JP2023036036A - 極性基含有オレフィン共重合体、及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】側鎖にラクトン構造が導入されている新規な極性基含有オレフィン共重合体を提供する。【解決手段】エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーに由来する構造単位（Ａ）と、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位（Ｂ）と、を含むことを特徴とする極性基含有オレフィン共重合体。JPEG2023036036000025.jpg57138【選択図】なし

Description

本開示は、新規な極性基含有オレフィン共重合体及びその製造方法に関し、詳しくは、側鎖にラクトン構造が導入されている新規な極性基含有オレフィン共重合体及びその製造方法に関するものである。

エチレン重合体及びエチレンとα－オレフィンの共重合体などのオレフィン系重合体は、樹脂材料の中で物性や成形性などの諸性質に優れ、経済性や環境問題適合性なども高い。そのため、オレフィン系重合体は、非常に汎用されかつ重要な産業資材である。
しかし、オレフィン系重合体は極性基を持たないため、他の材料との接着性や印刷適性、或いはフィラーなどとの相溶性の物性が要求される用途への適用は困難であった。

近年、ポリオレフィンに極性基が導入された極性基含有オレフィン共重合体のニーズが増加し、種々の共重合体例が報告されている。
極性基含有オレフィン共重合体としては、従来、側鎖に極性基を有する共重合体が知られている。例えば、エチレンと、アクリル酸エステルやビニルケトンとを共重合することで得られる、側鎖にカルボニル基を有する共重合体等がある（例えば、特許文献１）。

一方、二酸化炭素は、安価で入手容易な炭素源であり、有効利用が望まれる。特許文献２には、高分子材料に二酸化炭素を利用した例として、二酸化炭素と１，３－ジエン類から製造したラクトンモノマーを、ラジカル重合することにより得られた単独重合体が開示されている。また、特許文献３には、前記ラクトンモノマーとメタクリル酸エステルモノマーとのラジカル共重合から得られたメタクリル酸エステル系共重合体が開示されている。当該メタクリル酸エステル系共重合体は、主鎖骨格にラクトン環を有していると記載されている。特許文献３は、ポリメタクリル酸エステル系樹脂の光学的透明性や加工性を損なうことなく、耐熱性を改善した樹脂材料を提供することを目的としている。

特許第６３０９２０６号 特開２０１４－２４０４７６号公報 特開２０１８－１６８３０１号公報

特許文献２及び３には、前記ラクトンモノマーを非極性モノマーであるオレフィンモノマーと共重合することは、一切記載がない。
本開示は、オレフィン系重合体の高機能化のために、ポリマー鎖の側鎖にラクトン構造が導入されている、新規な極性基含有オレフィン共重合体を提供することを目的とする。

本開示は以下の［１］～［６］に関する。
［１］ エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーに由来する構造単位（Ａ）と、
下記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位（Ｂ）と、
を含むことを特徴とする極性基含有オレフィン共重合体。

［一般式（Ｉ）中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]

［一般式（ＩＩ）中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

［２］ ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求められる重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５～５．０の範囲であることを特徴とする、前記［１］に記載の極性基含有オレフィン共重合体。

［３］ 前記構造単位（Ａ）がエチレンに由来し、且つ、^１３Ｃ－ＮＭＲにより算出されるメチル分岐度が、炭素１，０００個当たり２０．０以下であることを特徴とする、前記［１］又は［２］に記載の極性基含有オレフィン共重合体。

［４］ 前記［１］～［３］のいずれか１項に記載の極性基含有オレフィン共重合体を製造する方法であって、周期表第４～１０族の遷移金属触媒の存在下で前記極性基含有オレフィン共重合体を製造することを特徴とする、極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
［５］ 前記遷移金属触媒が、ニッケル又はパラジウム金属にキレート性ホスフィン化合物又はキレート性カルベン化合物が配位した遷移金属触媒であることを特徴とする、前記［４］に記載の極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。

［６］ 周期表第４～１０族の遷移金属を含む触媒の存在下で、
下記モノマー（Ａ）と下記モノマー（Ｂ）とを重合させることを特徴とする、極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
モノマー（Ａ）：エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
モノマー（Ｂ）：下記一般式（１）で表されるラクトンモノマー及び下記一般式（２）で表されるラクトンモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種

［一般式（１）中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]

［一般式（２）中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合しＲ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

本開示によれば、ポリマー鎖の側鎖にラクトン構造が導入されている、新規な極性基含有オレフィン共重合体を提供することができる。

図１は、実施例８の極性基含有オレフィン共重合体８の^１Ｈ－ＮＭＲ測定結果を示す。 図２は、実施例１１の極性基含有オレフィン共重合体１１の^１Ｈ－ＮＭＲ測定結果を示す。 図３は、実施例１２の極性基含有オレフィン共重合体１２の^１３Ｃ－ＮＭＲ測定結果を示す。

以下、本開示の極性基含有オレフィン共重合体について、項目毎に詳細に説明する。
なお、本明細書において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及びメタクリルの各々を示す。
また、本明細書において数値範囲を示す「～」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
さらに、アルキル基の構造異性体の接頭辞において、「ｉ」はイソ、「ｎ］はノルマル、「ｓ」はセカンダリー、「ｔ」はターシャリーを表す。なお、アルキル基に構造異性体の接頭辞が記載されていない場合は、ノルマル構造であることを示す。

１．極性基含有オレフィン共重合体
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーに由来する構造単位（Ａ）と、
下記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位（Ｂ）と、
を含むことを特徴とする。

［一般式（Ｉ）中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]

［一般式（ＩＩ）中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、ポリマー鎖の側鎖にラクトン構造が導入されている、新規な極性基含有オレフィン共重合体であり、オレフィン系重合体の高機能化に寄与する。

本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば下記のように、導入されている側鎖のラクトン構造を加水分解することにより、酸やアルコールを有する極性基含有オレフィン共重合体を容易に作ることができる。

また、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有する場合、側鎖にエチレン性不飽和基を有するため後変性を行うことが可能である。後変性の例としては、架橋が挙げられ、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、マクロモノマーとしても有望である。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有する場合、側鎖にエノン構造を有するため、例えばＭｉｃｈａｅｌ付加反応などの基質として利用することも可能である。
以上のように、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、多様な複合材料へと変換される原料になり得ることが期待できる。

また、前記構造単位（Ｂ）を誘導するエチレン性不飽和基を有する６員環のラクトンモノマーは、二酸化炭素からも誘導できることから、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、カーボンリサイクル樹脂としての新しい付加価値がある。

（１）構造単位（Ａ）
構造単位（Ａ）は、エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマー（Ａ）に由来する構造単位である。
本開示に用いられるモノマー（Ａ）は、エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種である。炭素数３～２０のオレフィンは、鎖状オレフィンであっても環状オレフィンであってもよく、炭素数３～２０のα－オレフィン及び炭素数４～２０の環状オレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
本開示に用いられる炭素数３～２０のα－オレフィンは、構造式：ＣＨ_２＝ＣＨＲ^２０で表される炭素数３～２０のα－オレフィン（Ｒ^２０は炭素数１～１８の炭化水素基であり、直鎖構造であっても分岐を有していてもよい）であり、より好ましくは、炭素数３～１２のα－オレフィンである。
また、炭素数４～２０の環状オレフィンは、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、ノルボルネン等が挙げられる。

モノマー（Ａ）の具体例としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－オクテン、１－デセン、３－メチル－１－ブテン、４－メチル－１－ペンテン、及びノルボルネン等が挙げられる。モノマー（Ａ）としては、重合体の製造効率の点から、中でも、エチレン、プロピレン、１－ブテン、及びノルボルネンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、更に、エチレンまたはプロピレンであることが好ましい。
また、構造単位（Ａ）は、１種単独であってもよいし、２種以上であってもよい。

二種の組み合わせとしては、エチレン－プロピレン、エチレン－１－ブテン、エチレン－１－ヘキセン、エチレン－１－オクテン、プロピレン－１－ブテン、プロピレン－１－ヘキセン、プロピレン－１－オクテン、エチレン－ノルボルネンなどに由来する構造単位が挙げられる。
三種の組み合わせとしては、エチレン－プロピレン－１－ブテン、エチレン－プロピレン－１－ヘキセン、エチレン－プロピレン－１－オクテン、プロピレン－１－ブテン－ヘキセン、プロピレン－１－ブテン－１－オクテンに由来する構造単位などが挙げられる。

