JP2023008776A - 集積回路および半導体モジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】所望の温度特性を有する基準電圧を供給できる回路を提供する。【解決手段】第1電流源と、前記第1電流源に並列に設けられた第2電流源と、一端が前記第1電流源の出力に接続された第1抵抗と、前記第1抵抗の他端に接続されるとともに、ダイオード接続された第1バイポーラトランジスタと、前記第2電流源の出力に接続されるとともに、ダイオード接続された第2バイポーラトランジスタと、前記第2バイポーラトランジスタに接続された第2抵抗と、前記第1電流源から出力される第1電圧と、前記第2電流源から出力される第2電圧と、に基づいて、第3電圧を出力する、出力回路と、を備える、集積回路を提供する。【選択図】図2
Description
本発明は、集積回路および半導体モジュールに関する。
半導体のバンドギャップ電圧を利用した基準電圧回路が知られている(例えば、特許文献1参照)。
バイポーラトランジスタを含むバンドギャップ型の基準電圧回路では、バイポーラトランジスタが高温になった場合に、コレクタ端子を覆うNウェル領域と、基板との間に漏洩電流が発生することがある。従って、基準電圧回路の基板から出力される電流の電流が増大し、基準電圧回路から出力される電圧が所望の温度特性とならないことがある。
本発明は、上記のような従来の問題に鑑みてなされたものであって、所望の温度特性を有する基準電圧を供給できる回路を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の第1の態様においては、第1電流源と、前記第1電流源に並列に設けられた第2電流源と、一端が前記第1電流源の出力に接続された第1抵抗と、前記第1抵抗の他端に接続されるとともに、ダイオード接続された第1バイポーラトランジスタと、前記第2電流源の出力に接続されるとともに、ダイオード接続された第2バイポーラトランジスタと、前記第2バイポーラトランジスタに接続された第2抵抗と、前記第1電流源から出力される第1電圧と、前記第2電流源から出力される第2電圧と、に基づいて、第3電圧を出力する、出力回路と、を備える、集積回路を提供する。
本発明の第2の態様においては、第1電流源と、前記第1電流源に並列に設けられた第2電流源と、一端が前記第1電流源の出力に接続された第1抵抗と、前記第1抵抗の他端に接続されるとともに、ダイオード接続された第1バイポーラトランジスタと、前記第2電流源の出力に接続された複数の第1トリミング素子と、前記複数の第1トリミング素子にそれぞれ接続されるとともに、ダイオード接続された複数の第2バイポーラトランジスタと、一端が、前記複数の第2バイポーラトランジスタに接続された第2抵抗と、前記第1電流源から出力される第1電圧と、前記第2電流源から出力される第2電圧と、に基づいて、第3電圧を出力する、出力回路と、を備える、集積回路を提供する。
本発明の第3の態様においては、集積回路と、スイッチング素子と、を備え、前記集積回路は、入力信号に基づいて、前記スイッチング素子の制御電極に接続された、前記スイッチング素子の駆動を制御する制御回路を含み、前記制御回路は、前記入力信号と前記第3電圧とに基づいて、前記スイッチング素子の駆動を制御する、半導体モジュールを提供する。
所望の温度特性を有する基準電圧を供給できる回路を提供できる。
なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
本明細書においては、「接続」の語を用いるが、特に断りのない場合には「接続」とは「電気的に接続」することを意味するものとする。
===実施例===
<<半導体モジュール10の構成例>>
図1は、半導体モジュール10の構成の一例を示す。半導体モジュール10は、外部に設けられたマイコン(不図示)からの指示に基づいて、負荷11を駆動するためのモジュールである。
<<半導体モジュール10の構成例>>
図1は、半導体モジュール10の構成の一例を示す。半導体モジュール10は、外部に設けられたマイコン(不図示)からの指示に基づいて、負荷11を駆動するためのモジュールである。
半導体モジュール10は、外部に設けられた、電圧HVを供給する電源12を負荷11に対する電力変換のための主電源とする。半導体モジュール10は、半導体チップ21a,21b、電源22a,22b、および集積回路23a,23bを含んで構成される。
本実施形態の半導体モジュール10は、半導体チップ21a,21bと、半導体チップ21a,21bの回路の駆動機能および種々の保護機能を有する集積回路23a,23bと、を1パッケージ化したIPM(Intelligent Power module)である。
ここで、半導体モジュール10を構成するチップ等のうち、半導体チップ21a、電源22a、および集積回路23aは、ローサイド側に設けられ、半導体チップ21b、電源22b、および集積回路23bは、ハイサイド側に設けられている。また、本実施形態では、ローサイド側の回路の構成とハイサイド側の回路の構成とは、同様であるので、以下ではローサイド側の回路を中心に説明する。
負荷11は、例えばモータコイルであり、半導体チップ21a,21bの間に設けられた接点のノードから出力される電圧Voutにより駆動される。
半導体チップ21aは、負荷11を駆動するスイッチング素子および検温素子を含む。本実施形態の半導体チップ21aは、スイッチング素子として、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor; 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)31aを含み、検温素子としてIGBT31a用のダイオード32aを含む。
ただし、半導体チップ21aに設けられるスイッチング素子は、IGBT31aに限定されず、スイッチング素子は、MOSトランジスタまたはバイポーラトランジスタであってもよい。また、半導体チップ21aは、ダイオード32aとは別に、FWD(Free Wheeling Diode; 還流ダイオード)等の負荷電流を転流するダイオードを含んでもよい。
電源22aは、集積回路23aに対する電源であり、電源ラインL1aに電源電圧Vdd1を印可する。本実施形態の電源22aは、半導体モジュール10の外部に設けられる。ただし、集積回路23aに供給される電圧は、半導体モジュール10の内部に設けられた電源回路(不図示)により生成されてもよい。
集積回路23aは、低耐圧集積回路(LVIC : Low Voltage Integrated Circuit)であり、マイコン(不図示)より入力される信号LINに基づいて、IGBT31aのゲート電極に駆動信号LOを出力し、IGBT31aを制御する回路である。集積回路23aは、電圧生成回路41a、温度検出回路42a、および制御回路43aを備える。
本実施形態の電圧生成回路41aは、電源ラインL1aの電源電圧Vdd1に基づいて、基準電圧Vref1を生成する回路である。電圧生成回路41aは、温度補償回路51aおよび基準電圧回路52aを含む。
本実施形態の温度補償回路51aは、バイポーラ素子を含む回路である。後述する通り、バイポーラ素子においては、所定の温度以上の温度範囲で、接地方向への漏洩電流が生じる。
温度補償回路51aは、所定の温度より低温の場合に、基準電圧回路52aへと一定の電圧を供給し、所定の温度以上の温度の場合に、温度に応じて低下する電圧を供給する。温度補償回路51aおよび基準電圧回路52aでは、後述する通り、温度補償回路51aの含むバイポーラ素子において、漏洩電流が生じる場合、温度補償回路51aから基準電圧回路52aに供給される電圧は低下する。
温度補償回路51aは、電源ラインL1aに接続され、電源22aからの電圧が供給されると、基準電圧回路52aへと温度補償された電圧および電流を供給する。
基準電圧回路52aは、電源ラインL1aから供給される電源電圧Vdd1と、温度補償回路51aから供給される電圧および電流とに基づいて、制御回路43aに基準電圧Vref1を供給する。
温度検出回路42aは、ダイオード32aに所定の電流を供給するとともに、ダイオード32aの順方向電圧に基づいて、IGBT31aの温度に応じた温度センス信号Tsns1を制御回路43aに出力する。
制御回路43aは、マイコン(不図示)から入力される信号LIN、基準電圧Vref1、および温度センス信号Tsns1に基づいて、IGBT31aの動作を制御する。
制御回路43aは、半導体チップ21aのスイッチング素子の制御電極に接続される。即ち、本実施形態のようにスイッチング素子がIGBT31aである場合には、ゲート電極に接続される。同様に、スイッチング素子がMOSトランジスタである場合には、制御回路43aは、ゲート電極に接続され、スイッチング素子がバイポーラトランジスタである場合には、制御回路43aはベース電極に接続される。
具体的には、制御回路43aは、信号LINに基づいて、駆動信号LOを出力することにより、IGBT31aの駆動を制御する。また、制御回路43aは、基準電圧Vref1および温度センス信号Tsns1に基づいて、半導体チップ21aの過熱を検出する。半導体チップ21aの過熱が検出された場合、制御回路43aは、例えばIGBT31aをオフすることにより、IGBT31aを熱から保護する。
ハイサイド側における対応する構成として、半導体チップ21bは、IGBT31b、およびダイオード32bを備え、電源22bは、電源ラインL1bに電源電圧Vdd2を印可する。また、集積回路23bは、電圧生成回路41b、温度検出回路42b、および制御回路43bを備える。
電圧生成回路41bは、電圧生成回路41aと同様、制御回路43bに対して基準電圧Vref2を供給し、温度検出回路42bは、温度検出回路42aと同様、ダイオード32bの順方向電圧に基づいて、IGBT31bの温度に応じた温度センス信号Tsns2を制御回路43bに出力する。
制御回路43bは、マイコン(不図示)からの信号HIN、基準電圧Vref2、および温度センス信号Tsns2に基づいて、IGBT31bの動作を制御する。制御回路43bは、基準電圧がGNDである信号HINを基準電圧がVoutである信号に変換するレベル変換回路(不図示)を備えている。
