JP2023027000A - 検出装置 - Google Patents

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忠義 勝田
Tadayoshi Katsuta
芳孝 尾関
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【課題】検出精度の低下を抑制することができる検出装置を提供する。【解決手段】検出領域にマトリクス状に配列され、検出を行う際に逆バイアス電圧が印加される光電変換素子を備えた複数の検出素子と、光電変換素子に逆バイアス電圧を印加する前に、光電変換素子に逆バイアス電圧よりも大きい初期化電圧を印加する初期化回路と、を備える。【選択図】図10

Description

本発明は、検出装置に関する。
PINフォトダイオード等の光電変換素子が基板上に複数配列された光学式の検出装置が知られている。このような光学式の検出装置は、例えば指紋センサや静脈センサ等、生体情報を検出する生体センサとして用いられる。複数の光電変換素子は、検出の解像度に応じた配置ピッチで離隔して配列される。
特開2006-85559号公報
一般に、光電変換素子を構成するPINフォトダイオードは、逆バイアス電圧が大きいほど逆バイアス電流の個体バラツキが大きく、逆バイアス電圧が小さいほど逆バイアス電流の安定時間が長くなる。このため、逆バイアス電圧の設定によっては、検出精度が低下する可能性がある。
本発明は、検出精度の低下を抑制することができる検出装置を提供することを目的とする。
本開示の一態様に係る検出装置は、検出領域にマトリクス状に配列され、検出を行う際に逆バイアス電圧が印加される光電変換素子を備えた複数の検出素子と、前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧を印加する前に、前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧よりも大きい初期化電圧を印加する初期化回路と、を備える。
本開示の一態様に係る検出装置は、検出領域にマトリクス状に配列され、検出を行う際に逆バイアス電圧が印加される光電変換素子を備えた複数の検出素子と、前記複数の検出素子を初期化する初期化回路と、を備え、前記初期化回路は、前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧を供給する第1配線と、前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧よりも大きい初期化電圧を供給する第2配線と、前記第1配線と前記第2配線との何れか一方を前記複数の検出素子に接続するスイッチ回路と、を備える。
図1は、実施形態に係る検出装置を有する照明装置付き検出機器の概略断面構成を示す断面図である。 図2は、変形例に係る照明装置付き検出機器の概略断面構成を示す断面図である。 図3は、実施形態に係る検出装置を示す平面図である。 図4は、実施形態に係る検出装置の構成例を示すブロック図である。 図5は、複数の検出素子を示す回路図である。 図6は、検出期間における検出素子の動作例を示すタイミング波形図である。 図7は、検出期間におけるリセット制御信号の出力タイミングの一例を示すタイミングチャートである。 図8は、リセット期間における検出素子の動作を説明する図である。 図9Aは、PINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。 図9Bは、PINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。 図9Cは、PINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。 図10は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路の一構成例を示す図である。 図11は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路を適用した構成の具体例を示す図である。 図12は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路の動作を説明するタイミングチャートである。 図13は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路を適用した場合のPINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。 図14は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路の一構成例を示す図である。 図15は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路を適用した構成の具体例を示す図である。 図16は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路の動作を説明するタイミングチャートである。
発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、実施形態に係る検出装置を有する照明装置付き検出機器の概略断面構成を示す断面図である。図1に示すように、照明装置付き検出機器120は、検出装置1と、照明装置121と、カバーガラス122とを有する。検出装置1の表面に垂直な方向において、照明装置121、検出装置1、カバーガラス122の順に積層されている。
