JP2022526008A - 液晶化合物 - Google Patents
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Abstract
本発明は、式（Ｉ）で示される新たな重合性液晶、これらの化合物を含むＬＣＰ混合物、および光学または電気光学デバイスのためのそれらの使用に関する：ただし、（Ｉ）において、重合性基Ｇ１またはＧ２の少なくとも一方は、ナフタレンジイル基である。TIFF2022526008000011.tif35161
Description
本発明は、メソゲン特性を有する側鎖で置換された硬化性液晶（ＬＣＰ）またはこれらのＬＣＰをメソゲン分子構造と適合性にする特性を有する側鎖で置換された硬化性液晶に関する。特に、本発明は、調整可能な光学異方性を有し、かつ、低融点または良好な過冷却能と同時に、比較的高い透明点および良好な配列特性を有する、側鎖で置換された硬化性液晶（ＬＣＰ）、ならびに、実質的に均一またはパターン化されたフィルムの調製における、そのようなＬＣＰの使用であって、基板の平面中および基板の平面に対するＬＣＰ分子の配向を制御できる使用に関する。
硬化性液晶から調製されたフィルム（ＬＣＰフィルム）は、当業者に周知であり、光学および電気光学デバイスの調製において使用される。米国特許第5,650,534号明細書は、非線形光学（ＮＬＯ）用途での使用に適した構成部品を作製するために使用される化合物および混合物を開示している。これらの化合物は、光学活性であり、キラルなスメクチック中間層またはキラルなネマチック中間相を示す。米国特許第5,707,544号明細書もまた、ＮＬＯ用途での使用に適した化合物および混合物を開示している。しかしながら、これらの化合物は、比較的高い融点を特徴とする。米国特許第5,593,617号明細書は、光学および電子部品を調製するために使用される、光化学的に重合可能な液晶化合物および混合物を開示している。しかしながら、これらの混合物は、比較的狭い作動範囲を有し、かつ、高温での使用に適さない。
ＬＣＰフィルムは、一般に、公知のコーティングおよび印刷技術を使用することによって製造される。これは、架橋性ＬＣＰまたはＬＣＰ混合物の有機溶液を、配向層を備えた基板上にコーティングする工程を伴う。その後、有機溶媒を除去し、良好に配向された溶媒不含のメソゲンＬＣＰ層を得て、次に、これを架橋して、液晶特性規則構造を固定する。そのようなフィルムの望まれる光学性能は、ＬＣＰ材料が同時に満たさなければならない幾つかの物理的パラメーターに決定的に依存する。そのような特性は、ネマチック中間相、高透明点、低融点または融点よりも低く冷却（過冷却）された際の低い結晶化傾向、有機溶媒中での良好な溶解性、他のＬＣＰとの良好な混和性、配向層上の良好な配列特性、ならびに本質的に傾斜ドメインおよび回位のない基板平面からの調整可能な傾斜形成能である。傾斜ドメインは、ＬＣＰフィルム内の領域であり、その領域で、ＬＣＰ分子の長軸が、同じ大きさであるが反対方向に、基板平面からの傾斜角を形成する。回位は、反対の傾斜角のＬＣＰ分子が隣接している、隣接傾斜ドメインの境界線である。これらの傾斜ドメインおよび回位は共に、フィルムの均一な外観の障害および不均質な光学性能をもたらす。
位相差板フィルムは、通過した光の偏光状態を変化させる光学素子の一種である。光が位相差板を通過すると、位相差板の複屈折および厚さにより、その偏光方向が変化する。位相差板の作製における最大の問題の１つは、小さな充填量で高性能であるフィルムを作製することである。高い複屈折を有する液晶を使用すれば、少量の液晶化合物で必要な位相差値を実現することが可能である。
例えば位相差板フィルムのような、ＬＣＰから作製された層およびフィルムの光学特性を調整するために、異なる光学異方性、主に、高い光学異方性を有する多種多様なＬＣＰ材料が利用可能であることが更に不可欠である。高い光学異方性を示すＬＣＰは、しばしば上記特性の幾つかに悪い影響を示すことが知られている。特に、スメクチック中間相の形成、高融点、結晶化傾向の増大、有機溶媒中での低溶解性、他のＬＣＰとの混和性の低下が認められる。その上、しばしば、傾斜ドメインおよび回位のない均一な配列能が低下する。
それゆえ、前述の欠点が大幅に少ない、ＬＣＰ混合物の調製において使用され得る新たなＬＣＰ材料が必要とされている。本発明は、その必要性に取り組むものである。
本発明の第一の態様は、式（Ｉ）
［式中、
Ｇ１およびＧ２は、独立に、重合性メソゲン残基を表し；
Ａｒは、フェニルまたはナフタレンジイルからなる群より選択される芳香族基を表し；
ｗは、１または２であり；
Ｘは、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－および－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基を表し；
Ｓｐは、式－（ＣＨ２）ｐ－（式中、ｐは、１～１８の整数であり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよいか；あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される１つまたは２つの基によって任意選択的に置換されていてもよいが、ただし、第一に、スペーサー基が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２－である場合、ｐが０の値も有することができるとする）で示される基を表し；そして
Ｍは、式（ＩＩ）
｛式中、
ＡおよびＢは、独立に、任意選択的に置換されていてもよい６員の同素環式もしくは複素環式基またはナフタレンジイルを表し；
Ｃは、５員および６員の同素環式もしくは複素環式基またはナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、ただし、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２であり、第二に、Ｃがナフタレンジイルである場合、０≦ｎ１＋ｎ２≦２であるとし；
Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；
式中、
Ｒ’は、水素、アキラルな低級アルキル基およびアキラルな低級アルケニル基からなる群より選択され；
Ｚ２およびＺ３は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；そして
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲおよび－Ｒからなる群より選択され
式中、
Ｒは、水素、アキラルなＣ１－１８アルキル基および３位またはより高位に二重結合を有するアキラルなＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択され；そして
Ｒ’は、上に定義したとおりである｝で示されるアキラル基を表す］
で示される化合物を提供する。
［式中、
Ｇ１およびＧ２は、独立に、重合性メソゲン残基を表し；
Ａｒは、フェニルまたはナフタレンジイルからなる群より選択される芳香族基を表し；
ｗは、１または２であり；
Ｘは、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－および－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基を表し；
Ｓｐは、式－（ＣＨ２）ｐ－（式中、ｐは、１～１８の整数であり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよいか；あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される１つまたは２つの基によって任意選択的に置換されていてもよいが、ただし、第一に、スペーサー基が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２－である場合、ｐが０の値も有することができるとする）で示される基を表し；そして
Ｍは、式（ＩＩ）
｛式中、
ＡおよびＢは、独立に、任意選択的に置換されていてもよい６員の同素環式もしくは複素環式基またはナフタレンジイルを表し；
Ｃは、５員および６員の同素環式もしくは複素環式基またはナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、ただし、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２であり、第二に、Ｃがナフタレンジイルである場合、０≦ｎ１＋ｎ２≦２であるとし；
Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；
式中、
Ｒ’は、水素、アキラルな低級アルキル基およびアキラルな低級アルケニル基からなる群より選択され；
Ｚ２およびＺ３は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；そして
Ｒ１は、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲおよび－Ｒからなる群より選択され
式中、
Ｒは、水素、アキラルなＣ１－１８アルキル基および３位またはより高位に二重結合を有するアキラルなＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択され；そして
Ｒ’は、上に定義したとおりである｝で示されるアキラル基を表す］
で示される化合物を提供する。
上で言及された側鎖で置換されたメソゲン化合物に加え、そのような化合物はまた、国際公開第00/55110号にも開示されている。しかしながら、これらの化合物の多くは、光学フィルムに使用するためのＬＣＰフィルムの作製に適していない。本発明の化合物を使用することによって、先行技術のものと比較してより薄い位相差板を調製することが可能であることが分かった。その上、本発明に係るＬＣＰは、一般に、良好な配列特性を示し、かつ、傾斜ドメインおよび回位形成傾向の減少を示す。その上、本発明の化合物は、有機溶媒中での比較的良好な溶解性および他のＬＣＰ化合物との高い混和性を有する。その上、本発明の化合物は、より高い複屈折を示し、したがって、光学構造において必要とされる材料がより少ない。
本発明の化合物の光学異方性は、分子の主要コアを変化させることなく、式ＩのＭの様々な基を選択するだけで、必要要件に容易に適応され得る。このことは、ＬＣＰの生産の化学的段階を最低限にして、様々な光学異方性を示す広範なＬＣＰを経済的に入手可能にする。
重合性メソゲン残基Ｇ１およびＧ２は、同じであっても異なっていてもよい。
基Ｘは、好ましくは、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－および－ＯＣＯＯ－からなる群より選択される。
スペーサー基Ｓｐは、１つまたは複数のフッ素または塩素原子によって場合により置換されていてもよい。置換基が存在しない基が好ましい。とりわけ、整数ｐが１～１２の値を有すること、２つを越えて－ＣＨ２－基が－Ｏ－によって置換されていないこと、ならびに、１つを越えて－ＣＨ２－基が、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－および－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される１つの基によって置換されていないことが好ましい。
基ＡおよびＢは、置換されているか、置換されていないかまたは芳香族である。これらは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシおよび低級アルケニルオキシからなる群より選択される１つまたは２つの置換基によって任意選択的に置換されていてもよい。好ましくは、基ＡおよびＢは各々、１を超える置換基を含有しない。とりわけ、基ＡおよびＢが置換を含有しないことが好ましい。
