして、第２走査レンズへ向けてビームを反射する第１反射ミラーを１つ有し、第２走査光学系および第３走査光学系は、それぞれ、反射ミラーとして、第２走査レンズへ向けてビームを反射する１つの第１反射ミラーと、ポリゴンミラーで偏向されたビームを第１反射ミラーに向けて反射する１つの第２反射ミラーと、の２つを有する構成としてもよい。

これによれば、反射ミラーを少なくすることができる。

また、前記した走査光学装置において、モータ、第１走査光学系、第２走査光学系、第３走査光学系および第４走査光学系が固定され、第１方向の一方側に開口するフレームであって、モータが固定されたベース壁と、ベース壁から第１方向の一方側に突出してベース壁を囲う側壁と、を有するフレーム、をさらに備え、ポリゴンミラーに反射されたビームは、ポリゴンミラーを通る平面であって、第１方向に直交する平面に対して斜めに進行し、第１走査光学系および第４走査光学系では、ポリゴンミラーに反射されたビームは、平面に対して第１方向の他方側に斜めに進行し、第２走査光学系および第３走査光学系では、ポリゴンミラーに反射されたビームは、平面に対して第１方向の一方側に斜めに進行する構成としてもよい。

また、前記した走査光学装置において、第１走査光学系、第２走査光学系、第３走査光学系および第４走査光学系の前記第２走査レンズの光学面は、副走査方向に関して対称である構成としてもよい。

また、前記した走査光学装置において、第１走査光学系および第２走査光学系の各第２走査レンズの副走査方向と平行な直線と、第３走査光学系および第４走査光学系の各第２走査レンズの副走査方向と平行な直線とは、第２方向となす角が異なる構成としてもよい。

これによれば、第２走査レンズから出射されるビームを第１方向に対して角度をなす構成とすることができる。

本発明によれば、走査光学装置の大型化を抑制することを目的とする。

一実施形態に係る走査光学装置を第１方向の他方側から見た斜視図である。 カップリングレンズ周りの構造を示す斜視図である。 走査光学装置を第１方向の一方側から見た斜視図である。 図１のＩＶ－ＩＶ断面図である。 図１のＶ－Ｖ断面図である。 図５における各第２走査レンズの位置と角度を詳しく説明する図である。 フレームを第１方向の他方側から見た斜視図である。 フレームを第１方向の一方側から見た斜視図である。 反射ミラーをフレームに取り付けるための構造を示す断面図である。

図１～図３に示すように、走査光学装置１は、フレームＦと、入射光学系Ｌｉと、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏとを備える。走査光学装置１は、電子写真式の画像形成装置に適用される。以下の説明では、図３に示すポリゴンミラー５１の回転軸線Ｘ１に沿った方向を、「第１方向」と称する。また、第１方向に直交する方向であって、図３に示すポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０が並ぶ方向を、「第２方向」と称する。また、第１方向および第２方向に直交する方向を「第３方向」と称する。なお、第３方向は、走査光学系Ｌｏにおいては主走査方向に相当し、第１方向は、副走査方向に相当する。また、図面における各方向を示す矢印は、各方向における「一方側」を指すこととする。

図２に示すように、入射光学系Ｌｉは、４つの半導体レーザ１０と、４つのカップリングレンズ２０と、絞り板３０と、集光レンズ４０とを備える。半導体レーザ１０とカップリングレンズ２０は、光源の一例である。

半導体レーザ１０は、光を出射する装置である。半導体レーザ１０は、走査光学装置１が走査露光する４つの感光ドラム２００（図５参照）に対応して４つ設けられている。各感光ドラム２００には、それぞれ異なる色のトナー像が形成される。

なお、本実施形態では、第１色を「イエロー（Ｙ）」、第２色を「マゼンタ（Ｍ）」、第３色を「シアン（Ｃ）」、第４色を「ブラック（Ｋ）」とする。以下の説明では、第１色に対応した部品の名称の頭に「第１」を付し、第１色に対応した部品の符号の末尾に「Ｙ」を付して区別する場合がある。また、第２色、第３色、第４色に対応した部品ついても同様に、名称の頭に「第２」、「第３」、「第４」を付し、符号の末尾に「Ｍ」、「Ｃ」、「Ｋ」を付して区別する場合がある。

第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向に間隔を空けて並んでいる。第１半導体レーザ１０Ｙは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第１方向の一方側に位置する。

第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向に間隔を空けて並んでいる。第３半導体レーザ１０Ｃは、第２半導体レーザ１０Ｍに対して第２方向の他方側に位置する。第４半導体レーザ１０Ｋは、第１方向において第３半導体レーザ１０Ｃと間隔を空けて並び、かつ、第２方向において第１半導体レーザ１０Ｙと間隔を空けて並んでいる。

