JP2023062250A - 多面鏡 - Google Patents

Abstract

【課題】高スループットで形成することができる高品質な多面鏡を提供する。【解決手段】本発明に係る多面鏡５は、光束を反射する複数の反射面５ａと、複数の反射面５ａの夫々を含む平面に対して互いに反対側に配置される第１及び第２の面５ｕ及び５ｄと、第１の面５ｕに形成された凸部５ｐ及び第２の面５ｄに形成された凹部５ｒとを有し、第１の面５ｕから凸部５ｐの頂部までの距離は、第２の面５ｄから凹部５ｒの底部までの距離よりも大きいことを特徴とする。【選択図】 図４

Description

本発明は、多面鏡に関し、レーザービームプリンタ、デジタル複写機やマルチファンクションプリンタ等の画像形成装置に搭載される光走査装置に好適なものである。

従来、光走査装置に用いられる多面鏡の製造において高スループット化及び低コスト化を達成するために、一度に多数の樹脂製の多面鏡それぞれの反射面に対して成膜を行うことが求められている。
その際に、多数の多面鏡それぞれの反射面を互いに整列させながら配置することで、それぞれの反射面に対する成膜の均一度が向上することによって高品質化された多面鏡を得ることができる。

特許文献１は、反射面に直交する上面及び下面の一方に突起、他方に穴を設け、隣接する多面鏡の一方の当該突起を他方の当該穴に差し込むことで、容易にそれぞれの反射面を互いに整列させながら一度に多数の多面鏡に対して成膜を行うことができる技術を開示している。

特開平５－３２３２２４号公報

上記に加えて、多面鏡の反射面に形成された膜の密着強度を十分に確保するように成膜を行うことで、多面鏡における更なる高品質化が求められている。
そして、多面鏡の反射面に十分な密着強度が確保された膜を形成するための一つの方法として、反射面だけでなく反射面に直交する上面や下面において一部が回り込むように成膜を行う方法が知られている。

しかしながら特許文献１に開示されている技術では、突起が穴内に完全に挿入されることによって隣接する多面鏡それぞれの上面及び下面が互いに接触しているため、反射面に直交する上面や下面において一部が回り込むように成膜を行うことは非常に困難である。
そこで本発明は、高スループットで形成することができる高品質な多面鏡を提供することを目的とする。

本発明に係る多面鏡は、光束を反射する複数の反射面と、複数の反射面の夫々を含む平面に対して互いに反対側に配置される第１及び第２の面と、第１の面に形成された凸部及び第２の面に形成された凹部とを有し、第１の面から凸部の頂部までの距離は、第２の面から凹部の底部までの距離よりも大きいことを特徴とする。

本発明によれば、高スループットで形成することができる高品質な多面鏡を提供することができる。

第一実施形態に係るポリゴンミラーを備える光走査装置の主走査断面図。 第一実施形態に係るポリゴンミラーに対して成膜を行うための真空蒸着装置の断面図、一部拡大断面図及び一部拡大上面図。 第一実施形態に係るポリゴンミラーが取り付けられた偏向装置の断面図。 第一実施形態に係るポリゴンミラーの斜視図。 実施形態に係る画像形成装置の要部副走査断面図。 従来の光走査装置の主走査断面図。

以下に、本実施形態に係る多面鏡（ポリゴンミラー）を添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお以下に示す図面は、本実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。

レーザービームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に用いられる光走査装置では、光源から射出された光束が入射光学系によって偏向器に導光される。
そして、偏向器によって偏向走査された光束は、結像光学系によって被走査面の位置に配置された感光ドラム面上にスポット状に集光されることで、当該光束によって感光ドラム面上が光走査される。

そのような光走査装置では、光源から出射した光束がコリメータレンズ等によって略平行光束に変換された後、シリンドリカルレンズによって偏向器の偏向面近傍に集光されることで線像が形成される。
そして偏向器の偏向面によって偏向された光束は、走査レンズによって感光ドラム面上においてスポットを形成するように集光され、例えば偏向器が回転することで感光ドラム面上が略等速走査される。

図６は、従来の光走査装置９００の模式的主走査断面図を示している。
光走査装置９００において、光源９０１は、例えば半導体レーザーより構成されており、コリメータレンズ９０２は、光源９０１から射出された発散光束を略平行光束に変換する。
シリンドリカルレンズ９０３は、副走査断面内においてのみ所定の屈折力を有しており、コリメータレンズ９０２を通過した光束を副走査断面内において集光することで、偏向器９０５の偏向面（偏向反射面）９０５ａに略線像が形成される。

絞り９０４は、例えばスリット部材であり、シリンドリカルレンズ９０３を通過した光束の光束径を制限する。
偏向器９０５は、例えば複数の偏向面９０５ａを有するポリゴンミラー（回転多面鏡）によって構成されており、モーター等の不図示の駆動手段によって図中矢印Ｒ方向に回転する。

ｆθレンズ群９０６は、主に主走査断面内において屈折力を有する第一レンズ群９０６ａと、主に副走査断面内において屈折力を有する第二レンズ群９０６ｂとによって構成されている。
そしてｆθレンズ群９０６は、偏向器９０５によって偏向された光束を被走査面９０７上に導光することで、被走査面９０７上にスポットが形成される。
また、ｆθレンズ群９０６によって副走査断面内において偏向面９０５ａと被走査面９０７とが互いに略共役関係に設定されており、偏向面９０５ａの倒れによる結像位置ずれが低減される、すなわち面倒れ補正光学系が構成されている。

また、偏向器９０５によって所定の方向に偏向された後、第一レンズ群９０６ａを通過した光束は、ミラー９０８によって同期検出センサー９１０へ向かうように反射される。
そして、同期検出結像レンズ９０９が、ミラー９０８によって反射された光束を同期検出センサー９１０上に集光する。

偏向器に用いられる樹脂製のポリゴンミラーにおいては、反射面に成膜を行うことで高品質化を達成すると共に、成膜装置において一度に多数のポリゴンミラーに対して成膜を行うことで高スループット化を達成することが求められる。
そしてそのような高品質化を達成するためには、成膜装置における各ポリゴンミラーの間の位相合わせ、すなわちそれぞれの反射面の整列を容易に行うことができることが求められる。