基ＡおよびＢが、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレンまたはtrans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイルおよび２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることが好ましい。とりわけ、ＡおよびＢが、１，４－フェニレン、trans－１，４－シクロヘキシレンおよび２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることが好ましい。
基Ｃは、置換されているか、置換されていないかまたは芳香族である。基Ｃは、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシおよび低級アルケニルオキシからなる群より選択される１つまたは２つの置換基で任意選択的に置換されていてもよい。基Ｃが最大で１つの置換基を含有することが好ましい。とりわけ、基Ｃが置換を含有しないことが好ましい。
基Ｃが、フラン－２，４－ジイル、フラン－２，５－ジイル、テトラヒドロフラン－２，４－ジイル、テトラヒドロフラン－２，５－ジイル、ジオキソラン－２，４－ジイル、ジオキソラン－２，５－ジイル、オキサゾール－２，４－ジイル、オキサゾール－２，５－ジイル、シクロペンタン－１，３－ジイル、シクロペンタン－１，４－ジイル、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレンまたはジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイル、１，３－ナフタレンジイル、１，５－ナフタレンジイル、１，６－ナフタレンジイル、１，７－ナフタレンジイル、２，３－ナフタレンジイル、２，４－ナフタレンジイル、２，５－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイル、２，７－ナフタレンジイル、および２，８－ナフタレンジイルから選択されることが好ましい。とりわけ、Ｃが、フラン－２，５－ジイル、テトラヒドロフラン－２，５－ジイル、オキサゾール－２，５－ジイル、１，４－フェニレン、trans－１，４－シクロヘキシレン、および２，６－ナフタレンジイルからなる群より選択されることが好ましい。
基Ｚ１は、好ましくは、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－および単結合からなる群より選択される。とりわけ、Ｚ１が、－Ｏ－または単結合から選択されることが好ましい。
基Ｚ２およびＺ３は、好ましくは、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－および単結合からなる群より選択される。とりわけ、Ｚ２およびＺ３が、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－Ｃ≡Ｃ－および単結合からなる群より選択されることが好ましい。
基Ｒ１は、好ましくは、Ｈ、－ＣＮ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＲ、Ｒからなる群より選択され、式中、Ｒは、アキラルなＣ１－１２アルキル、３位もしくはより高位に二重結合を有するアキラルなＣ４－１２アルケニル基、または水素を表す。とりわけ、Ｒ１が、－ＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＲ、Ｒからなる群より選択され、式中、Ｒが、アキラルなＣ１－８アルキル基または水素を表すことが好ましい。
「低級アルキル」という用語は、Ｃ１－６のアキラルな分岐または直鎖アルキル基を包含すると理解すべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルなどを包含する。
「低級アルケニル」という用語は、二重結合が２位またはより高位にあるＣ３－６のアキラルな分岐または直鎖アルケニル基を包含すると理解すべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルケニル基の例は、２－プロペニル、３－ブテニル、３－イソペンテニル、４－ペンテニル、５－ヘキセニル、４－イソヘキセニルなどを包含する。
「低級アルコキシ」という用語は、Ｃ１－６のアキラルな分岐または直鎖アルコキシ基を包含すると理解すべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルコキシ基の例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシなどを包含する。
「アルケニルオキシ」という用語は、二重結合が２位またはより高位にあるＣ３－６のアキラルな分岐または直鎖アルケニルオキシ基を包含すると理解すべきである。本発明の化合物中に存在し得る低級アルケニルオキシ基の例は、２－プロペニルオキシ、３－ブテニルオキシ、４－ペンテニルオキシ、５－ヘキセニルオキシなどを包含する。
好ましくは、重合性メソゲン残基Ｇ１およびＧ２は各々、独立に、式ＩＩＩ
［式中、
Ｄは、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され；
Ｅは、任意選択的に置換されていてもよい、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレン、trans－１，４－シクロヘキサン、trans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｍは、１または０であり、
Ｚ４およびＺ５は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－および－ＯＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；
Ｚ６は、単結合または式－（ＣＨ２）ｑＸ－（式中、ｑは、１～１８の値を有する整数であり、Ｘは、上に定義したとおりであり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよく、あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、１つまたは２つの追加の連結基Ｘによって置換されていてもよいが、ただし、第一に、基Ｚ６が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２である場合、ｑが０の値も有することができるとする）で示される基を表し、
Ｒ２は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ３－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ３－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択される重合性基を表し、
式中、
Ｗは、Ｈ、Ｃｌ、Ｐｈまたは低級アルキルを表し、
Ｒ３は、低級アルキルを表すが、ただし、Ｒ３がフェニレン基（－Ｐｈ－）に結合している場合、Ｒ３は、水素または低級アルコキシを表してもよいとする］
で示される基によって表される。
［式中、
Ｄは、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され；
Ｅは、任意選択的に置換されていてもよい、１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレン、trans－１，４－シクロヘキサン、trans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｍは、１または０であり、
Ｚ４およびＺ５は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－および－ＯＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；
Ｚ６は、単結合または式－（ＣＨ２）ｑＸ－（式中、ｑは、１～１８の値を有する整数であり、Ｘは、上に定義したとおりであり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよく、あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、１つまたは２つの追加の連結基Ｘによって置換されていてもよいが、ただし、第一に、基Ｚ６が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２である場合、ｑが０の値も有することができるとする）で示される基を表し、
Ｒ２は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ３－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ３－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択される重合性基を表し、
式中、
Ｗは、Ｈ、Ｃｌ、Ｐｈまたは低級アルキルを表し、
Ｒ３は、低級アルキルを表すが、ただし、Ｒ３がフェニレン基（－Ｐｈ－）に結合している場合、Ｒ３は、水素または低級アルコキシを表してもよいとする］
で示される基によって表される。
「Ｐｈ」および「Ｐｈ－」という用語は、フェニル基を示すと理解されよう。「－Ｐｈ－」という用語は、文脈が他のものを要求する場合を除き、フェニレンの任意の異性体、すなわち、１，２－フェニレン、１，３－フェニレンまたは１，４－フェニレンを意味すると理解されよう。
とりわけ、基ＤおよびＥが置換を含有しないことが好ましい。
基Ｚ４およびＺ５が、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＯＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－および－Ｃ≡Ｃ－からなる群より選択されることが好ましい。とりわけ、Ｚ４およびＺ５が、単結合、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－または－ＯＯＣ－を表すことが好ましい。
Ｚ６は、１つまたは複数のハロゲン原子、好ましくは１つまたは複数のフッ素原子によって任意選択的に置換されていてもよい。ｑが１～１１の値を有することが好ましい。また、Ｚ６が置換を含有しないことが好ましい。さらには、基Ｚ６について、Ｘが、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、ＯＣＯＯおよび－ＯＯＣ－、とりわけ－ＣＨ２－または－Ｏ－から選択されることが好ましい。
基Ｒ２が、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－からなる群より選択されることが好ましい。
基Ｇ１およびＧ２の各々について２つの整数ｍの合計が０または１であることが好ましい。とりわけ、Ｇ１およびＧ２の両方について、ｍが０の値を有することが好ましい。
本発明の化合物は、当業者に周知の手順を使用して容易に調製され得る。
出発材料は、市販で入手可能か容易に調製され得、かつ、当業者に周知である。
本発明の化合物は、好ましくは、メソゲン残基を連結する前に、側基（lateral group）を含む環を形成することによって調製される。あるいは、該化合物は、側基を連結する前に、重合性メソゲン残基を含む環を形成することによって調製され得る。それゆえ、本発明の第二の態様は、式（Ｉ）で示される化合物の調製方法であって、側基を含む環を形成し、その後、そこへメソゲン残基を連結することを含む方法を提供する。メソゲン残基Ｇ１およびＧ２は、Ｇ１およびＧ２が同一である場合、同時に中央の環に結合される。
