JP2023032646A - 基板処理装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 76
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 30
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007175 bidirectional communication Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 83
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 81
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 25
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 12
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 9
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
Description
対象物を搬送する搬送装置を備える技術であって、
前記搬送装置は、
(a)モータと、
(b)前記モータの駆動回路と、
(c)前記モータの出力軸の回転角度を検出するエンコーダと、
(d)前記モータの出力軸の運動を前記対象物に伝達させる駆動系と、
(e)前記対象物と連動する前記駆動系の所定部位が、所定位置に来たことを検知する原点センサと、
(f)前記駆動回路を含み、前記エンコーダと前記原点センサの検出に基づいて、前記対象物の現在位置を記録し、前記対象物が目標位置となるよう制御するサーボアンプと、
(g)少なくとも前記駆動回路をオフしている間、前記エンコーダの検出に基づいて前記所定部位の絶対位置を取得する絶対位置保持部と、
(h)前記サーボアンプと双方向通信可能に構成され、前記駆動回路がオンになったときに、前記絶対位置保持部に記録された現在位置を前記所定部位の現在位置として、サーボ制御を再開させる節電コントローラと、を備える技術が提供される。
(基板処理装置の概要)
本実施形態で説明する基板処理装置は、半導体装置の製造工程で用いられるもので、処理対象となる基板を処理室に収容した状態で当該基板をヒータによって加熱して処理を施すものである。さらに詳しくは、複数の基板を鉛直方向に所定の間隔で積層した状態で同時に処理を行う縦型の基板処理装置である。
次に、本開示の実施形態で好適に用いられる基板処理装置の概略構成例について、図1を用いて説明する。図1は、本開示の実施形態で好適に用いられる基板処理装置の斜透視図である。
図1に示されるように、基板処理装置1は筐体13を備え、筐体13の正面壁14の下部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部としての正面メンテナンス口(不図示)が開設され、該正面メンテナンス口は正面メンテナンス扉16によって開閉される。
図2は、本開示の実施形態で好適に用いられるウエハ搬送機構の概略斜視図である。図2を用いて、ウエハ搬送機構(移載機)の構成例を説明する図である。
図3は、本開示の実施形態で好適に用いられるウエハ搬送機構を制御するモータ制御装置の概略構成を示すブロック図である。図3には、代表例として、ウエハ搬送機構(移載機)36に設けられたサーボモータ327,328をサーボアンプ325,326により制御するモータ制御装置300の構成例を示す。図示しないが、移載機36に設けられたサーボモータ427,428を制御する2つのサーボアンプを、図3に示すモータ制御装置300に追加することにより、サーボモータ427,428をモータ制御装置300により制御することが可能である。
次に、図4を用いて、代表例としてサーボアンプ325の構成例を説明する。サーボアンプ326およびサーボモータ427,428を制御する2つのサーボアンプも、図4と同様な構成とすることができる。図4は、本開示の実施形態で好適に用いられるサーボアンプの概略構成を示すブロック図である。
図3の構成例では、現在位置を節電(上位)コントローラ313に記憶する構成例を説明したが、これに限定されない。現在位置はサーボモータに設けられたエンコーダ内に記憶してもよい。
次に、移載機36のメンテナンス方法について説明する。移載機36は節電コントローラ313の制御に基づいてウエハ31の搬送処理を行う。この搬送処理を詳述するとつぎの通りである。
36:移載機
313:節電(上位)コントローラ
325,326:サーボアンプ
327,328,427,428:サーボモータ
Claims (5)
- 対象物を搬送する搬送装置を備える基板処理装置であって、
前記搬送装置は、
(a)モータと、
(b)前記モータの駆動回路と、
(c)前記モータの出力軸の回転角度を検出するエンコーダと、
(d)前記モータの出力軸の運動を前記対象物に伝達させる駆動系と、
(e)前記対象物と連動する前記駆動系の所定部位が、所定位置に来たことを検知する原点センサと、
(f)前記駆動回路を含み、前記エンコーダと前記原点センサの検出に基づいて、前記対象物の現在位置を記録し、前記対象物が目標位置となるよう制御するサーボアンプと、
(g)少なくとも前記駆動回路をオフしている間、前記エンコーダの検出に基づいて前記所定部位の絶対位置を取得する絶対位置保持部と、
(h)前記サーボアンプと双方向通信可能に構成され、前記駆動回路がオンになったときに、前記絶対位置保持部に記録された現在位置を前記所定部位の現在位置として、サーボ制御を再開させる節電コントローラと、