特許文献１に開示されている技術では、ポリゴンミラーの反射面に直交する上面及び下面それぞれに凹凸形状を形成し、複数のポリゴンミラーの間で当該凹凸形状を互いに嵌合させて位相合わせを行うことで高品質化を図っている。
しかしながら、特許文献１に開示されている技術では上面及び下面それぞれに凹凸形状を設けているため、偏向装置においてモーター等に接触する部分であるポリゴンミラーの基準面の平面度を向上させることが困難であるという課題が発生する。
すなわち、そのような基準面の高精度化と位相合わせにおける作業性の向上とを両立することでポリゴンミラーにおける更なる高品質化が求められる。

また、成膜装置内に多数のポリゴンミラーを配置する際に、各反射面に対する膜の密着強度を確保しつつ複数の反射面の間の反射率差や各反射面内における反射率の分布を低減することが求められる。
そのために、各ポリゴンミラーの間で位相を合わせると共に、以下に詳細に示すように、隣接するポリゴンミラーを互いに離間させて配置する課題が生じる。
加えて、ポリゴンミラーを射出成形で形成する際に、基準面を形成するための型の平面度を向上させ、基準面の周辺部分を形成する型の部品点数を削減すると共に、特に樹脂流動性が変化する凸形状を基準面には設けないようにするという課題が生じる。

本願発明者は、以下に詳細に示すように、上記の課題を解決することで、量産性が高く、安価且つ高品質なポリゴンミラーを作成するための方法を見出した。
すなわち本実施形態によって、基準面を高精度に形成し成膜コストを低減することが可能であると共に、安価且つ高精細な光走査装置用のポリゴンミラーを提供することができる。

図１は、第一実施形態に係るポリゴンミラー５を備える光走査装置１００の模式的主走査断面図を示している。

光走査装置１００は、光源１、絞り２、アナモフィックコリメータレンズ３、偏向器５及び走査レンズ６を備えている。また光走査装置１００は、不図示のミラーを備えている。

光源１は、４１の発光点を有する半導体レーザーから構成されている。
絞り２は、楕円形状の開口部を有する開口絞りであり、光源１から出射した光束の主走査方向及び副走査方向の光束幅を規制する。

アナモフィックコリメータレンズ３は、絞り２を通過した光束を主走査方向においては弱収束光束、副走査方向においては収束光束になるように変換している。
すなわちアナモフィックコリメータレンズ３は、主走査断面と副走査断面とで互いに屈折力が異なるアナモフィックレンズで構成されている。
またアナモフィックコリメータレンズ３は、プラスティックモールドで形成されている。

以上のように、光走査装置１００では、絞り２及びアナモフィックコリメータレンズ３によって入射光学系７５が構成される。

偏向器５は、外接円直径が２０ｍｍであると共に四つの反射面５ａを有するポリゴンミラーであり、光走査装置１００において不図示のモーター等の駆動手段によって矢印Ｒ方向に一定速度で回転することで、入射光学系７５を通過した光束を偏向走査する。

走査レンズ６は、略ｆθ特性を有するｆθレンズであり、偏向器５によって偏向された光束を被走査面７上に導光することで、被走査面７の画像領域にスポットが形成される。
なお走査レンズ６は、副走査断面内において偏向器５の偏向面（反射面）５ａ又はその近傍と、被走査面７又はその近傍との間を略共役関係にしており、これにより、偏向器５の偏向面５ａの倒れ補正を行っている。
また光走査装置１００では、走査レンズ６によって結像光学系８５が構成される。

以上の構成により、光走査装置１００では、画像情報に応じて光源１より光変調されて出射した光束が絞り２を通過する際に、絞り２の開口部によって主走査方向及び副走査方向における光束幅が制限される。
そして絞り２を通過した光束は、アナモフィックコリメータレンズ３によって主走査断面及び副走査断面で互いに異なる収束度を有する光束に変換され、偏向器５の偏向面５ａにおいて略焦線の像（主走査方向に長い線像）が形成されるように、集光される。

偏向器５の偏向面５ａによって反射偏向された光束は、走査レンズ６によって被走査面７上にスポット状に集光され、偏向器５を矢印Ｒ方向に回転させることで被走査面７上が主走査方向に略等速度で光走査される。
これにより、被走査面７の位置に配置されている記録媒体としての感光ドラム面上に画像記録が行われる。

なお被走査面７上を光走査する際には、被走査面７上における走査開始タイミングを決定する必要がある。
そのため光走査装置１００では、偏向器５によって所定の方向に反射偏向された光束を不図示のＢＤ（Ｂｅａｍ Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ：ビーム検知）レンズによって不図示のＢＤセンサー上に導光している。
そして、不図示の制御部がＢＤセンサーからの出力信号を検知することによって取得される同期信号（ＢＤ信号）を用いることで、被走査面７上の画像記録における走査開始のための光源１の発光点の発光タイミングを決定している。

次に、本実施形態に係るポリゴンミラー５の構成について説明する。
光走査装置１００の偏向器５として用いられる本実施形態に係るポリゴンミラー５は、プラスチック材料（具体的には、例えば日本ゼオン社製Ｋ２２Ｒ）を用いて射出成形によって作成される。
これにより、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａを高精度かつ安価に作成することができる。

また、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａにおける成膜については、真空蒸着を用いて行っている。これにより、多数のポリゴンミラー５に対して一度に同時に成膜を行うことができるため、ポリゴンミラー一個あたりの成膜加工費を削減することができる。
更に、市販の汎用蒸着装置を使用することができるため、投資も抑制することができる。

図２（ａ）及び（ｂ）は、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａに対して成膜を行うための真空蒸着装置３００の模式的断面図及び模式的一部拡大断面図を示している。