カップリングレンズ２０は、半導体レーザ１０からの光をビームに変換するレンズである。各色に対応したカップリングレンズ２０Ｙ，２０Ｍ，２０Ｃ，２０Ｋは、対応する半導体レーザ１０Ｙ，１０Ｍ，１０Ｃ，１０Ｋと対向する位置に配置されている。

図１に示すように、絞り板３０は、カップリングレンズ２０からのビームが通過する開口絞り３１を有する部位であり、フレームＦに一体に形成されている。絞り板３０は、カップリングレンズ２０と集光レンズ４０の間に位置している。

集光レンズ４０は、カップリングレンズ２０からのビームを副走査方向においてポリゴンミラー５１に集光するレンズである。集光レンズ４０は、絞り板３０に対してカップリングレンズ２０とは反対側に位置している。

図３に示すように、偏向器５０は、ポリゴンミラー５１と、モータ５２とを有する。ポリゴンミラー５１は、光源から出射されたビームを偏向する。具体的には、ポリゴンミラー５１は、集光レンズ４０を通過したビームを主走査方向に偏向する。ポリゴンミラー５１は、回転軸線Ｘ１から等距離に設けられた５つのミラー面を有している。モータ５２は、第１方向に延びる回転軸線Ｘ１を中心にポリゴンミラー５１を回転させるモータである。モータ５２は、フレームＦに固定されている。

走査光学系Ｌｏは、偏向器５０に偏向されたビームを、像面としての感光ドラム２００の表面に結像する光学系である。走査光学系Ｌｏは、フレームＦに固定されている。図５に示すように、走査光学系Ｌｏは、イエローに対応した第１走査光学系ＬｏＹと、マゼンタに対応した第２走査光学系ＬｏＭと、シアンに対応した第３走査光学系ＬｏＣと、ブラックに対応した第４走査光学系ＬｏＫとを有する。

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の一方側に配置されている。第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、ポリゴンミラー５１の他方側に配置されている。各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫには、ポリゴンミラー５１によって主走査方向に偏向されたビームが入射する。

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームが通る第１走査レンズと、第１走査レンズを通過したビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有する。
本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＹＭである。同様に、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズとは共通の１つのレンズ６０ＣＫである。
また、本実施形態では、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、それぞれ、反射ミラーを１つ有する。また、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、それぞれ、反射ミラーを２つ有する。

第１走査光学系ＬｏＹは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＹを第１感光ドラム２００Ｙの第１像面に向けて出射する。第１走査光学系ＬｏＹは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｙと、第１反射ミラー８１Ｙとを有する。

第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０で偏向されたビームＢＹを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＹＭは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＹＭは、第１走査光学系ＬｏＹのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。

第１反射ミラー８１Ｙは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームＢＹを、第２走査レンズ７０Ｙに向けて反射するミラーである。第２走査レンズ７０Ｙは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームＢＹを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第１反射ミラー８１Ｙは、第２走査レンズ７０Ｙと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｙは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｙは、第１走査光学系ＬｏＹのうち像面に最も近い走査レンズである。

第２走査光学系ＬｏＭは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第２方向において、第１走査光学系ＬｏＹのビームＢＹよりポリゴンミラー５１に近い位置でビームＢＭを第２感光ドラム２００Ｍの第２像面に向けて出射する。第２走査光学系ＬｏＭは、第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査レンズ７０Ｍと、第１反射ミラー８１Ｍと、第２反射ミラー８２Ｍとを有する。

第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭは、第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置する。

第２反射ミラー８２Ｍは、第１走査レンズ６０ＹＭからのビームを、第１反射ミラー８１Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２反射ミラー８２ＭからのビームＢＭを第２走査レンズ７０Ｍに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｍは、第２走査レンズ７０Ｍと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、第１反射ミラー８１Ｙで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｍは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の一方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｍは、第２走査光学系ＬｏＭのうち像面に最も近い走査レンズである。

第３走査光学系ＬｏＣは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第３感光ドラム２００Ｃの第３像面に向けて出射する。第３走査光学系ＬｏＣは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｃと、第１反射ミラー８１Ｃと、第２反射ミラー８２Ｃとを有する。

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫは、第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置する。

第２反射ミラー８２Ｃは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームを第１反射ミラー８１Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２反射ミラー８２ＣからのビームＢＣを第２走査レンズ７０Ｃに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｃは、第２走査レンズ７０Ｃと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｃは、第１反射ミラー８１Ｃで反射されたビームを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｃは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｃは、第３走査光学系ＬｏＣのうち像面に最も近い走査レンズである。

