JP2022538300A - Ｃｎｓ障害を治療するための組成物及び方法 - Google Patents

Ｃｎｓ障害を治療するための組成物及び方法 Download PDF

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Abstract

本明細書では、式（１－Ｉ）の化合物、JPEG2022538300000478.jpg47165またはその薬学的に許容される塩が提供され、式中、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ５、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１９、Ｒ１８、Ｘ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕ、及びｎは、本明細書で定義される。また、本明細書では、式（１－Ｉ）の化合物を含む薬学的組成物、及び例えば、ＣＮＳ関連障害の治療における化合物の使用方法を提供する。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１９年６月２７日に出願された米国仮出願第６２／８６７，６４６号、２０１９年６月２７日に出願された同第６２／８６７，６５７号、２０１９年６月２７日に出願された同第６２／８６７，６６２号の利益及び優先権を主張するものであり、そのそれぞれの内容は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
脳の興奮性は、昏睡からけいれんまでの範囲の連続体である動物の興奮のレベルとして定義され、様々な神経伝達物質によって調節される。一般に、神経伝達物質は、神経細胞膜にわたるイオンの伝導を調節する役割を担う。安静時に、ニューロン膜は、およそ－７０ｍＶの電位（または膜電圧）を有し、細胞内部は、細胞外部に対して負である。電位（電圧）は、ニューロン半透過性膜にわたるイオン（Ｋ＋、Ｎａ＋、Ｃｌ－、有機アニオン）バランスの結果である。神経伝達物質は、シナプス前小胞に貯蔵され、神経細胞の活動電位の影響下で放出される。シナプス間隙に放出されると、アセチルコリンなどの興奮性化学トランスミッターが膜の脱分極を引き起こす（電位の変化は、－７０ｍＶ～－５０ｍＶで起こる）。この効果は、アセチルコリンによって刺激されてＮａ＋イオンに対する膜透過性を増加させるシナプス後ニコチン性受容体によって媒介される。膜電位の低下は、シナプス後活動電位の形態で神経細胞の興奮性を刺激する。
ＧＡＢＡ受容体複合体（ＧＲＣ）の場合、脳興奮性への影響は、神経伝達物質であるγ－アミノ酪酸（ＧＡＢＡ）によって媒介される。ＧＡＢＡは、脳内の最大４０％のニューロンが神経伝達物質としてＧＡＢＡを利用するため、脳全体の興奮性に深い影響を与える。ＧＡＢＡは、ニューロン膜を横断する塩化物イオンのコンダクタンスを調節することによって、個々のニューロンの興奮性を調節する。ＧＡＢＡは、ＧＲＣ上のその認識部位と相互作用して、ＧＲＣの電気化学的勾配を下って細胞に流れる塩化物イオンを促進する。このアニオンのレベルの細胞内増加は、膜貫通電位の超分極を引き起こし、ニューロンが興奮性入力、すなわち、ニューロン興奮性の低下に影響を受けにくくする。言い換えれば、ニューロン内の塩化物イオン濃度が高いほど、脳の興奮性及び覚醒水準が低下する。
ＧＲＣが、不安、発作活動、及び鎮静の媒介を担っていることは十分に文書化されている。したがって、ＧＡＢＡ及びＧＡＢＡのように作用するか、またはＧＡＢＡの効果を促進する薬物（例えば、治療上有用なバルビツール酸塩及びベンゾジアゼピン（ＢＺ）、例えば、Ｖａｌｉｕｍ（登録商標））は、ＧＲＣ上の特定の調節部位と相互作用することによって、それらの治療上有用な効果をもたらす。現在、蓄積された証拠により、ベンゾジアゼピン及びバルビツール酸塩の結合部位に加えて、ＧＲＣは、神経活性ステロイドのための別個の部位を含有することが示された。例えば、Ｌａｎ，Ｎ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｎｅｕｒｏｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．（１９９１）１６：３４７－３５６を参照されたい。
神経活性ステロイドは、内因的に起こり得る。最も強力な内因性神経活性ステロイドは、３α－ヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オン及び３α－２１－ジヒドロキシ－５－還元型プレグナン－２０－オンであり、それぞれホルモン性ステロイドのプロゲステロン及びデオキシコルチコステロンの代謝産物である。これらのステロイド代謝産物が脳の興奮性を変化させる能力は、１９８６年に認識された（Ｍａｊｅｗｓｋａ，Ｍ．Ｄ．ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ ２３２：１００４－１００７（１９８６）、Ｈａｒｒｉｓｏｎ，Ｎ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２４１：３４６－３５３（１９８７）を参照）。
脳興奮性のための調節剤、ならびにＣＮＳ関連疾患の予防及び治療のための薬剤として機能する、新しく改良された化合物が必要である。本明細書に記載の化合物、組成物、及び方法は、この目的に向けられる。
Ｌａｎ，Ｎ．Ｃ．ｅｔ ａｌ．，Ｎｅｕｒｏｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．（１９９１）１６：３４７－３５６ Ｍａｊｅｗｓｋａ，Ｍ．Ｄ．ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ ２３２：１００４－１００７（１９８６） Ｈａｒｒｉｓｏｎ，Ｎ．Ｌ．ｅｔ ａｌ．，Ｊ Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２４１：３４６－３５３（１９８７）
本明細書では、例えば、ＧＡＢＡ調節物質として作用するように設計された化合物が提供される。いくつかの実施形態において、そのような化合物は、ＣＮＳ関連障害を治療するための治療薬として有用であることが想定される。
ある態様において、本明細書では、式（１－Ｉ）の化合物：
Figure 2022538300000002
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000003
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000004
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000005
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000006
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000007
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000008
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩＩ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000009
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000010
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＶ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000011
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＶ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000012
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＶ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000013
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＶ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000014
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｖ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000015
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｖ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000016
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000017
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000018
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000019
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000020
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000021
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000022
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＸ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000023
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＸ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000024
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＸ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000025
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＸ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000026
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｘ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000027
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｘ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000028
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｘ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000029
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｘ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000030
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000031
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000032
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000033
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000034
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000035
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000036
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000037
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000038
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＶ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000039
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＶ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000040
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある態様において、本明細書では、式２－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000041
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉａもしくは式２－Ｉｂの化合物：
Figure 2022538300000042
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉａａもしくは式２－Ｉａｂの化合物：
Figure 2022538300000043
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＩＩの化合物：
Figure 2022538300000044
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＩの化合物は、式２－ＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000045
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000046
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＩＩの化合物は、式２－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000047
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある特定の実施形態において、本明細書では、式２－ＩＶａもしくは式２－ＩＶｂの化合物：
Figure 2022538300000048
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＶの化合物は、式２－ＩＶａａもしくは式２－ＩＶｂａの化合物：
Figure 2022538300000049
 またはその薬学的に許容される塩である。
実施形態において、本明細書では、式２－Ｖの化合物：
Figure 2022538300000050
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－Ｖの化合物は、式２－Ｖａの化合物：
Figure 2022538300000051
 またはその薬学的に許容される塩である。
実施形態において、本明細書では、式２－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000052
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－ＶＩの化合物は、式２－ＶＩａの化合物：
Figure 2022538300000053
 またはその薬学的に許容される塩である。
実施形態において、本明細書では、式２－ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000054
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式２－ＶＩＩの化合物は、式２－ＶＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000055
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある態様において、本明細書では、式３－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000056
 またはその薬学的に許容される塩が提供される。
いくつかの実施形態において、式３－Ｉの化合物は、式３－ＩＩａもしくは式３－ＩＩｂの化合物：
Figure 2022538300000057
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000058
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＶの化合物：
Figure 2022538300000059
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式Ｖａもしくは式３－Ｖｂの化合物：
Figure 2022538300000060
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000061
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000062
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000063
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＸの化合物：
Figure 2022538300000064
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－Ｉａの化合物：
Figure 2022538300000065
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＩａａもしくは式３－ＩＩｂａの化合物：
Figure 2022538300000066
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000067
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＶａの化合物：
Figure 2022538300000068
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－Ｖａｃもしくは式３－Ｖａｃｃの化合物：
Figure 2022538300000069
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000070
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000071
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＶＩＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000072
 またはその薬学的に許容される塩。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＸａｃの化合物：
Figure 2022538300000073
 またはその薬学的に許容される塩。
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式（１－Ｉ）の化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法は、有効量の本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を対象に投与することを含む。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
いくつかの実施形態において、化合物は、本明細書の表１～３に特定される化合物からなる群から選択される。
本明細書に記載の本発明の化合物は、ある特定の実施形態において、ＧＡＢＡ調節剤として機能し、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体を陽性または陰性のいずれかの方法で作用させる。中枢神経系（ＣＮＳ）の興奮性の調節因子として、ＧＡＢＡＡ受容体を調節するそれらの能力によって媒介されるように、そのような化合物は、ＣＮＳ活性を有すると予想される。
したがって、別の態様において、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、ＣＮＳ関連障害を必要とする対象においてそれを行う方法が提供される。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に、皮下的に、静脈内に、または筋肉内に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、例えば、連続静脈内注入によって連続的に投与される。
概して本明細書に記載されるように、本発明は、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体調節物質として機能するように設計された化合物を提供する。ある特定の実施形態において、そのような化合物は、ＣＮＳ関連障害（例えば、本明細書に記載される障害、例えば、産後うつ病または大うつ病性障害などのうつ病）を治療するための治療剤として有用であることが想定される。
定義
化学的定義
特定の官能基及び化学用語の定義は、以下でより詳細に記載される。化学元素は、元素の周期表、ＣＡＳ版、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ，７５ｔｈ Ｅｄ．の見返しに従って特定され、特定の官能基は、一般に本明細書に記載されるとおり定義される。追加的に、有機化学の一般原則、ならびに特定の官能部分及び反応性は、Ｔｈｏｍａｓ Ｓｏｒｒｅｌｌ，Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｂｏｏｋｓ，Ｓａｕｓａｌｉｔｏ，１９９９、Ｓｍｉｔｈ ａｎｄ Ｍａｒｃｈ，Ｍａｒｃｈ’ｓ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，２００１、Ｌａｒｏｃｋ，Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８９、及びＣａｒｒｕｔｈｅｒｓ，Ｓｏｍｅ Ｍｏｄｅｒｎ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ，１９８７に記載されている。
異性体、例えば、立体異性体は、キラル高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）ならびにキラル塩の形成及び結晶化を含む、当業者に既知の方法によって、混合物から単離され得るか、または好ましい異性体は、非対称合成によって調製され得る。例えば、Ｊａｃｑｕｅｓ ｅｔ ａｌ．，Ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｓ，Ｒａｃｅｍａｔｅｓ ａｎｄ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９８１）、Ｗｉｌｅｎ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ３３：２７２５（１９７７）、Ｅｌｉｅｌ，Ｓｔｅｒｅｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｃａｒｂｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（ＭｃＧｒａｗ－Ｈｉｌｌ，ＮＹ，１９６２）、及びＷｉｌｅｎ，Ｔａｂｌｅｓ ｏｆ Ｒｅｓｏｌｖｉｎｇ Ａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎｓ ｐ．２６８（Ｅ．Ｌ．Ｅｌｉｅｌ，Ｅｄ．，Ｕｎｉｖ．ｏｆ Ｎｏｔｒｅ Ｄａｍｅ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｏｔｒｅ Ｄａｍｅ，ＩＮ １９７２）を参照されたい。本発明は、追加的に、他の異性体を実質的に含まない個々の異性体として、かつ代替的に、様々な異性体の混合物として、本明細書に記載の化合物を包含する。
「立体異性体」：また同一の分子式を有するが、それらの原子の結合の性質もしくは配列または空間におけるそれらの原子の配置が異なる化合物は、「異性体」と呼ばれることを理解されたい。空間におけるそれらの原子の配置が異なる異性体は、「立体異性体」と呼ばれる。互いの鏡像ではない立体異性体は、「ジアステレオマー」と呼ばれ、互いの重畳可能でない鏡像である立体異性体は、「エナンチオマー」と呼ばれる。化合物が不斉中心を有する場合、例えば、化合物が４つの異なる基に結合している場合、一対のエナンチオマーが可能である。エナンチオマーは、その不斉中心の絶対配置を特徴とすることができ、Ｃａｈｎ及びＰｒｅｌｏｇのＲ－及びＳ－配列決定規則によって、または分子が偏光平面を回転させ、右旋性もしくは左旋性として（すなわち、それぞれ（＋）または（－）－異性体として）指定される方法によって説明される。キラル化合物は、個々のエナンチオマーとして、またはそれらの混合物として存在し得る。等比率のエナンチオマーを含有する混合物は、「ラセミ混合物」と呼ばれる。
本明細書で使用される場合、純粋なエナンチオマー化合物は、化合物の他のエナンチオマーまたは立体異性体を実質的に含まない（すなわち、エナンチオマー過剰にある）。言い換えれば、「Ｓ」形態の化合物は、「Ｒ」形態の化合物を実質的に含まず、したがって、エナンチオマー過剰の「Ｒ」形態である。「エナンチオマー的に純粋な」または「純粋なエナンチオマー」という用語は、化合物が、７５重量％超、８０重量％超、８５重量％超、９０重量％超、９１重量％超、９２重量％超、９３重量％超、９４重量％超、９５重量％超、９６重量％超、９７重量％超、９８重量％超、９８．５重量％超、９９重量％超、９９．２重量％超、９９．５重量％超、９９．６重量％超、９９．７重量％超、９９．８重量％超、または９９．９重量％超のエナンチオマーを含むことを意味する。ある特定の実施形態において、重量は、化合物のすべてのエナンチオマーまたは立体異性体の総重量に基づく。
本明細書に提供される組成物では、エナンチオマー的に純粋な化合物は、他の活性または不活性成分と共に存在し得る。例えば、エナンチオマー的に純粋なＲ位置／中心／炭素化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤及び約１０％のエナンチオマー的に純粋なＲ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物中のエナンチオマー的に純粋なＲ化合物は、例えば、化合物の総重量で、少なくとも約９５重量％のＲ化合物及び多くて約５重量％のＳ化合物を含み得る。例えば、エナンチオマー的に純粋なＳ化合物を含む薬学的組成物は、例えば、約９０％の賦形剤及び約１０％のエナンチオマー的に純粋なＳ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、そのような組成物中のエナンチオマー的に純粋なＳ化合物は、例えば、化合物の総重量で、少なくとも約９５重量％のＳ化合物、及び多くて約５重量％のＲ化合物を含み得る。ある特定の実施形態において、活性成分は、賦形剤または担体をほとんどまたは全く有しないで製剤化され得る。
「ジアステレオマー的に純粋な」という用語は、化合物が、７５重量％超、８０重量％超、８５重量％超、９０重量％超、９１重量％超、９２重量％超、９３重量％超、９４重量％超、９５重量％超、９６重量％超、９７重量％超、９８重量％超、９８．５重量％超、９９重量％超、９９．２重量％超、９９．５重量％超、９９．６重量％超、９９．７重量％超、９９．８重量％超、または９９．９重量％超の単一のジアステレオマーを含むことを意味する。ジアステレオマー及びエナンチオマーの純度を判定するための方法は、当該技術分野において周知である。ジアステレオマー純度は、化合物とそのジアステレオマーとを定量的に区別することができる任意の分析方法、例えば、高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）によって決定することができる。
冠詞「ａ」及び「ａｎ」は、冠詞の文法上の目的語のうちの１つまたは２つ以上（すなわち、少なくとも１つ）を指すために本明細書で使用され得る。例として、「類似体」は、１つの類似体または２つ以上の類似体を意味する。
値の範囲が列挙される際、範囲内のそれぞれの値及び部分範囲を包含することが意図される。例えば、「Ｃ１～６アルキル」は、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５、Ｃ６、Ｃ１～６、Ｃ１～５、Ｃ１～４、Ｃ１～３、Ｃ１～２、Ｃ２～６、Ｃ２～５、Ｃ２～４、Ｃ２～３、Ｃ３～６、Ｃ３～５、Ｃ３～４、Ｃ４～６、Ｃ４～５、及びＣ５～６アルキルを包含することが意図される。
以下の用語は、以下に提示される意味を有するように意図され、本発明の説明及び意図される範囲を理解するのに有用である。
「アルキル」は、１～２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐飽和炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ１～２０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ１～１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～９個の炭素原子を有する（「Ｃ１～９アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～８個の炭素原子を有する（「Ｃ１～８アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～７個の炭素原子を有する（「Ｃ１～７アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～６個の炭素原子を有する（「Ｃ１～６アルキル」、本明細書では「下位アルキル」とも称される）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～５個の炭素原子を有する（「Ｃ１～５アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～４個の炭素原子を有する（「Ｃ１～４アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～３個の炭素原子を有する（「Ｃ１～３アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１～２個の炭素原子を有する（「Ｃ１～２アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、１個の炭素原子を有する（「Ｃ１アルキル」）。いくつかの実施形態において、アルキル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキル」）。Ｃ１～６アルキル基の例としては、メチル（Ｃ１）、エチル（Ｃ２）、ｎ－プロピル（Ｃ３）、イソプロピル（Ｃ３）、ｎ－ブチル（Ｃ４）、三級ブチル（Ｃ４）、ｓｅｃ－ブチル（Ｃ４）、イソ－ブチル（Ｃ４）、ｎ－ペンチル（Ｃ５）、３－ペンタニル（Ｃ５）、アミル（Ｃ５）、ネオペンチル（Ｃ５）、３－メチル－２－ブタニル（Ｃ５）、三級アミル（Ｃ５）、及びｎ－ヘキシル（Ｃ６）が挙げられる。アルキル基の追加の例としては、ｎ－ヘプチル（Ｃ７）、ｎ－オクチル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルキル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルキル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルキル」）。ある特定の実施形態において、アルキル基は、非置換Ｃ１～１０アルキル（例えば、－ＣＨ３）である。ある特定の実施形態において、アルキル基は、置換Ｃ１～１０アルキルである。一般的なアルキルの略称としては、Ｍｅ（－ＣＨ３）、Ｅｔ（－ＣＨ２ＣＨ３）、ｉＰｒ（－ＣＨ（ＣＨ３）２）、ｎＰｒ（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｎ－Ｂｕ（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、またはｉ－Ｂｕ（－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）が挙げられる。
「アルキレン」は、２つの水素が除去されて二価ラジカルを提供し、置換または非置換であり得るアルキル基を指す。非置換アルキレン基としては、メチレン（－ＣＨ２－）、エチレン（－ＣＨ２ＣＨ２－）、プロピレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ブチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ペンチレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）、ヘキシレン（－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－）などが挙げられるが、これらに限定されない。例えば、１つ以上のアルキル（メチル）基で置換された例示的な置換アルキレン基としては、置換メチレン（－ＣＨ（ＣＨ３）－、（－Ｃ（ＣＨ３）２－）、置換エチレン（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－）、置換プロピレン（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－）などが挙げられるが、これらに限定されない。炭素の範囲または数が特定のアルキレン基に提供される場合、範囲または数は、直鎖炭素二価鎖中の炭素の範囲または数を指すことを理解されたい。アルキレン基は、本明細書に記載の１つ以上の置換基で置換されるか、または非置換であり得る。
「アルケニル」は、２～２０個の炭素原子、１つ以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素二重結合）、及び任意選択で１つ以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素三重結合）を有する直鎖または分岐炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２～２０アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルケニルは、いかなる三重結合も含まない。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルケニル」）。いくつかの実施形態において、アルケニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルケニル」）。１つ以上の炭素－炭素二重結合は、内部（２－ブテニルなど）または末端（１－ブテニルなど）であり得る。Ｃ２～４アルケニル基の例としては、エテニル（Ｃ２）、１－プロペニル（Ｃ３）、２－プロペニル（Ｃ３）、１－ブテニル（Ｃ４）、２－ブテニル（Ｃ４）、ブタジエニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２～６アルケニル基の例としては、前述のＣ２～４アルケニル基、同様にペンテニル（Ｃ５）、ペンタジエニル（Ｃ５）、ヘキセニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルケニルの追加の例としては、ヘプテニル（Ｃ７）、オクテニル（Ｃ８）、オクタトリエニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルケニル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルケニル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、非置換Ｃ２～１０アルケニルである。ある特定の実施形態において、アルケニル基は、置換Ｃ２～１０アルケニルである。
「アルキニル」は、２～２０個の炭素原子、１つ以上の炭素－炭素三重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素三重結合）、及び任意選択で１つ以上の炭素－炭素二重結合（例えば、１、２、３、もしくは４つの炭素－炭素二重結合）を有する直鎖または分岐炭化水素基のラジカルを指す（「Ｃ２～２０アルキニル」）。ある特定の実施形態において、アルキニルは、いかなる二重結合も含まない。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～１０個の炭素原子を有する（「Ｃ２～１０アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～９個の炭素原子を有する（「Ｃ２～９アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～８個の炭素原子を有する（「Ｃ２～８アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～７個の炭素原子を有する（「Ｃ２～７アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～６個の炭素原子を有する（「Ｃ２～６アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～５個の炭素原子を有する（「Ｃ２～５アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～４個の炭素原子を有する（「Ｃ２～４アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２～３個の炭素原子を有する（「Ｃ２～３アルキニル」）。いくつかの実施形態において、アルキニル基は、２個の炭素原子を有する（「Ｃ２アルキニル」）。１つ以上の炭素－炭素三重結合は、内部（２－ブチニルなど）または末端（１－ブチニルなど）であり得る。Ｃ２～４アルキニル基の例としては、限定なく、エチニル（Ｃ２）、１－プロピニル（Ｃ３）、２－プロピニル（Ｃ３）、１－ブチニル（Ｃ４）、２－ブチニル（Ｃ４）などが挙げられる。Ｃ２～６アルケニル基の例としては、前述のＣ２～４アルキニル基、同様にペンチニル（Ｃ５）、ヘキシニル（Ｃ６）などが挙げられる。アルキニルの追加の例としては、ヘプチニル（Ｃ７）、オクチニル（Ｃ８）などが挙げられる。別段の定めのない限り、アルキニル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アルケニル」）、または１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、１～３つの置換基、もしくは１つの置換基で置換されている（「置換アルケニル」）。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、非置換Ｃ２～１０アルキニルである。ある特定の実施形態において、アルキニル基は、置換Ｃ２～１０アルキニルである。
本明細書で使用される場合、「ヘテロアルキル」という用語は、親鎖内に１個以上の（例えば、１、２、３、もしくは４個の）ヘテロ原子（例えば、酸素、硫黄、窒素、ホウ素、シリコン、リン）をさらに含み、１個以上のヘテロ原子が、親炭素鎖内の隣接する炭素原子の間に挿入され、及び／または１個以上のヘテロ原子が、炭素原子と親分子の間、すなわち、結合点の間に挿入される、本明細書で定義されるアルキル基を指す。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～１０個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基を指す（「ヘテロＣ１～１０アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～９個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～９アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～８個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～８アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～７個の炭素原子、及び１、２、３、または４個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～７アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～６個の炭素原子、及び１、２、または３個のヘテロ原子を有する基である（「ヘテロＣ１～６アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～５個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～５アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～４個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～４アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～３個の炭素原子、及び１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～３アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１～２個の炭素原子、及び１個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ１～２アルキル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、１個の炭素原子及び１個のヘテロ原子を有する飽和基（「ヘテロＣ１アルキル」）である。いくつかの実施形態において、ヘテロアルキル基は、２～６個の炭素原子、及び１または２個のヘテロ原子を有する飽和基である（「ヘテロＣ２～６アルキル」）。別段の定めのない限り、ヘテロアルキル基のそれぞれの例は、独立して、置換されていないか（「非置換ヘテロアルキル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロアルキル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、非置換ヘテロＣ１～１０アルキルである。ある特定の実施形態において、ヘテロアルキル基は、置換ヘテロＣ１～１０アルキルである。
「アリール」は、芳香族環系に提供された６～１４個の環炭素原子及び０個のヘテロ原子を有する単環式または多環式（例えば、二環式もしくは三環式）４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環状配列で共有された６、１０、もしくは１４πの電子を有する）のラジカルを指す（「Ｃ６～１４アリール」）。いくつかの実施形態において、アリール基は、６個の環炭素原子を有する（「Ｃ６アリール」；例えば、フェニル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ１０アリール」；例えば、１－ナフチル及び２－ナフチルなどのナフチル）。いくつかの実施形態において、アリール基は、１４個の環炭素原子を有する（「Ｃ１４アリール」；例えば、アントラシル）。「アリール」はまた、上で定義されたアリール環が１つ以上のカルボシクリルまたはヘテロシクリル基と縮合する、環系を含み、ラジカルまたは結合点は、アリール環上にあり、そのような例では、炭素原子の数は、アリール環系における炭素原子の数を指定し続ける。典型的なアリール基としては、アセアントリレン、アセナフチレン、アセフェナントリレン、アントラセン、アズレン、ベンゼン、クリセン、コロネン、フルオランテン、フルオレン、ヘキサセン、ヘキサフェン、ヘキサレン、ａｓ－インダセン、ｓ－インダセン、インダン、インデン、ナフタレン、オクタセン、オクタフェン、オクタレン、オバレン、ペンタ－２，４－ジエン、ペンタセン、ペンタレン、ペンタフェン、ペリレン、フェナレン、フェナントレン、ピセン、プレイアデン、ピレン、ピラントレン、ルビセン、トリフェニレン、及びトリナフタレンに由来する基が挙げられるが、これらに限定されない。特に、アリール基は、フェニル、ナフチル、インデニル、及びテトラヒドロナフチルを含む。別段の定めのない限り、アリール基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アリール」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある特定の実施形態において、アリール基は、非置換Ｃ６～１４アリールである。ある特定の実施形態において、アリール基は、置換Ｃ６～１４アリールである。
ある特定の実施形態において、アリール基は、ハロ、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ８ハロアルキル、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、及びアミノから選択される基のうちの１つ以上で置換されている。
代表的な置換アリールの例としては、以下が挙げられ、
Figure 2022538300000074
 式中、Ｒ５６及びＲ５７のうちの１つは、水素であってもよく、Ｒ５６及びＲ５７のうちの少なくとも１つは、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ８ハロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、アルカノイル、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルアミノ、アリールアミノ、ヘテロアリールアミノ、ＮＲ５８ＣＯＲ５９、ＮＲ５８ＳＯＲ５９、ＮＲ５８ＳＯ２Ｒ５９、ＣＯＯアルキル、ＣＯＯアリール、ＣＯＮＲ５８Ｒ５９、ＣＯＮＲ５８ＯＲ５９、ＮＲ５８Ｒ５９、ＳＯ２ＮＲ５８Ｒ５９、Ｓ－アルキル、ＳＯアルキル、ＳＯ２アルキル、Ｓアリール、ＳＯアリール、ＳＯ２アリールから選択されるか、またはＲ５６及びＲ５７が接合されて、任意選択的に、Ｎ、Ｏ、もしくはＳから選択される１個以上のヘテロ原子を含有する５～８個の原子の環状環（飽和もしくは不飽和）を形成する。Ｒ６０及びＲ６１は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、置換されたＣ６～Ｃ１０アリール、５～１０員ヘテロアリール、または置換された５～１０員ヘテロアリールである。
「縮合アリール」は、その環炭素のうちの２つを有するアリールを指し、第２のアリール環もしくはヘテロアリール環、または炭素環式もしくは複素環式環と共通する。
「ヘテロアリール」は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の単環式または二環式４ｎ＋２芳香族環系（例えば、環状配列で共有された６または１０πの電子を有する）のラジカルを指し、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素及び硫黄から選択される（「５～１０員ヘテロアリール」）。１個以上の窒素原子を含むヘテロアリール基では、結合点は、原子価が許す限り、炭素または窒素原子であり得る。ヘテロアリール二環式環系は、一方または両方の環に１個以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロアリール」は、上で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のカルボシクリル基またはヘテロシクリル基と縮合する、環系を含み、結合点は、ヘテロアリール環上にあり、そのような例では、環員の数は、ヘテロアリール環系における環員の数を指定し続ける。「ヘテロアリール」はまた、上で定義されたヘテロアリール環が１つ以上のアリール基と縮合する、環系を含み、結合点は、アリール環またはヘテロアリール環上のいずれかにあり、そのような例では、環員の数は、縮合（アリール／ヘテロアリール）環系における環員の数を指定する。１つの環がヘテロ原子（例えば、インドリル、キノリニル、カルバゾリルなど）を含まない二環式ヘテロアリール基、結合点は、いずれかの環、すなわち、ヘテロ原子を有する環（例えば、２－インドリル）またはヘテロ原子を含まない環（例えば、５－インドリル）のいずれかにあり得る。
いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供された環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～１０員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～８員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、ヘテロアリール基は、芳香族環系に提供される環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～６員ヘテロアリール」）。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロアリールは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。別段の定めのない限り、ヘテロアリール基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換アリール」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換アリール」）。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、非置換５～１４員ヘテロアリールである。ある特定の実施形態において、ヘテロアリール基は、置換５～１４員ヘテロアリールである。
１個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピロリル、フラニル及びチオフェニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、及びイソチアゾリルが挙げられる。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、トリアゾリル、オキサジアゾリル、及びチアジアゾリルが挙げられる。４個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロアリール基としては、限定なく、テトラゾリルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピリジニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、ピリダジニル、ピリミジニル、及びピラジニルが挙げられる。３または４個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロアリール基としては、限定なく、それぞれトリアジニル及びテトラジニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロアリール基としては、限定なく、アゼピニル、オキセピニル、及びチエピニルが挙げられる。例示的な５，６－二環式ヘテロアリール基としては、限定なく、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾチオフェニル、イソベンゾチオフェニル、ベンゾフラニル、ベンゾイソフラニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンズチアゾリル、ベンズチアジアゾリル、インドリジニル、及びプリニルが挙げられる。例示的な６，６－二環式ヘテロアリール基としては、限定なく、ナフチリジニル、プテリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、キノキサリニル、フタラジニル、及びキナゾリニルが挙げられる。
代表的なヘテロアリールの例としては、以下が挙げられ、
Figure 2022538300000075
 式中、それぞれのＺは、カルボニル、Ｎ、ＮＲ６５、Ｏ、及びＳから選択され、Ｒ６５は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、及び５～１０員ヘテロアリールである。
「カルボシクリル」または「炭素環式」は、非芳香族環系に３～１０個の環炭素原子（「Ｃ３～Ｃ１０カルボシクリル」）及び０個のヘテロ原子を有する非芳香族環状炭化水素基のラジカルを指す。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６カルボシクリル」）。いくつかの実施形態において、カルボシクリル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０カルボシクリル」）。例示的なＣ３～６カルボシクリル基としては、限定なく、シクロプロピル（Ｃ３）、シクロプロペニル（Ｃ３）、シクロブチル（Ｃ４）、シクロブテニル（Ｃ４）、シクロペンチル（Ｃ５）、シクロペンテニル（Ｃ５）、シクロヘキシル（Ｃ６）、シクロヘキセニル（Ｃ６）、シクロヘキサジエニル（Ｃ６）などが挙げられる。例示的なＣ３～８カルボシクリル基としては、限定なく、前述のＣ３～６カルボシクリル基、同様にシクロヘプチル（Ｃ７）、シクロヘプテニル（Ｃ７）、シクロヘプタジエニル（Ｃ７）、シクロヘプタトリエニル（Ｃ７）、シクロオクチル（Ｃ８）、シクロオクテニル（Ｃ８）、ビシクロ［２．２．１］ヘプタニル（Ｃ７）、ビシクロ［２．２．２］オクタニル（Ｃ８）などが挙げられる。例示的なＣ３～１０カルボシクリル基としては、限定なく、前述のＣ３～８カルボシクリル基、同様にシクロノニル（Ｃ９）、シクロノネニル（Ｃ９）、シクロデシル（Ｃ１０）、シクロデセニル（Ｃ１０）、オクタヒドロ－１Ｈ－インデニル（Ｃ９）、デカヒドロナフタレニル（Ｃ１０）、スピロ［４．５］デカニル（Ｃ１０）などが挙げられる。前述の例が説明する場合、ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、単環式（「単環式カルボシクリル」）であるか、または二環式系（「二環式カルボシクリル」）などの縮合、架橋もしくはスピロ環系を含むかのいずれかであり、飽和であり得るか、または部分的に不飽和であり得る。「カルボシクリル」はまた、上で定義されたカルボシクリル環が１つ以上のアリールまたはヘテロアリール基と縮合する、環系を含み、結合点は、カルボシクリル環上にあり、そのような例では、炭素の数は、炭素環式環系における炭素の数を指定し続ける。別段の定めのない限り、カルボシクリル基のそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換カルボシクリル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換カルボシクリル」）。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、非置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。ある特定の実施形態において、カルボシクリル基は、置換Ｃ３～１０カルボシクリルである。
いくつかの実施形態において、「カルボシクリル」は、３～１０個の環炭素原子を有する単環式飽和カルボシクリル基である（「Ｃ３～１０シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～８個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～８シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、３～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ３～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～６個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～６シクロアルキル」）。いくつかの実施形態において、シクロアルキル基は、５～１０個の環炭素原子を有する（「Ｃ５～１０シクロアルキル」）。Ｃ５～６シクロアルキル基の例としては、シクロペンチル（Ｃ５）及びシクロヘキシル（Ｃ５）が挙げられる。Ｃ３～６シクロアルキル基の例としては、前述のＣ５～６シクロアルキル基、ならびにシクロプロピル（Ｃ３）及びシクロブチル（Ｃ４）が挙げられる。Ｃ３～８シクロアルキル基の例としては、前述のＣ３～６シクロアルキル基、同様にシクロヘプチル（Ｃ７）及びシクロオクチル（Ｃ８）が挙げられる。別段の定めのない限り、シクロアルキル基のそれぞれの例は、独立して、置換されていないか（「非置換シクロアルキル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換シクロアルキル」）。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、非置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。ある特定の実施形態において、シクロアルキル基は、置換Ｃ３～１０シクロアルキルである。
「ヘテロシクリル」または「複素環式」は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する３～１０員の非芳香族環系のラジカルを指し、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リン、及びケイ素から選択される（「３～１０員ヘテロシクリル」）。１個以上の窒素原子を含むヘテロアリール基では、結合点は、原子価が許す限り、炭素または窒素原子であり得る。ヘテロシクリル基は、単環式（「単環式ヘテロシクリル」）または二環式系（「二環式ヘテロシクリル」）などの縮合、架橋もしくはスピロ環系のいずれかであり得、飽和であり得るか、または部分的に不飽和であり得る。ヘテロシクリル二環式環系は、一方または両方の環に１個以上のヘテロ原子を含み得る。「ヘテロシクリル」はまた、上で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のカルボシクリル基と縮合する環系（結合点は、カルボシクリルもしくはヘテロシクリル環上のいずれかにある）、または上で定義されたヘテロシクリル環が１つ以上のアリールもしくはヘテロアリール基と縮合する環系（結合点は、ヘテロシクリル環上にある）を含み、そのような例では、環員の数は、ヘテロシクリル環系における環員の数を指定し続ける。別段の定めのない限り、ヘテロシクリルのそれぞれの例は、独立して、任意選択的に置換されており、すなわち、置換されていないか（「非置換ヘテロシクリル」）または１つ以上の置換基で置換されている（「置換ヘテロシクリル」）。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、非置換３～１０員ヘテロシクリルである。ある特定の実施形態において、ヘテロシクリル基は、置換３～１０員ヘテロシクリルである。
いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～１０員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、硫黄、ホウ素、リン、及びケイ素から選択される（「５～１０員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～８員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～８員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、ヘテロシクリル基は、環炭素原子及び１～４個の環ヘテロ原子を有する５～６員の非芳香族環系であり、それぞれのヘテロ原子は、独立して、窒素、酸素、及び硫黄から選択される（「５～６員ヘテロシクリル」）。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～３個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１～２個の環ヘテロ原子を有する。いくつかの実施形態において、５～６員ヘテロシクリルは、窒素、酸素、及び硫黄から選択される１個の環ヘテロ原子を有する。
１個のヘテロ原子を含む例示的な３員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アジリジニル、オキシラニル、チオレニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な４員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゼチジニル、オキセタニル及びチエタニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、テトラヒドロフラニル、ジヒドロフラニル、テトラヒドロチオフェニル、ジヒドロチオフェニル、ピロリジニル、ジヒドロピロリル及びピロリル－２，５－ジオンが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ジオキソラニル、オキサスルフラニル、ジスルフラニル、及びオキサゾリジン－２－オンが挙げられる。３個のヘテロ原子を含む例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、トリアゾリニル、オキサジアゾリニル、及びチアジアゾリニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロピリジニル、及びチアニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、ピペラジニル、モルホリニル、ジチアニル、ジオキサニルが挙げられる。２個のヘテロ原子を含む例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、トリアジナニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な７員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゼパニル、オキセパニル及びチエパニルが挙げられる。１個のヘテロ原子を含む例示的な８員ヘテロシクリル基としては、限定なく、アゾカニル、オキセカニル及びチオカニルが挙げられる。Ｃ６アリール環（本明細書では５，６－二環式複素環式環とも称される）に縮合した例示的な５員ヘテロシクリル基としては、限定なく、インドリニル、イソインドリニル、ジヒドロベンゾフラニル、ジヒドロベンゾチエニル、ベンゾオキサゾリノニルなどが挙げられる。アリール環（本明細書では６，６－二環式複素環式環とも称される）に縮合した例示的な６員ヘテロシクリル基としては、限定なく、テトラヒドロキノリニル、テトラヒドロイソキノリニルなどが挙げられる。
「窒素含有ヘテロシクリル」基は、少なくとも１個の窒素原子を含む４～７員の非芳香族環式基、例えば、限定されないが、モルホリン、ピペリジン（例えば、２－ピペリジニル、３－ピペリジニル及び４－ピペリジニル）、ピロリジン（例えば、２－ピロリジニル及び３－ピロリジニル）、アゼチジン、ピロリドン、イミダゾリン、イミダゾリジノン、２－ピラゾリン、ピラゾリジン、ピペラジン、及びＮ－メチルピペラジンなどのＮ－アルキルピペラジンを意味する。特定の例としては、アゼチジン、ピペリドン及びピペラゾンが挙げられる。
「ヘテロ」は、化合物または化合物上に存在する基を説明するために使用される際に、化合物または基における１個以上の炭素原子が、窒素、酸素、または硫黄のヘテロ原子によって置き換えられていることを意味する。ヘテロは、１～５個、特に１～３個のヘテロ原子を有する、アルキル、例えば、ヘテロアルキル、シクロアルキル、例えば、ヘテロシクリル、アリール、例えば、ヘテロアリール、シクロアルケニル、例えば、シクロヘテロアルケニルなどの、上記のヒドロカルビル基のうちのいずれかに適用され得る。
「アシル」は、ラジカル－Ｃ（Ｏ）Ｒ２０を指し、Ｒ２０は、本明細書で定義される場合、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。「アルカノイル」は、アシル基であり、Ｒ２０は、水素以外の基である。代表的なアシル基としては、ホルミル（－ＣＨＯ）、アセチル（－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３）、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイル（－Ｃ（＝Ｏ）Ｐｈ）、ベンジルカルボニル（－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈ）、－Ｃ（Ｏ）－Ｃ１～Ｃ８アルキル、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数である。ある特定の実施形態において、Ｒ２１は、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１～Ｃ８アルキル、またはＣ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、アリールアルキル、５～１０員ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであり、これらのそれぞれは、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシで置換されている。
「アルコキシ」は、－ＯＲ２９基を指し、Ｒ２９は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。特定のアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、三級ブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、ｎ－ヘキソキシ、及び１，２－ジメチルブトキシである。特定のアルコキシ基は、より低級のアルコキシ、すなわち、１～６個の炭素原子を有するアルコキシである。さらなる特定のアルコキシ基は、１～４個の炭素原子を有する。
ある特定の実施形態において、Ｒ２９は、アミノ、置換アミノ、Ｃ６～Ｃ１０アリール、アリールオキシ、カルボキシル、シアノ、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル、４～１０員ヘテロシクリル、ハロゲン、５～１０員ヘテロアリール、ヒドロキシル、ニトロ、チオアルコキシ、チオアリールオキシ、チオール、アルキル－Ｓ（Ｏ）－、アリール－Ｓ（Ｏ）－、アルキル－Ｓ（Ｏ）２－及びアリール－Ｓ（Ｏ）２－からなる群から選択される、１つ以上の置換基、例えば、１～５つの置換基、及び特に１～３つの置換基、特に１つの置換基を有する基である。例示的な「置換アルコキシ」基としては、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数であり、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、またはヘテロシクリル基は、それ自体が、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシによって置換され得る。特定の例示的な「置換アルコキシ」基は、－ＯＣＦ３、－ＯＣＨ２ＣＦ３、－ＯＣＨ２Ｐｈ、－ＯＣＨ２－シクロプロピル、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＨ、及び－ＯＣＨ２ＣＨ２ＮＭｅ２である。
「アミノ」は、ラジカル－ＮＨ２を指す。
「オキソ基」は－Ｃ（＝Ｏ）－を指す。
「置換アミノ」は、式－Ｎ（Ｒ３８）２のアミノ基を指し、式中、Ｒ３８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、またはアミノ保護基であり、Ｒ３８のうちの少なくとも１つは、水素ではない。ある特定の実施形態において、それぞれのＲ３８は、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ３～Ｃ８アルケニル、Ｃ３～Ｃ８アルキニル、Ｃ６～Ｃ１０アリール、５～１０員ヘテロアリール、４～１０員ヘテロシクリル、もしくはＣ３～Ｃ１０シクロアルキル；またはハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ１～Ｃ８アルキル；ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３～Ｃ８アルケニル、ハロもしくはヒドロキシで置換されたＣ３～Ｃ８アルキニル、または－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、または－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）から選択され、ｔは、０～８の整数であり、それぞれが、非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシもしくはヒドロキシによって置換されているか、あるいは両方のＲ３８が接合されて、アルキレン基を形成する。
例示的な「置換アミノ」基としては、－ＮＲ３９－Ｃ１～Ｃ８アルキル、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ６～Ｃ１０アリール）、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（５～１０員ヘテロアリール）、－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル）、及び－ＮＲ３９－（ＣＨ２）ｔ（４～１０員ヘテロシクリル）が挙げられるが、これらに限定されず、ｔは、０～４の整数、例えば、１または２であり、それぞれのＲ３９は、独立して、ＨまたはＣ１～Ｃ８アルキルを表し、存在する任意のアルキル基は、それ自体がハロ、置換もしくは非置換アミノ、またはヒドロキシによって置換されてもよく、存在する任意のアリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、またはヘテロシクリル基は、それ自体が非置換Ｃ１～Ｃ４アルキル、ハロ、非置換Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、非置換Ｃ１～Ｃ４ヒドロキシアルキル、または非置換Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルもしくはヒドロキシによって置換されてもよい。疑義を回避するために、「置換アミノ」という用語は、以下に定義されるアルキルアミノ基、置換アルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、置換アルキルアリールアミノ基、アリールアミノ基、置換アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、及び置換ジアルキルアミノ基を含む。置換アミノは、単置換アミノ基及び二置換アミノ基の両方を包含する。
「カルボキシ」は、ラジカル－Ｃ（Ｏ）ＯＨを指す。
「シアノ」は、ラジカル－ＣＮを指す。
「ハロ」または「ハロゲン」は、フルオロ（Ｆ）、クロロ（Ｃｌ）、ブロモ（Ｂｒ）、及びヨード（Ｉ）を指す。ある特定の実施形態において、ハロ基は、フルオロまたはクロロのいずれかである。
「ハロアルキル」は、アルキル基が１つ以上のハロゲンで置換されたアルキルラジカルを指す。典型的なハロアルキル基としては、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、ジブロモエチル、トリブロモメチル、テトラフルオロエチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
「ヒドロキシ」は、ラジカル－ＯＨを指す。
「ニトロ」は、ラジカル－ＮＯ２を指す。
「チオケト」は、＝Ｓ基を指す。
本明細書で定義されるアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリール基は、任意選択で置換されている（例えば、「置換」もしくは「非置換」アルキル、「置換」もしくは「非置換」アルケニル、「置換」もしくは「非置換」アルキニル、「置換」もしくは「非置換」カルボシクリル、「置換」もしくは「非置換」ヘテロシクリル、「置換」もしくは「非置換」アリール、または「置換」もしくは「非置換」ヘテロアリール基）。一般に、「置換された」という用語は、「任意選択で」という用語が先行するどうかにかかわらず、基（例えば、炭素もしくは窒素原子）上に存在する少なくとも１つの水素が、許容される置換基、例えば、置換時に、安定な化合物、例えば、転位、環化、脱離、または他の反応などによって自発的に変換を受けない化合物を生じる置換基で置き換えられることを意味する。別途示されない限り、「置換された」基は、基の１つ以上の置換可能な位置で置換基を有し、任意の所与の構造の２つ以上の位置が置換される際に、置換基は、それぞれの位置で同じかまたは異なるかのいずれかである。「置換された」という用語は、安定した化合物の形成をもたらす、本明細書に記載される置換基のうちのいずれかである、有機化合物のすべての許容可能な置換基での置換を含むことが企図される。本発明は、安定した化合物に到達するために、任意の及びすべてのそのような組み合わせを企図する。本発明の目的のために、窒素などのヘテロ原子は、水素置換基及び／またはヘテロ原子の原子価を満たし、安定部分の形成をもたらす本明細書に記載の任意の好適な置換基を有してもよい。
例示的な炭素原子置換基としては、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－ＯＮ（Ｒｂｂ）２、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｎ（Ｒｂｂ）３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＲｃｃ）Ｒｂｂ、－ＳＨ、－ＳＲａａ、－ＳＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＨＯ、－Ｃ（ＯＲｃｃ）２、－ＣＯ２Ｒａａ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＯＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＮＲｂｂＣＯ２Ｒａａ、－ＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＮＲｂｂＣ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、－ＮＲｂｂＳＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＳＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２ＯＲａａ、－ＯＳＯ２Ｒａａ、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＯＳ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－ＯＳｉ（Ｒａａ）３－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－ＯＰ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－ＮＲｂｂＰ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－ＯＰ（Ｒｃｃ）２、－ＯＰ（Ｒｃｃ）３、－Ｂ（Ｒａａ）２、－Ｂ（ＯＲｃｃ）２、－ＢＲａａ（ＯＲｃｃ）、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールが挙げられるが、これらに限定されず、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｄｄ基で置換されているか、または炭素原子上の２つのジェミナル水素は、基＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＮ（Ｒｂｂ）２、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）Ｒａａ、＝ＮＮＲｂｂＣ（＝Ｏ）ＯＲａａ、＝ＮＮＲｂｂＳ（＝Ｏ）２Ｒａａ、＝ＮＲｂｂ、または＝ＮＯＲｃｃで置き換えられ、
Ｒａａのそれぞれの例は、独立して、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲａａ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｂｂのそれぞれの例は、独立して、水素、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＣＮ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＣＯ２Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｒｃｃ、－ＳＯ２ＯＲｃｃ、－ＳＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（＝ＮＲｃｃ）２、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｂｂ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｃｃのそれぞれの例は、独立して、水素、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ１～１０ハロアルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｃｃ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、
Ｒｄｄのそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＲｅｅ、－ＯＮ（Ｒｆｆ）２、－Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｎ（Ｒｆｆ）３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＲｅｅ）Ｒｆｆ、－ＳＨ、－ＳＲｅｅ、－ＳＳＲｅｅ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＯ２Ｒｅｅ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＯＣＯ２Ｒｅｅ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－ＮＲｆｆＣＯ２Ｒｅｅ、－ＮＲｆｆＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｃ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｒｅｅ、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）ＯＲｅｅ、－Ｃ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＯＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＣ（＝ＮＲｆｆ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＮＲｆｆＳＯ２Ｒｅｅ、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｆｆ）２、－ＳＯ２Ｒｅｅ、－ＳＯ２ＯＲｅｅ、－ＯＳＯ２Ｒｅｅ、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒｅｅ、－Ｓｉ（Ｒｅｅ）３、－ＯＳｉ（Ｒｅｅ）３、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｆｆ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｅｅ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＲｅｅ、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒｅｅ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｒｅｅ）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＲｅｅ）２、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～１０アリール、５～１０員ヘテロアリールから選択され、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、もしくは５つのＲｇｇ基で置換されるか、または２つのジェミナルＲｄｄ置換基が接合されて、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成することができ、
Ｒｅｅのそれぞれの例は、独立して、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、Ｃ６～１０アリール、３～１０員ヘテロシクリル、及び３～１０員ヘテロアリールから選択され、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｇｇ基で置換され、
Ｒｆｆのそれぞれの例は、独立して、水素、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１０員ヘテロシクリル、Ｃ６～１０アリール、及び５～１０員ヘテロアリールから選択されるか、または２つのＲｆｆ基が接合されて、３～１４員ヘテロシクリルもしくは５～１４員ヘテロアリール環を形成し、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｇｇ基で置換され、
Ｒｇｇのそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－Ｎ３、－ＳＯ２Ｈ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＨ、－ＯＣ１～６アルキル、－ＯＮ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）３ ＋Ｘ－、－ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）２ ＋Ｘ－、－ＮＨ２（Ｃ１～６アルキル）＋Ｘ－、－ＮＨ３ ＋Ｘ－、－Ｎ（ＯＣ１～６アルキル）（Ｃ１～６アルキル）、－Ｎ（ＯＨ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨ（ＯＨ）、－ＳＨ、－ＳＣ１～６アルキル、－ＳＳ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＣＯ２Ｈ、－ＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－Ｎ（Ｃ１～６アルキル）Ｃ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ２、－Ｃ（＝ＮＨ）Ｏ（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝ＮＨ）（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（＝ＮＨ）ＯＣ１～６アルキル、－Ｃ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝ＮＨ）ＮＨ２、－ＯＣ（＝ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＯＣ（ＮＨ）ＮＨ２、－ＮＨＣ（ＮＨ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＮＨＣ（＝ＮＨ）ＮＨ２、－ＮＨＳＯ２（Ｃ１～６アルキル）、－ＳＯ２Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、－ＳＯ２ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、－ＳＯ２ＮＨ２、－ＳＯ２Ｃ１～６アルキル、－ＳＯ２ＯＣ１～６アルキル、－ＯＳＯ２Ｃ１～６アルキル、－ＳＯＣ１～６アルキル、－Ｓｉ（Ｃ１～６アルキル）３、－ＯＳｉ（Ｃ１～６アルキル）３、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｃ１～６アルキル）２、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ（Ｃ１～６アルキル）、Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ（Ｃ１～６アルキル）、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＣ１～６アルキル、－ＳＣ（＝Ｓ）ＳＣ１～６アルキル、－Ｐ（＝Ｏ）２（Ｃ１～６アルキル）、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（Ｃ１～６アルキル）２、－ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＣ１～６アルキル）２、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ２～６アルケニル、Ｃ２～６アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、Ｃ６～１０アリール、３～１０員ヘテロシクリル、５～１０員ヘテロアリールであるか、または２つのジェミナルＲｇｇ置換基が接合されて、＝Ｏもしくは＝Ｓを形成することができ、Ｘ－は、対イオンである。
「対イオン」または「アニオン性対イオン」は、電子中性を維持するためにカチオン性四級アミノ基と会合した、負に荷電した基である。例示的な対イオンとしては、ハロゲン化物イオン（例えば、Ｆ－、Ｃｌ－、Ｂ－、Ｉ－）、ＮＯ３ －、ＣｌＯ４ －、ＯＨ－、Ｈ２ＰＯ４ －、ＨＳＯ４ －、スルホン酸イオン（例えば、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ－トルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、１０－カンファースルホン酸塩、ナフタレン－２－スルホン酸塩、ナフタレン－１－スルホン酸－５－スルホン酸塩、エタン－１－スルホン酸－２－スルホン酸塩など）、及びカルボン酸塩イオン（例えば、酢酸塩、エタン酸塩、プロパン酸塩、安息香酸塩、グリセリン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、グリコール酸塩など）が挙げられる。
これら及び他の例示的な置換基は、発明を実施するための形態、及び特許請求の範囲にさらに詳細に記載されている。本発明は、上の例示的な置換基の列挙によって、いかなる様式においても限定されるように意図されるものではない。
他の定義
本明細書で使用される場合、「調節」という用語は、ＧＡＢＡＡ受容体機能の阻害または増強を指す。「調節物質」（例えば、調節化合物）は、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体の作動薬、部分作動薬、拮抗薬、または部分拮抗薬であり得る。
「薬学的に許容される」とは、連邦もしくは州政府の規制当局または米国以外の国における対応する機関によって承認されるか、または承認可能であること、あるいは動物における、より具体的にはヒトにおける使用について米国薬局方または他の一般に認識される薬局方に列挙されていることを意味する。
「薬学的に許容される塩」は、薬学的に許容され、親化合物の所望の薬理活性を有する、本発明の化合物の塩を指す。特に、そのような塩は、無毒であり、無機または有機酸付加塩及び塩基付加塩であり得る。具体的には、そのような塩としては、（１）塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸で形成された酸付加塩；または酢酸、プロピオン酸、ヘキサン酸、シクロペンタンプロピオン酸、グリコール酸、ピルビン酸、乳酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、マレイン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、３－（４－ヒドロキシ安息香酸）安息香酸、桂皮酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、１，２－エタン－ジスルホン酸、２－ヒドロキシエタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、４－クロロベンゼンスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、４－トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸、４－メチルビシクロ［２．２．２］－オクト－２－エン－１－カルボン酸、グルコヘプトン酸、３－フェニルプロピオン酸、トリメチル酢酸、三級ブチル酪酸、ラウリル硫酸、グルコン酸、グルタミン酸、ヒドロキシナフトエ酸、サリチル酸、ステアリン酸、ムコン酸などの有機酸で形成された酸付加塩；あるいは（２）親化合物に存在する酸性プロトンが、金属イオン、例えば、アルカリ金属イオン、アルカリ土類イオン、もしくはアルミニウムイオンによって置き換えられるか、またはエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－メチルグルカミンなどの有機塩基と同等である場合に形成された塩が挙げられる。塩は、単なる例として、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムなど、及び化合物が塩基性官能基を含有する場合、塩酸塩、臭化水素酸塩、酒石酸塩、メシル酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、シュウ酸塩などの非毒性有機酸または無機酸の塩をさらに含む。「薬学的に許容されるカチオン」という用語は、酸性官能基の許容されるカチオン性対イオンを指す。そのようなカチオンは、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムカチオンなどによって例示される。例えば、Ｂｅｒｇｅ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｈａｒｍ．Ｓｃｉ．（１９７７）６６（１）：１－７９を参照されたい。
「プロドラッグ」という用語は、生理学的条件下で、本発明の治療活性剤に変換される治療的に不活性な化合物を包含することが意図される。プロドラッグを作製するための１つの方法は、生理学的条件下で標的されたインビボ作用部位で加水分解または切断される選択された部分を設計し、次いでその治療効果をもたらす所望の分子を明らかにすることである。ある特定の実施形態において、プロドラッグは、対象の酵素活性によって変換される。
代替的な実施形態において、本発明は、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物のプロドラッグを提供し、プロドラッグは、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）に示されるようなＣ３ヒドロキシ上の切断可能な部分を含む。
「互変異性体」は、特定の化合物構造の交換可能な形態であり、水素原子及び電子の置換で変化する化合物を指す。したがって、２つの構造は、π電子及び原子（通常はＨ）の移動を通じて平衡状態にあり得る。例えば、エノール及びケトンは、酸または塩基のいずれかでの処理によって急速に相互変換されるため、互変異性体である。互変異性の別の例は、同様に酸または塩基での処理によって形成されるアシ形態及びニトロ形態のフェニルニトロメタンである。互変異性形態は、目的の化合物の最適な化学反応性及び生物活性の達成に関連し得る。
投与が企図される「対象」としては、ヒト（すなわち、任意の年齢群の男性もしくは女性、例えば、小児対象（例えば、幼児、子供、青年）または成人対象（例えば、若年成人、中年成人もしくは高齢成人））及び／または非ヒト動物、例えば、霊長類（例えば、カニクイザル、アカゲザル）、ウシ、ブタ、ウマ、ヒツジ、ヤギ、げっ歯類、ネコ、及び／またはイヌなどの哺乳動物が挙げられるが、これらに限定されない。ある特定の実施形態において、対象は、ヒト（「ヒト対象」）である。ある特定の実施形態において、対象は、非ヒト動物である。
ある特定の実施形態において、酸素原子上に存在する置換基は、酸素保護基（ヒドロキシル保護基とも称される）である。酸素保護基としては、－Ｒａａ、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、及び－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、Ｒａａ、Ｒｂｂ、及びＲｃｃは、本明細書で定義されるとおりである。酸素保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
例示的な酸素保護基としては、メチル、メトキシルメチル（ＭＯＭ）、２－メトキシエトキシメチル（ＭＥＭ）、ベンジル（Ｂｎ）、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）、ｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ－ブチルメトキシフェニルシリル（ＴＢＭＰＳ）、メタンスルホン酸塩（メシル酸塩）、及びトシル酸塩（Ｔｓ）が挙げられるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、硫黄原子上に存在する置換基は、硫黄保護基（チオール保護基とも称される）である。硫黄保護基としては、－Ｒａａ、－Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＣＯ２Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｂｂ）Ｎ（Ｒｂｂ）２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒａａ、－ＳＯ２Ｒａａ、－Ｓｉ（Ｒａａ）３、－Ｐ（Ｒｃｃ）２、－Ｐ（Ｒｃｃ）３、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｐ（＝Ｏ）（Ｒａａ）２、－Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｃｃ）２、－Ｐ（＝Ｏ）２Ｎ（Ｒｂｂ）２、及び－Ｐ（＝Ｏ）（ＮＲｂｂ）２が挙げられるが、これらに限定されず、Ｒａａ、Ｒｂｂ、及びＲｃｃは、本明細書で定義されるとおりである。硫黄保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
ある特定の実施形態において、窒素原子上に存在する置換基は、アミノ保護基（本明細書では窒素保護基とも称される）である。アミノ保護基としては、－ＯＨ、－ＯＲａａ、－Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｒａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）ＯＲａａ、－Ｃ（＝ＮＲｃｃ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｃｃ）２、－ＳＯ２Ｒｃｃ、－ＳＯ２ＯＲｃｃ、－ＳＯＲａａ、－Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｒｃｃ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲｃｃ、－Ｃ（＝Ｓ）ＳＲｃｃ、Ｃ１～１０アルキル、Ｃ２～１０アルケニル、Ｃ２～１０アルキニル、Ｃ３～１０カルボシクリル、３～１４員ヘテロシクリル、Ｃ６～１４アリール、及び５～１４員ヘテロアリール基が挙げられるが、これらに限定されず、それぞれのアルキル、アルケニル、アルキニル、カルボシクリル、ヘテロシクリル、アリール、及びヘテロアリールは、独立して、０、１、２、３、４、または５つのＲｄｄ基で置換され、Ｒａａ、Ｒｂｂ、Ｒｃｃ及びＲｄｄは、本明細書で定義されるとおりである。アミノ保護基は、当該技術分野で周知であり、参照により本明細書に組み込まれる、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，３ｒｄ ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，１９９９に詳細に記載されるものを含む。
例示的なアミノ保護基としては、ホルムアミド及びアセトアミドを含むが、これらに限定されないアミド基（例えば、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒａａ）；９－フルオレニルメチルカルバメート（Ｆｍｏｃ）、ｔ－ブチルカルバメート（ＢＯＣ）、及びベンジルカルバメート（Ｃｂｚ）を含むが、これらに限定されないカルバメート基（例えば、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）；ｐ－トルエンスルホンアミド（Ｔｓ）、メタンスルホンアミド（Ｍｓ）、及びＮ－［２－（トリメチルシリル）エトキシ］メチルアミン（ＳＥＭ）を含むが、これらに限定されないスルホンアミド基（例えば、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒａａ）が挙げられるが、これらに限定されない。
疾患、障害、及び状態は、本明細書において交換可能に使用される。
本明細書で使用される場合、別段の定めのない限り、「治療する」、「治療すること」及び「治療」という用語は、対象が指定された疾患、障害または状態に罹患している間に起こり、疾患、障害もしくは状態の重症度を低減するか、または疾患、障害もしくは状態（また、「治療的処置」）の進行を遅延もしくは減速させる作用を企図する。
「予防的処置」は、対象が指定された疾患、障害または状態に罹患し始める前に起こる作用を企図する。
一般に、化合物の「有効量」は、例えば、ＣＮＳ関連障害を治療するために、所望の生物学的応答を誘発するのに十分な量を指し、麻酔または鎮静を誘導するのに十分である。当業者には理解されようが、本発明の化合物の有効量は、所望の生物学的エンドポイント、化合物の薬物動態、治療されている疾患、投与様式、ならびに対象の年齢、体重、健康、及び状態などの因子に応じて変化し得る。
本明細書で使用される場合、かつ別段の定めのない限り、化合物の「治療有効量」は、疾患、障害もしくは状態の治療において治療的利点を提供するか、または疾患、障害もしくは状態に関連する１つ以上の症状を遅延させる、もしくは最小限に抑えるのに十分な量である。化合物の治療有効量は、単独で、または他の療法と組み合わせて、疾患、障害もしくは状態の治療において治療的利点を提供する治療薬の量を意味する。「治療有効量」という用語は、全体的な療法を改善するか、疾患もしくは状態の症状もしくは原因を低減もしくは回避するか、または別の治療薬の治療効力を増強する量を包含し得る。
代替的な実施形態において、本発明は、対象が特定の疾患、障害もしくは状態に罹患し始める前に、予防薬として、本発明の化合物、またはその薬学的に許容される塩もしくは薬学的に許容される組成物を投与することを企図する。本明細書で使用される場合、かつ別段の定めのない限り、化合物の「予防的に有効な量」は、疾患、障害もしくは状態、または疾患、障害もしくは状態に関連する１つ以上の症状を予防するか、あるいはその再発を予防するのに十分な量である。化合物の予防的に有効な量は、単独で、または他の薬剤と組み合わせて、疾患、障害または状態の予防において予防的利点を提供する治療薬の量を意味する。「予防的に有効な量」という用語は、全体的な予防を改善するか、または別の予防剤の予防効力を増強する量を包含し得る。
化合物
本明細書に記載される式は、Ｃ１７、Ｃ３、Ｃ１９などの特定の炭素原子を参照し得ることを理解されたい。これらの参考文献は、以下に示すように、業界において既知で使用されているステロイド命名法に従って炭素原子の位置に基づいている。
Figure 2022538300000076
 例えば、Ｃ１７は１７位の炭素を指し、Ｃ３は３位の炭素を指す。
一態様において、本明細書では、式（１－Ｉ）の化合物：
Figure 2022538300000077
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
ｑは、独立して、０、１、２、または３であり、
ｒは、独立して、０、１、または２であり、
ｓは、独立して、０、１、または２であり、
ｔは、独立して、０、１、２、または３であり、
ｎは、独立して、１または２であり、
ｕは、独立して、１または２であり、
Ｘは、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、または窒素原子に付着している場合は窒素保護基であり、ＲＡ２のそれぞれの例は、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素もしくはメチルであるか、または
Figure 2022538300000078
 が二重結合である場合、Ｒ５及びＲ６ａもしくはＲ６ｂの一方が存在せず、
Ｒ１９は、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
Ｒ１８は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ２ａ及びＲ２ｂ、もしくはＲ４ａ及びＲ４ｂ、もしくはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、もしくはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成するが、
但し、
ｑ、ｓ、ｒ、ｕ、及びｔは、同時に１ではないことを条件とする。
式（１－Ｉ）の化合物のいくつかの実施形態において、ｔが０、２、または３であるとき、ｑ、ｕ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。式（１－Ｉ）の化合物のいくつかの実施形態において、ｑが０または２であり、ｕが１であるとき、ｔ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。式（１－Ｉ）の化合物のいくつかの実施形態において、ｕが２であり、ｑが１であるとき、ｔ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。式（１－Ｉ）の化合物のいくつかの実施形態において、ｒが０または２であるとき、ｑ、ｕ、ｓ、及びｔは、同時に１ではない。式（１－Ｉ）の化合物のいくつかの実施形態において、ｓが０または２であるとき、ｑ、ｕ、ｒ、及びｔは、同時に１ではない。
一実施形態において、本明細書では、式（１－Ｖ－ａ）または式（１－Ｖ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000079
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
ｎは、１または２であり、
Ｘは、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、または窒素原子に付着している場合は窒素保護基であり、ＲＡ２のそれぞれの例は、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素もしくはメチルであるか、または
Figure 2022538300000080
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１９は、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
Ｒ１８は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、ならびに
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ２ａ及びＲ２ｂ、もしくはＲ４ａ及びＲ４ｂ、もしくはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、もしくはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する。
いくつかの実施形態において、
Figure 2022538300000081
 は、単結合である。別の実施形態において、
Figure 2022538300000082
 は、二重結合である。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、－ＯＨ、または－ＯＲＤ１であるか、あるいはＲ２ａ及びＲ２ｂ、またはＲ４ａ及びＲ４ｂ、またはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、またはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、それぞれのアルキルは、ハロ、－ＯＨ、または－ＯＲＤ１から選択される置換基で任意に置換され、それぞれのＲＤ１は、独立して、水素、ハロアルキル、または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂは、水素である。
ある態様において、本明細書では、式２－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000083
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000084
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000085
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３であるが、
但し、化合物が、
Figure 2022538300000086
 でないことを条件とする。
別の態様において、本明細書では、ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法が提供され、対象に、式２－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000087
 あるいはその薬学的に許容される塩を投与することを含み、
式中、
Figure 2022538300000088
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000089
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉａもしくは式２－Ｉｂの化合物：
Figure 2022538300000090
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉａａもしくは式２－Ｉａｂの化合物：
Figure 2022538300000091
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＩＩの化合物：
Figure 2022538300000092
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
ｔは、１または２であり、
Figure 2022538300000093
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000094
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ３０ａ、及びＲ３０ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ３０ａ及びＲ３０ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＩの化合物は、式２－ＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000095
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000096
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000097
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000098
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ３１ａ及びＲ３１ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＩＩの化合物は、式２－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000099
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＩＶａもしくは式２－ＩＶｂの化合物：
Figure 2022538300000100
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000101
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000102
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３であり、
ｍは、２または３である。
いくつかの実施形態において、式２－ＩＶの化合物は、式２－ＩＶａａもしくは式２－ＩＶｂａの化合物：
Figure 2022538300000103
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－Ｖの化合物：
Figure 2022538300000104
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000105
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000106
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｖの化合物は、式２－Ｖａの化合物：
Figure 2022538300000107
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000108
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000109
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ３６ａまたはＲ３６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000110
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ３６ａ及びＲ３６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ３６ａ及びＲ３６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ３４ａ、Ｒ３４ｂ、Ｒ３５ａ、及びＲ３５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－ＶＩの化合物は、式２－ＶＩａの化合物：
Figure 2022538300000111
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、本明細書では、式２－ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000112
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000113
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ３６ａまたはＲ３６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000114
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ３７ａ及びＲ３７ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎは、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、式２－ＶＩＩの化合物は、式２－ＶＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000115
 またはその薬学的に許容される塩である。
一態様において、本明細書では、式３－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000116
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000117
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000118
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１８は、置換または非置換アルキルであり、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換のアリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
ある態様において、本明細書では、式３－Ｉｘの化合物：
Figure 2022538300000119
 あるいはその薬学的に許容される塩が提供され、
式中、
Figure 2022538300000120
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000121
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１８は、置換もしくは非置換アルキルであり、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの態様において、式Ｉの化合物は、式３－ＩＩａもしくは式ＩＩｂの化合物である。
Figure 2022538300000122
別の実施形態において、化合物は、式３－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000123
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000124
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000125
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｔは、２または３である。
別の実施形態において、化合物は、式３－ＩＩＩｘの化合物：
Figure 2022538300000126
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000127
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000128
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換のＣ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換のアリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｔは、２または３である。
いくつかのさらなる実施形態において、化合物は、式３－ＩＶの化合物：
Figure 2022538300000129
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000130
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000131
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
他の実施形態において、化合物は、式３－Ｖａまたは式３－Ｖｂの化合物：
Figure 2022538300000132
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000133
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000134
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｒは、２または３である。
他の実施形態において、化合物は、式３－Ｖａｘまたは式３－Ｖｂｘの化合物：