真空蒸着装置３００には、内部を真空状態に維持することができる成膜室３０１と、成膜室３０１を排気する真空ポンプ等から構成される排気系３０２とが設けられている。
そして成膜室３０１には、公転軸３０３を中心に公転駆動が可能な公転部品３０４が配置されており、駆動機構３０５によってギア３０６を介して公転部品３０４の公転駆動が行われる。

ポリゴンミラー５は、中心に形成されている孔を成膜室３０１に設けられている自転軸部品３０７が貫通するように複数積層されて配置される。
そして、そのように複数のポリゴンミラー５が配置された自転軸部品３０７が、公転部品３０４に対して角度Ｓθをなすように傾けて設置され、不図示の駆動機構によって自転軸部品３０７の自転駆動が行われる。
このように、公転部品３０４が公転駆動すると共に自転軸部品３０７が自転駆動することによって、ポリゴンミラー５が自公転駆動した状態で反射面５ａに対して成膜が行われる。

また真空蒸着装置３００には、ライナー３０８、イオン銃３０９及び水晶膜厚センサー３１０が設けられている。
更に成膜室３０１には、酸素ガスを導入するための不図示のアルゴン導入ライン及び酸素導入ラインが設けられている。
そしてライナー３０８は、公転軸３０３から距離ＯＦＳだけ離間すると共に、ポリゴンミラー５から高さＳＬだけ離間した位置に配置される。

また図２（ｂ）に示されているように、複数のポリゴンミラー５が、自転軸部品３０７の軸方向に沿って複数の反射面５ａに垂直な上面５ｕが上方を向くように、すなわち自転軸部品３０７の軸方向と上面５ｕに垂直なＺ方向とが互いに平行になるように配置されている。
加えて、隣接するポリゴンミラー５は、互いに対して隙間Ｌだけ離間するように配置される。
そして複数のポリゴンミラー５は、自転軸部品３０７の軸方向に沿って、互いに位相を揃える、すなわちそれぞれの所定の反射面５ａが互いに略平行になるように配置される。

本実施形態に係るポリゴンミラー５の製造方法は、以下に詳細に示すような構成を有する基板を複数形成するステップと、形成された複数の基板を真空蒸着装置３００において上記のように配置するステップと、真空蒸着装置３００において配置された複数の基板それぞれに対して成膜を行うステップとを含む。

次に、真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５の反射面５ａに対して成膜を行う際に、上記のように隣接するポリゴンミラー５を互いに対して隙間Ｌだけ離間するように配置する理由について説明する。

図３は、本実施形態に係るポリゴンミラー５が取り付けられる偏向装置５００の断面図を示している。

偏向装置５００は、ポリゴンミラー５、回転軸５０４、ロータ５０５、ステータ５０６、基板５０７、軸受装置５０８及び押さえばね５０９を備えている。
回転軸５０４は、ロータ５０５に一体的に結合されていると共に、ポリゴンミラー５の中心孔５１２を貫通して延在している。
また、基板５０７及び軸受装置５０８は、互いに一体的に結合されている。

また、押さえばね５０９はポリゴンミラー５を固定する弾性部材として機能し、ロータ５０５及びステータ５０６によって駆動モーター５１６（駆動部）が構成される。
そして、ステータ５０６に電流が供給されることによって駆動モーター５１６が駆動することで、ロータ５０５の回転に伴ってポリゴンミラー５が回転する。

図３に示されているように、多層膜５１１は、ポリゴンミラー５の反射面５ａ上に加えて、一部が上面５ｕ及び下面５ｄに回り込むように形成されている。
上記のように、ポリゴンミラー５は押さえばね５０９によって下方（－Ｚ方向）に押圧されることによってロータ５０５を下方に押圧するように固定されている。

そのため、本実施形態に係るポリゴンミラー５では、多層膜５１１の一部を上面５ｕ及び下面５ｄに回り込むように形成することで、ポリゴンミラー５に印加されている下方への押圧力による変形を抑制させている。
すなわち、上面５ｕにおける多層膜５１１の回り込み量に対応する径方向幅（Ｚ方向に垂直な面内における幅）をＬ１、下面５ｄにおける多層膜５１１の径方向幅をＬ２としたとき、Ｌ１＞Ｌ２の関係を満たすように多層膜５１１を形成する。

形成された多層膜５１１は圧縮応力を有するため、上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれにおいて、反射面５ａから中心孔５１２へと向かう力が印加され、圧縮応力によって印加される当該力は、多層膜５１１が形成されている領域が広いほど大きくなる。

そのため、Ｌ１＞Ｌ２の関係を満足するように多層膜５１１を形成することで、下面５ｄに印加される当該力よりも上面５ｕに印加される当該力の方を大きくすることができる。
これにより、ポリゴンミラー５において多層膜５１１の形成に伴って上方（＋Ｚ方向）への圧縮応力を発生させることで、ポリゴンミラー５の反射面５ａの変形を抑制することができる。
そして、そのように一部が上面５ｕ及び下面５ｄに回り込むように多層膜５１１を形成するために、真空蒸着装置３００において隣接するポリゴンミラー５を互いに対して隙間Ｌだけ離間するように配置している。

また、真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５の反射面５ａに対して成膜を行う際に、上記のように複数のポリゴンミラー５を互いに位相を揃える、すなわちそれぞれの所定の反射面５ａが互いに略平行になるように配置する理由について説明する。

従来、安価な加工方法を用いて成膜が行われたポリゴンミラーの反射面における環境耐久性の向上と光量分布の均一性の向上との両立は、困難であった。
そこで本願発明者は、鋭意検討を行い、成膜時における斜入射成分を抑制するように成膜方法を工夫することで、環境耐久性が高い反射面を有する高品質なポリゴンミラーの加工方法及び当該反射面に形成される多層膜の構成を見出した。

図２（ｃ）は、真空蒸着装置３００において自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置された複数のポリゴンミラー５をＺ方向から見た図を示している。

真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５を自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置する際には、隣接するポリゴンミラー５（第１の多面鏡、第２の多面鏡）それぞれの所定の反射面５ａの間の角度（位相）αが大きくずれていると、成膜時の斜入射成分が増大してしまう。
この場合、反射面５ａに形成される多層膜の膜密度が低下することにより環境耐久性が悪化するため好ましくない。