第４走査光学系ＬｏＫは、ポリゴンミラー５１で偏向されたビームを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第２方向において、第４走査光学系ＬｏＫのビームＢＫよりポリゴンミラー５１に遠い位置でビームＢＫを第４感光ドラム２００Ｋの第４像面に向けて出射する。第４走査光学系ＬｏＫは、第１走査レンズ６０ＣＫと、第２走査レンズ７０Ｋと、第１反射ミラー８１Ｋを有する。

第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０で偏向されたビームＢＫを主走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。また、第１走査レンズ６０ＣＫは、偏向器５０によって等角速度で走査された光を、像面において等速度となるようにするｆθ特性を有する。第１走査レンズ６０ＣＫは、第４走査光学系ＬｏＫのうちポリゴンミラー５１に最も近い走査レンズである。

第１反射ミラー８１Ｋは、第１走査レンズ６０ＣＫからのビームＢＫを、第２走査レンズ７０Ｋに向けて反射するミラーである。第１反射ミラー８１Ｋは、第２走査レンズ７０Ｋと第１方向から見て重なる。第２走査レンズ７０Ｋは、第１反射ミラー８１Ｋで反射されたビームＢＫを副走査方向に屈折させて像面に結像させるレンズである。第２走査レンズ７０Ｋは、ポリゴンミラー５１に対して第１方向の他方側に配置されている。第２走査レンズ７０Ｋは、第４走査光学系ＬｏＫのうち像面に最も近い走査レンズである。

第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいる。別の言い方をすれば、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第２方向から見て、互いに、少なくとも一部が重なるように配置されている。

図６に示すように、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、ポリゴンミラー５１におけるビームの反射点を通る平面ＨＭであって、第１方向に直交する平面ＨＭに対して斜めに進行する。第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の他方側（図６における上側）に斜めに進行する。第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣでは、ポリゴンミラー５１に反射されたビームは、平面ＨＭに対して第１方向の一方側（図６における下側）に斜めに進行する。
第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの光学面は、副走査方向に関して対称である。

第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向における光学面の中心Ｃ１，Ｃ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍを通るビームＢＹ，ＢＭに対し第２方向の一方側（図６における左側）にオフセットしている。
一方、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫにおいて、第２走査レンズ７０Ｃの副走査方向における光学面の中心Ｃ３，Ｃ４は、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋを通るビームＢＣ，ＢＫに対し第２方向の他方側（図６における右側）にオフセットしている。
すなわち、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍと、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋは、互いに、離れるようにオフセットされて配置されている。

第１走査光学系ＬｏＹの第２走査レンズ７０Ｙの副走査方向に平行な直線Ｌ１は、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ２と平行である。第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃの副走査方向に平行な直線Ｌ３は、第４走査光学系ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ４と平行である。
第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ１，Ｌ２は、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ３，Ｌ４とは、第２方向となす角が異なる。
具体的には、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向に平行な直線Ｌ３，Ｌ４方が、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向に平行な直線Ｌ１，Ｌ２よりも第２方向に延びる平面ＨＭとなす角が大きい。

図４に示すように、各半導体レーザ１０Ｙ～１０Ｋから出射された光は、各カップリングレンズ２０Ｙ～２０Ｋを通ることでビームＢＹ～ＢＫに変換される。ビームＢＹ～ＢＫは、絞り板３０の対応する開口絞り３１Ｙ～３１Ｋを通った後、集光レンズ４０を通って、ポリゴンミラー５１に入射される。集光レンズ４０は、ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫが共通して通過するレンズであり、入射面が円筒面、出射面が平面で構成される。

図５に示すように、ポリゴンミラー５１は、ビームＢＹ～ＢＫを、対応する走査光学系ＬｏＹ～ＬｏＫに向けて偏向する。第１走査光学系ＬｏＹに向かうビームＢＹは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第１反射ミラー８１Ｙで反射され、第２走査レンズ７０Ｙを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＹは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｙから出射される。ビームＢＹは、第１感光ドラム２００Ｙに結像され主走査方向に走査される。

第２走査光学系ＬｏＭに向かうビームＢＭは、第１走査レンズ６０ＹＭを通った後、第２反射ミラー８２Ｍおよび第１反射ミラー８１Ｍで反射され、第２走査レンズ７０Ｍを通って第１方向の一方側の像面に向けて出射される。ビームＢＭは、第１方向と所定の角度をなして第２走査レンズ７０Ｍから出射される。ビームＢＭは、第２感光ドラム２００Ｍに結像され主走査方向に走査される。なお、ビームＢＣ，ＢＫも、同様に、対応する走査光学系ＬｏＣ，ＬｏＫによって、第１方向の一方側の像面に向けて出射されて、対応する感光ドラム２００Ｃ，２００Ｋに結像され主走査方向に走査される。

