JP2022538301A - Ｃｎｓ障害を治療するための組成物及び方法 - Google Patents

Ｃｎｓ障害を治療するための組成物及び方法 Download PDF

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Abstract

本明細書では、部分的に、式Ｉの化合物、JPEG2022538301000189.jpg50165またはその薬学的に許容される塩、式Ｉの化合物を含む薬学的組成物、及び例えば、ＣＮＳ関連障害の治療における化合物の使用方法が提供される。

Description

関連出願の相互参照
この出願は、２０１９年６月２７日に出願された米国特許出願第６２／８６７，７３４号、２０１９年６月２７日に出願された米国特許出願第６２／８６７，７３６号、２０１９年６月２７日に出願された米国特許出願第６２／８６７，６９５号に対する優先権を主張し、これらのそれぞれの内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
脳の興奮性は、昏睡からけいれんまでの範囲の連続体である動物の興奮のレベルとして定義され、様々な神経伝達物質によって調節される。一般に、神経伝達物質は、神経細胞膜にわたるイオンの伝導を調節する役割を担う。安静時に、ニューロン膜は、およそ－７０ｍＶの電位（または膜電圧）を有し、細胞内部は、細胞外部に対して負である。電位（電圧）は、ニューロン半透過性膜にわたるイオン（Ｋ＋、Ｎａ＋、Ｃｌ－、有機アニオン）バランスの結果である。神経伝達物質は、シナプス前小胞に貯蔵され、神経細胞の活動電位の影響下で放出される。シナプス間隙に放出されると、アセチルコリンなどの興奮性化学伝達物質が膜の脱分極を引き起こす（電位の変化は、－７０ｍＶ～－５０ｍＶで起こる）。この効果は、アセチルコリンによって刺激されてＮａ＋イオンに対する膜透過性を増加させるシナプス後ニコチン性受容体によって媒介される。膜電位の低下は、シナプス後活動電位の形態で神経細胞の興奮性を刺激する。
ＧＡＢＡ受容体複合体（ＧＲＣ）の場合、脳興奮性への影響は、神経伝達物質であるγ－アミノ酪酸（ＧＡＢＡ）によって媒介される。ＧＡＢＡは、脳内の最大４０％のニューロンが神経伝達物質としてＧＡＢＡを利用するため、脳全体の興奮性に深い影響を与える。ＧＡＢＡは、ニューロン膜を横断する塩化物イオンのコンダクタンスを調節することによって、個々のニューロンの興奮性を調節する。ＧＡＢＡは、ＧＲＣ上のその認識部位と相互作用して、ＧＲＣの電気化学的勾配を下って細胞に流れる塩化物イオンを促進する。このアニオンのレベルの細胞内増加は、膜貫通電位の超分極を引き起こし、ニューロンが興奮性入力、すなわち、ニューロン興奮性の低下に影響を受けにくくする。言い換えれば、ニューロン内の塩化物イオン濃度が高いほど、脳の興奮性及び覚醒水準が低下する。
ＧＲＣが、不安、発作活動、及び鎮静の媒介を担っていることは十分に文書化されている。したがって、ＧＡＢＡ及びＧＡＢＡのように作用するか、またはＧＡＢＡの効果を促進する薬物（例えば、治療上有用なバルビツール酸塩及びベンゾジアゼピン（ＢＺ）、例えば、Ｖａｌｉｕｍ（登録商標））は、ＧＲＣ上の特定の調節部位と相互作用することによって、それらの治療上有用な効果をもたらす。現在、蓄積された証拠により、ベンゾジアゼピン及びバルビツール酸塩の結合部位に加えて、ＧＲＣは、神経活性ステロイドのための別個の部位を含有することが示された。例えば、Ｌａｎ，Ｎ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｎｅｕｒｏｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．（１９９１）１６：３４７－３５６を参照されたい。
神経活性ステロイドは、内因的に起こり得る。最も強力な内因性神経活性ステロイドは、３α－ヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オン及び３α－２１－ジヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オンであり、それぞれホルモン性ステロイドのプロゲステロン及びデオキシコルチコステロンの代謝産物である。これらのステロイド代謝産物が脳の興奮性を変化させる能力は、１９８６年に認識された（Ｍａｊｅｗｓｋａ，Ｍ．Ｄ．ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ ２３２：１００４－１００７（１９８６）、Ｈａｒｒｉｓｏｎ，Ｎ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２４１：３４６－３５３（１９８７）を参照）。
脳興奮性のための調節剤、ならびにＣＮＳ関連疾患の予防及び治療のための薬剤として機能する、新しく改良された化合物が必要である。本明細書に記載の化合物、組成物、及び方法は、この目的に向けられる。
Ｌａｎ，Ｎ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｎｅｕｒｏｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．（１９９１）１６：３４７－３５６ Ｍａｊｅｗｓｋａ，Ｍ．Ｄ．ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ ２３２：１００４－１００７（１９８６） Ｈａｒｒｉｓｏｎ，Ｎ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２４１：３４６－３５３（１９８７）
本明細書では、例えば、ＧＡＢＡ調節物質として作用するように設計された化合物が提供される。いくつかの実施形態において、そのような化合物は、ＣＮＳ関連障害を治療するための治療薬として有用であることが想定される。
一態様において、本明細書では、式Ｉの化合物：

Figure 2022538301000002
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000003
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000004
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、ｔが、２または３である。
別の態様において、本明細書では、式ＩＩの化合物：
Figure 2022538301000005
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000006
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000007
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであるが、但し、Ｒ５がＨである場合、Ｒ１８が－ＣＨ３または－ＣＨ２ＣＨ３ではないことを条件とする。
一態様において、本明細書では、式Ｖの化合物：
Figure 2022538301000008
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000009
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000010
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
一態様において、本明細書では、式ＶＩａもしくは式ＶＩｂの化合物：
Figure 2022538301000011
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000012
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000013
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｒが、２または３である。
一態様において、本明細書では、式ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538301000014
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000015
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000016
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
一態様において、本明細書では、式ＶＩＩＩの化合物：
Figure 2022538301000017
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000018
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000019
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｓが、２である。
別の態様において、本明細書では、式ＩＸの化合物：
Figure 2022538301000020
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、Ｌが、
Figure 2022538301000021
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
一態様において、本明細書では、式Ｘの化合物：
Figure 2022538301000022
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000023
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000024
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｑが、２である。
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）の薬学的に許容される塩が提供される。
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法は、有効量の本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を対象に投与することを含む。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
いくつかの実施形態において、化合物は、本明細書の表１に特定される化合物からなる群から選択される。
本明細書に記載の本発明の化合物は、ある特定の実施形態において、ＧＡＢＡ調節剤として機能し、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体を陽性または陰性のいずれかの方法で作用させる。中枢神経系（ＣＮＳ）の興奮性の調節因子として、ＧＡＢＡＡ受容体を調節するそれらの能力によって媒介されるように、そのような化合物は、ＣＮＳ活性を有すると予想される。
したがって、別の態様において、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、ＣＮＳ関連障害を必要とする対象においてそれを行う方法が提供される。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に、皮下的に、静脈内に、または筋肉内に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、例えば、連続静脈内注入によって連続的に投与される。
本発明のある特定の実施形態の詳細な説明
概して本明細書に記載されるように、本発明は、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体調節物質として機能するように設計された化合物を提供する。ある特定の実施形態において、そのような化合物は、ＣＮＳ関連障害（例えば、本明細書に記載される障害、例えば、産後うつ病または大うつ病性障害などのうつ病）を治療するための治療剤として有用であることが想定される。
定義
化学的定義
特定の官能基及び化学用語の定義は、以下でより詳細に記載される。化学元素は、元素の周期表、ＣＡＳ版、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，７５ｔｈ Ｅｄ．の見返しに従って特定され、特定の官能基は、一般に本明細書に記載されるとおり定義される。追加的に、有機化学の一般原則、ならびに特定の官能部分及び反応性は、Ｔｈｏｍａｓ Ｓｏｒｒｅｌｌ，Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｂｏｏｋｓ，Ｓａｕｓａｌｉｔｏ，１９９９、Ｓｍｉｔｈ ａｎｄ Ｍａｒｃｈ，Ｍａｒｃｈ’ｓ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，２００１、Ｌａｒｏｃｋ，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９、及びＣａｒｒｕｔｈｅｒｓ，Ｓｏｍｅ Ｍｏｄｅｒｎ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，１９８７に記載されている。
異性体、例えば、立体異性体は、キラル高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ならびにキラル塩の形成及び結晶化を含む、当業者に既知の方法によって、混合物から単離され得るか、または好ましい異性体は、非対称合成によって調製され得る。例えば、Ｊａｃｑｕｅｓ ｅｔ ａｌ．，Ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｓ，Ｒａｃｅｍａｔｅｓ ａｎｄ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８１）、Ｗｉｌｅｎ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ３３：２７２５（１９７７）、Ｅｌｉｅｌ，Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｃａｒｂｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＭｃＧｒａｗ－Ｈｉｌｌ，ＮＹ，１９６２）、及びＷｉｌｅｎ，Ｔａｂｌｅｓ ｏｆ Ｒｅｓｏｌｖｉｎｇ Ａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ ｐ．２６８（Ｅ．Ｌ．Ｅｌｉｅｌ，Ｅｄ．，Ｕｎｉｖ．ｏｆ Ｎｏｔｒｅ Ｄａｍｅ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｏｔｒｅ Ｄａｍｅ，ＩＮ １９７２）を参照されたい。本発明は、追加的に、他の異性体を実質的に含まない個々の異性体として、かつ代替的に、様々な異性体の混合物として、本明細書に記載の化合物を包含する。
「立体異性体」：また同一の分子式を有するが、それらの原子の結合の性質もしくは配列または空間におけるそれらの原子の配置が異なる化合物は、「異性体」と呼ばれることを理解されたい。空間におけるそれらの原子の配置が異なる異性体は、「立体異性体」と呼ばれる。互いの鏡像ではない立体異性体は、「ジアステレオマー」と呼ばれ、互いの重畳可能でない鏡像である立体異性体は、「エナンチオマー」と呼ばれる。化合物が不斉中心を有する場合、例えば、化合物が４つの異なる基に結合している場合、一対のエナンチオマーが可能である。エナンチオマーは、その不斉中心の絶対配置を特徴とすることができ、Ｃａｈｎ及びＰｒｅｌｏｇのＲ－及びＳ－配列決定規則によって、または分子が偏光平面を回転させ、右旋性もしくは左旋性として（すなわち、それぞれ（＋）または（－）－異性体として）指定される方法によって説明される。キラル化合物は、個々のエナンチオマーとして、またはそれらの混合物として存在し得る。等比率のエナンチオマーを含有する混合物は、「ラセミ混合物」と呼ばれる。
本明細書で使用される場合、純粋なエナンチオマー化合物は、化合物の他のエナンチオマーまたは立体異性体を実質的に含まない（すなわち、エナンチオマー過剰にある）。言い換えれば、「Ｓ」形態の化合物は、「Ｒ」形態の化合物を実質的に含まず、したがって、エナンチオマー過剰の「Ｒ」形態である。「エナンチオマー的に純粋な」または「純粋なエナンチオマー」という用語は、化合物が、７５重量％超、８０重量％超、８５重量％超、９０重量％超、９１重量％超、９２重量％超、９３重量％超、９４重量％超、９５重量％超、９６重量％超、９７重量％超、９８重量％超、９８．５重量％超、９９重量％超、９９．２重量％超、９９．５重量％超、９９．６重量％超、９９．７重量％超、９９．８重量％超、または９９．９重量％超のエナンチオマーを含むことを意味する。ある特定の実施形態において、重量は、化合物のすべてのエナンチオマーまたは立体異性体の総重量に基づく。
本明細書に提供される組成物では、エナンチオマー的に純粋な化合物は、他の活性または不活性成分とともに存在し得る。例えば、エナンチオマー的に純粋なＲ位置／中心／炭素化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤及び約１０％のエナンチオマー的に純粋なＲ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物中のエナンチオマー的に純粋なＲ化合物は、例えば、化合物の総重量で、少なくとも約９５重量％のＲ化合物及び多くて約５重量％のＳ化合物を含み得る。例えば、エナンチオマー的に純粋なＳ化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤及び約１０％のエナンチオマー的に純粋なＳ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物中のエナンチオマー的に純粋なＳ化合物は、例えば、化合物の総重量で、少なくとも約９５重量％のＳ化合物及び多くて約５重量％のＲ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、活性成分は、賦形剤または担体をほとんどまたは全く有しないで製剤化され得る。
「ジアステレオマー的に純粋な」という用語は、化合物が、７５重量％超、８０重量％超、８５重量％超、９０重量％超、９１重量％超、９２重量％超、９３重量％超、９４重量％超、９５重量％超、９６重量％超、９７重量％超、９８重量％超、９８．５重量％超、９９重量％超、９９．２重量％超、９９．５重量％超、９９．６重量％超、９９．７重量％超、９９．８重量％超、または９９．９重量％超の単一のジアステレオマーを含むことを意味する。ジアステレオマー及びエナンチオマーの純度を判定するための方法は、当該技術分野において周知である。ジアステレオマー純度は、化合物とそのジアステレオマーとを定量的に区別することができる任意の分析方法、例えば、高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によって決定することができる。
冠詞「ａ」及び「ａｎ」は、冠詞の文法上の目的語のうちの１つまたは２つ以上（すなわち、少なくとも１つ）を指すために本明細書で使用され得る。例として、「類似体」は、１つの類似体または２つ以上の類似体を意味する。
値の範囲が列挙される際、範囲内のそれぞれの値及び部分範囲を包含することが意図される。例えば、「Ｃ１～６アルキル」は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ１～６、Ｃ１～５、Ｃ１～４、Ｃ１～３、Ｃ１～２、Ｃ２～６、Ｃ２～５、Ｃ２～４、Ｃ２～３、Ｃ３～６、Ｃ３～５、Ｃ３～４、Ｃ４～６、Ｃ４～５、及びＣ５～６アルキルを包含することが意図される。
以下の用語は、以下に提示される意味を有するように意図され、本発明の説明及び意図される範囲を理解するのに有用である。
「アルキル」は、１～２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐飽和炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ１～２０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～９個の炭素原子を有する（「Ｃ１～９アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～８個の炭素原子を有する（「Ｃ１～８アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～７個の炭素原子を有する（「Ｃ１～７アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～６個の炭素原子を有する（「Ｃ１～６アルキル」、本明細書では「低級アルキル」とも称される）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～５個の炭素原子を有する（「Ｃ１～５アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～４個の炭素原子を有する（「Ｃ１～４アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～３個の炭素原子を有する（「Ｃ１～３アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１個の炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキル」）。Ｃ１～６アルキル基の例としては、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ－プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ－ブチル（Ｃ４）、三級ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ－ブチル（Ｃ４）、イソ－ブチル（Ｃ４）、ｎ－ペンチル（Ｃ５）、３－ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３－メチル－２－ブタニル（Ｃ５）、三級アミル（Ｃ５）、及びｎ－ヘキシル（Ｃ６）が挙げられる。アルキル基の追加の例としては、ｎ－ヘプチル（Ｃ７）、ｎ－オクチル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルキル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルキル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルキル」）。ある特定の実施形態において、アルキル基は、非置換Ｃ１～１０アルキル（例えば、－ＣＨ３）である。ある特定の実施形態において、アルキル基は、置換Ｃ１～１０アルキルである。一般的なアルキルの略称としては、Ｍｅ（－ＣＨ３）、Ｅｔ（－ＣＨ２ＣＨ３）、ｉＰｒ（－ＣＨ（ＣＨ３）２）、ｎＰｒ（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｎ－Ｂｕ（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、またはｉ－Ｂｕ（－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）が挙げられる。
「アルキレン」は、２つの水素が除去されて二価ラジカルを提供し、置換または非置換であり得るアルキル基を指す。非置換アルキレン基としては、メチレン（－ＣＨ２－）、エチレン（－ＣＨ２ＣＨ２－）、プロピレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ブチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ペンチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ヘキシレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）などが挙げられるが、これらに限定されない。例えば、１つ以上のアルキル（メチル）基で置換された例示的な置換アルキレン基としては、置換メチレン（－ＣＨ（ＣＨ３）－、（－Ｃ（ＣＨ３）２－）、置換エチレン（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－）、置換プロピレン（－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－）などが挙げられるが、これらに限定されない。炭素の範囲または数が特定のアルキレン基に提供される場合、範囲または数は、直鎖炭素二価鎖中の炭素の範囲または数を指すことを理解されたい。アルキレン基は、本明細書に記載の１つ以上の置換基で置換されるか、または非置換であり得る。
「アルケニル」は、２～２０個の炭素原子、１つ以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素二重結合）、及び任意選択で１つ以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素三重結合）を有する直鎖または分岐炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２～２０アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルケニルは、いかなる三重結合も含まない。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１つ以上の炭素－炭素二重結合は、内部（２－ブテニルなど）または末端（１－ブテニルなど）であり得る。Ｃ２～４アルケニル基の例としては、エテニル（Ｃ２）、１－プロペニル（Ｃ３）、２－プロペニル（Ｃ３）、１－ブテニル（Ｃ４）、２－ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２～６アルケニル基の例としては、前述のＣ２～４アルケニル基、ならびにペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルケニルの追加の例としては、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルケニル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルケニル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、非置換Ｃ２～１０アルケニルである。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、置換Ｃ２～１０アルケニルである。
「アルキニル」は、２～２０個の炭素原子、１つ以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素三重結合）、及び任意選択で１つ以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素二重結合）を有する直鎖または分岐炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２～２０アルキニル」）。ある特定の実施形態において、アルキニルは、いかなる二重結合も含まない。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１つ以上の炭素－炭素三重結合は、内部（２－ブチニルなど）または末端（１－ブチニルなど）であり得る。Ｃ２～４アルキニル基の例としては、限定なく、エチニル（Ｃ２）、１－プロピニル（Ｃ３）、２－プロピニル（Ｃ３）、１－ブチニル（Ｃ４）、２－ブチニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２～６アルケニル基の例としては、前述のＣ２～４アルキニル基、ならびにペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルキニルの追加の例としては、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルキニル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルケニル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、非置換Ｃ２～１０アルキニルである。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、置換Ｃ２～１０アルキニルである。
本明細書で使用される場合、「ヘテロアルキル」という用語は、親鎖内に１個以上の（例えば、１、２、３、もしくは４個の）ヘテロ原子（例えば、酸素、硫黄、窒素、ホウ素、シリコン、リン）をさらに含み、１個以上のヘテロ原子が、親炭素鎖内の隣接する炭素原子の間に挿入され、及び／または１個以上のヘテロ原子が、炭素原子と親分子の間、すなわち、結合点の間に挿入される、本明細書で定義されるアルキル基を指す。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～１０個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基を指す（「ヘテロＣ１～１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～９個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～９アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～８個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～８アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～７個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～７アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～６個の炭素原子、及び１、２、または３個のヘテロ原子を有する基である（「ヘテロＣ１～６アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～５個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～５アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～４個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～４アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～３個の炭素原子、及び１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～３アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～２個の炭素原子、及び１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～２アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１個の炭素原子及び１個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、２～６個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ２～６アルキル」）。別段の定めのない限り、ヘテロアルキル基のそれぞれの例は、独立して、置換されていないか（「非置換ヘテロアルキル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、非置換ヘテロＣ１～１０アルキルである。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、置換ヘテロＣ１～１０アルキルである。
「アリール」は、芳香族環系に提供された６～１４個の環炭素原子及び０個のヘテロ原子を有する単環式または多環式（例えば、二環式もしくは三環式）４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環状配列で共有された６、１０、もしくは１４πの電子を有する）のラジカルを指す（「Ｃ６～１４アリール」）。いくつかの実施形態において、アリール基は、６個の環炭素原子を有する（「Ｃ６アリール」；例えば、フェニル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例えば、１－ナフチル及び２－ナフチルなどのナフチル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例えば、アントラシル）。「アリール」はまた、上で定義されたアリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合する、環系を含み、ラジカルまたは結合点は、アリール環上にあり、そのような例では、炭素原子の数は、アリール環系における炭素原子の数を指定し続ける。典型的なアリール基としては、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、ａｓ－インダセン、ｓ－インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ－２，４－ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレン、及びトリナフタレンに由来する基が挙げられるが、これらに限定されない。特に、アリール基は、フェニル、ナフチル、インデニル、及びテトラヒドロナフチルを含む。別段の定めのない限り、アリール基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アリール」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある特定の実施形態において、アリール基は、非置換Ｃ６～１４アリールである。ある特定の実施形態において、アリール基は、置換Ｃ６～１４アリールである。
ある特定の実施形態において、アリール基は、ハロ、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ８ハロアルキル、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、及びアミノから選択される基のうちの１つ以上で置換されている。
代表的な置換アリールの例としては、以下が挙げられ、
Figure 2022538301000025
 式中、Ｒ５６及びＲ５７のうちの１つは、水素であってもよく、Ｒ５６及びＲ５７のうちの少なくとも１つは、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ８ハロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、アルカノイル、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、ＮＲ５８ＣＯＲ５９、ＮＲ５８ＳＯＲ５９ＮＲ５８ＳＯ２Ｒ５９、ＣＯＯアルキル、ＣＯＯアリール、ＣＯＮＲ５８Ｒ５９、ＣＯＮＲ５８ＯＲ５９、ＮＲ５８Ｒ５９、ＳＯ２ＮＲ５８Ｒ５９、Ｓ－アルキル、ＳＯアルキル、ＳＯ２アルキル、Ｓアリール、ＳＯアリール、ＳＯ２アリールから選択されるか、またはＲ５６及びＲ５７が接合されて、任意選択的に、Ｎ、Ｏ、もしくはＳ基から選択される１個以上のヘテロ原子を含有する５～８個の原子の環状環（飽和もしくは不飽和）を形成することができる。Ｒ６０及びＲ６１は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、置換Ｃ６～Ｃ１０アリール、５～１０員ヘテロアリール、または置換５～１０員ヘテロアリールである。
「縮合アリール」は、その環炭素のうちの２つを、第２のアリール環もしくはヘテロアリール環と、または炭素環式もしくは複素環式環と共有するアリールを指す。
「ヘテロアリール」は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の単環式または二環式４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環状配列で共有された６または１０πの電子を有する）のラジカルを指し、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素及び硫黄から選択される（「５～１０員ヘテロアリール」）。１個以上の窒素原子を含むヘテロアリール基では、結合点は、原子価が許す限り、炭素または窒素原子であり得る。ヘテロアリール二環式環系は、一方または両方の環に１個以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロアリール」は、上で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と縮合する、環系を含み、結合点は、ヘテロアリール環上にあり、そのような例では、環員の数は、ヘテロアリール環系における環員の数を指定し続ける。「ヘテロアリール」はまた、上で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のアリール基と縮合する、環系を含み、結合点は、アリール環またはヘテロアリール環上のいずれかにあり、そのような例では、環員の数は、縮合（アリール／ヘテロアリール）環系における環員の数を指定する。１つの環がヘテロ原子（例えば、インドリル、キノリニル、カルバゾリルなど）を含まない二環式ヘテロアリール基、結合点は、いずれかの環、すなわち、ヘテロ原子を有する環（例えば、２－インドリル）またはヘテロ原子を含まない環（例えば、５－インドリル）のいずれかにあり得る。
いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～１０員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～８員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～６員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。別段の定めのない限り、ヘテロアリール基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アリール」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、非置換５～１４員ヘテロアリールである。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、置換５～１４員ヘテロアリールである。
１個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピロリル、フラニル及びチオフェニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、及びイソチアゾリルが挙げられる。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、トリアゾリル、オキサジアゾリル、及びチアジアゾリルが挙げられる。４個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、テトラゾリルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピリジニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピリダジニル、ピリミジニル、及びピラジニルが挙げられる。３または４個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、それぞれトリアジニル及びテトラジニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロアリール基としては、限定なく、アゼピニル、オキセピニル、及びチエピニルが挙げられる。例示的な５，６－二環式ヘテロアリール基としては、限定なく、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズチアジアゾリル、インドリジニル、及びプリニルが挙げられる。例示的な６，６－二環式ヘテロアリール基としては、限定なく、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キノキサリニル、フタラジニル、及びキナゾリニルが挙げられる。
代表的なヘテロアリールの例としては、以下が挙げられ、
Figure 2022538301000026
 式中、それぞれのＺは、カルボニル、Ｎ、ＮＲ６５、Ｏ、及びＳから選択され、Ｒ６５は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、及び５～１０員ヘテロアリールである。
「カルボシクリル」または「炭素環式」は、非芳香族環系に３～１０個の環炭素原子（「Ｃ３～１０カルボシクリル」）及び０個のヘテロ原子を有する非芳香族環状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０カルボシクリル」）。例示的なＣ３～６カルボシクリル基としては、限定なく、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロペニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）などが挙げられる。例示的なＣ３～８カルボシクリル基としては、限定なく、前述のＣ３～６カルボシクリル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロヘプタジエニル（Ｃ７）、シクロヘプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクタニル（Ｃ８）などが挙げられる。例示的なＣ３～１０カルボシクリル基としては、限定なく、前述のＣ３～８カルボシクリル基、ならびにシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ－１Ｈ－インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフタレニル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デカニル（Ｃ１０）などが挙げられる。前述の例が説明する場合、ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、単環式（「単環式カルボシクリル」）であるか、または二環式系（「二環式カルボシクリル」）などの縮合、架橋もしくはスピロ環系を含むかのいずれかであり、飽和であり得るか、または部分的に不飽和であり得る。「カルボシクリル」はまた、上で定義されたカルボシクリル環が１つ以上のアリールまたはヘテロアリール基と縮合する、環系を含み、結合点は、カルボシクリル環上にあり、そのような例では、炭素の数は、炭素環式環系における炭素の数を指定し続ける。別段の定めのない限り、カルボシクリル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換カルボシクリル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換カルボシクリル」）。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、非置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。
いくつかの実施形態において、「カルボシクリル」は、３～１０個の環炭素原子を有する単環式飽和カルボシクリル基である（「Ｃ３～１０シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０シクロアルキル」）。Ｃ５～６シクロアルキル基の例としては、シクロペンチル（Ｃ５）及びシクロヘキシル（Ｃ５）が挙げられる。Ｃ３～６シクロアルキル基の例としては、前述のＣ５～６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）及びシクロブチル（Ｃ４）が挙げられる。Ｃ３～８シクロアルキル基の例としては、前述のＣ３～６シクロアルキル基、ならびにシクロヘプチル（Ｃ７）及びシクロオクチル（Ｃ８）が挙げられる。別段の定めのない限り、シクロアルキル基のそれぞれの例は、独立して、置換されていないか（「非置換シクロアルキル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換シクロアルキル」）。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、非置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。
「ヘテロシクリル」または「複素環式」は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する３～１０員の非芳香族環系のラジカルを指し、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リン、及びケイ素から選択される（「３～１０員ヘテロシクリル」）。１個以上の窒素原子を含むヘテロアリール基では、結合点は、原子価が許す限り、炭素または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式（「単環式ヘテロシクリル」）または二環式系（「二環式ヘテロシクリル」）などの縮合、架橋もしくはスピロ環系のいずれかであり得、飽和であり得るか、または部分的に不飽和であり得る。ヘテロシクリル二環式環系は、一方または両方の環に１個以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロシクリル」はまた、上で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のカルボシクリル基と縮合する環系（結合点は、カルボシクリルもしくはヘテロシクリル環上のいずれかにある）、または上で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のアリールもしくはヘテロアリール基と縮合する環系（結合点は、ヘテロシクリル環上にある）を含み、そのような例では、環員の数は、ヘテロシクリル環系における環員の数を指定し続ける。別段の定めのない限り、ヘテロシクリルのそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換ヘテロシクリル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロシクリル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、非置換３～１０員ヘテロシクリルである。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、置換３～１０員ヘテロシクリルである。
いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リン、及びケイ素から選択される（「５～１０員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～８員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～６員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。
１個のヘテロ原子を含む例示的な３員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アジリジニル、オキシラニル、チオレニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な４員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゼチジニル、オキセタニル及びチエタニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、テトラヒドロフラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ジヒドロピロリル及びピロリル－２，５－ジオンが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ジオキソラニル、オキサスルフラニル、ジスルフラニル、及びオキサゾリジン－２－オンが挙げられる。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、トリアゾリニル、オキサジアゾリニル、及びチアジアゾリニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピリジニル、及びチアニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ピペラジニル、モルホリニル、ジチアニル、ジオキサニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、トリアジナニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゼパニル、オキセパニル及びチエパニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な８員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゾカニル、オキセカニル及びチオカニルが挙げられる。Ｃ６アリール環（本明細書では５，６－二環式複素環式環とも称される）に縮合した例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチエニル、ベンゾオキサゾリノニルなどが挙げられる。アリール環（本明細書では６，６－二環式複素環式環とも称される）に縮合した例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニルなどが挙げられる。
「窒素含有ヘテロシクリル」基は、少なくとも１個の窒素原子を含む４～７員の非芳香族環式基、例えば、限定されないが、モルホリン、ピペリジン（例えば、２－ピペリジニル、３－ピペリジニル及び４－ピペリジニル）、ピロリジン（例えば、２－ピロリジニル及び３－ピロリジニル）、アゼチジン、ピロリドン、イミダゾリン、イミダゾリジノン、２－ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペラジン、及びＮ－メチルピペラジンなどのＮ－アルキルピペラジンを意味する。特定の例としては、アゼチジン、ピペリドン及びピペラゾンが挙げられる。
「ヘテロ」は、化合物または化合物上に存在する基を説明するために使用される際に、化合物または基における１個以上の炭素原子が、窒素、酸素、または硫黄のヘテロ原子によって置き換えられていることを意味する。ヘテロは、１～５個、特に１～３個のヘテロ原子を有する、アルキル、例えば、ヘテロアルキル、シクロアルキル、例えば、ヘテロシクリル、アリール、例えば、ヘテロアリール、シクロアルケニル、例えば、シクロヘテロアルケニルなどの、上記のヒドロカルビル基のうちのいずれかに適用され得る。
「アシル」は、ラジカル－Ｃ（Ｏ）Ｒ２０を指し、Ｒ２０は、本明細書で定義される場合、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。「アルカノイル」は、アシル基であり、Ｒ２０は、水素以外の基である。代表的なアシル基としては、ホルミル（－ＣＨＯ）、アセチル（－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３）、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイル（－Ｃ（＝Ｏ）Ｐｈ）、ベンジルカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈ）、－Ｃ（Ｏ）－Ｃ１～Ｃ８アルキル、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数である。ある特定の実施形態において、Ｒ２１は、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１～Ｃ８アルキル、またはＣ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５～１０員ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであり、これらのそれぞれは、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシで置換されている。
「アルコキシ」は、－ＯＲ２９基を指し、Ｒ２９は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。特定のアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、三級ブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、ｎ－ヘキソキシ、及び１，２－ジメチルブトキシである。特定のアルコキシ基は、より低級のアルコキシ、すなわち、１～６個の炭素原子を有するアルコキシである。さらなる特定のアルコキシ基は、１～４個の炭素原子を有する。
ある特定の実施形態において、Ｒ２９は、アミノ、置換アミノ、Ｃ６～Ｃ１０アリール、アリールオキシ、カルボキシル、シアノ、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、ハロゲン、５～１０員ヘテロアリール、ヒドロキシル、ニトロ、チオアルコキシ、チオアリールオキシ、チオール、アルキル－Ｓ（Ｏ）－、アリール－Ｓ（Ｏ）－、アルキル－Ｓ（Ｏ）２－及びアリール－Ｓ（Ｏ）２－からなる群から選択される、１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、及び特に１～３つの置換基、特に１つの置換基を有する基である。例示的な「置換アルコキシ」基としては、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数であり、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、またはヘテロシクリル基は、それ自体が、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシによって置換され得る。特定の例示的な「置換アルコキシ」基は、－ＯＣＦ３、－ＯＣＨ２ＣＦ３、－ＯＣＨ２Ｐｈ、－ＯＣＨ２－シクロプロピル、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、及び－ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＭｅ２である。
「アミノ」は、ラジカル－ＮＨ２を指す。
「オキソ基」は－Ｃ（＝Ｏ）－を指す。
「置換アミノ」は、式－Ｎ（Ｒ３８）２のアミノ基を指し、式中、Ｒ３８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、またはアミノ保護基であり、Ｒ３８のうちの少なくとも１つは、水素ではない。ある特定の実施形態において、それぞれのＲ３８は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ３～Ｃ８アルケニル、Ｃ３～Ｃ８アルキニル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、５～１０員ヘテロアリール、４～１０員ヘテロシクリル、もしくはＣ３～Ｃ１０シクロアルキル；またはハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１～Ｃ８アルキル；ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３～Ｃ８アルケニル、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３～Ｃ８アルキニル、または－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、または－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）から選択され、ｔは、０～８の整数であり、それぞれが、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシによって置換されているか、あるいは両方のＲ３８基が接合されて、アルキレン基を形成する。
例示的な「置換アミノ」基としては、－ＮＲ３９－Ｃ１～Ｃ８アルキル、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数、例えば、１または２であり、それぞれのＲ３９は、独立して、ＨまたはＣ１～Ｃ８アルキルを表し、存在する任意のアルキル基は、それ自体がハロ、置換もしくは非置換アミノ、またはヒドロキシによって置換されてもよく、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、またはヘテロシクリル基は、それ自体が非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルもしくはヒドロキシによって置換されてもよい。疑義を回避するために、「置換アミノ」という用語は、以下に定義されるアルキルアミノ基、置換アルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、置換アルキルアリールアミノ基、アリールアミノ基、置換アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、及び置換ジアルキルアミノ基を含む。置換アミノは、単置換アミノ基及び二置換アミノ基の両方を包含する。
「カルボキシ」は、ラジカル－Ｃ（Ｏ）ＯＨを指す。
「シアノ」は、ラジカル－ＣＮを指す。
「ハロ」または「ハロゲン」は、フルオロ（Ｆ）、クロロ（Ｃｌ）、ブロモ（Ｂｒ）、及びヨード（Ｉ）を指す。ある特定の実施形態において、ハロ基は、フルオロまたはクロロのいずれかである。
「ハロアルキル」は、アルキル基が１つ以上のハロゲンで置換されたアルキルラジカルを指す。典型的なハロアルキル基としては、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ジブロモエチル、トリブロモメチル、テトラフルオロエチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
「ヒドロキシ」は、ラジカル－ＯＨを指す。
「ニトロ」は、ラジカル－ＮＯ２を指す。
「チオケト」は、＝Ｓ基を指す。
本明細書で定義されるアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリール基は、任意選択で置換されている（例えば、「置換」もしくは「非置換」アルキル、「置換」もしくは「非置換」アルケニル、「置換」もしくは「非置換」アルキニル、「置換」もしくは「非置換」カルボシクリル、「置換」もしくは「非置換」ヘテロシクリル、「置換」もしくは「非置換」アリール、または「置換」もしくは「非置換」ヘテロアリール基）。一般に、「置換された」という用語は、「任意選択で」という用語が先行するどうかにかかわらず、基（例えば、炭素もしくは窒素原子）上に存在する少なくとも１つの水素が、許容される置換基、例えば、置換時に、安定な化合物、例えば、転位、環化、脱離、または他の反応などによって自発的に変換を受けない化合物を生じる置換基で置き換えられることを意味する。別途示されない限り、「置換された」基は、基の１つ以上の置換可能な位置で置換基を有し、任意の所与の構造の２つ以上の位置が置換される際に、置換基は、それぞれの位置で同じかまたは異なるかのいずれかである。「置換された」という用語は、安定した化合物の形成をもたらす、本明細書に記載される置換基のうちのいずれかである、有機化合物のすべての許容可能な置換基での置換を含むことが企図される。本発明は、安定した化合物に到達するために、任意の及びすべてのそのような組み合わせを企図する。本発明の目的のために、窒素などのヘテロ原子は、水素置換基及び／またはヘテロ原子の原子価を満たし、安定部分の形成をもたらす本明細書に記載の任意の好適な置換基を有してもよい。
例示的な炭素原子置換基としては、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－ＯＮ（Ｒｂｂ）２、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｎ（Ｒｂｂ）３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＲｃｃ）Ｒｂｂ、－ＳＨ、－ＳＲａａ、－ＳＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＨＯ、－Ｃ（ＯＲｃｃ）２、－ＣＯ２Ｒａａ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＯＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、－ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、－ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＳＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２ＯＲａａ、－ＯＳＯ２Ｒａａ、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－ＯＳｉ（Ｒａａ）３－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－ＯＰ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－ＯＰ（Ｒｃｃ）２、－ＯＰ（Ｒｃｃ）３、－Ｂ（Ｒａａ）２、－Ｂ（ＯＲｃｃ）２、－ＢＲａａ（ＯＲｃｃ）、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールが挙げられるが、これらに限定されず、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｄｄ基で置換されているか、または炭素原子上の２つのジェミナル水素は、基＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＮ（Ｒｂｂ）２、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、＝ＮＮＲｂｂＳ（＝Ｏ）２Ｒａａ、＝ＮＲｂｂ、または＝ＮＯＲｃｃで置き換えられ、
Ｒａａそれぞれの例は、独立して、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲａａ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｂｂのそれぞれの例は、独立して、水素、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＣＮ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＣＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｒｃｃ、－ＳＯ２ＯＲｃｃ、－ＳＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｃｃ）２、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｂｂ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｃｃのそれぞれの例は、独立して、水素、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｃｃ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルまたは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｄｄのそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＲｅｅ、－ＯＮ（Ｒｆｆ）２、－Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｎ（Ｒｆｆ）３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＲｅｅ）Ｒｆｆ、－ＳＨ、－ＳＲｅｅ、－ＳＳＲｅｅ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＯ２Ｒｅｅ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＯＣＯ２Ｒｅｅ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＮＲｆｆＣＯ２Ｒｅｅ、－ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｃ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｒｅｅ、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、－Ｃ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＳＯ２Ｒｅｅ、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＳＯ２Ｒｅｅ、－ＳＯ２ＯＲｅｅ、－ＯＳＯ２Ｒｅｅ、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－Ｓｉ（Ｒｅｅ）３、－ＯＳｉ（Ｒｅｅ）３、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｅｅ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒｅｅ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～１０アリール、５～１０員ヘテロアリールから選択され、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｇｇ基で置換されるか、または２つのジェミナルＲｄｄ置換基が接合されて、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成することができ、
Ｒｅｅのそれぞれの例は、独立して、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、Ｃ６～１０アリール、３～１０員ヘテロシクリル、及び３～１０員ヘテロアリールから選択され、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｇｇ基で置換され、
Ｒｆｆのそれぞれの例は、独立して、水素、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～１０アリール、及び５～１０員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｆｆ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルまたは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｇｇ基で置換され、
Ｒｇｇのそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＣ１～６アルキル、－ＯＮ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）３ ＋Ｘ－、－ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）２ ＋Ｘ－、－ＮＨ２（Ｃ１～６アルキル）＋Ｘ－、－ＮＨ３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＣ１～６アルキル）（Ｃ１～６アルキル）、－Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨ（ＯＨ）、－ＳＨ、－ＳＣ１～６アルキル、－ＳＳ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１～６アルキル、－Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、－ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ２、－ＮＨＣ（ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、－ＮＨＳＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＳＯ２Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＳＯ２ＮＨ２、－ＳＯ２Ｃ１～６アルキル、－ＳＯ２ＯＣ１～６アルキル、－ＯＳＯ２Ｃ１～６アルキル、－ＳＯＣ１～６アルキル、－Ｓｉ（Ｃ１～６アルキル）３、－ＯＳｉ（Ｃ１～６アルキル）３－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１～６アルキル、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１～６アルキル、－Ｐ（＝Ｏ）２（Ｃ１～６アルキル）、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１～６アルキル）２、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、Ｃ６～１０アリール、３～１０員ヘテロシクリル、５～１０員ヘテロアリールであるか、または２つのジェミナルＲｇｇ置換基が接合されて、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成することができ、Ｘ－は、対イオンである。
「対イオン」または「アニオン性対イオン」は、電子中性を維持するためにカチオン性四級アミノ基と会合した、負に荷電した基である。例示的な対イオンとしては、ハロゲン化物イオン（例えば、Ｆ－、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－）、ＮＯ３ －、ＣｌＯ４ －、ＯＨ－、Ｈ２ＰＯ４ －、ＨＳＯ４ －、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、１０－カンファースルホン酸塩、ナフタレン－２－スルホン酸塩、ナフタレン－１－スルホン酸－５－スルホン酸塩、エタン－１－スルホン酸－２－スルホン酸塩など）、及びカルボン酸塩イオン（例えば、酢酸塩、エタン酸塩、プロパン酸塩、安息香酸塩、グリセリン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、グリコール酸塩など）が挙げられる。
これら及び他の例示的な置換基は、発明を実施するための形態、及び特許請求の範囲にさらに詳細に記載されている。本発明は、上の例示的な置換基の列挙によって、いかなる様式においても限定されるように意図されるものではない。
他の定義
本明細書で使用される場合、「調節」という用語は、ＧＡＢＡＡ受容体機能の阻害または増強を指す。「調節物質」（例えば、調節化合物）は、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体の作動薬、部分作動薬、拮抗薬、または部分拮抗薬であり得る。
「薬学的に許容される」とは、連邦もしくは州政府の規制当局または米国以外の国における対応する機関によって承認されるか、または承認可能であること、あるいは動物における、より具体的にはヒトにおける使用について米国薬局方または他の一般に認識される薬局方に列挙されていることを意味する。
「薬学的に許容される塩」は、薬学的に許容され、親化合物の所望の薬理活性を有する、本発明の化合物の塩を指す。特に、そのような塩は、無毒であり、無機または有機酸付加塩及び塩基付加塩であり得る。具体的には、そのような塩としては、（１）塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸で形成された酸付加塩；または酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、シクロペンタンプロピオン酸、グリコール酸、ピルビン酸、乳酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、３－（４－ヒドロキシ安息香酸）安息香酸、桂皮酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、１，２－エタン－ジスルホン酸、２－ヒドロキシエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、４－クロロベンゼンスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、４－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、４－メチルビシクロ［２．２．２］－オクト－２－エン－１－カルボン酸、グルコヘプトン酸、３－フェニルプロピオン酸、トリメチル酢酸、三級ブチル酪酸、ラウリル硫酸、グルコン酸、グルタミン酸、ヒドロキシナフトエ酸、サリチル酸、ステアリン酸、ムコン酸などの有機酸で形成された酸付加塩；あるいは（２）親化合物に存在する酸性プロトンが、金属イオン、例えば、アルカリ金属イオン、アルカリ土類イオン、もしくはアルミニウムイオンによって置き換えられるか、またはエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－メチルグルカミンなどの有機塩基と同等である場合に形成された塩が挙げられる。塩は、単なる例として、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムなど、及び化合物が塩基性官能基を含有する場合、塩酸塩、臭化水素酸塩、酒石酸塩、メシル酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸塩などの非毒性有機酸または無機酸の塩をさらに含む。「薬学的に許容されるカチオン」という用語は、酸性官能基の許容されるカチオン性対イオンを指す。そのようなカチオンは、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムカチオンなどによって例示される。例えば、Ｂｅｒｇｅ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．（１９７７）６６（１）：１－７９を参照されたい。
「プロドラッグ」という用語は、生理学的条件下で、本発明の治療活性剤に変換される治療的に不活性な化合物を包含することが意図される。プロドラッグを作製するための１つの方法は、生理学的条件下で標的されたインビボ作用部位で加水分解または切断される選択された部分を設計し、次いでその治療効果をもたらす所望の分子を明らかにすることである。ある特定の実施形態において、プロドラッグは、対象の酵素活性によって変換される。
代替的な実施形態において、本発明は、式（Ｉ）の化合物のプロドラッグを提供し、プロドラッグは、式（Ｉ）に示されるようなＣ３ヒドロキシ上の切断可能な部分を含む。
「互変異性体」は、特定の化合物構造の交換可能な形態であり、水素原子及び電子の置換で変化する化合物を指す。したがって、２つの構造は、π電子及び原子（通常はＨ）の移動を通じて平衡状態にあり得る。例えば、エノール及びケトンは、酸または塩基のいずれかでの処理によって急速に相互変換されるため、互変異性体である。互変異性の別の例は、同様に酸または塩基での処理によって形成されるアシ形態及びニトロ形態のフェニルニトロメタンである。互変異性形態は、目的の化合物の最適な化学反応性及び生物活性の達成に関連し得る。
投与が企図される「対象」としては、ヒト（すなわち、任意の年齢群の男性もしくは女性、例えば、小児対象（例えば、幼児、子供、青年）または成人対象（例えば、若年成人、中年成人もしくは高齢成人））及び／または非ヒト動物、例えば、霊長類（例えば、カニクイザル、アカゲザル）、ウシ、ブタ、ウマ、ヒツジ、ヤギ、げっ歯類、ネコ、及び／またはイヌなどの哺乳動物が挙げられるが、これらに限定されない。ある特定の実施形態において、対象は、ヒト（「ヒト対象」）である。ある特定の実施形態において、対象は、非ヒト動物である。
ある特定の実施形態において、酸素原子上に存在する置換基は、酸素保護基（ヒドロキシル保護基とも称される）である。酸素保護基としては、－Ｒａａ、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、及び－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、Ｒａａ、Ｒｂｂ、及びＲｃｃは、本明細書で定義されるとおりである。酸素保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
例示的な酸素保護基としては、メチル、メトキシルメチル（ＭＯＭ）、２－メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、ベンジル（Ｂｎ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ－ブチルメトキシフェニルシリル（ＴＢＭＰＳ）、メタンスルホン酸塩（メシル酸塩）、及びトシル酸塩（Ｔｓ）が挙げられるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、硫黄原子上に存在する置換基は、硫黄保護基（チオール保護基とも称される）である。硫黄保護基としては、－Ｒａａ、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、及び－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、Ｒａａ、Ｒｂｂ、及びＲｃｃは、本明細書で定義されるとおりである。硫黄保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
ある特定の実施形態において、窒素原子上に存在する置換基は、アミノ保護基（本明細書では窒素保護基とも称される）である。アミノ保護基としては、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｒｃｃ、－ＳＯ２ＯＲｃｃ、－ＳＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリール基が挙げられるが、これらに限定されず、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、Ｒａａ、Ｒｂｂ、Ｒｃｃ及びＲｄｄは、本明細書で定義されるとおりである。アミノ保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
例示的なアミノ保護基としては、ホルムアミド及びアセトアミドを含むが、これらに限定されないアミド基（例えば、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）；９－フルオレニルメチルカルバメート（Ｆｍｏｃ）、ｔ－ブチルカルバメート（ＢＯＣ）、及びベンジルカルバメート（Ｃｂｚ）を含むが、これらに限定されないカルバメート基（例えば、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ）；ｐ－トルエンスルホンアミド（Ｔｓ）、メタンスルホンアミド（Ｍｓ）、及びＮ－［２－（トリメチルシリル）エトキシ］メチルアミン（ＳＥＭ）を含むが、これらに限定されないスルホンアミド基（例えば、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）が挙げられるが、これらに限定されない。
疾患、障害、及び状態は、本明細書において交換可能に使用される。
本明細書で使用される場合、別段の定めのない限り、「治療する」、「治療すること」及び「治療」という用語は、対象が指定された疾患、障害または状態に罹患している間に起こり、疾患、障害もしくは状態の重症度を低減するか、または疾患、障害もしくは状態（「治療的処置」）の進行を遅延もしくは減速させる作用を企図し、また対象が指定された疾患、障害または状態に罹患し始める前に起こる作用を企図する。
一般に、化合物の「有効量」は、例えば、ＣＮＳ関連障害を治療するために、所望の生物学的応答を誘発するのに十分な量を指し、麻酔または鎮静を誘導するのに十分である。当業者には理解されようが、本発明の化合物の有効量は、所望の生物学的エンドポイント、化合物の薬物動態、治療されている疾患、投与様式、ならびに対象の年齢、体重、健康、及び状態などの因子に応じて変化し得る。
本明細書で使用される場合、かつ別段の定めのない限り、化合物の「治療有効量」は、疾患、障害もしくは状態の治療において治療的利点を提供するか、または疾患、障害もしくは状態に関連する１つ以上の症状を遅延させる、もしくは最小限に抑えるのに十分な量である。化合物の治療有効量は、単独で、または他の療法と組み合わせて、疾患、障害もしくは状態の治療において治療的利点を提供する治療薬の量を意味する。「治療有効量」という用語は、全体的な療法を改善するか、疾患もしくは状態の症状もしくは原因を低減もしくは回避するか、または別の治療薬の治療効力を増強する量を包含し得る。
代替的な実施形態において、本発明は、対象が特定の疾患、障害もしくは状態に罹患し始める前に、予防薬として、本発明の化合物、またはその薬学的に許容される塩もしくは薬学的に許容される組成物を投与することを企図する。本明細書で使用される場合、かつ別段の定めのない限り、化合物の「予防的に有効な量」は、疾患、障害もしくは状態、または疾患、障害もしくは状態に関連する１つ以上の症状を予防するか、あるいはその再発を予防するのに十分な量である。化合物の予防的に有効な量は、単独で、または他の薬剤と組み合わせて、疾患、障害または状態の予防において予防的利点を提供する治療薬の量を意味する。「予防的に有効な量」という用語は、全体的な予防を改善するか、または別の予防剤の予防効力を増強する量を包含し得る。
化合物
本明細書に記載される式は、Ｃ１７、Ｃ３、Ｃ１９などの特定の炭素原子を参照し得ることを理解されたい。これらの参考文献は、以下に示すように、業界において既知で使用されているステロイド命名法に従って炭素原子の位置に基づいている。
Figure 2022538301000027
例えば、Ｃ１７は１７位の炭素を指し、Ｃ３は３位の炭素を指す。
Ｃ１７における立体化学は、以下のうちのいずれかであるが、同等の方法で描写され得ることを理解されたい。
Figure 2022538301000028
一態様において、本明細書では、式Ｉの化合物：
Figure 2022538301000029
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000030
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000031
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｔが、２または３である。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶの化合物：
Figure 2022538301000032
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶａの化合物：
Figure 2022538301000033
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｂの化合物：
Figure 2022538301000034
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｃの化合物：
Figure 2022538301000035
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｄの化合物：
Figure 2022538301000036
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｅの化合物：
Figure 2022538301000037
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｆの化合物：
Figure 2022538301000038
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＶｇの化合物：
Figure 2022538301000039
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＩの化合物：
Figure 2022538301000040
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000041
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000042
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであるが、Ｒ５がＨである場合、Ｒ１８が－ＣＨ３または－ＣＨ２ＣＨ３ではないことを条件とする。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＩＩＩａもしくはＩＩＩｂの化合物：
Figure 2022538301000043
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＩＩＩｄもしくは式ＩＩＩｅの化合物：
Figure 2022538301000044
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
一態様において、本明細書では、式Ｖの化合物：
Figure 2022538301000045
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000046
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000047
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、化合物は、式Ｖａの化合物：
Figure 2022538301000048
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
一態様において、本明細書では、式ＶＩａもしくは式ＶＩｂの化合物：
Figure 2022538301000049
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000050
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000051
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｒが、２または３である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＶＩｃもしくは式ＶＩｄの化合物：
Figure 2022538301000052
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＶＩｅもしくは式ＶＩｆの化合物：
Figure 2022538301000053
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
一態様において、本明細書では、式ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538301000054
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000055
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000056
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＶＩＩａの化合物：
Figure 2022538301000057
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
一態様において、本明細書では、式ＶＩＩＩの化合物：
Figure 2022538301000058
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000059
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000060
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｓが、２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＶＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538301000061
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
別の態様において、本明細書では、式ＩＸの化合物：
Figure 2022538301000062
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、Ｌが、
Figure 2022538301000063
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、化合物は、式ＩＸａの化合物：
Figure 2022538301000064
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
一態様において、本明細書では、式Ｘの化合物：
Figure 2022538301000065
 またはその薬学的に許容される塩が記載され、式中、
Figure 2022538301000066
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、Ｌが、
Figure 2022538301000067
 からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、Ｒ５が、水素またはメチルであり、ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、ｑが、２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式Ｘａの化合物：
Figure 2022538301000068
 またはその薬学的に許容される塩が記載される。
Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、水素またはメチルであり、Ｒ５５ｂは、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、置換または非置換カルボシクリル、置換または非置換ヘテロシクリル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、置換または非置換カルボシクリル、置換または非置換ヘテロシクリル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１であり、ＲＡ１は、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂは介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができる。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、水素、置換または非置換カルボシクリル、置換または非置換ヘテロシクリル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールであり、それぞれが、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールでさらに置換される。
いくつかの実施形態において、少なくともＲ５５ａまたはＲ５５ｂは、水素以外である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、水素、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、
Figure 2022538301000069
 からなる群から選択され、
式中、
Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであるか、または２つのジェミナルＲａ置換基が接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｐが、０～１１から選択される整数である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、それぞれ独立して、水素、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、
Figure 2022538301000070
 からなる群から選択され、Ｒａ及びｐは、上で定義されるとおりである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、介在原子と一緒になって、
Figure 2022538301000071
 からなる群から選択される置換もしくは非置換の複素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成する。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、介在原子と接合して、
Figure 2022538301000072
 からなる群から選択される置換もしくは非置換の炭素環式環、または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成する。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、介在原子と接合して、
Figure 2022538301000073
 を形成する。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、介在原子と接合して、
Figure 2022538301000074
 を形成する。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂは、介在原子と接合して、
Figure 2022538301000075
 を形成する。
Ｒａ基
いくつかの実施形態において、Ｒａは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、置換または非置換Ｃ１～６アルキル、置換または非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリールであり、ＲＤ４は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルであるか、あるいは２つのジェミナルＲａ置換基が接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、ｐは、０～４から選択される整数である。
いくつかの実施形態において、Ｒａは、シアノ、メチルまたは水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒａは、シアノまたはメチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒａは、－ＣＮである。
Ｌ基
いくつかの実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000076
 からなる群から選択され、Ａは、Ｃ１７における結合点を示す。
例えば、１つの例において、Ｌは、
Figure 2022538301000077
 である。別の実施例において、Ｌは、
Figure 2022538301000078
 である。
いくつかの実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000079
 である。例えば、
Figure 2022538301000080
いくつかの実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000081
 である。いくつかの実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000082
 である。別の実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000083
 である。
一実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000084
 である。別の実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000085
 である。
いくつかの実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000086
 である。例えば、Ｌは、
Figure 2022538301000087
 である。一実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000088
 である。
一実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000089
 である。別の実施形態において、Ｌは、
Figure 2022538301000090
 である。
Ｒ１ａ及びＲ１ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、水素または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、両方とも水素である。
Ｒ２ａ及びＲ２ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、水素または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、両方とも水素である。
Ｒ４ａ及びＲ４ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、水素または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、両方とも水素である。
Ｒ７ａ及びＲ７ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、水素または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂは、両方とも水素である。
Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、それぞれ独立して、水素である。
Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、または－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールから選択される。
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ３ハロアルキル、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、水素または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂは、両方とも水素である。
Ｒ６ａ及びＲ６ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、両方とも水素である。
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂは、それぞれ独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂは、両方とも水素である。
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、両方とも水素である。
Ｒ３基
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、置換または非置換Ｃ１～Ｃ６アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１～３アルコキシで任意に置換されたＣ１～３アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、－ＣＨ２ＯＣＨ３、または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、メチルである。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、エチルである。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、プロピルである。
Ｒ１８基
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、置換または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、置換または非置換Ｃ１～Ｃ６アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、置換Ｃ１～Ｃ６アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、非置換Ｃ１～Ｃ６アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、メチルである。いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、エチルである。
Ｒ１９基
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、水素、または置換もしくは非置換Ｃ１～Ｃ６アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、非置換Ｃ１～Ｃ３アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、メチルまたはエチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、－ＣＨ３である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、エチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、－ＣＨ２ＣＨ３である。
整数ｎ
いくつかの実施形態において、ｎは、１または２である。
いくつかの実施形態において、ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、ｎは、０または１である。
いくつかの実施形態において、ｎは、０である。いくつかの実施形態において、ｎは、１である。いくつかの実施形態において、ｎは、２である。いくつかの実施形態において、ｎは、３である。
整数ｔ
いくつかの実施形態において、ｔは、１である。いくつかの実施形態において、ｔは、２である。いくつかの実施形態において、ｔは、３である。
整数ｒ
いくつかの実施形態において、ｒは、２である。いくつかの実施形態において、ｒは、３である。
整数ｐ
いくつかの実施形態において、ｐは、２である。いくつかの実施形態において、ｐは、３である。
整数ｓ
いくつかの実施形態において、ｓは、２である。
整数ｑ
いくつかの実施形態において、ｑは、２である。
Ｒ５基
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、アルファまたはベータ構造の水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、アルファ構造の水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、ベータ構造の水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、アルファまたはベータ構造のメチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、アルファ構造のメチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、ベータ構造のメチルである。
Ｘ基
いくつかの実施形態において、Ｘは、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）である。
いくつかの実施形態において、Ｘは、－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）である。
いくつかの実施形態において、Ｘは、

