JP2023001024A - 飛翔体転写方法、飛翔体転写装置、画像形成方法、立体造形物の製造方法、及び結晶作製方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光吸収材を含む転写対象材料を飛散させることなく、光吸収材をより高精細に転写することができる飛翔体転写方法の提供。【解決手段】基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満である飛翔体転写方法である。【選択図】なし

Description

本発明は、飛翔体転写方法、飛翔体転写装置、画像形成方法、及び立体造形物の製造方法、及び結晶作製方法に関する。

レーザー励起前方転写（Ｌａｓｅｒ－Ｉｎｄｕｃｅｄ Ｆｏｒｗａｒｄ Ｔｒａｎｓｆｅｒ：ＬＩＦＴ）法は、基板上に光吸収材を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料にレーザービームを照射し、前記転写対象材料を飛翔させ、前記転写対象材料の対面に配置した被付与物（アクセプター基板）の所望の位置に前記転写対象材料を転写する方法である。

このようなＬＩＦＴ法としては、例えば、前記レーザービームとして光渦レーザービームを用いることにより、光吸収材を含む高粘度液体を飛散させることなく、精細に転写できる画像形成方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

本発明は、光吸収材を含む転写対象材料を飛散させることなく、光吸収材をより高精細に転写することができる飛翔体転写方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としての本発明の飛翔体転写方法は、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満である。

本発明によると、光吸収材を含む転写対象材料を飛散させることなく、光吸収材をより高精細に転写することができる飛翔体転写方法を提供することができる。

図１Ａは、一般的なレーザービームにおける波面（等位相面）の一例を示す概略図である。 図１Ｂは、一般的なレーザービームにおける光強度分布の一例を示す図である。 図１Ｃは、一般的なレーザービームにおける位相分布の一例を示す図である。 図２Ａは、光渦レーザービームにおける波面（等位相面）の一例を示す概略図である。 図２Ｂは、光渦レーザービームにおける光強度分布の一例を示す図である。 図２Ｃは、光渦レーザービームにおける位相分布の一例を示す図である。 図３Ａは、一般的なレーザービームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。 図３Ｂは、光渦レーザービームを光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。 図４Ａは、光渦レーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。 図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。 図５Ａは、本発明の飛翔体転写装置の一例を示す説明図である。 図５Ｂは、本発明の飛翔体転写装置の他の一例を示す説明図である。 図５Ｃは、本発明の飛翔体転写装置の他の一例を示す説明図である。 図６Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す概略断面図である。 図６Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図７Ａは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図７Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図７Ｃは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図８Ａは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図８Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す概略断面図である。 図９は、立体造形物の製造装置の一例を示す概略断面図である。 図１０は、実施例で用いた転写対象材料におけるグリセロール濃度と複素粘度との関係を示すグラフである。 図１１は、実施例で用いられる飛翔体転写装置の一例を示す概略図である。 図１２は、光渦レーザービームを照射時における転写対象材料の挙動を示す図である。 図１３Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）の液滴の画像である。 図１３Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）の液滴中の無機粒子の分布を示すヒストグラムである。 図１４Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴の画像である。 図１４Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴中の無機粒子の分布を示すヒストグラムである。 図１５Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．６の転写対象材料（グリセロール濃度９８質量％）の液滴の画像である。 図１５Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．６の転写対象材料（グリセロール濃度９８質量％）の液滴中の無機粒子の分布を示すヒストグラムである。 図１６Ａは、転写対象材料の液滴中の無機粒子の空間分布の解析方法を説明する図であり、被付与物に転写されたＮｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴の画像である。 図１６Ｂは、転写対象材料の液滴中の無機粒子の空間分布の解析方法を説明する図であり、被付与物に転写されたＮｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴の画像である。 図１６Ｃは、転写対象材料の液滴中の無機粒子の空間分布の解析方法を説明する図であり、被付与物に転写されたＮｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴の画像である。 図１７は、転写対象材料の液滴中の無機粒子の面積割合が９０％となる（Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００）と転写対象材料の複素粘度との関係を示すグラフである。 図１８Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）を加熱処理後の状態を示す図である。 図１８Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）を加熱処理後の状態を示す図である。 図１９Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）を加熱処理後の状態を示す図である。 図１９Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）を加熱処理後の断面状態を示す図である。 図１９Ｃは、被付与物に転写されたＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）を加熱処理後の結晶状態を示す図である。 図２０Ａは、被付与物に転写されたＮｏ．４の転写対象材料（純水１００質量％）を加熱処理後の状態を示す図である。 図２０Ｂは、被付与物に転写されたＮｏ．４の転写対象材料（純水１００質量％）を加熱処理後の断面状態を示す図である。 図２０Ｃは、被付与物に転写されたＮｏ．４の転写対象材料（純水１００質量％）を加熱処理後の結晶状態を示す図である。

（飛翔体転写方法及び飛翔体転写装置）
本発明の飛翔体転写方法は、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であり、更に必要に応じてその他の工程を含む。

本発明の飛翔体転写装置は、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔手段と、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与手段と、を有し、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であり、更に必要に応じてその他の手段を有する。

本発明の飛翔体転写方法は、本発明の飛翔体転写装置により好適に実施することができ、飛翔工程は飛翔手段により行うことができ、付与工程は付与手段により行うことができ、その他の工程はその他の手段により行うことができる。

従来技術では、被付与物上に転写された転写対象材料の内部における光吸収材の空間分布に関する言及はなく、光吸収材の空間分布を制御することは困難であった。

したがって、本発明においては、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であることにより、光渦レーザーを用いた飛翔体転写方法において所定の波長の光を吸収する光吸収材を一点に集束させることができる。このため、前記光吸収材を含む転写対象材料より高精細に転写することができると共に、高さ方向に厚みが増し、三次元形状での転写が可能である。また、転写対象材料中における光吸収材の濃度が低い場合であっても、光渦レーザービームを一点に収束することによって高密度なドットを形成することができる。加えて、一部の高密度なドットは、光吸収材の結晶性を有した状態で溶融凝集しており、材料の合成を促進させることができる。
更に、転写対象材料に用いる分散媒として加熱時の蒸発残分が低い分散媒を選択することにより、高純度の転写対象材料の転写が可能となる。

＜飛翔工程及び飛翔手段＞
前記飛翔工程は、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる工程であり、飛翔手段により実施することができる。

＜＜ドナー基板＞＞
前記ドナー基板は、基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したものである。
本発明において、「飛翔」とは、空中を進むこと、又は空中を移動することを意味する。
本発明において、「飛散」とは、飛んで散乱することを意味する。

－基板－
前記基板としては、その形状、構造、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記基板の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、平板状、真円又は楕円等の筒状、筒状の一部を切り出した面、無端ベルト状などが挙げられる。これらの中でも、前記基板が筒状であって、周方向に回転する前記基板の表面に前記転写対象材料を供給する供給手段を有することが好ましい。前記筒状の前記基板の表面に前記転写対象材料を担持すると、前記外周方向における前記被付与物の寸法に依存せずに供給することができる。また、この場合、前記筒状の内部には前記飛翔手段を配置し、前記内部から外周に向けて前記光渦レーザービームを照射可能とし、前記基板が周方向に回転することで連続的に照射することができる。
また、平板状の前記基板としては、例えば、スライドガラスなどが挙げられる。

前記基板の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記基板の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記転写対象材料が付与される被付与物の幅に合わせた寸法とすることが好ましい。

前記基板の材質としては、光を透過するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、酸化珪素を主成分とする各種ガラス等の無機材料、透明性の耐熱プラスチック、エラストマー等の有機材料が、透過率と耐熱性の点で、好ましい。

前記基板における前記光渦レーザービームの透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７５％以上が好ましく、８５％以上がより好ましい。前記透過率が好ましい範囲内であると、前記基板に吸収された前記光渦レーザービームのエネルギーが熱に変換されにくいため、前記転写対象材料に乾燥や溶融などの変化を与えることが少なく、また、前記転写対象材料に与えるエネルギーが低下しにくいため、飛翔させた前記転写対象材料を付与する位置のバラつきが生じにくい点で有利である。
なお、前記透過率の測定方法としては、例えば、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ－６６０ＤＳ）などを用いて測定することができる。

前記基板の表面粗さＲａとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光渦レーザービームの屈折散乱を抑制し、前記転写対象材料に付与するエネルギーを低下させないようにする点で、表面及び裏面のどちらも１μｍ以下であることが好ましい。また、前記表面粗さＲａが好ましい範囲内であると、前記転写対象材料が付与される被付与物に付与した前記転写対象材料の平均厚みのバラつきを抑制することができ、所望の量の前記転写対象材料を付与させることができる点で有利である。
前記表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に従って測定することができ、例えば、触針式表面形状測定装置（Ｄｅｋｔａｋ１５０、ブルカー・エイエックスエス株式会社製）を用いて測定することができる。

－転写対象材料－
前記転写対象材料は、光吸収材及び分散媒を含み、更に必要に応じてその他の成分を含む。
前記転写対象材料は、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であり、光吸収材の結晶性を有した状態で溶融凝集し材料の合成を促進できる点から１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であると、転写対象材料の液滴中の光吸収材を液滴の中心部に集束させることができ、より高精細に転写することができる。
前記複素粘度は、動的粘弾性測定装置を用い、加える応力を変化させ、その時に生じたひずみ量を測定する応力制御法により、以下の条件に基づき測定することができる。
－測定条件－
・装置名：レオメータ、ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００、Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製
・温度：２５℃
・剪断応力：２００Ｐａ

－－光吸収材－－
前記光吸収材としては、光の波長に対する吸光度が１よりも大きいことが好ましく、２よりも大きいことがより好ましい。光吸収材が光の波長に対する吸光度が２よりも大きいと、エネルギー効率を高めることができる点で有利である。

前記光吸収材としては、所定の波長の光を吸収するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料などが挙げられる。

前記無機材料としては、その形態、大きさ、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記無機材料の形態としては、例えば、固体、粉体などが挙げられる。なお、前記固体とは、２５℃において容器の形とは無関係にその形状を保持するものを意味する。

前記無機材料としては、例えば、マンガンフェライト、鉄フェライト、マグネシウムフェライト、ストロンチウムフェライト、四酸化三鉄、酸化チタン、硫化亜鉛、黒色系酸化鉄、黒色系銅酸化物、黒色系クロム酸化物、黄色酸化鉄、黄色系ニッケルチタン、硫化カドミウム、セレン、セレン化カドミウム、クロム酸鉛、モリブデン酸鉛、赤色酸化鉄、酸化コバルト、含水酸化クロム、酸化クロム、金、鉛アンチモン、酸化ニッケル、酸化マンガン、酸化ネオジム、酸化エルビウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、アルミニウム、ブロンズ、雲母、カーボンブラック、カーボン、ゼオライト、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、硫化水銀カドミウム、紺青、群青などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記無機材料のメディアン径（Ｄ_５０）は、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以上２４０ｎｍ以下がより好ましい。
前記メディアン径（Ｄ_５０）は、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＵ８２００シリーズ、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定を行う。得られた画像を画像処理ソフトＡ像君（旭化成エンジニアリング株式会社製）で二値化し、メディアン径（Ｄ_５０）を算出することができる。又は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＪＥＭ－２１００、日本電子株式会社製）を用いて測定を行う。観察サンプルは、無機材料が０．４質量％のエタノール分散液を作製し、超音波洗浄機で１時間ほど分散させたものを、コロジオン膜貼付メッシュ（日新ＥＭ株式会社製）を用い測定を行う。得られた画像を画像処理ソフトＡ像君（旭化成エンジニアリング株式会社製）で二値化し、メディアン径（Ｄ_５０）を算出することができる。