本開示においては、構造単位（Ａ）に用いられるモノマー（Ａ）としては、好ましくは、エチレン及びプロピレンの少なくとも１種を必須で含み、より好ましくは、エチレンまたはプロピレンを必須で含み、必要に応じて少なくとも１種の炭素数３～２０のα－オレフィンをさらに含んでもよい。
モノマー（Ａ）中のエチレンは、モノマー（Ａ）全体１００ｍｏｌ％に対して、６５ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよく、７０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよく、９０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよい。
モノマー（Ａ）中のプロピレンは、モノマー（Ａ）全体１００ｍｏｌ％に対して、６５ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよく、７０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよく、９０ｍｏｌ％～１００ｍｏｌ％であってもよい。

（２）構造単位（Ｂ）
構造単位（Ｂ）は、下記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位である。

［一般式（Ｉ）中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]

［一般式（ＩＩ）中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基における炭素数１～３０の炭化水素基としては、例えば、直鎖、分岐、環状の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。前記炭素数１～３０の炭化水素基としては、例えば、下記炭素数１～３０のアルキル基の例の他、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等のアルケニル基、フェニル基、メチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、ｉ－プロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｉ－ブチルフェニル基、ｓ－ブチルフェニル基、ｔ－ブチルフェニル基、ｎ－ヘキシルフェニル基、トリメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基等のアラルキル基等を挙げることができる。

また、炭素数１～３０のアルキル基としては、例えば、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、メチル基、エチル基、１－プロピル基、１－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－ヘプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基、ｔ－ブチル基、トリシクロヘキシルメチル基、イソプロピル基、１－ジメチルプロピル基、１，１，２－トリメチルプロピル基、１，１－ジエチルプロピル基、イソブチル基、１，１－ジメチルブチル基、２－ペンチル基、３－ペンチル基、２－ヘキシル基、３－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－ヘプチル基、３－ヘプチル基、４－ヘプチル基、２－プロピルヘプチル基、２－オクチル基、３－ノニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、ノルボルニル基、等を挙げることができる。

前記炭素数１～３０の炭化水素基としては、炭素数１～１０の炭化水素基であってよく、炭素数１～６の炭化水素基であってよく、炭素数１～３の炭化水素基であってよい。
前記炭素数１～３の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、１－プロピル基、又はイソプロピル基であってよく、メチル基又はエチル基であってよく、メチル基であってよい。

置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基は、置換基を有する炭素数１～３０の炭化水素基と置換基を有しない炭素数１～３０の炭化水素基を包含する。
前記炭化水素基が置換基を有する場合の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ホルミル基、エポキシ基、炭素数１～３０のアルコキシ基、炭素数６～３０のアリールオキシ基、炭素数１～３０の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基、炭素数１～３０のアシルオキシ基、炭素数１～３０のアシル基、炭素数１～３０のアルコキシカルボニル基、炭素数６～３０のアリールオキシカルボニル基等が挙げられる。なお、置換基に含まれる炭素数は、前記炭化水素基の炭素数に含まれないものとする。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

また、炭素数１～３０のアルコキシ基は、－ＯＲ^ａで示される１価の基であり、ここでＲ^ａは、炭素数１～３０のアルキル基又は炭素数７～３０のアラルキル基を示す。当該アルコキシ基における炭素数は、下限値が１以上であればよく、２以上であってもよく、上限値は３０以下であればよく、２０以下であってもよく、１０以下であってもよい。
Ｒ^ａにおける炭素数１～３０のアルキル基及び炭素数７～３０のアラルキル基は、前記炭素数１～３０の炭化水素基のうち、炭素数１～３０のアルキル基及び炭素数７～３０のアラルキル基に相当するものを挙げることができる。

炭素数１～３０のアルコキシ基の具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基，ｉ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ｎ－ヘキシロキシ基、シクロプロポキシ基、シクロペントキシ基、シクロヘキシロキシ基、ｎ－オクトキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ベンジルオキシ基等を好適に挙げることができる。

また、炭素数６～３０のアリールオキシ基は、－ＯＲ^ａ’で示される１価の基であり、ここでＲ^ａ’は、炭素数６～３０のアリール基を示す。当該アリール基における炭素数は、下限値が６以上であればよく、８以上であってもよく、上限値は３０以下であればよく、２０以下であってもよく、１２以下であってもよい。
Ｒ^ａ’における炭素数６～３０のアリール基は、前記炭素数１～３０の炭化水素基のうち、炭素数６～３０のアリール基に相当するものを挙げることができる。

炭素数６～３０のアリールオキシ基の具体例としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ－ブチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、フルオレニルオキシ基、アントラセニルオキシ基等を挙げることができる。

炭素数１～３０の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基は、－Ｎ（Ｒ^ｂ）Ｒ^ｃで示される１価の基であり、ここでＲ^ｂ及びＲ^ｃはそれぞれ独立に、水素原子、又は炭素数１～３０の炭化水素基を示す。当該置換アミノ基に置換される炭化水素基の炭素数は、下限値が１以上であればよく、２以上であってもよく、上限値は３０以下であればよく、２０以下であってもよく、１０以下であってもよい。
Ｒ^ｂ及びＲ^ｃにおける炭素数１～３０の炭化水素基は、前記炭素数１～３０の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。

炭素数１～３０の炭化水素基で置換されていてもよいアミノ基の具体例としては、例えば、アミノ基（－ＮＨ_２）、モノメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、モノエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モノイソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、モノフェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基等を好適に挙げることができる。

前記炭素数１～３０のアシルオキシ基は、－ＯＣＯＲ^ｄで示される１価の基であり、ここでＲ^ｄは、炭素数１～３０の炭化水素基を示す。
前記炭素数１～３０のアシル基は、－ＣＯＲ^ｅで示される１価の基であり、ここでＲ^ｅは、炭素数１～３０の炭化水素基を示す。
炭素数１～３０のアルコキシカルボニル基は、－ＣＯＯＲ^ｆで示される１価の基であり、ここでＲ^ｆは、炭素数１～３０のアルキル基又は炭素数７～３０のアラルキル基を示す。また、炭素数６～３０のアリールオキシカルボニル基は、－ＣＯＯＲ^ｆ’で示される１価の基であり、ここでＲ^ｆ’は、炭素数６～３０のアリール基を示す。

当該アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基における炭素数は、カルボニル基の炭素数は含まれず、前記Ｒ^ｄ、Ｒ^ｅ、Ｒ^ｆ、及びＲ^ｆ’における炭素数をいい、下限値が１以上であればよく、２以上であってもよく、上限値は３０以下であればよく、２０以下であってもよく、１０以下であってもよい。
炭素数１～３０の炭化水素基としては、前記炭素数１～３０の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。Ｒ^ｆ、及びＲ^ｆ’は、Ｒ^ａ、及びＲ^ａ’と同様であってよい。

炭素数１～３０のアシルオキシ基の具体例としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等を好適に挙げることができる。
炭素数１～３０のアシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、（メタ）アクリロイル基、ベンゾイル基等を好適に挙げることができる。

炭素数１～３０のアルコキシカルボニル基の具体例としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、２－エチルヘキシロキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等を好適に挙げることができる。
炭素数６～３０のアリールオキシカルボニル基の具体例としては、フェノキシカルボニル基等を好適に挙げることができる。

一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、ｎは０、１又は２である。
ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、一般式（Ｉ）において、Ｒ^３およびＲ^４は存在せず、一般式（ＩＩ）において、Ｒ^１３およびＲ^１４は存在しない。ｎ＝０のとき、５員環のラクトンである。
ｎ＝１のとき、一般式（Ｉ）においてＣ（Ｒ^３）（Ｒ^４）は１つ存在し、一般式（ＩＩ）においてＣ（Ｒ^１３）（Ｒ^１４）は１つ存在し、６員環のラクトンである。
ｎ＝２のとき、一般式（Ｉ）においてＣ（Ｒ^３）（Ｒ^４）は２つ存在し、一般式（ＩＩ）においてＣ（Ｒ^１３）（Ｒ^１４）は２つ存在し、７員環のラクトンである。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であってよく、水素原子、メチル基又はエチル基であってよく、水素原子又はメチル基であってよい。
一般式（Ｉ）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、水素原子であってよく、Ｒ^１及びＲ^２の一方が水素原子で他方がメチル基であってよい。
また、一般式（Ｉ）中、Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基であってよく、水素原子又はメチル基であってよい。
ｎは０、１又は２であるが、ｎ＝１であってよい。

一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であってよく、水素原子、メチル基又はエチル基であってよく、水素原子又はメチル基であってよい。
一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は水素原子であってよく、Ｒ^１５およびＲ^１６はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基であってよく、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基であってよく、両方ともメチル基であってよい。
また、一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基であってよく、水素原子又はメチル基であってよい。
ｎは０、１又は２であるが、ｎ＝１であってよい。

構造単位（Ｂ）としては、例えば以下の構造単位が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

側鎖にエチレン性不飽和基を有するため後変性が可能である点から、前記構造単位（Ｂ）は、一般式（Ｉ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位であってよい。