Figure 2022538301000091
 からなる群から選択される。
Ｒ５５ａ基
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換または非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換または非置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、非置換カルボシクリルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換または非置換アリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換アリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、非置換アリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換または非置換ヘテロアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、置換ヘテロアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ａは、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１である。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換または非置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、非置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換または非置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、非置換カルボシクリルである。
Ｒ５５ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換または非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換または非置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、非置換カルボシクリルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換または非置換アリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換アリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、非置換アリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換または非置換ヘテロアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、置換ヘテロアリールである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５ｂは、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１である。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換または非置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、非置換アリールである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換または非置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、置換カルボシクリルである。いくつかの実施形態において、ＲＡ１は、非置換カルボシクリルである。
いくつかの実施形態において、薬学的組成物は、本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む。
いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法は、有効量の本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を対象に投与することを含む。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、気分障害である。いくつかの実施形態において、気分障害は、うつ病である。いくつかの実施形態において、うつ病は、産後うつ病である。いくつかの実施形態において、うつ病は、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
いくつかの実施形態において、化合物は、以下の表１に特定される化合物からなる群から選択される。

Figure 2022538301000092
Figure 2022538301000093
Figure 2022538301000094
Figure 2022538301000095
Figure 2022538301000096
Figure 2022538301000097
Figure 2022538301000098
Figure 2022538301000099
Figure 2022538301000100
Figure 2022538301000101
Figure 2022538301000102
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Figure 2022538301000104
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）の薬学的に許容される塩が提供される。
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
本明細書に記載の本発明の化合物は、ある特定の実施形態において、ＧＡＢＡ調節剤として機能し、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体を陽性または陰性のいずれかの方法で作用させる。中枢神経系（ＣＮＳ）の興奮性の調節因子として、ＧＡＢＡＡ受容体を調節するそれらの能力によって媒介されるように、そのような化合物は、ＣＮＳ活性を有すると予想される。
したがって、別の態様において、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、ＣＮＳ関連障害を必要とする対象においてそれを行う方法が提供される。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に、皮下的に、静脈内に、または筋肉内に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、例えば、連続静脈内注入によって連続的に投与される。
本発明の例示的な化合物は、当業者に既知の方法またはある特定の参照を使用して、以下の既知の出発物質から合成され得る。一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）の薬学的に許容される塩が提供される。
代替実施形態
代替実施形態において、本明細書に記載の化合物はまた、１つ以上の同位体置換を含み得る。例えば、水素は、２Ｈ（Ｄもしくは重水素）または３Ｈ（Ｔもしくはトリチウム）であってもよく、炭素は、例えば、１３Ｃまたは１４Ｃであってもよく、酸素は、例えば、１８Ｏであってもよく、窒素は、例えば、１５Ｎなどであってもよい。他の実施形態において、特定の同位体（例えば、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１８Ｏ、または１５Ｎ）は、化合物の特定の部位を占める元素の全同位体存在量の少なくとも１％、少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％、少なくとも９５％、少なくとも９９％、または少なくとも９９．９％を表すことができる。
薬学的組成物
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、有効量の活性成分を含む。ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、治療有効量の活性成分を含む。
本明細書に提供される薬学的組成物は、経口（経腸）投与、非経口（注射による）投与、直腸投与、経皮投与、皮内投与、髄腔内投与、皮下（ＳＣ）投与、静脈内（ＩＶ）投与、筋肉内（ＩＭ）投与、及び鼻腔内投与を含むが、これらに限定されない、様々な経路によって投与され得る。
一般に、本明細書に提供される化合物は、有効量で投与される。実際に投与される化合物の量は、典型的には、治療される状態、選択された投与経路、実際に投与される化合物、個々の患者の年齢、体重、及び応答、患者の症状の重症度などを含む、関連する状況を考慮して、医師によって決定される。
ＣＮＳ障害の発症を防止するために使用される場合、本明細書に提供される化合物は、典型的には、上記の投薬量レベルで、医師の助言及び監督の下に、状態を発症するリスクのある対象に投与される。特定の状態を発症するリスクのある対象には、概して、その状態の家族歴を有する対象、または遺伝子検査もしくはスクリーニングによってその状態を発症することが特に容易であると特定された対象が含まれる。
本明細書に提供される薬学的組成物は、慢性的に投与することもできる（「慢性投与」）。慢性投与とは、化合物またはその薬学的組成物を、例えば、３ヶ月、６ヶ月、１年、２年、３年、５年などの長期間にわたって投与すること、または例えば、対象の生涯にわたって無期限に継続し得ることを指す。ある特定の実施形態において、慢性投与は、血液中の一定レベルの化合物を、例えば、治療濃度域内で長期間にわたって提供することを意図する。
本発明の薬学的組成物は、様々な投与方法を使用してさらに送達することができる。例えば、ある特定の実施形態において、例えば、血液中の化合物の濃度を有効レベルまで上げるために、薬学的組成物をボーラスとして与えてもよい。ボーラス用量の配置は、全身にわたって所望される活性成分の全身レベルに依存し、例えば、筋肉内または皮下ボーラス用量は、活性成分のゆっくりとした放出を可能にする一方で、静脈に直接送達されるボーラス（例えば、点滴を通して）は、血液中の活性成分の濃度を有効レベルまで迅速に上昇させる、はるかに速い送達を可能にする。他の実施形態において、薬学的組成物は、例えば、点滴によって、対象の体内の活性成分の定常状態濃度の維持を提供するために、連続注入として投与され得る。さらに、なおもさらなる他の実施形態において、薬学的組成物は、ボーラス用量として最初に投与され、続いて連続注入されてもよい。
経口投与のための組成物は、バルク液体溶液もしくは懸濁液、またはバルク粉末の形態をとることができる。しかしながら、より一般的には、組成物は、正確な投与を容易にするために単位剤形で提示される。「単位剤形」という用語は、ヒト対象及び他の哺乳動物のための一体型投薬量として好適な物理的に別個の単位を指し、それぞれの単位が、好適な薬学的賦形剤と関連して、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性物質を含有する。典型的な単位剤形としては、固体組成物の場合には、液体組成物または丸剤、錠剤、カプセルなどの事前に充填された、事前に測定されたアンプルまたはシリンジが挙げられる。そのような組成物において、化合物は、通常、微量成分（約０．１～約５０重量％、好ましくは約１～約４０重量％）であり、残りは、所望の剤形を形成するのに役立つ様々なビヒクルまたは賦形剤及び加工助剤である。
経口投与では、１日当たり１～５回、特に２～４回、典型的には３回の経口投与が代表的なレジメンである。これらの投与パターンを使用して、それぞれの用量は、約０．０１～約２０ｍｇ／ｋｇの本発明で提供される化合物を提供し、好ましい用量は、それぞれ約０．１～約１０ｍｇ／ｋｇ、特に約１～約５ｍｇ／ｋｇを提供する。
経皮用量は、一般に、注射用量を使用して達成されるものと同様またはより低い血中レベルを提供するように選択され、一般に、約０．０１～約２０重量％、好ましくは約０．１～約２０重量％、好ましくは約０．１～約１０重量％、より好ましくは約０．５～約１５重量％の範囲の量である。
注射用量レベルは、約０．１ｍｇ／ｋｇ／時間～少なくとも２０ｍｇ／ｋｇ／時間の範囲であり、すべて、約１～約１２０時間、特に２４～９６時間である。約０．１ｍｇ／ｋｇ～約１０ｍｇ／ｋｇ以上の事前充填ボーラスが、適切な定常状態レベルを達成するために投与されてもよい。最大総用量は、４０～８０ｋｇのヒト患者の場合、約５ｇ／日を超えることは予想されない。
経口投与に好適な液体形態は、緩衝剤、懸濁剤及び分注剤、着色剤、香料などを有する好適な水性または非水性ビヒクルを含んでよい。固体形態としては、例えば、以下の成分もしくは同様の性質を有する化合物のうちのいずれか：微結晶性セルロース、トラガカントガムもしくはゼラチンなどの結合剤；デンプンもしくはラクトースなどの賦形剤；アルギン酸、プリモゲル、もしくはトウモロコシデンプンなどの崩壊剤；ステアリン酸マグネシウムなどの潤滑剤；コロイド状二酸化ケイ素などの流動促進剤；スクロースもしくはサッカリンなどの甘味剤；またはペパーミント、サリチル酸メチル、もしくはオレンジ香料などの香味剤を挙げることができる。
注射用組成物は、典型的には、注射用滅菌生理食塩水もしくはリン酸緩衝生理食塩水、または当該技術分野で既知の他の注射用賦形剤に基づく。前述のように、そのような組成物中の活性化合物は、典型的には、約０．０５～１０重量％であることが多く、残りは、注射可能な賦形剤などである。
経皮組成物は、典型的には、活性成分（複数可）を含有する局所軟膏またはクリームとして製剤化される。軟膏として製剤化される場合、活性成分は、典型的には、パラフィン性または水混和性の軟膏基剤のいずれかと組み合わせられる。あるいは、活性成分は、例えば水中油性クリームベースを有するクリーム中で製剤化されてもよい。そのような経皮製剤は、当該技術分野で周知であり、一般に、活性成分または製剤の安定性の皮膚浸透を高めるための追加の成分を含む。そのような既知の経皮製剤及び成分はすべて、本明細書に提供される範囲内に含まれる。
本明細書に提供される化合物はまた、経皮デバイスによって投与することもできる。したがって、経皮投与は、リザーバータイプまたは多孔質膜タイプのいずれか、または固体マトリックス品種のパッチを使用して達成することができる。
経口投与可能組成物、注射可能組成物または局所投与可能組成物の上述の構成成分は、単なる代表的なものである。他の材料、ならびに加工技法などは、参照により本明細書に組み込まれるＰａｒｔ ８ ｏｆ Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，１７ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８５，Ｍａｃｋ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅａｓｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａに記載されている。
本発明の化合物は、徐放性形態で、または徐放性薬物送達系から投与することもできる。代表的な徐放性材料の説明は、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓに見出すことができる。
本発明はまた、本発明の化合物の薬学的に許容される酸付加塩に関する。薬学的に許容される塩を調製するために使用され得る酸は、非毒性酸付加塩、すなわち、塩酸塩、ヨウ化水素酸塩、臭化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、重硫酸塩、リン酸塩、酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、安息香酸塩、パラトルエンスルホン酸塩などの薬理学的に許容されるアニオンを含有する塩を形成するものである。
別の態様において、本発明は、本発明の化合物及び薬学的に許容される賦形剤、例えば、静脈内（ＩＶ）投与などの注射に好適な組成物を含む薬学的組成物を提供する。
薬学的に許容される賦形剤としては、所望される特定の剤形、例えば、注射に好適であるような、あらゆる希釈剤または他の液体ビヒクル、分散剤もしくは懸濁助剤、表面活性剤、等張剤、防腐剤、滑沢剤などが挙げられる。薬学的組成物剤の製剤及び／または製造における一般的考慮事項は、例えば、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｓｉｘｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｅ．Ｗ．Ｍａｒｔｉｎ（Ｍａｃｋ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｅａｓｔｏｎ，Ｐａ．，１９８０）、及びＲｅｍｉｎｇｔｏｎ：Ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｙ，２１ｓｔ Ｅｄｉｔｉｏｎ（Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ＆Ｗｉｌｋｉｎｓ，２００５）に見出すことができる。
例えば、注入可能な調製物、例えば、注入可能な滅菌水性懸濁液は、既知の技術に従い、好適な分散剤または湿潤剤及び懸濁剤を使用して製剤化され得る。用いることができる例示的な賦形剤には、水、滅菌生理食塩水もしくはリン酸緩衝生理食塩水、またはリンゲル液が含まれるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、シクロデキストリン誘導体をさらに含む。最も一般的なシクロデキストリンは、それぞれ６、７及び８α－１、４結合グルコース単位からなるα－、β－及びγ－シクロデキストリンであり、任意選択的に、連結した糖部分に１つ以上の置換基を含み、これには、置換または非置換メチル化、ヒドロキシアルキル化、アシル化、及びスルホアルキルエーテル置換が含まれるが、これらに限定されない。ある特定の実施形態において、シクロデキストリンは、スルホアルキルエーテルβ－シクロデキストリン、例えば、ＣＡＰＴＩＳＯＬ（登録商標）としても知られるスルホブチルエーテルβ－シクロデキストリンである。例えば、Ｕ．Ｓ．５，３７６，６４５を参照されたい。ある特定の実施形態において、組成物は、ヘキサプロピル－β－シクロデキストリンを含む。より特定の実施形態において、組成物は、ヘキサプロピル－β－シクロデキストリン（水中１０～５０％）を含む。
注入可能な組成物は、例えば、細菌保持フィルターを通す濾過によって、または使用前に滅菌水もしくは他の滅菌注入可能な媒体中に溶解もしくは分散され得る滅菌固体組成物の形態で滅菌剤を組み込むことによって滅菌することができる。
一般に、本明細書に提供される化合物は、有効量で投与される。実際に投与される化合物の量は、典型的には、治療される状態、選択された投与経路、実際に投与される化合物、個々の患者の年齢、体重、応答、患者の症状の重症度などを含む、関連する状況を考慮して、医師によって決定される。
組成物は、正確な投与を容易にするために単位剤形で提示される。「単位剤形」という用語は、ヒト対象及び他の哺乳動物のための一体型投薬量として好適な物理的に別個の単位を指し、それぞれの単位が、好適な薬学的賦形剤と関連して、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性物質を含有する。典型的な単位剤形としては、液体組成物の事前に充填された、事前に測定されたアンプルまたはシリンジが挙げられる。そのような組成物において、化合物は、通常、微量成分（約０．１重量％～約５０重量％、または好ましくは約１重量％～約４０重量％）であり、残りは、所望の剤形を形成するのに役立つ様々なビヒクルまたは賦形剤及び加工助剤である。
本明細書に提供される化合物は、単独の活性剤として投与することも、他の活性剤と組み合わせて投与することもできる。一態様において、本発明は、本発明の化合物と、別の薬理活性剤との組み合わせを提供する。併用投与は、例えば、分離、逐次、同時、及び交互投与を含む、当業者に明らかな任意の技法によって進行することができる。
本明細書に提供される薬学的組成物の説明は、主に、ヒトへの投与に好適な薬学的組成物を対象とするが、そのような組成物が、一般に、あらゆる種類の動物への投与に好適であることが当業者によって理解されるであろう。種々の動物への投与に好適な組成物を作製するために、ヒトへの投与に好適な薬学的組成物の改変が十分に理解されており、当業者は、通常の実験でそのような改変を設計及び／または実施することができる。薬学的組成物の製剤化及び／または製造における一般的考慮事項は、例えば、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ：Ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｙ，２１ｓｔ ｅｄ．，Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ＆Ｗｉｌｋｉｎｓ，２００５に見出すことができる。
一態様では、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物を含む組成物（例えば、固体組成物）を含むキットが提供される。
併用療法
本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物、またはその薬学的塩を含む組成物）は、追加の薬剤または療法と組み合わせて投与されてもよい。本明細書で開示される化合物を投与される対象は、別の薬剤または療法での治療から利益を得るであろう疾患、障害、もしくは状態、またはその症状を有し得る。併用療法は、２つ以上の薬剤を投与することによって達成されてもよく、これらの薬剤のそれぞれは、別々に製剤化されて投与されるか、または２つ以上の薬剤を単一の製剤で投与することによって達成されてもよい。いくつかの実施形態において、併用療法における２つ以上の薬剤を同時に投与することができる。他の実施形態において、併用療法における２つ以上の薬剤は、別々に投与される。例えば、第１の薬剤（または薬剤の組み合わせ）の投与は、第２の薬剤（または薬剤の組み合わせ）の投与の数分、数時間、数日、または数週間前に行うことができる。したがって、２つ以上の薬剤は、互いの数分以内、または互いの１、２、３、６、９、１２、１５、１８、もしくは２４時間以内、または互いの１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１４日以内、または互いの２、３、４、５、６、７、８、９、もしくは数週間以内に投与することができる。いくつかの場合において、さらに長い間隔が可能である。多くの場合、併用療法で使用される２つ以上の薬剤は、患者の体内に同時に存在することが望ましいが、これはそうである必要はない。
併用療法はまた、構成剤の異なる配列決定を使用して、併用に使用される薬剤のうちの１つ以上の２回以上の投与を含むことができる。例えば、薬剤Ｘ及び薬剤Ｙが組み合わせて使用される場合、例えば、Ｘ－Ｙ－Ｘ、Ｘ－Ｘ－Ｙ、Ｙ－Ｘ－Ｙ、Ｙ－Ｙ－Ｘ、Ｘ－Ｙ－Ｙなどの順に、任意の組み合わせで１回以上連続して投与することができる。例示的な追加の薬剤を以下に記載する。
選択的セロトニン再取り込み阻害剤（ＳＳＲＩ）
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＳＳＲＩ（複数可）と組み合わせて投与される。ＳＳＲＩには、脳内のセロトニンのレベルを増加させる抗うつ薬が含まれる。例示的なＳＳＲＩとしては、シタロプラム（Ｃｅｌｅｘａ）、エスシタロプラム（Ｌｅｘａｐｒｏ）、フルオキセチン（Ｐｒｏｚａｃ）、フルボキサミン（Ｌｕｖｏｘ）、パロキセチン（Ｐａｘｉｌ）、及びセルトラリン（Ｚｏｌｏｆｔ）が挙げられるが、これらに限定されない。
ノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＮＥＲＩ）
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＮＥＲＩ（複数可）と組み合わせて投与される。例示的なＮＥＲＩとしては、アトモキセチン（Ｓｔｒａｔｔｅｒａ）、レボキセチン（Ｅｄｒｏｎａｘ、Ｖｅｓｔｒａ）、ブプロピオン（Ｗｅｌｌｂｕｔｒｉｎ、Ｚｙｂａｎ）、デュロキセチン、デシプラミン（Ｎｏｒｐｒａｍｉｎ）、アメダリン（ＵＫ－３５４０－１）、ダレダリン（ＵＫ－３５５７－１５）、エジボキセチン（ＬＹ－２２１６６８４）、エスレボキセチン、ロルタラミン（ＬＭ－１４０４）、ニソキセチン（ＬＹ－９４，９３９）、タロプラム（タスロプラム）（Ｌｕ ３－０１０）、タルスプラム（Ｌｕ ５－００５）、タンダミン（ＡＹ－２３，９４６）、及びビロキサジン（Ｖｉｖａｌａｎ）が挙げられるが、これらに限定されない。
抗精神病薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、抗精神病薬（複数可）と組み合わせて投与される。抗精神病薬としては、ドーパミン経路におけるドーパミン作動性神経伝達を低下させる、Ｄ２拮抗薬が挙げられる。例示的な抗精神病薬としては、アセナピン（Ｓａｐｈｒｉｓ）、アリピプラゾール（Ａｂｉｌｉｆｙ）、カリプラジン（Ｖｒａｙａｒ）、クロザピン（Ｃｌｏｚａｒｉｌ）、ドロペリドール、フルペラピン、メソリダジン、クエチアピン半フマル酸塩、ラクロプリド、スピペロン、スルピリド、トリメトベンザミド塩酸塩、トリフルオロペラジン二塩酸塩、ルラシドン（Ｌａｔｕｄａ）、オランザピン（Ｚｙｐｒｅｘａ）、クエチアピン（Ｓｅｒｏｑｕｅｌ）、ゾテピン、リスペリドン（Ｒｉｓｐｅｒｄａｌ）、ジプラシドン（Ｇｅｏｄｏｎ）、メソチダジン、クロロプロマジン塩酸塩、及びハロペリドール（Ｈａｌｄｏｌ）が挙げられるが、これらに限定されない。
カンナビノイド
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、カンナビノイド（複数可）と組み合わせて投与される。例示的なカンナビノイドとしては、カンナビジオール（Ｅｐｉｄｉｏｌｅｘ）、テトラヒドロカンナビノール酸、テトラヒドロカンナビノール、カンナビドール酸、カンナビノール、カンナビゲロール、カンナビクロメン、テトラヒドロカンナビバリン、及びカンナビジバリンが挙げられるが、これらに限定されない。
ＮＭＤＡ受容体拮抗薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＮＭＤＡ受容体拮抗薬（複数可）と組み合わせて投与される。ＮＭＤＡ受容体拮抗薬は、Ｎ－メチル－ｄ－アスパラギン酸受容体の作用を阻害する薬物のクラスである。例示的なＮＭＤＡ拮抗剤としては、ケタミン、エスケタミン、ケトベミドン、イフェンドプリル、５，７－ジクロロキヌル酸、リコスチネル、メマンチン、ガベステル、フェンシクリジン、デキストロメトルファン、レマセミド、セルフォテル、チレタミン、デキストロプロポキシフェン、アプチガネル、デキサナビノール、及びアマンタジンが挙げられるが、これらに限定されない。ＮＭＤＡ受容体拮抗薬としては、メタドン、デキストロプロポキシフェン、ペチジン、レボルファノール、トラマドール、ネラメキサン、及びケトベミドンなどのオピオイドも挙げられる。
ＧＡＢＡ受容体作動薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＧＡＢＡ受容体作動薬（複数可）と組み合わせて投与される。ＧＡＢＡ受容体作動薬は、ＧＡＢＡ受容体のうちの１つ以上の作動薬である薬物のクラスである。例示的なＧＡＢＡ受容体作動薬としては、クロバザム、トピラメート、ムシモール、プロガビド、リルゾール、バクロフェン、ガバペンチン、ビガバトリン、バルプロ酸、チアガビン、ラモトリギン、プレガバリン、フェニロイン、カルバマゼピン、チオペンタール、チアミラール、ペントバルビタール、セコバルビタール、ヘキソバルビタール、ブトバルビタール、アモバルビタール、バルビタール、メフォバルビタール、フェノバルビタール、プリミドン、ミダゾラム、トリアゾラム、ロメタゼパム、フルタゾラム、ニトラゼパム、フルリトラゼパム、ニメタゼパム、ジアゼパム、メダゼパム、オキサゾラム、プラゼアム、トフィソアム、リルマザホン、ロラゼパム、テマゼパム、オキサゼパム、フルジアゼパム、クロルジアゼポキシド、クロキサゾラム、フルトプラゼパム、アルプラゾラム、エスタゾラム、ブロマゼパム、フルラゼパム、クロラゼプ酸カリウム、ハロキサゾラム、ロフラゼプ酸エチル、クアゼパム、クロナゼパム、メキサゾラム、エチゾラム、ブロチゾラム、クロチアゼパム、ブロチゾラム、クロチアゼパム、プロポフォール、フォスプロポフォール、ゾルピデム、ゾピクロン、エスゾピクロン、ムシモール、ＴＦＱＰ／ガボキサドール、イソグバシン、コウジアミン、ＧＡＢＡ、ホモタウリン、ホモヒポタウリン、トランス－アミノシクロペンタン－３－カルボン酸、トランス－アミノ－４－クロトン酸、ｂ－グアニジノプロピオン酸、ホモ－ｂ－プロリン、イソニペコチン酸、３－（（アミノイミノメチル）チオ）－２－プロペン酸（ＺＡＰ Ａ）、イミダゾール酢酸、及びピペリジン－４－スルホン酸（Ｐ４Ｓ）が挙げられるが、これらに限定されない。
コリンエステラーゼ阻害剤
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、コリンエステラーゼ阻害剤（複数可）と組み合わせて投与される。一般に、コリン作動薬は、アセチルコリン及び／またはブチリルコリンの作用を模倣する化合物である。コリンエステラーゼ阻害剤は、アセチルコリンの分解を防止する薬物のクラスである。例示的なコリンエステラーゼ阻害剤としては、ドネピジル（Ａｒｉｃｅｐｔ）、タクリン（Ｃｏｇｎｅｘ）、リバスチグミン（Ｅｘｅｌｏｎ、Ｅｘｅｌｏｎ Ｐａｔｃｈ）、ガランタミン（Ｒａｚａｄｙｎｅ、Ｒｅｍｉｎｙｌ）、メマンチン／ドネペジル（Ｎａｍｚａｒｉｃ）、アンベノニウム（Ｍｙｔｅｌａｓｅ）、ネオスチグミン（Ｂｌｏｘｉｖｅｒｚ）、ピリドスチグミン（Ｍｅｓｔｉｎｏｎ Ｔｉｍｅｓｐａｎ、Ｒｅｇｏｎｏｌ）、及びガランタミン（Ｒａｚａｄｙｎｅ）が挙げられるが、これらに限定されない。
本開示は、とりわけ、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、抗体、及び抗菌剤からなる群から選択される薬剤を以前に投与された対象への、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与も企図する。いくつかの実施形態において、追加の薬剤は、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与前に対象に投与され、追加の薬剤は、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、抗体、及び抗菌剤からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、及び抗菌剤から選択される薬剤とともに対象に同時投与される。
使用方法及び治療
ある態様において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（Ｉ）の化合物は、ＣＮＳ関連障害（例えば、睡眠障害、うつ病などの気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、てんかん発生、記憶障害及び／または認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、または耳鳴り）の治療を必要とする対象（例えば、レット症候群、脆弱Ｘ症候群、もしくはアンジェルマン症候群を有する対象）においてそれを行うための治療薬として有用であると想定される。ＧＡＢＡ変調に関連する例示的なＣＮＳ状態としては、睡眠障害［例えば、不眠症］、気分障害［例えば、うつ病（例えば、大うつ病性障害（ＭＤＤ））、気分変調障害（例えば、軽度のうつ病）、双極性障害（例えば、Ｉ及び／またはＩＩ）、不安障害（例えば、全般性不安障害（ＧＡＤ）、社会不安障害）、ストレス、心的外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、強迫性障害（例えば、強迫性障害（ＯＣＤ））］、統合失調症スペクトラム障害［例えば、統合失調症、統合失調感情障害］、けいれん性障害［例えば、てんかん（例えば、てんかん重積状態（ＳＥ）、発作）］、記憶障害及び／または認知障害［例えば、注意障害（例えば、注意欠陥・多動障害（ＡＤＨＤ）、認知症（例えば、アルツハイマー型認知症、レビー小体型認知症、血管型認知症］、運動障害［例えば、ハンチントン病、パーキンソン病］、パーソナリティ障害［例えば、反社会性パーソナリティ障害］、自閉症スペクトラム障害（ＡＳＤ）［例えば、自閉症、シナプトパシー、例えば、レット症候群、脆弱Ｘ症候群、アンジェルマン症候群などの自閉症の単生的原因］、疼痛［例えば、神経因性疼痛、傷害関連疼痛症候群、急性疼痛、慢性疼痛］、外傷性脳損傷（ＴＢＩ）、血管性疾患［例えば、脳卒中、虚血、血管奇形］、物質乱用障害及び／または離脱症候群［例えば、アヘン、コカイン、及び／またはアルコール常用癖］、ならびに耳鳴りが挙げられるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
ある態様において、対象における発作活性の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。いくつかの実施形態において、方法は、てんかん発生を緩和または予防する。
さらに別の態様において、本発明の化合物と別の薬理活性剤との組み合わせが提供される。本明細書に提供される化合物は、単独の活性剤として投与することも、他の薬剤と組み合わせて投与することもできる。併用投与は、例えば、分離、逐次、同時及び交互投与を含む、当業者に明らかな任意の技法によって進行することができる。
別の態様において、脳興奮性に関連する状態に罹患しやすい、または罹患した対象における脳興奮性の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象におけるストレスまたは不安の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物またはその組成物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における不眠症の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物またはその組成物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、睡眠を誘導し、実質的な反跳性不眠症が誘導されない正常な睡眠で見出されるＲＥＭ睡眠のレベルを実質的に維持する方法であって、有効量の本発明の化合物を投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における月経前症候群（ＰＭＳ）または産後うつ病（ＰＮＤ）の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における気分障害の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。ある特定の実施形態において、気分障害は、うつ病である。
さらに別の態様において、治療有効量の本発明の化合物を対象に投与することによる、認知促進または記憶障害の治療方法が提供される。ある特定の実施形態において、障害は、アルツハイマー病である。ある特定の実施形態において、障害は、レット症候群である。
さらに別の態様において、治療有効量の本発明の化合物を対象に投与することによる、注意障害の治療方法が提供される。ある特定の実施形態において、注意障害は、ＡＤＨＤである。
中枢神経系（ＣＮＳ）の炎症（神経炎症）は、すべての神経障害の特徴であると認識される。主な炎症性神経障害としては、多発性硬化症（ミエリンタンパク質に対する免疫媒介反応を特徴とする）、及び髄膜脳炎（感染因子が炎症反応を引き起こした）が挙げられる。追加の科学的根拠は、アルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン病、筋萎縮性側索硬化症、脳卒中及び外傷性脳損傷などの他の神経学的状態における炎症機序の潜在的な役割を示唆する。一実施形態において、本発明の化合物は、神経炎症の治療に有用である。別の実施形態において、本発明の化合物は、アルツハイマー病、パーキンソン病、ハンチントン病、筋萎縮性側索硬化症、脳卒中及び外傷性脳損傷を含む、神経学的状態における炎症の治療に有用である。
ある特定の実施形態において、化合物は、対象に慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、対象に、経口、皮下、筋肉内、または静脈内に投与される。
神経内分泌障害及び機能障害
本明細書では、神経内分泌障害及び機能障害を治療するために使用することができる方法が提供される。本明細書で使用される場合、「神経内分泌障害」または「神経内分泌機能障害」は、脳に直接関連する身体のホルモン産生の不均衡によって引き起こされる様々な状態を指す。神経内分泌障害は、神経系と内分泌系との間の相互作用を伴う。視床下部及び下垂体は、ホルモンの産生を調節する脳の２つの領域であるため、例えば、外傷性脳損傷による視床下部または下垂体の損傷は、ホルモンの産生及び脳の他の神経内分泌機能に影響を及ぼし得る。いくつかの実施形態において、神経内分泌障害または機能障害は、女性の健康障害または状態（例えば、本明細書に記載の女性の健康障害または状態）と関連付けられる。いくつかの実施形態において、神経内分泌障害または機能障害は、女性の健康障害と関連付けられるか、または多嚢胞性卵巣症候群である状態である。
神経内分泌障害の症状としては、行動的、感情的、及び睡眠関連の症状、生殖機能に関連する症状、ならびに体細胞症状が挙げられるが、これらに限定されず、疲労、記憶力の低下、不安、抑うつ、体重増加または減少、感情的な持続可能性、集中力の欠如、注意力の低下、脂質の低下、不妊症、無月経、筋肉量の低下、腹部の体脂肪の増加、低血圧、心拍数の低下、脱毛、貧血、便秘、風邪不耐性、及び乾燥した皮膚が含まれるが、これらに限定されない。
神経変性疾患及び障害
本明細書に記載される方法は、神経変性疾患及び障害を治療するために使用することができる。「神経変性疾患」という用語は、ニューロンの構造もしくは機能の進行性喪失、またはニューロンの死と関連付けられる疾患及び障害を含む。神経変性疾患及び障害としては、アルツハイマー病（軽度、中等度、もしくは重度の認知障害の関連症状を含む）；筋萎縮性側索硬化症（ＡＬＳ）；無酸素性及び虚血性傷害；運動失調及びけいれん（統合失調感情障害もしくは統合失調症の治療に使用される薬物によって引き起こされる発作の治療及び予防を含む）；良性の忘我性；脳浮腫；ＭｃＬｅｏｄ神経棘細胞症候群（ＭＬＳ）を含む小脳運動失調症；閉鎖性頭部損傷；昏睡；挫傷（例えば、脊髄損傷及び頭部損傷）；多発梗塞性認知症及び老年認知症を含む認知症；意識障害；ダウン症候群；薬物誘発または薬剤誘発パーキンソニズム（神経遮断薬誘発性急性アカシジア、急性ジストニア、パーキンソニズム、もしくは遅発性ジスキネジア、神経遮断薬悪性症候群、または薬剤誘発性姿勢振戦）；てんかん；脆弱Ｘ症候群；トゥレット症候群；頭部外傷；聴覚障害及び聴力損失；ハンチントン病；レノックス症候群；レボドパ誘発性ジスキネジア；精神遅滞；アキネジア及びアキネジア（硬性）症候群を含む運動障害（基底神経節石灰化、皮質基底変性、多系統萎縮、パーキンソニズム－ＡＬＳ認知症複合体、パーキンソン病、脳炎後パーキンソニズム、及び進行性核上性麻痺を含む）；筋けいれん及び筋けいれんまたは筋力低下に関連する障害（良性遺伝性舞踏歌、薬物誘発性舞踏歌、片側バリスム、ハンチントン病、神経有棘赤血球症、シドナム舞踏病、及び症候性舞踏病などの舞踏病を含む）、ジスキネジア（複合チック、単純チック、及び症候性チックなどのチックを含む）、ミオクローヌス（全般性ミオクローヌス及び限局性シロクローヌスを含む）、振戦（安静時振戦、体位性振戦、及び意図振戦など）及びジストニア（軸性ジストニア、ジストニア性書痙、片麻痺性ジストニア、発作性ジストニア、及び限局性ジストニア、例えば、目瞼けいれん、顎口腔ジストニア、ならびにけいれん性ジストニア及び斜頚など）；眼の損傷、網膜症または眼球の黄斑変性を含む神経損傷；脳卒中、血栓性脳卒中、脳卒中、脳虚血、脳血栓、低血糖、無記憶症、低酸素症、無酸素症、周産期窒息及び心停止；パーキンソン病、発作；てんかん重積状態；脳卒中；耳鳴り；結節性硬化症、及びウイルス感染誘発性神経変性（例えば、後天性免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）及び脳症によって引き起こされる）が挙げられるが、これらに限定されない。神経変性疾患には、脳卒中、血栓塞栓性脳卒中、出血性脳卒中、脳虚血、脳血管けいれん、低血糖、健忘、低酸素症、無酸素症、周産期窒息、及び心停止に続く神経毒性損傷も含まれるが、これらに限定されない。神経変性疾患の治療または予防方法はまた、神経変性疾患の特徴である神経細胞機能の喪失を治療または予防することも含む。
気分障害
また、本明細書では、気分障害、例えば、臨床的うつ病、産後うつ病（ｐｏｓｔｎａｔａｌ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）もしくは産後うつ病（ｐｏｓｔｐａｒｔｕｍ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）、周産期うつ病、非定型うつ病、メランコリックうつ病、精神病性大うつ病、緊張病性うつ病、季節性情動障害、気分変調症、二重うつ病、うつ病性パーソナリティ障害、再発性短時間うつ病、軽度うつ病性障害、双極性障害もしくは躁うつ病性障害、慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病、治療抵抗性うつ病、難治性うつ病、自殺傾向、自殺念慮、または自殺行動を治療するための方法も提供される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の方法は、うつ病（例えば、中等度または重度のうつ病）に罹患している対象に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、気分障害は、本明細書に記載の疾患または障害（例えば、神経内分泌疾患及び障害、神経変性疾患及び障害（例えば、てんかん）、運動障害、振戦（例えば、パーキンソン病）、女性の健康障害または状態）と関連付けられる。
臨床的うつ病は、大うつ病、大うつ病性障害（ＭＤＤ）、重度のうつ病、単極性うつ病、単極性障害、及び再発性うつ病としても知られており、低い自尊心及び通常楽しい活動への関心または快感の喪失を伴う広範囲かつ持続的な低い気分を特徴とする精神障害を指す。臨床的うつ病を有する人の中には、睡眠障害があり、体重が減少し、一般的に興奮してイライラする人がいる。臨床的うつ病は、個人の感情、思考、行動に影響を与え、様々な感情的及び身体的問題につながる可能性がある。臨床的うつ病を有する人は、日々の活動を行うことに問題があり、人生を生きる価値がないと感じさせる可能性がある。
周産期うつ病は、妊娠期のうつ病を指す。症状としては、イライラ、泣き、落ち着かない気持ち、睡眠障害、極度の疲労感（感情的及び／または身体的）、食欲の変化、集中困難、不安及び／または心配の増加、赤ちゃん及び／または胎児との断絶感、ならびに以前は楽しんでいた活動への興味の喪失が挙げられる。
産後うつ病（ｐｏｓｔｎａｔａｌ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ、ＰＮＤ）は、産後うつ病（ｐｏｓｔｐａｒｔｕｍ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ、ＰＰＤ）とも称され、出産後の女性に影響を及ぼす臨床的うつ病の一種を指す。症状としては、悲しみ、疲労、睡眠及び食事習慣の変化、性的欲求の低下、泣くエピソード、不安、ならびにイライラを挙げることができる。いくつかの実施形態において、ＰＮＤは、治療抵抗性うつ病（例えば、本明細書に記載の治療抵抗性うつ病）である。いくつかの実施形態において、ＰＮＤは、難治性うつ病（例えば、本明細書に記載の難治性うつ病）である。
いくつかの実施形態において、ＰＮＤを有する対象はまた、妊娠中にうつ病、またはうつ病の症状を経験した。このうつ病を本明細書では）周産期うつ病という。ある実施形態において、周産期うつ病を経験する対象は、ＰＮＤを経験するリスクが増加する。
非定型うつ病（ＡＤ）は、気分反応性（例えば、奇異性快感消失）及び積極性、著しい体重増加または食欲増加を特徴とする。ＡＤに罹患している患者はまた、過度の睡眠または眠気（過眠症）、四肢の重さの感覚、及び知覚される対人的拒絶感覚に対する過敏の結果として重大な社会的障害を有する場合がある。
メランコリー性うつ病は、ほとんどまたはすべての活動における快楽の喪失（快感消失）、快楽的刺激への反応の失敗、悲しみもしくは喪失よりも顕著な抑うつ気分、過度の体重減少、または過度の罪悪感を特徴とする。
精神病性大うつ病（ＰＭＤ）または精神病性うつ病は、個人が妄想及び幻覚などの精神病症状を経験する、特にメランコリックな性質の大うつ病エピソードを指す。
カタトニック性うつ病は、運動行動の障害及び他の症状を伴う大うつ病を指す。個人は沈黙及び昏迷し、動かなくなるか、または目的のない、もしくは奇妙な動きを示すことがある。
季節性情動障害（ＳＡＤ）は、個人が秋または冬に発生するうつ病エピソードの季節的パターンを有する、季節性うつ病のタイプを指す。
気分変調は、身体的及び認知的に同じ問題が顕在化する、単極性うつ病に関連する状態を指す。これらはそれほど重篤ではなく、より長く持続する傾向がある（例えば、少なくとも２年）。
二重うつ病は、少なくとも２年間続くかなりの抑うつ気分（気分変調）を指し、大うつ病の期間によって中断される。
抑うつ性パーソナリティ障害（ＤＰＤ）は、抑うつ的特徴を有するパーソナリティ障害を指す。
反復性短期うつ病（ＲＢＤ）は、個人が１ヶ月に１回程度のうつ病エピソードを有し、それぞれのエピソードが２週間以下、典型的には２～３日未満続く状態を指す。
軽度のうつ病性障害または軽度のうつ病は、少なくとも２つの症状が２週間にわたって存在するうつ病を指す。
双極性障害または躁うつ病性障害は、感情の高揚（躁病または軽躁病）及び低下（うつ病）を含む極端な気分変動を引き起こす。躁病の期間中、その個人は異常に幸せ、エネルギー、またはイライラを感じるか、または行動することがある。彼らはしばしば、結果をほとんど考慮せずに、十分な検討を経ていない決定を下す。通常、睡眠の必要性は低減する。うつ病の期間中は、泣き、他人とあまり視線を合わさず、ネガティブな人生観を有する可能性がある。障害のある人の自殺リスクは、２０年間で６％を超えるほど高く、自傷は３０～４０％で発生する。不安障害及び物質使用障害などの他の精神保健問題は、一般的に双極性障害と関連している。
慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病は、がんまたは慢性的な疼痛、化学療法、慢性的なストレスなどの慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病を指す。
治療抵抗性うつ病は、個人がうつ病の治療を受けたが、症状が改善しない状態を指す。例えば、抗うつ薬または生理学的カウンセリング（心理療法）は、治療抵抗性のうつ病を有する個人のうつ病症状を緩和しない。場合によっては、治療抵抗性のうつ病の個人は、症状を改善するが、戻ってくる。難治性うつ病は、三環系抗うつ薬、ＭＡＯＩ、ＳＳＲＩ、ならびに二重及び三重取り込み阻害剤及び／または抗不安薬、ならびに非薬理学的治療（例えば、心理療法、電気けいれん療法、迷走神経刺激及び／または経頭蓋磁気刺激）を含む標準的な薬理学的治療に耐性であるうつ病を患う患者において起こる。
術後うつ病は、外科的処置に続く（例えば、自分の死に直面しなければならない結果としての）うつ病の感情を指す。例えば、個人は、悲しみまたは空虚な気分を持続的に感じるか、あるいは普段楽しんでいる趣味及び活動に対する快楽もしくは興味の喪失、または持続的な無価値感もしくは絶望感を感じる場合がある。
女性の健康の状態または障害と関連した気分障害は、女性の健康の状態または障害（例えば、本明細書に記載されるもの）と関連した（例えば、それに起因する）気分障害（例えば、うつ病）を指す。
自殺傾向、自殺念慮、自殺行動は、個人が自殺を図る傾向を指す。自殺念慮は、自殺に対する思考または異常な没頭に関係する。自殺念慮の範囲は、例えば、瞬間の思考から広範な思考、詳細な計画、ロールプレイ、不完全な試みまで様々である。症状としては、自殺について話すこと、自殺を図る手段を得ること、社会的接触から離脱すること、死に夢中になること、ある状況に囚われているか絶望を感じること、アルコールまたは薬物の使用を増やすこと、危険なことまたは自己破壊的なことを行うこと、二度と会えないかのように人々に別れを告げることが挙げられる。
うつ病の症状としては、持続的な不安または悲しみの感情、無力感、絶望、悲観、無価値感、低いエネルギー、落ち着きのなさ、睡眠困難、不眠、イライラ、疲労、運動障害、楽しい活動または趣味への関心の喪失、集中力の喪失、エネルギーの喪失、自尊心の低下、前向きな考えまたは計画の不在、過度の睡眠、過食、食欲不振、不眠、自傷行為、自殺の考え、及び自殺未遂が挙げられる。症状の有無、重症度、頻度、及び期間は、症例によって異なる場合がある。うつ病の症状、及びその緩和は、医師または心理学者によって（例えば、精神状態検査によって）確認され得る。
いくつかの実施形態において、方法は、既知のうつ病スケール、例えば、ハミルトンうつ病（ＨＡＭ－Ｄ）スケール、臨床全般印象改善スケール（ＣＧＩ）、及びモンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）を有する対象をモニタリングすることを含む。いくつかの実施形態において、治療効果は、対象によって示されるハミルトンうつ病（ＨＡＭ－Ｄ）合計スコアの低減によって決定され得る。ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの低減は、４、３、２、または１日以内、または９６、８４、７２、６０、４８、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以下で起こり得る。治療効果は、特定の治療期間にわたって評価することができる。例えば、治療効果は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物を投与した後（例えば、投与後１２、２４、もしくは４８時間後；または２４、４８、７２、もしくは９６時間以上；または１日、２日、１４日、２１日、もしくは２８日；または１週間、２週間、３週間、もしくは４週間；または１ヶ月、２ヶ月、６ヶ月、もしくは１０ヶ月；または１年、２年、もしくは生涯）のＨＡＭ－Ｄ合計スコアのベースラインからの減少によって決定することができる。
いくつかの実施形態において、対象は、軽度のうつ病性障害、例えば、軽度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、中等度のうつ病性障害、例えば、中等度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、重度のうつ病性障害、例えば、重度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、非常に重度のうつ病性障害、例えば、非常に重度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコア（すなわち、本明細書に記載の化合物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療前）は、少なくとも２４である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも１８である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１４～１８の間（１４及び１８を含む）である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１９～２２の間（１９及び２２を含む）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、２３以上である。いくつかの実施形態において、ベースラインスコアは、少なくとも１０、１５、または２０である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、約０～１０（例えば、１０未満、０～１０、０～６、０～４、０～３、０～２、または１．８）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１０、７、５、または３未満である。いくつかの実施形態において、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後、約２０～３０（例えば、２２～２８、２３～２７、２４～２７、２５～２７、２６～２７）のベースラインスコアから、約０～１０（例えば、１０未満；０～１０、０～６、０～４、０～３、０～２、または１．８）のＨＡＭ－Ｄ合計スコアまでである。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアから、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアへの減少は、少なくとも１、２、３、４、５、７、１０、２５、４０、５０、または１００倍である。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアから、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアへの減少率は、少なくとも５０％である（例えば、６０％、７０％、８０％、または９０％）。いくつかの実施形態において、治療効果は、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコア（例えば、投与後１２、２４、４８時間、または２４、４８、７２、９６時間以上、または１日、２日、１４日以上）の減少として測定され、少なくとも１０、１５、または２０ポイントである。
いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、ハミルトンうつ病スコア（ＨＡＭ－Ｄ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ，ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療の１日目または２日目以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療の開始から１４日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療の開始から２１日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療の開始から２８日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療（例えば、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による１日１回、１４日間の治療）後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアのベースラインからの減少である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも２４である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも１８である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１４～１８の間（１４及び１８を含む）である。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物で対象を治療した後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、少なくとも１０である。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物で対象を治療した後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、少なくとも１５（例えば、少なくとも１７）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による対象の治療に関連するＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、６～８の範囲の数以下である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸまたはＸａの化合物による対象の治療に関連するＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、７以下である。
いくつかの実施形態において、本方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、臨床全般印象改善スケール（ＣＧＩ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ障害は、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、治療期間の２日目以内に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、治療期間の終了時（例えば、投与の１４日後）におけるベースラインからのＣＧＩスコアの減少である。
いくつかの実施形態において、本方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、モンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ障害は、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、治療期間の２日目以内に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、治療期間の終了時（例えば、投与の１４日後）におけるベースラインからのＭＡＤＲＳスコアの減少である。
大うつ病性障害に対する治療効果は、対象によって示されるモンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）スコアの低下によって決定することができる。例えば、ＭＡＤＲＳスコアは、４、３、２、もしくは１日以内、または９６、８４、７２、６０、４８、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以下で低減し得る。モンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）は、１０項目の診断アンケート（明らかな悲しみ、報告された悲しみ、内側の緊張、睡眠の減少、食欲低下、集中困難、倦怠感、感覚の消失、悲観的な考え、及び自殺念慮に関する）であり、精神科医は、気分障害のある患者におけるうつ病エピソードの重症度を測定するために使用する。
いくつかの実施形態において、本方法は、４、３、２、１日以内、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以内の治療効果（例えば、エディンバラ産後うつ病スケール（ＥＰＤＳ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、ＥＰＤＳによって測定される改善である。
いくつかの実施形態において、本方法は、４、３、２、１日以内、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以内の治療効果（例えば、全般性不安障害７項目スケール（ＧＡＤ－７）の低減によって測定される）を提供する。
不安障害
本明細書では、不安障害（例えば、全般性不安障害、パニック障害、強迫性障害、恐怖症、心的外傷後ストレス障害）を治療するための方法が提供される。不安障害は、異常及び病的な恐怖及び不安のいくつかの異なる形態をカバーする包括的用語である。現在の精神医学的診断基準は、多種多様な不安障害を認識している。
全般性不安障害は、いかなる１つの物体または状況にも焦点を当てていない長期不安を特徴とする一般的な慢性疾患である。全般性不安に悩まされている人は、非特異的な持続的恐怖及び心配を経験し、日常の出来事に過度に関心を持つようになる。全般性不安障害は、高齢者に影響を与える最も一般的な不安障害である。
パニック障害において、人は激しい恐怖及び不安の短時間の発作に悩まされ、しばしば震え、揺れ、混乱、めまい、吐き気、呼吸困難を特徴とする。これらのパニック発作は、ＡＰＡによって、突然生じて１０分未満でピークに達する恐怖または不快感として定義されているが、数時間持続することがあり、ストレス、恐怖、または運動によっても引き起こされることがある。但し、具体的な原因は必ずしも明らかではない。予期せぬパニック発作の繰り返しに加えて、パニック障害の診断には、当該発作の潜在的な影響を心配するか、将来の攻撃に対する継続的な恐怖、または攻撃に関連する行動の著しい変化のいずれかの慢性的な結果があることも必要とする。したがって、パニック障害を患っている人は、特定のパニックエピソード以外でも症状を経験する。多くの場合、心拍の正常な変化はパニック患者に気付かれ、心臓に何か問題があると思わせるか、または再びパニック発作が起こりそうであると思わせる。場合によっては、パニック発作の間に身体機能の意識の高まり（過剰警戒）が起こり、そこで知覚される生理学的変化は、生命を脅かす可能性のある疾病（すなわち、極度の心気症）として解釈される。
強迫性障害は、主に反復的な強迫観念（苦痛、持続的、侵入思考または画像）及び衝動強迫（特定の行為または儀式を行うための衝動）を特徴とする不安障害の一種である。ＯＣＤ思考パターンは、実際には存在しない因果関係への信念を伴う限り、迷信に例えられることがある。多くの場合、このプロセスは完全に論理的ではなく、例えば、ある特定のパターンで歩くという衝動強迫は、差し迫った危害の強迫観念を緩和するために用いられ得る。また多くの場合、衝動強迫は、緊張によって引き起こされる儀式を完了したいという全く不可解な単なる衝動である。少数の症例において、ＯＣＤの患者は、明らかな衝動強迫を伴わずに、強迫観念のみを経験することができ、はるかに少ない数の患者は、衝動強迫のみを経験する。
不安障害の単一の最大のカテゴリーは、恐怖症のカテゴリーであり、特定の刺激または状況によって恐怖及び不安が引き起こされるすべての症例を含む。患者は、典型的に、恐怖の対象物（動物から場所、体液までどんなものでも）に遭遇することから恐ろしい結果を予想する。
心的外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）は、心的外傷体験から生じる不安障害である。心的外傷後ストレスは、戦闘、レイプ、人質の状況、またはさらには重大な事故などの極限状況から生じる可能性がある。また、個々の戦闘に耐えながらも継続的な戦闘には対応することができない兵士など、長期的（慢性的）に激しいストレッサーにさらされることからも生じる可能性がある。一般的な症状としては、フラッシュバック、回避行動、及びうつ病が挙げられる。
女性の健康障害
本明細書では、女性の健康に関連する状態または障害を治療するための方法が提供される。女性の健康に関連する状態または障害としては、限定されないが、婦人科的健康及び障害（例えば、月経前症候群（ＰＭＳ）、月経前不快気分障害（ＰＭＤＤ））、妊娠問題（例えば、流産、中絶）、不妊及び関連する障害（例えば、多嚢胞性卵巣症候群（ＰＣＯＳ））、他の障害及び状態、ならびに女性の全体的な健康及びウェルネスに関連する問題（例えば、更年期）が挙げられる。
女性に影響を与える婦人科的健康及び障害としては、月経及び月経不順、尿失禁及び骨盤底障害を含む尿路健康、ならびに細菌性膣症、膣炎、子宮筋腫、及び外陰部障害などの障害が挙げられる。
月経前症候群（ＰＭＳ）とは、女性の月経の１～２週間前に起こる身体的及び感情的症状を指す。症状は様々であるが、出血、気分の揺れ、乳房の圧痛、食物の渇望、疲労、イライラ、にきび、及びうつ病を含むことができる。
月経前不快気分障害（ＰＭＤＤ）は、ＰＭＳの重篤な形態である。ＰＭＤＤの症状はＰＭＳと類似しているが、より重篤であり、仕事、社会活動、及び人間関係に干渉する可能性がある。ＰＭＤＤ症状としては、気分変動、落ち込んだ気分または絶望感、顕著な怒り、対人衝突の増加、緊張及び不安、イライラ、通常の活動への関心の低下、集中困難、疲労、食欲の変化、制御不能または圧倒的な感覚、睡眠障害、身体的問題（例えば、膨満感、乳房の圧痛、腫れ、頭痛、関節または筋肉痛）が挙げられる。
妊娠問題としては、妊娠前ケア及び産前ケア、妊娠喪失（流産及び死産）、早期分娩及び早産、乳児突然死症候群（ＳＩＤＳ）、授乳、及び出生不良が挙げられる。
流産とは、妊娠の最初の２０週間以内に、自然に終了する妊娠を指す。
中絶とは、妊娠の最初の２８週間中に行われ得る、意図的な妊娠の終了を指す。
不妊症及び関連疾患としては、子宮筋腫、多嚢胞性卵巣症候群、子宮内膜症、及び原発性卵巣不全が挙げられる。
多嚢胞性卵巣症候群（ＰＣＯＳ）は、生殖年齢の女性の内分泌系障害を指す。ＰＣＯＳは、女性における男性ホルモンの上昇に起因する一連の症状である。ＰＣＯＳの女性のほとんどは、卵巣に多くの小さな嚢胞を生じる。ＰＣＯＳの症状としては、不規則な月経または無月経、重い月経、過剰な体毛及び顔の毛、にきび、骨盤痛、妊娠困難、ならびに厚く、暗く、ベルベットのような皮膚の斑点が挙げられる。ＰＣＯＳは、２型糖尿病、肥満、閉塞性睡眠時無呼吸、心疾患、気分障害、及び子宮内膜癌を含む状態と関連し得る。
女性のみに影響を及ぼす他の疾患及び状態としては、ターナー症候群、レット症候群、卵巣癌及び子宮頸癌が挙げられる。
女性の全体的な健康及びウェルネスに関連する問題としては、女性に対する暴力、障害のある女性及びその独自の課題、骨粗しょう症及び骨の健康、ならびに更年期が挙げられる。
更年期は、女性の最後の月経から１２ヶ月後を指し、月経周期の終了を意味する。更年期は、典型的に女性の４０歳代または５０歳代に起こる。ホットフラッシュ及び更年期の感情的な症状などの身体的症状は、睡眠を妨害するか、エネルギーを低下させるか、または不安または悲しみもしくは喪失感を引き起こす可能性がある。更年期には、自然更年期、及び手術（例えば、子宮摘出術、卵巣摘出術、がん）などの事象に起因する誘発性更年期の一種である外科的更年期が含まれる。これは、例えば、放射線、化学療法、または他の薬物によって卵巣が深刻な損傷を受ける場合に誘導される。
てんかん
式（Ｉ）の化合物、もしくは薬学的に許容される塩、またはその薬学的に許容される組成物は、本明細書に記載の方法、例えば、てんかん、てんかん重積状態、または発作などの本明細書に記載の障害の治療において使用することができる。
てんかんは、経時的に発作を繰り返すことを特徴とする脳障害である。てんかんの種類としては、全般性てんかん、例えば、小児期欠神てんかん、若年期のミオクローヌスてんかん、覚醒時の大発作を伴うてんかん、ウエスト症候群、レノックス・ガストー症候群、部分てんかん、例えば、側頭葉てんかん、前頭葉てんかん、小児期の良性限局性てんかんが挙げられるが、これらに限定されない。
てんかん発生
本明細書に記載の化合物及び方法は、てんかん発生を治療または予防するために使用することができる。てんかん発生は、正常な脳がてんかん（発作が起こる慢性状態）を発症する段階的プロセスである。てんかん発生は、初期の発作（例えば、てんかん重積状態）によって引き起こされた神経細胞の損傷から生じる。
てんかん重積状態（ＳＥ）
てんかん重積状態（ＳＥ）は、例えば、けいれん性てんかん重積状態、例えば、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態；非けいれん性てんかん重積状態、例えば、全般性てんかん重積状態、複雑な部分てんかん重積状態；全般性周期的てんかん様排出；及び周期的な側方化てんかん様排出が挙げられる。けいれん性てんかん重積状態は、けいれん性てんかん重積状態の発作の存在を特徴とし、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態を含むことができる。早期てんかん重積状態は、第一選択療法で治療される。確立されたてんかん重積状態は、第一選択療法による治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とし、第二選択療法が投与される。難治性てんかん重積状態は、第一選択療法及び第二選択療法での治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とし、一般的に全身麻酔薬が投与される。超難治性てんかん重積状態は、第一選択療法、第二選択療法、及び全身麻酔による２４時間以上の治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とする。
非けいれん性てんかん重積状態としては、例えば、限局的非けいれん性てんかん重積状態、例えば、複雑な部分非けいれん性てんかん重積状態、単純な部分非けいれん性てんかん重積状態、微妙な非けいれん性てんかん重積状態、全般性非けいれん性てんかん重積状態、例えば、遅発性欠神非けいれん性てんかん重積状態、非定型欠神非けいれん性てんかん重積状態、または定型欠神非けいれん性てんかん重積状態を挙げることができる。
式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、または薬学的に許容される塩、あるいはその薬学的に許容される組成物は、ＣＮＳ障害、例えば、外傷性脳損傷、てんかん重積状態、例えば、けいれん性てんかん重積状態、例えば、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態；非けいれん性てんかん重積状態、例えば、全般性てんかん重積状態、複雑な部分てんかん重積状態；全般性周期的てんかん様排出；及び周期的な側方化てんかん様排出を有する対象に、発作の発症前に予防剤として投与することもできる。
発作
