JP2023074957A - 直接変換型x線検出器、x線検出方法、およびx線コンピュータ断層撮影装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】直接変換型X線検出器のコーン角方向の空間分解能の低下を軽減すること。【解決手段】実施形態に係る直接変換型X線検出器は、複数のアノード電極と、少なくとも1つのカソード電極と、電界形成部とを備える。複数のアノード電極は、入射するX線のコーン角方向に配列される。カソード電極は、記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、複数のアノード電極と対向する。電界形成部は、複数のアノード電極とカソード電極との間にX線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる。【選択図】図2
Description
本明細書及び図面に開示の実施形態は、直接変換型X線検出器、X線検出方法、およびX線コンピュータ断層撮影装置に関する。
従来、X線コンピュータ断層撮影(Computed Tomography:CT)装置において、面状にX線変換素子が配列された検出モジュールをファン角方向に円弧状に並べることで、円弧面状のX線検出器を構築する技術が知られている。このような円弧面状のX線検出器はコーン角方向に平坦であるため、コーン角が大きくなる箇所ほどX線変換素子に対するX線の入射角が大きくなる。
一般に、検出されたX線の再構成理論としては、X線は入射したX線変換素子表面の位置で入射したものと見なされる。しかしながら、X線が斜入した場合には、当該X線は入射したX線変換素子に限らず、隣接する他のX線変換素子で吸収される可能性がある。これによってX線検出器のコーン角方向の空間分解能が低下し、X線画像データの画質の低下の要因となる場合がある。特に、X線を直接的に電荷に変換する直接変換型X線検出器に使用されるX線変換素子は、間接変換型X線検出器で使用されるX線変換素子よりも一般的に厚みがあるため、X線の斜入による影響を受けやすくなる。
本明細書及び図面に開示の実施形態が解決しようとする課題の一つは、直接変換型X線検出器のコーン角方向の空間分解能の低下を軽減することである。ただし、本明細書及び図面に開示の実施形態により解決しようとする課題は上記課題に限られない。後述する実施形態に示す各構成による各効果に対応する課題を他の課題として位置づけることもできる。
実施形態に係る直接変換型X線検出器は、複数のアノード電極と、少なくとも1つのカソード電極と、電界形成部とを備える。複数のアノード電極は、入射するX線のコーン角方向に配列される。カソード電極は、記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、複数のアノード電極と対向する。電界形成部は、複数のアノード電極とカソード電極との間にX線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる。
以下、図面を参照しながら、直接変換型X線検出器、X線検出方法、およびX線コンピュータ断層撮影装置の実施形態について詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係るX線コンピュータ断層撮影(Computed Tomography:CT)装置1(以下、X線CT装置1という)の構成の一例を示す図である。なお、X線CT装置1を放射線画像診断装置と称しても良い。
図1は、第1の実施形態に係るX線コンピュータ断層撮影(Computed Tomography:CT)装置1(以下、X線CT装置1という)の構成の一例を示す図である。なお、X線CT装置1を放射線画像診断装置と称しても良い。
図1に示すように、X線CT装置1は、架台装置10と、寝台装置30と、コンソール装置40とを有する。
なお、本実施形態では、非チルト状態での回転フレーム13の回転軸又は寝台装置30の天板33の長手方向をZ軸方向、Z軸方向に直交し、床面に対し水平である軸方向をX軸方向、Z軸方向に直交し、床面に対し垂直である軸方向をY軸方向とそれぞれ定義するものとする。図1では、説明の都合上、架台装置10を複数描画しているが、実際のX線CT装置1の構成としては、架台装置10は、一つである。
架台装置10及び寝台装置30は、コンソール装置40を介したユーザからの操作、或いは架台装置10、または寝台装置30に設けられた操作部を介したユーザからの操作に基づいて動作する。架台装置10と、寝台装置30と、コンソール装置40とは互いに通信可能に有線または無線で接続されている。
架台装置10は、被検体PにX線100を照射し、被検体Pを透過したX線100の検出データを収集する撮影系を有する装置である。より具体的には、架台装置10は、X線管11(X線発生部)と、ウェッジ16と、コリメータ17と、X線検出器12と、X線高電圧装置14と、DAS(Data Acquisition System)18と、回転フレーム13と、制御装置15とを有する。
X線管11は、X線高電圧装置14からの高電圧の印加及びフィラメント電流の供給により、陰極(フィラメント)から陽極(ターゲット)に向けて熱電子を照射することでX線100を発生する真空管である。熱電子がターゲットに衝突することによりX線100が発生される。X線管11における管球焦点で発生したX線100は、例えばコリメータ17を介してコーンビーム形に成形され、被検体Pに照射される。例えば、X線管11には回転する陽極に熱電子を照射することでX線を発生させる回転陽極型のX線管がある。
図1に示すように、コーンビーム形に照射されたX線100は、X軸方向に扇(ファン)型に広がる形状となる。このため、コーンビーム形に照射されたX線100のX軸方向の広がりを示す角度をファン角という。また、コーンビーム形に照射されたX線100のZ軸方向の奥行きを示す角度をコーン角という。このため、X軸方向をファン角方向、Z軸方向をコーン角方向ともいう。
X線検出器12は、X線管11から照射され、被検体Pを通過したX線を検出し、当該X線量に対応した電気信号をDAS18へと出力する。
X線検出器12は、例えば、X線管11の焦点を中心として1つの円弧に沿ってチャネル方向に複数の検出素子が配列された複数の検出素子列を有する。複数の検出素子の各々は、X線100の入射量を検出する。なお、X線CT装置1には、X線管11とX線検出器12とが一体として被検体Pの周囲を回転するRotate/Rotate-Type(第3世代CT)、リング状にアレイされた多数のX線検出素子が固定され、X線管11のみが被検体Pの周囲を回転するStationary/Rotate-Type(第4世代CT)等様々なタイプがあり、いずれのタイプでも本実施形態へ適用可能である。
より詳細には、X線検出器12は、入射したX線を電荷に変換する半導体素子を有する直接変換型X線検出器である。本実施形態のX線検出器12は、少なくとも1つの高電圧電極と、少なくとも1つの半導体素子と、複数の読出電極とを備える。半導体素子は、X線変換素子ともいう。
また、X線検出器12は、高電圧電極の電位を制御する電位制御装置120を備える。電位制御装置120は、本実施形態における電界形成部の一例である。X線検出器12の構成の詳細については後述する。
また、本実施形態のX線検出器12は、エネルギー積分型(Energy Integrated)の収集方式でもよいし、フォトンカウンティング型の収集方式でもよい。
回転フレーム13は、X線管11とX線検出器12とを回転軸回りに回転可能に支持する。具体的には、回転フレーム13は、X線管11とX線検出器12とを対向支持し、後述する制御装置15によってX線管11とX線検出器12とを回転させる円環状のフレームである。回転フレーム13は、アルミニウム等の金属により形成された固定フレームに回転可能に支持される。回転フレーム13は、制御装置15の駆動機構からの動力を受けて回転軸回りに一定の角速度で回転する。