図３、図５に示すように、フレームＦは、ポリゴンミラー５１、モータ５２、第１走査光学系ＬｏＹ、第２走査光学系ＬｏＭ、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫが固定されている。フレームＦは、樹脂製であり、成形によって一体に造られている。フレームＦは、図８に示す第１凹部ＣＰ１と、図７に示す第２凹部ＣＰ２とを有する。第１凹部ＣＰ１は、第１方向の一方側に開口する。第２凹部ＣＰ２は、第１方向の他方側に開口する。図５に示すように、第１凹部ＣＰ１内には、偏向器５０と、走査光学系Ｌｏの一部とが配置されている。具体的には、走査光学系Ｌｏのうち各第１反射ミラー８１を除く部材が、第１凹部ＣＰ１内に配置されている。図２に示すように、第２凹部ＣＰ２内には、カップリングレンズ２０、絞り板３０および集光レンズ４０（図１参照）が配置されている。

図５に示すように、走査光学装置１は、カバーＣをさらに備える。カバーＣは、偏向器５０および第１ベース壁Ｆｂ１を、第１方向の一方側から覆うカバーであり、フレームＦにネジで固定されている。詳しくは、カバーＣは、第１凹部ＣＰ１の開口を覆う。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫおよび第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１とカバーＣとの間に配置され、第１凹部ＣＰ１に収容されている。

図７および図８に示すように、フレームＦは、第１凹部ＣＰ１の底に位置するベース壁の一例としての第１ベース壁Ｆｂ１と、第２凹部ＣＰ２の底に位置する第２ベース壁Ｆｂ２とを有する。

第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に交差する壁である。詳しくは、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、厚み方向が第１方向に沿っている壁である。つまり、第１ベース壁Ｆｂ１および第２ベース壁Ｆｂ２は、第１方向に直交する平面を有する壁である。

第２ベース壁Ｆｂ２は、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側にずれた位置に位置する。図５に示すように、第１ベース壁Ｆｂ１には、偏向器５０と走査光学系Ｌｏの前述した一部が、直接または間接的に第１方向の一方側から取り付けられている。そのため、偏向器５０と走査光学系Ｌｏの一部は、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の一方側に位置する。本実施形態では、偏向器５０すなわちポリゴンミラー５１およびモータ５２が複数のネジＮによって第１ベース壁Ｆｂ１に固定されている。

図５に示すように、走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋは、第１ベース壁Ｆｂ１から各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋに向かう方向にビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＣＫを出射する。

図２に示すように、半導体レーザ１０、カップリングレンズ２０および絞り板３０は、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。また、図１に示すように、集光レンズ４０および第１反射ミラー８１も、第２ベース壁Ｆｂ２に対して、第１方向の他方側に位置する。

図７に示すように、フレームＦは、第１反射ミラー８１の少なくとも一部を第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の他方側（第１凹部ＣＰ１の開口と反対側）に露出させる形状を有する。具体的には、第１反射ミラー８１は、第１ベース壁Ｆｂ１付近に配置され、第１ベース壁Ｆｂ１に対して、第１方向の他方側に露出している。言い換えると、第１ベース壁Ｆｂ１は、第１反射ミラー８１の第１方向の他方側に位置する部分を有していない。これにより、第１反射ミラー８１は、第１ベース壁Ｆｂ１で隠されることなく第１方向の他方側に露出して、フレームＦに対して、第１方向の他方側から取付可能となっている。

第１ベース壁Ｆｂ１は、第１反射ミラー８１の反射面を第１方向の一方側（開口側）に露出させる孔Ｈを有する（図５、図８も参照）。孔Ｈは、第３方向に延びており、各第１反射ミラー８１に対応して４つ配置されている。

フレームＦは、第１凹部ＣＰ１と第２凹部ＣＰ２の間に位置する第１仕切壁Ｆ１をさらに有する。第１仕切壁Ｆ１は、第１ベース壁Ｆｂ１と第２ベース壁Ｆｂ２に接続されている（図８も参照）。第１仕切壁Ｆ１は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出するとともに、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出している。

第１仕切壁Ｆ１は、絞り板３０の各開口絞り３１からポリゴンミラー５１に向かうビームＢＹ～ＢＫが通過する２つの第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を有する。第１開口Ｆ１１，Ｆ１２は、第１方向に長いスリット状に形成され、第３方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口している（図８参照）。第１開口Ｆ１１は、ビームＢＹ，ＢＭを通す。第１開口Ｆ１２は、ビームＢＣ，ＢＫを通す。