（３）その他の構造単位（Ｃ）
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、前記構造単位（Ａ）、及び構造単位（Ｂ）とは異なるその他の構造単位（Ｃ）をさらに含んでいてもよい。その他の構造単位（Ｃ）としては、例えば、後述する周期表第４～１０族の遷移金属触媒の存在下でモノマー（Ａ）と共重合可能なモノマー由来の構造単位であってよい。そのようなモノマー（Ｃ）としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル、ビニルアミド、酢酸ビニル、酢酸アリル、３－酢酸ブテニル、３－シアノプロペン、メチルビニルエーテル、３－クロロプロペン、Ｎ－プロピリデンエテンアミン、３－（メチルチオ）－１－プロペン、３－（メチルスルフィニル）－１－プロペン、３－（メチルスルホニル）－１－プロペン、２－プロペン－１－スルホン酸メチル、及び２－プロペニルホスホン酸ジメチル、５－メトキシカルボニル－２－ノルボルネン、２－ノルボルネン－５－メタノール、９－エポキシ－１－デセン、炭酸ビニレン、ウンデセン酸エステル、ウンデセノール等を挙げることができる。
（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ－ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、前記構造単位（Ｂ）とは異なるラクトンモノマー由来の構造単位を含んでもよいが、含んでいないものでよい。

（４）極性基含有オレフィン共重合体
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーに由来する構造単位（Ａ）と、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び前記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位（Ｂ）とを含むものである。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、構造単位（Ａ）及び構造単位（Ｂ）をそれぞれ少なくとも１種含有し、合計２種以上のモノマーに由来する構造単位を含むことが必要である。

本開示において、極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ａ）の含量は、所望の物性に応じて適宜選択されればよい。極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ａ）の含量は、例えば、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して、下限値が８０．００ｍｏｌ％以上であってよく、９０．００ｍｏｌ％以上であってよく、好ましくは９５．００ｍｏｌ％以上であってよく、９７．００ｍｏｌ％以上であってよく、９９．００ｍｏｌ％以上であってもよい。一方、上限値は９９．９９ｍｏｌ％以下であってよく、９９．９８ｍｏｌ％以下であってよく、好ましくは９９．９０ｍｏｌ％以下であってよく、９９．８０ｍｏｌ％以下であってもよい。前記上限値と下限値は任意の組み合わせを採用できる。この中でも特に好ましくは、極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ａ）の含量は、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して、９０．００ｍｏｌ％～９９．９８ｍｏｌ％であってよく、９０．００ｍｏｌ％～９９．９０ｍｏｌ％であってよく、９０．００ｍｏｌ％～９９．８０ｍｏｌ％であってよい。

極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ｂ）の含量は、平均分子量や所望の物性に応じて適宜選択されればよい。極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ｂ）の含量は、例えば、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して、下限値が０．０１ｍｏｌ％以上であってよく、好ましくは０．０２ｍｏｌ％以上であってよく、０．１０ｍｏｌ％以上であってよく、０．２０ｍｏｌ％以上であってもよい。一方、上限値は２０．００ｍｏｌ％以下であってよく，好ましくは１０．００ｍｏｌ％以下であってよく、５．００ｍｏｌ％以下であってよく、３．００ｍｏｌ％以下であってよく、１．００ｍｏｌ％以下であってもよい。前記上限値と下限値は任意の組み合わせを採用できる。この中でも特に好ましくは極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ｂ）の含量は、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して、０．０２ｍｏｌ％～１０．００ｍｏｌ％であってよく、０．１０ｍｏｌ％～１０．００ｍｏｌ％であってよく、０．２０ｍｏｌ％～１０．００ｍｏｌ％であってよい。

本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、さらに、その他の構造単位（Ｃ）を少なくとも１種含むものであってもよい。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体がその他の構造単位（Ｃ）を含む場合、極性基含有オレフィン共重合体中のその他の構造単位（Ｃ）の含量は、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して、上限値は１０ｍｏｌ％以下であってよく、好ましくは６ｍｏｌ％以下であってよく、より好ましくは２ｍｏｌ％以下であってよい。本開示の極性基含有オレフィン共重合体がその他の構造単位（Ｃ）は０ｍｏｌ％であってよく、すなわち、極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）の合計含量が、構造単位全体１００ｍｏｌ％に対して１００ｍｏｌ％であってもよい。

なお、各モノマー１分子に由来する構造を、極性基含有オレフィン共重合体中の１構造単位と定義する。
そして、極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位全体を１００ｍｏｌ％とした時に各構造単位の比率をｍｏｌ％で表したものが構造単位量である。

本開示の極性基含有オレフィン共重合体では、構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）、及び必要に応じて含まれるその他の構造単位等のランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等が挙げられる。これらの中では、構造単位（Ｂ）を多く含むことが可能なランダム共重合体であってよい。

なお、構造単位量は、以下の方法で制御することが可能である。
１）触媒の選択
２）重合時に添加する各構造単位を誘導するモノマーの量
３）重合圧力
４）重合温度
共重合体中の構造単位（Ｂ）の構造単位量を増加させる具体的手段としては、重合時に添加するモノマー（Ｂ）の量の増加、モノマー（Ａ）の量の減少、及び、重合温度の上昇等が有効である。例えば、これらの因子を調節し、目的とするコポリマー領域に制御することが求められる。

本開示における極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位量は^１Ｈ－ＮＭＲスペクトル及び^１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルを用いて求められる。ＮＭＲスペクトルは後述の実施例に記載した方法によって測定することができる。

特に前記構造単位（Ａ）がエチレンに由来する場合、本開示における極性基含有オレフィン共重合体の^１３Ｃ－ＮＭＲにより算出されるメチル分岐度は、炭素１，０００個当たり２０．０以下であってよく、１５．０以下であってよく、１０．０以下であってよく、８．０以下であってよく、６．０以下であってよい。メチル分岐度が、この範囲を満たすと、弾性率が高く、成形体の機械強度も高くなりやすい。このメチル分岐度は、重合に使用する触媒の選択や、重合温度で制御することが可能である。オレフィン共重合体のメチル分岐度を低下させる具体的手段として、重合温度の低下が有効である。例えば、これらの因子を調節して、目的とするコポリマー領域に制御することができる。

なお、メチル分岐数の測定は、以下のように行われる。まず、２ｐｐｍ～６０ｐｐｍ、及び１７０ｐｐｍ～１８０ｐｐｍの炭素によるピークの積分強度の総和（Ｉ_トータル）を１，０００に規格化する。次に、２０ｐｐｍのメチル分岐のメチル炭素による信号の積分強度と３３ｐｐｍのメチル分岐のメチン炭素による信号の積分強度と３７ｐｐｍのメチル分岐のメチレン炭素による信号の積分強度との総和を４で割った値を求める（Ｉ_Ｂ１）。そして、炭素１，０００個あたりのメチル分岐数は、このＩ_Ｂ１および次式を用いて計算される。
メチル分岐数（個／炭素１０００個）＝Ｉ_Ｂ１×１０００／Ｉ_トータル
化学シフトは、ヘキサメチルジシロキサンのメチル炭素のピークを１．９８ｐｐｍとして設定する。他の炭素によるピークの化学シフトはこれを基準とする。

本開示における極性基含有オレフィン共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１，０００～２，０００，０００、好ましくは１０，０００～１，５００，０００、更に好ましくは２０，０００～１，０００，０００、より好ましくは３１，０００～８００，０００、より更に好ましくは３５，０００～８００，０００の範囲である。Ｍｗが１，０００以上であると機械的強度や耐衝撃性などの物性が充分となりやすく、Ｍｗが２，０００，０００以下であると成形加工が困難となることを抑制しやすい。

本開示における極性基含有オレフィン共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１，０００～２，０００，０００、好ましくは３，０００～１，５００，０００、更に好ましくは４，０００～１，０００，０００、より好ましくは５，０００～８００，０００、より更に好ましくは５，０００～６００，０００の範囲である。Ｍｎが１，０００以上であると機械的強度や耐衝撃性などの物性が充分となりやすく、Ｍｎが２００万以下であると成形加工が困難となることを抑制しやすい。

本開示における極性基含有オレフィン共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．５～５．０の範囲であってよく、好ましくは２．０～４．０、更に好ましくは２．２～３．５の範囲である。Ｍｗ／Ｍｎが１．５以上であると各種加工性が充分になりやすく、５．０以下であると機械物性が良好になりやすい。
また、本開示においては（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布パラメーターと表現することがある。

本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求められる。
本開示におけるＧＰＣの測定は、後述の実施例に記載した方法によって測定することができる。