本出願の文脈内で使用される場合のＬＣＰ材料は、液晶モノマーおよび／または液晶オリゴマーおよび／または液晶ポリマーおよび／または架橋液晶を含む、液晶材料を意味するものとする。液晶材料が液晶モノマーを含む場合、そのようなモノマーは、典型的には、ＬＣＰ材料において、例えば配列層との接触に起因して、異方性が創出された後、重合され得る。重合は、熱処理によってまたは化学光（好ましくは、ＵＶ光を含む）への露光によって開始され得る。ＬＣＰ材料は、一種類の液晶化合物のみ含み得るが、追加の重合性および／または非重合性化合物を含んでもよく、化合物のすべてが液晶化合物である必要はない。さらに、ＬＣＰ材料は、酸化防止剤、光開始剤などの開始剤、促進剤、色素、阻害剤、活性化剤、充填剤、連鎖移動阻害剤、顔料、帯電防止剤、防炎剤、増粘剤、チキソトロープ剤、界面活性剤、粘度調整剤、伸展油、可塑剤、粘着剤、触媒、増感剤；安定剤、例えば、４－エトキシフェノールまたは２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール（ＢＨＴ）などのフェノール誘導体；滑剤；分散剤；高分子結合剤および／または重合によって高分子結合剤に変換できるモノマー化合物、あるいは、エマルジョンコーティングおよび印刷インクの場合、米国特許第5,798,147号明細書に開示されているような分散助剤；疎水化剤、接着剤、流れ改良剤、消泡剤、脱気剤、希釈剤、助剤、着色剤、色素および顔料；硬化阻害剤、例えば、ヒドロキノン、ｐ－tert.－ブチルカテコール；２，６－ジ tert.－ブチル－ｐ－メチルフェノール；フェノチアジン；Ｎ－フェニル－２－ナフチルアミン；あるいは欧州特許第1 090 325 B号明細書に記載されているような光配向性モノマーまたはオリゴマーまたはポリマー、キラル添加剤、等方性または異方性の蛍光および／または非蛍光色素、特に二色性色素を含む、添加物を含有し得るが、これらに限定されない。
本発明の化合物がＬＣＰ混合物の調製において使用され得ることが認識されよう。そのような混合物は、式（Ｉ）で示される化合物と１つまたは複数の追加の成分とを混合することによって調製され得る。また、有機溶媒がこれらの混合物の調製において使用されてもよい。それゆえ、本発明の第三の態様は、式（Ｉ）で示される化合物および１つまたは複数の追加の成分を含む、ＬＣＰ混合物を提供する。ＬＣＰ混合物中に存在する１つまたは複数の追加の成分は、式（Ｉ）で示されるさらなる化合物、他のメソゲン化合物、メソゲン分子構造と適合性である化合物、または螺旋ピッチの誘導のためのキラルなドーパントであり得る。ＬＣＰ混合物はまた、適切な有機溶媒を含んでもよい。そのような液晶混合物の調製において使用され得る溶媒の例は、アセトン、シクロペンタノン（ＣＰ）、シクロヘキサノン（ＣＨ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＡＮ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，３－ジオキソラン（ＤＸＧ）、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル（ＥＡ）、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート（ＭＰＡ）、ガンマ－ブチロラクトン（ＢＬ）、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）を包含するが、これらに限定されない。
最も好ましいのは、シクロペンタノン（ＣＰ）、シクロヘキサノン（ＣＨ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、酢酸エチル（ＥＡ）、１－メトキシ－２－プロパノールアセテート（ＭＰＡ）、１，３－ジオキソラン（ＤＸＧ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）である。
二色性色素は、分子の長軸方向と短軸方向との間で吸光度が変動する色素のことを指す。二色性色素は、好ましくは、可視光を吸収する。二色性色素の例は、アゾ色素、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素およびアントラキノン色素を包含する。これらの二色性色素は、個別に使用することも、組み合わせて使用することもできる。液晶混合物の１００質量部に対して使用される二色性色素の量は、０．０１質量部～４０質量部、好ましくは、０．０５質量部～１５質量部である。
本発明の化合物はまた、本発明の第一の態様に係るＬＣＰ化合物または本発明の第三の態様に係るＬＣＰ混合物を基板上に流し込むことによって、ＬＣＰ層の形成において使用してもよい。それゆえ、本発明の第四の態様は、式（Ｉ）で示される化合物を含むＬＣＰ層を形成する工程およびその層を架橋する工程を含む、ＬＣＰネットワーク形成方法を提供する。本発明の第三の態様に係るＬＣＰ混合物も、ＬＣＰネットワークの製造において同様の方法で使用してもよい。
本発明はまた、本発明の第五の態様において、架橋形態の式（Ｉ）で示される化合物を含む架橋されたＬＣＰネットワークも包含する。また、架橋形態の本発明の第三の態様に係る混合物を含む架橋されたＬＣＰネットワークも、本発明のこの態様に包含されてよい。
本発明の第六の態様は、式（Ｉ）で示される化合物の光学または電気光学デバイスの作製における使用を提供する。また、本発明の第三の態様に係る液晶混合物の光学または電気光学デバイスの作製における使用も、本発明のこの態様に包含される。
本発明の第七の態様は、架橋状態の式（Ｉ）で示される化合物を含む光学または電気光学デバイスを提供する。また、本発明の第三の態様に係る架橋状態のＬＣＰ液晶混合物を含む光学または電気光学デバイスも本発明のこの態様に包含される。
ＬＣＰ混合物は、支持体上に適用することができる。支持体は、剛性であっても可撓性であってもよく、任意の形態または形状を有することができる。例えば、支持体は、複雑な表面を有する基体であってもよい。原則として、支持体は、いかなる材料から構成されていてもよい。好ましくは、支持体は、プラスチック、ガラスまた金属を含むか、シリコンウェーハである。支持体が可撓性である場合、支持体がプラスチックまたは金属箔であることが好ましい。好ましくは、支持体の表面は平坦である。幾つかの用途では、支持体は、マイクロレンズもしくはマイクロプリズムのような微細構造といった表面形状構造、または矩形構造などの形状の急な変化を示す構造を含み得る。好ましくは、支持体は、透明である。
支持体は、ＬＣＰ混合物の堆積の間、移動していてもよい。例えば、ＬＣＰ混合物の層は、好ましくはプラスチックまたは金属である、移動している可撓性の箔上に材料組成物を堆積させることによる、連続式ロールツーロールプロセスで生成してもよい。次いで、生じたフィルムを支持体箔と一緒にロール上に巻き取ってもよく、または、フィルムを支持体から剥離してもよく、フィルムは、その後、支持体なしの自立型フィルムとして巻き取られる。
支持体は、有機層、誘電体層または金属層などの追加の層を有してもよい。層は、様々な機能を有することができ、例えば、有機層を、コーティングしようとする材料の支持体との適合性を高めるプライマー層としてコーティングすることができる。金属層は、例えばディスプレイなどの電気光学デバイスにおいて使用されるとき、電極として使用されてもよく、または反射体としての機能を有することもできる。また、支持体は、例えば薄膜トランジスタ、電極またはカラーフィルターを含み得るＬＣＤ用の基板など、特定の機能を有する光学素子またはデバイスであってもよい。別の例では、支持体は、ＯＬＥＤ層構造を含むデバイスである。支持体はまた、位相差板フィルム；偏光フィルムまたはシート偏光子などの偏光子、市販のVikuity（商標）DBEFフィルムなどの反射偏光子であることもできる。
ＬＣＰ混合物は、押出成形、鋳造、成型、２Ｄもしくは３Ｄ印刷またはコーティングのような任意の適切な方法によって支持体に適用され得る。適切なコーティング法は、例えば、スピン－コーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、キスロールコーティング、ダイコーティング、ディッピング、ブラッシング、バーによるキャスティング、ローラー－コーティング、フロー－コーティング、ワイヤ－コーティング、スプレー－コーティング、ディップ－コーティング、カーテン－コーティング、エアナイフコーティング、リバースロールコーティング、グラビアコーティング、メータリング・ロッド（マイヤーバー）コーティング、スロットダイ（押出）コーティング、ローラーコーティング、フレキソコーティングである。適切な印刷法は、シルクスクリーン印刷、フレキソ印刷などのレリーフ印刷、ジェット印刷、ダイレクトグラビア印刷もしくはオフセットグラビア印刷などの凹版印刷、オフセット印刷などのリソグラフ印刷、またはスクリーン印刷などのステンシル印刷を包含する。
ＬＣＰ混合物の層は、支持体の表面全体を覆う必要はない。むしろ、この層は、例えば印刷によって、パターンの形態で適用されても、堆積後に、例えばフォトリソグラフィー法によって、パターンの形態を有するように処理されてもよい。
ＬＣＰの配列は、液晶を配列させるための任意の公知の手段によって達成することができる。例えば、支持体は、配列表面を有していてもよく、このことは、その表面が液晶を配列させる能力を有することを意味するものとする。支持体は、さらなる処理がなくともすでに配列を提供し得る。例えば、プラスチック基板が支持体として使用される場合、製造法、例えば基板の押出成形または延伸に起因して、表面上に配列を提供し得る。また、配列能を生じさせるために、支持体をブラッシングするか、指向性の微細構造を刻み込むことも可能である。あるいは、配列性能に関して特別設計された支持体上に、材料の薄層をコーティングしてもよい。この層はさらにブラッシングされても、例えば刻み込みによって表面上に指向性の微細構造を有するように処理されてもよい。薄層が光配向性物質を含む場合、配列光に露光することによって配列を生じさせることができる。
基板の配列表面は、ＬＣＰ層中の液晶の配向パターンを規定するために、配列方向のパターンを示し得る。好ましくは、光配向性物質を含む配列層がこの目的のために使用され、様々な偏光面の配列光への選択的露光によって配列パターンが生じる。
以降、本発明は、以下の非限定的な実施例を参照して説明される。これらの実施例は、例証の目的でのみ提供される。本発明の範囲内に含まれるこれらの実施例に対する変形は、当業者に明白であろう。
実施例において使用される定義：
１Ｈ ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴分光法
ＤＭＳＯ－ｄ６：重水素化ジメチルスルホキシド
３００ＭＨｚ：３００メガヘルツ
ｍ：マルチプレット、ｄ：ダブレット、ｄｄ：ダブレットダブレット、ｔ：トリプレット、ｓ：シングレット
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＨＣｌ溶液（２５％）：体積百分率
ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
１Ｈ ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴分光法
ＤＭＳＯ－ｄ６：重水素化ジメチルスルホキシド
３００ＭＨｚ：３００メガヘルツ
ｍ：マルチプレット、ｄ：ダブレット、ｄｄ：ダブレットダブレット、ｔ：トリプレット、ｓ：シングレット
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＨＣｌ溶液（２５％）：体積百分率
ＣＨ２Ｃｌ２：ジクロロメタン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
以下の実施例において、温度転移型相は、以下のとおり略される：
Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：結晶相からネマチック相への転移温度
Ｔ（Ｎ－Ｉ）：ネマチック相から等方相への転移温度。
Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：結晶相からネマチック相への転移温度
Ｔ（Ｎ－Ｉ）：ネマチック相から等方相への転移温度。
実施例１：４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物１の合成
ＤＭＦ中の４－（４－シアノフェニル）フェノール ３９．１ｇ（０．２mol）、炭酸カリウム ３４．５ｇ（０．２６mol）、ヨウ化カリウム ４．３５ｇ（０．０２６mol）および６－クロロヘキサノール ３５．５ｇ（０．２６mol）の混合物を８０℃で１８時間加熱する。次いで、溶液を冷まし、１．２Ｌの水に注ぐ。得られた沈殿物を濾別し、２Ｌの水で２回洗浄する。次いで、固体をアセトニトリルから再結晶させると、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリル ５０．４ｇが白色の結晶性粉末として得られる。
ＤＭＦ中の４－（４－シアノフェニル）フェノール ３９．１ｇ（０．２mol）、炭酸カリウム ３４．５ｇ（０．２６mol）、ヨウ化カリウム ４．３５ｇ（０．０２６mol）および６－クロロヘキサノール ３５．５ｇ（０．２６mol）の混合物を８０℃で１８時間加熱する。次いで、溶液を冷まし、１．２Ｌの水に注ぐ。得られた沈殿物を濾別し、２Ｌの水で２回洗浄する。次いで、固体をアセトニトリルから再結晶させると、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリル ５０．４ｇが白色の結晶性粉末として得られる。
実施例２：４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物２の合成
化合物２は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを８－クロロオクタノールに置き換えた条件で合成される。
化合物２は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを８－クロロオクタノールに置き換えた条件で合成される。
実施例３：４－［４－（１０－ヒドロキシデコキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物３の合成
化合物３は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１０－クロロデカノールに置き換えた条件で合成される。
化合物３は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１０－クロロデカノールに置き換えた条件で合成される。
実施例４：４－［４－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物４の合成
化合物４は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１１－クロロウンデカノールに置き換えた条件で合成される。
化合物４は、化合物１の実施例１に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１１－クロロウンデカノールに置き換えた条件で合成される。
実施例５：６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物５の合成
トリエチルアミン ５２．１ｇ（０．５１mol）を、ＴＨＦ ４５０mLに溶解させた４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリル ５０．４ｇ（０．１７mol）の溶液に滴下する。混合物を０℃に冷却し、メタンスルホニルクロリド ２３．５ｇ（０．２０４mol）をゆっくり加える。３時間撹拌した後、混合物をシリカ下で濾別し、減圧下で溶媒を除去することによって乾燥させると、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシルメタンスルホネートの黄色の油状物７０．７ｇが得られる。２，３，４，６，７，８，９，１０－オクタヒドロピリミド［１，２－ａ］アゼピン ２７．２ｇ（０．１７５mol）を、ＤＭＦ １９０mL中の２，５ ジヒドロキシ安息香酸 ２８．１ｇ（０．１７９mol）の溶液に加える。ＤＭＦ １９０mL中のヨウ化ナトリウム ７．６５ｇ、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシルメタンスルホネート ７０．７ｇ（０．１７０mol）を混合物に投入する。４時間後、生じた混合物を２Ｌの冷水に注いだ。沈殿物を濾別し、水で２回洗浄する。淡黄色の固体をＣＨ３ＣＮ中で再結晶させると、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート ５７．７ｇが白色の粉末として得られる。
トリエチルアミン ５２．１ｇ（０．５１mol）を、ＴＨＦ ４５０mLに溶解させた４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリル ５０．４ｇ（０．１７mol）の溶液に滴下する。混合物を０℃に冷却し、メタンスルホニルクロリド ２３．５ｇ（０．２０４mol）をゆっくり加える。３時間撹拌した後、混合物をシリカ下で濾別し、減圧下で溶媒を除去することによって乾燥させると、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシルメタンスルホネートの黄色の油状物７０．７ｇが得られる。２，３，４，６，７，８，９，１０－オクタヒドロピリミド［１，２－ａ］アゼピン ２７．２ｇ（０．１７５mol）を、ＤＭＦ １９０mL中の２，５ ジヒドロキシ安息香酸 ２８．１ｇ（０．１７９mol）の溶液に加える。ＤＭＦ １９０mL中のヨウ化ナトリウム ７．６５ｇ、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシルメタンスルホネート ７０．７ｇ（０．１７０mol）を混合物に投入する。４時間後、生じた混合物を２Ｌの冷水に注いだ。沈殿物を濾別し、水で２回洗浄する。淡黄色の固体をＣＨ３ＣＮ中で再結晶させると、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート ５７．７ｇが白色の粉末として得られる。
実施例６：８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物６の合成
化合物６は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物２に置き換えた条件で合成される。
化合物６は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを４－［４－（８－ヒドロキシオクトキシ）フェニル］ベンゾニトリル化合物２に置き換えた条件で合成される。
実施例７：１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物７の合成
化合物７は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを化合物３に置き換えた条件で合成される。
化合物７は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを化合物３に置き換えた条件で合成される。
実施例８：１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物８の調製
化合物８は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを化合物４に置き換えた条件で合成される。
化合物８は、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを化合物４に置き換えた条件で合成される。
実施例９：６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸化合物９の合成
ＤＭＦ ２５０mL中のメチル６－ヒドロキシナフタレン－２－カルボキシレート ７６．３ｇ（０．３７７mol）、炭酸カリウム ６８．５ｇ（０．４９mol）、ヨウ化カリウム ８．２ｇ（０．０４９mol）および６－クロロヘキサノール ６７ｇ（０．４９mol）の混合物を８０℃に１８時間加熱する。次いで、溶液を冷まし、２．６Ｌの冷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、水で２回洗浄する。次いで、生成物をアセトニトリルから再結晶させると、白色の粉末９４．２ｇが得られる。ＤＭＦ ６８０mL中のこの固体、水酸化ナトリウム ３７．９５ｇ、メタノール ３４０mLおよび水 ７５mLの混合物を６０℃で４時間撹拌する。水 ７８２mL中の塩酸 １２２．２ｇを滴下する。懸濁液を濾別すると、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸の白色の固体８５．８ｇが得られる。
ＤＭＦ ２５０mL中のメチル６－ヒドロキシナフタレン－２－カルボキシレート ７６．３ｇ（０．３７７mol）、炭酸カリウム ６８．５ｇ（０．４９mol）、ヨウ化カリウム ８．２ｇ（０．０４９mol）および６－クロロヘキサノール ６７ｇ（０．４９mol）の混合物を８０℃に１８時間加熱する。次いで、溶液を冷まし、２．６Ｌの冷水に注ぐ。沈殿物を濾別し、水で２回洗浄する。次いで、生成物をアセトニトリルから再結晶させると、白色の粉末９４．２ｇが得られる。ＤＭＦ ６８０mL中のこの固体、水酸化ナトリウム ３７．９５ｇ、メタノール ３４０mLおよび水 ７５mLの混合物を６０℃で４時間撹拌する。水 ７８２mL中の塩酸 １２２．２ｇを滴下する。懸濁液を濾別すると、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸の白色の固体８５．８ｇが得られる。
実施例１０：６－（８－ヒドロキシオクトキシ）ナフタレン－２－カルボン酸化合物１０の合成
化合物１０は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを８－クロロオクタノールに置き換えた条件で合成される。
化合物１０は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを８－クロロオクタノールに置き換えた条件で合成される。
実施例１１：６－（８－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸化合物１１の合成
化合物１１は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１０－クロロデカノールに置き換えた条件で合成される。
化合物１１は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１０－クロロデカノールに置き換えた条件で合成される。
実施例１２：６－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸化合物１２の合成
化合物１２は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１１－クロロウンデカノールに置き換えた条件で合成される。
化合物１２は、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを１１－クロロウンデカノールに置き換えた条件で合成される。
実施例１３：［３－［６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキソキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１３の合成