なお、回転フレーム13は、X線管11とX線検出器12とに加えて、X線高電圧装置14やDAS18を更に支持する。このような回転フレーム13は、撮影空間をなす開口(ボア)が形成された略円筒形状の筐体に収容されている。開口の中心軸は、回転フレーム13の回転軸に一致する。
X線高電圧装置14は、変圧器(トランス)及び整流器等の電気回路を有し、X線管11に印加する高電圧およびX線管11に供給するフィラメント電流を発生する機能を有する高電圧発生装置と、X線管11が照射するX線に応じた出力電圧の制御を行うX線制御装置とを有する。高電圧発生装置は、変圧器方式であってもよいし、インバータ方式であっても構わない。なお、X線高電圧装置14は、回転フレーム13に設けられてもよいし、架台装置10の固定フレーム(図示しない)側に設けられても構わない。なお、固定フレームは回転フレーム13を回転可能に支持するフレームである。
制御装置15は、CPU(Central Processing Unit)等を有する処理回路と、モータ及びアクチュエータ等の駆動機構とを有する。処理回路は、ハードウェア資源として、CPUやMPU(Micro Processing Unit)等のプロセッサとROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等のメモリとを有する。また、制御装置15は、例えば、GPU(Graphics Processing Unit)、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit:ASIC)、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA))等のプロセッサにより実現されてもよい。プロセッサが例えばCPUである場合、プロセッサはメモリに保存されたプログラムを読み出して実行することで機能を実現する。一方、プロセッサがASICである場合、メモリにプログラムを保存する代わりに、当該機能がプロセッサの回路内に論理回路として直接組み込まれる。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて1つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、複数の構成要素を1つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。
また、制御装置15は、コンソール装置40若しくは架台装置10に取り付けられた入力インターフェース43からの入力信号を受けて、架台装置10及び寝台装置30の動作制御を行う機能を有する。例えば、制御装置15は、入力信号を受けて回転フレーム13を回転させる制御や、架台装置10をチルトさせる制御、及び寝台装置30及び天板33を動作させる制御を行う。なお、架台装置10をチルトさせる制御は、架台装置10に取り付けられた入力インターフェース43によって入力される傾斜角度(チルト角度)情報により、制御装置15がX軸方向に平行な軸を中心に回転フレーム13を回転させることによって実現されてもよい。また、制御装置15は架台装置10に設けられてもよいし、コンソール装置40に設けられても構わない。
ウェッジ16は、X線管11から照射されたX線100のX線量を調節するためのフィルタである。具体的には、ウェッジ16は、X線管11から被検体Pへ照射されるX線100が、予め定められた分布になるように、X線管11から照射されたX線100を透過して減衰するフィルタである。ウェッジ16は、例えばウェッジフィルタ(wedge filter)またはボウタイフィルタ(bow-tie filter)であり、所定のターゲット角度や所定の厚みとなるようにアルミニウムを加工したフィルタである。
コリメータ17は、ウェッジ16を透過したX線100をX線照射範囲に絞り込むための鉛板等であり、複数の鉛板等の組み合わせによってスリットを形成する。
DAS(Data Acquisition System)18は、X線検出器12の各X線検出素子から出力される電気信号に対して増幅処理を行う増幅器と、電気信号をデジタル信号に変換するA/D変換器とを有し、検出データを生成する。DAS18が生成した検出データは、コンソール装置40へと転送される。また、DAS18はデータ収集部の一例である。
なお、本実施形態において、単に「検出データ」という場合、X線検出器12により検出され、前処理が施される前の純生データと、純生データに対して前処理が施された生データの両方の意味を包括する。なお、前処理前のデータ(検出データ)および前処理後のデータを総称して投影データと称する場合もある。
寝台装置30は、スキャン対象の被検体Pを載置、移動させる装置であり、基台31と、寝台駆動装置32と、天板33と、天板支持フレーム34とを備えている。基台31は、天板支持フレーム34を鉛直方向に移動可能に支持する筐体である。寝台駆動装置32は、被検体Pが載置された天板33を天板33の長軸方向に移動させるモータあるいはアクチュエータである。寝台駆動装置32は、コンソール装置40による制御、または制御装置15による制御に従い、天板33を移動する。天板支持フレーム34の上面に設けられた天板33は、被検体Pが載置される板である。なお、寝台駆動装置32は、天板33に加え、天板支持フレーム34を天板33の長軸方向に移動してもよい。
コンソール装置40は、架台装置10の制御、および架台装置10によるスキャン結果に基づくCT画像データの生成等を実行する装置である。コンソール装置40は、メモリ41(記憶部)と、ディスプレイ42(表示部)と、入力インターフェース43(入力部)と、処理回路44(処理部)とを有する。メモリ41と、ディスプレイ42と、入力インターフェース43と、処理回路44との間のデータ通信は、バス(BUS)を介して行われる。
メモリ41は、例えば、RAM(Random Access Memory)、フラッシュメモリ等の半導体メモリ素子、HDD(Hard disk Drive)やSSD(Solid State Drive)、光ディスク等により実現される。また、メモリ41は、CD(Compact Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)、フラッシュメモリ等の可搬性記憶媒体や、RAM(Random Access Memory)等の半導体メモリ素子等との間で種々の情報を読み書きする駆動装置であってもよい。メモリ41は、例えば、投影データや再構成画像データを記憶する。また、メモリ41の保存領域は、X線CT装置1内にあってもよいし、ネットワークで接続された外部記憶装置内にあってもよい。また、メモリ41は、本実施形態に係る制御プログラムを記憶する。また、メモリ41は、記憶部の一例である。
ディスプレイ42は、各種の情報を表示する。例えば、ディスプレイ42は、処理回路44によって生成された医用画像(CT画像)や、操作者からの各種操作を受け付けるためのGUI(Graphical User Interface)等を出力する。例えば、ディスプレイ42としては、例えば、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)、有機ELディスプレイ(OELD:Organic Electro Luminescence Display)、プラズマディスプレイまたは他の任意のディスプレイが、適宜、使用可能となっている。また、ディスプレイ42は、架台装置10に設けられてもよい。また、ディスプレイ42は、デスクトップ型でもよいし、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。
入力インターフェース43は、操作者からの各種の入力操作を受け付け、受け付けた入力操作を電気信号に変換して処理回路44に出力する。例えば、入力インターフェース43は、投影データを収集する際の収集条件や、CT画像を再構成する際の再構成条件、CT画像から後処理画像を生成する際の画像処理条件等を操作者から受け付ける。入力インターフェース43としては、例えば、マウス、キーボード、トラックボール、スイッチ、ボタン、ジョイスティック、タッチパッド及びタッチパネルディスプレイ等が適宜、使用可能となっている。