２．極性基含有オレフィン共重合体の製造方法
本開示の極性基含有オレフィン共重合体の製造方法は、前記本開示の極性基含有オレフィン共重合体を製造する方法であって、周期表第４～１０族の遷移金属触媒の存在下で前記極性基含有オレフィン共重合体を製造することを特徴とする。

また、本開示の極性基含有オレフィン共重合体の製造方法は、周期表第４～１０族の遷移金属を含む触媒の存在下で、
下記モノマー（Ａ）と下記モノマー（Ｂ）とを重合させることを特徴とする。
モノマー（Ａ）：エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
モノマー（Ｂ）：下記一般式（１）で表されるラクトンモノマー及び下記一般式（２）で表されるラクトンモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種

［一般式（１）中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]

［一般式（２）中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合しＲ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

（１）触媒
前記本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、周期表第４～１０族の遷移金属触媒を含む触媒の存在下で重合してよい。この場合、前記構造単位（Ａ）と前記構造単位（Ｂ）とを含む共重合体を製造しやすい。
前記周期表第４～１０族の遷移金属触媒を含む触媒としては、前記構造単位（Ａ）を誘導するエチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーと前記構造単位（Ｂ）を誘導するエチレン性不飽和基を有するラクトンモノマーとを重合させることが可能なものであれば特に限定されない。遷移金属触媒は、例えば、周期表第５～１０族の遷移金属化合物であってよく、さらに、キレート性配位子を有する周期表第５～１０族の遷移金属化合物が挙げられる。

好ましい遷移金属の具体例として、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオビウム、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、白金、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、及びパラジウムなどが挙げられる。これらの中で好ましくは、第８～１０族の遷移金属であり、さらに好ましくは第１０族遷移金属である。当該第１０族遷移金属としては、ニッケル、パラジウム、及び白金が挙げられる。特に好ましくはニッケル（Ｎｉ）、及びパラジウム（Ｐｄ）である。これらの遷移金属は、単一であっても複数を併用してもよい。

キレート性配位子は、Ｐ、Ｎ、Ｏ、Ｃ、及びＳからなる群より選択される少なくとも２個の原子を有しており、二座配位（ｂｉｄｅｎｔａｔｅ）又は多座配位（ｍｕｌｔｉｄｅｎｔａｔｅ）であるリガンドを含み、電子的に中性又は陰イオン性である。Ｂｒｏｏｋｈａｒｔらによる総説に、その構造が例示されている（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，２０００，１００，１１６９）。
好ましくは、二座アニオン性Ｐ、Ｏ配位子として、例えば、リンスルホナート、リンカルボキシラート、リンフェノキシド、リンアルコキシド、リンエノラートが挙げられる。また、二座アニオン性Ｎ、Ｏ配位子として、例えば、サリチルアルドイミナートやピリジンカルボキシラートが挙げられる。そして、二座アニオン性Ｃ、Ｏ配位子として、例えば、カルベンフェノキシド、カルベンアルコキシド、カルベンカルボキシラートが挙げられる。その他に、ジイミン配位子、ジフェノキシド配位子、ジアミド配位子が挙げられる。

重合体の製造効率、重合体の分子量、並びに前記モノマー（Ａ）及び前記モノマー（Ｂ）との共重合性の点から、前記遷移金属を含む触媒としては、第８族～第１０族遷移金属からなる群より選ばれる後周期遷移金属を含む触媒であることが好ましい。中でも、第１０族遷移金属を含む触媒であることが好ましい。更に、第１０族遷移金属を含む触媒であり、当該１０族遷移金属への配位点として一つ以上のリン原子または酸素原子を含むキレート配位子を有することが好ましい。

重合体の製造効率、重合体の分子量、並びに前記モノマー（Ａ）及び前記モノマー（Ｂ）との共重合性の点から、前記遷移金属を含む触媒としては、中でも、下記一般式（１０１）、下記一般式（２０１）、及び下記一般式（２０２）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であってよい。また、ニッケル又はパラジウム金属にキレート性ホスフィン化合物又はキレート性カルベン化合物が配位した遷移金属触媒であってよい。

（一般式（１０１）中、Ｍは第１０族遷移金属を示す。ＱはＡ［－Ｓ（＝Ｏ）_２－Ｏ－］Ｍ、Ａ［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－］Ｍ、Ａ［－Ｏ－］Ｍ、Ａ［－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）－Ｏ－］Ｍ、又はＡ［－Ｓ－］Ｍの「［ ］」の中に示される２価の基を示し、Ｒは官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示す（ただし、両側のＡ、Ｍは基の結合方向を示すために記載している）。Ａは、Ｑとリン原子を連結する炭素数１～３０の２価の炭化水素基で官能基を有していてもよい。Ｌは金属から脱離可能な０価の配位子を示す。Ｒ^２５は水素原子、又は官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示す。Ｒ^２６とＲ^２７は官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示す。Ｒ^２５とＬは環を形成してもよく、Ｒ^２６とＲ^２７は環を形成してもよく、Ｒ^２６又はＲ^２７はＡと結合して環を形成してもよい。）

一般式（１０１）中、Ｍは第１０族遷移金属を示し、中でも、Ｎｉ、又はＰｄであることが好ましい。
Ｑは、－Ｓ（＝Ｏ）_２－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ）－Ｏ－、又は－Ｓ－で示される２価の基を表し、Ｍに１電子配位する部位である。前記各式の左側がＡに結合し、右側がＭに結合している。これらの中でも触媒活性の面から、Ｑは、－Ｓ（＝Ｏ）_２－Ｏ－が特に好ましい。
Ｒは官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示し、後述のＲ^２５における官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基と同様であってよい。

Ａは、Ｑとリン原子を連結する炭素数１～３０の２価の炭化水素基であり、当該炭化水素基は、官能基を有していてもよい。
炭素数１～３０の２価の炭化水素基としては、好ましくは、炭素数１～１２の２価の炭化水素基であり、より好ましくはアルキレン基、及びアリーレン基等、特に好ましくはアリーレン基が挙げられる。

Ａにおける炭化水素基の官能基としては、例えば、ハロゲン原子、－ＯＲ^α、－ＣＯ_２Ｒ^α、－ＣＯ_２Ｍ’、－ＣＯＮ（Ｒ^β）_２、－ＣＯＲ^α、－ＳＲ^α、－ＳＯ_２Ｒ^α、－ＳＯＲ^α、－ＯＳＯ_２Ｒ^α、－ＰＯ（ＯＲ^α）_２－ｙ（Ｒ^β）_ｙ、－ＣＮ、－ＮＨＲ^α、－Ｎ（Ｒ^α）_２、－Ｓｉ（ＯＲ^β）_３－ｘ（Ｒ^β）_ｘ、－ＯＳｉ（ＯＲ^β）_３－ｘ（Ｒ^β）_ｘ、－ＮＯ_２、－ＳＯ_３Ｍ’、－ＰＯ_３Ｍ’_２、－Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^α）_２Ｍ’、またはエポキシ含有基等が挙げられる（ここで、Ｒ^βは、水素原子または炭素数１～２０の炭化水素基を表し、Ｒ^αは、炭素数１～２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はホスホニウムを表し、ｘは０～３の整数を表し、ｙは０～２の整数を表す）。
ここでの炭素数１～２０の炭化水素基は、前記一般式（Ｉ）及び前記一般式（ＩＩ）における炭素数１～３０の炭化水素基のうち、炭素数１～２０の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。

Ａにおける炭素数１～３０の２価の炭化水素基としては、例えば、下記式（ａ－１）～（ａ－７）が挙げられる。下記式において、Ｒ^１０１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３０の炭化水素基、又は官能基である。Ｒ^１０１における、炭素数１～３０の炭化水素基は、前記一般式（Ｉ）及び前記一般式（ＩＩ）における炭素数１～３０の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。当該炭素数１～３０の炭化水素基は、中でも炭素数１～２０の炭化水素基が好ましく、炭素数１～１０の炭化水素基が更に好ましい。
Ａにおける炭素数１～３０の２価の炭化水素基としては、中でも、触媒活性の面から、下記式（ａ－７）であってよい。

Ｌは金属から脱離可能な０価の配位子を示す。
Ｌは、電子供与性基を有し、遷移金属Ｍに配位して金属錯体を安定化させることのできる化合物であることが好ましい。Ｌは、遷移金属に配位可能な原子として、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を有する炭素数１～２０の炭化水素化合物、或いは、遷移金属に配位可能な炭素－炭素不飽和結合を有する炭化水素化合物（ヘテロ原子を含有していてもよい）も使用することができる。Ｌの炭素数は、好ましくは１～１６であり、更に好ましくは１～１０である。