照明装置121は、光を照射する光照射面121aを有し、光照射面121aから検出装置1に向けて光L1を照射する。照明装置121は、バックライトである。照明装置121は、例えば、検出領域AAに対応する位置に設けられた導光板と、導光板の一方端又は両端に並ぶ複数の光源とを有する、いわゆるサイドライト型のバックライトであってもよい。光源として、例えば、所定の色の光を発する発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)が用いられる。また、照明装置121は、検出領域AAの直下に設けられた光源(例えば、LED)を有する、いわゆる直下型のバックライトであっても良い。また、照明装置121は、バックライトに限定されず、検出装置1の側方や上方に設けられていてもよく、指Fgの側方や上方から光L1を照射してもよい。
検出装置1は、照明装置121の光照射面121aと対向して設けられる。照明装置121から照射された光L1は、検出装置1及びカバーガラス122を透過する。検出装置1は、例えば、受光型の生体センサであり、指Fgの表面で反射した光L2を検出することで、指Fgの表面の凹凸(例えば、指紋)を検出できる。又は、検出装置1は、指紋の検出に加え、指Fgの内部で反射した光L2を検出することで、生体に関する情報を検出してもよい。生体に関する情報は、例えば、静脈等の血管像や脈拍、脈波等である。照明装置121からの光L1の色は、検出対象に応じて異ならせてもよい。
カバーガラス122は、検出装置1及び照明装置121を保護するための部材であり、検出装置1及び照明装置121を覆っている。カバーガラス122は、例えばガラス基板である。なお、カバーガラス122はガラス基板に限定されず、樹脂基板等であってもよい。また、カバーガラス122が設けられていなくてもよい。この場合、検出装置1の表面に保護層が設けられ、指Fgは検出装置1の保護層に接する。
照明装置付き検出機器120は、照明装置121に換えて表示パネルが設けられていてもよい。表示パネルは、例えば、有機ELディスプレイパネル(OLED:Organic Light Emitting Diode)や無機ELディスプレイ(マイクロLED、ミニLED)であってもよい。或いは、表示パネルは、表示素子として液晶素子を用いた液晶表示パネル(LCD:Liquid Crystal Display)や、表示素子として電気泳動素子を用いた電気泳動型表示パネル(EPD:Electrophoretic Display)であってもよい。この場合であっても、表示パネルから照射された表示光が検出装置1を透過し、指Fgで反射された光L2に基づいて、指Fgの指紋や生体に関する情報を検出することができる。
図2は、変形例に係る照明装置付き検出機器の概略断面構成を示す断面図である。図2に示すように、照明装置付き検出機器120は、検出装置1の表面に垂直な方向において、検出装置1、照明装置121、カバーガラス122の順に積層されている。本変形例においても、照明装置121に換えて、有機ELディスプレイパネル126等の表示パネルを採用することができる。
照明装置121から照射された光L1は、カバーガラス122を透過した後、指Fgで反射する。指Fgで反射した光L2は、カバーガラス122を透過し、さらに、照明装置121を透過する。検出装置1は、照明装置121を透過した光L2を受光することで、指紋検出等、生体に関する情報を検出することができる。
図3は、実施形態に係る検出装置を示す平面図である。図3に示すように、検出装置1は、基板21と、センサ部10と、第1ゲート線駆動回路15Aと、第2ゲート線駆動回路15Bと、信号線選択回路16と、検出回路48と、制御回路102と、電源回路103と、を有する。
基板21には、配線基板110を介して制御基板101が電気的に接続される。配線基板110は、例えば、フレキシブルプリント基板やリジット基板である。配線基板110には、検出回路48が設けられている。制御基板101には、制御回路102及び電源回路103が設けられている。制御回路102は、例えばFPGA(Field Programmable Gate Array)である。制御回路102は、センサ部10、第1ゲート線駆動回路15A、第2ゲート線駆動回路15B及び信号線選択回路16に制御信号を供給して、センサ部10の検出動作を制御する。電源回路103は、電源電位Vsfや基準電位Vcom(図5参照)等の電圧信号をセンサ部10、第1ゲート線駆動回路15A、第2ゲート線駆動回路15B及び信号線選択回路16に供給する。
基板21は、検出領域AAと、周辺領域GAとを有する。検出領域AAは、センサ部10が有する複数の検出素子3と重なる領域である。周辺領域GAは、検出領域AAの外側の領域であり、検出素子3と重ならない領域である。すなわち、周辺領域GAは、検出領域AAの外周と基板21の外周との間の領域である。第1ゲート線駆動回路15A、第2ゲート線駆動回路15B及び信号線選択回路16は、周辺領域GAに設けられる。