なお、本実施形態において、入力インターフェース43は、マウス、キーボード、トラックボール、スイッチ、ボタン、ジョイスティック、タッチパッド及びタッチパネルディスプレイ等の物理的な操作部品を備えるものに限られない。例えば、装置とは別体に設けられた外部の入力機器から入力操作に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を処理回路44へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース43の例に含まれる。また、入力インターフェース43は、入力部の一例である。また、入力インターフェース43は、架台装置10に設けられてもよい。また、入力インターフェース43は、コンソール装置40本体と無線通信可能なタブレット端末等で構成されることにしても構わない。
処理回路44は、入力インターフェース43から出力される入力操作の電気信号に応じて、X線CT装置1全体の動作を制御する。例えば、処理回路44は、システム制御機能441、前処理機能442、再構成処理機能443、スキャン制御機能444、画像処理機能445、および表示制御機能446を備える。ここで、例えば、図1に示す処理回路44の構成要素であるシステム制御機能441、前処理機能442、再構成処理機能443、スキャン制御機能444、画像処理機能445、および表示制御機能446が実行する各処理機能は、コンピュータによって実行可能なプログラムの形態でメモリ41内に記録されている。処理回路44は、例えば、プロセッサであり、メモリ41から各プログラムを読み出し、実行することで読み出した各プログラムに対応する機能を実現する。換言すると、各プログラムを読み出した状態の処理回路44は、図1の処理回路44内に示された各機能を有することとなる。システム制御機能441は、制御部の一例である。前処理機能442は、前処理部の一例である。再構成処理機能443は、再構成処理部の一例である。スキャン制御機能444は、スキャン制御部の一例である。画像処理機能445は、画像処理部の一例である。表示制御機能446は、表示制御部の一例である。また、処理回路44を制御部の一例としてもよい。
なお、図1においてはシステム制御機能441、前処理機能442、再構成処理機能443、スキャン制御機能444、および表示制御機能446が単一の処理回路44によって実現される場合を示したが、実施形態はこれに限られるものではない。例えば、処理回路44は、複数の独立したプロセッサを組み合わせて構成され、各プロセッサが各プログラムを実行することにより各処理機能を実現するものとしても構わない。また、処理回路44が有する各処理機能は、単一又は複数の処理回路に適宜に分散又は統合されて実現されてもよい。
システム制御機能441は、入力インターフェース43を介して操作者から受け付けた入力操作に基づいて、処理回路44の各種機能を制御する。
前処理機能442は、DAS18から出力された検出データに対して対数変換処理やオフセット補正処理、チャネル間の感度補正処理、ビームハードニング補正等の前処理を施したデータを生成する。
再構成処理機能443は、前処理機能442にて生成された投影データに対して、フィルタ補正逆投影法や逐次近似再構成法等を用いた再構成処理を行ってCT画像データを生成する。
スキャン制御機能444は、スキャン範囲、撮影条件等を決定するための被検体Pの2次元の位置決め画像データを取得する。なお、位置決め画像データはスキャノ画像データ やスカウト画像データと呼ばれる場合もある。
画像処理機能445は、入力インターフェース43を介して操作者から受け付けた入力操作に基づいて、再構成処理機能443によって生成されたCT画像データを公知の方法により、任意断面の断層像データや3次元画像データに変換する。なお、3次元画像データの生成は再構成処理機能443が直接行なっても構わない。
表示制御機能446は、画像処理機能445によって処理された断層像データおよび3次元画像データをディスプレイ42に表示させる。また、表示制御機能446は、各種のGUI(Graphical User Interface)を、ディスプレイ42に表示させる。
次に、X線検出器12の詳細について説明する。
図2は、第1の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図2では、X線検出器12をX軸方向から見た状態を示す。
X線検出器12は、複数の高電圧電極121a~121eと、1つの半導体素子122と、複数の読出電極123a~123eとを備える。複数の高電圧電極121a~121eと、半導体素子122と、複数の読出電極123a~123eとは、1つの検出モジュール124を構成する。X線検出器12は、ファン角方向に複数の検出モジュール50を備える。なお、1つの検出モジュール124に含まれる高電圧電極121a~121eおよび読出電極123a~123eの数は、図2に示す例に限定されるものではない。
以下、個々の高電圧電極121a~121eを区別しない場合には、単に高電圧電極121という。また、個々の読出電極123a~123eを区別しない場合には、単に読出電極123という。
また、図2の上部には、X線検出器12に入射するX線のコーン角方向の位置ごとの、高電圧電極121a~121eの電位の分布を表すグラフが図示されている。高電圧電極121a~121eは負の電位を有するため、当該グラフの縦軸の単位は“-V”となる。
本実施形態においては、1つの検出モジュール124において、複数の読出電極123a~123eおよび複数の高電圧電極121a~121eは、それぞれ、X線100のコーン角方向に配列される。
X線検出器12では、複数の検出モジュール124がファン角方向にカーブを描くように配列されている。このため、X線検出器12の形状は、ファン角方向には円弧面状となる。また、X線検出器12の形状はコーン角方向には平坦な面状となる。このため、X線検出器12のうち、コーン角が大きくなる箇所ほど半導体素子122に対するX線100の入射角が大きくなる。
高電圧電極121a~121eは読出電極123a~123eよりもX線100の入射側に位置し、読出電極123a~123eと対向する。高電圧電極121a~121eは、本実施形態におけるカソード電極の一例である。高電圧電極121a~121eは、入射するX線100のコーン角方向に沿って配列される。
半導体素子122は、高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間に位置し、高電圧電極121a~121e側から入射したX線100を電荷に変換する。
読出電極123a~123eは、半導体素子122によってX線100から変換された電荷を電気信号として読み出す。読出電極123a~123eによって読み出された電気信号は、DAS18により増幅された上でデジタル信号へ変換され、検出データとしてコンソール装置40へ転送される。読出電極123a~123eは、本実施形態におけるアノード電極の一例である。読出電極123a~123eが電荷を読み出すことを、電荷を収集するともいう。
高電圧電極121a~121eは負の電位、読出電極123a~123eは正の電位を有する。高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの電位差により、半導体素子122によってX線から変換された電荷は読出電極123a~123eに移動する。高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間には、電界が形成される。
より詳細には、高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間の電界は、無数の点電荷が形成する電界の集合により形成される。各点電荷の大きさおよび密度の分布により、全体として電界の向きが定められる。
