JP2023059419A - 空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下を抑制できる空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法。【解決手段】二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する吸着体10と、吸着体10に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、前記処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を前記吸着剤に吸着させる吸着手段20と、前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着手段30と、前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥手段40と、を有する、空気調和装置1。【選択図】図1
Description
本発明は、空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法に関する。
建築物環境衛生管理基準には、空気調和設備を設けている場合の居室においては、二酸化炭素の含有率を1000ppm(体積基準。以下、本明細書において同じ。)以下にすることが定められている。このように、空気調和設備を設けている建築物の室内においては、室内の空気から二酸化炭素を除去する技術が望まれている。
例えば、特許文献1には、二酸化炭素を含む処理対象空気をアミン担持固体吸収剤に吸収させる処理ゾーンと、吸収剤が吸収した二酸化炭素を再生用空気に脱離させる再生ゾーンとに区画されたロータを備え、処理ゾーンに供給される処理対象空気と再生ゾーンに供給される再生用空気とのエンタルピー差が特定の範囲になるように構成された空調システムが提案されている。特許文献1の発明によれば、室内の空気中の二酸化炭素を除去し、空気質を高めることが図られている。
例えば、特許文献2には、セリウム酸化物を含有し、特定の細孔容積を有する吸着剤が配置された除去部を備え、前記除去部で処理対象ガスに含まれる二酸化炭素を除去する空調装置が提案されている。特許文献2の発明によれば、吸着剤に対する二酸化炭素の吸着量の向上が図られている。
しかしながら、特許文献1~2の技術では、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下については考慮されていない。
そこで、本発明は、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下を抑制できる空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法を目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は以下の態様を有する。
[1]二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する吸着体と、
前記吸着体に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、前記処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を前記吸着剤に吸着させる吸着手段と、
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着手段と、
前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥手段と、を有する、空気調和装置。
[2]前記吸着手段における前記処理対象空気を前記吸着体に接触させる吸着領域と、
前記脱着手段における前記再生用流体を前記吸着体に接触させる脱着領域と、
前記乾燥手段における前記乾燥用流体を前記吸着体に接触させる乾燥領域とが、それぞれ独立している、[1]に記載の空気調和装置。
[3]前記吸着体が、前記吸着領域、前記脱着領域、前記乾燥領域の順に相対的に移動する、[2]に記載の空気調和装置。
[4]前記乾燥用流体を加熱する加熱手段をさらに有する、[1]~[3]のいずれかに記載の空気調和装置。
[5][1]~[4]のいずれかに記載の空気調和装置を異なるフロアに複数備える、空気調和システム。
[1]二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する吸着体と、
前記吸着体に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、前記処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を前記吸着剤に吸着させる吸着手段と、
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着手段と、
前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥手段と、を有する、空気調和装置。
[2]前記吸着手段における前記処理対象空気を前記吸着体に接触させる吸着領域と、
前記脱着手段における前記再生用流体を前記吸着体に接触させる脱着領域と、
前記乾燥手段における前記乾燥用流体を前記吸着体に接触させる乾燥領域とが、それぞれ独立している、[1]に記載の空気調和装置。
[3]前記吸着体が、前記吸着領域、前記脱着領域、前記乾燥領域の順に相対的に移動する、[2]に記載の空気調和装置。
[4]前記乾燥用流体を加熱する加熱手段をさらに有する、[1]~[3]のいずれかに記載の空気調和装置。
[5][1]~[4]のいずれかに記載の空気調和装置を異なるフロアに複数備える、空気調和システム。
[6]二酸化炭素を含む処理対象空気を吸着剤に接触させることで前記吸着剤に二酸化炭素の一部又は全部を吸着させる吸着工程と、
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に、再生用流体を接触させることで前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着工程と、
前記脱着工程の後に、前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に、乾燥用流体を接触させることで前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥工程と、を有し、
前記乾燥工程の後に、前記吸着工程を行う、吸着剤再生方法。
[7]前記吸着工程と、前記脱着工程と、前記乾燥工程とを、それぞれ独立した領域で行う、[6]に記載の吸着剤再生方法。
[8]前記吸着剤を有する吸着体を相対的に移動させて、前記吸着工程、前記脱着工程、前記乾燥工程の順に行う、[6]又は[7]に記載の吸着剤再生方法。
[9]前記乾燥用流体を加熱する加熱工程をさらに有する、[6]~[8]のいずれかに記載の吸着剤再生方法。
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に、再生用流体を接触させることで前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着工程と、
前記脱着工程の後に、前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に、乾燥用流体を接触させることで前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥工程と、を有し、
前記乾燥工程の後に、前記吸着工程を行う、吸着剤再生方法。
[7]前記吸着工程と、前記脱着工程と、前記乾燥工程とを、それぞれ独立した領域で行う、[6]に記載の吸着剤再生方法。
[8]前記吸着剤を有する吸着体を相対的に移動させて、前記吸着工程、前記脱着工程、前記乾燥工程の順に行う、[6]又は[7]に記載の吸着剤再生方法。
[9]前記乾燥用流体を加熱する加熱工程をさらに有する、[6]~[8]のいずれかに記載の吸着剤再生方法。
本発明の空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法によれば、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下を抑制できる。
[第一実施形態]
≪空気調和装置≫
本発明の空気調和装置は、吸着剤を有する吸着体と、吸着手段と、脱着手段と、乾燥手段と、を有する。
以下に、本発明の一実施形態に係る空気調和装置について、図1に基づき詳細に説明する。
≪空気調和装置≫
本発明の空気調和装置は、吸着剤を有する吸着体と、吸着手段と、脱着手段と、乾燥手段と、を有する。
以下に、本発明の一実施形態に係る空気調和装置について、図1に基づき詳細に説明する。
図1に示すように、本実施形態の空気調和装置1は、吸着体10と、吸着手段20と、脱着手段30と、乾燥手段40と、回収容器50と、居室100と、を有する。
吸着手段20は、吸着領域21を有する。脱着手段30は、脱着領域31を有する。乾燥手段40は、乾燥領域41を有する。
吸着体10は、吸着領域21、脱着領域31、乾燥領域41にまたがって位置している。
吸着手段20は、吸着領域21を有する。脱着手段30は、脱着領域31を有する。乾燥手段40は、乾燥領域41を有する。
吸着体10は、吸着領域21、脱着領域31、乾燥領域41にまたがって位置している。
吸着手段20の吸着領域21と居室100とは、配管L3で接続されている。また、吸着手段20と居室100とは、配管L16で接続されている。居室100には、配管L4が接続されている。脱着手段30と回収容器50とは、配管L13及び配管L14で接続されている。
本実施形態において、居室100の内部が建築物の室内である。
図中の矢印は、空気等の流体の移動方向を表す。
本実施形態において、居室100の内部が建築物の室内である。
図中の矢印は、空気等の流体の移動方向を表す。
<吸着体>
吸着体10は、二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する。吸着体10は、円盤状のロータの形状をしており、吸着剤が担持されている。吸着体10は、吸着領域21と脱着領域31と乾燥領域41との境界に位置する回転軸Oで支持されている。吸着体10は、回転軸Oを中心として回転する。
