JP2023014999A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2023014999A5
JP2023014999A5 JP2022112164A JP2022112164A JP2023014999A5 JP 2023014999 A5 JP2023014999 A5 JP 2023014999A5 JP 2022112164 A JP2022112164 A JP 2022112164A JP 2022112164 A JP2022112164 A JP 2022112164A JP 2023014999 A5 JP2023014999 A5 JP 2023014999A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical formula
atom
carbon atoms
structure represented
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022112164A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2023014999A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2023014999A publication Critical patent/JP2023014999A/ja
Publication of JP2023014999A5 publication Critical patent/JP2023014999A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2022112164A 2021-07-19 2022-07-13 樹脂膜、その製造方法、樹脂組成物およびディスプレイの製造方法 Pending JP2023014999A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021118451 2021-07-19
JP2021118451 2021-07-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023014999A JP2023014999A (ja) 2023-01-31
JP2023014999A5 true JP2023014999A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2025-07-07

Family

ID=85130588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022112164A Pending JP2023014999A (ja) 2021-07-19 2022-07-13 樹脂膜、その製造方法、樹脂組成物およびディスプレイの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023014999A (enrdf_load_stackoverflow)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5692736B2 (ja) 絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜
CN101578390A (zh) 形成含钴膜的材料以及使用该材料的硅化钴膜的制造方法
JP4030625B2 (ja) アミン残基含有ポリシラザン及びその製造方法
JP2007508307A (ja) モノシラン誘導体またはジシラン誘導体、および、それを用いたシリコン含有膜の低温蒸着法
US7776990B1 (en) Method for preparing polysilazane solution with reducing ammonia substitution of Si-H bond
JP2017511308A (ja) 有機ゲルマニウムアミン化合物、及びそれを利用した薄膜蒸着方法
JPWO2020054797A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2019513174A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2019172970A5 (enrdf_load_stackoverflow)
CN104341447B (zh) 一种含n脒基硅化合物及其应用
JP2019196483A (ja) アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物の製造方法
JP2022176115A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2023014999A5 (enrdf_load_stackoverflow)
WO2019188103A1 (ja) アミノシラン化合物、前記アミノシラン化合物を含むシリコン含有膜形成用の組成物
JP2023020948A5 (enrdf_load_stackoverflow)
CN104447838B (zh) 一种β二亚胺基硅化合物及其应用
JP6652488B2 (ja) 高分子量ポリシラン及びその製造方法
JP2022176116A5 (enrdf_load_stackoverflow)
EP2301990A1 (en) Polymer manufacturing method
JPWO2021193530A5 (enrdf_load_stackoverflow)
KR101380317B1 (ko) 실리콘 원자 및 금속 원자에 대한 친화성이 우수한 고리형 아미노실란 화합물, 이의 제조방법 및 이의 응용
CN111423562A (zh) 含硅氨基氮唑耐高温环氧树脂固化剂及其制备方法和环氧树脂组合物与固化物及其应用
JP6918987B2 (ja) アルコキシシリル基及び活性エステル基を有する化合物、その製造方法、それを含む組成物及び用途
JPS6260412B2 (enrdf_load_stackoverflow)
KR101306812B1 (ko) 신규의 텅스텐 실릴아미드 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법