センサ部10の複数の検出素子3は、それぞれ、光電変換素子30を有する光センサである。光電変換素子30は、フォトダイオードであり、それぞれに照射される光に応じた電気信号を出力する。より具体的には、光電変換素子30は、PIN(Positive Intrinsic Negative)フォトダイオードである。検出素子3は、検出領域AAにマトリクス状に配列される。複数の検出素子3が有する光電変換素子30は、第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bから供給されるゲート駆動信号(例えば、リセット制御信号RST、読出制御信号RD)に従って検出を行う。複数の光電変換素子30は、それぞれに照射される光に応じた電気信号を、検出信号Vdetとして信号線選択回路16に出力する。検出装置1は、複数の検出素子3からの検出信号Vdetに基づいて生体に関する情報を検出する。
第1ゲート線駆動回路15A、第2ゲート線駆動回路15B及び信号線選択回路16は、周辺領域GAに設けられる。具体的には、第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、周辺領域GAのうち第2方向Dyに沿って延在する領域に設けられる。信号線選択回路16は、周辺領域GAのうち第1方向Dxに沿って延在する領域に設けられ、センサ部10と検出回路48との間に設けられる。第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、検出領域AAを第1方向Dxに挟んで配置される。これに限定されず、第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、一つの回路として形成され、検出領域AAの一方の辺に沿って配置されていてもよい。
なお、第1方向Dxは、基板21と平行な面内の一方向である。第2方向Dyは、基板21と平行な面内の一方向であり、第1方向Dxと直交する方向である。なお、第2方向Dyは、第1方向Dxと直交しないで交差してもよい。また、第3方向Dzは、第1方向Dx及び第2方向Dyと直交する方向であり、基板21の法線方向である。
図4は、実施形態に係る検出装置の構成例を示すブロック図である。図4に示すように、検出装置1は、さらに検出制御回路11と検出部40と、を有する。検出制御回路11の機能の一部又は全部は、制御回路102に含まれる。また、検出部40のうち、検出回路48以外の機能の一部又は全部は、制御回路102に含まれる。
検出制御回路11は、第1ゲート線駆動回路15A、第2ゲート線駆動回路15B、信号線選択回路16及び検出部40にそれぞれ制御信号を供給し、これらの動作を制御する回路である。検出制御回路11は、スタート信号STV、クロック信号CK等の各種制御信号を第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bに供給する。また、検出制御回路11は、検出処理を行う検出期間において、選択信号ASW等の各種制御信号を信号線選択回路16に供給する。
第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、各種制御信号に基づいて複数のゲート線(読出制御走査線GLrd、リセット制御走査線GLrst(図5参照))を駆動する回路である。第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、複数のゲート線を順次又は同時に選択し、選択されたゲート線にゲート駆動信号(例えば、リセット制御信号RST、読出制御信号RD)を供給する。これにより、第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bは、ゲート線に接続された複数の光電変換素子30を選択する。
信号線選択回路16は、複数の出力信号線SL(図5参照)を順次又は同時に選択するスイッチ回路である。信号線選択回路16は、例えばマルチプレクサである。信号線選択回路16は、検出制御回路11から供給される選択信号ASWに基づいて、選択された出力信号線SLと検出回路48とを接続する。これにより、信号線選択回路16は、検出素子3からの検出信号Vdetを検出部40に出力する。なお、信号線選択回路16は無くてもよい。この場合、出力信号線SLは、検出回路48と直接接続されてもよい。
検出部40は、検出回路48と、信号処理回路44と、座標抽出回路45と、記憶回路46と、検出タイミング制御回路47と、を備える。検出タイミング制御回路47は、検出制御回路11から供給される制御信号に基づいて、検出回路48と、信号処理回路44と、座標抽出回路45と、が同期して動作するように制御する。
検出回路48は、例えばアナログフロントエンド回路(AFE:Analog Front End)である。検出回路48は、少なくとも検出信号増幅回路42及びA/D変換回路43の機能を有する信号処理回路である。検出信号増幅回路42は、検出信号Vdetを増幅する。A/D変換回路43は、検出信号増幅回路42から出力されるアナログ信号をデジタル信号に変換する。
信号処理回路44は、検出回路48の出力信号に基づいて、センサ部10に入力された所定の物理量を検出する論理回路である。信号処理回路44は、指Fgが検出面に接触又は近接した場合に、検出回路48からの信号に基づいて指Fgの表面の凹凸たる指紋を検出できる。また、信号処理回路44は、検出回路48からの信号に基づいて生体に関する情報を検出してもよい。生体に関する情報は、例えば、指Fgの血管像、脈波、脈拍、血中酸素飽和度等である。なお、本実施形態においては、検出装置は指Fg(指紋)を被検出体(検出対象)としているが、被検出体としては指Fgのみならず、掌や手首、足裏等、生体の一部で有ればその部位は問わない。