好ましいＬとしては、ピリジン類、ピペリジン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル誘導体、アリールニトリル誘導体、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、アミン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。

硫黄原子を有するＬとして、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）が挙げられる。
窒素原子を有するＬとして、アルキル基の炭素数１～１０のトリアルキルアミン、アルキル基の炭素数１～１０のジアルキルアミン、ピリジン、２，６－ジメチルピリジン（別名：２，６－ルチジン）、アニリン、２，６－ジメチルアニリン、２，６－ジイソプロピルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）、４－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）、アセトニトリル、ベンゾニトリル、キノリン、２－メチルキノリンなどが挙げられる。酸素原子を有するＬとして、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタンが挙げられる。錯体の安定性及び触媒活性の観点から、Ｌとしては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ピリジン、２，６－ジメチルピリジン（別名：２，６－ルチジン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン（ＴＭＥＤＡ）が好ましく、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、２，６－ジメチルピリジン（別名：２，６－ルチジン）がより好ましい。
なお、Ｒ^２５とＬは環を形成してもよい。そのような例として、シクロオクタ－１－エニル基を挙げることができ、これも本開示における好ましい態様である。

Ｒ^２５は水素原子、又は官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示し、Ｒ^２６とＲ^２７は官能基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基を示す。
Ｒ^２５とＲ^２６とＲ^２７における炭素数１～３０の炭化水素基は、前記一般式（Ｉ）及び前記一般式（ＩＩ）における炭素数１～３０の炭化水素基と同様のものを挙げることができる。
Ｒ^２５とＲ^２６とＲ^２７における官能基は、前記Ａにおける官能基と同様であってよい。

Ｒ^２５としては、好ましくは炭素数１～２０の炭化水素基、炭素数１～２０のハロゲン置換炭化水素基、或いは、アルコキシ基又はアリールオキシ基で置換された炭素数１～２０の炭化水素基である。そして、前記炭化水素基の炭素数はより好ましくは１～１０である。Ｒ^２５としては、具体的には、より好ましくは、炭素数１～３のアルキル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロフェニル基、１－（メトキシメチル）エチル基、１－（エトキシメチル）エチル基、１－（フェノキシメチル）エチル基、または１－（２，６－ジメチルフェノキシ基メチル）エチル基であり、より更に好ましくはメチル基又はベンジル基である。

Ｒ^２６及びＲ^２７は、遷移金属Ｍの近傍にあって、立体的及び／又は電子的に遷移金属Ｍに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ^２６及びＲ^２７は嵩高い方が好ましい。Ｒ^２６及びＲ^２７の好ましい炭素数は３～３０、より更に好ましくは６～２０である。

Ｒ^２６及びＲ^２７はそれぞれ、官能基を有していてもよい炭素数３～１０のアルキル基、官能基を有していてもよい炭素数６～２０のシクロアルキル基、官能基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基であることが好ましい。
Ｒ^２６及びＲ^２７における前記炭素数３～１０のアルキル基としては、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基が好ましい。

Ｒ^２６及びＲ^２７における官能基を有していてもよい炭素数６～２０のシクロアルキル基としては、官能基を有していてもよく、炭素数３～１０の直鎖又は分岐アルキル基が置換されていてもよいシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
また、例えば特開２０１８－１４１１３８号公報の段落０１０４～０１１３に記載されているシクロアルキル基（特開２０１８－１４１１３８号公報の段落０１０４～０１１３におけるＸは、本開示の一般式（１０１）においてＰ（リン原子）の結合位置を示す）であってもよい。

Ｒ^２６及びＲ^２７は、中でも、重合体分子量制御および極性モノマー共重合性制御の点から、炭素数３～１０の直鎖又は分岐アルキル基が置換されていてもよいシクロヘキシル基であることが好ましく、炭素数３～１０の直鎖又は分岐アルキル基が置換されているシクロヘキシル基であることがより好ましい。Ｒ^２６及びＲ^２７は、シクロヘキシル基や、２－イソプロピル－５－メチルシクロヘキシル基（メンチル基）であってよい。

また、Ｒ^２６及びＲ^２７における官能基を有していてもよい炭素数６～２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。当該アリール基は官能基を有していてもよく、更に炭素数３～１０の直鎖又は分岐アルキル基が置換されていてもよい。当該炭素数６～２０のアリール基は、酸素原子及び窒素原子の少なくとも１種を含む官能基が置換されていることが好ましい。当該炭素数６～２０のアリール基が酸素原子及び窒素原子の少なくとも１種を含む官能基で置換されている場合、当該官能基は、リンに結合した炭素に対してオルト位に置換されていることが好ましい。このようにすることによって、Ｒ^２６及びＲ^２７中の酸素原子及び窒素原子の少なくとも１種が遷移金属Ｍと相互作用を持つように空間的配置をとることができるからである。

好ましいＲ^２６及びＲ^２７の具体例としては、２－メトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、２，４，６－トリメトキシフェニル基、４－メチル－２，６－ジメトキシフェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジメトキシフェニル基、１，３－ジメトキシ－２－ナフチル基、２，６－ジエトキシフェニル基、２，４，６－トリエトキシフェニル基、４－メチル－２，６－ジエトキシフェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジエトキシフェニル基、１，３－ジエトキシ－２－ナフチル基、２，６－ジフェノキシフェニル基、２，４，６－トリフェノキシフェニル基、４－メチル－２，６－ジフェノキシフェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジフェノキシフェニル基、１，３－ジフェノキシ－２－ナフチル基、２，６－ジメトキシメチルフェニル基、２，４，６－トリメトキシメチルフェニル基、４－メチル－２，６－ジメトキシメチルフェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジメトキシメチルフェニル基、１，３－ジメトキシメチル－２－ナフチル基、２，６－ジフェノキシメチルフェニル基、２，４，６－トリフェノキシメチルフェニル基、４－メチル－２，６－ジフェノキシメチルフェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジフェノキシメチルフェニル基、１，３－ジフェノキシメチル－２－ナフチル基、２，６－ジ（２－メトキシエチル）フェニル基、２，４，６－トリ（２－メトキシエチル）フェニル基、４－メチル－２，６－ジ（２－メトキシエチル）フェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジ（２－メトキシエチル）フェニル基、１，３－ジ（２－メトキシエチル）－２－ナフチル基、２，６－ジ（２－フェノキシエチル）フェニル基、２，４，６－トリ（２－フェノキシエチル）フェニル基、４－メチル－２，６－ジ（２－フェノキシエチル）フェニル基、４－ｔ－ブチル－２，６－ジ（２－フェノキシエチル）フェニル基、１，３－ジ（２－フェノキシエチル）－２－ナフチル基などを挙げることができる。

Ｒ^２６及びＲ^２７は、Ａと結合して環構造を形成してもよい。具体的には例えば特開２０１８－１４１１３８号公報の段落０１２０～０１２１に記載されている構造（なお、ここでの例は、置換基Ｒ^２６とＡが結合して環構造を形成している場合を示しており、ＰとＱは本開示の一般式（１０１）と同義であり、Ｒ^１７は本開示の一般式（１０１）のＲ^２７と同義であり、Ｒ^１０４は本開示の一般式（１０１）のＲ^１０１と同義である。）が挙げられる。

本開示の一般式（１０１）で表される化合物の中でも、下記一般式（１０２）で表される化合物であることが、重合体の製造効率の点から好ましい。

（一般式（１０２）中、Ｍ、Ｌ、Ｒ^２５、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ前記一般式（１０１）と同義であり、Ｒ^１１１、Ｒ^１１２、Ｒ^１１３及びＲ^１１４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３０の炭化水素基、又は官能基である。）

一般式（１０２）中、Ｒ^１１１、Ｒ^１１２、Ｒ^１１３及びＲ^１１４における炭素数１～３０の炭化水素基及び官能基は、前記Ａに説明したものと同様のものであってよい。
Ｒ^１１１、Ｒ^１１２、Ｒ^１１３及びＲ^１１４は全て水素原子であってもよい。
Ｒ^１１１は、嵩高い方が、高分子量の重合体を与える傾向にある。そのため、Ｒ^１１１は、ｔ－ブチル基、トリメチルシリル基、フェニル基、９－アントラセニル基、４－ｔ－ブチルフェニル基、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等の置換基が適宜選択されてもよい。

一般式（２０１）又は一般式（２０２）において、
Ｍ^２０１は、周期表第８～１０族の遷移金属を表す。Ｍ^２０１としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔが挙げられる。
Ｌ^２０１及びＬ^２０２は、Ｍ^２０１に配位子したリガンドを表し、それぞれ独立に、ハロゲン原子、水素原子、ヘテロ原子を含有する炭素数１～２０の炭化水素基を表す。Ｌ^２０１及びＬ^２０２は、互いに連結して環を形成してもよい。Ｌ^２０１及びＬ^２０２としては、ハロゲン原子、メチル基、フェニル基、ベンジル基、ピリジン、２，６－ルチジンなどが挙げられる。