そこで、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａに成膜を行う際には、上記角度αが以下の条件式（１）を満たすように、真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５を自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置することが好ましい。
－１０°≦α≦１０° ・・・（１）

上記条件式（１）を満たす、すなわち複数のポリゴンミラー５を互いに位相を揃えながら配置することで、成膜時の斜入射成分が抑制され、環境耐久性が高い反射面５ａを有する高品質なポリゴンミラー５を形成することができる。

なお上記角度αは、以下の条件式（１ａ）を満たすことがより好ましく、以下の条件式（１ｂ）を満たすことが更により好ましく、以下の条件式（１ｃ）を満たすことが最も好ましい。
－５°≦α≦５° ・・・（１ａ）
－２°≦α≦２° ・・・（１ｂ）
α＝０° ・・・（１ｃ）

また本実施形態に係るポリゴンミラー５を加工する際には、反射面５ａにおける斜入射膜の形成を抑制することで環境耐久性を確保するために、成膜時における自転軸部品３０７の自転を断続的に行いながら、ポリゴンミラー５の反射面５ａに対して多層膜の成膜を行っている。

本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａに形成されている多層膜の膜構成及び中心における各層の物理膜厚を以下の表１に示す。
なお表１に示されている各層の物理膜厚とは、各層に成膜されている膜の厚さを示している。
また、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａに形成されている多層膜において、基板と第１層との間に光学性能には影響しない密着性向上のための下地層（密着層）として例えば低屈折率材料ＳｉＯ_２の層を設けてもよい。

表１に示されているように、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａでは、樹脂（日本ゼオン社製Ｋ２２Ｒ）で形成されている基板上において金属材料Ａｌで成膜された第１層、低屈折率材料ＳｉＯ_２で成膜された第２層、高屈折率材料Ｔａ_２Ｏ_５で成膜された第３層、低屈折率材料ＳｉＯ_２で成膜された第４層の順に積層されるように多層膜が形成されている。
しかしながら、本実施形態に係るポリゴンミラー５の反射面５ａに形成される多層膜の膜材料は、これに限定されるものではない。

そして反射面５ａにおいて多層膜の成膜を行う際には、成膜室３０１の圧力が１．３×１０^－２Ｐａまで減圧されるように排気系３０２によって排気を行った後、ライナー３０８によって上記の各材料を反射面５ａに蒸着する。
また成膜速度は、水晶膜厚センサー３１０によって制御され、具体的には金属材料Ａｌ、低屈折率材料ＳｉＯ_２及び高屈折率材料Ｔａ_２Ｏ_５それぞれにおいて２．５ｎｍ／ｓｅｃ、１．６ｎｍ／ｓｅｃ及び０．４ｎｍ／ｓｅｃに設定されている。
また低屈折率材料ＳｉＯ_２及び高屈折率材料Ｔａ_２Ｏ_５の成膜を行う際には、イオン銃３０９によってイオンアシストを行っている。

図４（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、本実施形態に係るポリゴンミラー５の斜視図、上面５ｕを上に向けたときの斜視図、及び下面５ｄを上に向けたときの斜視図を示している。

図４（ａ）乃至（ｃ）に示されているように、本実施形態に係るポリゴンミラー５は、四つの反射面５ａと、それぞれ反射面５ａに直交する（垂直な）上面５ｕ（第１の面）及び下面５ｄ（第２の面）とから構成されている。なおここで、上面５ｕ及び下面５ｄはそれぞれ反射面５ａに対して厳密に垂直である必要は無く、略垂直であっても構わない。
そして、上面５ｕには四つの凸部５ｐ（嵌合用凸部、位置決め部、整合部、嵌合部）が形成されていると共に、下面５ｄには四つの凹部５ｒ（嵌合用凹部、位置決め部、整合部、嵌合部）が形成されている。
ここで上面５ｕ及び下面５ｄはそれぞれ、複数の反射面５ａそれぞれの中心を含む断面に対して互いに反対側に配置されている。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、後述するように、凸部５ｐ及び凹部５ｒのうち、上面５ｕには凸部５ｐのみが形成されている一方で、下面５ｄには凹部５ｒのみが形成されていることが好ましい。
しかしながらこれに限らず、上面５ｕには凹部５ｒのみが形成されている一方で、下面５ｄには凸部５ｐのみが形成されていてもよく、上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれに凸部５ｐ及び凹部５ｒの双方が形成されていても構わない。

またポリゴンミラー５は、上面５ｕに樹脂が流れてくる部分、すなわちゲート部５ｇが形成されるように射出成形を行うことで形成され、本実施形態では、ゲートカットしたときのゲート残りが上面５ｕから飛び出さないようにゲート部５ｇを含む領域に凹部５ｇｒ（ゲート部用凹部）を形成している。
なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、ロータ５０５に接触する下面５ｄの部分（基準面）の面精度を維持するために、ゲート部５ｇ及び凹部５ｇｒを上面５ｕに形成することが好ましい。
また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、下面５ｄにおいて載置した際に傷等が形成されないように保護するための凸状の保護部５ｂも形成されている。

図２（ｄ）は、自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置されている複数の本実施形態に係るポリゴンミラー５の断面図を示している。

図４（ｂ）及び（ｃ）に示したように、本実施形態に係るポリゴンミラー５では、上面５ｕに四つの凸部５ｐが形成されていると共に、下面５ｄに四つの凹部５ｒが形成されている。
そして、複数のポリゴンミラー５それぞれの所定の反射面５ａを互いに略平行にしながら隣接するポリゴンミラー５を互いに接近させると、図２（ｄ）に示されているように、四つの凸部５ｐがそれぞれ四つの凹部５ｒと嵌合する。
すなわち、四つの凸部５ｐ及び四つの凹部５ｒはそれぞれ、嵌合させた際に複数のポリゴンミラー５それぞれの所定の反射面５ａが互いに略平行になるように、すなわち上記の条件式（１）が満たされるように形成されている。
換言すると、複数の本実施形態に係るポリゴンミラー５を自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置した際に、隣接するポリゴンミラー５において一方の回転に伴って他方が回転するように互いに嵌合する凸部５ｐ及び凹部５ｒが形成されている。

