JP2023013979A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021117756 | 2021-07-16 | ||
| JP2021117756 | 2021-07-16 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023013979A JP2023013979A (ja) | 2023-01-26 |
| JP2023013979A5 true JP2023013979A5 (https=) | 2023-02-02 |
| JP7810073B2 JP7810073B2 (ja) | 2026-02-03 |
Family
ID=85110264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022101878A Active JP7810073B2 (ja) | 2021-07-16 | 2022-06-24 | ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12189292B2 (https=) |
| JP (1) | JP7810073B2 (https=) |
| KR (1) | KR102803384B1 (https=) |
| TW (1) | TWI857317B (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7845219B2 (ja) * | 2023-02-10 | 2026-04-14 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP2024119270A (ja) * | 2023-02-22 | 2024-09-03 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 |
| JP2024147880A (ja) * | 2023-04-04 | 2024-10-17 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6841333B2 (en) * | 2002-11-01 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Ionic photoacid generators with segmented hydrocarbon-fluorocarbon sulfonate anions |
| JP4816921B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-11-16 | 信越化学工業株式会社 | 新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP4982288B2 (ja) | 2007-04-13 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法 |
| JP5580674B2 (ja) * | 2009-07-14 | 2014-08-27 | 住友化学株式会社 | 新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP5658932B2 (ja) * | 2009-07-14 | 2015-01-28 | 住友化学株式会社 | 新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP5216032B2 (ja) * | 2010-02-02 | 2013-06-19 | 信越化学工業株式会社 | 新規スルホニウム塩、高分子化合物、高分子化合物の製造方法、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP5578994B2 (ja) | 2010-08-27 | 2014-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
| JP5485198B2 (ja) * | 2011-02-21 | 2014-05-07 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| JP6028732B2 (ja) * | 2011-08-16 | 2016-11-16 | Jsr株式会社 | フォトレジスト組成物 |
| JP6136582B2 (ja) | 2012-07-27 | 2017-05-31 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6295067B2 (ja) | 2012-11-26 | 2018-03-14 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| US11448964B2 (en) * | 2016-05-23 | 2022-09-20 | Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. | Coating compositions for use with an overcoated photoresist |
| KR101960596B1 (ko) * | 2016-06-28 | 2019-07-15 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
| JP6645464B2 (ja) * | 2017-03-17 | 2020-02-14 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
| CN113168099A (zh) | 2019-01-28 | 2021-07-23 | 富士胶片株式会社 | 感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法 |
| JP7713327B2 (ja) | 2020-08-03 | 2025-07-25 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
-
2022
- 2022-06-24 JP JP2022101878A patent/JP7810073B2/ja active Active
- 2022-07-12 US US17/862,580 patent/US12189292B2/en active Active
- 2022-07-13 TW TW111126194A patent/TWI857317B/zh active
- 2022-07-13 KR KR1020220086028A patent/KR102803384B1/ko active Active
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