Ｎ－メチル－２－ピロリドン ５０mL中のクロロプロピオン酸クロリド ４５．３ｇ（０．３５７mol）を、Ｎ－メチル－２－ピロリドン ２２０ml中の６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸 ８５．８ｇ（０．２９７mol）に滴下する。混合物を室温で２時間撹拌する。次いで、溶液を水 ８１０mLに注ぎ、固体を濾別し、真空下で乾燥させると、１０５．２５ｇが得られる。
Ｎ－メチル－２－ピロリドン ５０mL中のクロロプロピオン酸クロリド ４５．３ｇ（０．３５７mol）を、Ｎ－メチル－２－ピロリドン ２２０ml中の６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸 ８５．８ｇ（０．２９７mol）に滴下する。混合物を室温で２時間撹拌する。次いで、溶液を水 ８１０mLに注ぎ、固体を濾別し、真空下で乾燥させると、１０５．２５ｇが得られる。
先の生成物 ６．１ｇ（０．０１６１mol）、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート ３ｇ（０．００７０mol）、４－（ジメチルアミノ）－ピリジン ０．２ｇおよびジシクロヘキシルカルボジイミド ３．６５ｇ（０．０１７５mol）をＣＨ２Ｃｌ２ １２０mL中で混合し、室温で一晩撹拌する。溶液をhyfloシリカに通して濾過し、溶液を真空下で乾燥させると、白色の固体が得られる。固体を、トリエチルアミン ３．２ｇと共にＣＨ２Ｃｌ２５０mLに溶解させる。混合物を４０℃で一晩撹拌し、濾別して、真空下で乾燥させる。白色の固体をアセトニトリル中で再結晶させると、［３－［６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキソキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１３の白色の固体５．９５ｇが得られる。
液晶相転移：化合物１３を、その相転移温度を決定するために交差偏光子の下で偏光顕微鏡を用いて観察した。結果として、温度が上昇したとき、結晶相は１０５℃（Ｔ（Ｃｒ－Ｎ））でネマチック相へと変化し、等方相は１５０℃（Ｔ（Ｎ－Ｉ））を上回るように見えた。
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (s, 2H), 8.11 (m, 4H), 7.95 (m, 3H), 7.86 (d, 4H), 7.80 (d, 1H), 7.76 (d, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.43 (d, 2H), 7.28 (d, 2H), 6.94 (d, 2H), 6.32 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.73 (t, 2H), 2-0.8 (m, 24H)
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (s, 2H), 8.11 (m, 4H), 7.95 (m, 3H), 7.86 (d, 4H), 7.80 (d, 1H), 7.76 (d, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.43 (d, 2H), 7.28 (d, 2H), 6.94 (d, 2H), 6.32 (m, 2H), 6.13 (m, 2H), 5.93 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.73 (t, 2H), 2-0.8 (m, 24H)
実施例１４：（ａｃｒｙ６－８）［３－［８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクトキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１４の合成
化合物１４は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９６℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (s, 2H), 8.09 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.83 (d, 4H), 7.80 (d, 1H), 7.66 (d, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.45 (d, 2H), 7.28 (d, 2H), 7.02 (d, 2H), 6.30 (m, 2H), 6.16 (m, 2H), 5.92 (m, 2H), 4.14 (m, 10H), 3.90 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 28H)
化合物１４は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９６℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (s, 2H), 8.09 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.83 (d, 4H), 7.80 (d, 1H), 7.66 (d, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.45 (d, 2H), 7.28 (d, 2H), 7.02 (d, 2H), 6.30 (m, 2H), 6.16 (m, 2H), 5.92 (m, 2H), 4.14 (m, 10H), 3.90 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 28H)
実施例１５：（ａｃｒｙ６－１０）［３－［１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デコキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１５の合成
化合物１５は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（４－シアノフェニル）デコキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０７℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.68 (d, 2H), 7.98 (m, 4H), 7.84 (m, 3H), 7.73 (d, 4H), 7.67 (dd, 1H), 7.58 (d, 2H), 7.47 (d, 1H), 7.36 (d, 2H), 7.17 (d, 2H), 6.92 (d, 2H), 6.24 (m, 2H), 6.10 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 3.98 (m, 10H), 3.85 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 32H)
化合物１５は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（４－シアノフェニル）デコキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０７℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.68 (d, 2H), 7.98 (m, 4H), 7.84 (m, 3H), 7.73 (d, 4H), 7.67 (dd, 1H), 7.58 (d, 2H), 7.47 (d, 1H), 7.36 (d, 2H), 7.17 (d, 2H), 6.92 (d, 2H), 6.24 (m, 2H), 6.10 (m, 2H), 5.81 (m, 2H), 3.98 (m, 10H), 3.85 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 32H)
実施例１６：［３－［１１－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ウンデコキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１６の合成
化合物１６は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１１－［４－（４－シアノフェニル）ウンデコキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１４１℃
化合物１６は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１１－［４－（４－シアノフェニル）ウンデコキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１４１℃
実施例１７：［３－［６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキソキシカルボニル］－４－［６－（１１－プロパ－２－エノイルオキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１７の合成
化合物１７は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１２０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
化合物１７は、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１２０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
実施例１８：［３－［８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクトキシカルボニル］－４－［６－（１１－プロパ－２－エノイルオキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１８の合成
化合物１８は、化合物１７の実施例１７に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０９℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
化合物１８は、化合物１７の実施例１７に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０９℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
実施例１９：［３－［１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デコキシカルボニル］－４－［６－（１１－プロパ－２－エノイルオキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物１９の合成
化合物１９は、化合物１７の実施例１７に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９８℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.82 (d, 2H), 8.15 (m, 4H), 7.95 (m, 6H), 7.85 (d, 4H), 7.71 (m, 3H), 7.60 (d, 1H), 7.48 (s, 2H), 7.30 (d, 2H), 7.15 (d, 2H), 6.35 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.94 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.95 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 54H)
