JP2022546715A - 可撓性基材の周期性パターンを検査することによるデジタル印刷システムの制御および監視 - Google Patents

Abstract

デジタル印刷システム（１０）は可撓性基材（４４）、光学組立体（２００、３０１）およびプロセッサ（２０）を含む。可撓性基材（４４）は周期性パターンを有しており、移動されて、画像をその上に形成する印刷プロセスにおいて、インク液滴を受け取るように構成される。光学組立体（２００、３０１）は可撓性基材（４４）を光（２１５、３１５）で照射して、可撓性基材（４４）から光（２１５、３１５）を検出し、検出された光（２１５、３１５）から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。プロセッサ（２０）はその信号を受信し、信号によって示される周期性パターンに基づきデジタル印刷システム（１０）を監視または制御するように構成される。【選択図】図１

Description

本発明は一般にデジタル印刷に関し、詳細にはデジタル印刷システムの動作および較正を制御および監視するための方法およびシステムに関する。

デジタル印刷におけるプロセスを制御するための様々な方法および装置が当技術分野で知られている。

例えば、ＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０１３／０５１７２７号は、例えば、中間転写部材（ＩＴＭ）を含む、印刷システムのための制御装置および方法を記述する。いくつかの実施形態は、ＩＴＭの速度および／または張力および／または長さの調整に関する。いくつかの実施形態は、移動しているＩＴＭ上へのインクの付着の調整に関する。いくつかの実施形態は、ＩＴＭの動作に関連した１つ以上の事象をユーザーに警告するように構成された装置を制御する。

ＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０１９／０５５２８８号は、インク液滴を受け取ってインク画像をその上に形成し、そのインク画像を標的基材に転写するように構成された中間転写部材（ＩＴＭ）を記述しており、ＩＴＭは１つ以上の層および、ＩＴＭに沿った１つ以上のそれぞれのマーキング位置で１つ以上の層の少なくとも１つと統合された１つ以上のマーカーを含む。

本明細書で説明される本発明の一実施形態は、可撓性基材、光学組立体およびプロセッサを含むデジタル印刷システムを提供する。可撓性基材は周期性パターンを有しており、移動されて、画像をその上に形成する印刷プロセスにおいて、インク液滴を受け取るように構成される。光学組立体は可撓性基材を光で照射して、可撓性基材から光を検出し、検出された光から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。プロセッサはその信号を受信し、信号によって示される周期性パターンに基づきデジタル印刷システムを監視または制御するように構成される。

いくつかの実施形態では、可撓性基材は可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含み、それはインク液滴を受け取り、画像を標的基材に転写するように構成される。他の実施形態では、可撓性基材は織物を含む。さらに他の実施形態では、織物は、周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維を含み、光学組立体は交互配置された第１および第２のセットの織物から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。

一実施形態では、第１および第２のセットの繊維が周期性パターンに従って相互に直交して配列され、光学組立体は第１および第２のセットの繊維の直交配列から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。別の実施形態では、第１のセットの繊維は、周期性パターンに従って可撓性基材の移動軸に直交して配列され、光学組立体は第１のセットの繊維から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。さらに別の実施形態では、織物は周期性パターンを含み、光学組立体は織物の周期性パターン内で複数の位置基準点を検出するように構成され、プロセッサは位置基準点の少なくとも１つに基づいて可撓性基材の位置を計算するように構成される。

いくつかの実施形態では、信号は位置基準点の少なくとも１つの位置を示しており、プロセッサは位置基準点の１つ以上に基づいてデジタル印刷システムを制御するように構成される。他の実施形態では、本システムは、第１のインク液滴を可撓性基材上の第１のインク位置に方向付け、第２のインク液滴を可撓性基材上の第２のインク位置に方向付けるように構成される、画像形成ステーションを含み、信号は第１のインク位置を示す第１の信号および第２のインク位置を示す第２の信号を含み、プロセッサは第１および第２の信号に基づいて第１と第２のインク位置の間の位置決めを制御するように構成される。さらに他の実施形態では、第１のインク液滴は第１の色を含み、第２のインク液滴は、第１の色とは異なる、第２の色を含み、プロセッサは第１および第２の信号に基づいて色と色の間の位置決めを制御するように構成される。

一実施形態では、信号は第１の時間に導出された第１の信号および、第１の時間とは異なる、第２の時間に導出された第２の信号を含み、プロセッサは第１および第２の信号に基づいて可撓性基材の１つ以上のパラメータを監視するように構成される。別の実施形態では、プロセッサは第１および第２の信号に基づいて可撓性基材の交換をスケジューリングするように構成される。さらに別の実施形態では、プロセッサは第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて可撓性基材の伸び（ｓｔｒｅｔｃｈｉｎｇ）を監視するように構成される。

いくつかの実施形態では、プロセッサは、第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて可撓性基材の移動速度を調整するように構成される。他の実施形態では、プロセッサは第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて可撓性基材に印加される張力を調整するように構成される。さらに他の実施形態では、可撓性基材は周期性パターンに従って変わる不透明度（ｏｐａｃｉｔｙ）を有する。

一実施形態では、プロセッサは、信号によって示される周期性パターンに基づいて印刷プロセスを制御するように構成される。別の実施形態では、可撓性基材は可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含み、それは、画像を受け取った後、その画像を標的基材に転写するように構成され、プロセッサは、信号に基づき、画像の転写を調整または中断するように構成される。さらに別の実施形態では、プロセッサは、信号に基づいてデジタル印刷システムの少なくとも１つの組立体を較正するように構成される。

いくつかの実施形態では、可撓性基材は（ｉ）周期性パターンおよび移動している可撓性基材への所与の張力の印加時に取得される第１の伸び（ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）を有する織物、ならびに（ｉｉ）織物の縁の間を連結するための継ぎ目を含み、継ぎ目は周期性パターン以外の構造を有しており、そのため、所与の張力を移動している可撓性基材に印加すると、継ぎ目は第１の伸びとは異なる、第２の伸びを有するようになり、プロセッサは、信号に基づき、第１と第２の伸びの間の比率を計算するように構成される。他の実施形態では、プロセッサは、第１と第２の伸びの間の計算された比率に基づいてデジタル印刷システムを制御するように構成される。さらに他の実施形態では、可撓性基材は、少なくとも第１および第２の回転において、デジタル印刷システム内で、動かされるように構成された連続ループを含み、プロセッサは、少なくとも（ｉ）第１の回転あたりの、第１と第２の伸びの間の、第１の比率、および（ｉｉ）第２の回転あたりの、第１と第２の伸びの間の、第２の比率、を計算するように構成され、プロセッサは、少なくとも第１の比率および第２の比率に基づいてデジタル印刷システムを監視または制御するように構成される。

一実施形態では、光学組立体は、第１の周期信号を導出するように構成された少なくとも第１の検知組立体、および第２の周期信号を導出するように構成された第２の位置検知組立体を含み、第１および第２の位置組立体は可撓性基材にわたる第１および第２のそれぞれの位置に配置され、プロセッサは、第１および第２の周期信号に基づいて、可撓性基材において生じた歪みを検出するように構成される。別の実施形態では、第１および第２の位置組立体は、可撓性基材の移動方向に直交する軸に沿って配置される。さらに別の実施形態では、第１および第２の位置組立体の少なくとも１つは、可撓性基材の縁に隣接して配置される。

いくつかの実施形態では、可撓性基材の周期性パターンは、モーションエンコーダのエンコーダスケールとして機能する。他の実施形態では、可撓性基材および光学組立体は一緒に、モーションエンコーダとして機能する。

本発明の一実施形態によれば、デジタル印刷システムを制御するための方法が追加として提供され、本方法は、周期性パターンを有する移動可能な可撓性基材を光で照射することを含み、可撓性基材は、画像をその上に形成する印刷プロセスにおいてインク液滴を受け取る。可撓性基材からの光が検出されて、周期性パターンを示す信号が検出された光から導出される。デジタル印刷システムは、信号によって示される周期性パターンに基づいて監視または制御される。

本発明の一実施形態によれば、周期性パターンを有する可撓性基材を製造するためのシステムがさらに提供され、本システムは、動き組立体、光学組立体、切断サブシステム、およびプロセッサを含む。動き組立体は、可撓性基材を移動方向に沿って移動させるように構成される。光学組立体は、可撓性基材を光で照射して、可撓性基材からの光を検出し、検出された光から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。切断サブシステムは、可撓性基材を切断するように構成される。プロセッサは、光学組立体から信号を受信し、信号に基づいて、可撓性基材を切断すべき切断位置を決定して、その位置で可撓性基材を切断するために切断サブシステムを制御するように構成される。

いくつかの実施形態では、周期性パターンは複数の繰り返しパターン単位を含み、信号は、光学組立体によって検出されたそれぞれのパターン単位を示す複数のパルスを含み、プロセッサは、信号内のパルス数をカウントし、パルス数が事前に割り当てられた値を超えたことの検出に応答して切断位置を決定するように構成される。他の実施形態では、プロセッサは、動き組立体を制御して、可撓性基材を、プロセッサがパルスをカウントしている第１の時間間隔中に第１の速度で、およびプロセッサが切断サブシステムを制御して可撓性基材を切断する第２の時間間隔中に第２の速度で、移動させるように構成される。さらに他の実施形態では、可撓性基材は、周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維をもつ織物を含み、光学組立体は、交互配置された第１および第２のセットの繊維から検出された光から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。

一実施形態では、第１および第２のセットの繊維は周期性パターンに従って相互に直交して配列され、光学組立体は第１および第２のセットの繊維の直交配列から検出された光から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。別の実施形態では、第１のセットの繊維は、周期性パターンに従って可撓性基材の移動方向に直交して配列され、光学組立体は第１のセットの繊維から検出された光から周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。

本発明の一実施形態によれば、周期性パターンを有する可撓性基材を製造するための方法がさらに提供され、本方法は、可撓性基材を、移動方向に沿って生産表面（ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｓｕｒｆａｃｅ）の上を移動させることを含む。可撓性基材は、光で照射され、光は可撓性基材から検出されて、周期性パターンを示す信号が検出された光から導出される。信号に基づき、可撓性基材を切断すべき切断位置が決定され、可撓性基材は切断位置で切断される。

本発明は、図面と一緒に解釈すると、その実施形態の以下の詳細な説明からより完全に理解される：

本発明の一実施形態に従った、デジタル印刷システムの概略側面図である。 本発明の一実施形態に従った、デジタル印刷システムのブランケット織物の概略絵図である。 本発明の一実施形態に従った、デジタル印刷システムのブランケット織物の概略断面図である。 本発明の一実施形態に従った、位置検知組立体の概略断面図である。 本発明の一実施形態に従った、プロセス制御組立体の概略断面図である。 本発明の一実施形態に従い、ブランケット上で測定された距離を異なる印刷ヘッドの２つのノズル間のピッチサイズと合わせるための方法を概略的に例示するブロック図である。 本発明の一実施形態に従い、位置検知組立体から受信した繊維事象を使用して、ブランケットの継ぎ目と織物区分との間の相対的な伸びを推定するための方法を概略的に例示するブロック図である。 本発明の一実施形態に従い、ブランケットの製造中にブランケット織物を切断するためのシステムの概略絵図である。 本発明の一実施形態に従い、移動しているブランケットの位置および位置合わせを監視するためのサブシステムの概略絵図である。

概要
以下で説明される本発明の実施形態は、デジタル印刷システムにおいて実行される印刷プロセスを制御するための方法およびシステムを提供する。いくつかの実施形態では、印刷プロセスは、本明細書ではブランケットとも呼ばれる、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を移動させることを含み、ＩＴＭは画像をその上に形成するインク液滴を受け取るように構成される。その後に、画像がブランケットから、シートまたは連続ウェブなどの、標的基材に転写される。

印刷プロセスを制御するために、本明細書では印刷コントローラとも呼ばれる、システムのプロセッサは、基準点に対するブランケットの位置などの、制御データを受信する。原理上は、ブランケット上にマーカーを配置して、印刷システム上に信号取得装置を取り付けることが可能であり、それは、信号取得装置をトラバースするマーカーの１つの位置を示す信号を提供するように構成される。しかし、マーカーの少なくとも一部は、（ａ）例えば、マーカー形成プロセスにおける変動に起因して、相互に異なり得、かつ／または（ｂ）ブランケット内に形成された欠陥によって不明瞭であり得る。その上、ブランケット上に配置されたマーカーの数は、マーカーサイズおよび隣接したマーカー間の距離などの、様々なパラメータによって制限され、それは、マーカー測定の頻度および／または品質に影響を及ぼす。

いくつかの実施形態では、ブランケットは相互に交互配置された繊維の２つ以上のセットから作られた織物を含む。織物は、交互配置された繊維の周期性パターンに従って変わる不透明度を有する。

いくつかの実施形態では、デジタル印刷システムは、ブランケットの一方の側に光源を、ブランケットの他方の側に光検出器を有する光学組立体を含む。光学組立体は、ブランケットを光で照射して、織物を通過する光を検出し、検出された光から、織物の周期性パターン内の１つ以上のそれぞれの位置基準点（例えば、繊維）を示す１つ以上の位置信号を導出するように構成される。