また、本実施形態において、電位制御装置120は、入射するX線100のコーン角方向に配列される複数の高電圧電極121a~121eのうち、コーン角方向の中央(ミッドプレーン)から離れた高電圧電極121ほど電位が高くなるように、高電圧電極121a~121eの各々を制御する。例えば、電位制御装置120は、コーン角方向に沿った位置ごとに、複数の高電圧電極121a~121eに異なる電圧を印加することで、コーン角に基づいた向きの電界を発生させる。電位制御装置120は、不図示の電源装置から電力の供給を受ける。
図2に示すように、コーン角方向の中央に位置する高電圧電極121cの電位が最も低く、コーン角方向の端部に位置する高電圧電極121aおよび高電圧電極121eの電位が最も高い。
なお、複数の高電圧電極121a~121eの電位の具体的な値は、特に限定されるものではないが、X線検出器12のZ軸方向の長さ、およびX線100のコーン角の大きさ等に応じて決定される。高電圧電極121a~121eの極性や、高電圧電極121a~121eの数などはX線検出器12の特性によって変化させてもよい。
なお、複数の高電圧電極121a~121eのうち最も電位が高い高電圧電極121a,121eの電位であっても、読出電極123a~123eの電位よりは低いものとする。また、複数の高電圧電極121a~121eの電位は等しいものとする。
具体的には、高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線検出器12のコーン角方向の中央付近では高電圧電極121cから読出電極123cに向けて直進する。また、当該電界の向きは、X線検出器12のコーン角方向の中央から離れた位置ほど、X線検出器12のコーン角方向の中央と反対側の向きを向く。このため、高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角に基づく向きとなる。電荷は電界の向きに沿って移動するため、半導体素子122によってX線100から変換された電荷は、X線100のコーン角に基づく向きに沿って読出電極123a~123eへ移動する。
高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、例えば、X線管11から直行するコーン角方向の中央の位置を中心として、両端部に向けて対称に広がるように傾いている。なお、当該電界の向きは、X線100のコーン角と完全に等しくなくともよく、少なくとも傾きの方向が同じであればよい。
例えば、X線管11から直進してX線検出器12の高電圧電極121cに入射したX線100から変換された電荷は、電界の向きに沿ってそのまま直進して読出電極123cへ移動する。この場合、高電圧電極121cに入射したX線100から変換された電荷は、読出電極123cから電気信号として読み出される。また、高電圧電極121eに入射したX線100から変換された電荷は、電界の向きに沿って斜めに移動し、読出電極123eへ移動する。このため、同一の高電圧電極121に入射したX線100から変換された電荷は、同一の読出電極123によって読み出される。
ここで、図3および図4を用いて、電界の向きと電荷の読み出しの関係性について、詳細に説明する。
まず、比較例として、一般的なX線検出器の構成について説明する。
図3は、比較例に係るX線検出器5の構成の一例を示す図である。図3では、比較例に係るX線検出器5の一部をX軸方向から見た状態を示す。図3の右側がX線検出器5におけるコーン角方向の中央側、図3の左側が端部側である。
比較例に係るX線検出器5は、高電圧電極51と、半導体素子52と、複数の読出電極53a~53gとを備える。1セットの高電圧電極51と、半導体素子52と、複数の読出電極53a~53gとを1つの検出モジュール50という。X線検出器5は、複数の検出モジュール50を備える。個々の読出電極53a~53gを特に区別しない場合には、単に読出電極53という。
本比較例においては、1つの検出モジュール50には、1つの高電圧電極51が含まれる。本比較例の高電圧電極51側ではコーン角方向に電位の差はなく、一定である。このため、高電圧電極51と複数の読出電極53a~53gとの間の電界の向きは、高電圧電極51から複数の読出電極53a~53gへ向けて直行する。
高電圧電極51に入射したX線100a~100cは、半導体素子52によって電荷に変換されるが、半導体素子52のY軸方向におけるどの位置でX線100a~100cが吸収されるかは統計的にランダムであるため制御が困難である。
例えば、図3に示す例において、高電圧電極51に入射したX線100bは、半導体素子52の第1の領域521または第2の領域522で吸収される。X線100bのうち、半導体素子52の第1の領域521で吸収された部分から変換された電荷は、電界の向きに沿って読出電極53dへ移動し、読出電極53dから読み出される。また、X線100bのうち、半導体素子52の第2の領域522で吸収された部分から変換された電荷は、電界の向きに沿って読出電極53cへ移動し、読出電極53cから読み出される。つまり、比較例においては、高電圧電極51のうちの同じ箇所から入射したX線100bから変換された電荷の一部は読出電極53dから読み出され、他の一部は読出電極53dに隣接する読出電極53cから読み出される。高電圧電極51の他の箇所に入射したX線100a,100cから変換された電荷についても同様に、隣接する複数の読出電極53にそれぞれ分かれて読み出される。
一般に、検出されたX線100の再構成理論としては、X線100は入射した半導体素子52の表面の位置で入射したものと見做される。しかしながら、X線100が斜入した場合には、当該X線100は入射した半導体素子52に限らず、隣接する他の半導体素子で吸収される可能性がある。これによってX線検出器5のコーン角方向の空間分解能が低下し、X線画像データの画質の低下の要因となる場合がある。特に、X線100を直接的に電荷に変換する直接変換型X線検出器に使用されるX線変換素子は、間接変換型X線検出器で使用されるX線変換素子よりも一般的に厚みがあるため、X線の斜入による影響を受けやすくなる。
これに対して本実施形態のX線検出器12は、比較例のX線検出器5とは異なり、高電圧電極121と読出電極123との間の電界の向きは、X線100のコーン角に沿って傾いている。このため、X線100がX線検出器12に斜入した場合、当該斜入したX線100から変換された電荷は、当該斜入したX線100と同じ向きに移動する。
図4は、第1の実施形態に係るX線検出器12の電界の向きの一例を詳細に示す図である。図4の右側がX線検出器12におけるコーン角方向の中央側、図4の左側が端部側である。
なお、図4に示すX線検出器12の検出モジュール124に含まれる高電圧電極121および読出電極123の数は図2に示した例と異なっているが、図2、図4のいずれに図示された検出モジュール124も一例であり、高電圧電極121および読出電極123の数はこれらに限定されるものではない。
図4に示すように、第1の実施形態に係るX線検出器12においては、高電圧電極121a~121gと読出電極123a~123gとの間の電界の向きの傾きによって、電荷はX線100のコーン角と同じ向きに斜めに移動する。
例えば、高電圧電極121dに入射したX線100bは、半導体素子122の領域1221で吸収される。そして、半導体素子122の領域1221で吸収されたX線100bは、半導体素子122によって電荷に変換される。X線100bから変換された電荷は、電界の向きに沿って中央から離れる方向へ移動し、読出電極123cによって読み出される。本実施形態のX線検出器12においては、高電圧電極121dに入射したX線100bに基づく電荷は、半導体素子122のどの深度方向の位置で吸収されたかに関わらず、すべて、読出電極123cによって読み出される。