－－分散媒－－
前記分散媒としては、前記光吸収材を分散することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、有機溶剤、ワックス、樹脂ワニスなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、強熱残分が０．１％以下又は蒸発残分が１.０以下である分散媒が高純度での転写対象材料の転写が可能となる点から、純水、グリセロール水溶液が好ましい。
グリセロール水溶液におけるグリセロール濃度は、８７質量％未満が好ましく、８０質量％以下がより好ましい。

前記水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の純水、又は超純水などが挙げられる。
前記有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、グリセロール、エタノール、アセトンなどが挙げられる。

前記ワックスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、炭化水素系ワックス、エステルワックス、ケトンワックスなどが挙げられる。

前記樹脂ワニスとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系、ポリエステル系、スチレン系、ポリウレタン系、アルキド系、エポキシ系、コハク、ロジン系などが挙げられる。

前記分散媒は、光吸収材の分散性の点から界面活性剤を含有していてもよい。
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤などが挙げられる。

前記アニオン性界面活性剤としては、例えば、脂肪酸せっけん、アルキルコハク酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩、アルキル硫酸エステルナトリウム塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム塩、ジアルキルスルホサクシネートナトリウム塩、アルキルリン酸ナトリウム塩、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤などが挙げられる。更に、前述したナトリウム塩のみならず、例えば、任意の金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。
前記カチオン性界面活性剤としては、例えば、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。
前記ノニオン性界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステルなどが挙げられる。
前記両性界面活性剤としては、例えば、アルキルベタイン、アミドベタインなどが挙げられる。

－その他の成分－
その他の成分としては、例えば、着色剤、分散剤、熱安定剤、酸化防止剤、還元防止剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、消泡剤、湿潤剤、浸透剤などが挙げられる。

前記転写対象材料は、液状であり、液体の前記転写対象材料の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１Ｐａ・ｓ以上が好ましく、１Ｐａ・ｓ以上２０Ｐａ・ｓ以下がより好ましい。
なお、粘度は、例えば、回転粘度計（東機産業株式会社製、ＶＩＳＣＯＭＡＴＥ ＶＭ－１５０ＩＩＩ）などを用いて２５℃の環境下で測定することができる。

前記基板上に配されたドナー基板における転写対象材料は、層状であっても膜状であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写対象材料は、基板上に一体的（連続的）に層（膜）を形成していてよく、断続的に層（膜）を形成していてもよい。

前記転写対象材料（転写対象層）の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃における前記転写対象層が液体の場合には、１０μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下が更に好ましい。２５℃における前記転写対象層が液体の場合に、前記転写対象層の平均厚みが１０μｍ以上であると、光を照射しときに転写対象材料の飛散を抑制することができる。
また、２５℃における前記転写対象層が液体の場合に、前記転写対象層の平均厚みが１０μｍ以上であると、前記連続を層状にして供給した場合、連続して飛翔させたときであっても基板上の層の強度を確保することができるため、連続して前記転写対象材料を飛翔させることができる点で好ましい。
また、２５℃における前記転写対象層が液体の場合に、前記転写対象層の平均厚みが５０μｍ以下であると、前記転写対象材料を飛翔させるのに必要な光のエネルギーが大きくなりすぎないため、特に光吸収材が有機物の場合、劣化や分解が発生しにくい点で有利である。
なお、塗布する方法によっては、一定のパターンを保持した層として供給することも可能となる。
前記転写対象層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃における前記転写対象層が固体の場合には、４０μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上２０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以上１８μｍ以下が更に好ましい。２５℃における前記転写対象層が固体の場合に、前記転写対象層の平均厚みが、４０μｍ以下であると、比較的弱い光エネルギーで転写が可能なため、光吸収材へのダメージを抑制することができる。

前記転写対象層の平均厚みの測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記転写対象層に対して任意の複数の点を選択し、複数の点の厚みの平均を算出することにより求める方法などが挙げられる。平均としては、５点の厚みの平均が好ましく、１０点の厚みの平均がより好ましく、２０点の厚みの平均が特に好ましい。
平均厚みの測定機器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザー変位計やマイクロメータなどの非接触又は接触方式の方法が挙げられる。

本発明においては、前記ドナー基板を用いて、前記ドナー基板の前記基板側から転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる。
本発明において、「飛翔させる」とは、転写対象材料の少なくとも一部が前記ドナー基板から脱離することを意味する。
光渦レーザービームを用いることによって、飛翔させる転写対象材料を飛散させにくくすることができる。

前記光渦レーザービームについて、以下に詳細に説明する。
一般的なレーザービームは、位相が揃っているため、図１Ａに示すように平面状の等位相面（波面）を有している。レーザービームのポインティングベクトルの方向が平面状の等位相面の直交方向であることにより、レーザービームの照射方向と同じ方向となるため、レーザービームが転写対象材料中の光吸収材に照射された場合には、光吸収材に対して照射方向に力が作用する。しかし、レーザービームの断面における光強度分布が、図１Ｂに示すようにビームの中心が最も強い正規分布（ガウシアン分布）であるため、転写対象材料が飛散しやすい。また、位相分布の観察を行うと図１Ｃに示すように位相差がないことが確認される。
これに対し、光渦レーザービームは、図２Ａに示すように螺旋状の等位相面を有している。光渦レーザービームのポインティングベクトルの方向が螺旋状の等位相面に対して直交方向であるため、光渦レーザービームが転写対象材料中の光吸収材に照射された場合には、直交方向に力が作用する。このため、図２Ｂに示すように光強度分布がビームの中央が零となる凹んだドーナツ状の分布となり、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加される。すると、光渦レーザービームを照射された光吸収材は、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与する。また、位相分布の観察を行うと図２Ｃに示すように位相差が発生していることが確認される。

図３Ａは、一般的なレーザービームを転写対象材料中の光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。図３Ｂは、光渦レーザービームを転写対象材料中の光吸収材に照射させたときの一例を示す写真である。
図３Ａと図３Ｂとを比較すると、図３Ａのほうが図３Ｂよりも転写対象材料が飛散していることが確認できる。このことから、光渦レーザービームを照射された転写対象材料中の光吸収材は、ドーナツ状のエネルギーを放射圧として印加され、光渦レーザービームの照射方向に沿って飛翔し、被付与物に飛散しにくい状態で付与することがわかる。

光渦レーザービームか否かを判別する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述の位相分布の観察、干渉計測などが挙げられ、干渉計測が一般的である。
干渉計測は、レーザービームプロファイラ（Ｓｐｉｒｉｃｏｎ社製レーザービームプロファイラ、浜松ホトニクス株式会社製レーザービームプロファイラなど）を用いて観察でき、干渉計測した結果の一例を図４Ａ、図４Ｂに示す。
図４Ａは、光渦レーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図であり、図４Ｂは、中心に光強度０の点を有するレーザービームにおける干渉計測の結果の一例を示す説明図である。
光渦レーザービームを干渉計測すると、図４Ａに示すように、エネルギー分布がドーナツ状であって、図１Ｃと同様に中心に光強度０の点を持つレーザービームであることが確認できる。
一方、中心に光強度０の点を有する一般的なレーザービームを干渉計測すると、図４Ｂに示すように、図４Ａで示した光渦レーザービームの干渉計測と類似しているが、ドーナツ状部のエネルギー分布が一様ではないことから、光渦レーザービームとの差異が確認できる。

－飛翔手段－
前記飛翔手段は、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光を照射する、換言すると、前記転写対象材料を表面に配した基板における、前記転写対象材料が配された側とは反対側の基板の表面に光を照射することにより、光の照射方向に前記転写対象材料を飛翔させる。

また、飛翔手段は、レーザー光源と、光渦変換部と、波長変換部とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。

－－レーザー光源－－
前記レーザー光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レーザービームを発生させる固体レーザー、気体レーザー、半導体レーザーなどが挙げられ、パルス発振可能なものが好ましい。
前記固体レーザーとしては、例えば、ＹＡＧレーザー、チタンサファイアレーザーなどが挙げられる。
前記気体レーザーとしては、例えば、アルゴンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、炭酸ガスレーザーなどが挙げられる。
これらの中でも、出力が３０ｍＷ程度の半導体レーザーが、装置の小型化及び低コスト化の点から好ましい。ただし、本実施形態では、チタンサファイアレーザーを使用した。
前記レーザービームの波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３００ｎｍ以上１１μｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以上１１００ｎｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのビーム径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０μｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上１ｍｍ以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス幅としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２ナノ秒以上１００ナノ秒以下が好ましく、２ナノ秒以上１０ナノ秒以下がより好ましい。
前記レーザービームのパルス周波数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０Ｈｚ以上２００Ｈｚ以下が好ましく、２０Ｈｚ以上１００Ｈｚ以下がより好ましい。
なお、前記レーザー光源としては、光渦レーザービームを出力可能なレーザー光源でもよい。

－－光渦変換部－－
前記光渦変換部としては、レーザービームを光渦レーザービームに変換できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、回折光学素子、マルチモードファイバ、液晶位相変調器などが挙げられる。
前記回折光学素子としては、例えば、螺旋位相板、ホログラム素子などが挙げられる。これらの中でも、螺旋位相板（Ｓｐｉｒａｌ Ｐｈａｓｅ Ｐｌａｔｅ）が好ましい。
なお、前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、前記光渦変換部を用いる方法に限らず、例えば、レーザー共振器から光渦を固有モードとして発振させる方法、ホログラム素子を共振器に挿入する方法などが挙げられる。他の前記光渦レーザービームを発生させる方法としては、例えば、ドーナツビームに変換した励起光を用いる方法、暗点を有する共振器ミラーを用いる方法、側面励起固体レーザーで発生する熱レンズ効果を空間フィルタとして用いて光渦モード発振する方法などが挙げられる。