いくつかの実施形態では、信号に基づいて、デジタル印刷システムのプロセッサは、印刷プロセスを制御して、交換可能な、ブランケットなどの、システムの様々な要素の状態を監視するように構成される。例えば、信号に基づいて、プロセッサは、例えば、異なる色のインクから作られる異なるインク画像間の位置決めを改善するために、印刷プロセス中にブランケットの歪みを補正するためにブランケットの移動速度および／またはインク液滴の噴射時間／順序を調整し得る。その上、信号に基づいて、プロセッサはブランケットの伸び過ぎまたは伸び不足を検出し得、それに応じて、印刷システムによってブランケットに印加される張力を調整し得る。いくつかの実施形態では、プロセッサは閾値を保持し得、伸び過ぎがその閾値を超えた場合にブランケット交換をスケジューリングし得る。

開示される技術は、例えば、位置決め誤差によって、印刷プロセス中に生じた画像歪みを低減させることによりデジタル的に印刷された画像の品質を改善する。その上、開示される技術は、画像をその上に形成するインク液滴を受け取るように構成されたＩＴＭもしくは任意の可撓性連続基材上に位置マーカーを生成する必要性を除外することにより、ならびに／またはブランケット移動および状態を緊密に把握する能力によってシステムの信頼性を改善することにより、製造コストを削減する。

システム説明
図１は、本発明の一実施形態に従った、デジタル印刷システム１０の概略側面図である。いくつかの実施形態では、システム１０は、画像形成ステーション６０、乾燥ステーション６４、刷ステーション８４およびブランケット処理ステーション５２を循環する回転可撓性ブランケット４４を含む。本発明の文脈およびクレームでは、「ブランケット」および「中間転写部材（ＩＴＭ）」という用語は区別しないで使用されて、以下で詳細に説明されるように、インク画像を受け取って、そのインク画像を標的基材に転写するように構成された中間部材として使用される１つ以上の層を含む可撓性部材を指す。

操作モードでは、画像形成ステーション６０は、ブランケット４４の表面の上部ラン上のデジタル画像４２の、本明細書では「インク画像」（図示せず）または簡略して「画像」とも呼ばれる、ミラーインク画像を形成するように構成される。その後、インク画像は、ブランケット４４の下部ランの下に配置される、標的基材（例えば、紙、折畳み箱、多層ポリマー、またはシートもしくは連続ウェブの形の任意の適切な可撓性パッケージ）に転写される。

本発明の文脈において、「ラン（ｒｕｎ）」という用語は、ブランケット４４がその上を誘導される任意の２つの所与のローラー間のブランケット４４の長さまたはセグメントを指す。

いくつかの実施形態では、設置中、ブランケット４４は、連続するブランケットループ（図示せず）を形成するために、本明細書で継ぎ目５９と呼ばれる領域内で縁と縁が付着され得る。いくつかの実施形態では、継ぎ目５９は、ブランケット４４の織物のそれとは異なる構造、およびそれ故、異なる機械的特性を有し得る。構造差は以下の図２Ａおよび図２Ｂで説明され、機械的特性の差に関連した実施形態が以下の図６で詳細に説明される。継ぎ目の設置のための方法およびシステムの一例が、ＰＣＴ国際特許公開第ＷＯ２０１９／０１２４５６号に詳細に記述されており、その開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、画像形成ステーション６０は典型的には、複数の印刷バー６２を含み、各々は、ブランケット４４の上部ランの表面の上に固定の高さで位置付けられたフレーム（図示せず）上に（例えば、スライダを使用して）取り付けられている。いくつかの実施形態では、各印刷バー６２は、ブランケット４４上の印刷領域と同じ幅の印刷ヘッドの細長片を含み、個々に制御可能な印刷ノズルを含む。

いくつかの実施形態では、画像形成ステーション６０は、任意の適切な数のバー６２を含み得、各バー６２は、異なる色の水性インクなどの、印刷流体を含み得る。インクは典型的には、シアン、マゼンタ、赤、緑、青、黄、黒および白などであるがそれらに制限されない、可視色を有する。図１の例では、画像形成ステーション６０は、７つの印刷バー６２を含むが、例えば、シアン、マゼンタ、黄および黒などの任意の選択された色を有する４つの印刷バー６２を含み得る。

いくつかの実施形態では、印刷ヘッドは、インク画像（図示せず）をブランケット４４の表面上に形成するために、異なる色のインク液滴をブランケット４４の表面上に噴射するように構成される。

いくつかの実施形態では、異なる印刷バー６２は、矢印９４によって表される、本明細書ではブランケット４４の移動方向とも呼ばれる、移動軸に沿って相互に間隔が空けられている。この構成では、バー６２間の正確な間隔、および各バー６２のインクの液滴の方向付けと移動しているブランケット４４との間の同期化は、画像パターンの正確な配置を可能にするために不可欠である

いくつかの実施形態では、システム１０は、高温ガスもしくは送風機６６ならびに／または赤外線（ＩＲ）ヒーターもしくはおよび印刷用途に対して適合された他の適切なタイプのヒーターを含む。図１の例では、送風機６６は印刷バー６２の間に位置付けられて、ブランケット４４の表面上に付着されたインク液滴を一部乾燥させるように構成される。印刷バー間のこの温風の流れは、例えば、印刷ヘッドの表面での凝結を減らす、および／またはサテライト（例えば、主インク液滴の周囲に分散された残留物または小さい液滴）を処理する、および／または印刷ヘッドのインクジェットノズルの詰まりを防ぐ、および／またはブランケット４４上の異なるカラーインクの液滴が不必要に相互に混ざるのを防ぐ、のに役立ち得る。いくつかの実施形態では、システム１０は、温風（または別のガス）をブランケット４４の表面上へ吹き付けるように構成された、乾燥ステーション６４を含む。いくつかの実施形態では、乾燥ステーションは、送風機６８または任意の他の適切な乾燥装置を含む。

乾燥ステーション６４では、ブランケット４４上に形成されたインク画像は、インクをもっと完全に乾かすために放射および／または温風にさらされて、液体キャリアのほとんど、または全部を蒸発させて、粘着性のあるインクフィルムになるポイントまで加熱される樹脂および着色剤の層だけが残る。

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４などの、回転ＩＴＭを含むブランケットモジュール７０を含む。いくつかの実施形態では、ブランケットモジュール７０は１つ以上のローラー７８を含み、ローラー７８の少なくとも１つは、エンコーダ（図示せず）を含み、エンコーダは、ブランケット４４のセクションの位置をそれぞれの印刷バー６２に対して制御するために、ブランケット４４の位置を記録するように構成される。いくつかの実施形態では、ローラー７８のエンコーダは典型的には、それぞれのローラーの角変位を示すロータリーベースの位置信号を生成するように構成されたロータリーエンコーダを含む。本発明の文脈およびクレームでは、「を示す（ｉｎｄｉｃａｔｉｖｅ ｏｆ）」および「指示（ｉｎｄｉｃａｔｉｏｎ）」という用語は区別しないで使用されることに留意されたい。

追加または代替として、ブランケット４４は、システム１０の様々なモジュールの動作を制御するための組込みエンコーダ（図示せず）を含み得る。組込みエンコーダの１つの実施態様は、例えば、米国仮出願第６２／６８９，８５２号に詳細に記述されており、その開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４はローラー７６および７８ならびに、本明細書でダンサー組立体７４とも呼ばれる、動力引張りローラーの上を誘導される。ダンサー組立体７４は、ブランケット４４における弛みの長さを制御するように構成され、その動きは両方向矢印によって図式的に表されている。さらに、経年劣化に伴うブランケット４４の任意の伸びは、システム１０のインク画像配置性能に影響を及ぼさず、引張りダンサー組立体７４によってさらに弛みを取ることを必要とするだけであろう。

いくつかの実施形態では、ダンサー組立体７４は動力化され得る。ローラー７６および７８の構成および動作は、例えば、米国特許出願公開第２０１７／０００８２７２号および前述のＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号にさらに詳細に記述されており、その開示は全て、参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４に沿って１つ以上の位置に配置された１つ以上の張力センサー（図示せず）を含み得る。張力センサーは、ブランケット４４内に統合され得るか、またはブランケット４４に印加された機械的張力を示す信号を取得するための任意の他の適切な技術を使用してセンサーをブランケット４４の外部に含み得る。いくつかの実施形態では、システム１０のプロセッサ２０および追加のコントローラ（例えば、以下の図２および図３に示す）は、ブランケット４４に印加された張力を監視するため、およびダンサー組立体７４の動作を制御するために、張力センサーによって生成された信号を受信するように構成される。

刷ステーション８４で、ブランケット４４は、圧胴シリンダ８２と圧力シリンダ９０との間を通り、それは、圧縮可能なブランケットを搬送するように構成される。

いくつかの実施形態では、システム１０は制御コンソール１２を含み、制御コンソール１２は、ブランケットモジュール７０、ブランケットモジュール７０の上に配置された画像形成ステーション６０、およびブランケットモジュール７０の下に配置された基材搬送モジュール８０などの、システム１０の複数のモジュールを制御するように構成されて、以下で説明される１つ以上の刷ステーションを含む。

いくつかの実施形態では、コンソール１２は、ケーブル５７を介して、ダンサー組立体７４のコントローラおよびコントローラ５４とインタフェースを取るため、ならびに信号をそれらから受信するための、適切なフロントエンドおよびインタフェース回路を備えた、プロセッサ２０、典型的には汎用コンピュータを含む。いくつかの実施形態では、単一装置として図式的に示されている、コントローラ５４は、システム１０上の所定の位置に取り付けられた１つ以上の電子モジュールを含み得る。コントローラ５４の電子モジュールの少なくとも１つは、制御回路またはプロセッサ（図示せず）などの、電子装置を含み得、それは、システム１０の様々なモジュールおよびステーションを制御するように構成される。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０および制御回路は、印刷システムによって使用される機能を実行するためにソフトウェアでプログラムされ得、ソフトウェアのためのデータをメモリ２２内に格納し得る。ソフトウェアは、例えば、ネットワークを経由して、プロセッサ２０および制御回路に電子的形態でダウンロードされ得るか、または光学、磁気もしくは電子メモリ媒体などの、持続性有形的媒体上で提供され得る。

いくつかの実施形態では、コンソール１２はディスプレイ３４を含み、ディスプレイ３４は、プロセッサ２０から受信したデータおよび画像、または入力装置４０を使用してユーザー（図示せず）によって挿入された入力を表示するように構成される。いくつかの実施形態では、コンソール１２は、任意の他の適切な構成を有し得、例えば、コンソール１２およびディスプレイ３４の代替構成が、米国特許第９，２２９，６６４号に詳細に記述されており、その開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、画像４２の１つ以上のセグメント（図示せず）を含むデジタル画像４２および／またはメモリ２２内に格納され得る様々なタイプのテストパターンを、ディスプレイ３４上に表示するように構成される。

いくつかの実施形態では、本明細書で冷却ステーションとも呼ばれる、ブランケット処理ステーション５２は、ブランケットを、例えば、それを冷却し、かつ／または処理流体をブランケット４４の外表面に塗布し、かつ／またはブランケット４４の外表面を洗浄することによって、処理するように構成される。ブランケット処理ステーション５２において、ブランケット４４が画像形成ステーション６０に入る前に、ブランケット４４の温度を所望の値まで下げることができる。処理は、冷却および／または洗浄および／または処理流体をブランケットの外表面上に塗布するために構成された１つ以上のローラーもしくはブレードの上をブランケット４４を通過させることによって実行され得る。

いくつかの実施形態では、ブランケット処理ステーション５２は、図１に示されるブランケット処理ステーション５２の位置に追加して、またはその代わりに、画像形成ステーション６０に隣接して配置され得る。かかる実施形態では、ブランケット処理ステーションは、印刷バー６２に隣接して、１つ以上のバーを含み得、処理流体が噴射によってブランケット４４に塗布される。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の温度を監視して、ブランケット処理ステーション５２の動作を制御するために、例えば、温度センサー（図示せず）から、ブランケット４４の表面温度を示す信号を受信するように構成される。かかる処理ステーションの例は、例えば、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号および第ＷＯ２０１７／２０８１５２号に記述されており、それらの開示は全て、参照により本明細書に組み込まれる。

追加または代替として、画像形成ステーションでのインク噴射の前に、処理流体が噴射によってブランケット４４に塗布され得る。

図１の例では、ステーション５２は刷ステーション８４と画像形成ステーション６０との間に取り付けられているが、ステーション５２は、刷ステーション８４と画像形成ステーション６０との間の任意の他の、または追加の１つ以上の適切な位置にブランケット４４に隣接して取り付けられ得る。前述のとおり、ステーション５２は追加または代替として、画像形成ステーション６０に隣接したバーを含み得る。

図１の例では、圧胴シリンダ８２は、基材搬送モジュール８０によって入力スタック８６から出力スタック８８へ圧胴シリンダ８２を経由して運ばれた、個々のシート５０などの、標的可撓性基材上にインク画像を押し付ける。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４の下部ランは、刷ステーション８４において圧胴シリンダ８２と選択的に相互作用して、圧力シリンダ９０の圧力の作用によりブランケット４４と圧胴シリンダ８２との間で圧迫された標的可撓性基材上に画像パターンを押し付ける。図１に示されるシンプレックスプリンタ（すなわち、シート５０の片面上への印刷）の場合、１つの刷ステーション８４だけが必要である。