このように、電圧生成回路41bおよび温度検出回路42bのそれぞれは、電圧生成回路41aおよび温度検出回路42aと同様の機能および構成を有する。従って、以下ではハイサイド側の電圧生成回路41b、温度検出回路42b、および制御回路43bを含む集積回路23bについては説明を省略する。
なお、基準電圧Vref1は、「第3電圧」に相当する。また、制御回路43bは、「第2制御回路」に相当する。基準電圧Vref1を出力する基準電圧回路52aについては、以下で詳しく説明する。
===電圧生成回路41aの構成===
図2は、電圧生成回路41aの回路図の一例を示す。電圧生成回路41aが備える、温度補償回路51aおよび基準電圧回路52aの構成が示される。
図2は、電圧生成回路41aの回路図の一例を示す。電圧生成回路41aが備える、温度補償回路51aおよび基準電圧回路52aの構成が示される。
温度補償回路51aは、MOSトランジスタ61~64、バイポーラトランジスタ65,67、および抵抗66を含む。なお、MOSトランジスタ61,62は、P型のMOSトランジスタである。一方、MOSトランジスタ63,64は、N型のMOSトランジスタである。
基準電圧回路52aは、MOSトランジスタ71,72、抵抗73,76、バイポーラトランジスタ74,75、および出力回路77を備える。なお、MOSトランジスタ71,72は、P型のMOSトランジスタである。
<<温度補償回路51aの構成>>
MOSトランジスタ62,63では、ゲート電極およびドレイン電極がダイオード接続されている。MOSトランジスタ61,62は、Pチャネルのカレントミラー回路68を構成し、MOSトランジスタ63,64は、Nチャネルのカレントミラー回路69を構成する。
MOSトランジスタ62,63では、ゲート電極およびドレイン電極がダイオード接続されている。MOSトランジスタ61,62は、Pチャネルのカレントミラー回路68を構成し、MOSトランジスタ63,64は、Nチャネルのカレントミラー回路69を構成する。
ダイオード接続されたMOSトランジスタ62に対し、電源ラインL1aから電圧Vdd1および電流が供給されると、MOSトランジスタ61がオンする。これにより、MOSトランジスタ61は、MOSトランジスタ62に流れる電流に基づいて電流を出力する。この結果、MOSトランジスタ61,62は、MOSトランジスタ63,64に電流をそれぞれ供給する。
なお、本実施形態においては、MOSトランジスタ62のドレイン電極には、MOSトランジスタ64が接続されるとともに、MOSトランジスタ71,72のゲート電極がそれぞれ並列に接続される。即ち、MOSトランジスタ62と、MOSトランジスタ71,72とは、カレントミラー回路を構成している。
ここで、MOSトランジスタ71,72のゲート電極において電流の漏洩が生じない場合、MOSトランジスタ62からMOSトランジスタ71,72へと定常的に流れる電流はほぼ無視できる。従って、電源ラインL1aからMOSトランジスタ61,62に供給される電流が、MOSトランジスタ63,64に供給される。
さらに、ダイオード接続されたMOSトランジスタ63に対し、カレントミラー回路68のMOSトランジスタ61から電流が供給されると、MOSトランジスタ64がオンする。これにより、MOSトランジスタ64は、MOSトランジスタ63に流れる電流に基づいて電流を出力する。この結果、MOSトランジスタ63は、バイポーラトランジスタ65に電流を供給し、MOSトランジスタ64は、抵抗66に電流を供給する。
なお、本実施形態において、MOSトランジスタ61,62のサイズは等しく、MOSトランジスタ63,64のサイズは等しい。従って、カレントミラー回路69のMOSトランジスタ63,64から出力される電流は等しくなる。
バイポーラトランジスタ65のベース電極は、コレクタ電極に接続される。この場合、バイポーラトランジスタ65のベース電極およびコレクタ電極は、カレントミラー回路69の出力の一端であるMOSトランジスタ63のソース電極に接続される。一方、バイポーラトランジスタ65のエミッタ電極は、接地される。
抵抗66の一端は、カレントミラー回路69の出力の他端であるMOSトランジスタ64のソース電極に接続される。一方、抵抗66の他端には、バイポーラトランジスタ67のベース電極およびコレクタ電極が接続される。
バイポーラトランジスタ65と同様、バイポーラトランジスタ67のベース電極は、コレクタ電極に接続される。一方、バイポーラトランジスタ67のエミッタ電極は、接地される。
バイポーラトランジスタ65,67は、それぞれのベース―エミッタ電圧が異なるように構成されている。具体的には、本実施形態のバイポーラトランジスタ65は、単一のバイポーラトランジスタにより構成されるが、バイポーラトランジスタ67側は、複数の並列に接続されたバイポーラトランジスタとなっている。従って、バイポーラトランジスタ65のベース―エミッタ電圧は、バイポーラトランジスタ67のベース―エミッタ電圧より大きくなる。なお、バイポーラトランジスタ65,67のベース―エミッタ電圧は、ともに正の温度係数を有する。
本実施形態では、カレントミラー回路68,69からの電流が等しいので、MOSトランジスタ63,64のそれぞれのソース電極に生じる電圧も等しくなる。従って、抵抗66には、バイポーラトランジスタ65のベース―エミッタ電圧と、バイポーラトランジスタ67のベース―エミッタ電圧との差に応じつつ、温度係数が負の電圧が生じる。
この結果、MOSトランジスタ64および抵抗66が接続されたノードには、正の温度係数を有するバイポーラトランジスタ67のベース―エミッタ電圧と、負の温度係数を有する抵抗66の両端間の電圧と、を加算した電圧が生じる。なお、本実施形態では、MOSトランジスタ64および抵抗66が接続されたノードの電圧の温度係数がゼロとなるよう、例えば、抵抗66の抵抗値や、バイポーラトランジスタ67の個数が調整されている。
ここで、バイポーラトランジスタ67には、電流Irefが流れる。本実施形態においては、バイポーラトランジスタ67を流れる電流Irefが増大することに応じて、MOSトランジスタ62から、MOSトランジスタ71,72のゲート電極に供給される電圧が低下する。
図3および図4を参照して後述する通り、バイポーラトランジスタ65,67が所定の温度閾値Tth以上の温度に上昇した場合、バイポーラトランジスタ65,67においては、漏洩電流が発生する。この場合、バイポーラトランジスタ65を流れる電流と、バイポーラトランジスタ67を流れる電流Irefとが増大する。
バイポーラトランジスタ65,67を流れる電流は、カレントミラー回路68,69からバイポーラトランジスタ65,67に供給される電流である。従って、漏洩電流が発生すると、カレントミラー回路68,69を流れる電流が増大する。
カレントミラー回路68を構成するMOSトランジスタ61,62は、P型のMOSトランジスタである。従って、カレントミラー回路68を流れる電流が増大する場合、P型のMOSトランジスタ61,62のソース-ドレイン電流が増大し、MOSトランジスタ61,62のゲート電圧が低下する。
この場合、MOSトランジスタ62のゲート電極に対して、MOSトランジスタ71,72のゲート電極は並列に接続されている。従って、MOSトランジスタ62のゲート電圧が低下すると、温度補償回路51aがMOSトランジスタ71,72のゲート電極に印可する電圧も低下する。
即ち、MOSトランジスタ62は、バイポーラトランジスタ67に流れる電流Irefを基準電流として、基準電流に応じた電圧をMOSトランジスタ71,72に印可する。
ここで、カレントミラー回路68は、「第1カレントミラー回路」に相当する。同様に、カレントミラー回路69は、「第2カレントミラー回路」に相当する。
また、抵抗66は、「第5抵抗」に相当する。バイポーラトランジスタ65は「第4バイポーラトランジスタ」に相当し、バイポーラトランジスタ67は「第3バイポーラトランジスタ」に相当する。バイポーラトランジスタ67を流れる電流Irefは、「基準電流」に相当する。なお、バイポーラトランジスタにおいて、ベース電極とコレクタ電極とを接続することは、バイポーラトランジスタを「ダイオード接続」することに相当する。
<<基準電圧回路52aの構成>>
MOSトランジスタ71,72のソース電極は、電源ラインL1aに並列に接続される。即ち、MOSトランジスタ71,72のソース電極には、電源ラインL1aから等しい電圧が印可される。
MOSトランジスタ71,72のソース電極は、電源ラインL1aに並列に接続される。即ち、MOSトランジスタ71,72のソース電極には、電源ラインL1aから等しい電圧が印可される。
一方、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのゲート電極は、MOSトランジスタ62のゲート電極に接続されている。従って、MOSトランジスタ71,72は、MOSトランジスタ62とともにカレントミラー回路を構成し、MOSトランジスタ71,72のゲート電極には、温度補償回路51aから所定の電圧が印可される。この場合、MOSトランジスタ71,72のそれぞれは、ドレイン電極に接続された素子に電流を供給する電流源として機能する。
さらに、本実施形態のMOSトランジスタ71,72のサイズは等しい。従って、MOSトランジスタ71,72のドレイン電極から供給される電流は等しくなる。
抵抗73の一端は、MOSトランジスタ71のドレイン電極に接続される。抵抗73の他端には、バイポーラトランジスタ74のコレクタ電極が接続される。従って、MOSトランジスタ71から抵抗73に供給される電流Ic1が、抵抗73を流れ、バイポーラトランジスタ74に供給される。
バイポーラトランジスタ74には、抵抗73から電流Ic1が流入する。ここで、バイポーラトランジスタ74では、コレクタ電極とベース電極とがダイオード接続されている。即ち、電流Ic1は、コレクタ電極側からバイポーラトランジスタ74のコレクタ電極およびベース電極に流入する電流である。
図3を参照して後述するように、バイポーラトランジスタ74のP-ベース領域は接地されており、バイポーラトランジスタ74では、所定の温度以上の温度において、エミッタ電極を通過せずに基板から接地方向へと流れる漏洩電流Is1が生じる。