吸着体10は、二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する。吸着体10は、円盤状のロータの形状をしており、吸着剤が担持されている。吸着体10は、吸着領域21と脱着領域31と乾燥領域41との境界に位置する回転軸Oで支持されている。吸着体10は、回転軸Oを中心として回転する。
吸着体10としては、例えば、ハニカムロータが挙げられる。ハニカムロータは、セラミック繊維紙やガラス繊維紙等の不燃性のシートをコルゲート(波付け)加工し、ロータ状に巻き付け加工した円筒形の部材である。
吸着体10には、吸着剤が担持されている。吸着剤は、特に限定されず、二酸化炭素吸着能を有していればよい。
吸着剤としては、例えば、ゼオライト、シリカゲル、活性炭、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン等のアミンを担持した固体吸収剤、アミン系の弱塩基性陰イオン交換樹脂等が挙げられる。高温かつ気体の再生用流体と接触させる場合には、吸着剤としては、ゼオライト、シリカゲル、活性炭が好ましく、ゼオライト、シリカゲルがより好ましい。
なお、本明細書において「高温」とは、常圧で二酸化炭素を吸着剤から脱着できる温度をいい、例えば、60℃以上の温度をいう。ここで、「常圧」とは、特別に減圧も加圧もしないときの圧力をいい、例えば、0.1MPaである。
吸着体10には、吸着剤が担持されている。吸着剤は、特に限定されず、二酸化炭素吸着能を有していればよい。
吸着剤としては、例えば、ゼオライト、シリカゲル、活性炭、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン等のアミンを担持した固体吸収剤、アミン系の弱塩基性陰イオン交換樹脂等が挙げられる。高温かつ気体の再生用流体と接触させる場合には、吸着剤としては、ゼオライト、シリカゲル、活性炭が好ましく、ゼオライト、シリカゲルがより好ましい。
なお、本明細書において「高温」とは、常圧で二酸化炭素を吸着剤から脱着できる温度をいい、例えば、60℃以上の温度をいう。ここで、「常圧」とは、特別に減圧も加圧もしないときの圧力をいい、例えば、0.1MPaである。
回転軸Oとしては、例えば、金属製又は樹脂製の棒状部材が挙げられる。回転軸Oには、モータ(不図示)が取付けられ、回転軸Oは、モータを動力源として回転する。
<吸着手段>
吸着手段20は、吸着体10に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を吸着剤に吸着させる。
吸着手段20は、空気供給部22と、混合チャンバー23と、吸着領域21と、ブロア26とを有する。空気供給部22と混合チャンバー23とは、配管L1で接続されている。配管L1には、ダンパD1が設けられている。混合チャンバー23と吸着領域21とは、配管L2で接続されている。吸着領域21の内部には、フィルター24が設けられている。吸着領域21の内部には、ブロア26が設けられている。吸着領域21には、配管L3が接続され、居室100と接続されている。
吸着手段20は、吸着体10に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を吸着剤に吸着させる。
吸着手段20は、空気供給部22と、混合チャンバー23と、吸着領域21と、ブロア26とを有する。空気供給部22と混合チャンバー23とは、配管L1で接続されている。配管L1には、ダンパD1が設けられている。混合チャンバー23と吸着領域21とは、配管L2で接続されている。吸着領域21の内部には、フィルター24が設けられている。吸着領域21の内部には、ブロア26が設けられている。吸着領域21には、配管L3が接続され、居室100と接続されている。
空気供給部22は、吸着領域21に二酸化炭素を含有する処理対象空気を供給する。
空気供給部22としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機、ブロア等が挙げられる。
吸着領域21は、処理対象空気を吸着体10に接触させる領域である。
吸着領域21を形成する装置としては、例えば、エアハンドリングユニット(AHU)等の装置が挙げられる。
空気供給部22としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機、ブロア等が挙げられる。
吸着領域21は、処理対象空気を吸着体10に接触させる領域である。
吸着領域21を形成する装置としては、例えば、エアハンドリングユニット(AHU)等の装置が挙げられる。
配管L1としては、例えば、金属製又は樹脂製のダクト等が挙げられる。
ダンパD1としては、例えば、バルブの開閉によって流量を調節できる風量調節器、外壁に面した部分の開口部に用いるための延焼防止機能を有する防火ダンパ等が挙げられる。
配管L2としては、例えば、配管L1と同様のダクト等が挙げられる。
混合チャンバー23としては、例えば、金属製又は樹脂製の容器等が挙げられる。
フィルター24としては、例えば、大気中の粉塵等を除去できる濾過器等が挙げられる。
ブロア26としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
ダンパD1としては、例えば、バルブの開閉によって流量を調節できる風量調節器、外壁に面した部分の開口部に用いるための延焼防止機能を有する防火ダンパ等が挙げられる。
配管L2としては、例えば、配管L1と同様のダクト等が挙げられる。
混合チャンバー23としては、例えば、金属製又は樹脂製の容器等が挙げられる。
フィルター24としては、例えば、大気中の粉塵等を除去できる濾過器等が挙げられる。
ブロア26としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
<脱着手段>
脱着手段30は、二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる。
脱着手段30は、再生流体供給部32と、加熱器33と、脱着領域31と、噴霧器34と、噴霧器36とを有する。再生流体供給部32と加熱器33とは、配管L5で接続されている。加熱器33と噴霧器34とは、配管L6で接続されている。噴霧器34は、脱着領域31の内部に設けられている。加熱器33と噴霧器36とは、配管L7で接続されている。噴霧器36は、吸着領域21の内部に設けられている。脱着手段30には、配管L13が接続されている。配管L13は、分岐203で配管L14と接続されている。配管L13には、バルブV1が設けられている。
脱着手段30は、二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる。
脱着手段30は、再生流体供給部32と、加熱器33と、脱着領域31と、噴霧器34と、噴霧器36とを有する。再生流体供給部32と加熱器33とは、配管L5で接続されている。加熱器33と噴霧器34とは、配管L6で接続されている。噴霧器34は、脱着領域31の内部に設けられている。加熱器33と噴霧器36とは、配管L7で接続されている。噴霧器36は、吸着領域21の内部に設けられている。脱着手段30には、配管L13が接続されている。配管L13は、分岐203で配管L14と接続されている。配管L13には、バルブV1が設けられている。
再生流体供給部32は、脱着領域31に再生用流体を供給する。再生流体供給部32は、吸着領域21に再生用流体を供給してもよい。
再生流体供給部32としては、空気供給部22と同様の送風機、ブロア等が挙げられる。
脱着領域31は、再生用流体を吸着体10に接触させる領域である。
脱着領域31を形成する装置としては、例えば、脱着用又は再生用のチャンバー等が挙げられる。
再生流体供給部32としては、空気供給部22と同様の送風機、ブロア等が挙げられる。
脱着領域31は、再生用流体を吸着体10に接触させる領域である。
脱着領域31を形成する装置としては、例えば、脱着用又は再生用のチャンバー等が挙げられる。
配管L5としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
配管L6としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
配管L7としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
配管L5、配管L6、配管L7には、ダンパやバルブ等(不図示)が設けられていてもよい。
加熱器33としては、例えば、ヒーターやボイラー等が挙げられる。
噴霧器34としては、例えば、再生用流体を脱着領域31の内部に分散させる器具、再生用流体を吸着体10に吹き付ける器具等が挙げられる。噴霧器36としては、例えば、再生用流体を吸着領域21の内部に分散させる器具、再生用流体を加圧して噴き出す器具等が挙げられる。
配管L6としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
配管L7としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
配管L5、配管L6、配管L7には、ダンパやバルブ等(不図示)が設けられていてもよい。
加熱器33としては、例えば、ヒーターやボイラー等が挙げられる。
噴霧器34としては、例えば、再生用流体を脱着領域31の内部に分散させる器具、再生用流体を吸着体10に吹き付ける器具等が挙げられる。噴霧器36としては、例えば、再生用流体を吸着領域21の内部に分散させる器具、再生用流体を加圧して噴き出す器具等が挙げられる。
配管L13としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
配管L14としては、例えば、金属製又は樹脂製のダクト等が挙げられる。
バルブV1としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
配管L14としては、例えば、金属製又は樹脂製のダクト等が挙げられる。
バルブV1としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
<乾燥手段>
乾燥手段40は、二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる。