化合物１９は、化合物１７の実施例１７に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９８℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.82 (d, 2H), 8.15 (m, 4H), 7.95 (m, 6H), 7.85 (d, 4H), 7.71 (m, 3H), 7.60 (d, 1H), 7.48 (s, 2H), 7.30 (d, 2H), 7.15 (d, 2H), 6.35 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.94 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.95 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 54H)
実施例２０：［３－［１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デコキシカルボニル］－４－［６－（１０－プロパ－２－エノイルオキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２０の合成
化合物２０は、化合物１９の実施例１９に記載のプロセスに従って、ただし、６－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（１０－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：８０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
化合物２０は、化合物１９の実施例１９に記載のプロセスに従って、ただし、６－（１１－ヒドロキシウンデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（１０－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：８０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
実施例２１：［３－［６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキソキシカルボニル］－４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２１の合成
６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボン酸（米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載のプロセスに従って合成された）５ｇ（０．０１４０mol）およびＢＨＴ ３５mgをＣＨ２Ｃｌ２ ５０mL中で混合する。この溶液にＤＭＦ ３．５mlおよび塩化オキサリル １．９ｇ（０．０１４５mol）を加える。その後、反応混合物を室温で１時間撹拌し、次いで、過剰の塩化オキサリルを減圧下で除去する。生成物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解させ、ＣＨ２Ｃｌ２５０mL中の６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物５の ２．７ｇ（０．００６２mol）、Ｎ，Ｎ－ジメチルシクロヘキシルアミン ３．８５ｇおよび２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール ５mgの溶液に滴下する。生じた混合物を室温で４時間撹拌する。その後、２５％塩酸 ３ｇおよび水 １００mLを加え、相を分離する。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で濃縮する。残留物をＣＨ３ＣＮで再結晶させると、化合物２１の白色の固体２．４５ｇが得られる。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９９℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.95 (s, 2H), 8.32 (m, 2H), 8.16 (m, 4H), 7.96 (d, 3H), 7.80 (m, 5H), 7.57 (m, 5H), 6.96 (d, 2H), 6.34 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.96 (m, 2H), 4.26 (m, 4H), 4.09 (m, 6H), 3.77 (t, 2H), 1.75 (m, 8H), 1.6-1.2 (m, 4H), 1.15 (m, 4H)
６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボン酸（米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載のプロセスに従って合成された）５ｇ（０．０１４０mol）およびＢＨＴ ３５mgをＣＨ２Ｃｌ２ ５０mL中で混合する。この溶液にＤＭＦ ３．５mlおよび塩化オキサリル １．９ｇ（０．０１４５mol）を加える。その後、反応混合物を室温で１時間撹拌し、次いで、過剰の塩化オキサリルを減圧下で除去する。生成物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解させ、ＣＨ２Ｃｌ２５０mL中の６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物５の ２．７ｇ（０．００６２mol）、Ｎ，Ｎ－ジメチルシクロヘキシルアミン ３．８５ｇおよび２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール ５mgの溶液に滴下する。生じた混合物を室温で４時間撹拌する。その後、２５％塩酸 ３ｇおよび水 １００mLを加え、相を分離する。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下で濃縮する。残留物をＣＨ３ＣＮで再結晶させると、化合物２１の白色の固体２．４５ｇが得られる。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９９℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.95 (s, 2H), 8.32 (m, 2H), 8.16 (m, 4H), 7.96 (d, 3H), 7.80 (m, 5H), 7.57 (m, 5H), 6.96 (d, 2H), 6.34 (m, 2H), 6.20 (m, 2H), 5.96 (m, 2H), 4.26 (m, 4H), 4.09 (m, 6H), 3.77 (t, 2H), 1.75 (m, 8H), 1.6-1.2 (m, 4H), 1.15 (m, 4H)
実施例２２：［３－［８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクトキシカルボニル］－４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２２の合成
化合物２２は、化合物２１の実施例２１に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０３℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
化合物２２は、化合物２１の実施例２１に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを８－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］オクチル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１０３℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１５０℃
実施例２２Ａ：１０－（４－フェニルフェノキシ）デカン－１－オール化合物２２Ａの合成
化合物２２Ａは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを４－フェニルフェノールに置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ａは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを４－フェニルフェノールに置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｂ：１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デカン－１－オール化合物２２Ｂの合成
化合物２２Ｂは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを４－（ｐ－トリル）フェノールに置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｂは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを４－（ｐ－トリル）フェノールに置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｃ：６－（１０－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボニトリル化合物２２Ｃの合成
化合物２２Ｃは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを６－ヒドロキシナフタレン－２－カルボニトリルに置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｃは、化合物３の実施例３に記載のプロセスに従って、ただし、４－（４－シアノフェニル）フェノールを６－ヒドロキシナフタレン－２－カルボニトリルに置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｄ：６－（３－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン－２－カルボン酸化合物２２Ｄの合成
化合物２２Ｄは、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを３－ブロモプロパノールに置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｄは、化合物９の実施例９に記載のプロセスに従って、ただし、６－クロロヘキサノールを３－ブロモプロパノールに置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｅ：１０－（４－フェニルフェノキシ）デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物２２Ｅの合成
化合物２２Ｅは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを１０－（４－フェニルフェノキシ）デカン－１－オール化合物に置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｅは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを１０－（４－フェニルフェノキシ）デカン－１－オール化合物に置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｆ：１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物の合成