－－波長変換部－－
前記波長変換部としては、前記光渦レーザービームに円偏光を付与することにより、以下の数式（１）で表されるトータルの回転モーメントＪ_Ｌ，Ｓが、|Ｊ_Ｌ，Ｓ|≧０となる条件を満たすことができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記波長変換部としては、例えば、１／４波長板などが挙げられる。１／４波長板の場合には、光学軸を＋４５°又は－４５°以外に設置して光渦レーザービームに楕円状の円偏光（楕円偏光）を付与してもよいが、光学軸を＋４５°又は－４５°に設置して前記光渦レーザービームに真円状の円偏光を付与し、上記の条件を満たすことが好ましい。これにより、飛翔体転写装置は、前記光吸収材を安定的に飛翔させ、飛散を抑制した形状で被付与物に付与させる効果を大きくすることができる。

ただし、前記数式（１）において、ε_０は真空中の誘電率であり、ωは光の角周波数であり、Ｌはトポロジカルチャージであり、Ｉは下記数式（２）で表される光渦レーザービームの渦次数に対応する軌道角運動量であり、Ｓは円偏光に対するスピン角運動量であり、ｒは円筒座標系の動径である。

ただし、前記数式（２）において、ω_０は光のビームウエストサイズである。
なお、トポロジカルチャージとは、光渦レーザービームの円筒座標系における方位方向の周期的境界条件から現れる量子数を意味する。また、ビームウエストサイズとは、光渦レーザービームにおけるビーム径の最小値を意味する。

Ｌは、波長板における螺旋波面の巻数で決まるパラメータである。Ｓは、波長板における円偏光の向きで決まるパラメータである。なお、Ｌ及びＳはいずれも整数である。また、Ｌ及びＳの符号は、それぞれ螺旋の向き（時計回り、反時計回り）を表す。
なお、光渦レーザービームにおけるトータルの回転モーメントをＪとすると、Ｊ＝Ｌ＋Ｓと表すことができる。

本発明の飛翔体転写装置は、例えば、レーザービームを光渦レーザービームに変換する光渦変換部、及び光渦レーザービームに円偏光を付与する波長変換部を備え、|Ｊ_Ｌ，Ｓ|≧０と設定することにより、高粘度の転写対象材料の飛翔体の直線指向性を発現させ、転写対象材料の飛散を抑制する効果を向上させることができる。

－－その他の部材－－
その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビーム径変更部材、ビーム波長変更素子、出力調整部などが挙げられる。

－－－ビーム径変更部材－－－
ビーム径変更部材としては、光渦レーザービームのビーム径を変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、集光レンズなどが挙げられる。
光渦レーザービームのビーム径（照射径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。光渦レーザービームの照射径が１００μｍ以下であると、高解像度の画像を形成しやすい点で好ましい。
なお、ビーム径は、例えば、レーザースポット径及び集光レンズにより変更することが可能である。
また、転写対象材料が分散体の場合、ビーム径としては、転写対象材料の体積平均粒径の最大値以上が好ましく、分散体の最大値の３倍がより好ましい。ビーム径がより好ましい範囲内であると、転写対象材料を安定して飛翔させることが可能となる点で有利である。

－－－ビーム波長変更素子－－－
ビーム波長変更素子としては、光渦レーザービームの波長を、転写対象材料中の光吸収材が吸収可能であり、かつ後述する基板を透過可能である波長に変更できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。ビーム波長変更素子としては、例えば、ＫＴＰ結晶、ＢＢＯ結晶、ＬＢＯ結晶、ＣＬＢＯ結晶などが挙げられる。

－－－出力調整部－－－
出力調整部としては、レーザービーム又は光渦レーザービームを適正な出力値に調整することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラスなどが挙げられる。

転写対象材料に照射する光渦レーザービームの出力値としては、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、以下では「出力値」を「照射エネルギー」と称することもある。
光渦レーザービームの照射エネルギーとしては、転写対象材料の粘度や膜厚によっても適正値が変化するため、適宜調整されることが好ましいが、具体的には、１００μＪ／ドット以下がより好ましく、６０μＪ／ドット以下が更に好ましい。光渦レーザービームの照射エネルギーが６０μＪ／ドット以下であると、照射方向を軸とした照射径の中心軸に回転運動をしながら照射径よりも小さい径に収束する液柱を生じ得る状態、あるいは一部が切り離され液滴を生じ得る状態を実現しやすい点で有利である。

＜付与工程及び付与手段＞
前記付与工程は、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる工程である。
前記付与手段は、飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる手段である。
前記付与工程は前記付与手段により好適に行われる。
なお、本発明において、「付与」は「付着」とほぼ同義の意味である。
前記付与手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記転写対象材料の液柱乃至液滴を被付与物に接触させる機構を備える手段などが挙げられる。具体的には、前記付与手段としては、例えば、被付与物と転写対象材料との間隙を調整する機構や、被付与物を搬送する機構などが挙げられる。

－被付与物－
前記被付与物としては、転写対象材料から生じさせた液柱乃至液滴が接触できれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、従来、画像形成装置で用いられている記録媒体や中間転写ベルト、立体造形物を形成するための造形物支持基板などが挙げられる。なお、本明細書においては、前記被付与物を被転写媒体と称することもある。
前記記録媒体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、コート紙、上質紙、フィルム、布、繊維などが挙げられる。

前記被付与物と前記転写対象材料との間隙（ギャップ、距離）としては、前記被付与物と前記転写対象材料とを接触させなければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５ｍｍ以上５ｍｍ以下が好ましく、０．１０ｍｍ以上１ｍｍ以下がより好ましく、０．１０ｍｍ以上０．５０ｍｍ以下が特に好ましい。前記被付与物と前記転写対象材料との間隙が好ましい範囲内であると、前記被付与物に対する前記転写対象材料の付与位置の精度が低下しにくくなる点で有利である。また、前記被付与物と前記転写対象材料とを接触させないことにより、前記光吸収材、前記被付与物の組成を選ばず前記転写対象材料を前記被付与物に付与させることが可能となる。
更に、間隙は、例えば、被付与物の位置を一定に維持する位置制御手段などにより一定に保たれることが好ましい。この場合、前記転写対象材料及び被付与物の位置変動、平均厚みのバラつきを考慮して各部位を配置することが重要となる。

また、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均直径（平均ドット径）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１００μｍ以下とすることが、形成する画像や立体造形物の解像度をより向上させることができる点で好ましい。
また、前記平均ドット径は、例えば、マイクロスコープ等で前記転写対象材料のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、これを平均することにより求めることができる。

更に、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均直径（ドット径）のばらつきの値としては、１０％以下とすることが好ましく、６％以下とすることがより好ましい。前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均直径のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。
また、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均直径のばらつきの値は、例えば、マイクロスコープ等で転写対象材料のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出したドット領域のピクセル数から各ドットの面積を算出、円形に換算した時の直径をドット径とし、各ドットの粒径分布の平均粒径と標準偏差から算出することにより求めることができる。

加えて、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の位置（ドット位置）のばらつきの値としては、１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。前記被付与物に付与された前記転写対象材料の位置のばらつきの値を、上記の好ましい範囲とすることにより、画像や立体造形物を形成する際の精度をより向上させることができる。なお、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の位置のばらつきの値としては、例えば、前記転写対象材料のドットを一列に付与させる場合には、そのドットの列と直行する方向における、各前記転写対象材料の位置のばらつきの値とすることができる。
例えば、マイクロスコープ等で前記転写対象材料のドット画像を取得して画像輝度情報からドット領域を検出し、検出した各ドット領域の重心座標を算出、各重心の最小二乗法による近似直線からのずれを算出することにより求めることができる。

前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００μｍ以下が好ましい。前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均厚みが１００μｍ以下であると、前記転写対象材料を飛翔させるためのエネルギーを小さくできるため、前記転写対象材料の耐久性、前記光吸収材が有機物である場合の組成の分解などが発生しにくくなる点で有利である。なお、前記被付与物に付与された前記転写対象材料の平均厚みとしては、記録媒体、目的などにより適宜選択することができる。

＜その他の工程＞
前記その他の工程としては、例えば、供給工程、光走査工程、制御工程などが挙げられる。

＜＜供給工程及び供給手段＞＞
前記供給工程としては、前記飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記転写対象材料を供給する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記供給手段を用いて好適に行うことができる。
前記供給手段としては、前記飛翔手段と前記被付与物との間の光路に、前記転写対象材料を供給する手段であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記供給手段としては、例えば、円筒状の基板などが挙げられる。前記円筒状の基板を用いる場合には、光路上に前記円筒状の基板を配置し、前記円筒状の基板を介して、前記ドナー基板に前記転写対象材料を供給するようにしてもよい。
より具体的には、前記転写対象材料が液体であって、前記ドナー基板に転写対象材料を供給する場合には、前記供給手段として供給ローラ及び規制ブレードを設けることが、非常に簡単な構成で転写対象材料を基板の表面に一定の平均厚みで供給することができるため好ましい。
この場合、前記供給ローラは、前記転写対象材料を貯蔵する貯蔵槽に表面が一部浸漬し、前記転写対象材料を表面に担持しながら回転して、前記ドナー基板に当接することにより前記転写対象材料を供給する。前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記貯蔵槽の下流側に配置され、前記供給ローラが担持した前記転写対象材料を規制して平均厚みを均一にし、飛翔させる前記転写対象材料の量を安定させる。供給する前記転写対象材料の平均厚みを非常に薄くすることにより、飛翔させる前記転写対象材料の量を低減できるため、前記転写対象材料を飛散が抑制された微小なドットとして前記被付与物に付与可能とし、網点が太るドットゲインを抑制することができる。なお、前記規制ブレードは、前記供給ローラの回転方向における前記供給ローラの下流側に配置されていてもよい。

また、前記転写対象材料が高粘度である場合には、前記供給ローラの材質は、前記ドナー基板と確実に接触させるようにする点で、少なくとも表面が弾性を有するものが好ましい。前記転写対象材料が比較的低粘度である場合における、前記供給ローラとしては、例えば、精密ウェットコーティングで用いられるような、グラビアロール、マイクログラビアロール、フォーワードロールなどが挙げられる。

更に、前記供給ローラを設けない前記供給手段としては、前記貯蔵槽内の前記転写対象材料に前記ドナー基板を直接接触させた後にワイヤーバーなどで余分な前記転写対象材料を掻き取ることにより前記ドナー基板の表面に前記転写対象材料の層を形成するようにしてもよい。
なお、前記貯蔵槽は、前記供給手段とは別に設け、ホース等で前記転写対象材料を前記供給手段に供給するようにしてもよい。

＜＜光走査工程及び光走査手段＞＞
前記光走査工程としては、前記光渦レーザービームを前記転写対象材料に走査させる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光走査手段を用いて好適に行うことができる。
前記光走査手段としては、前記光渦レーザービームを前記転写対象材料に対して走査可能であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前記光走査手段は、飛翔手段から照射された前記光を前記転写対象材料に向けて反射させる反射鏡と、反射鏡の角度及び位置を変化させて前記光渦レーザービームを前記転写対象材料に対して走査させる反射鏡駆動部とを有するようにしてもよい。

