JP2023010758A - 光検出装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1を参照して、本技術を適用した撮像素子が備える素子分離部の基本的な構成例について説明する。
図2を参照して、突起部33を有する素子分離部31の平面的な配置について説明する。
図3乃至図14を参照して、突起部33を有する素子分離部31を備えた撮像素子の構成例について説明する。
は、略菱形の形状に限定されることなく、トレンチ側面32よりも側面方向に突出するような形状であれば、様々な形状を採用することができる。
することができ、混色の発生を抑制することができる。
図15乃至図23を参照して、本技術を適用した撮像素子の製造方法における素子分離部31または素子分離部21を形成するプロセスについて説明する。
これにより、トレンチ102の側面103は、半導体基板11の裏面に対して略垂直となるように形成され、トレンチ102の底面104は、平坦となるように形成される。
これにより、トレンチ102-1の底面104-1において半導体基板11が露出する。
具体的には、高反射材料として、アルミニウム以外に、銀、金、銅、コバルトなどを用いてもよく、高吸収材料として、タングステン以外に、タンタル(窒化タンタル)、チタン(窒化チタン)、クロム、モリブデン、ニッケル、プラチナなどを用いてもよい。
上述したような撮像素子51は、例えば、デジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラなどの撮像システム、撮像機能を備えた携帯電話機、または、撮像機能を備えた他の機器といった各種の電子機器に適用することができる。
図25は、上述のイメージセンサ(撮像素子)を使用する使用例を示す図である。
・自動停止等の安全運転や、運転者の状態の認識等のために、自動車の前方や後方、周囲、車内等を撮影する車載用センサ、走行車両や道路を監視する監視カメラ、車両間等の測距を行う測距センサ等の、交通の用に供される装置
・ユーザのジェスチャを撮影して、そのジェスチャに従った機器操作を行うために、TVや、冷蔵庫、エアーコンディショナ等の家電に供される装置
・内視鏡や、赤外光の受光による血管撮影を行う装置等の、医療やヘルスケアの用に供される装置
・防犯用途の監視カメラや、人物認証用途のカメラ等の、セキュリティの用に供される装置
・肌を撮影する肌測定器や、頭皮を撮影するマイクロスコープ等の、美容の用に供される装置
・スポーツ用途等向けのアクションカメラやウェアラブルカメラ等の、スポーツの用に供される装置
・畑や作物の状態を監視するためのカメラ等の、農業の用に供される装置
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
(1)
照射される光を光電変換する光電変換部が形成される半導体基板と、
前記半導体基板の受光面側から、複数の前記光電変換部どうしの間に設けられたトレンチ部と、
前記トレンチ部の一部分において、前記トレンチ部の間隔が広がるように前記トレンチ部の側面に対して傾斜する傾斜面を少なくとも設けた突起部と
を備える撮像素子。
(2)
前記突起部は、前記半導体基板を構成する結晶の所定の面方位に沿った前記傾斜面により構成される
上記(1)に記載の撮像素子。
(3)
前記突起部は、前記トレンチ部の先端に設けられる
上記(1)または(2)に記載の撮像素子。
(4)
前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記トレンチ部の先端までの間の中段に設けられる
上記(1)から(3)までのいずれかに記載の撮像素子。
(5)
前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記トレンチ部の先端までの間の複数個所に設けられる
上記(1)から(4)までのいずれかに記載の撮像素子。
(6)
前記トレンチ部および前記突起部には、光の透過を抑制する材料が埋め込まれる
上記(1)から(5)までのいずれかに記載の撮像素子。
(7)
前記突起部のうちの前記トレンチ部の側面よりも側面方向に突出している突出部に埋め込まれる第1の材料と、前記突出部以外の前記トレンチ部の内部に埋め込まれる第2の材料とは、それぞれ特性が異なる
上記(6)に記載の撮像素子。
(8)
前記第1の材料は、前記第2の材料よりも光に対する吸収係数が高く、
前記第2の材料は、前記第1の材料よりも光に対する反射率が高い
上記(7)に記載の撮像素子。
(9)
撮像素子を製造する製造装置が、
照射される光を光電変換する光電変換部が形成される半導体基板の受光面側から、複数の前記光電変換部どうしの間に設けられるトレンチ部を彫り込むことと、
前記トレンチ部の一部分において、前記トレンチ部の間隔が広がるように前記トレンチ部の側面に対して傾斜する傾斜面を少なくとも設けた突起部を形成することと
を含む製造方法。
(10)
照射される光を光電変換する光電変換部が形成される半導体基板と、
前記半導体基板の受光面側から、複数の前記光電変換部どうしの間に設けられたトレンチ部と、
前記トレンチ部の一部分において、前記トレンチ部の間隔が広がるように前記トレンチ部の側面に対して傾斜する傾斜面を少なくとも設けた突起部と
を有する撮像素子を備える電子機器。
(11)
前記突起部は、アルカリ薬液を用いたシリコン面方位選択エッチングによって形成される
上記(9)に記載の製造方法。
Claims (17)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に設けられる第1光電変換部と、
前記第1光電変換部に隣接する第2光電変換部と、
前記第2光電変換部に隣接する第3光電変換部と、
前記第3光電変換部に隣接する第4光電変換部と、
前記第1光電変換部と前記第2光電変換部との間に設けられた第1トレンチ部と、
前記第2光電変換部と前記第3光電変換部との間に設けられた第2トレンチ部と、
前記第3光電変換部と前記第4光電変換部との間に設けられた第3トレンチ部と
を有し、
前記第1光電変換部と前記第2光電変換部とは、第1波長帯域の光を光電変換し、
前記第3光電変換部と前記第4光電変換部とは、前記第1波長帯域とは異なる第2波長帯域の光を光電変換し、
前記第2トレンチ部の一部分において、前記第2トレンチ部の幅が広がるように前記第2トレンチ部の側面に対して傾斜する傾斜面を有する突起部を備える
光検出装置。 - 前記突起部は、前記第2トレンチ部の先端に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記第2トレンチ部の先端までの間の中段に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記第2トレンチ部の先端までの間の複数個所に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記第2トレンチ部および前記突起部には、光の透過を抑制する材料が埋め込まれる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部には第1材料と、前記第1材料とは異なる第2材料とが埋め込まれる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記第1材料は、前記第2材料よりも光に対する吸収係数が高く、
前記第2材料は、前記第1材料よりも光に対する反射率が高い
請求項6に記載の光検出装置。 - 前記第1トレンチ部と前記第3トレンチ部とは、前記突起部を有さない
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部は、前記半導体基板を構成する結晶の所定の面方位に沿った前記傾斜面により構成される
請求項1に記載の光検出装置。 - 第1画素と、
前記第1画素に隣接する第2画素と、
前記第1画素と前記第2画素との間に設けられる第1トレンチ部と、
前記第1画素内に設けられた第2トレンチ部と
を有し、
前記第2トレンチ部の一部分において前記第2トレンチ部の幅が広がるように前記第2トレンチ部の側面に対して傾斜する傾斜面を有する突起部を備える
光検出装置。 - 前記突起部は、前記第2トレンチ部の先端に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記第2トレンチ部の先端までの間の中段に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部は、前記半導体基板の受光面から前記第2トレンチ部の先端までの間の複数個所に設けられる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記第2トレンチ部および前記突起部には、光の透過を抑制する材料が埋め込まれる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記突起部には第1材料と、前記第1材料とは異なる第2材料とが埋め込まれる
請求項1に記載の光検出装置。 - 前記第1材料は、前記第2材料よりも光に対する吸収係数が高く、
前記第2材料は、前記第1材料よりも光に対する反射率が高い
請求項15に記載の光検出装置。 - 前記第1トレンチ部と前記第3トレンチ部とは、前記突起部を有さない