Ｚ^２０１は、酸素原子、硫黄原子、ＯＲ^２０３、ＳＲ^２０３、ＳＯ_３、ＳＯ_３Ｒ^２０３、Ｎ＝ＣＲ^２０３Ｒ^２０４、ＣＲ^２０３＝ＮＲ^２０４、Ｎ（Ｒ^２０３）、Ｎ（Ｒ^２０３）_２、Ｐ（Ｒ^２０３）、Ｐ（Ｒ^２０３）_２、ＣＯ_２、ＣＯ_２Ｒ^２０３、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^２０３）_２、ＣＯ、Ｃ（Ｏ）Ｒ^２０３、ＳＯ_２Ｒ^２０３、ＳＯＲ^２０３、ＯＳＯ_２Ｒ^２０３、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^２０３）_２－ｙ（Ｒ^２０４）_ｙ、又はＰ（Ｒ^２０３）_２（Ｏ）を表す。（ここで、Ｒ^２０３及びＲ^２０４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２０の炭化水素基を表し、ｙは０～２の整数を表す）。

Ｒ^２０１及びＲ^２０２は、それぞれ独立に、水素原子又はヘテロ原子を含有してもよい炭素数１～４０の炭化水素基である。ここで、ヘテロ原子を含有してもよい炭素数１～４０の炭化水素基の具体例としては、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_２ＯＣＨ_３、ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_２ＮＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２などが例示される。炭化水素基は、好ましくは炭素数１～３３の炭化水素基であり、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。好ましい具体例は、１－プロピル基、１－ブチル基、１－ペンチル基、１－ヘキシル基、１－ヘプチル基、１－オクチル基、１－ノニル基、１－デシル基、ｔ－ブチル基、トリシクロヘキシルメチル基、１，１－ジメチル－２－フェニルエチル基、イソプロピル基、１－ジメチルプロピル基、２，４，６-トリメチルフェニル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、２，６－ジベンズヒドリル－４－メチルフェニル基などである。
Ｘ^２０１は、炭素数３～９の飽和又は不飽和の二価の炭化水素基を表し、Ｘ^２０１が形成する環上に置換基を有していてもよい。

Ｒ^ａは、水素原子又はヘテロ原子を含有してもよい炭素数１～１０の炭化水素基であり、ＣＨ_３、ＣＨ_２ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_２ＯＣＨ_３、ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_３、ＣＨ_２ＮＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨ_２などが例示される。Ｒ^ａは、Ｘ^２０１から成る環の一部と縮環してもよい。

Ａ^＋は、カウンターカチオンを表す。Ａ^＋としては、任意の陽イオンとして、Ｋ^＋、Ｎａ^＋が例示される。Ｍ^２０１の価数及びＺ^２０１、Ｌ^２０１及びＬ^２０２の種類によって、錯体全体としてマイナスに荷電することがあり、この場合カウンターカチオンＡ^＋が必要になる。ここで、Ｍ^２０１の価数とは、有機金属化学で用いられる形式酸化数（ｆｏｒｍａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｎｕｍｂｅｒ）を意味する。
前記一般式（２０１）又は一般式（２０２）で表される化合物の具体例は、例えば特開２０１６－１３５７７７公報やＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１５，１３７，１０９３４．を参照することができる。

本開示に用いられる遷移金属錯体は、従来公知の方法で調製することができる。前記一般式（１０１）で表される化合物は、例えば特開２０１８－１４１１３８号公報等を参照して、製造することができる。また、前記一般式（２０１）又は一般式（２０２）で表される化合物は、例えば特開２０１６－１３５７７７公報等を参照して、製造することができる。
また、本開示に用いられる遷移金属を含む触媒は、前記の遷移金属錯体を主要な触媒成分とするものであり、必要により、活性化剤、担体などを併用することができる。上記活性化剤としては、メタロセン触媒で使用される助触媒であるアルキルアルモキサンやホウ素含有化合物が例示される。

また、担体としては、本発明の主旨をそこなわない限りにおいて、任意の担体を用いることができる。担体としては、一般に、無機酸化物やポリマー担体が好適に使用できる。
担体としては具体的には、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ_２、及び、これらの混合物などが挙げられ、ＳｉＯ_２－Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２－Ｖ_２Ｏ_５、ＳｉＯ_２－ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２－ＭｇＯ、ＳｉＯ_２－Ｃｒ_２Ｏ_３などの混合酸化物も使用することができる。また、無機ケイ酸塩、ポリエチレン担体、ポリプロピレン担体、ポリスチレン担体、ポリアクリル酸担体、ポリメタクリル酸担体、ポリアクリル酸エステル担体、ポリエステル担体、ポリアミド担体、ポリイミド担体などが使用可能である。これらの担体については、粒径、粒径分布、細孔容積、比表面積などに特に制限はなく、任意のものが使用可能である。

（２）モノマー
本開示の製造方法においては、前記構造単位（Ａ）を誘導する下記モノマー（Ａ）と、前記構造単位（Ｂ）を誘導する下記モノマー（Ｂ）とを少なくとも重合してよい。
モノマー（Ａ）：エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
モノマー（Ｂ）：前記一般式（１）で表されるラクトンモノマー及び前記一般式（２）で表されるラクトンモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種

エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマー（Ａ）は、前記構造単位（Ａ）で説明したモノマー（Ａ）と同様のものを用いることができる。

前記一般式（１）で表されるラクトンモノマー及び前記一般式（２）で表されるラクトンモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマー（Ｂ）において、一般式（１）中、Ｒ^１～Ｒ^９、及びｎはそれぞれ、前記構造単位（Ｂ）において説明したＲ^１～Ｒ^９、及びｎと同様であってよく、一般式（２）中、Ｒ^１１～Ｒ^１９、及びｎはそれぞれ、前記構造単位（Ｂ）において説明したＲ^１１～Ｒ^１９、及びｎと同様であってよい。

モノマー（Ｂ）としては、例えば以下の構造単位が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

前記モノマー（Ｂ）は、当該技術分野において公知の手法で合成することができ、或いは市販のものを用いることができる。
前記一般式（１）で表されるラクトンモノマーは、例えば二酸化炭素と、ブタジエン等のジエン類を用いて合成することが可能である。ジエン類としては、例えば、１，３－ブタジエン、１，３－ペンタジエン、イソプレン、１，２－ブタジエン等が挙げられる。前記一般式（１）で表されるラクトンモノマーは、例えばＪ． Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９８３，２５５，２６３－２６８、英国特許出願公開第２５５０８７６号公報等を参照して合成することができる。前記一般式（１）で表されるラクトンモノマーにおける置換基は、１，３－ジエン類において公知の方法で導入してもよい。

また、前記一般式（２）で表されるラクトンモノマーは、例えばＳＹＮＬＥＴＴ，２０１５，２６，２２３７－２２４２、Ｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．２０１２，３，７８９－７９３、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９３，５８，５２９８－５３００．等の不飽和カルボン酸の分子内環化反応等を参照して合成することができる。前記一般式（２）で表されるラクトンモノマーにおける置換基は、不飽和カルボン酸合成において公知の方法で導入してもよいし、ラクトンモノマーにおいて公知の方法で導入してもよい。
或いは、構造単位（Ｂ）における置換基はラクトンモノマーを重合後に導入してもよい。

その他の構造単位（Ｃ）を誘導するモノマー（Ｃ）としては、前記周期表第４～１０族の遷移金属触媒の存在下でモノマー（Ａ）と共重合可能なモノマーを用いることができ、前記構造単位（Ｃ）で説明したモノマー（Ｃ）と同様のものを用いることができる。

（３）重合方法
本開示の極性基含有オレフィン共重合体の製造方法における重合方法は限定されない。
媒体中に全ての生成重合体が溶解する溶液重合、媒体中で少なくとも一部の生成重合体がスラリーとなるスラリー重合、又は液化したモノマー自身を媒体とするバルク重合などが用いられる。
重合形式としては、バッチ重合、セミバッチ重合、連続重合のいずれの形式でもよい。
具体的な製造プロセス及び条件については、例えば、特開２０１０－２６０９１３号公報、特開２０１０－２０２６４７号公報を参照することができる。

未反応モノマーや媒体は、生成重合体から分離し、リサイクルして使用してもよい。リサイクルの際、これらのモノマーや媒体は、精製して再使用してもよいし、精製せずに再使用してもよい。生成重合体と未反応モノマー及び媒体との分離には、従来の公知の方法が使用できる。例えば、濾過、遠心分離、溶媒抽出、貧溶媒を使用した再沈などの方法が使用できる。