Figure 2022538300000135
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000136
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000137
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｒは、２または３である。
他の実施形態において、化合物は、式３－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000138
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000139
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000140
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000141
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000142
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000143
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｓは、２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＶＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000144
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000145
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000146
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
他の実施形態において、化合物は、式３－ＩＸの化合物：
Figure 2022538300000147
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000148
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000149
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｑは、２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－Ｉａの化合物：
Figure 2022538300000150
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000151
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000152
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１８は、置換または非置換アルキルであり、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＩＩａａまたは式３－ＩＩｂａの化合物である。
Figure 2022538300000153
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000154
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000155
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000156
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｔは、２または３である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＩＶａの化合物：
Figure 2022538300000157
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000158
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000159
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－Ｖａｃまたは式３－Ｖａｃｃの化合物：
Figure 2022538300000160
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000161
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000162
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｒは、２または３である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＶＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000163
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000164
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000165
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＶＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000166
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000167
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000168
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｓは、２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＶＩＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000169
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000170
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000171
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式３－ＩＸａｃの化合物：
Figure 2022538300000172
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000173
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５は、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000174
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９は、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎは、０、１、または２であり、
ｑは、２である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、
Figure 2022538300000175
 ではない。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ）、式（１－ＩＩＩ）、式（１－ＩＶ）、式（１－Ｖ－）、式（１－ＶＩ）、式（１－ＶＩＩ）、式（１－ＶＩＩＩ）、式（１－ＩＸ）、式（１－Ｘ）、式（１－ＸＩ）、式（１－ＸＩＩ）、式（１－ＸＩＩＩ）、または式（１－ＸＩＶ）の化合物である。
Ｒ２ａ及びＲ２ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
例えば、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
別の実施例において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
別の実施例において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素である。
一実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、両方とも水素である。
Ｒ４ａ及びＲ４ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
別の実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施例において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、それぞれ独立して、水素である。
一実施形態において、Ｒ４ａ及びＲ４ｂは、両方とも水素である。
実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
ある特定の実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれは、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である。
いくつかの実施形態において、Ｒ２ａ及びＲ２ｂは、両方とも水素である。
いくつかの実施形態において、ｒＲ２ａ及びＲ２ｂは、それぞれ独立して、水素である。
Ｒ６ａ及びＲ６ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
一実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施例において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、それぞれ独立して、水素である。
一実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、両方とも水素である。
実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである。
実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、両方ともハロゲンである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、両方ともアルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは接合されて、オキソ基を形成する。
実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素または置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素または非置換アルキルである。
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａは、ハロゲンまたはアルキルであり、Ｒ６ｂは、水素である。
ある特定の実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂは、両方とも水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれは、独立して、水素である。
Ｒ７ａ及びＲ７ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
別の実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である。
いくつかの実施形態において、Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
実施形態において、Ｒ７ａまたはＲ７ｂは、両方とも水素である。
Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施例において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、それぞれ独立して、水素である。
一実施形態において、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂは、両方とも水素である。
Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
ある特定の実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂは、両方とも水素である。
ある特定の実施形態において、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂは、独立して、水素である。
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
ある特定の実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
ある特定の実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂは、両方とも水素である。
実施形態において、Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂは、それぞれ独立して、水素である。
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
一実施例において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、それぞれ独立して、水素である。
一実施形態において、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂは、両方とも水素である。
Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれは、独立して、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれは、水素である。
Ｒ３６ａ及びＲ３６ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３６ａ及びＲ３６ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである。
Ｒ３５ａ及びＲ３５ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３５ａ及びＲ３５ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ３４ａ及びＲ３４ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３４ａ及びＲ３４ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ３３ａ及びＲ３３ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３３ａ及びＲ３３ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ３２ａ及びＲ３２ｂ基
ある特定の実施形態において、Ｒ３２ａ及びＲ３２ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ３１ａ及びＲ３１ｂ基
実施形態において、Ｒ３１ａ及びＲ３１ｂはそれぞれ、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂ基
ある特定の実施形態において、Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂは、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
Ｒ５基
いくつかの実施形態において、Ｒ５は、シス位置にある水素である。
別の実施形態において、Ｒ５は、トランス位置にある水素である。
さらに別の実施形態において、Ｒ５は、シス位置にあるメチルである。
一実施形態において、Ｒ５は、トランス位置にあるメチルである。
Ｒ１ａ及びＲ１ｂ基
ある特定の実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
ある特定の実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれは、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である。
実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、両方とも水素である。
実施形態において、Ｒ１ａ及びＲ１ｂは、それぞれ独立して、水素である。
整数ｎ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、及びｕ
いくつかの実施形態において、ｎは、１または２である。いくつかの実施形態において、ｎは、１である。別の実施形態において、ｎは、２である。
いくつかの実施形態において、ｕは、１または２である。いくつかの実施形態において、ｕは、１である。別の実施形態において、ｕは、２である。
いくつかの実施形態において、ｑは、０、１、２、または３である。いくつかの例において、ｑは、０、２、または３である。いくつかの実施形態において、ｑは、０または２であり、いくつかの実施形態において、ｑは、２または３である。いくつかの実施形態において、ｑは、１、２、または３である。いくつかの実施形態において、ｑは、０、１、または２である。いくつかの実施形態において、ｑは、０である。いくつかの実施形態において、ｑは、１である。いくつかの実施形態において、ｑは、２である。いくつかの実施形態において、ｑは、３である。
いくつかの実施形態において、ｒは、０、１、または２である。いくつかの例において、ｒは、０または２である。いくつかの実施形態において、ｒは、１または２である。いくつかの実施形態において、ｒは、０または１である。いくつかの実施形態において、ｒは、０である。いくつかの実施形態において、ｒは、１である。いくつかの実施形態において、ｒは、２である。
いくつかの実施形態において、ｓは、０、１、または２である。いくつかの例において、ｓは、０または２である。いくつかの実施形態において、ｓは、１または２である。いくつかの実施形態において、ｓは、０または１である。いくつかの実施形態において、ｓは、０である。いくつかの実施形態において、ｓは、１である。いくつかの実施形態において、ｓは、２である。
いくつかの実施形態において、ｔは、０、１、２、または３である。いくつかの例において、ｔは、０、２、または３である。いくつかの実施形態において、ｔは、０または２であり、いくつかの実施形態において、ｔは、２または３である。いくつかの実施形態において、ｔは、１、２、または３である。いくつかの実施形態において、ｔは、０、１、または２である。いくつかの実施形態において、ｔは、０である。いくつかの実施形態において、ｔは、１である。いくつかの実施形態において、ｔは、２である。いくつかの実施形態において、ｔは、３である。
いくつかの実施形態において、ｒは、１であり、ｓは、１である。
いくつかの実施形態において、ｑは、０、２、または３であり、ｔは、０、２、または３である。別の実施形態において、ｑは、２であり、ｔは、２であり、ｕは、１である。
いくつかの実施形態において、ｑは、０、２、または３であり、ｕは、１である。別の実施形態において、ｑは、０、２、または３であり、ｔは、０、２、または３であり、ｕは、１である。
別の実施形態において、ｑは、１であり、ｔは、０、２、または３であり、ｕは、２である。
いくつかの実施形態において、ｑ、ｕ、ｒ、ｓ、及びｔは、同時に１ではない。いくつかの実施形態において、ｔが０、２、または３であるとき、ｑ、ｕ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。いくつかの実施形態において、ｑが０または２であり、ｕが１であるとき、ｔ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。いくつかの実施形態において、ｕが２であり、ｑが１であるとき、ｔ、ｓ、及びｒは、同時に１ではない。いくつかの実施形態において、ｒが０または２であるとき、ｑ、ｕ、ｓ、及びｔは、同時に１ではない。いくつかの実施形態において、ｓが０または２であるとき、ｑ、ｕ、ｒ、及びｔは、同時に１ではない。
Ｒ３基
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、置換または非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、アルキルは、任意選択で、ハロまたはＯＲＤ１で置換されている。
ある特定の実施形態において、Ｒ３は、置換または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、メチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、－ＯＣＨ３である。
いくつかの実施形態において、Ｒ３は、－ＣＨ２ＯＣＨ３または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である。
Ｒ３ａ基
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、アルキルは、任意選択で、ハロまたはＯＲＤ１で置換されている。
ある特定の実施形態において、Ｒ３ａは、置換または非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、メチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、－ＯＣＨ３である。
いくつかの実施形態において、Ｒ３ａは、－ＣＨ２ＯＣＨ３または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である。
ＲＤ１基
一実施形態において、ＲＤ１は、水素、または置換もしくは非置換アルキルである。
Ｒ１９基
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、非置換アルキルである。
別の実施形態において、Ｒ１９は、メチルまたは水素である。さらに別の実施形態において、Ｒ１９は、メチル、エチル、または水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１９は、非置換アルキルである。
ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、メチルである。
実施形態において、Ｒ１９は、－ＣＨ２ＯＣＨ３である。
実施形態において、Ｒ１９は、－ＯＣＨ３である。
ある特定の実施形態において、Ｒ１９は、エチルである。
実施形態において、Ｒ１９は、水素である。
Ｘ基
いくつかの実施形態において、Ｘは、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｘは、水素、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または置換もしくは非置換アルキルである。
別の実施形態において、Ｘは、置換または非置換ヘテロアリールである。
一実施形態において、Ｘは、置換または非置換の５～１０員ヘテロアリールである。
一実施形態において、Ｘは、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｘは、水素、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである。
例えば、いくつかの例において、Ｘは、置換または非置換のＮ結合ヘテロアリールである。
一実施形態において、Ｎ結合ヘテロアリールは、５～６員のＮ結合ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｘは、
Figure 2022538300000176
 であり、
Ｒ２０のそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧＡ、－Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＧＡ、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＧＡ）２、または－Ｎ（ＲＧＡ）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧＡ；置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～４カルボシリル（ｃａｒｂｏｃｙｌｙｌ）、または置換もしくは非置換の３～４員ヘテロシリル（ｈｅｔｅｒｏｃｙｌｙｌ）であり、
ＲＧＡのそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の炭素環式環、または置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｅは、０、１、２、３、４、または５である。
いくつかの実施形態において、Ｘは、
Figure 2022538300000177
 であり、
Ｒ２０のそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧＡ、－Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、置換または非置換Ｃ１～６アルキル、置換または非置換の３～４員カルボシリル、置換または非置換の３～４員ヘテロシクリルであり、
ＲＧＡのそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の炭素環または複素環を形成し、
ｅは、０、１、２、または３である。
いくつかの実施形態において、Ｘは、
Figure 2022538300000178
 であり、Ｒ２０のそれぞれの例は、独立して、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧＡ、－Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、置換または非置換Ｃ１～６アルキル、置換または非置換の３～４員カルボシリル、置換または非置換の３～４員ヘテロシクリルであり、
ＲＧＡのそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、または２つのＲＧＡ基が介在する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の炭素環または複素環を形成し、
ｅは、０、１、２、または３である。
Ｒ２８基
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、置換または非置換カルボシクリル、置換または非置換ヘテロシクリル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、水素、置換または非置換アルキル、置換または非置換ヘテロアリールである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、水素である。
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、メチルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、
Figure 2022538300000179
 からなる群から選択され、
式中、
Ｒａのそれぞれの例は、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例は、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｐは、０～１１から選択される整数である。
いくつかの実施形態において、Ｒ２８は、
Figure 2022538300000180
 からなる群から選択され、
式中、Ｒａ及びｐは、本明細書で定義されるとおりである。
ある特定の実施形態において、Ｒ２８は、
Figure 2022538300000181
 であり、
式中、Ｒａ及びｐは、本明細書で定義されるとおりである。
ある特定の実施形態において、Ｒ２８は、
Figure 2022538300000182
 である。
Ｒ２０基
いくつかの実施形態において、Ｒ２０は、－ＣＮである。
いくつかの実施形態において、Ｒ２０は、非置換アルキルである。
別の実施形態において、Ｒ２０は、非置換Ｃ１～６アルキルである。
一実施形態において、Ｒ２０は、メチルである。
Ｒ５５基
いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、シアノである。別の実施形態において、Ｒ５５は、メチルである。一実施例において、Ｒ５５は、水素である。別の実施例において、Ｒ５５は、ハロゲンである。
Ｒ１８基
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、非置換アルキルである。
別の実施形態において、Ｒ１８は、置換アルキルである。
一実施形態において、Ｒ１８は、置換または非置換Ｃ１～４アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、非置換Ｃ１～４アルキルである。
いくつかの実施形態において、Ｒ１８は、メチルである。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩ－ａ）、式（１－ＩＩ－ｂ）、式（１－ＩＩ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000183
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＩＩ－ａ）、式（１－ＩＩＩ－ｂ）、式（１－ＩＩＩ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＩＩｄ）の化合物：
Figure 2022538300000184
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＶ－ａ）、式（１－ＩＶ－ｂ）、式（１－ＩＶ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＶ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000185
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000186
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000187
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000188
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000189
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＶＩＩＩ－ａ）または式（１－ＶＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000190
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＩＸ－ａ）、式（１－ＩＸ－ｂ）、式（１－ＩＸ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＸ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000191
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－Ｘ－ａ）、式（１－Ｘ－ｂ）、式（１－Ｘ－ｃ）、または式（１－Ｘ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000192
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩ－ａ）、式（１－ＸＩ－ｂ）、式（１－ＸＩ－ｃ）、もしくは式（１－ＸＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000193
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩ－ａ）もしくは式（１－ＸＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000194
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＩＩ－ａ）あるいは式（１－ＸＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000195
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
Ｒ５５は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、式（１－Ｉ）の化合物は、式（１－ＸＩＶ－ａ）の化合物：
Figure 2022538300000196
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
Ｒ５５は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｃの化合物：
Figure 2022538300000197
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、化合物は、式２－Ｉｄ、
Figure 2022538300000198
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｅの化合物：
Figure 2022538300000199
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｆの化合物：
Figure 2022538300000200
 またはその薬学的に許容される塩である。
ある実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｇ、式２－Ｉｇ－ＩＩ、もしくは式２－Ｉｈの化合物：
Figure 2022538300000201
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｇａもしくは式２－Ｉｈａの化合物：
Figure 2022538300000202
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｇｂもしくは式２－Ｉｈｂの化合物：
Figure 2022538300000203
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｇｃの化合物：
Figure 2022538300000204
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式２－Ｉの化合物は、式２－Ｉｇｄの化合物：
Figure 2022538300000205
 またはその薬学的に許容される塩である。
Ｃ１７における立体化学は、以下のうちのいずれかであるが、同等の方法で描写され得ることを理解されたい。
Figure 2022538300000206
いくつかの実施形態において、式３－ＩＩＩの化合物は、式３－ＩＩＩ－ａｄの化合物：
Figure 2022538300000207
 またはその薬学的に許容される塩である。
いくつかの実施形態において、式３－ＩＩＩの化合物は、式３－ＩＩＩ－ｂｄの化合物：
Figure 2022538300000208
 またはその薬学的に許容される塩である。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、水素である。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、ハロゲンである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、シアノである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、非置換アルキルである。いくつかの実施形態において、Ｒ５５は、置換アルキルである。
いくつかの実施形態において、薬学的組成物は、本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む。
いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法は、有効量の本明細書に記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を対象に投与することを含む。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
いくつかの実施形態において、化合物は、以下の表１に特定される化合物からなる群から選択される。
Figure 2022538300000209
Figure 2022538300000210
Figure 2022538300000211
Figure 2022538300000212
Figure 2022538300000213
Figure 2022538300000214
Figure 2022538300000215
Figure 2022538300000216
Figure 2022538300000217
Figure 2022538300000218
Figure 2022538300000219
Figure 2022538300000220
Figure 2022538300000221
Figure 2022538300000222
Figure 2022538300000223
いくつかの実施形態において、化合物は、以下の表２に特定される化合物からなる群から選択される。
Figure 2022538300000224
Figure 2022538300000225
Figure 2022538300000226
Figure 2022538300000227
Figure 2022538300000228
いくつかの実施形態において、化合物は、以下の表３に特定される化合物からなる群から選択される。
Figure 2022538300000229
Figure 2022538300000230
Figure 2022538300000231
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物）の薬学的に許容される塩が提供される。
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）もしくは（３－Ｉ）の化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
本明細書に記載の本発明の化合物は、ある特定の実施形態において、ＧＡＢＡ調節剤として機能し、例えば、ＧＡＢＡＡ受容体を陽性または陰性のいずれかの方法で作用させる。中枢神経系（ＣＮＳ）の興奮性の調節因子として、ＧＡＢＡＡ受容体を調節するそれらの能力によって媒介されるように、そのような化合物は、ＣＮＳ活性を有すると予想される。
したがって、別の態様において、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、ＣＮＳ関連障害を必要とする対象においてそれを行う方法が提供される。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に、皮下的に、静脈内に、または筋肉内に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、経口的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、例えば、連続静脈内注入によって連続的に投与される。
本発明の例示的な化合物は、当業者に既知の方法またはある特定の参照を使用して、以下の既知の出発物質から合成され得る。一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物）の薬学的に許容される塩である。
代替実施形態
代替実施形態において、本明細書に記載の化合物はまた、１つ以上の同位体置換を含み得る。例えば、水素は、２Ｈ（Ｄもしくは重水素）または３Ｈ（Ｔもしくはトリチウム）であってもよく、炭素は、例えば、１３Ｃまたは１４Ｃであってもよく、酸素は、例えば、１８Ｏであってもよく、窒素は、例えば、１５Ｎなどであってもよい。他の実施形態において、特定の同位体（例えば、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１８Ｏ、または１５Ｎ）は、化合物の特定の部位を占める元素の全同位体存在量の少なくとも１％、少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、少なくとも３０％、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％、少なくとも９５％、少なくとも９９％、または少なくとも９９．９％を表すことができる。
薬学的組成物
一態様において、本明細書では、本明細書に記載の化合物（例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）もしくは（３－Ｉ）の化合物）またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む薬学的組成物が提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、有効量で薬学的組成物中に提供される。ある特定の実施形態において、本発明の化合物は、治療有効量で提供される。
ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、有効量の活性成分を含む。ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、治療有効量の活性成分を含む。
本明細書に提供される薬学的組成物は、経口（経腸）投与、非経口（注射による）投与、直腸投与、経皮投与、皮内投与、髄腔内投与、皮下（ＳＣ）投与、静脈内（ＩＶ）投与、筋肉内（ＩＭ）投与、及び鼻腔内投与を含むが、これらに限定されない、様々な経路によって投与され得る。
一般に、本明細書に提供される化合物は、有効量で投与される。実際に投与される化合物の量は、典型的には、治療される状態、選択された投与経路、実際に投与される化合物、個々の患者の年齢、体重、及び応答、患者の症状の重症度などを含む、関連する状況を考慮して、医師によって決定される。
ＣＮＳ障害の発症を防止するために使用される場合、本明細書に提供される化合物は、典型的には、上記の投薬量レベルで、医師の助言及び監督の下に、状態を発症するリスクのある対象に投与される。特定の状態を発症するリスクのある対象には、概して、その状態の家族歴を有する対象、または遺伝子検査もしくはスクリーニングによってその状態を発症することが特に容易であると特定された対象が含まれる。
本明細書に提供される薬学的組成物は、慢性的に投与することもできる（「慢性投与」）。慢性投与とは、化合物またはその薬学的組成物を、例えば、３ヶ月、６ヶ月、１年、２年、３年、５年などの長期間にわたって投与すること、または例えば、対象の生涯にわたって無期限に継続し得ることを指す。ある特定の実施形態において、慢性投与は、血液中の一定レベルの化合物を、例えば、治療濃度域内で長期間にわたって提供することを意図する。
本発明の薬学的組成物は、様々な投与方法を使用してさらに送達することができる。例えば、ある特定の実施形態において、例えば、血液中の化合物の濃度を有効レベルまで上げるために、薬学的組成物をボーラスとして与えてもよい。ボーラス用量の配置は、全身にわたって所望される活性成分の全身レベルに依存し、例えば、筋肉内または皮下ボーラス用量は、活性成分のゆっくりとした放出を可能にする一方で、静脈に直接送達されるボーラス（例えば、点滴を通して）は、血液中の活性成分の濃度を有効レベルまで迅速に上昇させる、はるかに速い送達を可能にする。他の実施形態において、薬学的組成物は、例えば、点滴によって、対象の体内の活性成分の定常状態濃度の維持を提供するために、連続注入として投与され得る。さらに、なおもさらなる他の実施形態において、薬学的組成物は、ボーラス用量として最初に投与され、続いて連続注入されてもよい。
経口投与のための組成物は、バルク液体溶液もしくは懸濁液、またはバルク粉末の形態をとることができる。しかしながら、より一般的には、組成物は、正確な投与を容易にするために単位剤形で提示される。「単位剤形」という用語は、ヒト対象及び他の哺乳動物のための一体型投薬量として好適な物理的に別個の単位を指し、それぞれの単位が、好適な薬学的賦形剤と関連して、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性物質を含有する。典型的な単位剤形としては、固体組成物の場合には、液体組成物または丸剤、錠剤、カプセルなどの事前に充填された、事前に測定されたアンプルまたはシリンジが挙げられる。そのような組成物において、化合物は、通常、微量成分（約０．１～約５０重量％、好ましくは約１～約４０重量％）であり、残りは、所望の剤形を形成するのに役立つ様々なビヒクルまたは賦形剤及び加工助剤である。
経口投与では、１日当たり１～５回、特に２～４回、典型的には３回の経口投与が代表的なレジメンである。これらの投与パターンを使用して、それぞれの用量は、約０．０１～約２０ｍｇ／ｋｇの本発明で提供される化合物を提供し、好ましい用量は、それぞれ約０．１～約１０ｍｇ／ｋｇ、特に約１～約５ｍｇ／ｋｇを提供する。
経皮用量は、概して、注射用量を使用して達成されるものよりも同様またはより低い血中レベルを提供するように選択され、概して、約０．０１～約２０重量％、好ましくは約０．１～約２０重量％、好ましくは約０．１～約１０重量％、より好ましくは約０．５～約１５重量％の範囲の量である。
注射用量レベルは、約０．１ｍｇ／ｋｇ／時間～少なくとも２０ｍｇ／ｋｇ／時間の範囲であり、すべて、約１～約１２０時間、特に２４～９６時間である。約０．１ｍｇ／ｋｇ～約１０ｍｇ／ｋｇ以上の事前充填ボーラスも、適切な定常状態レベルを達成するために投与されてもよい。最大総用量は、４０～８０ｋｇのヒト患者の場合、約５ｇ／日を超えることは予想されない。
経口投与に好適な液体形態は、緩衝剤、懸濁剤及び分注剤、着色剤、香料などを有する好適な水性または非水性ビヒクルを含んでよい。固体形態としては、例えば、以下の成分もしくは同様の性質を有する化合物のうちのいずれか：微結晶性セルロース、トラガカントガムもしくはゼラチンなどの結合剤；デンプンもしくはラクトースなどの賦形剤；アルギン酸、プリモゲル、もしくはトウモロコシデンプンなどの崩壊剤；ステアリン酸マグネシウムなどの潤滑剤；コロイド状二酸化ケイ素などの流動促進剤；スクロースもしくはサッカリンなどの甘味剤；またはペパーミント、サリチル酸メチル、もしくはオレンジ香料などの香味剤を挙げることができる。
注射用組成物は、典型的には、注射用滅菌生理食塩水もしくはリン酸緩衝生理食塩水、または当該技術分野で既知の他の注射用賦形剤に基づく。前述のように、そのような組成物中の活性化合物は、典型的には、約０．０５～１０重量％であることが多く、残りは、注射可能な賦形剤などである。
経皮組成物は、典型的には、活性成分（複数可）を含有する局所軟膏またはクリームとして製剤化される。軟膏として製剤化される場合、活性成分は、典型的には、パラフィン性または水混和性の軟膏基剤のいずれかと組み合わせられる。あるいは、活性成分は、例えば水中油性クリームベースを有するクリーム中で製剤化されてもよい。そのような経皮製剤は、当該技術分野で周知であり、一般に、活性成分または製剤の安定性の皮膚浸透を高めるための追加の成分を含む。そのような既知の経皮製剤及び成分はすべて、本明細書に提供される範囲内に含まれる。
本明細書に提供される化合物はまた、経皮デバイスによって投与することもできる。したがって、経皮投与は、リザーバータイプまたは多孔質膜タイプのいずれか、または固体マトリックス品種のパッチを使用して達成することができる。
経口投与可能組成物、注射可能組成物または局所投与可能組成物の上述の構成成分は、単なる代表的なものである。他の材料、ならびに加工技法などは、参照により本明細書に組み込まれるＰａｒｔ ８ ｏｆ Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，１７ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ，１９８５，Ｍａｃｋ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅａｓｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａに記載されている。
本発明の化合物は、徐放性形態で、または徐放性薬物送達系から投与することもできる。代表的な徐放性材料の説明は、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓに見出すことができる。
本発明はまた、本発明の化合物の薬学的に許容される酸付加塩に関する。薬学的に許容される塩を調製するために使用され得る酸は、非毒性酸付加塩、すなわち、塩酸塩、ヨウ化水素酸塩、臭化水素酸塩、硝酸塩、硫酸塩、重硫酸塩、リン酸塩、酢酸塩、乳酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、安息香酸塩、パラトルエンスルホン酸塩などの薬理学的に許容されるアニオンを含有する塩を形成するものである。
別の態様において、本発明は、本発明の化合物及び薬学的に許容される賦形剤、例えば、静脈内（ＩＶ）投与などの注射に好適な組成物を含む薬学的組成物を提供する。
薬学的に許容される賦形剤としては、所望される特定の剤形、例えば、注射に好適であるような、あらゆる希釈剤または他の液体ビヒクル、分散剤もしくは懸濁助剤、表面活性剤、等張剤、防腐剤、滑沢剤などが挙げられる。薬学的組成物剤の製剤及び／または製造における一般的考慮事項は、例えば、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ’ｓ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｓｉｘｔｅｅｎｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｅ．Ｗ．Ｍａｒｔｉｎ（Ｍａｃｋ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｅａｓｔｏｎ，Ｐａ．，１９８０）、及びＲｅｍｉｎｇｔｏｎ：Ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｙ，２１ｓｔ Ｅｄｉｔｉｏｎ（Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ＆Ｗｉｌｋｉｎｓ，２００５）に見出すことができる。
例えば、注入可能な調製物、例えば、注入可能な滅菌水性懸濁液は、既知の技術に従い、好適な分散剤または湿潤剤及び懸濁剤を使用して製剤化され得る。用いることができる例示的な賦形剤には、水、滅菌生理食塩水もしくはリン酸緩衝生理食塩水、またはリンゲル液が含まれるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、薬学的組成物は、シクロデキストリン誘導体をさらに含む。最も一般的なシクロデキストリンは、それぞれ６、７及び８α－１、４結合グルコース単位からなるα－、β－及びγ－シクロデキストリンであり、任意選択的に、連結した糖部分に１つ以上の置換基を含み、これには、置換または非置換メチル化、ヒドロキシアルキル化、アシル化、及びスルホアルキルエーテル置換が含まれるが、これらに限定されない。ある特定の実施形態において、シクロデキストリンは、スルホアルキルエーテルβ－シクロデキストリン、例えば、ＣＡＰＴＩＳＯＬ（登録商標）としても知られるスルホブチルエーテルβ－シクロデキストリンである。例えば、米国特許第５，３７６，６４５号を参照されたい。ある特定の実施形態において、組成物は、ヘキサプロピル－β－シクロデキストリンを含む。より特定の実施形態において、組成物は、ヘキサプロピル－β－シクロデキストリン（水中１０～５０％）を含む。
注入可能な組成物は、例えば、細菌保持フィルターを通す濾過によって、または使用前に滅菌水もしくは他の滅菌注入可能な媒体中に溶解もしくは分散され得る滅菌固体組成物の形態で滅菌剤を組み込むことによって滅菌することができる。
一般に、本明細書に提供される化合物は、有効量で投与される。実際に投与される化合物の量は、典型的には、治療される状態、選択された投与経路、実際に投与される化合物、個々の患者の年齢、体重、応答、患者の症状の重症度などを含む、関連する状況を考慮して、医師によって決定される。
組成物は、正確な投与を容易にするために単位剤形で提示される。「単位剤形」という用語は、ヒト対象及び他の哺乳動物のための一体型投薬量として好適な物理的に別個の単位を指し、それぞれの単位が、好適な薬学的賦形剤と関連して、所望の治療効果をもたらすように計算された所定量の活性物質を含有する。典型的な単位剤形としては、液体組成物の事前に充填された、事前に測定されたアンプルまたはシリンジが挙げられる。そのような組成物において、化合物は、通常、微量成分（約０．１～約５０重量％、好ましくは約１～約４０重量％）であり、残りは、所望の剤形を形成するのに役立つ様々なビヒクルまたは賦形剤及び加工助剤である。
本明細書に提供される化合物は、単独の活性剤として投与することも、他の活性剤と組み合わせて投与することもできる。一態様において、本発明は、本発明の化合物と、別の薬理活性剤との組み合わせを提供する。併用投与は、例えば、分離、逐次、同時、及び交互投与を含む、当業者に明らかな任意の技法によって進行することができる。
本明細書に提供される薬学的組成物の説明は、主に、ヒトへの投与に好適な薬学的組成物を対象とするが、そのような組成物が、一般に、あらゆる種類の動物への投与に好適であることが当業者によって理解されるであろう。種々の動物への投与に好適な組成物を作製するために、ヒトへの投与に好適な薬学的組成物の改変が十分に理解されており、当業者は、通常の実験でそのような改変を設計及び／または実施することができる。薬学的組成物の製剤化及び／または製造における一般的考慮事項は、例えば、Ｒｅｍｉｎｇｔｏｎ：Ｔｈｅ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｙ，２１ｓｔ ｅｄ．，Ｌｉｐｐｉｎｃｏｔｔ Ｗｉｌｌｉａｍｓ＆Ｗｉｌｋｉｎｓ，２００５に見出すことができる。
一態様において、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物を含む組成物（例えば、固体組成物）を含むキットが提供される。
併用療法
本明細書に記載される化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、追加の薬剤または療法と組み合わせて投与され得る。本明細書で開示される化合物を投与される対象は、別の薬剤または療法での治療から利益を得るであろう疾患、障害、もしくは状態、またはその症状を有し得る。併用療法は、２つ以上の薬剤を投与することによって達成されてもよく、これらの薬剤のそれぞれは、別々に製剤化されて投与されるか、または２つ以上の薬剤を単一の製剤で投与することによって達成されてもよい。いくつかの実施形態において、併用療法における２つ以上の薬剤を同時に投与することができる。他の実施形態において、併用療法における２つ以上の薬剤は、別々に投与される。例えば、第１の薬剤（または薬剤の組み合わせ）の投与は、第２の薬剤（または薬剤の組み合わせ）の投与の数分、数時間、数日、または数週間前に行うことができる。したがって、２つ以上の薬剤は、互いの数分以内、または互いの１、２、３、６、９、１２、１５、１８、もしくは２４時間以内、または互いの１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１４日以内、または互いの２、３、４、５、６、７、８、９、もしくは数週間以内に投与することができる。いくつかの場合において、さらに長い間隔が可能である。多くの場合、併用療法で使用される２つ以上の薬剤は、患者の体内に同時に存在することが望ましいが、これはそうである必要はない。
併用療法はまた、構成剤の異なる配列決定を使用して、併用に使用される薬剤のうちの１つ以上の２回以上の投与を含むことができる。例えば、薬剤Ｘ及び薬剤Ｙが組み合わせて使用される場合、例えば、Ｘ－Ｙ－Ｘ、Ｘ－Ｘ－Ｙ、Ｙ－Ｘ－Ｙ、Ｙ－Ｙ－Ｘ、Ｘ－Ｘ－Ｙ－Ｙなどの順に、任意の組み合わせで１回以上連続して投与することができる。例示的な追加の薬剤を以下に記載する。
選択的セロトニン再取り込み阻害剤（ＳＳＲＩ）
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＳＳＲＩ（複数可）と組み合わせて投与される。ＳＳＲＩには、脳内のセロトニンのレベルを増加させる抗うつ薬が含まれる。例示的なＳＳＲＩとしては、シタロプラム（Ｃｅｌｅｘａ）、エスシタロプラム（Ｌｅｘａｐｒｏ）、フルオキセチン（Ｐｒｏｚａｃ）、フルボキサミン（Ｌｕｖｏｘ）、パロキセチン（Ｐａｘｉｌ）、及びセルトラリン（Ｚｏｌｏｆｔ）が挙げられるが、これらに限定されない。
ノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＮＥＲＩ）
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＮＥＲＩ（複数可）と組み合わせて投与される。例示的なＮＥＲＩとしては、アトモキセチン（Ｓｔｒａｔｔｅｒａ）、レボキセチン（Ｅｄｒｏｎａｘ、Ｖｅｓｔｒａ）、ブプロピオン（Ｗｅｌｌｂｕｔｒｉｎ、Ｚｙｂａｎ）、デュロキセチン、デシプラミン（Ｎｏｒｐｒａｍｉｎ）、アメダリン（ＵＫ－３５４０－１）、ダレダリン（ＵＫ－３５５７－１５）、エジボキセチン（ＬＹ－２２１６６８４）、エスレボキセチン、ロルタラミン（ＬＭ－１４０４）、ニソキセチン（ＬＹ－９４，９３９）、タロプラム（タスロプラム）（Ｌｕ ３－０１０）、タルスプラム（Ｌｕ ５－００５）、タンダミン（ＡＹ－２３，９４６）、及びビロキサジン（Ｖｉｖａｌａｎ）が挙げられるが、これらに限定されない。
抗精神病薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、抗精神病薬（複数可）と組み合わせて投与される。抗精神病薬としては、ドーパミン経路におけるドーパミン作動性神経伝達を低下させる、Ｄ２拮抗薬が挙げられる。例示的な抗精神病薬としては、アセナピン（Ｓａｐｈｒｉｓ）、アリピプラゾール（Ａｂｉｌｉｆｙ）、カリプラジン（Ｖｒａｙａｒ）、クロザピン（Ｃｌｏｚａｒｉｌ）、ドロペリドール、フルペラピン、メソリダジン、クエチアピン半フマル酸塩、ラクロプリド、スピペロン、スルピリド、トリメトベンザミド塩酸塩、トリフルオロペラジン二塩酸塩、ルラシドン（Ｌａｔｕｄａ）、オランザピン（Ｚｙｐｒｅｘａ）、クエチアピン（Ｓｅｒｏｑｕｅｌ）、ゾテピン、リスペリドン（Ｒｉｓｐｅｒｄａｌ）、ジプラシドン（Ｇｅｏｄｏｎ）、メソチダジン、クロロプロマジン塩酸塩、及びハロペリドール（Ｈａｌｄｏｌ）が挙げられるが、これらに限定されない。
カンナビノイド
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、カンナビノイド（複数可）と組み合わせて投与される。例示的なカンナビノイドとしては、カンナビジオール（Ｅｐｉｄｉｏｌｅｘ）、テトラヒドロカンナビノール酸、テトラヒドロカンナビノール、カンナビドール酸、カンナビノール、カンナビゲロール、カンナビクロメン、テトラヒドロカンナビバリン、及びカンナビジバリンが挙げられるが、これらに限定されない。
ＮＭＤＡ受容体拮抗薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＮＭＤＡ受容体拮抗薬（複数可）と組み合わせて投与される。ＮＭＤＡ受容体拮抗薬は、Ｎ－メチル－ｄ－アスパラギン酸受容体の作用を阻害する薬物のクラスである。例示的なＮＭＤＡ拮抗剤としては、ケタミン、エスケタミン、ケトベミドン、イフェンドプリル、５，７－ジクロロキヌル酸、リコスチネル、メマンチン、ガベステル、フェンシクリジン、デキストロメトルファン、レマセミド、セルフォテル、チレタミン、デキストロプロポキシフェン、アプチガネル、デキサナビノール、及びアマンタジンが挙げられるが、これらに限定されない。ＮＭＤＡ受容体拮抗薬としては、メタドン、デキストロプロポキシフェン、ペチジン、レボルファノール、トラマドール、ネラメキサン、及びケトベミドンなどのオピオイドも挙げられる。
ＧＡＢＡ受容体作動薬
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、ＧＡＢＡ受容体作動薬（複数可）と組み合わせて投与される。ＧＡＢＡ受容体作動薬は、ＧＡＢＡ受容体のうちの１つ以上の作動薬である薬物のクラスである。例示的なＧＡＢＡ受容体作動薬としては、クロバザム、トピラメート、ムシモール、プロガビド、リルゾール、バクロフェン、ガバペンチン、ビガバトリン、バルプロ酸、チアガビン、ラモトリギン、プレガバリン、フェニロイン、カルバマゼピン、チオペンタール、チアミラール、ペントバルビタール、セコバルビタール、ヘキソバルビタール、ブトバルビタール、アモバルビタール、バルビタール、メフォバルビタール、フェノバルビタール、プリミドン、ミダゾラム、トリアゾラム、ロメタゼパム、フルタゾラム、ニトラゼパム、フルリトラゼパム、ニメタゼパム、ジアゼパム、メダゼパム、オキサゾラム、プラゼアム、トフィソアム、リルマザホン、ロラゼパム、テマゼパム、オキサゼパム、フルジアゼパム、クロルジアゼポキシド、クロキサゾラム、フルトプラゼパム、アルプラゾラム、エスタゾラム、ブロマゼパム、フルラゼパム、クロラゼプ酸カリウム、ハロキサゾラム、ロフラゼプ酸エチル、クアゼパム、クロナゼパム、メキサゾラム、エチゾラム、ブロチゾラム、クロチアゼパム、ブロチゾラム、クロチアゼパム、プロポフォール、フォスプロポフォール、ゾルピデム、ゾピクロン、エスゾピクロン、ムシモール、ＴＦＱＰ／ガボキサドール、イソグバシン、コウジアミン、ＧＡＢＡ、ホモタウリン、ホモヒポタウリン、トランス－アミノシクロペンタン－３－カルボン酸、トランス－アミノ－４－クロトン酸、ｂ－グアニジノプロピオン酸、ホモ－ｂ－プロリン、イソニペコチン酸、３－（（アミノイミノメチル）チオ）－２－プロペン酸（ＺＡＰ Ａ）、イミダゾール酢酸、及びピペリジン－４－スルホン酸（Ｐ４Ｓ）が挙げられるが、これらに限定されない。
コリンエステラーゼ阻害剤
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、コリンエステラーゼ阻害剤（複数可）と組み合わせて投与される。一般に、コリン作動薬は、アセチルコリン及び／またはブチリルコリンの作用を模倣する化合物である。コリンエステラーゼ阻害剤は、アセチルコリンの分解を防止する薬物のクラスである。例示的なコリンエステラーゼ阻害剤としては、ドネピジル（Ａｒｉｃｅｐｔ）、タクリン（Ｃｏｇｎｅｘ）、リバスチグミン（Ｅｘｅｌｏｎ、Ｅｘｅｌｏｎ Ｐａｔｃｈ）、ガランタミン（Ｒａｚａｄｙｎｅ、Ｒｅｍｉｎｙｌ）、メマンチン／ドネペジル（Ｎａｍｚａｒｉｃ）、アンベノニウム（Ｍｙｔｅｌａｓｅ）、ネオスチグミン（Ｂｌｏｘｉｖｅｒｚ）、ピリドスチグミン（Ｍｅｓｔｉｎｏｎ Ｔｉｍｅｓｐａｎ、Ｒｅｇｏｎｏｌ）、及びガランタミン（Ｒａｚａｄｙｎｅ）が挙げられるが、これらに限定されない。
本開示は、とりわけ、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、抗体、及び抗菌剤からなる群から選択される薬剤を以前に投与された対象への、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与も企図する。いくつかの実施形態において、追加の薬剤は、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与前に対象に投与され、追加の薬剤は、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、抗体、及び抗菌剤からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、気管支筋肉／気道弛緩剤、抗ウイルス剤、酸素、及び抗菌剤から選択される薬剤と共に対象に同時投与される。
使用方法及び治療
ある態様において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物は、ＣＮＳ関連障害（例えば、睡眠障害、うつ病などの気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、てんかん発生、記憶障害及び／または認知障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、または耳鳴り）を治療を必要とする対象（例えば、レット症候群、脆弱Ｘ症候群、もしくはアンジェルマン症候群を有する対象）においてそれを行うための治療薬として有用であると想定される。ＧＡＢＡ変調に関連する例示的なＣＮＳ状態としては、睡眠障害［例えば、不眠症］、気分障害［例えば、うつ病（例えば、大うつ病性障害（ＭＤＤ））、気分変調障害（例えば、軽度のうつ病）、双極性障害（例えば、Ｉ及び／またはＩＩ）、不安障害（例えば、全般性不安障害（ＧＡＤ）、社会不安障害）、ストレス、心的外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）、強迫性障害（例えば、強迫性障害（ＯＣＤ））］、統合失調症スペクトラム障害［例えば、統合失調症、統合失調感情障害］、けいれん性障害［例えば、てんかん（例えば、てんかん重積状態（ＳＥ）、発作）］、記憶障害及び／または認知障害［例えば、注意障害（例えば、注意欠陥・多動障害（ＡＤＨＤ）、認知症（例えば、アルツハイマー型認知症、レビー小体型認知症、血管型認知症］、運動障害［例えば、ハンチントン病、パーキンソン病］、パーソナリティ障害［例えば、反社会性パーソナリティ障害］、自閉症スペクトラム障害（ＡＳＤ）［例えば、自閉症、シナプトパシー、例えば、レット症候群、脆弱Ｘ症候群、アンジェルマン症候群などの自閉症の単生的原因］、疼痛［例えば、神経因性疼痛、傷害関連疼痛症候群、急性疼痛、慢性疼痛］、外傷性脳損傷（ＴＢＩ）、血管性疾患［例えば、脳卒中、虚血、血管奇形］、物質乱用障害及び／または離脱症候群［例えば、アヘン、コカイン、及び／またはアルコール常用癖］、ならびに耳鳴りが挙げられるが、これらに限定されない。
ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、産後うつ病である。ある特定の実施形態において、ＣＮＳ関連障害は、大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、中等度の大うつ病性障害である。ある特定の実施形態において、大うつ病性障害は、重度の大うつ病性障害である。
ある態様において、対象における発作活性の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。いくつかの実施形態において、方法は、てんかん発生を緩和または予防する。
さらに別の態様において、本発明の化合物と別の薬理活性剤との組み合わせが提供される。本明細書に提供される化合物は、単独の活性剤として投与することも、他の薬剤と組み合わせて投与することもできる。併用投与は、例えば、分離、逐次、同時及び交互投与を含む、当業者に明らかな任意の技法によって進行することができる。
別の態様において、脳興奮性に関連する状態に罹患しやすい、または罹患した対象における脳興奮性の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象におけるストレスまたは不安の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物またはその組成物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における不眠症の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物またはその組成物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、睡眠を誘導し、実質的な反跳性不眠症が誘導されない正常な睡眠で見出されるＲＥＭ睡眠のレベルを実質的に維持する方法であって、有効量の本発明の化合物を投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における月経前症候群（ＰＭＳ）または産後うつ病（ＰＮＤ）の緩和または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。
さらに別の態様において、対象における気分障害の治療または予防方法であって、有効量の本発明の化合物を、そのような治療を必要とする対象に投与することを含む、方法が提供される。ある特定の実施形態において、気分障害は、うつ病である。
さらに別の態様において、治療有効量の本発明の化合物を対象に投与することによる、認知促進または記憶障害の治療方法が提供される。ある特定の実施形態において、障害は、アルツハイマー病である。ある特定の実施形態において、障害は、レット症候群である。
さらに別の態様において、治療有効量の本発明の化合物を対象に投与することによる、注意障害の治療方法が提供される。ある特定の実施形態において、注意障害は、ＡＤＨＤである。
ある特定の実施形態において、化合物は、対象に慢性的に投与される。ある特定の実施形態において、化合物は、対象に、経口、皮下、筋肉内、または静脈内に投与される。
神経内分泌障害及び機能障害
本明細書では、神経内分泌障害及び機能障害を治療するために使用することができる方法が提供される。本明細書で使用される場合、「神経内分泌障害」または「神経内分泌機能障害」は、脳に直接関連する身体のホルモン産生の不均衡によって引き起こされる様々な状態を指す。神経内分泌障害は、神経系と内分泌系との間の相互作用を伴う。視床下部及び下垂体は、ホルモンの産生を調節する脳の２つの領域であるため、例えば、外傷性脳損傷による視床下部または下垂体の損傷は、ホルモンの産生及び脳の他の神経内分泌機能に影響を及ぼし得る。いくつかの実施形態において、神経内分泌障害または機能障害は、女性の健康障害または状態（例えば、本明細書に記載の女性の健康障害または状態）と関連付けられる。いくつかの実施形態において、神経内分泌障害または機能障害は、女性の健康障害と関連付けられるか、または多嚢胞性卵巣症候群である状態である。
神経内分泌障害の症状としては、行動的、感情的、及び睡眠関連の症状、生殖機能に関連する症状、ならびに体細胞症状が挙げられるが、これらに限定されず、疲労、記憶力の低下、不安、抑うつ、体重増加または減少、感情的な持続可能性、集中力の欠如、注意力の低下、脂質の低下、不妊症、無月経、筋肉量の低下、腹部の体脂肪の増加、低血圧、心拍数の低下、脱毛、貧血、便秘、風邪不耐性、及び乾燥した皮膚が含まれるが、これらに限定されない。
神経変性疾患及び障害
本明細書に記載される方法は、神経変性疾患及び障害を治療するために使用することができる。「神経変性疾患」という用語は、ニューロンの構造もしくは機能の進行性喪失、またはニューロンの死と関連付けられる疾患及び障害を含む。神経変性疾患及び障害としては、アルツハイマー病（軽度、中等度、もしくは重度の認知障害の関連症状を含む）；筋萎縮性側索硬化症（ＡＬＳ）；無酸素性及び虚血性傷害；運動失調及びけいれん（統合失調感情障害もしくは統合失調症の治療に使用される薬物によって引き起こされる発作の治療及び予防を含む）；良性の忘我性；脳浮腫；ＭｃＬｅｏｄ神経棘細胞症候群（ＭＬＳ）を含む小脳運動失調症；閉鎖性頭部損傷；昏睡；挫傷（例えば、脊髄損傷及び頭部損傷）；多発梗塞性認知症及び老年認知症を含む認知症；意識障害；ダウン症候群；薬物誘発または薬剤誘発パーキンソニズム（神経遮断薬誘発性急性アカシジア、急性ジストニア、パーキンソニズム、もしくは遅発性ジスキネジア、神経遮断薬悪性症候群、または薬剤誘発性姿勢振戦）；てんかん；脆弱Ｘ症候群；トゥレット症候群；頭部外傷；聴覚障害及び聴力損失；ハンチントン病；レノックス症候群；レボドパ誘発性ジスキネジア；精神遅滞；アキネジア及びアキネジア（硬性）症候群を含む運動障害（基底神経節石灰化、皮質基底変性、多系統萎縮、パーキンソニズム－ＡＬＳ認知症複合体、パーキンソン病、脳炎後パーキンソニズム、及び進行性核上性麻痺を含む）；筋けいれん及び筋けいれんまたは筋力低下に関連する障害（良性遺伝性舞踏歌、薬物誘発性舞踏歌、片側バリスム、ハンチントン病、神経有棘赤血球症、シドナム舞踏病、及び症候性舞踏病などの舞踏病を含む）、ジスキネジア（複合チック、単純チック、及び症候性チックなどのチックを含む）、ミオクローヌス（全般性ミオクローヌス及び限局性シロクローヌスを含む）、振戦（安静時振戦、体位性振戦、及び意図振戦など）及びジストニア（軸性ジストニア、ジストニア性書痙、片麻痺性ジストニア、発作性ジストニア、及び限局性ジストニア、例えば、目瞼けいれん、顎口腔ジストニア、ならびにけいれん性ジストニア及び斜頚など）；眼の損傷、網膜症または眼球の黄斑変性を含む神経損傷；脳卒中、血栓性脳卒中、脳卒中、脳虚血、脳血栓、低血糖、無記憶症、低酸素症、無酸素症、周産期窒息及び心停止；パーキンソン病、発作；てんかん重積状態；脳卒中；耳鳴り；結節性硬化症、及びウイルス感染誘発性神経変性（例えば、後天性免疫不全症候群（ＡＩＤＳ）及び脳症によって引き起こされる）が挙げられるが、これらに限定されない。神経変性疾患には、脳卒中、血栓塞栓性脳卒中、出血性脳卒中、脳虚血、脳血管けいれん、低血糖、健忘、低酸素症、無酸素症、周産期窒息、及び心停止に続く神経毒性損傷も含まれるが、これらに限定されない。神経変性疾患の治療または予防方法はまた、神経変性疾患の特徴である神経細胞機能の喪失を治療または予防することも含む。
気分障害
また、本明細書では、気分障害、例えば、臨床的うつ病、産後うつ病（ｐｏｓｔｎａｔａｌ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）もしくは産後うつ病（ｐｏｓｔｐａｒｔｕｍ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ）、周産期うつ病、非定型うつ病、メランコリックうつ病、精神病性大うつ病、緊張病性うつ病、季節性情動障害、気分変調症、二重うつ病、うつ病性パーソナリティ障害、再発性短時間うつ病、軽度うつ病性障害、双極性障害もしくは躁うつ病性障害、慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病、治療抵抗性うつ病、難治性うつ病、自殺傾向、自殺念慮、または自殺行動を治療するための方法も提供される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の方法は、うつ病（例えば、中等度または重度のうつ病）に罹患している対象に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、気分障害は、本明細書に記載の疾患または障害（例えば、神経内分泌疾患及び障害、神経変性疾患及び障害（例えば、てんかん）、運動障害、振戦（例えば、パーキンソン病）、女性の健康障害または状態）と関連付けられる。
臨床的うつ病は、大うつ病、大うつ病性障害（ＭＤＤ）、重度のうつ病、単極性うつ病、単極性障害、及び再発性うつ病としても知られており、低い自尊心及び通常楽しい活動への関心または快感の喪失を伴う広範囲かつ持続的な低い気分を特徴とする精神障害を指す。臨床的うつ病を有する人の中には、睡眠障害があり、体重が減少し、一般的に興奮してイライラする人がいる。臨床的うつ病は、個人の感情、思考、行動に影響を与え、様々な感情的及び身体的問題につながる可能性がある。臨床的うつ病を有する人は、日々の活動を行うことに問題があり、人生を生きる価値がないと感じさせる可能性がある。
周産期うつ病は、妊娠期のうつ病を指す。症状としては、イライラ、泣き、落ち着かない気持ち、睡眠障害、極度の疲労感（感情的及び／または身体的）、食欲の変化、集中困難、不安及び／または心配の増加、赤ちゃん及び／または胎児との断絶感、ならびに以前は楽しんでいた活動への興味の喪失が挙げられる。
産後うつ病（ｐｏｓｔｎａｔａｌ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ、ＰＮＤ）は、産後うつ病（ｐｏｓｔｐａｒｔｕｍ ｄｅｐｒｅｓｓｉｏｎ、ＰＰＤ）とも称され、出産後の女性に影響を及ぼす臨床的うつ病の一種を指す。症状としては、悲しみ、疲労、睡眠及び食事習慣の変化、性的欲求の低下、泣くエピソード、不安、ならびにイライラを挙げることができる。いくつかの実施形態において、ＰＮＤは、治療抵抗性うつ病（例えば、本明細書に記載の治療抵抗性うつ病）である。いくつかの実施形態において、ＰＮＤは、難治性うつ病（例えば、本明細書に記載の難治性うつ病）である。
いくつかの実施形態において、ＰＮＤを有する対象はまた、妊娠中にうつ病、またはうつ病の症状を経験した。このうつ病を本明細書では）周産期うつ病という。ある実施形態において、周産期うつ病を経験する対象は、ＰＮＤを経験するリスクが増加する。
非定型うつ病（ＡＤ）は、気分反応性（例えば、奇異性快感消失）及び積極性、著しい体重増加または食欲増加を特徴とする。ＡＤに罹患している患者はまた、過度の睡眠または眠気（過眠症）、四肢の重さの感覚、及び知覚される対人的拒絶感覚に対する過敏の結果として重大な社会的障害を有する場合がある。
メランコリー性うつ病は、ほとんどまたはすべての活動における快楽の喪失（快感消失）、快楽的刺激への反応の失敗、悲しみもしくは喪失よりも顕著な抑うつ気分、過度の体重減少、または過度の罪悪感を特徴とする。
精神病性大うつ病（ＰＭＤ）または精神病性うつ病は、個人が妄想及び幻覚などの精神病症状を経験する、特にメランコリックな性質の大うつ病エピソードを指す。
カタトニック性うつ病は、運動行動の障害及び他の症状を伴う大うつ病を指す。個人は沈黙及び昏迷し、動かなくなるか、または目的のない、もしくは奇妙な動きを示すことがある。
季節性情動障害（ＳＡＤ）は、個人が秋または冬に発生するうつ病エピソードの季節的パターンを有する、季節性うつ病のタイプを指す。
気分変調は、身体的及び認知的に同じ問題が顕在化する、単極性うつ病に関連する状態を指す。これらはそれほど重篤ではなく、より長く持続する傾向がある（例えば、少なくとも２年）。
二重うつ病は、少なくとも２年間続くかなりの抑うつ気分（気分変調）を指し、大うつ病の期間によって中断される。
抑うつ性パーソナリティ障害（ＤＰＤ）は、抑うつ的特徴を有するパーソナリティ障害を指す。
反復性短期うつ病（ＲＢＤ）は、個人が１ヶ月に１回程度のうつ病エピソードを有し、それぞれのエピソードが２週間以下、または典型的には２～３日未満続く状態を指す。
軽度のうつ病性障害または軽度のうつ病は、少なくとも２つの症状が２週間にわたって存在するうつ病を指す。
双極性障害または躁うつ病性障害は、感情の高揚（躁病または軽躁病）及び低下（うつ病）を含む極端な気分変動を引き起こす。躁病の期間中、その個人は異常に幸せ、エネルギー、またはイライラを感じるか、または行動することがある。彼らはしばしば、結果をほとんど考慮せずに、十分な検討を経ていない決定を下す。通常、睡眠の必要性は低減する。うつ病の期間中は、泣き、他人とあまり視線を合わさず、ネガティブな人生観を有する可能性がある。障害のある人の自殺リスクは、２０年間で６％を超えるほど高く、自傷は３０～４０％で発生する。不安障害及び物質使用障害などの他の精神保健問題は、一般的に双極性障害と関連している。
慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病は、がんまたは慢性的な疼痛、化学療法、慢性的なストレスなどの慢性的な医学的状態によって引き起こされるうつ病を指す。
治療抵抗性うつ病は、個人がうつ病の治療を受けたが、症状が改善しない状態を指す。例えば、抗うつ薬または生理学的カウンセリング（心理療法）は、治療抵抗性のうつ病を有する個人のうつ病症状を緩和しない。場合によっては、治療抵抗性のうつ病の個人は、症状を改善するが、戻ってくる。難治性うつ病は、三環系抗うつ薬、ＭＡＯＩ、ＳＳＲＩ、ならびに二重及び三重取り込み阻害剤及び／または抗不安薬、ならびに非薬理学的治療（例えば、心理療法、電気けいれん療法、迷走神経刺激及び／または経頭蓋磁気刺激）を含む標準的な薬理学的治療に耐性であるうつ病を患う患者において起こる。
術後うつ病は、外科的処置に続く（例えば、自分の死に直面しなければならない結果としての）うつ病の感情を指す。例えば、個人は、悲しみまたは空虚な気分を持続的に感じるか、あるいは普段楽しんでいる趣味及び活動に対する快楽もしくは興味の喪失、または持続的な無価値感もしくは絶望感を感じる場合がある。
女性の健康の状態または障害と関連した気分障害は、女性の健康の状態または障害（例えば、本明細書に記載されるもの）と関連した（例えば、それに起因する）気分障害（例えば、うつ病）を指す。
自殺傾向、自殺念慮、自殺行動は、個人が自殺を図る傾向を指す。自殺念慮は、自殺に対する思考または異常な没頭に関係する。自殺念慮の範囲は、例えば、瞬間の思考から広範な思考、詳細な計画、ロールプレイ、不完全な試みまで様々である。症状としては、自殺について話すこと、自殺を図る手段を得ること、社会的接触から離脱すること、死に夢中になること、ある状況に囚われているか絶望を感じること、アルコールまたは薬物の使用を増やすこと、危険なことまたは自己破壊的なことを行うこと、二度と会えないかのように人々に別れを告げることが挙げられる。
うつ病の症状としては、持続的な不安または悲しみの感情、無力感、絶望、悲観、無価値感、低いエネルギー、落ち着きのなさ、睡眠困難、不眠、イライラ、疲労、運動障害、楽しい活動または趣味への関心の喪失、集中力の喪失、エネルギーの喪失、自尊心の低下、前向きな考えまたは計画の不在、過度の睡眠、過食、食欲不振、不眠、自傷行為、自殺の考え、及び自殺未遂が挙げられる。症状の有無、重症度、頻度、及び期間は、症例によって異なる場合がある。うつ病の症状、及びその緩和は、医師または心理学者によって（例えば、精神状態検査によって）確認され得る。
いくつかの実施形態において、方法は、既知のうつ病スケール、例えば、ハミルトンうつ病（ＨＡＭ－Ｄ）スケール、臨床全般印象改善スケール（ＣＧＩ）、及びモンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）を有する対象をモニタリングすることを含む。いくつかの実施形態において、治療効果は、対象によって示されるハミルトンうつ病（ＨＡＭ－Ｄ）合計スコアの低減によって決定され得る。ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの低減は、４、３、２、または１日以内、または９６、８４、７２、６０、４８、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以下で起こり得る。治療効果は、特定の治療期間にわたって評価することができる。例えば、治療効果は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物を投与した後（例えば、投与後１２、２４、もしくは４８時間後；または２４、４８、７２、もしくは９６時間以上；または１日、２日、１４日、２１日、もしくは２８日；または１週間、２週間、３週間、もしくは４週間；または１ヶ月、２ヶ月、６ヶ月、もしくは１０ヶ月；または１年、２年、もしくは生涯）のＨＡＭ－Ｄ合計スコアのベースラインからの減少によって決定することができる。
いくつかの実施形態において、対象は、軽度のうつ病性障害、例えば、軽度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、中等度のうつ病性障害、例えば、中等度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、重度のうつ病性障害、例えば、重度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象は、非常に重度のうつ病性障害、例えば、非常に重度の大うつ病性障害を有する。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコア（すなわち、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療前）は、少なくとも２４である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも１８である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１４～１８の間（１４及び１８を含む）である。いくつかの実施形態において、対象のベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１９～２２の間（１９及び２２を含む）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、２３以上である。いくつかの実施形態において、ベースラインスコアは、少なくとも１０、１５、または２０である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、約０～１０（例えば、１０未満；０～１０、０～６、０～４、０～３、０～２、または１．８）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１０、７、５、または３未満である。いくつかの実施形態において、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後、約２０～３０（例えば、２２～２８、２３～２７、２４～２７、２５～２７、２６～２７）のベースラインスコアから、約０～１０（例えば、１０未満；０～１０、０～６、０～４、０～３、０～２、または１．８）のＨＡＭ－Ｄ合計スコアまでである。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアから本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアへの減少は、少なくとも１、２、３、４、５、７、１０、２５、４０、５０、または１００倍である）。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアから本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアへの減少率は、少なくとも５０％（例えば、６０％、７０％、８０％、または９０％）である。いくつかの実施形態において、治療効果は、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療後のＨＡＭ－Ｄ合計スコア（例えば、投与後１２、２４、４８時間、または２４、４８、７２、９６時間以上、または１日、２日、１４日以上）の減少として測定され、少なくとも１０、１５、または２０ポイントである。
いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、ハミルトンうつ病スコア（ＨＡＭ－Ｄ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療の１日目または２日目以内の治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療の開始から１４日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な減少によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療の開始から２１日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療の開始から２８日以内に、治療効果（例えば、ＨＡＭ－Ｄ合計スコアの統計的に有意な低減によって決定される）を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療（例えば、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による１日１回、１４日間の治療）後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアのベースラインからの減少である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも２４である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、少なくとも１８である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物による治療前の対象のＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、１４～１８の間（１４及び１８を含む）である。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物で対象を治療した後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、少なくとも１０である。いくつかの実施形態において、ベースラインＨＡＭ－Ｄ合計スコアと比較して、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物で対象を治療した後のＨＡＭ－Ｄ合計スコアの減少は、少なくとも１５（例えば、少なくとも１７）である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物で対象を治療することに関連するＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、６～８の範囲の数字以下である。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物で対象を治療することに関連するＨＡＭ－Ｄ合計スコアは、７以下である。
いくつかの実施形態において、本方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、臨床全般印象改善スケール（ＣＧＩ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ障害は、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、治療期間の２日目以内に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、治療期間の終了時（例えば、投与の１４日後）におけるベースラインからのＣＧＩスコアの減少である。
いくつかの実施形態において、本方法は、１４、１０、４、３、２、もしくは１日以内、または２４、２０、１６、１２、１０、もしくは８時間以内の治療効果（例えば、モンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、ＣＮＳ障害は、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害である。いくつかの実施形態において、うつ病性障害、例えば、大うつ病性障害の治療方法は、治療期間の２日目以内に治療効果を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、治療期間の終了時（例えば、投与の１４日後）におけるベースラインからのＭＡＤＲＳスコアの減少である。
大うつ病性障害に対する治療効果は、対象によって示されるモンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）スコアの低下によって決定することができる。例えば、ＭＡＤＲＳスコアは、４、３、２、もしくは１日以内、または９６、８４、７２、６０、４８、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以下で低減し得る。モンゴメリー・Åｓｂｅｒｇうつ病評価スケール（ＭＡＤＲＳ）は、１０項目の診断アンケート（明らかな悲しみ、報告された悲しみ、内側の緊張、睡眠の減少、食欲低下、集中困難、倦怠感、感覚の消失、悲観的な考え、及び自殺念慮に関する）であり、精神科医は、気分障害のある患者におけるうつ病エピソードの重症度を測定するために使用する。
いくつかの実施形態において、本方法は、４、３、２、１日以内、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以内の治療効果（例えば、エディンバラ産後うつ病スケール（ＥＰＤＳ）の低減によって測定される）を提供する。いくつかの実施形態において、治療効果は、ＥＰＤＳによって測定される改善である。
いくつかの実施形態において、本方法は、４、３、２、１日以内、２４、２０、１６、１２、１０、８時間以内の治療効果（例えば、全般性不安障害７項目スケール（ＧＡＤ－７）の低減によって測定される）を提供する。
不安障害
本明細書では、不安障害（例えば、全般性不安障害、パニック障害、強迫性障害、恐怖症、心的外傷後ストレス障害）を治療するための方法が提供される。不安障害は、異常及び病的な恐怖及び不安のいくつかの異なる形態をカバーする包括的用語である。現在の精神医学的診断基準は、多種多様な不安障害を認識している。
全般性不安障害は、いかなる１つの物体または状況にも焦点を当てていない長期不安を特徴とする一般的な慢性疾患である。全般性不安に悩まされている人は、非特異的な持続的恐怖及び心配を経験し、日常の出来事に過度に関心を持つようになる。全般性不安障害は、高齢者に影響を与える最も一般的な不安障害である。
パニック障害において、人は激しい恐怖及び不安の短時間の発作に悩まされ、しばしば震え、揺れ、混乱、めまい、吐き気、呼吸困難を特徴とする。これらのパニック発作は、ＡＰＡによって、突然生じて１０分未満でピークに達する恐怖または不快感として定義されているが、数時間持続することがあり、ストレス、恐怖、または運動によっても引き起こされることがある。但し、具体的な原因は必ずしも明らかではない。予期せぬパニック発作の繰り返しに加えて、パニック障害の診断には、当該発作の潜在的な影響を心配するか、将来の攻撃に対する継続的な恐怖、または攻撃に関連する行動の著しい変化のいずれかの慢性的な結果があることも必要とする。したがって、パニック障害を患っている人は、特定のパニックエピソード以外でも症状を経験する。多くの場合、心拍の正常な変化はパニック患者に気付かれ、心臓に何か問題があると思わせるか、または再びパニック発作が起こりそうであると思わせる。場合によっては、パニック発作の間に身体機能の意識の高まり（過剰警戒）が起こり、そこで知覚される生理学的変化は、生命を脅かす可能性のある疾病（すなわち、極度の心気症）として解釈される。
強迫性障害は、主に反復的な強迫観念（苦痛、持続的、侵入思考または画像）及び衝動強迫（特定の行為または儀式を行うための衝動）を特徴とする不安障害の一種である。ＯＣＤ思考パターンは、実際には存在しない因果関係への信念を伴う限り、迷信に例えられることがある。多くの場合、このプロセスは完全に論理的ではなく、例えば、ある特定のパターンで歩くという衝動強迫は、差し迫った危害の強迫観念を緩和するために用いられ得る。また多くの場合、衝動強迫は、緊張によって引き起こされる儀式を完了したいという全く不可解な単なる衝動である。少数の症例において、ＯＣＤの患者は、明らかな衝動強迫を伴わずに、強迫観念のみを経験することができ、はるかに少ない数の患者は、衝動強迫のみを経験する。
不安障害の単一の最大のカテゴリーは、恐怖症のカテゴリーであり、特定の刺激または状況によって恐怖及び不安が引き起こされるすべての症例を含む。患者は、典型的に、恐怖の対象物（動物から場所、体液までどんなものでも）に遭遇することから恐ろしい結果を予想する。
心的外傷後ストレス障害（ＰＴＳＤ）は、心的外傷体験から生じる不安障害である。心的外傷後ストレスは、戦闘、レイプ、人質の状況、またはさらには重大な事故などの極限状況から生じる可能性がある。また、個々の戦闘に耐えながらも継続的な戦闘には対応することができない兵士など、長期的（慢性的）に激しいストレッサーにさらされることからも生じる可能性がある。一般的な症状としては、フラッシュバック、回避行動、及びうつ病が挙げられる。
女性の健康障害
本明細書では、女性の健康に関連する状態または障害を治療するための方法が提供される。女性の健康に関連する状態または障害としては、限定されないが、婦人科的健康及び障害（例えば、月経前症候群（ＰＭＳ）、月経前不快気分障害（ＰＭＤＤ））、妊娠問題（例えば、流産、中絶）、不妊及び関連する障害（例えば、多嚢胞性卵巣症候群（ＰＣＯＳ））、他の障害及び状態、ならびに女性の全体的な健康及びウェルネスに関連する問題（例えば、更年期）が挙げられる。
女性に影響を与える婦人科的健康及び障害としては、月経及び月経不順、尿失禁及び骨盤底障害を含む尿路健康、ならびに細菌性膣症、膣炎、子宮筋腫、及び外陰部障害などの障害が挙げられる。
月経前症候群（ＰＭＳ）とは、女性の月経の１～２週間前に起こる身体的及び感情的症状を指す。症状は様々であるが、出血、気分の揺れ、乳房の圧痛、食物の渇望、疲労、イライラ、にきび、及びうつ病を含むことができる。
月経前不快気分障害（ＰＭＤＤ）は、ＰＭＳの重篤な形態である。ＰＭＤＤの症状はＰＭＳと類似しているが、より重篤であり、仕事、社会活動、及び人間関係に干渉する可能性がある。ＰＭＤＤ症状としては、気分変動、落ち込んだ気分または絶望感、顕著な怒り、対人衝突の増加、緊張及び不安、イライラ、通常の活動への関心の低下、集中困難、疲労、食欲の変化、制御不能または圧倒的な感覚、睡眠障害、身体的問題（例えば、膨満感、乳房の圧痛、腫れ、頭痛、関節または筋肉痛）が挙げられる。
妊娠問題としては、妊娠前ケア及び産前ケア、妊娠喪失（流産及び死産）、早期分娩及び早産、乳児突然死症候群（ＳＩＤＳ）、授乳、及び出生不良が挙げられる。
流産とは、妊娠の最初の２０週間以内に、自然に終了する妊娠を指す。
中絶とは、妊娠の最初の２８週間中に行われ得る、意図的な妊娠の終了を指す。
不妊症及び関連疾患としては、子宮筋腫、多嚢胞性卵巣症候群、子宮内膜症、及び原発性卵巣不全が挙げられる。
多嚢胞性卵巣症候群（ＰＣＯＳ）は、生殖年齢の女性の内分泌系障害を指す。ＰＣＯＳは、女性における男性ホルモンの上昇に起因する一連の症状である。ＰＣＯＳの女性のほとんどは、卵巣に多くの小さな嚢胞を生じる。ＰＣＯＳの症状としては、不規則な月経または無月経、重い月経、過剰な体毛及び顔の毛、にきび、骨盤痛、妊娠困難、ならびに厚く、暗く、ベルベットのような皮膚の斑点が挙げられる。ＰＣＯＳは、２型糖尿病、肥満、閉塞性睡眠時無呼吸、心疾患、気分障害、及び子宮内膜癌を含む状態と関連し得る。
女性のみに影響を及ぼす他の疾患及び状態としては、ターナー症候群、レット症候群、卵巣癌及び子宮頸癌が挙げられる。
女性の全体的な健康及びウェルネスに関連する問題としては、女性に対する暴力、障害のある女性及びその独自の課題、骨粗しょう症及び骨の健康、ならびに更年期が挙げられる。
更年期は、女性の最後の月経から１２ヶ月後を指し、月経周期の終了を意味する。更年期は、典型的に女性の４０歳代または５０歳代に起こる。ホットフラッシュ及び更年期の感情的な症状などの身体的症状は、睡眠を妨害するか、エネルギーを低下させるか、または不安または悲しみもしくは喪失感を引き起こす可能性がある。更年期には、自然更年期、及び手術（例えば、子宮摘出術、卵巣摘出術、がん）などの事象に起因する誘発性更年期の一種である外科的更年期が含まれる。これは、例えば、放射線、化学療法、または他の薬物によって卵巣が深刻な損傷を受ける場合に誘導される。
てんかん
式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）もしくは（３－Ｉ）の化合物、または薬学的に許容される塩、あるいはその薬学的に許容される組成物は、本明細書に記載の方法、例えば、てんかん、てんかん重積状態、または発作などの本明細書に記載の障害の治療において使用することができる。
てんかんは、経時的に発作を繰り返すことを特徴とする脳障害である。てんかんの種類としては、全般性てんかん、例えば、小児期欠神てんかん、若年期のミオクローヌスてんかん、覚醒時の大発作を伴うてんかん、ウエスト症候群、レノックス・ガストー症候群、部分てんかん、例えば、側頭葉てんかん、前頭葉てんかん、小児期の良性限局性てんかんが挙げられるが、これらに限定されない。
てんかん発生
本明細書に記載の化合物及び方法は、てんかん発生を治療または予防するために使用することができる。てんかん発生は、正常な脳がてんかん（発作が起こる慢性状態）を発症する段階的プロセスである。てんかん発生は、初期の発作（例えば、てんかん重積状態）によって引き起こされた神経細胞の損傷から生じる。
てんかん重積状態（ＳＥ）
てんかん重積状態（ＳＥ）は、例えば、けいれん性てんかん重積状態、例えば、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態；非けいれん性てんかん重積状態、例えば、全般性てんかん重積状態、複雑な部分てんかん重積状態；全般性周期的てんかん様排出；及び周期的な側方化てんかん様排出が挙げられる。けいれん性てんかん重積状態は、けいれん性てんかん重積状態の発作の存在を特徴とし、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態を含むことができる。早期てんかん重積状態は、第一選択療法で治療される。確立されたてんかん重積状態は、第一選択療法による治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とし、第二選択療法が投与される。難治性てんかん重積状態は、第一選択療法及び第二選択療法での治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とし、一般的に全身麻酔薬が投与される。超難治性てんかん重積状態は、第一選択療法、第二選択療法、及び全身麻酔による２４時間以上の治療にもかかわらず持続するてんかん重積状態の発作を特徴とする。
非けいれん性てんかん重積状態としては、例えば、限局的非けいれん性てんかん重積状態、例えば、複雑な部分非けいれん性てんかん重積状態、単純な部分非けいれん性てんかん重積状態、微妙な非けいれん性てんかん重積状態、全般性非けいれん性てんかん重積状態、例えば、遅発性欠神非けいれん性てんかん重積状態、非定型欠神非けいれん性てんかん重積状態、または定型欠神非けいれん性てんかん重積状態を挙げることができる。
式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）もしくは（３－Ｉ）の化合物、または薬学的に許容される塩、あるいはその薬学的に許容される組成物は、ＣＮＳ障害、例えば、外傷性脳損傷、てんかん重積状態、例えば、けいれん性てんかん重積状態、例えば、早期てんかん重積状態、確立されたてんかん重積状態、難治性てんかん重積状態、超難治性てんかん重積状態；非けいれん性てんかん重積状態、例えば、全般性てんかん重積状態、複雑な部分てんかん重積状態；全般性周期的てんかん様排出；及び周期的な側方化てんかん様排出を有する対象に、発作の発症前に予防剤として投与することもできる。
発作
発作とは、脳の異常な電気活動のエピソードの後に起こる身体的所見または行動の変化である。「発作」という用語は、多くの場合「けいれん」と互換的に使用される。けいれんは、人の身体が急速かつ制御不能に揺れることである。けいれんの間、人の筋肉が収縮及び弛緩を繰り返す。
行動の種類及び脳活動に基づいて、発作は、全般性及び部分（局所性または限局性とも呼ばれる）の２つの大まかなカテゴリーに分類される。発作の種類を分類することは、患者がてんかんを患っているかどうかを医師が診断するのに役立つ。
全般性発作は、脳全体からの電気的インパルスによって生じるが、部分発作は、脳の比較的小さな部分での電気的インパルスによって（少なくとも初期に）生じる。発作を発生させる脳の部分は、焦点と呼ばれることがある。
全般性発作には６つのタイプがある。最も一般的で劇的な、したがって最もよく知られているのは、大発作とも呼ばれる全般性けいれんである。この種の発作では、患者は意識を失い、通常は倒れる。意識喪失の後、３０～６０秒間の全身硬直（発作の「強直」フェーズと呼ばれる）が続き、その後、３０～６０秒間の激しいジャーキング（「間代」フェーズ）が続き、その後、患者は深い睡眠（「事後」または発作後フェーズ）に入る。大発作中には、舌噛み及び尿失禁などの怪我及び事故が発生することがある。
欠神発作は、ほとんどまたはまったく症状のない短い意識喪失（わずか数秒）を引き起こす。患者は、ほとんどの場合、子供であり、典型的には活動を中断し、ぼんやりとした視線を向ける。これらの発作は突然始まって終わり、１日に数回起こることがある。患者は通常、発作を起こしていることを認識していないが、「時間を失う」ことを認識している可能性がある。
ミオクローヌス発作は、通常は身体の両側での散発的なジャークからなる。患者は、ジャークを短時間の電気ショックと表現することがある。激しい場合、これらの発作により、物体を落とすか、または不随意に投げる場合がある。
クローン性発作は、身体の両側を同時に巻き込む反復的かつ律動的なジャークである。
強直性発作は、筋肉の硬直を特徴とする。
弛緩性発作は、特に腕及び脚の筋肉の強直の突然の全般的な喪失からなり、しばしば転倒を引き起こす。
本明細書に記載の発作としては、てんかん発作；急性反復発作；クラスター発作；連続発作；不連続発作；長時間発作；再発発作；てんかん重積状態の発作、例えば、難治性けいれん性てんかん重積状態、非けいれん性てんかん重積状態の発作；難治性発作；ミオクローヌス発作；強直性発作；強直間代発作；単純部分発作；複雑部分発作；二次的全般性発作；非定型欠神発作；欠神発作；弛緩性発作；良性ローランド発作；発熱発作；情動発作；限局性発作；笑い発作；全般性発作；乳幼児けいれん；ジャクソン型発作；大規模な両側ミオクローヌス発作；多発性発作；新生児発症性発作；夜間発作；後頭葉発作；外傷後発作；微細発作、シルヴァン発作；視覚反射発作；または離脱発作を挙げることができる。いくつかの実施形態において、発作は、ドラベ症候群、レノックス・ガストー症候群、結核性硬化症複合体、レット症候群、またはＰＣＤＨ１９女児てんかんと関連した全般性発作である。
運動障害
運動障害の治療方法もまた、本明細書に記載される。本明細書で使用される場合、「運動障害」は、活動過多運動障害及び筋肉制御における関連する異常と関連付けられた様々な疾患及び障害を指す。例示的な運動障害としては、パーキンソン病及びパーキンソニズム（特に、動作緩慢によって定義される）、ジストニア、舞踏病及びハンチントン病、運動失調、振戦（例えば、本態性振戦）、ミオクローヌス及び驚愕、チック及びトゥレット症候群、レストレスレッグス症候群、スティフパーソン症候群、及び歩行障害が挙げられるが、これらに限定されない。
振戦
本明細書に記載の方法は、振戦を治療するために使用することができ、例えば、式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）または（３－Ｉ）の化合物を使用して、小脳振戦もしくは意図振戦、ジストニア性振戦、本態性振戦、起立性振戦、パーキンソン振戦、生理的振戦、心因性振戦、または赤核性振戦を治療することができる。振戦としては、それぞれ、ウィルソン病、パーキンソン病、及び本態性振戦などの遺伝性、変性性、及び特発性障害；代謝性疾患（例えば、甲状腺副甲状腺疾患、肝疾患及び低血糖症）；末梢神経障害（シャルコー・マリー・トゥース、ルーシー・レビー、糖尿病、複合局所性疼痛症候群に関連する）；毒素（ニコチン、水銀、鉛、ＣＯ、マンガン、ヒ素、トルエン）；薬剤誘発性障害（ナルコレプシー、三環系、リチウム、コカイン、アルコール、アドレナリン、気管支拡張剤、テオフィリン、カフェイン、ステロイド、バルプロエート、アミオダロン、甲状腺ホルモン、ビンクリスチン）；ならびに精神障害が挙げられる。臨床的振戦は、生理的振戦、強化生理的振戦、本態性振戦症候群（古典的本態性振戦、一次起立性振戦、及びタスク及び体位特異的振戦を含む）、ジストニア振戦、パーキンソン振戦、小脳振戦、ホルムズ振戦（すなわち、赤核性振戦）、口蓋振戦、神経障害性振戦、毒性または薬物誘発性振戦、及び心因性振戦に分類することができる。
振戦は、不随意的な、時には律動的な筋肉の収縮及び弛緩であり、１つ以上の身体部位（例えば、手、腕、目、顔、頭部、声帯ひだ、体幹、脚）の振動またはれん縮を伴い得る。
小脳振戦または意図振戦は、意図的な動きの後に生じる四肢のゆっくりとした広範囲の振戦である。小脳振戦は、例えば、腫瘍、脳卒中、疾患（例えば、多発性硬化症、遺伝性変性障害）に起因する小脳の病変または損傷によって引き起こされる。
ジストニア性振戦は、持続的な不随意の筋肉収縮が、ねじれや反復運動、及び／または苦痛かつ異常な姿勢もしくは体位を引き起こす運動障害であるジストニアの影響を受ける個人において起こる。ジストニア性振戦は、体内のあらゆる筋肉に影響を及ぼす可能性がある。ジストニア性振戦は不規則に起こり、しばしば完全な安静によって緩和することができる。
本態性振戦または良性本態性振戦が最も一般的な振戦である。本態性振戦は、軽度で進行しない場合もあり、ゆっくりと進行する場合もあり、身体の片側から開始するが、３年以内に両側に影響を及ぼす。手はほとんどの場合影響を受けるが、頭部、声、舌、脚、体幹も関与している可能性がある。振戦頻度は加齢に伴い減少することがあるが、重症度は増加することがある。感情の高まり、ストレス、発熱、肉体的疲労、または低血糖は、振戦を引き起こし、及び／または重症度を増加させる場合がある。症状は、一般に経時的に進行し、発症後には目に見えるものと持続するものの両方がある。
起立性振戦は、立ち上がった直後に脚及び胴体に生じる速い（例えば、１２Ｈｚを超える）律動性筋収縮を特徴とする。太股及び脚にけいれんが感じられ、一ヶ所に立つように求められたときに患者が制御不能に揺れることがある。本態性振戦を有する患者に起立性振戦が生じることがある。
パーキンソン振戦は、運動を制御する脳内の構造物の損傷によって引き起こされる。パーキンソン振戦は、パーキンソン病の前兆であることが多く、典型的には、手の「丸剤作成様」運動として見られ、顎、唇、脚、及び体幹にも影響を及ぼす可能性がある。パーキンソン振戦の発症は、典型的には６０歳以降に始まる。動きは、片方の手足または身体の片側から始まり、反対側を含むように進行し得る。
生理的振戦は、正常な個人で起こり得、臨床的意義はない。すべての随意筋群で見ることができる。生理的振戦は、ある特定の薬物、アルコール離脱、または甲状腺の過活動及び低血糖を含む医学的状態によって引き起こされ得る。振戦は、古典的に約１０Ｈｚの周波数を有する。
心因性振戦またはヒステリー性振戦は、安静時または身体動揺もしくは運動動作中に生じ得る。心因性振戦を有する患者は、転換性障害または別の精神疾患を有し得る。
赤核性振戦は、安静時、姿勢時、及び意図的に存在し得る粗大なゆっくりとした振戦を特徴とする。振戦は、古典的な異常な脳卒中である中脳の赤核に影響を及ぼす状態と関連付けられる。
パーキンソン病は、ドーパミンを産生する脳内の神経細胞に影響を及ぼす。症状としては、筋肉の剛性、振戦、言語及び歩行の変化が挙げられる。パーキンソニズムは、振戦、徐脈、剛性、及び姿勢の不安定性を特徴とする。パーキンソニズムは、パーキンソン病に見られる症状を共有するが、進行性の神経変性疾患ではなく症状群である。
ジストニアは、異常な、しばしば反復的な動きまたは姿勢を引き起こす、持続的または断続的な筋肉収縮を特徴とする運動障害である。ジストニア運動は、パターン化され、ねじれであり得、また震えであり得る。ジストニアは、多くの場合、自発的な行動によって開始または悪化し、オーバーフロー筋肉活性化と関連付けられる。
舞踏病は、典型的には肩、腰、及び顔に影響を及ぼすけいれん的な不随意運動を特徴とする神経障害である。ハンチントン病は、脳の神経細胞を衰弱させる遺伝性疾患である。症状としては、制御不能な動き、不器用さ、及び平衡問題が挙げられる。ハンチントン病は、歩行、会話、及び嚥下を妨げる可能性がある。
運動失調は、身体の動きを完全に制御できなくなることを指し、指、手、腕、脚、体、発話、及び目の動きに影響を与える可能性がある。
ミオクローヌス及び驚愕は、音響、触覚、視覚、または前庭であり得る突然の予期しない刺激に対する応答である。
チックは、通常、突然に発症する不随意運動であり、短時間で、反復的であるが、律動的ではなく、典型的には正常な行動を模倣しており、多くの場合、正常な活動の背景から発生する。チックは、運動性または音声性として分類することができ、運動性チックは運動と関連付けられ、音声性チックは、音と関連付けられる。チックは、単純または複合として特徴付けられる。例えば、単純な運動性チックは、特定の身体部位に制限された少数の筋肉のみを伴う。トゥレット症候群は、小児期に発症する遺伝性神経精神疾患であり、複数の運動性チック及び少なくとも１つの音声性チックを特徴とする。
レストレスレッグス症候群は、安静時に脚を動かす圧倒的な衝動を特徴とする神経感覚運動障害である。
スティフパーソン症候群は、進行性の運動障害であり、通常は腰及び脚を伴う不随意の痛みを伴うけいれん及び筋肉の剛性を特徴とする。腰部の脊柱前弯過度が誇張された硬直脚の歩行が、典型的な結果である。傍脊柱軸筋の連続運動単位活動を伴うＥＭＧ記録の特徴的な異常が、典型的に観察される。変異型には、典型的に遠位脚及び足に影響を及ぼす限局性硬直を生じる「硬直肢症候群」が含まれる。
歩行障害は、神経筋、関節炎、または他の身体の変化に起因する歩行の様式またはスタイルの異常を指す。歩行は、異常運動の原因となるシステムに従って分類され、半麻痺性歩行、二麻痺性歩行、神経障害性歩行、ミオパチー性歩行、パーキンソン病様歩行、舞踏病様歩行、運動失調性歩行、及び感覚歩行が挙げられる。
麻酔／鎮静
麻酔は、薬理学的に誘導され、健忘、鎮痛、応答性の喪失、骨格筋反射の喪失、ストレス応答の低下、またはこれらのすべてを同時に有する可逆的な状態である。これらの効果は、単独で効果の正しい組み合わせを提供する単一の薬物から、または時折、結果の非常に特異的な組み合わせを達成するための薬物の組み合わせ（例えば、催眠、鎮静剤、麻痺、鎮痛剤）と共に得られ得る。麻酔により、患者は、そうでなければ経験するであろう苦痛を受けることなく、手術及び他の処置を受けることができる。
鎮静は、一般に、医学的処置または診断的処置を容易にするための、薬理学的薬剤の投与による刺激性または興奮性の低減である。
鎮静及び鎮痛には、最小限の鎮静（不安緩解）から全身麻酔までの一連の意識状態が含まれる。
最小限の鎮静は、不安緩解としても知られている。最小限の鎮静は、患者が口頭での指示に正常に応答する薬物誘発性状態である。認知機能及び協調性が損なわれる可能性がある。換気機能及び心血管機能は、通常、影響を受けない。
中等度の鎮静／鎮痛（意識下鎮静）は、患者が単独で、または軽い触覚刺激を伴って、口頭での指示に意図的に応答する、薬物誘発性の意識の低下である。通常、開存気道を維持するために介入は必要ない。典型的に、自発換気が十分である。通常、心血管機能は維持される。
深い鎮静／鎮痛は、薬物誘発性の意識の低下であり、その間、患者は容易に興奮することはできないが、反復刺激または痛みを伴う刺激の後に意図的に応答する（痛みを伴う刺激からの反射的な離脱ではない）。独立した換気機能が損なわれる可能性があり、患者は、開存気道を維持するために支援を必要とする場合がある。自然換気が不十分な場合がある。通常、心血管機能は維持される。
全身麻酔は、薬物誘発性の意識の喪失であり、その間、患者は痛みを伴う刺激であっても興奮しない。独立した換気機能を維持する能力が損なわれることが多く、開存気道を維持するために補助が必要とされることが多い。陽圧換気は、自発換気の低下または薬物誘発性の神経筋機能の抑制に起因して必要とされる場合がある。心血管機能が障害されることがある。
集中治療室（ＩＣＵ）での鎮静は、患者の環境への意識の低下及び外部刺激への応答の低下を可能にする。これは、重症患者のケアにおいて役割を果たすことができ、患者間、及び患者の病気の過程を通して個人間で変化するであろう広範囲の症状制御を包含する。救急医療における重度の鎮静は、気管内チューブの耐容性及び人工呼吸器の同期を促進するために、多くの場合、神経筋遮断剤と共に使用されている。
いくつかの実施形態において、鎮静剤（例えば、長期鎮静剤、連続鎮静剤）は、ＩＣＵで長期間（例えば、１日、２日、３日、５日、１週間、２週間、３週間、１ヶ月、２ヶ月）にわたって誘導され、維持される。長期間の鎮静剤は、長期間の作用を有する場合がある。ＩＣＵでの鎮静剤は、短い排出半減期を有し得る。
処置鎮静及び鎮痛は、意識的鎮静とも称され、鎮静剤または解離剤を鎮痛剤と共にまたは鎮痛剤なしで投与して、対象が心肺機能を維持しながら不快な処置を許容することを可能にする状態を誘発する技法である。
本明細書には、対象における呼吸器疾患の１つ以上の症状の改善方法であって、対象に、有効量の本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を投与することを含む、方法も記載されている。
一態様において、本明細書では、対象が呼吸器疾患の１つ以上の症状を呈する、及び／または呼吸器疾患と診断された、対象の治療方法であって、有効量の本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物を含む組成物、またはその薬学的に許容される塩）を当該対象に投与することを含む、方法が提供される。
いくつかの実施形態において、本開示は、対象の治療方法であって、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を当該対象に投与することを含む、方法を企図し、対象は、呼吸器疾患を有する。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患の１つ以上の症状の重症度の低減、または呼吸器疾患の１つ以上の症状の進行の遅延または減速をもたらし得る。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、機械的換気または酸素で治療されてきたか、または治療されている。いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、機械的換気で治療されてきたか、または治療されている。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、機械的換気で治療されてきたか、または治療されている対象に投与される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与は、機械的換気による対象の治療を通じて継続される。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の投与は、対象が機械的換気による治療を終了した後も継続する。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）は、鎮静剤による治療を受けているか、または受けてきた対象に投与される。いくつかの実施形態において、鎮静剤は、プロポフォールまたはベンゾジアゼピンである。