乾燥手段40は、乾燥流体供給部42と、加熱器43と、乾燥領域41と、噴霧器44とを有する。乾燥流体供給部42と加熱器43とは、配管L8で接続されている。加熱器43と噴霧器44とは、配管L9で接続されている。配管L9には、バルブV2が設けられている。噴霧器44は、乾燥領域41の内部に設けられている。乾燥領域41には、配管L15が接続されている。配管L15には、バルブV3及びダンパD4が設けられている。
本実施形態において、加熱器43が乾燥用流体を加熱する加熱手段である。なお、空気調和装置は、加熱手段を有していなくてもよい。乾燥用流体は、常温(例えば、5~30℃)であっても吸着剤に付着している水分を脱着できる。しかし、乾燥用流体を加熱することで、水分の脱着をより促進できる。このため、空気調和装置は、加熱手段を有することが好ましい。
乾燥手段40は、二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる。
乾燥手段40は、乾燥流体供給部42と、加熱器43と、乾燥領域41と、噴霧器44とを有する。乾燥流体供給部42と加熱器43とは、配管L8で接続されている。加熱器43と噴霧器44とは、配管L9で接続されている。配管L9には、バルブV2が設けられている。噴霧器44は、乾燥領域41の内部に設けられている。乾燥領域41には、配管L15が接続されている。配管L15には、バルブV3及びダンパD4が設けられている。
本実施形態において、加熱器43が乾燥用流体を加熱する加熱手段である。なお、空気調和装置は、加熱手段を有していなくてもよい。乾燥用流体は、常温(例えば、5~30℃)であっても吸着剤に付着している水分を脱着できる。しかし、乾燥用流体を加熱することで、水分の脱着をより促進できる。このため、空気調和装置は、加熱手段を有することが好ましい。
乾燥流体供給部42は、乾燥領域41に乾燥用流体を供給する。乾燥流体供給部42としては、空気供給部22と同様の送風機、ブロア等が挙げられる。
乾燥領域41は、乾燥用流体を吸着体10に接触させる領域である。
乾燥領域41を形成する装置としては、例えば、乾燥用のチャンバー等が挙げられる。
乾燥領域41は、乾燥用流体を吸着体10に接触させる領域である。
乾燥領域41を形成する装置としては、例えば、乾燥用のチャンバー等が挙げられる。
配管L8としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
配管L9としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
バルブV2としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV3としては、バルブV2と同様の電磁弁等が挙げられる。
ダンパD4としては、例えば、バルブの開閉によって流量を調節できる風量調節器等が挙げられる。
加熱器43としては、加熱器33と同様のヒーターやボイラー等が挙げられる。
噴霧器44としては、例えば、乾燥用流体を乾燥領域41の内部に分散させる器具、乾燥用流体を吸着体10に吹き付ける器具等が挙げられる。
配管L9としては、配管L5と同様の配管等が挙げられる。
バルブV2としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV3としては、バルブV2と同様の電磁弁等が挙げられる。
ダンパD4としては、例えば、バルブの開閉によって流量を調節できる風量調節器等が挙げられる。
加熱器43としては、加熱器33と同様のヒーターやボイラー等が挙げられる。
噴霧器44としては、例えば、乾燥用流体を乾燥領域41の内部に分散させる器具、乾燥用流体を吸着体10に吹き付ける器具等が挙げられる。
図2に示すように、本実施形態において、吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とは、それぞれ独立している。
吸着体10は、回転軸Oを中心にして、図の矢印の方向に回転する。このため、吸着体10は、吸着領域21、脱着領域31、乾燥領域41の順に相対的に移動する。
ここで、「相対的に移動する」とは、吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが固定され、吸着体10が移動することと、吸着体10が固定され、吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが移動することとを含む概念である。
吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが、それぞれ独立していることで、二酸化炭素の吸着と吸着剤の再生とを連続して行うことができる。
なお、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とは、それぞれ独立していなくてもよく、例えば、脱着領域と、乾燥領域とが1つの領域であってもよく、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とが1つの領域であってもよい。
吸着体10は、回転軸Oを中心にして、図の矢印の方向に回転する。このため、吸着体10は、吸着領域21、脱着領域31、乾燥領域41の順に相対的に移動する。
ここで、「相対的に移動する」とは、吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが固定され、吸着体10が移動することと、吸着体10が固定され、吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが移動することとを含む概念である。
吸着領域21と、脱着領域31と、乾燥領域41とが、それぞれ独立していることで、二酸化炭素の吸着と吸着剤の再生とを連続して行うことができる。
なお、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とは、それぞれ独立していなくてもよく、例えば、脱着領域と、乾燥領域とが1つの領域であってもよく、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とが1つの領域であってもよい。
<回収容器>
回収容器50は、吸着剤から脱着した二酸化炭素を貯留する容器である。回収容器50としては、例えば、二酸化炭素と再生用流体との混合流体を貯留できるタンク等が挙げられる。
回収容器50は、吸着剤から脱着した二酸化炭素を貯留する容器である。回収容器50としては、例えば、二酸化炭素と再生用流体との混合流体を貯留できるタンク等が挙げられる。
<居室>
居室100は、オフィス等の屋内で人が活動する空間である。居室100は、給気口101と、給気口102と、排気口110とを有する。給気口101及び給気口102には、配管L3が接続されている。排気口110には、配管L4が接続されている。
居室100には、配管L16が接続されている。配管L16は、混合チャンバー23を介さずに分岐201で配管L1と接続されている。配管L16には、ダンパD5、ブロアB1が設けられている。
居室100は、オフィス等の屋内で人が活動する空間である。居室100は、給気口101と、給気口102と、排気口110とを有する。給気口101及び給気口102には、配管L3が接続されている。排気口110には、配管L4が接続されている。
居室100には、配管L16が接続されている。配管L16は、混合チャンバー23を介さずに分岐201で配管L1と接続されている。配管L16には、ダンパD5、ブロアB1が設けられている。
配管L4は、分岐202で配管L11及び配管L12と接続されている。配管L12は、混合チャンバー23と接続されている。
配管L11には、ダンパD2が設けられている。配管L12には、ダンパD3が設けられている。
配管L4としては、金属製又は樹脂製のダクト等が挙げられる。配管L4には、ダンパやバルブ、ブロア等(不図示)が設けられていてもよい。
配管L11としては、配管L4と同様のダクト等が挙げられる。
配管L12としては、配管L4と同様のダクト等が挙げられる。
配管L16としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
配管L11には、ダンパD2が設けられている。配管L12には、ダンパD3が設けられている。
配管L4としては、金属製又は樹脂製のダクト等が挙げられる。配管L4には、ダンパやバルブ、ブロア等(不図示)が設けられていてもよい。
配管L11としては、配管L4と同様のダクト等が挙げられる。
配管L12としては、配管L4と同様のダクト等が挙げられる。
配管L16としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
ダンパD2としては、例えば、バルブの開閉によって流量を調節できる風量調節器等が挙げられる。
ダンパD3としては、ダンパD2と同様の風量調節器等が挙げられる。
ダンパD5としては、ダンパD2と同様の風量調節器等が挙げられる。
ブロアB1としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
ダンパD3としては、ダンパD2と同様の風量調節器等が挙げられる。
ダンパD5としては、ダンパD2と同様の風量調節器等が挙げられる。
ブロアB1としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
≪吸着剤再生方法≫
本発明の吸着剤再生方法は、吸着工程と、脱着工程と、乾燥工程と、を有する。本発明の吸着剤再生方法は、乾燥工程の後に、吸着工程を行う。
本発明の吸着剤再生方法について、空気調和装置1を利用した空気調和方法を例にして説明する。
各工程について、以下に、図1に基づき詳細に説明する。
本発明の吸着剤再生方法は、吸着工程と、脱着工程と、乾燥工程と、を有する。本発明の吸着剤再生方法は、乾燥工程の後に、吸着工程を行う。
本発明の吸着剤再生方法について、空気調和装置1を利用した空気調和方法を例にして説明する。
各工程について、以下に、図1に基づき詳細に説明する。
<吸着工程>
吸着工程は、二酸化炭素を含む処理対象空気を吸着剤に接触させることで、吸着剤に二酸化炭素の一部又は全部を吸着させる工程である。
吸着工程は、二酸化炭素を含む処理対象空気を吸着剤に接触させることで、吸着剤に二酸化炭素の一部又は全部を吸着させる工程である。