＜＜制御工程＞＞
前記制御工程は、各工程を制御する工程であり、制御手段により好適に行うことができ、前記制御手段としては、各手段の動きを制御することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シーケンサー、コンピュータ等の機器が挙げられる。

次に、本発明における飛翔体転写装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、本発明の飛翔体転写装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。

図５Ａは、本発明の飛翔体転写装置の一例を示す説明図である。
図５Ａにおいて、飛翔体転写装置３００は、飛翔手段１と、転写対象材料（転写対象層）２０と、被付与物３０と、ドナー基板４０とを有する。前記ドナー基板４０は、転写対象層２０のドナー基板４０とは反対側の上面に有している。
前記飛翔体転写装置３００は、前記ドナー基板４０に担持されている前記転写対象層２０に、前記飛翔手段１によりレーザービーム１１２を照射し、前記レーザービーム１２のエネルギーにより前記転写対象層２０を照射方向に飛翔させる。図５Ａ中、被付与物３０は飛翔させた前記転写対象層２０を付与させる対象である。被付与物３０を前記転写対象層２０の対面に配置しておくことで、前記被付与物３０に前記転写対象層２０を付与することができる。

前記飛翔手段１は、レーザー光源２と、ビーム径変更部材３及び７と、ビーム波長変更部材４と、光渦変換部５と、波長変換部６と、を有している。

前記レーザー光源２は、例えば、チタンサファイアレーザーであり、パルス発振させたレーザービーム１１を発生させ、前記ビーム径変更部材３に照射する。
前記ビーム径変更部材３は、例えば、集光レンズであり、前記レーザー光源２が発生させた前記レーザービーム１１の光路におけるレーザー光源２の下流に配置され、レーザービーム１１の径を変更する。
前記ビーム波長変更部材４は、例えば、ＫＴＰ結晶であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム径変更部材３の下流に配置され、前記レーザービーム１１の波長を前記転写対象層２０が吸収可能な波長に変更する。
前記光渦変換部５は、例えば、螺旋位相板であり、前記レーザービーム１１の光路における前記ビーム波長変更部材４の下流に配置され、前記レーザービーム１１を光渦レーザービーム１２に変換する。
前記波長変換部６は、例えば、１／４波長板であり、前記光渦レーザービーム１２に円偏光を付与する。

前記転写対象層２０は、前記飛翔手段１から前記光渦レーザービーム１２を照射され、前記光渦レーザービーム１２の径の範囲におけるエネルギーを受けて飛翔する。被付与物３０を前記転写対象層２０の対面に配置しておくことで、前記被付与物３０に前記転写対象層２０を付与することができる。
なお、飛翔した前記転写対象層２０は、前記光渦レーザービーム１２により付与された、適度なエネルギーによる前方推進とジャイロ効果により、ビーム径の中心軸近傍に収束しながら捩じ切られることにより、周辺への飛散を抑制されつつ前記被付与物３０に付与する。
このとき、飛翔する前記転写対象層２０の飛翔量は、前記光渦レーザービーム１２が照射された前記転写対象層２０の面積のうち一部であり、前記波長変換部６などにより調整することができる。

図５Ｂは、本発明の飛翔体転写装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｂにおいて、飛翔体転写装置３０１は、図５Ａに示した飛翔体転写装置３００の各手段などに加え、光走査手段６０を有している。図５Ｂにおいては、前記ドナー基板４０は、前記ドナー基板４０の長軸方向が光渦レーザービーム１２の照射方向と直交する方向に配されている。この飛翔体転写装置３０１は、前記飛翔手段１が発生させた光渦レーザービーム１２を、光走査手段６０により前記ドナー基板４０に走査する。これにより、飛翔体転写装置３０１は、前記ドナー基板４０の任意の位置に照射し、転写対象材料（転写対象層）２０を飛翔させることができる。これにより、前記被付与物３０を前記転写対象層２０の対面に配置し多場合に、前記被付与物３０の任意の位置に前記転写対象層２０を付与することができる。

前記光走査手段６０は、光渦レーザービーム１２の光路における飛翔手段１の下流に配置され、反射鏡６１を有している。
前記反射鏡６１は、反射鏡駆動手段により図５Ｂ中矢印Ｓで示す走査方向に可動し、光渦レーザービーム１２を前記転写対象層２０の任意の位置に反射する。
なお、前記光走査手段６０は、例えば、前記飛翔手段１自体を移動させるか、前記飛翔手段１を回動させて前記光渦レーザービーム１２の照射方向を変化させるようにしてもよい。あるいは、前記光走査手段６０は、前記反射鏡６１として前記ポリゴンミラーを用いることにより、任意の位置に光渦レーザービーム１２を走査させるようにしてもよい。

前記ドナー基板４０は、前記光渦レーザービーム１２の光路における前記光走査手段６０の下流に配置され、例えば、前記転写対象層２０が高粘度の液体である場合、前記転写対象層２０が塗布されて固定する目的で用いられる。この前記ドナー基板４０は、前記光を透過可能であって、前記転写対象層２０を前記光渦レーザービーム１２が照射される面とは反対側の面に担持している。
また、前記転写対象層２０が前記ドナー基板４０に担持される段階で、層を形成した転写対象層２０の平均厚みが一定となるように制御することにより、転写対象層２０の飛翔量を安定させることができる。
なお、飛翔手段１と、前記光走査手段６０とを合わせたものをレーザービーム照射ユニット１００と称する。

図５Ｃは、本発明の飛翔体転写装置の他の一例を示す説明図である。
図５Ｃにおいて、飛翔体転写装置３０１ａは、図５Ｂに示した前記飛翔体転写装置３０１における前記光走査手段６０として、ガルバノスキャナ（ガルバノミラー）６２ａ及び６２ｂを有する。前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂは、それぞれが独立した走査方向（２次元）に可動し、前記光渦レーザービーム１２を前記転写対象層２０の任意の位置に反射することができる。前記光走査手段６０として前記ガルバノスキャナ６２ａ及び６２ｂを用いることにより、前記光渦レーザービーム１２の走査スピード及び走査精度をより向上させることができる。
また、前記飛翔体転写装置３０１ａにおいては、例えば、ガルバノスキャナ６２ｂと基板４０の間に、ｆθレンズを配置することも好ましい。

本発明の飛翔体転写方法及び飛翔体転写装置の用途としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、画像形成、立体造形物の製造、プリンタブル回路形成などが挙げられる。

（画像形成方法）
本発明の画像形成方法は、本発明の飛翔体転写方法からなる工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。具体的には、飛翔工程と、付与工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
前記飛翔工程は、本発明の飛翔体転写方法における飛翔工程と同様である。
前記付与工程は、本発明の飛翔体転写方法における付与工程と同様である。

画像形成を行う場合には転写対象材料として着色剤が用いられる。
前記着色剤としては、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

液体の着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、溶剤としての水に、染料、顔料、着色粒子、着色油滴などの色材を分散させた水性インクが使用可能である。また、水性インクに限らず、溶剤として、例えば、炭化水素系の有機溶剤や各種アルコールなど、比較的低沸点の液体を含んだ着色剤も使用可能である。これらの中でも、揮発成分の安全性、爆発の危険性などの点から、水性インクが好ましい。

また、画像形成装置では、版を用いるオフセット印刷用のプロセスインキ、ＪＡＰＡＮ ＣＯＬＯＲ対応インキ、特色インキなどでも画像形成が可能であるため、オフセット印刷で用いる色に合わせたデジタル画像を無版で容易に再現することができる。
更に、ＵＶ硬化インキでも画像形成が可能であるため、定着工程において紫外線を照射して硬化することにより、重なった記録媒体が貼り付くブロッキングの防止、及び乾燥工程の簡略化ができる。

前記色材の材質としては、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記有機顔料としては、例えば、ジオキサジンバイオレット、キナクリドンバイオレット、銅フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、サップグリーン、モノアゾイエロー、ジスアゾイエロー、ポリアゾイエロー、ベンズイミダゾロンイエロー、イソインドリノンイエロー、ファーストイエロー、クロモフタルイエロー、ニッケルアゾイエロー、アゾメチンイエロー、ベンズイミダゾロンオレンジ、アリザリンレッド、キナクリドンレッド、ナフトールレッド、モノアゾレッド、ポリアゾレッド、ペリレンレッド、アンスラキノニルレッド、ジケトピロロピロールレッド、ジケトピロロピロールオレンジ、ベンズイミダゾロンブラウン、セピア、アニリンブラック、などが挙げられ、有機顔料のうち金属レーキ顔料としては、例えば、ローダミンレーキ、キノリンイエローレーキ、ブリリアントブルーレーキなどが挙げられる。

前記無機顔料としては、例えば、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトバイオレット、コバルトグリーン、ジンクホワイト、チタニウムホワイト、チタンイエロー、クロムチタンイエロー、ライトレッド、クロムオキサイドグリ－ン、マルスブラック、ビリジャン、イエローオーカー、アルミナホワイト、カドミウムイエロー、カドミウムレッド、バーミリオン、リトポン、ウルトラマリーン、タルク、ホワイトカーボン、クレー、ミネラルバイオレット、ローズコバルトバイオレット、シルバーホワイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫化ストロンチウム、アルミン酸ストロンチウム、黄銅、金粉、ブロンズ粉、アルミニウム粉、真鍮顔料、アイボリーブラック、ピーチブラック、ランプブラック、カーボンブラック、プルシャンブルー、オーレオリン、雲母チタン、イエローオーカー、テールベルト、ローシェンナ、ローアンバー、カッセルアース、白亜、石膏、バーントシェンナ、バーントアンバー、ラピスラズリ、アズライト、マラカイト、オーピメント、辰砂、珊瑚末、胡粉、ベンガラ、群青、紺青、魚燐箔、酸化鉄処理パールなどが挙げられる。

これらの中でも、ブラック顔料としては、色相、画像保存性の点から、カーボンブラックが好ましい。
シアン顔料としては、色相、画像保存性の点から、銅フタロシアニンブルーであるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３が好ましい。

マゼンタ顔料としては、キナクリドンレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、ナフトールレッドであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９、及びローダミンレーキであるＣ．Ｉ．ピグメントレッド８１：４が好ましく、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９の混合物がより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（Ｐ．Ｒ．１２２）及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９（Ｐ．Ｒ．２６９）の混合物としては、Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が５：９５以上８０：２０以下の混合物が特に好ましい。Ｐ．Ｒ．１２２：Ｐ．Ｒ．２６９が特に好ましい範囲内であると、色相がマゼンタ色として外れない。

イエロー顔料としては、モノアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、ジスアゾイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、ベンズイミダゾロンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８０、イソインドリンイエローであるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５が好ましい。これらの中でも、色相、画像保存性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５がより好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記転写対象材料を着色剤としてのプロセスカラーインクとして用いる場合、４色のインクセットで用いることが好ましい。