ここで、凸部５ｐの高さ（突出量）、すなわち凸部５ｐにおいて上面５ｕから最も離間している部分（頂部）と上面５ｕとの間の距離をＨ１、凹部５ｒの深さ、すなわち凹部５ｒにおいて下面５ｄから最も離間している部分（底部）と下面５ｄとの間の距離をＨ２とする。
そして、複数の本実施形態に係るポリゴンミラー５を自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置した際に、隣接するポリゴンミラー５の対向する一方の上面５ｕと他方の下面５ｄとの間の距離をＬとしたとき、以下の式（２）が満たされる。
Ｈ１－Ｈ２＝Ｌ ・・・（２）

そして本実施形態に係るポリゴンミラー５では、上記に示したように、一部が上面５ｕ及び下面５ｄに回り込むように反射面５ａ上に多層膜を形成することが求められている。
そのため、複数の本実施形態に係るポリゴンミラー５を自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置する際には、隣接するポリゴンミラー５の対向する一方の上面５ｕと他方の下面５ｄとの間の距離（間隔）Ｌ、すなわちＨ１－Ｈ２を正の値にすることが求められる。
換言すると、凸部５ｐの上面５ｕからの高さＨ１が凹部５ｒの下面５ｄに対する深さＨ２よりも大きいことが求められる。

そして本願発明者は、当該距離Ｌ［ｍｍ］が以下の条件式（３）を満たすことが好ましいことを見出している。
０．０５＜Ｌ＜２．００ ・・・（３）
すなわち本実施形態に係るポリゴンミラー５では、自転軸部品３０７の軸方向に沿って複数配置する際に、隣接するポリゴンミラー５において一方の上面５ｕと他方の下面５ｄとが対向しながら径方向端部において互いに離間するように、凸部５ｐ及び凹部５ｒが形成されている。

なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、以下の条件式（３ａ）が満たされていることがより好ましい。
０．０５＜Ｌ＜１．５０ ・・・（３ａ）
また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、以下の条件式（３ｂ）が満たされていることが更により好ましい。
０．０５＜Ｌ＜１．００ ・・・（３ｂ）

なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、距離Ｈ１及び距離Ｈ２はそれぞれ、０．５ｍｍ及び０．３ｍｍとなっており、従って距離Ｌは０．２ｍｍであることから、条件式（３）乃至（３ｂ）が満たされている。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、凸部５ｐ及び凹部５ｒをそれぞれ上面５ｕ及び下面５ｄの中心（回転中心）近傍に形成している。
これにより、ポリゴンミラー５を射出成形する際に上面５ｕ及び下面５ｄの径方向端部近傍を平面に形成することができるため、ポリゴンミラー５を形成するための型の強度を増大させると共に、上面５ｕ及び下面５ｄの面精度の向上や面の傾きの抑制を行うことができる。

具体的に本実施形態に係るポリゴンミラー５では、Ｚ方向に垂直な面内において上面５ｕの中心から最も離間している凸部５ｐの部分と上面５ｕの中心との間の距離をＳ１、上面５ｕの中心に最も近接している外縁部と中心との間の距離をＲ１とする。
また、Ｚ方向に垂直な面内において下面５ｄの中心から最も離間している凹部５ｒの部分と下面５ｄの中心との間の距離をＳ２、下面５ｄの中心に最も近接している外縁部と中心との間の距離をＲ２とする。
このとき、以下の条件式（４）及び（５）が満たされていることが好ましい。
Ｓ１／Ｒ１≦０．５０ ・・・（４）
Ｓ２／Ｒ２≦０．５０ ・・・（５）

なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、以下の条件式（４ａ）及び（５ａ）が満たされていることがより好ましい。
Ｓ１／Ｒ１≦０．４０ ・・・（４ａ）
Ｓ２／Ｒ２≦０．４０ ・・・（５ａ）
また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、以下の条件式（４ｂ）及び（５ｂ）が満たされていることが更により好ましい。
Ｓ１／Ｒ１≦０．３５ ・・・（４ｂ）
Ｓ２／Ｒ２≦０．３５ ・・・（５ｂ）

なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、Ｓ１＝２．４ｍｍ、Ｒ１＝７．１ｍｍ、Ｓ２＝２．３ｍｍ及びＲ２＝７．１ｍｍであることから、Ｓ１／Ｒ１＝０．３４及びＳ２／Ｒ２＝０．３２となり、上記の条件式（４）乃至（４ｂ）及び（５）乃至（５ｂ）は満たされている。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、例えば反射面５ａ上に成膜を行った後に複数のポリゴンミラー５を互いに容易に分離することができるようにするために、凸部５ｐと凹部５ｒとの間の嵌合性を向上させることが好ましい。
そのため、図２（ｄ）に示されているように、凹部５ｒの壁部は下面５ｄに対して垂直になるように設計すると共に、凸部５ｐはテーパ状の壁部を有するように設計している。

すなわち本実施形態に係るポリゴンミラー５では、凸部５ｐは、先端に向かってテーパ状に傾斜している部分を有することが好ましい。
換言すると、本実施形態に係るポリゴンミラー５では、上面５ｕ及び下面５ｄに垂直な所定の断面内において、凸部５ｐは台形形状を有している一方で、凹部５ｒは矩形形状を有していることが好ましい。
なお本実施形態に係るポリゴンミラー５では、上面５ｕ及び下面５ｄに垂直な所定の断面内において、凸部５ｐが矩形形状を有している一方で、凹部５ｒが台形形状を有していても構わない。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５は、図３に示されているように、下面５ｄの一部がロータ５０５に接触するように、偏向装置５００に組み込まれている。
ここで、下面５ｄに凸部５ｐを形成すると、下面５ｄの面精度が低下してしまうと共に、ロータ５０５に逃げ部を設ける必要が生じることで従来とは異なるロータを作成しなくてはならなくなり、コスト増大に繋がるため好ましくない。
従って本実施形態に係るポリゴンミラー５では、凸部５ｐは上面５ｕのみに形成する一方で、凹部５ｒは下面５ｄのみに形成することが好ましい。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、図２（ｄ）に示されているように、保護部５ｂは、隣接するポリゴンミラー５それぞれの反射面５ａのエッジ部が互いに衝突することによって反射面５ａに傷が形成されることを抑制する機能も果たしている。