重合温度、重合圧力及び重合時間に特に制限はないが、通常は、以下の範囲から生産性やプロセスの能力を考慮して、最適な設定を行うことができる。
即ち、重合温度は、通常－２０℃～２９０℃、好ましくは０℃～２５０℃、より好ましくは０℃～２００℃、さらに好ましくは１０℃～１５０℃、特に好ましくは２０℃～１００℃である。重合圧力は、０．１ＭＰａ～１００ＭＰａ、好ましくは、０．３ＭＰａ～９０ＭＰａ、より好ましくは０．５ＭＰａ～８０ＭＰａ、さらに好ましくは１．０ＭＰａ～７０ＭＰａ、特に好ましくは１．３ＭＰａ～６０ＭＰａである。重合時間は、０．１分～５０時間、好ましくは、０．５分～４０時間、更に好ましくは１分～３０時間の範囲から選ぶことができる。
本開示において、重合は、一般に不活性ガス雰囲気下で行われる。例えば、窒素、アルゴン雰囲気が使用でき、窒素雰囲気が好ましく使用される。

重合反応器への触媒とモノマーの供給に関しても特に制限はなく、目的に応じて様々な供給法をとることができる。例えばバッチ重合の場合、予め所定量のモノマーを重合反応器に供給しておき、そこに触媒を供給する手法をとることが可能である。この場合、追加のモノマーや追加の触媒を重合反応器に供給してもよい。また、連続重合の場合、所定量のモノマーと触媒を重合反応器に連続的に、又は間歇的に供給し、重合反応を連続的に行う手法をとることができる。

共重合体の組成の制御に関しては、例えば以下の方法が挙げられる。
１）モノマーの供給比率を変える
２）触媒の構造の違いによるモノマー反応性比の違いを利用する
３）モノマー反応性比の重合温度依存性を利用する

共重合体の分子量制御には、従来公知の方法を使用することができ、例えば以下の方法が挙げられる。
１）重合温度の制御
２）モノマー濃度の制御
３）遷移金属錯体中の配位子構造の制御
４）水素など公知の連鎖移動剤の使用

次に本開示を実施例によって具体的に説明するが、本開示はその趣旨を逸脱しない限りこれらの実施例によって制約を受けるものではない。なお、極性基含有オレフィン共重合体等の物性等は、以下の方法で測定した。

［極性基含有オレフィン共重合体の構造］
極性基含有オレフィン共重合体の構造は、ＢＲＵＫＥＲ（株）製Ａｓｃｅｎｄ５００またはＢＲＵＫＥＲ（株）製ＡＶＡＮＣＥ４００を用いた^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１３Ｃ－ＮＭＲ解析により決定した。
ＮＭＲ測定の溶媒は、１，１，２，２－テトラクロロエタン－ｄ２を用いた。^１Ｈ－ＮＭＲ測定の重合体濃度は５質量％、^１３Ｃ－ＮＭＲの重合体濃度は１５質量％とした。ＮＭＲ測定は、１２０℃で行った。または、ＮＭＲ測定の一部は、約１５０ｍｇの極性基含有オレフィン共重合体を１，２－ジクロロベンゼン：ブロモベンゼン－ｄ５＝１：２の混合溶媒２．４ｍＬに加熱溶解して均一な溶液として１２０℃で行った。
^１Ｈ－ＮＭＲ測定は、以下の条件で実施し、定量分析を行った。
パルス：５０マイクロ秒の３０°パルス
スペクトル幅：１０ｋＨｚ
緩和時間：５秒
取り込み時間：３．２秒
ＦＩＤの積算回数：１２８回
^１３Ｃ－ＮＭＲ測定は、緩和試薬としてクロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナートを用い、逆ゲート付きデカップリング法を用いて以下の条件で実施し、定量分析を行った。
パルス：９．０マイクロ秒の９０°パルスまたは１５．８マイクロ秒の９０°パルス
スペクトル幅：３１ｋＨｚまたは２５ｋＨｚ
緩和時間：１０秒または５０秒
取り込み時間：１０秒または１．５秒
ＦＩＤの積算回数：５，０００～１０，０００回または１，０２４回

［極性基含有オレフィン共重合体中の構造単位（Ｂ）の含量］
構造単位（Ｂ）の含量は、^１Ｈ－ＮＭＲを用いて以下の通りに行った。
エチレン共重合体の例として実施例８の共重合体８の^１Ｈ－ＮＭＲを図１に示す。
図１中の化学シフト４．２－４．３ｐｐｍ（Ｃの位置）の固有の孤立ピークは、構造単位（Ｂ）由来の１Ｈ（水素１個分）に相当し、そのピーク面積をＩＢとした。溶媒を除くすべてのピーク面積の合計をＩＡとした。全モノマー単位中の構造単位（Ｂ）の比率は、ＩＢ×４／（ＩＡ－ＩＢ×８）として求めた。
プロピレン共重合体の例として、実施例１１の共重合体１１の^１Ｈ－ＮＭＲを図２に示す。
図２中の化学シフト４．２－４．３ｐｐｍ（Ｃの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｈに相当し、そのピーク面積をＩＢとした。溶媒を除くすべてのピーク面積の合計をＩＡとした。全モノマー単位中の構造単位（Ｂ）の比率は、ＩＢ×６／（ＩＡ－ＩＢ×６）として求めた。

［極性基含有オレフィン共重合体中のその他の構造単位の含量］
その他の構造単位（Ｃ）としてアクリル酸メチル由来の構造単位を含む時の各構造単位の含量は、逆ゲートデカップリング付き^１３Ｃ－ＮＭＲを用いて以下の通りに行った。
エチレン共重合体の例として実施例１２の共重合体１２の^１３Ｃ－ＮＭＲを図３に示す。
図３中の化学シフト１３～１４ｐｐｍ（Ｄの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｃ（炭素１個分）に相当する。化学シフト２２～２３ｐｐｍ（Ｆの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｃに相当する。化学シフト２４～２５ｐｐｍ（Ｇの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｃに相当する。化学シフト１２６～１２８ｐｐｍ（Ｂの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｃに相当する。化学シフト１３８～１４０ｐｐｍ（Ｃの位置）の固有の孤立ピークは構造単位（Ｂ）由来の１Ｃに相当する。これら５つのピーク面積の平均値をＩＢとした。図３中の化学シフト１７６～１７７ｐｐｍ（ｂの位置）の固有の孤立ピークは、その他の構造単位（アクリル酸メチル）由来の１Ｃに相当し、そのピーク面積をＩＣとした。溶媒を除くすべてのピーク面積の合計をＩＡとした。全モノマー単位中の構造単位（Ｂ）の比率は、（１００×ＩＢ）／（（（ＩＡ－ＩＢ×９－ＩＣ×４）／２）＋ＩＢ＋ＩＣ）として求めた。全モノマー単位中の構造単位（アクリル酸メチル）の比率は、（１００×ＩＣ）／（（（ＩＡ－ＩＢ×９－ＩＣ×４）／２）＋ＩＢ＋ＩＣ）として求めた。

［数平均分子量及び重量平均分子量］
数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレンを分子量の標準物質とするサイズ排除クロマトグラフィーにより以下の条件から算出した。
装置：東ソー（株）製高温ＧＰＣ装置ＨＬＣ－８３２１ＧＰＣ／ＨＴ
カラム：東ソー（株）製、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨＨＲ－Ｈ（Ｓ）ＨＴカラム（７．８ｍｍＩ．Ｄ．×３０ｃｍを２本直列）
溶媒：１，２－ジクロロベンゼン
温度：１４５℃
または
装置：Ｗａｔｅｒｓ（株）製高温ＧＰＣ装置、ＡＬＣ／ＧＰＣ １５０Ｃ
カラム：昭和電工（株）製、ＡＴ－８０６ＭＳカラム（８．０ｍｍＩ．Ｄ．×２５ｃｍを３本直列）
溶媒：１，２－ジクロロベンゼン
温度：１４０℃

［遷移金属錯体の合成］
（合成例１）
下記化学式（Ａ）において、Ｒがいずれもメンチル（２－イソプロピル－５－メチルシクロヘキシル）で、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ａ）を、特開２０１７－０３１３００号公報に記載の通りに合成した。なお、本明細書においてＭｅはメチルを示す。

（合成例２）
前記化学式（Ａ）において、Ｒがいずれもシクロヘキシルで、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ｂ）を、特開２０１１－０６８８８１号公報に記載の通りに合成した。

（合成例３）
前記化学式（Ａ）において、Ｒがいずれもイソプロピルで、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ｃ）を、特開２０１３－０７９３４７号公報に記載の通りに合成した。