前記無機顔料は、体積平均粒径が１０μｍを超える粒子からなるものが多い。体積平均粒径が１０μｍ以上の無機顔料を着色剤として用いる場合、着色剤としては、液体であることが好ましい。着色剤が液体であれば、静電気力など非静電付着力以外の力を用いることなく着色剤を安定した状態で維持できる点で有利である。また、この場合、ノズルつまりやインクの沈降などが顕著となりやすく、安定した連続印刷プロセスは望みにくいインクジェット記録方式と比較すると、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。更に、着色剤の粒子の表面積が小さくなると十分な帯電量が得られず、安定した連続印刷プロセスとして成立しない電子写真方式と比較しても、本発明の画像形成方法は、非常に有効である。

前記染料としては、例えば、モノアゾ染料、ポリアゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、スチルベンアゾ染料、チアゾールアゾ染料、アントラキノン誘導体、アントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、フタロシアニン染料、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、アクリジン染料、アジン染料、オキサジン染料、チアジン染料、ポリメチン染料、アゾメチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料などが挙げられる。

前記着色剤の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
記録媒体に浸透する液体の着色剤を用いた場合、記録媒体に付与した着色剤がフェザリングやブリーディングを発生することがあるが、本発明の飛翔体転写方法で取り扱いが可能である高粘度の着色剤にすると、記録媒体への浸透速度に対して乾きのほうが速いため、特にブリーディングの減少によって発色性の向上とエッジ部分の鮮鋭化が図れ、高画質の画像を形成することができる。また、着色剤を重ねて付与させる重ね打ちによる階調表現を行う場合にも、着色剤の量の増加による滲みも少なくすることができる。
更に、この飛翔体転写方法は、液体の着色剤を飛翔させて付与させるものであるため、例えば、フィルム状のドナー基板から熱により着色剤を溶融転写するいわゆる熱転写方式と比較すると、記録媒体に微小な凹凸が存在していても良好に記録を行うことができる。

＜その他の手工程及びその他の手段＞
前記その他の工程としては、被付与物搬送工程、定着工程などが挙げられる。

前記被付与物搬送工程としては、前記被付与物を搬送する工程であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、被付与物搬送手段を用いて好適に行うことができる。
前記被付与物搬送手段としては、前記被付与物を搬送することができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、搬送ローラ対などが挙げられる。

前記定着手段としては、前記被付与物に付与させた前記転写対象材料に含まれる光吸収材を定着させることができれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱加圧部材を用いた熱圧着方式のものなどが挙げられる。
前記加熱加圧部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、加熱ローラ、加圧ローラ、加熱ローラ及び加圧ローラを組み合わせたものなどが挙げられる。他の加熱加圧部材としては、例えば、これらに定着ベルトを組合せたもの、これらのうち加熱ローラを加熱ブロックに代えたものなどが挙げられる。

前記加圧ローラとしては、前記被付与物搬送手段により搬送される前記被付与物と等速度で加圧面が移動するものが、擦れによる画像劣化を抑制する点で、好ましい。この中でも、表面近傍に弾性層を形成したものが、前記被付与物に対して接触加圧しやすい点で、より好ましい。更に、最表面にシリコーン系の撥水性材料やフッ素化合物などの低表面エネルギーの素材で撥水性表面層を形成した前記加圧ローラが、表面に前記転写対象材料が付与することによる画像の乱れを抑制する点で、特に好ましい。
前記シリコーン系の撥水性材料からなる前記撥水性表面層としては、例えば、シリコーン系離型剤の皮膜、シリコーンオイル又は各種変性シリコーンオイルの焼付皮膜、シリコーンワニスの皮膜、シリコーンゴムの皮膜、シリコーンゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。
前記フッ素化合物からなる前記撥水性表面層としては、フッ素樹脂の皮膜、有機フッ素化合物の皮膜、フッ素オイルの焼付皮膜又は吸着膜、フッ素ゴムの皮膜、若しくはフッ素ゴムと各種金属、ゴム、プラスチック、セラミック等の複合物からなる皮膜などが挙げられる。

前記加熱ローラにおける加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、８０℃以上２００℃以下が好ましい。

前記定着ベルトとしては、耐熱性があり、機械的強度が高ければ特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリイミド、ＰＥＴ、ＰＥＮ等のフィルムなどが挙げられる。また、前記定着ベルトとしては、表面に前記転写対象材料が付与することによる画像の乱れを抑制する点で、前記加圧ローラの最表面を形成する材料と同じものを用いることが好ましい。前記定着ベルトは、肉厚を薄くすることができることにより、ベルト自体を加熱するエネルギーを小さくできるため、電源を入れてすぐに使用することができる。このときの温度及び圧力は定着させる光吸収材の組成により変化するが、温度としては２００℃以下が省エネルギーの観点から好ましく、圧力としては１ｋｇ／ｃｍ以下が装置の剛性の点で好ましい。

本発明の画像形成方法及び画像形成装置においては、飛翔手段、供給手段、及び光走査手段を一体として飛翔ユニットとして扱ってもよい。
例えば、前記転写対象材料として色材を含有する着色剤を用いる場合における例を説明する。前記飛翔ユニットを画像形成装置に４つ設け、プロセスカラーであるイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの前記着色剤を飛翔させるようにしてもよい。前記着色剤の色数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、必要に応じて飛翔ユニット（以下、着色剤飛翔ユニット）の数を増減させてもよい。また、記録媒体の搬送方向における、プロセスカラーの前記着色剤を有する前記飛翔ユニットの上流側に、白色の着色剤を有する前記飛翔ユニットを配置することで、白色隠蔽層を設けることが可能となるため、透明な記録媒体に色再現性に優れた画像を形成できる。ただし、特にイエロー、白色、透明の着色剤においては、レーザービームの波長の光の透過率（吸光度）が適正となるように、レーザー光源を、例えば、ブルーレーザービーム、紫外線レーザービームなどに適宜選択してしなければならない場合がある。

更に、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置では、高粘度の着色剤を用いることができるので、記録媒体上に順次異なる色の着色剤を重ねて画像を形成しても、着色剤が滲み出して交じり合うブリーディングの発生を抑制できるため、高画質のカラー画像を得ることができる。
本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の小型化などを目的として、飛翔ユニットを１つだけ設け、供給ローラ及びドナー基板に供給する着色剤自体を切り替えて複数色の画像を形成するようにしてもよい。

次に、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、本発明の画像形成方法に係る画像形成装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。

図６Ａは、図５Ｂに示す飛翔体転写装置において、供給手段及び被付与物搬送手段を付加した画像形成装置の一例を示す説明図である。
図６Ａにおいて、画像形成装置３０２は、図５Ｂに示した飛翔体転写装置３０１の各手段などに加え、供給手段５０と、被付与物搬送手段７０とを有しており、平板状の基板４０を円筒状の担持ローラ４１に変更したものである。また、担持ローラ４１の内側には、レーザービーム照射ユニット１００が配置されており、担持ローラ４１が外周に担持する転写対象材料（転写対象層）２０に光渦レーザービーム１２を照射する。

供給手段５０は、貯蔵槽５１と、供給ローラ５２と、規制ブレード５３とを有している。
貯蔵槽５１は、供給ローラ５２の下方の近傍に配置され、転写対象材料２０を貯蔵する。
供給ローラ５２は、担持ローラ４１と当接するように配置され、貯蔵槽５１の転写対象材料２０に一部が浸漬されている。供給ローラ５２は、回転駆動手段により、又は担持ローラ４１の回転に従動して図６Ａ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転しながら転写対象材料２０を表面に付与させる。付与した転写対象材料２０は、規制ブレード５３により平均厚みを均一にされ、担持ローラ４１に転移することにより層として供給される。担持ローラ４１の表面に供給された転写対象材料２０は、担持ローラ４１が回転することにより、光渦レーザービーム１２が照射される位置に連続的に供給される。
規制ブレード５３は、図６Ａ中矢印Ｒ２で示す回転方向における担持ローラ４１の上流側に配置され、供給ローラ５２が表面に付与させた転写対象材料２０を規制し、担持ローラ４１に供給する転写対象材料２０の平均厚みを均一にする。

被付与物搬送手段７０は、担持ローラ４１と搬送する被付与物３０が接触しないように担持ローラ４１の近傍に配置され、被付与物搬送ローラ７１と、被付与物搬送ローラ７１に張架された被付与物搬送ベルト７２とを有している。この被付与物搬送手段７０は、回転駆動手段により被付与物搬送ローラ７１を回転させ、被付与物搬送ベルト７２により被付与物３０を図６Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向に搬送する。
このとき、レーザービーム照射ユニット１００は、画像情報に従って担持ローラ４１の内側より光渦レーザービーム１２を照射し、被付与物３０に転写対象材料２０を付与させる。被付与物３０を被付与物搬送ベルト７２により移動させながら、このような転写対象材料２０を被付与物３０に付与させる付与動作を行うことにより、被付与物３０に２次元の画像を形成することができる。

なお、担持ローラ４１の表面に担持されたが飛翔させなかった転写対象材料（転写対象層）２０は、担持ローラ４１が回転し、供給ローラ５２との当接により溜まっていき、やがて貯蔵槽５１に落下して回収される。また、転写対象材料２０の回収方法としては、それに限られることなく、担持ローラ４１の表面の転写対象層２０を掻き取るスクレーパなどを設けてもよい。

図６Ｂは、図５Ｂに示す飛翔体転写装置において、供給手段及び被付与物搬送手段を付加した画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図６Ｂにおいて、画像形成装置３０３は、図６Ａで示した画像形成装置３０２における円筒状の担持ローラ４１を、軸方向に沿って２分割した担持部４２とし、画像形成装置３０２の配置を変更したものである。

担持部４２は、円筒状の一部の面となっており、かつ円筒中心線の対向側には面が無い形状である。このように対向面がない担持体とすることにより、レーザービーム照射ユニット１００を円筒状の担持ローラ４１に設けることなく、光渦レーザービーム１２の光路が確保しやすくなるため、装置を単純化することができる。

図７Ａは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の一例を示す説明図である。
図７Ａにおいて、画像形成装置３０５は、図６Ａに示した画像形成装置３０２の各手段などに加え、定着手段８０を有しており、被付与物３０に付与させた転写対象層２０を定着させて平滑にするようにしている。なお、被付与物搬送手段７０の位置は、図６Ａでは担持ローラ４１の側面としたが、図７Ａでは説明の便宜上、担持ローラ４１の上方とした。

定着手段８０は、加圧方式の定着手段であって、被付与物３０の図７Ａ中矢印Ｃで示す搬送方向において担持ローラ４１の下流側に配置され、加圧ローラ８３と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８０は、転写対象層２０が付与した被付与物３０を、挟持しながら搬送することにより加圧して定着させる。

加圧ローラ８３は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、表面が被付与物３０と接触し、対向ローラ８４とにより被付与物３０を挟持しながら加圧する。
対向ローラ８４は、加圧ローラ８３と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。