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を、血液中の酸素飽和度を増加させるのに十分な量で、それを必要とする対象に投与することを含む。いくつかの実施形態において、血液中の酸素飽和度は、パルスオキシメトリーを使用して測定される。
いくつかの実施形態において、本開示は、患者におけるサイトカインストームの治療方法を企図する。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）を患者に投与するステップを含む、サイトカインストームの治療方法。いくつかの実施形態において、サイトカインストームの症状は、肺炎症である。いくつかの実施形態において、サイトカインストームを受けている患者は、急性呼吸窮迫症候群（ＡＲＤＳ）を有する。
呼吸器疾患
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、呼吸窮迫に悩まされる。いくつかの実施形態において、呼吸窮迫は、急性呼吸窮迫を含む。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、気道高応答性、肺組織の炎症、肺過敏症、及び炎症関連肺痛からなる群から選択される１つ以上の症状を呈し得る。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、肺組織の炎症を呈し得る。いくつかの実施形態において、肺組織の炎症は、気管支炎または気管支拡張症である。いくつかの実施形態において、肺組織の炎症は、肺炎である。いくつかの実施形態において、肺炎は、人工呼吸器関連肺炎または院内感染性肺炎である。いくつかの実施形態において、肺炎は、人工呼吸器関連肺炎である。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における呼吸窮迫の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における呼吸窮迫の進行を遅延または減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、コロナウイルスと関連した疾患を有する対象における気道高応答性の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における気道高応答性を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載される化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺組織の炎症の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺組織の炎症の進行を遅延もしくは減速させる。いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺炎の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺炎の進行を遅延または減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載の化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における肺過敏症の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における肺過敏症の進行を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、本明細書に記載される化合物または薬学的組成物（例えば、式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的塩、あるいは式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－３）もしくは（Ｉ－４）の化合物、またはその薬学的に許容される塩を含む組成物）の、呼吸器疾患の症状を呈する対象への投与は、呼吸器疾患を有する対象における炎症関連の肺疼痛の重症度の低減をもたらすか、または呼吸器疾患を有する対象における炎症関連の肺疼痛の進行を遅延もしくは減速させる。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患を有する対象は、感染症、線維症、線維性エピソード、慢性閉塞性肺疾患、サルコイドーシス（もしくは肺サルコイドーシス）、または喘／喘息関連炎症の治療を受けているか、または受けていた。
いくつかの実施形態において、対象は、喘息の症状を呈する、及び／または喘息と診断されている。いくつかの実施形態において、対象は、喘息発作を経験しているか、または経験していた。
いくつかの実施形態において、対象は、線維症または線維性エピソードの治療を受けているか、または受けていた。いくつかの実施形態において、線維症は、嚢胞性線維症である。
いくつかの実施形態において、呼吸器疾患は、嚢胞性線維症、喘息、煙誘発性ＣＯＰＤ、慢性気管支炎、鼻副鼻腔炎、便秘、膵炎、膵不全、先天性両側輸精管欠損（ＣＢＡＶＤ）、軽度の肺疾患、肺サルコイドーシス、特発性膵炎、アレルギー性気管支肺アスペルギルス症（ＡＢＰＡ）、肝疾患、遺伝性肺気腫、遺伝性ヘモクロマトーシス、凝固線維症欠損症（例えば、タンパク質Ｃ欠損症）、遺伝性１型血管性浮腫、脂質加工欠損症（例えば、家族性高コレステロール血症）、１型カイロミクロン血症、無βリポタンパク質血症、溶血性貯蔵疾患（例えば、Ｉ－細胞疾患／偽ハーラー）、ムコ多糖症、サンドホッフ／タイサックス、クリグラー・ナジャールＩＩ型、多腺性内分泌障害／高インスリン血症、糖尿病、ラロン小人症、ミエロペルオキシダーゼ欠損症、原発性副甲状腺機能低下症、黒色腫、グリカノーシスＣＤＧ１型、先天性甲状腺機能亢進症、骨形成不全症、遺伝性低フィブリノーゲン血症、ＡＣＴ欠損症、尿崩症（ＤＩ）、ニューロフィシン性ＤＩ、腎原性ＤＩ、シャルコー・マリー・トゥース症候群、ペリツェウス・メルツバッハー病、神経変性疾患（例えば、アルツハイマー病）、パーキンソン病、筋萎縮性側索硬化症、進行性核上性麻痺、ピック病、いくつかのポリグルタミン神経学的障害（例えば、ハンチントン）、脊髄性無動脈症Ｉ型、球脊髄性筋萎縮症、歯状核赤核淡蒼球ルイ体、及び筋強直性ジストロフィー症、ならびに海綿状脳症（例えば、遺伝性クロイツフェルト・ヤコブ病）（プリオンタンパク質処理欠陥に起因する）、ファブリー病、ストロイスラー・シャインカー症候群、ＣＯＰＤ、ドライアイ疾患、またはシェーグレン病からなる群から選択される疾患または状態の結果である、及び／またはそれに関連する。
感染症
本開示は、とりわけ、感染症を有する対象の治療を企図する。本開示は、とりわけ、感染と関連した疾患を有する対象の治療を企図する。いくつかの実施形態において、感染症は、ウイルス感染症または細菌感染症である。いくつかの実施形態において、感染症は、ウイルス感染症である。いくつかの実施形態において、感染症は、細菌感染症である。
いくつかの実施形態において、ウイルス感染症は、コロナウイルス、インフルエンザウイルス、ヒトライノウイルス、ヒトパラインフルエンザウイルス、ヒトメタニューモウイルス及びハンタウイルスからなる群から選択されるウイルスの感染症である。いくつかの実施形態において、ウイルスは、コロナウイルスである。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２、及びＭＥＲＳ－ＣｏＶからなる群から選択される。
本開示は、とりわけ、コロナウイルスと関連した疾患を有する対象の治療を企図する。いくつかの実施形態において、コロナウイルスと関連した疾患は、コロナウイルス疾患２０１９（ＣＯＶＩＤ－１９）、重症急性呼吸器症候群（ＳＡＲＳ）及び中東呼吸器症候群（ＭＥＲＳ）からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスと関連した疾患は、ＣＯＶＩＤ－１９からなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－１、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２、及び２０１２－ｎＣｏＶからなる群から選択される。いくつかの実施形態において、コロナウイルスは、ＳＡＲＳ－ＣｏＶ－２である。
いくつかの実施形態において、細菌感染は、肺炎連鎖球菌、肺炎クラミジア、黄色ブドウ球菌、緑膿菌、及びインフルエンザ菌からなる群から選択される細菌の感染である。いくつかの実施形態において、黄色ブドウ球菌は、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌である。
列挙される実施形態
本開示は、１～１０９と番号付けされた以下の実施形態を含む。
１．式（１－Ｉ）の化合物：
Figure 2022538300000232
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
ｑが、独立して、０、１、２、または３であり、
ｒが、独立して、０、１、または２であり、
ｓが、独立して、０、１、または２であり、
ｔが、独立して、０、１、２、または３であり、
ｎが、独立して、１または２であり、
ｕが、独立して、１または２であり、
Ｘが、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、または窒素原子に付着している場合は窒素保護基であり、ＲＡ２のそれぞれの例が、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素もしくはメチルであるか、または
Figure 2022538300000233
 が二重結合である場合、Ｒ５及びＲ６ａもしくはＲ６ｂの一方が存在せず、
Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
Ｒ１８が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ３が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ２ａ及びＲ２ｂ、もしくはＲ４ａ及びＲ４ｂ、もしくはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、もしくはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成するが、
但し、
ｑ、ｓ、ｒ、ｕ、及びｔが、同時に１ではないことを条件とする、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
２．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１に記載の化合物。
３．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１または２に記載の化合物。
４．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～３のいずれか１つに記載の化合物。
５．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１～４のいずれか１つに記載の化合物。
６．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、両方とも水素である、実施形態１～５のいずれか１つに記載の化合物。
７．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～６のいずれか１つに記載の化合物。
８．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～７のいずれか１つに記載の化合物。
９．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～８のいずれか１つに記載の化合物。
１０．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１～９のいずれか１つに記載の化合物。
１１．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、両方とも水素である、実施形態１～１０のいずれか１つに記載の化合物。
１２．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～１１のいずれか１つに記載の化合物。
１３．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～１２のいずれか１つに記載の化合物。
１４．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～１３のいずれか１つに記載の化合物。
１５．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１～１４のいずれか１つに記載の化合物。
１６．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方とも水素である、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の化合物。
１７．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の化合物。
１８．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～１７のいずれか１つに記載の化合物。
１９．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～１８のいずれか１つに記載の化合物。
２０．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の化合物。
２１．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、両方とも水素である、実施形態１～２０のいずれか１つに記載の化合物。
２２．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～２１のいずれか１つに記載の化合物。
２３．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～２２のいずれか１つに記載の化合物。
２４．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～２３のいずれか１つに記載の化合物。
２５．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１～２４のいずれか１つに記載の化合物。
２６．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、両方とも水素である、実施形態１～２５のいずれか１つに記載の化合物。
２７．Ｒ５が、シス位置にある水素である、実施形態１～２６のいずれか１つに記載の化合物。
２８．Ｒ５が、トランス位置にある水素である、実施形態１～２６のいずれか１つに記載の化合物。
２９．Ｒ５が、シス位置にあるメチルである、実施形態１～２６のいずれか１つに記載の化合物。
３０．Ｒ５が、トランス位置にあるメチルである、実施形態１～２６のいずれか１つに記載の化合物。
３１．
Figure 2022538300000234
 が、単結合である、実施形態１～３０のいずれか１つに記載の化合物。
３２．
Figure 2022538300000235
 が、二重結合である、実施形態１～３０のいずれか１つに記載の化合物。
３３．ｒが、１であり、ｓが、１である、実施形態１～３２のいずれか１つに記載の化合物。
３４．ｔが、２である、実施形態１～３３のいずれか１つに記載の化合物。
３５．ｔが、３である、実施形態１～３４のいずれか１つに記載の化合物。
３６．ｑが、２である、実施形態１～３５のいずれか１つに記載の化合物。
３７．ｑが、０、２、または３であり、ｔが、０、２、または３であり、ｕが、１である、実施形態１～３６のいずれか１つに記載の化合物。
３８．ｑが、２であり、ｔが、２であり、ｕが、１である、実施形態１～３５のいずれか１つに記載の化合物。
３９．Ｒ３が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～３８のいずれか１つに記載の化合物。
４０．Ｒ３が、置換または非置換アルキルである、実施形態１～３９のいずれか１つに記載の化合物。
４１．Ｒ１９が、置換アルキルである、実施形態１～４０のいずれか１つに記載の化合物。
４２．Ｒ１９が、非置換アルキルである、実施形態１～４１のいずれか１つに記載の化合物。
４３．Ｒ１９が、メチル、エチル、または水素である、実施形態１～４０のいずれか１つに記載の化合物。
４４．Ｒ１９が、水素である、実施形態１～４０のいずれか１つに記載の化合物。
４５．Ｒ１９が、メチルである、実施形態１～４０のいずれか１つに記載の化合物。
４６．Ｘが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１～４５のいずれか１つに記載の化合物。
４７．Ｘが、水素、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１～４６のいずれか１つに記載の化合物。
４８．Ｘが、置換または非置換ヘテロアリールである、実施形態１～４７のいずれか１つに記載の化合物。
４９．Ｘが、置換または非置換の５～１０員ヘテロアリールである、実施形態１～４８のいずれか１つに記載の化合物。
５０．Ｒ１８が、非置換アルキルである、実施形態１～４９のいずれか１つに記載の化合物。
５１．Ｒ１８が、置換アルキルである、実施形態１～４９のいずれか１つに記載の化合物。
５２．ｎが、１である、実施形態１～５１のいずれか１つに記載の化合物。
５３．ｎが、２である、実施形態１～５１のいずれか１つに記載の化合物。
５４．化合物が、式（１－ＩＩ－ａ）、式（１－ＩＩ－ｂ）、式（１－ＩＩ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000236
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
５５．化合物が、式（１－ＩＩＩ－ａ）、式（１－ＩＩＩ－ｂ）、式（１－ＩＩＩ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＩＩ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000237
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
５６．Ｒ１８が、置換または非置換Ｃ１～４アルキルである、実施形態５５に記載の化合物。
５７．Ｒ１８が、非置換Ｃ１～４アルキルである、実施形態５５に記載の化合物。
５８．Ｒ１８が、置換Ｃ１～４アルキルである、実施形態５５に記載の化合物。
５９．化合物が、式（１－ＩＶ－ａ）、式（１－ＩＶ－ｂ）、式（１－ＩＶ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＶ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000238
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
６０．式（１－Ｖ－ａ）または（１－Ｖ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000239
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
ｎが、１または２であり、
Ｘが、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、または窒素原子に付着している場合は窒素保護基であり、ＲＡ２のそれぞれの例が、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素もしくはメチルであるか、または
Figure 2022538300000240
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
Ｒ１８が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ３が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ２ａ及びＲ２ｂ、もしくはＲ４ａ及びＲ４ｂ、もしくはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、もしくはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
６１．ｎが、１である、実施形態６０に記載の化合物。
６２．ｎが、２である、実施形態６０に記載の化合物。
６３．Ｘが、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または－ＯＲＡ１であり、ＲＡ１は、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態６０～６２のいずれか１つに記載の化合物。
６４．Ｘが、水素、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態６０～６３のいずれか１つに記載の化合物。
６５．Ｘが、置換または非置換のＮ結合ヘテロアリールである、実施形態６０～６４のいずれか１つに記載の化合物。
６６．Ｎ結合ヘテロアリールが、５～６員のＮ結合ヘテロアリールである、実施形態６０～６５のいずれか１つに記載の化合物。
６７．Ｘが、
Figure 2022538300000241
 であり、
Ｒ２０のそれぞれの例が、独立して、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧＡ、－Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＧＡ、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＧＡ、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＧＡ）２、または－Ｎ（ＲＧＡ）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧＡ；置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～４カルボシリル、または置換もしくは非置換の３～４員ヘテロシリルであり、
ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の炭素環式環、または置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｅが、０、１、２、３、４、または５である、実施形態６０～６３のいずれか１つに記載の化合物。
６８．Ｘが、
Figure 2022538300000242
 であり、
Ｒ２０のそれぞれの例が、独立して、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧＡ、－Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧＡ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、－Ｎ（ＲＧＡ）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧＡ、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧＡ）２、置換または非置換Ｃ１～６アルキル、置換または非置換の３～４員カルボシリル、置換または非置換の３～４員ヘテロシクリルであり、
ＲＧＡのそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧＡ基が介在する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の炭素環または複素環を形成し、
ｅが、０、１、２、または３である、実施形態６０～６３のいずれか１つに記載の化合物。
６９．Ｒ２０が、ＣＮである、実施形態６８に記載の化合物。
７０．Ｒ２０が、非置換アルキルである、実施形態６８に記載の化合物。
７１．Ｒ２０が、非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態７０に記載の化合物。
７２．Ｒ２０が、メチルである、実施形態７１に記載の化合物。
７３．Ｒ５が、シス位置にある水素である、実施形態６０～７２のいずれか１つに記載の化合物。
７４．Ｒ５が、トランス位置にある水素である、実施形態６０～７２のいずれか１つに記載の化合物。
７５．
Figure 2022538300000243
 が、単結合である、実施形態６０～７４のいずれか１つに記載の化合物。
７６．
Figure 2022538300000244
 が、二重結合である、実施形態６０～７４のいずれか１つに記載の化合物。
７７．Ｒ３が、置換または非置換アルキルである、実施形態６０～７６のいずれか１つに記載の化合物。
７８．Ｒ３が、非置換アルキルである、実施形態７７のいずれか１つに記載の化合物。
７９．Ｒ３が、Ｒ３が、メチル、エチル、－ＣＨ２ＯＣＨ３、または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である、実施形態７８に記載の化合物。
８０．アルキルが、任意選択で、ハロまたはＯＲＤ１で置換されている、実施形態７７に記載の化合物。
８１．ＲＤ１が、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態８０に記載の化合物。
８２．Ｒ３が、－ＣＨ２ＯＣＨ３である、実施形態８１に記載の化合物。
８３．Ｒ１９が、置換アルキルである、実施形態６０～８２のいずれか１つに記載の化合物。
８４．Ｒ１９が、非置換アルキルである、実施形態６０～８２のいずれか１つに記載の化合物。
８５．Ｒ１９が、メチル、エチルまたは水素である、実施形態６０～８２のいずれか１つに記載の化合物。
８６．Ｒ１８が、非置換アルキルである、実施形態６０～８５のいずれか１つに記載の化合物。
８７．Ｒ１８が、メチルである、実施形態８６に記載の化合物。
８８．Ｒ１８が、置換アルキルである、実施形態６０～８５のいずれか１つに記載の化合物。
８９．Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、－ＯＨ、または－ＯＲＤ１であるか、あるいはＲ２ａ及びＲ２ｂ、またはＲ４ａ及びＲ４ｂ、またはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、またはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、それぞれのアルキルが、ハロ、－ＯＨ、または－ＯＲＤ１から選択される置換基で任意に置換され、それぞれのＲＤ１が、独立して、水素、ハロアルキル、または非置換アルキルである、実施形態６０～８８のいずれか１つに記載の化合物。
９０．Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂが、水素である、実施形態６０～８９のいずれか１つに記載の化合物。
９１．化合物が、以下からなる群から選択される、実施形態６０～９０のいずれか１つに記載の化合物。
Figure 2022538300000245
Figure 2022538300000246
Figure 2022538300000247
Figure 2022538300000248
Figure 2022538300000249
Figure 2022538300000250
Figure 2022538300000251
 ９２．化合物が、式（１－ＶＩ－ａ）もしくは式（１－ＶＩｂ）の化合物：
Figure 2022538300000252
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９３．化合物が、式（１－ＶＩＩ－ａ）もしくは式（１－ＶＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000253
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１～５３のいずれか１つに記載の化合物。
９４．化合物が、式（１－ＶＩＩＩ－ａ）もしくは式（１－ＶＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000254
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９５．化合物が、式（１－ＩＸ－ａ）、式（１－ＩＸ－ｂ）、式（１－ＩＸ－ｃ）、もしくは式（１－ＩＸ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000255
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９６．化合物が、式（１－Ｘ－ａ）、式（１－Ｘ－ｂ）、式（１－Ｘ－ｃ）、もしくは式（１－Ｘ－ｄ）の化合物：
Figure 2022538300000256
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９７．化合物が、式（１－ＸＩ－ａ）、式（１－ＸＩ－ｂ）、もしくは式（１－ＸＩ－ｃ）の化合物：
Figure 2022538300000257
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９８．化合物が、式（１－ＸＩＩ－ａ）もしくは式（１－ＸＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000258
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１に記載の化合物。
９９．化合物が、式（１－ＸＩＩＩ－ａ）もしくは式（１－ＸＩＩＩ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000259
 またはその薬学的に許容される塩であり、
Ｒ５５が、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態６０～９０のいずれか１つに記載の化合物。
１００．化合物が、式（１－ＸＩＶ－ａ）もしくは式（１－ＸＩＶ－ｂ）の化合物：
Figure 2022538300000260
 またはその薬学的に許容される塩であり、
Ｒ５５が、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態６０～９０のいずれか１つに記載の化合物。
１０１．実施形態１～１００のいずれか１つに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む、薬学的組成物。
１０２．ＧＡＢＡＡ受容体の調節を必要とする対象においてそれを行う方法であって、対象に、治療有効量の実施形態１～１００のいずれか１つに記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または実施形態１０１に記載の薬学的組成物を投与することを含む、方法。
１０３．ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法であって、対象に、治療有効量の実施形態１～１００のいずれか１つに記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または実施形態１０１に記載の薬学的組成物を投与することを含む、方法。
１０４．ＣＮＳ関連障害が、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である、実施形態１０３に記載の方法。
１０５．ＣＮＳ関連障害が、気分障害である、実施形態１０４に記載の方法。
１０６．気分障害が、うつ病である、実施形態１０５に記載の方法。
１０７．うつ病が、産後うつ病である、実施形態１０６に記載の方法。
１０８．ＣＮＳ関連障害が、大うつ病性障害である、実施形態１０４に記載の方法。
１０８．大うつ病性障害が、中等度の大うつ病性障害である、実施形態１０８に記載の方法。
１０９．大うつ病性障害が、重度の大うつ病性障害である、実施形態１０４に記載の方法。
本開示は、１ａ～１４５ａと番号付けされた以下の実施形態を含む。
１ａ．式２－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000261
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000262
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000263
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２は、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３であるが、
但し、化合物が、
Figure 2022538300000264
 でないことを条件とする、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
２ａ．ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法であって、対象に、式２－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000265
 あるいはその薬学的に許容される塩を投与することを含み、
式中、
Figure 2022538300000266
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000267
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、方法。
３ａ．化合物が、式２－Ｉａもしくは式２－Ｉｂの化合物：
Figure 2022538300000268
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａまたは２ａに記載の化合物。
４ａ．化合物が、式２－Ｉａａもしくは式２－Ｉａｂの化合物：
Figure 2022538300000269
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～３ａのいずれか１つに記載の化合物。
５ａ．式２－ＩＩの化合物：
Figure 2022538300000270
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
ｔが、１または２であり、
Figure 2022538300000271
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000272
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ３０ａ、及びＲ３０ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ３０ａ及びＲ３０ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２９ａ及びＲ２９ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
６ａ．化合物が、式２－ＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000273
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態５ａに記載の化合物。
７ａ．式２－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000274
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000275
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000276
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ３１ａ及びＲ３１ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
８ａ．化合物が、式２－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000277
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態７ａに記載の化合物。
９ａ．式２－ＩＶａまたは式２－ＩＶｂの化合物：
Figure 2022538300000278
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000279
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000280
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３であり、
ｍが、２または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１０ａ．化合物が、式２－ＩＶａａもしくは式２－ＩＶｂａの化合物：
Figure 2022538300000281
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態９ａに記載の化合物。
１１ａ．式２－Ｖの化合物：
Figure 2022538300000282
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000283
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000284
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１２ａ．化合物が、式２－Ｖａの化合物：
Figure 2022538300000285
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１１ａに記載の化合物。
１３ａ．式２－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000286
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000287
 は、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ３６ａまたはＲ３６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000288
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ３６ａ及びＲ３６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ３６ａ及びＲ３６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ３４ａ、Ｒ３４ｂ、Ｒ３５ａ、及びＲ３５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１４ａ．化合物が、式２－ＶＩａの化合物：
Figure 2022538300000289
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１３ａに記載の化合物。
１５ａ．式ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000290
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000291
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ３６ａまたはＲ３６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
Figure 2022538300000292
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ３７ａ及びＲ３７ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１６ａ．化合物が、式２－ＶＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000293
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１５ａに記載の化合物。
１７ａ．それぞれのＲ１６ａ及びＲ１６ｂが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１６ａのいずれか１つに記載の化合物。
１８ａ．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルケニル、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１７ａのいずれか１つに記載の化合物。
１９ａ．Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～１８ａのいずれか１つに記載の化合物。
２０ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１９ａのいずれか１つに記載の化合物。
２１ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～２０ａのいずれか１つに記載の化合物。
２２ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～２１ａのいずれか１つに記載の化合物。
２３ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～２２ａのいずれか１つに記載の化合物。
２４ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１ａ～２３ａのいずれか１つに記載の化合物。
２５ａ．Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～２４ａのいずれか１つに記載の化合物。
２６ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～２５ａのいずれか１つに記載の化合物。
２７ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～２６ａのいずれか１つに記載の化合物。
２８ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～２７ａのいずれか１つに記載の化合物。
２９ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～２８ａのいずれか１つに記載の化合物。
３０ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素である、実施形態１ａ～２９ａのいずれか１つに記載の化合物。
３１ａ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～３０ａのいずれか１つに記載の化合物。
３２ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～３１ａのいずれか１つに記載の化合物。
３３ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～３２ａのいずれか１つに記載の化合物。
３４ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～３３ａのいずれか１つに記載の化合物。
３５ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～３４ａのいずれか１つに記載の化合物。
３６ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである、実施形態１ａ～３５ａのいずれか１つに記載の化合物。
３７ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ａ～３６ａのいずれか１つに記載の化合物。
３８ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１ａ～３７ａのいずれか１つに記載の化合物。
３９ａ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～３８ａのいずれか１つに記載の化合物。
４０ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～３９ａのいずれか１つに記載の化合物。
４１ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～４０ａのいずれか１つに記載の化合物。
４２ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～４１ａのいずれか１つに記載の化合物。
４３ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである、実施形態１ａ～４２ａのいずれか１つに記載の化合物。
４４ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ａ～４３ａのいずれか１つに記載の化合物。
４５ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～４４ａのいずれか１つに記載の化合物。
４６ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素である、実施形態１ａ～４５ａのいずれか１つに記載の化合物。
４７ａ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～４６ａのいずれか１つに記載の化合物。
４８ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ａ～４７ａのいずれか１つに記載の化合物。
４９ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方ともハロゲンである、実施形態１ａ～４８ａのいずれか１つに記載の化合物。
５０ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方ともアルキルである、実施形態１ａ～４９ａのいずれか１つに記載の化合物。
５１ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ基を形成する、実施形態１ａ～５０ａのいずれか１つに記載の化合物。
５２ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～５１ａのいずれか１つに記載の化合物。
５３ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～５２ａのいずれか１つに記載の化合物。
５４ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～５３ａのいずれか１つに記載の化合物。
５５ａ．Ｒ６ａが、ハロゲンまたはアルキルであり、Ｒ６ｂが、水素である、実施形態１ａ～５４ａのいずれか１つに記載の化合物。
５６ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素である、実施形態１ａ～５５ａのいずれか１つに記載の化合物。
５７ａ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～５６ａのいずれか１つに記載の化合物。
５８ａ．Ｒ５が、シス位置にあるメチルである、実施形態１ａ～５７ａのいずれか１つに記載の化合物。
５９ａ．Ｒ５が、シス位置にある水素である、実施形態１ａ～５８ａのいずれか１つに記載の化合物。
６０ａ．Ｒ５が、トランス位置にある水素である、実施形態１ａ～５９ａのいずれか１つに記載の化合物。
６１ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～６０ａのいずれか１つに記載の化合物。
６２ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～６１ａのいずれか１つに記載の化合物。
６３ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～６２ａのいずれか１つに記載の化合物。
６４ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～６３ａのいずれか１つに記載の化合物。
６５ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである、実施形態１ａ～６４ａのいずれか１つに記載の化合物。
６６ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ａ～６５ａのいずれか１つに記載の化合物。
６７ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～６６ａのいずれか１つに記載の化合物。
６８ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１ａ～６７ａのいずれか１つに記載の化合物。
６９ａ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～６８ａのいずれか１つに記載の化合物。
７０ａ．Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ａ～６９ａのいずれか１つに記載の化合物。
７１ａ．Ｒ３が、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～７０ａのいずれか１つに記載の化合物。
７２ａ．Ｒ３が、置換または非置換アルキルである、実施形態１ａ～７１ａのいずれか１つに記載の化合物。
７３ａ．Ｒ３が、置換アルキルである、実施形態１ａ～７２ａのいずれか１つに記載の化合物。
７４ａ．Ｒ３が、非置換アルキルである、実施形態１ａ～７３ａのいずれか１つに記載の化合物。
７５ａ．Ｒ３が、メチルである、実施形態１ａ～７４ａのいずれか１つに記載の化合物。
７６ａ．Ｒ３が、－ＣＨ２ＯＣＨ３または－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３である、実施形態１ａ～７５ａのいずれか１つに記載の化合物。
７７ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～７６ａのいずれか１つに記載の化合物。
７８ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～７７ａのいずれか１つに記載の化合物。
７９ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～７８ａのいずれか１つに記載の化合物。
８０ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～７９ａのいずれか１つに記載の化合物。
８１ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである、実施形態１ａ～８０ａのいずれか１つに記載の化合物。
８２ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ａ～８１ａのいずれか１つに記載の化合物。
８３ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～８２ａのいずれか１つに記載の化合物。
８４ａ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１ａ～８３ａのいずれか１つに記載の化合物。
８５ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～８４ａのいずれか１つに記載の化合物。
８６ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～８５ａのいずれか１つに記載の化合物。
８７ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～８６ａのいずれか１つに記載の化合物。
８８ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態１ａ～８７ａのいずれか１つに記載の化合物。
８９ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１～Ｃ６アルコキシ、Ｃ１～Ｃ６アルコキシハロ、または－ＯＨである、実施形態１ａ～８８ａのいずれか１つに記載の化合物。
９０ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂのそれぞれが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１～８９のいずれか１つに記載の化合物。
９１ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂが、両方とも水素である、実施形態１ａ～９０ａのいずれか１つに記載の化合物。
９２ａ．Ｒ１ａ及びＲ１ｂが、それぞれ独立して、水素である、実施形態１ａ～９１ａのいずれか１つに記載の化合物。
９３ａ．Ｒ１９が、置換アルキルである、実施形態１ａ～９２ａのいずれか１つに記載の化合物。
９４ａ．Ｒ１９が、非置換アルキルである、実施形態１ａ～９３ａのいずれか１つに記載の化合物。
９５ａ．Ｒ１９が、メチルである、実施形態１ａ～９４ａのいずれか１つに記載の化合物。
９６ａ．Ｒ１９が、－ＣＨ２ＯＣＨ３である、実施形態１ａ～９５ａのいずれか１つに記載の化合物。
９７ａ．Ｒ１９が、－ＯＣＨ３である、実施形態１～９６のいずれか１つに記載の化合物。
９８ａ．Ｒ１９が、エチルである、実施形態１ａ～９７ａのいずれか１つに記載の化合物。
９９ａ．Ｒ１９が、水素である、実施形態１ａ～９８ａのいずれか１つに記載の化合物。
１００ａ．ｎが、２または１である、実施形態１ａ～９９ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０１ａ．ｎが、２である、実施形態１ａ～１００ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０２ａ．ｎが、１である、実施形態１ａ～１０１ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０３ａ．
Figure 2022538300000294
 が、単結合である、実施形態１ａ～１０２ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０４ａ．
Figure 2022538300000295
 が、二重結合である、実施形態１ａ～１０３ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０５ａ．化合物が、式２－Ｉｃの化合物：
Figure 2022538300000296
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０４ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０６ａ．化合物が、式２－Ｉｄの化合物：
Figure 2022538300000297
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０５ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０７ａ．化合物が、式２－Ｉｅの化合物：
Figure 2022538300000298
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０６ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０８ａ．化合物が、式２－Ｉｆの化合物：
Figure 2022538300000299
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０７ａのいずれか１つに記載の化合物。
１０９ａ．化合物が、式２－Ｉｇ、式２－Ｉｇ－ＩＩ、もしくは式２－Ｉｈの化合物：
Figure 2022538300000300
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０８ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１０ａ．化合物が、式２－Ｉｇａもしくは式２－Ｉｈａの化合物：
Figure 2022538300000301
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態１ａ～１０９ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１１ａ．化合物が、式２－Ｉｇｂまたは式２－Ｉｈｂの化合物：
Figure 2022538300000302
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１または２であり、
ｐが、１、２、または３である、実施形態１ａ～１１０ａのいずれか１つに記載の化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１１２ａ．化合物が、式２－Ｉｇｃの化合物：
Figure 2022538300000303
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Ｒａが、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、実施形態１ａ～１１１ａのいずれか１つに記載の化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１１３ａ．化合物が、式２－Ｉｇｄの化合物：
Figure 2022538300000304
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｎが、１、２、または３である、実施形態１ａ～１１２ａのいずれか１つに記載の化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１１４ａ．Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１１３ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１５ａ．Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１１４ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１６ａ．Ｒ２８が、メチルである、実施形態１ａ～１１５ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１７ａ．Ｒ２８が、水素である、実施形態１ａ～１１６ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１８ａ．Ｒ２８が、
Figure 2022538300000305
 からなる群から選択され、
式中、
Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｐが、０～１１から選択される整数である、実施形態１ａ～１１７ａのいずれか１つに記載の化合物。
１１９ａ．Ｒ２８が、
Figure 2022538300000306
 からなる群から選択され、
Ｒａ及びｐが、実施形態１１８ａに定義されるとおりである、実施形態１ａ～１１８ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２０ａ．Ｒ２８が、
Figure 2022538300000307
 であり、
Ｒａ及びｐが、実施形態１１８ａに定義されるとおりである、実施形態１ａ～１１９ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２１ａ．Ｒ２８が、
Figure 2022538300000308
 である、実施形態１ａ～１２０ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２２ａ．Ｒ３７ａ及びＲ３７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ａ～１２１ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２３ａ．Ｒ３６ａ及びＲ３６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ａ～１２２ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２４ａ．Ｒ３５ａ及びＲ３５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２３ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２５ａ．Ｒ３４ａ及びＲ３４ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２４ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２６ａ．Ｒ３３ａ及びＲ３３ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２５ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２７ａ．Ｒ３２ａ及びＲ３２ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２６ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２８ａ．それぞれのＲ３１ａ及びＲ３１ｂが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２７ａのいずれか１つに記載の化合物。
１２９ａ．Ｒ３０ａ及びＲ３０ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、または－Ｎ（ＲＤ１）２であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２８ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３０ａ．それぞれのＲ２９ａ及びＲ２９ｂが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、または－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または非置換ヘテロアリールである、実施形態１ａ～１２９ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３１ａ．ｔが、２である、実施形態１ａ～１３０ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３２ａ．ｔが、１である、実施形態１ａ～１３１ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３３ａ．ｍが、３である、実施形態１ａ～１３２ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３４ａ．ｍが、２である、実施形態１ａ～１３３ａのいずれか１つに記載の化合物。
１３５ａ．化合物が、以下からなる群から選択される、実施形態１ａ～１３４ａのいずれか１つに記載の化合物。
Figure 2022538300000309
Figure 2022538300000310
Figure 2022538300000311
Figure 2022538300000312
Figure 2022538300000313
 １３６ａ．実施形態１ａ～１３５ａのいずれか１つに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む、薬学的組成物。
１３７ａ．ＧＡＢＡＡ受容体の調節を必要とする対象においてそれを行う方法であって、対象に、治療有効量の実施形態１ａ～１３６ａのいずれか１つに記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または実施形態１３６ａに記載の薬学的組成物を投与することを含む、方法。
１３８ａ．ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法であって、対象に、治療有効量の実施形態１ａ～１３６ａのいずれか１つに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を投与することを含む、方法。
１３９ａ．ＣＮＳ関連障害が、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である、実施形態１３８ａに記載の方法。
１４０ａ．ＣＮＳ関連障害が、気分障害である、実施形態１３９ａに記載の方法。
１４１ａ．ＣＮＳ関連障害が、うつ病である、実施形態１４０ａに記載の方法。
１４２ａ．ＣＮＳ関連障害が、産後うつ病である、実施形態１４１ａに記載の方法。
１４３ａ．ＣＮＳ関連障害が、大うつ病性障害である、実施形態１４２ａに記載の方法。
１４４ａ．大うつ病性障害が、中等度の大うつ病性障害である、実施形態１４３ａに記載の方法。
１４５ａ．大うつ病性障害が、重度の大うつ病性障害である、実施形態１４４ａに記載の方法。
本開示は、１ｂ～１０４ｂと番号付けされた以下の実施形態を含む。
１ｂ．式３－Ｉの化合物：
Figure 2022538300000314
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000315
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000316
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
２ｂ．化合物が、式３－ＩＩａまたは式３－ＩＩｂの化合物である、実施形態１ｂに記載の化合物。
Figure 2022538300000317
 ３ｂ．式３－ＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000318
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000319
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000320
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｔが、２または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
４ｂ．式３－ＩＶの化合物：
Figure 2022538300000321
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000322
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000323
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
５ｂ．式３－Ｖａあるいは式３－Ｖｂの化合物：
Figure 2022538300000324
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000325
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000326
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｒが、２または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
６ｂ．式３－ＶＩの化合物：
Figure 2022538300000327
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000328
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂまたはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000329
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
７ｂ．式３－ＶＩＩの化合物：
Figure 2022538300000330
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000331
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000332
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｓが、２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
８ｂ．式３－ＶＩＩＩの化合物：
Figure 2022538300000333
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000334
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000335
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
９ｂ．式３－ＩＸの化合物：
Figure 2022538300000336
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000337
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000338
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリル、または置換もしくは非置換アリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｑが、２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１０ｂ．式３－Ｉａの化合物：
Figure 2022538300000339
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000340
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000341
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１１ｂ．化合物が、式３－ＩＩａａまたは式３－ＩＩｂａの化合物である、実施形態１０ｂに記載の化合物。
Figure 2022538300000342
 １２ｂ．式３－ＩＩＩａの化合物：
Figure 2022538300000343
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000344
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000345
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｔが、２または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１３ｂ．式３－ＩＶａの化合物：
Figure 2022538300000346
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000347
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000348
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ及びＲ１５ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１４ｂ．式３－Ｖａｃあるいは式３－Ｖａｃｃの化合物：
Figure 2022538300000349
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000350
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000351
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｒが、２または３である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１５ｂ．式３－ＶＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000352
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000353
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000354
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１６ｂ．式３－ＶＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000355
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000356
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000357
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｓが、２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１７ｂ．式３－ＶＩＩＩａｃの化合物：
Figure 2022538300000358
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000359
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000360
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１８ｂ．式３－ＩＸａｃの化合物：
Figure 2022538300000361
 あるいはその薬学的に許容される塩であり、
式中、
Figure 2022538300000362
 が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
Ｒ５が、水素またはメチルであり、
Figure 2022538300000363
 が二重結合である場合、Ｒ５は存在せず、
Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
Ｒ１９が、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
ｎが、０、１、または２であり、
ｑが、２である、化合物、あるいはその薬学的に許容される塩。
１９ｂ．Ｒ１９が、
Figure 2022538300000364
 ではない、実施形態１０ｂ～１８ｂに記載の化合物。
２０ｂ．Ｒ１が、置換または非置換アルキル、置換または非置換アルケニル、置換または非置換アルキニル、置換または非置換カルボシクリル、置換または非置換ヘテロシクリル、置換または非置換アリール、置換または非置換ヘテロアリールである、実施形態１ｂ～１９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２１ｂ．Ｒ１が、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ｂ～１９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２２ｂ．Ｒ１が、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールであり、それぞれが、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールでさらに置換される、実施形態１ｂ～１９ｂのいずれか１項に記載の化合物。
２３ｂ．Ｒ１が、
Figure 2022538300000365
 からなる群から選択され、
式中、
Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｐが、０～１１から選択される整数である、実施形態１ｂ～１９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２４ｂ．Ｒ１が、
Figure 2022538300000366
 からなる群から選択され、
Ｒａ及びｐが、実施形態２３ｂに定義されるとおりである、実施形態１ｂ～１９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２５ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＥ５、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＥ５、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）２、または－Ｎ（ＲＥ５）Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５であり、ＲＥ５のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいは２つのＲＥ５基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２６ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＲＦ６、－ＯＣ（＝Ｏ）、－Ｎ（ＲＦ６）２、または－Ｎ（ＲＦ６）Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ６であり、ＲＦ６のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリルであるか、または２つのＲＦ６基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２７ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、独立して、水素、－ＯＨ、または置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２８ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂのそれぞれが、独立して、水素、－ＯＨ、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ１～６アルコキシ、またはＣ１～６アルコキシハロである、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
２９ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３０ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３１ｂ．Ｒ２ａ及びＲ２ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、実施形態１ｂ～２４ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３２ｂ．Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３３ｂ．Ｒ３ａが、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３４ｂ．Ｒ３ａが、置換または非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３５ｂ．Ｒ３ａが、置換アルキルである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３６ｂ．Ｒ３ａが、非置換アルキルである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３７ｂ．Ｒ３ａが、メチルである、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３８ｂ．Ｒ３ａが、水素である、実施形態１ｂ～３１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
３９ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＥ５、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＥ５、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）２、または－Ｎ（ＲＥ５）Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５であり、ＲＥ５のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいは２つのＲＥ５基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４０ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＲＦ６、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＦ６、－Ｎ（ＲＦ６）２、または－Ｎ（ＲＦ６）Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ６であり、ＲＦ６のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリルであるか、または２つのＲＦ６基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４１ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、独立して、水素、－ＯＨ、または置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４２ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂのそれぞれが、独立して、水素、－ＯＨ、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ１～６アルコキシ、またはＣ１～６ハロアルコキシである、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４３ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４４ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４５ｂ．Ｒ４ａ及びＲ４ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、実施形態１ｂ～３８ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４６ｂ．Ｒ５が、Ｒ１９に対して、シス位置にある水素である、実施形態１ｂ～４５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４７ｂ．Ｒ５が、Ｒ１９に対して、トランス位置にある水素である、実施形態１ｂ～４５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４８ｂ．Ｒ５が、Ｒ１９に対して、シス位置にある水素である、実施形態１ｂ～４５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
４９ｂ．Ｒ５が、Ｒ１９に対して、トランス位置にあるメチルである、実施形態１ｂ～４５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５０ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルである、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５１ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、独立して、水素または置換アルキルである、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５２ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、独立して、水素または非置換アルキルである、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５３ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５４ｂ．Ｒ６ａが、ハロまたはアルキルであり、Ｒ６ｂが、水素である、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５５ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方ともハロである、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５６ｂ．Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方ともアルキルである、実施形態１ｂ～４９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５７ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＥ５、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＥ５、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）２、または－Ｎ（ＲＥ５）Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５であり、ＲＥ５のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいは２つのＲＥ５基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５８ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＲＦ６、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＦ６、－Ｎ（ＲＦ６）２、または－Ｎ（ＲＦ６）Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ６であり、ＲＦ６のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリルであるか、または２つのＲＦ６基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
５９ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、独立して、水素、－ＯＨ、または置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６０ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂのそれぞれが、独立して、水素、－ＯＨ、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ１～６アルコキシ、またはＣ１～６アルコキシハロである、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６１ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６２ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６３ｂ．Ｒ７ａ及びＲ７ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、実施形態１ｂ～５６ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６４ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＥ５、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＥ５、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）２、または－Ｎ（ＲＥ５）Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５であり、ＲＥ５のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいは２つのＲＥ５基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６５ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＲＦ６、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＦ６、－Ｎ（ＲＦ６）２、または－Ｎ（ＲＦ６）Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ６であり、ＲＦ６のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリルであるか、または２つのＲＦ６基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６６ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、独立して、水素、－ＯＨ、または置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６７ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂのそれぞれが、独立して、水素、－ＯＨ、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ１～６アルコキシ、またはＣ１～６アルコキシハロである、実施形態１～６３のいずれか１つに記載の化合物。
６８ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
６９ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７０ｂ．Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、実施形態１ｂ～６３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７１ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＥ５、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＥ５、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）２、または－Ｎ（ＲＥ５）Ｃ（＝Ｏ）ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＥ５、－Ｎ（ＲＥ５）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＥ５であり、ＲＥ５のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであるか、あるいは２つのＲＥ５基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７２ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＲＦ６、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＦ６、－Ｎ（ＲＦ６）２、または－Ｎ（ＲＦ６）Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ６であり、ＲＦ６のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリルであるか、または２つのＲＦ６基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成する、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７３ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、独立して、水素、－ＯＨ、または置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキルである、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７４ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂのそれぞれが、独立して、水素、－ＯＨ、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６ハロアルキル、Ｃ１～６アルコキシ、またはＣ１～６アルコキシハロである、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７５ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、独立して、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＨ、－ＯＣＨ３、または－ＣＨ（ＣＨ３）２である、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７６ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが、両方とも水素である、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７７ｂ．Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成する、実施形態１ｂ～７０ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７８ｂ．Ｒ１７ｂが、フッ素、ヒドロキシル、メチル、または水素である、実施形態１ｂ～７７ｂのいずれか１つに記載の化合物。
７９ｂ．Ｒ１７ｂが、水素である、実施形態１ｂ～７７ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８０ｂ．Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシクリル、または置換もしくは非置換Ｃ６～１０アリールである、実施形態１ｂ～７９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８１ｂ．Ｒ１９が、置換または非置換Ｃ３～６カルボシクリルである、実施形態１ｂ～７９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８２ｂ．Ｒ１９が、置換または非置換Ｃ６～１０アリールである、実施形態１ｂ～７９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８３ｂ．Ｒ１９が、
Figure 2022538300000367
 からなる群から選択され、
式中、
Ｒｂのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＧ７、－Ｎ（ＲＧ７）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＧ７、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧ７、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧ７）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＧ７、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＧ７、－Ｎ（ＲＧ７）Ｃ（＝Ｏ）ＲＧ７、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＧ７）２、－Ｎ（ＲＧ７）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＧ７、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧ７、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＧ７、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＧ７、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＧ７）２、または－Ｎ（ＲＧ７）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＧ７、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
ＲＧ７のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＧ７基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
ｐが、０～１１から選択される整数である、実施形態１ｂ～７９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８４ｂ．ｎが、０である、実施形態１ｂ～８３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８５ｂ．ｎが、１である、実施形態１ｂ～８３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８６ｂ．Ｒ１８が、メチルである、実施形態１ｂ～８５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８７ｂ．Ｒ１８が、エチルである、実施形態１ｂ～８５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８８ｂ．Ｒ１８が、置換メチルである、実施形態１ｂ～８５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
８９ｂ．Ｒ１８が、置換エチルである、実施形態１ｂ～８５ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９０ｂ．ｔが、２である、実施形態１ｂ～８９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９１ｂ．ｔが、３である、実施形態１ｂ～８９ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９２ｂ．ｒが、２である、実施形態１ｂ～９１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９３ｂ．ｒが、３である、実施形態１ｂ～９１ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９４ｂ．ｎが、２である、実施形態１ｂ～９３ｂのいずれか１つに記載の化合物。
９５ｂ．式ＩＩＩの化合物が、式ＩＩＩ－ａｄの化合物：
Figure 2022538300000368
 またはその薬学的に許容される塩である、実施形態３ｂに記載の化合物。
９６ｂ．式ＩＩＩの化合物が、式ＩＩＩ－ｂｄの化合物：
Figure 2022538300000369
 またはその薬学的に許容される塩であり、
Ｒ５５が、水素、ハロゲン、シアノ、または置換もしくは非置換アルキルである、実施形態３ｂに記載の化合物。
９７ｂ．実施形態１ｂ～９６ｂのいずれか１つに記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む、薬学的組成物。
９８ｂ．ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う治療方法であって、対象に、治療有効量の実施形態１ｂ～９６ｂのいずれか１つに記載の化合物またはその薬学的に許容される塩を投与することを含む、方法。
９９ｂ．ＣＮＳ関連障害が、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である、実施形態９８ｂに記載の方法。
１００ｂ．ＣＮＳ関連障害が、うつ病である、実施形態９８ｂに記載の方法。
１０１ｂ．ＣＮＳ関連障害が、産後うつ病である、実施形態９８ｂに記載の方法。
１０２ｂ．ＣＮＳ関連障害が、大うつ病性障害である、実施形態９８ｂに記載の方法。
１０３ｂ．大うつ病性障害が、中等度の大うつ病性障害である、実施形態１０２ｂに記載の方法。
１０４ｂ．大うつ病性障害が、重度の大うつ病性障害である、実施形態１０２ｂに記載の方法。
本明細書に記載される本発明をより完全に理解できるようにするために、以下の実施例を示す。本出願に記載される合成的及び生物学的実施例は、本明細書に提供される化合物、薬学的組成物、及び方法を例示するために提供され、それらの範囲を限定するものとして決して解釈されるべきではない。
材料及び方法
本明細書に提供される化合物は、以下の一般の方法及び手順を使用して、容易に入手可能な出発材料から調製され得る。典型的なまたは好適なプロセス条件（すなわち、反応温度、時間、反応体のモル比、溶媒、圧力など）が与えられる場合、他のプロセス条件も、別途示されない限り使用され得ることが理解されるであろう。最適な反応条件は、使用される特定の反応体または溶媒によって異なり得るが、そのような条件は、日常的な最適化によって当業者により決定することができる。
追加的に、当業者には明らかとなるように、ある特定の官能基が望ましくない反応を起こさないようにするために、従来の保護基が必要な場合がある。特定の官能基に対する好適な保護基の選択、ならびに保護及び脱保護のための好適な条件は、当該技術分野で周知である。例えば、多数の保護基、ならびにそれらの導入及び除去は、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，Ｐｒｏｔｅｃｔｉｎｇ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｗｉｌｅｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１、及びそこで引用される参考文献に記載されている。
本明細書に提供される化合物は、既知の標準的な手順によって単離及び精製され得る。そのような手順としては、再結晶化、カラムクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ、または超臨界流体クロマトグラフィー（ＳＦＣ）が含まれる（が、これらに限定されない）。以下のスキームは、本明細書に列挙されている代表的なオキシステロールの調製に関する詳細と共に提示される。本明細書に提供される化合物は、有機合成の当業者によって、既知のまたは市販の出発物質及び試薬から調製されてもよい。本明細書に提供されるエナンチオマー／ジアステレオマーの分離／精製に使用するために利用可能な例示的なキラルカラムとしては、ＣｈｉｒａｌＰａｋ（登録商標）ＡＤ－１０、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＢ－Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＤ－Ｈ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＦ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＧ、ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＪ及びＣＨＩＲＡＬＣＥＬ（登録商標）ＯＫが挙げられるが、これらに限定されない。
本明細書に報告される１Ｈ－ＮＭＲ（例えば、約０．５～約４ｐｐｍのδ（ｐｐｍ）間の領域について）は、化合物のＮＭＲスペクトル（例えば、例示的なピーク積分）の例示的な解釈であると理解されるであろう。
ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：（移動相：水中の１．５ＭＬ／４Ｌ ＴＦＡ（溶媒Ａ）及びアセトニトリル中の０．７５ＭＬ／４Ｌ ＴＦＡ（溶媒Ｂ）、溶出勾配３０％～９０％（溶媒Ｂ）を０．９分間にわたって使用し、１．２ｍｌ／分の流速で０．６分間、９０％で保持する；カラム：Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ ２．１＊３０ｍｍ、３ｕｍ；波長：ＵＶ２２０ｎｍ；カラム温度：５０℃；ＭＳイオン化：ＥＳＩ；検出器：ＰＤＡ＆ＥＬＳＤ。
省略形：
ＬＤＡ：リチウムジイソプロピルアミド、ＤＭＰ：Ｄｅｓｓ－Ｍａｒｔｉｎペルヨージナン、ＤＭＥ：１，２－ジメトキシエタン、Ｎａ２ＳＯ４：硫酸ナトリウム、ＰＥ：石油エーテル、ＥｔＯＡｃ：酢酸エチル、ｔ－ＢｕＯＫ：２－メチルプロパン－２－オール酸カリウム。Ｍｅ：メチル、ｔ－Ｂｕ：三級ブチル、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、ＤＣＭ：ジクロロメタン、Ｐｈ：フェニル、ＨＡＴＵ：２－（７－アザ－１Ｈ－ベンゾトリアゾール－１－イル）－１，１，３，３－テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、ＭＡＤ：メチルアルミニウムビス（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノキシド）。
実施例１及び２：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オン及び１－（（４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000370
 １．２の合成
冷たい（－７８℃）ＬＤＡ溶液（１４５ｍｍｏｌ、ＴＨＦ中１Ｍ）に、ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中の１．１（５．０ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１６．５ｇ、１４５ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、反応をＴＨＦ（５０ｍＬ）中の酢酸（８．７０ｇ、１４５ｍｍｏｌ）でクエンチした。１６時間にわたって室温に温めた後、反応混合物を水（３００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して１．２（２０ｇ）を油として得、これを次のステップで直接使用した。
１．３及び１．３ａの合成
ＤＭＥ（１５０ｍＬ）中の１．２（２０ｇ、３９．７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３５０ｍｇ、０．７９４ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、ジアステレオマー１．３及び１．３ａ（１１ｇ）の混合物を油として得た。
１．４及び１．４ａの合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の１．３及び１．３Ａ（１１ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）及びＮａＯＨ（７．８４ｇ、１９６ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応物をＨ２Ｏ（２００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．４及び１．４ａ（２．６ｇ、３４．９％）を固体として得た。ジアステレオマーを、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）；移動相：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；勾配：２０％～２０％のＢ、流速（ｍｌ／分）：１８０）により分離して、１．４ａ（１ｇ）及び１．４（１ｇ）の両方を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ３．１１－２．８６（ｍ，１Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．５３－２．３１（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．９１（ｍ，４Ｈ），１．８５－１．４８（ｍ，１２Ｈ），１．４３－１．１７（ｍ，５Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８４（ｍ，１Ｈ），ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，ａｎｌｙｔｉｃ ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；ＭＳ ＥＳＩ Ｃ２０Ｈ３０Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対する計算値３０３．２，実測値３０３．２。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ２．６８－２．３８（ｍ，４Ｈ），２．３６－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．５８（ｍ，１３Ｈ），１．５６－１．１３（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），１．０９－０．８５（ｍ，２Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，ａｎｌｙｔｉｃ ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；Ｃ２０Ｈ３０Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８５．２，実測値２８５．２。
１．５の合成
トルエン（１０ｍＬ）中の新しく調製したＭＡＤ（３２．６ｍｍｏｌ）溶液（１５．４を参照）に、ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の１．４（３．３ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。Ｎ２下で－７０℃で１時間撹拌した後、ＣＨ３ＢｒＭｇ（１４．５ｍＬ、４３．６ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。－７０℃でさらに４時間撹拌した後、反応混合物を１０℃未満でクエン酸（５０ｍＬ、２０％）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．５（７１０ｍｇ）を得た。１．５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ２．６８－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．９７（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．５６（ｍ，１１Ｈ），１．５４－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１１（ｍ，２Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０７－０．７６（ｍ，４Ｈ），ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，ＭＳ ＥＳＩ Ｃ２１Ｈ３４Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋３０１．３に対する計算値，実測値３０１．３。
１．６の合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（４．７１ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．４２ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）を、Ｎ２下、１５℃で添加した。６０℃で３０分間撹拌した後、６０℃未満の部分に１．５（６８０ｍｇ、２．１３ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）により１５℃でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１．６（７８０ｍｇ）を固体として得た。１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２２－５．０８（ｍ，１Ｈ），２．５９－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．０７（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．５８（ｍ，１４Ｈ），１．５６－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１６－１．０３（ｍ，５Ｈ），０．９３（ｓ，４Ｈ），０．８９－０．６９（ｍ，２Ｈ）。
１．７の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の１．６（７８０ｍｇ、２．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（７１４ｍｇ、９４０μＬ、９．４０ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物をエタノール（２．３５ｍＬ）で１５℃、ＮａＯＨ水溶液（４．７０ｍＬ、５．０Ｍ、２３．５ｍｍｏｌ）で０℃で希釈し、最後に過酸化水素（２．３５ｍＬ、１０Ｍ、２３．５ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。７０℃で１時間撹拌した後、反応混合物をＮａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１．７（１．１ｇ）を固体として得た。１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．４３－３．９７（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．３１（ｍ，２５Ｈ），１．１９－１．０３（ｍ，６Ｈ），１．０２－０．８１（ｍ，９Ｈ），０．７８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
１及び２の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の１．７（１ｇ、２．８６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｄｅｓｓ－ｍａｒｔｉｎ（２．４２ｇ、５．７２ｍｍｏｌ）を４０℃で添加した。４０℃で５分間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。ＤＣＭ相を、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（２×５０ｍＬ）で分離及び洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮して、１（１９．５ｍｇ、１．９６％）及びケトジアステレオマー２（５００ｍｇ）の混合物を、両方とも固体として得た。１：１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３０（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８７－１．５８（ｍ，１２Ｈ），１．５１－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．９５（ｍ，６Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．６９（ｍ，３Ｈ）。
ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３８Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。２：１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．０９（ｍ，３Ｈ），１．９３－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５８－１．２７（ｍ，１２Ｈ），１．２３－１．１９（ｍ，３Ｈ），１．１７－０．９６（ｍ，４Ｈ），０．９４－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．８８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
実施例３及び４：１－（２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000371
 ３．１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の２（１３０ｍｇ、０．３７５１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１５．１ｍｇ、０．０７５０２ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（７１．９ｍｇ、０．４５０１ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）でクエンチし、水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して３．１（１６０ｍｇ）を得、これを次のステップで直接使用した。１ＨＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０１－３．８５（ｍ，２Ｈ），２．７５－２．５３（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．５６（ｍ，１３Ｈ），１．５４－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．２３－１．１６（ｍ，４Ｈ），１．１５－０．９９（ｍ，５Ｈ），０．９８－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．６８（ｍ，３Ｈ）。
３及び４の合成
アセトン（５ｍＬ）中の３．１（１６０ｍｇ、０．３７６０ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（４２．０ｍｇ、０．４５１２ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（５２．７ｍｇ、０．３７６ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を水（５０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３（３０ｍｇ）及び４（４２．７ｍｇ、２６．０％収率）を固体として得た。３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），５．１５－４．７６（ｍ，２Ｈ），２．４６（ｄ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９７－１．５８（ｍ，１１Ｈ），１．５６－１．３０（ｍ，１１Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１７－１．０３（ｍ，３Ｈ），１．００（ｓ，３Ｈ），０．９７－０．７５（ｍ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ３９Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値４２０．３。４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１１－４．８９（ｍ，２Ｈ），２．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．２，１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．９１－１．５６（ｍ，１２Ｈ），１．５４－１．２５（ｍ，８Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．２１－０．９７（ｍ，６Ｈ），０．９６（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．７５（ｍ，２Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ３９Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値４２０．３。
実施例９：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000372
 ９．１及び９．１ａの合成
新たに調製したＭＡＤ（２０ｍＬのトルエン中、１４．８ｍｍｏｌ）溶液（１５．４を参照）に、ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の１．４ａ（１．５ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＣＨ３ＢｒＭｇ（６．６０ｍＬ、１９．８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。－７０℃で４時間撹拌した後、反応混合物を１０℃でクエン酸（５０ｍＬ、２０％）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９．１（９００ｍｇ、５７．３％）及び９．１ａ（０．４ｇ、２５．４％）の両方を固体として得た。９．１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６６－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１０－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．６９（ｍ，７Ｈ），１．６３－１．５７（ｍ，３Ｈ），１．５５－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．１１（ｍ，５Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０６－０．８０（ｍ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％、Ｈ－ＮＭＲに基づく１００％ ｄｅ；Ｃ２１Ｈ３４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３０１．２，実測値３０１．２。９．１ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６８－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．４８－２．３２（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．９８（ｍ，２Ｈ），１．８－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５－１．３３（ｍ，７Ｈ），１．３０－１．２３（ｍ，１Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１２（ｍ，２Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０６－０．７２（ｍ，５Ｈ）。
９．２の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（５．５６ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．６８ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。５０℃で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の９．１（８００ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～８％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９．２（６４０ｍｇ、７７％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２２－５．０８（ｍ，１Ｈ），２．５５－１．５９（ｍ，１４Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．７５（ｍ，１４Ｈ）。
９．３の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の９．２（６４０ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３Ｍｅ２Ｓ（１ｍＬ、１０Ｍ、１０．０ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を、ＥｔＯＨ（２．６６ｇ、５７．９ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（１１．５ｍＬ、５Ｍ、５７．９ｍｍｏｌ）で０℃で希釈し、最後に、Ｈ２Ｏ２（６．５３ｇ、５７．９ｍｍｏｌ、３０％）によって滴加した。７５℃で１時間撹拌した後、反応物を飽和ブライン（５０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、９．３（６００ｍｇ）を固体として得た。
９．４の合成
９．３（６００ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）ＤＣＭ（２０ｍＬ）の溶液に、ＤＭＰ（１．４５ｇ、３．４ｍｍｏｌ）を添加した。４０℃で３０分間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に添加し、ＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、９．４（８００ｍｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５５－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．１２（ｍ，３Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１３Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２７－１．２４（ｍ，３Ｈ），１．２０－０．９５（ｍ，５Ｈ），０．９３－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，３Ｈ）。
９の合成
ＭｅＯＨ（４０ｍＬ）中の９．４（８００ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（２．２３ｇ、４１．４ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で４０時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）に添加し、ＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、９（２７５ｍｇ、３５％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２９（ｄｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．９５（ｍ，８Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。
実施例１０：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000373
 １０．１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の９（２４０ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（２７．４ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（１１６ｍｇ、０．７３ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。２０℃で２時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１０．１（３００ｍｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．００－３．８０（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｄｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．９８（ｍ，７Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．９４－０．７５（ｍ，３Ｈ）。
１０の合成
アセトン（５ｍＬ）中の１０．１（１５０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（９７．２ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カボニトリル（４９．２ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、水（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１０（６９．２ｍｇ、４５％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１０－４．９０（ｍ，２Ｈ），２．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．９８（ｍ，７Ｈ），０．９６（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７５（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２７Ｈ３８Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値４２０．３。
実施例１１及び１２：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタン－１－オン及び１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８ Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000374
 アセトン中の１０．１（１５０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（９７．２ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ）及び５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（４４．４ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１１（２０ｍｇ）及び１２（２４．２ｍｇ、１６％）の両方を固体として得た。
１１（２０ｍｇ）を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｗｅｌｃｈ Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ、条件：水（０．２２５％ＦＡ）－ＡＣＮ、開始Ｂ：３５、終了Ｂ：９５、勾配時間（分）：８．５、１００％Ｂ保持時間（分）：２）によって精製して、１１（４．６ｍｇ、２３％）を固体として得た。１１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３９（ｓ，２Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．３４（ｄｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，６Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．００（ｍ，８Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７５（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２５Ｈ３９Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１１．４，実測値４１１．４。１２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２５－５．０９（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４０（ｄｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，７Ｈ），１．２８（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．００（ｍ，７Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７５（ｍ，３Ｈ），ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２５Ｈ３９Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１１．３，実測値４１１．３。
実施例１３：１－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オン及び１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000375
 １３．１の合成
新たに調製したＭＡＤ（１４．８ｍｍｏｌ、１５ｍＬのトルエン中）（１５．４を参照）に、ＤＣＭ（１５ｍＬ）中の１．４ａ（１．５ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＥｔＭｇＢｒ（６．６０ｍＬ、１９．８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中で３Ｍ）を－７０℃で滴加した。さらに４時間、－７０℃で撹拌した後、反応混合物をクエン酸（５０ｍＬ、２０％）中に１０℃で注ぎ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１３．１（６３０ｍｇ、３８．４％）を固体として得た。１３．１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ２．６６－２．６５（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．０９－２．００（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．６７（ｍ，７Ｈ），１．６７－１．５５（ｍ，４Ｈ），１．５４－１．１７（ｍ，１２Ｈ），１．１２（ｓ，１Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０４－０．９４（ｍ，２Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），０．８８－０．７４（ｍ，１Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１５．３，実測値３１５．３。
１３．２の合成
ＴＨＦ（１１ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（４．１９ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．２６ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）をＮ２下、１５℃で添加した。４０℃で１時間撹拌した後、１３．１（６３０ｍｇ、１．８９ｍｍｏｌ）を５０℃未満で分割して添加した。６５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を１０％のＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）で１５℃でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を真空下で濃縮して、白色の固体を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１３．２（３８０ｍｇ、５８．３％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１－５．１１（ｍ，１Ｈ），２．５４－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．０７（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６８（ｍ，１０Ｈ），１．６１－１．５６（ｍ，９Ｈ），１．５１－１．３０（ｍ，７Ｈ），１．１９－０．９９（ｍ，５Ｈ），０．９４－０．８８（ｍ，６Ｈ）。
１３．３の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の１３．２（３８０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（９９０μＬ、１０Ｍ、９．９０ｍｍｏｌ）を添加した。１５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物をＥｔＯＨ（３．１６ｍＬ、５５．０ｍｍｏｌ）で希釈し、ＮａＯＨ（１１ｍＬの水中２．２ｇ、５Ｍ、５５．０ｍｍｏｌ）を滴加し、Ｈ２Ｏ２（５．５ｍＬ、１０Ｍ、５５．０ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。７８℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａ２Ｓ２ＳＯ３（３０ｍＬ、１０％）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１３．３（２７２ｍｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３４－４．０３（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．５３（ｍ，１３Ｈ），１．５３－１．３７（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．２０（ｍ，７Ｈ），１．１８－１．０２（ｍ，５Ｈ），１．０１－０．９８（ｍ，２Ｈ），０．９７－０．８７（ｍ，６Ｈ），０．８６－０．８１（ｍ，１Ｈ），０．７８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
１３．４及び１３の合成
０℃のＤＣＭ（６ｍＬ）中の１３．３（１７０ｍｇ、４６８μｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２０１ｍｇ）及びＰＣＣ（２０１ｍｇ、９３６μｍｏｌ）を添加した。１０℃で０．５時間撹拌した後、反応混合物をＰＥ（３ｍＬ）で希釈し、シリカゲルパッドを通して濾過した。濾過ケーキをＤＣＭ（３×６ｍＬ）で洗浄し、合わせた有機溶液を濾過し、真空中で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１３．４（６５ｍｇ、３８．６％）及び１３（６５ｍｇ、３８．６％）の両方を固体として得た。１３．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），１．８５－１．７６（ｍ，４Ｈ），１．７５－１．６９（ｍ，３Ｈ），１．６９－１．５６（ｍ，５Ｈ），１．５１－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．３４－１．１８（ｍ，６Ｈ），１．１５－１．０２（ｍ，３Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８３（ｍ，６Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３９Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３、実測値３４３．３。１３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３４－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８６－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７６－１．６５（ｍ，５Ｈ），１．６２－１．５６（ｍ，３Ｈ），１．５１－１．３８（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．２０（ｍ，６Ｈ），１．１５－１．１１（ｍ，１Ｈ），１．０６－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．９４－０．９０（ｍ，６Ｈ），０．８９－０．８０（ｍ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３９Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
実施例１４：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000376
 １４．１の合成
メタノール（２ｍＬ）中の１３．４及び１３（１００ｍｇ、２７７μｍｏｌ）の混合物の溶液に、ＨＢｒ（４０％、１１ｍｇ、５５．４μｍｏｌ）及びＢｒ２（４８．５ｍｇ、３０４μｍｏｌ）を２５℃で滴加した。２時間撹拌した後、反応混合物をＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１４．１（１２１ｍｇ）を固体として得た。
１４の合成
アセトン（２ｍＬ）中の１４．１（１２１ｍｇ、０．２７５ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（３０．６ｍｇ、０．３２９ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（７５．８ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で４時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１４（５ｍｇ、４．０３％）のみを固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８３（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０７－４．９３（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．８５－１．７０（ｍ，８Ｈ），１．５０－１．４２（ｍ，５Ｈ），１．３７－１．２９（ｍ，５Ｈ），１．２９－１．２３（ｍ，７Ｈ），１．２０－１．１４（ｍ，２Ｈ），１．０７－１．０１（ｍ，２Ｈ），０．９６（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．８８（ｍ，４Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３、実測値４３４．３。
実施例１５：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000377
 １５．１の合成
冷（－７０℃）ＬＤＡ溶液（１３８ｍｍｏｌ）に、ＴＨＦ（３００ｍＬ）中の（５β）－アンドロスタン－３，１７－ジオン、１５．０（５ｇ、１７．３ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１５．７ｇ、１３８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、反応物をＴＨＦ（５０ｍＬ）中の酢酸（８．２８ｇ、１３８ｍｍｏｌ）でクエンチした。２５℃まで１６時間温めた後、反応混合物を水（８００ｍＬ）及びＰＥ（２００ｍＬ）で希釈した。有機相を分離し、水相をＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１５．１（９．５ｇ）を油として得、これを次のステップで直接使用した。
１５．２ａ及び１５．２ｂの合成
ＤＭＥ（１５０ｍＬ）中の１５．１（９．５ｇ、１８．３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（１６１ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、ジアステレオマー１５．２ａ及び１５．２ｂ（８．５ｇ）の混合物を油として得た。
１５．３ａ及び１５．３ｂの合成
ＭｅＯＨ（１６０ｍＬ）中の１５．２ａ及び１５．２ｂ（８ｇ、１７．３ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（６０ｍＬ）及びＮａＯＨ（５．５２ｇ、１３８ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮した。残渣をＨ２Ｏ（２００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、ジアステレオマー１５．３ａ及び１５．３ｂ（３．９ｇ）の混合物を固体として得た。
ジアステレオマーを、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：２５；終了Ｂ：２５）によって分離して、生成物１５．３ａ（１ｇ）及び生成物１５．３ｂ（２．２ｇ）を固体として得た。１５．３ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．５３－２．３８（ｍ，３Ｈ），２．３４－２．１５（ｍ，２Ｈ），２．１１－２．０４（ｍ，２Ｈ），１．９５－１．６４（ｍ，６Ｈ），１．６３－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．２３－１．１７（ｍ，１Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．９９－０．８７（ｍ，１Ｈ）。１５．３ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．０３（ｔ，Ｊ＝１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．６９－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．４９－２．３２（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．０９－２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，８Ｈ），１．６０－１．４３（ｍ，６Ｈ），１．３９－１．２１（ｍ，５Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．７７（ｍ，１Ｈ）。
１５．４の合成
トルエン（２０ｍＬ）中の２，６－三級ブチル－４－メチルフェノール（８．３２ｍｇ、３７．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＭｅ３（９．４５ｍＬ、１８．９ｍｍｏｌ、トルエン中２Ｍ）を０℃で滴加し、３０℃で３０分間「ＭＡＤ溶液」として撹拌した。トルエン（２０ｍＬ）中の新たに調製したＭＡＤ（１８．９ｍｍｏｌ）溶液に、ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の１５．３ｂ（２ｇ、６．３１ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（６．３０ｍＬ、１８．９ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。－７０℃で４時間撹拌した後、反応混合物を飽和クエン酸水溶液（２００ｍＬ）中に１０℃で注ぎ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１５．４（８７０ｍｇ、４１．７％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．０９－１．９５（ｍ，２Ｈ），１．８７－１．６９（ｍ，５Ｈ），１．６８－１．５８（ｍ，２Ｈ），１．５３－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２８－１．１６（ｍ，７Ｈ），１．１４－０．９３（ｍ，６Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．８７－０．７６（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２２Ｈ３２［Ｍ－２Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２９７．２，実測値２９７．２。
１５．５の合成
無水ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１．３３ｇ、３．６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４０３ｍｇ、３．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。６０℃で３０分間撹拌した後、無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１５．４（２００ｍｇ、０．６０１μｍｏｌ）の溶液を滴加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）に注ぎ、１０分間撹拌し、水相をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラムによって精製して、１５．５（１００ｍｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２１－５．１１（ｍ，１Ｈ），２．５４－２．４４（ｍ，１Ｈ），２．２０－１．９６（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．６６（ｍ，７Ｈ），１．４８－１．３１（ｍ，８Ｈ），１．３０－１．１１（ｍ，１４Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．７８（ｍ，４Ｈ）。
１５．６の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１５．５（３５０ｍｇ、１．０１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３Ｍｅ２Ｓ（０．３０３ｍＬ、１０Ｍ ３．０３ｍｍｏｌ）を添加した。４５℃で１時間撹拌した後、反応混合物を、エタノール（６９４ｍｇ、１５．１ｍｍｏｌ）で１５℃、続いてＮａＯＨ水溶液（３．０２ｍＬ、５．０Ｍ、１５．１ｍｍｏｌ）で１５℃で希釈し、次いで、Ｈ２Ｏ２（１．５１ｍＬ、１０Ｍ、１５．１ｍｍｏｌ）を１５℃で滴加した。７８℃で１時間撹拌した後、混合物を１５℃に冷却し、水（１００ｍＬ）に注ぎ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１５．６（３５０ｍｇ）を固体として得た。
１５．７の合成
ＤＣＭ（１０ｍｌ）中１５．６（３５０ｍｇ、０．９６５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＣＣ（４１２ｍｇ、１．９２ｍｍｏｌ）及びシリカゲル（４５０ｍｇ）を添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１５．７（２００ｍｇ、５７．６％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７８－３．７０（ｍ，２Ｈ），２．４８－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．１１（ｍ，３Ｈ），２．０７－１．９７（ｍ，２Ｈ），１．８９－１．７６（ｍ，４Ｈ），１．７５－１．５８（ｍ，５Ｈ），１．５３－１．３２（ｍ，８Ｈ），１．２８－１．１５（ｍ，９Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
１５の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の１５．７（５０ｍｇ、０．１３８ｍｍｏｌ）及びＭｅＯＮａ（７４．５ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で２日間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機溶液を、無水Ｎａ２ＳＯ４で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１５（１０．１ｍｇ、２０．３％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３２－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．０７－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３４（ｍ，６Ｈ），１．３３－１．１８（ｍ，９Ｈ），１．１７－１．０１（ｍ，４Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．８３－０．７０（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３８Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
実施例１６及び１７１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル及び１－（２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000378
 １６．１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の１５．７（１５０ｍｇ、０．４１５ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１６．６ｍｇ、０．０８３ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（７２．９ｍｇ、０．４５６ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。２０℃で２時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１６．１（１５０ｍｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０１－３．８５（ｍ，２Ｈ），２．７５－２．５１（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．６０（ｍ，１１Ｈ），１．４９－１．２８（ｍ，１１Ｈ），１．２２－１．０１（ｍ，８Ｈ），０．９６－０．９３（ｍ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
１６及び１７の合成
アセトン（５ｍｌ）中の１６．１（１００ｍｇ、０．２２７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（６２．６ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－炭素（４２．２ｍｇ、０．４５４ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を水中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機溶液を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１７（５０ｍｇ）及び１６（２３．９ｍｇ、２３．４％）を固体として得た。化合物１７（５０ｍｇ）を、ＨＰＬＣ（カラム：Ｗｅｌｃｈ ＸｔｉｍａｔｅＣ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ）；条件：水（０．０４％ＮＨ３Ｈ２Ｏ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７０％；終了Ｂ：１００％；）によってさらに精製して、１７（５．４ｍｇ、１０．８％）を固体として得た。１６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０８－４．９０（ｍ，２Ｈ），２．３６－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．０７－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．６７（ｍ，７Ｈ），１．５４－１．３６（ｍ，７Ｈ），１．３４－１．２３（ｍ，９Ｈ），１．２０－０．９７（ｍ，６Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２８Ｈ３９Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ］＋４３４．３に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３、実測値４３４．３。１７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），５．０８－４．８３（ｍ，２Ｈ），２．４５（ｄ，Ｊ＝６．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．０４－１．９４（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５１－１．２６（ｍ，１０Ｈ），１．２５－１．０６（ｍ，９Ｈ），０．９８（ｓ，３Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２８Ｈ３９Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例１８：１－（３－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－３－オキソプロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000379
 １８．１の合成
液体臭素（１．０５ｇ、６．６０ｍｍｏｌ）を、０℃で激しく撹拌した水酸化ナトリウム水溶液（７．３３ｍＬ、３Ｍ、２２ｍｍｏｌ）にゆっくりと添加した。すべての臭素を溶解したとき、混合物をジオキサン（１０ｍＬ）及び水（２ｍＬ）中の１５（４００ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）の撹拌溶液にゆっくりと添加した。１５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物をＮａ２ＳＯ３水溶液（３ｍＬ）によって処理し、ｐＨを塩酸（３Ｎ）で調整し、それによって固体を溶液から沈殿させた。固体をＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）に溶解した。有機相を分離し、水相をＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機物を、飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、１８．１（４００ｍｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．１６－１．９８（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．７６（ｍ，３Ｈ），１．７３－１．４６（ｍ，８Ｈ），１．４５－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２６－１．０１（ｍ，１１Ｈ），１．０１－０．９１（ｍ，４Ｈ），０．８９－０．８４（ｍ，３Ｈ）。
１８．２の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の１８．１（４００ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（４４４ｍｇ、４．５６ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（８６６ｍｇ、２．８０ｍｍｏｌ）及びＴＥＡ（１．１５ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。１５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機相を、水（５０ｍＬ×２）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１８．２（２５０ｍｇ、５６％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．６７（ｓ，３Ｈ），３．１７（ｓ，３Ｈ），２．０８－１．９９（ｍ，２Ｈ），１．９３－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５５－１．４０（ｍ，６Ｈ），１．３８－１．２３（ｍ，１２Ｈ），１．１６－１．１０（ｍ，２Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｓ，４Ｈ）。
１８．３の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１８．２（２５０ｍｇ、０．６２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣＨ２ＣＨＭｇＢｒ（２ｍＬ、１．６Ｍ、３．２０ｍｍｏｌ）を２０℃で添加した。混合物を２０℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１８．３（１００ｍｇ、４７％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．８１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），２．１０－１．９４（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．９５（ｍ，８Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．８６－０．７５（ｍ，３Ｈ）。
１８．４の合成
ＴＨＦ（２ｍＬ）中の１８．３（１００ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣＨ２ＣＨＭｇＢｒ（１．４ｍＬ、１．４０ｍｍｏｌ、ＴＨＦ中１．０Ｍ）を２０℃で添加した。２０℃で１時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１８．４（１１０ｍｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．９５－５．８０（ｍ，１Ｈ），５．１８（ｄ，Ｊ＝１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．５４（ｓ，１Ｈ），３．７５－３．６５（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．９３（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２７（ｍ，８Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－０．９５（ｍ，８Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．８０－０．７０（ｍ，２Ｈ）。
１８．５の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の１８．４（９０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）及びＤＭＰ（２０３ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）の溶液を、２０℃で５分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ／５０ｍＬ）中に添加した。有機層を分離し、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１８．５（４０ｍｇ、４５％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．４０（ｄｄ，Ｊ＝１０．０ Ｈｚ，１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），６．１８（ｄ，Ｊ＝１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．６６（ｄ，Ｊ＝１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５４（ｄｄ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１２．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．０３（ｄｄ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，９Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．９４（ｍ，５Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ），０．８４－０．７０（ｍ，２Ｈ）。
１８の合成
ＤＭＳＯ（５ｍＬ）中の１８．５（４０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）の溶液に、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（２６．０ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１９．９ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ブライン（５０ｍＬ）に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１８（１３ｍｇ、２６％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．４５－４．３５（ｍ，２Ｈ），３．１０－３．００（ｍ，２Ｈ），２．２２（ｄｄ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．０１（ｄｄ，Ｊ＝９．６ Ｈｚ，１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．２６（ｍ，７Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－０．８６（ｍ，１０Ｈ），０．８５－０．８４（ｍ，６Ｈ），０．８３－０．６５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
実施例１９：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１９）の合成
Figure 2022538300000380
 １９．２の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の１９．１（１０．０ｇ、２５．４ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１６／１３４３０１，２０１６，Ａ２」）の溶液に、シリカゲル（１０．０ｇ）及びＰＣＣ（８．１７ｇ、３８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×１００ｍＬ）で洗浄した。合わせた濾液を濃縮して、１９．２（１０．０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．５６（ｓ，１Ｈ），４．００－３．８０（ｍ，８Ｈ），２．２４－１．８８（ｍ，５Ｈ），１．８７－１．７０（ｍ，５Ｈ），１．４６－１．３５（ｍ，５Ｈ），１．３３－０．９９（ｍ，５Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．６９（ｍ，２Ｈ）。
１９．３の合成
１５℃で、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（２７．１ｇ、７６．１ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（８．５３ｇ、７６．１ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を５０℃に温め、３０分間撹拌した。１９．２（９．９１ｇ、２５．４ｍｍｏｌ）を少量ずつ添加し、反応混合物を５０℃でさらに１時間撹拌した。反応物を１５℃に冷却し、１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝２０／１～５／１）によって精製して、１９．３（５．０ｇ、５０．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．３２－６．２５（ｍ，１Ｈ），５．１５－４．９４（ｍ，２Ｈ），３．９５－３．８０（ｍ，８Ｈ），２．０２－１．７２（ｍ，６Ｈ），１．６９－１．６１（ｍ，１Ｈ），１．５９－１．３１（ｍ，１２Ｈ），１．２１－１．０４（ｍ，３Ｈ），０．８０（ｓ，３Ｈ）。
１９．４の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の１９．３（１５．０ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＣｌ水溶液（３８．６ｍＬ、２Ｍ、７７．２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で５時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１９．４（９．３０ｇ、８０．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．３５－６．２５（ｍ，１Ｈ），５．１９（ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．７９－２．６４（ｍ，１Ｈ），２．５４－２．１３（ｍ，５Ｈ），２．１３－２．０５（ｍ，３Ｈ），２．０２－１．７９（ｍ，３Ｈ），１．６９－１．５０（ｍ，６Ｈ），１．３７－１．２３（ｍ，４Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
１９．５の合成
ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の１９．４（１１．０ｇ、３６．６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（湿潤、５０％、２．０ｇ）を添加した。懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で３回パージした。混合物をＨ２（３０ｐｓｉ）下、室温で１６時間撹拌して、黒色懸濁液を得た。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＴＨＦ（２×１００ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をＰＥ（３００ｍＬ）から粉砕して、１９．５（１２．０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７（ｔ，Ｊ＝１３．６０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５２－２．０６（ｍ，５Ｈ），２．００－１．９１（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．４８（ｍ，１２Ｈ），１．３９－１．１９（ｍ，５Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．８０（ｔ，Ｊ＝７．５３ Ｈｚ，３Ｈ）。
１９．６の合成
０℃で、トルエン（４０ｍＬ）中の２，６－ジ－三級ブチル－４－メチルフェノール（４３．６ｇ、１９８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＡｌＭｅ３（４９．５ｍＬ、９９．０ｍｍｏｌ、トルエン中２Ｍ）を滴加し、混合物を室温で３０分間撹拌した。新たに作製したＭＡＤ（４７．５ｇ、９９．０ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃に冷却し、無水ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の１９．５（１０．０ｇ、３３．０ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（３３．０ｍＬ、９９．０ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加し、次いでさらに１時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、１９．６（９．１０ｇ、８６．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４３（ｄｄ，Ｊ＝８．０、１９．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．１３－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．８７（ｍ，２Ｈ），１．８３－１．３２（ｍ，１５Ｈ），１．２７－１．１２（ｍ，９Ｈ），０．８８－０．７７（ｍ，６Ｈ）。
１９．７の合成
－７０℃で、冷却した（－７０℃）ＬＤＡ溶液（１５７ｍＬ、２Ｍ、３１４ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（５００ｍＬ）中の１９．６（２０．０ｇ、６２．７ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３５．７ｇ、３１３ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌し、次いでＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（１８．７ｇ、３１３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、１６時間撹拌した。水（１０００ｍＬ）及びＰＥ（７００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１９．７（２８．８ｇ、組製）を得た。
１９．８の合成
ＤＭＥ（３００ｍＬ）中の１９．７（２８．０ｇ、６４．７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（５７０ｍｇ、１．２９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌し、褐色の溶液を得た。反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１９．８（２７．０ｇ、組製）を得た。
１９．９の合成
ＭｅＯＨ（４００ｍＬ）中の１９．８（２７．０ｇ、６６．７ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（１００ｍＬ）及びＮａＯＨ（１３．３ｇ、３３３ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を、６０℃で１６時間撹拌し、次いで冷却し、濃縮した。Ｈ２Ｏ（５００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物１９．９（１５．５ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．０８－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．６８（ｍ，４Ｈ），１．６５－１．３６（ｍ，１４Ｈ），１．２６－１．１７（ｍ，９Ｈ），１．０６（ｓ，３Ｈ），０．７９（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
１９．１０の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（６．６６ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）及びｔ－ＢｕＯＫ（２．０１ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）の溶液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の１９．９（２．００ｇ、６．０１ｍｍｏｌ）を室温で１時間撹拌し、反応混合物を３５℃で１６時間撹拌した。混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、層を分離した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＣＨ３ＯＨ（１００ｍＬ）及び水（１００ｍＬ）で粉砕して、１９．１０（２．１０ｇ、８１％）を得た。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ５．１４（ｑ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．４９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１３．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．３１－２．０８（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８０（ｍ，３Ｈ），１．７８－１．６９（ｍ，５Ｈ），１．６５－１．６０（ｍ，２Ｈ），１．４８－１．３７（ｍ，９Ｈ），１．２２－１．１２（ｍ，１０Ｈ），１．０６－１．００（ｍ，３Ｈ），０．９３－０．８７（ｍ，２Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
１９．１１の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の１９．１０（２．１０ｇ、６．０９ｍｍｏｌ）及び９－ＢＢＮ二量体（４．４４ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）の溶液を、５０℃で１時間撹拌し、次いで０℃に冷却した。ＮａＯＨ（９．７４ｍＬ、水中５Ｍ、４８．７ｍｍｏｌ）を添加し、続いて過酸化水素（４．８７ｍＬ、４８．７ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を７８℃に温めた。７８℃で３時間撹拌した後、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（５０ｍＬ）及び氷水（１００ｍＬ）を添加した。懸濁液を、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＣＨ３ＯＨ（１００ｍＬ）及び水（５００ｍＬ）で粉砕して、１９．１１（２．００ｇ、組製）を得た。１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．８３－３．７２（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．７６（ｍ，７Ｈ），１．６６－１．５５（ｍ，１２Ｈ），１．４４－１．３３（ｍ，１０Ｈ），１．１８－１．０５（ｍ，５Ｈ），０．９７－０．８７（ｍ，３Ｈ），０．７６－０．７１（ｍ，３Ｈ）。
１９．１２の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の１９．１１（２．００ｇ、５．５１ｍｍｏｌ）及びＰＣＣ（３．５５ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（１５．００ｇ）を添加した。反応混合物を室温で３時間撹拌し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝３／１）によって精製して、生成物（８００ｍｇ）を得た。粗生成物を、ＥｔＯＡｃ（３０ｍＬ）に溶解し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（２５ｍＬ）、ＮａＯＨ水溶液（２５ｍＬ、１０％）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。減圧下で溶媒を蒸発させて、１９．１２（３５０ｍｇ、４４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．３３（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．２９（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．０１－１．８７（ｍ，２Ｈ），１．８５－１．７８（ｍ，１Ｈ），１．６５－１．５５（ｍ，１５Ｈ），１．４５－１．３２（ｍ，１０Ｈ），０．９２－０．８６（ｍ，４Ｈ），０．８０－０．７２（ｍ，３Ｈ）。
１９．１３の合成
ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の１９．１２（３３０ｍｇ、０．９１５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（３７．０ｍｇ、０．１８３ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（１４９ｍｇ、０．９３３ｍｍｏｌ）を添加した。室温で２時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、次いでＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、１９．１３（２６０ｍｇ、６５％）を得、これを次のステップで直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．０２－３．８４（ｍ，２Ｈ），２．６１－２．５０（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．７７（ｍ，４Ｈ），１．９８－１．７７（ｍ，１Ｈ），１．７４－１．４６（ｍ，１５Ｈ），１．４４－１．３５（ｍ，７Ｈ），１．１８－１．０７（ｍ，２Ｈ），１．０４－０．９７（ｍ，１Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．７９－０．７４（ｍ，３Ｈ）。
１９の合成
アセトン（５ｍＬ）中の１９．１３（１３０ｍｇ、０．２９５ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（８１．７ｍｇ、０．５９１ｍｍｏｌ）の懸濁液に、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５５．０ｍｇ、０．５９１ｍｍｏｌ）を添加した。反応物を室温で１６時間撹拌し、次いで水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝３０／ １～１／ ２）によって精製して、１９（３６．０ｍｇ、３２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８２（ｄ，Ｊ＝４ Ｈｚ，２Ｈ），５．１１－４．８９（ｍ，２Ｈ），２．３２（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９９－１．８１（ｍ，２Ｈ），１．８１－１．６８（ｍ，３Ｈ），１．６７－１．５７（ｍ，７Ｈ），１．４７－１．３２（ｍ，７Ｈ），１．３１－１．１９（ｍ，８Ｈ），１．１４（ｄｄ，Ｊ＝７．２、１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），１．０５－０．９６（ｍ，２Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例２０：１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＳ，５ａＲ，７Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－７－ヒドロキシ－７，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２０）の合成
Figure 2022538300000381
 ２０．２の合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の１９．５（１５．０ｇ、４９．５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴｓＯＨ（８５２ｍｇ、４．９５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６０℃で１８時間撹拌した。混合物を室温に冷却し、Ｅｔ３Ｎ（１４．９ｇ、１４８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を濃縮して、２０．２（１７．２ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１１－３．２５（ｍ，６Ｈ），２．８４－３．００（ｍ，３Ｈ），２．３８－２．４９（ｍ，１Ｈ），２．００－２．１５（ｍ，２Ｈ），１．８６－１．９８（ｍ，２Ｈ），１．４３－１．７２（ｍ，１０Ｈ），１．３４－１．４２（ｍ，３Ｈ），０．７６－０．８６（ｍ，７Ｈ）。
２０．３の合成
無水ＴＨＦ（４００ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（３６．６ｇ、９８．６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１１．０ｇ、９８．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を５０℃で３０分間撹拌した。無水ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の２０．２（１７．２ｇ、４９．３ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。５０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出し、有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ：Ｈ２Ｏ＝１：１（４００ｍＬ）から再結晶して、生成物２０．３（１６．０ｇ、８１．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．０５－５．１５（ｍ，１Ｈ），３．１８－３．２３（ｍ，３Ｈ），３．１５（ｓ，３Ｈ），２．２９－２．４７（ｍ，１Ｈ），２．１１－２．２８（ｍ，２Ｈ），１．７２－１．８４（ｍ，５Ｈ），１．６２－１．６７（ｍ，４Ｈ），１．４７－１．５８（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．４４（ｍ，４Ｈ），１．１５－１．３１（ｍ，６Ｈ），０．８３－０．８６（ｍ，３Ｈ），０．７６－０．８２（ｍ，４Ｈ）。
２０．４の合成
ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の溶液２０．３（１６．０ｇ、４４．３ｍｍｏｌ）に、ＨＣｌ（４４．３ｍＬ、２Ｍ、８８．６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、混合物のｐＨをＮａＨＣＯ３水溶液で７に調整した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出し、有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２０．４（９．３０ｇ、６０．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１５－５．０５（ｍ，１Ｈ），２．５８－２．７０（ｍ，１Ｈ），２．２１－２．３７（ｍ，３Ｈ），２．０８－２．１７（ｍ，２Ｈ），１．９２－２．０６（ｍ，３Ｈ），１．６８－１．８７（ｍ，３Ｈ），１．５６－１．６２（ｍ，５Ｈ），１．３８－１．５１（ｍ，５Ｈ），１．１４－１．２２（ｍ，４Ｈ），０．８３（ｓ，３Ｈ），０．７０－０．７７（ｍ，４Ｈ）。
２０．５の合成
－７０℃で、ＴＨＦ中の冷却した（－７０℃）ＬＤＡ溶液（３．５ｍＬ、２Ｍ、１４７ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（４５０ｍＬ）中の２０．４（９．３０ｇ、２９．６ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１６．８ｇ、１４７ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。混合物を－７０℃でさらに２時間撹拌した。ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（８．８０ｇ、１４７ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温に温め、１６時間撹拌した。水（１０００ｍＬ）及びＰＥ（３００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水相をＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過した。濾液の濃縮により、生成物２０．５（１５．５ｇ、組製）を得、これを次のステップで直接使用した。
２０．６ａ及び２０．６ｂの合成
ＤＭＥ（２５０ｍＬ）中の２０．５（１５．５ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３１７ｍｇ、０．７２ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌し、次いで濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２０．６ａ及び２０．６ｂ（１０．２ｇ、組製）の混合物を得た。
２０．７ａ及び２０．７ｂの合成
ＭｅＯＨ（１２０ｍＬ）中の２０．６ａ及び２０．６ｂ（１０．２ｇ、２５．５ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（３０ｍＬ）及びＮａＯＨ（８．１１ｇ、２０２．８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を６０℃で１６時間撹拌し、次いで冷却し、濃縮した。Ｈ２Ｏ（５００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２０．７ａ及び２０．７ｂ（６．３０ｇ、組製）の混合物を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０μｍ）；条件：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：２０；終了Ｂ：２０）によってさらに精製して、生成物２０．７ａ（１．８０ｇ、８．５％）及び生成物２０．７ｂ（２．１０ｇ、１０．１％）を得た。２０．７ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１５－４．９８（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．０１（ｍ，８Ｈ），１．８３－１．７５（ｍ，１Ｈ），１．７０－１．６５（ｍ，３Ｈ），１．６１－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．３０－０．８５（ｍ，１１Ｈ），０．８２－０．６９（ｍ，６Ｈ）。２０．７ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２５－５．００（ｍ，１Ｈ），３．３５－３．１５（ｍ，１Ｈ），２．４５－２．１０（ｍ，５Ｈ），１．９５－１．８５（ｍ，１Ｈ），１．８０－１．７５（ｍ，４Ｈ），１．７０－１．３５（ｍ，９Ｈ），１．３０－１．２０（ｍ，９Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ），０．８１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２０．８の合成
－７０℃で、トルエン（４０ｍＬ）中の新たに調製したＭＡＤ（１９．１ｍｍｏｌ）溶液に、ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の２０．７ｂ（２．１０ｇ、６．３９ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（６．３６ｍＬ、１９．１ｍｍｏｌ）を滴加して、得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２０．８（２．００ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１５－５．０５（ｍ，１Ｈ），３．４１－３．３７（ｍ，１Ｈ），２．５５－２．２３（ｍ，５Ｈ），１．９２－１．６８（ｍ，６Ｈ），１．４４－１．３９（ｍ，１２Ｈ），０．９４－０．８３（ｍ，１４Ｈ）。
２０．９の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の２０．８（２．００ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ（２．８３ｍＬ、１１．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４５℃で１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、エタノール（３．９９ｇ、８６．９ｍｍｏｌ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（１７．３ｍＬ、５．０Ｍ、８６．９ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（８．６９ｍＬ、１０Ｍ、８６．９ｍｍｏｌ）を滴加し、反応混合物を７８℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、濃縮して、２０．９（１．１０ｇ、５２．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０－３．７９（ｍ，１Ｈ），３．７４－３．６４（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．７４（ｍ，６Ｈ），１．７３－１．５８（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２６（ｍ，１２Ｈ），１．１７－１．００（ｍ，６Ｈ），０．９４－０．８９（ｍ，４Ｈ），０．６５（ｓ，３Ｈ）。
２０．１０の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の２０．９（１．１０ｇ、３．０３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＣＣ（１．３０ｇ、１．２１ｍｍｏｌ）及びシリカゲル（１．３０ｇ）を添加した。混合物を室温で１時間撹拌し、次いで濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２０．１０（８００ｍｇ、７３．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５７－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．３１（ｍ，１Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．０６－１．９３（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．８０（ｍ，１Ｈ），１．７６－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５５－１．３３（ｍ，７Ｈ），１．３２－０．９９（ｍ，１２Ｈ），０．９１（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．５９（ｓ，３Ｈ）。
２０．１１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の２０．１０（２００ｍｇ、０．５３３ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（２１．１ｍｇ、０．１０６ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（９３．７ｍｇ、０．５８６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２０．１１（１５０ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．９７－３．８０（ｍ，２Ｈ），２．８６－２．７７（ｍ，１Ｈ），２．４４－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１１（ｍ，１Ｈ），２．００－１．８２（ｍ，３Ｈ），１．７８－１．６１（ｍ，６Ｈ），１．５４－１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２７－１．００（ｍ，１２Ｈ），０．９８－０．８９（ｍ，４Ｈ），０．６３（ｓ，３Ｈ）。
２０の合成
アセトン（５ｍＬ）中の２０．１１（１５０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（９１．０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３６．８ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機相を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２０（１００ｍｇ、粗製）を得、これをＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ）；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：６２％；終了Ｂ：６９％；）を得、２０（６２．３ｍｇ、６２．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８５（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０７－４．８４（ｍ，２Ｈ），２．６３－２．５２（ｍ，１Ｈ），２．４３－２．３６（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．０７－１．９２（ｍ，２Ｈ），１．８９－１．８２（ｍ，１Ｈ），１．７７－１．６５（ｍ，６Ｈ），１．５４－１．３２（ｍ，７Ｈ），１．３０－１．０７（ｍ，１１Ｈ），０．９２（ｓ，４Ｈ），０．６６（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２８Ｈ４２Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５２．３，実測値４５２．３。
実施例２１及び２２及び２３及び２４：１－（２－（（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＳ，７Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＲ）－４ａ－エチル－２－ヒドロキシ－２，６ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２１）の合成及び１－（（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＳ，７Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＲ）－４ａ－エチル－２－ヒドロキシ－２，６ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－７－イル）エタノン（２２）の合成及び１－（（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＳ，７Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＲ）－４ａ－エチル－２－ヒドロキシ－２，６ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－７－エタノン（２３）の合成及び１－（２－（（２Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ、６ａＳ、７Ｓ、１１ａＳ，１１ｂＳ、１３ａＲ）－４ａ－エチル－２－ヒドロキシ－２．６ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２４）の合成
Figure 2022538300000382
 ２２．１の合成
－７０℃で、ＴＨＦ中の冷却した（－７０℃）ＬＤＡ溶液（３７．５ｍＬ、２Ｍ、７５．０ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（１２０ｍＬ）中の１９．５（５．００ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（８．５５ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（４．５０ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温に温め、さらに１６時間撹拌した。水（３００ｍＬ）及びＰＥ（２００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（６００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２２．１（３．５０ｇ、不純）を得た。
２２．２の合成
ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の２２．１（３．５０ｇ、７．８３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（６９．２ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を２５℃で１６時間撹拌し、次いで濃縮して、生成物２２．２（３．５０ｇ、組製）を得た。
２２．３の合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の２２．２（３．３０ｇ、７．８８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｈ２Ｏ（３０ｍＬ）及びＮａＯＨ（４．７２ｇ、１１８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を８０℃で１６時間撹拌し、次いで濃縮した。Ｈ２Ｏ（１５０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物（１．１０ｇ、組製）を得た。５０ｍｇの粗生成物２２．３を、シリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、純粋な２２．３（１８．５ｍｇ、３７．０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１２－２．９７（ｍ，１Ｈ），２．３３－２．２１（ｍ，１Ｈ），２．０７－１．９４（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．３４（ｍ，１０Ｈ），１．３１－１．１９（ｍ，７Ｈ），１．１４－１．０１（ｍ，５Ｈ），０．７９（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。
２２．４の合成
－４０℃で、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＴＭＳＣＨ２Ｌｉ（５１．２ｍＬ、２８．７ｍｍｏｌ、０．５６Ｍ）の溶液に、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の２２．３（１．００ｇ、２．８８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。反応物を室温に温め、１６時間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×６０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中に溶解し、ｐ－ＴｓＯＨ（５０ｍｇ）を添加した。混合物を１０分間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２２．４（１．００ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７９（ｓ，１Ｈ），４．７２（ｓ，１Ｈ），２．４９－２．３７（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１３（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．９０（ｍ，１Ｈ），１．８１－１．５０（ｍ，１１Ｈ），１．４８－１．３０（ｍ，１０Ｈ），１．２５－１．１２（ｍ，６Ｈ），１．０８－０．９４（ｍ，５Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２２．５の合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）中の２２．４（１．００ｇ、２．９０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（１．４４ｍＬ、１０Ｍ、１４．４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４５℃で１時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、エタノール（２．６６ｇ、５７．９ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ（１１．５ｍＬ、５．０Ｍ、５７．９ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（５．７９ｍＬ、１０Ｍ、５７．９ｍｍｏｌ）を滴加し、反応混合物を７０℃に１時間加熱した。混合物を冷却し、水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、濃縮して、２２．５（１．２０ｇ、組製）を得た。
２２．６の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２２．５（５５０ｍｇ、粗製）の溶液に、シリカゲル（１．５０ｇ）及びＰＣＣ（６４９ｍｇ、３．０２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して２２．６（５００ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップで直接使用した。
２２．７ａ及び２２．７ｂの合成
０℃で、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２２．６（５００ｍｇ、組製）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（２．３９ｍＬ、７．１９ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加した。反応混合物を室温に温め、１時間撹拌した。飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）溶液を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２２．７ａ（１００ｍｇ、１９．２％）及び２２．７ｂ（１００ｍｇ、１９．２％）を得た。２２．７ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３３－４．１８（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．９２（ｍ，２Ｈ），１．８９－１．５９（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．３０（ｍ，１２Ｈ），１．２９－１．２１（ｍ，６Ｈ），１．２１－１．０７（ｍ，６Ｈ），１．０５－０．９４（ｍ，２Ｈ），０．９２－０．８６（ｍ，４Ｈ），０．８５－０．７４（ｍ，５Ｈ）。２２．７ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．１５－４．０５（ｍ，１Ｈ），１．８４－１．７０（ｍ，４Ｈ），１．６６－１．５２（ｍ，１０Ｈ），１．４９－１．３３（ｍ，８Ｈ），１．３２－１．２６（ｍ，３Ｈ），１．２４－１．１７（ｍ，６Ｈ），１．１５－０．９０（ｍ，６Ｈ），０．８５－０．８１（ｍ，３Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２２の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２２．７ａ（１５０ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２００ｍｇ）及びＰＣＣ（１７１ｍｇ、０．８０ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗生成物２２（１３０ｍｇ）を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、生成物２２（１５ｍｇ、１０．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４２－２．３６（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．１１（ｍ，３Ｈ），１．９５（ｔ，Ｊ＝１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．８１－１．６１（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．５１（ｍ，６Ｈ），１．４６－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．２９－１．２１（ｍ，７Ｈ），１．１８－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．０２ ０．９４（ｍ，４Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３，実測値３５７．３。
２４．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の２２（６０．０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１．５９ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（２８．１ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物２４．１（７１．０ｍｇ、組製）を得、これを次のステップで直接使用した。
２４の合成
アセトン（５ｍＬ）中の２４．１（７０．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（４２．５ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１７．２ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。反応物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して粗生成物を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２４（２１．６ｍｇ、３０．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，２Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），２．４４－２．３７（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．９１（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．７０（ｍ，５Ｈ），１．７０－１．６１（ｍ，４Ｈ），１．５３－１．３５（ｍ，８Ｈ），１．３５－１．２８（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．０３（ｍ，７Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），１．０１－０．９１（ｍ，２Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．４０ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
２３の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２２．７ｂ（１３０ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２００ｍｇ）及びＰＣＣ（１４８ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗生成物２３（１００ｍｇ、７７．５％）を得た。５０．０ｇの粗製２３を、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２３（１５．０ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４０－２．３８（ｍ，１Ｈ），２．１２－２．０８（ｍ，３Ｈ），２．０３－１．５６（ｍ，１１Ｈ），１．５５－１．２７（ｍ，１１Ｈ），１．２６－１．１１（ｍ，１１Ｈ），１．０９－１．００（ｍ，４Ｈ），０．７７（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３，実測値３５７．３。
２１．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の２３（４０．０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１．０６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（１８．７ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物２１．１（４５．０ｍｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２１の合成
アセトン（５ｍＬ）中の２１．１（４０．０ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（２４．３ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（９．８０ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、純粋な生成物２１（３１．８ｍｇ、７５．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８５（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），５．０９－４．９０（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），２．００－１．８６（ｍ，３Ｈ），１．７９－１．６２（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．３６（ｍ，９Ｈ），１．３０－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．１５－１．０３（ｍ，６Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
実施例２５及び２６：１－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＳ，５ａＲ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）エタノン（２５）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＳ，５ａＲ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２６）の合成
Figure 2022538300000383
 ２５．８ａ及び２５．８ｂの合成
新たに調製したＭＡＤ（１６．４ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃に冷却し、ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の２０．７ａ（１．８０ｇ、５．４７ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（５．４６ｍＬ、１６．４ｍｍｏｌ、）を－７０℃で滴加した。得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌し、次いで飽和クエン酸水溶液（２００ｍＬ）に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２５．８ａ（４６０ｍｇ、２４．４％）及び２５．８ｂ（５９０ｍｇ、３１．３％）を得た。２５．８ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１５－５．０６（ｍ，１Ｈ），２．４３－２．３１（ｍ，１Ｈ），２．２８－２．０９（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．７２（ｍ，２Ｈ），１．７２－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５５－１．４７（ｍ，２Ｈ），１．４７－１．３３（ｍ，５Ｈ），１．３３－１．２２（ｍ，５Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．０５（ｍ，２Ｈ），１．０２－０．８９（ｍ，１Ｈ），０．８８－０．７９（ｍ，６Ｈ）。２５．８ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１８－５．０３（ｍ，１Ｈ），２．４０－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．１１（ｍ，２Ｈ），２．０１－１．８５（ｍ，１Ｈ），１．７８－１．６８（ｍ，２Ｈ），１．６６－１．６０（ｍ，７Ｈ），１．５５－１．４７（ｍ，３Ｈ），１．４６－１．３５（ｍ，６Ｈ），１．３５－１．２５（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．０４（ｍ，４Ｈ），１．０３－０．９２（ｍ，１Ｈ），０．８８－０．８０（ｍ，６Ｈ）。
２５．９の合成
１５℃で、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２５．８ｂ（５９０ｍｇ、１．７１ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（１．２５ｍｇ、５．１３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４０℃で１時間撹拌した。得られた混合物を１５℃に冷却し、エタノール（７８７ｍｇ、１７．１ｍｍｏｌ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（３．４２ｍＬ、５Ｍ、１７．１ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を－１０℃に冷却し、Ｈ２Ｏ２（１．７１ｍＬ、１０Ｍ、１７．１ｍｍｏｌ）を滴加し、混合物を８０℃で１時間加熱した。冷却後、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮して２５．９（９００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７７－３．６４（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．７８（ｍ，５Ｈ），１．７２－１．６５（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．４４（ｍ，１１Ｈ），１．３８－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．９６（ｍ，６Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ），０．６４（ｓ，３Ｈ）。
２５の合成
０℃で、ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２５．９（９００ｍｇ、２．４８ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２．００ｇ）及びＰＣＣ（１．５９ｇ、７．４４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×３０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２５（６００ｍｇ、不純）を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、２５（３６０ｍｇ、７２．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５２（ｔ，Ｊ＝８．４０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２７－２．１２（ｍ，１Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．０３－１．８６（ｍ，２Ｈ），１．７６－１．６８（ｍ，２Ｈ），１．６５－１．５８（ｍ，７Ｈ），１．４９－１．３６（ｍ，６Ｈ），１．３５－１．２８（ｍ，４Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．２０－１．０７（ｍ，４Ｈ），１．０１－０．９１（ｍ，１Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ），０．５９（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２４Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
２６．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の２５（１００ｍｇ、０．２７７ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（５．５２ｍｇ、０．０２８ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（４８．８ｍｇ、０．３０５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２６．１（１００ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０（ｄ，Ｊ＝３．６０ Ｈｚ，２Ｈ），２．８５－２．７６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．８５（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．６６（ｍ，６Ｈ），１．６５－１．６３（ｍ，１Ｈ），１．５３－１．４４（ｍ，５Ｈ），１．４１－１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１４－１．０７（ｍ，２Ｈ），０．９８－０．９１（ｍ，１Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ），０．６２（ｓ，３Ｈ）。
２６の合成
アセトン（５ｍＬ）中の２６．１（１００ｍｇ、０．２２７５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（６２．７ｍｇ、０．４５５ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２５．４ｍｇ、０．２７２９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２６（３５．３ｍｇ、３４．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８５（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０４－４．９７（ｍ，１Ｈ），４．９２－４．８５（ｍ，１Ｈ），２．６４－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．２６－２．１２（ｍ，１Ｈ），２．１０－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．８７（ｍ，１Ｈ），１．７６－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．２３（ｍ，１３Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１６－１．０６（ｍ，２Ｈ），１．０５－０．９０（ｍ，１Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝７．２０ Ｈｚ，３Ｈ），０．６５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例２７及び２８：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エタノン（２７）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（２８）の合成
Figure 2022538300000384
 ２７．２の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の２７．１（１０．０ｇ、３４．９ｍｍｏｌ）及びＰｄ／Ｃ（１．００ｇ、１０％、５０％水湿潤）の溶液に、ＨＢｒ（０．５ｍＬ、水中４０％）を添加した。混合物を１５ｐｓｉの水素下、室温で１２時間水素化した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して粗生成物を得、これをＰＥ（１００ｍＬ）から粉砕して、２７．２（１０．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５８（ｔ，Ｊ＝１４．０，１Ｈ），２．５０－２．３５（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．００（ｍ，７Ｈ），１．９９－１．８８（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．５９（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．０８（ｍ，９Ｈ），０．７９（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．３の合成
新たに調製したＭＡＤ（１０３ｍｍｏｌ）溶液（合成１９．６を参照）を－７０℃に冷却し、無水ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の２７．２（１０．０ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（３４．３ｍＬ、１０３ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに２時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸（５００ｍＬ）に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２７．３（１０．０ｇ、９５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４５－２．３５（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．０５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２５－０．８０（ｍ，１０Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．４の合成
ＬＤＡ（８１．５ｍＬ、２Ｍ、１６３ｍｍｏｌ）の溶液を－７０℃に冷却し、次いで冷却した（－７０℃）に添加し、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の２７．３（１０．０ｇ、３２．８ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１８．５ｇ、１６３ｍｍｏｌ）の溶液を撹拌した。混合物を－７０℃で４時間撹拌した。ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（９．８０ｇ、１６３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温に温め、次いで１６時間撹拌した。水（５００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、蒸発させて粗生成物を得、次いでＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２７．４（４．９０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３２－４．２０（ｍ，２Ｈ），２．３０－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３１（ｍ，９Ｈ），１．３０－１．１１（ｍ，１０Ｈ），１．１０－０．７５（ｍ，８Ｈ）。
２７．５の合成
ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の２７．４（６．００ｇ、１４．３ｍｍｏｌ）及びＲｈ２（ＯＡｃ）４（１００ｍｇ）の溶液を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ブライン（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２７．５（５．５０ｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２７．６の合成
ＭｅＯＨ（６０ｍＬ）中の２７．５（５．５０ｇ）及びＫＯＨ（４．７０ｇ、８４．０ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で２時間撹拌した。室温に冷却した後、混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いで（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２７．６（２．００ｇ、４５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５８－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１４－２．０５（ｍ，１Ｈ），２．００－１．６５（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．３６（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．１０－０．８２（ｍ，３Ｈ），０．６５（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．７の合成