図１に示すように、集光レンズ４０は、図７に示す第１開口Ｆ１１，Ｆ１２を塞ぐように配置されている。集光レンズ４０は、第１仕切壁Ｆ１と絞り板３０の間で挟まれている。

図３および図８に示すように、フレームＦは、第２方向においてポリゴンミラー５１（図３参照）の両側に位置する２つの第２仕切壁Ｆ２をさらに有する。第２方向の一方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＹ，ＢＭが通過する第２開口Ｆ２１を有する。第２方向の他方側の第２仕切壁Ｆ２は、ポリゴンミラー５１で反射されたビームＢＣ，ＢＫが通過する第２開口Ｆ２２を有する。各第２開口Ｆ２１，Ｆ２２は、第２方向に貫通するとともに、第１方向の一方側に開口する。

各第２仕切壁Ｆ２は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。各第２仕切壁Ｆ２は、第１仕切壁Ｆ１と後述する第１側壁Ｆ４１に接続されている。これにより、第１ベース壁Ｆｂ１、第１仕切壁Ｆ１、各第２仕切壁Ｆ２および第１側壁Ｆ４１によって、ポリゴンミラー５１を収容するための収容凹部ＣＰ３が形成されている。

第１走査レンズ６０ＹＭは、第２開口Ｆ２１の一部を塞ぐように配置されている。第１走査レンズ６０ＣＫは、第２開口Ｆ２２の一部を塞ぐように配置されている。第１走査レンズ６０ＹＭ，６０ＣＫが、第１ベース壁Ｆｂ１の一部である第１レンズ座面Ｂ１に固定されている。第１レンズ座面Ｂ１は、第１ベース壁Ｆｂ１の偏向器５０が取り付けられた部分から、第１方向の一方側にずれた面である。

フレームＦは、各凹部ＣＰ１，ＣＰ２を囲う略矩形の枠を構成する第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４をさらに有する。第１側壁Ｆ４１、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１ベース壁Ｆｂ１を囲う側壁の一例である。
第１凹部ＣＰ１は、第１側壁Ｆ４１、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。また、図７に示すように、第２凹部ＣＰ２は、第２側壁Ｆ４２、第３側壁Ｆ４３、第４側壁Ｆ４４および第１仕切壁Ｆ１によって囲まれている。本実施形態では、第３側壁Ｆ４３および第４側壁Ｆ４４は、第１凹部ＣＰ１に対応する部分と第２凹部ＣＰ２に対応する部分とで第２方向にずれている。

図３に示すように、第１側壁Ｆ４１は、偏向器５０に対して半導体レーザ１０とは反対側に位置する。第１側壁Ｆ４１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出する。

第２側壁Ｆ４２は、偏向器５０に対して第１側壁Ｆ４１とは反対側に位置する。詳しくは、第２側壁Ｆ４２は、カップリングレンズ２０に対して偏向器５０とは反対側に位置する。第２側壁Ｆ４２は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。

第３側壁Ｆ４３は、第１走査レンズ６０ＹＭに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第３側壁Ｆ４３は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における一方側の端部に接続されている。第３側壁Ｆ４３の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。

第４側壁Ｆ４４は、第１走査レンズ６０ＣＫに対して偏向器５０とは反対側に位置する。第４側壁Ｆ４４は、第１側壁Ｆ４１、第１ベース壁Ｆｂ１、第２ベース壁Ｆｂ２および第２側壁Ｆ４２の第２方向における他方側の端部に接続されている。第４側壁Ｆ４４の一部は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に突出し、他部は、第２ベース壁Ｆｂ２から第１方向の他方側に突出する。

図９に示すように、走査光学装置１は、前述した第１凹部ＣＰ１および第２凹部ＣＰ２等を有するフレームＦに着脱可能な支持部材Ｆｓをさらに有している。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持する部材である。支持部材Ｆｓは、第１反射ミラー８１を支持して、第１反射ミラー８１の角度の調整が可能な座面ＦｓＺを有している。座面ＦｓＺは、第１反射ミラー８１を傾動可能に支持することが可能な球状の突起Ｆｓ１を有する。突起Ｆｓ１は、第１反射ミラー８１に向けて突出し、第１反射ミラー８１と接触して第１反射ミラー８１の向きを調整する際の支点となる。第１反射ミラー８１は、光硬化樹脂Ｐによって座面ＦｓＺに対する向きが固定されている。光硬化樹脂Ｐは、例えば紫外線硬化樹脂とすることができる。光硬化樹脂Ｐによって固定された第１反射ミラー８１および支持部材Ｆｓは、Ｕ形状の板バネＳＰによって、フレームＦに取り付けられる。

板バネＳＰは、バネの一例であり、第１反射ミラー８１を座面ＦｓＺに向けて押圧するバネである。板バネＳＰは、光硬化樹脂を硬化させる光が透過可能な開口部ＳＰＫを有する（図１参照）。フレームＦは、第１反射ミラー８１の座面ＦｓＺと厚み方向（反射面に直交する方向）に重なる部分を第１方向の他方側に露出させる形状を有する。第１反射ミラー８１は、第３方向の両端部には反射面を構成する反射膜を設けていない。これにより、開口部ＳＰＫを透過した光が光硬化樹脂に到達する。