（合成例４）
前記化学式（Ａ）において、Ｒがいずれも２－メトキシフェニルで、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ｄ）を、特開２００７－０４６０３２号公報に記載の通りに合成した。

（合成例５）
下記化学式（Ｂ）において、Ｒが２，４，６－トリメチルフェニルで、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ｅ）を、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１５，１３７，１０９３４．に記載の通りに合成した。

（合成例６）
前記化学式（Ｂ）において、Ｒが２，６－ジイソプロピルフェニルで、Ｌｕｔが２，６－ジメチルピリジンで示される遷移金属錯体（Ｆ）を、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２０１５，１３７，１０９３４．に記載の通りに合成した。

（実施例１）
５０ｍＬオートクレーブに、窒素雰囲気中で、触媒としての遷移金属錯体（Ａ）（６．９ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）、溶媒としてのトルエン（１０ｍＬ）、モノマー（Ｂ）としての６－エテニル－３－エチリデンテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－オン（１．０ｍＬ、６．６ｍｍｏｌ）を順次加えた。当該オートクレーブをエチレン（モノマー（Ａ））（３．０ＭＰａ）で加圧しつつ、反応温度８０℃で３時間撹拌した。当該オートクレーブを室温に戻し、メタノール（２０ｍＬ）を加えた。析出した固体を、濾過により回収し、メタノールで洗浄し、減圧乾燥した。得られた極性基含有オレフィン共重合体１は５０９ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体１の各種分析結果を表１に示した。

（実施例２）
触媒を遷移金属錯体（Ｂ）（５．８ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体２は１４７９ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体２の各種分析結果を表１に示した。

（実施例３）
触媒を遷移金属錯体（Ｃ）（５．０ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体３は５４９ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体３の各種分析結果を表１に示した。

（実施例４）
触媒を遷移金属錯体（Ｄ）（６．３ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体４は３８２ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体４の各種分析結果を表１に示した。

（実施例５）
触媒を遷移金属錯体（Ｅ）（５．７ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体５は１７ｍｇであった。
当該極性基含有オレフィン共重合体５の各種分析結果を表１に示した。

（実施例６）
触媒を遷移金属錯体（Ｆ）（５．３ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例１と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体６は７３ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体６の各種分析結果を表１に示した。

（実施例７）
反応温度を６０℃に変更した以外は、実施例６と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体７は６１ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体７の各種分析結果を表１に示した。

（実施例８）
反応温度を１００℃に変更した以外は、実施例６と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体８は６１ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体８の各種分析結果を表１に示した。

（実施例９）
モノマー（Ｂ）としての６－エテニル－３－エチリデンテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－オンを０．５ｍＬ、３．３ｍｍｏｌに変更した以外は、実施例６と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体９は１５０ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体９の各種分析結果を表１に示した。

（実施例１０）
モノマー（Ｂ）としての６－エテニル－３－エチリデンテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－オンを０．２ｍＬ、１．３ｍｍｏｌに変更した以外は、実施例６と同様に実施した。得られた極性基含有オレフィン共重合体１０は２８４ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体１０の各種分析結果を表１に示した。

（実施例１１）
５０ｍＬオートクレーブに、窒素雰囲気中で、触媒としての遷移金属錯体（Ｅ）（５．７ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）、溶媒としてのトルエン（１０ｍＬ）、モノマー（Ｂ）としての６－エテニル－３－エチリデンテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－オン（０．１ｍＬ、０．６６ｍｍｏｌ）を順次加えた。当該オートクレーブを０℃に冷却し、プロピレン（モノマー（Ａ））（１０ｇ）で加圧した後に密閉し、反応温度８０℃で１２時間撹拌した。当該オートクレーブを室温に戻し、メタノール（２０ｍＬ）を加えた。析出した固体を、濾過により回収し、メタノールで洗浄し、減圧乾燥した。得られた極性基含有オレフィン共重合体１１は５０ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体１１は、数平均分子量が２７００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが２．１、構造単位（Ｂ）の含量が１．９モル％であった。

（実施例１２）
５０ｍＬオートクレーブに、窒素雰囲気中で、触媒としての遷移金属錯体（Ｃ）（５．０ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ）、溶媒としてのトルエン（１０ｍＬ）、モノマー（Ｂ）としての６－エテニル－３－エチリデンテトラヒドロ－２Ｈ－ピラン－２－オン（１．０ｍＬ、６．６ｍｍｏｌ）、その他の構造単位となるモノマー（Ｃ）としてのアクリル酸メチル（１．０ｍＬ、１１ｍｍｏｌ）を順次加えた。当該オートクレーブをエチレン（モノマー（Ａ））（３．０ＭＰａ）で加圧しつつ、反応温度８０℃で３時間撹拌した。当該オートクレーブを室温に戻し、メタノール（２０ｍＬ）を加えた。析出した固体を、濾過により回収し、メタノールで洗浄し、減圧乾燥した。得られた極性基含有オレフィン共重合体１２は８７６ｍｇであった。当該極性基含有オレフィン共重合体１２は、数平均分子量が１２６６００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．０、構造単位（Ｂ）の含量が０．１４モル％、アクリル酸メチルに由来する構造単位（その他の構造単位（Ｃ））の含量が０．７８モル％であった。メチル分岐度は、炭素１０００個当たり０．２２個であった。

実施例１～１２の極性基含有オレフィン共重合体には、構造単位（Ｂ）とは異なるラクトンモノマー由来の構造単位は含まれていなかった。

本開示の新規な極性基含有オレフィン共重合体は、ポリマー鎖の側鎖にラクトン構造が導入されている、新規な極性基含有オレフィン共重合体であり、オレフィン系重合体の高機能化に種々応用可能である。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば、導入されている側鎖のラクトン構造を加水分解することにより、酸やアルコールを有する極性基含有オレフィン共重合体を容易に作ることができ、当該カルボキシ基や水酸基を利用可能である。
また、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有する場合、側鎖にエチレン性不飽和基を有するため後変性を行うことが可能であり、例えば架橋が可能であったり、マクロモノマーとしても有望である。
本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、例えば、前記一般式（Ｉ）で表される構造単位を有する場合、側鎖にエノン構造を有するため、例えばＭｉｃｈａｅｌ付加反応などの基質として利用することも可能である。
以上のように、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、多様な複合材料へと変換される原料になり得ることが期待できる。
また、前記構造単位（Ｂ）を誘導するエチレン性不飽和基を有する６員環のラクトンモノマーは、二酸化炭素からも誘導できることから、本開示の極性基含有オレフィン共重合体は、カーボンリサイクル樹脂としても付加価値がある。

Claims (6)

1. エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種のモノマーに由来する構造単位（Ａ）と、
   下記一般式（Ｉ）で表される構造単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位（Ｂ）と、
   を含むことを特徴とする極性基含有オレフィン共重合体。
   

   

   ［一般式（Ｉ）中、
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
   Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
   ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]
   

   

   ［一般式（ＩＩ）中、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
   Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
   ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^１３およびＲ^１４は存在しない。］
2. ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求められる重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５～５．０の範囲であることを特徴とする、請求項１に記載の極性基含有オレフィン共重合体。
3. 前記構造単位（Ａ）がエチレンに由来し、且つ、^１３Ｃ－ＮＭＲにより算出されるメチル分岐度が、炭素１，０００個当たり２０．０以下であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の極性基含有オレフィン共重合体。
4. 請求項１又は２に記載の極性基含有オレフィン共重合体を製造する方法であって、周期表第４～１０族の遷移金属触媒の存在下で前記極性基含有オレフィン共重合体を製造することを特徴とする、極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
5. 前記遷移金属触媒が、ニッケル又はパラジウム金属にキレート性ホスフィン化合物又はキレート性カルベン化合物が配位した遷移金属触媒であることを特徴とする、請求項４に記載の極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
6. 周期表第４～１０族の遷移金属を含む触媒の存在下で、
   下記モノマー（Ａ）と下記モノマー（Ｂ）とを重合させることを特徴とする、極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
   モノマー（Ａ）：エチレン及び炭素数３～２０のオレフィンからなる群より選ばれる少なくとも１種
   モノマー（Ｂ）：下記一般式（１）で表されるラクトンモノマー及び下記一般式（２）で表されるラクトンモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種
   

   

   ［一般式（１）中、
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
   Ｒ^７、Ｒ^８およびＲ^９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
   ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合し、Ｒ^３およびＲ^４は存在しない。]
   

   

   ［一般式（２）中、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１～３０の炭化水素基であり、
   Ｒ^１７、Ｒ^１８およびＲ^１９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～３の炭化水素基であり、
   ｎは０、１又は２であり、ｎ＝０のとき隣接する炭素原子同士は直接結合しＲ^１３およびＲ^１４は存在しない。］

Images