また本実施形態に係るポリゴンミラー５では、上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれへの多層膜の回り込み量を制御するように、自転軸部品３０７の軸方向に沿って配置する際に隣接するポリゴンミラー５の間の距離Ｌ、及び真空蒸着装置３００に配置した際の自転軸部品３０７の傾き量を調整している。
このとき距離Ｌに関しては、所定のポリゴンミラー５の上面５ｕから一方の隣接するポリゴンミラー５の下面５ｄまでの距離と、当該所定のポリゴンミラー５の下面５ｄから他方の隣接するポリゴンミラー５の上面５ｕまでの距離とを互いに異ならせてもよい。
この場合、上面５ｕへの多層膜の回り込み量と下面５ｄへの多層膜の回り込み量とを互いに異ならせることができる。

以上のように、本実施形態に係るポリゴンミラー５において上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれの形状を工夫して設計することで、複数のポリゴンミラー５を、それぞれの間の位相合わせと隣接するポリゴンミラー５の間における隙間の確保とを同時に行いながら配置することができる。
具体的には、凸部５ｐの高さが凹部５ｒの深さより大きくなると共に、隣接するポリゴンミラー５の一方の凸部５ｐと他方の凹部５ｒとを互いに嵌合させた際に複数のポリゴンミラー５それぞれの位相が略等しくなるように、上面５ｕに少なくとも一つの凸部５ｐを形成すると共に、下面５ｄに少なくとも一つの凹部５ｒを形成している。

そして、真空蒸着装置３００においてそのように配置された複数のポリゴンミラー５に対して成膜を行うことで、環境耐久性が高い反射面５ａを有する高品質なポリゴンミラー５を得ることができる。
加えて、ポリゴンミラー５を偏向装置５００に取り付けた際の反射面５ａの変形を抑制する、すなわち取り付けるための基準面の高精度化を達成することができる、光走査装置１００に用いるための安価で高性能なポリゴンミラー５を製造することができる。

［第二実施形態］
次に、第二実施形態に係るポリゴンミラー５について説明する。なお本実施形態に係るポリゴンミラー５の構成は、第一実施形態に係るポリゴンミラー５と同一であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

本実施形態に係るポリゴンミラー５では、凸部５ｐの高さＨ１及び凹部５ｒの深さＨ２の大きさが第一実施形態に係るポリゴンミラー５と異なっており、具体的には高さＨ１及び深さＨ２はそれぞれ、１．０ｍｍ及び０．５ｍｍとなっている。
従って、式（２）から距離Ｌは０．５ｍｍとなり、本実施形態に係るポリゴンミラー５においても条件式（３）乃至（３ｂ）が満たされていることがわかる。

すなわち本実施形態に係るポリゴンミラー５では、隣接するポリゴンミラー５の対向する一方の上面５ｕと他方の下面５ｄとの間の距離Ｌが第一実施形態に係るポリゴンミラー５に比べて大きくなっている。
そのため、ポリゴンミラー５の上面５ｕ及び下面５ｄへの多層膜の回り込みをより容易に行うことができる。

これにより、反射面５ａにおいて多層膜をより強固に固定すると共に、ポリゴンミラー５を偏向装置５００に取り付けた際に、ポリゴンミラー５の変形を打ち消すことができる。
また、距離Ｌの増大に伴って、上面５ｕ及び下面５ｄへの多層膜の回り込み量、すなわち上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれにおける多層膜の形成範囲を広げることができるため、反射面５ａにおける多層膜の密着強度をより向上させることができる。

以上のように、本実施形態に係るポリゴンミラー５において上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれの形状を工夫して設計することで、複数のポリゴンミラー５を、それぞれの間の位相合わせと隣接するポリゴンミラー５の間における隙間の確保とを同時に行いながら配置することができる。
また、真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５を配置した際の隣接するポリゴンミラー５の間隔を広げることで、反射面５ａに形成される膜の密着強度をより向上させることができる。
これにより、光走査装置１００に用いるためのより高性能なポリゴンミラー５を安価に製造することができる。

［第三実施形態］
次に、第三実施形態に係るポリゴンミラー５について説明する。なお本実施形態に係るポリゴンミラー５の構成は、第一実施形態に係るポリゴンミラー５と同一であるため、同一の部材には同一の符番を付して、説明を省略する。

本実施形態に係るポリゴンミラー５では、凸部５ｐの高さＨ１及び凹部５ｒの深さＨ２の大きさが第一実施形態に係るポリゴンミラー５と異なっており、具体的には高さＨ１及び深さＨ２はそれぞれ、０．５ｍｍ及び０．４ｍｍとなっている。
従って、式（２）から距離Ｌは０．１ｍｍとなり、本実施形態に係るポリゴンミラー５においても条件式（３）乃至（３ｂ）が満たされていることがわかる。

すなわち本実施形態に係るポリゴンミラー５では、隣接するポリゴンミラー５の対向する一方の上面５ｕと他方の下面５ｄとの間の距離Ｌが第一実施形態に係るポリゴンミラー５に比べて小さくなっている。
これにより、所定の長さを有する自転軸部品３０７の軸方向に沿って、第一実施形態に比べてより多くのポリゴンミラー５を配置することができる。
従って、真空蒸着装置３００において一回の成膜処理で成膜を行うことができるポリゴンミラー５の数が増加することで低コスト化を図ることができる。