発作とは、脳の異常な電気活動のエピソードの後に起こる身体的所見または行動の変化である。「発作」という用語は、多くの場合「けいれん」と互換的に使用される。けいれんは、人の身体が急速かつ制御不能に揺れることである。けいれんの間、人の筋肉が収縮及び弛緩を繰り返す。
行動の種類及び脳活動に基づいて、発作は、全般性及び部分（局所性または限局性とも呼ばれる）の２つの大まかなカテゴリーに分類される。発作の種類を分類することは、患者がてんかんを患っているかどうかを医師が診断するのに役立つ。
全般性発作は、脳全体からの電気的インパルスによって生じるが、部分発作は、脳の比較的小さな部分での電気的インパルスによって（少なくとも初期に）生じる。発作を発生させる脳の部分は、焦点と呼ばれることがある。
全般性発作には６つのタイプがある。最も一般的で劇的な、したがって最もよく知られているのは、大発作とも呼ばれる全般性けいれんである。この種の発作では、患者は意識を失い、通常は倒れる。意識喪失の後、３０～６０秒間の全身硬直（発作の「強直」フェーズと呼ばれる）が続き、その後、３０～６０秒間の激しいジャーキング（「間代」フェーズ）が続き、その後、患者は深い睡眠（「事後」または発作後フェーズ）に入る。大発作中には、舌噛み及び尿失禁などの怪我及び事故が発生することがある。
欠神発作は、ほとんどまたはまったく症状のない短い意識喪失（わずか数秒）を引き起こす。患者は、ほとんどの場合、子供であり、典型的には活動を中断し、ぼんやりとした視線を向ける。これらの発作は突然始まって終わり、１日に数回起こることがある。患者は通常、発作を起こしていることを認識していないが、「時間を失う」ことを認識している可能性がある。
ミオクローヌス発作は、通常は身体の両側での散発的なジャークからなる。患者は、ジャークを短時間の電気ショックと表現することがある。激しい場合、これらの発作により、物体を落とすか、または不随意に投げる場合がある。
クローン性発作は、身体の両側を同時に巻き込む反復的かつ律動的なジャークである。
強直性発作は、筋肉の硬直を特徴とする。
弛緩性発作は、特に腕及び脚の筋肉の強直の突然の全般的な喪失からなり、しばしば転倒を引き起こす。
本明細書に記載の発作としては、てんかん発作；急性反復発作；クラスター発作；連続発作；不連続発作；長時間発作；再発発作；てんかん重積状態の発作、例えば、難治性けいれん性てんかん重積状態、非けいれん性てんかん重積状態の発作；難治性発作；ミオクローヌス発作；強直性発作；強直間代発作；単純部分発作；複雑部分発作；二次的全般性発作；非定型欠神発作；欠神発作；弛緩性発作；良性ローランド発作；発熱発作；情動発作；限局性発作；笑い発作；全般性発作；乳幼児けいれん；ジャクソン型発作；大規模な両側ミオクローヌス発作；多発性発作；新生児発症性発作；夜間発作；後頭葉発作；外傷後発作；微細発作、シルヴァン発作；視覚反射発作；または離脱発作を挙げることができる。いくつかの実施形態において、発作は、ドラベ症候群、レノックス・ガストー症候群、結核性硬化症複合体、レット症候群、またはＰＣＤＨ１９女児てんかんと関連した全般性発作である。
運動障害
運動障害の治療方法もまた、本明細書に記載される。本明細書で使用される場合、「運動障害」は、活動過多運動障害及び筋肉制御における関連する異常と関連付けられた様々な疾患及び障害を指す。例示的な運動障害としては、パーキンソン病及びパーキンソニズム（特に、動作緩慢によって定義される）、ジストニア、舞踏病及びハンチントン病、運動失調、振戦（例えば、本態性振戦）、ミオクローヌス及び驚愕、チック及びトゥレット症候群、レストレスレッグス症候群、スティフパーソン症候群、及び歩行障害が挙げられるが、これらに限定されない。
振戦
本明細書に記載の方法は、振戦を治療するために使用することができ、例えば、式（Ｉ）の化合物を使用して、小脳振戦もしくは意図振戦、ジストニア性振戦、本態性振戦、起立性振戦、パーキンソン振戦、生理的振戦、心因性振戦、または赤核性振戦を治療することができる。振戦としては、それぞれ、ウィルソン病、パーキンソン病、及び本態性振戦などの遺伝性、変性性、及び特発性障害；代謝性疾患（例えば、甲状腺副甲状腺疾患、肝疾患及び低血糖症）；末梢神経障害（シャルコー・マリー・トゥース、ルーシー・レビー、糖尿病、複合局所性疼痛症候群に関連する）；毒素（ニコチン、水銀、鉛、ＣＯ、マンガン、ヒ素、トルエン）；薬剤誘発性障害（ナルコレプシー、三環系、リチウム、コカイン、アルコール、アドレナリン、気管支拡張剤、テオフィリン、カフェイン、ステロイド、バルプロエート、アミオダロン、甲状腺ホルモン、ビンクリスチン）；ならびに精神障害が挙げられる。臨床的振戦は、生理的振戦、強化生理的振戦、本態性振戦症候群（古典的本態性振戦、一次起立性振戦、及びタスク及び体位特異的振戦を含む）、ジストニア振戦、パーキンソン振戦、小脳振戦、ホルムズ振戦（すなわち、赤核性振戦）、口蓋振戦、神経障害性振戦、毒性または薬物誘発性振戦、及び心因性振戦に分類することができる。
振戦は、不随意的な、時には律動的な筋肉の収縮及び弛緩であり、１つ以上の身体部位（例えば、手、腕、目、顔、頭部、声帯ひだ、体幹、脚）の振動またはれん縮を伴い得る。
小脳振戦または意図振戦は、意図的な動きの後に生じる四肢のゆっくりとした広範囲の振戦である。小脳振戦は、例えば、腫瘍、脳卒中、疾患（例えば、多発性硬化症、遺伝性変性障害）に起因する小脳の病変または損傷によって引き起こされる。
ジストニア性振戦は、持続的な不随意の筋肉収縮が、ねじれや反復運動、及び／または苦痛かつ異常な姿勢もしくは体位を引き起こす運動障害であるジストニアの影響を受ける個人において起こる。ジストニア性振戦は、体内のあらゆる筋肉に影響を及ぼす可能性がある。ジストニア性振戦は不規則に起こり、しばしば完全な安静によって緩和することができる。
本態性振戦または良性本態性振戦が最も一般的な振戦である。本態性振戦は、軽度で進行しない場合もあり、ゆっくりと進行する場合もあり、身体の片側から開始するが、３年以内に両側に影響を及ぼす。手はほとんどの場合影響を受けるが、頭部、声、舌、脚、体幹も関与している可能性がある。振戦頻度は加齢に伴い減少することがあるが、重症度は増加することがある。感情の高まり、ストレス、発熱、肉体的疲労、または低血糖は、振戦を引き起こし、及び／または重症度を増加させる場合がある。症状は、一般に経時的に進行し、発症後には目に見えるものと持続するものの両方がある。
起立性振戦は、立ち上がった直後に脚及び胴体に生じる速い（例えば、１２Ｈｚを超える）律動性筋収縮を特徴とする。太股及び脚にけいれんが感じられ、一ヶ所に立つように求められたときに患者が制御不能に揺れることがある。本態性振戦を有する患者に起立性振戦が生じることがある。
パーキンソン振戦は、運動を制御する脳内の構造物の損傷によって引き起こされる。パーキンソン振戦は、パーキンソン病の前兆であることが多く、典型的には、手の「丸剤作成様」運動として見られ、顎、唇、脚、及び体幹にも影響を及ぼす可能性がある。パーキンソン振戦の発症は、典型的には６０歳以降に始まる。動きは、片方の手足または身体の片側から始まり、反対側を含むように進行し得る。
生理的振戦は、正常な個人で起こり得、臨床的意義はない。すべての随意筋群で見ることができる。生理的振戦は、ある特定の薬物、アルコール離脱、または甲状腺の過活動及び低血糖を含む医学的状態によって引き起こされ得る。振戦は、古典的に約１０Ｈｚの周波数を有する。
心因性振戦またはヒステリー性振戦は、安静時または身体動揺もしくは運動動作中に生じ得る。心因性振戦を有する患者は、転換性障害または別の精神疾患を有し得る。
赤核性振戦は、安静時、姿勢時、及び意図的に存在し得る粗大なゆっくりとした振戦を特徴とする。振戦は、古典的な異常な脳卒中である中脳の赤核に影響を及ぼす状態と関連付けられる。
パーキンソン病は、ドーパミンを産生する脳内の神経細胞に影響を及ぼす。症状としては、筋肉の剛性、振戦、言語及び歩行の変化が挙げられる。パーキンソニズムは、振戦、徐脈、剛性、及び姿勢の不安定性を特徴とする。パーキンソニズムは、パーキンソン病に見られる症状を共有するが、進行性の神経変性疾患ではなく症状群である。
ジストニアは、異常な、しばしば反復的な動きまたは姿勢を引き起こす、持続的または断続的な筋肉収縮を特徴とする運動障害である。ジストニア運動は、パターン化され、ねじれであり得、また震えであり得る。ジストニアは、多くの場合、自発的な行動によって開始または悪化し、オーバーフロー筋肉活性化と関連付けられる。
舞踏病は、典型的には肩、腰、及び顔に影響を及ぼすけいれん的な不随意運動を特徴とする神経障害である。ハンチントン病は、脳の神経細胞を衰弱させる遺伝性疾患である。症状としては、制御不能な動き、不器用さ、及び平衡問題が挙げられる。ハンチントン病は、歩行、会話、及び嚥下を妨げる可能性がある。
運動失調は、身体の動きを完全に制御できなくなることを指し、指、手、腕、脚、体、発話、及び目の動きに影響を与える可能性がある。
ミオクローヌス及び驚愕は、音響、触覚、視覚、または前庭であり得る突然の予期しない刺激に対する応答である。
チックは、通常、突然に発症する不随意運動であり、短時間で、反復的であるが、律動的ではなく、典型的には正常な行動を模倣しており、多くの場合、正常な活動の背景から発生する。チックは、運動性または音声性として分類することができ、運動性チックは運動と関連付けられ、音声性チックは、音と関連付けられる。チックは、単純または複合として特徴付けられる。例えば、単純な運動性チックは、特定の身体部位に制限された少数の筋肉のみを伴う。トゥレット症候群は、小児期に発症する遺伝性神経精神疾患であり、複数の運動性チック及び少なくとも１つの音声性チックを特徴とする。
レストレスレッグス症候群は、安静時に脚を動かす圧倒的な衝動を特徴とする神経感覚運動障害である。
スティフパーソン症候群は、進行性の運動障害であり、通常は腰及び脚を伴う不随意の痛みを伴うけいれん及び筋肉の剛性を特徴とする。腰部の脊柱前弯過度が誇張された硬直脚の歩行が、典型的な結果である。傍脊柱軸筋の連続運動単位活動を伴うＥＭＧ記録の特徴的な異常が、典型的に観察される。変異型には、典型的に遠位脚及び足に影響を及ぼす限局性硬直を生じる「硬直肢症候群」が含まれる。
歩行障害は、神経筋、関節炎、または他の身体の変化に起因する歩行の様式またはスタイルの異常を指す。歩行は、異常運動の原因となるシステムに従って分類され、半麻痺性歩行、二麻痺性歩行、神経障害性歩行、ミオパチー性歩行、パーキンソン病様歩行、舞踏病様歩行、運動失調性歩行、及び感覚歩行が挙げられる。
麻酔／鎮静
麻酔は、薬理学的に誘導され、健忘、鎮痛、応答性の喪失、骨格筋反射の喪失、ストレス応答の低下、またはこれらのすべてを同時に有する可逆的な状態である。これらの効果は、単独で効果の正しい組み合わせを提供する単一の薬物から、または時折、結果の非常に特異的な組み合わせを達成するための薬物の組み合わせ（例えば、催眠、鎮静剤、麻痺、鎮痛剤）とともに得られ得る。麻酔により、患者は、そうでなければ経験するであろう苦痛を受けることなく、手術及び他の処置を受けることができる。
鎮静は、一般に、医学的処置または診断的処置を容易にするための、薬理学的薬剤の投与による刺激性または興奮性の低減である。
鎮静及び鎮痛には、最小限の鎮静（不安緩解）から全身麻酔までの一連の意識状態が含まれる。
最小限の鎮静は、不安緩解としても知られている。最小限の鎮静は、患者が口頭での指示に正常に応答する薬物誘発性状態である。認知機能及び協調性が損なわれる可能性がある。換気機能及び心血管機能は、通常、影響を受けない。
中等度の鎮静／鎮痛（意識下鎮静）は、患者が単独で、または軽い触覚刺激を伴って、口頭での指示に意図的に応答する、薬物誘発性の意識の低下である。通常、開存気道を維持するために介入は必要ない。典型的に、自発換気が十分である。通常、心血管機能は維持される。
深い鎮静／鎮痛は、薬物誘発性の意識の低下であり、その間、患者は容易に興奮することはできないが、反復刺激または痛みを伴う刺激の後に意図的に応答する（痛みを伴う刺激からの反射的な離脱ではない）。独立した換気機能が損なわれる可能性があり、患者は、開存気道を維持するために支援を必要とする場合がある。自然換気が不十分な場合がある。通常、心血管機能は維持される。
全身麻酔は、薬物誘発性の意識の喪失であり、その間、患者は痛みを伴う刺激であっても興奮しない。独立した換気機能を維持する能力が損なわれることが多く、開存気道を維持するために補助が必要とされることが多い。陽圧換気は、自発換気の低下または薬物誘発性の神経筋機能の抑制に起因して必要とされる場合がある。心血管機能が障害されることがある。
集中治療室（ＩＣＵ）での鎮静は、患者の環境への意識の低下及び外部刺激への応答の低下を可能にする。これは、重症患者のケアにおいて役割を果たすことができ、患者間、及び患者の病気の過程を通して個人間で変化するであろう広範囲の症状制御を包含する。救急医療における重度の鎮静は、気管内チューブの耐容性及び人工呼吸器の同期を促進するために、多くの場合、神経筋遮断剤とともに使用されている。
いくつかの実施形態において、鎮静剤（例えば、長期鎮静剤、連続鎮静剤）は、ＩＣＵで長期間（例えば、１日、２日、３日、５日、１週間、２週間、３週間、１ヶ月、２ヶ月）にわたって誘導され、維持される。長期間の鎮静剤は、長期間の作用を有する場合がある。ＩＣＵでの鎮静剤は、短い排出半減期を有し得る。
処置鎮静及び鎮痛は、意識的鎮静とも称され、鎮静剤または解離剤を鎮痛剤とともにまたは鎮痛剤なしで投与して、対象が心肺機能を維持しながら不快な処置を許容することを可能にする状態を誘発する技法である。
本明細書では、対象の呼吸器疾患の１つ以上の症状の改善方法であって、対象に、有効量の本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を投与することを含む、方法も記載される。
一態様において、本明細書では、対象が呼吸器疾患の１つ以上の症状を呈する、及び／または呼吸器疾患と診断された、対象の治療方法であって、有効量の本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を当該対象に投与することを含む、方法が提供される。
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を対象に投与することを含む、当該対象の治療方法を企図し、対象は、呼吸器疾患を有する。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患の１つ以上の症状の重症度の低減、または呼吸器疾患の１つ以上の症状の進行の遅延もしくは減速をもたらし得る。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、機械的換気または酸素で治療されてきたか、または治療されている。いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、機械的換気で治療されてきたか、または治療されている。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、機械的換気によって治療されているか、または治療されていた対象に投与される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与は、機械的換気による対象の治療を通じて継続する。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩を含む組成物）の投与は、対象が機械的換気による治療を終了した後も継続する。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、鎮静剤による治療を受けているか、または受けていた対象に投与される。いくつかの実施形態において、鎮静剤は、プロポフォールまたはベンゾジアゼピンである。
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を、それを必要とすう対象に、血液中の酸素飽和度を増加させる量で投与することを含む。いくつかの実施形態において、血液中の酸素飽和度は、パルスオキシメトリーを使用して測定される。
いくつかの実施形態において、本開示は、患者におけるサイトカインストームの治療方法を企図する。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を患者に投与するステップを含む、サイトカインストームの治療方法。いくつかの実施形態において、サイトカインストームの症状は、肺炎症である。いくつかの実施形態において、サイトカインストームを受けている患者は、急性呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）を有する。
呼吸器疾患
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、呼吸窮迫に悩まされる。いくつかの実施形態において、呼吸窮迫は、急性呼吸窮迫を含む。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、気道高応答性、肺組織の炎症、肺過敏症、及び炎症関連肺痛からなる群から選択される１つ以上の症状を呈し得る。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、肺組織の炎症を呈し得る。いくつかの実施形態において、肺組織の炎症は、気管支炎または気管支拡張症である。いくつかの実施形態において、肺組織の炎症は、肺炎である。いくつかの実施形態において、肺炎は、人工呼吸器関連肺炎または院内感染性肺炎である。いくつかの実施形態において、肺炎は、人工呼吸器関連肺炎である。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における呼吸窮迫の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における呼吸窮迫の進行を遅延または減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、コロナウイルスと関連した疾患を有する対象における気道高応答性の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における気道高応答性の進行を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺組織の炎症の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺組織の炎症の進行を遅延もしくは減速させる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺炎の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺炎の進行を遅延または減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺過敏症の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺過敏症の進行を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載される化合物または薬学的組成物（例えば、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的塩、あるいは式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩａ、ＩＩＩｂ、ＩＩＩｄ、ＩＩＩｅ、ＩＶ、ＩＶａ、ＩＶｂ、ＩＶｃ、ＩＶｄ、ＩＶｅ、ＩＶｆ、ＩＶｇ、Ｖ、Ｖａ、ＶＩａ、ＶＩｂ、ＶＩｃ、ＶＩｄ、ＶＩｅ、ＶＩｆ、ＶＩＩ、ＶＩＩａ、ＶＩＩＩ、ＶＩＩＩａ、ＩＸ、ＩＸａ、ＸもしくはＸａの化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における炎症関連の肺疼痛の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における炎症関連の肺疼痛の進行を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、感染症、線維症、線維性エピソード、慢性閉塞性肺疾患、サルコイドーシス（もしくは肺サルコイドーシス）、または喘息／喘息関連炎症の治療を受けているか、または受けていた。
いくつかの実施形態において、対象は、喘息の症状を呈する、及び／または喘息と診断されている。いくつかの実施形態において、対象は、喘息発作を経験しているか、または経験していた。
いくつかの実施形態において、対象は、線維症または線維性エピソードの治療を受けているか、または受けていた。いくつかの実施形態において、線維症は、嚢胞性線維症である。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患は、嚢胞性線維症、喘息、煙誘発性ＣＯＰＤ、慢性気管支炎、鼻副鼻腔炎、便秘、膵炎、膵不全、先天性両側輸精管欠損（ＣＢＡＶＤ）、軽度の肺疾患、肺サルコイドーシス、特発性膵炎、アレルギー性気管支肺アスペルギルス症（ＡＢＰＡ）、肝疾患、遺伝性肺気腫、遺伝性ヘモクロマトーシス、凝固線維症欠損症（例えば、タンパク質Ｃ欠損症）、遺伝性１型血管性浮腫、脂質加工欠損症（例えば、家族性高コレステロール血症）、１型カイロミクロン血症、無βリポタンパク質血症、溶血性貯蔵疾患（例えば、Ｉ－細胞疾患／偽ハーラー）、ムコ多糖症、サンドホッフ／タイサックス、クリグラー・ナジャールＩＩ型、多腺性内分泌障害／高インスリン血症、糖尿病、ラロン小人症、ミエロペルオキシダーゼ欠損症、原発性副甲状腺機能低下症、黒色腫、グリカノーシスＣＤＧ１型、先天性甲状腺機能亢進症、骨形成不全症、遺伝性低フィブリノーゲン血症、ＡＣＴ欠損症、尿崩症（ＤＩ）、ニューロフィシン性ＤＩ、腎原性ＤＩ、シャルコー・マリー・トゥース症候群、ペリツェウス・メルツバッハー病、神経変性疾患（例えば、アルツハイマー病）、パーキンソン病、筋萎縮性側索硬化症、進行性核上性麻痺、ピック病、いくつかのポリグルタミン神経学的障害（例えば、ハンチントン）、脊髄性無動脈症Ｉ型、球脊髄性筋萎縮症、歯状核赤核淡蒼球ルイ体、及び筋強直性ジストロフィー症、ならびに海綿状脳症（例えば、遺伝性クロイツフェルト・ヤコブ病）（プリオンタンパク質処理欠陥に起因する）、ファブリー病、ストロイスラー・シャインカー症候群、ＣＯＰＤ、ドライアイ疾患、またはシェーグレン病からなる群から選択される疾患または状態の結果である、及び／またはそれに関連する。
感染症
本開示は、とりわけ、感染症を有する対象の治療を企図する。本開示は、とりわけ、感染と関連した疾患を有する対象の治療を企図する。いくつかの実施形態において、感染症は、ウイルス感染症または細菌感染症である。いくつかの実施形態において、感染症は、ウイルス感染症である。いくつかの実施形態において、感染症は、細菌感染症である。
いくつかの実施形態において、ウイルス感染症は、コロナウイルス、インフルエンザウイルス、ヒトライノウイルス、ヒトパラインフルエンザウイルス、ヒトメタニューモウイルス及びハンタウイルスからなる群から選択されるウイルスの感染症である。いくつかの実施形態において、ウイルスは、コロナウイルスである。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２、及びＭＥＲＳ－ＣｏＶからなる群から選択される。
本開示は、とりわけ、コロナウイルスと関連した疾患を有する対象の治療を企図する。いくつかの実施形態において、コロナウイルスと関連した疾患は、コロナウイルス疾患２０１９（ＣＯＶＩＤ－１９）、重症急性呼吸器症候群（ＳＡＲＳ）及び中東呼吸器症候群（ＭＥＲＳ）からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスと関連した疾患は、ＣＯＶＩＤ－１９からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－１、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２、及び２０１２－ｎＣｏＶからなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２である。
いくつかの実施形態において、細菌感染は、肺炎連鎖球菌、肺炎クラミジア、黄色ブドウ球菌、緑膿菌、及びインフルエンザ菌からなる群から選択される細菌の感染である。いくつかの実施形態において、黄色ブドウ球菌は、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌である。
本明細書に記載される本発明をより完全に理解できるようにするために、以下の実施例を示す。本出願に記載される合成的及び生物学的実施例は、本明細書に提供される化合物、薬学的組成物、及び方法を例示するために提供され、それらの範囲を限定するものとして決して解釈されるべきではない。
材料及び方法
本明細書に提供される化合物は、以下の一般の方法及び手順を使用して、容易に入手可能な出発材料から調製され得る。典型的なまたは好適なプロセス条件（すなわち、反応温度、時間、反応体のモル比、溶媒、圧力など）が与えられる場合、他のプロセス条件も、別途示されない限り使用され得ることが理解されるであろう。最適な反応条件は、使用される特定の反応体または溶媒によって異なり得るが、そのような条件は、日常的な最適化によって当業者により決定することができる。
追加的に、当業者には明らかとなるように、ある特定の官能基が望ましくない反応を起こさないようにするために、従来の保護基が必要な場合がある。特定の官能基に対する好適な保護基の選択、ならびに保護及び脱保護のための好適な条件は、当該技術分野で周知である。例えば、多数の保護基、ならびにそれらの導入及び除去は、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１、及びそこで引用される参考文献に記載されている。
本明細書に提供される化合物は、既知の標準的な手順によって単離及び精製され得る。そのような手順としては、再結晶化、カラムクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ、または超臨界流体クロマトグラフィー（ＳＦＣ）が含まれる（が、これらに限定されない）。以下のスキームは、本明細書に列挙されている代表的なオキシステロールの調製に関する詳細とともに提示される。本明細書に提供される化合物は、有機合成の当業者によって、既知のまたは市販の出発物質及び試薬から調製されてもよい。本明細書に提供されるエナンチオマー／ジアステレオマーの分離／精製に使用するために利用可能な例示的なキラルカラムとしては、ＣｈｉｒａｌＰａｋ（登録商標）ＡＤ－１０、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ－Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ－Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＦ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＧ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＪ及びＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＫが挙げられるが、これらに限定されない。
本明細書に報告される１Ｈ－ＮＭＲ（例えば、約０．５～約４ｐｐｍのδ（ｐｐｍ）間の領域について）は、化合物のＮＭＲスペクトラム（例えば、例示的なピーク積分）の例示的な解釈であると理解されるであろう。
ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：（移動相：水中の１．５ＭＬ／４Ｌ ＴＦＡ（溶媒Ａ）及びアセトニトリル中の０．７５ＭＬ／４Ｌ ＴＦＡ（溶媒Ｂ）、溶出勾配３０％～９０％（溶媒Ｂ）を０．９分間にわたって使用し、１．２ｍｌ／分の流速で０．６分間、９０％で保持する；カラム：Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ ２．１＊３０ｍｍ、３ｕｍ；波長：ＵＶ２２０ｎｍ；カラム温度：５０℃；ＭＳイオン化：ＥＳＩ；検出器：ＰＤＡ＆ＥＬＳＤ。
省略形
ＰＥ：石油エーテル、ＤＣＭ：ジクロロメタン、ＥｔＯＡｃ：酢酸エチル、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、ｍ－ＣＰＢＡ：メタクロロペル安息香酸、ＮＢＳ：Ｎ－ブロモスクシンイミド、ＤＥＡＤ：アゾジカルボン酸ジエチル、ＦＡ：ギ酸、Ｍｅ３ＳＩＯ：ヨウ化トリメチルスルホキソニウム、ＥｔＭｇＢｒ：臭化エチルマグネシウム、ＢＨ３：ボラン、ＰＣＣ：クロロクロム酸ピリジニウム
実施例１：１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538301000105
 １．２の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のジイソプロピルアミン（１７．２ｍＬ、０．７２ｇ／ｍＬ、１２３ｍｍｏｌ）とともにｎ－ブチル－リチウム（４４．０ｍＬヘキサン中２．５Ｍ、１１０ｍｍｏｌ）から調製したリチウムジイソプロピルアミドの冷たい（－７８℃）溶液を、－７８℃で、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の（３α，５β）－３－ヒドロキシ－３－メチル－エストラン－１７－オン、１．１（１０ｇ、３４．４ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１４／１６９８３３，２０１４，Ａ１」に報告されている）及びジアゾ酢酸エチル（１１．７ｇ、１０３ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。－７８℃で１時間撹拌した後、反応混合物をＴＨＦ（３０ｍＬ）中の酢酸（７．３８ｇ、１２３ｍｍｏｌ）により－７８℃でクエンチし、室温に一晩温め、水（２００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させて、１．２（２０ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７５－４．６５（ｍ，１Ｈ），４．２９－４．１９（ｍ，３Ｈ），３．７９－３．６９（ｍ，１Ｈ），２．１９－２．１１（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．７６（ｍ，５Ｈ），１．４６－１．３５（ｍ，６Ｈ），１．３４－１．１９（ｍ，１１Ｈ），１．１６－１．０１（ｍ，５Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ）。
１．３の合成
ＤＭＥ（２００ｍＬ）中の１．２（２０ｇ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（１０９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を１５℃で一度に添加した。１５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を濃縮して、１．３（２２ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２９－４．１９（ｍ，３Ｈ），２．３５－２．２７（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．０３（ｍ，２Ｈ），１．９５－１．７１（ｍ，６Ｈ），１．４４－１．２１（ｍ，１７Ｈ），１．２０－０．９３（ｍ，７Ｈ）。
１．４の合成
ＫＯＨ（１０．６ｇ、１９０ｍｍｏｌ）－ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）の溶液に、１．３（１２ｇ）を１５℃で添加した。７０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を飽和ブライン（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＨＣｌ（１Ｍ、１００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をｆｌａｓｈ（登録商標）－ｃｏｍｂｉ（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．４（４．０ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６５－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．１７（ｍ，１Ｈ），２．１２－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．７０（ｍ，６Ｈ），１．６９－１．５５（ｍ，３Ｈ），１．５４－１．４４（ｍ，３Ｈ），１．４２－１．２８（ｍ，３Ｈ），１．２６－１．１０（ｍ，９Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ），１．０６－０．９２（ｍ，２Ｈ）。
１．５の合成
ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中のＥｔＰｈ３ＰＢｒ（５８．２ｇ、１５７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１７．６ｇ、１５７ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。６０℃で３０分間撹拌した後、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の１．４（８ｇ、２６．２ｍｍｏｌ）を３０℃で滴加した。Ｎ２下、６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を０℃に冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗生成物を（１２ｇの１．５からの）別のバッチとともに、シリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．５（１９ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２０－５．０９（ｍ，１Ｈ），２．５５－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．２６－２．０９（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．７８－１．７１（ｍ，５Ｈ），１．６２－１．５０（ｍ，７Ｈ），１．４２－１．２３（ｍ，１０Ｈ），１．１７－１．００（ｍ，４Ｈ），０．９７－０．８２（ｍ，５Ｈ）。
１．６の合成
ＴＨＦ（３００ｍＬ）中の１．５（１９ｇ、６０．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（３０．０ｍＬ、３００ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を０℃で滴加した。２５℃で３時間撹拌した後、反応混合物を０℃に冷却し、ＥｔＯＨ（２７．５ｇ、６００ｍｍｏｌ）により０℃で希釈し、次いでＮａＯＨ水溶液（１２０ｍＬ、６００ｍｍｏｌ、５Ｍ）、最後に過酸化水素（６０．０ｍＬ、６００ｍｍｏｌ、１０．０Ｍ）によって０℃で滴加した。７０℃で１時間撹拌した後、混合物を酢酸エチル（３×３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（２×５００ｍＬ）、ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１．６（２１ｇ）を固体として得、これをさらに精製することなく次のステップで使用した。
１．７の合成
ＤＣＭ（２００ｍＬ）中の１．６（２０ｇ、５９．７ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（３０ｇ）及びＰＣＣ（１９．２ｇ、８９．５ｍｍｏｌ）を分割して添加した。２５℃で０．５時間撹拌した後、混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（１００ｍＬ）で洗浄した。合わせた濾過液を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．７（１５ｇ）を固体として得た。
ＭｅＯＨ（４００ｍＬ）中の１．７（９．５ｇ、２８．５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＯＭｅ（３０．７ｇ、５７０ｍｍｏｌ）を８０℃で添加した。８０℃で３２時間撹拌した後、反応物を水（５０ｍＬ）で希釈した。反応混合物を濃縮して、ほとんどの溶媒を除去した。混合物をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、（３．５ｇの１．７の異性化からの）別のバッチとともにフラッシュカラム（ＰＥ中１０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、純粋な生成物１．７（１２．５ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２７（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），１．９０－１．５０（ｍ，１５Ｈ），１．５０－１．１５（ｍ，１５Ｈ），１．０８－０．８２（ｍ，８Ｈ）。
１．８の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のｔ－ＢｕＯＫ（５．３８ｇ、４８．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＰｈ３ＭｅＢｒ（１７．０ｇ、４８．０ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。５０℃で０．５時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１．７（２ｇ、６．０ｍｍｏｌ）の溶液を５０℃で添加した。５０℃で１２時間撹拌した後、混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．８（１．９５ｇ、９３％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８０（ｓ，１Ｈ），４．６０（ｄ，Ｊ＝１．２ Ｈｚ，１Ｈ），１．９１－１．２４（ｍ，２５Ｈ），１．１３－１．０６（ｍ，１Ｈ），０．９９－０．８３（ｍ，７Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。
１．９の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の１．８（１．８ｇ、５．４ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（３．９７ｇ、１６．３ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で４時間撹拌した後、反応物を０℃に冷却し、エタノール（２．５０ｇ、５４．４ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（１０．８ｍＬ、５４．４ｍｍｏｌ、５Ｍ）で非常にゆっくりと、最後にＨ２Ｏ２（３４ｍＬ、５４．４ｍｍｏｌ、３０％）で順次処理し、内部温度を２５℃未満に維持した。７５℃で１時間撹拌した後、反応物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（５０ｍＬ）で希釈し、０℃でさらに１時間撹拌した。反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊されたことを確認した。混合物を水（５０ｍＬ）に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機溶液を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．９（１．３ｇ）を固体として得た。構造は、Ｘ線によって確認した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．２８（ｔ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９６－１．１０（ｍ，２５Ｈ），１．０５－０．８１（ｍ，１３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３３１．３，実測値３３１．３。
１．１０の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の１．９（２５０ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＰＰｈ３（２８０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（１９０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、残渣を水（３０ｍＬ）に添加し、ＤＣＭ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．１０（１６０ｍｇ、５４％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．６２（ｄｄ，Ｊ＝２．４，９．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．０３（ｔ，Ｊ＝１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６５（ｍ，８Ｈ），１．５１－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．２０－１．１０（ｍ，５Ｈ），１．０８－０．７８（ｍ，１７Ｈ）。
１の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の１．１０（１６０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）の溶液に、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４３．４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）及びＣｓ２ＣＯ３（２５３ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＬｉＣｌ（５０ｍＬ、水中３％）及び飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した（１５０ｍｇ）。残渣（１５０ｍｇ）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１（１１０ｍｇ、７４％収率）を固体として得た。絶対構造は、Ｘ線によって確認した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８０（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），４．３３（ｄｄ，Ｊ＝２．８，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．６６（ｍ，１Ｈ），２．５２－２．４０（ｍ，１Ｈ），２．００－１．６４（ｍ，７Ｈ），１．５７－１．２８（ｍ，１５Ｈ），１．２６－０．８３（ｍ，１１Ｈ），０．７９（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９７％，Ｃ２７Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０６．３，実測値４０６．３。
実施例２：１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538301000106
 ２．２ａ及び２．２ｂの合成
ＤＭＳＯ（５００ｍＬ）中のＭｅ３ＳＩ（５３．２ｇ、２６１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨ（１０．４ｇ、２６１ｍｍｏｌ、鉱油中６０％）を０℃で添加した。０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を、ＤＭＳＯ（１００ｍＬ）中の（５β）－エストラン－３，１７－ジオン、２．１（６０ｇ、２１８ｍｍｏｌ）の溶液に２０℃で添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、反応物を水（２００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、水（２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（１００ｍＬ）により２０℃で粉砕した。固体を濾過して、２．２ｂ（１０ｇ）を固体として得た。母液を真空中で濃縮して、２．２ａ（４４ｇ）を油として得た。
２．２ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６６－２．５２（ｍ，２Ｈ），２．５０－２．４０（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．１７（ｍ，１Ｈ），２．１６－１．６８（ｍ，７Ｈ），１．６４－０．９５（ｍ，１４Ｈ），０．８８（ｍ，３Ｈ）。
２．３の合成
新たに調製したＭｅＯＮａ（５００ｍＬのＭｅＯＨ中の１６６５ｍｍｏｌ）に、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の２．２ａ（４４ｇ、１５２ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を０℃に冷却し、Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．３（２４．７ｇ、５６．１％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４４－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．０，８．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２０－２．０５（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．８９（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．８０（ｍ，３Ｈ），１．７９－１．７４（ｍ，３Ｈ），１．５９－１．２６（ｍ，１１Ｈ），１．２４－０．９９（ｍ，４Ｈ），０．８６（ｍ，３Ｈ）。
２．４の合成
無水ＴＨＦ（６０ｍＬ）及びジアゾ酢酸エチル（１１．２ｇ、９３．５ｍｍｏｌ）中の２．３（６ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＬＤＡ（９３．５ｍｍｏｌ、１１５ｍＬ、０．８０８Ｍ）をＮ２下、－７０℃で３０分間にわたって滴加し、その間、温度を－６０℃未満に維持した。－７０℃で３時間撹拌した後、反応物を、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の酢酸（５．６１ｇ、９３．５ｍｍｏｌ）を滴加して－７０℃でクエンチした。２０℃で１６時間撹拌した後、反応物を水（２００ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させた。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝１／０～１０／３）によって精製して、２．４（５．５ｇ、６７．７％）を油体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２９－４．２２（ｍ，２Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），２．２１－２．０６（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６１（ｍ，７Ｈ），１．５３－１．２９（ｍ，１３Ｈ），１．２４－０．９６（ｍ，７Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ）。
２．５の合成
ＤＭＥ（６０ｍＬ）中の２．４（５．５ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）の溶液に、１，１，１－トリス（アセチルオキシ）ジルホジウム－１－イル酢酸塩（２７８ｍｇ、０．６３ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２０℃で２時間撹拌した後、混合物を真空中で濃縮して、２．５（７．９ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２８－４．１０（ｍ，２Ｈ），３．５４（ｓ，３Ｈ），３．３９（ｓ，６Ｈ），２．７７－２．４７（ｍ，１Ｈ），２．４２－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．０７（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．７０（ｍ，５Ｈ），１．６８－１．５２（ｍ，５Ｈ），１．４５－１．２２（ｍ，９Ｈ），１．０９（ｓ，５Ｈ）。
２．６の合成
ＭｅＯＨ／ＴＨＦ（５０ｍＬ／１０ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）中の２．５（７．９ｇ、１９．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＫＯＨ（１０．８ｇ、１９４ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で３０分間撹拌した後、混合物を１Ｍ ＨＣｌ（５０ｍＬ）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、２．６（５．１ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４６－３．３４（ｍ，５Ｈ），２．７６－２．４４（ｍ，２Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．８１（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．５２（ｍ，１１Ｈ），１．４５－１．２４（ｍ，７Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ），１．０４－０．９７（ｍ，１Ｈ）。
２．７の合成
無水ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（３９．３ｇ、１０６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１１．８ｇ、１０６ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で２０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２．６（７．１ｇ、２１．２ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。５０℃で６時間撹拌した後、混合物を氷水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．７（６．６ｇ、８９．９％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１９－５．１０（ｍ，１Ｈ），３．４４－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．５６－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．２８－２．０８（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．６１（ｍ，１０Ｈ），１．５９－１．２６（ｍ，１０Ｈ），１．２４－１．０５（ｍ，５Ｈ），１．００－０．９０（ｍ，５Ｈ）。
２．８の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中の２．７（５．６ｇ、１６．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（８．０４ｍＬ、１０Ｍ、８０．５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、混合物をＥｔＯＨ（７．４１ｇ、１６１ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（３２．１ｍＬ、５Ｍ）及びＨ２Ｏ２（１６．０ｍＬ、１０Ｍ）を滴加して順次希釈した。２５℃で１６時間撹拌した後、混合物をＮａ２Ｓ２Ｏ３（１５０ｍＬ）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２．８（５．７ｇ）を固体として得、これをそのまま使用した。
２．９の合成
ＤＣＭ（６０ｍＬ）中の２．８（５．７ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（１３．２ｇ、３１．２ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で３０分間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２００ｍＬ）によって１０℃でクエンチし、ＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×３０ｍＬ）、ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、Ｃ１７におけるジアステレオマーの混合物（３．４２ｇ、６０．５％）を固体として得た。
ＭｅＯＨ（４０ｍＬ）中のジアステレオマー混合物（４．２ｇ）の溶液に、ＮａＯＭｅ（１２．３ｇ、２２９ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で一度に添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を冷却し、氷水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２．９（４．２ｇ、１００％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４１－３．３７（ｍ，５Ｈ），２．７５－２．４７（ｍ，１Ｈ），２．３５－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．０５（ｍ，３Ｈ），１．９０－１．６１（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．２９（ｍ，９Ｈ），１．２３－１．１１（ｍ，２Ｈ），１．０８－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ）。
２．１０の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（４．８９ｇ、１３．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．５３ｇ、１３．７ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。５０℃で３０分間撹拌した後、２．９（１ｇ、２．７５ｍｍｏｌ）を５０℃未満で分割して添加した。５５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）により１５℃でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．１０（４６０ｍｇ、４６．４％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８６－４．７５（ｍ，１Ｈ），４．６１（ｄ，Ｊ＝２．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），２．６７－２．５０（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．７５（ｍ，３Ｈ），１．７３（ｓ，３Ｈ），１．７０－１．５８（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．４６（ｍ，４Ｈ），１．４５－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２２－１．０５（ｍ，２Ｈ），１．００－０．８５（ｍ，５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。
２．１１の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２．１０（４６０ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（６３５μＬ、１０Ｍ、６．３５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、ＥｔＯＨ（５８５ｍｇ、１２．７ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（２．５３ｍＬ、５Ｍ、１２．７ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（１．２６ｍＬ、１０Ｍ、１２．７ｍｍｏｌ）を順次滴加して希釈した。７０℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ、１０％）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．１１（３５０ｍｇ、７２．９％）を固体として得た。Ｃ２０の立体化学を、１のＸ線に基づいて割り当てた。
１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），３．２７（ｔ，Ｊ＝１０．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５７（ｂｒ ｓ，１Ｈ），１．９９－１．８２（ｍ，３Ｈ），１．８１－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．０８（ｍ，１２Ｈ），１．０４－０．９０（ｍ，８Ｈ），０．８９－０．７９（ｍ，５Ｈ）。
２．１２の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の２．１１（３５０ｍｇ、０．９２４４ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃で、ＰＰｈ３（３６１ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（２４５ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を水（３０ｍＬ）で希釈し、ＤＣＭ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．１２（３００ｍｇ、７３．５％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．６２（ｄｄ，Ｊ＝２．４，１０．０ Ｈｚ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），３．１３－２．９５（ｍ，１Ｈ），２．５７（ｂｒ ｓ，１Ｈ），２．３１－２．１１（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．１６（ｍ，１１Ｈ），１．１４－１．０６（ｍ，４Ｈ），１．０３－０．９０（ｍ，４Ｈ），０．８２（ｓ，５Ｈ）。
２の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の２．１２（１５０ｍｇ、０．３３９７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（２２１ｍｇ、０．６７９４ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（６３．２ｍｇ、０．６７９４ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（３０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＬｉＣｌ（２５ｍＬ、水中３％）、飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２（９０ｍｇ、５８．４％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），４．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．７０－３．６１（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），２．５８（ｓ，１Ｈ），２．４５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），２．０４－１．９３（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．８１（ｍ，２Ｈ），１．７８－１．５８（ｍ，６Ｈ），１．５５－０．９４（ｍ，１５Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．８２（ｍ，２Ｈ），０．７９（ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度１００％，Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ２Ｎａ［Ｍ＋Ｎａ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７６．３，実測値４７６．３。
実施例３：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538301000107
 ３．１の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２．１０（７３８ｍｇ、２．０４ｍｍｏｌ）の溶液に、ｍ－ＣＰＢＡ（８７９ｍｇ、８０％、４．０８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１０ｍＬ）、ブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を（１００ｍｇの２．１０から調製した）別のバッチと合わせ、フラッシュカラム（ＰＥ中１０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３．１（７４２ｍｇ、８５％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４４－３．４１（ｍ，５Ｈ），２．７４（ｄ，Ｊ＝４．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．６６（ｄ，Ｊ＝４．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．８８－１．８１（ｍ，２Ｈ），１．８０－１．７３（ｍ，３Ｈ），１．７１－１．６５（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．４８（ｍ，２Ｈ），１．４５－１．３９（ｍ，２Ｈ），１．３６－１．３３（ｍ，２Ｈ），１．２８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１．６ Ｈｚ，３Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．０１－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．７７（ｍ，４Ｈ）。
２．１１及び３．２の合成
乾燥ＴＨＦ（５ｍｌ）中の３．１（５４２ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）の溶液に、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（２６９ｍｇ、４．３ｍｍｏｌ）及び３滴のブロモクレゾールグリーン（０．２ｍＬ）、次いでＢＦ３ＯＥｔ２（０．３６ｍｌ）を２５℃で添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、混合物をブライン（３０ｍｌ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中３０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２．１１（２００ｍｇ）及び３．２（２４０ｍｇ）を油として得た。２．１１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１０．３ Ｈｚ，１Ｈ），３．４０－３．３８（ｍ，５Ｈ），３．３１－３．２３（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．６７（ｍ，１０Ｈ），１．４９－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２２－１．１０（ｍ，３Ｈ），１．０１（ｍ，１１Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。３．２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４０－３．３６（ｍ，７Ｈ），２．０１－１．９５（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．６７（ｍ，１０Ｈ），１．４３－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．０９－０．８４（ｍ，１０Ｈ），０．８２（ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．８０（ｓ，３Ｈ）。
３．３の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３．２（３８０ｍｇ、１．０４ｍｏｌ）の溶液に、０℃でＰＰｈ３（４０９ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（２７７ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、残渣を水（５０ｍＬ）で希釈し、ＤＣＭ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３．３（３６０ｍｇ、８１％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４３－３．３５（ｍ，５Ｈ），３．３４－３．２２（ｍ，２Ｈ），２．１８（ｑｄ，Ｊ＝６．８，１３．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．６２（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．４７（ｍ，２Ｈ），１．４２－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．２３－１．１５（ｍ，３Ｈ），１．１１－０．９５（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），０．８９－０．８２（ｍ，２Ｈ），０．７８（ｓ，３Ｈ）。
３の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の３．３（１００ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（１４７ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４２．０ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で２０時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２０ｍｌ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機溶液を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、油を得た。残渣をＨ２Ｏ／ＭｅＣＮ（２ｍｌ／２ｍｌ）から１５℃で粉砕し、ＨＰＬＣ（条件：水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７０；終了Ｂ：１００）によって精製して、３（３２．３ｍｇ、４０％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），３．９９－３．９２（ｍ，１Ｈ），３．９０－３．８２（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），２．５４（ｓ，１Ｈ），２．５１－２．４４（ｍ，１Ｈ），１．８１－１．６２（ｍ，６Ｈ），１．５９－１．５（ｍ．１Ｈ），１．４２－１．１５（ｍ，１０Ｈ），０．９９－０．８１（ｍ，６Ｈ），０．７９－０．７６（ｍ，６Ｈ），０．７５－０．５８（ｍ，３Ｈ）；ＬＣＭＳ：純度９９％，Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３６．３，実測値４３６．３。
実施例４：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成