記憶回路46は、信号処理回路44で演算された信号を一時的に保存する。記憶回路46は、例えばRAM(Random Access Memory)、レジスタ回路等であってもよい。
座標抽出回路45は、信号処理回路44において指Fgの接触又は近接が検出されたときに、指Fg等の表面の凹凸の検出座標を求める論理回路である。また、座標抽出回路45は、指Fgや掌の血管の検出座標を求める論理回路である。座標抽出回路45は、センサ部10の各検出素子3から出力される検出信号Vdetを組み合わせて、指Fg等の表面の凹凸の形状を示す二次元情報を生成する。なお、座標抽出回路45は、検出座標を算出せずにセンサ出力Voとして検出信号Vdetを出力してもよい。
次に、検出装置1の回路構成例及び動作例について説明する。図5は、複数の検出素子を示す回路図である。図5に示すように、検出素子3は、光電変換素子30、リセットトランジスタMrst、読出トランジスタMrd及びソースフォロワトランジスタMsfを有する。また、検出素子3には、検出駆動線(ゲート線)としてリセット制御走査線GLrst及び読出制御走査線GLrdが設けられ、信号読出用の配線として出力信号線SLが設けられている。
リセット制御走査線GLrst、読出制御走査線GLrd及び出力信号線SLは、それぞれ、複数の検出素子3に接続される。具体的には、リセット制御走査線GLrst及び読出制御走査線GLrdは、第1方向Dx(図3参照)に延在し、第1方向Dxに配列された複数の検出素子3と接続される。また、出力信号線SLは、第2方向Dyに延在し、第2方向Dyに配列された複数の検出素子3に接続される。出力信号線SLは、複数のトランジスタ(読出トランジスタMrd及びソースフォロワトランジスタMsf)からの信号が出力される配線である。
リセットトランジスタMrst、読出トランジスタMrd及びソースフォロワトランジスタMsfは、1つの光電変換素子30に対応して設けられる。検出素子3が有する複数のトランジスタは、それぞれn型TFT(Thin Film Transistor)で構成される。ただし、これに限定されず、各トランジスタは、それぞれp型TFTで構成されてもよい。
光電変換素子30のアノードには、基準電位Vcomが印加される。光電変換素子30のカソードは、ノードN1に接続される。ノードN1は、リセットトランジスタMrstのソース又はドレインの一方及びソースフォロワトランジスタMsfのゲートに接続される。光電変換素子30に光が照射された場合、光電変換素子30から出力された信号(電荷)は、ノードN1に形成される容量素子に蓄積される。
リセットトランジスタMrstのゲートは、リセット制御走査線GLrstに接続される。リセットトランジスタMrstのソース又はドレインの他方には、リセット電位Vrstが供給される。リセットトランジスタMrstが、第1ゲート線駆動回路15Aから供給されるリセット制御信号RSTに応答してオン(導通状態)になると、ノードN1の電位がリセット電位Vrstにリセットされる。基準電位Vcomは、リセット電位Vrstよりも低い電位を有しており、光電変換素子30は、逆バイアス駆動される。
ソースフォロワトランジスタMsfは、電源電位Vsfが供給される端子と読出トランジスタMrd(ノードN2)との間に接続される。ソースフォロワトランジスタMsfのゲートは、ノードN1に接続される。ソースフォロワトランジスタMsfのゲートには、光電変換素子30で発生した信号(電荷)に応じた信号(電圧)が供給される。これにより、ソースフォロワトランジスタMsfは、光電変換素子30で発生した信号(電荷)に応じた信号電圧を読出トランジスタMrdに出力する。
読出トランジスタMrdは、ソースフォロワトランジスタMsfのソース(ノードN2)と出力信号線SLとの間に接続される。読出トランジスタMrdのゲートは、読出制御走査線GLrdに接続される。読出トランジスタMrdが、第2ゲート線駆動回路15Bから供給される読出制御信号RDに応答してオンになると、ソースフォロワトランジスタMsfから出力される信号、すなわち、光電変換素子30で発生した信号(電荷)に応じた信号(電圧)が、検出信号Vdetとして出力信号線SLに出力される。
なお、図5では、リセットトランジスタMrst及び読出トランジスタMrdをそれぞれシングルゲート構造としたが、リセットトランジスタMrst及び読出トランジスタMrdは、それぞれ、2つのトランジスタが直列に接続されて構成された、所謂ダブルゲート構造でもよく、3つ以上のトランジスタが直列に接続された構成であっても良い。また、1つの検出素子3の回路は、リセットトランジスタMrst、ソースフォロワトランジスタMsf及び読出トランジスタMrdの3つのトランジスタを有する構成に限定されない。検出素子3は、2つのトランジスタを有していてもよく、4つ以上のトランジスタを有していてもよい。
図6は、検出期間における検出素子の動作例を示すタイミング波形図である。図6に示すように、検出素子3は、検出期間において、リセット期間Prst、蓄積期間Pch及び読出期間Pdetの順に検出を実行する。電源回路103は、リセット期間Prst、蓄積期間Pch及び読出期間Pdetに亘って、基準電位Vcomを光電変換素子30のアノードに供給する。
制御回路102は、時刻t0に、リセット制御走査線GLrstに供給されるリセット制御信号RSTをハイ(高レベル電圧)とし、リセット期間Prstが開始する。リセット期間Prstにおいて、リセットトランジスタMrstがオン(導通状態)となり、ノードN1の電位がリセット電位Vrstの電位に上昇する。これにより、光電変換素子30は、リセット電位Vrstと基準電位Vcomとの電位差で逆バイアスされる。また、読出トランジスタMrdがオフ(非導通状態)であるため、ソースフォロワトランジスタMsfのソースが電源電位Vsfにより充電され、ノードN2の電位が上昇する。