－３０℃で、ＴＨＦ（５ｍＬ）中の２７．６（１．００ｇ、３．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＭＳＣＨ２Ｌｉ（４４．６ｍＬ、２５．０ｍｍｏｌ、０．５６Ｍ）を添加し、混合物を室温に温め、１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（２０ｍＬ）に溶解し、ｐ－ＴｓＯＨ（１００ｍｇ）を添加した。混合物を室温で３０分間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２７．７（３００ｍｇ、３０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７２（ｓ，１Ｈ），４．５２（ｓ，１Ｈ），２．３５－２．００（ｍ，２Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，９Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－０．８２（ｍ，９Ｈ），０．５８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．８の合成
０℃で、ＴＨＦ（５ｍＬ）中の２７．７（６００ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（１．０ｍＬ、１０Ｍ、１０．０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃で１６時間撹拌した。ＥｔＯＨ（２０ｍＬ）を添加し、混合物を－１０℃に冷却した。ＮａＯＨ水溶液（４．０ｍＬ、５Ｍ、２０．０ｍｍｏｌ）、続いてＨ２Ｏ２（２．３０ｇ、２０．０ｍｍｏｌ、水中３０％）を添加した。添加後、混合物を７０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を室温に冷却し、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２７．８（４００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９５－３．８５（ｍ，１Ｈ），３．８０－３．６８（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．０８（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６３（ｍ，１０Ｈ），１．５０－１．３５（ｍ，５Ｈ），１．３２－１．２８（ｍ，５Ｈ），１．０５－０．８０（ｍ，１２２Ｈ），０．７４（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．９の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の２７．８（４００ｍｇ、粗製）及びデス・マーチン試薬（１．００ｇ、２．４ｍｍｏｌ）の溶液を室温で３０分間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）を添加し、懸濁液をＤＣＭ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２７．９（３００ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．９８（ｓ，１Ｈ），２．４０－２．０１（ｍ，４Ｈ），１．９２－１．７２（ｍ，８Ｈ），１．４８－１．３２（ｍ，１１Ｈ），１．０１－０．８１（ｍ，９Ｈ），０．７０（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
２７．１０の合成
０℃で、ＴＨＦ（５ｍＬ）中の２７．９（３００ｍｇ、組製）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（１．５ｍＬ、４．５ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２７．１０（１５０ｍｇ、４８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３０－４．２０（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６２（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．２５（ｍ，１４Ｈ），１．２４－１．０１（ｍ，７Ｈ），１．００－０．６６（ｍ，１１Ｈ）。
２７の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の２７．１０（１５０ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）及びデス・マーチン試薬（３６４ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）の溶液を室温で３０分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、得られた懸濁液をＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２７（１００ｍｇ、６７％）を得た。２７（１０．０ｍｇ）を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：７５、終了Ｂ：９５、勾配時間（分）：７）によって精製して、純粋な２７（２．００ｍｇ、２０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２０－２．１５（ｍ，４Ｈ），２．１０－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，１４Ｈ），１．２４－０．７８（ｍ，７Ｈ），０．６９（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。
２８．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５．０ｍＬ）中の２７（９０．０ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１０．３ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ、４０％）及びＢｒ２（４１．５ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２８．１（１１０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２８の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の２８．１（１１０ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（１０７ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（７２．１ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を水（１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ＊５μｍ、条件：水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ、開始Ｂ：７０、終了Ｂ：１００、勾配時間（分）：９、１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、２８（５０．０ｍｇ、粗製）を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５μｍ、条件：水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ、開始：７０、終了Ｂ：１００、勾配時間（分）：９、１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、純粋な２８（１０．０ｍｇ、２０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８３（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），５．１５（ｄ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ，１Ｈ），２．２６（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．１５－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１５－０．８０（ｍ，５Ｈ），０．６７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２７Ｈ３８Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値４２０．３。
実施例２９及び３０：１－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－７－ヒドロキシ－７，１０ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）エタノン（２９）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，７Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－７－ヒドロキシ－７，１０ａ－ジメチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３０）の合成
Figure 2022538300000385
 ２９．２の合成
無水メタノール（２００ｍＬ）中の２９．１（１０．０ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴｓＯＨ（５９５ｍｇ、３．４６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６５℃で１８時間撹拌した。Ｅｔ３Ｎ（７．４０ｇ、１０３ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を減圧下で濃縮して、２９．２（１０．０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．２４－３．０８（ｍ，５Ｈ），２．５４－１．９６（ｍ，３Ｈ），１．９４－１．６６（ｍ，５Ｈ），１．６６－１．４５（ｍ，６Ｈ），１．４０－１．０８（ｍ，９Ｈ），１．０５－０．９０（ｍ，３Ｈ），０．８８－０．７４（ｍ，３Ｈ）。
２９．３の合成
無水ＴＨＦ（４００ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（２２．１ｇ、５９．６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（６．６７ｇ、５９．６ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を５０℃で３０分間撹拌した。次いで、無水ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の２９．２（１０．０ｇ、２９．８ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。５０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。冷却後、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２９．３（１０．０ｇ、９７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１８－５．０２（ｍ，１Ｈ），３．４９（ｓ，１Ｈ），３．２３－３．１２（ｍ，４Ｈ），２．４６－１．９９（ｍ，４Ｈ），１．９２－１．７０（ｍ，３Ｈ），１．６８－１．３６（ｍ，１２Ｈ），１．３６－１．０４（ｍ，７Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．８２（ｍ，３Ｈ）。
２９．４の合成
ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の２９．３（１０．０ｇ、２８．８ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ（１４．０ｇ、５７．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４５℃で１６時間撹拌した。混合物を０℃で冷却し、エタノール（１３．２ｇ、２８８ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ水溶液（５７．６ｍＬ、５．０Ｍ、２８８ｍｍｏｌ）。Ｈ２Ｏ２（２８．８ｍＬ、２８８ｍｍｏｌ）を滴加し、次いで反応物を７８℃で１時間撹拌した。混合物を冷却し、Ｎａ２ＳＯ３（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。１０分間撹拌した後、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（４×３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、粗生成物２９．４（１０．０ｇ、粗製）を濃縮した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１９（ｓ，３Ｈ），３．１２（ｓ，３Ｈ），２．４３－２．３５（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．６９（ｍ，１２Ｈ），１．６８－１．５７（ｍ，７Ｈ），１．２６－１．１２（ｍ，９Ｈ），０．９７－０．８９（ｍ，３Ｈ），０．６３（ｓ，３Ｈ）。
２９．５の合成
ＴＨＦ（１００ｍｌ）中の溶液２９．４（１０．０ｇ、２７．４ｍｍｏｌ）に、ＨＣｌ（２７．４ｍＬ、２Ｍ、５４．８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。混合物のｐＨをＮａＨＣＯ３で７に調整した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（４×３００ｍＬ）で洗浄し、次いで濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２９．５（７．００ｇ、８０．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７７－３．６３（ｍ，１Ｈ），２．７８－２．６１（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１１（ｍ，１Ｈ），２．０８－１．９８（ｍ，２Ｈ），１．９６－１．７７（ｍ，４Ｈ），１．７３－１．４８（ｍ，６Ｈ），１．４２－１．０７（ｍ，１２Ｈ），１．０４－０．９８（ｍ，３Ｈ），０．６８（ｓ，３Ｈ）。
２９．６の合成
トルエン（１００ｍＬ）中の２９．５（１０．０ｇ、３１．３ｍｍｏｌ）の溶液に、塩酸ピリジン（３６１ｍｇ、３．１３ｍｍｏｌ）及びエタン－１，２－ジオール（９．６８ｇ、１５６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、ディーン・スタークトラップを用いて１３０℃で１６時間撹拌して、水を除去した。冷却後、飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた抽出物をＨ２Ｏ（５００ｍＬ）、飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物２９．６（７．００ｇ、６１．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９４（ｓ，４Ｈ），３．７７－３．６３（ｍ，１Ｈ），２．０５－１．８１（ｍ，４Ｈ），１．７６－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．３１（ｍ，９Ｈ），１．２８－１．０９（ｍ，１０Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．６５（ｓ，３Ｈ）。
２９．７の合成
シクロヘキサン（２００ｍＬ）中の２９．６（２．００ｇ、５．５１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣａＣＯ３（１．６５ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）、ＰｈＩ（ＯＡｃ）２（５．３１ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）、Ｉ２（２．７９ｇ、１１ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、赤外線ランプ（２５０Ｗ）で３０分間照射することによって加熱還流させた。反応物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２００ｍＬ）でクエンチし、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２９．７（３．００ｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
２９．８の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＭｅＰｈ３ＰＢｒ（７．６４ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．４０ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を５０℃で１時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の２９．７（３．００ｇ、７．１６ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、反応混合物を５０℃でさらに１６時間撹拌した。冷却後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２９．８（４．００ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．７６（ｄｄ，Ｊ＝１８．００、１１．２０ Ｈｚ，１Ｈ），５．２９（ｄｄ，Ｊ＝１０．８０、１．２０ Ｈｚ，１Ｈ），５．１４（ｄｄ，Ｊ＝１８．４０、１．６０ Ｈｚ，１Ｈ），３．９３（ｓ，４Ｈ），３．８５－３．７７（ｍ，１Ｈ），２．３２－２．４０（ｍ，１Ｈ），１．７３－１．８７（ｍ，５Ｈ），１．６２－１．７０（ｍ，２Ｈ），１．５４－１．５８（ｍ，１Ｈ），１．４４－１．５４（ｍ，４Ｈ），１．３１－１．３９（ｍ，４Ｈ），１．２４－１．３１（ｍ，５Ｈ），１．１６－１．２２（ｍ，２Ｈ），１．１１（ｄ，Ｊ＝５．６０ Ｈｚ，３Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ）。
２９．９の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中の２９．８（７．００ｇ、１８．６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ－Ｃ（乾燥、１０％、２．００ｇ）を添加した。懸濁液を真空下で脱気し、Ｈ２で３回パージし、次いで５０ｐｓｉの水素下、５０℃で１６時間水素化した。冷却後、反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＴＨＦ（３×３００ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、生成物２９．９（７．００ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９３（ｓ，４Ｈ），３．８７－３．７８（ｍ，１Ｈ），２．１６－２．０９（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７５－１．６９（ｍ，１Ｈ），１．６４－１．５５（ｍ，５Ｈ），１．４７－１．４４（ｍ，１Ｈ），１．４０－１．２９（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｄ，Ｊ＝６．００Ｈｚ，３Ｈ），１．２５－１．１５（ｍ，４Ｈ），１．１５－１．００（ｍ，５Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。
２９．１０の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の２９．９（２．７０ｇ、７．１６ｍｍｏｌ）の溶液に、２Ｍ ＨＣｌ（７．１５ｍＬ、１４．３ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌して、黄色の溶液を得た。反応物をＨ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈し、ｐＨを固体ＮａＨＣＯ３で９に調整した。混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物２９．１０（２．２０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８９－３．８１（ｍ，１Ｈ），２．７７－２．６３（ｍ，１Ｈ），２．３９－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１２（ｍ，２Ｈ），２．０２－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９７－１．７５（ｍ，４Ｈ），１．６９－１．６２（ｍ，２Ｈ），１．５７－１．４４（ｍ，５Ｈ），１．４１－１．２９（ｍ，４Ｈ），１．２７（ｄ，Ｊ＝６．００Ｈｚ，３Ｈ），１．２３－１．０７（ｍ，６Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。
２９．１１の合成
－７０℃で、ＬＤＡ溶液（１３．２ｍＬ、２Ｍ、２６．４ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の２９．１０（２．２０ｇ、６．６１ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３．０１ｇ、２６．４ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（１．５８ｇ、２６．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、１６時間撹拌した。水（５００ｍＬ）及びＰＥ（３００ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（６００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、２９．１１（４．００ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２３（ｑ，Ｊ＝７．２０ Ｈｚ，２Ｈ），３．８８－３．７７（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８７（ｍ，３Ｈ），１．８０－１．７０（ｍ，２Ｈ），１．６９－１．５２（ｍ，６Ｈ），１．５１－１．４３（ｍ，３Ｈ），１．４１－１．３１（ｍ，５Ｈ），１．３１－１．３０（ｍ，１Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２２－１．１８（ｍ，３Ｈ），１．１７－０．９９（ｍ，６Ｈ），０．９４（ｄ，Ｊ＝１２．４０ Ｈｚ，３Ｈ），０．８７－０．８１（ｍ，３Ｈ）。
２９．１２ａ及び２９．１２ｂの合成
ＤＭＥ（５０ｍＬ）中の２９．１１（４．００ｇ、８．９５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（７９．１ｍｇ、０．１７９ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１６時間撹拌した。反応混合物を濃縮して、混合物２９．１２ａ及び２９．１２ｂ（５．００ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ４．１４－４．２１（ｍ，２Ｈ），３．８７－３．７９（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．７２（ｍ，２Ｈ），２．０８－２．２１（ｍ，２Ｈ），１．７９－１．９４（ｍ，４Ｈ），１．６５－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．５２－１．６３（ｍ，４Ｈ），１．４４－１．４９（ｍ，２Ｈ），１．４４－１．５１（ｍ，３Ｈ），１．３４－１．３９（ｍ，４Ｈ），１．２７（ｄ，Ｊ＝６．４０Ｈｚ，６Ｈ），１．０３－１．１６（ｍ，５Ｈ），０．９７－０．９３（ｍ，３Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝７．２０ Ｈｚ，３Ｈ）。
２９．１３ａ及び２９．１３ｂの合成
ＭｅＯＨ（６０ｍＬ）中の２９．１２ａ及び２９．１２ｂ（５．００ｇ、１１．９ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（２０ｍＬ）及びＮａＯＨ（４．７５ｇ、１１９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を６０℃で１６時間撹拌し、次いで濃縮した。次いで、Ｈ２Ｏ（１００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、混合物生成物２９．１３ａ及び２９．１３ｂ（１．５０ｇ、３６．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８９－３．７６（ｍ，１Ｈ），３．０７（ｔ，Ｊ＝１２．８０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５５－２．２３（ｍ，３Ｈ），２．２２－２．０６（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．５２（ｍ，１１Ｈ），１．５０－１．３５（ｍ，６Ｈ），１．１６－１．０６（ｍ，３Ｈ），１．０１（ｓ，１Ｈ），０．９８－０．９５（ｍ，２Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。
２９．１４ａ及び２９．１４ｂの合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の２９．１３ａ及び２９．１３ｂ（５００ｍｇ、１．４４ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（５００ｍｇ）及びＰＣＣ（４６２ｍｇ、２．１５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で洗浄した。合わせた濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、２９．１４ａ及び２９．１４ｂ（９００ｍｇ）の粗混合物を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ＊１０μｍ））、条件：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；開始Ｂ：３０％、終了Ｂ：３０％、流速（ｍｌ／分）：７０）によって分離して、２９．１４ａ（２００ｍｇ、２２．２％）及び２９．１４ｂ（５００ｍｇ、５５．６％）を得た。２９．１４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７２－２．３５（ｍ，４Ｈ），２．３０－２．１５（ｍ，３Ｈ），２．１４－２．１２（ｍ，３Ｈ），２．１０－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．７７（ｍ，１Ｈ），１．７３－１．６３（ｍ，１Ｈ），１．６１－１．５３（ｍ，２Ｈ），１．４９－１．３１（ｍ，６Ｈ），１．３０－０．９８（ｍ，９Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７９（ｍ，１Ｈ），０．６０－０．５４（ｍ，３Ｈ）。２９．１４ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１２－２．９９（ｍ，１Ｈ），２．５５－２．４３（ｍ，２Ｈ），２．４２－２．３１（ｍ，２Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），２．０１－１．８５（ｍ，２Ｈ），１．８４－１．７１（ｍ，２Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，３Ｈ），１．５８－１．４２（ｍ，４Ｈ），１．４２－０．９９（ｍ，１０Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９４－０．８４（ｍ，１Ｈ），０．６４（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。
２９の合成
新たに調製したＭＡＤ（１０ｍＬのトルエン中４．３５ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃に冷却し、次いで冷却した（－７０℃）に滴加し、ＤＣＭ（５ｍＬ）中の２９．１４ｂ（４００ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）の溶液を撹拌した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（１．９３ｍＬ、５．８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラム（ＰＥ／ＥｔＯＡｃ＝０～２０％）によって精製して、２９（２５０ｍｇ、５９．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５２－２．４１（ｍ，１Ｈ），２．３７－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），２．１１－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．５７（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．４２（ｍ，３Ｈ），１．４１－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．１６（ｍ，５Ｈ），１．１６－０．９５（ｍ，４Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％；Ｃ２４Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
３０．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の２９（１００ｍｇ、０．２７７３ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１１．０ｍｇ、０．０５５ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（４８．８ｍｇ、０．３０５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３０．１（１３０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０１（ｓ，２Ｈ），２．８０－２．６７（ｍ，１Ｈ），２．３８－２．１３（ｍ，３Ｈ），１．９９－１．８８（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．７２（ｍ，４Ｈ），１．７１－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．５３－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．３８－１．２９（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．０８－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．５９（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。
３０の合成
アセトン（５ｍｌ）中の３０．１（１３０ｍｇ、０．２９６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（８１．６ｍｇ、０．５９１６ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３０．２ｍｇ、０．３２５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を飽和水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３０（３０．０ｍｇ、２２．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝１８．４０ Ｈｚ，１Ｈ），４．９２（ｄ，Ｊ＝１８．００ Ｈｚ，１Ｈ），２．５２－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．３７－２．２６（ｍ，２Ｈ），２．０８－２．０１（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．６４（ｍ，３Ｈ），１．５３－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．３９－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２４－１．１０（ｍ，６Ｈ），１．０９－１．００（ｍ，２Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．６０ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％；Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例３１及び３２：１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）オクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３１）の合成及び１－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）オクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）エタノン（３２）の合成
Figure 2022538300000386
 ３２．２の合成
ＭｅＯＨ（２．０Ｌ）中の３２．１（３００ｇ、１０９３ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１４／１６９８３３，２０１４，Ａ１」に報告されている）の溶液に、ＴｓＯＨ（１８．７ｇ、１０９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６５℃で１時間撹拌した。反応混合物を冷却し、沈殿物を濾過によって回収し、メタノール（２×３００ｍＬ）で洗浄して、３２．２（２３０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１９（ｓ，３Ｈ），３．１４（ｓ，３Ｈ），２．６０－２．３９（ｍ，２Ｈ），２．２５－２．００（ｍ，２Ｈ），１．９７－１．９０（ｍ，２Ｈ），１．８６－１．７５（ｍ，６Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，５Ｈ），１．５６－１．４９（ｍ，４Ｈ），１．４７－１．３５（ｍ，１０Ｈ），１．３０－１．２２（ｍ，５Ｈ），１．１５－１．００（ｍ，２Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ）。
３２．３の合成
ＴＨＦ（１．５Ｌ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（７９８ｇ、２．１５ｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２４１ｇ、２．１５ｍｏｌ）を添加し、混合物を５０℃で３０分間撹拌した。冷却後、混合物をＴＨＦ（５００ｍＬ）中の３２．２（２３０ｇ、７１７ｍｍｏｌ）に添加し、混合物を５０℃でさらに１６時間撹拌した。反応物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（５００ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して粗生成物を得、これを１：１のメタノール（１Ｌ）／水（１Ｌ）で粉砕して、生成物３２．３（２９０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１９（ｓ，３Ｈ），３．１４（ｓ，３Ｈ），２．４０－２．１０（ｍ，４Ｈ），１．９５－１．３５（ｍ，１３Ｈ），１．３３－１．０５（ｍ，１０Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
３２．４の合成
ＴＨＦ（２Ｌ）中の３２．３（２７５ｇ、８２６ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（４０２ｇ、１．６５ｍｏｌ）を添加し、混合物を５０℃で２時間撹拌した。反応混合物を０℃に冷却し、エタノール（３７９ｇ、８．２６ｍｏｌ）を慎重に添加し、続いてＮａＯＨ（１．６５Ｌ、５Ｍ、８．２６ｍｏｌ）を添加した。添加が完了した後、内部温度を１５℃未満に維持しながら、Ｈ２Ｏ２（８２５ｍＬ、８．２６ｍｏｌ、３０％）を滴加した。得られた溶液を７５℃にゆっくりと加熱し、１時間撹拌した。冷却後、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（２６０ｍＬ）を添加し、混合物を０℃でさらに１時間撹拌した。水（２Ｌ）を添加し、混合物を０℃で３０分間撹拌し、次いで濾過した。濾過ケーキを水（３×７００ｍＬ）で洗浄し、真空下で乾燥させて、３２．４（２８５ｇ、組製）を得た。
３２．５の合成
ＴＨＦ（３Ｌ）中の３２．４（２８５ｇ、８１３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＣｌ水溶液（１．６２Ｌ、１．６２ｍｏｌ、１Ｍ）を添加し、混合物を１時間撹拌した。水（７００ｍＬ）を添加し、混合物をＤＣＭ（２×５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３２．５（２８０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．７５－３．６５（ｍ，１Ｈ），２．６５－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．００－１．８０（ｍ，５Ｈ），１．７５－１．４２（ｍ，１０Ｈ），１．４０－１．２８（ｍ，４Ｈ），１．２９－１．１５（ｍ，７Ｈ），０．６６（ｓ，３Ｈ）。
３２．６の合成
ＤＣＭ（４０ｍＬ）中の３２．５（１０．０ｇ、３２．８ｍｍｏｌ）の溶液に、イミダゾール（４．４６ｇ、６５．６ｍｍｏｌ）及びＴＢＳＣｌ（９．８８ｇ、６５．６ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１時間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２×６０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．６（８．２０ｇ、６２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７３－３．６２（ｍ，１Ｈ），２．６０（ｔ，Ｊ＝１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２９－２．０６（ｍ，５Ｈ），１．９６－１．８５（ｍ，２Ｈ），１．７７－１．６６（ｍ，２Ｈ），１．６１－１．４４（ｍ，６Ｈ），１．３６－１．０９（ｍ，１１Ｈ），０．８７（ｓ，９Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ），０．０６－０．０３（ｍ，６Ｈ）。
３２．７の合成
ＬＤＡ溶液（２３．８ｍｍｏｌ）を－７０℃で冷却し、次いで、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の３２．６（２．００ｇ、４．８ｍｍｏｌ）及び２－ジアゾ酢酸エチル（２．７１ｇ、２３．８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に－７８℃で添加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（１．４２ｇ、２３．８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２０℃に温めた。水（６０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、減圧下で濃縮して、３２．７（２．５４ｇ、組製）を得た。
３２．８及び３２．８ａの合成
ＤＭＥ（１０ｍＬ）中の３２．７（２．５４ｇ、粗製）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３１．５ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１２時間撹拌し、次いで酢酸エチル（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（３０ｍＬ）、飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．８及び３２．８ａ（２．８０ｇ、不純）の混合物を得た。
３２．９及び３２．９ａの合成
ＭｅＯＨ／ＴＨＦ／Ｈ２Ｏ（２０ｍＬ／２０ｍＬ／５ｍＬ）中の３２．８及び３２．８ａ（２．８０ｇ、５．５ｍｍｏｌ）の混合物に、ＮａＯＨ（２．２１ｇ、５５．４ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を、７０℃で１２時間撹拌し、次いで酢酸エチル（４ ×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（５０ｍＬ）、飽和ブライン（６０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．９及び３２．９ａ（１．６０ｇ、６７．３％）の混合物を得た。
３２．１０及び３２．１０ａの合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中の３２．９及び３２．９ａ（１．６０ｇ、３．７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＢＡＦ－３Ｈ２Ｏ（５．７４ｇ、１８．４ｍｍｏｌ）を添加した。５５℃で１２時間撹拌した後、混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．１０及び３２．１０ａ（９００ｍｇ、７６％）の混合物を得た。
３２．１１及び３２．１１ａの合成
トルエン（１００ｍＬ）中の３２．１０（５．００ｇ、１５．６ｍｍｏｌ、３２．１０ａを含む）、エタン－１，２－ジオール（４．８０ｇ、７８．１ｍｍｏｌ）及びピリジン塩酸塩（３５９ｍｇ、３．１ｍｍｏｌ）の混合物を、１３５℃で７２時間撹拌した。冷却後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３２．１１（７．００ｇ、粗製、３２．１１ａを含む）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．００－３．７８（ｍ，４Ｈ），２．２８－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．６０（ｍ，１２Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，９Ｈ），１．２５－０．８５（ｍ，９Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ）。
３２．１２及び３２．１２ａの合成
シクロヘキサン（２５０ｍＬ）中の３２．１１（２．５０ｇ、６．９ｍｍｏｌ、３２．１１ａを含む）、ＣａＣＯ３（２．０６ｇ、２０．６ｍｍｏｌ）及びＰｈＩ（ＯＡｃ）２（６．６０ｇ、２０．６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｉ２（３．５０ｇ、１３．７ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、赤外線ランプ（２７５Ｗ）を３０分間照射することによって８０℃に加熱した。混合物を室温に冷却し、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗製３２．１２（３．２０ｇ、３２．１２ａを含む）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．９５（ｓ，１Ｈ），４．３０－４．２０（ｍ，１Ｈ），４．００－３．７８（ｍ，４Ｈ），２．４０－２．１５（ｍ，２Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，１３Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，６Ｈ），１．２５－１．１５（ｍ，４Ｈ），１．１０－０．７５（ｍ，７Ｈ）。
３２．１３及び３２．１３ａの合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＰＰｈ３ＭｅＢｒ（１０．８ｇ、３０．５ｍｍｏｌ）及びｔ－ＢｕＯＫ（３．４０ｇ、３０．５ｍｍｏｌ）の溶液を、５０℃で１時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の３２．１２（３．２０ｇ、７．６ｍｍｏｌ、３２．１２ａを含む）の溶液を添加し、５０℃でさらに１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．１３（２．２０ｇ、７７％、３２．１３ａを含む）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．７７（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．２８（ｄｄ，Ｊ＝１１．２ Ｈｚ，１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．１５（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．００－３．７５（ｍ，５Ｈ），２．４０－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，１０Ｈ），１．２５－０．８０（ｍ，１１Ｈ）。
３２．１４及び３２．１４ａの合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の３２．１３（２．２０ｇ、５．７ｍｍｏｌ、３２．１３ａを含む）の溶液に、ＨＣｌ（２．４ｍＬ、２８．７ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３２．１４（１．９０ｇ、粗製、３２．１４ａを含む）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ＊１０μｍ）、条件：０．１％ ＮＨ３ＯＨ、ＥｔＯＨ、開始Ｂ：３０％、終了Ｂ：３０％、流速（ｍｌ／分）：２００）によってさらに精製して、３２．１４（７７０ｍｇ、４１％）及び３２．１４ａ（５００ｍｇ、２６％）を得た。３２．１４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．７８（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．３０（ｄｄ，Ｊ＝１１．２ Ｈｚ，１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．１６（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．９１－３．７５（ｍ，１Ｈ），２．６１－２．２５（ｍ，５Ｈ），１．９９－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，６Ｈ），１．２８－０．９５（ｍ，１０Ｈ）。３２．１４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．７８（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．３０（ｄｄ，Ｊ＝１１．２ Ｈｚ，１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．１６（ｄｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．９１－３．７５（ｍ，１Ｈ），３．０３（ｔ，Ｊ＝１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５０－２．３１（ｍ，３Ｈ），２．１０－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２０（ｍ，９Ｈ），１．１８－０．９０（ｍ，７Ｈ）。
３２．１５の合成
ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の３２．１４（７００ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）及び乾燥Ｐｄ／Ｃ（１０％、１００ｍｇ）の懸濁液を、１５ｐｓｉのＨ２下、室温で１６時間撹拌した。混合物を濾過し、濾過ケーキをＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、３２．１５（６００ｍｇ、８６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８５－４．６５（ｍ，１Ｈ），３．９０－３．７５（ｍ，１Ｈ），２．６０－２．４０（ｍ，３Ｈ），２．３５－２．２０（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２０（ｍ，１１Ｈ），１．１５－０．８５（ｍ，１１Ｈ）。
３２．１６の合成
０℃で、ＤＭＳＯ（１０ｍＬ）及びＴＨＦ（５ｍＬ）中のヨウ化トリメチルスルホニウム（７７１ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＮａＨ（１５１ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ、鉱油中６０％）を添加した。混合物を０℃で１．０時間撹拌した。ＤＭＳＯ（５ｍＬ）中の３２．１５（６３０ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、混合物を２５℃で１６時間撹拌した。反応物を水（１００ｍＬ）で処理し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３２．１６（６００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０－３．７５（ｍ，１Ｈ），２．６５－２．５２（ｍ，２Ｈ），２．１６－２．０６（ｍ，１Ｈ），２．００－１．６２（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，１０Ｈ），１．２２－０．９５（ｍ，１１Ｈ），０．９２－０．８０（ｍ，５Ｈ）。
３２．１７の合成
０℃で、Ｎａ（８３２ｍｇ、３４．６ｍｍｏｌ）をＭｅＯＨ（２０ｍＬ）に少量ずつ添加し、混合物を７０℃にゆっくりと加熱し、４時間撹拌した。冷却後、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の３２．１６（６００ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、混合物を７０℃で１６時間撹拌した。混合物を冷却し、水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．１７（５４０ｍｇ、８３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０－３．７５（ｍ，１Ｈ），３．４２－３．３８（ｍ，３Ｈ），３．２２（ｓ，１Ｈ），３．１６（ｓ，１Ｈ），２．３８－２．２２（ｍ，２Ｈ），１．９５－１．６０（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，１４Ｈ），１．２２－０．８０（ｍ，１３Ｈ）。
３２の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の３２．１７（５４０ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）及びデス・マーチン試薬（１．８０ｇ、４．３ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で１時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（２００ｍＬ）で反応をクエンチし、次いでＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３２．１８（４２０ｍｇ、７９％）を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｘｂｒｉｄｇｅ １５０＊３０ｍｍ＊１０μｍ、条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：７５、終了Ｂ：９５、勾配時間（分）：７、１００％Ｂ保持時間（分）：０、流速（ｍｌ／分）：２５、注入：１２）によってさらに精製して、３２（１４８ｍｇ、３５％）を得た。３２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４０（ｓ，３Ｈ），３．３０－３．２０（ｍ，２Ｈ），２．４６（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．４０－２．１８（ｍ，６Ｈ），１．９９－１．９１（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６０（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．１５（ｍ，１４Ｈ），１．１０－０．８５（ｍ，３Ｈ），０．６２（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３１．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の３２（１４０ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１４．８ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ、４０％）及びＢｒ２（５９．４ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３１．１（１５０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
３１の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の３１．１（１４０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５７。２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（８４．８ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で１６時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を水（１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｂｏｓｔｏｎ Ｐｒｉｍｅ Ｃ１８ １５０＊３０ｍｍ ５μｍ、条件：水（０．０５％水酸化アンモニアｖ／ｖ）－ＡＣＮ、開始：７０，終了Ｂ：１００、勾配時間（分）：９、１００％Ｂ保持時間（分）：２）によって精製して、３１（４１．０ｍｇ、２９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ），４．９２（ｄ，Ｊ＝１８ Ｈｚ，１Ｈ），３．３９（ｓ，３Ｈ），３．１７（ｓ，２Ｈ），２．４９（ｔ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．４０－２．２０（ｍ，２Ｈ），２．１１（ｓ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３５（ｍ，６Ｈ），１．３３－０．８５（ｍ，１１Ｈ），０．６０（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５０．３，実測値４５０．３。
実施例３３：１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＲ，５ａＲ，８Ｓ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３３）の合成
Figure 2022538300000387
 ３３．１の合成
－７０℃で、トルエン（１０ｍ）中のＭＡＤ（５．４ｍｍｏｌ）の新たに調製した溶液に、ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３２．１５（６００ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。反応混合物を－７０℃で１時間撹拌し、次いでＭｅＭｇＢｒ（３．０ｍＬ、９．０ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加した。反応混合物を－７０℃でさらに２時間撹拌し、次いで１０℃未満で飽和クエン酸（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～８％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３３．１（２００ｍｇ、３２．１％）を得た。３３．１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９１－３．７５（ｍ，１Ｈ），２．１４－２．０９（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６２（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．３１（ｍ，１２Ｈ），１．３０－０．９５（ｍ，１４Ｈ），０．９０－０．７８（ｍ，７Ｈ）。
３３．２の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の３３．１（１００ｍｇ、不純）及びデス・マーチン試薬（２４３ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３３．２（８０．０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４６（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．４０－２．１８（ｍ，５Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，７Ｈ），１．２４－０．８５（ｍ，１２Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ）。
３３．３の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の３３．２（８０．０ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（３６．９ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３３．３（１００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０８－３．９５（ｍ，２Ｈ），２．８１－２．６９（ｍ，１Ｈ），２．４０－２．２０（ｍ，３Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５２－１．３２（ｍ，７Ｈ），１．３０－０．８０（ｍ，１４Ｈ），０．５８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３３の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の３３．３（１００ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（６４．８ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４３．７ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で１６時間撹拌した。混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を水（１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３３（２２．０ｍｇ、２２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝１８ Ｈｚ，１Ｈ），４．９２（ｄ，Ｊ＝１８ Ｈｚ，１Ｈ），２．４９（ｔ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．４０－２．２０（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２２（ｍ，１３Ｈ），１．２０－０．８５（ｍ，６Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ ３０－９０ＡＢ＿２分＿Ｅ、純度９９％，Ｃ２７Ｈ３８Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４２０．３，実測値４２０．３。
実施例３４及び３５：１－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＳ，８Ｓ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１０ａ－ジメチル－１，２，３，３ａ，３ｂ，４，６，７，８，９，１０，１０ａ，１０ｂ，１１，１２，１２ａ－ヘキサデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）エタノン（３４）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，３ａＳ，３ｂＳ，８Ｓ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１２ａ－エチル－８－ヒドロキシ－８，１０ａ－ジメチル－１，２，３，３ａ，３ｂ，４，６，７，８，９，１０，１０ａ，１０ｂ，１１，１２，１２ａ－ヘキサデカヒドロシクロヘプタ［ａ］シクロペンタ［ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３５）の合成
Figure 2022538300000388
 ３４．２の合成
ピリジン（４００ｍＬ）中の３４．１（５０．０ｇ、１５７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴｓＣｌ（８９．６ｇ、４７０ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（８．５９ｇ、７８．５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１２時間撹拌した。水（２００ｍＬ）を添加し、懸濁液を濾過した。濾過ケーキを水（２００ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、３４．２（７２．０ｇ、９８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１－７．７７（ｍ，２Ｈ），７．３５－７．３１（ｍ，２Ｈ），５．３２－５．２８（ｍ，１Ｈ），４．３８－４．２８（ｍ，１Ｈ），２．５５－２．４９（ｍ，１Ｈ），２．４８－２．３９（ｍ，４Ｈ），２．３１－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．２１－２．１３（ｍ，１Ｈ），２．１１（ｓ，３Ｈ），２．０５－１．９３（ｍ，２Ｈ），１．８６－１．７９（ｍ，２Ｈ），１．７５－１．６３（ｍ，３Ｈ），１．６０－１．５０（ｍ，２Ｈ），１．４９－１．３９（ｍ，３Ｈ），１．２７－１．０１（ｍ，３Ｈ），０．９８－０．８５（ｍ，４Ｈ），０．６１（ｓ，３Ｈ）。
３４．３の合成
ＭｅＯＨ（７００ｍＬ）中のＫＯＡｃ（８２．０ｇ、８３６ｍｍｏｌ）の溶液に、３４．２（７２．０ｇ、１５２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を８０℃で１６時間加熱した。冷却後、混合物を水（５００ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液を濾過した。濾過ケーキを水（１００ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、３４．３（５０．０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２３－２．１１（ｍ，４Ｈ），２．０６－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．８７（ｍ，１Ｈ），１．８２－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．５４－１．４０（ｍ，４Ｈ），１．３６－１．０６（ｍ，４Ｈ），１．０２（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．８０（ｍ，３Ｈ），０．６９－０．６３（ｍ，４Ｈ），０．４８－０．４２（ｍ，１Ｈ）。
３４．４の合成
０℃で、トルエン（２０ｍＬ）中の（Ｒ）－ＣＢＳ（３．３５ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）の溶液に、トルエン（８０ｍＬ）中のＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（３６．３ｍＬ、１０Ｍ、３６３ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。混合物を０℃で３０分間撹拌し、トルエン（１００ｍＬ）中の３４．３（４０．０ｇ、１２１ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。混合物を０℃でさらに１時間撹拌し、ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）を滴加した。混合物を濃縮して、ＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．４（３２．０ｇ、８０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７５－３．６７（ｍ，１Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），２．７９－２．７６（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．８５（ｍ，３Ｈ），１．８０－１．６５（ｍ，３Ｈ），１．５７－１．４６（ｍ，３Ｈ），１．４５－１．３１（ｍ，３Ｈ），１．２５－１．２１（ｍ，４Ｈ），１．１９－１．０４（ｍ，４Ｈ），１．０２（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．７９（ｍ，３Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ），０．６７－０．６３（ｍ，１Ｈ），０．４６－０．４０（ｍ，１Ｈ）。
３４．５の合成
シクロヘキサン（２００ｍＬ）中の３４．４（２．００ｇ、６．０１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣａＣＯ３（１．８０ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）、ＰｈＩ（ＯＡｃ）２（５．７９ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）、Ｉ２（３．０４ｇ、１２．０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、赤外線ランプ（２７５Ｗ）で３０分間照射することによって加熱還流した。反応物を室温に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３４．５（２．３３ｇ、組製）を得、これをさらに精製することなく直接使用した。
３４．６の合成
ＴＨＦ（７０ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（１７．１ｇ、４７．９ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（５．３７ｇ、４７．９ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を５０℃で３０分間撹拌し、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の３４．５（２．３３ｇ、５．９９ｍｍｏｌ）を少量ずつ添加した。５０℃で１２時間撹拌した後、反応混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を水（３０ｍＬ）、ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１２％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．６（０．７５ｇ、３６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．９０－５．７８（ｍ，１Ｈ），５．３２（ｄｄ，Ｊ＝１．２、１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．１７（ｄｄ，Ｊ＝１．６、１８．０ Ｈｚ，１Ｈ），３．８９－３．７９（ｍ，１Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ），２．７６（ｔ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．４２－２．３４（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．８８（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．７０（ｍ，５Ｈ），１．６８－１．６０（ｍ，１Ｈ），１．５６－１．４４（ｍ，５Ｈ），１．４３－１．３６（ｍ，１Ｈ），１．３３－１．２７（ｍ，１Ｈ），１．１５－１．０４（ｍ，５Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．８１（ｍ，３Ｈ），０．６６－０．６２（ｍ，１Ｈ），０．４５－０．４０（ｍ，１Ｈ）。
３４．７の合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の３４．６（９．００ｇ、２６．１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（０．６０ｇ、炭素上の１０％パラジウム、５０％水湿潤）を添加した。混合物を１５ｐｓｉの水素下、室温で７２時間水素化した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＭｅＯＨ（３×４０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、３４．７（８．１０ｇ、９０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９４－３．７８（ｍ，１Ｈ），３．３４（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２２－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．７３（ｍ，４Ｈ），１．７２－１．６１（ｍ，２Ｈ），１．５７－１．３４（ｍ，５Ｈ），１．２９（ｓ，５Ｈ），１．２３－１．０７（ｍ，４Ｈ），１．０４（ｓ，３Ｈ），０．９９－０．９３（ｍ，２Ｈ），０．９２－０．８５（ｍ，５Ｈ），０．６９－０．６５（ｍ，１Ｈ），０．４８－０．４３（ｍ，１Ｈ）。
３４．８の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の３４．７（５．００ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＡＰ（１．７５ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）及びＡｃ２Ｏ（５．８７ｇ、５７．６ｍｍｏｌ）を添加した。室温で１６時間撹拌した後、反応混合物を水（８０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液を、懸濁液をＤＣＭ（２×６０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．８（５．４０ｇ、９７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．０９－４．９６（ｍ，１Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ），２．７９－２．７５（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．１１（ｍ，１Ｈ），２．００（ｓ，３Ｈ），１．９２－１．８６（ｍ，１Ｈ），１．８４－１．７０（ｍ，３Ｈ），１．６５－１．５９（ｍ，１Ｈ），１．５６－１．４７（ｍ，４Ｈ），１．４４－１．４１（ｍ，１Ｈ），１．２９－１．２５（ｍ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），１．２４－１．０８（ｍ，４Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．９７－０．８８（ｍ，３Ｈ），０．８７－０．８１（ｍ，５Ｈ），０．６６－０．６２（ｍ，１Ｈ），０．４６－０．４１（ｍ，１Ｈ）。
３４．９の合成
１，４－ジオキサン（６０ｍＬ）中の３４．８（５．４０ｇ、１３．８ｍｍｏｌ）の溶液に、水（１５ｍＬ）中のＴｓＯＨ（２３７ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。７５℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＤＣＭ（３×８０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．９（４．５０ｍｇ、８７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３７－５．３３（ｍ，１Ｈ），５．０７－４．９７（ｍ，１Ｈ），３．５８－３．４７（ｍ，１Ｈ），２．３４－２．１２（ｍ，３Ｈ），２．０４－１．９４（ｍ，４Ｈ），１．８８－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．６５－１．５０（ｍ，８Ｈ），１．３６－１．２３（ｍ，６Ｈ），１．１５－１．０２（ｍ，３Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．９８－０．９０（ｍ，２Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３４．１０の合成
ＤＣＭ（７０ｍＬ）中の３４．９（３．５０ｇ、９．３４ｍｍｏｌ）の溶液に、デス・マーチン試薬（９．８８ｇ、２３．２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４０℃で４時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（４０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＤＣＭ（３×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３４．１０（３．４７ｇ、組製）を得、これをさらに精製することなく次のステップに使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３７－５．３０（ｍ，１Ｈ），５．０７－４．９５（ｍ，２Ｈ），３．３２－３．１９（ｍ，１Ｈ），３．３２－３．１９（ｍ，１Ｈ），２．８６－２．７９（ｍ，１Ｈ），２．６２－２．４３（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２４（ｍ，２Ｈ），２．２１－２．０７（ｍ，４Ｈ），１．８７－１．７８（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．４６（ｍ，４Ｈ），１．３６－１．２６（ｍ，１１Ｈ），０．８８－０．８５（ｍ，３Ｈ）。
３４．１１の合成
－７０℃で、ＬＤＡ（ＴＨＦ４０ｍＬ中４６．５ｍｍｏｌ）溶液を、ＴＨＦ（８０ｍＬ）中の３４．１０（３．４７ｇ、９．３１ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（５．８８ｇ、４６．５ｍｍｏｌ、９０％）の撹拌溶液に添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、ＴＨＦ（１５ｍＬ）中のＨＯＡｃ（２．６５ｍＬ、１５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２０℃に１６時間温めた。水（３０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×６０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．１１（１．３０ｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４５－５．２２（ｍ，１Ｈ），５．０７－４．９８（ｍ，１Ｈ），４．３５－４．１８（ｍ，２Ｈ），３．６９－３．０４（ｍ，１Ｈ），２．６９－２．５７（ｍ，１Ｈ），２．４４－２．３４（ｍ，１Ｈ），２．３２－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．２０－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．９５（ｍ，４Ｈ），１．９２－１．６７（ｍ，４Ｈ），１．５８－１．４６（ｍ，５Ｈ），１．３７－１．２３（ｍ，１０Ｈ），１．１４－０．９１（ｍ，７Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３４．１２及び３４．１２ａの合成
ＤＭＥ（５０ｍＬ）中の３４．１１（１．３０ｇ、粗製）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（８０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を一度に添加した。混合物を３０℃で１２時間撹拌した。混合物をＨ２Ｏ（４０ｍＬ）で処理し、次いでＥｔＯＡｃ（３×６０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３４．１２及び３４．１２ａ（１．２０ｇ、粗製）の混合物を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １２．７９－１２．５９（ｍ，１Ｈ），５．６６－５．５３（ｍ，１Ｈ），５．０７－４．９７（ｍ，１Ｈ），４．２７－４．０４（ｍ，２Ｈ），３．５７－３．１４（ｍ，１Ｈ），３．０２－２．６０（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．０７（ｍ，３Ｈ），２．０４－１．９７（ｍ，４Ｈ），１．８９－１．６７（ｍ，３Ｈ），１．６６－１．６１（ｍ，１Ｈ），１．５６－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．３３－１．２３（ｍ，９Ｈ），１．１８－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．０１－０．９４（ｍ，３Ｈ），０．９０－０．８１（ｍ，３Ｈ）。
３４．１３及び３４．１３ａの合成
ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）及びＨ２Ｏ（５ｍＬ）及びＴＨＦ（１０ｍＬ）中の３４．１２及び３４．１２ａ（１．２０ｇ、２．６１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＯＨ（６２３ｍｇ、１５．６ｍｍｏｌ）を添加した。反応物を６５℃で１時間撹拌し、次いで飽和ブライン（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をＨＣｌ（１Ｍ、１００ｍＬ）、飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）及びブライン（１００ｍＬ）で洗浄した。有機溶液を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．１３及び３４．１３ａ（４３０ｍｇ、５２．７％）の混合物を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．６４－５．５１（ｍ，１Ｈ），３．９１－３．８１（ｍ，１Ｈ），３．３１－２．７７（ｍ，１Ｈ），２．６５－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．４４－２．２８（ｍ，２Ｈ），２．２３－２．１２（ｍ，２Ｈ），２．０４（ｓ，１Ｈ），１．９５－１．８６（ｍ，１Ｈ），１．７６－１．６９（ｍ，１Ｈ），１．６２－１．５０（ｍ，６Ｈ），１．４２－１．０７（ｍ，１２Ｈ），１．０３－０．９３（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．８０（ｍ，３Ｈ）。
３４．１４及び３４．１４ａの合成
０℃で、ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の３４．１３及び３４．１３ａ（４８０ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（６００ｍｇ）及びＰＣＣ（５９９ｍｇ、２．７８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を濃縮し、次いでフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４．１４及び３４．１４ａ（４２０ｍｇ、混合物）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ＊１０ｕｍ）、Ａ；ＣＯ２；Ｂ：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；勾配：３０～３０％、流速：７０ｍＬ／分）によって分離して、３４．１４（１６０ｍｇ、３８％）及び３４．１４ａ（２００ｍｇ、４８％）を得た。３４．１４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．６０－５．５５（ｍ，１Ｈ），２．６６－２．５８（ｍ，１Ｈ），２．４９－２．４１（ｍ，２Ｈ），２．４０－２．２３（ｍ，５Ｈ），２．２２－２．１３（ｍ，４Ｈ），２．０９－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．７８－１．７２（ｍ，２Ｈ），１．６７－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．５８－１．５６（ｍ，１Ｈ），１．３６－１．１８（ｍ，７Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．６５（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。３４．１４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ５．６０－５．５２（ｍ，１Ｈ），３．２９－３．２０（ｍ，１Ｈ），２．８７－２．７８（ｍ，１Ｈ），２．６４－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．３９－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．１７（ｍ，５Ｈ），２．１３－２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．８３（ｍ，１Ｈ），１．７１－１．５８ （ｍ， ６Ｈ），１．５６－１．５０（ｍ，２Ｈ），１．３５－１．１８（ｍ，７Ｈ），０．９８（ｓ，３Ｈ），０．６６（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３４の合成
－７０℃で、新たに調製したＭＡＤ（２．５ｍＬのトルエン中２．３３ｍｍｏｌ）溶液に、ＤＣＭ（２ｍＬ）中の３４．１４（２００ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。－７０ ℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（０．７７６ｍＬ、２．３３ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに５時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３４（１６０ｍｇ、７７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４９－５．４３（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．４２（ｍ，１Ｈ），２．３７－２．２０（ｍ，５Ｈ），２．０８－１．８６（ｍ，４Ｈ），１．７７－１．６２（ｍ，４Ｈ），１．６０－１．５２（ｍ，２Ｈ），１．５１－１．３７（ｍ，３Ｈ），１．３４－１．１７（ｍ，１２Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．６４（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％；Ｃ２４Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４１．３，実測値３４１．３。
３５．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の３４（１３０ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（３．００ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（１４４ｍｇ、０．９１ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３５．１（２００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．１０－３．９７（ｍ，３Ｈ），２．７７（ｔ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．２９－２．２３（ｍ，２Ｈ），１．９７－１．８８（ｍ，３Ｈ），１．７０－１．６２（ｍ，５Ｈ），１．４６－１．３８（ｍ，３Ｈ），１．２９－１．２２（ｍ，１０Ｈ），１．１５－１．１１（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．８３（ｍ，２Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３５．２の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の３５．１（２００ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（１０６ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４３．２ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌して、黄色の混合物を得た。反応物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～４５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３５．２（１００ｍｇ、４９．０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１６（ｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０８（ｄ，Ｊ＝２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５５－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２０（ｍ，３Ｈ），２．１０－１．８５（ｍ，４Ｈ），１．７６－１．６３（ｍ，５Ｈ），１．５０－１．４０（ｍ，２Ｈ），１．３４－１．２２（ｍ，８Ｈ），１．１９－１．１１（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．８３（ｍ，３Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
３５の合成
ＡｃＯＨ（２０ｍＬ）及び水（１ｍＬ）中の３５．２（１００ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）の溶液に、亜鉛（２．４７ｇ、３７．８ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を室温で１６時間撹拌し、白色の懸濁液を得た。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（８０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーによって精製して、生成物３５（６０．０ｍｇ、粗製）を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７２；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：９．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、純粋な生成物３５（４３．５ｍｇ、５１．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．４７（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１７（ｄ，Ｊ＝１８．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１８．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５３－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２６（ｍ，２Ｈ），２．０９－１．８４（ｍ，４Ｈ），１．７７－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．３６（ｍ，４Ｈ），１．３３－１．２０（ｍ，１１Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％；Ｃ２８Ｈ３８Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３２．３，実測値４３２．３。
実施例３６：１－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エテノン（３６）の合成
Figure 2022538300000389
 ３６．２の合成
冷却した（－７８℃）ＬＤＡ溶液（１４５ｍｍｏｌ、ＴＨＦ中１Ｍ）を、ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中の３６．１（５．０ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１６．５ｇ、１４５ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌した。ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（８．７０ｇ、１４５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃に温め、１６時間撹拌した。水（３００ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃで抽出した（３×１５０ｍＬ）。合わせた有機層を飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して生成物３６．２（２０．０ｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。
３６．３ａ及び３６．３ｂの合成
ＤＭＥ（１５０ｍＬ）中３６．２（２０．０ｇ、３９．７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（３５０ｍｇ、０．７９４ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌し、褐色の溶液を得た。反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗製の混合物生成物３６．３ａ及び３６．３ｂ（１１．０ｇ、不純）を得た。
３６．４ａ及び３６．４ｂの合成
ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）中の３６．３ａ及び３６．３ｂ（１１．０ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）及びＮａＯＨ（７．８４ｇ、１９６ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を６０℃で１６時間撹拌して、黄色の混合物を得た。冷却後、Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．４ａ及び３６．４ｂ（２．６ｇ）の混合物を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）；移動相：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；勾配：２０％～２０％のＢ、流速（ｍｌ／分）：１８０）によって分離して、３６．４ａ（１．０ｇ、１３．４％）及び３６．４ｂ（１．０ｇ、１３．４％）を得た。３６．４ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ３．１１－２．８６（ｍ，１Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．５３－２．３１（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．９１（ｍ，４Ｈ），１．８５－１．４８（ｍ，１２Ｈ），１．４３－１．１７（ｍ，５Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８４（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，ａｎｌｙｔｉｃ ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；ＭＳ ＥＳＩ Ｃ２０Ｈ３０Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対する計算値３０３．２，実測値３０３．２。３６．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ２．６８－２．３８（ｍ，４Ｈ），２．３６－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．５８（ｍ，１３Ｈ），１．５６－１．１３（ｍ，６Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），１．０９－０．８５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，ａｎｌｙｔｉｃ ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；Ｃ２０Ｈ３０Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８５．２，実測値２８５．２。
３６．５の合成
－７０℃で、新たに調製したＭＡＤ（１４．８ｍｍｏｌ、１５ｍＬのトルエン中）溶液に、ＤＣＭ（１５ｍＬ）中の３６．４ｂ（１．５０ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＥｔＭｇＢｒ（６．６０ｍＬ、１９．８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物をクエン酸（５０ｍＬ、２０％）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．５（３００ｍｇ、１８．２％）を得た。３６．５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６６－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．４５－２．３５（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．９８（ｍ，２Ｈ），１．８６－１．６６（ｍ，４Ｈ），１．６５－１．５５（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．１２（ｍ，１２Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），１．０５（ｓ，１Ｈ），１．０３～０．９４（ｍ，１Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．８６－０．７４（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１５．３，実測値３１５．３。
３６．６の合成
ＴＨＦ（１１ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（４．１９ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．２６ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を４０ ℃で１時間撹拌した。３６．５（６３０ｍｇ、１．８９ｍｍｏｌ）を少量ずつ添加し、反応混合物を６５℃で１６時間撹拌した。冷却後、反応物を１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）でクエンチした。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、３６．６（３８０ｍｇ、５８．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１－５．１１（ｍ，１Ｈ），２．５４－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．０７（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６８（ｍ，１０Ｈ），１．６１－１．５６（ｍ，９Ｈ），１．５１－１．３０（ｍ，７Ｈ），１．１９－０．９９（ｍ，５Ｈ），０．９４－０．８８（ｍ，６Ｈ）。
３６．７の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の３６．６（３８０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（９９０μＬ、１０Ｍ、９．９０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を１５℃で１６時間撹拌した。混合物にＥｔＯＨ（３．１６ｍＬ、５５．０ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ（１１ｍＬの水中２．２０ｇ、５Ｍ、５５．０ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（５．５ｍＬ、１０Ｍ、５５．０ｍｍｏｌ）を滴加した。混合物を加熱し、７８℃で２時間撹拌した。反応物を冷却し、Ｎａ２Ｓ２ＳＯ３（３０ｍＬ、１０％）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３６．７（２７２ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３４－４．０３（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．５３（ｍ，１３Ｈ），１．５３－１．３７（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．２０（ｍ，７Ｈ），１．１８－１．０２（ｍ，５Ｈ），１．０１－０．９８（ｍ，２Ｈ），０．９７－０．８７（ｍ，６Ｈ），０．８６－０．８１（ｍ，１Ｈ），０．７８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
３６及び３６ａの合成
０℃で、ＤＣＭ（６ｍＬ）中の３６．７（１７０ｍｇ、４６８μｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２０１ｍｇ）及びＰＣＣ（２０１ｍｇ、９３６μｍｏｌ）を添加した。混合物を１０℃で０．５時間撹拌し、次いでＰＥ（３ｍＬ）を添加した。得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×６ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中のＥｔＯＡｃの０～２０％）によって精製して、３６（６５．０ｍｇ、３８．６％）及び３６ａ（６５．０ｍｇ、３８．６％）を得た。３６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），１．８５－１．７６（ｍ，４Ｈ），１．７５－１．６９（ｍ，３Ｈ），１．６９－１．５６（ｍ，５Ｈ），１．５１－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．３４－１．１８（ｍ，６Ｈ），１．１５－１．０２（ｍ，３Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８３（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３９Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。３６ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３４－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８６－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７６－１．６５（ｍ，５Ｈ），１．６２－１．５６（ｍ，３Ｈ），１．５１－１．３８（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．２０（ｍ，６Ｈ），１．１５－１．１１（ｍ，１Ｈ），１．０６－０．９４（ｍ，４Ｈ），０．９４－０．９０（ｍ，６Ｈ），０．８９－０．８０（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３９Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
実施例３７及び３８及び３９：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタノン（３７）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３８）の合成及び１－（（２－（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３９）の合成
Figure 2022538300000390
 ３７．２の合成
冷却した（－７０℃）ＬＤＡ溶液（１３８ｍｍｏｌ）を、－７０℃でＴＨＦ（３００ｍＬ）中の３７．１（５．００ｇ、１７．３ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１５．７ｇ、１３８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（８．２８ｇ、１３８ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、混合物を室温に温め、さらに１６時間撹拌した。水（８００ｍＬ）及びＰＥ（２００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水相をＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物３７．２（９．５０ｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。
３７．３及び３７．３ａの合成
ＤＭＥ（１５０ｍＬ）中の３７．２（９．５０ｇ、１８．３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（１６１ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌し、褐色の溶液を得た。反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗製の混合物生成物３７．３及び３７．３ａ（８．５０ｇ、不純）を得た。
３７．４及び３７．４ａの合成
ＭｅＯＨ（１６０ｍＬ）中の３７．３及び３７．３ａ（８．００ｇ、１７．３ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（６０ｍＬ）及びＮａＯＨ（５．５２ｇ、１３８ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を６０℃で１６時間撹拌して、黄色の混合物を得た。反応混合物を濃縮し、Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）を添加した。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、混合物生成物３７．４及び３７．４ａ（３．９０ｇ）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ、１０ｕｍ）；条件：ＣＯ２、０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：２５；終了Ｂ：２５）によってさらに精製して、生成物３７．４ａ（１．０ｇ、１８．５％）をオフホワイトの固体として得、及び生成物３７．４（２．２ｇ、４０．７％）を得た。３７．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．５３－２．３８（ｍ，３Ｈ），２．３４－２．１５（ｍ，２Ｈ），２．１１－２．０４（ｍ，２Ｈ），１．９５－１．６４（ｍ，６Ｈ），１．６３－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．２３－１．１７（ｍ，１Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０１（ｓ，３Ｈ），０．９９－０．８７（ｍ，１Ｈ）。３７．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．０３（ｔ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．６９－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．４９－２．３２（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．０９－２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６５（ｍ，８Ｈ），１．６０－１．４３（ｍ，６Ｈ），１．３９－１．２１（ｍ，５Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．７７（ｍ，１Ｈ）。
３７．５の合成
トルエン（１００ｍＬ）中の新たに調製したＭＡＤ（９．４５ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃に冷却し、次いでＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３７．４（１．００ｇ、３．１５ｍｍｏｌ）に－７０℃で滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＥｔＭｇＢｒ（３．１５ｍＬ、９．４５ｍｍｏｌ）を滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３７．５（５００ｍｇ、４６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．０９－２．０１（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．５８（ｍ，９Ｈ），１．５４－１．２６（ｍ，９Ｈ），１．２５－１．０９（ｍ，６Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ），１．０４－０．９６（ｍ，１Ｈ），０．９４－０．７７（ｍ，７Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。
３７．６の合成
無水ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（３．８２ｇ、１０．３ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．１５ｇ、１０．３ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６０℃で３０分間撹拌した。無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の３７．５（６００ｍｇ、１．７３ｍｍｏｌ）の溶液を滴加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３７．６（６００ｍｇ、粗製）を得た。
３７．７の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の３７．６（５００ｍｇ、１．３９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（０．４１７ｍＬ、１０Ｍ、４．１７ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４５℃で１時間撹拌した。１５℃で冷却した後、エタノール（９６５ｍｇ、２０．８ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ水溶液（４．１６ｍＬ、５．０Ｍ、２０．８ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（２．０８ｍＬ、１０Ｍ、２０．８ｍｍｏｌ）を１５℃で滴加し、次いで反応混合物を７８℃に１時間加熱した。冷却後、混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２ ×５０ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和ブライン（２×２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、濃縮して、３７．７（５００ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １．９５－１．８９（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．６２（ｍ，９Ｈ），１．５１－１．２８（ｍ，１３Ｈ），１．１７－１．０２（ｍ，８Ｈ），０．８８－０．７４（ｍ，１３Ｈ）。
３７．８の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の３７．７（５００ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＣＣ（７０９ｍｇ、３．３０ｍｍｏｌ）及びシリカゲル（８００ｍｇ）を添加した。混合物を２５℃で１時間撹拌し、次いで濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３７．８（２００ｍｇ、４０．４％）を得た。
３７の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中３７．８（５０．０ｍｇ、０．１３３ｍｍｏｌ）及びＭｅＯＮａ（７１．８ｍｇ、１．３３ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で２日間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍｌ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍｌ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４で駆動し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３７（１３．１ｍｇ、２６．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２９（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．９１－１．５８（ｍ，１１Ｈ），１．５３－１．３３（ｍ，８Ｈ），１．３２－１．１５（ｍ，Ｊ＝１３．１ Ｈｚ，９Ｈ），０．９２－０．８３（ｍ，１０Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３，実測値３５７．３。
３８．２の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の３７．８（２００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（２１．１ｍｇ、０．１０６ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（９３．７ｍｇ、０．５８６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、３８．２（１５０ｍｇ、組製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０１－３．８６（ｍ，２Ｈ），２．７４－２．４８（ｍ，２Ｈ），１．９８－１．６２（ｍ，５Ｈ），１．４９－１．３０（ｍ，１１Ｈ），１．２９－１．０５（ｍ，１１Ｈ），０．９５－０．８５（ｍ，１０Ｈ）。
３８及び３９の合成
アセトン（５ｍＬ）中の３８．２（１５０ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（９１．０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３６．８ｍｇ、０．３９６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた抽出物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物３９（２０．０ｍｇ、不純）及び３８（９．５０ｍｇ、６．２％）を得た。不純な生成物３９（２０．０ｍｇ）を、ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ）；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７５％；終了Ｂ：１００％；）によってさらに精製して、３９（５．５０ｍｇ、３．６％）を得た。３８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１１－４．８６（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２８（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．６６（ｍ，９Ｈ），１．４８－１．２７（ｍ，１０Ｈ），１．２７－１．０１（ｍ，１２Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３、実測値４４８．３。３９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｓ，１Ｈ），５．０７－４．８５（ｍ，２Ｈ），２．５１－２．３８（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．５６（ｍ，９Ｈ），１．５３－１．２３（ｍ，１２Ｈ），１．２１－１．０４（ｍ，５Ｈ），０．９８（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．８５（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９５％、Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３、実測値４４８．３。