吸着工程では、まず、ダンパD1を開とし、ダンパD5を閉とする。空気供給部22を運転して外気を吸引し、配管L1を介して、外気を混合チャンバー23へと移送する。混合チャンバー23に移送された外気は、配管L4及び配管L12を介して混合チャンバー23に移送された屋内排気(居室100から排気された空気)と混合されて、外気を含む処理対象空気となる(混合操作)。
本実施形態の処理対象空気は、二酸化炭素を含有すればよい。処理対象空気としては、例えば、外気、外気を含む空気等が挙げられる。外気を含む空気としては、建築物の外部から取り込む空気(外気)と屋内排気との混合気体が挙げられる。屋内排気としては、居室100から排出された空気が挙げられる。屋内排気には、人が活動することにより二酸化炭素濃度が高められた活動後空気、燃焼により生じた燃焼後空気等が含まれる。
本実施形態において、処理対象空気は、外気のみ、又は外気と居室100の屋内排気との混合気体である。
処理対象空気における二酸化炭素の濃度は、例えば、100~2000ppmが好ましく、200~1500ppmがより好ましく、300~1000ppmがさらに好ましい。処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記下限値以上であると、より多くの二酸化炭素を吸着剤に吸着でき、脱着工程でより多くの二酸化炭素を脱着できる。処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記上限値以下であると、吸着剤の吸着能を低下させにくい。加えて、処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記上限値以下であると、より清浄な処理済空気を居室100に供給できる。
本実施形態の処理対象空気は、二酸化炭素を含有すればよい。処理対象空気としては、例えば、外気、外気を含む空気等が挙げられる。外気を含む空気としては、建築物の外部から取り込む空気(外気)と屋内排気との混合気体が挙げられる。屋内排気としては、居室100から排出された空気が挙げられる。屋内排気には、人が活動することにより二酸化炭素濃度が高められた活動後空気、燃焼により生じた燃焼後空気等が含まれる。
本実施形態において、処理対象空気は、外気のみ、又は外気と居室100の屋内排気との混合気体である。
処理対象空気における二酸化炭素の濃度は、例えば、100~2000ppmが好ましく、200~1500ppmがより好ましく、300~1000ppmがさらに好ましい。処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記下限値以上であると、より多くの二酸化炭素を吸着剤に吸着でき、脱着工程でより多くの二酸化炭素を脱着できる。処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記上限値以下であると、吸着剤の吸着能を低下させにくい。加えて、処理対象空気における二酸化炭素の濃度が上記上限値以下であると、より清浄な処理済空気を居室100に供給できる。
次いで、混合チャンバー23から配管L2を介して、処理対象空気を吸着手段20の吸着領域21に供給する(第一の供給操作)。
吸着領域21に供給された処理対象空気は、フィルター24で粉塵等の汚れが除去された後、吸着体10の吸着剤に接触する(第一の接触操作)。
吸着剤に接触した処理対象空気の二酸化炭素の一部又は全部は、吸着剤に吸着される(吸着操作)。その結果、二酸化炭素の濃度が減少した処理済空気が得られる。
吸着領域21に供給された処理対象空気は、フィルター24で粉塵等の汚れが除去された後、吸着体10の吸着剤に接触する(第一の接触操作)。
吸着剤に接触した処理対象空気の二酸化炭素の一部又は全部は、吸着剤に吸着される(吸着操作)。その結果、二酸化炭素の濃度が減少した処理済空気が得られる。
ブロア26を稼働することにより、処理済空気は、配管L3を介して吸着領域21から排出される(第一の排出操作)。
処理済空気における二酸化炭素濃度は、処理対象空気における二酸化炭素の濃度よりも低い。処理済空気における二酸化炭素濃度は、例えば、1000ppm以下が好ましく、800ppm以下がより好ましく、500ppm以下がさらに好ましい。処理済空気における二酸化炭素濃度が上記上限値以下であると、建築物環境衛生管理基準を満たす二酸化炭素濃度にでき、より清浄な処理済空気を居室100に供給できる。処理済空気における二酸化炭素濃度の下限値は、特に限定されないが、実質的には10ppmである。
処理済空気における二酸化炭素濃度は、処理対象空気における二酸化炭素の濃度よりも低い。処理済空気における二酸化炭素濃度は、例えば、1000ppm以下が好ましく、800ppm以下がより好ましく、500ppm以下がさらに好ましい。処理済空気における二酸化炭素濃度が上記上限値以下であると、建築物環境衛生管理基準を満たす二酸化炭素濃度にでき、より清浄な処理済空気を居室100に供給できる。処理済空気における二酸化炭素濃度の下限値は、特に限定されないが、実質的には10ppmである。
吸着工程における吸着領域21の内部の温度は、例えば、0~40℃が好ましく、5~35℃がより好ましく、10~30℃がさらに好ましい。吸着領域21の内部の温度が上記下限値以上であると、快適な温度の処理済空気を居室100に供給できる。吸着領域21の内部の温度が上記上限値以下であると、吸着剤の二酸化炭素の吸着効率をより高められる。
吸着領域21の内部の温度は、吸着領域21の内部に冷却装置等(不図示)を導入し、その冷却装置により調節できる。
吸着工程における吸着領域21の内部の圧力は、特に限定されないが、例えば、常圧である。
吸着領域21の内部の温度は、吸着領域21の内部に冷却装置等(不図示)を導入し、その冷却装置により調節できる。
吸着工程における吸着領域21の内部の圧力は、特に限定されないが、例えば、常圧である。
吸着領域21から排出された処理済空気は、配管L3を介して給気口101、102へと移送され、居室100へと供給される(第二の供給操作)。
居室100では、例えば、人が活動することにより二酸化炭素濃度が高められ、活動後空気として排気口110から配管L4及び配管L11を介して外部へと排出される(第二の排出操作)。
居室100では、例えば、人が活動することにより二酸化炭素濃度が高められ、活動後空気として排気口110から配管L4及び配管L11を介して外部へと排出される(第二の排出操作)。
ダンパD3を開、ダンパD2を閉とし、活動後空気を分岐202、配管L12を介して、混合チャンバー23に供給する(第三の供給操作)。
第三の供給操作を有することにより、混合チャンバー23で屋内排気と外気とを混合できる。加えて、第三の供給操作を有することにより、活動後空気の二酸化炭素を吸着工程で吸着し、処理済空気として居室100に供給できる。このように、第三の供給操作を有することにより、より効率よく居室100の内部の空気を循環できる。
加えて、第三の供給操作を有することにより、空気供給部22からの外気の導入量を減らすことができ、外気負荷による空調負荷を低減することができる。
第三の供給操作を有することにより、混合チャンバー23で屋内排気と外気とを混合できる。加えて、第三の供給操作を有することにより、活動後空気の二酸化炭素を吸着工程で吸着し、処理済空気として居室100に供給できる。このように、第三の供給操作を有することにより、より効率よく居室100の内部の空気を循環できる。
加えて、第三の供給操作を有することにより、空気供給部22からの外気の導入量を減らすことができ、外気負荷による空調負荷を低減することができる。
例えば、居室100での二酸化炭素の発生量が多い場合には、ダンパD3を開、ダンパD2を閉、ダンパD1を閉、ダンパD5を開として、活動後空気のみを混合チャンバー23に供給してもよい。外気は居室100に直接送られ(外気供給工程)、吸着領域21では、活動後空気中の二酸化炭素のみを吸着する(吸着工程)。
この場合、空気供給部22が外部空気供給部として機能し、混合チャンバー23及び配管L2が内部空気供給部として機能する。かかる構成を採用することで、二酸化炭素濃度の高い屋内排気から効率的に二酸化炭素を吸着できる。空気調和装置1において、居室100としては、例えば、燃焼型の暖房機、焼成装置等を備える部屋等が挙げられる。
この場合、空気供給部22が外部空気供給部として機能し、混合チャンバー23及び配管L2が内部空気供給部として機能する。かかる構成を採用することで、二酸化炭素濃度の高い屋内排気から効率的に二酸化炭素を吸着できる。空気調和装置1において、居室100としては、例えば、燃焼型の暖房機、焼成装置等を備える部屋等が挙げられる。
また、あるいは、ダンパD2を開とし、ダンパD3を閉として、活動後空気を建築物外に排気してもよい。これにより、混合チャンバー23に屋内排気を供給せず、より多くの外気を吸着領域21に供給できる。
居室100には、外気を直接供給してもよい。この場合、ダンパD1を閉とし、ダンパD5を開とする。空気供給部22及びブロアB1を稼働することで、外気が配管L1、分岐201、配管L16を通流して、居室100に外気を供給できる。
<脱着工程>
脱着工程は、二酸化炭素が吸着した吸着剤に、再生用流体を接触させることで、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる工程である。
脱着工程は、二酸化炭素が吸着した吸着剤に、再生用流体を接触させることで、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる工程である。
脱着工程では、まず、再生流体供給部32から脱着領域31に、再生用流体を供給する(第四の供給操作)。
この際、再生用流体の原料となる流体(以下、原料流体ともいう。)を、再生流体供給部32から配管L5を介して加熱器33へと移送する。
本実施形態では、原料流体を加熱器33で加熱することで、気体の再生用流体とする。再生用流体としては、高温かつ気体の流体が好ましい。配管L6を介して、再生用流体を噴霧器34から脱着領域31の内部に供給する。脱着領域31の内部に供給された再生用流体は、吸着体10の吸着剤に接触する(第二の接触操作)。
再生用流体が吸着剤に接触すると、温度スイング吸着(TSA)の原理により、吸着剤に吸着している二酸化炭素が脱着する(脱着操作)。