制御回路102は、時刻t1に、読出制御走査線GLrdに供給される読出制御信号RDをハイ(高レベル電圧)とする。これにより、読出トランジスタMrdがオン(導通状態)となり、ノードN2の電位は(Vrst-Vthsf)となる。なお、Vthsfは、ソースフォロワトランジスタMsfのしきい値電圧Vthsfである。
制御回路102は、時刻t2に、リセット制御信号RSTをロウ(低レベル電圧)とし、リセット期間Prstが終了し、蓄積期間Pchが開始する。蓄積期間Pchにおいて、リセットトランジスタMrstがオフ(非導通状態)となる。ノードN1の電位は、光電変換素子30に照射された光に応じた信号が蓄積されて、(Vrst-Vphoto)に低下する。なお、Vphotoは、光電変換素子30に照射された光に応じた信号(電圧変動分)である。
時刻t3において出力信号線SLから出力される検出信号Vdet1の電位は、(Vrst-Vthsf-Vrdon)となる。Vrdonは、読出トランジスタMrdのオン抵抗に起因する電圧降下である。
制御回路102は、時刻t3に、読出制御信号RDをロウ(低レベル電圧)とする。これにより、読出トランジスタMrdがオフ(非導通状態)となり、ノードN2の電位は(Vrst-Vthsf)で一定となる。また、出力信号線SLから出力される検出信号Vdetの電位はロウ(低レベル電圧)となるように負荷が与えられている。
制御回路102は、時刻t4に、読出制御信号RDをハイ(高レベル電圧)とする。これにより、読出トランジスタMrdがオン(導通状態)となり、蓄積期間Pchが終了し、読出期間Pdetが開始する。ノードN2の電位は、信号Vphotoに応じて、(Vrst-Vthsf-Vphoto)に変化する。読出期間Pdetに出力される検出信号Vdet2の電位は、時刻t3に取得された検出信号Vdet1の電位から信号Vphoto分低下し、(Vrst-Vthsf-Vrdon-Vphoto)となる。
検出部40は、時刻t3での検出信号Vdet1と、時刻t5での検出信号Vdet2との差分の信号(Vphoto)に基づいて、光電変換素子30に照射された光を検出できる。図6では、1つの検出素子3の動作例を示しているが、第1ゲート線駆動回路15A及び第2ゲート線駆動回路15Bが、それぞれ、リセット制御走査線GLrst、読出制御走査線GLrdを順次、時分割的に走査することで、検出領域AA全体の検出素子3で検出することができる。
図7は、検出期間におけるリセット制御信号の出力タイミングの一例を示すタイミングチャートである。
図7に示すように、検出期間の開始時において時刻t10にスタート信号STVが「H」(高レベル電圧)に制御され、クロック信号CKの立ち上がりごとに順次リセット制御信号RST<1>,RST<2>,RST<3>,・・・が「H」(高レベル電圧)に制御される。リセット制御信号RST<1>の「H」(高レベル電圧)期間が、検出領域AAの第1方向Dxに配列された複数の検出素子3の1行目におけるリセット期間Prst<1>に対応し、リセット制御信号RST<2>の「H」(高レベル電圧)期間が、検出領域AAの第1方向Dxに配列された複数の検出素子3の2行目におけるリセット期間Prst<2>に対応し、リセット制御信号RST<3>の「H」(高レベル電圧)期間が、検出領域AAの第1方向Dxに配列された複数の検出素子3の3行目におけるリセット期間Prst<3>に対応する。
図8は、リセット期間における検出素子の動作を説明する図である。上述したように、光電変換素子30は、リセット期間Prstにおいて逆バイアスされる。このとき、光電変換素子30は、リセット電位Vrstと基準電位Vcomとの電位差である逆バイアス電圧Vpnが印加される。これにより、光電変換素子30に逆バイアス電流Ipnが流れる。
図9A、図9B、図9Cは、PINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。図9Aは、逆バイアス電圧Vpnが相対的に小さい場合の逆バイアス電流の時間変化を示している。図9Cは、逆バイアス電圧Vpnが相対的に大きい場合の逆バイアス電流の時間変化を示している。図9Bは、逆バイアス電圧Vpnが図9Aに示す例よりも大きく、図9Cに示す例よりも小さい場合の逆バイアス電流の時間変化を示している。図9A、図9B、図9Cに示す例において、実線は明部領域における逆バイアス電流Ipnの時間変化を示し、破線は暗部領域における逆バイアス電流Ipnの時間変化を示している。また、図9A、図9B、図9Cでは、逆バイアス電流Ipnのバラツキ幅の相対的な大きさを概念的に実線矢示及び破線矢示している。
一般に、検出素子3の光電変換素子30を構成するPINフォトダイオードは、図9A、図9B、図9Cに示すように、逆バイアス電圧Vpnが大きいほど逆バイアス電流Ipnのバラツキが大きい。このため、光電変換素子30に印加する逆バイアス電圧Vpnは、より小さい方が好ましい。
一方で、PINフォトダイオードは、図9A、図9B、図9Cに示すように、逆バイアス電圧Vpnが小さいほど、逆バイアス電圧Vpnを印加してから逆バイアス電流Ipnが安定するまでの時間が長くなる。このため、例えば、検出精度を向上するために複数フレーム(複数回)に亘り検出信号Vdetを取得する場合、各フレームで取得した検出信号Vdetの値が変化して正確な検出処理が出来なくなる可能性がある。