他の実施形態では、モジュール８０は、１つ以上の両面印刷を可能にするために、２つ以上の圧胴シリンダを含み得る。２つの圧胴シリンダの構成は、両面プリント印刷の２倍の速度での片面プリントの実行も可能にする。加えて、片面および両面プリントの混合ロットも印刷できる。代替実施形態では、連続ウェブ基材上への印刷のためにモジュール８０の異なる構成が使用され得る。両面印刷システムおよび連続ウェブ基材上への印刷のためのシステムの詳細な説明および様々な構成は、例えば、米国特許第９，９１４，３１６号および第９，１８６，８８４号、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４２４号、米国特許出願公開第２０１５／００５４８６５号、ならびに米国仮出願第６２／５９６，９２６号に提供されており、それらの開示は全て参照により本明細書に組み込まれる。

上で簡潔に説明されるように、シート５０または連続ウェブ基材（図示せず）は、モジュール８０により入力スタック８６から運ばれて、圧胴シリンダ８２と圧力シリンダ９０との間に置かれたニップ（図示せず）を通過する。ニップ内で、インク画像を搬送しているブランケット４４の表面は、例えば、圧力シリンダ９０の、圧縮可能なブランケット（図示せず）によりシート５０（または他の適切な基材）にしっかりと押し付けられ、それによりインク画像がシート５０の表面上に印加されて、ブランケット４４の表面からきれいに分離される。その後、シート５０は出力スタック８８へ搬送される。

図１の例では、ローラー７８は、ブランケット４４の上部ランに位置付けられて、画像形成ステーション６０に隣接して通過する際にブランケット４４をピンと張ったままに維持するように構成される。さらに、画像形成ステーション６０によって、ブランケット４４の表面上へのインク液滴の正確な噴射および付着、それにより、インク画像の配置を獲得するために、画像形成ステーション６０の下でブランケット４４の速度を制御することは特に重要である。

いくつかの実施形態では、圧胴シリンダ８２は、インク画像を、移動しているブランケット４４から、ブランケット４４と圧胴シリンダ８２との間を通過している標的基材に転写するために、周期的にブランケット４４に係合されて、ブランケット４４から解放される。いくつかの実施形態では、システム１０は、上部ランをピンと張ったまま維持して、ブランケット４４の上部ランを、下部ランで生じている機械的振動によって影響を受けるのから実質的に分離するために、前述のローラーおよびダンサー組立体を使用してブランケット４４にトルクを印加するように構成される。

いくつかの実施形態では、システム１０は、本明細書で自動品質管理（ＡＱＭ）システムとも呼ばれる、画像品質管理ステーション５５を含み、それは、システム１０内に統合された閉ループ検査システムとして機能する。いくつかの実施形態では、ステーション５５は、図１に示されているように、圧胴シリンダ８２に隣接して、またはシステム１０内の任意の他の適切な位置に、配置され得る。

いくつかの実施形態では、ステーション５５はカメラ（図示せず）を含み、それは、シート５０上に印刷された前述のインク画像の１つ以上のデジタル画像を取得するように構成される。いくつかの実施形態では、カメラは、密着型画像センサー（ＣＩＳ）または相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）画像センサーなどの、任意の適切な画像センサー、および約１メートルの幅または任意の他の適切な幅をもつスリットを含むスキャナを含み得る。

本開示の文脈およびクレームでは、任意の数値もしくは範囲に対する「約（ａｂｏｕｔ）」または「略（ａｐｐｒｏｘｉｍａｔｅｌｙ）」という用語は、構成要素の部品または集合が本明細書で説明されるその意図する目的のために機能するのを可能にする適切な寸法公差を示す。例えば、「約」または「略」は、列挙された値の±２０％の値の範囲を指し得、例えば、「約９０％」は７２％～１００％の値の範囲を指し得る。

いくつかの実施形態では、ステーション５５は、シート５０上に印刷されたインクの品質を監視するように構成された分光光度計（図示せず）を含み得る。

いくつかの実施形態では、ステーション５５によって取得されたデジタル画像は、プロセッサ２０またはステーション５５の任意の他のプロセッサなどの、プロセッサに伝送され、それは、それぞれの印刷画像の品質を評価するように構成される。その評価およびコントローラ５４から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、システム１０のモジュールおよびステーションの動作を制御するように構成される。本発明の文脈およびクレームでは、「プロセッサ」という用語は、プロセッサ２０またはステーション５５に接続されているか、もしくはステーション５５と統合されている任意の他のプロセッサもしくはコントローラなどの、任意の処理装置を指し、それは、ステーション５５のカメラおよび／または分光光度計から受信した信号を処理するように構成される。本明細書で説明する信号処理操作、制御関連命令、および他の計算操作は、単一のプロセッサによって実行されるか、または１つ以上のそれぞれのコンピュータの複数のプロセッサ間で分配され得ることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、ステーション５５は、シート５０との完全な画像位置決め、色と色の間（Ｃ２Ｃ）の位置決め、印刷された幾何形状、画像均一性、色のプロファイルおよび直線性、ならびに印刷ノズルの機能性などであるが、それらに制限されない、様々な属性を監視するために、印刷画像およびテストパターンの品質を検査するように構成される。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、幾何学的歪みまたは、前述の属性の１つ以上における他のエラーを自動的に検出するように構成される。例えば、プロセッサ２０は、所与のデジタル画像の設計バージョン（本明細書では「マスター」または「ソース画像」とも呼ばれる）と、カメラによって取得される、所与の画像の印刷バージョンのデジタル画像との間で比較するように構成される。

他の実施形態では、プロセッサ２０は、前述のエラーを示す歪みを検出するために、任意の適切なタイプの画像処理ソフトウェアを、例えば、テストパターンに適用し得る。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、修正処置を機能不良のモジュールに適用するために検出された歪みを分析し、かつ／または検出された歪みを補正するためにシステム１０の別のモジュールもしくはステーションに命令を供給するように構成される。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ステーション５５の分光光度計から受信した信号に基づいて、印刷された色のプロファイルおよび直線性における逸脱を検出するように構成される。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ステーション５５によって取得された信号に基づいて、様々なタイプの欠陥：（ｉ）基材（例えば、ブランケット４４および／またはシート５０）における、かき傷、ピンホール、および損傷した縁など、ならびに（ｉｉ）不規則なカラースポット、サテライト、および跳ねなどの印刷関連の欠陥、を検出するように構成される。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、これらの欠陥を、印刷されたもののセクションと、本明細書でマスターとも呼ばれる、元の設計のそれぞれの参照セクションとの間の比較によって検出するように構成される。プロセッサ２０は、欠陥を分類し、その分類および所定の基準に基づき、指定された所定の基準内にない欠陥を有するシート５０を拒絶するようにさらに構成される。

いくつかの実施形態では、ステーション５５のプロセッサは、例えば、欠陥密度が指定された閾値を上回っている場合、システム１０の動作を停止するかどうかを判断するように構成される。ステーション５５のプロセッサは、前述のように、システム１０のモジュールおよびステーションの１つ以上において修正処置を開始するようにさらに構成される。修正処置は、オンザフライで（その間、システム１０は印刷プロセスを継続する）、またはオフラインで、印刷動作を停止し、システム１０のそれぞれのモジュールおよび／もしくはステーション内の問題を修正することにより、実行され得る。他の実施形態では、システム１０の任意の他のプロセッサまたはコントローラ（例えば、プロセッサ２０またはコントローラ５４）は、欠陥密度が指定された閾値を上回っている場合、修正処置を開始するか、またはシステム１０の動作を停止するように構成される。

追加または代替として、プロセッサ２０は、例えば、ステーション５５から、システム１０の印刷プロセスにおける追加のタイプの欠陥および問題を示す信号を受信するように構成される。これらの信号に基づき、プロセッサ２０は、パターン配置精度および前述されていない追加のタイプの欠陥のレベルを自動的に推定するように構成される。他の実施形態では、シート５０上（または前述した任意の他の基材上）に印刷されたパターンを検査するための任意の他の適切な方法も、例えば、外部（例えば、オフライン）の検査システム、または任意のタイプの測定治具および／もしくはスキャナを使用して、使用できる。これらの実施形態では、外部の検査システムから受信した情報に基づき、プロセッサ２０は、任意の適切な修正処置を開始し、かつ／またはシステム１０の動作を停止するように構成される。

システム１０の構成は、本発明を明確にするために純粋に例として単純化されて提供されている。前述した印刷システム１０で説明されている構成要素、モジュールおよびステーション、ならびに追加の構成要素および構成は、例えば、米国特許第９，３２７，４９６号および第９，１８６，８８４号、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１３／１３２４３８号、第ＷＯ２０１３／１３２４２４号および第ＷＯ２０１７／２０８１５２号、米国特許出願公開第２０１５／０１１８５０３号および第２０１７／０００８２７２号に詳細に記述されており、それらの開示は全て、参照により本明細書に組み込まれる。

システム１０の特定の構成は、本発明の実施形態によって対処される特定の問題を例示するため、およびかかるシステムの性能強化においてこれらの実施形態の適用を例証するために、例として示されている。しかし、本発明の実施形態は、この特定の種類のシステム例に決して制限されず、本明細書で説明される原理は、任意の他の種類の印刷システムに同様に適用され得る。

図２Ａは、本発明の一実施形態に従った、ブランケット４４のブランケット織物１００の概略絵図である。ブランケット織物１００は、簡略して「織物１００」とも呼ばれる。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、織物１００および任意の適切なタイプの追加層を含み得る。ブランケット４４などの、任意の適切なブランケットの積重ね層の構造に関連した詳細な実施形態が、例えば、ＰＣＴ国際公開第ＷＯ２０１７／２０８１４４号、およびＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０１９／０５５２８８号に提供されており、その開示は全て、参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、織物１００は、相互に交互配置された繊維の２つ以上のセットを含む。本例では、繊維１０２および１０４は、実質的に相互に直交する、第１および第２のセットの繊維を構成する。この構成では、各繊維１０２は全ての繊維１０４と交互配置され、各繊維１０４は全ての繊維１０２と交互配置される。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４の織物１００は、その周期性パターンに従って変わる不透明度を有する。本例では、不透明度の周期性パターンは、繊維１０２および１０４によって引き起こされ、一方、繊維１０２と１０４との間の開口部１０６は、以下の図３で詳細に説明されるように、光を通す（例えば、透明または半透明）。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、基材搬送モジュール８０によって移動されて（例えば、矢印９４によって示される移動方向に）、システム１０によって実行される印刷プロセス内でインク液滴を受け取りブランケット４４上に画像を形成するように構成される。織物１００の例において、繊維１０２は相互に、および矢印９４によって示される移動方向に平行に配列され、繊維１０４は相互に平行であるが、矢印９４には直交して配列されることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４の織物１００は、任意の適切な数の繊維、例えば、２０，０００～３０，０００の間の繊維１０４を含み得る。以下の図３で説明されるように、各繊維１０４および／または隣接した繊維１０４間の距離および／または開口部１０６はブランケット４４の移動軸に沿った位置基準として使用され得る。

他の実施形態では、織物１００の繊維は、任意の他の適切な構成を有し得る。例えば、２つ以上のセットの繊維の縦軸は、相互に対して任意の適切な角度（例えば、直角以外）を有し得、矢印９４によって表される、ブランケット４４の移動軸に対して任意の他の適切な角度で配向され得る。その上、図２Ａの例では、開口部１０６は、繊維１０２と１０４との間の直交性によって決定される、長方形を有する。他の実施形態では、繊維１０２および１０４は、開口部１０６がひし形または任意の他の形状、例えば、非矩形を有するように、相互に別の角度で配列され得る。

図２Ｂは、本発明の一実施形態に従った、前述の図２Ａに示される織物１００の概略断面図である。図２Ｂの例では、単一の繊維１０２が、前述の図２Ａで説明されるように、複数の繊維１０４と交互配置されるように、断面図は矢印９４に対して直交する。

いくつかの実施形態では、開口部１０６のサイズおよび周期性パターンは、繊維の幅および隣接した繊維の任意のペア間の距離によって決定され、それは典型的には、ブランケット４４に沿って均一である。図２Ｂの例では、各繊維１０４の幅１１０は、前述の不透明度および隣接した繊維１０４の縁間の距離１１２を決定し、前述の周期性パターンを決定し、それは、矢印９４に沿った開口部１０６のサイズと実質的に同様である。

前述の図２Ａで説明されるように、図２Ｂの断面図に直交する別の断面図（図示せず）は、複数の繊維１０２と交互配置される単一繊維１０４を示すであろう。いわゆる直交する断面図（図示せず）では、各繊維１０２の幅が前述の不透明度および隣接した繊維１０２の縁間の距離を決定し得、前述の周期性パターンを決定し得、それは、矢印９４と直交する方向で開口部１０６のサイズと同様であることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、継ぎ目５９（前述の図１で示されて説明されている）は、とりわけ、繊維１０２および１０４を変形または融解さえさせ得る熱加工を使用して、形成され得る。従って、継ぎ目５９は繊維を有していない可能性があるか、または少なくともブランケット織物１００の繊維１０２および１０４の秩序構造を有していない可能性がある。