Figure 2022538301000108
 ４．１の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の１．８（２．５ｇ、７．５６ｍｍｏｌ）の溶液に、ｍ－ＣＰＢＡ（２．６ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。２０℃で３時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１００ｍＬ）により２０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４．１（１．６ｇ、６１．３％）を固体として得た。
４．２の合成
乾燥ＴＨＦ（２ｍｌ）中の４．１（１００ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（５４．３ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）、３滴のブロモクレゾールグリーン、及びＢＦ３ＯＥｔ２（０．１８ｍＬ、０．８Ｍ、０．１４４２ｍｍｏｌ）の溶液を、色が変化するまで添加した。２０℃で４時間撹拌した後、混合物をブライン（３５ｍｌ、飽和）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣を（１．２ｇの４．１からの）別のバッチと合わせて、カラムクロマトグラフィー（ＰＥ中２５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４．２（７５０ｍｇ、１Ｈ－ＮＭＲに基づく１００％ ｄｅ）及び１．９（３３０ｍｇ、１Ｈ－ＮＭＲに基づく１００％ ｄｅ）を固体として得た。４．２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４６－３．２９（ｍ，２Ｈ），２．０２－１．６８（ｍ，９Ｈ），１．４８－１．３１（ｍ，１２Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．１０－０．９１（ｍ，８Ｈ），０．８５－０．８２（ｍ，３Ｈ），０．８１－０．８０（ｍ，３Ｈ）。１．９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８１－３．７０（ｍ，１Ｈ），３．３４－３．２４（ｍ，１Ｈ），２．０８－１．５４（ｍ，１３Ｈ），１．５０－１．２９（ｍ，９Ｈ），１．２８（ｓ，３Ｈ），１．２１－１．０４（ｍ，３Ｈ），１．０２（ｓ，３Ｈ），０．９８－０．８８（ｍ，４Ｈ），０．８３（ｓ，３Ｈ）。
４．３の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の４．２（３００ｍｇ、０．８６ｍｏｌ）の溶液に、０℃でＰＰｈ３（３３８ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（２２９ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２時間撹拌した後、反応混合物を水（５０ｍＬ）で希釈し、ＤＣＭ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４．３（３１０ｍｇ、８７．５％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３４－３．２２（ｍ，２Ｈ），２．２５－２．１３（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．５８（ｍ，１２Ｈ），１．５２－１．３４（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２３－０．９９（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，４Ｈ），０．９２－０．８１（ｍ，４Ｈ），０．７８（ｓ，３Ｈ）。
４の合成
ＤＭＦ（１０ｍＬ）中の４．３（３１０ｍｇ、０．７５３４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（４８８ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１３９ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＬｉＣｌ（１００ｍＬ、水中３％）、飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、固体を得た。固体を、分取ＨＰＬＣ（カラム：ＨＴ Ｃ１８ Ｈｉｇｈｌｏａｄ １５０ｍｍ＊２５ｍｍ＊５ｕｍ、条件：水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ、開始Ｂ：８５、終了Ｂ：８５、勾配時間（分）：７．５、１００％ Ｂ保持時間（分）：２、流速（ｍｌ／分）：３０）によってさらに精製して、４（３１．７ｍｇ、８．８％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），３．９９－３．８３（ｍ，２Ｈ），２．５２－２．４１（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．５７（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２７（ｍ，９Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２２－０．８１（ｍ，７Ｈ），０．８０－０．７７（ｍ，６Ｈ），０．７４－０．５５（ｍ，２Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０６．３，実測値４０６．３。
実施例５～７：（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－６ａ－メチル－７－（（Ｒ）－１－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オール、（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－６ａ－メチル－７－（（Ｓ）－１－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オール、及び（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－６ａ－メチル－７－（（Ｓ）－１－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オールの合成