脱着した二酸化炭素と、再生用流体とは、バルブV1を開とすることで、配管L13から排出される(第三の排出操作)。
第四の供給操作において、吸着体10の吸着剤に再生用流体を吹き付けることが好ましい。吸着体10の吸着剤に再生用流体を吹き付けることで、より多くの二酸化炭素を脱着できる。
この際、再生用流体の原料となる流体(以下、原料流体ともいう。)を、再生流体供給部32から配管L5を介して加熱器33へと移送する。
本実施形態では、原料流体を加熱器33で加熱することで、気体の再生用流体とする。再生用流体としては、高温かつ気体の流体が好ましい。配管L6を介して、再生用流体を噴霧器34から脱着領域31の内部に供給する。脱着領域31の内部に供給された再生用流体は、吸着体10の吸着剤に接触する(第二の接触操作)。
再生用流体が吸着剤に接触すると、温度スイング吸着(TSA)の原理により、吸着剤に吸着している二酸化炭素が脱着する(脱着操作)。
脱着した二酸化炭素と、再生用流体とは、バルブV1を開とすることで、配管L13から排出される(第三の排出操作)。
第四の供給操作において、吸着体10の吸着剤に再生用流体を吹き付けることが好ましい。吸着体10の吸着剤に再生用流体を吹き付けることで、より多くの二酸化炭素を脱着できる。
再生用流体は、吸着剤から二酸化炭素を脱着できればよい。再生用流体としては、水蒸気、ヘリウムガス、水素ガス、アルゴンガス、アンモニアガス等が挙げられる。再生用流体としては、無害で、かつ二酸化炭素との分離が容易なことから、水蒸気、ヘリウムガスが好ましく、水蒸気がより好ましい。
加熱器33における再生用流体の温度は、常圧で二酸化炭素を吸着剤から脱着できる温度であればよい。加熱器33における再生用流体の温度は、例えば、60℃以上が好ましく、60~200℃がより好ましく、100~180℃がさらに好ましく、120~160℃が特に好ましい。加熱器33における再生用流体の温度が上記下限値以上であると、より多くの二酸化炭素を脱着できる。加熱器33における再生用流体の温度が上記上限値以下であると、吸着剤の劣化を抑制できる。加えて、加熱器33における再生用流体の温度が上記上限値以下であると、エネルギーを節約できる。
なお、再生用流体が水蒸気の場合、再生用流体の温度は、100℃以上である。再生用流体の温度が100℃未満の場合、水蒸気が液体の水となってしまい、吸着剤の再生が困難となる。
なお、再生用流体が水蒸気の場合、再生用流体の温度は、100℃以上である。再生用流体の温度が100℃未満の場合、水蒸気が液体の水となってしまい、吸着剤の再生が困難となる。
再生用流体は、配管L7を介して吸着領域21の内部に供給されてもよい(第五の供給操作)。再生用流体を吸着領域21の内部に供給することにより、処理済空気の温度を上昇でき、特に冬場の暖房におけるエネルギー負荷を低減できる。
再生用流体を吸着領域21の内部に供給する場合、再生用流体の温度は、吸着領域21の内部で二酸化炭素が脱着しない温度である。二酸化炭素が脱着しない温度の温度範囲としては、例えば、処理対象空気の温度超60℃未満が挙げられる。再生用流体の温度が上記下限値超であると、暖房におけるエネルギー負荷を低減できる。再生用流体の温度が上記上限値未満であると、吸着領域21の内部で二酸化炭素が脱着することを抑制できる。
なお、再生用流体が水蒸気(水)の場合、噴霧器36を介して、吸着領域21の内部に液体の水を噴霧してもよい。この場合、処理済空気を温めるとともに、処理済空気の湿度を調節できる。
再生用流体を吸着領域21の内部に供給する場合、再生用流体の温度は、吸着領域21の内部で二酸化炭素が脱着しない温度である。二酸化炭素が脱着しない温度の温度範囲としては、例えば、処理対象空気の温度超60℃未満が挙げられる。再生用流体の温度が上記下限値超であると、暖房におけるエネルギー負荷を低減できる。再生用流体の温度が上記上限値未満であると、吸着領域21の内部で二酸化炭素が脱着することを抑制できる。
なお、再生用流体が水蒸気(水)の場合、噴霧器36を介して、吸着領域21の内部に液体の水を噴霧してもよい。この場合、処理済空気を温めるとともに、処理済空気の湿度を調節できる。
脱着工程における脱着領域31の内部の温度は、常圧で二酸化炭素を吸着剤から脱着できる温度であればよい。脱着工程における脱着領域31の内部の温度は、例えば、60℃以上が好ましく、60~200℃がより好ましく、100~180℃がさらに好ましく、120~160℃が特に好ましい。脱着領域31の内部の温度が上記下限値以上であると、より多くの二酸化炭素を脱着できる。脱着領域31の内部の温度が上記上限値以下であると、吸着剤の劣化を抑制できる。加えて、エネルギーを節約できる。
脱着領域31の内部の温度は、脱着領域31の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
脱着領域31の内部の温度は、脱着領域31の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
第三の排出操作における混合流体(二酸化炭素及び再生用流体)中の二酸化炭素の濃度は、例えば、1000ppm以上が好ましく、1000~5000ppmがより好ましく、2000~4000ppmがさらに好ましい。混合流体中の二酸化炭素の濃度が上記下限値以上であると、より多くの二酸化炭素を再利用できる。混合流体中の二酸化炭素の濃度が上記上限値以下であると、混合流体の管理がより容易になる。
混合流体中の二酸化炭素の濃度は、再生用流体の種類、量、温度、脱着領域31の内部の温度、脱着工程における時間、及びこれらの組合せにより調節できる。
混合流体中の二酸化炭素の濃度は、再生用流体の種類、量、温度、脱着領域31の内部の温度、脱着工程における時間、及びこれらの組合せにより調節できる。
<乾燥工程>
乾燥工程は、二酸化炭素が脱着した吸着剤に、乾燥用流体を接触させることで、吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる工程である。
吸着剤に付着している水分は、処理対象空気等の空気中に存在する水分であってもよく、再生用流体に由来する水分であってもよい。
乾燥工程は、二酸化炭素が脱着した吸着剤に、乾燥用流体を接触させることで、吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる工程である。
吸着剤に付着している水分は、処理対象空気等の空気中に存在する水分であってもよく、再生用流体に由来する水分であってもよい。
乾燥工程では、まず、乾燥流体供給部42から乾燥領域41に、乾燥用流体を供給する(第六の供給操作)。
この際、乾燥用流体を、乾燥流体供給部42から配管L8を介して加熱器43へと移送する。
本実施形態では、乾燥用流体を加熱器43で加熱することで、気体の乾燥用流体(ドライガス)とする(加熱工程)。バルブV2を開とすることで、配管L9を介して、乾燥用流体を噴霧器44から乾燥領域41の内部に供給する。乾燥領域41の内部に供給された乾燥用流体は、吸着体10の吸着剤に接触する(第三の接触操作)。
乾燥用流体が吸着剤に接触すると、吸着剤に付着している水分が脱着し、吸着剤を乾燥させる(乾燥操作)。
特に、再生用流体として水蒸気を用いた場合、吸着剤に多くの水分が付着しているため、乾燥工程による効果が顕著となる。吸着剤に付着した水分は、二酸化炭素を吸着する際の妨害物質となるため、乾燥工程を有することで、続く吸着工程における二酸化炭素の吸着効率をより高められる。加えて、吸着剤に付着した水分は、吸着剤の吸着能を低下させる原因物質となり得るため、乾燥工程を有することで、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下をより抑制できる。
この際、乾燥用流体を、乾燥流体供給部42から配管L8を介して加熱器43へと移送する。
本実施形態では、乾燥用流体を加熱器43で加熱することで、気体の乾燥用流体(ドライガス)とする(加熱工程)。バルブV2を開とすることで、配管L9を介して、乾燥用流体を噴霧器44から乾燥領域41の内部に供給する。乾燥領域41の内部に供給された乾燥用流体は、吸着体10の吸着剤に接触する(第三の接触操作)。
乾燥用流体が吸着剤に接触すると、吸着剤に付着している水分が脱着し、吸着剤を乾燥させる(乾燥操作)。
特に、再生用流体として水蒸気を用いた場合、吸着剤に多くの水分が付着しているため、乾燥工程による効果が顕著となる。吸着剤に付着した水分は、二酸化炭素を吸着する際の妨害物質となるため、乾燥工程を有することで、続く吸着工程における二酸化炭素の吸着効率をより高められる。加えて、吸着剤に付着した水分は、吸着剤の吸着能を低下させる原因物質となり得るため、乾燥工程を有することで、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下をより抑制できる。
脱着した水分と、乾燥用流体とは、バルブV3及びダンパD4を開とすることで、配管L15から排出される(第四の排出操作)。脱着した水分と、乾燥用流体とは、トイレ等の第3種換気ゾーンの近傍で排出され、エアバランスガスとして利用されてもよい。
第六の供給操作において、吸着体10の吸着剤に乾燥用流体を吹き付けることが好ましい。吸着体10の吸着剤に乾燥用流体を吹き付けることで、より多くの水分を脱着でき、吸着剤を乾燥させる効率をより高められる。
第六の供給操作において、吸着体10の吸着剤に乾燥用流体を吹き付けることが好ましい。吸着体10の吸着剤に乾燥用流体を吹き付けることで、より多くの水分を脱着でき、吸着剤を乾燥させる効率をより高められる。
乾燥用流体は、吸着剤から水分を脱着できればよい。乾燥用流体としては、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、乾燥空気等が挙げられる。乾燥用流体としては、もともと大気に含まれており、大気環境に害を与えないことから、窒素ガス、乾燥空気が好ましく、窒素ガスがより好ましい。
加熱器43における乾燥用流体の温度は、例えば、40℃以上が好ましく、40~200℃がより好ましく、60~180℃がさらに好ましく、80~160℃が特に好ましい。加熱器43における乾燥用流体の温度が上記下限値以上であると、より多くの水分を脱着できる。加熱器43における乾燥用流体の温度が上記上限値以下であると、吸着剤の劣化を抑制できる。加えて、加熱器43における乾燥用流体の温度が上記上限値以下であると、エネルギーを節約できる。