従って、電流Ic1は、バイポーラトランジスタ74のエミッタ電極から流出する電流Ieと、基板から流出する漏洩電流Is1との和として書き表すことができる。即ち、Ic1=Ie1+Is1の式が成立する。
抵抗73に流れる電流は電流Ic1であるので、MOSトランジスタ71のドレイン電極から供給される電圧V1について、V1=(Ie1+Is1)×(抵抗73の抵抗値)+(バイポーラトランジスタ74における電圧降下)の式が成立する。従って、電圧V1は、漏洩電流Is1の増大とともに上昇する。
一方で、ベース電極とコレクタ電極とがダイオード接続されたバイポーラトランジスタ75には、MOSトランジスタ72から電流Ic2が供給される。即ち、電流Ic2は、バイポーラトランジスタ75のコレクタ電極およびベース電極に流入する電流である。バイポーラトランジスタ75は、MOSトランジスタ72のドレイン電極に接続されている。
バイポーラトランジスタ75においても、バイポーラトランジスタ74と同様に、所定の温度以上でエミッタ電極を通過せずに基板から接地方向へと流れる漏洩電流Is2が発生する。漏洩電流Is2が増大すると、バイポーラトランジスタ75のエミッタ電極から流出する電流Ie2は低減する。
抵抗76は、一端がバイポーラトランジスタ75のエミッタ電極に接続され、他端が接地されている。この場合、抵抗76における電圧降下は、(抵抗76の抵抗値)×ie2となる。本実施形態においては、抵抗76の抵抗値は、抵抗73の抵抗値と等しく設定される。
MOSトランジスタ72から供給される電圧V2について、V2=(抵抗76の抵抗値)×Ie2+(バイポーラトランジスタ75における電圧降下)の式が成立する。電流Ie2は漏洩電流Is2が増大するほど低減するので、電圧V2は、漏洩電流Is2の増大とともに低下する。
MOSトランジスタ71,72から供給される電流Ic1は、バイポーラトランジスタ67が所定の温度閾値Tth以上となる温度範囲において、温度上昇とともに増大する。バイポーラトランジスタ67に流れる電流Irefに応じて、P型のMOSトランジスタ62のソース-ドレイン間に流れる電流が増大し、MOSトランジスタ62のゲート電圧が低下する。
MOSトランジスタ71,72は、MOSトランジスタ62とカレントミラー回路を構成する。従って、MOSトランジスタ62のゲート電圧の低下とともに、P型のMOSトランジスタ71,72のゲート電圧も低下する。これにより、MOSトランジスタ71,72のソース-ドレイン間に流れる電流Ic1,Ic2も増大する。
即ち、本実施形態において、バイポーラトランジスタ67を基準電流とした場合、MOSトランジスタ71,72は、ドレイン電極から供給する電流Ic1,Ic2を生成する電流源として機能する。
出力回路77は、電流源として機能するMOSトランジスタ71,72から供給される電圧V1および電圧V2に基づいて、基準電圧Vref1を出力する。
本実施形態において、出力回路77は、抵抗81,82を含む。即ち、本実施形態の出力回路77は、電圧V1が生じるノードに接続される抵抗81と、電圧V2が生じるノードに接続される抵抗82と、により構成される分圧回路である。本実施形態においては、抵抗81,82の抵抗値は、等しく設定される。
抵抗81の一端は、電流源として機能するMOSトランジスタ71のドレイン電極に接続される。一方、抵抗82の一端は、電流源として機能するMOSトランジスタ72のドレイン電極に接続される。
抵抗82の他端は、抵抗81がMOSトランジスタ71のドレイン電極に接続される側とは別の側に接続される。この場合、出力回路77は、抵抗81,82の間を接続するノードに生じる電圧を、基準電圧Vref1として出力する。
別の実施形態において、出力回路77は、例えばOPアンプを含み、電圧V1,V2を加算して基準電圧Vref1として出力する加算回路であってもよい。この場合、出力回路77は、非反転加算回路である。
非反転加算回路は、例えば、OPアンプに対して、反転入力端子および出力端子の間に抵抗を設けた上で互いを接続するとともに、反転入力端子を別の抵抗を介して接地した、所謂非反転増幅回路を構成した上で、非反転入力端子に抵抗81,82を並列に接続することにより構成できる。
ただし、出力回路77は、反転増幅回路の非反転入力端子に抵抗81,82を並列に接続した、反転加算回路であってもよく、反転加算回路に反転増幅回路を接続することによって構成された、非反転加算回路であってもよい。
一方で、図中の出力回路77が分圧器である実施形態においては、OPアンプ等の素子を使用することなく、抵抗81,82という2つの抵抗のみを用いて電圧V1,V2を分圧できる。従って、本実施形態の基準電圧回路52aは、少ない回路部品を用いた少ない回路面積の回路により、抵抗81,82の抵抗値による所望の重み付けをして電圧V1,V2を合成した基準電圧Vref1を出力できる。
ここで、MOSトランジスタ71は、「第1電流源」として機能し、「第1MOSトランジスタ」に相当する。また、MOSトランジスタ72は、「第2電流源」として機能し、「第2MOSトランジスタ」に相当する。電圧V1は、「第1電圧」に相当し、電圧V2は「第2電圧」に相当する。
さらに、抵抗73は「第1抵抗」に相当し、バイポーラトランジスタ74は「第1バイポーラトランジスタ」に相当する。バイポーラトランジスタ75は「第2バイポーラトランジスタ」に相当し、抵抗76は「第2抵抗」に相当する。また、抵抗81は「第3抵抗」に相当し、抵抗82は「第4抵抗」に相当する。
===漏洩電流Is発生の機構===
図3は、基準電圧回路52aのバイポーラトランジスタ74における漏洩電流Is1発生の概念図の一例を示す。本実施形態では、半導体内部において、基板91中にNウェル領域92が設けられ、Nウェル領域92中に各端子が機能するためのドーパント拡散領域が設けられることにより、バイポーラトランジスタ74が形成される。本実施形態では、基板91は、P-型の導電型を有する。
図3は、基準電圧回路52aのバイポーラトランジスタ74における漏洩電流Is1発生の概念図の一例を示す。本実施形態では、半導体内部において、基板91中にNウェル領域92が設けられ、Nウェル領域92中に各端子が機能するためのドーパント拡散領域が設けられることにより、バイポーラトランジスタ74が形成される。本実施形態では、基板91は、P-型の導電型を有する。
Nウェル領域92中のコレクタ端子96が設けられる領域の周囲にはN+コレクタ領域93が設けられ、ベース端子97が設けられる領域の周囲にはP+ベース領域94が設けられている。さらに、P+ベース領域94中において、エミッタ端子98が設けられる領域の周囲にはN+エミッタ領域95が設けられている。
なお、各導電型の冠記された領域において、「+」の記載は「+」が冠記されていない領域よりドーピング濃度が高いことを意味し、「-」の記載は「-」が冠記されていない領域よりドーピング濃度が低いことを意味する。
このようなバイポーラトランジスタ74においては、MOSトランジスタと比較して基板91とNウェル領域92とのPN接合部分の表面積が大きい。そして、半導体素子が高温になった場合、PN接合部分の表面積が大きいほど漏洩電流Is1が発生する可能性が大きくなる。
また、基準電圧回路52aにおけるバイポーラ素子の漏洩電流Is1発生の機構を説明するに辺り、バイポーラトランジスタ74を例にとって説明したが、バイポーラトランジスタ75でも同様の機構に基づいて、漏洩電流Is2が発生する可能性がある。
ここで、バイポーラトランジスタ74,75の漏洩電流Is1,Is2の大きさは、内部のPN接合部の表面積に依存する。バイポーラトランジスタ74,75においては、各バイポーラトランジスタに供給される電流を等しくし、各バイポーラトランジスタを構成する並列なバイポーラトランジスタの個数、およびPN接合部の表面積を等しくすることにより、漏洩電流Is1,Is2の大きさを等しく調整できる。
本実施形態においては、バイポーラトランジスタ74,75のサイズは等しい。さらに、本実施形態においては、MOSトランジスタ71,72のドレイン電極から供給される電流は等しい。従って、バイポーラトランジスタ74,75のそれぞれにおいて発生する漏洩電流Is1,Is2の大きさも等しく調整される。
なお、本実施形態において、「バイポーラトランジスタ74,75のサイズが等しい」とは、バイポーラトランジスタ全体のサイズが等しくなるよう、内部を構成する並列なバイポーラトランジスタの個数も調整されていることを意味する。
このように、本実施形態において「漏洩電流」とは、例えば、バイポーラトランジスタを形成した際のNウェル領域92から、基板91に流れる電流である。
===基準電圧回路52aにおける電圧および電流の温度特性===
図4は、基準電圧回路52aにおける電流および電圧の温度変化の概略図の一例を示す。温度を横軸として、電圧Vdd1,V1,V2,Vref1、および電流Ic1,Ic2,Ie1,Ie2の概略が示されている。なお、本実施形態では、所定の温度閾値Tthより高温になった場合、バイポーラトランジスタ74,75において漏洩電流が発生するものとしてグラフが示されている。
図4は、基準電圧回路52aにおける電流および電圧の温度変化の概略図の一例を示す。温度を横軸として、電圧Vdd1,V1,V2,Vref1、および電流Ic1,Ic2,Ie1,Ie2の概略が示されている。なお、本実施形態では、所定の温度閾値Tthより高温になった場合、バイポーラトランジスタ74,75において漏洩電流が発生するものとしてグラフが示されている。
電圧Vdd1は、電源22aから電源ラインL1aを介して供給される。本実施形態の電圧Vdd1は、温度変化による影響を受けない。
MOSトランジスタ71が供給する電流Ic1と、MOSトランジスタ72が供給する電流Ic2とは、温度補償回路51aのバイポーラトランジスタ65,67を流れる電流の増大とともに増大する。バイポーラトランジスタ65,67で漏洩電流が発生する際には、バイポーラトランジスタ74,75においても、漏洩電流Is1,Is2が発生する。
従って、所定の温度閾値Tth以上の温度範囲で電流Ic1,Ic2は、漏洩電流Is1,Is2の増大とともに増大する。本実施形態では、バイポーラトランジスタ74のサイズと、バイポーラトランジスタ75のサイズとは等しい。従って、漏洩電流Is1,Is2は、Is1=Is2の式を満たし、等しい割合で増大する。