支持部材Ｆｓおよび板バネＳＰは、１つの第１反射ミラー８１に対して、第１反射ミラー８１の長手方向の両端部に１つずつ配置されている。１つの第１反射ミラー８１に対応した一対の支持部材Ｆｓと一対の板バネＳＰは、４つの第１反射ミラー８１のそれぞれに対して設けられている。

フレームＦは、支持部材Ｆｓを支持する支持面Ｆｍ１を有する。支持面Ｆｍ１は、４つの第１反射ミラー８１の長手方向の各端部に対応した位置に配置されている（図７参照）。

第１反射ミラー８１をフレームＦに取り付ける場合には、まず、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１の両側に光硬化樹脂Ｐを塗布し、支持部材Ｆｓを支持面Ｆｍ１に取り付ける。その後、第１反射ミラー８１を、支持部材Ｆｓの突起Ｆｓ１に接触させる。このとき、光硬化樹脂Ｐは、支持部材Ｆｓと第１反射ミラー８１の両方に接触した状態で配置される。その後、板ばねＳＰを取り付け、第１反射ミラー８１を支持部材ＦｓとともにフレームＦに向けて押圧する。次いで、半導体レーザ１０から光を出射させた状態で、像面におけるビームの位置を監視しながら、突起Ｆｓ１を起点にして第１反射ミラー８１を傾動させることで、第１反射ミラー８１の角度を調整する。第１反射ミラー８１の角度を調整するときには、図９に二点鎖線で示すアームＡＭを第１反射ミラー８１に押し当てて、第１反射ミラー８１を動かす。角度調整が完了した後、光硬化樹脂Ｐに紫外線などの光を当てることで、第１反射ミラー８１が支持部材Ｆｓに固定される。

図３、図８に示すように、フレームＦは、第１壁Ｗ１と、第２壁Ｗ２と、第３壁Ｗ３とをさらに有する。

第１壁Ｗ１は、複数の第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋを支持する壁である。第１壁Ｗ１は、第１ベース壁Ｆｂ１から第１方向の一方側に向けて立ち上がる壁である。第１壁Ｗ１は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向（第３方向）の両端部にそれぞれ配置されている。各第１壁Ｗ１には、第１方向の他方側に凹む切り欠き形状の第２レンズ座面Ｗ１１が形成されている。各第２レンズ座面Ｗ１１は、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両端部が入り込む。各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋは、両端部が第２レンズ座面Ｗ１１の第１方向の一方側を向く座面に押し当てられた状態で図示しないバネによりフレームに固定される。

第２壁Ｗ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ、７０Ｃ，７０Ｋの長手方向の両側に配置され、第１壁Ｗ１と平行に延びる壁である。本実施形態では、第１仕切壁Ｆ１および第１側壁Ｆ４１が第２壁Ｗ２を構成している。

第３壁Ｗ３は、第１方向と直交する方向に延びる壁である。第３壁Ｗ３は、第１壁Ｗ１と第２壁Ｗ２を接続する。

以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
本実施形態における走査光学装置１の各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫは、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを各像面に最も近い位置に配置することで、最後の走査レンズから感光ドラム２００までの距離を小さくすることができる。このため、走査光学装置１の公差感度を小さくすることができる。

また、各走査光学系ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫの第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋのそれぞれは、第２方向に直線状に並んでいるため、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋから各像面までの距離を等しくすることができる。

また、第１走査光学系ＬｏＹの第１走査レンズ６０ＹＭと、第２走査光学系ＬｏＭの第１走査レンズ６０ＹＭとは共通の１つのレンズであり、第３走査光学系ＬｏＣの第１走査レンズ６０ＣＫと、第４走査光学系ＬｏＫの第１走査レンズ６０ＣＫとは共通の１つのレンズであるため、部品点数が少なくなり、走査光学装置１を小型化できる。

また、第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第１走査レンズ６０ＹＭと第２走査レンズ７０Ｍは、第１方向から見て重なっているため、第２走査レンズ７０Ｍをポリゴンミラー５１の近くに配置できる。このため、走査光学装置１を小型化できる。

また、第１走査レンズ６０ＹＭは、第２走査光学系ＬｏＭの第１反射ミラー８１Ｍから第２走査レンズ７０Ｍへ向けて進むビームＢＭとポリゴンミラー５１との間に位置するため、ポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０ＹＭの間の距離を短くできる。
同様に、第１走査レンズ６０ＣＫは、第３走査光学系ＬｏＣの第１反射ミラー８１Ｃから第２走査レンズ７０Ｃへ向けて進むビームＢＣとポリゴンミラー５１との間に位置するため、ポリゴンミラー５１と第１走査レンズ６０ＣＫの間の距離を短くできる。