以上のように、本実施形態に係るポリゴンミラー５において上面５ｕ及び下面５ｄそれぞれの形状を工夫して設計することで、複数のポリゴンミラー５を、それぞれの間の位相合わせと隣接するポリゴンミラー５の間における隙間の確保とを同時に行いながら配置することができる。
また、真空蒸着装置３００において複数のポリゴンミラー５を配置した際の隣接するポリゴンミラー５の間隔を狭くすることで、一回の成膜処理で成膜を行うことができるポリゴンミラー５の数を増加させることができる。
これにより、光走査装置１００に用いるための高性能なポリゴンミラー５をより安価に製造することができる。

［モノクロ画像形成装置］
図５（ａ）は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係るポリゴンミラー５を備える光走査ユニット１００が搭載されたモノクロ画像形成装置１０４の要部副走査断面図を示している。

モノクロ画像形成装置１０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１１７から出力したコードデータＤｃが入力される。このコードデータＤｃは、画像形成装置１０４内のプリンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドットデータ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、光走査ユニット１００に入力される。そして、この光走査ユニット１００からは、画像データに応じて変調された光ビーム１０３が出射され、この光ビーム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方向に走査される。

静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１０１は、モーター１１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方には、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラム１０１の表面に、光走査ユニット１００によって走査される光ビーム１０３が照射されるようになっている。

先に説明したように、光ビーム１０３は、画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビーム１０３を照射することによって、感光ドラム１０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、光ビーム１０３の照射位置よりも更に感光ドラム１０１の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するように配設された現像器１０７によってトナー像として現像される。

現像器１０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８によって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１１２は感光ドラム１０１の前方（図５（ａ）において右側）の用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１０９の端部には、給紙ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内の用紙１１２を搬送路へ送り込む。

以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙１１２は、更に感光ドラム１０１後方（図５（ａ）において左側）の定着器１５０へと搬送される。定着器１５０は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラ１１３と定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧ローラ１１４とで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１４との圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１１２上の未定着トナー像は定着せしめられる。更に定着器１５０の後方には排紙ローラ１１６が配設されており、定着された用紙１１２がモノクロ画像形成装置１０４の外部に排出せしめられる。

なお、プリンタコントローラ１１１は、データの変換だけでなく、モーター１１５を始めモノクロ画像形成装置１０４内の各部や、光走査ユニット１００内のポリゴンモーターなどの制御も行う。

［カラー画像形成装置］
図５（ｂ）は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係るポリゴンミラー５を備える光走査装置６１乃至６４が搭載された画像形成装置６０の要部副走査断面図を示している。

画像形成装置６０は、光走査装置を四個並行して配置し、各々が像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置６０は、第一乃至第三実施形態のいずれかに係るポリゴンミラー５を備える光走査装置６１、６２、６３、６４、及び像担持体としての感光体ドラム８１、８２、８３、８４を備えている。
また、画像形成装置６０は、現像器３１、３２、３３、３４、搬送ベルト５１、プリンタコントローラ５３及び定着器５４を備えている。

画像形成装置６０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器５２からＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号（コードデータ）が入力される。これらの色信号は、装置内のプリンタコントローラ５３によって、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データに変換される。これらの画像データは、画像信号及び画像情報として、それぞれ光走査装置６１、６２、６３、６４に入力される。そして、これらの光走査装置６１、６２、６３、６４からは、各色の画像データに応じて変調された光束７１、７２、７３、７４が出射する。これらの光線によって感光体ドラム８１、８２、８３、８４の感光面が主走査方向に走査される。

画像形成装置６０では、例えば光走査装置６１にはＣ（シアン）、光走査装置６２にはＭ（マゼンタ）、光走査装置６３にはＹ（イエロー）、光走査装置６４にはＫ（ブラック）の画像信号が入力される。そして、各々並行して感光体ドラム８１、８２、８３、８４の感光面上に画像信号を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。

画像形成装置６０は、上述の如く４つの光走査装置６１、６２、６３、６４により各々の画像データに基づいた光束を用いて、各色の静電潜像を各々対応する感光体ドラム８１、８２、８３、８４の感光面上に形成している。
その後、各色の静電潜像が現像器３１、３２、３３、３４によって各色トナー像に現像され、現像された各色トナー像が搬送ベルト５１によって搬送された被転写材に転写器によって多重転写される。そして、転写されたトナー像が定着器５４によって定着され、１枚のフルカラー画像が形成される。

また、外部機器５２としては、例えばＣＣＤセンサーを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置６０とで、カラーデジタル複写機が構成される。
また、画像形成装置６０は、４個の光走査装置及び感光体ドラムの構成に限定されるものではない。例えば、光走査装置と感光体ドラムとがそれぞれ１個のみで構成されていても構わない。また、光走査装置と感光体ドラムとがそれぞれ２個、３個、若しくは５個以上で構成されていても構わない。

５ ポリゴンミラー（多面鏡）
５ａ 反射面
５ｄ 下面（第２の面）
５ｐ 凸部
５ｒ 凹部
５ｕ 上面（第１の面）

Claims (21)