例えば、画像形成装置３０５として、１，０００ｍＰａ・ｓ以上である非常に高粘度の転写対象材料２０を用いると、転写対象材料２０の被付与物３０への浸透又は濡れが遅くなりやすい。そして、転写対象材料２０がそのままの状態で乾燥してしまうと、画像の表面粗さが粗くなり、画像の光沢が低下してしまう場合がある。このような場合、定着手段８０は、転写対象材料２０が付与した被付与物３０を加圧ローラ８３で加圧し、転写対象材料２０を被付与物３０に押し込む、あるいは転写対象材料２０を潰すことができるため、転写対象材料２０が付与した被付与物３０の表面粗さを小さくできる。

図７Ｂは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｂにおいて、画像形成装置３０６は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０を加熱加圧方式の定着手段８１に変更したものである。
定着手段８１は、被付与物３０の図７Ｂ中矢印Ｃで示す搬送方向において担持ローラ４１の下流側に配置され、加熱加圧ローラ８５と、定着ベルト８６と、従動ローラ８７と、ハロゲンランプ８８と、対向ローラ８４とを有している。この定着手段８１は、溶融が必要な材料を分散した分散液の転写対象材料２０として用いた場合で、加圧のみでは狙いの画像を得られないときに用いられる。

加熱加圧ローラ８５は、対向ローラ８４に向かって付勢されており、定着ベルト８６を介して、被付与物３０を対向ローラ８４と挟持しながら加熱及び加圧する。
定着ベルト８６は、無端のベルト状であり、加熱加圧ローラ８５及び従動ローラ８７に張架され、表面が被付与物３０と接触する。
従動ローラ８７は、加熱加圧ローラ８５の下方に配置され、加熱加圧ローラ８５の回転に従って従動する。
ハロゲンランプ８８は、加熱加圧ローラ８５の内部に配置され、被付与物３０に転写対象層２０を定着させるための熱を発生させる。
対向ローラ８４は、定着ベルト８６と当接する位置に配置され、被付与物３０を加圧ローラ８３とにより被付与物搬送ベルト７２を介して挟持する。

図７Ｃは、定着手段を付加した図６Ａに示す画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図７Ｃにおいて、画像形成装置３０７は、図７Ａで示した画像形成装置３０５における加圧方式の定着手段８０をＵＶ照射方式の定着手段８２に変更したものである。
定着手段８２は、被付与物３０の図７Ｃ中矢印Ｃで示す搬送方向において担持ローラ４１の下流側に配置され、ＵＶランプ８９を有している。この定着手段８１は、転写対象層２０として紫外線硬化性材料を用いた場合に使用され、ＵＶランプ８９によりＵＶを照射して被付与物３０に定着させる。

図８Ａは、本発明の画像形成装置の一例を示す説明図である。
図８Ａにおいて、画像形成装置４００は、図７Ｂに示した画像形成装置３０６の各手段などに加え、飛翔ユニット１２０を４つ有しており、転写対象材料２０として色材を含有する着色剤２１を用いた場合に変更したものである。
また、飛翔ユニット１２０は、供給手段５０と、飛翔手段１００と、図示しないビーム走査手段６０と、担持ローラ４１と、転写対象材料２０（着色剤２１）とにより構成される。

飛翔ユニット１２０Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋは、それぞれプロセスカラーであるイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）及びブラック（Ｋ）の４色のトナーを着色剤２１として貯蔵している。
これにより、被付与物３０としての記録媒体３１上に各色の画像を順次形成し、カラー画像を得るカラープロセスに適用することができる。

図８Ｂは、本発明の画像形成装置の他の一例を示す説明図である。
図８Ｂにおいて、画像形成装置４０１は、図８Ａに示した画像形成装置４００の各手段などに加え、被付与物としての中間転写手段９０を有している。

中間転写手段９０は、中間転写体９１と、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とを有している。
中間転写体９１は、例えば、無端状のベルトであり、４つの飛翔ユニット１２０の上方に配置され、中間転写体駆動ローラ９２と、中間転写体従動ローラ９３とにより張架されている。
中間転写体駆動ローラ９２は、回転駆動手段により図８Ｂ中矢印Ｒ２で示す回転方向に回転し、中間転写体９１を回転させる。
中間転写体従動ローラ９３は、中間転写体駆動ローラ９２の回転に従って従動する。
このように、まず、中間転写体９１に画像を形成し、これを所望の記録媒体３１に転写するようにしてもよい。この画像形成装置２０１においても、画像形成装置４００と同様に高画質のカラー画像を得ることができる。また、中間転写体９１に形成した画像を記録媒体３１に転写する際に中間転写体駆動ローラ９２により押圧するので、画像形成装置２００と同様に、着色剤２１を付与させた記録媒体３１の表面粗さを小さくすることができる。

また、図５Ｂでは、レーザービームを照射する方向を重力方向としたが、図５Ａ及び図６Ａ～図８Ｂでは、レーザービームを照射する方向を重力方向とは逆の方向にすることや、水平方向にすることを示した。
このように、本発明の画像形成方法では、基板の表面へのレーザービームの照射方向が非重力方向であり、液柱乃至液滴が非重力方向に生ずるようにしてもよい。これにより、装置の設計において自由度を高めることができる。

また、本発明の画像形成方法及び画像形成装置を、以下のように、立体造形物の製造方法及び立体造形物の製造装置に応用することもできる。

（立体造形物の製造方法）
本発明の立体造形物の製造方法は、本発明の飛翔体転写方法からなる工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。具体的には、飛翔工程と、付与工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
前記飛翔工程は、本発明の飛翔体転写方法における飛翔工程と同様である。
なお、前記立体造形物の製造方法における飛翔工程は、被付与物に対して立体造形剤としての転写対象材料を層として積み重ね、立体的に付与する。

－立体造形剤－
前記立体造形剤としては、転写対象材料と同様に、その形状、材質などについては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。以下、前記立体造形物の製造方法における転写対象材料としての立体造形剤とした際に異なる点を説明する。

前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、求められる精密さなどにより変化するが、５μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みが５μｍ以上５００μｍ以下であると、立体造形物の精度、質感、滑らかさ、製造時間などの点で有利である。また、前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みとしては、５μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。前記被付与物上に付与した立体造形剤の一層当たりの平均厚みがより好ましい範囲内であると、レーザービームのエネルギーを低く抑えられ、立体造形剤の劣化などを抑制する点で有利である。

前記立体造形剤としては、硬化性材料を少なくとも含有してなり、更に必要に応じて、その他の成分を含有してなる。

－－硬化性材料－－
前記硬化性材料としては、活性エネルギー線（紫外線、電子線等）照射、加熱等により重合反応を生起し硬化する化合物であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、活性エネルギー線硬化性化合物、熱硬化性化合物などが挙げられる。これらの中でも、常温で液体の材料が好ましい。
前記活性エネルギー線硬化性化合物は、分子構造中にラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する比較的低粘度のモノマーであり、単官能モノマー、多官能モノマーなどが挙げられる。

－－その他の成分－－
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、有機溶剤、光重合開始剤、界面活性剤、着色剤、安定化剤、水溶性樹脂、低沸点アルコール、表面処理剤、粘度調整剤、接着性付与剤、酸化防止剤、老化防止剤、架橋促進剤、紫外線吸収剤、可塑剤、防腐剤、分散剤などが挙げられる。

＜その他の工程及びその他の手段＞
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、供給工程、立体造形ヘッドユニット走査工程、被付与物位置調整工程、制御工程などが挙げられる。

＜＜硬化工程及び硬化手段＞＞
前記硬化工程は、前記転写対象材料としての立体造形剤を硬化する工程である。
前記硬化手段は、前記転写対象材料としての立体造形剤を硬化する手段である。
前記硬化手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射器などが挙げられる。
前記硬化工程としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、立体造形剤が紫外線硬化性材料であれば、紫外線照射工程などが挙げられ、紫外線照射手段を用いて好適に行うことができる。

＜＜立体造形剤供給工程及び立体造形剤供給手段＞＞
前記立体造形剤供給工程は、前記転写対象材料が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成方法における供給工程と同様であるため、その説明を省略する。
前記供給手段は、前記転写対象材料が立体造形剤であること以外は、本発明の画像形成装置における供給手段と同様であるため、その説明を省略する。

＜＜立体造形ヘッドユニット走査工程及び立体造形ヘッドユニット走査手段＞＞
前記立体造形ヘッドユニット走査工程は、飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる工程である。
前記立体造形ヘッドユニット走査手段は、飛翔ユニットと前記硬化手段とを一体とした立体造形ヘッドユニットを被付与物上の装置の幅（Ｘ軸）方向で走査させる手段である。
また、前記立体造形ヘッドユニットは複数設けるようにしてもよい。

＜＜被付与物位置調整工程及び被付与物位置調整手段＞＞
前記被付与物位置調整工程は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する工程である。
前記被付与物位置調整手段は、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整する手段である。
前記被付与物位置調整手段としては、例えば、装置の奥行き方向（Ｙ軸）及び高さ方向（Ｚ軸）に被付与物の位置を調整可能な基体（ステージ）などが挙げられる。

＜＜制御工程及び制御手段＞＞
制御工程は、前述した画像形成装置の制御工程と同様である。
制御手段は、前述した画像形成装置の制御手段と同様である。

次に、前記立体造形物の製造装置の一例について図面を参照して説明する。
なお、前記立体造形物の製造装置の部材の数、位置、形状等は本実施の形態に限定されず、本発明を実施する上で好ましい数、位置、形状等にすることができる。

図９は、立体造形物の製造装置の一例を示す説明図である。
図９において、立体造形物の製造装置５００は、被付与物としての造形物支持基板１２２と、ステージ１２３と、立体造形ヘッドユニット１３０とを有している。この立体造形物の製造装置５００は、付与した立体造形剤２２を硬化しながら積層して立体造形物１２４を製造する。
立体造形ヘッドユニット１３０は、立体造形物の製造装置５００の上部に配置され、駆動手段により図９中矢印Ｌで示す方向に走査することができる。この立体造形ヘッドユニット１３０は、飛翔ユニット１２０と、硬化手段として紫外線照射器１２１とを有している。

飛翔ユニット１２０は、立体造形ヘッドユニット１３０の中央に配置され、下方に転写対象材料２０を飛翔させ、造形物支持基板１２２又はすでに硬化させた転写対象層２０に付与する。
紫外線照射器１２１は、飛翔ユニット１２０の両側面に配置され、飛翔ユニット１２０が飛翔させた転写対象材料２０に紫外線を照射して、転写対象層２０を硬化する。
造形物支持基板１２２は、立体造形物の製造装置５００の下部に配置され、立体造形ヘッドユニット１３０が立体造形剤２２の層を形成する際の基板となる。
ステージ１２３は、造形物支持基板１２２の下方に配置され、駆動手段により造形物支持基板１２２を図９中垂直方向に移動させることができる。また、このステージ１２３は、図９中矢印Ｈで示す方向に移動させることができ、立体造形ヘッドユニット１３０と立体造形物１２４との間隙を調整することができる。