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第４走査光学系ＬｏＫは、反射ミラーを１つ有し、第２走査光学系ＬｏＭおよび第３走査光学系ＬｏＣは、反射ミラーを２つ有する構成であるため、反射ミラーを少なくすることができる。

また、フレームＦが第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを支持する第１壁Ｗ１を有することで、ポリゴンミラー５１と各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋの位置精度を上げることができる。

また、フレームＦは、第１壁Ｗ１と第２壁Ｗ２を接続する第３壁Ｗ３を有することで、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋを支持する第１壁Ｗ１の強度を向上することができる。

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭにおいて、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向における中心Ｃ１，Ｃ２は、第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍを通るビームＢＹ，ＢＭに対し副走査方向の一方側にオフセットしている。そして、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫにおいて、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向における中心Ｃ３，Ｃ４は、第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋを通るビームＢＣ，ＢＫに対し第２方向の他方側にオフセットしている。このため、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍと、第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃとの間隔を大きくできる。この結果、出射される各ビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫの間隔が大きくならずに、第２走査光学系ＬｏＭの第２走査レンズ７０Ｍと第３走査光学系ＬｏＣの第２走査レンズ７０Ｃとの間のスペースが広くなるので、走査光学装置１の大型化を抑制することができる。

また、第１走査光学系ＬｏＹおよび第２走査光学系ＬｏＭの各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍの副走査方向と平行な直線Ｌ１，Ｌ２と、第３走査光学系ＬｏＣおよび第４走査光学系ＬｏＫの各第２走査レンズ７０Ｃ，７０Ｋの副走査方向と平行な直線Ｌ３，Ｌ４とは、第２方向となす角が異なる。このため、各第２走査レンズ７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋから出射されるビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫを第１方向に対して角度をなす構成とすることができる。

また、フレームＦは、第１反射ミラー８１を支持して、反射ミラー８１の角度の調整が可能な座面ＦｓＺを有し、第１反射ミラー８１の少なくとも一部を第１方向の他方側（第１ベース壁Ｆｂ１の開口と反対側）に露出させる形状を有する。このため、第１反射ミラー８１の角度調整をビームの出射方向とは反対側から行うことができる。このため、走査光学装置１の組立時において、第１反射ミラー８１の角度調整が容易となる。

また、支持部材Ｆｓの座面ＦｓＺは、第１反射ミラー８１の向きを調整する際の支点となる突起Ｆｓ１を有するため、第１反射ミラー８１の向きの調整がしやすい。

また、フレームＦは、メインフレームＦｍと、支持部材Ｆｓとを有して構成されている。このため、走査光学装置１の組立時に第１反射ミラー８１の角度の調整に失敗した場合に、メインフレームＦｍに影響を及ぼさずに第１反射ミラー８１を取り外すことができる。この結果、角度調整に失敗しても、第１反射ミラー８１の取り付けをやり直すことができる。

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、以下に例示するように様々な形態で利用できる。

前記実施形態では、走査光学系Ｌｏの一部を第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の一方側に取り付けたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、走査光学系の全部を、第１ベース壁Ｆｂ１の第１方向の一方側に取り付けてもよい。

前記実施形態では、バネの一例として板バネＳＰを例示したが、バネは板バネに限られず、線バネなどであってもよい。

前記実施形態では、フレームＦと、座面ＦｓＺを有する支持部材Ｆｓと、が異なる部材で構成されていたが、座面ＦｓＺがフレームＦと一体に構成されていてもよい。

前記実施形態では、第２走査レンズ７０が図示しないバネによりフレームに固定されていたが、第２走査レンズ７０の固定方法は、特に限定されるものではなく、光硬化樹脂などによる接着で固定されていてもよい。

前記実施形態では、半導体レーザ１０が１つの発光点を有する構成であったが、半導体レーザ１０は、複数の発光点を有する構成としてもよい。この場合、半導体レーザ１０からの複数の光が、１つのカップリングレンズ２０によって複数のビームに変換され、複数のビームが対応する走査光学系Ｌｏによって感光ドラム２００の表面に結像される。この構成では、前記実施形態のビームＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫがそれぞれ複数のビームを含む。

前記した実施形態および変形例で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。

１ 走査光学装置
５１ ポリゴンミラー
５２ モータ
６０ 第１走査レンズ
６０ＹＭ，６０ＣＫ 第１走査レンズ
７０Ｙ，７０Ｍ，７０Ｃ，７０Ｋ 第２走査レンズ
８１ 第１反射ミラー
８２ 第２反射ミラー
２００ 感光ドラム
ＢＹ，ＢＭ，ＢＣ，ＢＫ ビーム
Ｆ フレーム
Ｆｂ１ 第１ベース壁
Ｆｍ１ 支持面
Ｆｓ 支持部材
Ｆｓ１ 突起
ＦｓＺ 座面
Ｈ 孔
ＬｏＹ，ＬｏＭ，ＬｏＣ，ＬｏＫ 第１走査光学系
Ｗ１ 第１壁
Ｗ２ 第２壁
Ｗ３ 第３壁
Ｘ１ 回転軸線