また、高電圧電極121cに入射したX線100aに基づく電荷は、すべて、読出電極123bによって読み出される。高電圧電極121eに入射したX線100cに基づく電荷は、すべて、読出電極123dによって読み出される。つまり、本実施形態のX線検出器12においては、検出モジュール124に含まれる複数の高電圧電極121a~121gのうち、同じ高電圧電極121に入射したX線100に基づく電荷は、同じ読出電極123から読み出される。また、図4に示すように、高電圧電極121に入射したX線100は、高電圧電極121への入射位置よりもコーン角方向(Z軸方向)に沿ってX線検出器12の中心位置から離れる方向にずれた場所に位置する読出電極123によって読み出される。入射位置と読出電極123とのずれは、コーン角の大きさと入射位置に応じて変化する。読出電極123は、当該位置ずれを考慮した位置に配置される。なお、図4では、読出電極123b~123dは、それぞれ高電圧電極121c~121eと1対1で対応しているが、当該構成は一例であり、読出電極123b~123dと高電圧電極121c~121eとは1対1の関係でなくともよい。
換言すれば、読出電極123cによって読み出された電荷に基づく投影データは、高電圧電極121dの位置からX線検出器12に入射したX線100bに基づくものである。他の読出電極123によって読み出された電荷に基づく投影データについても、X線検出器12におけるいずれの高電圧電極121の位置から入射したX線100に基づくものであるかが一意に特定可能である。
このため、処理回路44の再構成処理機能443が投影データを再構成する際に、実際の高電圧電極121a~121gと読出電極123a~123gとの対応付けに即して再構成処理を実行することができる。
次に、以上のように構成された本実施形態のX線CT装置1におけるX線100の検出の流れについて説明する。
図5は、第1の実施形態に係るX線CT装置1におけるX線100の検出の流れの一例を示すフローチャートである。このフローチャートの処理の流れは、位置決め撮影および本撮影に共通する。このフローチャートの処理は、例えば、被検体Pが天板33に載置された状態で、技師等がコンソール装置40の入力インターフェース43から撮影開始の操作をした場合に実行される。また、この図5の説明では、図2で説明したX線検出器12の構成を例として説明する。
まず、電位制御装置120は、X線検出器12に含まれる複数の検出モジュール124の各々に含まれる複数の高電圧電極121a~121eのうち、コーン角方向の中央から離れた高電圧電極121ほど電位が高くなるように、高電圧電極121a~121eの各々を制御する。また、電位制御装置120は、X線検出器12に含まれる複数の検出モジュール124の各々に含まれる複数の読出電極123a~123eの電位を制御する(S1)。
このような電位の制御により、高電圧電極121a~121eと読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、X線検出器12の中央から両端部へ向かって広がる向きになる。
複数の検出モジュール124の各々に含まれる複数の読出電極123a~123eの電位は、すべて等しい正の電位とする。なお、読出電極123の電位は全て等しいため、電位制御装置120による制御を受けずに常に同じ電位を維持してもよい。
そして、X線管11は、X線高電圧装置14からの高電圧の印加及びフィラメント電流の供給により、X線100を発生させる。X線管11における管球焦点で発生したX線100は、例えばコリメータ17を介してコーンビーム形に成形され、被検体Pに照射される。また、回転フレーム13は、X線管11とX線検出器12とを保持した状態で、被検体Pの周囲を回転する(S2)。
X線管11から照射されたX線100は、X線検出器12に入射する。X線検出器12の半導体素子122は、入射したX線100を電荷に変換する(S3)。
複数の高電圧電極121a~121eに対応する複数の読出電極123a~123eの各々は、X線100から変換された電荷を電気信号として読み出す(S4)。
そして、DAS18は、X線検出器12の読出電極123によって読み出された電気信号を増幅した上で、デジタル信号へA/D変換する(S5)。
DAS18は、デジタル信号に変換された信号を、検出データとしてコンソール装置40へ転送する(S6)。ここで、このフローチャートの処理が終了する。このフローチャートでは、コンソール装置40で実行される検出データの前処理、および再構成処理等については図示を省略する。
このように、本実施形態のX線検出器12は、入射するX線100のコーン角方向に配列される複数の読出電極123と、複数の読出電極123よりもX線100の入射側に位置し、複数の読出電極123と対向する複数の高電圧電極121と、複数の読出電極123と読出電極123との間にコーン角に基づく向きの電界を形成させる電位制御装置120を備える。このため、本実施形態のX線検出器12によれば、同じ位置から入射したX線100がバラバラの読出電極123から読み出されることを低減することにより、X線検出器12のコーン角方向の空間分解能の低下を軽減することができる。
より詳細には、本実施形態のX線検出器12によれば、同じ位置から入射したX線100は同じ読出電極123方読み出されるため、読出電極123から読み出された検出データに基づく投影データが再構成される際に、再構成理論における入射位置と実際の入射位置を一致させることができるため、再構成後のCT画像データのコーン角方向の空間分解能の低下を軽減することができる。
コーン角方向の空間分解能の低下を軽減する他の方法として、検出モジュールをさらに小モジュールの配列とし、各小モジュール単位で面をX線入射方向に向ける、という比較例がある。この場合、コーン角方向に応じた向きに各小モジュールを向かせることができる。しかしながら、当該構造をとることで小モジュールの構造体起因の散乱線が発生するなどして、画質を悪化させる可能性があった。これに対して、本実施形態のX線検出器12によれば、同一面内にX線検出器12を構成しつつ、X線の斜入対策ができるため、比較例と比べて、散乱線起因の空間分解能の悪化を低減することができる。
また、本実施形態のX線検出器12の電位制御装置120は、コーン角方向に沿った位置ごとに、複数の高電圧電極121a~121eに異なる電圧を印加することで、コーン角に基づいた向きの電界を発生させる。このため、本実施形態のX線検出器12によれば、複数の高電圧電極121a~121eの電位の分布を調整し、複数の高電圧電極121a~121eと複数の高電圧電極121a~121eとの間の電界の向きをコーン角に応じて変更させることができる。
また、本実施形態のX線検出器12によって実行される方法は、電位制御装置120により、X線検出器12に含まれる複数の高電圧電極121a~121eのうち、コーン角方向の中央から離れるほど電位が高くなるように、複数の高電圧電極121a~121eの各々の電位を制御する電位制御ステップと、X線100のコーン角方向に配列された複数の高電圧電極121a~121eに対応する複数の読出電極123a~123eの各々がX線100から変換された電荷を読み出す読み出しステップとを含む。このため、本実施形態のX線検出器12によれば、複数の読出電極123a~123eの各々が、対応する高電圧電極121a~121eの位置で入射したX線100から変換された電荷を読み出すことにより、各読出電極123a~123eから読み出された電荷がコーン角方向のどの位置から入射したX線100に基づくものであるかを容易に特定可能となる。
なお、本実施形態においては、電位制御装置120がX線検出器12に含まれる複数の高電圧電極121の各々の電位を制御するものとしたが、制御主体はこれに限定されるものではない。例えば、X線高電圧装置14、制御装置15、またはコンソール装置40の処理回路44が、複数の高電圧電極121の各々の電位を制御してもよい。例えば、処理回路44のシステム制御機能441が複数の高電圧電極121の各々の電位を制御する機能を備えてもよい。