実施例４０：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピロール－３－カルボニトリル（４０）の合成
Figure 2022538300000391
 ４０．２の合成
ＬＤＡ溶液（３４６ｍｍｏｌ）を－７０℃に冷却し、ＴＨＦ（５００ｍＬ）中の４０．１（２０．０ｇ、６９．３ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３９．４ｇ、３４６ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。－７０℃で３時間撹拌した後、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（２０．７ｇ、３４６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２０℃に１６時間温めた。水（８００ｍＬ）及びＰＥ（２００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水相をＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物４０．２（５２．０ｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。
４０．３ａ及び４０．３ｂの合成
ＤＭＥ（４００ｍＬ）中の４０．２（５２．０ｇ、１００ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（８８３ｍｇ、２ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１６時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物４０．３ａ及び４０．３ｂ（３６．５ｇ、７９．２％）の不純な混合物を得、これを次のステップで直接使用した。
４０．４ａ及び４４．４ｂの合成
ＭｅＯＨ（２００ｍＬ）中の４０．３ａ及び４０．３ｂ（３６．５ｇ、７９．２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｈ２Ｏ（２０ｍＬ）及びＮａＯＨ（２５．３ｇ、６３３ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を６０℃で１６時間撹拌して、黄色の混合物を得た。反応混合物を濃縮し、次いでＨ２Ｏ（５００ｍＬ）を添加した。混合物をＥｔＯＡｃ（２×５００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相をＨＣｌ（５００ｍＬ、１Ｍ）飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、ＥｔＯＡｃ／ＰＥ（１０／１、１６５ｍＬ）から粉砕し、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ＊１０μｍ）；条件：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；開始Ｂ：３５％；終了Ｂ：３５％；流速（ｍｌ／分）：２００；注入：３００）によって精製して、４０．４ａ（６．５０ｇ、２６．４％）及び４０．４ｂ（６．００ｇ、２４．４％）を得た。４０．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６５－２．４２（ｍ，４Ｈ），２．３６－２．２７（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．０８－１．９７（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．６７（ｍ，５Ｈ），１．５１－１．１５（ｍ，１１Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．８３（ｍ，１Ｈ），０．８０－０．７０（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％，Ｃ２１Ｈ３３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋ ３１７．３に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１７．３、実測値３１７．３、Ｃ２１Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２９９．２、実測値２９９．２。４０．４ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．８５－２．７５（ｍ，１Ｈ），２．６８－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．５１－２．３１（ｍ，２Ｈ），２．２４－２．１６（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５３－１．１１（ｍ，９Ｈ），１．０８（ｓ，３Ｈ），１．０７－０．９０（ｍ，１Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．８１～０．７３（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％，Ｃ２１Ｈ３３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１７．３、実測値３１７．３、Ｃ２１Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２９９．２、２９９．２。
４０．５の合成
０℃で、ＴＨＦ（４０ｍＬ）中の４０．４ｂ（４．００ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（５．８６ｍＬ、１７．６ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．５（１．７０ｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６８－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．０８－１．６５（ｍ，９Ｈ），１．５５－１．２３（ｍ，１１Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ），１．０４－０．７９（ｍ，５Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ）。
４０．６の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＰＰｈ３ＥｔＢｒ（１３．３ｇ、３６ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４．０３ｇ、３６ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を６０℃で０．５時間撹拌した。ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４０．５（２．００ｇ、６．０１ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、反応混合物を６０℃でさらに１２時間撹拌した。混合物を飽和ＭＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．６（１．５０ｇ、７２．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２１－５．０７（ｍ，１Ｈ），２．２１－１．５８（ｍ，１３Ｈ），１．５０－１．２４（ｍ，７Ｈ），１．２３－１．０３（ｍ，１０Ｈ），０．９３－０．６６（ｍ，９Ｈ）。
４０．７の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の４０．６（１．５０ｇ、４．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（１．７３ｍＬ、１０Ｍ、１７．３０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、エタノール（２．５５ｍＬ）、続いてＮａＯＨ水溶液（８．６８ｍＬ、５．０Ｍ、４３．４ｍｍｏｌ）を添加した。過酸化水素（４．３４ｍＬ、１０Ｍ、４３．４ｍｍｏｌ）を０℃で滴加し、反応混合物を７０℃で１時間撹拌した。１５℃で冷却した後、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．７（１．８０ｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３３－４．０３（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．４８（ｍ，１２Ｈ），１．３７－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．８１（ｍ，１０Ｈ），０．８０－０．６９（ｍ，６Ｈ）。
４０．８の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の４０．７（１．７０ｇ、４．６８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＣＣ（２．０１ｇ、９．３６ｍｍｏｌ）及びシリカゲル（２．０１ｇ）を添加した。２５℃で０．５時間撹拌した後、混合物を濾過し、濾過ケーキをＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．８（１．１０ｇ、６５．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４５（ｄ，Ｊ＝５．２ Ｈｚ，０．５Ｈ）、２．３０－２．２３（ｍ，０．５Ｈ）、２．１５－２．０８（ｍ，３Ｈ），１．９０－１．６７（ｍ，６Ｈ），１．５８－１．２０（ｍ，１６Ｈ），１．１７（ｄ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ，３Ｈ），１．１３－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．９１－０．８８（ｍ，３Ｈ），０．８７－０．７４（ｍ，３Ｈ），０．７２（ｄ，Ｊ＝１．８ Ｈｚ，２Ｈ）。
４０．９の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中４０．８（９００ｍｇ、２．４９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（２．６９ｇ、４９．８ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を８０℃で４８時間撹拌した。残渣を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中１５～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０．９（９００ｍｇ、１００％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３１－２．２２（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．１１（ｍ，３Ｈ），１．９５－１．５７（ｍ，１１Ｈ），１．５０－１．１６（ｍ，１３Ｈ），０．９８－０．７０（ｍ，１２Ｈ）。
４０．１０の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の４０．９（２００ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（２２．４ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（１０６ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１時間撹拌した後、反応物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４０．１０（２５０ｍｇ、組製）を得、これを次のステップに直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０１－３．８７（ｍ，２Ｈ），２．７０－２．５１（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．６８（ｍ，７Ｈ），１．５１－１．２１（ｍ，１３Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．０３－０．９４（ｍ，３Ｈ），０．９３－０．９１（ｍ，３Ｈ），０．８８－０．７６（ｍ，４Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。
４０の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の４０．１０（２５０ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（７９．４ｍｇ、０．８５ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（７９．７ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で１６時間撹拌した後、水（５０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４０（１１２．１ｍｇ、４３．７％）を得た。４０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），５．０７－４．９１（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２７（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．１７（ｍ，１４Ｈ），１．０２－０．７１（ｍ，１２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％；Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例４１：１－（３－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－３－オキソプロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４１）の合成
Figure 2022538300000392
 ４１．１の合成
Ｂｒ２（１．５５ｇ、９．７ｍｍｏｌ）をＮａＯＨ（２．３２ｇ、１１．６ｍＬ、５８．１ｍｍｏｌ、５Ｍ）の溶液に添加した。混合物を２５℃で２０分間撹拌し、ジオキサン（２０ｍＬ）及び水（５ｍＬ）中の４０．８（７００ｍｇ、１．９４ｍｍｏｌ）の溶液に添加した。室温で１６時間撹拌した後、得られた混合物をＮａ２ＳＯ３水溶液（３０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いで７０℃で１時間撹拌した。冷却後、混合物をＨＣｌ（水中１Ｍ、５０ｍＬ）で酸性化し、室温で１０分間撹拌した。沈殿した固体を濾別し、水（２×５０ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、４１．１（６３０ｍｇ、８９．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＤＭＳＯ）δＨ ４．０５－３．９２（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．８８（ｍ，１Ｈ），１．７２－１．４２（ｍ，１２Ｈ），１．３３－１．１０（ｍ，９Ｈ），１．０３（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８６（ｍ，２Ｈ），０．８３（ｓ，３Ｈ），０．８０－０．７０（ｍ，４Ｈ），０．６８（ｓ，３Ｈ）。
４１．２の合成
ＤＭＦ（２０ｍＬ）中の４１．１（６３０ｍｇ、１．７３ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（６７４ｍｇ、６．９２ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（１．３１ｇ、３．４６ｍｍｏｌ）及びＴＥＡ（２．３９ｍＬ、１７．３ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌した後、水（３０ｍＬ）を添加した。混合物を、酢酸エチル（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を、水（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．２（３７０ｍｇ、５２．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．７２－３．６２（ｍ，３Ｈ），３．２２－３．１３（ｍ，３Ｈ），１．９６－１．６３（ｍ，８Ｈ），１．５５－１．２１（ｍ，１４Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．９７－０．７７（ｍ，６Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。
４１．３の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の４１．２（２７０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）の溶液に、臭化ビニルマグネシウム（９．５ｍＬ、０．７Ｍ、６．６５ｍｍｏｌ）を添加した。室温で１２時間撹拌した後、１０％ ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍｌ）を添加し、懸濁液をＥＡ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ＮａＣｌ（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をコンビフラッシュ（ｃｏｍｂｉ－ｆｌａｓｈ（登録商標））（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４１．３（１００ｍｇ、不純）を得、これを次のステップに直接使用した。
４１及び４１ａの合成
ＤＭＳＯ（５ｍＬ）中の４１．３（１００ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（６５．１ｍｇ、０．８０ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４９．９ｍｇ、０．５４ｍｍｏｌ）の溶液を７０℃で１６時間撹拌した。混合物を飽和ブライン（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｗｅｌｃｈ Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ；条件：水（０．２２５％ ＴＦＡ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：５８；終了Ｂ：８８；勾配時間（分）：８．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２；流速（ｍｌ／分）：３０；注入：７）によって精製して、４１（２．４０ｍｇ、１．９３％）を得た。４１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．４３－４．３１（ｍ，２Ｈ），３．０７－２．９４（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６９（ｍ，６Ｈ），１．３７－１．２１（ｍ，７Ｈ），１．２０－０．８８（ｍ，１５Ｈ），０．８２（ｓ，３Ｈ），０．８０－０．７４（ｍ，２Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％；Ｃ２９Ｈ４４Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４６６．３，実測値４６６．３；Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
実施例４２：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－エチル－８－ヒドロキシ－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４２）の合成
Figure 2022538300000393
 ４２．１の合成
０℃で、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４０．４ｂ（２．５０ｇ、７．８９ｍｍｏｌ）の混合物に、ＥｔＭｇＢｒ（３．９３ｍｌ、１１．８ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加し、混合物を２５℃で１６時間撹拌した。ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２．１（７３０ｍｇ、２６．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．０９－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５０－１．０９（ｍ，１５Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ），１．００－０．７９（ｍ，６Ｈ），０．７５（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ ３０－９０ＡＢ＿２分＿Ｅ，純度＞９９％，Ｃ２３Ｈ３８Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３９２．３。
４２．２の合成
ＴＨＦ（１７ｍｌ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（４．７１ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．４２ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。次いで、得られた混合物を５０℃で４５分間撹拌した。ＴＨＦ（２ｍｌ）中の４２．１（７４０ｍｇ、２．１３ｍｏｌ）を、５０℃未満で少量ずつ添加し、反応混合物を５０℃でさらに１２時間撹拌した。反応物を１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍｌ）でクエンチし、層を分離した。水溶液をＥｔＯＡｃ（５０ｍｌ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２．２（３９０ｍｇ、５１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２３－５．０３（ｍ，１Ｈ），２．５６－２．４１（ｍ，１Ｈ），２．２６－１．９７（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６９（ｍ，７Ｈ），１．６６－１．５７（ｍ，５Ｈ），１．５４－１．０２（ｍ，１６Ｈ），０．９７－０．８７（ｍ，６Ｈ），０．８０－０．６９（ｍ，５Ｈ）。
４２．３の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の４２．２（３９０ｍｇ、１．０８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（５４０μＬ、１０Ｍ、５．４０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２０時間撹拌した。混合物を０℃に冷却した後、エタノール（９４３μＬ、１６．２ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ水溶液（３．２３ｍＬ、５．０Ｍ、１６．２ｍｍｏｌ）を添加した。過酸化水素（１．６１ｍＬ、１０Ｍ、１６．２ｍｍｏｌ）を滴加し、次いで反応混合物を７０℃で１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２０ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を、飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４２．３（３６０ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３６－３．９９（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．５５－１．３７（ｍ，６Ｈ），１．３７－１．０１（ｍ，１４Ｈ），１．００－０．８３（ｍ，８Ｈ），０．８２－０．６５（ｍ，６Ｈ）。
４２．４の合成
ＤＣＭ（４ｍＬ）中の４２．３（３６０ｍｇ、０．９６ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でシリカゲル（４１０ｍｇ）及びＰＣＣ（４０８ｍｇ、１．９０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。ＰＥ（３０ｍＬ）を添加し、得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２．４（７０．０ｍｇ、１９．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３３－２．２１（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），１．９２－１．６３（ｍ，８Ｈ），１．５０－１．４０（ｍ，５Ｈ），１．３６－１．１４（ｍ，１０Ｈ），０．９４－０．８６（ｍ，９Ｈ），０．８３－０．７４（ｍ，３Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。
４２．５の合成
ＭｅＯＨ（１ｍＬ）中の４２．４（７０．０ｍｇ、１８６μｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（７．４２ｍｇ、３７．２μｍｏｌ、４０％）及びＢｒ２（３２．５ｍｇ、２０４μｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で４時間撹拌した。反応混合物にＮａＨＣＯ３（１０ｍｌ、飽和水溶液）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（２×３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２．５（４６．０ｍｇ、５４．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９６－３．８７（ｍ，２Ｈ），３．１５－３．０２（ｍ，１Ｈ），２．６２－２．４８（ｍ，１Ｈ），２．０４（ｓ，１Ｈ），１．８９－１．５９（ｍ，１１Ｈ），１．３８－１．１３（ｍ，１３Ｈ），０．９６－０．８８（ｍ，６Ｈ），０．８３－０．７５（ｍ，４Ｈ），０．７３－０．７１（ｍ，２Ｈ）。
４２の合成
アセトン（５ｍＬ）中の４２．５（４６．０ｍｇ、１０１μｍｏｌ）の溶液に、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１４．０ｍｇ、１５１μｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（４１．８ｍｇ、３０３μｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を、水（２０ｍＬ）で処理し、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４２（２．０ｍｇ、４．２５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０８－４．９１（ｍ，２Ｈ），２．３１（ｄｄ，Ｊ＝１２．８、３．６ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．７０（ｍ，６Ｈ），１．６８－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．４７－１．３９（ｍ，３Ｈ），１．３３－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．０８（ｓ，１Ｈ），０．９７（ｓ，１Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８７（ｍ，４Ｈ），０．８４－０．７６（ｍ，３Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２９Ｈ４３Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
実施例４３：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－（メトキシメチル）－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４３）の合成
Figure 2022538300000394
 ４３．２の合成
ＤＭＳＯ（１０ｍＬ）中のＭｅ３ＳＯＩ（８３１ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４２３ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を６０℃で１時間撹拌した。室温に冷却した後、４０．４ｂ（１．００ｇ、３．２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応混合物を撹拌しながら水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、得られた懸濁液を濾過した。濾過ケーキを水（２×２０ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、４３．２（１．６０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７５－２．８５（ｍ，１Ｈ）２．５７－２．６７（ｍ，２Ｈ）２．３１－２．４９（ｍ，２Ｈ）２．０６－２．２２（ｍ，２Ｈ）１．６１－１．９８（ｍ，９Ｈ）１．３２－１．４９（ｍ，６Ｈ）１．１２－１．２２（ｍ，２Ｈ）１．０７－１．０９（ｍ，３Ｈ）０．８９－１．０６（ｍ，２Ｈ）０．８７（ｓ，３Ｈ）０．７３－０．８１（ｍ，２Ｈ）。
４３．３の合成
Ｎａ（７６３ｍｇ、３３．２ｍｍｏｌ）を少量ずつ数回に分けてＭｅＯＨ（２０ｍＬ）に添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の４３．２（１．１０ｇ、３．３２ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、混合物を温め、６０℃で１６時間撹拌した。冷却後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４３．３（７９０ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３６－３．３８（ｍ，３Ｈ）３．１３－３．２０（ｍ，２Ｈ）２．５５－２．６７（ｍ，１Ｈ）２．１２－２．２２（ｍ，２Ｈ）１．６４－１．８７（ｍ，１０Ｈ）１．３０－１．４２（ｍ，５Ｈ）１．１０－１．２２（ｍ，４Ｈ）１．０７（ｓ，３Ｈ）０．７８－０．９７（ｍ，５Ｈ）０．７１－０．７５（ｍ，３Ｈ）。
４３．４の合成
ＴＨＦ（２５ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（１２．１ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（３．６６ｇ、３２．７ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を６０℃で３０分間撹拌した。４３．３（１．９８ｇ、５．５ｍｍｏｌ）を分量で添加し、反応混合物を６０℃で１６時間撹拌した。黄色の懸濁液を冷却し、１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ／Ｈ２Ｏ（１：１、５０ｍＬ）で還流下で粉砕することによって精製して、４３．４（２．５０ｇ、粗製）を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、４３．４（７００ｍｇ、２８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１０－５．２１（ｍ，１Ｈ）３．３５－３．４３（ｍ，３Ｈ）３．０９－３．２６（ｍ，２Ｈ）２．４９（ｍ，１Ｈ）２．１２－２．１７（ｍ，１Ｈ）１．５６－２．０１（ｍ，１４Ｈ）１．２９－１．５４（ｍ，７Ｈ）１．０４－１．２２（ｍ，５Ｈ）１．０３（ｓ，１Ｈ）０．９０（ｓ，２Ｈ）０．７７－０．８４（ｍ，２Ｈ）０．７２－０．７６（ｍ，３Ｈ）。
４３．５の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の４３．４（７００ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（１．８６ｍＬ、１０Ｍ、１８．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。反応物を０℃に冷却し、ＥｔＯＨ（５．４２ｍＬ、９３．０ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ（１８．５ｍＬ、５．０Ｍ、９３．０ｍｍｏｌ）を添加した。内部温度を１５℃未満に保ちながら、Ｈ２Ｏ２（９．２９ｍＬ、９３．０ｍｍｏｌ、水中３０％）を滴加した。次いで、混合物を７０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を冷却し、水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ）、ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４３．５（１．００ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３２－３．４４（ｍ，３Ｈ）３．１１－３．２７（ｍ，２Ｈ）２．９９（ｓ，１Ｈ）１．７２－１．８９（ｍ，５Ｈ）１．３０－１．４９（ｍ，７Ｈ）０．９４－１．２０（ｍ，１２Ｈ）０．７１－０．９３（ｍ，１４Ｈ）。
４３．６の合成
０℃で、ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の４３．５（１．００ｇ、２．５ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（８２１ｍｇ）及びＰＣＣ（８０８ｍｇ、３．７５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で１時間撹拌し、ＰＥ（５ｍＬ）を添加した。得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲル上のカラムクロマトグラフィー（ＰＥ中６％～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４３．６（２２０ｍｇ、２２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３６－３．４０（ｍ，３Ｈ）３．１１－３．２５（ｍ，２Ｈ）２．２４－２．４７（ｍ，１Ｈ）２．１１－２．１４（ｍ，３Ｈ）１．５８－１．８５（ｍ，１０Ｈ）１．２８－１．５７（ｍ，８Ｈ）０．９１－１．２３（ｍ，６Ｈ）０．９０（ｓ，３Ｈ）０．７５－０．８７（ｍ，３Ｈ）０．７２（ｓ，３Ｈ）。
４３．７の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１５ｍＬ）中の４３．６（２２０ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（６０５ｍｇ、１１．２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を８０℃で１６時間撹拌した。冷却後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４３．７（１８０ｍｇ、８２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３５－３．４１（ｍ，３Ｈ）３．１０－３．２５（ｍ，２Ｈ）２．２０－２．３０（ｍ，１Ｈ）２．１２－２．１６（ｍ，３Ｈ）１．５９－１．８３（ｍ，１０Ｈ）１．３３－１．５４（ｍ，６Ｈ）０．９１－１．３２（ｍ，１１Ｈ）０．９０（ｓ，３Ｈ）０．７２（ｓ，３Ｈ）。
４３．８の合成
ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中の４３．７（１８０ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４０％、１８．４ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）及びＢｒ２（８０．９ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を滴加し、混合物を室温で２時間撹拌した。ＮａＨＣＯ３（５０ｍｌ、飽和水溶液）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４３．８（１８０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８７－４．０１（ｍ，２Ｈ）３．３７－３．３９（ｍ，３Ｈ）３．１１－３．２３（ｍ，２Ｈ）２．５０－２．５９（ｍ，１Ｈ）１．６５－１．８４（ｍ，９Ｈ）１．３１－１．５３（ｍ，８Ｈ）０．９４－１．２１（ｍ，６Ｈ）０．９１－０．９３（ｍ，３Ｈ）０．７９（ｓ，４Ｈ）０．７２（ｓ，３Ｈ）。
４３の合成
アセトン（２ｍｌ）中の４３．８（１８０ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（３９．２ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（１０５ｍｇ、０．８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、水（２０ｍｌ）に注いだ。得られた懸濁液を１０分間撹拌し、次いでＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をコンビフラッシュ（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４３．９（１１０ｍｇ）を得、これをＳＦＣ（方法：カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ＊５ｕｍ）；条件：ＣＯ２、０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；開始Ｂ：３５％；終了Ｂ：３５％）によってさらに精製して、４３（７６．０ｍｇ、７０％）を得た。４３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ）７．８１（ｓ，１Ｈ）４．９０－５．０８（ｍ，２Ｈ）３．３８（ｓ，３Ｈ）３．１１－３．１８（ｍ，２Ｈ）２．３１（ｄｄ，Ｊ＝１２．８，３．２ Ｈｚ，１Ｈ）２．１７（ｓ，１Ｈ）１．６０－１．８８（ｍ，９Ｈ）０．９４－１．５２（ｍ，１４Ｈ）０．９３（ｓ，３Ｈ）０．７６－０．８６（ｍ，３Ｈ）０．７２（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％，分析的ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；Ｃ２９Ｈ４３Ｎ３Ｏ３［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４８２．３，実測値４８２．４。
実施例４４及び４５：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４４）の合成及び１－（２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４５）の合成
Figure 2022538300000395
 ４４．１の合成
０℃で、ＴＨＦ（１００ｍＬ）中の４０．４ａ（４．５０ｇ、１４．２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（６．６ｍＬ、１９．８ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を添加し、混合物を室温で１２時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４４．１（１．１０ｇ、２３．３％）を得た。４４．１ １Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．０９－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．５４－１．２５（ｍ，９Ｈ），１．２３－１．１０（ｍ，７Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．７１（ｍ，６Ｈ）。
４４．２の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＰＰｈ３ＥｔＢｒ（１１．３ｇ、３０．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（３．４３ｇ、３０．６ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を６０℃で３０分間撹拌した。ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４４．１（１．７０ｇ、５．１１ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、混合物を６０℃で１２時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４４．２（１．５０ｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２０－５．１０（ｍ，１Ｈ），１．９８－１．５２（ｍ，１６Ｈ），１．３８－１．２３（ｍ，７Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１８－１．０４（ｍ，５Ｈ），０．９４－０．７２（ｍ，８Ｈ）。
４４．３の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の４４．２（１．５０ｇ、４．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３・Ｍｅ２Ｓ（１．７３ｍＬ、１７．４ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。得られた混合物を０℃に冷却し、エタノール（２．６６ｍＬ）、続いてＮａＯＨ水溶液（８．６８ｍＬ、５．０Ｍ、４３．４ｍｍｏｌ）を添加した。内部温度を１５℃未満に保ちながら、過酸化水素（４．３４ｍＬ、１０Ｍ、４３．４ｍｍｏｌ）を滴加した。反応混合物を７０℃に温め、１時間撹拌した。冷却後、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４４．３（１．７０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．１７－４．０７（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．８４（ｍ，３Ｈ），１．６７－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．２６－１．２４（ｍ，８Ｈ），１．１３－１．０９（ｍ，６Ｈ），０．９７－０．８９（ｍ，６Ｈ），０．７７－０．７６（ｍ，１Ｈ），０．７６（ｓ，２Ｈ），０．７３－０．７１（ｍ，６Ｈ）。
４４．４の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の４４．３（１．６０ｇ、４．４１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＰＣＣ（１．９０ｇ、８．８２ｍｍｏｌ）及びシリカゲル（１．９０ｇ）を添加した。室温で１時間撹拌した後、混合物を濾過し、濾過ケーキをＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４４．４（５００ｍｇ、３１．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．４３（ｍ，０．５Ｈ），２．３０－２．２３（ｍ，０．５Ｈ），２．１２（ｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，３Ｈ），１．９２－１．５９（ｍ，１２Ｈ），１．５３－１．２６（ｍ，８Ｈ），１．２３－０．９７（ｍ，９Ｈ），０．９３－０．９０（ｍ，３Ｈ），０．７７－０．７２（ｍ，４Ｈ）。
４４．５の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の４４．４（１５０ｍｇ、０．４１６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１６．８ｍｇ、０．０８３ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（７９．７ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）を添加した。室温で１時間撹拌した後、反応物を、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）でクエンチし、次いでＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４４．５（２００ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
４４及び４５の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の４４．５（２００ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）の溶液に、１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（６３．５ｍｇ、０．６８ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（６３．８ｍｇ、０．４５５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、粗製４４及び４５を得た。粗生成物混合物を、分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｗｅｌｃｈ Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ；条件：水（０．２２５％ ＴＦＡ）－ＡＣＮ；開始Ｂ：６２；終了Ｂ：９２；勾配時間（分）：８．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２；流速（ｍｌ／分）：３０；注入：６）によってさらに精製して、４５（１４．５ｍｇ、７．１％）を得た。粗製４４をＰＥ／ＥｔＯＡｃ（１０／１、１１ｍＬ）で粉砕して、４４（３９．６ｍｇ、１９．３％）を得た。４４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１（ｄ，Ｊ＝６．０ Ｈｚ，２Ｈ），５．０９－４．９０（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２５（ｍ，１Ｈ），１．９３－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．３９－１．０２（ｍ，１６Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．７５（ｍ，４Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％；Ｃ２８Ｈ４２Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４５２．３，実測値４５２．３；Ｃ２８Ｈ４２Ｎ３Ｏ２Ｎａ［Ｍ＋Ｎａ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７４．３，実測値４７４．３；Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。４５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８４（ｄ，Ｊ＝９．２ Ｈｚ，１Ｈ），７．８８－７．７５（ｍ，１Ｈ），５．０６－４．８２（ｍ，２Ｈ），２．４６（ｄ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ，１Ｈ），１．９８－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．２０（ｍ，１２Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１３－１．０１（ｍ，２Ｈ），０．９８（ｓ，３Ｈ），０．９６－０．７４（ｍ，３Ｈ），０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度９９％，分析的ＳＦＣ：１００％ ｄｅ；Ｃ２８Ｈ４２Ｎ３Ｏ２Ｎａ［Ｍ＋Ｎａ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４７４．３，実測値４７４．３；Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例４６：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９－（メトキシメチル）－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４６）の合成
Figure 2022538300000396
 ４６．２の合成
０℃で、ＤＭＳＯ（２０ｍＬ）及びＴＨＦ（１０ｍＬ）中のヨウ化トリメチルスルホニウム（１．６１ｇ、７．９３ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＮａＨ（３１６ｍｇ、７．９３ｍｍｏｌ、鉱油中６０％）を添加し、混合物を０℃で１時間撹拌した。次いで、混合物を、ＤＭＳＯ（１０ｍＬ）中の３６．４ａ（２．００ｇ、６．６１ｍｍｏｌ）の冷却（０℃）溶液に添加し、０～２０℃で１６時間撹拌した。水（２００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ×２）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４６．２（１．４０ｇ、６６．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３））δＨ ３．１１－２．９８（ｍ，１Ｈ），２．８６－２．７８（ｍ，１Ｈ），２．６９－２．５０（ｍ，２Ｈ），２．４３－２．３１（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．０６（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５５－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２３－０．８４（ｍ，８Ｈ）。
４６．３の合成
ＭｅＯＨ（１５ｍＬ）中の４６．２（１．４０ｇ、４．４２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（２．３８ｇ、４４．２ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を７０℃で１６時間撹拌した。反応物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ）でクエンチし、次いでＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物４６．３（１．４０ｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４０－３．３５（ｍ，３Ｈ），３．２５－３．１３（ｍ，２Ｈ），２．７１－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．３２－２．１４（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５８－１．２８（ｍ，９Ｈ），１．２２－０．７５（ｍ，９Ｈ）。
４６．４の合成
ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（８．９１ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．６９ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）を添加し、得られた混合物を６０℃に温め、３０分間撹拌した。内部温度を７０℃未満に維持しながら、４６．３（１．４０ｇ、４．０１ｍｍｏｌ）を少量ずつ添加した。反応混合物を６０℃で１６時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。冷却後、反応物を１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。混合物をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４６．４（５１０ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１８－５．０７（ｍ，１Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｓ，２Ｈ），２．５５－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．３３－２．０４（ｍ，２Ｈ），２．０２－１．５９（ｍ，１２Ｈ），１．５９－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．１７－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．０７－０．９５（ｍ，３Ｈ），０．９４－０．６８（ｍ，４Ｈ）。
４６．５の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の４６．４（５１０ｍｇ、１．４１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３ －Ｍｅ２Ｓ（４２８ｍｇ、５６４μＬ、５．６４ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、エタノール（１．１４ｍＬ）、続いてＮａＯＨ水溶液（２．８２ｍＬ、５．０Ｍ、１４．１ｍｍｏｌ）を添加した。過酸化水素（１．４１ｍＬ、１０Ｍ、１４．１ｍｍｏｌ）を滴加し、反応混合物を７０℃に温め、１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ×３）で抽出し、合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４６．５（５８０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．１６－４．０２（ｍ，１Ｈ），３．４４－３．３４（ｍ，３Ｈ），３．２８－３．０９（ｍ，２Ｈ），１．９８－１．６４（ｍ，９Ｈ），１．５６－１．２７（ｍ，１１Ｈ），１．１９－１．０５（ｍ，６Ｈ），１．０１－０．８１（ｍ，８Ｈ），０．８０－０．６８（ｍ，２Ｈ）。
４６．６の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の４６．５（５８０ｍｇ、１．５３ｍｍｏｌ）、シリカゲル（１．５０ｇ）及びＰＣＣ（６５７ｍｇ、３．０６ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で１時間撹拌した。混合物を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４６．６（３８０ｍｇ、６５．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４３－３．３４（ｍ，３Ｈ），３．２５－３．０５（ｍ，２Ｈ），２．５２－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．０７（ｍ，３Ｈ），２．０２－１．５７（ｍ，１１Ｈ），１．５５－１．２７（ｍ，１０Ｈ），１．２５－０．９５（ｍ，５Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．７４（ｍ，２Ｈ）。
４６．７の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の４６．６（３８０ｍｇ、１．００ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（１．０８ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）を添加した。反応物を８０℃に温め、１６時間撹拌した。冷却後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４６．７（３７０ｍｇ、９８．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４４－３．３５（ｍ，３Ｈ），３．２９－３．１２（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５６－１．２９（ｍ，１０Ｈ），１．２５－０．９５（ｍ，６Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．７３（ｍ，２Ｈ）。
４６．８の合成
ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の４６．７（１８０ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１９．３ｍｇ、０．０９６ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（８３．９ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ）でクエンチした。水（２０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４６．８（１９０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．０７－３．７６（ｍ，２Ｈ），３．４２－３．３５（ｍ，３Ｈ），３．２７－３．０４（ｍ，２Ｈ），２．８０－２．４８（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．５７（ｍ，１１Ｈ），１．５５－１．２８（ｍ，１０Ｈ），１．２３－０．９７（ｍ，５Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．７２（ｍ，２Ｈ）。
４６及び４６ａの合成
アセトン（５ｍＬ）中の４６．８（１９０ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（４６．５ｍｇ、０．５０ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（５８．４ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４６及び４６ａ（２００ｍｇ、不純）を得、これをＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ＊１０ｕｍ）；移動相：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥｔＯＨ；勾配：３５％～３５％
のＢ、流速（ｍｌ／分）：６０）によってさらに精製して、４６（５４．８ｍｇ、２９．０％）を得た。４６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１８－４．７９（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｓ，２Ｈ），２．３２（ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．１０（ｓ，１Ｈ），１．９５－１．６１（ｍ，１０Ｈ），１．５７－０．９８（ｍ，１５Ｈ），０．９６（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．７７（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：９８％，Ｃ２８Ｈ４１Ｎ３Ｏ３［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４６８．３、実測値Ｃ２８Ｈ４１Ｎ３Ｏ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋ ４５０．３。
実施例４７及び４８及び４９及び５０：１－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－エチル－９－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタノン（４７）の合成及び１－（２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－エチル－９－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（４８）１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－エチル－９－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタノン（４９）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－エチル－９－ヒドロキシ－１３ａ－メチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５０）の合成
Figure 2022538300000397
 ４７．２の合成
新たに調製したＭＡＤ（１９．８ｍｍｏｌ、２０ｍＬのトルエン中）溶液を－７０℃に冷却し、それにＤＣＭ（５ｍＬ）中の３６．４ａ（２．００ｇ、６．６１ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＥｔＭｇＢｒ（８．８０ｍＬ、２６．４ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加し、得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物をクエン酸（１００ｍＬ、２０％）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×７０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４７．２（１．２０ｇ、５４．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６８－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．０８－２．０５（ｍ，１Ｈ），２．０３－２．０１（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．７２（ｍ，４Ｈ），１．７０－１．５８（ｍ，５Ｈ），１．５７－１．３４（ｍ，１０Ｈ），１．３４－１．２２（ｍ，２Ｈ），１．２１－１．１１（ｍ，２Ｈ），１．１１－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．０６－０．９７（ｍ，２Ｈ），０．９５－０．７８（ｍ，４Ｈ）。
４７．３及び４７．３ａの合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（８．０１ｇ、２１．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．４１ｇ、２１．６ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を４０℃に温め、１時間撹拌した。内部温度を５０℃未満に維持しながら、４７．２（１．２０ｇ、３．６０ｍｍｏｌ）を少量ずつ添加した。反応混合物を６５℃に温め、１６時間撹拌して、オレンジ色の懸濁液を得た。反応物を１５℃に冷却し、１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（８０ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４７．３（３６６ｍｇ、２９．５％）及び４７．３ａ（３９２ｍｇ、３１．６％）を得た。４７．３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２０－５．１０（ｍ，１Ｈ），２．５６－２．４４（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．０８（ｍ，１Ｈ），２．００－１．７１（ｍ，６Ｈ），１．６９－１．５８（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．３２（ｍ，９Ｈ），１．１９－１．０４（ｍ，６Ｈ），１．０３－０．９５（ｍ，２Ｈ），０．９４－０．８７（ｍ，６Ｈ）４７．３ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２６－５．０４（ｍ，１Ｈ），２．５８－２．４１（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８０（ｍ，３Ｈ），１．８０－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５６－１．３７（ｍ，９Ｈ），１．２０－１．００（ｍ，７Ｈ），１．００－０．９５（ｍ，１Ｈ），０．９４－０．７３（ｍ，７Ｈ）。
４７．４の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の４７．３（３６６ｍｇ、１．０６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（０．９６ｍＬ、１０Ｍ、９．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を０℃に冷却し、ＥｔＯＨ（３．０３ｍＬ、５３．０ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ（１０．６ｍＬ、５Ｍ、５３．０ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（５．３０ｍＬ、１０Ｍ、５３．０ｍｍｏｌ）を滴加し、混合物を７８℃に温め、２時間撹拌した。冷却後、反応をＮａ２ＳＯ３（３０ｍＬ、１０％）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４７．４（３８４ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．３８－４．０１（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．９１（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．５６（ｍ，１１Ｈ），１．５４－１．３９（ｍ，６Ｈ），１．２８－１．２３（ｍ，７Ｈ），１．１７－１．０７（ｍ，４Ｈ），１．０１－０．９４（ｍ，２Ｈ），０．９２－０．６７（ｍ，１０Ｈ）。
４７及び４９の合成
０℃で、ＤＣＭ（６ｍＬ）中の４７．４（３８０ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（４４７ｍｇ）及びＰＣＣ（４４７ｍｇ、２．０８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を１０℃で１．５時間撹拌し、ＰＥ（３ｍＬ）を添加した。得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×６ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４９（８６．０ｍｇ、２２．９％）及び４７（８６．０ｍｇ、２２．９％）を得た。４７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．４４（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），１．８５－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．３３（ｍ，１２Ｈ），１．３１－１．２１（ｍ，２Ｈ），１．１５－１．０３（ｍ，４Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．８６（ｍ，４Ｈ），０．８６－０．８１（ｍ，１Ｈ）。４９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３４－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８７－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５３－１．１９（ｍ，１３Ｈ），１．１６－０．９４（ｍ，６Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９２－０．８７（ｍ，４Ｈ），０．８７－０．７４（ｍ，２Ｈ）。
５０．１の合成
ＭｅＯＨ（３ｍＬ）中の４９（５０．０ｍｇ、１３８μｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４０％、５．５０ｍｇ、２７．６μｍｏｌ）及びＢｒ２（２４．１ｍｇ、１５１μｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５０．１（６０．０ｍｇ、粗製）を得た。
５０の合成
アセトン（４ｍＬ）中の５０．１（６０．０ｍｇ、０．１３６ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（１５．１ｍｇ、０．１６３ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（３７．５ｍｇ、０．２７２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で４時間撹拌し、水（２０ｍＬ）を添加した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた抽出物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５０（２６．３ｍｇ、４２．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０６－４．９３（ｍ，２Ｈ），２．３７－２．２８（ｍ，１Ｈ），１．９１－１．６０（ｍ，１０Ｈ），１．５０－１．２０（ｍ，１１Ｈ），１．１８－１．００（ｍ，６Ｈ），０．９６（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．７６（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２８Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
４８．１の合成
メタノール（３ｍＬ）中の４７（５０．０ｍｇ、０．１３８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４０％、０．０２８ｍｍｏｌ）及びＢｒ２（２４．１ｍｇ、０．１５１ｍｍｏｌ）を添加し、暗色溶液を室温で６時間撹拌した。飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、４８．１（６０．０ｍｇ、粗製）を得た。
４８の合成
アセトン（４ｍＬ）中の４８．１（６０．０ｍｇ、０．１３６ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（１５．１ｍｇ、０．１６３ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（３７．５ｍｇ、０．２７２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、４８（１３．９ｍｇ、２２．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），５．０７－４．８５（ｍ，２Ｈ），２．５０－２．４０（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．８３（ｍ，１Ｈ），１．７６－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．２３（ｍ，１４Ｈ），１．１７－１．０２（ｍ，４Ｈ），１．００（ｓ，３Ｈ），０．９４－０．７６（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２８Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例５１：１－（３－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＲ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－３－オキソプロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５１）の合成
Figure 2022538300000398
 ５１．１の合成
トルエン（１０ｍＬ）中の新たに調製したＭＡＤ（３２．６ｍｍｏｌ）溶液を－７０℃に冷却し、それにＤＣＭ（３０ｍＬ）中の３６．４ａ（３．３ｇ、１０．９ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（１４．５ｍＬ、４３．６ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加し、溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物をクエン酸（５０ｍＬ、２０％）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５１．１（７１０ｍｇ、２０．５％）を得た。５１．１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ ２．６８－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．２７－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．９７（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．５６（ｍ，１１Ｈ），１．５４－１．２９（ｍ，７Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１１（ｍ，２Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０７－０．７６（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２１Ｈ３４Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３０１．３，実測値３０１．３。
５１．２の合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（４．７１ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．４２ｇ、１２．７ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６０℃に温め、３０分間撹拌した。内部温度を６０℃未満に維持しながら、５１．１（６８０ｍｇ、２．１３ｍｍｏｌ）を分量で添加した。反応物を６０℃で１６時間撹拌し、次いで冷却し、１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５１．２（７８０ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２２－５．０８（ｍ，１Ｈ），２．５９－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．０７（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．５８（ｍ，１４Ｈ），１．５６－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１６－１．０３（ｍ，５Ｈ），０．９３（ｓ，４Ｈ），０．８９－０．６９（ｍ，２Ｈ）。
５１．３の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５１．２（７８０ｍｇ、２．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３ －Ｍｅ２Ｓ（７１４ｍｇ、０．９４ｍＬ、１０Ｍ、９．４０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。０℃に冷却した後、エタノール（２．３５ｍＬ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（４．７０ｍＬ、５．０Ｍ、２３．５ｍｍｏｌ）を添加した。過酸化水素（２．３５ｍＬ、１０Ｍ、２３．５ｍｍｏｌ）を滴加し、反応混合物を７０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機層をブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５１．３（１．１ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．４３－３．９７（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．３１（ｍ，２５Ｈ），１．１９－１．０３（ｍ，６Ｈ），１．０２－０．８１（ｍ，９Ｈ），０．７８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
５１．４ａ及び５１．４ｂの合成
０℃で、ＤＣＭ（５０ｍＬ）中の５１．３（１ｇ、２．８６ｍｍｏｌ）の溶液に、デス・マーチン試薬（２．４２ｇ、５．７２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、３０分間撹拌した。反応物を飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（１００ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、ＤＣＭ層を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×１００ｍＬ）、ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５１．４ｂ（５００ｍｇ、粗製）及び５１．４ａ（１９．５ｍｇ、粗製）を得た。５１．４ｂ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３０（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），１．８７－１．５８（ｍ，１２Ｈ），１．５１－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．９５（ｍ，６Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．６９（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２３Ｈ３８Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。５１．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．２６（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．０９（ｍ，３Ｈ），１．９３－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５８－１．２７（ｍ，１２Ｈ），１．２３－１．１９（ｍ，３Ｈ），１．１７－０．９６（ｍ，４Ｈ），０．９４－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．８８－０．７５（ｍ，２Ｈ）。
５１．５の合成
Ｂｒ２（７１４ｍｇ、４．４７ｍｍｏｌ）を、ＮａＯＨ水溶液（１．１９ｇ、６．００ｍＬ、３０．０ｍｍｏｌ、５Ｍ）に滴加した。混合物を室温で２０分間撹拌し、ジオキサン（１０ｍＬ）及び水（２．５ｍＬ）中の５１．４ｂ（３５０ｍｇ、１．００ｍｍｏｌ）の溶液に添加した。得られた混合物を室温で１６時間撹拌した。飽和Ｎａ２ＳＯ３（３０ｍＬ）水溶液を添加し、混合物を７０℃で１時間撹拌した。混合物を冷却し、ＨＣｌ（水中３Ｍ、５０ｍＬ）を添加して、ｐＨを２に調整し、１０分間撹拌した。沈殿した固体を濾過し、水（２×１０ｍＬ）で洗浄し、乾燥させて、５１．５（３９０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２０－２．０９（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．６４（ｍ，１１Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，１０Ｈ），１．２２（ｓ，３Ｈ），１．１３－０．９７（ｍ，５Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％，Ｃ２２Ｈ３６Ｏ３［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３３１．３，実測値３３１．２。
５１．６の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の５１．５（３９０ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（４３３ｍｇ、４．４４ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（８４３ｍｇ、２．２２ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（１．１２ｇ、１１．１ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１６時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を添加し、混合物を酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機相をブライン（５０ｍＬ×２）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１５～４５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５１．６（４５０ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．６６（ｓ，３Ｈ），３．１６（ｓ，３Ｈ），２．７１－２．４４（ｍ，１Ｈ），１．８４－１．４５（ｍ，２１Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１１－１．０４（ｍ，３Ｈ），１．０２（ｓ，３Ｈ），１．０１－０．６８（ｍ，５Ｈ）。
５１．７の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の５１．６（４５０ｍｇ、１．１４ｍｍｏｌ）の溶液を０℃に冷却した。臭化ビニルマグネシウム（３．２５ｍＬ、０．７Ｍ、２．２８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応を１０％ ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ＮａＣｌ（２×５０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５１．７（１００ｍｇ、２４．４％）を得た。
５１の合成
ＤＭＳＯ（５ｍＬ）中の５１．７（１００ｍｇ、０．２７９ｍｍｏｌ）、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（６７．７ｍｇ、０．８３６ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５１．９ｍｇ、０．５５８ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で１６時間撹拌した。冷却後、反応混合物を、Ｈ２Ｏ（３０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３０ｍＬ×３）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ×２）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５１（１０．５ｍｇ、８．４０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．４５－４．３２（ｍ，２Ｈ），３．１１－２．９２（ｍ，２Ｈ），２．３０－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．６７（ｍ，５Ｈ），１．５３－１．４０（ｍ，７Ｈ），１．３６－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．９０（ｍ，９Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ），０．８２－０．７３（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％，Ｃ２８Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例５２及び５３：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５２）の合成及び１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタノン（５３）の合成
Figure 2022538300000399
 ５３．２の合成
０℃で、ＴＨＦ（１５ｍＬ）中の３７．４ａ（１．００ｇ、３．１５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（１．２６ｍＬ、３．７８ｍｍｏｌ、３Ｍ）を滴加した。混合物を室温で１６時間撹拌して、黄色の溶液を得た。反応物を、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物５３．２（１．１０ｇ、粗製）を得た。
５３．３の合成
無水ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１３．３ｇ、３６．０ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４．０３ｇ、３６．０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を６０℃に温め、３０分間撹拌した。無水ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５３．２（２．００ｇ、６．０１ｍｍｏｌ）の溶液を滴加し、混合物を６０℃でさらに１６時間撹拌した。冷却後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いで１０分間撹拌した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５３．３（８００ｍｇ、３８．６％）を得た。５３．３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ５．２１－５．１０（ｍ，１Ｈ），１．８６－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５８－１．３８（ｍ，９Ｈ），１．３８－１．１８（ｍ，１０Ｈ），１．１５－１．０２（ｍ，５Ｈ），０．９３（ｍ，Ｊ＝４．８ Ｈｚ，５Ｈ）。
５３．４の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の５３．３（８００ｍｇ、２．３２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３ －Ｍｅ２Ｓ（１．１６ｍＬ、１０Ｍ、１１．６ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を４５℃に温め、１時間撹拌した。混合物を１５℃に冷却し、エタノール（２．１３ｇ、４６．４ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ水溶液（９．２８ｍＬ、５．０Ｍ、４６．４ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（４．６４ｍＬ、１０Ｍ、４６．４ｍｍｏｌ）を滴加し、次いで混合物を７０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を冷却し、水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた抽出物を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、濃縮して、５３．４（８００ｍｇ、粗製）を得た。
５３．５の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の５３．４（８００ｍｇ、２．２０ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２．００ｇ）及びＰＣＣ（９４６ｍｇ、４．４０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５３．５（４５０ｍｇ、５６．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５１－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，３Ｈ），１．９０－１．６９（ｍ，５Ｈ），１．５２－１．４１（ｍ，５Ｈ），１．３５－１．１０（ｍ，１４Ｈ），１．００－０．６８（ｍ，１２Ｈ）。
５３の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の５３．５（５００ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（１．１０ｇ、２０．７ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を７０℃で１６時間撹拌した。混合物を冷却し、水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５３（２８０ｍｇ、５６．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２．３２－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），１．９２－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．５３－１．４４（ｍ，４Ｈ），１．３３－１．１８（ｍ，９Ｈ），１．１７－０．９８（ｍ，５Ｈ），０．９３－０．８８（ｍ，６Ｈ），０．８６－０．６８（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度：１００％，Ｃ２４Ｈ３９Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４３．３，実測値３４３．３。
５２．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の５３（１４０ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（５．００ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（７４．５ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５２．１（１６０ｍｇ、粗製）を得た。
５２の合成
アセトン（５ｍＬ）中の５２．１（１６０ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（１００ｍｇ、０．７２８ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５０．８ｍｇ、０．５４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５２（４２．０ｍｇ、２５．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７－７．７７（ｍ，２Ｈ），５．０９－４．８９（ｍ，２Ｈ），２．３５－２．２４（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．６０（ｍ，１０Ｈ），１．５８－１．４０（ｍ，９Ｈ），１．３４－１．０９（ｍ，１１Ｈ），０．９６－０．８７（ｍ，６Ｈ）。ＬＣＭＳ純度≧９９％，Ｃ２８Ｈ４０Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３４．３，実測値４３４．３。
実施例５４：１－（３－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－３－オキソプロピル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５４）の合成
Figure 2022538300000400
 ５４．２の合成
０℃で、ＴＨＦ（４０ｍＬ）中の４０．４ａ（４．００ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（５．０３ｍＬ、１５．１ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加し、混合物を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．２（１．２０ｇ、２８．７％）を得た。５４．２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６８－２．５３（ｍ，１Ｈ），２．２２－２．１３（ｍ，１Ｈ），２．０７－２．０２（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．６５（ｍ，７Ｈ），１．５７－１．４０（ｍ，５Ｈ），１．３９－１．２６（ｍ，６Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．０９（ｍ，４Ｈ），１．０７（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．８０（ｍ，２Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。
５４．３の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＭｅＰｈ３ＰＢｒ（３．８５ｇ、１０．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．２１ｇ、１０．８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を５０℃に温め、１時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５４．２（１．２０ｇ、３．６０ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、反応混合物を５０℃でさらに１６時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．３（７００ｍｇ、５８．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．５７（ｄ，Ｊ＝１０．８ Ｈｚ，２Ｈ），２．３９－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１３－２．０３（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．７５（ｍ，４Ｈ），１．７４－１．６１（ｍ，４Ｈ），１．５９－１．５１（ｍ，２Ｈ），１．５０－１．３９（ｍ，１Ｈ），１．３８－１．２２（ｍ，８Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１４－１．０２（ｍ，３Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，３Ｈ），０．７４（ｓ，３Ｈ）。
５４．４の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５４．３（７００ｍｇ、２．１１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（０．６３２ｍｌ、６．３２ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。得られた混合物を０℃に冷却し、エタノール（９７０ｍｇ、２１．１ｍｍｏｌ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（４．２２ｍＬ、５Ｍ、２１．１ｍｍｏｌ）を添加した。Ｈ２Ｏ２（２．１１ｍＬ、１０Ｍ、２１．１ｍｍｏｌ）を滴加し、混合物を８０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液を３０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濃縮して、５４．４（１．００ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９８－３．８１（ｍ，１Ｈ），３．７１－３．５８（ｍ，１Ｈ），３．２９（ｓ，１Ｈ），１．８８－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７０－１．６４（ｍ，４Ｈ），１．５７－１．５１（ｍ，３Ｈ），１．４９－１．３５（ｍ，２Ｈ），１．３３－１．２２（ｍ，９Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１５－１．０７（ｍ，４Ｈ），０．９８－０．９４（ｍ，３Ｈ），０．９３－０．８６（ｍ，１Ｈ），０．８３－０．７５（ｍ，２Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。
５４．５の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の５４．４（８００ｍｇ、２．２９ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２．００ｇ）及びＰＣＣ（９８４ｍｇ、４．５８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×１００ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して、５４．５（８００ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １０．２０－９．７５（ｍ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．９０－１．８１（ｍ，４Ｈ），１．７５－１．６５（ｍ，５Ｈ），１．６４－１．５４（ｍ，６Ｈ），１．２５（ｓ，８Ｈ），１．１６－１．０９（ｍ，３Ｈ），１．００－０．８９（ｍ，５Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。
５４．６及び５４．６ａの合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５４．５（８００ｍｇ、２．３０ｍｍｏｌ）の溶液に、臭化ビニルマグネシウム（９．８４ｍＬ、２．９３ｍｍｏｌ、０．７Ｍ）を添加し、混合物を室温で４時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．６（２００ｍｇ、２３．２％）及び５４．６ａ（１８０ｍｇ、２０．９％）を得た。５４．６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．９４－５．７９（ｍ，１Ｈ），５．２１－５．０４（ｍ，２Ｈ），４．７８（ｓ，１Ｈ），４．５３（ｓ，１Ｈ），１．９８－１．９１（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．７６（ｍ，４Ｈ），１．７４－１．６３（ｍ，５Ｈ），１．５８－１．４９（ｍ，４Ｈ），１．４８－１．３９（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１８－０．９６（ｍ，７Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．８９－０．７５（ｍ，４Ｈ），０．７２（ｓ，３Ｈ）。５４．６ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．９７－５．８７（ｍ，１Ｈ），５．２７－５．０９（ｍ，２Ｈ），４．６３（ｓ，１Ｈ），１．８９－１．８２（ｍ，３Ｈ），１．７５－１．６５（ｍ，６Ｈ），１．５７－１．５０（ｍ，５Ｈ），１．２７－１．２４（ｍ，７Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１３－１．０６（ｍ，４Ｈ），０．９５（ｓ，３Ｈ），０．８６－０．７６（ｍ，４Ｈ），０．７３（ｓ，３Ｈ）。
５４．７の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の５４．６（２００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）の溶液に、デス・マーチン試薬（６７８ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で１０分間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、３０ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、有機層を飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４．７（７０ｍｇ、３５．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．４０（ｄｄ，Ｊ＝１０．４、１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），６．１７（ｄ，Ｊ＝１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．６５（ｄ，Ｊ＝１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５３（ｄｄ，Ｊ＝３．２、１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．９０－１．７２（ｍ，５Ｈ），１．７１－１．５１（ｍ，１０Ｈ），１．４４－１．３９（ｍ，１Ｈ），１．３２－１．２９（ｍ，２Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１５－１．０５（ｍ，３Ｈ），１．０４－０．９１（ｍ，２Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．８８－０．７２（ｍ，４Ｈ），０．７０（ｓ，３Ｈ）。
５４の合成
ＤＭＳＯ（５ｍＬ）中の５４．７（７０．０ｍｇ、０．１８８ｍｍｏｌ）、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（４６．２ｍｇ、０．５６３ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（３４．９ｍｇ、０．３７６ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で３時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ブライン（３０ｍＬ）中に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出し、合わせた抽出物を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５４（４０．０ｍｇ、不純）を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ）；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７５；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：９．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、５４（１９．８ｍｇ、４９．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８９（ｓ，１Ｈ），７．７５（ｓ，１Ｈ），４．４６－４．２７（ｍ，２Ｈ），３．１８－２．９０（ｍ，２Ｈ），２．２１（ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），１．９１－１．７３（ｍ，３Ｈ），１．７１－１．５９（ｍ，４Ｈ），１．５６－１．４９（ｍ，２Ｈ），１．３８－１．２１（ｍ，７Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．２０－１．０１（ｍ，７Ｈ），０．９９－０．８６（ｍ，１Ｈ），０．８３（ｓ，３Ｈ），０．８１－０．７１（ｍ，３Ｈ），０．６９（ｓ，３Ｈ）。
実施例５５：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９－（メトキシメチル）－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５５）の合成
Figure 2022538300000401
 ５５．２の合成
０℃で、ＤＭＳＯ（４０ｍＬ）及びＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＭｅ３ＳＩ（２．８９ｇ、１４．１７ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、ＮａＨ（５６６ｍｇ、１４．１７ｍｍｏｌ、油中６０％）を少量ずつ数回に分けて添加した。反応混合物を室温で１時間撹拌し、次いでＴＨＦ（４０ｍＬ）中の３７．４（３．００ｇ、９．４８ｍｍｏｌ）の溶液に添加した。室温で１６時間撹拌した後、混合物を氷水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を水（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５５．２（３．６０ｇ、粗製）を得た。
５５．３の合成
ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の５５．２（３．６０ｇ、１０．８９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（２１．７４ｍＬ、ＭｅＯＨ中５Ｍ）、１０８．８ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６０℃で１６時間撹拌した。冷却後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５５．３（２．００ｇ、不純）を得た。
５５．４の合成
無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１２．２ｇ、３２．８８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（３．６９ｇ、３２．８８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を５０℃に温め、３０分間撹拌した。無水ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５５．３（２．００ｇ、５．５２ｍｍｏｌ）の溶液を滴加し、混合物を５０℃でさらに１６時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた抽出物を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５５．４（８４０ｍｇ、４０．６％）及び５５．４ａ（３３０ｍｇ、１５．９％）を得た。５５．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１０－５．１９（ｍ，１Ｈ），３．３５－３．４１（ｍ，３Ｈ），３．１１－３．２０（ｍ，２Ｈ），２．４９（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１３．８０ Ｈｚ，１Ｈ），１．７８－２．０２（ｍ，４Ｈ），１．６４－１．７７（ｍ，５Ｈ），１．５４－１．６１（ｍ，７Ｈ），１．２９－１．５３（ｍ，６Ｈ），１．０１－１．２０（ｍ，６Ｈ），０．８７－０．９３（ｍ，５Ｈ），０．６９－０．８５（ｍ，２Ｈ）。
５５．５の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５５．４（８４０ｍｇ、２．２４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（１．１１ｍＬ、１１．２ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。得られた混合物を１５℃に冷却し、エタノール（１．０３ｇ、２２．４ｍｍｏｌ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（４．４７ｍＬ、５Ｍ、２２．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を０℃に冷却し、Ｈ２Ｏ２（２．２３ｍＬ、１０Ｍ、２２．４ｍｍｏｌ）を滴加した。添加後、混合物を８０℃に加熱し、１時間撹拌した。反応混合物を冷却し、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１００ｍＬ）に添加し、３０分間撹拌した。懸濁液をＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５５．５（９３０ｍｇ、粗製）を得た。
５５．６の合成
ＤＣＭ（５０ｍＬ）中の５５．５（９３０ｍｇ、２．３６ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（２．００ｇ）及びＰＣＣ（１．０１ｇ、４．７２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で１時間撹拌し、次いで濾過した。濾過ケーキをＤＣＭ（２×３０ｍＬ）で洗浄し、濾液を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５５．６（６３０ｍｇ、６８．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３６（ｄ，Ｊ＝３．２６ Ｈｚ，３Ｈ），３．１１－３．１８（ｍ，２Ｈ），２．２５－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．１２（ｄ，Ｊ＝４．２７ Ｈｚ，３Ｈ），２．０３（ｓ，２Ｈ），１．７７－２．００（ｍ，３Ｈ），１．３３－１．７２（ｍ，１４Ｈ），１．２９（ｂｒ ｓ，２Ｈ），１．００－１．２０（ｍ，４Ｈ），０．８４－０．９３（ｍ，７Ｈ），０．７４－０．８３（ｍ，１Ｈ）。
５５．７の合成
ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の５５．６（６３０ｍｇ、１．６１ｍｍｏｌ）及びＭｅＯＮａ（１．３０ｇ、２４．１ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で４８時間撹拌した。混合物を冷却し、水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５５．７（６２０ｍｇ、９８．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３０－３．４１（ｍ，３Ｈ），３．０９－３．１９（ｍ，２Ｈ），２．２３－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．０８－２．１５（ｍ，３Ｈ），１．６１－１．９８（ｍ，１０Ｈ），１．２９－１．６１（ｍ，１０Ｈ），１．００－１．１９（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．９９（ｍ，１Ｈ），０．８４－０．９０（ｍ，６Ｈ），０．７０－０．８３（ｍ，２Ｈ）。
５５．８の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の５５．７（２６０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（６．６４ｍｇ、０．０３３ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（１２７ｍｇ、０．７９８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５５．８（３５０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８６－４．０１（ｍ，１Ｈ），３．３４－３．４０（ｍ，３Ｈ），３．１１－３．２０（ｍ，２Ｈ），２．５６（ｄｄ，Ｊ＝３．１４、１２．６７ Ｈｚ，１Ｈ），１．５３－２．０１（ｍ，１３Ｈ），１．２８－１．５２（ｍ，８Ｈ），１．０４－１．２２（ｍ，４Ｈ），０．９１－１．００（ｍ，４Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．６９－０．８４（ｍ，２Ｈ）。
５５の合成
アセトン（１０ｍｌ）中の５５．８（３５０ｍｇ、０．７４５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（２０５ｍｇ、１．４９ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（８３．２ｍｇ、０．８９５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、水（２０ｍｌ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍｌ）で抽出し、合わせた抽出物を無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５５（１８０ｍｇ、５０．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８１（ｄ，Ｊ＝５．７７ Ｈｚ，２Ｈ），４．９２－５．０７（ｍ，２Ｈ），３．３８（ｓ，３Ｈ），３．１１－３．２１（ｍ，２Ｈ），２．３１（ｄｄ，Ｊ＝３．１４、１２．６７ Ｈｚ，１Ｈ），２．０４（ｓ，１Ｈ），１．８１－１．９９（ｍ，２Ｈ），１．６５－１．８０（ｍ，５Ｈ），１．４６－１．５９（ｍ，５Ｈ），１．１６－１．４６（ｍ，１０Ｈ），０．９６－１．１３（ｍ，２Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．７２－０．８６（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度≧９９％，Ｃ２９Ｈ４３Ｎ３Ｏ３Ｎａ［Ｍ＋Ｎａ］＋についてＭＳ ＥＳＩ計算値５０４．３，実測値５０４．３。