吸着剤からの水分の脱着は、乾燥用流体の温度が高いほど有利である。本実施形態では、加熱工程を有するため、吸着剤から水分を脱着する効率をより高められる。
吸着剤からの水分の脱着は、乾燥用流体の温度が高いほど有利である。本実施形態では、加熱工程を有するため、吸着剤から水分を脱着する効率をより高められる。
乾燥工程における乾燥領域41の内部の温度は、常圧で水分を吸着剤から脱着できる温度であればよい。乾燥工程における乾燥領域41の内部の温度は、例えば、40℃以上が好ましく、40~200℃がより好ましく、60~180℃がさらに好ましく、80~160℃が特に好ましい。乾燥領域41の内部の温度が上記下限値以上であると、より多くの水分を脱着できる。乾燥領域41の内部の温度が上記上限値以下であると、続く吸着工程での二酸化炭素の吸着効率をより高められる。加えて、エネルギーを節約できる。
乾燥領域41の内部の温度は、乾燥領域41の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
乾燥領域41の内部の温度は、乾燥領域41の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
<回収工程>
脱着領域31から排出された混合流体は、配管L13と配管L14とを介して回収容器50へと供給される(第六の供給操作)。この際、他の空気調和装置から排出され、配管L14を通流した混合流体と合流させてもよい。
脱着領域31から排出された混合流体は、配管L13と配管L14とを介して回収容器50へと供給される(第六の供給操作)。この際、他の空気調和装置から排出され、配管L14を通流した混合流体と合流させてもよい。
回収容器50に供給された混合流体は、貯留される(貯留操作)。再生用流体が水蒸気の場合、貯留された混合流体は、例えば、回収容器50の内部の温度を60℃以下に冷却することで、気体の二酸化炭素と、液体の水とに容易に分離できる(分離操作)。再生用流体が水蒸気以外の場合は、例えば、二酸化炭素と再生用流体との分子量の違いを利用して両者を分離できる。
分離された二酸化炭素は、ボンベ等に回収され(回収操作)、炭素源として再利用可能である(カーボンリサイクル)。
再生用流体は、再生流体供給部32に移送することにより、再利用可能である。再生用流体が水蒸気の場合、分離操作で分離された水を、再生流体供給部32における加熱器33の熱源として用いることも可能である。
再生用流体は、再生流体供給部32に移送することにより、再利用可能である。再生用流体が水蒸気の場合、分離操作で分離された水を、再生流体供給部32における加熱器33の熱源として用いることも可能である。
このように、回収工程では、二酸化炭素は混合流体として回収される。
回収工程では、配管L13又は配管L14の流路内で二酸化炭素と再生用流体とを分離し、これを別々に回収してもよい。
回収工程では、配管L13又は配管L14の流路内で二酸化炭素と再生用流体とを分離し、これを別々に回収してもよい。
≪空気調和システム(ビル空調システム)≫
本発明の空気調和システム(ビル空調システム)は、上述の空気調和装置を異なるフロアに複数備えたものである。ビル空調システムでは、1つのフロアに本発明の空気調和装置が1以上あればよい。
例えば、2以上のフロアに空気調和装置を備えることで、貯留できる混合流体の量を増やすことができ、二酸化炭素の回収量を増加できる。この場合、異なるフロアの空気調和装置から排出された混合流体をフロアごとに貯留してもよく、1カ所にまとめて貯留してもよい。貯留できる混合流体の量は、空気調和装置の数に応じて増加できる。
本発明の空気調和システム(ビル空調システム)は、上述の空気調和装置を異なるフロアに複数備えたものである。ビル空調システムでは、1つのフロアに本発明の空気調和装置が1以上あればよい。
例えば、2以上のフロアに空気調和装置を備えることで、貯留できる混合流体の量を増やすことができ、二酸化炭素の回収量を増加できる。この場合、異なるフロアの空気調和装置から排出された混合流体をフロアごとに貯留してもよく、1カ所にまとめて貯留してもよい。貯留できる混合流体の量は、空気調和装置の数に応じて増加できる。
本発明の空気調和システムについて、例を挙げて説明する。
図3の空気調和システム300は、複数の空気調和ユニット310と、配管L50と、配管L51と、回収容器60とを有する。
空気調和ユニット310は、ビル301の各地上フロアFに設けられている。配管L51は、ビル301内の上下方向に延び、地上最上階から地下フロアBに至っている。配管L51は、ブースター送風機312を介して、地下フロアBの回収容器60に接続されている。各地上フロアFの空気調和ユニット310は、配管L50を介して、配管L51に接続されている。
図3の空気調和システム300は、複数の空気調和ユニット310と、配管L50と、配管L51と、回収容器60とを有する。
空気調和ユニット310は、ビル301の各地上フロアFに設けられている。配管L51は、ビル301内の上下方向に延び、地上最上階から地下フロアBに至っている。配管L51は、ブースター送風機312を介して、地下フロアBの回収容器60に接続されている。各地上フロアFの空気調和ユニット310は、配管L50を介して、配管L51に接続されている。
空気調和ユニット310は、図1の空気調和装置1における配管L13、配管L14及び回収容器50を除いた装置である。
配管L50としては、配管L13と同様の配管等が挙げられる。
配管L51としては、配管L14と同様のダクト等が挙げられる。
ブースター送風機312としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
回収容器60としては、回収容器50と同様のタンク等が挙げられる。
配管L50としては、配管L13と同様の配管等が挙げられる。
配管L51としては、配管L14と同様のダクト等が挙げられる。
ブースター送風機312としては、例えば、羽根車の回転運動によって気体にエネルギーを与える送風機等が挙げられる。
回収容器60としては、回収容器50と同様のタンク等が挙げられる。
本実施形態の空気調和システム300において、各地上フロアFの空気調和ユニット310から排出された混合流体は、配管L50を通流して配管L51に至る。配管L51に至った混合流体は、配管L51を流下し、ブースター送風機312によって回収容器60に充填される。
こうして、各フロアで二酸化炭素を回収し、これを集合させることで、より多くの二酸化炭素を回収できる。
こうして、各フロアで二酸化炭素を回収し、これを集合させることで、より多くの二酸化炭素を回収できる。
以上説明したように、本実施形態の空気調和装置によれば、外気及び居室内の空気から二酸化炭素を除去できる。このため、二酸化炭素の濃度を低減した処理済空気を居室に供給できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、二酸化炭素の吸脱着に加えて、吸着剤に付着している水分を乾燥できる。このため、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下を抑制できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、除去した二酸化炭素を回収できる。このため、回収した二酸化炭素を炭素源等のエネルギー源として利用できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、処理済空気を循環して利用できるため、居室に供給する空気を外気に頼らなくてもよい。このため、空調負荷の4割を占めると言われる外気負荷を低減できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、空調負荷を低減できるため、空調コストを削減でき、空調にかかるエネルギーを低減できる。このため、発電所における二酸化炭素の排出量の削減につながる。
本実施形態の空気調和装置によれば、外気の二酸化炭素を直接回収できるため、広く活用されれば、地球全体の二酸化炭素の削減につながる。加えて、外気の二酸化炭素を直接回収できるため、屋内排気のみから二酸化炭素を吸収していた従来技術に比べ、多量かつ安定的に二酸化炭素を回収できる。
本実施形態の空気調和装置、空気調和システムにより吸着、回収された二酸化炭素は、工業的な利用に必要な量を安定的に供給できる。このため、回収された二酸化炭素は、人工光合成等の化学工学プロセスによる、一酸化炭素、メタン、メタノール及びギ酸等のC1化合物の合成の材料、エタン、エチレン及びエタノール等のC2化合物の合成の材料、又は、プロピレン、ブテン等のオレフィン系化合物の合成の材料として、好適である。
このように、本発明の技術は、地球環境に有益な技術である。
本実施形態の空気調和装置によれば、二酸化炭素の吸脱着に加えて、吸着剤に付着している水分を乾燥できる。このため、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下を抑制できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、除去した二酸化炭素を回収できる。このため、回収した二酸化炭素を炭素源等のエネルギー源として利用できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、処理済空気を循環して利用できるため、居室に供給する空気を外気に頼らなくてもよい。このため、空調負荷の4割を占めると言われる外気負荷を低減できる。
本実施形態の空気調和装置によれば、空調負荷を低減できるため、空調コストを削減でき、空調にかかるエネルギーを低減できる。このため、発電所における二酸化炭素の排出量の削減につながる。
本実施形態の空気調和装置によれば、外気の二酸化炭素を直接回収できるため、広く活用されれば、地球全体の二酸化炭素の削減につながる。加えて、外気の二酸化炭素を直接回収できるため、屋内排気のみから二酸化炭素を吸収していた従来技術に比べ、多量かつ安定的に二酸化炭素を回収できる。
本実施形態の空気調和装置、空気調和システムにより吸着、回収された二酸化炭素は、工業的な利用に必要な量を安定的に供給できる。このため、回収された二酸化炭素は、人工光合成等の化学工学プロセスによる、一酸化炭素、メタン、メタノール及びギ酸等のC1化合物の合成の材料、エタン、エチレン及びエタノール等のC2化合物の合成の材料、又は、プロピレン、ブテン等のオレフィン系化合物の合成の材料として、好適である。