なお、複数の高電圧電極121a~121eの電位の分布の調整方法は、電位制御装置120による電圧の制御に限定されるものではない。例えば、複数の高電圧電極121a~121eごとに、異なる値の抵抗が設けられてもよい。この場合は、電位制御装置120は、複数の高電圧電極121a~121eに対して個別の制御をしなくともよい。例えば、電位制御装置120は、単に高電圧電極121a~121eに一律の電圧を印加する。あるいは、X線検出器12は、電位制御装置120を備えず、電源装置が高電圧電極121a~121eに一律の電圧を印加してもよい。当該構成を備える場合には、電位制御装置120または電源装置と、複数の高電圧電極121a~121eごとに設けられた抵抗とが、電界形成部の一例となる。
(第2の実施形態)
上述の第1の実施形態では、X線検出器12は、検出モジュール124ごとに、複数の高電圧電極121a~121eを備えていていた。これに対して、この第2の実施形態では、半導体素子122の表面に位置する高電圧電極とは異なる第2電極を備えることで、電界の向きをコーン角に沿った向きに調整する。
上述の第1の実施形態では、X線検出器12は、検出モジュール124ごとに、複数の高電圧電極121a~121eを備えていていた。これに対して、この第2の実施形態では、半導体素子122の表面に位置する高電圧電極とは異なる第2電極を備えることで、電界の向きをコーン角に沿った向きに調整する。
図6は、第2の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図6に示すように、本実施形態のX線検出器12は、1つの検出モジュール124あたり、1つの高電圧電極1121と、1つの半導体素子122と、複数の読出電極123a~123eと、1つの第2電極125とを備える。X線検出器12は、ファン角方向に複数の検出モジュール50を備える。なお、1つの検出モジュール124に含まれる読出電極123a~123eおよびの第2電極125の数は、図6に示す例に限定されるものではない。なお、第2電極125と区別する場合に、高電圧電極1121を第1電極と称してもよい。
本実施形態においては、高電圧電極1121は、各検出モジュール124に1つ含まれる。このため、高電圧電極1121はコーン角方向に均一な負の電位を有する。本実施形態において、電位制御装置120は、単に高電圧電極1121に規定の電圧を印加する。あるいは、X線検出器12は、電位制御装置120を備えず、電源装置が高電圧電極1121に規定の電圧を印加してもよい。
第2電極125は、負の電位を有する電極であり、X線100のコーン角方向の少なくとも一部の領域において、X線100の入射方向に高電圧電極1121と重なる位置に設けられる。第2電極125の電位の値は特に限定されるものではないが、高電圧電極1121の電位よりも低いものとする。高電圧電極1121および第2電極125は、本実施形態におけるカソード電極の一例である。
また、本実施形態において、高電圧電極1121と第2電極125とが重なる一部領域は、図6に示すように、コーン角方向の中央付近の領域とする。このため、図6のグラフに示すように、コーン角方向の中央付近のカソード電極の電位が、コーン角方向の両端部の電位よりも低くなっている。
このため、本実施形態においても、コーン角方向の電位差により、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、両端部に向かって広がるように傾きを有する状態となる。つまり、本実施形態においても、高電圧電極1121のうちの同じ箇所から入射したX線100は、半導体素子122のどの深度方向の位置で吸収されたかに関わらず、同じ読出電極123によって読み出される。
このように、本実施形態のX線検出器12によれば、コーン角方向の少なくとも一部の領域に、X線100の入射方向に複数のカソード電極を備えることにより、第1の実施形態と同様の効果を奏することができる。また、本実施形態のX線検出器12では、検出モジュール124ごとに複数の高電圧電極を備えなくともよいため、部品点数が増加することを低減することができる。
(第2の実施形態の変形例)
また、高電圧電極1121と第2電極125とが重なる一部の領域は、コーン角方向の両端部であってもよい。この場合、第2電極125は、例えば正の電位を有する。第2電極125により、コーン角方向の両端部における電位が中央に対して相対的に高くなるため、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、両端部に向かって広がるように傾きを有する状態となる。
また、高電圧電極1121と第2電極125とが重なる一部の領域は、コーン角方向の両端部であってもよい。この場合、第2電極125は、例えば正の電位を有する。第2電極125により、コーン角方向の両端部における電位が中央に対して相対的に高くなるため、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、両端部に向かって広がるように傾きを有する状態となる。
また、第2電極125の数は、1つまたは2つに限定されるものではなく、3つ以上であってもよい。
(第3の実施形態)
上述の第2の実施形態では、高電圧電極1121に重ねて第2電極125が設けられていた。これに対して、この第3の実施形態では、X線検出器12は、高電圧電極1121と重ならない位置に、他の電極を備える。
上述の第2の実施形態では、高電圧電極1121に重ねて第2電極125が設けられていた。これに対して、この第3の実施形態では、X線検出器12は、高電圧電極1121と重ならない位置に、他の電極を備える。
図7は、第3の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図7に示すように、本実施形態のX線検出器12は、1つの検出モジュール124あたり、1つの高電圧電極1121と、1つの半導体素子122と、複数の読出電極123a~123eと、1つの第3電極126と、1つの第4電極127とを備える。X線検出器12は、ファン角方向に複数の検出モジュール50を備える。
なお、1つの検出モジュール124に含まれる読出電極123a~123eの数は、図6に示す例に限定されるものではない。また、図2では、X線検出器12は、第3電極126および第4電極127という2つの追加電極を有するが、追加電極の数は、2つに限定されるものではない。例えば、追加電極の数は1以上であるものとする。
第3電極126および第4電極127は、コーン角方向において高電圧電極1121および読出電極123a~123eと重ならない位置に設けられる。
第3電極126および第4電極127は、正の電位を有する。このため、図7のグラフに示すように、コーン角方向の中央付近の高電圧電極1121、第3電極126、および第4電極127側の電位が、コーン角方向の両端部の電位よりも低くなっている。このため、高電圧電極1121と読出電極123a~123eとの間の電界の向きが、両端部に引っ張られるように傾く。
このような構成により、本実施形態においても、コーン角方向の電位差により、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、両端部に向かって広がるように傾きを有する状態となる。
このように、本実施形態のX線検出器12によれば、コーン角方向において高電圧電極1121および読出電極123a~123eと重ならない位置に第3電極126および第4電極127を備えることにより、第1の実施形態と同様の効果を奏することができる。また、本実施形態のX線検出器12においても、検出モジュール124ごとに複数の高電圧電極を備えなくともよいため、部品点数が増加することを低減することができる。
(第4の実施形態)
上述の第2、第3の実施形態では、X線検出器12は、半導体素子122の表面に位置する高電圧電極1121とは異なる第2電極125、第3電極126、または第4電極127を備えていたが、この第4の実施形態では、高電圧電極1121と半導体素子122との間に、誘電体を設けることにより、電界の向きを調整する。