化合物２２Ｆは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デカン－１－オール化合物に置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｆは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デカン－１－オール化合物に置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｇ：１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエート化合物２２Ｇの合成
化合物２２Ｇは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを６－（１０－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボニトリル化合物２２Ｇに置き換えた条件で合成される。
化合物２２Ｇは、化合物５の実施例５に記載のプロセスに従って、ただし、４－［４－（６－ヒドロキシヘキソキシ）フェニル］ベンゾニトリルを６－（１０－ヒドロキシデコキシ）ナフタレン－２－カルボニトリル化合物２２Ｇに置き換えた条件で合成される。
実施例２２Ｈ：［３－［１０－（４－フェニルフェノキシ）デコキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２２Ｈの合成
化合物２２Ｈは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－（４－フェニルフェノキシ）デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１２７℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.78 (d, 2H)、8.12 (m, 4H), 7.96 (m, 3H), 7.75 (dd, 1H), 7.57 (m, 5H), 7.42 (dd, 4H), 7.28 (m, 3H), 6.97 (d, 2H), 6.32 (m, 2H), 6.18 (m, 2H), 5.89 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.93 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 32H)
化合物２２Ｈは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－（４－フェニルフェノキシ）デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９０℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１２７℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.78 (d, 2H)、8.12 (m, 4H), 7.96 (m, 3H), 7.75 (dd, 1H), 7.57 (m, 5H), 7.42 (dd, 4H), 7.28 (m, 3H), 6.97 (d, 2H), 6.32 (m, 2H), 6.18 (m, 2H), 5.89 (m, 2H), 4.10 (m, 10H), 3.93 (t, 2H), 1.9-0.7 (m, 32H)
実施例２２Ｉ：［４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－３－［１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デコキシカルボニル］フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２２Ｉの合成
化合物２２Ｉは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９３℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１５２℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (d, 2H), 8.12 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.76 (dd, 1H), 7.52 (m, 7H), 7.24 (dd, 4H), 6.96 (d, 2H), 6.30 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.13 (m, 10H), 3.93 (t, 2H), 2.32 (s, 3H), 1.9-0.7 (m, 32H)
化合物２２Ｉは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［４－（ｐ－トリル）フェノキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：９３℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１５２℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80 (d, 2H), 8.12 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.76 (dd, 1H), 7.52 (m, 7H), 7.24 (dd, 4H), 6.96 (d, 2H), 6.30 (m, 2H), 6.17 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.13 (m, 10H), 3.93 (t, 2H), 2.32 (s, 3H), 1.9-0.7 (m, 32H)
実施例２２Ｊ：［３－［１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デコキシカルボニル］－４－［６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２２Ｊの合成
化合物２２Ｊは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：７１℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１３７℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80(d, 2H), 8.45 (d, 1H), 8.11 (m, 4H), 7.96 (m, 5H), 7.75 (m, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.45 (dd, 3H), 7.29 (d, 3H), 6.30 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.94 (m, 2H), 4.10 (m, 12H), 3.85 (t, 2H), 1.9-0.6 (m, 32H)
化合物２２Ｊは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：７１℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）：１３７℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.80(d, 2H), 8.45 (d, 1H), 8.11 (m, 4H), 7.96 (m, 5H), 7.75 (m, 2H), 7.58 (d, 1H), 7.45 (dd, 3H), 7.29 (d, 3H), 6.30 (m, 2H), 6.19 (m, 2H), 5.94 (m, 2H), 4.10 (m, 12H), 3.85 (t, 2H), 1.9-0.6 (m, 32H)
実施例２２Ｋ：［３－［１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デコキシカルボニル］－４－［６－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロポキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシ－フェニル］６－（３－プロパ－２－エノイルオキシプロポキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート化合物２２Ｋの合成
化合物２２Ｋは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換え、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（３－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１１０．４℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１６０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.79 (d, 2H), 8.10 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.81 (d, 5H), 7.66 (d, 2H), 7.57 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.29 (d, 2H), 7.02 (d, 2H), 6.35 (m, 2H), 6.16 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.33 (m, 6H), 4.25 (t, 2H), 4.07 (t, 2H), 3.95 (t, 2H), 2.17 (m, 4H), 1.64 (t, 2H), 1.5-0.5 (m, 14H)
化合物２２Ｋは、化合物１３の実施例１３に記載のプロセスに従って、ただし、６－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］ヘキシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートを１０－［（６－シアノ－２－ナフチル）オキシ］デシル２，５－ジヒドロキシベンゾエートに置き換え、６－（６－ヒドロキシヘキソキシ）ナフタレン－２－カルボン酸を６－（３－ヒドロキシプロポキシ）ナフタレン－２－カルボン酸に置き換えた条件で合成される。
液晶相転移：Ｔ（Ｃｒ－Ｎ）：１１０．４℃、Ｔ（Ｎ－Ｉ）＞１６０℃
ＤＭＳＯ－ｄ６中の１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ）：8.79 (d, 2H), 8.10 (m, 4H), 7.94 (m, 3H), 7.81 (d, 5H), 7.66 (d, 2H), 7.57 (d, 1H), 7.48 (d, 2H), 7.29 (d, 2H), 7.02 (d, 2H), 6.35 (m, 2H), 6.16 (m, 2H), 5.95 (m, 2H), 4.33 (m, 6H), 4.25 (t, 2H), 4.07 (t, 2H), 3.95 (t, 2H), 2.17 (m, 4H), 1.64 (t, 2H), 1.5-0.5 (m, 14H)