を備える、基板処理装置。 - 請求項1において、
前記(a)乃至前記(g)のセットを複数備え、
前記節電コントローラは、前記搬送装置が所定の状態にあるときに複数の前記駆動回路の内の指定された一つ以上をオフにし、その他の駆動回路をオンにし、前記駆動回路がオフにされた前記モータの出力軸又は前記対象物は動きが規制されていない状態となっている、基板処理装置。 - 請求項1において、
前記節電コントローラは、節電状態からの復帰から、新たな目標位置を前記サーボアンプに与えるまでの間、前記対象物が現在位置で静止するように前記サーボアンプを制御する、基板処理装置。 - 請求項2において、
前記節電コントローラは、節電状態に入る前に前記搬送装置がホームポジションとなるように、前記サーボアンプを制御する、基板処理装置。 - 半導体装置の製造方法であって、対象物を搬送する搬送装置は、モータと、前記モータの駆動回路と、前記モータの出力軸の回転角度を検出するエンコーダと、前記モータの出力軸の運動を前記対象物に伝達させる駆動系と、前記対象物と連動する前記駆動系の所定部位が、所定位置に来たことを検知する原点センサと、前記エンコーダと前記原点センサの検出に基づいて、前記対象物の現在位置を記録し、前記対象物が目標位置となるよう制御するサーボアンプと、少なくとも前記駆動回路をオフしている間、前記エンコーダの検出に基づいて前記所定部位の絶対位置を取得する絶対位置保持部と、前記サーボアンプと双方向通信可能に構成され、前記駆動回路がオンになったときに、前記絶対位置保持部に記録された現在位置を前記所定部位の現在位置として、サーボ制御を再開させる節電コントローラを備え、
前記搬送装置に前記対象物であるウエハを、前記駆動回路をオンとして、ボートに装填する工程と、
前記駆動回路をオフとして、前記ボートを処理炉に装入し基板を処理する工程と、
を含む、半導体装置の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021138905A JP7407153B2 (ja) | 2021-08-27 | 2021-08-27 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法、および、プログラム |
US17/843,606 US20230068123A1 (en) | 2021-08-27 | 2022-06-17 | Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, method of processing substrate, and recording medium |
CN202210730364.XA CN115732376A (zh) | 2021-08-27 | 2022-06-24 | 基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法以及记录介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021138905A JP7407153B2 (ja) | 2021-08-27 | 2021-08-27 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法、および、プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023032646A true JP2023032646A (ja) | 2023-03-09 |
JP7407153B2 JP7407153B2 (ja) | 2023-12-28 |
Family
ID=85286014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021138905A Active JP7407153B2 (ja) | 2021-08-27 | 2021-08-27 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法、および、プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230068123A1 (ja) |
JP (1) | JP7407153B2 (ja) |
CN (1) | CN115732376A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2021
- 2021-08-27 JP JP2021138905A patent/JP7407153B2/ja active Active
-
2022
- 2022-06-17 US US17/843,606 patent/US20230068123A1/en active Pending
- 2022-06-24 CN CN202210730364.XA patent/CN115732376A/zh active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7407153B2 (ja) | 2023-12-28 |
US20230068123A1 (en) | 2023-03-02 |
CN115732376A (zh) | 2023-03-03 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230829 |
|
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