織物を通過する光の検出による周期性パターンを示す信号の導出
図３は、本発明の一実施形態に従った、位置検知組立体２００の概略断面図である。本開示の文脈およびクレームでは、「位置検知組立体」および「光学組立体」という用語は区別しないで使用されて、光学サブシステムを指し、それは、（ａ）ブランケット４４を光で照射して、（ｂ）ブランケット４４の織物１００を通過する光を検出し、（ｃ）検出された光から、前述の図２Ａおよび２Ｂで説明される周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。前述のとおり、ブランケット４４は織物１００および任意の適切なタイプの追加の層を含み得る。

いくつかの実施形態では、前述の追加の層の少なくとも１つは、適切な１つ以上の波長を有する光を透過または半透過させ得る。以下で詳細に説明されるように、ブランケット４４を照射する適切な光は、図２Ａおよび２Ｂに示される織物１００の開口部１０６を通過し、センサーによって検出され得る。

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４を、所定の制御された速度で、矢印９４によって表される移動方向に、移動させるように構成される。

図３に示される実施形態例では、ブランケット４４の織物１００は、３つの開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃを含み、それらは、織物１００の隣接した繊維１０４のそれぞれのペア間に位置する。開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃは、図２Ａの上面図内の開口部１０６に関して示されるように、隣接した繊維１０２間にも位置することに留意されたい。図３の断面図は、矢印９４に直交する寸法を示すことができず、従って、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃは、前述の図２Ａの上面図に示されるように、それらが２つの隣接した繊維１０２間にも位置することを例示するために、破線のフレームとして示されている。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は、ブランケット４４内の開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの位置を検出し、検出された位置から前述の周期性パターンを示す信号を導出するように構成される。以下で詳細に説明されるように、開示される技術は、所与の開口部に対して、その所与の開口部の１つ以上のそれぞれの位置を示す１つ以上の信号を（例えば、ブランケット４４に沿ってシステム１０上に取り付けられた複数の位置検知組立体２００を使用することにより）取得し得る。これらの技術は、ブランケット４４の選択された点の実際の位置を推定し、これらの信号に基づきシステム１０の印刷プロセスを制御するために、織物１００の複数の開口部または他の特徴にも適用され得る。いくつかの実施形態では、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃならびに繊維１０４は、ブランケット４４上またはブランケット４４内の１つ以上の所定の位置を符号化するスケールとして機能し得る。かかる実施形態では、ブランケット４４は、所定の繊維１０４ならびに／または、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃなどの、開口部の位置を検知するために、位置検知組立体２００のエンコーダスケールとして機能し得る。言い換えれば、ブランケット４４は、繊維１０４ならびに開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃなどであるが、それらに限定されず、組込みエンコーダスケール特徴を有する。その上、ブランケット４４および位置検知組立体２００（または、繊維１０４ならびに開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの一方または両方を検出するように構成された任意の他の適切な位置検知装置）の組合わせは、ブランケット４４の動きを制御するため、およびシステム１０の印刷プロセスを制御するためのリニアエンコーダとして機能し得る。言い換えれば、ブランケット４４は、ブランケット４４の動きをシステム１０の様々なステーションおよびモジュールに対して制御するための組込みエンコーダスケールを有する。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は、十分に高い光度（例えば、約４５００～９０００ｍｃｄ）を有する任意の適切な範囲の波長または単色波長を放出するように構成された、１つ以上の発光ダイオード（ＬＥＤ）、または１つ以上のレーザーまたは任意の他の適切なタイプの光源などの、光源２１６を含む。例えば、Ｖｉｓｈａｙ（米国ペンシルベニア州Ｍａｌｖｅｒｎ）によって供給されるパワーＳＭＤ ＬＥＤ ＰＬＣＣ－２ Ｐｌｕｓ製品。光源２１６は、織物１００の開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃを通過し得る、光線２１５などの、１つ以上のコリメート光を放出して方向付けるように構成される。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は１つ以上のチャネルを含み得、各チャネルは光源および以下で説明されるそれぞれのセンサーを含み得る。

他の実施形態では、ブランケット４４は、開口部１０６Ａ～１０６Ｃなどの、開口部を有していない可能性があるか、または白い光を透過および半透過させない少なくとも１つの層を含み得る。かかる実施形態では、位置検知組立体２００は、織物１００を通過できるが、それでも周期性パターンによって影響を受ける波長を含む光を放出し得る。例えば、位置検知組立体２００は、ブランケット４４の層を通過するように構成されているが、しかし、周期性パターンを示す変化した強度を有する、赤外線（ＩＲ）放射を放出し得る。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は、開口部２０４を有するスリット２１０などの、１つ以上のスリットを有するスリット組立体２０８を含む。スリット２１０は、前述のように、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃを通過している光線２１５を通すように構成される。

いくつかの実施形態では、スリット組立体２０８が相互に所定の距離だけ離れて配置された２つ以上のスリットを含む場合、スリット組立体２０８は、迷光または、例えば、スリット組立体２０８の隣接したスリットの間に散乱した光を遮断するように構成される、シールド（図示せず）を含み得る。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００はファイバー組立体２１８を含み、ファイバー組立体２１８は、ファイバー組立体２１８の下面２２１と上面２２３との間に配列された複数の光ファイバー２２０の束を有する。いくつかの実施形態では、表面２２１および２２３は、光線２１５を透過させ、光ファイバー２２０は、光線２１５をファイバー組立体２１８を通して搬送するように構成される。複数の光線および／または複数のスリットの場合、光ファイバー２２０は異なる光線間の干渉を遮断するように適合される。

図３に示されるように、位置検知組立体２００は、単一の光線２１５および単一のスリット２１０を含み得る。代替実施形態では、ファイバー組立体２１８は単一のファイバーまたは任意の他の適切なタイプの光学チャネルを含み得、それは、ファイバー組立体２１８に関して前述したように、光線２１５をそれを通して搬送するように構成される。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００はセンサー２２２を含み、それはＯＳＲＡＭ Ｏｐｔｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ ＧｍｂＨ（ドイツ、レーゲンスブルク）によって供給されるシリコンＰＩＮフォトダイオードＳＦＨ ２０６Ｋ製品、または任意の他の適切な検知装置などの、適切なタイプのフォトダイオードを含み得る。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００のセンサー２２２は、織物１００の前述の開口部を通過する、光線２１５を検知して、検知した光から、前述した周期性パターンを示す、経時的な電流強度などの、信号を導出するように構成される。

ここで差し込み図２０７を参照すると、ブランケット４４と共に矢印９４の方向に移動される織物１００の区分の上面図が示されている。いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００のスリット２１０は典型的には固定であるが、差し込み図２０７内には、３つの破線の長方形が、ブランケット４４の移動に起因して織物１００に対して３つの位置に位置すると示されている。

いくつかの実施形態では、スリット２１０は、ブランケット４４の所定の区分または幅全体をカバーするように、ブランケット４４のＹ軸に沿ってサイズ指定され得る。差し込み図２０７のグラフ２０９に示される実施形態例では、開口部１０６および１０６Ｃを通過してスリット２１０を通る光線２１５に応答して、センサー２２２は、２つの隣接した繊維１０４の間で検知された光強度を示す電流信号２１７を生成するように構成される。グラフ２０９内に示されるように、各電流信号２１７はそれぞれの開口部、例えば、開口部１０６または１０６Ｃと位置合わせされる。グラフ２０９の電流信号２１７は織物１００のそれぞれの区分の周期性パターンを示すことに留意されたい。

ここでグラフ２０５を参照すると、センサー２２２によって経時的に生成された信号の電流強度（Ｉ）が示されている。いくつかの実施形態では、センサー２２２は、検知された光から、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃのそれぞれの位置で検知された電流信号を示す信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃを導出するように構成される。信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃは、前述の図２Ａおよび２Ｂで説明される周期性パターンも示すことに留意されたい。言い換えれば、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの中からの各開口部は、ブランケット４４の周期性パターンのパターン単位であり、光信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃ（本明細書ではパルスとも呼ばれる）からの各光信号は、位置検知組立体２００のセンサー２２２によって検出されたそれぞれのパターン単位（例えば、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの中から）を示す。

いくつかの実施形態では、センサー２２２はコントローラ（図示せず）を含み得、それは、センサー２２２によって取得されたそれぞれの電流信号の統計分析に基づいて信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃを計算するように構成される。例えば、グラフ２０５の信号２０６Ｃの強度は、グラフ２０９に示される電流信号２１７の強度の平均または中央値に基づいて計算され得る。

他の実施形態では、プロセッサ２０は、センサー２２２によって取得されたそれぞれの電流信号の前述の統計分析に基づき信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃを計算するように構成される。

織物１００の断面図および上面図に示されるように、仮想フレーム２０２は、信号取得および処理フローを説明するために使用され得る。フレーム２０２は、説明の概念的明確さのみのために示されており、ブランケット４４または組立体２００の一部ではないことに留意されたい。

いくつかの実施形態では、システム１０は、ブランケット４４を矢印９４によって表される方向に所定の速度で移動させて、光源２１６は光線２１５を放出する。開口部１０６Ａがスリット２１０の開口部２０４と位置合わせされると、光線２１５は織物１００の開口部１０６Ａおよびファイバー組立体２１８を通過し、センサー２２２によって検出される。

いくつかの実施形態では、センサー２２２は、光線２１５の検知された強度および開口部１０６Ａの位置を示す、信号２０６Ａを出力する。その間、システム１０はブランケット４４を所定の速度で矢印９４の方向に移動させ続ける。開口部１０６Ｂがスリット２１０と位置合わせされる場合、光線２１５は開口部１０６Ｂとスリット２１０を通過してファイバー組立体２１８を通る。その後、開口部１０６Ｂを通過した光線２１５は、センサー２２２によって検知され、それは開口部１０６Ｂの位置を示す信号２０６Ｂを出力する。その後、開口部１０６Ｃがスリット２１０と位置合わせされると、光線２１５が開口部１０６Ｃとスリット２１０を通過してファイバー組立体２１８を通るように、システム１０がブランケット４４を移動させながら、同じ信号取得プロセスが開口部１０６Ｃに対して繰り返される。続いて、開口部１０６Ｃを通過した光線２１５は、センサー２２２によって検知され、それは開口部１０６Ｃの位置を示す信号２０６Ｃを出力する。

図３の構成例では、位置検知組立体２００は、それぞれ、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの位置を示す、３つの異なる信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃを生成するように構成されることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃの少なくとも１つを受信し、受信した信号に基づいてシステム１０の印刷プロセスを制御するように構成される。前述のように、ブランケット４４は、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃなどの、所定の特徴の位置を経時的に符号化するスケールとして機能するように構成される。言い換えれば、ブランケット４４と位置検知組立体２００の組合わせは、システム１０の動き制御エンコーダを構成する。（ｉ）位置検知組立体２００が、例えば、ダンサー組立体７４に面している場合、ブランケット４４と位置検知組立体２００の組合わせは、ロータリーエンコーダを構成すること、および（ｉｉ）位置検知組立体２００が、例えば、ブランケット４４の上部ランまたは下部ランに沿って、直線区分に面している場合、ブランケット４４と位置検知組立体２００の組合わせは、リニアエンコーダを構成することに留意されたい。

一実施形態では、ブランケット４４の速度および前述の信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃに基づき、プロセッサ２０は、１つ以上の印刷ヘッドのノズルからのインク噴射のタイミングを制御し得る。例えば、プロセッサ２０は、位置検知組立体２００から、織物１００の２０，０００を超える開口部１０６のそれぞれの位置基準点を示す２０，０００を超える信号を受信し、受信した信号に基づき、ブランケット４４上に印刷される画像のＣ２Ｃ位置決めを改善し得る。ブランケット４４に沿った２０，０００を超える位置基準点を有することにより、プロセッサ２０は、システム１０の印刷プロセスを制御するために、速度ベースの方法ではなく、位置ベースの方法を適用し得ることに留意されたい。

図１で説明されるように、例えば、ブランケット４４の動き（例えば、速度）を測定するために、１つ以上のエンコーダを使用することが可能である。しかし、この測定は間接的であり、それ故、エラーを起こしやすい。例えば、組立体の不十分な剛性、取付け誤り、およびロータリースケールの熱膨張は、エンコーダの測定精度誤差をもたらし得る。測定精度誤差は典型的には、ロータリーエンコーダのサイクルごとに蓄積して、印刷プロセス中、ならびにシステム１０の様々な組立体および／またはステーションの監視および較正において、様々な位置決め誤差（例えば、Ｃ２Ｃおよび画像と基材間の位置決め誤差）を引き起こし得ることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は、例えば、それぞれ、開口部１０６Ａ、１０６Ｂおよび１０６Ｃの位置を示す、信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃを生成することにより、ブランケット４４上の基準点の位置を直接測定するように構成される。他の実施形態では、ブランケット４４が矢印９４の方向に移動される場合に位置検知組立体２００から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、ブランケット４４内の繊維１０４の数をカウントし得、従って、ブランケット４４上の任意の特徴の直接位置測定を有する。