Figure 2022538301000109
 ５．２の合成
ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の（５α）－エストラン－３，１７－ジオン、５．１（２０ｇ、７２．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ｎ－ＰｒＭｇＣｌ（１０９ｍＬ、２１８ｍｍｏｌ、ＴＨＦ中２Ｍ）を－６０℃で滴加した。－６０℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（４００ｍＬ）中に０℃で注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、シリカゲルカラム（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝０～２０％）によって精製して、５．２（１８．４ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１９．３ Ｈｚ，１Ｈ），２．１６－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８３－１．７２（ｍ，３Ｈ），１．６８－１．４３（ｍ，５Ｈ），１．４０－０．８９（ｍ，１７Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．７９－０．６１（ｍ，２Ｈ）。
５．３の合成
ＴＨＦ（６４ｍＬ）中のジイソプロピルアミン（１９．４ｍＬ、０．７１８ｇ／ｍＬ、１３９ｍｍｏｌ）の溶液に、ｎ－ブチル－リチウム（５５．６ｍＬ、ヘキサン中２．５Ｍ、１３９ｍｍｏｌ）を－７８℃で添加した。－７８℃で１０分間撹拌した後、ＬＤＡ溶液を、ＴＨＦ（４００ｍＬ）中の５．２（１１．７ｇ、３６．７ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（２０．８ｇ、１８３ｍｍｏｌ）の溶液に－７８℃で添加した。－７８℃で２時間撹拌した後、反応物をＴＨＦ（５０ｍＬ）中の酢酸（１０．９ｇ、１８３ｍｍｏｌ）でクエンチし、１５℃で１６時間撹拌し、水（１０００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、減圧下で蒸発させて、５．３（２０ｇ）を油として得、これをそのまま使用した。
５．４の合成
５．３（２０ｇ）及びＤＭＥ（２００ｍＬ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（２０４ｍｇ、０．４６２ｍｍｏｌ）を１５℃で一度に添加した。１５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を濃縮して、５．４（２０ｇ）を油として得、これをそのまま使用した。
５．５の合成
ＭｅＯＨ（２００ｍＬ）中の５．４（２０ｇ）の溶液に、ＫＯＨ（２７．７ｇ、４９４ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。７０℃で１時間加熱した後、反応混合物をＨ２Ｏ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＨＣｌ（１Ｍ、１００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をｆｌａｓｈ（登録商標）－ｃｏｍｂｉ（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５．５（４．０ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６２（ｄｔ，Ｊ＝６．８，１４．１ Ｈｚ，１Ｈ），２．１９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１０．３ Ｈｚ，１Ｈ），２．０５（ｄｔ，Ｊ＝２．６，６．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９３－１．５７（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．１２（ｍ，１２Ｈ），１．１２－１．０５（ｍ，４Ｈ），１．０５－０．８４（ｍ，７Ｈ），０．６５（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝２．８，１０．８ Ｈｚ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１５．２，実測値３１５．２。
５．６の合成
無水ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１０．６ｇ、２８．８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４．８４ｇ、４３．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、１５℃で添加した。４５℃で３０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の５．５（４．８ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。４５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を冷却し、氷水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５．６（１．８ｇ、３６．２％）を固体として得、出発物質５．５（１．２ｇ）を固体として回収した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１５（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６．５ Ｈｚ，１Ｈ），２．５０（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１３．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－２．０６（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．４１－１．０２（ｍ，１４Ｈ），０．９５－０．６１（ｍ，４Ｈ）。
５．７の合成
ＴＨＦ（５０ｍｌ）中の５．６（１．８ｇ、５．２２ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（３．８０ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。５０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を冷却し、０℃のＥｔＯＨ（６．０５ｍｌ、１０４ｍｍｏｌ、０．７８９ｇ／ｍｌ）、滴加のＮａＯＨ（２０．８ｍＬ、５Ｍ、１０４ｍｍｏｌ）及び滴加のＨ２Ｏ２（１１．７ｇ、１０４ｍｍｏｌ、水中３０％）で順次希釈し、内部温度を３０℃未満に維持した。５０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１３０ｍＬ）でクエンチした。０℃でさらに１時間撹拌した後、反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊されたことを確認した。水相をＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、５．７（８００ｍｇ）を固体として得た。
５．８の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の５．７（８００ｍｇ、２．２０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（１．８６ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）及びＮａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ、飽和）で希釈し、ＤＣＭ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和）及びブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５．８（７４０ｍｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１２．５ Ｈｚ，１Ｈ），２．１８－２．１３（ｍ，４Ｈ），１．９２－１．６６（ｍ，９Ｈ），１．４６－１．２０（ｍ，１２Ｈ），１．１１－０．６７（ｍ，１４Ｈ）。
５．８ａ及び５．８ｂの合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の５．８（５．８ｇ、１６．０ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＭｅＯＮａ（１２．９ｇ、２４０ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を（２００ｍｇ）をカラム（ＤＣＭ中０～３％のアセトン）によって精製して、５．８ａ（６９．３ｍｇ、３４．８％）及び５．８ｂ（１６．０ｍｇ、８．０４％）の両方を固体として得た。５．８ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３０（ｄｄ，Ｊ＝３．３，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８６－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５１－１．２１（ｍ，９Ｈ），１．１５－０．８９（ｍ，１４Ｈ），０．８７－０．５０（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％；Ｃ２４Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。５．８ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４７（ｄ，Ｊ＝５．９ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），１．７４（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１２．５ Ｈｚ，７Ｈ），１．５１－１．１９（ｍ，１２Ｈ），１．１６－０．７４（ｍ，１６Ｈ），０．６８－０．５１（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％；Ｃ２４Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
５．９の合成
無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＭｅＰｈ３ＰＢｒ（４．３１ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．３６ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、１５℃で添加した。４０℃で３０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５．８ａ（２．２ｇ、６．１０ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。４０℃で１６時間撹拌した後、混合物を冷却し、氷水（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５．９（１．９ｇ、８７．１％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８０（ｓ，１Ｈ），４．６１（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．７６（ｂｒ ｓ，４Ｈ），１．７３－１．４７（ｍ，１１Ｈ），１．３７－１．１８（ｍ，７Ｈ），１．１３－０．８４（ｍ，１２Ｈ），０．８３（ｓ，３Ｈ），０．８１－０．５３（ｍ，３Ｈ）。
５．１０の合成
ＴＨＦ（２０ｍｌ）中の５．９（７００ｍｇ、１．９５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（０．５８４ｍＬ、５．８４ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。２５℃に温め、１６時間撹拌した後、反応混合物を冷却し、内部温度が上昇しなくなるまでＮａＯＨ（３．９ｍＬ、５Ｍ、１９．５ｍｍｏｌ）、次いでＨ２Ｏ２（１．９５ｍＬ、１９．５ｍｍｏｌ、１．１３ｇ／ｍＬ、水中３０％）により０℃で順次処理して、内部温度を３０℃未満に維持した。５０℃で１時間撹拌した後、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（３０ｍＬ）水溶液で希釈し、０℃で１時間撹拌した。反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊された（青色に変化しなかった）ことを確認した。水相をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×５０ｍＬ）、ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５．１０（７００ｍｇ、粗製）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８０－３．６６（ｍ，１Ｈ），３．４０－３．２１（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．７６（ｍ，６Ｈ），１．６８－１．４２（ｍ，８Ｈ），１．３１－０．８５（ｍ，２０Ｈ），０．８４－０．５８（ｍ，８Ｈ）。
５．１１の合成
ＤＣＭ（１５ｍＬ）中の５．１０（５００ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＰＰｈ３（６９２ｍｇ、２．６４ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（４６４ｍｇ、２．６４ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で３時間撹拌した後、混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５．１１（５００ｍｇ、粗製）を油として得た。
５、６及び７の合成
ＤＭＦ（１０ｍＬ）中の５．１１（５００ｍｇ、１．１３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（１．１０ｇ、３．３８ｍｍｏｌ）及び５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（１９０ｍｇ、２．２６ｍｍｏｌ）を添加した。１００℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、３％ ＬｉＣｌ（２×５０ｍＬ）、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５（３６．２ｍｇ、７．２４％）、６（１５４．６ｍｇ、３０．８％）、６（６１．６ｍｇ、１２．３％）、及び７（８ｍｇ）を固体として得た。５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３２（ｄｑ，Ｊ＝７．５，１３．０ Ｈｚ，２Ｈ），２．６８－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），１．９０－１．５６（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．２０（ｍ，６Ｈ），１．２５－０．８５（ｍ，１６Ｈ），０．８３－０．５３（ｍ，１２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４７Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４３．４，実測値４４３．４。６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．５７（ｄｄ，Ｊ＝３．０，１３．１ Ｈｚ，１Ｈ），４．３５－４．１５（ｍ，１Ｈ），２．５８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），２．５３（ｓ，３Ｈ），１．９９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１２．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．９２－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．４３－１．１８（ｍ，９Ｈ），１．１７－０．８４（ｍ，１６Ｈ），０．８１（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），０．７７－０．５９（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４７Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４３．４，実測値４４３．４。７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３５（ｄｄ，Ｊ＝３．０，１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．８５（ｄｄ，Ｊ＝１１．９，１３．７ Ｈｚ，１Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），２．５０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），２．００－１．４９（ｍ，１５Ｈ），１．４５－１．１５（ｍ，９Ｈ），１．１６－０．９９（ｍ，１Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７７（ｍ，１０Ｈ），０．７６－０．５９（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４７Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４３．４，実測値４４３．４。
実施例８：（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－６ａ－メチル－７－（（Ｒ）－１－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オールの合成
Figure 2022538301000110
 ８．１の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の５．９（６００ｍｇ、１．６７ｍｍｏｌ）の溶液に、ｍ－ＣＰＢＡ（５７６ｍｇ、３．３４ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。２０℃で３時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１００ｍＬ）によって２０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８．１（５００ｍｇ、８０％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７２（ｄ，Ｊ＝５．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．６３（ｄ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．８８－１．６３（ｍ，８Ｈ），１．８８－１．５８（ｍ，１Ｈ），１．４１－１．２２（ｍ，１１Ｈ），１．１１－０．８８（ｍ，１５Ｈ），０．８４－０．６４（ｍ，５Ｈ）。
８．２及び８．２ａの合成
乾燥ＴＨＦ（２ｍｌ）中の８．１（５００ｍｇ、１．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（１５１ｍｇ、３．９９ｍｍｏｌ）及び３滴のブロモクレゾールグリーンを添加した。色が変化するまで、ＢＦ３．ＯＥｔ２（０．８３１ｍＬ、０．８Ｍ、０．６６５ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。２０℃で４時間撹拌した後、混合物をブライン（３５ｍｌ、飽和）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（ＰＥ中２５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８．２ａ（１３０ｍｇ、２６％）及び８．２（３００ｍｇ）を固体として得た。８．２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．５ Ｈｚ，１Ｈ），３．２８（ｂｒ ｔ，Ｊ＝９．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．７９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１１．８ Ｈｚ，６Ｈ），１．６４（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１３．８ Ｈｚ，５Ｈ），１．４２－１．０８（ｍ，１２Ｈ），１．０３－０．８７（ｍ，１２Ｈ），０．８４－０．６１（ｍ，７Ｈ）。８．２ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８０－３．７０（ｍ，１Ｈ），３．２５（ｂｒ ｔ，Ｊ＝９．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．７５（ｍ，６Ｈ），１．７０－１．４０（ｍ，３Ｈ），１．４２－１．０８（ｍ，１０Ｈ），１．０３－０．８７（ｍ，１５Ｈ），０．８４－０．６１（ｍ，８Ｈ）。
８．３の合成
０℃のＤＣＭ（１０ｍＬ）中の８．２（３００ｍｇ、０．７９６５ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＰＰｈ３（４１７ｍｇ、１．５９ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（２７９ｍｇ、１．５９ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で３時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８．３（２００ｍｇ、純粋）を油として得、これをそのまま使用した。
５及び８の合成
ＤＭＦ（１０ｍＬ）中の８．３（２００ｍｇ、０．４５５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（４４５ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）及び５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（７６．５ｍｇ、０．９１ｍｍｏｌ）を添加した。１００℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、３％ ＬｉＣｌ（２×５０ｍＬ）、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５（７０ｍｇ）及び８（３０ｍｇ）を固体として得た。８を、ＳＦＣ（カラムＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）条件０．１％ＮＨ３．Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ 開始Ｂ １５％ 終了Ｂ １５％勾配時間（分）１００％Ｂ 保持時間（分）流速（ｍｌ／分）６０）によってさらに精製して、８（１２ｍｇ、６％）を固体として得た。８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０５－３．９５（ｍ，２Ｈ），２．５５－２．４５（ｍ，４Ｈ），１．９０－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．２５（ｍ，６Ｈ），１．２５－０．８０（ｍ，１３Ｈ），０．８１（ｍ，１３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４７Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４３．２，実測値４４３．２。
実施例９及び１０：（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－４ａ，６ａ－ジメチル－７－（（Ｒ）－１－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オール及び（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＳ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－４ａ，６ａ－ジメチル－７－（（Ｒ）－１－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）プロパン－２－イル）－２－プロピルオクタデカヒドロクリセン－２－オールの合成
Figure 2022538301000111
 ９．２の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の（３α，５α）３－ヒドロキシ－アンドロスタン－１７－オン、９．１（１０ｇ、３４．４ｍｍｏｌ）の混合物に、ＬＤＡ（１Ｍ、１６０ｍＬ、１６０ｍｍｏｌ）をＮ２下、－７０℃で添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、反応混合物をＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＨＯＡｃ（１０．２ｇ、１７１ｍｍｏｌ）により０℃でクエンチした。室温で一晩ゆっくりと温めた後、反応物を水（４００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で濃縮して、９．２（１５ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．８２（ｓ，３Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．９５－１．０１（ｍ，１Ｈ），１．０５－１．１５（ｍ，２Ｈ），１．２６－１．３３（ｍ，６Ｈ），１．３５－１．５２（ｍ，６Ｈ），１．５４－１．７３（ｍ，６Ｈ），１．７４－１．９２（ｍ，４Ｈ），２．１１－２．２２（ｍ，１Ｈ），３．５５－２．６０（ｍ，１Ｈ），４．２０－４．２８（ｍ，２Ｈ），４．６９（ｓ，１Ｈ）。
９．３の合成
９．２（１０ｇ、２４．７ｍｍｏｌ）及びＤＭＥ（２００ｍＬ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（１９６ｍｇ、０．４４４５ｍｍｏｌ）を１５℃で一度に添加した。Ｎ２下、１５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮して、９．３（１０．５ｇ）を固体として得、これを精製することなく次のステップに直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６５－０．８８（ｍ，４Ｈ），０．９３－１．１２（ｍ，７Ｈ），１．２１－１．３８（ｍ，７Ｈ），１．３７－１．２８（ｍ，６Ｈ），１．６４－１．８８（ｍ，５Ｈ），１．９１－２．３６（ｍ，４Ｈ），３．５１－３．６３（ｍ，１Ｈ），４．１２－４．２６（ｍ，２Ｈ）。
９．４の合成
Ｈ２Ｏ（２０ｍＬ）中のＮａＯＨ（２．６４ｇ、６６．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）／ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の９．３（５ｇ、１３．２ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物をＨ２Ｏ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＨＣｌ（１Ｍ、１００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／ＰＥ（３：１、１００ｍＬ）により１５℃で粉砕することによって精製して、９．４（２．５ｇ、５０％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６２－０．６５（ｍ，１Ｈ），０．７９（ｓ，３Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ），１．２４－１．３８（ｍ，６Ｈ），１．４１－１．６３（ｍ，９Ｈ），１．７２－１．８５（ｍ，６Ｈ），２．０２－２．０８（ｍ，１Ｈ），２．１６－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．５８－２．６６（ｍ，１Ｈ），３．５２－３．６３（ｍ，１Ｈ）。
９．５の合成
無水ＴＨＦ（２５ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（２９．１ｇ、７８．６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（８．８ｇ、７８．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。４５℃で３０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（２５ｍＬ）中の９．４（４ｇ、１３．１ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。１２時間撹拌した後、反応混合物を４ｇの９．４から調製した別のバッチと合わせた。合わせた混合物を冷却し、氷水（６００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（２×４００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、ブライン（２×４００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９．５（９ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．５７－０．７２（ｍ，１Ｈ），０．５７－０．７３（ｍ，１Ｈ），０．７７－０．８０（ｍ，３Ｈ），０．９０－０．９６（ｍ，３Ｈ），０．９７－１．０１（ｍ，１Ｈ），１．０３－１．０９（ｍ，３Ｈ），１．１６－１．４２（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．６２（ｍ，５Ｈ），１．６６－１．７５（ｍ，４Ｈ），１．８０－１．９０（ｍ，３Ｈ），１．９２－２．０４（ｍ，１Ｈ），２．１１－２．３３（ｍ，２Ｈ），２．４５－２．５４（ｍ，１Ｈ），３．４４－３．６６（ｍ，１Ｈ），５．０８－５．２３（ｍ，１Ｈ）。
９．６の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の９．５（９ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（２４ｇ、５６．８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５０ｍＬ）により１０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をＭｅＣＮ（２１０ｍＬ）中８２℃で再結晶により精製して、９．６（８ｇ、８９．５％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ０．６９－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．９４（ｓ，１Ｈ），０．９７－１．０１（ｍ，３Ｈ），１．０５－１．１９（ｍ，４Ｈ），１．３１－１．４８（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．６１（ｍ，２Ｈ），１．６４－１．７６（ｍ，３Ｈ），１．８０－２．１２（ｍ，５Ｈ），２．１３－２．４６（ｍ，４Ｈ），２．４６－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．８２（ｄｄ，Ｊ＝１６．４４，２．１３ Ｈｚ，１Ｈ），３．２７（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１６．５６ Ｈｚ，１Ｈ），５．１０－５．２４（ｍ，１Ｈ）。
９．７の合成
ＤＭＳＯ（１００ｍＬ）中のヨウ化トリメチルスルホキソニウム（１１．１ｇ、５０．８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（７．１２ｇ、６３．５ｍｍｏｌ）を添加した。Ｎ２下、２５℃で１．０時間撹拌した後、９．６（８ｇ、２５．４ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１２時間撹拌した後、反応物を水（１００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、水（２×１００ｍＬ）、ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝０～３０％）によって精製して、９．７（４ｇ、４７．９％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．８１－０．８４（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｓ，２Ｈ），０．９５－０．９８（ｍ，１Ｈ），１．０３－１．０７（ｍ，２Ｈ），１．２２－１．３８（ｍ，８Ｈ），１．３８－１．４６（ｍ，２Ｈ），１．６２－１．６９（ｍ，２Ｈ），１．７０－１．７８（ｍ，４Ｈ），１．７９－１．９４（ｍ，４Ｈ），１．９８－２．０９（ｍ，２Ｈ），２．１１－２．２３（ｍ，１Ｈ），２．４６－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．５９－２．６４（ｍ，２Ｈ），５．１１－５．２１（ｍ，１Ｈ）。
９．８の合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の９．７（４ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣｕＩ（１．１５ｇ、６．０５ｍｍｏｌ）、次いでＥｔＭｇＢｒ（１２．１ｍＬ、３Ｍ、３６．３ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。０℃で１時間撹拌した後、混合物を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、９．８（３．２ｇ、７３．９％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６９－０．７４（ｍ，３Ｈ），０．７７－０．８３（ｍ，１Ｈ），０．８７－０．９５（ｍ，５Ｈ），１．０２－１．１７（ｍ，５Ｈ），１．１８－１．３２（ｍ，８Ｈ），１．３８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，４Ｈ），１．４８－１．５４（ｍ，１Ｈ），１．５８（ｂｒ ｔ，Ｊ＝２．６４ Ｈｚ，５Ｈ），１．６２－１．７０（ｍ，３Ｈ），１．７１－１．７７（ｍ，２Ｈ），１．７９－１．９４（ｍ，２Ｈ），２．１０－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１４．０５ Ｈｚ，１Ｈ），５．１０－５．２０（ｍ，１Ｈ）。
９．９の合成
ＴＨＦ（３０ｍｌ）中の９．８（３．２ｇ、８．９２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（２．６７ｍｌ、２６．７ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。４５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を冷却し、ＥｔＯＨ（４．１０ｇ、８９．２ｍｍｏｌ、０．７８９ｇ／ｍｌ）によって０℃でクエンチし、次いでＮａＯＨ（１．７８ｍＬ、５Ｍ、８．９２ｍｍｏｌ）Ｈ２Ｏ２（１０．１ｇ、８９．２ｍｍｏｌ、１．１３ｇ／ｍＬ、水中３０％）を、内部温度が上昇しなくなるまでゆっくりと添加し、内部温度を３０℃未満に維持した。６０℃で１時間撹拌した後、反応物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１００ｍＬ）によりクエンチし、０℃で１時間撹拌した。反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊された（青色に変化しなかった）ことを確認した。水相をＤＣＭ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、９．９（３．５ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６１－０．６６（ｍ，３Ｈ），０．７０（ｓ，１Ｈ），０．６８－０．７２（ｍ，１Ｈ），０．７２－０．７８（ｍ，２Ｈ），０．８１－０．８９（ｍ，５Ｈ），０．９０（ｓ，１Ｈ），０．９３－１．０１（ｍ，１Ｈ），１．０３（ｄ，Ｊ＝６．２７ Ｈｚ，１Ｈ），１．０９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝６．５３ Ｈｚ，２Ｈ），１．１３－１．２５（ｍ，９Ｈ），１．２６（ｂｒ ｓ，１Ｈ），１．３１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．０１ Ｈｚ，４Ｈ），１．３９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．７６ Ｈｚ，２Ｈ），１．４５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１１．２９ Ｈｚ，２Ｈ），１．４７－１．６４（ｍ，６Ｈ），１．７１－１．８７（ｍ，２Ｈ），２．５５（ｓ，１Ｈ）。
９．１０の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の９．９（３．５ｇ、９．２９ｍｍｏｌ）の溶液に、２５℃でシリカゲル（３．９８ｇ）及びＰＣＣ（３．９８ｇ、１８．５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（４０ｍＬ×５）で洗浄した。合わせた濾液を濃縮して、９．１０（２．５ｇ、７１．８％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６３（ｄ，Ｊ＝１．００ Ｈｚ，３Ｈ），０．６９－０．８１（ｍ，３Ｈ），０．８５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝０．７５ Ｈｚ，６Ｈ），１．０１－１．１１（ｍ，２Ｈ），１．１９（ｔ，Ｊ＝７．１５ Ｈｚ，５Ｈ），１．２９－１．３３（ｍ，４Ｈ），１．３５－１．４９（ｍ，７Ｈ），１．５４（ｓ，３Ｈ），１．５６－１．８１（ｍ，４Ｈ），２．０６（ｄ，Ｊ＝５．２７ Ｈｚ，３Ｈ），２．２２（ｄｄ，Ｊ＝１２．８０，３．２６ Ｈｚ，１Ｈ），２．３９（ｄ，Ｊ＝５．２７ Ｈｚ，１Ｈ）。
９．１０ａ及び９．１０ｂの合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ、０．６６７ｍｍｏｌ）中の９．１０（２５０ｍｇ、０．６６７ｍｍｏｌ）の溶液に、メトキシナトリウム（７１８ｍｇ、１３．３ｍｍｏｌ）を一度に添加した。７０℃で１２時間撹拌した後、混合物を冷却し、減圧下２５℃で濃縮した。残渣を氷水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｗｅｌｃｈ Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ；条件：水（０．２２５％ ＦＡ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：８０％；終了Ｂ：１００％）を得て、９．１０ａ（２２ｍｇ、８．８％）及び９．１０ｂ（６．１ｍｇ、２．４４％）を固体として得た。９．１０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤａＣｌ３）δＨ ０．７２（ｓ，３Ｈ），０．７６－０．８８（ｍ，３Ｈ），０．９０－１．０１（ｍ，７Ｈ），１．１３－１．２０（ｍ，１Ｈ），１．２２（ｂｒ ｄ，Ｊ＝４．０２ Ｈｚ，１Ｈ），１．２３－１．２６（ｍ，３Ｈ），１．２８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），１．２９－１．３３（ｍ，２Ｈ），１．３８－１．４４（ｍ，５Ｈ），１．４５－１．６２（ｍ，９Ｈ），１．６５－１．７９（ｍ，１Ｈ），１．８０－１．９０（ｍ，２Ｈ），２．１６（ｓ，３Ｈ），２．３１（ｄｄ，Ｊ＝１２．６７，３．１４ Ｈｚ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３実測値３５７．３。９．１０ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．６７－０．７２（ｍ，４Ｈ），０．７８－０．８６（ｍ，２Ｈ），０．８８－０．９５（ｍ，８Ｈ），１．０８－１．１６（ｍ，２Ｈ），１．１７－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２４－１．３１（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．３８（ｍ，４Ｈ），１．４１－１．４６（ｍ，４Ｈ），１．５１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．７６ Ｈｚ，２Ｈ），１．６６－１．８８（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．４６（ｄ，Ｊ＝５．２７ Ｈｚ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９８％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３実測値３５７．３。
９．１１の合成
無水ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＭｅＰｈ３ＰＢｒ（９．３８ｇ、２６．５ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．９７ｇ、２６．５ｍｍｏｌ）をＮ２下、１５℃で添加した。６０℃で３０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の９．１０（１ｇ、２．６６ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。１６時間撹拌した後、混合物を冷却し、氷水（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中のＥｔＯＡｃの０～１０％）によって精製し、９．１１（１．４ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．７０（ｓ，３Ｈ），０．７２－０．８０（ｍ，３Ｈ），０．８１（ｓ，４Ｈ），０．８９－０．９５（ｍ，５Ｈ），１．０３－１．２１（ｍ，８Ｈ），１．３８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，６Ｈ），１．４１－１．６９（ｍ，１０Ｈ），１．７３－１．９０（ｍ，３Ｈ），４．６０（ｄ，Ｊ＝２．０１ Ｈｚ，１Ｈ），４．７９（ｓ，１Ｈ）。
９．１２の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の９．１１（１．４ｇ、３．７５ｍｍｏｌ）の溶液に、ｍ－ＣＰＢＡ（１．２９ｇ、７．５０ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。０℃で１時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１００ｍＬ）によって２０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９．１２（７００ｍｇ、４８．２％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．７１（ｓ，４Ｈ），０．７３－０．８１（ｍ，４Ｈ），０．８３（ｓ，１Ｈ），０．９０（ｓ，４Ｈ），０．９３－０．９６（ｍ，１Ｈ），１．１０－１．１６（ｍ，２Ｈ），１．２１－１．２３（ｍ，５Ｈ），１．２６－１．３１（ｍ，３Ｈ），１．３８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，５Ｈ），１．４１－１．４８（ｍ，３Ｈ），１．４８－１．５８（ｍ，４Ｈ），１．７０－１．７７（ｍ，１Ｈ），２．６０－２．７５（ｍ，２Ｈ），３．９６－４．０８（ｍ，１Ｈ），４．１２（ｑ，Ｊ＝７．０３ Ｈｚ，１Ｈ），４．８０－５．２３（ｍ，１Ｈ），７．３５－７．６３（ｍ，１Ｈ），７．９３－８．１２（ｍ，１Ｈ）。
９．１３の合成
乾燥ＴＨＦ（３ｍｌ）中の９．１２（３００ｍｇ、０．７７１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＢＨ４（８７．３ｍｇ、２．３１ｍｍｏｌ）及び３滴のブロモクレゾールグリーンを添加した。ＢＦ３・ＯＥｔ２（４８１μＬ、０．８Ｍ、０．３８５ｍｍｏｌ）の溶液を、色が変化するまで滴加した。２０℃で１時間撹拌した後、混合物をブライン（３５ｍｌ、飽和）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（ＰＥ中２５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９．１３（１８０ｍｇ）及び９．１３Ａ（６０ｍｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．７１（ｓ，４Ｈ），０．７８－０．８３（ｍ，７Ｈ），０．８７－０．９５（ｍ，６Ｈ），１．０７（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝１１．６７，４．１４ Ｈｚ，１Ｈ），１．１０－１．１６（ｍ，２Ｈ），１．１６－１．２８（ｍ，１０Ｈ），１．３８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，６Ｈ），１．４４－１．５０（ｍ，３Ｈ），１．７６－１．８９（ｍ，４Ｈ），１．９２－２．０３（ｍ，１Ｈ），３．３７（ｑｄ，Ｊ＝１０．３７，７．０３ Ｈｚ，２Ｈ）。
９．１４の合成
０℃のＤＣＭ（３ｍＬ）中の９．１３（１００ｍｇ、０．２５５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＰｈ３（１３３ｍｇ、０．５０９ｍｍｏｌ）及びＮＢＳ（２９．９ｍｇ、０．５０９ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で３時間撹拌した後、混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、９．１４（５０ｍｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．７０（ｓ，３Ｈ），０．７７（ｓ，４Ｈ），０．７９－０．８６（ｍ，３Ｈ），０．８９－１．０７（ｍ，８Ｈ），１．１０－１．１９（ｍ，４Ｈ），１．２０－１．３１（ｍ，６Ｈ），１．３８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，４Ｈ），１．４１－１．５２（ｍ，４Ｈ），１．７６－１．８８（ｍ，３Ｈ），２．１９（ｑ，Ｊ＝６．８６ Ｈｚ，１Ｈ），３．２０－３．３５（ｍ，２Ｈ）。
９及び１０の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の９．１４（５０ｍｇ、０．１１０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｃｓ２ＣＯ３（１０７ｍｇ、０．３３０ｍｍｏｌ）及び５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（１８．４ｍｇ、０．２２０ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で２４時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮＨ４Ｃｌ（２×５０ｍＬ）、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、位置異性体の混合物（５０ｍｇ、不純）を得た。異性体をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって分離して、９（１０．１ｍｇ）及び１０（３．６ｍｇ）を固体として得た。９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ０．５９（ｔｄ，Ｊ＝１３．１８，３．５１ Ｈｚ，１Ｈ），０．６９（ｓ，３Ｈ），０．７６－０．８４（ｍ，７Ｈ），０．８５－０．９７（ｍ，５Ｈ），１．０９－１．３０（ｍ，９Ｈ），１．３７（ｂｒ ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，７Ｈ），１．４２－１．５４（ｍ，５Ｈ），１．６５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１０．０４ Ｈｚ，２Ｈ），１．７４－１．８７（ｍ，３Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），２．５６－２．６５（ｍ，１Ｈ），４．３２（ｑｄ，Ｊ＝１２．９２，７．６５ Ｈｚ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４９Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５７．５実測値４５７．５。１０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ０．４９－０．６０（ｍ，１Ｈ），０．６８（ｓ，４Ｈ），０．７８（ｓ，３Ｈ），０．８０－０．８６（ｍ，５Ｈ），０．８６－０．９４（ｍ，４Ｈ），１．０８－１．３１（ｍ，１１Ｈ），１．３５－１．５２（ｍ，１１Ｈ），１．６３－１．７７（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．８９（ｍ，２Ｈ），２．４６－２．５３（ｍ，１Ｈ），２．５４（ｓ，３Ｈ），３．９０－４．１２（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４９Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５７．４実測値４５７．４。
実施例１１及び１２：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，４Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＲ）－８－ヒドロキシ－４，８，１２ａ－トリメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１１）及び１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，４Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＲ）－８－ヒドロキシ－４，８，１２ａ－トリメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１２）

