JP2022552599A - プロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置 - Google Patents
プロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
本発明に係るプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置は、吸気フランジに密接された吸気ノズルを含み、前記吸気ノズルの内部チャンバーには、吸気ガイド本体が設けられ、
前記吸気ガイド本体は、上部構造、中部構造および下部構造を有し、前記上部構造、中部構造および下部構造は一体型の構造であって、いずれも円柱状の形状を呈し、前記上部構造の横断面の直径は、前記中部構造の横断面の直径より小さく、
前記中部構造と前記下部構造との間には、ガス収集エリアが設けられ、前記中部構造と前記下部構造とは、前記ガス収集エリアによって接続されている。
本発明では、電子エネルギーをなくし、すなわち、高周波電力を備える吸気フランジに最も近いエリアは、絶縁されて、電気が流れず、高出力部品と連通するパスを形成できない。プラズマが吸気孔を通って吸気通路内に逆流し、吸気通路が高周波電力ポイントに近すぎるため、吸気通路内において発火によって引き起こされる吸気ガイド本体への損傷を回避できる。
図3および4に示されるように、実施形態1に係るプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置は、金属製の吸気フランジ10に密接された吸気ノズル20を含み、吸気ノズル20の内部チャンバーには、吸気ガイド本体30が設けられている。
図5に示されるように、実施形態2に係るプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置は、金属製の吸気フランジ10に密接された吸気ノズル20を含み、吸気ノズル20の内部チャンバーには、吸気ガイド本体30が設けられている。
図6に示されるように、実施形態3に係るプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置は、金属製の吸気フランジ10に密接された吸気ノズル20を含み、吸気ノズル20の内部チャンバーには、吸気ガイド本体30が設けられている。
図7に示されるように、実施形態4に係るプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置は、金属製の吸気フランジ10に密接された吸気ノズル20を含み、吸気ノズル20の内部チャンバーには、吸気ガイド本体30が設けられている。
8 高周波マッチングデバイス、
10 吸気フランジ、
20 吸気ノズル、
30 吸気ガイド本体、
301 止まり穴、
302 径方向孔、
303 エッジ溝、
311 上部ガス溝、
312 径方向溝、
313 ねじれ溝、
321 左下方向に傾斜したガス溝、
322 右下方向に傾斜したガス溝、
331 軸方向に真っ直ぐなガス溝、
343 ガス通路、
40 ガス収集エリア、
50 絶縁保護層、
710 断面。
Claims (10)
- 吸気フランジ(10)に密接された吸気ノズル(20)を含み、前記吸気ノズル(20)の内部チャンバーには、吸気ガイド本体(30)が設けられ、
前記吸気ガイド本体(30)は、上部構造、中部構造および下部構造を有し、前記上部構造、中部構造および下部構造は一体型の構造であって、いずれも円柱状の形状を呈し、前記上部構造の横断面の直径は、前記中部構造の横断面の直径より小さく、
前記中部構造と前記下部構造との間には、ガス収集エリア(40)が設けられ、前記中部構造と前記下部構造とは、前記ガス収集エリア(40)によって接続されている、プロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。 - 前記吸気ガイド本体(30)の上表面には、少なくとも1つの止まり穴(301)が設けられ、前記止まり穴(301)は前記上部構造の上表面から前記中部構造の内部まで通っており、前記止まり穴(301)の下端は径方向孔(302)の一端と連通しており、前記径方向孔(302)は前記中部構造の上部の外表面に設けられ、前記径方向孔(302)の他端はエッジ溝(303)と連通しており、前記エッジ溝(303)は前記中部構造および前記下部構造の外側面に設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記上部構造の外側面には、少なくとも1つの上部ガス溝(311)が設けられ、前記上部ガス溝(311)は前記上部構造の外側面において軸方向に設けられ、前記上部ガス溝(311)の底部は、径方向溝(312)の一端に接続されている、ことを特徴とする請求項2に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記径方向溝(312)の他端はねじれ溝(313)に接続され、前記ねじれ溝(313)は前記中部構造の外側面において螺旋状に設けられている、ことを特徴とする請求項3に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記ねじれた溝(313)における螺旋状の巻き数は少なくとも0.5巻きである、ことを特徴とする請求項4に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記径方向溝(312)の他端は側壁ガスガイド溝に接続され、前記側壁ガスガイド溝は、複数のガス溝を有する、ことを特徴とする請求項3に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記側壁ガスガイド溝は、少なくとも1つの右下方向に傾斜したガス溝(322)および少なくとも1つの左下方向に傾斜したガス溝(321)を有し、前記右下方向に傾斜したガス溝(322)と前記左下方向に傾斜したガス溝(321)とは、ガス流の方向にしたがって順番に接続されている、ことを特徴とする請求項6に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記側壁ガスガイド溝は、軸方向に真っ直ぐなガス溝(331)、少なくとも1つの右下方向に傾斜したガス溝(322)および少なくとも1つの左下方向に傾斜したガス溝(321)を有する、ことを特徴とする請求項6に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記軸方向に真っ直ぐなガス溝(331)は、前記径方向溝(312)の他端に接続され、前記左下方向に傾斜したガス溝(321)と前記右下方向に傾斜したガス溝(322)とは、ガス流の方向にしたがって順番に接続されている、ことを特徴とする請求項8に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
- 前記吸気フランジ(10)と前記吸気ガイド本体(30)との間には絶縁保護層(50)が設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載のプロセスチャンバー内のプラズマ逆流を遮断することにより吸気構造を保護する装置。
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