このように、本発明の技術は、地球環境に有益な技術である。
[第二実施形態]
≪空気調和装置≫
本発明の第二実施形態に係る空気調和装置について、図4に基づき詳細に説明する。第一実施形態と同じ構成には、同一の符号を付し、その説明を省略する。
図4に示すように、本実施形態の空気調和装置2は、吸着体72と、吸着手段20Bと、脱着手段30Bと、乾燥手段40Bと、を有する。吸着手段20Bは、吸着領域(容器70)を有する。脱着手段30Bは、脱着領域(容器70)を有する。乾燥手段40Bは、乾燥領域(容器70)を有する。容器70は、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とを兼ねる。吸着体72は、容器70の内部に位置している。吸着体72は、二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する。容器70には、配管L22と、配管L32と、配管L42とが接続されている。配管L22には、バルブV22が設けられている。配管L32には、バルブV32が設けられている。配管L42には、バルブV42が設けられている。
≪空気調和装置≫
本発明の第二実施形態に係る空気調和装置について、図4に基づき詳細に説明する。第一実施形態と同じ構成には、同一の符号を付し、その説明を省略する。
図4に示すように、本実施形態の空気調和装置2は、吸着体72と、吸着手段20Bと、脱着手段30Bと、乾燥手段40Bと、を有する。吸着手段20Bは、吸着領域(容器70)を有する。脱着手段30Bは、脱着領域(容器70)を有する。乾燥手段40Bは、乾燥領域(容器70)を有する。容器70は、吸着領域と、脱着領域と、乾燥領域とを兼ねる。吸着体72は、容器70の内部に位置している。吸着体72は、二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する。容器70には、配管L22と、配管L32と、配管L42とが接続されている。配管L22には、バルブV22が設けられている。配管L32には、バルブV32が設けられている。配管L42には、バルブV42が設けられている。
吸着手段20Bは、空気供給部22と、配管L21と、バルブV21と、吸着領域とを有する。バルブV21は、配管L21に設けられている。空気供給部22と容器70とは、配管L21で接続されている。容器70は、吸着領域を兼ねている。
脱着手段30Bは、再生流体供給部32と、配管L31と、バルブV31と、脱着領域とを有する。バルブV31は、配管L31に設けられている。再生流体供給部32と容器70とは、配管L31で接続されている。容器70は、脱着領域を兼ねている。
乾燥手段40Bは、乾燥流体供給部42と、配管L41と、バルブV41と、乾燥領域とを有する。バルブV41は、配管L41に設けられている。乾燥流体供給部42と容器70とは、配管L41で接続されている。容器70は、乾燥領域を兼ねている。
配管L21としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
配管L31としては、配管L21と同様の配管等が挙げられる。
配管L41としては、配管L21と同様の配管等が挙げられる。
配管L21、配管L31、配管L41には、ダンパやブロア、加熱器等(不図示)が設けられていてもよい。
バルブV21としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV31としては、バルブV21と同様の電磁弁等が挙げられる。
バルブV41としては、バルブV21と同様の電磁弁等が挙げられる。
容器70としては、金属製又は樹脂製のチャンバー等が挙げられる。
吸着体72としては、吸着剤を担持できる筐体等が挙げられる。
吸着剤としては、第一実施形態と同様の吸着剤が挙げられる。
配管L31としては、配管L21と同様の配管等が挙げられる。
配管L41としては、配管L21と同様の配管等が挙げられる。
配管L21、配管L31、配管L41には、ダンパやブロア、加熱器等(不図示)が設けられていてもよい。
バルブV21としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV31としては、バルブV21と同様の電磁弁等が挙げられる。
バルブV41としては、バルブV21と同様の電磁弁等が挙げられる。
容器70としては、金属製又は樹脂製のチャンバー等が挙げられる。
吸着体72としては、吸着剤を担持できる筐体等が挙げられる。
吸着剤としては、第一実施形態と同様の吸着剤が挙げられる。
配管L22としては、例えば、金属製又は樹脂製の配管等が挙げられる。
配管L32としては、配管L22と同様の配管等が挙げられる。
配管L42としては、配管L22と同様の配管等が挙げられる。
配管L22、配管L32、配管L42には、ダンパやブロア等(不図示)が設けられていてもよい。
バルブV22としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV32としては、バルブV22と同様の電磁弁等が挙げられる。
バルブV42としては、バルブV22と同様の電磁弁等が挙げられる。
配管L32としては、配管L22と同様の配管等が挙げられる。
配管L42としては、配管L22と同様の配管等が挙げられる。
配管L22、配管L32、配管L42には、ダンパやブロア等(不図示)が設けられていてもよい。
バルブV22としては、例えば、制御部(不図示)で開閉を制御できる電磁弁等が挙げられる。
バルブV32としては、バルブV22と同様の電磁弁等が挙げられる。
バルブV42としては、バルブV22と同様の電磁弁等が挙げられる。
≪吸着剤再生方法≫
本実施形態の吸着剤再生方法について、空気調和装置2を利用した空気調和方法を例にして説明する。
各工程について、以下に、図4に基づき詳細に説明する。
本実施形態の吸着剤再生方法について、空気調和装置2を利用した空気調和方法を例にして説明する。
各工程について、以下に、図4に基づき詳細に説明する。
<吸着工程>
バルブV22、バルブV32、バルブV42を閉としておく。
吸着工程では、まず、バルブV21を開、バルブV31を閉、バルブV41を閉とする。空気供給部22を運転して外気を吸引し、配管L21を介して、処理対象空気(外気)を容器70に供給する。容器70に供給された処理対象空気は、吸着体72の吸着剤に接触する。
吸着剤に接触した処理対象空気の二酸化炭素の一部又は全部は、吸着剤に吸着される。その結果、二酸化炭素の濃度が減少した処理済空気が得られる。
バルブV22、バルブV32、バルブV42を閉としておく。
吸着工程では、まず、バルブV21を開、バルブV31を閉、バルブV41を閉とする。空気供給部22を運転して外気を吸引し、配管L21を介して、処理対象空気(外気)を容器70に供給する。容器70に供給された処理対象空気は、吸着体72の吸着剤に接触する。
吸着剤に接触した処理対象空気の二酸化炭素の一部又は全部は、吸着剤に吸着される。その結果、二酸化炭素の濃度が減少した処理済空気が得られる。
処理済空気は、バルブV22を開とすることで、配管L22を介して、居室等に供給される。この際、容器70内に設けられたブロア等(不図示)を用いて処理済空気を居室等に供給してもよい。
処理済空気における二酸化炭素濃度は、第一実施形態における処理済空気の二酸化炭素濃度と同様である。
吸着工程における容器70の内部の温度は、第一実施形態の吸着工程における吸着領域21の内部の温度と同様である。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に冷却装置等(不図示)を導入し、その冷却装置により調節できる。
処理済空気における二酸化炭素濃度は、第一実施形態における処理済空気の二酸化炭素濃度と同様である。
吸着工程における容器70の内部の温度は、第一実施形態の吸着工程における吸着領域21の内部の温度と同様である。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に冷却装置等(不図示)を導入し、その冷却装置により調節できる。
<脱着工程>
次に、バルブV21とバルブV22とを閉とする。
脱着工程では、バルブV31を開とし、再生流体供給部32を稼働して、容器70に再生用流体を供給する。
再生用流体としては、第一実施形態における再生用流体と同様のものを適用できる。
容器70に供給された再生用流体は、吸着体72の吸着剤に接触する。再生用流体が吸着剤に接触すると、温度差を利用したTSAの原理により、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部が脱着する。
次に、バルブV21とバルブV22とを閉とする。
脱着工程では、バルブV31を開とし、再生流体供給部32を稼働して、容器70に再生用流体を供給する。
再生用流体としては、第一実施形態における再生用流体と同様のものを適用できる。
容器70に供給された再生用流体は、吸着体72の吸着剤に接触する。再生用流体が吸着剤に接触すると、温度差を利用したTSAの原理により、吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部が脱着する。
脱着工程における容器70の内部の温度は、第一実施形態の脱着工程における脱着領域31の内部の温度と同様である。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
脱着した二酸化炭素と、再生用流体とは、バルブV32を開とすることで、配管L32を介して、回収容器等に供給される。この際、容器70内に設けられたブロア等(不図示)を用いて、二酸化炭素と再生用流体とを回収容器等に供給してもよい。
二酸化炭素と再生用流体との混合流体中の二酸化炭素の濃度は、第一実施形態における第三の排出操作での混合流体中の二酸化炭素の濃度と同様である。
混合流体中の二酸化炭素の濃度は、再生用流体の種類、量、温度、容器70の内部の温度、脱着工程における時間、及びこれらの組合せにより調節できる。
二酸化炭素と再生用流体との混合流体中の二酸化炭素の濃度は、第一実施形態における第三の排出操作での混合流体中の二酸化炭素の濃度と同様である。
混合流体中の二酸化炭素の濃度は、再生用流体の種類、量、温度、容器70の内部の温度、脱着工程における時間、及びこれらの組合せにより調節できる。
<乾燥工程>