Figure 2022538301000112
 １１．２の合成
ＴＨＦ（１１０ｍＬ）中のｔ－ＢｕＯＫ（３．８６ｇ、３４．４ｍｍｏｌ）の溶液に、１１．１（５．０ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を２５℃で１０分間撹拌した。次いで、ベンゼンスルフィン酸メチル（５．３７ｇ、３４．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を３０℃で０．５時間撹拌した。混合物をＨ２Ｏ（２００ｍＬ）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１１．２（８．７０ｇ、粗製）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７０－７．４５（ｍ，１０Ｈ），３．５２－３．４２（ｍ，１Ｈ），３．２５（ｔ，Ｊ＝１１．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．４３－２．２９（ｍ，１Ｈ），１．８６－１．７５（ｍ，７Ｈ），１．６４－１．５８（ｍ，３Ｈ），１．４２－１．３４（ｍ，８Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ）。
１１．３の合成
キシレン（１１０ｍＬ）中の１１．２（８．７０ｇ、２０．９ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｎａ２ＣＯ３（３３．１ｇ、３１３ｍｍｏｌ）を分割して添加した。反応混合物をＮ２下、１３０℃で１２時間撹拌した。混合物を濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１１．３（３．７０ｇ、６１．４％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．５２（ｄ，Ｊ＝６．０ Ｈｚ，１Ｈ），６．１０－５．９３（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．３０（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６７（ｍ，７Ｈ），１．６２－１．４８（ｍ，４Ｈ），１．４５－１．３７（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．３０（ｍ，２Ｈ），１．２８（ｓ，３Ｈ），１．２６－１．２３（ｍ，１Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ）。
１１．４の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＭｅＭｇＢｒ（１７．０ｍＬ、５１．２ｍｍｏｌ、３Ｍ）の溶液に、ＣｕＩ（７．３１ｇ、３８．４ｍｍｏｌ）を０℃で添加し、０℃で１時間撹拌し、次いでＴＨＦ（４０ｍＬ）中の１１．３（３．７０ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。０℃で３時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１１．４（３．４０ｇ、８７．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５４－２．３６（ｍ，２Ｈ），２．３０－２．１８（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．７９（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．６１（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．４６（ｍ，３Ｈ），１．４４－１．３５（ｍ，５Ｈ），１．２７（ｓ，４Ｈ），１．１０（ｄ，Ｊ＝７．３ Ｈｚ，３Ｈ），１．０３（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．８０（ｍ，４Ｈ）。
１１．５の合成
ＬＤＡ（２７．７ｍＬ、５５．５ｍｍｏｌ）（ＴＨＦ中２Ｍ）を、ＴＨＦ（７０ｍＬ）中の１１．４（３．４ｇ、１１．１ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（７．０３ｇ、５５．５ｍｍｏｌ、９０％）の撹拌溶液に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の酢酸（３．１７ｍＬ、５５．５ｍｍｏｌ）を添加し、次いで、混合物を２０℃に１６時間温めた。水（３００ｍＬ）を添加した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１１．５（４．６４ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．１ Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝７．９ Ｈｚ，２Ｈ），４．００－３．８５（ｍ ２Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），１．９１－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５０－１．２９（ｍ，９Ｈ），１．２６（ｓ，５Ｈ），１．２４－０．８７（ｍ，１４Ｈ），０．８３（ｔ，Ｊ＝６．７ Ｈｚ，３Ｈ），０．５２（ｓ，３Ｈ）。
１１．６の合成
ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の１１．５（６．６４ｇ、粗製）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（１２１ｍｇ、０．２７５ｍｍｏｌ）を２０℃で一度に添加した。混合物を２０℃で１６時間撹拌した。混合物をＨ２Ｏ（２００ｍＬ）で処理した。混合物をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２１１．６（４．２９ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２３－４．１９（ｍ，２Ｈ），２．３０－２．１６（ｍ，２Ｈ），１．９３－１．６４（ｍ，８Ｈ），１．６２－１．５１（ｍ，３Ｈ），１．４８－１．３６（ｍ，９Ｈ），１．３５－１．２８（ｍ，１１Ｈ），１．２３（ｓ，３Ｈ），１．０８（ｄ，Ｊ＝７．３ Ｈｚ，３Ｈ），１．０４－０．９４（ｍ，２Ｈ），０．８４（ｄ，Ｊ＝７．３ Ｈｚ，２Ｈ）。
１１．７の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中の１１．６（４．２９ｇ、粗製）の混合物に、Ｈ２Ｏ（１３０ｍＬ）及びＫＯＨ（３．６６ｇ、６５．３ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を６０℃で２時間撹拌して、混合物を得た。反応混合物を濃縮した。次いで、Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ）を添加した。混合物をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１１．７（２．０ｇ、５７．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．８５－２．７２（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．１０（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．８２（ｍ，３Ｈ），１．８０－１．７０（ｍ，４Ｈ），１．６８－１．５３（ｍ，３Ｈ），１．５１－１．２７（ｍ，１０Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ），１．０６（ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），１．０３－０．９５（ｍ，１Ｈ）
１１．８の合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（７．６８ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．３２ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。得られた混合物を６０℃で３０分間撹拌した。ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の１１．７（１．１ｇ、不純）を６０℃未満で分割して添加した。反応混合物を６０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（２０ｍＬ）により１５℃でクエンチした。ＴＨＦ層を分離した。水溶液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％の酢酸エチル）によって精製して、１１．８（１ｇ、８７．７％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３４－５．０１（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｄ，Ｊ＝１４．１ Ｈｚ，１Ｈ），２．３４－１．９６（ｍ，３Ｈ），１．９４－１．８５（ｍ，１Ｈ），１．８２－１．６９（ｍ，４Ｈ），１．６７－１．５７（ｍ，５Ｈ），１．４５－１．３０（ｍ，８Ｈ），１．２６（ｓ，６Ｈ），１．２３－１．０４（ｍ，４Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．８４（ｍ，６Ｈ）。
１１．９の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の１１．８（２．０ｇ、６．０５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（２．４２ｍＬ、２４．２ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加し、２５℃で１６時間撹拌した。得られた混合物に、エタノール（６．０５ｍＬ、６０．５ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を１５℃で添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（１２．１ｍＬ、５．０Ｍ、６０．５ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。過酸化水素（６．０５ｍＬ、１０Ｍ、６０．５ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。反応混合物を７０℃で１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。水溶液をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１１．９（１．８ｇ、８５．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．１７－４．０８（ｍ，１Ｈ），２．９８（ｓ，１Ｈ），２．０３－１．７４（ｍ，５Ｈ），１．７２－１．３２（ｍ，１４Ｈ），１．３１－１．２３（ｍ，８Ｈ），１．２０－１．１１（ｍ，３Ｈ），１．０９－０．９２（ｍ，５Ｈ），０．９０－０．７４（ｍ，４Ｈ）。
１１．１０の合成
ＤＣＭ（４０ｍＬ）中の１１．９（１．７５ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）の溶液に、デス・マーチン（４．２４ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を２５℃で２０分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（３０ｍＬ）によって１０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、３×５０ｍＬ）、ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～６０％の酢酸エチル）によって精製して、１１．１０（１．１ｇ、６３．５％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５１－２．４４（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｄｄ，Ｊ＝２．９，１２．７ Ｈｚ，１Ｈ），２．１６－２．１１（ｍ，３Ｈ），２．０４－１．７３（ｍ，６Ｈ），１．７０－１．４６（ｍ，９Ｈ），１．４４－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２６－１．２２（ｍ，３Ｈ），１．２０－１．０２（ｍ，３Ｈ），１．００（ｄ，Ｊ＝４．５ Ｈｚ，３Ｈ），０．８３（ｄｄ，Ｊ＝３．１，７．４ Ｈｚ，３Ｈ）。
１１．１１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の１１．１０（１．１ｇ、３．１７ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でＭｅＯＮａ（３．４２ｇ、６３．４ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を８０℃で１６時間撹拌した。次いで、残渣を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）に添加した。水相をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１１．１１（１．０ｇ、９１．７％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２６（ｄｄ，Ｊ＝３．０，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１５（ｓ，３Ｈ），２．０４－１．９７（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．８２（ｍ，２Ｈ），１．８１－１．７５（ｍ，２Ｈ），１．７１－１．５７（ｍ，４Ｈ），１．５０－１．３０（ｍ，１０Ｈ），１．２７（ｓ，６Ｈ），１．０９－１．００（ｍ，２Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．９７－０．９２（ｍ，１Ｈ），０．８３（ｄ，Ｊ＝７．５ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％、Ｃ２３Ｈ３８Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．２，実測値Ｃ２３Ｈ３８Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋３２９．３。
１１．１２の合成
ＴＨＦ（８０ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（７．３６ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．３２ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。得られた混合物を６０℃で３０分間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１１．１１（９００ｍｇ、２．５９ｍｍｏｌ）を６０℃未満で分割して添加した。反応混合物を６０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ）により１５℃でクエンチした。ＴＨＦ層を分離した。水溶液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％の酢酸エチル）によって精製して、１１．１２（７７０ｍｇ、８６．３％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８０（ｓ，１Ｈ），４．６２（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．０１－１．５９（ｍ，１２Ｈ），１．５５－１．４６（ｍ，３Ｈ），１．４３－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２６（ｓ，５Ｈ），１．２２－１．１５（ｍ，１Ｈ），１．０８－０．９２（ｍ，４Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ），０．８２（ｄ，Ｊ＝７．５ Ｈｚ，３Ｈ）。
１１．１３の合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）中の１１．１２（４７０ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（２．７２ｍＬ、３Ｍ、８．１６ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、得られた混合物に、エタノール（１．８７ｍＬ）を１５℃で添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（８．１５ｍＬ、５．０Ｍ、４０．８ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。過酸化水素（４．０７ｍＬ、１０Ｍ、４０．８ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。７０℃で１時間撹拌した後、混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１１．１３（５３０ｍｇ、不純）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７９（ｄ，Ｊ＝９．８ Ｈｚ，１Ｈ），３．３７－３．２４（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．７５（ｍ，７Ｈ），１．７０－１．５９（ｍ，３Ｈ），１．５４－１．３１（ｍ，１２Ｈ），１．２１－１．１０（ｍ，３Ｈ），１．０２（ｄ，Ｊ＝７．０ Ｈｚ，３Ｈ），０．９９－０．９３（ｍ，５Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ），０．７８（ｄ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ）。
１１．１４の合成
ＤＣＭ（３ｍＬ）中の１１．１３（２３０ｍｇ、０．６３４３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ－Ｍｅ－Ｉｍ（２０７ｍｇ、２．５３ｍｍｏｌ）、ＴＥＡ（６４．１ｍｇ、０．６３４３ｍｍｏｌ）及びＴｓＣｌ（１８１ｍｇ、０．９５１４ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２０分間撹拌した後、水（１０ｍＬ）を添加した。混合物をＨＣｌ（２×２０ｍＬ）、ＮａＨＣＯ３（２×２０ｍＬ）及びブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１１．４（２７０ｍｇ、粗製）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７８（ｄ，Ｊ＝８．３ Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），４．１８（ｄｄ，Ｊ＝３．６，９．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｓ，１Ｈ），３．６８（ｔ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．１５－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８１－１．７４（ｍ，２Ｈ），１．６９－１．４７（ｍ，１１Ｈ），１．４３－１．３１（ｍ，５Ｈ），１．２６（ｓ，６Ｈ），１．１８－１．０４（ｍ，２Ｈ），０．９４（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，４Ｈ），０．９１－０．８２（ｍ，３Ｈ），０．７８－０．７０（ｍ，５Ｈ）。
１１及び１２の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の１１．２（２７０ｍｇ、０．５２２４ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノ－ピラゾール（５８．３ｍｇ、０．６２６８ｍｍｏｌ）、ＫＩ（８６．７ｍｇ、０．５２２４ｍｍｏｌ）及びＣｓ２ＣＯ３（５０８ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）を添加した。１３０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（５ｍＬ）で洗浄し、ＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ×２）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をカラム（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１２（９２ｍｇ、４０．３％）及び１１（２０ｍｇ）を得た。化合物１１をＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）、移動相：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ、勾配：４０％～４０％のＢ、流速（ｍｌ／分）：７０）によってさらに精製して、１１（２ｍｇ、０．９％）を得た。１１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．０１－３．８３（ｍ，２Ｈ），２．５３－２．３６（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．９３（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．８２（ｍ，１Ｈ），１．７９－１．７１（ｍ，２Ｈ），１．７０－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．５０－１．３１（ｍ，７Ｈ），１．２５（ｓ，６Ｈ），１．２２－１．０７（ｍ，３Ｈ），１．０４－０．９１（ｍ，２Ｈ），０．８７（ｓ，４Ｈ），０．８０（ｄｄ，Ｊ＝７．３，１１．０ Ｈｚ，７Ｈ），０．５７－０．４６（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％，Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋４２０．３。１２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８０（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），４．３７（ｄｄ，Ｊ＝３．０，１３．３ Ｈｚ，１Ｈ），３．９４－３．４６（ｍ，１Ｈ），２．５４－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．１２－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８２－１．７４（ｍ，２Ｈ），１．７２－１．３５（ｍ，１５Ｈ），１．２７（ｓ，４Ｈ），１．２２－１．１４（ｍ，１Ｈ），１．１０－１．０５（ｍ，１Ｈ），１．０３（ｓ，３Ｈ），１．０１－０．９６（ｍ，３Ｈ），０．８１（ｄｄ，Ｊ＝７．４，８．４ Ｈｚ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％，Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値Ｃ２８Ｈ４３Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋４２０．３。
実施例１７及び１８：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＳ，８Ｓ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１０ａ，１２ａ－トリメチル－１，２，３，３ａ，３ｂ，４，６，７，８，９，１０，１０ａ，１０ｂ，１１，１２，１２ａ－ヘキサデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１７）及び１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＳ，８Ｓ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１０ａ，１２ａ－トリメチル－１，２，３，３ａ，３ｂ，４，６，７，８，９，１０，１０ａ，１０ｂ，１１，１２，１２ａ－ヘキサデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリトリル（１８）

Figure 2022538301000113
 １７．２の合成
トルエン（５００ｍＬ）中の１７．１（５０．０ｇ、１５７ｍｍｏｌ）の溶液に、ピリジン．ＨＣｌ（３．６１ｇ、３１．４ｍｍｏｌ）及びエタン－１，２－ジオール（４８．７ｇ、７８５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を１３５℃で４８時間撹拌して、ディーン・スタークトラップによって水を除去した。混合物を真空中で濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ（１５０ｍＬ）から粉砕して、生成物１７．２（３５．０ｇ、６２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３５（ｄ，Ｊ＝５．２ Ｈｚ，１Ｈ），４．０３－３．８３（ｍ，４Ｈ），３．５８－３．４７（ｍ，１Ｈ），２．３４－２．１７（ｍ，２Ｈ），２．１０－１．９２（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．６１（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．４３（ｍ，５Ｈ），１．３０（ｓ，３Ｈ），１．２３－１．０６（ｍ，３Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．９６－０．８４（ｍ，３Ｈ），０．７８（ｓ，３Ｈ）。
１７．３の合成
ＤＣＭ（２００ｍＬ）中の１７．２（１０．０ｇ、２７．７ｍｍｏｌ）の溶液に、デス・マーチン（３５．２ｇ、８３．１ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２０℃で１時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５００ｍＬ）及び飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２００ｍＬ）により０℃でクエンチし、２０分間撹拌した。混合物をＤＣＭ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ＮａＨＣＯ３（２×２００ｍＬ）及び飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗生成物１７．３（１１．０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４０－５．３０（ｍ，１Ｈ），４．０２－３．８７（ｍ，４Ｈ），３．２８（ｄ，Ｊ＝１６．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．８２（ｄｄ，Ｊ＝２．０，１６．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５３－２．４２（ｍ，１Ｈ），２．３４－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１３－１．９９（ｍ，３Ｈ），１．８５－１．６８（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．４２（ｍ，４Ｈ），１．３１－１．２４（ｍ，６Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．０８－１．００（ｍ，２Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。
１７．４ａ及び１７．４ｂの合成
冷たい（－７０℃）ＬＤＡ溶液（１３９ｍＬ、１．０Ｍ、１３９ｍｍｏｌ、新たに調製した）を、ＴＨＦ（１６０ｍＬ）中の１７．３（１０．０ｇ、２７．８ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１５．８ｇ、１３９ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（４０ｍＬ）中の酢酸（８．３４ｇ、１３９ｍｍｏｌ）を添加し、次いで混合物を２０℃に温め、１６時間撹拌した。水（３００ｍＬ）及びＰＥ（２００ｍＬ）を添加し、有機相を分離し、水相をＥｔＯＡｃ（１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗生成物（１３ｇ）を得、これを次のステップに直接使用した。ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の粗生成物（１２ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３３５ｍｇ、０．７６ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を２５℃で１６時間撹拌した。この反応混合物を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、混合物生成物１７．４ａ及び１７．４ｂ（６．８０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １２．８－１２．６（ｍ，０．２Ｈ），５．６９－５．４４（ｍ，１Ｈ），４．２９－４．１０（ｍ，２Ｈ），４．０４－３．８２（ｍ，４Ｈ），３．４４－３．１７（ｍ，０．８Ｈ），２．９９－２．６５（ｍ，１Ｈ），２．４８－１．９６（ｍ，４Ｈ），１．８５－１．６１（ｍ，６Ｈ），１．５５－１．４０（ｍ，３Ｈ），１．３４－１．１４（ｍ，１２Ｈ），１．０２－０．９６（ｍ，３Ｈ），０．７９（ｓ，３Ｈ）。
１７．５ａ及び１７．５ｂの合成
ＭｅＯＨ（１５０ｍＬ）中の１７．４ａ及び１７．４ｂ（６．８０ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）及びＮａＯＨ（６．０８ｇ、１５２ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を６０℃で１６時間撹拌した。この反応混合物を濃縮した。次いで、Ｈ２Ｏ（１５０ｍＬ）を添加し、得られた混合物をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＤＣＭ中０～２％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１７．５ａ（１．５ｇ、２６％）及び生成物１７．５ｂ（９００ｍｇ、１６％）を得た。１７．５ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．５７（ｄ，Ｊ＝４．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．０４－３．８２（ｍ，４Ｈ），２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．４９－２．２５（ｍ，４Ｈ），２．２０－１．９７（ｍ，３Ｈ），１．８４－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５６－１．３７（ｍ，３Ｈ），１．３０（ｓ，３Ｈ），１．２６－１．０３（ｍ，４Ｈ），１．００（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｓ，３Ｈ）。１７．５ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．５６（ｄ，Ｊ＝４．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．０５－３．８３（ｍ，４Ｈ），３．２５（ｄ，Ｊ＝１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．８２（ｄ，Ｊ＝１４．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．６５－２．５３（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．０１（ｍ，３Ｈ），１．８９－１．６０（ｍ，７Ｈ），１．５７－１．３９（ｍ，４Ｈ），１．３０（ｓ，３Ｈ），１．２８－１．０２（ｍ，５Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｓ，３Ｈ）。
１７．６ａ及び１７．６ｂの合成
トルエン（１００ｍＬ）中のＢＨＴ（１０．６ｇ、４８．３ｍｍｏｌ）の溶液に、窒素下０℃で、トリメチルアルミニウム（トルエン中２Ｍ、１２．０ｍＬ、２４．１ｍｍｏｌ）を滴加した。混合物を２５℃で１時間撹拌し、さらに精製することなくＭＡＤの溶液として直接使用した。ＭＡＤ溶液に、無水ＤＣＭ（２０ｍＬ）中１７．５ａ（３．０ｇ、８．０ｍｍｏｌ）の溶液を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（８．０３ｍＬ、２４．１ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。得られた溶液を－７０℃でさらに２時間撹拌した。反応混合物を１０℃未満の飽和クエン酸水溶液（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物を（３００ｍｇの１７．５ａからの）別のバッチと一緒に精製した。残渣をＰＥ（２０ｍＬ）から２０℃で再結晶化して、１７．６ａ及び１７．６ｂ（３．３ｇ）を得、これを次のステップに直接使用した。
１７．７ａ及び１７．７ｂの合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の１７．６ａ及び１７．６ｂ（３．３０ｇ、８．５ｍｍｏｌ）の溶液に、１２Ｍ ＨＣｌ（３ｍＬ、３６．０ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２０℃で１６時間撹拌した。反応混合物をＨ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈し、固体Ｎａ２ＣＯ３（２０ｇ）でｐＨ＝９に調整した。生成物をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物をフラッシュカラム（ＰＥ中２０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１７．７ａ（６００ｍｇ）及び１７．７ｂ（１．０ｇ）を得た。１７．７ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４０（ｄ，Ｊ＝３．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２８－２．１７（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．１０－２．０１（ｍ，２Ｈ），１．９２－１．５０（ｍ，８Ｈ），１．４９－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．３０－１．１９（ｍ，７Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．６３（ｓ，３Ｈ）。１７．７ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４５（ｄ，Ｊ＝４．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２２－１．８５（ｍ，９Ｈ），１．７８－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．３５（ｍ，７Ｈ），１．３２－１．１６（ｍ，８Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．６３（ｓ，３Ｈ）。
１７．８の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（７．７５ｇ、２１．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．４３ｇ、２１．７ｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を５０℃で３０分間撹拌した。化合物１７．７ａ（２．５ｇ、７．２５ｍｏｌ）を５０℃未満で分割して添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）により２５℃でクエンチした。有機層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ×２）で抽出した。合わせた有機相を真空下で濃縮して、生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１７．８（２．５ｇ、１００％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δ ５．５０－５．４１（ｍ，１Ｈ），４．８５（ｓ，１Ｈ），４．７１（ｓ，１Ｈ），２．１０－１．９４（ｍ，３Ｈ），１．９３－１．７７（ｍ，４Ｈ），１．７６（ｓ，３Ｈ），１．７５－１．６４（ｍ，３Ｈ），１．６３－１．５６（ｍ，２Ｈ），１．５５－１．３１（ｍ，６Ｈ），１．３１－１．２６（ｍ，２Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－１．０５（ｍ，５Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．５９（ｓ，１Ｈ）。
１７．９の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の１７．８（３００ｍｇ、０．８７５７ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（６３９ｍｇ、２．６２ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で１時間撹拌した。得られた混合物に、エタノール（４０３ｍｇ、８．７５ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。次いで、ＮａＯＨ水溶液（１．７５ｍＬ、５Ｍ、８．７５ｍｍｏｌ）を０℃で添加し、続いてＨ２Ｏ２（０．８７５ｍＬ、１０Ｍ、８．７５ｍｍｏｌ）を滴加した。８０℃で１時間撹拌した後、得られた混合物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ）上に注ぎ、３０分間撹拌した。混合物をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させた。合わせた有機相を真空下で濃縮して、１７．９（４００ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ５．４５（ｄ，Ｊ＝４．０ Ｈｚ，１Ｈ），３．８９－３．８５（ｍ，１Ｈ），３．６４（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．３７（ｄｄ，Ｊ＝６．８，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．０６－１．９３（ｍ，３Ｈ），１．９０－１．７８（ｍ，５Ｈ），１．７３－１．６６（ｍ，４Ｈ），１．５３－１．５０（ｍ，５Ｈ），１．４３－１．３３（ｍ，４Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．２０－１．０９（ｍ，３Ｈ），１．０５（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。
１７．１０の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の１７．９（３００ｍｇ、０．８３１９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ－Ｍｅ－Ｉｍ（１２０ｍｇ、１．２４ｍｍｏｌ）、ＴＥＡ（１６７ｍｇ、１．６６ｍｍｏｌ）及びＴｓＣｌ（２３６ｍｇ、１．２４ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２時間撹拌した後、混合物を水（５ｍＬ）で洗浄した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１７．１０（４００ｍｇ、９３．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，３Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，３Ｈ），５．４４（ｄ，Ｊ＝３．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｄｄ，Ｊ＝３．２，９．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．７８（ｄｄ，Ｊ＝６．８，９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），１．９９－１．７８（ｍ，６Ｈ），１．７６－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．３２（ｍ，７Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．２１－１．１５（ｍ，３Ｈ），０．９８（ｄ，Ｊ＝６．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．６７－０．５８（ｍ，３Ｈ）。
１７及び１８の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の１７．１１（４００ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）の溶液に、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（８６．７ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）、ＫＩ（１２８ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）及びＣｓ２ＣＯ３（７５９ｍｇ、２．３３ｍｍｏｌ）を添加した。１２０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（５ｍＬ）で洗浄し、ＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ×２）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１８及び１７（２２０ｍｇ、６５％）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、１０ｕｍ）；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；開始Ｂ：５５％；終了Ｂ：５５％；勾配時間（分）：該当なし；１００％Ｂ 保持時間（分）：該当なし；流速（ｍｌ／分）：８０）によって精製して、１８（１３５．５ｍｇ、６１．６％）及び１７（２４．１ｍｇ、１１％）を得た。１８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．７９（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），５．４５（ｄ，Ｊ＝３．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．２６（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．７４（ｄｄ，Ｊ＝９．６，１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．１０－１．８３（ｍ，７Ｈ），１．７６－１．６２（ｍ，２Ｈ），１．５９－１．５６（ｍ，２Ｈ），１．５５－１．５０（ｍ，２Ｈ），１．４９－１．３２（ｍ，５Ｈ），１．３０－１．２６（ｍ，１Ｈ），１．３０－１．２５（ｍ，１Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．２３－１．０２（ｍ，６Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．８２（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），０．７４（ｓ，１Ｈ）。ＬＣＭＳ純度≧９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１８．３，実測値４１８．３。１７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８０（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），５．４６（ｄ，Ｊ＝３．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．５０（ｄｄ，Ｊ＝４．４，１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．６７（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．１９－２．０７（ｍ，１Ｈ），２．０７－２．０１（ｍ，１Ｈ），２．００－１．９５（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．８１（ｍ，４Ｈ），１．７６－１．５５（ｍ，５Ｈ），１．５２－１．３４（ｍ，６Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－１．０４（ｍ，６Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ），０．６９（ｄ，Ｊ＝６．５ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣＭＳ純度≧９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１８．３，実測値４１８．３。
実施例１９及び２０：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＳ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１０ａ，１２ａ－トリメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１９）及び１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＳ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１０ａ，１２ａ－トリメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２０）
Figure 2022538301000114
 １９．２の合成
ＴＨＦ（４００ｍＬ）中の１９．１（ＷＯ２０１８／１３６１３，２０１８，Ａ１、１３ｇ、４１．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ジアゾ酢酸エチル（２３．５ｇ、２０６ｍｍｏｌ）をＮ２下で添加し、続いてＬＤＡ（２０６ｍｍｏｌ）を－７０℃で添加した。－７０℃で４時間撹拌した後、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の酢酸（１６．４ｇ、２０６ｍｍｏｌ）の溶液を添加して、反応物を－７０℃でクエンチした。次いで、混合物を２５℃に温め、１２時間撹拌し、水（２００ｍＬ）で処理した。水溶液をジエチルエーテル（２×３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮して、１９．２（１７ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８８－４．７９（ｍ，１Ｈ），４．７５－４．６７（ｍ，１Ｈ），４．３７－４．１９（ｍ，４Ｈ），３．５２－３．２８（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．８２（ｍ，３Ｈ），１．７５（ｓ，１１Ｈ），１．４７－１．３１（ｍ，７Ｈ），０．９９－０．６３（ｍ，７Ｈ），０．５５（ｓ，３Ｈ）。
１９．３及び１９．３ａの合成
ＤＭＥ（５０ｍＬ）中の１９．２（１７ｇ、４１．０ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（２７１ｍｇ、０．６１５ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を４０℃で２時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（３０ｍＬ）、ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、１９．３及び１９．３ａ（１６ｇ、粗製）を得た。
１９．４及び１９．４ａの合成
ＭｅＯＨ／ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ／１００ｍＬ／５０ｍＬ）中の１９．３及び１９．３ａ（１６ｇ、５．５４ｍｍｏｌ）の混合物に、ＮａＯＨ（１５．９ｇ、３９９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を７０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（４×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、水（５００ｍＬ）、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、粗生成物を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１９．４及び１９．４ａ（１３ｇ、粗製）を得た。１９．４及び１９．４ａの混合物を、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ ３０％ 終了Ｂ ３０％；流速（ｍｌ／分）：２００）によって精製して、１９．４（３．３ｇ）及び１９．４ａ（３．０ｇ）を得た。１９．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８４（ｓ，１Ｈ），４．７０（ｓ，１Ｈ），２．６３－２．３９（ｍ，３Ｈ），２．３５－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．９５（ｍ，２Ｈ），１．７５（ｓ，１０Ｈ），１．４１－１．１０（ｍ，１０Ｈ），０．９８－０．８６（ｍ，１Ｈ），０．８１（ｓ，４Ｈ），０．５６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３，Ｃ２３Ｈ３５［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋ ３１１．３，実測値３１１．３。１９．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８４（ｓ，１Ｈ），４．７０（ｓ，１Ｈ），２．８１（ｄｄ，Ｊ＝１１．２，１５．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．５３－２．３０（ｍ，２Ｈ），２．１２－１．９０（ｍ，３Ｈ），１．８９－１．８１（ｍ，１Ｈ），１．７５（ｓ，１０Ｈ），１．４９－１．００（ｍ，９Ｈ），０．８８（ｓ，４Ｈ），０．８２－０．７３（ｍ，１Ｈ），０．５６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３，Ｃ２３Ｈ３５［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋ ３１１．３，実測値３１１．３。
１９．５及び１９．５ａの合成
トルエン（４０ｍＬ）中の２，６－ジ－三級ブチル－４－メチルフェノール（１２．８ｇ、５８．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＭｅ３（１４．６ｍＬ、２９．２ｍｍｏｌ、トルエン中２Ｍ）を０℃で滴加した。混合物を２５℃で３０分間撹拌し、ＭＡＤ溶液として使用した。無水ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の１９．４（３．２ｇ、９．７４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭＡＤ（２９．２ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃で滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（９．７３ｍＬ、２９．２ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加し、－７０℃で１時間撹拌した。反応混合物を１０℃未満で飽和クエン酸水溶液（１５ｍＬ）中に注ぎ入れた。水溶液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１９．４（１．１ｇ）ならびに１９．５及び１９．５ａ（２．０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．９０－４．７８（ｍ，１Ｈ），４．７４－４．６５（ｍ，１Ｈ），２．０７－１．９６（ｍ，１Ｈ），１．７５（ｓ，１３Ｈ），１．４６－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２０（ｓ，１１Ｈ），０．８２－０．７９（ｍ，１Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ），０．５５（ｓ，３Ｈ）。
１９．６及び１９．６ａの合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１９．５及び１９．５ａ（４００ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３Ｍｅ２Ｓ（０．３４８ｍＬ、１０Ｍ、３．４８ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、ＥｔＯＨ（０．８１１ｍＬ、１３．９ｍｍｏｌ）を２５℃で添加し、続いてＮａＯＨ（２．７８ｍＬ、５．０Ｍ、１３．９ｍｍｏｌ）を０℃で、及びＨ２Ｏ２（１．３８ｍＬ、１３．９ｍｍｏｌ、水中３０％）を添加した。混合物を７０℃で１時間撹拌し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（２０ｍＬ）でクエンチした。０℃でさらに１時間撹拌した後、反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊されたことを確認した。水相をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（４０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１９．６及び１９．６ａ（４００ｍｇ、粗製）を得た。
１９及び２０の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１９．６及び１９．６ａ（４００ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）ならびに１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２０４ｍｇ、２．２０ｍｍｏｌ）の混合物に、トリフェニルホスフィン（８６５ｍｇ、３．３０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（５ｍＬ）中のアゾジカルボン酸ジエチル（５７４ｍｇ、３．３０ｍｍｏｌ）の溶液を０℃で添加した。混合物を２０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、有機相を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１９及び２０（５１５ｍｇ、粗製）を得た。
１９及び２０を、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）；状態：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ ３５％ 終了Ｂ ３５％；流速（ｍｌ／分）６０）を得、１９（１１１．６ｍｇ、Ｒｔ＝１．７３２分）及び２０（４６．５ｍｇ、Ｒｔ＝１．６１７分）を得た。１９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），４．４９（ｄｄ，Ｊ＝４．４，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．６５（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．２０－２．０２（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．７６（ｍ，３Ｈ），１．７２－１．５７（ｍ，６Ｈ），１．２１（ｓ，１８Ｈ），０．９９－０．８４（ｍ，１Ｈ），０．７７（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，７Ｈ），０．６７（ｄ，Ｊ＝６．４ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４４Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３８．４，実測値４３８．４。ＳＦＣ ９７％ ｄｅ。２０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１－７．７７（ｍ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），７．７７－７．７３（ｍ，１Ｈ），４．２４（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１３．５ Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｄｄ，Ｊ＝９．６，１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．０９－１．７９（ｍ，４Ｈ），１．７３－１．５６（ｍ，６Ｈ），１．４７－１．２６（ｍ，６Ｈ），１．２０（ｓ，１３Ｈ），０．８１（ｄ，Ｊ＝６．４ Ｈｚ，３Ｈ），０．７５（ｓ，４Ｈ），０．７０（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４４Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３８．４，実測値４３８．４。ＳＦＣ １００％ ｄｅ。
実施例２１及び２２：１－（（Ｒ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－７－ヒドロキシ－７，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２１）及び１－（（Ｓ）－２－（（１Ｒ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－７－ヒドロキシ－７，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）プロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２２）

Figure 2022538301000115
 ２１．２の合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の２１．１（１０ｇ、３６．４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１ｇ、乾燥）及びＨＢｒ（０．５ｍＬ）を添加した。反応混合物を真空下で脱気し、Ｈ２で５回パージした。混合物をＨ２下、２０℃で１６時間撹拌した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＴＨＦ（５×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮した。残渣を石油エーテル（１０ｍＬ）から２０℃で粉砕して、２１．２（１０．３１ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５－３．６５（ｍ，２Ｈ），２．６１－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．０４（ｍ，６Ｈ），１．８７－１．６２（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．４６（ｍ，３Ｈ），１．２９－１．０７（ｍ，７Ｈ），０．７７（ｓ，３Ｈ）。
２１．３の合成
無水ＴＨＦ（１１０ｍＬ）中のジイソプロピルアミン（２７．９ｇ、２７６ｍｍｏｌ）の溶液に、窒素下－７０℃で、ｎ－ＢｕＬｉ（ヘキサン中２．５Ｍ、１１０ｍＬ、２７６ｍｍｏｌ）を滴加した。混合物を－７０℃で２０分間撹拌した。ＴＨＦ（６００ｍＬ）中の２１．２（２０ｇ、５５．４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ２雰囲気下でジアゾ酢酸エチル（３１．４ｇ、２７６ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、新たに調製したＬＤＡ（２７６ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。混合物を－７０℃で４時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の酢酸（２２．０ｇ、２７６ｍｍｏｌ）を添加して、反応物を－７０℃でクエンチした。次いで、混合物を２５℃に温め、１２時間撹拌した。水（２００ｍＬ）を添加した。水溶液をＥｔＯＡｃ（２×６００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮して、２１．３（４０．０ｇ、粗製）を得た。
２１．４及び２１．４ａの合成
ＤＭＥ（３００ｍＬ）中の２１．３（３０．０ｇ、粗製）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３７３ｍｇ、０．８４ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を４０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を真空下で濃縮して、２１．４及び２１．４ａ（３０．０ｇ、粗製）を得た。
２１．５及び２１．５ａの合成
ＭｅＯＨ／ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ／２００ｍＬ／５０ｍＬ）中の２１．４及び２１．４ａ（３０．０ｇ、８２．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ＮａＯＨ（３３．０ｇ、８２７ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を７０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチル（２×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（５００ｍＬ）、ブライン（６００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２１．５及び２１．５ａ（２１．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．６７（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．０５（ｔ，Ｊ＝１２．６７ Ｈｚ，１Ｈ），２．５２－２．３７（ｍ，２Ｈ），２．１４－１．８２（ｍ，６Ｈ），１．７８－１．６２（ｍ，６Ｈ），１．４６－０．９４（ｍ，８Ｈ），０．７７（ｓ，３Ｈ）。
２１．６及び２１．６ａの合成
ＤＣＭ（３００ｍＬ）中の２１．５及び２１．５ａ（２０．０ｇ、６８．８ｍｍｏｌ）の溶液を、Ｎ２下でＤＭＰ（５８ｇ、１３７ｍｍｏｌ）に添加した。反応混合物をＮ２下、１５℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５００ｍＬ）中に注ぎ入れた。飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（５００ｍＬ）を添加した。水相をＤＣＭ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．６及び２１．６ａ（１４．５ｇ、７３．２％）を得、これをＳＦＣ（カラムＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＩＣ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）条件０．１％ＮＨ３ Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ 開始Ｂ ４０％ 終了Ｂ ４０％ 勾配時間（分）１００％Ｂ 保持時間（分）流速（ｍｌ／分）２００ 注入５００）によって精製して、２１．６ａ（３．８ｇ、粗製）及び２１．６（９ｇ、粗製）を得た。化合物２１．６ ２１．６（９ｇ、粗製）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって再精製して、２１．６（３．５ｇ、２４．３％）を得た。化合物２１．６ａ（３．８ｇ、粗製）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、２１．６ａ（３．５ｇ、１３．１ｍｍｏｌ）を得た。２１．６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．０４（ｔ，Ｊ＝１２．５５ Ｈｚ，１Ｈ），２．５５－２．３５（ｍ，３Ｈ），２．１７－１．９１（ｍ，５Ｈ），１．８８－１．５０（ｍ，１０Ｈ），１．４５－０．９９（ｍ，７Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ１９Ｈ２９Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８９．３，実測値２８９．３。２１．６ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６３－２．２４（ｍ，５Ｈ），２．１７－１．８８（ｍ，５Ｈ），１．８６－１．６８（ｍ，６Ｈ），１．６０－１．０６（ｍ，１０Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ１９Ｈ２９Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８９．３，実測値２８９．３。
２１．７の合成
トルエン（４０ｍＬ）中の２，６－ジ－三級ブチル－４－メチルフェノール（１５．９ｇ、７２．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＭｅ３（１８．１ｍＬ、３６．３ｍｍｏｌ、トルエン中２Ｍ）を０℃で滴加した。混合物を２５℃で３０分間撹拌した。無水ＤＣＭ（５ｍＬ）中の２１．６（３．５ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）の溶液を、ＭＡＤ（３６．３ｍｍｏｌ）溶液に－７０℃で滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（１２．１ｍＬ、３６．３ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加し、－７０℃で１時間撹拌した。反応混合物を１０℃未満で飽和クエン酸水溶液（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水溶液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（８０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させて、粗生成物を得た。粗生成物をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．７（１．８ｇ）を得た。化合物２１．７（２００ｍｇ）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、２１．７（１４．３ｍｇ）を得た。２１．７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４４（ｄｄ，Ｊ＝１９．２，８．１６ Ｈｚ，１Ｈ），２．１６－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．６６－１．５８（ｍ，２Ｈ），１．５３－１．４６（ｍ，４Ｈ），１．４０－０．９５（ｍ，１３Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２０Ｈ３１Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８７．３，実測値２８７．３。
２１．８の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のｔ－ＢｕＯＫ（２．１９ｇ、１９．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（７．２７ｇ、１９．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、４０℃で添加した。混合物を４０℃で３０分間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍｌ）中の化合物２１．７（２．０ｇ、６．５６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を４０℃で３０分間撹拌した。混合物を水（３０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．８（１．６０ｇ、７７．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２４－５．０５（ｍ，１Ｈ），２．４３－１．９５（ｍ，５Ｈ），１．９４－１．６１（ｍ，８Ｈ），１．５３－１．１５（ｍ，１５Ｈ），１．１４－０．９２（ｍ，４Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ）。
２１．９の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の２１．８（１．６ｇ、５．０５ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（２．４４ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）をＮ２下で添加した。反応混合物をＮ２下、５０℃で２時間撹拌し、０℃に冷却した。反応混合物に、エタノール（４．４０ｍＬ、７５．７ｍｍｏｌ）及びＮａＯＨ（１５．１ｍＬ、５Ｍ、７５．７ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、Ｈ２Ｏ２（８．５６ｇ、３０％、７５．７ｍｍｏｌ）を１５℃で滴加した。混合物を５０℃で２時間撹拌した。飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（５０ｍＬ）を添加し、混合物を０℃でさらに１時間撹拌した。反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊されたことを確認した。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２１．９（１．０ｇ、粗製）を得た。
２１．１０の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の２１．９（１．０ｇ、２．９８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（１．４４ｇ、５．９６ｍｍｏｌ）をＮ２下で添加した。反応混合物をＮ２下、１５℃で２時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５０ｍＬ）及び飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ）を混合物に添加した。水相をＤＣＭ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．１０（０．８ｇ、８１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５５（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１６（ｂｒ ｄ，Ｊ＝９．２９ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．０５－１．９５（ｍ，２Ｈ），１．９２－１．７１（ｍ，４Ｈ），１．７０－１．３７（ｍ，１０Ｈ），１．３５－１．８７（ｍ，１３Ｈ），０．６３（ｓ，３Ｈ）。
２１．１１の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のｔ－ＢｕＯＫ（１．０ｇ、９．００ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（３．２１ｇ、９．００ｍｍｏｌ）をＮ２下、５０℃で添加した。混合物を５０℃で３０分間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍｌ）中の化合物２１．１０（１．０ｇ、３．００ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を５０℃で３０分間撹拌した。混合物を水（３０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．１１（８００ｍｇ、８０．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８５（ｓ，１Ｈ），４．７１（ｓ，１Ｈ），２．０５－１．７７（ｍ，６Ｈ），１．７１－１．６２（ｍ，３Ｈ），１．６０－１．３５（ｍ，９Ｈ），１．３３－１．０８（ｍ，１２Ｈ），１．０３－０．８３（ｍ，４Ｈ），０．５８（ｓ，３Ｈ）。
２１．１２の合成
ＴＨＦ（２０ｍｌ）中の２１．１１（２００ｍｇ、０．６０５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（０．３０２ｍＬ、１４７ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。反応混合物を５０℃に温め、１６時間撹拌した。反応混合物を冷却し、ＥｔＯＨ（４１７ｍｇ、９．０７ｍｍｏｌ、０．７８９ｇ／ｍｌ）によって０℃でクエンチした。ＮａＯＨ（１．８１ｍＬ、５Ｍ、９．０７ｍｍｏｌ）を非常にゆっくりと添加した。添加後、温度を３０℃未満に維持しながら、Ｈ２Ｏ２（０．９０７ｍＬ、９．０７ｍｍｏｌ、１．１３ｇ／ｍＬ、水中３０％）をゆっくりと添加した。混合物を５０℃でさらに１時間撹拌した。飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１００ｍＬ）を添加し、混合物を０℃でさらに１時間撹拌した。反応物をヨウ化カリウム－デンプン試験紙によってチェックして、過剰なＨ２Ｏ２が破壊されたことを確認した。水相をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×３０ｍＬ）、ブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１．１２（２００ｍｇ、９５．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８１－３．１６（ｍ，２Ｈ），２．０４－１．７７（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．７２（ｍ，４Ｈ），１．５１－１．１５（ｍ，１６Ｈ），１．１２－０．８２（ｍ，１０Ｈ），０．７０（ｓ，３Ｈ）。
２１及び２２の合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）中の２１．１２（２００ｍｇ、０．５５１５ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１０２ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）の混合物に、トリフェニルホスフィン（４８２ｍｇ、１．６５ｍｍｏｌ）及びアゾジカルボン酸ジエチル（２８７ｍｇ、１．６５ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。混合物を２０℃で１２時間撹拌した。残渣を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄した。有機相を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２１及び２２（２００ｍｇ）を得、これをＳＦＣ（カラムＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）条件０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ開始Ｂ ５５％ 終了Ｂ ５５％勾配時間（分）１００％Ｂ 保持時間（分）流速（ｍｌ／分）６０ 注入６０）によって分離して、２１（５５ｍｇ、２７．６％、Ｒｔ＝５．７０１分）及び２２（３６．２ｍｇ、１８．１％、Ｒｔ＝３．９６６分）を得た。２１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８０（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｓ，１Ｈ），４．５１（ｄｄ，Ｊ＝１３．２，４．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．６７（ｄｄ，Ｊ＝１３．２，１０．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２２－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．２０（ｍ，１４Ｈ），１．１５－０．８７（ｍ，７Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ），０．６９（ｄ，Ｊ＝６．５０ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％、Ｃ２７Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０６．３，実測値４０６．３。ＳＦＣ １００％ ｄｅ。２２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．２５（ｄｄ，Ｊ＝１３．２，３．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｄｄ，Ｊ＝１３．２，９．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．０９－１．７４（ｍ，８Ｈ），１．６９－１．５５（ｍ，３Ｈ），１．５１－１．３５（ｍ，５Ｈ），１．３０－０．８７（ｍ，１５Ｈ），０．８１（ｄ，Ｊ＝６．４０ Ｈｚ，３Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％、Ｃ２７Ｈ４０Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０６．３，実測値４０６．３。ＳＦＣ １００％ ｄｅ。
実施例２３：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－メチル）－Ｎ－メチルベンズアミド（２３）
Figure 2022538301000116
 ２３．１の合成
無水ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＰｈ３ＰＭｅＢｒ（３５．１ｇ、９８．４ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１１．０ｇ、９８．４ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で２０分間撹拌した後、混合物の色が変化した。無水ＴＨＦ（５０．０ｍＬ）中の１．４（６．０ｇ、１９．７ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。５０℃で１時間撹拌した後、混合物を氷水（３００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２３．１（５．０ｇ、８４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．６０－４．５５（ｍ，２Ｈ），２．３８－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１２－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．６５（ｍ，８Ｈ），１．５１－１．２８（ｍ，１２Ｈ），１．１５－０．９８（ｍ，３Ｈ），０．９７－０．８３（ｍ，７Ｈ）。
２３．２の合成
無水ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の２３．１（５．０ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（９．９７ｇ、４１．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を冷却し、ＥｔＯＨ（２０ｍＬ）によって０℃でクエンチし、２０分間撹拌した。次いで、ＮａＯＨ水溶液（２３．０ｍＬ、５Ｍ、１１５ｍｍｏｌ）を非常にゆっくりと添加した。その後、温度を３０℃未満に維持しながら、Ｈ２Ｏ２（２５ｍＬ、２７５ｍｍｏｌ、水中３０％）をゆっくりと添加した。次いで、混合物を６０℃まで温め、６０℃で１時間撹拌した。混合物を水（１．０Ｌ）中に注ぎ入れ、沈殿物を得た。沈殿物を濾過によって収集し、真空下で乾燥させて、２３．２（５．０ｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２３．３の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の２３．２（５．０ｇ、粗製）の溶液に、シリカゲル（１５．０ｇ）及びＰＣＣ（９．９９ｇ、４６．５ｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で１時間撹拌した後、石油エーテル（１００ｍＬ）を添加した。混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＰＥ／ＤＣＭ（２×１００ｍＬ／１００ｍＬ）で洗浄した。濾液をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝２０／１～１０／１）によって精製して、２３．３（２．０ｇ、４０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １０．０８（ｓ，０．２Ｈ），９．８２－９．８１（ｍ，０．８Ｈ），２．０３－１．９６（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．８２（ｍ，１Ｈ），１．８０－１．６２（ｍ，８Ｈ），１．４５－１．２１（ｍ，１５Ｈ），１．００－０．８９（ｍ，８Ｈ）。
２３．４の合成
ＣＨ３ＮＨ２（３０ｍＬ、ＥｔＯＨ中２Ｍ）中の２３．３（６００ｍｇ、１．８８ｍｍｏｌ）の溶液を、Ｎ２下、２５℃で２時間撹拌し、続いてＮａＢＨ４（１４２ｍｇ、３．７６ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で３０分間撹拌した後、混合物をＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）から２５℃で粉砕して、２３．４（２５０ｍｇ、４０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７５－２．７０（ｍ，１Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），２．２０－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．４４（ｍ，１２Ｈ），１．３８－１．０９（ｍ，１４Ｈ），１．０７－０．７８（ｍ，５Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度１００％，Ｃ２２Ｈ４０ＮＯ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３３４，実測値３３４。
２３の合成
無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２３．４（２００ｍｇ、０．５９９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（２５０ｍｇ、１．７９ｍｍｏｌ）及びＢｚＣｌ（２５１ｍｇ、１．７９ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で１２時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２３（１０２ｍｇ、３９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ ｔ＝８０）δＨ ７．４５－７．３７（ｍ，３Ｈ），７．３５－７．３１（ｍ，２Ｈ），３．９５－３．８０（ｍ，１Ｈ），３．４６－３．２８（ｍ，２Ｈ），２．８８（ｓ，３Ｈ），１．８３－１．３５（ｍ，１３Ｈ），１．３４－１．０３（ｍ，１２Ｈ），０．９９－０．７９（ｍ，５Ｈ），０．７４－０．５３（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４４ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３８，実測値４３８。
実施例２４：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（２４）
Figure 2022538301000117
 ２４．１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の２３．３（６００ｍｇ、１．８８ｍｍｏｌ）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（１０ｍＬ）をＮ２下、２５℃で添加した。６０℃で３０分間撹拌した後、ＮａＢＨ４（２１３ｍｇ、５．６４ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で３０分間撹拌した後、混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、飽和クエン酸（５０ｍＬ）で処理した。水相をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＭｅＯＨ中０～１０％のＤＣＭ）によって精製して、２４．１（１．０ｇ）を得た。粗製物の一部（５００ｍｇ）を、分取ＨＰＬＣ（器具：ＦＥ、カラム：ＹＭＣ－Ａｃｔｕｓ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １００＊３０ｍｍ＊５ｕｍ、条件：水（０．０５％ＨＣｌ）－ＡＣＮ、開始Ｂ：２０、終了Ｂ：９０、勾配時間（分）：１０、１００％Ｂ 保持時間（分）：１、流速（ｍｌ／分）：２５、注入：１１）によってさらに精製して、２４．１（１５０ｍｇ、３０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．６４－７．６１（ｍ，２Ｈ），７．４１－７．３８（ｍ，３Ｈ），４．２５－３．９８（ｍ，２Ｈ），３．２２－２．８９（ｍ，１Ｈ），２．４８－２．３０（ｍ，１Ｈ），２．１３－２．００（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．５６（ｍ，１４Ｈ）１．２５－１．００（ｍ，１０Ｈ），０．９６－０．７３（ｍ，６Ｈ），０．６１（ｓ，３Ｈ）。
２４．２の合成
ＭｅＯＨ（５．０ｍＬ）中の２４．１（１５０ｍｇ、０．３６６ｍｍｏｌ）及びＰｄ／Ｃ（１００ｍｇ、乾燥）の懸濁液を、１５ｐｓｉの水素下、２５℃で１６時間水素化した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＭｅＯＨ（３×３０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、２４．２（１００ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２４の合成
無水ＴＨＦ（５ｍＬ）中の２４．２（１００ｍｇ、０．３１３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（８７．７ｍｇ、０．６２３ｍｍｏｌ）及びＢｚＣｌ（８７．９ｍｇ、０．６２３ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で４時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２４（２７．０ｍｇ、２０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９－７．６７（ｍ，２Ｈ），７．５１－７．４１（ｍ，３Ｈ），６．０１（ｓ，１Ｈ），３．６８－３．６３（ｍ，１Ｈ），３．１９－３．１４（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．４５－１．１０（ｍ，１５Ｈ），１．０５－０．８４（ｍ，５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４２ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２４，実測値４２４。
実施例２５及び２６：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンゼンスルホンアミド（２５）及びＮ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）－Ｎ－メチルベンゼンスルホンアミド（２６）
Figure 2022538301000118
 ２５の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の２４．２（３００ｍｇ、０．９３８ｍｍｏｌ）及びＴＥＡ（２３６ｍｇ、２．３４ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でベンゼンスルホニルクロリド（２４７ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：ＹＭＣ－Ａｃｔｕｓ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １００＊３０ｍｍ＊５ｕｍ、勾配：６５～９５％ Ｂ（水（０．０５％ＨＣｌ）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、２５（２００ｍｇ、粗製）を得、これをフラッシュカラム（ＤＣＭ中５％のアセトン）によって精製して、２５（１２０ｍｇ、２７．８％）を得た。１ ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７－７．８４（ｍ，２Ｈ），７．６１－７．５７（ｍ，１Ｈ），７．５４－７．５０（ｍ，２Ｈ），４．２５－４．２２（ｍ，１Ｈ），３．２３－３．１８（ｍ，１Ｈ），２．６０－２．５３（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．７９（ｍ，１Ｈ），１．７６－１．５７（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３１（ｍ，４Ｈ），１．２９－１．１６（ｍ，８Ｈ），１．１３－１．００（ｍ，３Ｈ），０．７６－０．７２（ｍ，６Ｈ），０．６６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４０ＮＯ２Ｓ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４２，実測値４４２。
２６の合成
ＤＭＦ（３．０ｍＬ）中の２５（９４．０ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）、Ｃｓ２ＣＯ３（１６７ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）の溶液に、２５℃でヨードメタン（３４．６ｍｇ、０．２４４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝５／１～３／１）によって精製して、２６（２６．０ｍｇ、２７％）を得た。１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７８－７．７６（ｍ，２Ｈ），７．６１－７．５０（ｍ，３Ｈ），２．９９－２．９３（ｍ，１Ｈ），２．８０－２．７６（ｍ，１Ｈ），２．６７（ｓ，３Ｈ），１．８８－１．６２（ｍ，９Ｈ），１．５４－１．１５（ｍ，１５Ｈ），１．０８－０．８１（ｍ，６Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４４ＮＯ３Ｓ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７４，実測値４７４。
実施例２７：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）－１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３－カルボキサミド（２７）
Figure 2022538301000119
 ２７の合成
ＤＣＭ（２．０ｍＬ）中の２４．２（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（２３７ｍｇ、０．６２ｍｍｏｌ）、ＴＥＡ（１５７ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）、１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３－カルボン酸（５１．２ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）の溶液を、２０℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（器具：ＨＰＬＣ－ＤＩ；カラム：Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ；条件：水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７０；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：７；１００％Ｂ保持時間（分）：０；流速（ｍｌ／分）：２５；注入：４）によって精製して、２７（１７．０ｍｇ、１２．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４６（ｄ，Ｊ＝２ Ｈｚ，１Ｈ），６．８０－６．７０（ｍ，１Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），３．６５－３．５０（ｍ，１Ｈ），３．１５－３．０５（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．７７－１．５５（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．３７（ｓ，４Ｈ），１．２８－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．００－０．８３（ｍ，５Ｈ），０．８０（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２６Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２８，実測値４２８。
実施例２８：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－クリセン－１－イル）メチル）－シクロペンタンカルボキサミド（２８）
Figure 2022538301000120
 ２８の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中のＴＥＡ（７９．０ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）及びＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）の溶液に、シクロペンタンカルボン酸（５３．５ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応物を２０℃で１２時間撹拌した。混合物を水（５ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２８（４０．０ｍｇ）を粗生成物として得た。粗製物をＨＰＬＣ分離によって精製した（カラム：ＤｕｒａＳｈｅｌｌ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ、勾配：５０～８０％ Ｂ（水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって分離して、２８（１９ｍｇ、１５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３５－５．３０（ｍ，１Ｈ），３．４７－３．４０（ｍ，１Ｈ），２．９８－２．８８（ｍ，１Ｈ），２．５２－２．４０（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．７２（ｍ，１０Ｈ），１．７１－１．６４（ｍ，４Ｈ），１．５３－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２６－１．０５（ｍ，９Ｈ），１．０１－０．８０（ｍ，５Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４６ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１６，実測値４１６。
実施例２９：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ピコリンアミド（２９）

