JP2023043726A5

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Publication number: JP2023043726A5
Application number: JP2021151503A
Authority: JP
Filing date: 2021-09-16
Publication date: 2024-07-16

Description

また、反射防止膜２５の表面に凹凸構造部７２を設けてもよい。この場合、凹凸構造部７２を有する反射防止膜２５は、レーザ光ＬＷの一部を吸収する薄膜体に該当する。
（付記１）
加工対象物を加工するためのレーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を走査する走査部を有し前記レーザ光を前記加工対象物に対して照射するレーザ照射部と、
前記レーザ光源及び前記走査部を制御する制御部と、を備え、
前記レーザ光源及び前記レーザ照射部の各々は、前記レーザ光を透過させるもしくは反射する少なくとも１つの光学素子を有し、
少なくとも１つの前記光学素子は、当該光学素子における前記レーザ光を透過させるもしくは反射する部分に一体的に設けられ前記レーザ光の一部を吸収する薄膜体を有するレーザ加工装置。
（付記２）
少なくとも１つの前記光学素子は、自身の表面に反射防止膜を有し、
前記薄膜体は、前記反射防止膜に含まれる付記１に記載のレーザ加工装置。
（付記３）
少なくとも１つの前記光学素子は、自身の表面に増反射膜を有し、
前記薄膜体は、前記増反射膜に含まれる付記１または付記２に記載のレーザ加工装置。
（付記４）
少なくとも１つの前記光学素子は、紫外線領域の前記レーザ光を透過させるもしくは反射するものであり、当該光学素子が有する前記薄膜体は、酸化チタン系の薄膜である付記１から付記３のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記５）
少なくとも１つの前記光学素子は、近赤外線領域の前記レーザ光を透過させるもしくは反射するものであり、当該光学素子が有する前記薄膜体は、酸化亜鉛系の薄膜である付記１から付記４のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記６）
前記レーザ照射部は、前記レーザ光源と前記走査部との間に配置されて前記レーザ光のビーム径を拡大するビームエキスパンダを有し、
前記ビームエキスパンダは、複数の前記光学素子を有するとともに、当該複数の前記光学素子のうち１つの前記光学素子は、前記レーザ光が入射する第１レンズであり、当該複数の前記光学素子のうち前記第１レンズとは異なる１つの前記光学素子は、前記第１レンズを透過した前記レーザ光が入射する第２レンズであり、
前記第１レンズは、前記薄膜体を有する付記１から付記５のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記７）
前記第１レンズは、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有し、前記第１レンズの前記入射面及び前記第１レンズの前記出射面の各々に前記薄膜体が設けられている付記６に記載のレーザ加工装置。
（付記８）
前記レーザ光源は、前記レーザ光を出射する光学窓である前記光学素子を有し、
前記光学窓は、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有し、前記光学窓の前記出射面に前記薄膜体が設けられている付記１から付記７のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記９）
少なくとも１つの前記光学素子は、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有するとともに、当該光学素子の前記入射面及び当該光学素子の前記出射面の少なくとも一方の面における、少なくとも前記レーザ光が照射されるもしくは通過する範囲の全体に、前記薄膜体を有する付記１から付記８のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記１０）
前記レーザ光の光路上に配置されて前記レーザ光を透過させるもしくは反射する全ての前記光学素子は、前記薄膜体を有する付記１から付記９のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。
（付記１１）
前記薄膜体における吸収率の最も高いレーザ光の波長は、当該薄膜体を有する前記光学素子を透過するもしくは当該薄膜体を有する前記光学素子が反射する前記レーザ光のスペクトルのピーク波長とは異なる波長である付記１から付記１０のいずれか１つに記載のレーザ加工装置。

Claims

加工対象物を加工するためのレーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射された前記レーザ光を走査する走査部を有し前記レーザ光を前記加工対象物に対して照射するレーザ照射部と、
前記レーザ光源及び前記走査部を制御する制御部と、
を備え、
前記レーザ光源及び前記レーザ照射部の各々は、前記レーザ光を透過させるもしくは反射する少なくとも１つの光学素子を有し、
少なくとも１つの前記光学素子は、当該光学素子における前記レーザ光を透過させるもしくは反射する部分に一体的に設けられ前記レーザ光の一部を吸収する薄膜体を有するレーザ加工装置。
少なくとも１つの前記光学素子は、自身の表面に反射防止膜を有し、
前記薄膜体は、前記反射防止膜に含まれる請求項１に記載のレーザ加工装置。
少なくとも１つの前記光学素子は、自身の表面に増反射膜を有し、
前記薄膜体は、前記増反射膜に含まれる請求項２に記載のレーザ加工装置。
少なくとも１つの前記光学素子は、紫外線領域の前記レーザ光を透過させるもしくは反射するものであり、当該光学素子が有する前記薄膜体は、酸化チタン系の薄膜である請求項２に記載のレーザ加工装置。
少なくとも１つの前記光学素子は、近赤外線領域の前記レーザ光を透過させるもしくは反射するものであり、当該光学素子が有する前記薄膜体は、酸化亜鉛系の薄膜である請求項２に記載のレーザ加工装置。
前記レーザ照射部は、前記レーザ光源と前記走査部との間に配置されて前記レーザ光のビーム径を拡大するビームエキスパンダを有し、
前記ビームエキスパンダは、複数の前記光学素子を有するとともに、当該複数の前記光学素子のうち１つの前記光学素子は、前記レーザ光が入射する第１レンズであり、当該複数の前記光学素子のうち前記第１レンズとは異なる１つの前記光学素子は、前記第１レンズを透過した前記レーザ光が入射する第２レンズであり、
前記第１レンズは、前記薄膜体を有する請求項２に記載のレーザ加工装置。
前記第１レンズは、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有し、前記第１レンズの前記入射面及び前記第１レンズの前記出射面の各々に前記薄膜体が設けられている請求項６に記載のレーザ加工装置。
前記レーザ光源は、前記レーザ光を出射する光学窓である前記光学素子を有し、
前記光学窓は、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有し、前記光学窓の前記出射面に前記薄膜体が設けられている請求項２に記載のレーザ加工装置。
少なくとも１つの前記光学素子は、前記レーザ光が入射する入射面と、前記レーザ光が出射する出射面とを有するとともに、当該光学素子の前記入射面及び当該光学素子の前記出射面の少なくとも一方の面における、少なくとも前記レーザ光が照射されるもしくは通過する範囲の全体に、前記薄膜体を有する請求項２に記載のレーザ加工装置。
前記レーザ光の光路上に配置されて前記レーザ光を透過させるもしくは反射する全ての前記光学素子は、前記薄膜体を有する請求項２に記載のレーザ加工装置。
前記薄膜体における吸収率の最も高いレーザ光の波長は、当該薄膜体を有する前記光学素子を透過するもしくは当該薄膜体を有する前記光学素子が反射する前記レーザ光のスペクトルのピーク波長とは異なる波長である請求項２に記載のレーザ加工装置。