かかる実施形態では、プロセッサ２０は、システム１０によって実行される印刷プロセスのＣ２Ｃ位置決めを改善するために、ブランケット４４の局所的速度および／または特定のノズルから噴射される異なるカラーインクの噴射時間などの、様々なタイプのプロセスパラメータを調整し得る。追加または代替として、位置検知組立体２００から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、ブランケット４４の表面上に噴射される１つ以上のインク液滴の配置精度を改善するように構成され、それは、システム１０の画像と基材間の位置決めを改善し得る。

いくつかの実施形態では、両面印刷システムでは、インク液滴の改善された配置精度は、標的基材（例えば、シートまたはウェブ）の表面および裏面上に印刷される画像間の位置決めを改善するのを支援し得る。ブランケット４４上に正確に印刷された画像を有することは、例えば、システム１０の他のステーション、例えば、刷ステーション８４において生じ得る、望ましくない位置決め誤差の場合、改善された画像と基材間の位置決めを保証しない可能性があることが理解されよう。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、システム１０における既知の問題を補正することによりＣ２Ｃ位置決めを改善するために前述の信号を使用し得る。例えば、２つ以上の印刷バー６２の間の既知のずれ。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４に沿った多数の（例えば、２０，０００を上回る）位置基準点を示す信号を受信することにより、プロセッサ２０は、ブランケット４４上に起こり得、ブランケット４４に沿って配置された１つ以上の位置基準点を不明瞭にするか、または覆い得る、局所的な損傷もしくは汚染によって影響されることなく、システム１０の印刷プロセスを制御し得る。

いくつかの実施形態では、信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃなどの、信号に基づき、プロセッサ２０は、システム１０のエラーおよび／または故障を識別するように構成される。例えば、プロセッサ２０は、ブランケット４４の移動速度を設定または計算し得、ブランケット４４の織物１００に沿って配置された２つ以上の特定の開口部の前述の信号を受信し得る。かかる実施形態では、プロセッサ２０は、それぞれの特定の開口部の間の距離を推定し、ブランケット４４が、例えば、伸び過ぎ、加熱し過ぎまたはその経年劣化に起因して、変形しているか否かを推定するように構成される。これらの実施形態は、以下の図５でさらに詳述される。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４は、予防保守手順の一部として交換され得る。かかる実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４のライフサイクルに沿って様々なパラメータを監視するように構成される。例えば、位置検知組立体２００から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、システム１０上に取り付けられた各ブランケット４４の「フィンガープリント」を生成するように構成される。

いくつかの実施形態では、フィンガープリントは、各ブランケット４４に対する特定の値を有するパラメータまたは変数を含み得る。例えば、位置検知組立体２００から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、（ａ）織物１００を構成する繊維１０２および１０４の数をカウントし、（ｂ）繊維のグループの平均幅を推定し、（ｃ）隣接した繊維間の距離を推定し、（ｄ）ブランケット４４における欠陥のサイズおよび位置を推定するように構成される。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、所与のブランケット４４のフィンガープリントを経時的に監視するように構成され、所定の基準に基づき、プロセッサ２０は、システム１０の、特にブランケット４４の、予防保守活動の少なくとも一部を管理できる。例えば、隣接した繊維間の距離を監視することにより、プロセッサ２０は、ブランケット４４の伸び過ぎを検出し得、応答して、伸び過ぎたブランケット４４の予防交換をスケジューリングし得る。

かかる実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の伸びを制御および補正するための１つ以上の閾値を保持し得る。例えば、隣接した繊維間の距離が所定の閾値よりも大きい場合、プロセッサ２０は、伸びたブランケットのアラートをディスプレイ３４上に表示し得、その上、プロセッサ２０は、過剰なブランケットの伸びを補正するために、ブランケット４４の移動速度、またはシステム１０の他のプロセスパラメータを調整し得る。

図３に示される構成例では、光源２１６およびセンサー２２２は、ブランケット４４の異なる面に位置付けられて、検出された光は織物１００の周期性パターンを通過する。代替実施形態では、ブランケット４４は反射周期性パターンおよび光源を含み得る。かかる実施形態では、位置検知組立体のセンサーおよび光源は、明視野および／または暗視野撮像ならびに検出技術を使用して位置信号を取得するための任意の適切な構成を使用して、ブランケットの同じ面に取り付けられ得る。

さらに他の実施形態では、ブランケットは、任意の適切な非光学的技術を使用して検出され得る周期性パターンを含み得る。例えば、ブランケット４４は、周期性パターンに配置された磁気要素を含み得、センサー２２２は、ブランケット上で磁気ベースの位置基準点を検出するように構成される、磁気センサーを含み得る。

前述の代替位置検知技術のいくつかは、位置検知組立体の構成に影響を及ぼし得る。例えば、光源およびスリットは、磁気ベースの位置検知組立体の構成から取り除かれ得、スリットは暗視野ベースの位置検知組立体の構成から取り除かれ得る。

位置検知組立体２００のこの特定の構成およびブランケット４４の織物１００は、本発明の実施形態によって対処される、Ｃ２Ｃ位置決めおよびブランケットの伸びなどの、特定の問題を例示するため、およびシステム１０などの、デジタル印刷システムの性能の強化においてこれらの実施形態の適用を例証するために、例として示されている。しかし、本発明の実施形態は、この特定の種類のシステム例に決して限定されず、本明細書で説明される原理は同様に、他の種類の位置検知組立体および／またはブランケットおよび／または印刷システムに適用され得る。

周期性パターンを示す信号に基づく印刷プロセスの制御
図４は、本発明の一実施形態に従った、プロセス制御組立体（ＰＣＡ）３００の概略断面図である。いくつかの実施形態では、ＰＣＡ３００は、印刷バー６２Ａと位置合わせされる、位置検知組立体２００、および印刷バー６２Ｂと位置合わせされる、位置検知組立体３０１を含む。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００および３０１はそれぞれ、印刷バー６２Ａおよび６２Ｂ上に取り付けられ得る。印刷バー６２Ａおよび６２Ｂはシステム１０内で実装され得、かつ／または前述の図１に示される印刷バー６２のいずれかに取って代わり得ることに留意されたい。

いくつかの実施形態では、印刷バー６２Ａおよび６２Ｂは同様であり得るが、典型的には、異なる色のインクを噴射する。例えば、印刷バー６２Ａは黒インク３０３Ａの１つ以上の液滴を噴射し得、印刷バー６２Ｂはマゼンタインク３０３Ｂの１つ以上の液滴を噴射し得る。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００および３０１は、類似の構成を有し得、それにより、光源２１６および３１６は相互に類似であり、ファイバー組立体２１８および３１８は相互に類似であり、センサー２２２および３２２は相互に類似である。システム１０は、位置検知組立体２００の同じ構成を有する追加の位置検知組立体を含み得、その各々は、前述の図１に示される複数の印刷バー６２などの、異なる印刷バー上に取り付けられ、かつ／または異なる印刷バーと位置合わせされ得ることに留意されたい。

本開示の文脈およびクレームでは、所与の位置検知組立体とそれぞれの印刷バーとの間の「位置合わせ」という用語は、光およびインクを、ブランケット４４の表面上の、同じ位置に、または相互から所定のオフセットで、方向付けることを指す。実施形態例では、光源２１６は光線２１５をブランケット４４上の位置に方向付け得、そこへ印刷バー６２Ａはインク３０３Ａの１つ以上の液滴を噴射する。

別の実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４上に位置付けられる光線２１５とインク３０３Ａの位置の間の所定のオフセットを保持し得、インク噴射時間およびブランケット移動速度などであるが、それらに限定されず、関連した印刷制御パラメータの計算において所定のオフセットを考慮し得る。

いくつかの実施形態では、ＰＣＡ３００が、図４に示される、隣接したローラー７８間の直線区分などの、直線区分に面している場合、ブランケット４４およびＰＣＡ３００の組合わせは、例えば、画像形成ステーション６０の印刷バー６２Ａおよび６２Ｂに対して、ブランケット４４の動きを制御するために、リニアモーションエンコーダを構成する。

前述の図３で説明されるように、例えば、位置検知組立体２００および３０１の中からの、各位置検知組立体は、前述の図３で説明される印刷プロセスを制御するために、１つ以上のケーブル３０２を介して、信号２０６Ａ、２０６Ｂおよび２０６Ｃなどの、取得された信号をプロセッサ２０、および／またはシステム１０の任意の適切な印刷コントローラに送信するように構成される。

他の実施形態では、少なくとも１つの位置検知組立体、例えば、位置検知組立体３０１の構成は、位置検知組立体２００のそれとは少なくとも１つの要素において異なり得る。例えば、光源３１６は、光線３１５などの、１つ以上の光線を放出し得、それは、光源２１６のそれと比べて波長の異なるスペクトルまたは異なる出力を有し得る。

代替実施形態では、それぞれの印刷バー上に取り付けられ、かつ／またはそれぞれの印刷バーと位置合わせされている全ての位置検知組立体は、同じ構成を有し得る。これらの実施形態では、システム１０は異なる構成を有する少なくとも１つの追加の位置検知組立体を含み得る。追加の位置検知組立体は異なる信号を検知するように構成され、それらは、測定を実施するため、および／またはブランケット４４上に存在し得る特定のタイプの欠陥を検査するためにプロセッサ２０によって使用され得る異なる情報を示す。かかる実施形態では、プロセッサ２０は、位置検知組立体２００の同じ構成を有する位置検知組立体から受信した信号に加えて、異なる信号を補足情報として使用し得る。

いくつかの実施形態では、１つ以上の追加の位置検知組立体が、印刷用途で使用されていない画像形成ステーション６０の印刷バー６２上に取り付けられ得る。追加または代替として、１つ以上の追加の位置検知組立体は、システム１０の任意の他の適切な取付け位置上に取り付けられ得る。

複数の位置検知組立体によって取得された信号に基づく印刷位置決めの改善
図５は、本発明の一実施形態に従い、ブランケット４４上で測定された距離を、異なる印刷ヘッドの２つのノズル間のピッチサイズと合わせるための方法を例示するブロック図４００である。

いくつかの実施形態では、ブロック図４００は、印刷ヘッドのそれぞれのノズル６３Ａおよび６３Ｂを有する印刷バー６２Ａおよび６２Ｂを含み、それらはそれぞれ、黒インク３０３Ａおよびマゼンタインク３０３Ｂの１つ以上の液滴を噴射するように構成される。いくつかの実施形態では、ノズル６３Ａおよび６３Ｂは、相互に距離４４０だけ離れて位置付けられ、それぞれ位置４０６および４０８においてブランケット４４上に付着されるようにインク３０３Ａおよび３０３Ｂのそれぞれの液滴を方向付けるように構成される。

前述のとおり、ブランケット４４は、矢印９４によって示される移動軸に沿って移動されて、位置検知組立体２００および３０１（前述の図４に示される）は、ブランケット４４の繊維によって形成される周期性パターンを示す１つ以上の信号を導出する。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケットが矢印９４の方向に動く場合に、位置検知組立体２００および３０１を通過するそれぞれの繊維の位置を示す信号の数をカウントする。いくつかの実施形態では、距離４４０、位置検知組立体２００および３０１から受信した信号、ならびに位置基準点が位置４０６と４０８との間を通るのかかる時間間隔４４２に基づいて、プロセッサ２０は、ブランケット４４の速度を計算するように構成される。いくつかの実施形態では、時間間隔４４２は、黒インク３０３Ａとマゼンタインク３０３Ｂを噴射する間の期間を含み、それは、黒とマゼンタ画像との間の指定されたＣ２Ｃ位置決めを取得する。

いくつかの実施形態では、ブロック図４００の繊維４１０、４１１、４１２、４１３、４１４および４１５は、前述の図２Ａ、２Ｂおよび３に示される繊維１０４などの、ブランケット４４の前述の繊維を表している。概念的明確さのために、本例では、４つの繊維、すなわち、繊維４１１～４１４が距離４４０内に置かれており、実際のブランケット４４は典型的には、距離４４０内に数百または数千の繊維を含むことが理解されよう。本例では、繊維４１２および４１３などの、隣接した繊維のペアは、繊維間の名目距離４４４を有しており、それは繊維４１０～４１５の中からの隣接した繊維の任意のペア間と実質的に同一になるように設計される（例えば、繊維４１１と４１２の間、繊維４１２と４１３の間、および繊維４１３と４１４の間の約４７０μｍ±１０μｍの距離）。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の最大指定距離４４４を示す閾値を保持する。位置検知組立体２００および３０１から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、次のシーケンスを使用して距離４４４の実際の値を測定するように構成される：ステップ１で、プロセッサ２０は、印刷バー６２Ａを制御して、ノズル６３Ａを介して、インク３０３Ａの１つ以上の液滴を位置４０６でブランケット４４上に付着させるように方向付け、位置４０６は、繊維４１１から距離４２１に位置する。