Figure 2022538301000121
 ２９の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中のＴＥＡ（７９ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）の溶液に、ピリジン－２－カルボン酸（５７．７ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応物を２０℃で１２時間撹拌した。混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離によって精製した（カラム：ＹＭＣ－Ａｃｔｕｓ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ＊５ｕｍ、勾配：６８～９２％ Ｂ（水（０．０５％水酸化アンモニア）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、２９（１７．７ｍｇ、１３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．５４（ｄ，Ｊ＝４．４ Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｂｒ ｓ，１Ｈ），７．８４（ｔ，Ｊ＝７．８ Ｈｚ，１Ｈ），７．４７－７．３７（ｍ，１Ｈ），３．７５－３．６０（ｍ，１Ｈ），３．２６－２．９８（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．８３－１．６５（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．３８（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．１０（ｍ，１２Ｈ），１．０３－０．８５（ｍ，５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４０Ｎ２Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２５，実測値４２５。
実施例３０：２－フルオロ－Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（３０）

Figure 2022538301000122
 ３０の合成
ＤＣＭ（３ｍＬ）中のＴＥＡ（７９ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）及びＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液に、２０℃で２－フルオロ安息香酸（６６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応物を２０℃で１２時間撹拌した。得られた混合物を水（５ｍＬ）で処理し、ＤＣＭ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（５ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：Ａｇｅｌａ ＤｕｒａＳｈｅｌｌ １５０ｍｍ＿２５ｍｍ＿５ｕｍ、勾配：８２～８２％ Ｂ（水（１０ｍＭ ０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製し、次いでフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～３％のアセトン）によってさらに精製して、３０（１４．０ｍｇ、１０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１０（ｔｄ，Ｊ＝８．０，１．６ Ｈｚ，１Ｈ），７．４９－７．４２（ｍ，１Ｈ），７．２６－７．２３（ｍ，１Ｈ），７．１１（ｄｄ，Ｊ＝１２．０，８．０ Ｈｚ，１Ｈ），６．７６－６．５９（ｍ，１Ｈ），３．７６－３．６６（ｍ，１Ｈ），３．２０－３．０８（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８４－１．６１（ｍ，７Ｈ），１．５３－１．２５（ｍ，１４Ｈ），１．２３－１．１２（ｍ，２Ｈ），１．０５－０．８７（ｍ，５Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４０ＦＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４２，実測値４４２。
実施例３１：３－シアノ－Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（３１）

Figure 2022538301000123
 ３１の合成
ＤＣＭ（３ｍＬ）中のＴＥＡ（７９ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）及びＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液に、３－シアノ安息香酸（６９ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応物を２０℃で１２時間撹拌した。混合物を水（５ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（５ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：Ａｇｅｌａ ＤｕｒａＳｈｅｌｌ １５０ｍｍ＿２５ｍｍ＿５ｕｍ、勾配：６５～９５％ Ｂ（水（１０ｍＭ ０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：３０ｍＬ／分）によって精製し、次いでフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～４％のアセトン）によってさらに精製して、３１（１０ｍｇ、７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０５－８．０２（ｍ，１Ｈ），８．００（ｔｄ，Ｊ＝８．０，１．６ Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｔｄ，Ｊ＝８．０，１．２ Ｈｚ，１Ｈ），７．６０－７．５５（ｍ，１Ｈ），６．０７－５．９９（ｍ，１Ｈ），３．７１－３．６２（ｍ，１Ｈ），３．２４－３．０４（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６６（ｍ，８Ｈ），１．６３－１．６０（ｍ，２Ｈ），１．４５－１．１７（ｍ，１５Ｈ），１．０６－０．８７（ｍ，５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４０Ｎ２Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４９，実測値４４９。
実施例３２：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）シクロプロパンスルホンアミド（３２）

Figure 2022538301000124
 ３２の合成
ＤＣＭ（３ｍＬ）中の２４．２（１００ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）及びＴＥＡ（７９ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）の溶液に、シクロプロパン－スルホニルクロリド（６６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。混合物を２５℃で１２時間撹拌した。混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１８％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、次いでフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～２％のアセトン）によって精製して、３２（３０ｍｇ、粗製）を得た。粗製物をＨＰＬＣ分離（カラム：ＤｕｒａＳｈｅｌｌ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ、勾配：４５～７５％ Ｂ（水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、３２（６．０ｍｇ、５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０７－３．９９（ｍ，１Ｈ），３．４６－３．３９（ｍ，１Ｈ），２．７７－２．６７（ｍ，１Ｈ），２．４４－２．３５（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６６（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．４５（ｍ，２Ｈ），１．４３－１．２５（ｍ，１０Ｈ），１．２４－１．０９（ｍ，６Ｈ），１．０８－０．７９（ｍ，８Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２４Ｈ４１ＮＯ３Ｓ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２４，実測値４２４。
実施例３３：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）－１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５－カルボキサミド（３３）

Figure 2022538301000125
 ３３の合成
ＤＣＭ（３ｍＬ）中のＴＥＡ（７９ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）及びＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液に、１－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５－カルボン酸（５９ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。次いで、反応混合物を２０℃で１２時間撹拌した。得られた混合物を水（５ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、次いでフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～１０％のアセトン）によって精製して、３３（４０ｍｇ、粗製）を得た。粗製物をＨＰＬＣ分離（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５ｕｍ、勾配：６０～９０％ Ｂ（水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によってさらに精製して、３３（２４．０ｍｇ、１８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４３（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），６．４６（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），５．９２－５．８４（ｍ，１Ｈ），４．１７（ｓ，３Ｈ），３．６５－３．５６（ｍ，１Ｈ），３．１３－３．０３（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，８Ｈ），１．４３－１．０９（ｍ，１６Ｈ），１．０６－０．８２（ｍ，６Ｈ），０．８０（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２６Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２８，実測値４２８。
実施例３４：４－シアノ－Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（３４）

Figure 2022538301000126
 ３４の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中のＴＥＡ（７９ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（１７８ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノ安息香酸（６９．０ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応混合物を２０℃で１２時間撹拌した。得られた混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：ＹＭＣ－Ａｃｔｕｓ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ、勾配：７７～９５％ Ｂ（水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）を得て、３４（４５ｍｇ、粗製）を得た。粗製物をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって２回精製して、３４（７．０ｍｇ、３５％収率）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｓ，１Ｈ），３．６９（ｄｄ，Ｊ＝１３．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．２３－３．０９（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．６５（ｍ，７Ｈ），１．６４－１．５２（ｍ，３Ｈ），１．５３－１．４９（ｍ，１Ｈ），１．４８－１．３９（ｍ，２Ｈ），１．３８－１．３０（ｍ，４Ｈ），１．２６－１．０９（ｍ，４Ｈ），１．０５－０．８５（ｍ，５Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４０Ｎ２Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３１，実測値４３１。
実施例３５：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ニコチンアミド（３５）
Figure 2022538301000127
 ３５の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中のＴＥＡ（１１８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）及びＨＡＴＵ（２６７ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）の溶液に、ピリジン－３－カルボン酸（８７ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で０．５時間撹拌した。次いで、２４．２（１５０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。反応混合物を２０℃で１２時間撹拌した。得られた混合物を水（５ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、次いでＨＰＬＣ分離（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５ｕｍ、勾配：５０～８０％ Ｂ（水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、７０ｍｇを粗物質として得、これをＳＦＣ分離（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）、条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ、勾配：２０～２０％、流速：６０ｍＬ／分）によって精製して、３５（５２ｍｇ、２６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．９５（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），８．７２（ｄｄ，Ｊ＝４．８，１．２ Ｈｚ，１Ｈ），８．１１（ｄｔ，Ｊ＝８．０，２．０ Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝８．０，４．８ Ｈｚ，１Ｈ），６．０８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．７２－３．５７（ｍ，１Ｈ），３．２２－３．１２（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６８（ｍ，７Ｈ），１．５９－１．０９（ｍ，１８Ｈ），１．０７－０．８６（ｍ，５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ４０Ｎ２Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２５，実測値４２５。
実施例３６：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（３６）
Figure 2022538301000128
 ３６．２の合成
ＤＣＭ（５００ｍＬ）中の３６．１（９０．０ｇ、２２９ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１６／１３４３０１，２０１６，Ａ２」）の溶液に、シリカゲル（８０．０ｇ）及びＰＣＣ（７３．７ｇ、３４３ｍｍｏｌ）を、１５℃で分割して添加した。１５℃で０．５時間撹拌した。混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（１００ｍＬ）で洗浄した。合わせた濾液を濃縮して、粗生成物３６．２（８７．０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．５６（ｓ，１Ｈ），４．０１－３．７５（ｍ，８Ｈ），２．２４－２．１２（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８６（ｍ，３Ｈ），１．８３－１．７０（ｍ，３Ｈ），１．６７－１．３７（ｍ，１２Ｈ），１．２８－１．１７（ｍ，２Ｈ），１．０９－０．８０（ｍ，４Ｈ）。
３６．３の合成
ＴＨＦ（３００ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（１４５ｇ、４０８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４５．７ｇ、４０８ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。４５℃で０．５時間撹拌した後、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の３６．２（８０．０ｇ、２０４ｍｍｏｌ）の溶液を４５℃で添加し、反応混合物を４５℃で１時間撹拌した。混合物をＰＥ（３００ｍＬ）で希釈し、次いで濾過した。濾液を濃縮して、粗生成物３６．３（２００ｇ）を得た。粗製物（６００ｇ、３つのバッチを合わせたもの）をＰＥ（１．０Ｌ）で処理し、１６時間撹拌した。形成された固体を濾過し、濾液を濃縮して、生成物３６．３（２５２ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．３０（ｄｄ，Ｊ＝１１．２，１７．６ Ｈｚ，１Ｈ），５．１５－４．９６（ｍ，２Ｈ），３．９４－３．８１（ｍ，８Ｈ），２．０２－１．７３（ｍ，７Ｈ），１．５８－１．３５（ｍ，１３Ｈ），１．２２－１．１４（ｍ，２Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。
３６．４の合成
ＴＨＦ（１．０Ｌ）中の３６．３（１００ｇ、２５７ｍｍｏｌ）の溶液に、１２Ｍ ＨＣｌ（１０７ｍＬ、１２８５ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を１５℃で１６時間撹拌した。反応混合物をＨ２Ｏ（８００ｍＬ）で希釈し、固体Ｎａ２ＣＯ３（２００ｇ）でｐＨ＝９に調整した。生成物をＥｔＯＡｃ（３×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗製物をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３６．４（８０．０ｇ、４０．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．３１（ｄｄ，Ｊ＝１１．２，１７．６ Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｄ，Ｊ＝１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝１７．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．７１（ｔ，Ｊ＝１５．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．３７－２．２１（ｍ，２Ｈ），２．１７－２．０６（ｍ，４Ｈ），２．００－１．８３（ｍ，３Ｈ），１．７１－１．５１（ｍ，７Ｈ），１．４０－１．２６（ｍ，４Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
３６．５の合成
ＴＨＦ（１．０Ｌ）中の３６．４（８０ｇ、２６６ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｐｄ－Ｃ（湿潤、５０％、１０．０ｇ）をＮ２下で添加した。懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で３回パージした。次いで、３０ｐｓｉの水素を得られた溶液に２５℃で１６時間適用した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＴＨＦ（３×２００ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、生成物３６．５（８０．０ｇ、９９．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６８（ｔ，Ｊ＝１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．３８－２．２７（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．１３－２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０１－１．９２（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．６９（ｍ，６Ｈ），１．６５－１．５１（ｍ，４Ｈ），１．４４－１．１６（ｍ，７Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．８１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３６．６の合成
トルエン（２１８ｍＬ）中の２，６－ジ－三級ブチル－４－メチルフェノール（９６ｇ、４３６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＭｅ３（１０９ｍＬ、２１８ｍｍｏｌ、トルエン中２Ｍ）を０℃で滴加した。混合物を２５℃で１時間撹拌し、ＭＡＤ溶液として直接使用した。ＭＡＤ溶液（３２５ｍＬ、２１８ｍｍｏｌ、０．６７Ｍ）に、ＤＣＭ（１００ｍＬ）中３６．５（３０．０ｇ、９９．１ｍｍｏｌ）の溶液を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（７２．６ｍＬ、２１８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。得られた溶液を－７０℃でさらに１時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（１０００ｍＬ）中に１０℃未満で注ぎ入れ、さらに１０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１０００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝０～３０％）によって精製して、３６．６（２５ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．１３－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．８２（ｍ，２Ｈ），１．８５－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５０－１．１５（ｍ，１４Ｈ），０．８４（ｓ，３Ｈ），０．８１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３６．７の合成
ＴＨＦ（２００ｍＬ）中のジイソプロピルアミン（５８ｍＬ、０．７２ｇ／ｍＬ、４１４ｍｍｏｌ）とともにｎ－ブチル－リチウム（１３８ｍＬ、ヘキサン中２．５Ｍ、３４５ｍｍｏｌ）から調製したリチウムジイソプロピルアミドの冷たい（－７８℃）溶液を、－７８℃で、ＴＨＦ（１０００ｍＬ）中の３６．６（２２ｇ、６９．０ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３８．１ｍＬ、３４５ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。混合物を－７８℃で１時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の酢酸（３９．４ｍＬ、６９０ｍｍｏｌ）を添加して、反応物を－７８℃でクエンチした。次いで、混合物を２０℃に温め、１６時間撹拌した。水（１０００ｍＬ）を添加した。水溶液をＥｔＯＡｃ（３×１０００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させて粗生成物を得、これをｃｏｍｂｉｆｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．７（２５ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２８－４．０５（ｍ，４Ｈ），２．１８－１．５６（ｍ，１３Ｈ），１．５４－１．０１（ｍ，１７Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
３６．８の合成
ＤＭＥ（２５０ｍＬ）中の３６．７（２５ｇ、５７．７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（２５５ｍｇ、０．５７７ｍｍｏｌ）を２５℃で一度に添加した。混合物を２５℃で１８時間撹拌した。反応混合物を濃縮して、３６．８（２２ｇ）を得た。粗生成物を次のステップに直接使用した。
３６．９の合成
ＭｅＯＨ（２２０ｍＬ）中の３６．８（２２ｇ、５４．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＫＯＨ（１８．２ｇ、３２５ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を６５℃で１時間撹拌した。反応物をブライン（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＤＣＭ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＨＣｌ（１Ｍ、２００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）、ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．９（１２ｇ、６７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６５－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．１９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１５．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．０６－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．１５（ｍ，１８Ｈ），１．１０－１．００（ｍ，４Ｈ），０．７９（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度１００％，Ｃ２２Ｈ３５Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１５，実測値３１５。
３６．１０の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ ３Ｂｒ（３４．２ｇ、９６．０ｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１０．７ｇ、９６．０ｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を５０℃で３０分間撹拌した。次いで、３６．９（８．００ｇ、２４．０ｍｏｌ）を５０℃未満で分割して添加した。反応混合物を５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）により１５℃でクエンチした。有機層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を真空下で濃縮して残渣を得、これをＭｅＯＨ／Ｈ２Ｏ（１：１、６００ｍＬ）で還流下で粉砕することによって精製して、３６．１０（７．４ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．５７（ｄ，Ｊ＝１４．０ Ｈｚ，２Ｈ），２．３８－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．１４－２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．１４（ｍ，１９Ｈ），１．００－０．９０（ｍ，４Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３６．１１及び３６．１１ａの合成
無水ＴＨＦ（８０ｍＬ）中の３６．１０（７．２０ｇ、２１．７ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（１３．１ｇ、５４．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を冷却し、ＥｔＯＨ（７．５７ｍＬ、１３０ｍｍｏｌ）により０℃でクエンチした。次いで、ＮａＯＨ（２６ｍＬ、５Ｍ、１３０ｍｍｏｌ）を非常にゆっくりと添加した。添加後、Ｈ２Ｏ２（１３ｍＬ、１３０ｍｍｏｌ、水中３０％）を、３０℃未満の温度を維持しながらゆっくりと添加した。６０℃でさらに１時間撹拌した後、混合物を室温に冷却した。得られた混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．１１（２．４ｇ、３２％）を得た。さらに、３６．１１ａも単離した（２．２ｇ、２８．９％）。３６．１１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８４（ｂｒ ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），３．３３－３．２０（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．８９（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．５６（ｍ，１２Ｈ），１．５６－１．００（ｍ，１９Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３７［Ｍ－２Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１３，実測値３１３。３６．１１ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９８－３．８５（ｍ，１Ｈ），３．６８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．８７（ｍ，１Ｈ），１．７９－１．５８（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．１０（ｍ，１８Ｈ），１．１０－０．８５（ｍ，８Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３７［Ｍ－２Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１３，実測値３１３。
３６．１２の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の３６．１１（２．０ｇ、５．７３ｍｍｏｌ）の溶液に、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（９３６ｍｇ、１１．４ｍｍｏｌ）及びＴＥＡ（１．１５ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。次いで、ＴｓＣｌ（２．１７ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）を以前の混合物に添加した。反応混合物を２５℃で２時間撹拌した。得られた混合物を水（３０ｍＬ）で処理した。水相をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮し、次いでカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．１２（２．００ｇ、６９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７７（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），４．１９（ｄｄ，Ｊ＝４．０，９．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｔ，Ｊ＝９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），１．９７－１．８４（ｍ，１Ｈ），１．７９－１．４７（ｍ，１３Ｈ），１．４２－１．００（ｍ，１７Ｈ），１．００－０．７５（ｍ，３Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ）。
３６．１３の合成
ＤＭＳＯ（４０ｍＬ）中の３６．１２（２．００ｇ、５．２２ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＮａＮ３（１．０１ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）を添加し、得られた反応混合物を７０℃で１６時間加熱した。次いで、混合物を冷却し、１０％のＮａＨＣＯ３水溶液（２００ｍＬ）を、ｐＨ＞８まで添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、３６．１３（１．５０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．５４（ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２ Ｈｚ，１Ｈ），２．８６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１１．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９８－１．８６（ｍ，１Ｈ），１．７９－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５０－１．１０（ｍ，１７Ｈ），１．１０－０．８０（ｍ，５Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。
３６．１４の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の３６．１３（１．５ｇ、４．０１ｍｍｏｌ）の溶液に、湿潤Ｐｄ／Ｃ（０．３ｇ、炭素上の１０％パラジウム）を添加した。溶液をＨ２（１５ｐｓｉ）下、２０℃で３時間水素化した後、得られた混合物をセライトパッドを通して濾過し、濾液を真空下で濃縮して、３６．１４（１．４０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．９２（ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．６１（ｓ，１Ｈ），２．２０（ｄｄ，Ｊ＝９．６，１２ Ｈｚ，１Ｈ），１．９９－１．８８（ｍ，１Ｈ），１．８４－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．４６－１．２５（ｍ，１３Ｈ），１．２５－０．８２（ｍ，９Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，４Ｈ），０．７２－０．６３（ｍ，３Ｈ）。
３６の合成
無水ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３６．１４（２００ｍｇ、０．５７５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＥＡ（１７４ｍｇ、１．７２ｍｍｏｌ）及びＢｚＣｌ（１２１ｍｇ、０．８６２ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ（カラムＸｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ条件 水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ開始Ｂ ８０ 終了Ｂ １００勾配時間（分）７ １００％Ｂ 保持時間（分）１流速（ｍｌ／分）２５ 注入５）によって精製して、３６（１４ｍｇ、５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７６（ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），６．００（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．６４－３．５８（ｍ，１Ｈ），３．２２－３．０８（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．８９（ｍ，２Ｈ），１．８９－１．６１（ｍ，８Ｈ），１．４９－１．１４（ｍ，１８Ｈ），１．０５－０．８９（ｍ，３Ｈ），０．８１－０．７４（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４６ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５２，実測値４５２。
実施例３７：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）－Ｎ－メチルベンズアミド（３７）
Figure 2022538301000129
 ３７．１の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３６．１１（６００ｍｇ、１．７２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（１．４５ｇ、３．４４ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を４０℃で１０分間撹拌した。次いで、ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）及びＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１０ｍＬ）を添加した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をＮａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１０ｍＬ）及びブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３７．１（６２０ｍｇ、粗製）を得た。
３７．２の合成
ＭｅＮＨ２（１．４４ｍＬ、ＥｔＯＨ中２Ｍ、２．８８ｍｍｏｌ）中の３７．１（２００ｍｇ、０．５７７ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃で１０時間撹拌した。次いで、ＮａＢＨ４（４３．５ｍｇ、１．１５ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を２５℃で１０分間撹拌した。得られた混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３７．２（２００ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７７－２．６９（ｍ，１Ｈ），２．６３－２．５９（ｍ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），２．１８（ｓ，１Ｈ），１．９４－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．１０（ｍ，１２Ｈ），１．１０－０．７５（ｍ，１４Ｈ），０．６９（ｓ，３Ｈ）。
３７の合成
無水ＤＣＭ（５ｍＬ）中の３７．２（２００ｍｇ、０．５５３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＥＡ（１６６ｍｇ、１．６５ｍｍｏｌ）及びＢｚＣｌ（１１６ｍｇ、０．８２９ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ（カラムＸｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ；条件 水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ開始Ｂ ９５；終了Ｂ １００勾配時間（分）７；１００％Ｂ 保持時間（分）０流速（ｍｌ／分）２５；注入５）によって精製した。粗製物を、ＳＦＣ（カラムＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）；条件０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ 開始Ｂ ４０％ 終了Ｂ ４０％勾配時間（分）；１００％Ｂ 保持時間（分）；流速（ｍｌ／分）５０；注入５０）によって精製して、３７（３２ｍｇ、５４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．３５－７．２５（ｍ，５Ｈ），４．３８－４．２８（ｍ，０．５Ｈ），３．３５－３．２８（ｍ，０．５Ｈ），３．２５－３．１６（ｍ，０．５Ｈ），３．１２－３．００（ｍ，０．５Ｈ），２．９６（ｓ，１．５Ｈ），２．８２（ｓ，１．５Ｈ），１．９２－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．００（ｍ，２０Ｈ），１．００－０．６２（ｍ，７．５Ｈ），０．３６（ｓ，１．５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３１Ｈ４８ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４６６，実測値４６６。
実施例３８及び３９：Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）－Ｎ－メチルベンゼンスルホンアミド（３８）及びＮ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンゼンスルホンアミド（３９）

Figure 2022538301000130
 ３９の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３６．１４（３００ｍｇ、０．８６３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＥＡ（２１７ｍｇ、２．１５ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルホニルクロリド（２２７ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を２５℃で１６時間撹拌した。反応混合物を水（２０ｍＬ）で洗浄し、水相をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ－Ａｃｔｕｓ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １００ｍｍ×３０ｍｍ、５ｕｍ；条件：水（０．０５％ＨＣｌ）－ＡＣＮ；勾配：１０分間でＢの７５％～１００％であり、１分間１００％を保持；流速：２５ｍＬ／分；注入：９）によって精製して、３９（１５ｍｇ、３．０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８０－７．７５（ｍ，２Ｈ），７．６０－７．５０（ｍ，２Ｈ），４．２８－４．２３（ｍ，１Ｈ），３．２５－３．２１（ｍ，１Ｈ），２．５８－２．４９（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５６（ｍ，１１Ｈ），１．５０－１．１０（ｍ，１３Ｈ），１．１０－０．７０（ｍ，１１Ｈ），０．６４（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４４ＮＯ２Ｓ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７０，実測値４７０。
３８の合成
ＤＭＦ（３ｍＬ）中の３９（１００ｍｇ、０．２０５ｍｍｏｌ）、Ｃｓ２ＣＯ３（１６７ｍｇ、０．５１２ｍｍｏｌ）の溶液に、ヨードメタン（３４．７ｍｇ、０．２４５ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝５／１～３／１）によって精製して、３８（１７ｍｇ、１７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７８－７．７５（ｍ，２Ｈ），７．６０－７．４８（ｍ，３Ｈ），２．９８－２．９１（ｍ，１Ｈ），２．８０－２．７５（ｍ，１Ｈ），２．６７（ｓ，３Ｈ），１．９５－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．０５（ｍ，１４Ｈ），１．１０－０．８０（ｍ，７Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４８ＮＯ３Ｓ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値５０２，実測値５０２。
実施例４０：４－シアノ－Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（４０）
Figure 2022538301000131
 ４０．２の合成
ＴＨＦ（４００ｍＬ）中の４０．１（３０．０ｇ、１０４ｍｍｏｌ）及び湿潤Ｐｄ／Ｃ（５．０ｇ、炭素上の１０％パラジウム）の溶液に、臭化水素酸（１．０ｍＬ、水中３７％）を添加した。次いで、混合物を２５℃で１６時間、１５ｐｓｉの水素下で水素化した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、粗生成物を得た。残渣をＰＥ（３００ｍＬ）により２５℃で粉砕して、４０．２（３７．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５８（ｔ，Ｊ＝１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５０－２．００（ｍ，９Ｈ），１．９９－１．６２（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．１０（ｍ，８Ｈ），０．７９（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．３の合成
トルエン（２００ｍＬ）中のＢＨＴ（９１．２ｇ、４１４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｍｅ３Ａｌ（１０３．５ｍＬ、２０７ｍｍｏｌ、２Ｍ）を０℃で添加した。反応混合物を２５℃で１時間撹拌して、無色の溶液をＭＡＤ溶液として得、これを次のステップに直接使用した。ＤＣＭ（２００ｍＬ）中の４０．２（２０．０ｇ、６９．３ｍｍｏｌ）の溶液を、ＭＡＤの撹拌溶液（２０７ｍｍｏｌ）に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で１時間撹拌した。次いで、ＭｅＭｇＢｒ（６９．０ｍＬ、２０７ｍｍｏｌ、３Ｍ）を反応物に－７０℃で添加し、１時間撹拌した。得られた混合物を１０℃未満で飽和クエン酸（５００ｍＬ）中に添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．３（１９．５ｇ、９２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３９（ｄｄ，Ｊ＝１９．２ Ｈｚ，９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２－１．９６（ｍ，２Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２２（ｍ，１４Ｈ），１．２０－０．９０（ｍ，３Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．４の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のビス（プロパン－２－イル）アミン（３５．６ｇ、３５２ｍｍｏｌ）の溶液に、ｎ－ＢｕＬｉ（１２８ｍＬ、３２０ｍｍｏｌ、２．５Ｍ）を－７０℃で添加した。反応混合物を０℃で２０分間撹拌して、ＬＤＡの溶液を得、これを次のステップに直接使用した。ＬＤＡ（３２０ｍｍｏｌ）の溶液を、ＴＨＦ（３５０ｍＬ）中の４０．３（１９．５ｇ、６４．０ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３６．４ｇ、３２０ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で４時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の酢酸（１９．２ｇ、３２０ｍｍｏｌ）を添加して、反応物を－７０℃でクエンチした。次いで、得られた混合物を２５℃に温め、１６時間撹拌した。水（５００ｍＬ）を反応混合物中に添加した。水性混合物をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させて粗生成物を得、これをｃｏｍｂｉ ｆｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．４（７．００ｇ、２６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２８－４．２２（ｍ，２Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．７０（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．２７（ｍ，１６Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－０．８５（ｍ，７Ｈ），０．７３（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．５の合成
ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の４０．４（７．００ｇ、１６．７ｍｍｏｌ）及びＲｈ２（ＯＡｃ）４（２００ｍｇ）の溶液を、４５℃で１６時間撹拌した。得られた混合物を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．５（６．００ｇ、９２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２８－４．２２（ｍ，２Ｈ），２．４０－２．１０（ｍ，２Ｈ），１．９９－１．８０（ｍ，４Ｈ），１．７９－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．５２－１．４２（ｍ，３Ｈ），１．４０－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１８－０．８０（ｍ，５Ｈ），０．７８－０．６５（ｍ，３Ｈ）。
４０．６の合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中４０．５（６．００ｇ、１５．３ｍｍｏｌ）及びＫＯＨ（５．１４ｇ、９１．８ｍｍｏｌ）の溶液を、７５℃で１間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．６（３．５０ｇ、７２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５５－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．４２（ｍ，４Ｈ），１．４０－１．１５（ｍ，１１Ｈ），１．１０－０．７５（ｍ，３Ｈ），０．６５（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．７の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４０．６（３．５０ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＭＳＣＨ２Ｌｉ（９７．３ｍＬ、５４．５ｍｍｏｌ、０．５６Ｍ）を－３０℃で添加した。混合物を２０℃で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（３０ｍＬ）に溶解した。次いで、ｐ－ＴｓＯＨ（２００ｍｇ）を混合物に添加し、２０℃で３０分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．７（６００ｍｇ、１７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７２（ｓ，１Ｈ），４．５２（ｓ，１Ｈ），２．２０－２．０２（ｍ，２Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．４０（ｍ，４Ｈ），１．３９－１．２４（ｍ，８Ｈ），１．２２－１．００（ｍ，５Ｈ），０．９９－０．８５（ｍ，４Ｈ），０．５８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．８の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の４０．７（６００ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３Ｍｅ２Ｓ（１ｍＬ、１０Ｍ、１０．０ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。反応混合物を２５℃で１６時間撹拌した。ＥｔＯＨ（１０ｍＬ）を反応混合物に２５℃で添加した。次いで、ＮａＯＨ（６．０ｍＬ、５Ｍ）を反応混合物に０℃で添加し、続いてＨ２Ｏ２（３．４０ｇ、３０．０ｍｍｏｌ、３０％）を添加した。反応混合物を７０℃で１時間撹拌した。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．８（６００ｍｇ、８９．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９６－３．８６（ｍ，１Ｈ），３．３５－３．２５（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．０８（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．３９（ｍ，５Ｈ），１．３８－１．０９（ｍ，９Ｈ），１．０８－０．８０（ｍ，７Ｈ），０．７４（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．９の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の４０．８（６００ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）及びＤＭＰ（１．５１ｇ、３．６ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃で３０分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）中に添加した。水層をＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．９（５００ｍｇ、８４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．９８（ｓ，１Ｈ），２．４０－２．２５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，１２Ｈ），１．５２－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．１５－０．８０（ｍ，８Ｈ），０．７０（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．１０の合成
ＤＣＥ（１０ｍＬ）中の４０．９（５００ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（３２１ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）及びＮａＢＨ３ＣＮ（９４２ｍｇ、１５ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。反応混合物を５０℃で１６時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～９０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．１０（２５０ｍｇ、３９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４５－７．２８（ｍ，５Ｈ），３．９５－３．７５（ｍ，２Ｈ），３．０５－２．９５（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．０６（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．１５（ｍ，１６Ｈ），１．０９－０．８０（ｍ，７Ｈ），０．７４（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
４０．１１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の４０．１０（２５０ｍｇ、０．５９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（５０．０ｍｇ、５０％）を２５℃で添加した。反応混合物をＨ２（５０ｐｓｉ）下、５０℃で４８時間撹拌した。混合物を濾過し、母液を濃縮して、４０．１１（２００ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
４０の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の４０．１１（１５０ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）、Ｅｔ３Ｎ（２２６ｍｇ、２．２４ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（２５６ｍｇ、０．６７ｍｍｏｌ）及び４－シアノ安息香酸（１９７ｍｇ、１．３４ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１００ｍＬ）中に添加した。水層をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ １５０＊３０ｍｍ＊５μｍ、条件：水（０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：７５、終了Ｂ：９５、勾配時間（分）：８．５、１００％Ｂ保持時間（分）：１．５、流速（ｍｌ／分）：２５）によって精製して、４０（１００ｍｇ、粗製）を得た。粗製物をヘキサン（２ｍＬ）で粉砕して、４０（２４．０ｍｇ、２４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８５（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｓ，１Ｈ），３．８０－３．６８（ｍ，１Ｈ），３．２５－３．１５（ｍ，１Ｈ），２．２６（ｄ，Ｊ＝１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．８０（ｍ，１３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４１Ｎ２Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４５．３，実測値４４５．３。
実施例４１：４－シアノ－Ｎ－（（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）オクタデカヒドロクリセン－１－イル）メチル）ベンズアミド（４１）