本開示では、図7に示す検出期間の前に、検出期間において光電変換素子30に印加する逆バイアス電圧Vpnよりも大きい初期化電圧を印加する初期化期間を設けることにより、検出期間における逆バイアス電流Ipnの安定時間を短縮し、検出精度の低下を抑制する。以下、検出期間の前の初期化期間において、検出期間に光電変換素子30に印加する逆バイアス電圧Vpnよりも大きい初期化電圧を印加する構成及び動作について説明する。
(実施形態1)
図10は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路の一構成例を示す図である。図11は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路を適用した構成の具体例を示す図である。図12は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路の動作を説明するタイミングチャートである。図13は、実施形態1に係る検出装置の初期化回路を適用した場合のPINフォトダイオードの逆バイアス電圧と逆バイアス電流との関係を示す図である。
図10に示すように、初期化回路17は、リセットトランジスタMrst<m,n>を介して光電変換素子30のカソード(ノードN1)にリセット電位Vrst(第1電位)を印加する第1トランジスタTr1と、リセットトランジスタMrst<m,n>を介して光電変換素子30のカソード(ノードN1)にリセット電位Vrst(第1電位)よりも高い高電位VGH(第2電位)を印加する第2トランジスタTr2と、第1トランジスタTr1と第2トランジスタTr2との制御論理を反転する論理反転回路INVと、を含む。言い換えると、初期化回路17は、光電変換素子30のカソードにリセット電位Vrst(第1電位)を供給することによって、光電変換素子30に逆バイアス電圧を印加する配線(第1配線)を備えると共に、光電変換素子30のカソードにリセット電位Vrst(第1電位)よりも高い高電位VGH(第2電位)を供給することによって、光電変換素子30により高い逆バイアス電圧である初期化電圧を印加する配線(第2配線)を備えている。さらに、初期化回路17は、リセット電位Vrst(第1電位)を供給する配線(第1配線)と高電位VGH(第2電位)を供給する配線(第2配線)との何れか一方を検出素子3に接続するスイッチ回路(第1トランジスタTr1、第2トランジスタTr2、及び論理反転回路INV)を備えている。高電位VGH(第2電位)は、例えば電源電位Vsfであっても良い。
初期化回路17は、図11に示すように、検出領域AAの第2方向Dyに配列された複数の検出素子3の各列ごとに第1トランジスタTr1及び第2トランジスタTr2を有する構成であっても良いし、検出領域AAの第2方向Dyに配列された複数の検出素子3の複数列ごとに第1トランジスタTr1及び第2トランジスタTr2を有する構成であっても良い。
初期化回路17は、周辺領域GAに設けられる。具体的に、図11に示す構成において、初期化回路17は、周辺領域GAのうち第1方向Dxに沿って延在する領域に設けられる。また、初期化回路17は、例えば、センサ部10と検出回路48との間に設けられる態様であっても良い。
図10及び図11に示すように、初期化回路17は、初期化信号INITが入力される。第2トランジスタTr2のゲートには、初期化信号INITが入力され、第1トランジスタTr1のゲートには、初期化信号INITが論理反転回路INVにより論理反転した信号が入力される。初期化信号INITは、初期化期間において「H」(高レベル電圧)に制御された後、「L」(低レベル電圧)に制御される。初期化信号INITは、例えば検出制御回路11(図4参照)から出力される態様であっても良い。さらに、初期化信号INITは、例えば、信号線選択回路16を有する構成では、検出期間において供給される選択信号ASWを用いても良い。この場合、選択信号ASWは、初期化期間において「H」(高レベル電圧)に制御された後、「L」(低レベル電圧)に制御される態様であれば良い。
図12に示すように、検出期間の直前に設けられる初期化期間において、初期化信号INIT及びリセット制御信号RST<n>が「H」(高レベル電圧)に制御され、ノードN1の電位VN1<m,n>が第2トランジスタTr2を介して印加される高電位VGH(第2電位)となり、光電変換素子30のカソードにリセット電位Vrst(第1電位)よりも高い高電位VGH(第2電位)が印加される。これにより、光電変換素子30は、カソード(ノードN1)に印加された高電位VGH(第2電位)とアノードに印加された基準電位Vcomとの差電圧(電位差)により逆バイアスされる(Vpn<m,n>=VGH-Vcom)。
その後、初期化信号INITが「L」(低レベル電圧)に制御され、ノードN1の電位VN1<m,n>が第1トランジスタTr1を介して印加されるリセット電位Vrst(第1電位)となる。これにより、光電変換素子30は、カソード(ノードN1)に印加されたリセット電位Vrst(第1電位)とアノードに印加された基準電位Vcomとの差電圧(電位差)により逆バイアスされる(Vpn<m,n>=Vrst-Vcom)。