なお、画像形成装置及び立体造形物の製造装置においては、被付与物（記録媒体）を搬送又は移動させる例を示したが、これに限らず、被付与物などを静止させて飛翔ユニットなどを移動させてもよい。あるいは、被付与物などと飛翔ユニットなどの両者を移動させてもよい。
また、被付与物の全面の画像を同時に形成する場合などでは、少なくとも記録時には両者が静止しレーザーのみ動作させてもよい。

（結晶作製方法）
本発明の結晶作製方法は、本発明の飛翔体転写方法からなる工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。具体的には、飛翔工程と、付与工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
前記飛翔工程は、本発明の飛翔体転写方法における飛翔工程と同様である。
本発明の結晶作製方法においては、中心部に集束した光吸収材が溶融して結晶構造を形成し、転写後の焼結工程を省略できる点から、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下である転写対象材料を用いることが好ましい。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。

（転写対象材料の製造例１）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散液と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．１（グリセロール濃度４４質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・植物性グリセリン９８％以上（株式会社自然化粧品研究所製）：４４質量部
・純水：５６質量部

（転写対象材料の製造例２）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．２（グリセロール濃度８０質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・植物性グリセリン９８％以上（株式会社自然化粧品研究所製）：８０質量部
・純水：２０質量部

（転写対象材料の製造例３）
転写対象材料の製造例２において、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｅ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加した以外は、転写対象材料の製造例２と同様にして、転写対象材料Ｎｏ．３（グリセロール濃度８０質量％）を調製した。

（転写対象材料の製造例４）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．４（グリセロール濃度０質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・純水：１００質量部

（転写対象材料の製造例５）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．５（グリセロール濃度８７質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・植物性グリセリン９８％以上（株式会社自然化粧品研究所製）：８７質量部
・純水：１３質量部

（転写対象材料の製造例６）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．６（グリセロール濃度９８質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・植物性グリセリン９８％以上（株式会社自然化粧品研究所製）：９８質量部
・純水：２質量部

（転写対象材料の製造例７）
以下の組成の分散媒に、無機粒子として真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１（パウダーテック株式会社製）を、分散媒と無機粒子の合計１００質量部に対して、１質量部添加し攪拌することにより、転写対象材料Ｎｏ．７（グリセロール濃度９０質量％）を調製した。
［分散媒の組成］
・植物性グリセリン９８％以上（株式会社自然化粧品研究所製）：９０質量部
・純水：１０質量部

次に、作製した各転写対象材料について、以下のようにして、強熱残分又は蒸発残分、メディアン径（Ｄ_５０）及び２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける複素粘度を測定した。結果を表１に示した。

＜強熱残分又は蒸発残分の測定＞
ＪＩＳ Ｋ００６７に基づき、以下のようにして、強熱残分又は蒸発残分の測定を行った。
－強熱残分－
るつぼを５００℃で加熱後、冷めるまで待ち質量を測定した。そこに対象の試薬を計量して投入した後加熱し、液を蒸発させた。その後、硫酸を少量加えて徐々に加熱し白煙が生じなくなるまで行った。その後、５００℃で熱した後、残留物の質量を測定し、残留量％を確認し、強熱残分が０．１％以下であった場合には「〇」と評価し、強熱残分が０．１％を超えた場合には「×」と評価した。
－蒸発残分－
試料１０ｍｇを計量し、３００℃の熱板上で加熱蒸発させた。その後、残分の質量を測定し、グリセロールの残留量％を確認し、蒸発残分が１．０％以下であった場合には「〇」と評価し、蒸発残分が１．０％を超えた場合には「×」と評価した。

＜メディアン径（Ｄ_５０）の測定＞
メディアン径（Ｄ_５０）は、走査型電子顕微鏡（ＳＵ８２００シリーズ、株式会社日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定を行う。得られた画像を画像処理ソフトＡ像君（旭化成エンジニアリング株式会社製）で二値化し、メディアン径（Ｄ_５０）を算出した。

＜２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける複素粘度の測定＞
複素粘度は、動的粘弾性測定装置を用い、加える応力を変化させ、その時に生じたひずみ量を測定する応力制御法により、以下の条件に基づき測定を行った。図１０に、転写対象材料Ｎｏ．１、４～６におけるグリセロール濃度（質量％）と複素粘度（ｍＰａ・ｓ）の関係を示した。
－測定条件－
・装置名：レオメータ、ＨＡＡＫＥ ＲｈｅｏＳｔｒｅｓｓ ６００、Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製
・温度：２５℃
・剪断応力：２００Ｐａ

表１中の各成分の詳細については、以下のとおりである。
＊Ｍ００１：真球状ナノフェライト粉＿Ｍ００１、鉄フェライト、マンガンフェライト、パウダーテック株式会社製
＊Ｅ００１：真球状ナノフェライト粉＿Ｅ００１、鉄フェライト、マンガンフェライト、マグネシウムフェライト、ストロンチウムフェライト、パウダーテック株式会社製
＊グリセロール：植物性グリセリン９８％以上、株式会社自然化粧品研究所製

表１及び図１０の結果から、グリセロール濃度が増加するにしたがって、転写対象材料の複素粘度が大きくなり、２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける転写対象材料の複素粘度は１ｍＰａ・ｓ～１,３３６ｍＰａ・ｓの範囲で変化することがわかった。

（ドナー基板の製造例１～７）
次に、得られた各転写対象材料をスライドガラス（松浪硝子工業株式会社製、マイクロスライドガラスＳ７２１３；５３２ｎｍ波長光の透過率が９９％）の片面上にバーコーターで塗布し、平均厚みが１２５μｍの転写対象層を有するドナー基板１～７を作製した。

（実施例１～４及び比較例１～４）
次に、表２に示す転写対象材料とレーザー照射の組み合わせにより、転写方法を実施した。
図１１に、実施例及び比較例で用いた光渦レーザービームを有するレーザー照射装置の概略図を示す。
レーザー光源として、波長５３２ｎｍ、ナノ秒パルス（１０ｎｓ程度）のパルスレーザーを使用し、空間光変調器（ＳＬＭ）、λ／４板（ＱＷＰ）で軌道角運動量及びスピン角運動量を制御することにより光渦レーザービームを生成した。集光レンズ（Ｌｅｎｓ）で光渦レーザービームを集光して、ドナー基板の基板側から転写対象層に光渦レーザービームを照射した。
なお、比較例４では、空間光変調器（ＳＬＭ）で位相を変調せずにガウスビームのまま用いた。

図１２に光渦レーザービームを照射したときのＮｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％、複素粘度６ｍＰａ・ｓ）の挙動を示す。
光渦レーザービームは図１２の下面より上方向に向けて照射される。
図１２の結果から、レーザー照射後６．０μｓｅｃ以降では、転写対象材料中の無機粒子が中央に集まり、自転しながら高い指向性で液柱が成長していく、いわゆる「スピンジェット」と呼ばれる現象が観察できる。この「スピンジェット」は、光渦レーザービームの有する円環状の強度プロファイルと、軌道角運動量の転写により発生すると考えられる。

図１３Ａ～図１５Ｂに被付与物（松浪硝子工業株式会社製のＳ１２１４、水縁磨、ｔ１．３）に転写された転写対象材料の液滴の画像、及び転写対象材料の液滴中における無機粒子の空間分布を示す。
図１３Ａは、Ｎｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％）の液滴画像、図１４Ａは、Ｎｏ．５の転写対象材料（グリセロール濃度８７質量％）の液滴画像、図１５Ａは、Ｎｏ．６の転写対象材料（グリセロール濃度９８質量％）の液滴画像である。
図１３Ｂ～図１５ＢにおけるヒストグラムのＸ軸は、転写対象材料の液滴の円相当半径を１００％としたときの転写対象材料の液滴の重心位置から各無機粒子の重心位置までの距離を％で表している（Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００）。
図１３Ｂ～図１５Ｂにおけるヒストグラムの第一Ｙ軸は、転写対象材料の液滴の重心位置から５μｍずつの円環状の領域に重心位置が存在する無機粒子の面積を合計し、該当する円環状領域の面積で割った面積率を示す。
図１３Ｂ～図１５Ｂにおけるヒストグラムの第二Ｙ軸は、全ての重心距離における第一Ｙ軸の値の総和を１００［％］とした際の累積（転写対象材料の液滴中の無機粒子の面積割合）を示す。
図１３Ｂ～図１５Ｂの結果から、グリセロール濃度が大きくなるにしたがって、無機粒子の分布はＸ軸の全ての領域に広がり、第一Ｙ軸の表す面積率も同程度の値に近づいていることから、無機粒子が転写対象材料の液滴中の空間に均一に分布していることがわかる。このことは、無機粒子には光渦レーザービームの前方散乱力による面内輻射力と、全角運動量による動径方向の輻射力によりらせん状の中心力が働き、無機粒子の動きを促すが、転写対象材料の複素粘度が大きくなることによって無機粒子の動きが妨げられるためであると考えられる。

図１６Ａ～図１６Ｃは、転写対象材料の液滴中における無機粒子の空間分布の解析方法について説明する図である。
図１６Ａは、転写対象材料Ｎｏ．５（グリセロール濃度８７質量％）を転写して得られた、被付与物上の液滴を顕微鏡の暗視野観察法により得られた画像である。図１６Ｂは、図１６Ａにおける液滴全体の面積領域Ｓ_Ａｌｌ［μｍ^２］とＳ_Ａｌｌの重心位置［Ｘ_ＬＧ、Ｙ_ＬＧ］を表す図である。図１６Ｃは、図１６Ａにおいて液滴中に分散している各無機粒子の面積領域Ｓ（Ａｒｅａ）［μｍ^２］と重心位置［Ｘ_Ｇ、Ｙ_Ｇ］をそれぞれ示す。

以下に示すようにして、転写対象材料の液滴中における無機粒子の空間分布の解析を行うことができる。
図１６Ａにおける液滴全体の面積領域Ｓ_Ａｌｌ［μｍ^２］は、画像解析ソフトＩｍａｇｅＪの多角形選択ツールを用い、液滴の淵を選択することで面積領域Ｓ_Ａｌｌ［μｍ^２］とＳ_Ａｌｌの重心位置［Ｘ_ＬＧ、Ｙ_ＬＧ］を決定した。
図１６Ｃにおける各無機粒子の面積領域は、ＩｍａｇｅＪの２値化画像作成機能、又は旭化成エンジニアリング社製画像解析ソフト「Ａ像くん」の２値化処理機能を用いている。また、本液滴はドーム状の形状をしており、しきい値設定が困難な場合がある。その場合、「Ａ像くん」の範囲指定機能を用い、濃度識別が可能な領域毎に２値化しきい値を設定し、面積領域を決定した。
得られた各無機粒子の面積領域をＳ（Ａｒｅａ）［μｍ^２］、重心位置を［Ｘ_Ｇ、Ｙ_Ｇ］とした。
使用した画像解析ソフトは、無料画像解析ソフトＩｍａｇｅＪと、旭化成エンジニアリング社製画像解析ソフト「Ａ像くん」である。