Figure 2022538301000132
 ４１．３の合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）及びＤＭＳＯ（１００ｍＬ）中のＭｅ３ＳＩ（１１．０ｇ、５４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨ（２．１５ｇ、５４ｍｍｏｌ）をＮ２下、０℃で分割して添加した。混合物を０℃で１時間撹拌した。反応混合物に、ＤＭＳＯ（１００ｍＬ）中４０．２（１３．０ｇ、４５ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。反応混合物を２０℃で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５００ｍＬ）中に注ぎ入れ、３０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（３×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４１．３（１５．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）δＨ ２．６５－２．５４（ｍ，２Ｈ），２．４６－２．３６（ｍ，１Ｈ），２．２８－２．０５（ｍ，３Ｈ），１．９２－１．３２（ｍ，１５Ｈ），１．１８－０．８７（ｍ，６Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ）。
４１．４の合成
無水ＭｅＯＨ（２５０ｍＬ）に、Ｎａ（１１．４ｇ、４９５ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。反応混合物を２０℃で１時間撹拌した。新たに調製したＭｅＯＮａ（４９５ｍｍｏｌ、ＭｅＯＨ中）に、無水ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の４１．３（１５．０ｇ、４９．５ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を７０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を濃縮して、溶媒の大部分を除去した。混合物をＥｔＯＡｃ（２×３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１０～１２％のＥｔＯＡｃ）によって２回精製して、４１．４（６．４０ｇ、３８．７％）を得た。４１．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４４－３．３６（ｍ，５Ｈ），２．５９（ｓ，１Ｈ），２．４５－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．１４－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５３－０．９０（ｍ，１４Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％ ，Ｈ－ＮＭＲに基づく１００％ ｄｅ。Ｃ２１Ｈ３３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１７．３，実測値３１７．３。
４１．５の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のビス（プロパン－２－イル）アミン（９．７３ｇ、９６．２ｍｍｏｌ）の溶液を、－７０℃でｎ－ＢｕＬｉ（３５ｍＬ、８７．５ｍｍｏｌ、２．５Ｍ）を添加した。反応混合物を０℃で２０分間撹拌し、ＬＤＡの溶液を得た。ＬＤＡを、ＴＨＦ（６０ｍＬ）中の４１．４（５．６８ｇ、１６．９ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（９．６２ｇ、８４．４ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で４時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の酢酸（４．８１ｍＬ、８４．４ｍｍｏｌ）を、－７０℃で反応混合物中に添加した。混合物を２０℃まで温め、１６時間撹拌した。水（５００ｍＬ）を反応混合物に添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で蒸発させた。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．５（２．７０ｇ、３５．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３４－４．１９（ｍ，３Ｈ），３．４４－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．６５（ｓ，１Ｈ），２．３０－２．１７（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．６８（ｍ，６Ｈ），１．５４－１．３８（ｍ，８Ｈ），１．３５－１．２８（ｍ，６Ｈ），１．２６－１．０２（ｍ，５Ｈ），０．９８（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．９３－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
４１．６の合成
ＤＭＥ（５０ｍＬ）中の４１．５（３．３０ｇ、７．３５ｍｍｏｌ）及びＲｈ２（ＯＡｃ）４（１００ｍｇ、０．２２６ｍｍｏｌ）の溶液を、４５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４１．６（３．００ｇ、粗製）を得た。粗残渣を次のステップに直接使用した。
４１．７の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）及び水（５ｍＬ）中の４１．６（３．０ｇ、７．１３ｍｍｏｌ）及びＫＯＨ（２．３９ｇ、４２．７ｍｍｏｌ）の溶液を、７５℃で１時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４１．７（１．６０ｇ、粗製）を得た。４１．７（３０．０ｍｇ、粗製）をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．７（１２．０ｇ、４０．１％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４３－３．３４（ｍ，５Ｈ），２．５９－２．４３（ｍ，２Ｈ），２．２３－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．１１－２．０２（ｍ，１Ｈ），２．００－１．９２（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．５８（ｍ，９Ｈ），１．５１－０．８２（ｍ，１４Ｈ），０．６５（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３３１，実測値３３１。
４１．８の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の４１．７（１．５０ｇ、４．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＭＳＣＨ２Ｌｉ（３８．２ｍＬ、２１．４ｍｍｏｌ、０．５６Ｍ）を－３０℃で添加した。混合物を２０℃で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（３０ｍＬ）に溶解した。次いで、ｐ－ＴｓＯＨ（１００ｍｇ）を混合物に添加し、２０℃で１時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．８（２５０ｍｇ、１６．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７５－４．６９（ｍ，１Ｈ），４．５４－４．４８（ｍ，１Ｈ），３．４０－３．３８（ｍ，５Ｈ），２．５４（ｓ，１Ｈ），２．１８－２．００（ｍ，２Ｈ），１．９１－１．６７（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．３０（ｍ，１０Ｈ），１．０５－０．８９（ｍ，５Ｈ），０．５８（ｔ，Ｊ＝７．４ Ｈｚ，３Ｈ）。
４１．９の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の４１．８（３３０ｍｇ、０．９５２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３Ｍｅ２Ｓ（１ｍＬ、１０Ｍ、１０ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。反応混合物を２０℃で１６時間撹拌した。ＥｔＯＨ（５ｍＬ）を反応混合物に２５℃で添加した。次いで、ＮａＯＨ（２．８３ｍＬ、５Ｍ、１４．２ｍｍｏｌ）を、反応混合物に０℃で添加し、続いてＨ２Ｏ２（１．４１ｍＬ、１４．２ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加した。反応混合物を７０℃で１時間撹拌した。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４１．９（４００ｍｇ、粗製）を得た。粗残渣を次のステップに直接使用した。
４１．１０の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の４１．９（４００ｍｇ、１．０９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（９２４ｍｇ、２．１８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４０℃で０．５時間撹拌した。混合物をＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ、飽和）でクエンチし、ＤＣＭ（２×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ、飽和）、ブライン（２００ｍＬ、飽和）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４１．１０（４００ｍｇ、粗製）を得た。粗製物を次のステップに直接使用した。
４１．１１の合成
ＤＣＥ（１０ｍＬ）中の４１．１０（４００ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（２３５ｍｇ、２．２０ｍｍｏｌ）及びＮａＢＨ３ＣＮ（６９１ｍｇ、１１．０ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を５０℃で１６時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～９０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．１１（１５０ｍｇ、３０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．５０－７．３０（ｍ，５Ｈ），４．０８－３．９０（ｍ，２Ｈ），３．４３－３．３２（ｍ，５Ｈ），３．２９－３．２３（ｍ，１Ｈ），３．２１－３．１４（ｍ，１Ｈ），２．５６－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．９６（ｍ，２Ｈ），１．８３－１．５６（ｍ，９Ｈ），１．４６－１．２３（ｍ，１１Ｈ），１．１０－０．８３（ｍ，７Ｈ），０．７２（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
４１．１２の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の４１．１１（１５０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１００ｍｇ、炭素上の１０％パラジウム、＜１％水湿潤）を添加した。反応混合物をＨ２（５０ｐｓｉ）下で２回、５０℃で４８時間撹拌した。混合物を濾過し、母液を濃縮して、４１．１２（１２０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
４１の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の４１．１２（１２０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）、Ｅｔ３Ｎ（１６６ｍｇ、１．６５ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（１８８ｍｇ、０．４９５ｍｍｏｌ）及び４－シアノ安息香酸（１４５ｍｇ、０．９９ｍｍｏｌ）の溶液を、２０℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ １５０＊３０ｍｍ＊５ｕｍ、条件：水（０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：８８、終了Ｂ：８８、勾配時間（分）：８、１００％Ｂ保持時間（分）：２、流速（ｍｌ／分）：３０）によって精製して、４１（１０．０ｍｇ、６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８９－７．８３（ｍ，２Ｈ），７．７７－７．７１（ｍ，２Ｈ），６．０３－５．９４（ｍ，１Ｈ），３．７４－３．６２（ｍ，１Ｈ），３．４４－３．３７（ｍ，５Ｈ），３．２９－３．１７（ｍ，１７．９ Ｈｚ，１Ｈ），２．６０（ｓ，１Ｈ），２．３１－２．２０（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．５８（ｍ，１１Ｈ），１．４７－１．１９（ｍ，９Ｈ），１．０５－０．８４（ｍ，１０Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４０ＮＯ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ３ＣＨＯ－ＨＣＮ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４，実測値４３４。
実施例４２及び４３：４－シアノ－Ｎ－（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４２）及び４－シアノ－Ｎ－（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４３）
Figure 2022538301000133
 ４２．１の合成
ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の１．７（５００ｍｇ、１．５０ｍｍｏｌ）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（８０３ｍｇ、７．５０ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、溶液のｐＨを酢酸（５４０ｍｇ、９．００ｍｍｏｌ）で６に設定した。混合物を１０分間撹拌した。ＮａＢＨ３ＣＮ（１．４１ｇ、２２．５ｍｍｏｌ）を添加し、６５℃に４０時間加熱した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）で処理した。水相をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２．１（５２０ｍｇ、粗製物）を得て、これを次のステップで直接使用した。
４２．２の合成
ＥｔＯＨ（２０ｍＬ）中の４２．１（５００ｍｇ、１．１８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ２でＰｄ－Ｃ（乾燥、５００ｍｇ）を添加した。懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で３回パージした。混合物をＨ２（３０ｐｓｉ）下、２５℃で４８時間撹拌して、懸濁液を得た。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＴＨＦ（３×１０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、粗生成物４２．２（３８０ｍｇ、粗製）を得た。
４２及び４３の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の４２．２（２００ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）及び４－シアノ安息香酸（１３２ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＡＴＵ（４５２ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（１８０ｍｇ、１．７９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２５℃で２時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（３０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物４２．１０（１８０ｍｇ、粗製）を得た。粗生成物をＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）；０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ：３０％；終了Ｂ：３０％；）によって精製し、続いてＭｅＣＮ（３．０ｍＬ）で粉砕して、４２（４６．９ｍｇ）を得た。同様に、粗４３（４０．０ｍｇ）を分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５ｕｍ；条件：水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：８０；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：９；１００％Ｂ保持時間（分）：２）によって精製して、４３（１９．１ｍｇ）を得た。４２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｄ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．７８－４．６６（ｍ，１Ｈ），２．１３－２．０６（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．７９－１．６４（ｍ，５Ｈ），１．５３－１．３４（ｍ，６Ｈ），１．３２－１．１９（ｍ，１１Ｈ），１．１７－０．７９（ｍ，８Ｈ），０．７６（ｓ，３Ｈ）ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４１Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４５．３、実測値４４５．３。４３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），６．０３（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），４．５７－４．４３（ｍ，１Ｈ），２．０４－１．９６（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．８３（ｍ，２Ｈ），１．７７－１．６６（ｍ，４Ｈ），１．５２－１．３６（ｍ，６Ｈ），１．３３－１．２３（ｍ，１１Ｈ），１．１７－１．１３（ｍ，３Ｈ），１．０４－０．８４（ｍ，９Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４１Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４５．３，実測値４４５．３。
実施例４４及び４５：４－フルオロ－Ｎ－（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４４）及び４－フルオロ－Ｎ－（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４５）

Figure 2022538301000134
 ４４．２の合成
ＭｅＯＨ（１５ｍＬ）中の４４．１（１．５ｇ、４．１３ｍｍｏｌ、ＷＯ２０１９／１２６７６１，２０１９，Ａ１で報告されている）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（２．２０ｇ、２０．６ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、溶液のｐＨを酢酸（１．４８ｇ、２４．７ｍｍｏｌ）で６に設定した。混合物を１０分間撹拌した。ＮａＢＨ３ＣＮ（１５．５ｇ、２４７ｍｍｏｌ）を４回添加し、６５℃に７２時間加熱した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）で処理した。水相をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４４．２（１．６ｇ）を粗製物として得、次のステップで直接使用した。
４４．３の合成
ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の４４．２（１．３ｇ、粗製）の溶液に、Ｐｄ－Ｃ（湿潤、１０％、１３０ｍｇ）をＮ２下で添加した。懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で３回パージした。混合物をＨ２（５０ｐｓｉ）下、２５℃で１６時間撹拌して、懸濁液を得た。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＭｅＯＨ（３×３０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して４４．３（７４０ｍｇ、粗製）を得、次のステップで直接使用した。
４４及び４５の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の４４．３（１５０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）及び４－フルオロ安息香酸（８６．６ｍｇ、０．６２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＡＴＵ（３１３ｍｇ、０．８２５ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（１２４ｍｇ、１．２３ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５ｕｍ、勾配：７０～１００％ Ｂ（水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、４４（８．４ｍｇ、４％）及び４５（８．９ｍｇ、４％）を得た。４４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７－７．６４（ｍ，２Ｈ），７．１０（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，１Ｈ），４．６０－４．３５（ｍ，１Ｈ），３．４５－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．００（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．８５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１４．４ Ｈｚ，２Ｈ），１．７８－１．６１（ｍ，５Ｈ），１．５３－１．１８（ｍ，１４Ｈ），１．１３（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．０４－０．８６（ｍ，５Ｈ），０．８５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４４ＦＮＯ３［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４８６．３，実測値４８６．３。４５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７１（ｄｄ，Ｊ＝５．２，５．２ Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），５．８８（ｂｒ ｄ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．８３－４．４５（ｍ，１Ｈ），３．３９（ｓ，５Ｈ），２．１８－２．０７（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．７６（ｍ，３Ｈ），１．７３－１．６４（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．２２（ｍ，９Ｈ），１．１９（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１４－０．８２（ｍ，８Ｈ），０．７６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３０Ｈ４４ＦＮＯ３［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４８６．３，実測値４８６．３。
実施例４６及び４７：４－シアノ－Ｎ－（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４６）及び４－シアノ－Ｎ－（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（４７）

Figure 2022538301000135
 ４６及び４７の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の４４．３（１５０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）及び４－シアノ安息香酸（９１．０ｍｇ、０．６２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＡＴＵ（３１３ｍｇ、０．８２５ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（１２４ｍｇ、１．２３ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離（カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｘｂｒｉｄｇｅ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ、勾配：６０～９０％ Ｂ（水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって分離して、４６（９．３ｍｇ、５％）及び４７（５．６ｍｇ、３％）を得た。４６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），６．０３（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．６３－４．３５（ｍ，１Ｈ），３．４５－３．３５（ｍ，５Ｈ），１．９９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９２－１．７９（ｍ，２Ｈ），１．７７－１．６１（ｍ，５Ｈ），１．５３－１．１８（ｍ，１４Ｈ），１．１５（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，３Ｈ），１．０５－０．８５（ｍ，３Ｈ），０．８５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３１Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７５．３，実測値４７５．３。４７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．７９（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），４．８６－４．５５（ｍ，１Ｈ），３．４５－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．６２－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．０９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．９８－１．６６（ｍ，６Ｈ），１．５１－１．２３（ｍ，１０Ｈ），１．２１（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１８－０．７９（ｍ，９Ｈ），０．７６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３１Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７５．３，実測値４７５．３。
実施例４８及び４９：３－（（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）アミノ）ベンゾニトリル（４８）及び３－（（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）アミノ）ベンゾニトリル（４９）
Figure 2022538301000136
 ４８及び４９の合成
トルエン（１０ｍＬ）中の４２．２（２００ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）、３－ブロモベンゾニトリル（１３０ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）、ＢＩＮＡＰ（７４．５ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）及びＣｓ２ＣＯ３（３８６ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．４ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）をＮ２下で一度に添加した。混合物を１１０℃で１６時間撹拌した。冷却した後、反応混合物をＨ２Ｏ（２０ｍＬ）で希釈した。混合物をＥｔＯＡｃ（３×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、混合物生成物４８及び４９（５０．０ｍｇ、混合物）を得た。得られた残渣を、ＳＦＣ（カラム：ＹＭＣ ＣＨＩＲＡＬ Ａｍｙｌｏｓｅ－Ｃ ２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、１０ｕｍ；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ／ＥＴＯＨ；開始Ｂ：４５；終了Ｂ：４５）によって精製して、４８（１０．０ｍｇ）及び４９（２１．５ｍｇ）を得た。４８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．１８（ｔ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，１Ｈ），６．７６－６．６７（ｍ，２Ｈ），３．９４－３．８４（ｍ，１Ｈ），３．６８（ｄ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９７－１．８３（ｍ，３Ｈ），１．８１－１．５９（ｍ，６Ｈ），１．５１－１．２３（ｍ，１４Ｈ），１．１４－０．８３（ｍ，１０Ｈ），０．７７（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：９９．９２％ ｄｅ；Ｃ２９Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３５．３，実測値４３５．３。４９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．２０（ｔ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，１Ｈ），６．７７－６．７０（ｍ，２Ｈ），３．８３－３．７０（ｍ，２Ｈ），１．９９－１．６２（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３１（ｍ，９Ｈ），１．２９－１．１４（ｍ，９Ｈ），１．１２－０．９２（ｍ，６Ｈ），０．８８－０．８４（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：９９．９０％ ｄｅ；Ｃ２９Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３５．３，実測値４３５．３。
実施例５０及び５１：４－（（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）アミノ）ベンゾニトリル（５０）及び４－（（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）アミノ）ベンゾニトリル（５１）

Figure 2022538301000137
 ５０及び５１の合成
トルエン（５ｍＬ）中の４２．２（１００ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、４－ブロモベンゾニトリル（６５．４ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）、ＢＩＮＡＰ（３７．２ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）及びＣｓ２ＣＯ３（１９４ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．４ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）をＮ２下で一度に添加した。混合物を１１０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（２０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗製物をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって２回精製し、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｘｂｒｉｄｇｅ １５０＊２５ ５ｕ；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７２；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：１０；１００％Ｂ保持時間（分）：１）によってさらに精製して、生成物５０（２４．０ｍｇ）及び生成物５１（１７．０ｍｇ）を得た。５０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．３９（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），６．４９（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，２Ｈ），４．０６－３．８８（ｍ，２Ｈ），１．９７－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．３８（ｍ，４Ｈ），１．３６－１．２３（ｍ，９Ｈ），１．１５－０．８３（ｍ，１０Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；Ｃ２９Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３５．３，実測値４３５．３。５１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４１（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），６．５１（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），４．１４－４．０２（ｍ，１Ｈ），３．９１－３．７６（ｍ，１Ｈ），２．００－１．５８（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．４０（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．１９（ｍ，１１Ｈ），１．１４－０．９３（ｍ，６Ｈ），０．８９－０．８２（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：９９．９４％ ｄｅ；Ｃ２９Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３５．３，実測値４３５．３。
実施例５２及び５３：Ｎ－（（１Ｒ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－（エトキシメチル）－８－ヒドロキシ－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）－２，４－ジフルオロベンズアミド（５２）及びＮ－（（１Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１２ａＳ）－８－（エトキシメチル）－８－ヒドロキシ－１２ａ－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）－２．４－ジフルオロベンズアミド（５３）

Figure 2022538301000138
 ５２．２の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中の５２．１（１．９ｇ、５．０ｍｍｏｌ、ＷＯ２０１９／１２６７６１，２０１９，Ａ１に報告されている）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（２．７ｇ、２５．２ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、溶液のｐＨを酢酸（１．８ｇ、３０．２ｍｍｏｌ）で６に設定した。混合物を１０分間撹拌した。ＮａＢＨ３ＣＮ（４．７ｇ、７５．６ｍｍｏｌ）を添加し、６５℃に１６８時間加熱した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１５０ｍＬ）で処理した。水相をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗生成物をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５２．２（１．５ｇ、６４％）を得た。
５２．３の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５２．２（１．５ｇ、３．２０ｍｍｏｌ）及びＰｄ／Ｃ（２ｇ、炭素上の１０％パラジウム、５０％水湿潤）の溶液に、混合物を５０ｐｓｉの水素下、３０℃で１６時間水素化した。懸濁液をセライトパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＴＨＦ（１００ＭＬ）で洗浄した。合わせた濾液を濃縮乾燥させて、５２．３（１．０ｇ、粗製）を得た。
５２及び５３の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の５２．３（１５０ｍｇ、３９７μｍｏｌ）及び２，４－ジフルオロ安息香酸（９４ｍｇ、５９５μｍｏｌ）の溶液に、ＨＡＴＵ（３０１ｍｇ、７９４μｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（１２０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（３０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。粗生成物をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗製物６０ｍｇを得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５ｕｍ）；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ：４５％；終了Ｂ：４５％；）によって精製して、５２（１６．７ｍｇ、２８％）及び５３（１７．８ｍｇ、３０％）を得た。５２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１６－８．１０（ｍ，１Ｈ），７．０６－６．９４（ｍ，１Ｈ），６．９３－６．７８（ｍ，１Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１２．０ Ｈｚ，１Ｈ），４．５２（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，１Ｈ），３．５８－３．４８（ｍ，２Ｈ），３．４７－３．３６（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｓ，１Ｈ），１．９９（ｄ，Ｊ＝９．２ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．６１（ｍ，７Ｈ），１．５３－１．２７（ｍ，１０Ｈ），１．２５－１．１０（ｍ，９Ｈ），１．０３－０．８６（ｍ，５Ｈ），０．８５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：１００％ ｄｅ，Ｃ３１Ｈ４４Ｆ２ＮＯ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値５００．３，実測値５００．３。５３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１５－５．１０（ｍ，１Ｈ），７．０４－６．９３（ｍ，１Ｈ），６．８５（ｄｄｄ，Ｊ＝２．４，８．６，３．６ Ｈｚ，１Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝９．６，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），４．７３（ｔ，Ｊ＝６．４ Ｈｚ，１Ｈ），３．５３（ｑ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，２Ｈ），３．４２（ｑ，Ｊ＝９．２ Ｈｚ，２Ｈ），２．６８（ｓ，１Ｈ），２．１３－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２２（ｍ，１０Ｈ），１．２１－１．０３（ｍ，７Ｈ），１．０２－０．７９（ｍ，６Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：９９．９８％ ｄｅ；Ｃ３１Ｈ４４Ｆ２ＮＯ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値５００．３，実測値５００．３。
実施例５４：４－シアノ－Ｎ－（（Ｓ）－１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エチル）ベンズアミド（５４）
Figure 2022538301000139
 ５４．１の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の４０．９（４００ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（１．６ｍＬ、エーテル中３Ｍ、４．８ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。反応混合物を２０℃で１時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）でクエンチした。水層をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５４．１（３５０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３０－４．２０（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．１６（ｄ，Ｊ＝６．０ Ｈｚ，３Ｈ），１．１０－０．７０（ｍ，１３Ｈ）。
５４．２の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の５４．１（３５０ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（８４８ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。反応混合物を２０℃で３０分間撹拌した。得られた混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）で処理した。水層をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．２（２００ｍｇ、５８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．１８（ｓ，３Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．１９（ｍ，１５Ｈ），１．１５－０．８０（ｍ，６Ｈ），０．７０（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
５４．３の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の５４．２（２００ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ）の溶液に、１－フェニルメタンアミン（１２３ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）及びＮａＢＨ３ＣＮ（３６２ｍｇ、５．８ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。反応混合物を７０℃で１００時間撹拌した。得られた混合物を水（１００ｍＬ）でクエンチした。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～８０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．３（２５０ｍｇ、９９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４５－７．２８（ｍ，５Ｈ），４．４７－４．４３（ｍ，１Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），３．２５－３．１２（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，１３Ｈ），１．５０－１．１５（ｍ，１３Ｈ），１．１３－０．８３（ｍ，９Ｈ），０．８０－０．７５（ｍ，３Ｈ）。
５４．４の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の５４．３（１５０ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１００ｍｇ、水中１０％）を２５℃で添加した。反応混合物をＨ２（５０ｐｓｉ）下、５０℃で４０時間撹拌した。混合物を濾過し、母液を濃縮して、５４．４（１００ｍｇ、８４％）を得た。
５４の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の５４．４（１５０ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）、Ｅｔ３Ｎ（２１７ｍｇ、２．２ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（３２８ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）及び４－シアノ安息香酸（９５．２ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃で１６時間撹拌した。得られた混合物を水（１００ｍＬ）でクエンチした。水層をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ １５０＊３０ｍｍ＊５μｍ、条件：水（０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：７５、終了Ｂ：１００、勾配時間（分）：８、１００％Ｂ保持時間（分）：２、流速（ｍｌ／分）：２５、注入：８）によって精製して、５４（８０ｍｇ、粗製）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、５μｍ）、条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ、開始Ｂ：２０％、終了Ｂ：２０％）によってさらに精製して、５４（４．４ｍｇ、６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），６．０１（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），４．６５－４．５０（ｍ，１Ｈ），２．４２－２．３５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２９（ｍ，１３Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．１５（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１２－０．８０（ｍ，１０Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，分析的ＳＦＣ：１００％ ｄｅ。Ｃ３１Ｈ４３Ｎ２Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５９．３，実測値４５９．３。
５５及び５６の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の４４．３（２９０ｍｇ、０．８０ｍｍｏｌ）及び４－シアノ－２－フルオロベンズ（１９６ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＡＴＵ（６０４ｍｇ、１．５９ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（２４１ｍｇ、２．３９ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、得られた混合物を水（２０ｍＬ）でクエンチし、２０分間撹拌した。水相をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＨＰＬＣ分離によって精製した（カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｘｂｒｉｄｇｅ １５０＊２５ ５ｕｍ、勾配：７０～１００％ Ｂ（水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ）、流速：２５ｍＬ／分）によって精製して、５６（１６ｍｇ、粗製）及び５５（１４．０ｍｇ、粗製）を得た。化合物５６（１６ｍｇ、粗製）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６（８．３ｍｇ、２％）を得た。化合物５５（１４．０ｍｇ）をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、５５（４．６ｍｇ、１％）を得た。５５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．２２（ｔ，Ｊ＝７．８ Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．４ Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄｄ，Ｊ＝１．２，１０．８ Ｈｚ，１Ｈ），６．９０－６．４３（ｍ，１Ｈ），４．５２（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．４５－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．５３（ｓ，１Ｈ），２．１０－１．９３（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．６５（ｍ，９Ｈ），１．５０－１．１９（ｍ，１３Ｈ），１．１５（ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．０３－０．８８（ｍ，５Ｈ），０．８５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３１Ｈ４２ＦＮ２Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４９３．３，実測値４９３．３。５６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．２２（ｔ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．４ Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄｄ，Ｊ＝１．２，１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），６．７３－６．５６（ｍ，１Ｈ），４．７３（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ，１Ｈ），３．４５－３．３５（ｍ，５Ｈ），２．５８（ｓ，１Ｈ），２．１１－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．７６（ｍ，２Ｈ），１．６９－１．４７（ｍ，５Ｈ），１．４６－１．２３（ｍ，１３Ｈ），１．１５－０．８０（ｍ，８Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ３１Ｈ４２ＦＮ２Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４９３．３，実測値４９３．３。
ＴＢＰＳ結合のステロイド阻害
５ｍＭ ＧＡＢＡの存在下でのラット脳皮質膜を使用した［３５Ｓ］－ｔ－ブチルビシクロホスホロチオネート（ＴＢＰＳ）結合アッセイが記載されている（Ｇｅｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．１９８７，２４１，３４６－３５３、Ｈａｗｋｉｎｓｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｍｏｌ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９９４，４６，９７７－９８５、Ｌｅｗｉｎ，Ａ．Ｈ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９８９，３５，１８９－１９４）。
簡潔には、二酸化炭素で麻酔したＳｐｒａｇｕｅ－Ｄａｗｌｅｙラット（２００～２５０ｇ）の断頭後、皮質を迅速に除去する。ガラス／テフロン（登録商標）均質化剤を使用して、１０体積の氷冷０．３２Ｍスクロース中で皮質を均質化し、１５００×ｇで１０分間、４℃で遠心分離する。得られた上清を１０，０００×ｇで２０分間、４℃で遠心分離して、Ｐ２ペレットを得る。Ｐ２ペレットを２００ｍＭ ＮａＣｌ／５０ｍＭ Ｎａ－Ｋリン酸塩ｐＨ７．４緩衝液に再懸濁し、１０，０００×ｇで１０分間、４℃で遠心分離する。この洗浄手順を２回繰り返し、ペレットを１０体積の緩衝液中に再懸濁する。膜懸濁液のアリコート（１００ｍＬ）を、５ｍＭ ＧＡＢＡの存在下、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（最終的に０．５％）中に溶解させた３ｎＭ［３５Ｓ］－ＴＢＰＳ及び５ｍＬアリコートの試験薬でインキュベートする。インキュベーションを緩衝液で最終体積１．０ｍＬにする。非特異的結合は、２ｍＭの非標識ＴＢＰＳの存在下で決定され、１５～２５％の範囲であった。室温での９０分間のインキュベーション後、細胞収穫機（Ｂｒａｎｄｅｌ）を使用してガラス繊維フィルター（Ｓｃｈｌｅｉｃｈｅｒ及びＳｃｈｕｅｌｌ Ｎｏ．３２）を通して濾過することによってアッセイを終了し、氷冷緩衝液で３回すすぐ。フィルター結合放射能は、液体シンチレーション分光法によって測定される。それぞれの濃度について平均化されたそれぞれの薬物の全体データの非線形曲線適合を、Ｐｒｉｓｍ（ＧｒａｐｈＰａｄ）を使用して行う。データは、二乗の和がＦ検定によって有意に低い場合、完全阻害モデルの代わりに部分的に適合する。同様に、データは、二乗の和がＦ検定によって有意に低い場合、１つの成分阻害モデルの代わりに２つの成分に適合する。特異的結合の５０％阻害（ＩＣ５０）をもたらす試験化合物の濃度及び阻害の最大範囲（Ｉｍａｘ）を、全体データに使用される同じモデルを用いた個々の実験について決定し、次いで、個々の実験の平均＋ＳＥＭを計算する。ピクロトキシンは、ＴＢＰＳ結合を堅牢に阻害することが示されているため、これらの研究の陽性対照として機能する。
様々な化合物をスクリーニングして、インビトロでの［３５Ｓ］－ＴＢＰＳ結合の調節因子としてのそれらの可能性を決定することができる。これらのアッセイは、上記に従って行うか、または行うことができる。
以下の表２において、Ａは、ＴＢＰＳ ＩＣ５０＜０．１μＭを示し、Ｂは、０．１μＭ～１．０μＭ未満のＴＢＰＳ ＩＣ５０（μＭ）を示し、Ｃは、≧１．０μＭのＴＢＰＳ ＩＣ５０（μＭ）を示す。
Figure 2022538301000140
Figure 2022538301000141
Figure 2022538301000142
Figure 2022538301000143
Figure 2022538301000144
Figure 2022538301000145
Figure 2022538301000146
Figure 2022538301000147
Figure 2022538301000148
Figure 2022538301000149
Figure 2022538301000150
Figure 2022538301000151
Figure 2022538301000152
等価物及び範囲
特許請求の範囲では、「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」などの冠詞は、反対の指示がない限り、または別途文脈から明らかでない限り、１つまたは複数を意味し得る。群の１つ以上の要素間に「または」を含む特許請求の範囲または説明は、反対の指示がない限り、または別途文脈から明らかでない限り、群の要素のうちの１つ、２つ以上、またはすべてが、所与の生成物またはプロセスに存在する、用いられる、またはそうでなければ関連する場合に満たされると考えられる。本発明は、群の正確な１つの要素が、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、用いられるか、またはそうでなければ関連している実施形態を含む。本発明は、群の要素のうちの２つ以上またはすべてが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、用いられるか、またはそうでなければ関連している実施形態を含む。
さらに、本発明は、列挙された特許請求の範囲のうちの１つ以上からの１つ以上の制限、要素、節、及び記述用語が別の特許請求の範囲に導入されるすべての変形、組み合わせ、及び順列を包含する。例えば、別の特許請求の範囲に従属する任意の特許請求の範囲は、同一の基本の特許請求の範囲に従属する任意の他の特許請求の範囲に見出される１つ以上の制限を含むように修正され得る。要素が、一覧として、例えば、Ｍａｒｋｕｓｈ群形式で提示される場合、要素のそれぞれの亜群も開示され、いずれの要素（複数可）もこの群から除去され得る。一般に、本発明、または本発明の態様が特定の要素及び／または特徴を含むと称される場合、本発明のある特定の実施形態または本発明の態様は、そのような要素及び／または特徴からなるか、または本質的になることが理解されるべきである。簡潔さを目的として、それらの実施形態は、本明細書で具体的に逐語的には記載されていない。「含むこと」及び「含有すること」という用語は、開放的であるように意図され、追加の要素またはステップの包含を許容することもまた留意されたい。範囲が与えられている場合、端点を含む。さらに、別途示されるか、またはそうでなければ文脈及び当業者の理解から明白でない限り、範囲として表される値は、文脈が別途明確に指示しない限り、範囲の下限の単位の１０分の１まで、本発明の異なる実施形態の規定された範囲内の任意の特定の値または部分範囲を推定することができる。
この出願は、様々な発行された特許、公開された特許出願、ジャーナル記事、及び他の刊行物を指し、これらのすべては参照により本明細書に組み込まれる。組み込まれた参考文献のうちのいずれかと本明細書との間に矛盾がある場合は、本明細書を優先するものとする。その上、先行技術範囲内の本発明の任意の特定の実施形態は、特許請求の範囲のうちのいずれか１つ以上から明らかに除外され得る。そのような実施形態は、当業者に既知であるとみなされるため、除外が本明細書に明示的に記載されていない場合でも除外され得る。本発明のいずれの特定の実施形態も、先行技術の存在に関連するかどうかに関わらず、あらゆる理由により、任意の特許請求の範囲から除外され得る。
当業者は、ほんの日常的な実験を使用して、本明細書に記載される特定の実施形態に対する多くの等価物を認識するか、または確認することができるであろう。本発明に記載される本実施形態の範囲は、上記説明に限定されるように意図されるものではなく、むしろ添付の特許請求の範囲に記載されるとおりである。以下の特許請求の範囲に定義されるように、この説明への様々な変化及び修正は、本発明の趣旨または範囲から逸脱することなく行われ得ることが当業者に明らかとなるであろう。

Claims (30)

  1. 式Ｉの化合物：
    Figure 2022538301000153
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000154
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000155
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    ｔが、２または３である、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  2. 前記化合物が、式ＩＶの化合物：
    Figure 2022538301000156
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の化合物。
  3. 前記化合物が、式ＩＶａの化合物：
    Figure 2022538301000157
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の化合物。
  4. 前記化合物が、式ＩＶｂの化合物：

    Figure 2022538301000158
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の化合物。
  5. 前記化合物が、式ＩＶｃの化合物：
    Figure 2022538301000159
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の化合物。
  6. 前記化合物が、式ＩＶｄの化合物：
    Figure 2022538301000160
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１に記載の化合物。
  7. 式ＩＩの化合物：

    Figure 2022538301000161
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000162
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000163
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであるが、
    但し、Ｒ５がＨである場合、Ｒ１８が－ＣＨ３または－ＣＨ２ＣＨ３ではないことを条件とする、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  8. 前記化合物が、式ＩＩＩａもしくは式ＩＩＩｂの化合物：
    Figure 2022538301000164
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項３に記載の化合物。
  9. 式Ｖの化合物：
    Figure 2022538301000165
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000166
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000167
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  10. 式ＶＩａもしくはＶＩｂの化合物：
    Figure 2022538301000168
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000169
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000170
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    ｒが、２または３である、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  11. 前記化合物が、式ＶＩｃもしくは式ＶＩｄの化合物：
    Figure 2022538301000171
     またはその薬学的に許容される塩である、請求項１０に記載の化合物。
  12. 式ＶＩＩの化合物：
    Figure 2022538301000172
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000173
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000174
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  13. 式ＶＩＩＩの化合物：
    Figure 2022538301000175
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000176
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000177
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    ｓが、２である、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  14. 式ＩＸの化合物：
    Figure 2022538301000178
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000179
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  15. 式Ｘの化合物：
    Figure 2022538301000180
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538301000181
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在せず、かつＲ５が存在しないことを条件とし、
    Ｌが、
    Figure 2022538301000182
     からなる群から選択され、Ａが、Ｃ１７における結合点を示し、
    Ｘが、－Ｎ（Ｒ５５ａ）（Ｒ５５ｂ）または－Ｎ（Ｒ５５ｂ）Ｃ（Ｏ）（Ｒ５５ａ）のいずれかであり、
    Ｒ５５ａ及びＲ５５ｂが、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、あるいはＲ５５ａ及びＲ５５ｂが前記介在原子と接合して、置換もしくは非置換の複素環式環または置換もしくは非置換ヘテロアリールを形成することができ、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が前記介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換ヘテロシリルもしくはヘテロアリール環を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が前記介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    ｑが、２である、前記化合物、またはその薬学的に許容される塩。
  16. Ｒ１ａ及びＲ１ｂが、両方とも水素である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の化合物。
  17. Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂが、水素である、請求項１～１６のいずれか１項に記載の化合物。
  18. Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～１７のいずれか１項に記載の化合物。
  19. Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、または置換もしくは非置換カルボシクリルである、請求項１～１８のいずれか１項に記載の化合物。
  20. Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～１９のいずれか１項に記載の化合物。
  21. Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、両方とも水素である、請求項１～２０のいずれか１項に記載の化合物。
  22. Ｒ３が、メチル、エチル、プロピル、－ＣＨ２ＯＣＨ３または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である、請求項１～２１のいずれか１項に記載の化合物。
  23. Ｒ１８が、メチルまたはエチルである、請求項１～２２のいずれか１項に記載の化合物。
  24. Ｒ１９が、メチルまたはエチルである、請求項１～２３のいずれか１項に記載の化合物。
  25. Ｒ１９が、水素である、請求項１～２４のいずれか１項に記載の化合物。
  26. Ｒ５が、アルファまたはベータ構造の水素である、請求項１～２５のいずれか１項に記載の化合物。
  27. 前記化合物が、
    Figure 2022538301000183
    Figure 2022538301000184
    Figure 2022538301000185
    Figure 2022538301000186
    Figure 2022538301000187
    Figure 2022538301000188
     またはその薬学的に許容される塩からなる群から選択される、請求項１～２６のいずれか１項に記載の化合物。
  28. 請求項１～２７のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む、薬学的組成物。
  29. ＧＡＢＡＡ受容体の調節を必要とする対象においてそれを行う方法であって、前記対象に、治療有効量の請求項１～２７のいずれか１項に記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または請求項２８に記載の薬学的組成物を投与することを含む、前記方法。
  30. ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法であって、前記対象に、有効量の請求項１～２７のいずれか１項に記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または請求項２８に記載の薬学的組成物を投与することを含む、前記方法。
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