実施例５６：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，９Ｓ，１１ａＳ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９－（メトキシメチル）－１１ａ，１３ａ－ジメチルオクタデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５６）の合成
Figure 2022538300000402
 ５６．２の合成
ＤＭＳＯ（４０ｍＬ）中のＭｅ３ＳＩ（２．２８ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．１６ｇ、１０．４ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を６０℃に温め、１時間撹拌した。ＤＭＳＯ（２０ｍＬ）中の４０．４ａ（３．００ｇ、９．５ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、反応物を６０℃でさらに１６時間撹拌した。混合物を冷却し、水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６．２（１．８３ｇ、５２．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．８０（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ）２．６１（ｓ，５Ｈ）１．６６－１．８９（ｍ，８Ｈ）１．３１－１．５４（ｍ，７Ｈ）０．７４－１．１６（ｍ，１３Ｈ）。
５６．３の合成
Ｎａ（１．２７ｇ、５５．３ｍｍｏｌ）を少量ずつ数回に分けてＭｅＯＨ（３０ｍＬ）に添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５６．２（１．８３ｇ、５．５ｍｍｏｌ）の溶液を添加し、混合物を６０℃に温め、６時間撹拌した。反応物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６．３（１．３５ｇ、６７．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．４２－３．４８（ｍ，１Ｈ）３．３５－３．３８（ｍ，３Ｈ）３．１２－３．２２（ｍ，２Ｈ）２．０６－２．６６（ｍ，４Ｈ）１．６７－１．８４（ｍ，５Ｈ）１．３０－１．５７（ｍ，９Ｈ）０．６２－１．２１（ｍ，１４Ｈ）。
５６．４の合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（８．２７ｇ、２２．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２．５０ｇ、２２．３ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を６０℃に温め、３０分間撹拌した。５６．３（１．３５ｇ、３．７ｍｍｏｌ）を分量で添加し、反応混合物を６０℃で１６時間撹拌して、黄色の懸濁液を得た。反応物を冷却し、１０％ ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）でクエンチした。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ／Ｈ２Ｏ（７０ｍＬ／７０ｍｌ）で室温で粉砕して、粗生成物を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製して、５６．４（８１０ｍｇ、５９．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．０４－５．２２（ｍ，１Ｈ）３．３８（ｓ，３Ｈ）３．１０－３．２５（ｍ，２Ｈ）２．４９（ｍ，１Ｈ）２．０９－２．３７（ｍ，２Ｈ）１．６０－２．００（ｍ，１１Ｈ）１．２８－１．５７（ｍ，７Ｈ）０．６７－１．２３（ｍ，１５Ｈ）。
５６．５の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の５６．４（８１０ｍｇ、２．２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（２．１６ｍＬ、１０Ｍ、２１．６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で１６時間撹拌し、次いでＥｔＯＨ（６．２９ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）でクエンチした。溶液を０℃で冷却し、ＮａＯＨ（２１．６ｍＬ、５．０Ｍ、１０８ｍｍｏｌ）、続いてＨ２Ｏ２（水中３０％、１０．７ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）を添加した。次いで、反応物を８０℃に加熱し、１時間撹拌した。冷却後、混合物を水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５６．５（９５０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３７（ｓ，３Ｈ）３．１２－３．２１（ｍ，２Ｈ）１．６７－１．９３（ｍ，９Ｈ）１．２９－１．６３（ｍ，１１Ｈ）１．０３－１．１６（ｍ，６Ｈ）０．６３－０．９７（ｍ，１３Ｈ）。
５６．６の合成
０℃で、ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の５６．５（８００ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（６５５ｍｇ）及びＰＣＣ（６４８ｍｇ、３．０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温まで０℃で１時間撹拌し、次いでＰＥ（５ｍＬ）を添加した。混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６．６（６７０ｍｇ、８４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３８（ｓ，３Ｈ）３．１１－３．２３（ｍ，２Ｈ）２．２２－２．５１（ｍ，１Ｈ）２．１０－２．１４（ｍ，３Ｈ）１．５９－１．９２（ｍ，１０Ｈ）１．２５－１．５５（ｍ，８Ｈ）０．５７－１．２１（ｍ，１５Ｈ）。
５６．７の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（４５ｍＬ）中の５６．６（６７０ｍｇ、１．７１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（１．８４ｇ、３４．２ｍｍｏｌ）を添加し、反応物を８０℃に加熱し、４８時間撹拌した。冷却後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６．７（６７．０ｍｇ、１０％）を得た。５６．７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３７（ｓ，３Ｈ）３．１１－３．１８（ｍ，２Ｈ）２．１５－２．３０（ｍ，２Ｈ）２．１０－２．１４（ｍ，３Ｈ）１．６７－１．９１（ｍ，５Ｈ）１．５２－１．６２（ｍ，４Ｈ）０．９２－１．５０（ｍ，１４Ｈ）０．９０（ｓ，３Ｈ）０．７３－０．８３（ｍ，３Ｈ）０．７０（ｓ，３Ｈ）。
５６．８の合成
メタノール（２ｍＬ）中の５６．７（４７．０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４０％、４．８０ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）を添加した。Ｂｒ２（２１．１ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を滴加し、暗色溶液を室温で２時間撹拌した。ＮａＨＣＯ３（３０ｍＬ）を添加し、懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５６．８（５０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８７－４．００（ｍ，２Ｈ）３．３８（ｓ，３Ｈ）３．１２－３．１９（ｍ，２Ｈ）２．５０－２．６１（ｍ，１Ｈ）１．６２－１．９１（ｍ，８Ｈ）１．２７－１．５２（ｍ，９Ｈ）０．９５－１．１９（ｍ，５Ｈ）０．６９－０．９３（ｍ，１１Ｈ）。
５６の合成
アセトン（２ｍｌ）中の５６．８（５０．０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（９．９０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（２９．３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、水（２０ｍｌ）に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５６（３０．０ｍｇ、５８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２（ｓ，１Ｈ）７．８１（ｓ，１Ｈ）４．９３－５．０６（ｍ，２Ｈ）３．３８（ｓ，３Ｈ）３．１２－３．２０（ｍ，２Ｈ）２．３１（ｄｄ，Ｊ＝１２．８、３．２ Ｈｚ，１Ｈ）２．１９（ｓ，１Ｈ）１．５８－１．９１（ｍ，９Ｈ）０．９６－１．４９（ｍ，１３Ｈ）０．９３（ｓ，３Ｈ）０．７３－０．８９（ｍ，４Ｈ）０．７１（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２９Ｈ４３Ｎ３Ｏ３［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４８２．３，実測値４８２．３。
実施例５７及び５８：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，９Ｓ，１１ａＲ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチル－２，３，４，４ａ，４ｂ，５，７，８，９，１０，１１，１１ａ，１１ｂ，１２，１３，１３ａ－ヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）エタノン（５７）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，９Ｓ，１１ａＲ，１１ｂＳ，１３ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１１ａ，１３ａ－トリメチル－２，３，４，４ａ，４ｂ，５，７，８，９，１０，１１，１１ａ，１１ｂ，１２，１３，１３ａ－ヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロヘプタ［ａ］フェナントレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（５８）の合成
Figure 2022538300000403
 ５７．２の合成
ＤＣＭ（２００ｍＬ）中の５７．１（２０．０ｇ、６９．３ｍｍｏｌ）、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール（８．４４ｇ、１０３ｍｍｏｌ）、ＴｓＣｌ（３９．４ｇ、２０７ｍｍｏｌ）及びＥｔ３Ｎ（４１．９ｇ、４１５ｍｍｏｌ）の溶液を、室温で１時間撹拌した。混合物をＨＣｌ（３００ｍＬ、０．５Ｍ）中に注ぎ入れ、次いでＤＣＭ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を水（５００ｍＬ）、飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．２（３５．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８０（ｄ，Ｊ＝８．４ Ｈｚ，２Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．０ Ｈｚ，２Ｈ），５．３５（ｄ，Ｊ＝５．２ Ｈｚ，１Ｈ），４．４０－４．２５（ｍ，１Ｈ），２．５０－１．５９（ｍ，１８Ｈ），１．５０－１．２０（ｍ，４Ｈ），０．９９（ｓ，３Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。
５７．３の合成
ＭｅＯＨ（３００ｍＬ）中の５７．２（３５．０ｇ、粗製）及びＣＨ３ＣＯＯＫ（４２．５ｇ、４３４ｍｍｏｌ）の溶液を、８０℃で１６時間撹拌した。混合物を濃縮し、水（３００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（１５０ｍＬ）を添加した。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～８％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．３（２０．０ｇ、８４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３５（ｓ，３Ｈ），２．８２（ｔ，Ｊ＝２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５５－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．２０－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５２－１．０８（ｍ，８Ｈ），１．０４（ｓ，３Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．８０（ｍ，３Ｈ），０．７５－０．７０（ｍ，１Ｈ），０．５１－０．４２（ｍ，１Ｈ）。
５７．４の合成
新たに調製したＬＤＡ（３３０ｍｍｏｌ、２００ｍＬのＴＨＦ中）を－７０℃に冷却し、次いでＴＨＦ（３５０ｍＬ）中の５７．３（２０．０ｇ、６６．１ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（３７．６ｇ、３３０ｍｍｏｌ）の撹拌及び冷却（－７０℃）溶液に添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌し、ＴＨＦ（５０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（１９．８ｇ、３３０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温まで温め、１６時間撹拌した。水（５００ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．４（２７．４ｇ、９９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．６８（ｓ，１Ｈ），４．３５－４．２０（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ），２．７８（ｔ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．００－１．６０（ｍ，５Ｈ），１．５２－１．２５（ｍ，９Ｈ），１．１０－１．０５（ｍ，２Ｈ），１．０３（ｓ，３Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．７５（ｍ，４Ｈ），０．６７－０．６０（ｍ，１Ｈ），０．４８－０．４０（ｍ，１Ｈ）。
５７．５の合成
ＤＭＥ（３００ｍＬ）中の５７．４（２７．４ｇ、６５．７ｍｍｏｌ）及びＲｈ２（ＯＡｃ）４（２９０ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）の溶液を室温で２時間撹拌した。混合物を濃縮し、水（２００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）を添加した。層を、水層をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．５（２３．５ｇ、粗製）を得た。
５７．６の合成
ＭｅＯＨ（３００ｍＬ）中の５７．５（２３．５ｇ、６０．４ｍｍｏｌ）及びＫＯＨ（２０．３ｇ、３６２ｍｍｏｌ）の溶液を、７０℃で２時間撹拌した。混合物を濃縮し、水（２００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）を添加した。層を分離し、水層をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．６（１７．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．３５（ｓ，３Ｈ），２．８３（ｔ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．７５－２．６０（ｍ，１Ｈ），２．３０－２．１０（ｍ，３Ｈ），１．９５－１．７０（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．２０（ｍ，７Ｈ），１．１４（ｓ，３Ｈ），１．１０－１．０５（ｍ，１Ｈ），１．０２（ｓ，３Ｈ），０．９５－０．８０（ｍ，３Ｈ），０．７５－０．７０（ｍ，１Ｈ），０．５５－０．４５（ｍ，１Ｈ）。
５７．７の合成
ＴＨＦ（３００ｍＬ）中のＥｔＰｈ３ＰＢｒ（１１９ｇ、３２２ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（３６．１ｇ、３２２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を５０℃に温め、１時間撹拌した。内部温度を６０℃未満に維持しながら、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中５７．６（１７．０ｇ、５３．７ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。混合物を６０℃で１６時間撹拌し、次いで室温に冷却した。飽和ＮＨ４Ｃｌ（５００ｍＬ）を添加し、得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ／水（８００ｍＬ／８００ｍＬ）で粉砕して、５７．７（１８．６ｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２５－５．１０（ｍ，１Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．５５－２．１０（ｍ，３Ｈ），２．００－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，５Ｈ），１．２２－０．８０（ｍ，１３Ｈ），０．７０－０．６５（ｍ，１Ｈ），０．５０－０．４０（ｍ，１Ｈ）。
５７．８の合成
１，４－ジオキサン（１００ｍＬ）中の５７．７（１８．６ｇ、５６．６ｍｍｏｌ）の溶液に、水（３０ｍＬ）中のＴｓＯＨ（１．０７ｇ、５．６６ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。混合物を７５℃に加熱し、１６時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．８（１６．０ｇ、９０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３５－５．３３（ｍ，１Ｈ），５．２５－５．１０（ｍ，１Ｈ），３．６０－３．４５（ｍ，１Ｈ），２．５５－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．４０－２．１０（ｍ，４Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．１０（ｍ，８Ｈ），１．０８－０．８０（ｍ，９Ｈ）。
５７．９の合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中５７．８（５．００ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）及びデス・マーチン試薬（１３．４ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）の溶液を４０℃で１時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ＮａＨＣＯ３（３００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×２００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．９（４．５０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３３（ｄｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１１．２ Ｈｚ，１Ｈ），５．２５－５．１５（ｍ，１Ｈ），３．２６（ｄｄ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１６．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．８２（ｄｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１６．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．６０－２．１０（ｍ，６Ｈ），２．００－１．５８（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，３Ｈ），１．２８－０．８０（ｍ，９Ｈ）。
５７．１０の合成
－７０℃で、ＴＨＦ（１２０ｍＬ）中の５７．９（４．５０ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（８．２１ｇ、７２．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＬＤＡ（３６．０ｍＬ、２．０Ｍ、７２．０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌し、ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のＨＯＡｃ（４．３２ｇ、７２．０ｍｍｏｌ）を－７０℃で添加した。混合物を２０℃に温め、１６時間撹拌した。混合物を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．１０（２．７０ｇ、４３．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４１（ｔ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，１Ｈ），５．２８－５．１０（ｍ，１Ｈ），４．３０－４．２０（ｍ，２Ｈ），３．１２（ｓ，１Ｈ），２．７０－１．６０（ｍ，１５Ｈ），１．５２－１．１５（ｍ，１１Ｈ），１．１０－０．８０（ｍ，７Ｈ）。
５７．１１及び５７．１１ａの合成
ＤＭＥ（３０ｍＬ）中の５７．１０（２．７０ｇ、６．３２ｍｍｏｌ）及びＲｈ２（ＯＡｃ）４（５５．８ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）の溶液を室温で１６時間撹拌した。混合物を飽和ブライン（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．１１及び５７．１１ａ（２．００ｇ、粗製）を得た。
５７．１２及び５７．１２ａの合成
ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の５７．１１（２．００ｇ、５．０１ｍｍｏｌ、５７．１１ａを含む）及びＮａＯＨ（１．６８ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）の溶液を、７５℃で１６時間撹拌した。混合物を冷却し、飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）溶液中に注ぎ入れ、懸濁液をＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．１２及び５７．１２ａ（１．００ｇ、不純）を得た。
５７．１３及び５７．１３ａの合成
ＭＡＤ（２５．７ｍｍｏｌ、５０ｍＬのトルエン中）の新たに調製した溶液を－７０℃に冷却し、ＤＣＭ（４０ｍＬ）中の５７．１２（２．８０ｇ、８．５７ｍｍｏｌ、５７．１２ａを含む）の溶液を添加した。混合物を－７０℃で１時間撹拌し、ＭｅＭｇＢｒ（８．５６ｍＬ、２５．７ｍｍｏｌ、３Ｍ）を添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌し、クエン酸（２００ｍＬ、水中１０％）溶液中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．１３（１．２０ｇ、不純、５７．１３ａを含む）を得た。
５７．１４及び５７．１４ａの合成
ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５７．１３（１．２０ｇ、５７．１３ａを含む）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（３．３８ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を６０℃で１６時間撹拌した。冷却後、ＥｔＯＨ（３．８６ｇ、８４．０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を１５分間撹拌し、次いで０℃で冷却し、ＮａＯＨ（１６．８ｍＬ、５．０Ｍ、８４．０ｍｍｏｌ）、続いてＨ２Ｏ２（９．５０ｇ、８４．０ｍｍｏｌ、３０％）を添加した。混合物を７０℃に温め、１時間撹拌した。冷却後、混合物を水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（１５０ｍＬ）、飽和ブライン（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７．１４（２．００ｇ、５７．１４ａを含む）を得た。
５７．１５及び５７．１５ａの合成
ＤＣＭ（１００ｍＬ）中の５７．１４（２．００ｇ、５７．１４ａを含む）及びデス・マーチン試薬（４．６６ｇ、１１．０ｍｍｏｌ）の溶液を、４０℃で３０分間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２Ｓ２Ｏ３（２×２００ｍＬ）、飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５７．１５（１．００ｇ、粗製、５７．１５ａを含む）を得た。
５７の合成
ＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の５７．１５（４００ｍｇ、５７．１５ａを含む）及びＭｅＯＮａ（１．１９ｇ、２２．２ｍｍｏｌ）の溶液を、還流で４８時間撹拌した。冷却後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＤＣＭ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５７（３００ｍｇ）を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ １５０＊３０ｍｍ＊５μｍ、条件：水（０．０４％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ、開始Ｂ：６０、終了Ｂ：９０、勾配時間（分）：８、１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、５７（１５０ｍｇ）を得た。混合物のＳＦＣ精製（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ－Ｈ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ＊５μｍ）、条件：０．１％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＩＰＡ、開始Ｂ：２５、終了Ｂ：２５）によってさらに精製して、５７（２０．０ｍｇ、１３％）を得た。５７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４４（ｄ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．３０（ｄｄ，Ｊ＝ ３．２ Ｈｚ，１２．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－２．１０（ｍ，４Ｈ），２．００－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２７（ｍ，９Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２４－０．９５（ｍ，４Ｈ），０．９４（ｓ，３Ｈ），０．８５（ｓ，３Ｈ），０．８４－０．７８（ｍ，１Ｈ）。ＬＣＭＳ純度≧９９％，Ｃ２４Ｈ３７Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３４１．３，実測値３４１．３。
５８．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の５７（２０．０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（１ｍｇ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（２２．３ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ３（３０ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５８．１（３０．０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．１５－４．０７（ｍ，１Ｈ），４．０１－３．８４（ｍ，２Ｈ），２．７４－２．５３（ｍ，１Ｈ），２．２９－２．２０（ｍ，１Ｈ），２．１６－２．０８（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．８３（ｍ，３Ｈ），１．７２－１．６２（ｍ，６Ｈ），１．５６－１．４３（ｍ，５Ｈ），１．３４－１．２２（ｍ，８Ｈ），１．１０（ｓ，３Ｈ），１．０４－０．９７（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．８３（ｍ，１Ｈ）。
５８．２の合成
アセトン（５ｍＬ）中の５８．１（９０．０ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（４８．０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１９．４ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で２時間撹拌した。反応物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５８．２（４０．０ｍｇ、４３．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６－７．７８（ｍ，２Ｈ），５．００（ｑ，Ｊ＝１８．４ Ｈｚ，２Ｈ），４．１５－４．０８（ｍ，１Ｈ），２．３７－２．３１（ｍ，１Ｈ），２．２８－２．２２（ｍ，１Ｈ），２．１６－２．０９（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６２（ｍ，９Ｈ），１．５３－１．４７（ｍ，３Ｈ），１．４３－１．２８（ｍ，４Ｈ），１．２７－１．１５（ｍ，７Ｈ），１．１２（ｓ，３Ｈ），１．０６－１．０３（ｍ，１Ｈ），１．００（ｓ，３Ｈ）。
５８の合成
ＨＯＡｃ（１０ｍＬ）及び水（０．５ｍＬ）中の５８．２（３０．０ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）の溶液に、亜鉛（７３８ｍｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で１時間撹拌し、次いで飽和ＮＨ４Ｃｌ（５０ｍＬ）水溶液中に注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＣｏｍｂｉＦｌａｓｈ（登録商標）（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５８（１８．５ｍｇ、６０．１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７－７．７９（ｍ，２Ｈ），５．４９－５．４１（ｍ，１Ｈ），５．０９－４．９１（ｍ，２Ｈ），２．３８－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１２（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．５１－１．３４（ｍ，８Ｈ），１．２９－１．１８（ｍ，７Ｈ），１．１１－１．００（ｍ，１Ｈ），０．９７（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．８３（ｍ，４Ｈ）。ＬＣＭＳ純度≧９９％，Ｃ２８Ｈ３８Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３２．３，実測値４３２．３。
実施例５９及び６０及び６１及び６２及び６３及び６４及び６５：１－（（１Ｓ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）エタノン（５９）の合成及び１－（２－（（１Ｓ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（６０）の合成及び１－（２－（（１Ｒ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（６１）の合成及び１－（（１Ｓ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ、１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（６２）の合成及び１－（（１Ｓ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（６３）の合成及び１－（（１Ｒ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（６４）の合成及び１－（（１Ｒ，５ａＳ，５ｂＲ，７ａＲ，９Ｒ，１２ａＳ，１２ｂＳ，１４ａＳ）－９－ヒドロキシ－９，１２ａ，１４ａ－トリメチルイコサヒドロジシクロヘプタ［ａ，ｆ］ナフタレン－１－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（６５）の合成
Figure 2022538300000404
 ５９．１の合成
新たに調製したＭＡＤ（１８．９ｍｍｏｌ）溶液を、－７０℃に冷却し、ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の３７．４（２ｇ、６．３１ｍｍｏｌ）を滴加した。－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（６．３０ｍＬ、エチルエーテル中３Ｍ、１８．９ｍｍｏｌ、）を滴加し、得られた溶液を－７０℃で４時間撹拌した。反応混合物を、内部温度を１０℃未満に保ちながら、飽和クエン酸水溶液（２００ｍＬ）中にゆっくりと注ぎ入れた。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５９．１（８７０ｍｇ、４１．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６７－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．０９－１．９５（ｍ，２Ｈ），１．８７－１．６９（ｍ，５Ｈ），１．６８－１．５８（ｍ，２Ｈ），１．５３－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２８－１．１６（ｍ，７Ｈ），１．１４－０．９３（ｍ，６Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．８７－０．７６（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２２Ｈ３２［Ｍ－２Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２９７．２，実測値２９７．２。
５９．２の合成
－７０℃で、冷却した（－７０℃）ＬＤＡ溶液（１０８ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ（１８０ｍＬ）中の５９．１（６．００ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１２．３ｇ、１０８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌し、次いでＴＨＦ（２０ｍＬ）中の酢酸（６．４７ｇ、１０８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、１６時間撹拌した。水（３００ｍＬ）及びＰＥ（３００ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中のＥｔＯＡｃの０～３５％）によって精製して、生成物５９．２（５．００ｇ、８３．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．２８－４．１８（ｍ，２Ｈ），２．０４－１．６７（ｍ，８Ｈ），１．６５－１．４１（ｍ，９Ｈ），１．３７－１．２２（ｍ，１１Ｈ），１．２０－０．９４（ｍ，６Ｈ），０．８８－０．８２（ｍ，６Ｈ）。
５９．３の合成
ＤＭＥ（１００ｍＬ）中の５９．２（５．００ｇ、１１．１ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（９８．１ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を５０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を濃縮して、生成物５９．３（５．１０ｇ、粗製）を得、これをさらに精製することなく次のステップに使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．５７－３．９３（ｍ，３Ｈ），２．２７－１．９６（ｍ，２Ｈ），１．８８－１．５４（ｍ，１０Ｈ），１．５１－１．３２（ｍ，７Ｈ），１．３１－１．１６（ｍ，１１Ｈ），１．１５－１．０１（ｍ，５Ｈ），０．９４－０．７５（ｍ，４Ｈ）。
５９．４の合成
ＥｔＯＨ（１００ｍＬ）中の５９．３（５．００ｇ、１１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｈ２Ｏ（３０ｍＬ）及びＮａＯＨ（７．１１ｇ、１７８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を８０℃で１６時間撹拌し、次いで冷却し、濃縮した。Ｈ２Ｏ（２００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）を添加し、層を分離した。水層をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、生成物（２．５０ｇ、粗製）を得た。５０ｍｇの粗製５９．４をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、純粋な生成物５９．４（２３．２ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ３．０８－２．９６（ｍ，１Ｈ），２．３２－２．２１（ｍ，１Ｈ），２．１２－２．００（ｍ，１Ｈ），１．８８－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．３５（ｍ，９Ｈ），１．３４－１．２２（ｍ，６Ｈ），１．２１－１．０７（ｍ，５Ｈ），１．０４（ｓ，３Ｈ），０．９３－０．８２（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３２９．３，実測値３２９．３。
５９．５の合成
－４０℃で、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中のＴＭＳＣＨ２Ｌｉ（１１８ｍＬ、６６．３ｍｍｏｌ、０．５６Ｍ）の溶液に、ＴＨＦ（２０ｍＬ）中の５９．４（２．３０ｇ、６．６３ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。反応物を室温に温め、１６時間撹拌した。混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×６０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中に溶解し、ＴｓＯＨ（５０ｍｇ）を添加した。混合物を１０分間撹拌し、次いで飽和ＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ）中に注ぎ入れた。懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×５０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５９．５（２．００ｇ、８７．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．８０（ｄ，Ｊ＝１．６ Ｈｚ，１Ｈ），４．７３（ｓ，１Ｈ），２．４７－２．３４（ｍ，１Ｈ），２．２４－２．１３（ｍ，１Ｈ），２．１１－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．６４（ｍ，６Ｈ），１．４９－１．３０（ｍ，９Ｈ），１．２８－１．１１（ｍ，１１Ｈ），１．０８－０．９６（ｍ，５Ｈ），０．９０－０．７６（ｍ，４Ｈ）。
５９．６の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の５９．５（２．００ｇ、５．８０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３－Ｍｅ２Ｓ（２．８８ｍＬ、２８．９ｍｍｏｌ、１０Ｍ）を添加した。混合物を４５℃で１時間撹拌し、次いで０℃に冷却した。エタノール（５．２９ｇ、１１５ｍｍｏｌ）を添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（２３．０ｍＬ、５．０Ｍ、１１５ｍｍｏｌ）を添加した。内部温度を１５℃未満に維持しながら、Ｈ２Ｏ２（１１．５ｍＬ、１０Ｍ、１１５ｍｍｏｌ）を滴加した。次いで、反応混合物を７０℃に加熱し、１時間撹拌した。混合物を冷却し、水（１００ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、飽和Ｎａ２ＳＯ３水溶液（１００ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、５９．６（２．１０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０－３．７０（ｍ，１Ｈ），３．３５－３．２２（ｍ，１Ｈ），２．１０－２．０４（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．６４（ｍ，７Ｈ），１．５５－１．３２（ｍ，１０Ｈ），１．２９－１．０１（ｍ，１４Ｈ），０．９４－０．６９（ｍ，８Ｈ）。
５９．７の合成
ＤＣＭ（３０ｍＬ）中の５９．６（２．１０ｇ、粗製）の溶液に、シリカゲル（３．００ｇ）及びＰＣＣ（２．４７ｇ、１１．５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×５０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮して５９．７（２．１０ｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
５９．８及び５９．８ａの合成
０℃で、ＴＨＦ（３０ｍＬ）中の５９．７（２．１０ｇ、粗製）の溶液に、ＭｅＭｇＢｒ（９．７０ｍＬ、エチルエーテル中３Ｍ、２９．１ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温に温め、１時間撹拌した。得られた黒色懸濁液を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、５９．８（４５０ｍｇ、２０．４％）及び５９．８ａ（４５０ｍｇ、２０．４％）を得た。５９．８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．３２－４．１９（ｍ，１Ｈ），２．０７－１．７０（ｍ，８Ｈ），１．４５－１．３４（ｍ，９Ｈ），１．２７－１．１０（ｍ，１２Ｈ），１．０５－０．９６（ｍ，３Ｈ），０．９３－０．７１（ｍ，１１Ｈ）。５９．８ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．１６－４．０２（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．９２（ｍ，２Ｈ），１．８５－１．６６（ｍ，５Ｈ），１．５６－１．３７（ｍ，８Ｈ），１．３５－１．２３（ｍ，８Ｈ），１．２２－１．０７（ｍ，１０Ｈ），１．０４－０．９７（ｍ，２Ｈ），０．９２－０．７２（ｍ，８Ｈ）。
５９の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の５９．８（４５０ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（１．００ｇ）及びＰＣＣ（５１１ｍｇ、２．３８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で１時間撹拌し、茶色の懸濁液を得た。混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物５９（４１０ｍｇ、不純）を得た。４０．０ｍｇの粗製５９をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、純粋な生成物５９（２０．６ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２．４２－２．３１（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．０７－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．６１（ｍ，８Ｈ），１．５５－１．３１（ｍ，９Ｈ），１．２８－１．１２（ｍ，１０Ｈ），１．０７－０．９６（ｍ，５Ｈ），０．８７－０．７５（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２５Ｈ４１Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５７．３，実測値３５７．３。
６０．１の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の５９（７０．０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（３ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（３５．８ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、２時間撹拌した。反応物を飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、６０．１（９０．０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
６０の合成
アセトン（５ｍＬ）中の６０．１（７０．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（４２．５ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１７．２ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌し、次いで飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物６０（１６．９ｍｇ、２３．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８４－７．７９（ｍ，２Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），２．４２－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．０９－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．８７－１．６３（ｍ，８Ｈ），１．５６－１．３２（ｍ，８Ｈ），１．３０－１．０９（ｍ，１１Ｈ），１．０８－０．９７（ｍ，５Ｈ），０．８９－０．７３（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
６１．１の合成
ＤＣＭ（２０ｍＬ）中の５９．８ａ（４５０ｍｇ、１．１９ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（１．００ｇ）及びＰＣＣ（５１１ｍｇ、２．３８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、茶色の懸濁液を得た。混合物を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、生成物６１．１（４００ｍｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２．４３（ｄ，Ｊ＝１０．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．１５－２．０２（ｍ，４Ｈ），１．９１－１．５９（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．３０（ｍ，７Ｈ），１．２８－１．１０（ｍ，１３Ｈ），１．０７－０．９７（ｍ，４Ｈ），０．８９－０．７７（ｍ，４Ｈ）。
６１．２の合成
０℃で、ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の６１．１（７０．０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（３．００ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（３５．８ｍｇ、０．２２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃に温め、２時間撹拌した。混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、次いでＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、６１．２（９０．０ｍｇ、粗製）を得、これを次のステップに直接使用した。
６１の合成
アセトン（５ｍＬ）中の６１．２（７０．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（４２．５ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（１７．２ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で２時間撹拌し、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して粗生成物を得、これを分取ＨＰＬＣ（カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｇｅｍｉｎｉ－ＮＸ １５０＊３０ｍｍ＊５ｕｍ；条件：水（０．０４％ ＮＨ３Ｈ２Ｏ＋１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：６５；終了Ｂ：９５；勾配時間（分）：８；１００％Ｂ保持時間（分）：１）によってさらに精製して、生成物６１（２９．５ｍｇ、４０．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．０９－４．９１（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｄ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．０７－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９２－１．６３（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．３３（ｍ，７Ｈ），１．２８－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．１５－１．０９（ｍ，６Ｈ），１．０５－０．９７（ｍ，１Ｈ），０．８８－０．８１（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２９Ｈ４２Ｎ３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４８．３，実測値４４８．３。
６２及び６３の合成
アセトン（１０ｍｌ）中の６０．１（２００ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（１２１ｍｇ、０．８８ｍｍｏｌ）及び５－メチル－１Ｈ－テルタゾール（４４．４ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６２（６５．０ｍｇ、不純）及び６３（３２．１ｍｇ、１５．９％）を得た。不純な生成物６２（６５．０ｍｇ）を、分取ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７５；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：９．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、純粋な生成物６２（２３．７ｍｇ、１１．５％）を得た。６２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ５．３８（ｓ，２Ｈ），２．６０－２．５４（ｍ，１Ｈ），２．４２－２．３３（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．９９（ｍ，１Ｈ），１．８１－１．６１（ｍ，１２Ｈ），１．４７－１．２５（ｍ，１２Ｈ），１．２２－１．０１（ｍ，１０Ｈ），０．８８－０．７８（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２７Ｈ４３Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３９．３，実測値４３９．３。６３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ５．２１－５．０３（ｍ，１Ｈ），５．１４（ｄ，Ｊ＝２．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．５２－２．３８（ｍ，４Ｈ），２．０９－１．９８（ｍ，１Ｈ），１．８９－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．４１（ｍ，５Ｈ），１．４０－１．２４（ｍ，８Ｈ），１．２１－０．９９（ｍ，９Ｈ），０．９２－０．７８（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２７Ｈ４３Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３９．３，実測値４３９．３。
６４及び６５の合成
アセトン（１０ｍｌ）中の６１．２（１４０ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（９８．４ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ）及びメチル－１Ｈ－テルタゾール（３９．８ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温で２時間撹拌し、次いで水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌した。得られた懸濁液をＥｔＯＡｃ（３×１０ｍＬ）で抽出し、合わせた有機相を飽和ブラインで洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６４（６５．０ｍｇ、不純）及び６５（２８．１ｍｇ、１１．１％）を得た。不純な生成物６４（６５．０ｍｇ）を、分取ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５μｍ；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）－ＡＣＮ；開始Ｂ：７５；終了Ｂ：１００；勾配時間（分）：９．５；１００％Ｂ保持時間（分）：２）によってさらに精製して、純粋な生成物６４（２０．０ｍｇ、７．９％）を得た。６４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．５０－５．３２（ｍ，２Ｈ），２．６３－２．５９（ｍ，１Ｈ），２．５６（ｓ，３Ｈ），２．０８－２．００（ｍ，１Ｈ），１．９６－１．６３（ｍ，９Ｈ），１．５４－１．４３（ｍ，４Ｈ），１．４１－１．２１（ｍ，１３Ｈ），１．１８－０．９６（ｍ，８Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２７Ｈ４３Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３９．３，実測値４３９．３。６５：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１４（ｓ，２Ｈ），２．６８－２．６２（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．１１－１．６５（ｍ，１０Ｈ），１．４９－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．３０－１．２０（ｍ，１０Ｈ），１．１８－０．９６（ｍ，８Ｈ），０．９１－０．８２（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度≧９９％，Ｃ２７Ｈ４３Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３９．３，実測値４３９．３。
実施例６６及び６７：１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）エタン－１－オン（６６）の合成及び１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｒ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）エタン－１－オン（６７）の合成
Figure 2022538300000405
 １．２の合成
ピリジン（３００ｍＬ）中の６６．１（２５ｇ、８６ｍｍｏｌ、特許ＷＯ２０１４／１６９８３３に報告されている）及びＤＭＡＰ（１０．５ｇ、８６ｍｍｏｌ）の溶液に、塩化ベンゾイル（２４．１ｇ、１７２ｍｍｏｌ）を２０℃で滴加した。７０℃で１２時間撹拌した後、混合物を冷却し、次いで氷水（４００ｍＬ）中に注ぎ入れた。反応混合物をＥｔＯＡｃ（３×３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．２（２９ｇ、８６％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．００（ｄ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，２Ｈ），７．５３－７．４９（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，２Ｈ），２．４９－２．４０（ｍ，１Ｈ），２．１９－２．０４（ｍ，２Ｈ），２．０１－１．８８（ｍ，５Ｈ），１．８６－１．７７（ｍ，３Ｈ），１．６２－１．５２（ｍ，４Ｈ），１．５１－１．０９（ｍ，１１Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ）。
６６．３の合成
ＥｔＯＨ（５００ｍＬ）中の６６．２（２９ｇ、７３．５ｍｍｏｌ）の溶液に、塩酸ヒドロキシルアミン（２０．４ｇ、２９４ｍｍｏｌ）及び酢酸ナトリウム（２４．１ｇ、２９４ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。８０℃で２時間加熱した後、混合物を冷却し、濃縮した。残渣を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．３（２１ｇ、７０％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０１－７．９６（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．４８（ｍ，１Ｈ），７．４４－７．３７（ｍ，２Ｈ），２．５８－２．４０（ｍ，２Ｈ），２．１９－２．０８（ｍ，２Ｈ），２．００－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．７２－１．６４（ｍ，４Ｈ），１．５６－１．２９（ｍ，８Ｈ），１．２１－１．０９（ｍ，３Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ）。
６６．４の合成
トルエン（１００ｍＬ）及びＤＭＳＯ（１００ｍＬ）中の６６．３（２５ｇ、６１．０ｍｍｏｌ）及びＤＣＣ（３７．７ｇ、１８３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＦＡ（４．８５ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）を室温で滴加した。室温で１時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（２５０ｍＬ、飽和）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で希釈した。反応混合物を濾過し、有機層を分離し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２．５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．４（９．５ｇ、４０％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１０－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．６０－７．５０（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），４．８０（ｓ，１Ｈ），４．４８（ｓ，１Ｈ），２．６０－１．７５（ｍ，１２Ｈ），１．６９（ｓ，３Ｈ），１．６５－１．５５（ｍ，３Ｈ），１．５０－１．１０（ｍ，５Ｈ），１．００－０．８０（ｍ，３Ｈ）。
６６．５の合成
ＤＣＭ（９０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（９０ｍＬ）中の６６．４（９．５ｇ、２４．２ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨＣＯ３（９ｇ、１０７ｍｍｏｌ）を添加した。－７０℃に冷却した後、オゾンを、青色が持続するまでおよそ３０分間反応混合物中に泡立てた。過剰のオゾンを、反応が無色になるまでＯ２流によって除去した。次いで、Ｍｅ２Ｓ（９．５７ｇ、１５４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を１０℃に温め、１時間撹拌した。混合物を濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．５（５．６ｇ、５９％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１０－８．００（ｍ，２Ｈ），７．６０－７．５０（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），２．５０－２．４０（ｍ，４Ｈ），２．４０－２．２０（ｍ，３Ｈ），２．１５－２．０５（ｍ，１Ｈ），２．００－１．８５（ｍ，６Ｈ），１．８０－１．７５（ｍ，１Ｈ），１．７１（ｓ，３Ｈ），１．６５－１．６０（ｍ，２Ｈ），１．５５－１．１５（ｍ，６Ｈ）。
６６．６の合成
ＴＨＦ（３５ｍＬ）中の６６．５（１．４ｇ、３．５５ｍｍｏｌ）及びｔ－ＢｕＯＨ（５２６ｍｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＳｍＩ２（１０６ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、１０．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、－２０℃未満で添加した。濃青色の混合物を、流れる冷却水によって冷却しながら、２つの２７５Ｗタングステンランプによって１時間照射して、内部温度を－６℃下で維持した。混合物を真空中で濃縮した。残渣をＨＣｌ（２５ｍＬ、１Ｍ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、ＳＭ（６６．５）及び６６．６（１．７ｇ、３：７）の混合物を油として得た。
６６．７の合成
ＴＨＦ（１５０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の６６．６（６．７ｇ、約３０％ ６６．５の混合物として）の溶液に、ＳｍＩ２（３３６ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、３３．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、１０℃で滴加した。１０℃で２０分以上撹拌した後、混合物を真空中で濃縮した。残渣をＨＣｌ（１００ｍＬ、１Ｍ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．７（３．２ｇ、５０％、Ｃ－１３混合物（１：１））及び回収した６６．５（１．４ｇ）を両方とも固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０５－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．４５（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），２．４０－１．７５（ｍ，１２Ｈ），１．７５－１．６５（ｍ，３Ｈ），１．６５－０．８０（ｍ，１１Ｈ），０．７５－０．５０（ｍ，１Ｈ）。
６６．８及び６６．１８ａの合成
ＴＨＦ（１５ｍＬ）及びＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の６６．７（３．２ｇ、８．４ｍｍｏｌ）の溶液に、水（１５ｍＬ）中のＮａＯＨ（１．６７ｇ、４２ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で２０時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。ジアステレオマーをフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～１０％のアセトン）によって分離して、６６．８ａ（１．７ｇ）及び６６．８（０．９ｇ）を得た。６６．８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．６，１７．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－１．９５（ｍ，４Ｈ），１．９０－１．７５（ｍ，３Ｈ），１．７０－１．５０（ｍ，５Ｈ），１．５０－１．１５（ｍ，１３Ｈ），１．１０－０．９５（ｍ，１Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ１８Ｈ２７Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２５９．２，実測値２５９．２６６．８ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．３０－２．１０（ｍ，４Ｈ），２．０５－１．９５（ｍ，２Ｈ），１．９０－１．６５（ｍ，６Ｈ），１．６０－１．４０（ｍ，６Ｈ），１．３５－１．０５（ｍ，８Ｈ），０．６５－０．４５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ１８Ｈ２７Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２５９．２，実測値２５９．１。
６６．９の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（８．０１ｇ、２１．６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（１．８１ｇ、１６．２ｍｍｏｌ）を添加した。３５℃で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の６６．８（１．５ｇ、５．４２ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。３５℃で１時間撹拌した後、反応混合物をＮＨ４Ｃｌ（２０ｍＬ、飽和）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、真空中で濃縮し、ＭＴＢＥ（４０ｍＬ）中で１６時間粉砕して、Ｐｈ３ＰＯを除去した。混合物を濾過し、濾液を真空下で濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）から精製して、６６．９（１．７ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３５－５．２０（ｍ，０．５Ｈ），５．１５－５．００（ｍ，０．５Ｈ），２．５０－２．４０（ｍ，０．５Ｈ），２．３５－２．１０（ｍ，２Ｈ），２．０５－１．７０（ｍ，６．５Ｈ），１．６０－１．３０（ｍ，１１Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２０－０．９５（ｍ，４Ｈ），０．９５－０．７５（ｍ，４Ｈ）。
６６．１０の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中の６６．９（１．７ｇ、５．８９ｍｍｏｌ）の溶液を、９－ＢＢＮ二量体（２．８５ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）を１０℃で添加した。４５℃で３時間撹拌した後、エタノール（３．２５ｇ、７０．６ｍｍｏｌ）を１５℃で添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（１４．１ｍＬ、５．０Ｍ、７０．６ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（７．０６ｍＬ、１０Ｍ、７０．６ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。６０℃で１時間撹拌した後、混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２ＳＯ３（４０ｍＬ、飽和水溶液）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機溶液をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６６．１０（１．８ｇ、１００％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９０－３．６０（ｍ，１Ｈ），２．１５－１．７５（ｍ，７Ｈ），１．７０－１．３０（ｍ，１４Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２０－０．７０（ｍ，９Ｈ）。
６６及び６７の合成
ＤＣＭ（５０ｍＬ）中の６６．１０（１．８ｇ、５．８７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（４．９６ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）を添加した。３０℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ、飽和）及びＮａ２Ｓ２Ｏ３（５０ｍＬ、飽和）の混合物でクエンチした。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、Ｃ１７（１．５ｇ）でジアステレオマーの混合物を得、これをフラッシュカラム（ＤＣＭ中０～５％のアセトン）によって分離して、６６（１．１ｇ）及び６７（０．１８ｇ）を得た。構造は、Ｘ線単結晶回折分析によって決定した。６６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５０（ｄｔ，Ｊ＝７．６，１０．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），１．９５－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，１Ｈ），１．５５－１．２０（ｍ，１３Ｈ），１．１５－０．９５（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．７０（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２０Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８７．２，実測値２８７．３。６７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．１３（ｄｔ，Ｊ＝２．８，８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），１．９５－１．３５（ｍ，１５Ｈ）、１．３５－０．９５（ｍ，１１Ｈ），０．９０－０．６５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２０Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８７．２，実測値２８７．２。
実施例６８：１－（２－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000406
 ６８．１の合成
ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の６６（２００ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（２６．５ｍｇ、４０％水溶液、０．１３ｍｍｏｌ）及びＢｒ２（１０４ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）を添加した。１５℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ、飽和水溶液）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、６８．１（２５０ｍｇ、１００％）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９３（ｓ，２Ｈ），２．９０－２．７５（ｍ，１Ｈ），２．００－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，１Ｈ），１．５５－１．０５（ｍ，１７Ｈ），０．９５－０．７０（ｍ，２Ｈ）。
６８の合成
アセトン（５ｍＬ）中の６８．１（２５０ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノ－ピラゾール（９１ｍｇ、０．９８ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（１７９ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を添加した。１５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、濾過した。沈殿物を水（１０ｍＬ）で洗浄し、真空中で乾燥させた。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中２０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、ＭｅＣＮ／水（２０ｍＬ／２０ｍＬ）に再溶解し、凍結乾燥して、６８（１３５．２ｍｇ、５２％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．１０－４．９２（ｍ，２Ｈ），２．６３－２．５０（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．７３（ｍ，８Ｈ），１．７０－１．００（ｍ，１８Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３４Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３９６．３，実測値３９６．２。
実施例６９及び７０：１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタン－１－オン（６９）及び１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタン－１－オン（７０）の合成
Figure 2022538300000407
 アセトン（５ｍＬ）中の６８．１（２２０ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（２３７ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）及び５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（９５．８ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で２時間撹拌した後、混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１００％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、６９（５９．５ｍｇ、２７％）及び７０（９８．５ｍｇ、４５％）を固体として得た。６９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４５－５．３５（ｍ，２Ｈ），２．６０－２．４５（ｍ，４Ｈ），２．００－１．６０（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，９Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．００（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３８７．３，実測値３８７．３。７０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２１－５．１０（ｍ，２Ｈ），２．７０－２．５５（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．０５－１．６０（ｍ，９Ｈ），１．５２－１．２８（ｍ，１０Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．２５－１．０５（ｍ，４Ｈ），０．９０－０．７５（ｍ，２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３８７．３，実測値３８７．３。
実施例７１：１－（２－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｒ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（６）の合成
Figure 2022538300000408
 ７１．１の合成
ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の６７（１０１ｍｇ、０．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１３．４ｍｇ、０．０６６ｍｍｏｌ、４０％）及びＢｒ２（５８．３ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を０℃で添加し、１５℃で１６時間撹拌した。得られた混合物を飽和ＮａＨＣＯ３／水（５０ｍＬ／５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、７１．１（１１０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．００－３．８５（ｍ，２Ｈ），３．４８－３．３５（ｍ，１Ｈ），１．９９－１．７０（ｍ，８Ｈ），１．６９－１．２６（ｍ，１１Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．２２－０．７０（ｍ，６Ｈ）。
７１の合成
アセトン（５ｍＬ）中の７１．１（１１０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、Ｋ２ＣＯ３（７９．１ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）及び４－シアノ－ピラゾール（５３．４ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）の溶液を、１５℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ブライン（５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水層をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を、水（２×１００ｍＬ）、飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７１（５３．１ｍｇ、４７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），５．１０－４．８５（ｍ，２Ｈ），３．１５（ｄｔ，Ｊ＝２．８ Ｈｚ，８．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．０８－１．５９（ｍ，１０Ｈ），１．５２－１．２６（ｍ，９Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．２２－０．７０（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３２Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３７８．３，実測値３７８．２。
実施例７２：１－（（３Ｒ，５Ｓ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）エタノン（７２）の合成
Figure 2022538300000409
 ７２．２の合成
ＴＨＦ（８００ｍＬ、無水）中のＬｉＣｌ（８．０９ｇ、１９１ｍｍｏｌ、無水）の懸濁液をＮ２下、１０℃で３０分間撹拌した。ＦｅＣｌ３（１６．２ｇ、１００ｍｍｏｌ、無水）を１０℃で添加した。混合物を－３０℃に冷却した。ＭｅＭｇＢｒ（１２１ｍＬ、ジエチルエーテル中３Ｍ、３６４ｍｍｏｌ）を、－３０℃で混合物に滴加した。得られた混合物を－３０℃で１０分間撹拌した。７２．１（２５．０ｇ、９１．１ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１５／１８０６７９，２０１５，Ａ１」に報告されている）を、－３０℃で添加した。－１５℃で２時間撹拌した後、混合物をクエン酸（５００ｍＬ、２０％水溶液）に添加し、濃縮して、ほとんどの溶媒を除去した。ＥｔＯＡｃ（３００ｍＬ）を残渣に添加し、得られた混合物を濾過した。固体を水（１００ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）で洗浄し、真空中で乾燥させて、７２．２（２０．０ｇ、７５．７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＭｅＯＤ）δＨ ２．５０－２．３７（ｍ，１Ｈ），２．１４－１．２０（ｍ，１７Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ），１．１２－１．０２（ｍ，３Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．７９－０．６７（ｍ，２Ｈ）。
７２．３の合成
ＤＣＭ（２５０ｍＬ）中の７２．２（２７．０ｇ、９２．９ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（１１．３ｇ、９２．９ｍｍｏｌ）の溶液に、２０℃でＴＥＡ（２５．９ｍＬ、１８５ｍｍｏｌ）及びＡｃ２Ｏ（２６．２ｍＬ、２７８ｍｍｏｌ）を滴加した。２０℃で１６時間撹拌した後、混合物を冷却し、次いで氷水（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．３（２０．０ｇ、６４．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５０－２．３０（ｍ，２Ｈ），２．２６－２．１８（ｍ，１Ｈ），２．１３－２．０５（ｍ，１Ｈ），１．９９（ｓ，３Ｈ），１．９５－１．６１（ｍ，６Ｈ），１．４５（ｓ，３Ｈ），１．３２－０．９６（ｍ，１１Ｈ），０．８７（ｓ，３Ｈ），０．８０－０．６６（ｍ，２Ｈ）。
７２．４の合成
ＥｔＯＨ（２００ｍＬ）中の７２．３（２０．０ｇ、６０．１ｍｍｏｌ）の溶液に、塩酸ヒドロキシルアミン（１６．６ｇ、２４０ｍｍｏｌ）及び酢酸ナトリウム（１９．６ｇ、２４０ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。８０℃で１６時間還流した後、混合物を水（４００ｍＬ）中に注ぎ入れた。混合物を濾過した。固体を水（２００ｍＬ）で洗浄し、ＤＣＭ（３００ｍＬ）に溶解し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７２．４（２０．０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），２．５５－２．４０（ｍ，２Ｈ），２．３８－２．３０（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），１．９９（ｓ，３Ｈ），１．８９－１．６３（ｍ，７Ｈ），１．４５（ｓ，３Ｈ），１．４２－１．２９（ｍ，２Ｈ），１．２１－０．９７（ｍ，８Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．７７－０．６８（ｍ，２Ｈ）。
７２．５の合成
Ｎ２下、６０℃で無水ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の７２．４（２０．０ｇ、５７．５ｍｍｏｌ）及びＣＨ（ＯＭｅ）３（１６．７ｇ、１５８ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、新たに蒸留したＴＦＡ（８．１８ｇ、７１．８ｍｍｏｌ）を一度に添加した。６５℃で４時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（８０ｍＬ、飽和）によってクエンチした。ＥｔＯＡｃ（２００ｍＬ）を混合物に添加した。混合物を濾過し、有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．５（１０．０ｇ、５２．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．７９（ｓ，１Ｈ），４．４８（ｓ，１Ｈ），２．４１－２．２９（ｍ，４Ｈ），２．２５－２．０６（ｍ，４Ｈ），２．００（ｓ，３Ｈ），１．８４－１．６８（ｍ，４Ｈ），１．４８－１．４２（ｍ，５Ｈ），１．０９－０．８６（ｍ，１０Ｈ），０．６８－０．５５（ｍ，１Ｈ）。
７２．６の合成
ＤＣＭ（１４０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（１４０ｍＬ）中の７２．５（１４．０ｇ、４２．４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨＣＯ３（１４．０ｇ、１６６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、青色が持続するまで－７０℃で３０分間、オゾン（１ａｔｍ）で泡立てた。過剰のオゾンをＯ２流によって除去したところ、混合物は無色になった。Ｍｅ２Ｓ（１．４０ｇ、２２５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２０℃に温め、１６時間撹拌した。混合物を濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．６（９．００ｇ、６４．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４９－２．２１（ｍ，８Ｈ），２．０１（ｓ，３Ｈ），１．９４－１．７４（ｍ，４Ｈ），１．７２－１．６４（ｍ，１Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ），１．３２－０．９１（ｍ，９Ｈ），０．７５－０．６２（ｍ，１Ｈ）。
７．７の合成
ＴＨＦ（３５ｍＬ）中の７２．６（１．５０ｇ、４．５２ｍｍｏｌ）及びｔ－ＢｕＯＨ（６７０ｍｇ、９．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＳｍＩ２（１３４ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、１３．５ｍｍｏｌ）をＮ２下、－２０℃未満で添加した。濃青色の混合物を、流れる冷却水によって冷却しながら、２つの２７５Ｗタングステンランプによって１時間照射して、内部温度を－１０℃下で維持して、淡黄色の溶液を得た。混合物を真空中で濃縮した。ＨＣｌ（１０ｍＬ、１Ｍ）を残渣に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗製７２．６及び７２．７（１．７０ｇ粗製）の混合物を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５０－２．０６（ｍ，７Ｈ），２．０３－１．９８（ｍ，３Ｈ），１．９２－１．５９（ｍ，５Ｈ），１．４９－１．４２（ｍ，３Ｈ），１．３６－０．５５（ｍ，１２Ｈ）。
７２．８の合成
ＴＨＦ（１８０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（３６ｍＬ）中の７２．７（８．０ｇ、２３．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＳｍＩ２（４７７ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、４７．８ｍｍｏｌ）をＮ２下、１０℃で滴加した。青色は、淡黄色の溶液を得るまで数秒で色あせた。１０℃でさらに２０分間撹拌した後、混合物を真空中で濃縮した。ＨＣｌ（１００ｍＬ、２Ｍ）を残渣に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．８（１．１１ｇ，１４．５％）及び７２．６（５．２０ｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４７－２．０５（ｍ，７Ｈ），２．０１－１．９８（ｍ，３Ｈ），１．９３－１．７１（ｍ，３Ｈ），１．６５－１．５９（ｍ，２Ｈ），１．４８－１．４２（ｍ，３Ｈ），１．４１－１．３３（ｍ，１Ｈ），１．２１－０．４６（ｍ，１０Ｈ）。
７２．９及び７２．９ａの合成
ＴＨＦ（８ｍＬ）及びＭｅＯＨ（２０ｍＬ）中の７２．８（１．５０ｇ、４．７１ｍｍｏｌ）の溶液に、水（８ｍＬ）中のＮａＯＨ（９３９ｍｇ、２３．５ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中６～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．９（２００ｍｇ、１５．３％）及び７２．９ａ（５００ｍｇ、３８．４％、粗製）を得た。ＴＨＦ（５ｍＬ）及びＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の７２．９（５００ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ、粗製）の溶液に、水（５ｍＬ）中のＮａＯＨ（３１３ｍｇ、７．８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。混合物を６０℃で１６時間撹拌した。混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中６～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．９ａ（２９０ｍｇ、６６．９％）及び７２．９（１４０ｍｇ、３２．３％）を得た。７２．９：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４４－２．２９（ｍ，１Ｈ），２．２０－１．９９（ｍ，４Ｈ），１．９５－１．８６（ｍ，１Ｈ），１．８２－１．７４（ｍ，１Ｈ），１．７２－１．５３（ｍ，５Ｈ），１．４５－１．２９（ｍ，３Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１９－０．９４（ｍ，７Ｈ），０．９１－０．７３（ｍ，２Ｈ），０．７０－０．５８（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ１８Ｈ２７Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２５９．２，実測値２５９．２。７２．９ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２９－２．１６（ｍ，３Ｈ），２．０２－１．９３（ｍ，３Ｈ），１．８６－１．７３（ｍ，３Ｈ），１．６７－１．５６（ｍ，２Ｈ），１．５５（ｓ，３Ｈ），１．４８－１．２６（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１６－０．９７（ｍ，４Ｈ），０．７５－０．４３（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ１８Ｈ２７Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２５９．２，実測値２５９．２。
７２．１０の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（１．１９ｇ、３．２ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（３６２ｍｇ、３．２ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を４０℃で３０分間撹拌した。７２．９（３００ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）を４０℃で添加した。４０℃で１時間撹拌して黄色の懸濁液を得た後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（３０ｍＬ）で２０℃でクエンチした。水層をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．１０（２５０ｍｇ、８０．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３４－５．０３（ｍ，１Ｈ），２．５０－１．５６（ｍ，１３Ｈ），１．５４－１．４９（ｍ，１Ｈ），１．３９－１．２２（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－０．５５（ｍ，１１Ｈ）。
７２．１１の合成
無水ＴＨＦ（３ｍＬ）中７２．１０（２５０ｍｇ、０．９ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（４２２ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を４５℃で１６時間撹拌した。得られた混合物に、エタノール（１．００ｍＬ、１７．３ｍｍｏｌ）を１５℃で添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（３．４６ｍＬの水中６９１ｍｇ、５．０Ｍ、１７．３ｍｍｏｌ）を添加し、Ｈ２Ｏ２（１．７３ｍＬ、１０Ｍ、１７．３ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。６０℃で１時間撹拌した後、混合物を１５℃に冷却し、Ｎａ２ＳＯ３（２０ｍＬ、飽和水溶液）を添加した。混合物をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中１５～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７２．１１（２００ｍｇ、７５．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９５－３．６１（ｍ，１Ｈ），２．１５－１．９２（ｍ，２Ｈ），１．８５－１．５６（ｍ，７Ｈ），１．５４－１．５１（ｍ，１Ｈ），１．４０－１．１０（ｍ，１２Ｈ），１．０９－０．５３（ｍ，１０Ｈ）。
７２の合成
０℃のＤＣＭ（２０ｍＬ）中７２．１１（２００ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（３００ｍｇ）及びＰＣＣ（２８０ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で２時間撹拌した。ＰＥ（２０ｍＬ）を反応混合物に添加した。得られた混合物をシリカゲルパッドを通して濾過し、濾過ケーキをＥｔＯＡｃ（４×４０ｍＬ）で洗浄した。濾液を濃縮し、残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５％～２０％のＥｔＯＡｃ）によって２回精製して、７（１０７ｍｇ、５５．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５７－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．１０（ｍ，３Ｈ），２．０１－１．７３（ｍ，７Ｈ），１．７０－１．６２（ｍ，１Ｈ），１．５４－１．５０（ｍ，１Ｈ），１．４２－１．２８（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１８－０．９５（ｍ，８Ｈ），０．９２－０．５６（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２０Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８７．２，実測値２８７．２。
実施例７３及び７６：１－（（３Ｒ，５Ｓ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（８）及び１－（（３Ｒ，５Ｓ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（７６）の合成
Figure 2022538300000410
 ７３．１の合成
ＭｅＯＨ（３ｍＬ）中の７２（１００ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（６．６２ｍｇ、０．０３ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（５２．４ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ、飽和）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７３．１（１６０ｍｇ、粗製）を得た。
７３及び７６の合成
アセトン（３ｍＬ）中７３．１（１００ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）の溶液に、５－メチル－１Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（４３．８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、Ｋ２ＣＯ３（１０８ｍｇ、０．７８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（１０ｍＬ）に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中２０～８０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７３（９．６ｍｇ、９．５９％）及び７６（５０ｍｇ、５０．０％）を得た。化合物７６（５０ｍｇ、０．１２９３ｍｍｏｌ）を、ＳＦＣ（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ、１０ｕｍ））；移動相：Ａ：ＣＯ２ Ｂ：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；勾配：２５％～２５％のＢ、流速（ｍｌ／分）：６０）によってさらに精製して、７６（１．３ｍｇ、２．６％）を得た。７３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４５－５．３４（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｓ，３Ｈ），２．０７－１．５７（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．５２（ｍ，１Ｈ），１．４１－１．２４（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．５５（ｍ，１２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２２Ｈ３５Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３８７．３，実測値３８７．３。７６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３２－４．９２（ｍ，２Ｈ），３．２６－３．１８（ｍ，１Ｈ），２．４８（ｓ，３Ｈ），２．１５－１．６４（ｍ，７Ｈ），１．３５－１．２３（ｍ，５Ｈ），１．１９（ｓ，４Ｈ），１．１５－０．５７（ｍ，１２Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２２Ｈ３３Ｎ４Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３６９．３，実測値３６９．３。
実施例７４：１－（（３Ｒ，５Ｓ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（７４）の合成
Figure 2022538300000411
 ７４の合成
アセトン（１ｍＬ）中の７３．１（６０．０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（２９．１ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（４３．２ｍｇ、０．３１３ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、水（１０ｍＬ）を添加し、得られた混合物をＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中１０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７４（１０．８ｍｇ、１７．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８７（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），５．０９－４．９４（ｍ，２Ｈ），２．６２－２．５０（ｍ，１Ｈ），２．０４－１．８４（ｍ，５Ｈ），１．８２－１．７３（ｍ，２Ｈ），１．７０－１．６２（ｍ，１Ｈ），１．３９－１．２３（ｍ，４Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．９５（ｍ，８Ｈ），０．９３－０．６０（ｍ，５Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３４Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３９６．３，実測値３９６．３。
実施例７５：１－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－エタノン（７５）の合成
Figure 2022538300000412
 ７５．２の合成
ピリジン（１５０ｍＬ）中の７５．１（１０ｇ、３２．８ｍｍｏｌ、特許「ＷＯ２０１４／１６９８３３，２０１４，Ａ１」に報告されている）の溶液に、ＤＭＡＰ（４．０ｇ、３２．８ｍｍｏｌ）及びＢｚＣｌ（９．２２ｇ、６５．６ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で１６時間撹拌した後、水（２００ｍＬ）を添加し、混合物を真空中で濃縮した。残渣にＮａＨＣＯ３（１００ｍＬ、飽和）を添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～６％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５．２（４．１０ｇ、３０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０５－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．４５（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），２．６１（ｄｔ，Ｊ＝６．８、１４．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１５－１．７５（ｍ，８Ｈ），１．６９（ｓ，３Ｈ），１．６０－１．５０（ｍ，３Ｈ），１．５０－１．１５（ｍ，９Ｈ），１．０９（ｓ，３Ｈ），１．０５－０．８０（ｍ，３Ｈ）。
７５．３の合成
ＥｔＯＨ（５０ｍＬ）中の７５．２（４．１０ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）の溶液に、塩酸ヒドロキシルアミン（１．７３ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）及び酢酸ナトリウム（２．０５ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）を添加した。８０℃で４時間撹拌した後、混合物を水（４００ｍＬ）中に注ぎ入れた。次いで、混合物を濾過した。固体を水（５０ｍＬ）で洗浄し、ＤＣＭ（５０ｍＬ）に溶解し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７５．３（４．４０ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．０９（ｂｒ ．，１Ｈ），８．０５－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．４５（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），３．３０－３．２０（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．００（ｍ，１Ｈ），２．００－１．７５（ｍ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），１．６５－１．５０（ｍ，５Ｈ），１．５０－０．９０（ｍ，１１Ｈ）。
７５．４の合成
トルエン（１０ｍＬ）及びＤＭＳＯ（１０ｍＬ）中の７５．３（２．４０ｇ、５．６６ｍｍｏｌ）及びＤＣＣ（３．４８ｇ、１６．９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＴＦＡ（３８８ｍｇ、３．９６ｍｍｏｌ）を１０℃で滴加した。１５℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ、飽和）によってクエンチした。ＥｔＯＡｃ（１００ｍＬ）を混合物に添加した。得られた混合物を濾過し、有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５．４（１．０８ｇ、４７％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０５－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．４５（ｍ，１Ｈ），７．４５－７．３５（ｍ，２Ｈ），４．７６（ｓ，１Ｈ），４．５３（ｓ，１Ｈ），２．４０－２．２５（ｍ，２Ｈ），２．００－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．０５－１．７５（ｍ，９Ｈ），１．６９（ｓ，３Ｈ），１．６５－１．５０（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．００（ｍ，７Ｈ）。
７５．５の合成
ＤＣＭ（２５ｍＬ）中の７５．４（１．５３ｇ、３．７７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＩＢＡＬ－Ｈ（１３．１ｍＬ、トルエン中１Ｍ、１３．１ｍｍｏｌ）を－７０℃で添加した。－７０℃で１時間撹拌した後、混合物をＨＣｌ（２０ｍＬ、２Ｍ）中に注ぎ入れた。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中１０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５．５（６３０ｍｇ、５５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ９．８０－９．７５（ｍ，１Ｈ），４．７５（ｓ，１Ｈ），４．５７（ｓ，１Ｈ），２．５０－２．３０（ｍ，３Ｈ），２．００－１．７０（ｍ，７Ｈ），１．７０－１．４０（ｍ，１０Ｈ），１．３５－１．２０（ｍ，６Ｈ），１．２０－１．１０（ｍ，１Ｈ），０．９５－０．８０（ｍ，２Ｈ）。
７５．６の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の７５．５（４２０ｍｇ、１．３７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（１．３７ｍＬ、１０Ｍ、１３．７ｍｍｏｌ）をＮ２下、０℃で添加した。混合物を２０℃で１時間撹拌した。混合物に、ＥｔＯＨ（１．８９ｇ、４１．１ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（８．２２ｍＬ、５Ｍ、４１．１ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（２．７４ｍＬ、１０Ｍ、２７．４ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａ２ＳＯ３（１０％、４０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×４０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７５．６（５００ｍｇ、粗製）を得た。
７５．７の合成
Ｔ－ＢｕＯＨ（３０ｍＬ）中の７５．６（５００ｍｇ、１．５４ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＯＨ（２０ｍＬ、４Ｍ、８０ｍｍｏｌ）及びＫＭｎＯ４（２．９ｇ、１８．４ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、混合物をＮａ２ＳＯ３（１０％、６０ｍＬ）、続いてＨＣｌ（１２０ｍＬ、２Ｍ）によって２０℃未満でクエンチした。混合物をＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７５．７（３００ｍｇ）を得た。
７５．８の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）中の７５．７（２００ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（７９５ｍｇ、５．６７ｍｍｏｌ）及びＭｅＩ（１．６ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、ＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）を添加し、得られた混合物を水（２０ｍＬ）で洗浄した。有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５．８（２００ｍｇ）を得た。
７５．９の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の７５．８（１００ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（２９３ｍｇ、２．６２ｍｍｏｌ）を添加した。Ｎ２下、７０℃で１時間、還流下で加熱した後、混合物をＮＨ４Ｃｌ（２０ｍＬ、飽和）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７５．９（１００ｍｇ、粗製）を得た。
７５．１０の合成
ＤＭＦ（１ｍＬ）及びＨ２Ｏ（０．０２ｍＬ）中の７５．９（１００ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＬｉＣｌ（６０．６ｍｇ、１．４３ｍｍｏｌ）を添加し、次いで反応混合物を１５０℃で３時間加熱した。混合物を、１００ｍｇの７５．９からの別のバッチと合わせ、ＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）で希釈し、ＬｉＣｌ（１０ｍＬ、３％）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（１回目はＰＥ中１０～２０％のＥｔＯＡｃ、２回目はＤＣＭ中０～５％のアセトン）によって精製して、７５．１０（６０ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４０－２．２５（ｍ，２Ｈ），２．２０－２．０５（ｍ，２Ｈ），２．００－１．９０（ｍ，４Ｈ），１．８０－１．７０（ｍ，３Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，２Ｈ），１．５０－１．０５（ｍ，１５Ｈ），１．００－０．９０（ｍ，１Ｈ），０．８０－０．７０（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ１９Ｈ２９Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２７３．２，実測値２７３．２。
７５．１１の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中のＰｈ３ＰＥｔＢｒ（１．４ｇ、３．７８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４２４ｍｇ、３．７８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を４０℃で１時間撹拌した。混合物に、ＴＨＦ（１ｍＬ）中の７５．１０（１１０ｍｇ、０．３８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物をＮＨ４Ｃｌ（１０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～８％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５．１１（７０ｍｇ、６１％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．０７（ｑ，Ｊ＝６．４ Ｈｚ，１Ｈ），２．７５－２．６５（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．７０（ｍ，７Ｈ），１．７０－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．５０－１．１０（ｍ，１３Ｈ），１．１０－０．７０（ｍ，８Ｈ）。
７５．１２の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の７５．１１（７０ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（０．４６２ｍＬ、１０Ｍ）を添加した。混合物を２０℃で１６時間撹拌した。混合物に、ＥｔＯＨ（１．３２ｍＬ）、ＮａＯＨ（４．６２ｍＬ、５Ｍ）及びＨ２Ｏ２（０．４６２ｍＬ、１０Ｍ）を添加した。２０℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａ２ＳＯ３（１０ｍＬ、１０％）によってクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）で抽出した。有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７５．１２（１００ｍｇ、粗製）を得た。