ステップ２で、プロセッサ２０は、ブランケットモジュール７０を制御して、ブランケット４４を一定の速度で動かし、ステップ１で噴射されたインク３０３Ａをブランケット４４の位置４０８に位置付けるためにかかる時間間隔４４２を測定する。追加または代替として、プロセッサ２０は、位置検知組立体２００および３０１から、位置４０６と４０８の間を通過する任意の他の位置基準点（例えば、繊維４１０または４１１）を示す信号を受信して、対応する持続時間、すなわち、時間間隔４４２を測定し得る。

ステップ２と同時に実行され得るステップ３で、プロセッサ２０は、時間間隔４４２中に（位置検知組立体２００および３０１から受信した信号を使用して）位置４０６と４０８との間を通過した繊維の数をカウントし、距離４４４の部分である、距離４２１および４２２を加算する。図５の例では、距離４４０は４つの距離４４４、および繊維４１１～４１４の４つの幅、ならびに距離４２１および４２２の和に等しい。

ステップ４で、距離４４０、時間間隔４４２ならびに位置検知組立体２００および３０１から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、時間間隔４４２中のブランケット４４の実際の速度、および繊維４１１と４１４との間で測定された距離に基づき、距離４４４の実際のサイズの平均値を計算する。その後、プロセッサ２０は、距離４４４の計算された実際のサイズと、距離４４４の指定サイズを示す閾値を比較して、例えば、システム１０のモジュール８０により、ブランケット４４が伸び過ぎているか否かを判断する。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の伸び過ぎの検出に応答してアラートを発行し、かつ／または例えば、ダンサー組立体７４により、ブランケット４４に印加される張力を低減するようにさらに構成される。

一実施形態では、位置検知組立体２００および３０１から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、例えば、ダンサー組立体７４により、ブランケット４４に印加される張力を調整するように構成される。例えば、プロセッサ２０は、ブランケット４４の加熱し過ぎ（前述の図１で説明される温度センサーによって測定される）または伸び過ぎ（隣接した繊維間の距離の変化によって測定される）を補正するために、ダンサー組立体７４を制御して印加される張力を調整し得る。同様に、プロセッサ２０は、ブランケット４４の不十分な伸びを補正するために印加される張力を増大させるためにダンサー組立体７４を制御し得る。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００および／または３０１から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、ブランケット４４の表面上に噴射された１つ以上のインク液滴の配置精度を改善するように構成される。前述のとおり、改善された配置精度は、システム１０の画像と基材間の位置決め、および両面印刷システムにおいて標的基材の異なる面に印刷される画像間の位置決めも改善し得る。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、システム１０の指定された位置決め誤差（例えば、Ｃ２Ｃおよび画像と基材間の位置決め誤差）を示す１つ以上の閾値を保持し得る。位置検知組立体２００および／または３０１から受信した信号に基づき、プロセッサ２０は、ブランケット４４上に印刷された画像が、前述の閾値によって示される指定された位置決め誤差を上回る１つ以上の位置決め誤差を有するかを検出するように構成される。

かかる実施形態では、プロセッサ２０は、位置決め誤差を補正するために、例えば、刷ステーション８４のパラメータを調整することにより、ブランケット４４からシート５０への画像転写プロセスを調整するように構成される。位置決め誤差が調整できない場合、プロセッサ２０は、画像転写を中断して（例えば、圧胴シリンダ８２と圧力シリンダ９０との間の係合を解除することにより）、それぞれの画像をブランケット４４から除去し得る。

他の実施形態では、プロセッサ２０は、例えば、ブランケット４４の深刻な伸び過ぎの検出に応答して、ブランケット４４上の画像印刷を保持し得る。

継ぎ目とブランケット織物との間の相対的な伸びの推定
図６は、本発明の一実施形態に従い、ブランケット４４の継ぎ目５９と織物区分６１との間の相対的な伸びを推定するための方法を概略的に例示するブロック図である。いくつかの実施形態では、本方法は、位置検知組立体２００から受信した繊維事象５０４を使用している。本開示の文脈およびクレームでは、「繊維事象」という用語は、前述の図２Ａおよび２Ｂで説明される周期性パターンを示す信号を指す。

いくつかの実施形態では、ブランケット４４をシステム１０上に取り付けた後、プロセッサ２０は：（ｉ）ダンサー組立体７４を制御して所定の引張力Ｔ１をブランケット４４に印加し、（ｉｉ）ブランケットモジュール７０を制御してブランケット４４を、矢印９４によって表される、移動方向に沿って移動させるように構成される。本例では、継ぎ目５９は、繊維１０４Ａと１０４Ｂとの間の距離として画定され、長さ５０１（例えば、約１０ｃｍ～１５ｃｍの間）を有する。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４に沿って、織物区分６１を選択し得、織物区分６１は繊維１０４Ｃと１０４Ｄとの間に画定されて長さ５０２を有しており、それはＴ１を印加してブランケット４４を移動させている場合の長さ５０１のそれと同様である。選択された織物区分６１は、継ぎ目５９から任意の適切な距離に位置付けられ得ることに留意されたい。例えば、継ぎ目５９から約５または１０メートルの距離においてであるが、継ぎ目５９からごく近接して（例えば、約２０ｃｍ）も位置付けられ得る。その上、ブランケット４４が速度Ｖ（例えば、任意の適切な印刷プロセスの一定の移動速度）で移動している場合、長さ５０１および５０２が数回測定されるように（例えば、各回転中）、ブランケット４４は、本明細書では回転（ｒｅｖｏｌｕｔｉｏｎ）とも呼ばれる、繰返しサイクルで移動することに留意されたい。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００は、各繊維１０４の検出に応答して、繊維事象５０４をプロセッサ２０に送信するように構成される。本例では、第１の時点（ＰＯＴ）において、プロセッサ２０は、位置検知組立体２００がブランケット４４と共に移動している繊維１０４Ａの位置を検知した場合に生成される繊維事象５０４Ａを受信するように構成される。同様に、プロセッサ２０は、第２、第３および第４のＰＯＴにおいて、位置検知組立体２００がそれぞれ、繊維１０４Ｂ、１０４Ｃおよび１０４Ｄの位置を検知した場合に生成される、繊維事象５０４Ｂ、５０４Ｃおよび５０４Ｄを受信するように構成される。

前述の図１で説明されるとおり、継ぎ目５９はブランケット織物１００の繊維１０２および１０４の秩序構造を有しておらず、それ故；（ｉ）ブランケット織物１００のそれとは異なる、弾性係数などの、機械的特性を有し得、（ｉｉ）位置検知組立体２００は継ぎ目５９の区分５０２内で繊維事象５０４を生成することはできない可能性がある。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、ブランケット４４の各回転において、位置検知組立体２００によって検知された繊維事象のＰＯＴを保持するように構成される。本例では、回転ｎ内で繊維事象５０４Ａ～５０４Ｄの受信のＰＯＴに基づき、プロセッサ２０は、回転ｎ内の長さ５０１および５０２のサイズを計算し得、それらはそれぞれ、式（１）および（２）を使用してここで説明される：

式中、

および

はそれぞれ、ブランケット回転ｎ中に測定された、長さ５０１および５０２のサイズを示し、

および

はそれぞれ、第１の測定された回転中に測定された、長さ５０１および５０２のサイズを示し、

および

は、回転ｎと第１の測定された回転との間の長さ５０１および５０２の絶対的な伸びを示す。

長さ５０１および５０２の絶対的な伸びはそれぞれ、式（３）および（４）を使用してここで説明される：

所与の長さ（ｘ）は速度（ｖ）と時間（ｔ）を乗じることによって取得されることをアサートする初歩的な物理法則に基づき、第１と第ｎの回転の間の、継ぎ目５９の長さ５０１と織物区分６１の長さ５０２との間の相対的な伸びが式（５）を使用して記述される：

式中、Vは第１と第ｎの回転の間中のブランケット４４の移動速度を示し、

および

はそれぞれ、長さ５０１および５０２のサイズを示す、ｎ番目の回転において、位置検知組立体２００から受信したＰＯＴを示し、

および

はそれぞれ、長さ５０１および５０２のサイズを示す、第１の回転において、位置検知組立体２００から受信したＰＯＴを示す。

いくつかの実施形態では、式（５）に基づき、プロセッサ２０は、継ぎ目５９の長さ５０１と織物区分６１の長さ５０２との間の相対的な伸びを推定するように構成される。移動速度Ｖは、式（５）の分子および分母の両方から減じられ得、従って、第１および第ｎの回転において受信した繊維事象５０４Ａ～５０４ＤのＰＯＴに基づき、プロセッサ２０は、継ぎ目５９の長さ５０１と織物区分６１の長さ５０２との間の相対的な伸びを推定するように構成されることに留意されたい。

前述のとおり、相対的な伸びは、ブランケット織物１００と継ぎ目６１との間の、ヤング率とも示される、異なる弾性係数に起因して生じ得、ブランケットモジュール７０によって移動方向に移動される、ブランケット４４に印加される張力によって決まる。いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、それぞれの張力をブランケット４４に印加する際に生じる相対的な伸びのテーブルを保持するように構成される。

いくつかの実施形態では、テーブルを作成することは、いかなるリソースも割り当てることなく、しかしプロセッサ２０のプロセス管理および処理時間で、システム１０の印刷プロセス中に実行され得る。それ故、テーブルは各システム１０上に取り付けられた各ブランケット４４に対して作成され得、ブランケット織物１００および継ぎ目５９の両方の状態（例えば、機械的特性）を監視するために所与のブランケット４４の寿命にわたって監視され得る。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、式（５）に示されて、ブランケット４４の１つ以上の回転に対して計算される、比率に基づいて、システム１０を監視または制御するように構成される。

他の実施形態では、プロセッサは、ブランケット４４に沿って、複数の織物区分６１を画定するために前述した技術を使用し得、複数の織物区分は継ぎ目５９から、および相互からの１つ以上の所定の距離を有する。

図７は、本発明の一実施形態に従い、ブランケット４４の製造中にブランケット織物１００を切断するためのシステム６００の概略絵図である。いくつかの実施形態では、システム６００は、光源２１６を有する位置検知組立体２００を含み、光源２１６は、ブランケット織物１００およびファイバー組立体２１８を通過して、前述の図３で詳細に説明されるようにセンサー２２２によって検出される、光線２１５を方向付けるように構成される。

いくつかの実施形態では、システム６００は、制御信号を、動き組立体６２０および生産表面、本例では、テーブル６２２、を有するサブシステム６０２に、ケーブル６１８を介して送信するように構成される、コンピュータ６１０を含む。動き組立体６２０は、ブランケット織物１００を、織物１００の移動方向６１６と平行な軸に沿ってテーブル６２２の上を搬送するように構成される。コンピュータ６１０は、前述の図３で説明されるように、位置検知組立体２００からケーブル６１４を介して、ブランケット織物１００のそれぞれの開口部１０６の位置を示す光信号２０６を受信するようにさらに構成される。

いくつかの実施形態では、システム６００は、ブランケット織物１００を切断するために方向６０８に移動するように構成されたブレード６０６を有する織物切断サブシステム６０４を含む。他の実施形態では、切断サブシステム６０４は、ブランケット織物１００の切断に適した任意の他の構成を有し得る。

いくつかの実施形態では、コンピュータ６１０は、前述の図２で説明されるように、ブランケット４４内の繊維１０４の指定された数を示す、光信号２０６の数を示す、例えば、約２０，０００～３０，０００の間の、数を保持するように構成される。光信号２０６に基づき、コンピュータ６１０は、光信号２０６（それぞれ繊維１０４を示す）の数をカウントし、ブランケット織物１００を切断する切断位置を決定するように構成される。コンピュータ６１０は、前述の繊維の指定数に達すると織物１００を切断するために、ケーブル６１２を介して、制御信号を織物切断サブシステム６０４に送信するようにさらに構成される。

図７の例では、ブランケット織物１００Ａは織物切断サブシステム６０４によって切断されており、コンピュータ６１０は、前述のとおり、位置検知組立体２００から受信した信号２０６に基づき、ブランケット織物１００Ｂ内の繊維１０４の数をカウントしている。

いくつかの実施形態では、コンピュータ６１０は、ブランケット織物１００を切断するためのプロセス中にブランケット織物１００の移動速度を調整するために動き組立体６２０を制御するように構成される。例えば、プロセスは、（ｉ）コンピュータ６１０が光信号２０６をカウントして、ブランケット織物１００を切断すべき切断位置を決定する、第１の時間間隔、および（ｉｉ）コンピュータ６１０が切断サブシステム６０４を制御してブランケット織物１００を切断する、第２の時間間隔、を含み得る。かかる実施形態では、ブランケット織物１００の正確な切断を達成するために、コンピュータ６１０は動き組立体６２０を制御して、第１の時間間隔中には第１の速度（例えば、１秒あたり約５メートル）で、第２の時間間隔においては第２のより低速で、または完全に停止（ゼロ速度）さえして、ブランケット織物１００を移動させるように構成される。

他の実施形態では、前述の技術は、変更すべきところは変更して、周期性パターンを有する任意の種類の可撓性基材（または剛性基材）を切断するために使用され得る。

開示される技術は、ブランケット４４の製造中にブランケット織物１００を切断する際に、改善された精度（すなわち、ブランケット織物１００の正確なサイズ）および再現性（すなわち、システム６００によって切断された全てのブランケット織物１００の同一の長さを有する）を可能にする。繊維１０４の数をカウントすることにより、システム６００は、ブランケット織物１００の温度および弾性などのパラメータにおける変化によって影響されず、従って、システム６００はブランケット織物１００の長さの改善された精度および再現性を獲得し得ることに留意されたい。