1. 光束を反射する複数の反射面と、
   該複数の反射面の夫々を含む平面に対して互いに反対側に配置される第１及び第２の面と、
   前記第１の面に形成された凸部及び前記第２の面に形成された凹部とを有し、
   前記第１の面から前記凸部の頂部までの距離は、前記第２の面から前記凹部の底部までの距離よりも大きいことを特徴とする多面鏡。
2. 前記多面鏡としての第１の多面鏡に形成された前記凸部と、前記多面鏡としての第２の多面鏡に形成された前記凹部とが互いに嵌合した状態において、該第１の多面鏡の前記複数の反射面のうちの一つと該第２の多面鏡の前記複数の反射面のうちの一つとのなす角度をα［度］としたとき、
   －１０≦α≦１０
   なる条件を満たすことを特徴とする請求項１に記載の多面鏡。
3. 前記凸部の前記距離をＨ１［ｍｍ］、前記凹部の前記距離をＨ２［ｍｍ］としたとき、
   ０．０５＜Ｈ１－Ｈ２＜２．００
   なる条件を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の多面鏡。
4. 前記第１の面に平行な断面において、前記第１の面の中心から最も離間している前記凸部の部分と前記第１の面の中心との間の距離をＳ１、前記第１の面の中心に最も近接している外縁部と該中心との間の距離をＲ１とし、前記第２の面に平行な断面において、前記第２の面の中心から最も離間している前記凹部の部分と前記第２の面の中心との間の距離をＳ２、前記第２の面の中心に最も近接している外縁部と該中心との間の距離をＲ２としたとき、
   Ｓ１／Ｒ１≦０．５０
   Ｓ２／Ｒ２≦０．５０
   なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の多面鏡。
5. 前記凸部は、先端に向かってテーパ状に傾斜している部分を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の多面鏡。
6. 前記多面鏡は、前記第１及び第２の面の一方にゲート部が設けられると共に、該ゲート部のまわりにゲート部用凹部が設けられるように射出成形で形成される多面鏡であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の多面鏡。
7. 前記第１及び第２の面に垂直な所定の断面において、前記凸部及び前記凹部の一方は台形形状を有すると共に、他方は矩形形状を有することを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の多面鏡。
8. 請求項１乃至７の何れか一項に記載の多面鏡と、
   該多面鏡を回転させる駆動部とを有することを特徴とする偏向装置。
9. 前記凸部及び前記凹部のうち、前記第１の面には前記凸部のみが形成されていると共に、前記第２の面には前記凹部のみが形成されており、
   前記駆動部は、ロータ及びステータを有するモーターであり、
   前記第２の面が前記ロータに接触するように前記多面鏡が前記駆動部に取り付けられていることを特徴とする請求項８に記載の偏向装置。
   
10. 前記多面鏡は、前記第１の面にゲート部が設けられると共に、該ゲート部のまわりにゲート部用凹部が設けられるように射出成形で形成される多面鏡であることを特徴とする請求項９に記載の偏向装置。
11. 光束を偏向して被走査面を主走査方向に走査する請求項８乃至１０の何れか一項に記載の偏向装置と、
    該偏向装置によって偏向された光束を前記被走査面に導光する結像光学系とを備えることを特徴とする光走査装置。
12. 請求項１１に記載の光走査装置と、該光走査装置により前記被走査面に形成される静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された前記トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写された前記トナー像を前記被転写材に定着させる定着器とを備えることを特徴とする画像形成装置。
13. 請求項１１に記載の光走査装置と、外部機器から出力された信号を画像データに変換して該光走査装置に入力するプリンタコントローラとを備えることを特徴とする画像形成装置。
14. 光束を反射する複数の反射面と、該複数の反射面の夫々を含む平面に対して互いに反対側に配置される第１及び第２の面と、前記第１の面に形成された凸部及び前記第２の面に形成された凹部とを有し、前記第１の面から前記凸部の頂部までの距離は、前記第２の面から前記凹部の底部までの距離よりも大きい基板を複数形成するステップと、
    前記複数の基板を、隣接する二つの前記基板の一方の前記凸部と他方の前記凹部とが互いに嵌合するように配置するステップと、
    前記複数の基板の夫々の前記反射面に膜を形成するステップとを含むことを特徴とする多面鏡の製造方法。
15. 前記基板を複数形成するステップは、前記配置するステップにおいて、二つの前記基板の一方の前記複数の反射面のうちの一つと他方の前記複数の反射面のうちの一つとのなす角度をα［度］としたとき、何れの二つの前記基板においても、
    －１０≦α≦１０
    なる条件を満たすように、前記複数の基板の夫々に前記凸部及び前記凹部を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４に記載の製造方法。
16. 前記基板を複数形成するステップは、前記凸部の前記距離をＨ１［ｍｍ］、前記凹部の前記距離をＨ２［ｍｍ］としたとき、
    ０．０５＜Ｈ１－Ｈ２＜２．００
    なる条件を満たすように前記複数の基板の夫々に前記凸部及び前記凹部を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４または１５に記載の製造方法。
17. 前記基板を複数形成するステップは、前記第１の面に平行な断面において、前記第１の面の中心から最も離間している前記凸部の部分と前記第１の面の中心との間の距離をＳ１、前記第１の面の中心に最も近接している外縁部と該中心との間の距離をＲ１とし、前記第２の面に平行な断面において、前記第２の面の中心から最も離間している前記凹部の部分と前記第２の面の中心との間の距離をＳ２、前記第２の面の中心に最も近接している外縁部と該中心との間の距離をＲ２としたとき、
    Ｓ１／Ｒ１≦０．５０
    Ｓ２／Ｒ２≦０．５０
    なる条件を満たすように前記複数の基板の夫々に前記凸部及び前記凹部を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４乃至１６の何れか一項に記載の製造方法。
18. 前記基板を複数形成するステップは、前記凸部が先端に向かってテーパ状に傾斜している部分を有するように前記複数の基板の夫々に前記凸部を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４乃至１７の何れか一項に記載の製造方法。
19. 前記基板を複数形成するステップは、前記第１及び第２の面の一方にゲート部が設けられると共に、該ゲート部のまわりにゲート部用凹部が設けられるように射出成形によって前記複数の基板の夫々を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４乃至１８の何れか一項に記載の製造方法。
20. 前記基板を複数形成するステップは、前記第１及び第２の面に垂直な所定の断面において、前記凸部及び前記凹部の一方は台形形状を有すると共に、他方は矩形形状を有するように前記複数の基板の夫々に前記凸部及び前記凹部を形成するステップを含むことを特徴とする請求項１４乃至１９の何れか一項に記載の製造方法。
21. 前記基板を複数形成するステップは、
    前記第１の面にゲート部が設けられると共に、該ゲート部のまわりにゲート部用凹部が設けられるように射出成形によって前記複数の基板の夫々を形成するステップと、
    該形成された複数の基板の夫々の前記第１の面には前記凸部のみを形成すると共に、前記第２の面には前記凹部のみを形成するステップとを含むことを特徴とする請求項１４乃至２０の何れか一項に記載の製造方法。

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