７５の合成
ＤＣＭ（２ｍＬ）中の７５．１２（１００ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（３００ｍｇ）及びＰＣＣ（１３４ｍｇ）を添加した。混合物を、２０℃で２時間撹拌した。混合物を濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中１０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７５（６０．０ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．８０－２．７５（ｍ，１Ｈ），２．１１（ｓ，３Ｈ），２．０５－１．９５（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．８０（ｍ，３Ｈ），１．８０－１．６０（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．２０（ｍ，１７Ｈ），１．１５－１．００（ｍ，２Ｈ），０．８０－０．５０（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２１Ｈ３３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３０１．３，実測値３０１．３。
実施例７７：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－エタノン（７７）の合成
Figure 2022538300000413
 ７７の合成
ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中の７５（３０．０ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＯＨ（０．５ｍＬの水中５０ｍｇ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、水（１０ｍＬ）を混合物に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、７７を得た。粗製物をフラッシュカラム（ＰＥ中１０～２５％のＥｔＯＡｃ）によってさらに精製し、凍結乾燥して、７７（３０ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２５－２．１５（ｍ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．００－１．９０（ｍ，１Ｈ），１．９０－１．７０（ｍ，７Ｈ），１．５５－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１０－０．７０（ｍ，７Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２１Ｈ３３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３０１．３，実測値３０１．３。
実施例７８：１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（７８）の合成
Figure 2022538300000414
 ７８．１の合成
ＭｅＯＨ（３ｍＬ）中の７７（５０．０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（６．３ｍｇ、４０％、０．０３ｍｍｏｌ）及びＢｒ２（２５ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１時間撹拌した後、ＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ、飽和）を混合物に添加し、続いてＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）を添加した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、７８．１（７０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９３（ｓ，２Ｈ），２．５５－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．００－１．６５（ｍ，９Ｈ），１．５０－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１０－０．７０（ｍ，６Ｈ）。
７８の合成
アセトン（１ｍＬ）中の７８．１（７０ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（４８．６ｍｇ、０．３５ｍｍｏｌ）及び４－シアノ－ピラゾール（１９．６ｍｇ、０．２１ｍｍｏｌ）を添加した。２０℃で１６時間撹拌した後、水（１０ｍＬ）及びＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）を混合物に添加した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中１０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製し、ＭｅＣＮ／水（１０ｍＬ／１０ｍＬ）に溶解し、凍結乾燥して、７８（４３．４ｍｇ、６０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），５．０６（ｄ，Ｊ＝１８．４ Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１Ｈ），２．２６（ｄｔ，Ｊ＝３．２ Ｈｚ，１１．６ Ｈｚ，１Ｈ），２．０５－１．６５（ｍ，９Ｈ），１．５５－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１０－０．９５（ｍ，２Ｈ），０．９５－０．７０（ｍ，４Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２５Ｈ３６Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１０．３，実測値４１０．３。
実施例７９：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－エタノン（７９）の合成
Figure 2022538300000415
 ７９．２の合成
ＴＨＦ（１０ｍＬ）中のＤＩＰＡ（１．２７ｍＬ、９．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ｎ－ＢｕＬｉ（３．６０ｍＬ、ヘキサン中２．５Ｍ、９．０ｍｍｏｌ）を－７０℃で添加した。混合物を２５℃に温め、１時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の新たに調製したＬＤＡ（９．０ｍｍｏｌ）溶液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の７９．１（５００ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（１．１３ｇ、９．０ｍｍｏｌ、９０％）の撹拌溶液に、－７０℃で添加した。混合物を－７０℃で２時間撹拌した。次いで、ＴＨＦ（５ｍＬ）中の酢酸（５４０ｍｇ、９３．０ｍｍｏｌ）を添加し、次いで混合物を２０℃に１６時間温めた。水（３００ｍＬ）を添加した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７９．２（５００ｍｇ、７１．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２４（ｑ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，２Ｈ），３．７３－３．６２（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．０８（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．６０（ｍ，１０Ｈ），１．５４－１．４９（ｍ，２Ｈ），１．３８－１．２３（ｍ，６Ｈ），１．２０（ｓ，４Ｈ），１．１７－０．５３（ｍ，８Ｈ）。
７９．３の合成
ＤＭＥ（５ｍＬ）中の７９．２（５００ｍｇ、１．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（５６．５ｍｇ、０．１２８０ｍｍｏｌ）を２５℃で一度に添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（３０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、７９．３（４４０ｍｇ、粗製）を得た。
７９．４の合成
ＤＭＦ（５ｍＬ）及びＨ２Ｏ（０．１ｍＬ）中の７９．３（４４０ｍｇ、１．２１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＬｉＣｌ（２５６ｍｇ、６．０５ｍｍｏｌ）を添加した。１５０℃で３時間撹拌した後、混合物をＥｔＯＡｃ（１０ｍＬ）で希釈し、ＬｉＣｌ（１０ｍＬ、３％）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＤＣＭ中０～５％のアセトン）によって精製して、７９．４ａ（３０ｍｇ、８．５４％）及び７９．４（１０ｍｇ、２．８４％）ならびに７９．４及び７９．４ａ（２５０ｍｇ、混合物）を得た。ＴＨＦ（２ｍＬ）及びＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の７９．４及び７９．４ａ（２５０ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）の溶液に、水（１．０ｍＬ）中のＮａＯＨ（３４３ｍｇ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、次いで混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＤＣＭ中０～４％のアセトン）によって精製して、７９．４ａ（６０ｍｇ、２４．０％）及び７９．４（１９０ｍｇ、７６．３％）を得た。７９．４ａ：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．６４－２．５１（ｍ，１Ｈ），２．３５－２．０２（ｍ，５Ｈ），１．９６－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．５４－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２３－１．１８（ｍ，３Ｈ），１．１７－０．７９（ｍ，７Ｈ），０．７５－０．５６（ｍ，１Ｈ）。７９．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４１－２．２３（ｍ，２Ｈ），２．１７－１．９０（ｍ，６Ｈ），１．８５－１．７４（ｍ，１Ｈ），１．７２－１．５８（ｍ，３Ｈ），１．５６－１．５２（ｍ，１Ｈ），１．３７－１．２１（ｍ，４Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－０．７１（ｍ，９Ｈ），０．６３－０．５１（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ１９Ｈ３１Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２９１．２，実測値２９１．２。
７９．５の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（１．２１ｇ、３．２７ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（３６６ｍｇ、３．２７ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を４０℃で３０分間撹拌した。次いで７９．４（１９０ｍｇ、０．６５４１ｍｍｏｌ）を添加し、４０℃で１６時間撹拌し続けた。反応混合物を、飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）で２０℃でクエンチした。水溶液をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７９．５（１３０ｍｇ、６５．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１３－５．０４（ｍ，１Ｈ），２．７７－２．５８（ｍ，１Ｈ），２．１１－１．７７（ｍ，７Ｈ），１．７２－１．６３（ｍ，１Ｈ），１．６２－１．５７（ｍ，４Ｈ），１．３９－１．２４（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｓ，５Ｈ），１．１７－０．６７（ｍ，１１Ｈ），０．６４－０．５０（ｍ，１Ｈ）。
７９．６の合成
ＴＨＦ（２ｍＬ）中の７９．５（１３０ｍｇ、０．４２９７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（２１４μＬ、１０Ｍ、２．１４ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物に、ＥｔＯＨ（５００μＬ、８．５９ｍｍｏｌ）、続いてＮａＯＨ（１．７１ｍＬ、５Ｍ、８．５９ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（８５９μＬ、１０Ｍ、８．５９ｍｍｏｌ）を滴加した。７０℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａ２ＳＯ３（１００ｍＬ、１０％）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、７９．６（２００ｍｇ、粗製）を得た。
７９．７の合成
ＤＣＭ（６ｍＬ）中の７９．６（２００ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）の溶液に、０℃でシリカゲル（３００ｍｇ）及びＰＣＣ（２６７ｍｇ、１．２４ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０％～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７９．７（１３０ｍｇ、６５．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．８６－２．７２（ｍ，１Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．０１－１．５９（ｍ，７Ｈ），１．５１ １．２４（ｍ，８Ｈ），１．２０－１．１８（ｍ，３Ｈ），１．１４－０．４６（ｍ，１２Ｈ）。
７９の合成
ＴＨＦ（２ｍＬ）及びＭｅＯＨ（４ｍＬ）中の７９．７（１３０ｍｇ、０．４０８１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＯＨ（２．０４ｍＬ、６．１２ｍｍｏｌ、３Ｍ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中６～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、７９（１００ｍｇ、７７．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．２１－２．１４（ｍ，１Ｈ），２．１２（ｓ，３Ｈ），２．００－１．９０（ｍ，３Ｈ），１．８７－１．７３（ｍ，３Ｈ），１．７０－１．５７（ｍ，３Ｈ），１．５４－１．５１（ｍ，１Ｈ），１．３７－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１８－１．１６（ｍ，１Ｈ），１．０９－０．６９（ｍ，１０Ｈ），０．６３－０．４９（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９７％，Ｃ２１Ｈ３３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３０１．３，実測値３０１．３。
実施例８０及び８１：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（８０）１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＲ，６ａＳ，８Ｒ，１０ａＳ，１０ｂＲ，１２ａＳ）－８－ヒドロキシ－８－メチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（８１）の合成
Figure 2022538300000416
 ８０．１の合成
ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中の８０（９０ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（１１．４ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（４５．１ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で３時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（１０ｍＬ、飽和）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、８０．１（１３０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９８－３．８８（ｍ，２Ｈ），２．５８－２．４６（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．５９（ｍ，８Ｈ），１．３７－１．２３（ｍ，６Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１７－０．７３（ｍ，１２Ｈ），０．６１－０．４８（ｍ，１Ｈ）。
８０及び８１の合成
無水ＴＨＦ（２ｍＬ）中の８０．１（１３０ｍｇ、０．３２７１ｍｍｏｌ）の溶液に、５－メチル－２Ｈ－テトラゾール（４１．２ｍｇ、０．４９０６ｍｍｏｌ）及びＣＨ３ＣＯＯＮａ（５３．６ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を４５℃で１６時間撹拌した。反応混合物を水（２０ｍＬ）中に注ぎ入れ、水相をＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中３０～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８０（２７．３ｍｇ、２０．８％）及び８１（８．９ｍｇ、６．７９％）を得た。８０：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．５０－５．２７（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｓ，３Ｈ），２．３３－２．２０（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．６３（ｍ，９Ｈ），１．５８－１．５１（ｍ，２Ｈ），１．４５－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１４－０．７１（ｍ，１０Ｈ），０．６３－０．５０（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０１．３，実測値４０１．３。８１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３１－５．００（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｓ，１Ｈ），２．４５（ｓ，３Ｈ），２．４０－２．２８（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．８７（ｍ，３Ｈ），１．６６－１．５３（ｍ，８Ｈ），１．３８－１．２４（ｍ，５Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．０３－０．７３（ｍ，９Ｈ），０．６５－０．５１（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２３Ｈ３７Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４０１．３，実測値４０１．３。
実施例８２及び８３：１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（８２）１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（８３）の合成
Figure 2022538300000417
 ８２．２の合成
ピリジン（２００ｍＬ）中の８２．１（２０ｇ、６２．７ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（７．６６ｇ、６２．７ｍｍｏｌ）の溶液に、塩化ベンゾイル（１４．３ｍＬ、１２５ｍｍｏｌ）を２０℃で滴加した。８０℃で１２時間撹拌して淡黄色の溶液を得た後、混合物を冷却し、次いで氷水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×３００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．２（２３ｇ、８３．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０５－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５５－７．３５（ｍ，３Ｈ），２．４８－２．３７（ｍ，１Ｈ），２．３２－２．２１（ｍ，１Ｈ），２．１２－１．６９（ｍ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，４Ｈ），１．５７－１．４１（ｍ，６Ｈ），１．３５－１．１４（ｍ，５Ｈ），０．９０－０．７９（ｍ，６Ｈ）。
８２．３の合成
ＥｔＯＨ（２２０ｍＬ）中の８２．２（２２ｇ、５２．０ｍｍｏｌ）の溶液に、塩酸ヒドロキシルアミン（１４．４ｇ、２０８ｍｍｏｌ）及び酢酸ナトリウム（１７．０ｇ、２０８ｍｍｏｌ）をＮ２下、２０℃で添加した。８０℃で１６時間還流した後、混合物を冷却し、濃縮して、ＥｔＯＨのほとんどを除去した。残渣を水（２００ｍＬ）中に注ぎ入れ、２０分間撹拌した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．３（２１ｇ、９２．５％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１４－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．５４－７．３５（ｍ，３Ｈ），２．５８－２．４０（ｍ，２Ｈ），２．３４－２．２０（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．９７（ｍ，１Ｈ），１．９５－１．７０（ｍ，７Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ），１．６５－１．１５（ｍ，１４Ｈ），０．９１（ｓ，３Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．４の合成
無水ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の８２．３（１９ｇ、４３．４ｍｍｏｌ）及びＣＨ（ＯＭｅ）３（１２．６ｇ、１１９ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、Ｎ２下６０℃で、新たに蒸留したＴＦＡ（６．１８ｇ、５４．２ｍｍｏｌ）を一度に添加した。６５℃で２時間撹拌した後、ＮａＨＣＯ３（７０ｍＬ、飽和）で混合物をクエンチした。ＥｔＯＡｃ（１５０ｍＬ）を混合物に添加し、次いで濾過した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．４（１０ｇ、５４．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０８－８．００（ｍ，２Ｈ），７．４７－７．３７（ｍ，３Ｈ），４．７８（ｓ，１Ｈ），４．４５（ｓ，１Ｈ），２．５３－２．２１（ｍ，５Ｈ），１．９４－１．７２（ｍ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，５Ｈ），１．５３－１．３９（ｍ，３Ｈ），１．２０－１．０４（ｍ，３Ｈ），０．８５－０．７５（ｍ，４Ｈ）。
８２．５の合成
ＤＣＭ（１４０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（１４０ｍＬ）中の８２．４（１４ｇ、３３．３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＮａＨＣＯ３（１４ｇ、１６６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を、青色が持続するまで－７０℃で３０分間、オゾン（１ａｔｍ）で泡立てた。混合物が無色になるまで、過剰のオゾンをＯ２流によって除去した。Ｍｅ２Ｓ（１４ｇ、２２５ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を２０℃に温め、１時間撹拌した。混合物を濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．５（９ｇ、６４．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０６－８．００（ｍ，２Ｈ），７．５７－７．５１（ｍ，１Ｈ），７．４７－７．３９（ｍ，２Ｈ），２．５１－２．２８（ｍ，６Ｈ），２．２５－２．０９（ｍ，２Ｈ），２．０３－１．７３（ｍ，７Ｈ），１．７０（ｓ，３Ｈ），１．６７－１．５９（ｍ，２Ｈ），１．４４－１．２２（ｍ，５Ｈ），１．１７－１．０８（ｍ，１Ｈ），０．８２（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．６の合成
ＴＨＦ（３５ｍＬ）中の８２．５（１．５ｇ、３．５５ｍｍｏｌ）及びｔ－ＢｕＯＨ（５２６ｍｇ、７．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＳｍＩ２（１０６ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、１０．６ｍｍｏｌ）をＮ２下、－２０℃未満で添加した。濃青色の混合物を、流れる冷却水によって冷却しながら、２つの２７５Ｗタングステンランプによって１時間照射して、内部温度を－１０℃下で維持した。混合物を真空中で濃縮した。ＨＣｌ（１０ｍＬ、２Ｍ）を残渣に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８２．６（１．７ｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．０６－７．９８（ｍ，２Ｈ），７．５７－７．５０（ｍ，１Ｈ），７．４７－７．３９（ｍ，２Ｈ），２．４９－２．３５（ｍ，３Ｈ），２．３４－１．７１（ｍ，１２Ｈ），１．７０（ｓ，２Ｈ），１．６８－１．６０（ｍ，３Ｈ），１．５４－１．５２（ｍ，１Ｈ），１．４８－１．０７（ｍ，７Ｈ），０．８２（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．７の合成
ＴＨＦ（１５０ｍＬ）及びＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の８２．６（６．８ｇ、１６．０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＳｍＩ２（３２０ｍＬ、ＴＨＦ中０．１Ｍ、３２．０ｍｍｏｌ）をＮ２下、１０℃で滴加した。青色は、最終的に薄黄色の溶液が得られるまで、最初の数秒間で色あせた。混合物を１０℃で２０分以上撹拌した。混合物を真空中で濃縮した。ＨＣｌ（１００ｍＬ、２Ｍ）を残渣に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．７（７８０ｍｇ、１１．９％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ８．１０－７．９０（ｍ，２Ｈ），７．５７－７．４９（ｍ，１Ｈ），７．４６－７．３８（ｍ，２Ｈ），２．４４－２．２０（ｍ，３Ｈ），２．１８－２．０６（ｍ，２Ｈ），２．０１－１．６９（ｍ，８Ｈ），１．６９－１．６６（ｍ，４Ｈ），１．５０－１．４０（ｍ，４Ｈ），１．１６－０．９３（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．７２（ｍ，７Ｈ）。
８２．８及び８２．８ａの合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）及びＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の８２．７（７８０ｍｇ、１．９ｍｍｏｌ）の溶液に、水（５ｍＬ）中のＮａＯＨ（７５９ｍｇ、１９．０ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、混合物を水（２０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中６～２５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．８ａ（１７０ｍｇ、２９．４％）及び８２．８（６０ｍｇ、１０．３％）を得た。８２．８：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４２－２．３０（ｍ，１Ｈ），２．１９－１．８９（ｍ，４Ｈ），１．７７－１．５８（ｍ，７Ｈ），１．５４－１．５１（ｍ，１Ｈ），１．４６－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２４－０．９７（ｍ，５Ｈ），０．８０（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２０Ｈ３１Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値２８７．２，実測値２８７．２。
８２．９の合成
ＴＨＦ（３ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（７９０ｍｇ、２．１３ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（２３９ｍｇ、２．１３ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を４０℃で３０分間撹拌した。８２．８（１３０ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）を４０℃で添加した。４０℃で３時間撹拌して黄色の懸濁液を得た後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（５０ｍＬ）で２０℃でクエンチした。水層をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．９（７０ｍｇ、５１．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．３６－４．７４（ｍ，１Ｈ），２．５４－１．５９（ｍ，１３Ｈ），１．５０－１．２７（ｍ，６Ｈ），１．２５（ｓ，４Ｈ），１．２２－０．８３（ｍ，８Ｈ），０．７８（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．１０の合成
無水ＴＨＦ（２ｍＬ）中の８２．９（７０ｍｇ、０．２２１１ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（２６８ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。反応混合物を３０℃で１６時間撹拌した。得られた混合物に、エタノール（５０６ｍｇ、１１．０ｍｍｏｌ）を１５℃で添加し、続いてＮａＯＨ水溶液（２．１９ｍＬ、５．０Ｍ、１１．０ｍｍｏｌ）を添加し、Ｈ２Ｏ２（１．０９ｍＬ、１０Ｍ、１１．０ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。６０℃で１時間撹拌した後、混合物を冷却した。混合物をＮａ２ＳＯ３（２０ｍＬ、飽和水溶液）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×２０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．１０（５０ｍｇ、６７．６％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９４－３．５９（ｍ，２Ｈ），２．５－２．２８（ｍ，２Ｈ），２．０２－１．８０（ｍ，５Ｈ），１．４３－１．２８（ｍ，８Ｈ），１．２５（ｓ，７Ｈ），１．２１－１．１４（ｍ，５Ｈ），１．０９－０．９６（ｍ，４Ｈ），０．９１－０．８５（ｍ，２Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．１１の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の８２．１０（５０ｍｇ、０．１４９４ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（７０ｍｇ）及びＰＣＣ（６４．３ｍｇ、０．２９８８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０％～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８２．１１（３０ｍｇ、６０．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５５－２．３２（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｓ，３Ｈ），２．００－１．６６（ｍ，８Ｈ），１．４９－１．２８（ｍ，７Ｈ），１．２５（ｓ，５Ｈ），１．２０－０．８４（ｍ，９Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２．１２の合成
ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中の８２．１１（３０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（３．６２ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ、水中４０％）及びＢｒ２（１４．４ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。２５℃で３時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（５ｍＬ、飽和）中に注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、８２．１２（３０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９７－３．９９（ｍ，２Ｈ），２．８７－２．７０（ｍ，１Ｈ），２．０１－１．６３（ｍ，７Ｈ），１．４９－１．３２（ｍ，６Ｈ），１．２５（ｓ，５Ｈ），１．２３－１．０４（ｍ，８Ｈ），０．９２－０．８２（ｍ，３Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ）。
８２及び８３の合成
アセトン（１ｍＬ）中の８２．１２（３０ｍｇ、０．０７３ｍｍｏｌ）の溶液に、５－メチル－１Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（２４．５ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、Ｋ２ＣＯ３（４０．３ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で３時間撹拌した後、水（５ｍＬ）を混合物に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×１０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中３０～８０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８３（１．０ｍｇ、３．３１％）及び８２（２．１ｍｇ、６．９５％）を得た。８３：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４５－５．３４（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｓ，３Ｈ），２．０２－１．８２（ｍ，５Ｈ），１．４９－１．３４（ｍ，７Ｈ），１．２５（ｓ，８Ｈ），１．２０－１．０６（ｍ，７Ｈ），０．８８－０．７４（ｍ，６Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３７Ｎ４Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３９７．３，実測値３９７．３。８２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２７－４．９９（ｍ，２Ｈ），２．６９－２．５７（ｍ，１Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），２．０２－１．８９（ｍ，４Ｈ），１．４９－１．３４（ｍ，７Ｈ），１．２８－１．２３（ｍ，８Ｈ），１．２１－１．０６（ｍ，８Ｈ），０．８９－０．８２（ｍ，２Ｈ），０．８１－０．７５（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３９Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４１５．３，実測値４１５．３。
実施例８４：１－（２－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｒ，９Ｒ，１０Ｓ，１３Ｒ，１４Ｓ，１７Ｓ）－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（８４）の合成
Figure 2022538300000418
 ８４．１の合成
ＴＨＦ（１２ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（３．００ｇ、８．１ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（９０８ｍｇ、８．１ｍｍｏｌ）をＮ２下で添加した。混合物を４０℃で１時間撹拌した。ＴＨＦ（３ｍＬ）中の６６．８ａ（４５０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）の溶液を混合物に添加した。得られた混合物を４０℃で１６時間撹拌して、オレンジ色の懸濁液を得た。混合物をＮＨ４Ｃｌ（１０ｍＬ、飽和）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８４．１（３２０ｍｇ、６８％）を得た。
８４．２の合成
ＴＨＦ（５ｍＬ）中の８４．１（３２０ｍｇ、１．１ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（１．０９ｍＬ、１０Ｍ、１０．９ｍｍｏｌ）をＮ２下で添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。ＥｔＯＨ（２．５３ｇ、５５ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（１１ｍＬ、５Ｍ、５５ｍｍｏｌ）及びＨ２Ｏ２（１．０９ｍＬ、１０Ｍ、１０．９ｍｍｏｌ）を混合物に添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物をＮａ２ＳＯ３（２０％、１０ｍＬ）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８４．２（３００ｍｇ、８９％）を得た。
８４．３の合成
ＤＣＭ（５ｍＬ）中の８４．２（３００ｍｇ、０．６４ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（１．２ｇ）及びＰＣＣ（４１９ｍｇ、１．９５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１時間撹拌した後、混合物を濃縮し、フラッシュカラムによって精製して（１回目の実行：ＰＥ中１０～２０％のＥｔＯＡｃ、２回目の実行：ＤＣＭ中０～３％のアセトン）、８４．３（９０．０ｍｇ）を得た。
８４．４の合成
ＭｅＯＨ（５ｍＬ）中の８４．３（３２０ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４２．２ｍｇ、４０％水溶液、０．２１ｍｍｏｌ）及びＢｒ２（１６７ｍｇ、１．０５ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、混合物をＮａＨＣＯ３（２０ｍＬ、水性、飽和）でクエンチし、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８４．４（４００ｍｇ、９６％）を得た。
８４の合成
アセトン（１０ｍＬ）中の８４．４（４００ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノ－ピラゾール（１４５ｍｇ、１．５６ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（２９１ｍｇ、２．０８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、水（２０ｍＬ）を混合物に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中２５～６０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８４及び６８（３００ｍｇ、１：１０）の混合物を得た。混合物（４００ｍｇ）をＳＦＣ（測定器：ＳＦＣ－１３；カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＩＣ（２５０ｍｍ＊３０ｍｍ，５ｕｍ）；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ：４０％；終了Ｂ：４０％；流速（ｍＬ／分）：６５；注入：８０）によって２回分離し、ＭｅＣＮ／水（２０ｍＬ／２０ｍＬ）に再溶解し、凍結乾燥して、８４（１９．４ｍｇ）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８５（ｓ，１Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），５．１０（ｄ，Ｊ＝１８．０ Ｈｚ，１Ｈ），４．９３（ｄ，Ｊ＝１７．６ Ｈｚ，１Ｈ），３．０６（ｑ，Ｊ＝８．８ Ｈｚ，１Ｈ），２．５０－２．４０（ｍ，１Ｈ），２．１５－２．００（ｍ，１Ｈ），１．８５－１．６０（ｍ，８Ｈ），１．５０－１．２０（ｍ，１５Ｈ），１．１５－０．９０（ｍ，３Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２４Ｈ３２Ｎ３Ｏ［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３７８．３，実測値３７８．２。
実施例８５：１－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－シクロプロピル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）エタン－１－オンの合成
Figure 2022538300000419
 ８５．２の合成
ＴＨＦ（３００ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（１４５ｇ、４０８ｍｍｏｌ）の懸濁液に、ｔ－ＢｕＯＫ（４５．７ｇ、４０８ｍｍｏｌ）を１５℃で添加した。４５℃で０．５時間撹拌した後、ＴＨＦ（２００ｍＬ）中の８５．１（ＣＡＳ番号５６９６－４４－６）（８０ｇ、２０４ｍｍｏｌ）の溶液を４５℃で添加し、反応混合物を４５℃で１時間撹拌した。混合物をＰＥ（３００ｍＬ）で希釈し、次いで濾過した。濾液を濃縮して、油（２００ｇ、粗製）を得た。粗生成物をＰＥ（１Ｌ）で１６時間撹拌した後、固体を濾過し、濾液を濃縮して、不純な生成物８５．２を油として得、これを次のステップで直接使用した。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ６．３０（ｄｄ，Ｊ＝１１．２、１７．６ Ｈｚ，１Ｈ），５．１５－４．９６（ｍ，２Ｈ），３．９４－３．８１（ｍ，８Ｈ），２．０２－１．７３（ｍ，７Ｈ），１．５８－１．３５（ｍ，１３Ｈ），１．２２－１．１４（ｍ，２Ｈ），０．８１（ｓ，３Ｈ）。
８５．３の合成
ＤＣＭ（５０ｍＬ）中のＥｔ２Ｚｎ（３０．５ｍＬ、ヘキサン中１Ｍ）の溶液に、０℃で、ＣＦ３ＣＯＯＨ（３．４７ｇ、３０．４ｍｍｏｌ）（ＤＣＭ ５ｍＬ中）をＮ２雰囲気下で１時間にわたって滴加し、次いで混合物に、ＣＨ２Ｉ２（８．１６ｇ、３０．５ｍｍｏｌ）（ＤＣＭ ５ｍＬ中）を１５分間にわたって滴加した。添加後、８５．２（４ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）（ＤＣＭ ５ｍＬ中）を反応混合物に添加し、０℃で３時間撹拌し、次いで２５℃で１６時間撹拌した。反応物を飽和ＮＨ４Ｃｌ水溶液（８０ｍＬ）の添加によってクエンチし、水相をＤＣＭ（３×６０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８５．３（４．５ｇ）を油として得た。（粗製Ｈ－ＮＭＲに基づき、約４０％の出発物質が残存していた。）
８５．４及び８５．５５の合成
ＴＨＦ（２５ｍＬ）中の８５．３（４，５ｇ、粗製）の溶液に、塩化水素（１２ｍＬ、２Ｍ水溶液）を添加し、反応混合物を２５℃で１６時間撹拌した。反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）をｐＨ約８に添加し、ＥｔＯＡｃ（２×８０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相をブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５．５（１．１ｇ）を得た。ＳＦＣによる精製（カラム：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＤ（２５０ｍｍ＊５０ｍｍ，１０μｍ；条件：０．１％ＮＨ３Ｈ２Ｏ ＥＴＯＨ；開始Ｂ：２５％、終了Ｂ：２５％；流速（ｍｌ／分）：２００）は、８５．４（５５０ｍｇ、２９．１％）及び１．５（４２０ｍｇ）の両方を油として生じた。８５．４：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７３－２．６１（ｍ，１Ｈ），２．４７（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．３５－２．２２（ｍ，１Ｈ），２．１７－１．８５（ｍ，８Ｈ），１．７７－１．６１（ｍ，４Ｈ），１．５６－１．５０（ｍ，１Ｈ），１．４７－１．３９（ｍ，１Ｈ），１．３６－１．２２（ｍ，５Ｈ），０．９２（ｓ，３Ｈ），０．９０－０．８４（ｍ，１Ｈ），０．５４－０．４０（ｍ，２Ｈ），０．３４－０．２５（ｍ，１Ｈ），０．１２－０．０４（ｍ，１Ｈ）。
８５．６の合成
トルエン（６ｍＬ）中のＢＨＴ（２．２２ｇ、１０．０８ｍｍｏｌ）の溶液に、窒素下０℃でＡｌＭｅ３（２．６ｍＬ、トルエン中２Ｍ）を滴加した。混合物を２５℃で１時間撹拌した。反応混合物を、モニター及びさらなる精製を行わずに、次のステップのためのＭＡＤの溶液として直接使用した。ＭＡＤ（５．０４ｍｍｏｌ）溶液に、ＤＣＭ（５ｍＬ）中８５．４（５３０ｍｇ、１．６８ｍｍｏｌ）の溶液を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＭｅＭｇＢｒ（１．７ｍＬ、５．１ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。得られた溶液を－７０℃でさらに３時間撹拌した。反応混合物を飽和クエン酸水溶液（１００ｍＬ）中に１０℃未満で注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×８０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～２０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５．６（４８０ｍｇ、８６．４％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．４４（ｄｄ，Ｊ＝８．２、１９．２ Ｈｚ，１Ｈ），２．１４－１．８８（ｍ，４Ｈ），１．８７－１．７６（ｍ，２Ｈ），１．６４－１．６０（ｍ，１Ｈ），１．５８－１．４９（ｍ，５Ｈ），１．４８－１．３３（ｍ，４Ｈ），１．３１－１．２１（ｍ，６Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），０．８８（ｓ，３Ｈ），０．５６－０．３３（ｍ，３Ｈ），０．３０－０．２０（ｍ，１Ｈ），０．１０－０．００（ｍ，１Ｈ）。ＬＣＭＳ Ｒｔ＝２分のクロマトグラフィーで０．９８０分，３０－９０ＡＢ＿２分．Ｌｃｍ．（移動相：水（溶媒Ａ）中の１．５ｍＬ／４Ｌ ＴＦＡ及びアセトニトリル（溶媒Ｂ）中の０．７５ｍＬ／４Ｌ ＴＦＡ。溶出勾配３０％～９０％（溶媒Ｂ）を０．９分間にわたって使用し、１．２ｍＬ／分の流速で０．６分間、９０％で保持した；カラム：Ｘｔｉｍａｔｅ Ｃ１８ ２．１＊３０ｍｍ，３μｍ；波長：ＵＶ２２０ｎｍ；カラム温度：５０℃；ＭＳイオン化：ＥＳＩ；検出器：ＰＤＡ及びＥＬＳＤ），ＬＣ－ＥＬＳＤ純度１００％；Ｃ２２Ｈ３３Ｏ［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３１３．２，実測値３１３．２。
８５．７の合成
ＴＨＦ（３０ｍＬ）中のｉ－Ｐｒ２ＮＨ（５．２６ｇ、５２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｎ２下でｎ－ＢｕＬｉ（２０．８ｍＬ、２．５Ｍ、５２ｍｍｏｌ）を－７０℃で添加した。混合物を０℃に温め、０℃で３０分間撹拌した後、ＴＨＦ（４００ｍＬ）中の８５．６（４．３ｇ、１３ｍｍｏｌ）及びジアゾ酢酸エチル（５．９３ｇ、５２ｍｍｏｌ）の溶液に－７０℃で添加した。－７０℃で２時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の酢酸（３．１２ｇ、５２ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を２５℃に温めた。１６時間撹拌した後、反応物を水（１０００ｍＬ）及びＰＥ（３００ｍＬ）で希釈した。有機相を分離し、水相をＥｔＯＡｃ（５００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１０００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣を、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５．７（４ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ４．２７－４．２３（ｍ，２Ｈ），２．２２－２．０５（ｍ，２Ｈ），２．０２－１．７９（ｍ，５Ｈ），１．７３－１．６２（ｍ，３Ｈ），１．５３－１．４７（ｍ，６Ｈ），１．４６－１．３７（ｍ，５Ｈ），１．２６（ｓ，３Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１２－１．０６（ｍ，３Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．５２－０．３４（ｍ，３Ｈ），０．２８－０．２０（ｍ，１Ｈ），０．０７－０．００（ｍ，１Ｈ）。
８５．８の合成
ＤＭＥ（５０ｍＬ）中の８５．７（４ｇ、８．９９ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｒｈ２（ＯＡｃ）４（７９．４ｍｇ、０．１７９８ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮して、８５．８（４ｇ）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ １２．４２（ｓ，１Ｈ），４．６０－４．４０（ｍ，１Ｈ），４．２３－４．３４（ｍ，１Ｈ），３．６４－３．７４（ｍ，１Ｈ），２．２５－２．４２（ｍ，１Ｈ），２．０８－２．２３（ｍ，２Ｈ），１．７８－２．０４（ｍ，６Ｈ），１．６０－１．７６（ｍ，６Ｈ），１．５０－１．５６（ｍ，４Ｈ），１．３４－１．４４（ｍ，４Ｈ），１．２８－１．３０（ｍ，３Ｈ），１．２７（ｓ，３Ｈ），１．１８（ｄ，Ｊ＝４．８０ Ｈｚ，３Ｈ），０．３３－０．５１（ｍ，３Ｈ），０．１９－０．２９（ｍ，１Ｈ），０．０２－０．０７（ｍ，１Ｈ）。
８５．９の合成
ＭｅＯＨ（３０ｍＬ）中の８５．８（４ｇ、９．６ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ２Ｏ（１０ｍＬ）及びＮａＯＨ（３．８３ｇ、９５．９ｍｍｏｌ）を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を濃縮し、Ｈ２Ｏ（５０ｍＬ）で希釈し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８５．９（２ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ２．６４－２．５６（ｍ，１Ｈ），２．２３－２．１７（ｍ，１Ｈ），２．０６－１．９５（ｍ，３Ｈ），１．８８－１．８２（ｍ，２Ｈ），１．７８－１．６８（ｍ，３Ｈ），１．６５－１．５８（ｍ，４Ｈ），１．５６－１．４７（ｍ，８Ｈ），１．４１－１．３４（ｍ，３Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１０－１．０８（ｍ，３Ｈ），１．０５－１．０３（ｍ，１Ｈ），０．５０－０．３４（ｍ，３Ｈ），０．２９－０．２０（ｍ，１Ｈ），０．０７－０．０２（ｍ，１Ｈ）。
８５．１０の合成
ＴＨＦ（４０ｍＬ）中のＭｅＰｈ３ＰＢｒ（１２．９ｇ、３４．８ｍｍｏｌ）の溶液に、ｔ－ＢｕＯＫ（３．９ｇ、３４．８ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。６０℃で１時間撹拌した後、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の８５．９（２ｇ、５．８ｍｍｏｌ）の溶液を添加した。６０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮＨ４Ｃｌ（１００ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中５～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５．１０（２ｇ、９７％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．２０－５．１１（ｍ，１Ｈ），２．５８－２．０９（ｍ，２Ｈ），２．０１－１．８７（ｍ，４Ｈ），１．８２－１．６９（ｍ，４Ｈ），１．６８－１．５６（ｍ，８Ｈ），１．５５－１．４５（ｍ，６Ｈ），１．４３－１．３２（ｍ，４Ｈ），１．１８－１．１６（ｍ，３Ｈ），１．０７－１．００（ｍ，３Ｈ），０．９４－０．８７（ｍ，３Ｈ），０．５０－０．３２（ｍ，３Ｈ），０．２９－０．１５（ｍ，１Ｈ），０．０８－０．０６（ｍ，１Ｈ）。
８５．１１の合成
ＴＨＦ（２０ｍｌ）中の８５．１０（２ｇ、５．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ＢＨ３．Ｍｅ２Ｓ（１．６７ｍＬ、１６．７ｍｍｏｌ）を２５℃で添加した。７０℃で１６時間撹拌した後、反応混合物を冷却し、ＥｔＯＨ（３．８６ｇ、８４ｍｍｏｌ、０．７８９ｇ／ｍｌ）によって０℃でクエンチし、次いでＮａＯＨ（１６．８ｍＬ、５Ｍ、８４ｍｍｏｌ）によって非常にゆっくりとクエンチした。添加後、Ｈ２Ｏ２（８．４ｍＬ，８４ｍｍｏｌ，１．１３ｇ／ｍＬ，水中３０％）を、内部温度がもはや上昇せず、内部温度を３０℃未満に維持するまでゆっくりと添加した。７０℃で１時間撹拌した後、反応混合物を飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（３０ｍＬ）でクエンチした。０℃でさらに１時間撹拌した後、水相をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を、飽和Ｎａ２Ｓ２Ｏ３（２×１００ｍＬ）、ブライン（２×１００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で駆動し、濾過し、濃縮して、８５．１１（３ｇ）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．８０－３．６５（ｓ，１Ｈ），２．０３－１．７８（ｍ，５Ｈ），１．６４－１．５６（ｍ，５Ｈ），１．５６－１．４４（ｍ，８Ｈ），１．３９－１．２６（ｍ，５Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），１．１８（ｓ，３Ｈ），１．１７－１．１４（ｍ，２Ｈ），１．１２－１．０８（ｍ，２Ｈ），０．９８－０．９１（ｍ，３Ｈ），０．８７－０．８２（ｍ，１Ｈ），０．５０－０．３０（ｍ，３Ｈ），０．２６－０．１６（ｍ，１Ｈ），０．０５－０．００（ｍ，１Ｈ）。
８５．１２の合成
ＤＣＭ（１０ｍＬ）中の８５．１１（１ｇ、２．６６ｍｍｏｌ）の溶液に、シリカゲル（１ｇ）及びＰＣＣ（８５７ｍｇ、３．９９ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。２５℃で１時間撹拌した後、懸濁液を濾過し、濾過ケーキをＤＣＭ（２×２０ｍＬ）で洗浄した。合わせた濾過液を濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５．１２（４５０ｍｇ、４５．４％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ２．５３－２．２４（ｍ，１Ｈ），２．１７－２．１２（ｍ，３Ｈ），１．８２－２．０３（ｍ，３Ｈ），１．６４－１．８１（ｍ，３Ｈ），１．５９－１．６４（ｍ，３Ｈ），１．４６－１．５７（ｍ，７Ｈ），１．２８－１．４６（ｍ，６Ｈ），１．２０－１．１５（ｍ，３Ｈ），０．９６－１．１２（ｍ，２Ｈ），０．９４－０．９２（ｍ，３Ｈ），０．７０－０．９１（ｍ，１Ｈ），０．３０－０．４９（ｍ，３Ｈ），０．１７－０．２７（ｍ，１Ｈ），０．０５－０．０５（ｍ，１Ｈ）。
８５の合成
ＭｅＯＨ（５０ｍＬ）中の８５．１２（２００ｍｇ、０．５３６７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＭｅＯＮａ（２８９ｍｇ、５．３６ｍｍｏｌ）を添加した。７０℃で２日間撹拌した後、混合物を水（５０ｍＬ）に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８５（１００ｍｇ、５０．２％）を固体として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ２．３６－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．１４（ｓ，３Ｈ），２．０４－１．７８（ｍ，３Ｈ），１．７７－１．５８（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．４１（ｍ，６Ｈ），１．４０－１．２０（ｍ，８Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１８－１．１３（ｍ，１Ｈ），１．１１－０．９５（ｍ，２Ｈ），０．９３（ｓ，３Ｈ），０．５０－０．３０（ｍ，３Ｈ），０．２８－０．１６（ｍ，１Ｈ），０．０９－０．０５（ｍ，１Ｈ）、ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％；Ｃ２５Ｈ３９Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値３５５．３，実測値３５５．３。
実施例８６及び８７：１－（２－（（１Ｒ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－シクロプロピル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル及び１－（２－（（１Ｓ，４ａＳ，４ｂＳ，６ａＲ，８Ｒ，１０ａＲ，１０ｂＳ，１２ａＳ）－１０ａ－シクロプロピル－８－ヒドロキシ－８，１２ａ－ジメチルオクタデカヒドロクリセン－１－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリルの合成
Figure 2022538300000420
 ８６．１の合成
ＭｅＯＨ（１０ｍＬ）中の８５（２５０ｍｇ、０．６７０９ｍｍｏｌ）及びＨＢｒ（２６．７ｍｇ、０．１３４１ｍｍｏｌ、４０％）の溶液に、Ｂｒ２（１１８ｍｇ、０．７３７９ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。２５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和ＮａＨＣＯ３（５０ｍＬ）中に添加し、ＥｔＯＡｃ（３×２０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８６．１（３００ｍｇ、粗製）を油として得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４３－５．４５（ｍ，１Ｈ），３．９１－４．００（ｍ，１Ｈ），１．８９－２．０４（ｍ，２Ｈ），１．７７－１．８９（ｍ，２Ｈ），１．６５－１．７７（ｍ，２Ｈ），１．５９－１．６５（ｍ，２Ｈ），１．４２－１．５８（ｍ，７Ｈ），１．２８－１．４１（ｍ，４Ｈ），１．２４－１．２７（ｍ，３Ｈ），１．１９－１．２３（ｍ，２Ｈ），１．１８（ｄ，Ｊ＝１０．４０ Ｈｚ，３Ｈ），１．００－１．１３（ｍ，２Ｈ），０．９８－０．９４（ｍ，３Ｈ），０．７５－０．９３（ｍ，１Ｈ），０．２９－０．５２（ｍ，３Ｈ），０．１０－０．２８（ｍ，１Ｈ），０．０６－０．０６（ｍ，１Ｈ）。
８６及び８７の合成
アセトン（１０ｍｌ）中の８６．１（３００ｍｇ、０．６６４４ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｋ２ＣＯ３（１８２ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）及び１Ｈ－ピラゾール－４－炭素（７４．２ｍｇ、０．７９７２ｍｍｏｌ）を添加した。２５℃で２時間撹拌した後、反応混合物を飽和水（５０ｍＬ）中に注ぎ入れ、１０分間撹拌し、ＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出した。有機相を飽和ブラインで洗浄し、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８７（９０ｍｇ）及び３（６６．１ｍｇ、２１．４％）を固体として得た。８６（９０ｍｇ、不純）を、ＨＰＬＣ（カラム：ＹＭＣ Ｔｒｉａｒｔ Ｃ１８ １５０＊２５ｍｍ＊５ｕｍ）；条件：水（１０ｍＭ ＮＨ４ＨＣＯ３）ＡＣＮ；開始Ｂ：７８；終了Ｂ：１００）によってさらに精製して、８６（１４．９ｍｇ、４．８２％）を得た。８６：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８８（ｓ，１Ｈ），７．８４（ｓ，１Ｈ），５．０７－５．０１（ｍ，１Ｈ），４．９３－４．８７（ｍ，１Ｈ），２．５０－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．０２－１．８５（ｍ，３Ｈ），１．８４－１．６６（ｍ，３Ｈ），１．６６－１．５７（ｍ，６Ｈ），１．５５－１．４９（ｍ，２Ｈ），１．４９－１．４０（ｍ，４Ｈ），１．４０－１．２７（ｍ，５Ｈ），１．２７－１．１８（ｍ，５Ｈ），１．１６（ｓ，３Ｈ），１．０９－１．０１（ｍ，１Ｈ），１．００（ｓ，３Ｈ），０．９８－０．９２（ｍ，１Ｈ），０．４７－０．３４（ｍ，３Ｈ），０．２７－０．１８（ｍ，１Ｈ），０．０５－０．００（ｍ，１Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％；Ｃ２９Ｈ４０Ｎ３Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４６．３，実測値４４６．３。８７：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８２－７．８０（ｍ，２Ｈ）５．０７－４．９２（ｍ，２Ｈ）２．３８－２．２９（ｍ，１Ｈ）２．００－１．９４（ｍ，１Ｈ）１．９３－１．８４（ｍ，２Ｈ）１．８１－１．７１（ｍ，２Ｈ）１．６８－１．５８（ｍ，４Ｈ）１．５２－１．４５（ｍ，４Ｈ）１．４１－１．３４（ｍ，３Ｈ）１．３３－１．２２（ｍ，５Ｈ）１．２０（ｓ，３Ｈ）１．１８－１．１２（ｍ，１Ｈ）１．０７－０．９９（ｍ，２Ｈ）０．９６（ｓ，３Ｈ）０．９２－０．７５（ｍ，１Ｈ）０．５０－０．３２（ｍ，３Ｈ）０．２８－０．１９（ｍ，１Ｈ）０．０６－０．０３（ｍ，１Ｈ）；ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ：純度＞９９％；Ｃ２９Ｈ４０Ｎ３Ｏ１［Ｍ－Ｈ２Ｏ＋Ｈ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４６．３，実測値４４６．３。
実施例８８：１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｒ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－シクロプロピル－１３－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）エタノン（８８）
Figure 2022538300000421
 ８８．２の合成
ＤＣＭ（７０．０ｍＬ）中のＥｔ２Ｚｎ（２３．１ｍＬ、ヘキサン中１Ｍ）の溶液に、ＣＦ３ＣＯＯＨ（２．２０ｇ、１９．３ｍｍｏｌ）をＮ２雰囲気下、０℃で０．５時間にわたって滴加した。次いで、ＣＨ２Ｉ２（６．１８ｇ、２３．１ｍｍｏｌ）を反応混合物に１５分間にわたって滴加した。最後に、ＤＣＭ（３０．０ｍＬ）中の化合物８８．１（３．００ｇ、７．７２ｍｍｏｌ）を反応混合物に添加し、０℃で１時間撹拌した。その後、反応混合物２０℃で１２時間撹拌した。混合物を、別の２つのバッチ（化合物８８．１からの各３．００ｇスケール）と合わせ、飽和ＮＨ４Ｃｌ（３００ｍＬ）に添加した。水層をＤＣＭ（２×１５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、８８．２（１０．０ｇ、粗製）を得た。
８８．３の合成
ＴＨＦ（３００ｍＬ）中の８８．２（４０．０ｇ、粗製）の溶液に、水性ＨＣｌ（１４８ｍＬ、２．０Ｍ）を２５℃で添加した。混合物を２５℃で２時間撹拌した。混合物を飽和ブライン（２００ｍＬ）に添加した。水層をＥｔＯＡｃ（３×１００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を飽和ＮａＨＣＯ３（３００ｍＬ）、飽和ブライン（３００ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物８８．３（１０．０ｇ、３１．８％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．７８－２．５８（ｍ，１Ｈ），２．５２－２．３９（ｍ，１Ｈ），２．３５－２．２３（ｍ，１Ｈ），２．１８－２．０５（ｍ，４Ｈ），２．０４－１．６１（ｍ，９Ｈ），１．５７－１．２７（ｍ，６Ｈ），０．９５－０．８３（ｍ，４Ｈ），０．５９－０．２４（ｍ，４Ｈ）。
８８．４の合成
トルエン（２００ｍＬ）中の新たに調製したＭＡＤ（９５．１ｍｍｏｌ）溶液に、ＤＣＭ（５０ｍＬ）中の化合物８８．３（１０．０ｇ、３１．７ｍｍｏｌ）を－７０℃で滴加した。Ｎ２下、－７０℃で１時間撹拌した後、ＣＨ３ＭｇＢｒ（３１．７ｍＬ、９５．１ｍｍｏｌ、エチルエーテル中３Ｍ）を－７０℃で滴加した。得られた溶液を－７０℃でさらに４時間撹拌した。反応混合物を、飽和クエン酸水溶液（４００ｍＬ、１０％）中に１０℃未満で注ぎ入れ、ＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をＮａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～３０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物８８．４（６．９０ｇ、６６．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５０－２．３８（ｍ，１Ｈ），２．１５－１．７５（ｍ，７Ｈ），１．５５－１．２２（ｍ，１５Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），０．９１－０．８２（ｍ，３Ｈ），０．５４－０．００（ｍ，５Ｈ）。
８８．５の合成
ＴＨＦ（１００ｍＬ）中のＥｔＰＰｈ３Ｂｒ（２３．１ｇ、６２．４ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（６．９８ｇ、６２．４ｍｍｏｌ）をＮ２下、１５℃で添加した。得られた混合物を４０℃で６０分間撹拌した。化合物８８．４（６．９０ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）を５０℃で分量で添加した。反応混合物を６５℃で１６時間撹拌し、オレンジ色の懸濁液を得た。反応混合物をＮＨ４Ｃｌ水溶液（２００ｍＬ、１０％）で１５℃でクエンチした。ＴＨＦ層を分離した。水溶液をＥｔＯＡｃ（２×２００ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を真空下で濃縮して白色の固体を得、これをフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物８８．５（６．５０ｇ、９１．２％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．１０－４．９９（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．１２（ｍ，４Ｈ），２．０４－１．８１（ｍ，３Ｈ），１．６６－１．６１（ｍ，６Ｈ），１．５３－１．４６（ｍ，５Ｈ），１．４０－１．２８（ｍ，４Ｈ），１．２６－１．２２（ｍ，４Ｈ），１．１９－１．１８（ｍ，３Ｈ），０．８９（ｓ，３Ｈ），０．５１－０．３３（ｍ，３Ｈ），０．２８－０．１７（ｍ，１Ｈ），０．０７－０．０３（ｍ，１Ｈ）。
８８．６の合成
ＤＭＦ（７０ｍＬ）中の８８．５（６．５０ｇ、１８．９ｍｍｏｌ）の混合物に、ＮａＨ（３．０１ｇ、７５．６ｍｍｏｌ、６０％）を０℃で添加した。混合物を２５℃で１時間撹拌した。次いで、ＢｎＢｒ（８．９５ｍＬ、７５．６ｍｍｏｌ）を、混合物に２５℃で添加した。反応混合物を６０℃で２０時間撹拌した。トリエチルアミン（３０．０ｍＬ）を添加し、混合物を６０℃でさらに３０分間撹拌した。混合物をＮＨ４Ｃｌ水溶液（２４０ｍＬ、１Ｍ）に添加した。水相をＥｔＯＡｃ（３×１２５ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×１２５ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中のＥｔＯＡｃの０～０．５％）によって精製して、化合物８８．６（５．３０ｇ、不純）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．２４－７．２０（ｍ，５Ｈ），５．０２－４．９８（ｍ，１Ｈ），４．４０－４．３６（ｍ，２Ｈ），２．２９－１．７３（ｍ，７Ｈ），１．５３－１．３２（ｍ，１４Ｈ），１．１９－１．１１（ｍ，７Ｈ），０．７８（ｓ，３Ｈ），０．４４－０．２３（ｍ，３Ｈ），０．１７－０．０７（ｍ，１Ｈ），－０．０１－０．１２（ｍ，１Ｈ）。
８８．７の合成
ＴＨＦ（１５０ｍＬ）中の８８．６（５．３０ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）の溶液に、９－ＢＢＮ二量体（１４．７ｇ、６１．０ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を１５℃で１６時間撹拌した。混合物にＥｔＯＨ（２１ｍＬ）、続いてＮａＯＨ（７３．２ｍＬの水中１４．６ｇ、５Ｍ、）及びＨ２Ｏ２（３６．６ｍＬ、１０Ｍ、３６６ｍｍｏｌ）を滴加した。混合物を７８℃で２時間撹拌した。混合物をＮａ２Ｓ２ＳＯ３水溶液（２００ｍＬ、１０％）によってクエンチして、ＥｔＯＡｃ（２×１００ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮した。残渣をフラッシュカラム（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８８．７（２．８０ｇ、混合物）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４０－７．２８（ｍ，４Ｈ），７．２６－７．２１（ｍ，１Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），３．７５－３．６５（ｍ，１Ｈ），２．０４－１．８１（ｍ，４Ｈ），１．７０－１．６２（ｍ，２Ｈ），１．５８－１．３１（ｍ，１０Ｈ），１．３０－１．０７（ｍ，１４Ｈ），０．６７（ｓ，３Ｈ），０．５５－０．４４（ｍ，１Ｈ），０．４３－０．３３（ｍ，２Ｈ），０．２７－０．１８（ｍ，１Ｈ），０．０９－０．０１（ｍ，１Ｈ）。
８８．８の合成
シクロヘキサン（６０ｍＬ）中の８８．７（６００ｍｇ、１．３３ｍｍｏｌ）の溶液に、ＣａＣＯ３（３９９ｍｇ、３．９９ｍｍｏｌ）、ＰｈＩ（ＯＡｃ）２（１．２８ｇ、３．９９ｍｍｏｌ）、Ｉ２（６７５ｍｇ、２．６６ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。混合物を、赤外線ランプ（２５０Ｗ）で１５分間照射することによって、加熱還流した（８０℃）。反応混合物を２５℃に冷却し、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（６０．０ｍＬ）でクエンチした。水層をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層をブライン（６０．０ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４を乾燥させ、濃縮した。混合物を濾過し、濃縮して、８８．８（６７３ｍｇ、粗製）をオレンジ色の油として得、これをさらに精製することなく直接使用した。
８８．９の合成
ＴＨＦ（５０．０ｍＬ）中のＭｅＰＰｈ３Ｂｒ（１１．９ｇ、３３．４ｍｍｏｌ）の混合物に、ｔ－ＢｕＯＫ（３．７４ｇ、３３．４ｍｍｏｌ）をＮ２下、２５℃で添加した。得られた混合物を５０℃で１時間撹拌した。ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の化合物８８．８（２．１２ｇ、４．１８ｍｍｏｌ）を、上記混合物に５０℃で分量で添加した。反応混合物を５０℃で１２時間撹拌した。反応混合物を２５℃で水（１５０ｍＬ）中に注ぎ入れた。水相をＥｔＯＡｃ（２×５０ｍＬ）で抽出し、有機層を、水（５０．０ｍＬ）、ブライン（１００ｍＬ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８８．９（８００ｍｇ、４１．４％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．４０－７．２９（ｍ，４Ｈ），７．２６－７．１７（ｍ，１Ｈ），５．８９－５．６７（ｍ，１Ｈ），５．３５－５．０９（ｍ，２Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），３．９０－３．７４（ｍ，１Ｈ），２．４４－２．３０（ｍ，１Ｈ），２．０３－１．９１（ｍ，２Ｈ），１．８６－１．６０（ｍ，６Ｈ），１．５７－１．２６（ｍ，１１Ｈ），１．２５（ｓ，３Ｈ），１．２３－１．０４（ｍ，７Ｈ），０．５２－０．４０（ｍ，１Ｈ），０．３７－０．２６（ｍ，２Ｈ），０．２５－０．１４（ｍ，１Ｈ），０．０５－０．０５（ｍ，１Ｈ）。
８８．１０の合成
ＭｅＯＨ（４０ｍＬ）中の８８．９（８００ｍｇ、１．７２ｍｍｏｌ）の溶液に、Ｐｄ／Ｃ（１６０ｍｇ、炭素上の１０％パラジウム、５０％水湿潤）を添加した。次いで、溶液を２５℃で２４時間、３０ｐｓｉの水素下で水素化した。反応混合物をセライトパッドを通して濾過し、ＭｅＯＨ（３×２０ｍＬ）で洗浄した。濾液を真空中で濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～４０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、８８．１０（５９０ｍｇ、粗製）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ３．９４－３．７６（ｍ，１Ｈ），２．１９－２．１０（ｍ，１Ｈ），２．０５－１．８３（ｍ，３Ｈ），１．７５－１．５９（ｍ，３Ｈ），１．５７－１．２９（ｍ，１１Ｈ），１．２８－１．２０（ｍ，９Ｈ），１．１９（ｓ，３Ｈ），１．１７－１．０９（ｍ，２Ｈ），０．９７－０．９２（ｍ，１Ｈ），０．８８－０．８１（ｍ，３Ｈ），０．５２－０．４１（ｍ，１Ｈ），０．４０－０．３０（ｍ，２Ｈ），０．２７－０．１７（ｍ，１Ｈ），０．０８－０．０３（ｍ，１Ｈ）。
８８の合成
ＤＣＭ（２１ｍＬ）中の８８．１０（５９０ｍｇ、１．５７ｍｍｏｌ）の溶液に、ＤＭＰ（１．３３ｇ、３．１４ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を４０℃で１０分間撹拌して、褐色の溶液を得た。混合物を、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液（５０ｍＬ）によって１０℃でクエンチした。ＤＣＭ相を分離し、飽和ＮａＨＣＯ３／Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液（１：１、２×５０ｍＬ）、ブライン（５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、濃縮して、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ＰＥ中０～１０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物８８（４５０ｍｇ、７７．０％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ２．５１－２．４１（ｍ，１Ｈ），２．３４－２．２５（ｍ，１Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），２．０６－１．８８（ｍ，２Ｈ），１．８０－１．５７（ｍ，４Ｈ），１．５７－１．３１（ｍ，１０Ｈ），１．３０－１．１３（ｍ，１１Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．５３－０．４３（ｍ，１Ｈ），０．４１－０．３１（ｍ，２Ｈ），０．２８－０．１８（ｍ，１Ｈ），０．０９－０．０３（ｍ，１Ｈ）。
実施例８９：１－（２－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｒ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－シクロプロピル－１３－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－４－カルボニトリル（８９）の合成
Figure 2022538300000422
 ８９．１の合成
メタノール（１０ｍＬ）中の８９（４５０ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）の溶液に、ＨＢｒ（４７．９ｍｇ、２４０μｍｏｌ、４０％）及びＢｒ２（２１０ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）を２５℃で滴加し、１時間撹拌した。反応混合物に、ＮａＨＣＯ３水溶液（３０ｍＬ、１Ｍ）を２５℃で添加した。水相をＥｔＯＡｃ（２×３０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン（２×５０ｍＬ）で洗浄し、無水Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、濾過し、真空中で濃縮して、化合物８９．１（５４０ｍｇ、粗製）を得た。
８９の合成
アセトン（４ｍＬ）中の８９．１（１８０ｍｇ、０．３９８ｍｍｏｌ）の溶液に、４－シアノピラゾール（４４．４ｍｇ、０．４７７ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（１０９ｍｇ、０．７９６ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物に水（２０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物８９（１００ｍｇ、５４．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），５．２１－４．８８（ｍ，２Ｈ），２．５４－２．４５（ｍ，１Ｈ），２．３９－２．２３（ｍ，２Ｈ），２．０７－１．８８（ｍ，２Ｈ），１．８１－１．５７（ｍ，５Ｈ），１．５４－１．３４（ｍ，８Ｈ），１．３２－１．１７（ｍ，１１Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．５５－０．４５（ｍ，１Ｈ），０．４１－０．３１（ｍ，２Ｈ），０．２９－０．１９（ｍ，１Ｈ），０．１０－０．０２（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２９Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４６．３，実測値４４６．３。
実施例９０：１－（２－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｒ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－シクロプロピル－１３－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－オキソエチル）－１Ｈ－ピラゾール－３－カルボニトリル（９０）
Figure 2022538300000423
 アセトン（４．０ｍＬ）中の８８．１（１００ｍｇ、０．２２１ｍｍｏｌ）の溶液に、３－シアノピラゾール（２４．６ｍｇ、０．２６５ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（６０．９ｍｇ、０．４４２ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で１時間撹拌した。混合物に水（２０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物９０（３５．０ｍｇ、３４．３％）を得た。１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ７．５６－７．４４（ｍ，１Ｈ），６．８１－６．６３（ｍ，１Ｈ），５．２８－４．８１（ｍ，２Ｈ），２．５７－２．４３（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２３（ｍ，２Ｈ），２．０９－１．８８（ｍ，２Ｈ），１．８１－１．６１（ｍ，４Ｈ），１．５５－１．３５（ｍ，８Ｈ），１．３３－１．２２（ｍ，８Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１３（ｍ，１Ｈ），０．６２（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．５５－０．４４（ｍ，１Ｈ），０．４３－０．３１（ｍ，２Ｈ），０．３０－０．１９（ｍ，１Ｈ），０．０６－０．００（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２９Ｈ４１Ｎ３Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４４６．３，実測値４４６．３。
実施例９１及び９２１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｒ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－シクロプロピル－１３－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－２Ｈ－テトラゾール－２－イル）エタノン（９１）及び１－（（３Ｒ，５Ｒ，８Ｓ，９Ｓ，１０Ｒ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）－１０－シクロプロピル－１３－エチル－３－ヒドロキシ－３－メチルヘキサデカヒドロ－１Ｈ－シクロペンタ［ａ］フェナントレン－１７－イル）－２－（５－メチル－１Ｈ－テトラゾール－１－イル）エタノン（９２）
Figure 2022538300000424
 アセトン（６．０ｍＬ）中の８８．１（２６０ｍｇ、０．５７５ｍｍｏｌ）の溶液に、５－メチル－２Ｈ－１，２，３，４－テトラゾール（５８．０ｍｇ、０．６９０ｍｍｏｌ）及びＫ２ＣＯ３（１５８ｍｇ、１．１５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を２５℃で１６時間撹拌した。混合物に水（２０ｍＬ）を添加し、混合物をＥｔＯＡｃ（２×２０ｍＬ）で抽出した。有機層を分離し、濃縮し、フラッシュカラム（ＰＥ中０～３５～７０％のＥｔＯＡｃ）によって精製して、化合物９１（３５．０ｍｇ、１３．４％）及び化合物９２（８５．０ｍｇ、３２．５％）を得た。これら２つの化合物の構造を、Ｈ－ＮＭＲに基づいて割り当てた。
化合物９１：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）、δＨ ５．５５－５．３０（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｓ，３Ｈ），２．５５－２．４９（ｍ，１Ｈ），２．４１－２．２４（ｍ，２Ｈ），２．０７－１．８９（ｍ，２Ｈ），１．８２－１．５８（ｍ，５Ｈ），１．５４－１．３３（ｍ，８Ｈ），１．３２－１．２２（ｍ，７Ｈ），１．２０（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１３（ｍ，１Ｈ），０．７２（ｔ，Ｊ＝７．２ Ｈｚ，３Ｈ），０．５６－０．４５（ｍ，１Ｈ），０．４３－０．３３（ｍ，２Ｈ），０．３０－０．２０（ｍ，１Ｈ），０．０９－０．００（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２７Ｈ４２Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３７．３，実測値４３７．３。
化合物９２：１Ｈ ＮＭＲ（４００ ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δＨ ５．４９－４．８２（ｍ，２Ｈ），２．５８－２．５２（ｍ，１Ｈ），２．４９（ｓ，３Ｈ），２．４４－２．３７（ｍ，１Ｈ），２．３４－２．２３（ｍ，１Ｈ），２．１０－１．８８（ｍ，２Ｈ），１．８４－１．６０（ｍ，５Ｈ），１．５５－１．３３（ｍ，９Ｈ），１．３２－１．２３（ｍ，６Ｈ），１．２１（ｓ，３Ｈ），１．１９－１．１４（ｍ，１Ｈ），０．６４（ｔ，Ｊ＝７．６ Ｈｚ，３Ｈ），０．５７－０．４５（ｍ，１Ｈ），０．４３－０．３２（ｍ，２Ｈ），０．３０－０．１９（ｍ，１Ｈ），０．１１－０．０１（ｍ，１Ｈ）。ＬＣ－ＥＬＳＤ／ＭＳ純度＞９９％，Ｃ２７Ｈ４２Ｎ４Ｏ２［Ｍ＋Ｈ－Ｈ２Ｏ］＋に対するＭＳ ＥＳＩ計算値４３７．３，実測値４３７．３。
ＴＢＰＳ結合のステロイド阻害
５ｍＭ ＧＡＢＡの存在下でのラット脳皮質膜を使用した［３５Ｓ］－ｔ－ブチルビシクロホスホロチオネート（ＴＢＰＳ）結合アッセイが記載されている（Ｇｅｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．１９８７，２４１，３４６－３５３、Ｈａｗｋｉｎｓｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｍｏｌ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９９４，４６，９７７－９８５、Ｌｅｗｉｎ，Ａ．Ｈ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．１９８９，３５，１８９－１９４）。
簡潔には、二酸化炭素で麻酔したＳｐｒａｇｕｅ－Ｄａｗｌｅｙラット（２００～２５０ｇ）の断頭後、皮質を迅速に除去する。ガラス／テフロン（登録商標）均質化剤を使用して、１０体積の氷冷０．３２Ｍスクロース中で皮質を均質化し、１５００×ｇで１０分間、４℃で遠心分離する。得られた上清を１０，０００×ｇで２０分間、４℃で遠心分離して、Ｐ２ペレットを得る。Ｐ２ペレットを２００ｍＭ ＮａＣｌ／５０ｍＭ Ｎａ－Ｋリン酸塩ｐＨ７．４緩衝液に再懸濁し、１０，０００×ｇで１０分間、４℃で遠心分離する。この洗浄手順を２回繰り返し、ペレットを１０体積の緩衝液中に再懸濁する。膜懸濁液のアリコート（１００ｍＬ）を、５ｍＭ ＧＡＢＡの存在下、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（最終的に０．５％）中に溶解させた３ｎＭ［３５Ｓ］－ＴＢＰＳ及び５ｍＬアリコートの試験薬でインキュベートする。インキュベーションを緩衝液で最終体積１．０ｍＬにする。非特異的結合は、２ｍＭの非標識ＴＢＰＳの存在下で決定され、１５～２５％の範囲であった。室温での９０分間のインキュベーション後、細胞収穫機（Ｂｒａｎｄｅｌ）を使用してガラス繊維フィルター（Ｓｃｈｌｅｉｃｈｅｒ及びＳｃｈｕｅｌｌ Ｎｏ．３２）を通して濾過することによってアッセイを終了し、氷冷緩衝液で３回すすぐ。フィルター結合放射能は、液体シンチレーション分光法によって測定される。それぞれの濃度について平均化されたそれぞれの薬物の全体データの非線形曲線適合を、Ｐｒｉｓｍ（ＧｒａｐｈＰａｄ）を使用して行う。データは、二乗の和がＦ検定によって有意に低い場合、完全阻害モデルの代わりに部分的に適合する。同様に、データは、二乗の和がＦ検定によって有意に低い場合、１つの成分阻害モデルの代わりに２つの成分に適合する。特異的結合の５０％阻害（ＩＣ５０）をもたらす試験化合物の濃度及び阻害の最大範囲（Ｉｍａｘ）を、全体データに使用される同じモデルを用いた個々の実験について決定し、次いで、個々の実験の平均＋ＳＥＭを計算する。ピクロトキシンは、ＴＢＰＳ結合を堅牢に阻害することが示されているため、これらの研究の陽性対照として機能する。
様々な化合物をスクリーニングして、インビトロでの［３５Ｓ］－ＴＢＰＳ結合の調節因子としてのそれらの可能性を決定することができる。これらのアッセイは、上記に従って行うか、または行うことができる。
以下の表４～６において、Ａは、ＴＢＰＳ ＩＣ５０＜０．１μＭを示し、Ｂは、０．１μＭ～１．０μＭのＴＢＰＳ ＩＣ５０（μＭ）を示し、Ｃは、≧１．０μＭのＴＢＰＳ ＩＣ５０（μＭ）を示す。
Figure 2022538300000425
Figure 2022538300000426
Figure 2022538300000427
Figure 2022538300000428
Figure 2022538300000429
Figure 2022538300000430
Figure 2022538300000431
Figure 2022538300000432
Figure 2022538300000433
Figure 2022538300000434
Figure 2022538300000435
Figure 2022538300000436
Figure 2022538300000437
Figure 2022538300000438
Figure 2022538300000439
Figure 2022538300000440
Figure 2022538300000441
Figure 2022538300000442
Figure 2022538300000443
Figure 2022538300000444
Figure 2022538300000445
Figure 2022538300000446
Figure 2022538300000447
Figure 2022538300000448
Figure 2022538300000449
Figure 2022538300000450
等価物及び範囲
特許請求の範囲では、「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」などの冠詞は、反対の指示がない限り、または別途文脈から明らかでない限り、１つまたは複数を意味し得る。群の１つ以上の要素間に「または」を含む特許請求の範囲または説明は、反対の指示がない限り、または別途文脈から明らかでない限り、群の要素のうちの１つ、２つ以上、またはすべてが、所与の生成物またはプロセスに存在する、用いられる、またはそうでなければ関連する場合に満たされると考えられる。本発明は、群の正確な１つの要素が、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、用いられるか、またはそうでなければ関連している実施形態を含む。本発明は、群の要素のうちの２つ以上またはすべてが、所与の生成物またはプロセスにおいて存在するか、用いられるか、またはそうでなければ関連している実施形態を含む。
さらに、本発明は、列挙された特許請求の範囲のうちの１つ以上からの１つ以上の制限、要素、節、及び記述用語が別の特許請求の範囲に導入されるすべての変形、組み合わせ、及び順列を包含する。例えば、別の特許請求の範囲に従属する任意の特許請求の範囲は、同一の基本の特許請求の範囲に従属する任意の他の特許請求の範囲に見出される１つ以上の制限を含むように修正され得る。要素が、一覧として、例えば、Ｍａｒｋｕｓｈ群形式で提示される場合、要素のそれぞれの亜群も開示され、いずれの要素（複数可）もこの群から除去され得る。一般に、本発明、または本発明の態様が特定の要素及び／または特徴を含むと称される場合、本発明のある特定の実施形態または本発明の態様は、そのような要素及び／または特徴からなるか、または本質的になることが理解されるべきである。簡潔さを目的として、それらの実施形態は、本明細書で具体的に逐語的には記載されていない。「含むこと」及び「含有すること」という用語は、開放的であるように意図され、追加の要素またはステップの包含を許容することもまた留意されたい。範囲が与えられている場合、端点を含む。さらに、別途示されるか、またはそうでなければ文脈及び当業者の理解から明白でない限り、範囲として表される値は、文脈が別途明確に指示しない限り、範囲の下限の単位の１０分の１まで、本発明の異なる実施形態の規定された範囲内の任意の特定の値または部分範囲を推定することができる。
この出願は、様々な発行された特許、公開された特許出願、ジャーナル記事、及び他の刊行物を指し、これらのすべては参照により本明細書に組み込まれる。組み込まれた参考文献のうちのいずれかと本明細書との間に矛盾がある場合は、本明細書を優先するものとする。その上、先行技術範囲内の本発明の任意の特定の実施形態は、特許請求の範囲のうちのいずれか１つ以上から明らかに除外され得る。そのような実施形態は、当業者に既知であるとみなされるため、除外が本明細書に明示的に記載されていない場合でも除外され得る。本発明のいずれの特定の実施形態も、先行技術の存在に関連するかどうかに関わらず、あらゆる理由により、任意の特許請求の範囲から除外され得る。
当業者は、ほんの日常的な実験を使用して、本明細書に記載される特定の実施形態に対する多くの等価物を認識するか、または確認することができるであろう。本発明に記載される本実施形態の範囲は、上記説明に限定されるように意図されるものではなく、むしろ添付の特許請求の範囲に記載されるとおりである。以下の特許請求の範囲に定義されるように、この説明への様々な変化及び修正は、本発明の趣旨または範囲から逸脱することなく行われ得ることが当業者に明らかとなるであろう。

Claims (54)

  1. 式（１－Ｉ）、（２－Ｉ）もしくは（３－Ｉ）の化合物：
    Figure 2022538300000451
     またはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    ｑが、独立して、０、１、２、または３であり、
    ｒが、独立して、０、１または２であり、
    ｓが、独立して、０、１または２であり、
    ｔが、独立して、０、１、２または３であり、
    ｎが、独立して、１または２であり、
    ｕが、独立して、１または２であり、
    Ｘが、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、または窒素原子に付着している場合は窒素保護基であり、ＲＡ２のそれぞれの例が、独立して、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素もしくはメチルであるか、または
    Figure 2022538300000452
     が二重結合である場合、Ｒ５及びＲ６ａもしくはＲ６ｂの一方が存在せず、
    Ｒ１９が、水素、または置換もしくは非置換アルキルであり、
    Ｒ１８が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
    Ｒ３が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１６ａ、またはＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ２ａ及びＲ２ｂ、もしくはＲ４ａ及びＲ４ｂ、もしくはＲ１１ａ及びＲ１１ｂ、もしくはＲ１６ａ及びＲ１６ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成するが、
    但し、
    ｑ、ｓ、ｒ、ｕ、及びｔが、同時に１ではないことを条件とする、前記（１－Ｉ）の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または
    Figure 2022538300000453
     もしくはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538300000454
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ５及びＲ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
    Ｒ３が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素または置換もしくは非置換メチルであるか、または
    Figure 2022538300000455
     が二重結合である場合、Ｒ５が存在せず、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、Ｒ１５ａ、及びＲ１５ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、または置換もしくは非置換アルキニル、－ＯＲＤ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ１、－ＮＨ２、－Ｎ（ＲＤ１）２、または－ＮＲＤ１Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環式環を形成するか、またはＲ１ａ及びＲ１ｂ、Ｒ２ａ及びＲ２ｂ、Ｒ４ａ及びＲ４ｂ、Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂ、Ｒ１２ａ及びＲ１２ｂ、ならびにＲ１５ａ及びＲ１５ｂのうちのいずれか１つが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－ＳＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）、－ＣＮ（ＲＡ１）２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ２、－Ｓ－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）ＲＡ２、－ＳＯ２ＲＡ２、または－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素原子に付着している場合は酸素保護基、硫黄原子に付着している場合は硫黄保護基、窒素原子に付着している場合は窒素保護基、－ＳＯ２ＲＡ２、－Ｃ（Ｏ）ＲＡ２であるか、または２つのＲＡ１基が接合されて、置換もしくは非置換の複素環またはヘテロアリール環を形成し、ＲＡ２が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ１９が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであり、
    Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    ｎが、１、２、または３であるが、
    但し、前記化合物が、
    Figure 2022538300000456
     でないことを条件とする、前記（２－Ｉ）の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または
    Figure 2022538300000457
     もしくはその薬学的に許容される塩であって、
    式中、
    Figure 2022538300000458
     が、単結合または二重結合を表すが、但し、二重結合が存在する場合、Ｒ６ａまたはＲ６ｂの一方が存在しないことを条件とし、
    Ｒ１が、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ４ａ、Ｒ４ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ１１ａ、Ｒ１１ｂ、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂ、またはＲ１７ｂのそれぞれが、独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１）ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｃ（＝ＮＲＡ１） Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、－Ｎ（ＲＡ１）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＡ１、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＡ１）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＡ１、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＡ１、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＡ１）２であり、ＲＡ１のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＡ１基が、介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールであり、
    Ｒ５が、水素またはメチルであり、
    Figure 2022538300000459
     が二重結合である場合、Ｒ５が存在せず、
    Ｒ６ａ及びＲ６ｂのそれぞれが、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、－ＯＨ、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、または置換もしくは非置換アルキニルであるか、あるいはＲ６ａ及びＲ６ｂが接合されて、オキソ（＝Ｏ）基を形成し、
    Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂのそれぞれが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、－ＣＮ、－ＮＯ２、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、－ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－ＯＳ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｃ（＝ＮＲＣ３）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、－Ｎ（ＲＣ３）Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２、－ＳＣ（＝Ｏ）ＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＯＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）ＳＲＣ３、－ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＣ３）２、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＣ３、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＣ３、または－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＣ３）２であり、ＲＣ３のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換アルケニル、置換もしくは非置換アルキニル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリール、置換もしくは非置換カルボシクリル、または置換もしくは非置換ヘテロシクリル、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基、硫黄に付着している場合は硫黄保護基から選択されるか、あるいは２つのＲＣ３基が介在原子と一緒になって、置換または非置換の複素環式環を形成し、
    Ｒ１８が、置換または非置換アルキルであり、
    Ｒ１９が、置換もしくは非置換Ｃ３～Ｃ６カルボシクリルまたは置換もしくは非置換アリールであり、
    ｎが、０、１または２である、前記（３－Ｉ）の化合物もしくはその薬学的に許容される塩。
  2. Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１に記載の化合物。
  3. Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１または２に記載の化合物。
  4. Ｒ２ａ及びＲ２ｂが、両方とも水素である、請求項１～３のいずれか１項に記載の化合物。
  5. Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１～４のいずれか１項に記載の化合物。
  6. Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～５のいずれか１項に記載の化合物。
  7. Ｒ４ａ及びＲ４ｂが、両方とも水素である、請求項１～６のいずれか１項に記載の化合物。
  8. Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物。
  9. Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～８のいずれか１項に記載の化合物。
  10. Ｒ６ａ及びＲ６ｂが、両方とも水素である、請求項１～９のいずれか１項に記載の化合物。
  11. Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１～１０のいずれか１項に記載の化合物。
  12. Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の化合物。
  13. Ｒ１１ａ及びＲ１１ｂが、両方とも水素である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の化合物。
  14. Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、置換もしくは非置換アルキル、または－ＯＲＤ１であり、ＲＤ１のそれぞれの例が、独立して、水素、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１～１３のいずれか１項に記載の化合物。
  15. Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、それぞれ独立して、水素である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の化合物。
  16. Ｒ１６ａ及びＲ１６ｂが、両方とも水素である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の化合物。
  17. Ｒ５が、シス位置にある水素である、請求項１～１６のいずれか１項に記載の化合物。
  18. Ｒ５が、トランス位置にある水素である、請求項１～１７のいずれか１項に記載の化合物。
  19. Ｒ５が、前記シス位置にあるメチルである、請求項１～１８のいずれか１項に記載の化合物。
  20. Ｒ５が、前記トランス位置にあるメチルである、請求項１～１９のいずれか１項に記載の化合物。
  21. Figure 2022538300000460
     が、単結合である、請求項１～２０のいずれか１項に記載の化合物。
  22. Figure 2022538300000461
     が、二重結合である、請求項１～２１のいずれか１項に記載の化合物。
  23. ｒが、１であり、ｓが、１である、請求項１～２２のいずれか１項に記載の化合物。
  24. ｔが、２である、請求項１～２３のいずれか１項に記載の化合物。
  25. ｔが、３である、請求項１～２４のいずれか１項に記載の化合物。
  26. ｑが、２である、請求項１～２５のいずれか１項に記載の化合物。
  27. ｑが、０、２、または３であり、ｔが、０、２、または３であり、ｕが、１である、請求項１～２６のいずれか１項に記載の化合物。
  28. ｑが、２であり、ｔが、２であり、ｕが、１である、請求項１～２７のいずれか１項に記載の化合物。
  29. Ｒ３またはＲ３ａが、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、または置換もしくは非置換ヘテロアリールである、請求項１～２８のいずれか１項に記載の化合物。
  30. Ｒ３またはＲ３ａが、置換または非置換アルキルである、請求項１～２９のいずれか１項に記載の化合物。
  31. Ｒ１９が、メチル、エチル、または水素である、請求項１～３０のいずれか１項に記載の化合物。
  32. Ｒ１９が、水素である、請求項１～３１のいずれか１項に記載の化合物。
  33. Ｒ１９が、メチルである、請求項１～３２のいずれか１項に記載の化合物。
  34. Ｘが、水素、置換もしくは非置換ヘテロアリール、または置換もしくは非置換アルキルである、請求項１～３３のいずれか１項に記載の化合物。
  35. Ｘが、置換または非置換ヘテロアリールである、請求項１～３４のいずれか１項に記載の化合物。
  36. Ｘが、置換または非置換の５～１０員ヘテロアリールである、請求項１～３５のいずれか１項に記載の化合物。
  37. Ｒ１８が、非置換アルキルである、請求項１～３６のいずれか１項に記載の化合物。
  38. Ｒ１８が、置換アルキルである、請求項１～３７のいずれか１項に記載の化合物。
  39. ｎが、１である、請求項１～３８のいずれか１項に記載の化合物。
  40. ｎが、２である、請求項１～３９のいずれか１項に記載の化合物。
  41. Ｒ２８が、水素、置換もしくは非置換アルキル、置換もしくは非置換ヘテロアリールである、請求項１～４０のいずれか１項に記載の化合物。
  42. Ｒ２８が、メチルである、請求項１～４１のいずれか１項に記載の化合物。
  43. Ｒ２８が、水素である、請求項１～４２のいずれか１項に記載の化合物。
  44. Ｒ２８が、
    Figure 2022538300000462
     である、請求項１～４３のいずれか１項に記載の化合物。
  45. Ｒ１が、置換もしくは非置換カルボシクリル、置換もしくは非置換ヘテロシクリル、置換もしくは非置換アリール、置換もしくは非置換ヘテロアリールである、請求項１～４４のいずれか１項に記載の化合物。
  46. Ｒ１が、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールであり、それぞれが、置換カルボシクリル、置換ヘテロシクリル、置換アリール、または置換ヘテロアリールでさらに置換される、請求項１～４５のいずれか１項に記載の化合物。
  47. Ｒ１が、
    Figure 2022538300000463
     からなる群から選択され、
    式中、
    Ｒａのそれぞれの例が、独立して、水素、ハロゲン、－ＮＯ２、－ＣＮ、－ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＲＤ４、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ（ＲＤ４）２、－Ｎ（ＲＤ４）Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２ＯＲＤ４、－ＯＳ（＝Ｏ）２ＲＤ４、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｎ（ＲＤ４）２、または－Ｎ（ＲＤ４）Ｓ（＝Ｏ）２ＲＤ４、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル（ｃａｒｂｏｃｙｌｙｌ）、置換もしくは非置換の３～６員ヘテロシリル（ｈｅｔｅｒｏｃｙｌｙｌ）、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換の５～１０員ヘテロアリールであり、
    ＲＤ４のそれぞれの例が、独立して、水素、置換もしくは非置換Ｃ１～６アルキル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルケニル、置換もしくは非置換Ｃ２～６アルキニル、置換もしくは非置換Ｃ３～６カルボシリル、置換もしくは非置換３～６員ヘテロシリル、置換もしくは非置換Ｃ５～１０アリール、置換もしくは非置換５～１０員ヘテロアリール、酸素に付着している場合は酸素保護基、窒素に付着している場合は窒素保護基であるか、または２つのＲＤ４基が介在原子と一緒になって、置換もしくは非置換の複素環式環を形成し、
    ｐが、０～１１から選択される整数である、請求項１～４６のいずれか１項に記載の化合物。
  48. 以下からなる群から選択される、化合物。
    Figure 2022538300000464
    Figure 2022538300000465
    Figure 2022538300000466
    Figure 2022538300000467
    Figure 2022538300000468
    Figure 2022538300000469
    Figure 2022538300000470
    Figure 2022538300000471
  49. 以下からなる群から選択される、化合物。
    Figure 2022538300000472
    Figure 2022538300000473
    Figure 2022538300000474
    Figure 2022538300000475
  50. 以下からなる群から選択される、化合物。
    Figure 2022538300000476
    Figure 2022538300000477
  51. 請求項１～５０のいずれか１項に記載の化合物、またはその薬学的に許容される塩、及び薬学的に許容される賦形剤を含む、薬学的組成物。
  52. ＧＡＢＡＡ受容体の調節を必要とする対象においてそれを行う方法であって、前記対象に、治療有効量の請求項１～５０のいずれか１項に記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または請求項５１に記載の薬学的組成物を投与することを含む、前記方法。
  53. ＣＮＳ関連障害の治療を必要とする対象においてそれを行う方法であって、前記対象に、治療有効量の請求項１～５０のいずれか１項に記載の化合物もしくはその薬学的に許容される塩、または請求項５１に記載の薬学的組成物を投与することを含む、前記方法。
  54. 前記ＣＮＳ関連障害が、睡眠障害、気分障害、統合失調症スペクトラム障害、けいれん性障害、記憶及び／または認知の障害、運動障害、人格障害、自閉症スペクトラム障害、疼痛、外傷性脳損傷、血管疾患、薬物乱用障害及び／または離脱症候群、耳鳴り、あるいはてんかん重積状態である、請求項５３に記載の方法。
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