Ｒ_Ｇは、液滴全体の重心位置［Ｘ_ＬＧ、Ｙ_ＬＧ］と、各無機粒子の重心位置［Ｘ_Ｇ、Ｙ_Ｇ］の距離を三平方の定理より求めた値であり、下記数式（Ａ）で表される。

Ｒ_ｄｒｏｐは、液滴全体の面積領域Ｓ_Ａｌｌ［μｍ^２］に対する、円相当径（半径）を示し、下記数式（Ｂ）で表される。

５×ｒ≦Ｒ_Ｇ＜５×（ｒ＋１）において、
Ｓ_{（ｒ＋1）}－Ｓ_（ｒ）＝（５×（ｒ＋１））^２π－（５×ｒ）^２π
ただし、ｒ＝０,１,２,３・・・であり、液滴全体の重心位置[ＸＬＧ、ＹＬＧ]から5μm毎に区切った円環状の領域面積を示す。
上記数式は図１３Ｂ～図１５Ｂのヒストグラムを作成するために使用した式である。以下では、累積の算出方法、及びヒストグラムの算出方法についてそれぞれ説明する。

―累積の算出―
液滴重心［Ｘ_ＬＧ、Ｙ_ＬＧ］から、円相当径Ｒ_ｄｒｏｐまでの長さ１００％とし、無機粒子の位置を％表記とするため、Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）を定義する。
無機粒子の面積領域Ｓ（Ａｒｅａ）［μｍ^２］の総和を１００％とし、Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）の値が小さいものから順に足していき、累積が９０％となる粒子に該当するＲ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）の値を評価した。

―ヒストグラムの算出―
５×ｒ≦Ｒ_Ｇ＜５×（ｒ＋１）における各領域面積［μｍ^２］を規格化するため、各無機粒子の面積領域Ｓ（Ａｒｅａ）［μｍ^２］を、該当する領域面積Ｓ（ｒ＋１）－Ｓ（ｒ）で割って得られた値をＳ’（Ａｒｅａ）とする。
ここで、液滴重心［Ｘ_ＬＧ、Ｙ_ＬＧ］から、円相当径Ｒ_ｄｒｏｐまでの長さ１００％とし、無機粒子の位置を％表記とするため、Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）を定義する。
Ｓ’（Ａｒｅａ）を新たに定義した領域：５×ｎ≦Ｒ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）＜５×（ｎ＋１）（ｎ＝０，１，２，３・・・）において総和を取り、ヒストグラムに表すと、図１３Ｂ～図１５Ｂのヒストグラムが得られる。

したがって、光渦レーザーを用いたＬＩＦＴ（ＯＶ－ＬＩＦＴ）法では転写対象材料の複素粘度を制御することにより、転写対象材料の液滴における無機粒子の空間分布を制御することが可能であることがわかる。

次に、図１７は、図１３Ｂに示した累積（転写対象材料の液滴中の無機粒子の面積割合）が９０％となるＲ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）と、転写対象材料の複素粘度（ｍＰａ・ｓ）との関係を示すグラフである。
図１７の結果から、複素粘度が８８ｍＰａ・ｓ（グリセロール濃度８７質量％）の条件において、転写対象材料の液滴中の無機粒子の分布はＲ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００＝７０％の範囲に９割の無機粒子が存在していることとなる。
図１７の結果から、転写対象材料の複素粘度が８８ｍＰａ・ｓ以上の領域に比べて、転写対象材料の複素粘度が８８ｍＰａ・ｓ未満の領域における複素粘度（ｍＰａ・ｓ）の変化に対する無機粒子の空間分布の変化が顕著であることがわかる。このことから、転写対象材料の液滴中の無機粒子を液滴の中心部に集束させるには、複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満である転写対象材料を用いることが必要であることがわかった。

図１８Ａ及び図１８Ｂは、Ｎｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％、複素粘度６ｍＰａ・ｓ）を付与物（松浪硝子工業株式会社製のＳ１２１４、水縁磨、ｔ１．３）に転写した後、３００℃で加熱処理を行い転写対象材料中の分散媒を除去した状態を示す。除去したあとの状態には２パターンがみられており、図１８Ａはドーム型形状をしているもの、図１８Ｂは中心部への収束が顕著であり、凸型形状の転写物である。
図１８Ａ及び図１８Ｂの結果から、無機粒子が密に集束しドットを形成していることがわかる。更に一部のドットでは、中心付近に集められた無機粒子が盛り上がり、山なりの形状を形成していることが確認できた。
また、上記実験に用いた転写対象材料の分散媒は強熱残分が０．１％以下又は蒸発残分が１.０％以下である分散媒を選択しており、不純物を含まないので、非常に高純度での転写対象材料の転写が可能となる。

図１９Ａ、図１９Ｂ、及び図１９Ｃは、Ｎｏ．１の転写対象材料（グリセロール濃度４４質量％、複素粘度６ｍＰａ・ｓ）を付与物（松浪硝子工業株式会社製のＳ１２１４、水縁磨、ｔ１．３）に転写した後、３００℃で加熱処理を行い、転写対象材料中の分散媒を除去した、中心部への収束が顕著である凸型形状の転写物の内部構造を示す。
図１９Ｂの結果から、中心付近に集められた無機粒子の境界が無くなっており、材料の合成が促進されていることが確認できた。
また、図１９Ｃの結果は透過型電子顕微鏡(ＴＥＭ)の電子線後方散乱回折法（ＥＢＳＤ）により得られた像を示しており、得られた構造物が結晶性を持つことが確認できた。

図２０Ａ、図２０Ｂ、及び図２０Ｃは、Ｎｏ．４の転写対象材料（純水１００質量％、複素粘度１ｍＰａ・ｓ）を付与物（松浪硝子工業株式会社製のＳ１２１４、水縁磨、ｔ１．３）に転写した後、３００℃で加熱処理を行い、転写対象材料中の分散媒を除去した、中心部への収束が顕著である凸型形状の転写物の内部構造を示す。
図２０Ｂの結果から、中心付近に集められた無機粒子の境界が無くなっており、材料の合成が促進されていることが確認できた。
また、図２０Ｃの結果は透過型電子顕微鏡(ＴＥＭ)の電子線後方散乱回折法（ＥＢＳＤ）により得られた像を示しており、得られた構造物が結晶性を持つことが確認できた。

＜無機粒子の空間分布の評価＞
顕微鏡を用い被付与物上の液滴を観察し、上記に示す累積が９０％となる無機粒子に該当するＲ_Ｇ／Ｒ_ｄｒｏｐ＊１００（％）の値を算出し、以下の基準で評価した。結果を表２に示した。
［評価基準］
◎：２０％以下
〇：２０％超７０％以下
△：７０％超８０％以下
×：８０％超

以上の結果から、光渦レーザービームを用いた飛翔体転写方法において所定の波長の光渦レーザービームを吸収する光吸収材を一点に集束させることができる。このため、前記光吸収材をより高精細に転写することができると共に、転写対象材料の高さ方向に厚みが増し、三次元形状での転写が可能である。また、転写対象材料中における光吸収材の濃度が低い場合であっても、光吸収材を一点に収束することにより高密度なドットを形成することができる。更に、強熱残分が０．１％以下又は蒸発残分が１.０％以下である分散媒を用いることによって、高純度な光吸収材の転写が可能となる。

本発明の態様としては、例えば、以下のとおりである。
＜１＞ 基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、
飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、
２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする飛翔体転写方法である。
＜２＞ ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下である、前記＜１＞に記載の飛翔体転写方法である。
＜３＞ 前記光吸収材が無機材料である、前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法である。
＜４＞ 前記無機材料のメディアン径（Ｄ_５０）が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、前記＜３＞に記載の飛翔体転写方法である。
＜５＞ 前記分散媒における強熱残分が０．１％以下又は蒸発残分が１.０％以下である、前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法である。
＜６＞ 前記分散媒がグリセロール水溶液である、前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法である。
＜７＞ 基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔手段と、
飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与手段と、を有し、
２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする飛翔体転写装置である。
＜８＞ ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下である、前記＜７＞に記載の飛翔体転写装置である。
＜９＞ 前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする画像形成方法である。
＜１０＞ 前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする立体造形物の製造方法である。
＜１１＞ 前記＜２＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする結晶作製方法である。

前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の飛翔体転写方法、前記＜７＞から＜８＞のいずれかに記載の飛翔体転写装置、前記＜９＞に記載の画像形成方法、前記＜１０＞に記載の立体造形物の製造方法、及び前記＜１１＞に記載の結晶作製方法によると、従来における諸問題を解決し、本発明の目的を達成することができる。

１ 飛翔手段
１１ レーザービーム
１２ 光渦レーザービーム
２０ 転写対象材料（転写対象層）
３０ 被付与物
３１ 記録媒体
３２ 基板
４０ ドナー基板
３００、３０１、３０１ａ 飛翔体転写装置
３０２～３０７ 画像形成装置
４００、４０１ 画像形成装置
５００ 立体造形物の製造装置

特許第６４５５５８８号公報

Claims (11)

1. 基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔工程と、
   飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与工程と、を含み、
   ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする飛翔体転写方法。
2. ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１に記載の飛翔体転写方法。
3. 前記光吸収材が無機材料である、請求項１から２のいずれかに記載の飛翔体転写方法。
4. 前記無機材料のメディアン径（Ｄ_５０）が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である、請求項３に記載の飛翔体転写方法。
5. 前記分散媒における強熱残分が０．１％以下又は蒸発残分が１.０％以下である、請求項１から２のいずれかに記載の飛翔体転写方法。
6. 前記分散媒がグリセロール水溶液である、請求項１から２のいずれかに記載の飛翔体転写方法。
7. 基板と、前記基板上に光吸収材及び分散媒を含む転写対象材料を配したドナー基板に対して、前記ドナー基板の前記基板側から前記転写対象材料に光渦レーザービームを照射して前記転写対象材料を飛翔させる飛翔手段と、
   飛翔させた前記転写対象材料を被付与物に付与させる付与手段と、を有し、
   ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上８８ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする飛翔体転写装置。
8. ２５℃で剪断応力が２００Ｐａにおける前記転写対象材料の複素粘度が１ｍＰａ・ｓ以上６ｍＰａ・ｓ以下である、請求項７に記載の飛翔体転写装置。
9. 請求項１から２のいずれかに記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする画像形成方法。
10. 請求項１から２のいずれかに記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする立体造形物の製造方法。
11. 請求項２に記載の飛翔体転写方法からなる工程を含むことを特徴とする結晶作製方法。
    
    

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