次に、バルブV31とバルブV32とを閉とする。
乾燥工程では、バルブV41を開とし、乾燥流体供給部42を稼働して、容器70に乾燥用流体を供給する。
乾燥用流体としては、第一実施形態における乾燥用流体と同様のものを適用できる。
容器70に供給された乾燥用流体は、吸着体72の吸着剤に接触する。乾燥用流体が吸着剤に接触すると、吸着剤に付着している水分が脱着し、吸着剤を乾燥させる。
吸着剤に付着している水分は、処理対象空気等の空気中に存在する水分であってもよく、再生用流体に由来する水分であってもよい。
次に、バルブV31とバルブV32とを閉とする。
乾燥工程では、バルブV41を開とし、乾燥流体供給部42を稼働して、容器70に乾燥用流体を供給する。
乾燥用流体としては、第一実施形態における乾燥用流体と同様のものを適用できる。
容器70に供給された乾燥用流体は、吸着体72の吸着剤に接触する。乾燥用流体が吸着剤に接触すると、吸着剤に付着している水分が脱着し、吸着剤を乾燥させる。
吸着剤に付着している水分は、処理対象空気等の空気中に存在する水分であってもよく、再生用流体に由来する水分であってもよい。
乾燥工程における容器70の内部の温度は、第一実施形態の乾燥工程における乾燥領域41の内部の温度と同様である。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
容器70の内部の温度は、容器70の内部に加熱装置等(不図示)を導入し、その加熱装置により調節できる。
脱着した水分と、乾燥用流体とは、バルブV42を開とすることで、配管L42から排出される。
乾燥工程を経た吸着剤は、二酸化炭素及び水分が脱着されている。このため、乾燥工程を経た吸着剤を用いて吸着工程を行うことにより、二酸化炭素の吸着効率をより高められる。加えて、乾燥工程を行うことにより、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下をより抑制できる。
乾燥工程を経た吸着剤は、二酸化炭素及び水分が脱着されている。このため、乾燥工程を経た吸着剤を用いて吸着工程を行うことにより、二酸化炭素の吸着効率をより高められる。加えて、乾燥工程を行うことにより、二酸化炭素を繰り返し吸脱着することによる吸着剤の吸着能の低下をより抑制できる。
本実施形態において、吸着工程と、脱着工程と、乾燥工程とは、任意の間隔で切替えることができる。
任意の間隔としては、例えば、1時間~24時間が挙げられる。任意の間隔が上記下限値以上であると、二酸化炭素の吸脱着、吸着剤の乾燥を充分に行うことができる。任意の間隔が上記上限値以下であると、処理対象空気の浄化(二酸化炭素の吸着)をより効率よく行うことができる。
任意の間隔は、処理済空気の二酸化炭素の濃度、混合流体中の二酸化炭素の濃度、容器70の内部の温度、及びこれらの組合せにより調節できる。
任意の間隔としては、例えば、1時間~24時間が挙げられる。任意の間隔が上記下限値以上であると、二酸化炭素の吸脱着、吸着剤の乾燥を充分に行うことができる。任意の間隔が上記上限値以下であると、処理対象空気の浄化(二酸化炭素の吸着)をより効率よく行うことができる。
任意の間隔は、処理済空気の二酸化炭素の濃度、混合流体中の二酸化炭素の濃度、容器70の内部の温度、及びこれらの組合せにより調節できる。
本実施形態の吸着剤再生方法では、供給する流体とバルブとを切り替えることにより、吸着工程、脱着工程、乾燥工程を順次行うことができる。
本実施形態では、一つの容器70が吸着領域、脱着領域及び乾燥領域を兼ねるため、空気調和装置2をコンパクトにできる。
本実施形態では、容器70の内部に吸着剤を収容することで、吸着体72とすることができる。このため、簡易な構造で二酸化炭素の吸脱着、吸着剤の乾燥を容易に行うことができる。
本実施形態では、吸着剤を容器70の内部の吸着体72全体に担持させることができるため、第一実施形態よりも多量の吸着剤に二酸化炭素を吸着できる。このため、より多くの二酸化炭素を回収できる。
本実施形態では、一つの容器70が吸着領域、脱着領域及び乾燥領域を兼ねるため、空気調和装置2をコンパクトにできる。
本実施形態では、容器70の内部に吸着剤を収容することで、吸着体72とすることができる。このため、簡易な構造で二酸化炭素の吸脱着、吸着剤の乾燥を容易に行うことができる。
本実施形態では、吸着剤を容器70の内部の吸着体72全体に担持させることができるため、第一実施形態よりも多量の吸着剤に二酸化炭素を吸着できる。このため、より多くの二酸化炭素を回収できる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変更が可能である。
上述の第一実施形態では、吸着体10は1つであるが、本発明はこれに限定されない。
例えば、吸着体の数は2つ以上でもよい。吸着体の数を2つ以上とすることで、より多くの吸着剤を適用でき、より多くの二酸化炭素を吸脱着できる。
上述の第二実施形態では、容器70の数は1つであるが、吸着領域と脱着領域と乾燥領域とを兼ねる容器の数は、2つ以上でもよい。2つ以上の容器を有することで、任意の容器で吸着工程を行い、他の任意の容器で脱着工程と乾燥工程とを行うことができる。このため、二酸化炭素の吸着と吸着剤の再生とを連続して行うことができる。
上述の実施形態では、1つのフロアに1つの空気調和装置が設置されているが、空気調和装置の数は、1つのフロアに2つ以上であってもよい。
1つのフロアに空気調和装置を2つ以上設置する場合、これらの空気調和装置は、互いに同じ種類のものであってもよく、異なる種類のものであってもよい。
例えば、吸着体の数は2つ以上でもよい。吸着体の数を2つ以上とすることで、より多くの吸着剤を適用でき、より多くの二酸化炭素を吸脱着できる。
上述の第二実施形態では、容器70の数は1つであるが、吸着領域と脱着領域と乾燥領域とを兼ねる容器の数は、2つ以上でもよい。2つ以上の容器を有することで、任意の容器で吸着工程を行い、他の任意の容器で脱着工程と乾燥工程とを行うことができる。このため、二酸化炭素の吸着と吸着剤の再生とを連続して行うことができる。
上述の実施形態では、1つのフロアに1つの空気調和装置が設置されているが、空気調和装置の数は、1つのフロアに2つ以上であってもよい。
1つのフロアに空気調和装置を2つ以上設置する場合、これらの空気調和装置は、互いに同じ種類のものであってもよく、異なる種類のものであってもよい。
1,2…空気調和装置、10,72…吸着体、20,20B…吸着手段、21…吸着領域、22…空気供給部、23…混合チャンバー、24…フィルター、26,B1…ブロア、30,30B…脱着手段、31…脱着領域、32…再生流体供給部、33,43…加熱器、34,36,44…噴霧器、40,40B…乾燥手段、41…乾燥領域、42…乾燥流体供給部、50,60…回収容器、70…容器、100…居室、101,102…給気口、110…排気口、300…空気調和システム、301…ビル、310…空気調和ユニット、312…ブースター送風機、O…回転軸、L1,L2,L3,L4,L5,L6,L7,L8,L9,L11,L12,L13,L14,L15,L16,L21,L22,L31,L32,L41,L42,L50,L51…配管、D1,D2,D3,D4,D5…ダンパ、V1,V2,V3,V21,V22,V31,V32,V41,V42…バルブ、201,202,203…分岐
Claims (9)
- 二酸化炭素吸着能を有する吸着剤を有する吸着体と、
前記吸着体に二酸化炭素を含む処理対象空気を接触させることで、前記処理対象空気から二酸化炭素の一部又は全部を前記吸着剤に吸着させる吸着手段と、
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に再生用流体を接触させることで、前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着手段と、
前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に乾燥用流体を接触させることで、前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥手段と、を有する、空気調和装置。 - 前記吸着手段における前記処理対象空気を前記吸着体に接触させる吸着領域と、
前記脱着手段における前記再生用流体を前記吸着体に接触させる脱着領域と、
前記乾燥手段における前記乾燥用流体を前記吸着体に接触させる乾燥領域とが、それぞれ独立している、請求項1に記載の空気調和装置。 - 前記吸着体が、前記吸着領域、前記脱着領域、前記乾燥領域の順に相対的に移動する、請求項2に記載の空気調和装置。
- 前記乾燥用流体を加熱する加熱手段をさらに有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の空気調和装置。
- 請求項1~4のいずれか一項に記載の空気調和装置を異なるフロアに複数備える、空気調和システム。
- 二酸化炭素を含む処理対象空気を吸着剤に接触させることで前記吸着剤に二酸化炭素の一部又は全部を吸着させる吸着工程と、
前記二酸化炭素が吸着した吸着剤に、再生用流体を接触させることで前記吸着剤に吸着している二酸化炭素の一部又は全部を脱着させる脱着工程と、
前記脱着工程の後に、前記二酸化炭素が脱着した吸着剤に、乾燥用流体を接触させることで前記吸着剤に付着している水分の一部又は全部を脱着させる乾燥工程と、を有し、
前記乾燥工程の後に、前記吸着工程を行う、吸着剤再生方法。 - 前記吸着工程と、前記脱着工程と、前記乾燥工程とを、それぞれ独立した領域で行う、請求項6に記載の吸着剤再生方法。
- 前記吸着剤を有する吸着体を相対的に移動させて、前記吸着工程、前記脱着工程、前記乾燥工程の順に行う、請求項6又は7に記載の吸着剤再生方法。
- 前記乾燥用流体を加熱する加熱工程をさらに有する、請求項6~8のいずれか一項に記載の吸着剤再生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021169414A JP2023059419A (ja) | 2021-10-15 | 2021-10-15 | 空気調和装置、空気調和システム及び吸着剤再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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