Claims (7)

1. ビームを出射する光源と、
   前記光源から出射されたビームを偏向するポリゴンミラーと、
   第１方向に延びる回転軸線を中心に前記ポリゴンミラーを回転させるモータと、
   前記第１方向に直交する第２方向において、前記ポリゴンミラーの一方側に配置され、前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを第１像面に向けて出射する第１走査光学系と、
   前記第２方向において、前記ポリゴンミラーの一方側に配置され、前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを第２像面に向けて出射する第２走査光学系であって、前記第２方向において、前記第１走査光学系のビームより前記ポリゴンミラーに近い位置でビームを前記第２像面に向けて出射する第２走査光学系と、
   前記第２方向において、前記ポリゴンミラーの他方側に配置され、前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを第３像面に向けて出射する第３走査光学系と、
   前記第２方向において、前記ポリゴンミラーの他方側に配置され、前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを第４像面に向けて出射する第４走査光学系であって、前記第２方向において、前記第３走査光学系のビームより前記ポリゴンミラーから遠い位置でビームを前記第４像面に向けて出射する第４走査光学系と、
   を備え、
   前記第１走査光学系、前記第２走査光学系、前記第３走査光学系および前記第４走査光学系は、
   前記ポリゴンミラーで偏向されたビームが通る第１走査レンズと、
   前記第１走査レンズを通過したビームを反射する少なくとも１つの反射ミラーと、
   前記反射ミラーに反射されたビームを副走査方向に集光する第２走査レンズと、をそれぞれ有し、
   前記第１走査光学系および前記第２走査光学系において、前記第２走査レンズの前記副走査方向における中心は、前記第２走査レンズを通るビームに対し前記第２方向の前記一方側にオフセットしており、
   前記第３走査光学系および前記第４走査光学系において、前記第２走査レンズの前記副走査方向における中心は、前記第２走査レンズを通るビームに対し前記第２方向の前記他方側にオフセットしていることを特徴とする走査光学装置。
2. 前記第１走査光学系、前記第２走査光学系、前記第３走査光学系および前記第４走査光学系の前記第２走査レンズのそれぞれは、前記第２方向に直線状に並ぶことを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
3. 前記第１走査光学系の前記第１走査レンズと、前記第２走査光学系の前記第１走査レンズと、は共通の１つのレンズであり、
   前記第３走査光学系の前記第１走査レンズと、前記第４走査光学系の前記第１走査レンズと、は共通の１つのレンズであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の走査光学装置。
4. 前記第１走査光学系および前記第４走査光学系は、それぞれ、前記反射ミラーとして、前記第２走査レンズへ向けてビームを反射する第１反射ミラーを１つ有し、
   前記第２走査光学系および前記第３走査光学系は、それぞれ、前記反射ミラーとして、前記第２走査レンズへ向けてビームを反射する１つの第１反射ミラーと、前記ポリゴンミラーで偏向されたビームを前記第１反射ミラーに向けて反射する１つの第２反射ミラーと、の２つを有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の走査光学装置。
5. 前記モータ、前記第１走査光学系、前記第２走査光学系、前記第３走査光学系および前記第４走査光学系が固定され、前記第１方向の一方側に開口するフレームであって、前記モータが固定されたベース壁と、前記ベース壁から前記第１方向の前記一方側に突出して前記ベース壁を囲う側壁と、を有するフレームをさらに備え、
   前記ポリゴンミラーに反射されたビームは、前記ポリゴンミラーを通る平面であって、前記第１方向に直交する平面に対して斜めに進行し、
   前記第１走査光学系および前記第４走査光学系では、前記ポリゴンミラーに反射されたビームは、前記平面に対して前記第１方向の前記他方側に斜めに進行し、
   前記第２走査光学系および前記第３走査光学系では、前記ポリゴンミラーに反射されたビームは、前記平面に対して前記第１方向の前記一方側に斜めに進行することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の走査光学装置。
6. 前記第１走査光学系、前記第２走査光学系、前記第３走査光学系および前記第４走査光学系の前記第２走査レンズの光学面は、副走査方向に関して対称であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の走査光学装置。
7. 前記第１走査光学系および前記第２走査光学系の各第２走査レンズの副走査方向と平行な直線と、前記第３走査光学系および前記第４走査光学系の各前記第２走査レンズの副走査方向と平行な直線とは、前記第２方向となす角が異なることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の走査光学装置。

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