一方、バイポーラトランジスタ74のエミッタ電極から流出する電流Ie1と、バイポーラトランジスタ75のエミッタ電極から流出する電流Ie2とは、漏洩電流Is1,Is2の増大とともに低減する。
ここで、電圧V1は、V1=(Ie1+Is1)×(抵抗73の抵抗値)+(バイポーラトランジスタ74における電圧降下)の式を満たし、電圧V2は、V2=(抵抗76の抵抗値)×Ie2+(バイポーラトランジスタ75における電圧降下)の式を満たす。この場合、電圧V1は、漏洩電流Is1の増大とともに上昇し、電圧V2は漏洩電流Is2の増大とともに低下する。
ここで、バイポーラトランジスタ74,75は、コレクタ電極とベース電極とが接続されているので、バイポーラトランジスタ74,75の電圧降下は、ダイオードの順方向電圧となる。一例として、バイポーラトランジスタ74,75の電圧降下は、0.7Vである。バイポーラトランジスタ74のサイズと、バイポーラトランジスタ75のサイズとは等しいので、バイポーラトランジスタ74,75における電圧降下も同程度となる。
また、本実施形態においては、抵抗73の抵抗値と、抵抗76の抵抗値とは等しい。従って、温度上昇に伴って生じる、バイポーラトランジスタ74における電圧V1の上昇と、バイポーラトランジスタ75における電圧V2の低下との変化の絶対値を略同一とすることができる。
本実施形態においては、抵抗81と抵抗82とは等しい。従って、基準電圧Vref1は、電圧V1,V2を均等に分圧した電圧となる。本実施形態では、電圧V1の上昇値と、電圧V2の低下値とが略同一であるので、基準電圧Vref1のグラフは、温度変化に対して略平坦となる。
従って、本実施形態では、少ない回路部品を用いた、小規模かつ少ない回路面積の基準電圧回路52aにより、電圧生成回路41aが高温になった場合にあっても、安定した基準電圧Vref1を生成できる。
また、例えば、出力回路77を分圧回路とした場合において、抵抗81,82の抵抗値の比を意図的に偏らせることにより、電圧V1,V2の分圧比を偏らせることができる。その場合には、本実施形態の基準電圧回路52aは、出力される基準電圧Vref1の温度特性を所望の特性に偏らせることができる。
これにより、例えば、電圧生成回路41aの後段の回路が、基準電圧Vref1が一定のままでは高温時に遅延時間が増大するような温度特性を有する場合に、基準電圧Vref1に正の温度特性の偏りを設けることにより、動作に遅延の生じない回路を提供することができる。
このように、本実施形態の基準電圧回路52aによれば、分圧回路の抵抗81,82の抵抗値、抵抗73,76の抵抗値、バイポーラトランジスタ74,75のサイズ、およびMOSトランジスタ71,72のサイズ等を調整することにより、所望の温度特性を有する基準電圧Vref1を出力できる。
また、本実施形態では、基準電圧回路52aの構成により漏洩電流Is1,Is2が基準電圧Vref1に与える影響を調整できる。従って、バイポーラトランジスタ74,75のPN接合領域周辺に漏洩電流Is1,Is2の発生を防ぐアイソレーション領域を設ける等の追加のプロセスを経ることなく、漏洩電流Is1,Is2が基準電圧Vref1に与える影響を調整できる。
従って、本実施形態によれば、半導体プロセス上の工程を増大させることなく、漏洩電流Is1,Is2の影響を調整できる。即ち、本実施形態の基準電圧回路52aは、製造コストの低減にも寄与する。
なお、ハイサイド側の電圧生成回路41bにおいても、本実施形態の電圧生成回路41aと同様の構成の温度補償回路51bおよび基準電圧回路52bを設けることにより、所望の温度特定を有する基準電圧Vref2を出力することができる。
<<温度補償回路51aおよび基準電圧回路52aの並列構成に関して>>
ここで、電流Ic1,Ic2が増大するということは、MOSトランジスタ71,72のドレイン電極から流出する電流が増大することを意味する。MOSトランジスタ71,72はP型のMOSトランジスタであるので、MOSトランジスタ71,72のゲート電圧が低下する場合に、ドレイン電極から流出する電流が増大する。
ここで、電流Ic1,Ic2が増大するということは、MOSトランジスタ71,72のドレイン電極から流出する電流が増大することを意味する。MOSトランジスタ71,72はP型のMOSトランジスタであるので、MOSトランジスタ71,72のゲート電圧が低下する場合に、ドレイン電極から流出する電流が増大する。
一方で、温度閾値Tth以上の温度範囲では、温度補償回路51aのバイポーラトランジスタ65,67においても漏洩電流が発生する。この場合、カレントミラー回路68,69内を流れる電流も増大する。
カレントミラー回路68を構成するMOSトランジスタ61,62は、PMOSトランジスタであるので、カレントミラー回路68内の電流の増大に伴って、MOSトランジスタ61,62のゲート電圧も低下する。
本実施形態の温度補償回路51aのカレントミラー回路68のMOSトランジスタ61,62のゲート電極と、MOSトランジスタ71,72のゲート電極とは、並列に接続されている。従って、基準電圧回路52aのMOSトランジスタ71,72のゲート電圧がバイポーラトランジスタ74,75の漏洩電流Is1,Is2により低下した場合に、温度補償回路51aからも低下した電圧が供給される。
即ち、温度補償回路51aのMOSトランジスタ62は、バイポーラトランジスタ65,67に流れる電流に応じたバイアス電圧を、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのゲート電極に供給するバイアス電圧源として機能する。
これにより、本実施形態では、漏洩電流Is1,Is2の増大とともに電流Ic1,Ic2も増大する。ひいては、基準電圧回路52aの基準電圧Vref1の出力を安定させることができる。
図5は、電圧V1,V2,およびVref1の温度変化の一例を示す。図中、一点鎖線で電圧V1が表され、破線で電圧V2が表される。
本実施形態では、抵抗73,76の抵抗値、バイポーラトランジスタ74,75のサイズ、並びにMOSトランジスタ71,72のサイズ等を調整することにより、温度閾値Tth以上の範囲における、電圧V1の上昇値と電圧V2の低下値とが等しく調整される。
さらに、本実施形態では、分圧回路の抵抗81,82の抵抗値を等しくすることにより、基準電圧Vref1の出力が略平坦となるように調整されている。このように、基準電圧回路52aでは、高温時の温度特性が改善した基準電圧Vref1を出力できる。
===比較例===
図6は、比較例に係る電圧生成回路101aの回路図の一例を示す。電圧生成回路101aは、半導体モジュール内に電圧生成回路41aと同様の形態で接続される。
図6は、比較例に係る電圧生成回路101aの回路図の一例を示す。電圧生成回路101aは、半導体モジュール内に電圧生成回路41aと同様の形態で接続される。
電圧生成回路101aは、温度補償回路51aおよび基準電圧回路111aを含む。温度補償回路51aは電圧生成回路41aに含まれる回路と共通であり、基準電圧回路111aは基準電圧回路52aとは異なる構成を有する。以下では、主に電圧生成回路41aと、電圧生成回路101aとの構成上の差異に注目して説明する。
基準電圧回路111aでは、基準電圧回路52aとは異なり、MOSトランジスタ72、バイポーラトランジスタ75、および抵抗76が含まれるラインを有しない。従って、基準電圧回路111aにおいては、電圧V2が生じるノードが含まれず、電圧V2を分圧するための抵抗82も含まれない。
基準電圧回路52aと同様、バイポーラトランジスタ74においては、図3に示した機構により漏洩電流Is1が生じる。漏洩電流Is1の発生に従って、電流Ic1も増大する。
比較例においても、電圧V1は、V1=(Ie1+Is1)×(抵抗73の抵抗値)+(バイポーラトランジスタ74における電圧降下)の式を満たす。比較例においては、基準電圧回路111aに抵抗82が含まれないので、基準電圧回路111aが供給する基準電圧Vref1は、電圧V1に対して抵抗81による電圧降下を減じた電圧として与えられる。
===基準電圧回路111aにおける電圧および電流の温度特性===
図7は、比較例に係る電圧生成回路101aにおける電流および電圧の温度変化の概略図の一例を示す。温度を横軸として、電圧Vdd1,V1,Vref1、および電流Ic1の概略が示されている。
図7は、比較例に係る電圧生成回路101aにおける電流および電圧の温度変化の概略図の一例を示す。温度を横軸として、電圧Vdd1,V1,Vref1、および電流Ic1の概略が示されている。
比較例においても、図4のVdd1と同様に、電圧Vdd1は、温度変化による影響は受けない。
比較例においても、温度閾値Tth以上の温度範囲で、図3に示した機構により漏洩電流Is1が発生する。この場合、電流Ic1は、漏洩電流Is1の増大とともに増大する。
電圧V1は、V1=(Ie1+Is1)×(抵抗73の抵抗値)+(バイポーラトランジスタ74における電圧降下)の式を満たす。従って、漏洩電流Is1の増大とともに、電圧V1は上昇する。
比較例に係る基準電圧回路111aにおいては、電圧V1の上昇に対し、この影響を相殺するような電圧V2を生じるノードは設けられていない。基準電圧回路111aの出力する基準電圧Vref1は、電圧V1に対して抵抗81による電圧降下を減じた電圧となり、電圧V1の上昇とともに、基準電圧回路111aの出力する基準電圧Vref1も上昇することとなる。
以上の通り、比較例においては、基準電圧回路111aからは、漏洩電流Is1の発生に伴って上昇する基準電圧Vref1を得ることとなる。これに対し、本実施形態の基準電圧回路52aでは、少ない回路部品を用いた、小規模かつ少ない回路面積の構成により、所望の温度特性を有する基準電圧Vref1を供給できる。
<<集積回路23c>>
次に、図8を参照して、別の実施形態の集積回路23cについて説明する。ここで、図8において、図1における符号と同一の符号により参照される構成は、同一の構成に対応する。
次に、図8を参照して、別の実施形態の集積回路23cについて説明する。ここで、図8において、図1における符号と同一の符号により参照される構成は、同一の構成に対応する。