典型的には、コンピュータ６１０は、本明細書で説明される機能を実行するためにソフトウェアでプログラムされる、汎用コンピュータを含む。ソフトウェアは、例えば、ネットワークを経由して、電子的形態でコンピュータにダウンロードされ得るか、または代替もしくは追加として、磁気、光、もしくは電子メモリなどの、持続性有形的媒体上で提供および／もしくは格納され得る。本開示の文脈およびクレームでは、コンピュータ６１０はプロセッサとも呼ばれて、前述のコンピュータ６１０の全ての機能を実行するように構成される。

システム６００のこの特定の構成は、本発明の実施形態によって対処される特定の問題を例示するため、およびかかるシステムの性能の強化においてこれらの実施形態の適用を例証するために、例として示されている。しかし、本発明の実施形態は、決してこの特定の種類のシステム例に限定されず、本明細書で説明される原理は、ブランケット４４を製造するため、および、典型的には、可撓性で、秩序構造（例えば、綿）を有する、他のタイプの織物を製造するために、他の種類のシステムに同様に適用され得る。

図８は、本発明の一実施形態に従い、移動しているブランケット４４の位置および位置合わせを監視するためのサブシステム７００の概略絵図である。サブシステム７００は、印刷プロセス、テストラン、ブランケット処理中、またはブランケット４４の任意の他の移動手順中に、ブランケット４４の動きおよび位置合わせを監視するように構成される。

いくつかの実施形態では、サブシステム７００は、前述の図３で詳細に説明される２つ以上の位置検知組立体２００、および／または前述の図４で説明されるＰＣＡ３００を含み得る。本例では、サブシステム７００は、Ｘ軸に沿って延在するブランケット４４のそれぞれの縁に隣接して（例えば、ブランケット４４のそれぞれの最も近い縁から約５ｍｍ～１００ｍｍの間、この範囲はブランケット織物１００の秩序構造を含み得、ジッパー、またはブランケット織物１００の秩序構造を塞ぎ得る印刷流体などの、ブランケット４４の他の特徴を除くことに留意）、ローラー７８Ａと７８Ｂとの間で、サブシステム７００上に取り付けられた、位置検知組立体２００Ａおよび２００Ｂを含む。

図８に示されるように、サブシステム７００は、ブランケット４４の中央にごく近接して配置された位置検知組立体２００Ｃなどの、１つ以上の追加の位置検知組立体を含み得るが、位置検知組立体２００Ａおよび２００Ｂは十分である。

いくつかの実施形態では、位置検知組立体２００Ａ、２００Ｂおよび２００Ｃは全て、ここでは軸７２６と呼ばれる、仮想線に沿って位置付けられており、軸７２６は、矢印９４によって表される、ブランケット４４の移動方向に直交で、例えば、前述の図２Ａおよび２Ｂに示される繊維１０４に平行である。

他の実施形態では、位置検知組立体２００Ａおよび２００Ｂの少なくとも１つは、ブランケット４４の縁に隣接して（例えば、前述の範囲内で）位置付けられ、他の位置検知組立体は軸７２６に沿って任意の適切な位置に配置され得、それはブランケット４４の最も近い縁から前述の範囲内ではない。例えば、サブシステム７００は、位置検知組立体２００Ａおよび２００Ｃを含み得、位置検知組立体２００Ａはブランケット４４の最も近い縁から５０ｃｍ以内に配置される。

いくつかの実施形態では、サブシステム７００は、例えば、前記の図３で説明される、ブランケット４４の周期性パターンを示す信号を、ケーブル３０２を介して、位置検知組立体２００Ａ、２００Ｂおよび２００Ｃから受信するように構成される、プロセッサ２０をさらに含む。

原理上は、ブランケット４４が軸７２６と交差するときに、繊維１０４は軸７２６と位置合わせされるはずである。図８に示されるように、ブランケット４４がシステム１０のＸ軸に沿って（例えば、矢印９４によって表される移動方向に）所定の距離ΔＸで移動される場合、本明細書でブランケット４４の軸７０６と呼ばれる、別の仮想線上に位置する、点７０２および７０４は、本明細書でブランケット４４の軸７１６と呼ばれる、異なる仮想線上に位置する、それぞれ点７１２および７１４に移動されるはずである。言い換えれば、軸７０６および７１６は、相互に平行である。それ故、ロータリーエンコーダ（図示せず）は、例えば、ブランケット４４の位置をエンコーダの回転角の関数として監視するためにローラー７８Ａに連結され得る。

しかし、点７０２および７０４におけるブランケット４４とブランケットモジュール７０との間の異なる摩擦、またはローラー７８Ａおよび７８Ｂの非線形もしくは不規則な回転運動などのシステム１０の１つ以上の考えられる故障に起因して、または任意の他の理由のために、距離ΔＸは、Ｙ軸の全域で均等ではない可能性がある。例えば、ブランケット４４の軸７１６Ａは点７０２が点７０４よりも低速で移動する状況を例示する。

この例では、シフトされた点７０２の位置を示す、点７１２Ａは、シフトされた点７０４の位置を示す、点７１４Ａと比較して、Ｘ軸に沿って短い距離だけ移動される。同様に、シフトされた点７０２の位置を示す、点７１２Ａは、点７１４Ａと比較して、Ｘ軸に沿って長い距離だけ移動されるので、点７１２Ｃおよび７１４Ａを有する、ブランケット４４の軸７１６Ｃは、軸７０６と平行ではない。前述の技術問題を例証するための参照として、点７０２および７０４がＸ軸に沿って等しい距離だけ移動している場合、両方は、軸７０６と平行な、ブランケット４４の軸７１６Ｂ上の点７１２Ｂおよび７１４Ａとして位置付けられる。

点７０２および７０４ならびに軸７０６に沿った他の点の異なる移動速度は、ブランケット４４に塗布される画像内に歪み、例えば、波形歪みを引き起こし得る。波形歪みの現象は、前述したブランケット４４の特定の動きプロファイルからの逸脱などの、様々な誤差によって、ならびに（ｉ）画像形成ステーション６０における１つ以上の印刷バー６２の間違った位置決め、および（ｉｉ）刷ステーション８４におけるブランケット４４とシート５０との間の指定された相対速度からの逸脱などであるが、それらに限定されない、他の理由によって引き起こされ得る。

前述の歪み、および追加の誤差は、印刷された特徴の波状パターンを生じ得る。典型的には、波状パターンは２つの成分を有する：（ｉ）例えば、刷ステーション８４における前述の逸脱に起因した、全ての色の共通の波、および（ｉｉ）各カラー像で形成される異なる波は、図８に示されて前述のように、例えば、１つ以上の印刷バー６２の間違った位置決めによって、および／またはブランケット４４の速度における一時的な変化に起因して引き起こされることに留意されたい。一般に、波形歪みは２つの成分、本明細書で波Ｘ（Ｙ）と呼ばれる、Ｙ軸上の位置と共に変化するＸ軸に沿った歪み、および本明細書で波Ｙ（Ｘ）と呼ばれる、Ｘ軸上の位置と共に変化するＹ軸に沿った歪み、を有する。波形歪みおよびその補正方法は、例えば、ＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０１９／０５６７４６号、および米国特許出願公開第２０１９／０１５２２１８号に詳細に記述されており、それらの開示は参照により本明細書に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、軸７２６に沿って、または任意の他の適切な構成でなど、ブランケット４４にごく近接して取り付けられた少なくとも２つの位置検知組立体２００から信号を受信するように構成される。本例では、プロセッサ２０は、位置検知組立体２００Ａおよび２００Ｂから、ならびに任意選択で、例えば、位置検知組立体２００Ｃなどの、追加の位置検知組立体から、信号を受信し得る。

いくつかの実施形態では、プロセッサ２０は、（ｉ）前述のように、軸７１６Ａに沿って生じた歪みなどであるが、それに限定されず、潜在的な歪みを識別してマッピングし、（ｉｉ）その歪みを補正するための任意の適切な方法を適用するように構成される。例えば、前述のＰＣＴ特許出願第ＰＣＴ／ＩＢ２０１９／０５６７４６号、および米国特許出願公開第２０１９／０１５２２１８号に記述されている技術の１つ以上を使用する。追加または代替として、プロセッサ２０は、マッピングされた歪みを補正するために任意の他の適切な技術を使用し得る。

サブシステム７００のこの特定の構成は、本発明の実施形態によって対処される特定の問題を例示するため、およびシステム１０の性能における強化においてこれらの実施形態の適用を例証するために、例として示されている。しかし、本発明の実施形態は決して、この特定の種類のサブシステム例に制限されず、本明細書で説明される原理は、任意の種類の他の適切なデジタル印刷システムで使用される他の種類の歪み検出、マッピングおよび補正に同様に適用され得る。

本明細書で説明される実施形態は主に、デジタル印刷システムの制御、監視および較正ならびに可撓性ＩＴＭの状態の監視およびＩＴＭに塗布される画像の歪みの検出と補正に対処するが、本明細書で説明される方法およびシステムは、可撓性標的基材上への直接印刷の制御、および可撓性基材の機能性に関連した様々なパラメータの監視など、他の用途でも使用できる。

前述の実施形態は例として引用されていること、および本発明は本明細書で上で具体的に示されて説明されているものに制限されないことが理解されよう。むしろ、本発明の範囲は、前述の様々な特徴の組合わせおよび部分的組合せの両方、ならびに前述の説明を読むと当業者が思い付くような、従来技術で開示されていない、変形およびその修正を含む。本特許出願で参照により組み込まれる文書は、任意の用語が本明細書で明示的または暗黙的に行われる定義と矛盾する方法でこれらの組み込まれた文書で定義されている範囲で、本明細書における定義だけが考慮されるべきであることを除いて、本出願の一体部分と見なされるべきである。

Claims (64)