上述の第2、第3の実施形態では、X線検出器12は、半導体素子122の表面に位置する高電圧電極1121とは異なる第2電極125、第3電極126、または第4電極127を備えていたが、この第4の実施形態では、高電圧電極1121と半導体素子122との間に、誘電体を設けることにより、電界の向きを調整する。
図8は、第4の実施形態に係るX線検出器12の構成の一例を示す図である。図8に示すように、本実施形態のX線検出器12は、1つの検出モジュール124あたり、1つの高電圧電極1121と、1つの半導体素子122と、複数の読出電極123a~123eと、1つの誘電体128とを備える。X線検出器12は、ファン角方向に複数の検出モジュール50を備える。
誘電体128は、X線検出器12のコーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状をしている。図8に示す例では、誘電体128は、X線検出器12のコーン角方向の中央を中心とし、端部に向けて対称に厚くなる楔型の凹部を有する。誘電体128は、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の抵抗となるため、誘電体128が厚い個所ほど、相対的に電界が弱まる。このため、X線検出器12のコーン角方向の中央では高電圧電極1121から複数の読出電極123cに向けて直行する電荷が、コーン角方向の端部に近づくほど、中央から離れる方向に斜めに移動することとなる。換言すれば、誘電体128は、電界をコーン角に基づく向きに変形させる。本実施形態において、電位制御装置120は、単に高電圧電極1121に規定の電圧を印加する。あるいは、X線検出器12は、電位制御装置120を備えず、電源装置が高電圧電極1121に規定の電圧を印加してもよい。電位制御装置120または電源装置と、誘電体128とは、本実施形態における電界形成部の一例である。あるいは、電界の形成は電界の変形を含むものとし、誘電体128単体を、本実施形態における電界形成部の一例としてもよい。
このような構成により、本実施形態においても、高電圧電極1121と複数の読出電極123a~123eとの間の電界の向きは、X線100のコーン角と同様に、両端部に向かって広がるように傾きを有する状態となる。
このように、本実施形態のX線検出器12によれば、高電圧電極1121と半導体素子122との間にコーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状の誘電体128を備えるため、第1の実施形態と同様の効果を奏することができる。
また、本実施形態のX線検出器12では、複数の高電圧電極121a~121e、第2電極125、第3電極126、または第4電極127等を備えなくともよいため、高電圧供給系を単一系統とすることができ、部品点数の削減および制御の簡素化に寄与することができる。
なお、誘電体128の形状は、図8に示す例に限定されるものではない。図9は、第4の実施形態に係るX線検出器12の構成の他の一例を示す図である。図9に示すように、誘電体1128は、両表面が双曲線状に窪んだ凹レンズのような形状をしていてもよい。この場合も、誘電体1128は、コーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状とする。
(第1~第4の実施形態の変形例1)
なお、上述の各実施形態においては、直接変換型X線検出器の一例としてX線CT装置1に備えられるX線検出器12を挙げたが、直接変換型X線検出器はこれに限定されるものではない。例えば、FPD(Flat Panel Detector)を直接変換型X線検出器の一例としてもよい。
なお、上述の各実施形態においては、直接変換型X線検出器の一例としてX線CT装置1に備えられるX線検出器12を挙げたが、直接変換型X線検出器はこれに限定されるものではない。例えば、FPD(Flat Panel Detector)を直接変換型X線検出器の一例としてもよい。
(第1~第4の実施形態の変形例2)
また、上述の各実施形態における図2、図6~図9では、高電圧電極121a~121e,1121を上方、読出電極123a~123eを下方に図示していたが、高電圧電極121a~121e,1121と読出電極123a~123eとの位置関係はこれに限定されるものではない。例えば、読出電極が上方、高電圧電極が下方に位置してもよい。
また、上述の各実施形態における図2、図6~図9では、高電圧電極121a~121e,1121を上方、読出電極123a~123eを下方に図示していたが、高電圧電極121a~121e,1121と読出電極123a~123eとの位置関係はこれに限定されるものではない。例えば、読出電極が上方、高電圧電極が下方に位置してもよい。
なお、本明細書において扱う各種データは、典型的にはデジタルデータである。
以上説明した少なくとも1つの実施形態によれば、直接変換型X線検出器のコーン角方向の空間分解能の低下を軽減することができる。
いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、実施形態同士の組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
以上の実施形態に関し、発明の一側面および選択的な特徴として以下の付記を開示する。
(付記1)
入射するX線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、
を備える、直接変換型X線検出器。
入射するX線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、
を備える、直接変換型X線検出器。
(付記2)
前記直接変換型X線検出器の前記電界形成部は、前記コーン角方向に沿った位置ごとに異なる電圧を印加することで前記コーン角に基づいた向きの電界を発生させてもよい。
前記直接変換型X線検出器の前記電界形成部は、前記コーン角方向に沿った位置ごとに異なる電圧を印加することで前記コーン角に基づいた向きの電界を発生させてもよい。
(付記3)
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向に沿って配列される複数の前記カソード電極を備える。
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向に沿って配列される複数の前記カソード電極を備える。
(付記4)
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向の少なくとも一部の領域において、前記X線の入射方向に複数のカソード電極を備える。
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向の少なくとも一部の領域において、前記X線の入射方向に複数のカソード電極を備える。
(付記5)
前記直接変換型X線検出器において、前記一部の領域は、前記コーン角方向の中央付近の領域、または、前記コーン角方向の両端部である。
前記直接変換型X線検出器において、前記一部の領域は、前記コーン角方向の中央付近の領域、または、前記コーン角方向の両端部である。
(付記6)
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向において前記カソード電極および前記複数のアノード電極と重ならない位置に1以上の他の電極を設ける。
前記直接変換型X線検出器は、前記コーン角方向において前記カソード電極および前記複数のアノード電極と重ならない位置に1以上の他の電極を設ける。
(付記7)
前記直接変換型X線検出器は、前記カソード電極と前記複数のアノード電極との間に、入射したX線を電荷に変換する半導体素子をさらに備え、
前記電界形成部は、前記カソード電極と前記半導体素子との間に位置する、前記コーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状の誘電体である。
前記直接変換型X線検出器は、前記カソード電極と前記複数のアノード電極との間に、入射したX線を電荷に変換する半導体素子をさらに備え、