集積回路23cは、集積回路23aと同様にLVICである。集積回路23cは、集積回路23aと同様に、マイコン(不図示)から入力される信号LINに基づいて、半導体チップ21aのIGBT31aのゲート電極に駆動信号LOを出力し、IGBT31aを制御する。集積回路23cは、電圧生成回路41c、温度検出回路42a、制御回路43a、記憶回路44c、およびスイッチ制御回路45cを含む。即ち、集積回路23cは、電圧生成回路41c、記憶回路44c、およびスイッチ制御回路45cを含む点で、集積回路23aと相違する。
なお、集積回路23cのハイサイド側には、集積回路23d(不図示)が設けられている。集積回路23dは、集積回路23cと同様の構成を有し、電圧生成回路41d、温度検出回路42b、制御回路43b、記憶回路44d、およびスイッチ制御回路45dを含む。集積回路23cおよび集積回路23dの関係においても、ローサイド側の回路の構成とハイサイド側の回路の構成とは、同様であるので、以下ではローサイド側の回路を中心に説明する。
記憶回路44cは、図9で後述するスイッチ131a~131c、スイッチ122a~122c、スイッチ124a~124m、および133a~133nのそれぞれのオンオフ状態を示す情報に対応するデータD(SW)を格納する。記憶回路44cは、例えば、ユーザが外部から通信してデータを書き込み、または消去可能なEP-ROM(Erasable Programmable Read Only Memory)である。
スイッチ制御回路45cは、基準電圧回路52c内の各スイッチの状態を切り替えるための信号Vswを出力する。これにより、スイッチ制御回路45cは、データD(SW)に基づいて、図9で後述するスイッチ131a~121c、スイッチ122a~122c、スイッチ124a~124m、および133a~133nのオンオフ状態を制御する。
ここで、スイッチ制御回路45cは、「第1制御回路」に相当する。
==電圧生成回路41c==
本実施形態の電圧生成回路41cは、温度補償回路51cおよび基準電圧回路52cを含む。温度補償回路51cは、温度補償回路51aと同様の構成の回路である。一方、基準電圧回路52cの構成は、基準電圧回路52aとは相違する。
本実施形態の電圧生成回路41cは、温度補償回路51cおよび基準電圧回路52cを含む。温度補償回路51cは、温度補償回路51aと同様の構成の回路である。一方、基準電圧回路52cの構成は、基準電圧回路52aとは相違する。
以下では、図9を参照して、基準電圧回路52cの構成について詳述する。
==基準電圧回路52c==
図9は、基準電圧回路52cの構成の一例を示す。ここで、図9において、図2の基準電圧回路52aにおける符号と同一の符号により参照される構成は、同一の構成に対応する。
図9は、基準電圧回路52cの構成の一例を示す。ここで、図9において、図2の基準電圧回路52aにおける符号と同一の符号により参照される構成は、同一の構成に対応する。
基準電圧回路52cは、MOSトランジスタ71,72、可変抵抗121,126、スイッチ122a~122c,124a~124m、バイポーラトランジスタ123a~123c,125a~125m、および出力回路77を含む。
なお、可変抵抗121は、スイッチ131a~131cおよび抵抗132a~132cを含み、可変抵抗126は、スイッチ133a~133nおよび抵抗134a~134nを含む。
===基準電圧回路52cの動作の概要===
基準電圧回路52cにおいては、室温と、高温状態とで、トリミングを行い、室温および高温状態で所望の特性の基準電圧Vref1が得られるよう、各スイッチの状態を調整できる。なお、ここで、「室温」とは、例えば25℃であり、「高温」とは、例えば175℃である。また、「高温」として設定される温度は、175℃に限られず、半導体モジュール10の規格に応じて定められる温度であれば良い。
基準電圧回路52cにおいては、室温と、高温状態とで、トリミングを行い、室温および高温状態で所望の特性の基準電圧Vref1が得られるよう、各スイッチの状態を調整できる。なお、ここで、「室温」とは、例えば25℃であり、「高温」とは、例えば175℃である。また、「高温」として設定される温度は、175℃に限られず、半導体モジュール10の規格に応じて定められる温度であれば良い。
特に、基準電圧回路52cでは、スイッチ124a~124mは、温度を変えた場合における基準電圧Vref1の温度特性の調整に用いられる。一方、スイッチ122a~122c、スイッチ131a~131c、およびスイッチ133a~133nは、所望の電圧値に対する基準電圧Vref1のオフセット値を補正するのに用いられる。
本実施形態の集積回路23cのトリミングでは、記憶回路44cに格納されたデータD(SW)に基づいて、スイッチ制御回路45cがスイッチを切り替えることにより、抵抗およびバイポーラトランジスタの接続数が変更される。即ち、スイッチ122a~122c、スイッチ124a~124m、スイッチ131a~131c、およびスイッチ133a~133nのそれぞれは、温度特性や電圧調整用のトリミング素子として機能する。
ただし、基準電圧回路52cで行われるトリミングは、記憶回路44cと、スイッチとを用いたトリミングに限定されるものではなく、レーザートリミングにより配線または抵抗体を溶断することにより行ってもよい。なお、本実施形態のように、トリミング素子として、スイッチを用いる場合には、再度トリミングを行ってスイッチの設定を変えることが可能である。
===基準電圧回路52cの構成===
可変抵抗121は、スイッチ制御回路45cが出力する信号Vswに基づいて、抵抗値を変化させる。具体的には、可変抵抗121は、スイッチ131a~131cおよび抵抗132a~132cを含み、スイッチ制御回路45cが出力する信号Vswに基づいて、抵抗132a~132cの接続数が切り替わる。可変抵抗121の一端は、MOSトランジスタ71に接続される。
可変抵抗121は、スイッチ制御回路45cが出力する信号Vswに基づいて、抵抗値を変化させる。具体的には、可変抵抗121は、スイッチ131a~131cおよび抵抗132a~132cを含み、スイッチ制御回路45cが出力する信号Vswに基づいて、抵抗132a~132cの接続数が切り替わる。可変抵抗121の一端は、MOSトランジスタ71に接続される。
なお、本実施形態では、スイッチ131a~131c、および対応する抵抗132a~132cは3個ずつ設けられている。ただし、スイッチ131a~131c、および対応する抵抗132a~132cが設けられる個数は2個以上であればよく、3個に限定されるものではない。
スイッチ122a~122cは、信号Vswに基づいて、バイポーラトランジスタ123a~123cの接続数を切り替える。スイッチ122a~122cのそれぞれは、可変抵抗121の他端に接続される。
バイポーラトランジスタ123a~123cのそれぞれは、基準電圧Vref1の温度特性に対し、正の寄与をする。バイポーラトランジスタ123a~123cのそれぞれは、対応するスイッチ122a~122cに接続される。即ち、バイポーラトランジスタ123a~123cのそれぞれは、対応するスイッチ122a~122cを介して、可変抵抗121の他端に接続される。
ここで、スイッチ122a~122cは、バイポーラトランジスタ123a~123cのベース電極およびコレクタ電極がダイオード接続されたノードより可変抵抗121側の位置に設けられる。これにより、スイッチ122a~122cがオフ状態である場合に、対応するバイポーラトランジスタ123a~123cのベース電極またはコレクタ電極から電流が流入することを防ぐ。
従って、スイッチ122a~122cがオフ状態である場合には、対応するバイポーラトランジスタ123a~123cにおいて漏洩電流が生じることを防ぐことができる。
なお、本実施形態では、スイッチ122a~122c、およびバイポーラトランジスタ123a~123cは3個ずつ設けられているが、これらが設けられる個数は3個に限定されるものではなく、2以上の任意の整数個であれば、トリミングが可能である。特に、バイポーラトランジスタの一つあたりのサイズが小さく、スイッチと、対応するバイポーラトランジスタとの数が多いほど、出力電圧Vref1の温度特性を細かく調整可能となる。
スイッチ124a~124mは、信号Vswに基づいて、バイポーラトランジスタ125a~125mの接続数を切り替える。スイッチ124a~124mは、MOSトランジスタ72のドレイン電極に接続される。本実施形態では、スイッチ124a~124mはm個(mは正の整数)設けられている。
バイポーラトランジスタ125a~125mのそれぞれは、基準電圧Vref1の温度特性に対し、負の寄与をする。即ち、バイポーラトランジスタ125a~125mの数を増やすほど、基準電圧回路52cの温度が増大した場合の漏洩電流が増大する。従って、バイポーラトランジスタ125a~125mの接続数を増やすほど、基準電圧Vref1の温度特性は負に傾くこととなる。
バイポーラトランジスタ125a~125mは、スイッチ124a~124mと対応する個数設けられる。本実施形態では、バイポーラトランジスタ125a~125mは、スイッチ124a~124mと同様に、m個(mは正の整数)設けられている。
バイポーラトランジスタ125a~125mは、ダイオード接続されたトランジスタである。バイポーラトランジスタ125a~125mのそれぞれは、対応するスイッチ124a~124mに接続される。
なお、スイッチ124a~124mは、バイポーラトランジスタ125a~125mのベース電極およびコレクタ電極がダイオード接続されたノードより可変抵抗121側の位置に設けられる。これにより、スイッチ124a~124mのいずれかがオフ状態である場合、対応するバイポーラトランジスタ125a~125mで漏洩電流が発生することを防止できる。
可変抵抗126は、信号Vswに基づいて、抵抗値を変動させる。具体的には、可変抵抗126は、スイッチ133a~133nおよび抵抗134a~134nを含み、スイッチ制御回路45cが出力する信号Vswに基づいて、抵抗134a~134nの接続数が切り替わる。これにより、可変抵抗126は、基準電圧Vref1の所望の値(例えば1.2V)からのオフセット値を低減する。
抵抗134a~134nは、スイッチ133a~133nのオンオフ状態に応じて、可変抵抗126の抵抗値を離散的に変化させる。これにより、連続的に可変抵抗126を変動させる場合より、ノイズや電流の状態に応じて、可変抵抗126の抵抗値が変動することが少なくなる。