なお、図12では、基準電位Vcomが正電位(Vcom>GND)である例を示したが、基準電位VcomはGND電位あるいは負電位(Vcom≦GND)であっても良い。また、初期化回路17の構成は図10及び図11に示す構成に限定されず、初期化期間において検出期間よりも大きい逆バイアス電圧Vpn(初期化電圧)が光電変換素子30に印加される態様であれば良い。また、第1トランジスタTr1のゲートに初期化信号INITが入力され、第2トランジスタTr2のゲートに初期化信号INITが論理反転回路INVにより論理反転した信号が入力される態様であっても良い。この場合、初期化信号INITは、初期化期間において「L」(低レベル電圧)に制御された後、「H」(高レベル電圧)に制御される態様であれば良い。さらに、論理反転回路INVは必ずしも必要ではなく、例えば、初期化信号INITに加えて、初期化信号INITを論理反転した信号XINITが入力される態様であっても良い。
上述したように、実施形態1では、検出期間の前の初期化期間においてリセット電位Vrst(第1電位)よりも高い高電位VGH(第2電位)を光電変換素子30のカソードに印加する。これにより、初期化期間において検出期間よりも大きい逆バイアス電圧Vpn(初期化電圧)が光電変換素子30に印加される。この結果として、図13に示すように、検出期間における逆バイアス電流Ipnの安定時間が短縮され、複数フレーム(複数回)に亘り検出信号Vdetを取得する際の検出精度の低下を抑制することができる。
(実施形態2)
図14は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路の一構成例を示す図である。図15は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路を適用した構成の具体例を示す図である。図16は、実施形態2に係る検出装置の初期化回路の動作を説明するタイミングチャートである。
実施形態2に係る初期化回路17aは、図14に示すように、光電変換素子30のアノードPD<m,n>(anode)に基準電位Vcom(第1電位)を印加する第1トランジスタTr1aと、光電変換素子30のアノードPD<m,n>(anode)に基準電位Vcom(第1電位)よりも低い低電位VGL(第2電位)を印加する第2トランジスタTr2aと、第1トランジスタTr1aと第2トランジスタTr2aとの制御論理を反転する論理反転回路INVaと、を含む。言い換えると、初期化回路17aは、光電変換素子30のアノードに基準電位Vcom(第1電位)を供給することによって、光電変換素子30に逆バイアス電圧を印加する配線(第1配線)を備えると共に、光電変換素子30のアノードに基準電位Vcom(第1電位)よりも低い低電位VGL(第2電位)を供給することによって、光電変換素子30により高い逆バイアス電圧である初期化電圧を印加する配線(第2配線)を備えている。さらに、初期化回路17aは、基準電位Vcom(第1電位)を供給する配線(第1配線)と低電位VGL(第2電位)を供給する配線(第2配線)との何れか一方を検出素子3に接続するスイッチ回路(第1トランジスタTr1、第2トランジスタTr2、及び論理反転回路INV)を備えている。低電位VGL(第2電位)は、例えばGND電位であっても良い。
初期化回路17aは、図15に示すように、検出領域AAの第2方向Dyに配列された複数の検出素子3の各列ごとに第1トランジスタTr1a及び第2トランジスタTr2aを有する構成であっても良いし、検出領域AAの第2方向Dyに配列された複数の検出素子3の複数列ごとに第1トランジスタTr1a及び第2トランジスタTr2aを有する構成であっても良い。
初期化回路17aは、周辺領域GAに設けられる。具体的に、図15に示す構成においては、初期化回路17aは、周辺領域GAのうち第1方向Dxに沿って延在する領域に設けられる。また、初期化回路17aは、例えば、センサ部10と検出回路48との間に設けられる態様であっても良い。
図14及び図15に示すように、初期化回路17aは、初期化信号INITが入力される。第2トランジスタTr2aのゲートには、初期化信号INITが入力され、第1トランジスタTr1aのゲートには、初期化信号INITが論理反転回路INVにより論理反転した信号が入力される。初期化信号INITは、初期化期間において「H」(高レベル電圧)に制御され、検出期間において「L」(低レベル電圧)に制御される。初期化信号INITは、例えば検出制御回路11(図4参照)から出力される態様であっても良い。さらに、初期化信号INITは、例えば、信号線選択回路16を有する構成では、検出期間において供給される選択信号ASWを用いても良い。この場合、選択信号ASWは、初期化期間において「H」(高レベル電圧)に制御された後、「L」(低レベル電圧)に制御される態様であれば良い。
図16に示すように、検出期間の直前に設けられる初期化期間において、初期化信号INIT及びリセット制御信号RST<n>が「H」(高レベル電圧)に制御され、光電変換素子30のアノードに第2トランジスタTr2aを介して基準電位Vcom(第1電位)よりも低い低電位VGL(第2電位)が印加される。これにより、光電変換素子30は、カソード(ノードN1)に印加されたリセット電位Vrstとアノードに印加された低電位VGL(第2電位)との差電圧(電位差)により逆バイアスされる(Vpn<m,n>=Vrst-VGL)。
その後、初期化信号INITが「L」(低レベル電圧)に制御され、光電変換素子30のアノードの電位が第1トランジスタTr1aを介して印加される基準電位Vcom(第1電位)となる。これにより、光電変換素子30は、カソード(ノードN1)に印加されたリセット電位Vrstとアノードに印加された基準電位Vcom(第1電位)との差電圧(電位差)により逆バイアスされる(Vpn<m,n>=Vrst-Vcom)。