前記電界形成部は、前記カソード電極と前記半導体素子との間に位置する、前記コーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状の誘電体である。
(付記8)
直接変換型X線検出器に含まれるX線のコーン角方向に配列された複数のカソード電極のうち、前記コーン角方向の中央から離れるほど電位が高くなるように、前記複数のカソード電極の各々の電位を制御する電位制御ステップと、
前記X線のコーン角方向に配列された、前記複数のカソード電極に対応する複数のアノード電極の各々が、前記X線から変換された電荷を読み出す読み出しステップと、
を含む方法。
直接変換型X線検出器に含まれるX線のコーン角方向に配列された複数のカソード電極のうち、前記コーン角方向の中央から離れるほど電位が高くなるように、前記複数のカソード電極の各々の電位を制御する電位制御ステップと、
前記X線のコーン角方向に配列された、前記複数のカソード電極に対応する複数のアノード電極の各々が、前記X線から変換された電荷を読み出す読み出しステップと、
を含む方法。
(付記9)
X線を発生させるX線発生部と、
直接変換型X線検出器と、を備え、
前記直接変換型X線検出器は、
入射する前記X線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、を備える、
X線コンピュータ断層撮影装置。
X線を発生させるX線発生部と、
直接変換型X線検出器と、を備え、
前記直接変換型X線検出器は、
入射する前記X線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、を備える、
X線コンピュータ断層撮影装置。
1 X線CT装置
11 X線管
12 X線検出器
18 DAS
40 コンソール装置
41 メモリ
42 ディスプレイ
43 入力インターフェース
44 処理回路
100 X線
120 電位制御装置
121,121a~121g,1121 高電圧電極
122 半導体素子
123,123a~123g 読出電極
124 検出モジュール
125 第2電極
126 第3電極
127 第4電極
128,1128 誘電体
441 システム制御機能
442 前処理機能
443 再構成処理機能
444 スキャン制御機能
445 画像処理機能
446 表示制御機能
P 被検体
11 X線管
12 X線検出器
18 DAS
40 コンソール装置
41 メモリ
42 ディスプレイ
43 入力インターフェース
44 処理回路
100 X線
120 電位制御装置
121,121a~121g,1121 高電圧電極
122 半導体素子
123,123a~123g 読出電極
124 検出モジュール
125 第2電極
126 第3電極
127 第4電極
128,1128 誘電体
441 システム制御機能
442 前処理機能
443 再構成処理機能
444 スキャン制御機能
445 画像処理機能
446 表示制御機能
P 被検体
Claims (9)
- 入射するX線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、
を備える、直接変換型X線検出器。 - 前記電界形成部は、前記コーン角方向に沿った位置ごとに異なる電圧を印加することで前記コーン角に基づいた向きの電界を発生させる、
請求項1に記載の直接変換型X線検出器。 - 前記コーン角方向に沿って配列される複数の前記カソード電極を備える、
請求項2に記載の直接変換型X線検出器。 - 前記コーン角方向の少なくとも一部の領域において、前記X線の入射方向に複数のカソード電極を備える、
請求項2に記載の直接変換型X線検出器。 - 前記一部の領域は、前記コーン角方向の中央付近の領域、または、前記コーン角方向の両端部である、
請求項4に記載の直接変換型X線検出器。 - 前記コーン角方向において前記カソード電極および前記複数のアノード電極と重ならない位置に1以上の他の電極を設ける、
請求項1に記載の直接変換型X線検出器。 - 前記カソード電極と前記複数のアノード電極との間に、入射したX線を電荷に変換する半導体素子をさらに備え、
前記電界形成部は、前記カソード電極と前記半導体素子との間に位置する、前記コーン角方向の中央から離れるほど厚くなる形状の誘電体である、
請求項1に記載の直接変換型X線検出器。 - 直接変換型X線検出器に含まれるX線のコーン角方向に配列された複数のカソード電極のうち、前記コーン角方向の中央から離れるほど電位が高くなるように、前記複数のカソード電極の各々の電位を制御する電位制御ステップと、
前記X線のコーン角方向に配列された、前記複数のカソード電極に対応する複数のアノード電極の各々が、前記X線から変換された電荷を読み出す読み出しステップと、
を含む方法。 - X線を発生させるX線発生部と、
直接変換型X線検出器と、を備え、
前記直接変換型X線検出器は、
入射する前記X線のコーン角方向に配列される複数のアノード電極と、
前記複数のアノード電極よりもX線の入射側に位置し、前記複数のアノード電極と対向する少なくとも1つのカソード電極と、
前記複数のアノード電極と前記カソード電極との間に前記X線のコーン角に基づく向きの電界を形成させる電界形成部と、を備える、
X線コンピュータ断層撮影装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021188178A JP2023074957A (ja) | 2021-11-18 | 2021-11-18 | 直接変換型x線検出器、x線検出方法、およびx線コンピュータ断層撮影装置 |
US18/055,544 US20230148976A1 (en) | 2021-11-18 | 2022-11-15 | Direct-conversion x-ray detector, method of detecting x-ray, and x-ray computed-tomography apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021188178A JP2023074957A (ja) | 2021-11-18 | 2021-11-18 | 直接変換型x線検出器、x線検出方法、およびx線コンピュータ断層撮影装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023074957A true JP2023074957A (ja) | 2023-05-30 |
Family
ID=86324739
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2021188178A Pending JP2023074957A (ja) | 2021-11-18 | 2021-11-18 | 直接変換型x線検出器、x線検出方法、およびx線コンピュータ断層撮影装置 |
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Country | Link |
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US (1) | US20230148976A1 (ja) |
JP (1) | JP2023074957A (ja) |
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2021
- 2021-11-18 JP JP2021188178A patent/JP2023074957A/ja active Pending
-
2022
- 2022-11-15 US US18/055,544 patent/US20230148976A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US20230148976A1 (en) | 2023-05-18 |
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