なお、本実施形態では、可変抵抗121および可変抵抗126の位置に設けられる抵抗は、両方可変抵抗で設けられている。しかし、これらの抵抗のうち一方が、可変抵抗で設けられ、他方が、抵抗値が固定の抵抗で設けられてもよい。
ここで、「スイッチ124a~124m」は、「複数の第1トリミング素子」に相当する。また、「スイッチ131a~131c」は、「複数の第2トリミング素子」に相当する。
また、可変抵抗121は、「第1抵抗」に相当する。可変抵抗126は、「第2抵抗」に相当する。
また、バイポーラトランジスタ123a~123cは、それぞれが図2のバイポーラトランジスタ74と同様のバイポーラトランジスタであってよく、異なるバイポーラトランジスタであってもよい。バイポーラトランジスタ123a~123cは、「複数の第1バイポーラトランジスタ」に相当する。
同様に、バイポーラトランジスタ125a~125mは、それぞれが図2のバイポーラトランジスタ75と同様のバイポーラトランジスタであってよく、異なるバイポーラトランジスタであってもよい。バイポーラトランジスタ125a~125mは、「複数の第2バイポーラトランジスタ」に相当する。
===基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1===
図10は、基準電圧回路52cが出力する基準電圧Vref1の一例を示す。
図10は、基準電圧回路52cが出力する基準電圧Vref1の一例を示す。
ここで、可変抵抗121の抵抗をr1とし、バイポーラトランジスタ123a~123cの合成抵抗をR1とし、バイポーラトランジスタ125a~125mの漏洩電流をΔIL、それらの合成抵抗をR2とし、可変抵抗126の抵抗をr2とする。
また、電流Ic1は、MOSトランジスタ71が、バイポーラトランジスタ123a~123cに供給する電流、ΔIc1は、温度上昇による電流Ic1の増加分とする。同様に、電流Ic2は、MOSトランジスタ72が、バイポーラトランジスタ125a~125mに供給する電流、ΔIc2は、温度上昇による電流Ic2の増加分とする。この場合、電圧V1と電圧V2とは、以下の式(A)および式(B)を充足する。
即ち、電圧V1について、
V1=(Ic1+ΔIc1)×(r1+R1)・・・(A)
と、電圧V2について、
V2=(Ic2+ΔIc2-ΔIL)×(R2+r2)・・・(B)
である。
V1=(Ic1+ΔIc1)×(r1+R1)・・・(A)
と、電圧V2について、
V2=(Ic2+ΔIc2-ΔIL)×(R2+r2)・・・(B)
である。
分圧回路である図9の出力回路77は、電圧V1,V2を分圧する。本実施形態においては、図2と同様に等しい抵抗値を有する抵抗81,82により、電圧V1,V2が分圧される。即ち、出力回路77は、電圧Vref1=(V1+V2)/2を満たす基準電圧Vref1を出力する。
図中、電圧V1の正の傾きの方が、電圧V2の負の傾きより大きくなっているので、基準電圧回路52cは、正の温度特性を有する基準電圧Vref1を出力する。
ここで、バイポーラトランジスタ123a~123cと、バイポーラトランジスタ125a~125mのサイズとを略同一に製造した場合であっても、電圧V1,V2の温度特性が完全に相殺しないことがある。これは、例えば、製造バラつき、回路のレイアウト内での接続箇所の違い、または回路動作のためのバイアス電圧が理想的な条件を満たさないことがあること等に起因する。
このような場合にも、基準電圧回路52cでは、バイポーラトランジスタ125のビット数を調整することにより、所望の温度特性を得ることができる。また、さらに、基準電圧回路52cでは、これらの調整について、図11および図12を参照して説明する。
===基準電圧Vref1の温度特性の調整===
図11は、オン状態のスイッチ124a~124mの数を変えた際の基準電圧Vref1の一例を示す。本実施形態では、スイッチ124a~124mが、m個ある場合の図が示されている。
図11は、オン状態のスイッチ124a~124mの数を変えた際の基準電圧Vref1の一例を示す。本実施形態では、スイッチ124a~124mが、m個ある場合の図が示されている。
図中、オン状態のスイッチ124a~124mの数Ntrを1個からm個まで徐々に増加させた場合の図が示される。オン状態のスイッチ124a~124mの数Ntrを増加させた場合、並列に接続されるバイポーラトランジスタ125a~125mの接続数が増大する。
この場合、式(B)のV2=(Ic2+ΔIc2-ΔIL)×(R2+r2)の式において、ΔIc2,ΔIL,およびR2が増大する。これにより、温度上昇時の電圧V2の負方向の傾きが増大する。従って、基準電圧回路52cから出力される電圧Vref=(V1+V2)/2の傾きも負方向に変動する。
一方、オン状態のスイッチ124a~124mの数Ntrを減少させた場合には、V2の負方向の傾きが小さくなるので、基準電圧回路52cから出力される電圧Vref=(V1+V2)/2の傾きは、正方向に変動する。
本実施形態においては、Ntr=4の場合に、室温(例えば25℃)における基準電圧Vref1の値と、高温状態(例えば175℃)における基準電圧Vref1の値との差が最も小さくなる。
従って、本実施形態の基準電圧回路52cにおいて、基準電圧Vref1の温度特性として、室温の状態と、高温の状態との間で、温度依存性の小さいものを選びたい場合には、Ntr=4を選択すればよいこととなる。
ここで、図中の実施形態の基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1は、室温において、約1.25Vの電圧値であって、高温状態において、1,25Vからわずかに上昇している。従って、仮に基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1の所望の値として、例えば1.2Vの電圧値を出力したい場合、室温において、基準電圧Vref1は、1.25-1.2=0.05Vのオフセット値を有している。
基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1の0.05Vのオフセット値についても、以下で説明する通りの調整ができる。
===基準電圧Vref1のオフセット値の調整===
図12は、オン状態のスイッチ133a~133nの数を変えた際の基準電圧Vref1の一例を示す。
図12は、オン状態のスイッチ133a~133nの数を変えた際の基準電圧Vref1の一例を示す。
図中、オン状態のスイッチ124a~124mの数Nresを1個からm個まで徐々に増加させた場合の図が示される。本実施形態においては、図11に示した調整を終えた段階では、Nres=3であったものとして、基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1の図が示されている。
数Nresを増加させるにつれて、式(B)のV2=(Ic2+ΔIc2-ΔIL)×(R2+r2)の式において、r2が増大する。数Nresを増大させる場合には、数Ntrを増大させた場合と異なり、Ic2+ΔIc2-ΔILの因子は増大しない。従って、数Ntrを増大させる場合には、数Nresを増大させる場合より、V2の傾きへの影響が小さい。
従って、数Nresを増大させる場合、基準電圧回路52cから出力される基準電圧Vref1の描く図中の曲線は、負方向にシフトする。一方、数Nresを減少させる場合、基準電圧回路52cから出力される電圧Vref1の描く図中の曲線は、正方向にシフトする。
本実施形態の基準電圧回路52cにおいて、基準電圧Vref1として、室温の状態での所望の電圧値が1.2Vであり、高温の状態に、温度依存性の小さいものを選びたい場合には、Nres=6が選択される。この場合に、基準電圧回路52cは、室温で1.2Vに近く、高温で温度依存性の小さい基準電圧Vref1を出力する。
なお、可変抵抗121のスイッチ131a~131cを切り替えて、抵抗r1を変動させ、スイッチ122a~122cを切り替えてバイポーラトランジスタ123a~123cの合成抵抗R1を変動させることもできる。この場合、式(A)のV1=(Ic1+ΔIc1)×(r1+R1)が変動し、基準電圧Vref1の正の温度特性に寄与する項が変動する。
従って、基準電圧Vref1のオフセット値の調整は、スイッチ131a~131cまたはスイッチ122a~122cを切り替えることにより電圧V1を変動させて行われてもよい。
ここで、オン状態のスイッチ131a~131cまたはスイッチ122a~122cが多いほど、基準電圧Vref1は正側に変動する。一方、オン状態のスイッチ131a~131cまたはスイッチ122a~122cが少ないほど基準電圧Vref1は、負側に変動する。
===基準電圧回路52cで行われるトリミングのフロー===
図13は、基準電圧回路52cにおいて実行されるトリミングのフローの一例を示す。以下では、トリミングは、例えば、図示しない半導体テスタ(以下、テスタとする。)等の装置を用いて行われる。
図13は、基準電圧回路52cにおいて実行されるトリミングのフローの一例を示す。以下では、トリミングは、例えば、図示しない半導体テスタ(以下、テスタとする。)等の装置を用いて行われる。
まず、室温(例えば25℃)において、デスタは、バイポーラトランジスタ125a~125mの接続数についてトリミングを行い、基準電圧Vref1が所望の値(例えば1.2V)になるように調整したデータを取得する(S1)。
なお、ここで、テスタが所定の素子(例えば、抵抗)の接続数についてトリミングを行うとは、所定の素子の接続数が変化するよう、例えば、テスタが、図示しない端子を介してICのメモリのデータを書き換えることをいう。
次に、高温(例えば175℃)において、テスタは、バイポーラトランジスタ125a~125mの接続数についてトリミングを行い、基準電圧Vref1のデータを取得する(S2)。
さらに、テスタは、室温での基準電圧Vref1と、高温状態での出力電圧Vref1との差が最も小さくなるバイポーラトランジスタ125a~125mの接続数についてトリミングを行う(S3)。これにより、基準電圧回路52は、出力する基準電圧Vref1の温度特性を所望の温度特性のものに設定できる。