1. デジタル印刷システムであって、
   周期性パターンを有する可撓性基材であって、移動されて、画像をその上に形成する印刷プロセスでインク液滴を受け取るように構成される、可撓性基材と、
   前記可撓性基材を光で照射して、前記可撓性基材から前記光を検出し、前記検出された光から前記周期性パターンを示す信号を導出するように構成される、光学組立体と、
   前記信号を受信し、前記信号によって示される前記周期性パターンに基づき前記デジタル印刷システムを監視または制御するように構成される、プロセッサと
   を備える、デジタル印刷システム。
2. 前記可撓性基材は、前記インク液滴を受け取り、前記画像を標的基材に転写するように構成される、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含む、請求項１に記載のシステム。
3. 前記可撓性基材は織物を含む、請求項１に記載のシステム。
4. 前記織物は、前記周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維を含み、前記光学組立体は前記交互配置された第１および第２のセットの織物から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項３に記載のシステム。
5. 前記第１および第２のセットの繊維は前記周期性パターンに従って相互に直交して配列され、前記光学組立体は、前記第１および第２のセットの繊維の前記直交配列から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項４に記載のシステム。
6. 前記第１のセットの繊維は、前記周期性パターンに従い前記可撓性基材の移動軸に直交して配列され、前記光学組立体は前記第１のセットの繊維から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項４に記載のシステム。
7. 前記織物は前記周期性パターンを含み、前記光学組立体は前記織物の前記周期性パターン内で複数の位置基準点を検出するように構成され、前記プロセッサは前記位置基準点の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の位置を計算するように構成される、請求項３に記載のシステム。
8. 前記信号は前記位置基準点の少なくとも１つの位置を示しており、前記プロセッサは前記位置基準点の１つ以上に基づいて前記デジタル印刷システムを制御するように構成される、請求項７に記載のシステム。
9. 第１のインク液滴を前記可撓性基材上の第１のインク位置に方向付け、第２のインク液滴を前記可撓性基材上の第２のインク位置に方向付けるように構成される、画像形成ステーションを備え、前記信号は前記第１のインク位置を示す第１の信号および前記第２のインク位置を示す第２の信号を含み、前記プロセッサは前記第１および第２の信号に基づいて前記第１と第２のインク位置の間の位置決めを制御するように構成される、請求項１～３のいずれかに記載のシステム。
10. 前記第１のインク液滴は第１の色を含み、前記第２のインク液滴は、前記第１の色とは異なる、第２の色を含み、前記プロセッサは前記第１および第２の信号に基づいて色と色の間の位置決めを制御するように構成される、請求項９に記載のシステム。
11. 前記信号は第１の時間に導出された第１の信号および、前記第１の時間とは異なる、第２の時間に導出された第２の信号を含み、前記プロセッサは前記第１および第２の信号に基づいて前記可撓性基材の１つ以上のパラメータを監視するように構成される、請求項１～３のいずれかに記載のシステム。
12. 前記プロセッサは前記第１および第２の信号に基づいて前記可撓性基材の交換をスケジューリングするように構成される、請求項１１に記載のシステム
13. 前記プロセッサは前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の伸びを監視するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
14. 前記プロセッサは、前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の移動速度を調整するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
15. 前記プロセッサは前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材に印加される張力を調整するように構成される、請求項１１に記載のシステム。
16. 前記可撓性基材は前記周期性パターンに従って変わる不透明度を有する、請求項１に記載のシステム。
17. 前記プロセッサは、前記信号によって示される前記周期性パターンに基づいて前記印刷プロセスを制御するように構成される、請求項１に記載のシステム。
18. 前記可撓性基材は、前記画像を受け取った後、前記画像を標的基材に転写するように構成される、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含み、前記プロセッサは、前記信号に基づき、前記画像の前記転写を調整または中断するように構成される、請求項１に記載のシステム。
19. 前記プロセッサは、前記信号に基づいて前記デジタル印刷システムの少なくとも１つの組立体を較正するように構成される、請求項１に記載のシステム
20. 前記可撓性基材は（ｉ）前記周期性パターンおよび前記移動している可撓性基材への所与の張力の印加時に取得される第１の伸びを有する前記織物と、（ｉｉ）前記織物の縁の間を連結するための継ぎ目とを含み、前記継ぎ目は前記周期性パターン以外の構造を有しており、前記所与の張力を前記移動している可撓性基材に印加する場合、前記継ぎ目は前記第１の伸びとは異なる、第２の伸びを有し、前記プロセッサは、前記信号に基づき、前記第１と第２の伸びの間の比率を計算するように構成される、請求項１～３のいずれかに記載のシステム。
21. 前記プロセッサは、前記第１と第２の伸びの間の前記計算された比率に基づいて前記デジタル印刷システムを制御するように構成される、請求項２０に記載のシステム。
22. 前記可撓性基材は、少なくとも第１および第２の回転において、前記デジタル印刷システム内で、動かされるように構成された連続ループを含み、前記プロセッサは、少なくとも（ｉ）前記第１の回転あたりの、前記第１と第２の伸びの間の、第１の比率、および（ｉｉ）前記第２の回転あたりの、前記第１と第２の伸びの間の、第２の比率、を計算するように構成され、前記プロセッサは、少なくとも前記第１の比率および第２の比率に基づいて前記デジタル印刷システムを監視または制御するように構成される、請求項２０に記載のシステム。
23. 前記光学組立体は、第１の周期信号を導出するように構成された少なくとも第１の検知組立体と、第２の周期信号を導出するように構成された第２の位置検知組立体とを含み、前記第１および第２の位置組立体は前記可撓性基材にわたる第１および第２のそれぞれの位置に配置され、前記プロセッサは、前記第１および第２の周期信号に基づいて、前記可撓性基材において生じた歪みを検出するように構成される、請求項１～３のいずれかに記載のシステム。
24. 前記第１および第２の位置組立体は、前記可撓性基材の移動方向に直交する軸に沿って配置される、請求項２３に記載のシステム。
25. 前記第１および第２の位置組立体の少なくとも１つは、前記可撓性基材の縁に隣接して配置される、請求項２３に記載のシステム。
26. 前記可撓性基材の前記周期性パターンは、モーションエンコーダのエンコーダスケールとして機能する、請求項１に記載のシステム。
27. 前記可撓性基材および前記光学組立体は一緒に、前記モーションエンコーダとして機能する、請求項２６に記載のシステム。
28. デジタル印刷システムを制御するための方法であって、前記方法は、
    周期性パターンを有する移動可能な可撓性基材を光で照射することであって、前記可撓性基材は、画像をその上に形成する印刷プロセスにおいてインク液滴を受け取ることと、
    前記可撓性基材から前記光を検出して、前記検出された光から前記周期性パターンを示す信号を導出することと、
    前記信号によって示される前記周期性パターンに基づいて前記デジタル印刷システムを監視または制御することと
    を含む、方法。
29. 前記可撓性基材は、前記インク液滴を受け取るため、および前記画像を標的基材に転写するための可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含む、請求項２８に記載の方法。
30. 前記可撓性基材は織物を含む、請求項２８に記載の方法。
31. 前記織物は、前記周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維を含み、前記周期性パターンを示す前記信号を導出することは、前記交互配置された第１および第２のセットの織物から前記信号を導出することを含む、請求項３０に記載の方法。
32. 前記第１および第２のセットの繊維は前記周期性パターンに従って相互に直交して配列され、前記周期性パターンを示す前記信号を導出することは、前記第１および第２のセットの繊維の前記直交配列に基づく、請求項３１に記載の方法。
33. 前記第１のセットの繊維は、前記周期性パターンに従い前記可撓性基材の移動軸に直交して配列され、前記周期性パターンを示す前記信号を導出することは、第１のセットの繊維の前記配列から前記信号を導出することを含む、請求項３２に記載の方法。
34. 前記織物は前記周期性パターンを含み、前記光を検出することは、前記織物の前記周期性パターン内で複数の位置基準点を検出することを含み、前記位置基準点の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の位置を計算することを含む、請求項３０に記載の方法。
35. 前記信号は前記位置基準点の少なくとも１つの位置を示しており、前記デジタル印刷システムを制御することは、前記位置基準点の１つ以上に基づく、請求項３０に記載の方法。
36. 第１のインク液滴を前記可撓性基材上の第１のインク位置に、および第２のインク液滴を前記可撓性基材上の第２のインク位置に方向付けることを含み、前記信号を導出することは、前記第１のインク位置を示す第１の信号を導出することと、前記第２のインク位置を示す第２の信号を導出することとを含み、前記第１および第２の信号に基づいて前記第１と第２のインク位置の間の位置決めを制御することを含む、請求項２８～３０のいずれかに記載の方法。
37. 前記第１のインク液滴は第１の色を含み、前記第２のインク液滴は、前記第１の色とは異なる、第２の色を含み、前記第１および第２の信号に基づいて色と色の間の位置決めを制御することを含む、請求項３６に記載の方法。
38. 前記信号を導出することは、第１の信号を第１の時間に導出することと、第２の信号を、前記第１の時間とは異なる、第２の時間に導出することと含み、前記第１および第２の信号に基づいて前記可撓性基材の１つ以上のパラメータを監視することを含む、請求項２８～３０のいずれかに記載の方法。
39. 前記第１および第２の信号に基づいて前記可撓性基材の交換をスケジューリングすることを含む、請求項３８に記載の方法。
40. 前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の伸びを監視することを含む、請求項３８に記載の方法。
41. 前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材の移動速度を調整することを含む、請求項３８に記載の方法。
42. 前記第１および第２の信号の少なくとも１つに基づいて前記可撓性基材に印加される張力を調整することを含む、請求項３８に記載の方法。
43. 前記可撓性基材は前記周期性パターンに従って変わる不透明度を有する、請求項２８に記載の方法。
44. 前記信号によって示される前記周期性パターンに基づいて前記印刷プロセスを制御することを含む、請求項２８に記載の方法。
45. 前記可撓性基材は、前記画像を標的基材に転写するために、可撓性中間転写部材（ＩＴＭ）を含み、前記デジタル印刷システムを制御することは、前記信号に基づき前記画像の前記転写を調整または中断することを含む、請求項２８に記載の方法。
46. 前記デジタル印刷システムを制御することは、前記信号に基づいて前記デジタル印刷システムの少なくとも１つの組立体を較正することを含む、請求項２８に記載の方法。
47. 前記可撓性基材は（ｉ）前記周期性パターンおよび前記移動している可撓性基材への所与の張力の印加時に取得される第１の伸びを有する前記織物と、（ｉｉ）前記織物の縁の間を連結するための継ぎ目とを含み、前記継ぎ目は前記周期性パターン以外の構造を有しており、前記所与の張力を前記移動している可撓性基材に印加する場合、前記継ぎ目は前記第１の伸びとは異なる、第２の伸びを有し、前記デジタル印刷システムを監視または制御することは、前記信号に基づき、前記第１と第２の伸びの間の比率を計算することを含む、請求項２８～３０のいずれかに記載の方法。
48. 前記デジタル印刷システムを制御することは、前記第１と第２の伸びの間の前記計算された比率に基づく、請求項４７に記載の方法。
49. 前記可撓性基材は、少なくとも第１および第２の回転において、前記デジタル印刷システム内で、動かされるように構成された連続ループを含み、前記比率を計算することは、少なくとも（ｉ）前記第１の回転あたりの、前記第１と第２の伸びの間の、第１の比率、および（ｉｉ）前記第２の回転あたりの、前記第１と第２の伸びの間の、第２の比率、を計算することを含み、前記デジタル印刷システムを監視または制御することは、少なくとも前記第１の比率および第２の比率に基づく、請求項４７に記載の方法。
50. 前記移動可能な可撓性基材を光で照射することは、前記可撓性基材にわたる少なくとも第１および第２の位置を照射することを含み、前記光を検出することは、（ｉ）第１の周期信号を前記第１の位置において、および（ｉｉ）第２の周期信号を前記第２の位置において、導出することを含み、前記デジタル印刷システムを監視または制御することは、前記第１および第２の周期信号に基づいて、前記可撓性基材において生じた歪みを検出することを含む、請求項２８～３０のいずれかに記載の方法。
51. 前記少なくとも第１および第２の位置は、前記可撓性基材の移動方向に直交する軸に沿って配置される、請求項５０に記載の方法。
52. 前記第１および第２の位置の少なくとも１つは、前記可撓性基材の縁に隣接して配置される、請求項５０に記載の方法。
53. 周期性パターンを有する可撓性基材を製造するためのシステムであって、前記システムは、
    前記可撓性基材を、移動方向に沿って移動させるように構成される、動き組立体と、
    前記可撓性基材を光で照射して、前記可撓性基材から前記光を検出し、前記検出された光から前記周期性パターンを示す信号を導出するように構成される、光学組立体と、
    前記可撓性基材を切断するように構成される、切断サブシステムと、
    前記光学組立体から前記信号を受信し、前記信号に基づいて、前記可撓性基材を切断すべき切断位置を決定して、前記位置で前記可撓性基材を切断するために前記切断サブシステムを制御するように構成される、プロセッサと
    を備える、システム。
54. 前記周期性パターンは複数の繰り返しパターン単位を含み、前記信号は、前記光学組立体によって検出されたそれぞれのパターン単位を示す複数のパルスを含み、前記プロセッサは、前記信号内のパルス数をカウントし、前記パルス数が事前に割り当てられた値を超えたことの検出に応答して前記切断位置を決定するように構成される、請求項５３に記載のシステム。
55. 前記プロセッサは、前記動き組立体を制御して、前記可撓性基材を、前記プロセッサが前記パルスをカウントしている第１の時間間隔中に第１の速度で、および前記プロセッサが前記切断サブシステムを制御して前記可撓性基材を切断する第２の時間間隔中に第２の速度で移動させるように構成される、請求項５４に記載のシステム。
56. 前記可撓性基材は、前記周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維をもつ織物を含み、前記光学組立体は、前記交互配置された第１および第２のセットの繊維から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項５３～５４のいずれかに記載のシステム。
57. 前記第１および第２のセットの繊維は前記周期性パターンに従って相互に直交して配列され、前記光学組立体は、前記第１および第２のセットの繊維の前記直交配列から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項５６に記載のシステム。
58. 前記第１のセットの繊維は、前記周期性パターンに従い前記可撓性基材の前記移動方向に直交して配列され、前記光学組立体は前記第１のセットの繊維から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出するように構成される、請求項５６に記載のシステム。
59. 周期性パターンを有する可撓性基材を製造するための方法であって、
    前記可撓性基材を、移動方向に沿って、生産表面の上を移動させることと、
    前記可撓性基材を光で照射して、前記可撓性基材から前記光を検出し、前記検出された光から前記周期性パターンを示す信号を導出することと、
    前記信号に基づき、前記可撓性基材を切断すべき切断位置を決定することと、
    前記可撓性基材を前記切断位置で切断することと
    を含む、方法。
60. 前記周期性パターンは複数の繰り返しパターン単位を含み、前記信号は、それぞれの検出されたパターン単位を示す複数のパルスを含み、前記信号内の前記パルスの数をカウントすることと、前記パルス数が事前に割り当てられた値を超えたことの検出に応答して前記切断位置を決定することとを含む、請求項５９に記載の方法。
61. 前記可撓性基材を、前記プロセッサが前記パルスをカウントしている第１の時間間隔中に第１の速度で、および前記プロセッサが前記切断サブシステムを制御して前記可撓性基材を切断する第２の時間間隔中に第２の速度で移動させることを含む、請求項６０に記載の方法。
62. 前記可撓性基材は、前記周期性パターンに従い相互に交互配置された第１および第２のセットの繊維をもつ織物を含み、前記信号を導出することは、前記交互配置された第１および第２のセットの繊維から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出することを含む、請求項５９～６０のいずれかに記載の方法。
63. 前記第１および第２のセットの繊維は前記周期性パターンに従って相互に直交して配列され、前記信号を導出することは、前記第１および第２のセットの繊維の前記直交配列から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出することを含む、請求項６２に記載の方法。
64. 前記第１のセットの繊維は、前記周期性パターンに従い前記可撓性基材の前記移動方向に直交して配列され、前記信号を導出することは、前記第１のセットの繊維から検出された光から前記周期性パターンを示す前記信号を導出することを含む、請求項６２に記載の方法。

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