請求項1に記載の光検出装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116435325A (zh) * | 2023-06-13 | 2023-07-14 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 | 背照式图像传感器及其形成方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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TW202137529A (zh) * | 2019-11-18 | 2021-10-01 | 日商索尼半導體解決方案公司 | 固體攝像裝置及電子機器 |
TW202133410A (zh) * | 2019-12-02 | 2021-09-01 | 日商索尼半導體解決方案公司 | 攝像裝置及其製造方法以及電子機器 |
WO2021112128A1 (ja) * | 2019-12-03 | 2021-06-10 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置およびその製造方法、電子機器 |
JP7465120B2 (ja) * | 2020-03-10 | 2024-04-10 | キヤノン株式会社 | 半導体装置、その製造方法及び機器 |
JPWO2021241722A1 (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-02 | ||
JP2021197401A (ja) * | 2020-06-10 | 2021-12-27 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置の製造方法、固体撮像装置及び電子機器 |
JP2022156254A (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-14 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置及び撮像装置の製造方法 |
WO2023013554A1 (ja) * | 2021-08-06 | 2023-02-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光検出器及び電子機器 |
KR20240042421A (ko) | 2021-08-16 | 2024-04-02 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | 광 검출 장치 및 그 제조 방법 |
WO2023145606A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像装置及び電子機器 |
WO2023233873A1 (ja) * | 2022-06-02 | 2023-12-07 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光検出装置及び電子機器 |
CN115995478B (zh) * | 2023-03-24 | 2023-06-27 | 合肥新晶集成电路有限公司 | 图像传感器及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62149153A (ja) * | 1985-09-17 | 1987-07-03 | Fujitsu Ltd | 埋込型素子分離溝の構造とその形成方法 |
JP2013065688A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sony Corp | 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器 |
US20130105928A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Intevac, Inc. | BACKSIDE-THINNED IMAGE SENSOR USING Al2O3 SURFACE PASSIVATION |
JP2014017615A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Fujifilm Corp | カラー撮像素子 |
JP2015029047A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-02-12 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
JP2015035555A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
WO2017130723A1 (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子および電子機器 |
WO2018150902A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像素子および電子機器 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009272596A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-11-19 | Sony Corp | 固体撮像装置とその製造方法、及び電子機器 |
JP2013098446A (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-20 | Sony Corp | 固体撮像素子、固体撮像素子の製造方法、及び、電子機器 |
JP2014022448A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-03 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JP5547260B2 (ja) | 2012-10-22 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | 固体撮像装置 |
US9799697B2 (en) * | 2014-04-25 | 2017-10-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Back side illuminated image sensor with deep trench isolation structures and self-aligned color filters |
KR102384890B1 (ko) * | 2015-01-13 | 2022-04-11 | 삼성전자주식회사 | 이미지 센서 및 그 형성 방법 |
-
2018
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-
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62149153A (ja) * | 1985-09-17 | 1987-07-03 | Fujitsu Ltd | 埋込型素子分離溝の構造とその形成方法 |
JP2013065688A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Sony Corp | 固体撮像素子および製造方法、並びに電子機器 |
US20130105928A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Intevac, Inc. | BACKSIDE-THINNED IMAGE SENSOR USING Al2O3 SURFACE PASSIVATION |
JP2014017615A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Fujifilm Corp | カラー撮像素子 |
JP2015029047A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-02-12 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
JP2015035555A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子機器 |
WO2017130723A1 (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子および電子機器 |
WO2018150902A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像素子および電子機器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116435325A (zh) * | 2023-06-13 | 2023-07-14 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 | 背照式图像传感器及其形成方法 |
CN116435325B (zh) * | 2023-06-13 | 2023-09-08 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 | 背照式图像传感器及其形成方法 |
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