そのあと、室温で、テスタは、抵抗132a~132c,134a~134n、またはバイポーラトランジスタ123a~123cの接続についてトリミングを行う(S4)。これにより、基準電圧回路52cは、室温における基準電圧Vref1の所望の値(例えば、1.2V)からのオフセットを調整できる。
以上の通り、基準電圧回路52cでは、出力する基準電圧Vref1の温度特性と、所望の値からのオフセットと、が調整できる。
===まとめ===
以上、本実施形態の半導体モジュール10および電圧生成回路41a、並びに比較例の電圧生成回路101aについて説明した。半導体モジュール10は、基準電圧回路52aを含む集積回路23aを備える。
以上、本実施形態の半導体モジュール10および電圧生成回路41a、並びに比較例の電圧生成回路101aについて説明した。半導体モジュール10は、基準電圧回路52aを含む集積回路23aを備える。
集積回路23aは基準電圧回路52aを備える。基準電圧回路52aは、MOSトランジスタ71により構成される電流源と、MOSトランジスタ71に並列に設けられたMOSトランジスタ72により構成される電流源と、一端がMOSトランジスタ71のドレイン電極に接続された抵抗73と、抵抗73の他端に接続されるとともに、ベース電極とコレクタ電極とが接続されたバイポーラトランジスタ74と、MOSトランジスタ72に接続されるとともに、ベース電極とコレクタ電極とが接続されたバイポーラトランジスタ75と、バイポーラトランジスタ75のエミッタ電極に接続された抵抗76と、MOSトランジスタ71のドレイン電極から出力される電圧V1と、MOSトランジスタ72のドレイン電極から出力される電圧V2と、に基づいて、電圧を出力する、出力回路77と、含む。
これにより、基準電圧回路52aは、電圧V1および電圧V2に基づいて、少ない回路部品を用いた、小規模かつ少ない回路面積の構成により、所望の温度特性を有する基準電圧Vref1を供給できる。
また、本実施形態のバイポーラトランジスタ74およびバイポーラトランジスタ75のサイズは等しい。これにより、バイポーラトランジスタ74およびバイポーラトランジスタ75において、所定の温度閾値Tth以上の温度範囲において生じる電圧V1の上昇と、電圧V2の低下とに与える、漏洩電流Ic1,Ic2の影響を略同一に調整できる。
また、本実施形態の抵抗73,76の抵抗値は等しい。これにより、電圧V1,V2に対する漏洩電流Is1,Is2の影響における係数を等しく調整できる。
集積回路23cは、図9に記載の構成を有する基準電圧回路52cを備える。基準電圧回路52cは、MOSトランジスタ71により構成される電流源と、MOSトランジスタ71に並列に設けられたMOSトランジスタ72により構成される電流源と、可変抵抗121と、バイポーラトランジスタ123a~123cと、複数のスイッチ124a~124mと、複数のバイポーラトランジスタ125a~125mと、可変抵抗126と、MOSトランジスタ71により構成される電流源から出力される電圧V1と、MOSトランジスタ72により構成される電流源から出力される電圧V2と、に基づいて、基準電圧Vref1を出力する、出力回路77と、を含む。
ここで、バイポーラトランジスタ123a~123c,125a~125mのサイズを調整しても、基準電圧Vref1の温度特性の調整が困難になることがある。これは、例えば、製造バラつき、回路のレイアウト内での接続箇所の違い、または回路動作のためのバイアス電圧が理想的な条件を満たさないことがあること等によるものである。そのような場合にも、集積回路23cでは、電圧V1および電圧V2を調整し、所望の温度特性を有する基準電圧Vref1を得ることができる。
また、集積回路23cは、可変抵抗121の他端に接続された複数のスイッチ122a~122cを備え、複数のバイポーラトランジスタ123a~123cのそれぞれは、複数のスイッチ122a~122cを介して抵抗の他端に接続される。
これにより、集積回路23cでは、バイポーラトランジスタ123a~123cのサイズを変化させて、基準電圧Vref1の温度特性を調整できる。
また、複数のスイッチ122a~122cの接続される箇所に設けられる素子または複数のスイッチ124a~124mの接続される箇所に設けられる素子のうち少なくとも一方は、複数のスイッチであり、集積回路23cは、複数のスイッチのオンオフを制御するスイッチ制御回路45cを備える。
これにより、集積回路23cにおいて、バイポーラトランジスタ123a~123cまたはバイポーラトランジスタ125a~125mのサイズに対して行われるトリミングでは、再度のトリミングによりサイズを再設定可能となる。
また、可変抵抗121の接続される箇所に設けられる素子または可変抵抗126の接続される箇所に設けられる素子のうち少なくとも一方は、可変抵抗であり、スイッチ制御回路45cは、前記可変抵抗の抵抗値を制御する。
これにより、集積回路23cにおいて、可変抵抗121または可変抵抗126の抵抗値についてトリミングを行うことが可能となり、これらの抵抗値を変動させることで、室温における基準電圧Vref1の所望の値からのオフセットを調整できる。
また、可変抵抗121または可変抵抗126は、可変抵抗121または可変抵抗126の抵抗値を変化させるための複数のスイッチ131a~131cまたはスイッチ133a~133nを含み、スイッチ制御回路45cは、可変抵抗121または可変抵抗126の複数のスイッチのオンオフを制御する。
これにより、集積回路23cにおいて、可変抵抗121または可変抵抗126の抵抗値を離散的に調整できる。従って、連続的に可変抵抗121または可変抵抗126を変動させる場合より、ノイズや電流の状態に応じて、可変抵抗121または可変抵抗126の抵抗値が変動することが少なくなる。
また、複数のスイッチ122a~122c,124a~124m,131a~131c,133a~133nの状態を示す情報を含むデータD(SW)が格納される記憶回路44cを備え、スイッチ制御回路45cは、データD(SW)に基づいて、複数のスイッチのオンオフを制御する。
これにより、集積回路23cで行われるスイッチによるトリミングでは、再度トリミングを行ってスイッチの設定を変えることが可能となる。
また、本実施形態の出力回路77は、一端がMOSトランジスタ71のドレイン電極に接続された抵抗81と、一端がMOSトランジスタ72の出力に接続されるとともに、他端が抵抗81の他端に接続された、抵抗82と、を含む。さらに、基準電圧Vre1は、抵抗81および抵抗82の間のノードに生じる電圧である。
このように、本実施形態の出力回路77は、抵抗81,82により構成される分圧回路である。このように、出力回路77は、OPアンプ等の回路面積をより増大させる素子を含まない。
従って、本実施形態の基準電圧回路52aは、電圧V1および電圧V2に基づいて、少ない回路部品を用いた、小規模かつ少ない回路面積の構成により、所望の温度特性を有する基準電圧Vref1を供給できる。
また、本実施形態の抵抗81,82の抵抗値は等しい。これにより、出力回路77は、電圧V1,V2を等しく分圧する。従って、電圧V1の上昇および電圧V2の低下が略同一である場合に、基準電圧回路52aは、略平坦な基準電圧Vref1を出力できる。
また、本実施形態の温度補償回路51aは、電流Irefが流れるバイポーラトランジスタ67を含む。本実施形態では、MOSトランジスタ71,72は、ドレイン電極から供給する電流が、電流Irefに応じた電流となる電流源になる。
これにより、バイポーラトランジスタ67での漏洩電流の発生に伴って、電流Ic1,Ic2が増大する。即ち、基準電圧回路52aで漏洩電流Is1,Is2が増大する場合に、電流Ic1,Ic2も増大することとなる。
従って、温度閾値Tthの温度範囲で、漏洩電流Is1,Is2は、Is1=Is2の式を満たし、等しい割合で増大する。結果として、電圧V1,V2への漏洩電流Is1,Is2の寄与が制御し易くなり、基準電圧回路52aからの基準電圧Vref1が安定し、特に温度変化をしても略平坦な基準電圧Vref1を出力する場合には有用である。
また、本実施形態において、電圧V1が印可されるノードに電流を供給する電流源はMOSトランジスタ71であり、電圧V2が印可されるノードに電流を供給する電流源はMOSトランジスタ72であり、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのソース電極は、電源ラインL1aに接続され、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのゲート電極には、所定のゲート電圧が印可されている。
このように、基準電圧回路52aにおいて、電圧V1,V2が印可されるノードに電流を供給する電流源は、MOSトランジスタ71,72であって、バイポーラ素子を含まない。従って、基準電圧回路52aでは、電圧V1,V2が印可されるノードに電流を供給する電流源からは、バイポーラ素子に生じる漏洩電流のような大きな漏洩電流が生じない。
また、本実施形態において、MOSトランジスタ71,72のサイズは等しい。これにより、MOSトランジスタ71,72からは、電圧V1,V2が印可されるノードに等しい電流が供給される。
また、本実施形態の集積回路23aの温度補償回路51aは、バイポーラトランジスタ67と、バイポーラトランジスタ67に流れる電流の電流値に応じたバイアス電圧を供給する、バイアス電圧源であるMOSトランジスタ62と、を備え、MOSトランジスタ62は、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのゲート電極にバイアス電圧を供給する。
これにより、バイポーラトランジスタ74,75に漏洩電流Is1,Is2が生じる場合に、バイポーラトランジスタ67からも漏洩電流が生じる。バイポーラトランジスタ67の電流値に応じて、MOSトランジスタ62からMOSトランジスタ71,72のゲート電極に供給される電圧が低下する。従って、MOSトランジスタ71,72から供給される電流Ic1,Ic2が増大する。
即ち、漏洩電流Is1,Is2の増大に伴って、電流Ic1,Ic2も増大することとなる。従って、温度閾値Tthの温度範囲で、漏洩電流Is1,Is2は、Is1=Is2の式を満たし、等しい割合で増大する。結果として、電圧V1,V2への漏洩電流Is1,Is2の寄与が制御し易くなり、基準電圧Vref1が安定し、特に温度変化をしても略平坦な基準電圧Vref1を出力する場合には有用である。