なお、図16では、基準電位Vcomが正電位(Vcom>GND)であり、且つ低電位VGL(第2電位)が正電位(Vcom>VGL>GND)である例を示したが、低電位VGL(第2電位)はGND電位あるいは負電位(VGL≦GND)であっても良い。また、基準電位VcomはGND電位あるいは負電位(Vcom≦GND)であっても良い。この場合、低電位VGL(第2電位)は基準電位Vcomよりも低い負電位(VGL<Vcom≦GND)であれば良い。また、初期化回路17aの構成は図14及び図15に示す構成に限定されず、初期化期間において検出期間よりも大きい逆バイアス電圧Vpn(初期化電圧)が光電変換素子30に印加される態様であれば良い。また、第1トランジスタTr1のゲートに初期化信号INITが入力され、第2トランジスタTr2のゲートに初期化信号INITが論理反転回路INVにより論理反転した信号が入力される態様であっても良い。この場合、初期化信号INITは、初期化期間において「L」(低レベル電圧)に制御された後、「H」(高レベル電圧)に制御される態様であれば良い。さらに、論理反転回路INVaは必ずしも必要ではなく、例えば、初期化信号INITに加えて、初期化信号INITを論理反転した信号XINITが入力される態様であっても良い。
上述したように、実施形態2では、検出期間の前の初期化期間において基準電位Vcom(第1電位)よりも低い低電位VGL(第2電位)を光電変換素子30のアノードに印加する。これにより、初期化期間において検出期間よりも大きい逆バイアス電圧Vpn(初期化電圧)が光電変換素子30に印加される。この結果として、実施形態1と同様、図13に示すように、検出期間における逆バイアス電流Ipnの安定時間が短縮され、複数フレーム(複数回)に亘り検出信号Vdetを取得する際の検出精度の低下を抑制することができる。
以上、本開示の好適な実施の形態を説明したが、本開示はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本開示の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本開示の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本開示の技術的範囲に属する。
1 検出装置
3 検出素子
10 センサ部
15A 第1ゲート線駆動回路
15B 第2ゲート線駆動回路
16 信号線選択回路
17 初期化回路
21 基板
30 光電変換素子
48 検出回路
AA 検出領域
GA 周辺領域
GLrst リセット制御走査線
GLrd 読出制御走査線
INV,INVa 論理反転回路
Mrst リセットトランジスタ
Mrd 読出トランジスタ
Msf ソースフォロワトランジスタ
RST リセット制御信号
RD 読出制御信号
SL 出力信号線
Tr1,Tr1a 第1トランジスタ
Tr2,Tr2a 第2トランジスタ
Vcom 基準電位
VGH 高電位(第1電位)
VGL 低電位(第2電位)
Vrst リセット電位
Vsf 電源電位

Claims (5)

  1. 検出領域にマトリクス状に配列され、検出を行う際に逆バイアス電圧が印加される光電変換素子を備えた複数の検出素子と、
    前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧を印加する前に、前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧よりも大きい初期化電圧を印加する初期化回路と、
    を備える、
    検出装置。
  2. 前記初期化回路は、
    前記光電変換素子のカソードに第1電位を印加する第1トランジスタと、
    前記光電変換素子のカソードに前記第1電位よりも高い第2電位を印加する第2トランジスタと、
    を含む、
    請求項1に記載の検出装置。
  3. 前記初期化回路は、
    前記光電変換素子のアノードに第1電位を印加する第1トランジスタと、
    前記光電変換素子のアノードに前記第1電位よりも低い第2電位を印加する第2トランジスタと、
    を含む、
    請求項1に記載の検出装置。
  4. 前記検出素子は、
    前記光電変換素子のカソードにリセット電位を与えるリセットトランジスタと、
    前記光電変換素子で発生した電位に応じた信号を出力するソースフォロワトランジスタと、
    前記ソースフォロワトランジスタの出力信号を読み出す読出トランジスタと、
    を備える、
    請求項1から3の何れか一項に記載の検出装置。
  5. 検出領域にマトリクス状に配列され、検出を行う際に逆バイアス電圧が印加される光電変換素子を備えた複数の検出素子と、
    前記複数の検出素子を初期化する初期化回路と、
    を備え、
    前記初期化回路は、
    前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧を供給する第1配線と、
    前記光電変換素子に前記逆バイアス電圧よりも大きい初期化電圧を供給する第2配線と、
    前記第1配線と前記第2配線との何れか一方を前記複数の検出素子に接続するスイッチ回路と、
    を備える、
    検出装置。
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