また、本実施形態において、集積回路23aは、P型のMOSトランジスタ61,62を含むカレントミラー回路68と、カレントミラー回路68から電流が供給されるN型のMOSトランジスタ63,64を含むカレントミラー回路69と、カレントミラー回路69の一端に接続されるともに、ベース電極とコレクタ電極とが接続されたバイポーラトランジスタ65と、カレントミラー回路69の他端に接続された抵抗66と、抵抗66に接続されるとともに、ベース電極とコレクタ電極とが接続されたバイポーラトランジスタ67と、を含む。さらに、カレントミラー回路68,69の間を接続するノードには、MOSトランジスタ71,72のそれぞれのゲート電極が接続されている。
これにより、基準電圧回路52aのMOSトランジスタ71,72のゲート電圧がバイポーラトランジスタ74,75の漏洩電流Is1,Is2により低下した場合に、温度補償回路51aから低下した電圧が供給される。これにより、集積回路23a全体としての動作が安定する。
また、本実施形態の半導体モジュール10は、集積回路23aと、IGBT31aであるスイッチング素子と、を備える。集積回路23aは、入力信号LINに基づいて、IGBT31aのゲート電極に接続された、スイッチング素子の駆動を制御する制御回路43aを含み、制御回路43aは、入力信号LINと基準電圧Vref1とに基づいて、スイッチング素子の駆動を制御する。
これにより、基準電圧回路52aにより供給された所望の温度特性を有する基準電圧Vref1に基づいて、制御回路43aがスイッチング素子の駆動を制御できる。
以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加える
ことが可能であることが当業者に明らかである。本発明の技術的範囲には、その趣旨を逸脱することなく、その様な変更または改良を加えた形態およびその均等物も含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
ことが可能であることが当業者に明らかである。本発明の技術的範囲には、その趣旨を逸脱することなく、その様な変更または改良を加えた形態およびその均等物も含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。
10 半導体モジュール
11 負荷
12,22 電源
21 半導体チップ
23 集積回路
31 IGBT
32 ダイオード
41,101 電圧生成回路
42 温度検出回路
43 制御回路
44 記憶回路
45 スイッチ制御回路
51 温度補償回路
52,111 基準電圧回路
61~64 MOSトランジスタ
65,67,74,75 バイポーラトランジスタ
66,73,76,81,82 抵抗
68,69 カレントミラー回路
71,72 MOSトランジスタ
77 出力回路
91 基板
92 Nウェル領域
93 N+コレクタ領域
94 P+ベース領域
95 N+エミッタ領域
96 コレクタ端子
97 ベース端子
98 エミッタ端子
121,126 可変抵抗
122a~122c,124a~124m スイッチ
123a~123c,125a~125m バイポーラトランジスタ
131a~131c,133a~133n スイッチ
132a~132c,134a~134n 抵抗
11 負荷
12,22 電源
21 半導体チップ
23 集積回路
31 IGBT
32 ダイオード
41,101 電圧生成回路
42 温度検出回路
43 制御回路
44 記憶回路
45 スイッチ制御回路
51 温度補償回路
52,111 基準電圧回路
61~64 MOSトランジスタ
65,67,74,75 バイポーラトランジスタ
66,73,76,81,82 抵抗
68,69 カレントミラー回路
71,72 MOSトランジスタ
77 出力回路
91 基板
92 Nウェル領域
93 N+コレクタ領域
94 P+ベース領域
95 N+エミッタ領域
96 コレクタ端子
97 ベース端子
98 エミッタ端子
121,126 可変抵抗
122a~122c,124a~124m スイッチ
123a~123c,125a~125m バイポーラトランジスタ
131a~131c,133a~133n スイッチ
132a~132c,134a~134n 抵抗
Claims (17)
- 第1電流源と、
前記第1電流源に並列に設けられた第2電流源と、
一端が前記第1電流源の出力に接続された第1抵抗と、
前記第1抵抗の他端に接続されるとともに、ダイオード接続された第1バイポーラトランジスタと、
前記第2電流源の出力に接続されるとともに、ダイオード接続された第2バイポーラトランジスタと、
前記第2バイポーラトランジスタに接続された第2抵抗と、
前記第1電流源から出力される第1電圧と、前記第2電流源から出力される第2電圧と、に基づいて、第3電圧を出力する、出力回路と、
を備える、
集積回路。 - 請求項1に記載の集積回路であって、
前記第1バイポーラトランジスタおよび前記第2バイポーラトランジスタのサイズは等しい、
集積回路。 - 請求項1または2に記載の集積回路であって、
前記第1抵抗の抵抗値と、前記第2抵抗の抵抗値とは、等しい、
集積回路。 - 第1電流源と、
前記第1電流源に並列に設けられた第2電流源と、
一端が前記第1電流源の出力に接続された第1抵抗と、
前記第1抵抗の他端に接続されるとともに、ダイオード接続された第1バイポーラトランジスタと、
前記第2電流源の出力に接続された複数の第1トリミング素子と、
前記複数の第1トリミング素子にそれぞれ接続されるとともに、ダイオード接続された複数の第2バイポーラトランジスタと、
一端が、前記複数の第2バイポーラトランジスタに接続された第2抵抗と、
前記第1電流源から出力される第1電圧と、前記第2電流源から出力される第2電圧と、に基づいて、第3電圧を出力する、出力回路と、
を備える、
集積回路。 - 請求項4に記載の集積回路であって、
前記第1抵抗の他端に接続された複数の第2トリミング素子を備え、
複数の前記第1バイポーラトランジスタのそれぞれは、前記複数の第2トリミング素子を介して前記第1抵抗の他端に接続される、
集積回路。 - 請求項5に記載の集積回路であって、
前記複数の第1トリミング素子または前記複数の第2トリミング素子のうち少なくとも一方は、複数のスイッチであり、
前記集積回路は、
前記複数のスイッチのオンオフを制御する第1制御回路を備える、
集積回路。 - 請求項6に記載の集積回路であって、
前記第1抵抗または前記第2抵抗のうち少なくとも一方は、可変抵抗であり、
前記第1制御回路は、前記可変抵抗の抵抗値を制御する、
集積回路。 - 請求項7に記載の集積回路であって、
前記可変抵抗は、前記可変抵抗の抵抗値を変化させるための複数のスイッチを含み、
前記第1制御回路は、前記可変抵抗の前記複数のスイッチのオンオフを制御する、
集積回路。 - 請求項6から8のいずれか一項に記載の集積回路であって、
前記複数のスイッチの状態を示す情報が格納される記憶回路を備え、
前記第1制御回路は、前記情報に基づいて、前記複数のスイッチのオンオフを制御する、
集積回路。 - 請求項1から9のいずれか一項に記載の集積回路であって、
前記出力回路は、一端が前記第1電流源の出力に接続された第3抵抗と、
一端が前記第2電流源の出力に接続されるとともに、他端が前記第3抵抗の他端に接続された、第4抵抗と、を含み、
前記第3電圧は、前記第3抵抗および前記第4抵抗の間のノードに生じる電圧である、
集積回路。 - 請求項10に記載の集積回路であって、
前記第3抵抗および前記第4抵抗の抵抗値は等しい、
集積回路。 - 請求項1から11のいずれか一項に記載の集積回路であって、
基準電流を生成する第3バイポーラトランジスタを含み、
前記第1電流源および前記第2電流源は、前記基準電流に応じた電流を生成する、
集積回路。 - 請求項1から12のいずれか一項に記載の集積回路であって、
前記第1電流源は第1MOSトランジスタを含み、
前記第2電流源は第2MOSトランジスタを含み、
前記第1MOSトランジスタおよび前記第2MOSトランジスタのそれぞれのソース電極は、電源ラインに接続され、
前記第1MOSトランジスタおよび前記第2MOSトランジスタのそれぞれのゲート電極には、所定の電圧が印可される、
集積回路。 - 請求項13に記載の集積回路であって、
前記第1MOSトランジスタおよび前記第2MOSトランジスタのサイズは等しい、
集積回路。 - 請求項13または14に記載の集積回路であって、
第3バイポーラトランジスタと、
前記第3バイポーラトランジスタに流れる電流の電流値に応じたバイアス電圧を生成する、バイアス電圧源と、を備え、
前記バイアス電圧源は、前記第1MOSトランジスタおよび前記第2MOSトランジスタの前記それぞれのゲート電極に生成された前記バイアス電圧を供給する、
集積回路。 - 請求項13または14に記載の集積回路であって、
P型のMOSトランジスタを含む第1カレントミラー回路と、
前記第1カレントミラー回路から電流が供給されるN型のMOSトランジスタを含む第2カレントミラー回路と、
前記第2カレントミラー回路の一端に接続された第5抵抗と、
前記第5抵抗に接続されるとともに、ダイオード接続された第3バイポーラトランジスタと、
前記第2カレントミラー回路の他端に接続されるともに、ダイオード接続された第4バイポーラトランジスタと、
を含み、
前記第1カレントミラー回路および前記第2カレントミラー回路の間を接続するノードには、前記第1MOSトランジスタおよび前記第2MOSトランジスタのそれぞれのゲート電極が接続される、
集積回路。 - 請求項1から16のいずれか一項に記載の集積回路と、
スイッチング素子と、を備え、
前記集積回路は、入力信号に基づいて、前記スイッチング素子の制御電極に接続された、前記スイッチング素子の駆動を制御する第2制御回路を含み、
前記第2制御回路は、前記入力信号と前記第3電圧とに基づいて、前記スイッチング素子の駆動を制御する、
半導体モジュール。
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