実施例２３Ａ：光配列材料を使用した配向層の調製
ガラス基板に光配列組成物（特許公報 国際公開第O2012/085048号に記載されているようなシクロペンタノン中の固形含量２％の光配列材料）をスピンコーティングする。フィルムを８０℃で３０秒間乾燥させると、生じたフィルムの厚さは約１００nmである。次いで、フィルムを、平行化および直線偏光されたＵＶ（ＬＰＵＶ）光（２８０～３２０nm）である２５０mJ/cm2の配列光に暴露する。偏光面は、基板上の基準縁に対して０°である。
ガラス基板に光配列組成物（特許公報 国際公開第O2012/085048号に記載されているようなシクロペンタノン中の固形含量２％の光配列材料）をスピンコーティングする。フィルムを８０℃で３０秒間乾燥させると、生じたフィルムの厚さは約１００nmである。次いで、フィルムを、平行化および直線偏光されたＵＶ（ＬＰＵＶ）光（２８０～３２０nm）である２５０mJ/cm2の配列光に暴露する。偏光面は、基板上の基準縁に対して０°である。
実施例２３：
１４．７９w%の化合物１６、０．０３w%の２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール、０．１８w%のIrgacure 369をシクロヘキサノン中で混合することによって１５．０w%の溶液を調製し、固体が完全に溶解するまで室温で十分に撹拌する。上記ポリマー溶液を実施例２３Ａの配向層を有するガラスプレート上にスピンコーティングして、液晶フィルムを形成した。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて９０℃で５分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用してＵＶ光を室温でおよそ２分間照射することによって光重合させて、液晶の配向状態を固定する。
１４．７９w%の化合物１６、０．０３w%の２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール、０．１８w%のIrgacure 369をシクロヘキサノン中で混合することによって１５．０w%の溶液を調製し、固体が完全に溶解するまで室温で十分に撹拌する。上記ポリマー溶液を実施例２３Ａの配向層を有するガラスプレート上にスピンコーティングして、液晶フィルムを形成した。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて９０℃で５分間乾燥させる。試料を室温まで冷まし、次いで、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用してＵＶ光を室温でおよそ２分間照射することによって光重合させて、液晶の配向状態を固定する。
生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２４：
化合物１６を化合物２１に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２１に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２５：
化合物１６を化合物２２に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２２に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２６：
化合物１６を化合物１５に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物１５に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２６Ｂ：
化合物１６を化合物２２Ｈに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２２Ｈに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２６Ｃ：
化合物１６を化合物２２Ｉに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２２Ｉに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２６Ｄ：
化合物１６を化合物２２Ｊに置き換えたという１つの違い以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２２Ｊに置き換えたという１つの違い以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２６Ｅ：
化合物１６を化合物２２Ｋに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を化合物２２Ｋに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にしてフィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
比較例１：
化合物１６を特許出願 国際公開第2011/003846 A1号に記載の１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ビス［［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ベンゾイル］オキシ］ベンゾエートに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にして、フィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて９０℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を特許出願 国際公開第2011/003846 A1号に記載の１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ビス［［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ベンゾイル］オキシ］ベンゾエートに置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にして、フィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて９０℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
比較例２：
化合物１６を米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載される米国特許第7,670,505 B2号明細書からの［４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシフェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート（Paliocolor（登録商標）LC1057）に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にして、フィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
化合物１６を米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載される米国特許第7,670,505 B2号明細書からの［４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシフェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート（Paliocolor（登録商標）LC1057）に置き換えたという単一の相違以外は実施例２３と同様にして、フィルムを調製する。このフィルムを、温度を制御したホットプレート上にて１００℃で５分間乾燥させた。生じたフィルムは、室温で非常に良好に配向したネマチック中間相を示した。
実施例２７：
実施例２３、実施例２５、実施例２６、比較例１および比較例２に記載の試料の５５０nmでの位相差は、偏光解析器（Ellipsometer）で測定する。試料の厚さは、触針式表面形状測定装置によって測定する。複屈折（Δｎ）は、決定された位相差および厚さの値から式（Δｎ＝位相差／厚さ）に従って得た。値を表１に列記する。
実施例２３、実施例２５、実施例２６、比較例１および比較例２に記載の試料の５５０nmでの位相差は、偏光解析器（Ellipsometer）で測定する。試料の厚さは、触針式表面形状測定装置によって測定する。複屈折（Δｎ）は、決定された位相差および厚さの値から式（Δｎ＝位相差／厚さ）に従って得た。値を表１に列記する。
表１
実施例２３、２５、２６、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄおよび２６Ｅのフィルムは、比較例１および２のフィルムよりも高い複屈折を有する。これらの新たなＬＣＰは、１／４波長板（Quarter-Waveplate）（ＱＷＰ）および１／２波長板（Half-Waveplate）（ＨＷＰ）として位相差板光学フィルムを調製するために使用することができる。位相差板は、光を伝達し、その偏光状態を変調させ、様々なディスプレイ用途またはセキュリティ素子において広く使用される。これらの新たなＬＣＰの特に高い複屈折は、位相差板のフィルムの大幅な厚さの減少をもたらす。一例として、表２は、５５０nmでの１／２波長板（λ／２）位相差板（ＨＷＰ）を得るために必要とされる厚さを示し、ここで、実施例２６、２３、２５、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄおよび２６Ｅにおいてそれぞれ化合物１５、１６、２２、２２Ｈ、２２Ｉ、２２Ｊ、２２Ｋが使用されている。
実施例２３、２５、２６、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄおよび２６Ｅのフィルムは、比較例１および２のフィルムよりも高い複屈折を有する。これらの新たなＬＣＰは、１／４波長板（Quarter-Waveplate）（ＱＷＰ）および１／２波長板（Half-Waveplate）（ＨＷＰ）として位相差板光学フィルムを調製するために使用することができる。位相差板は、光を伝達し、その偏光状態を変調させ、様々なディスプレイ用途またはセキュリティ素子において広く使用される。これらの新たなＬＣＰの特に高い複屈折は、位相差板のフィルムの大幅な厚さの減少をもたらす。一例として、表２は、５５０nmでの１／２波長板（λ／２）位相差板（ＨＷＰ）を得るために必要とされる厚さを示し、ここで、実施例２６、２３、２５、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄおよび２６Ｅにおいてそれぞれ化合物１５、１６、２２、２２Ｈ、２２Ｉ、２２Ｊ、２２Ｋが使用されている。
実施例２８：比較例３を用いた偏光フィルムの形成
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
特許出願 国際公開第2011/003846 A1号に記載の１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ビス［［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ベンゾイル］オキシ］ベンゾエートの化合物２９．２６部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．２４部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
特許出願 国際公開第2011/003846 A1号に記載の１０－［４－（４－シアノフェニル）フェノキシ］デシル２，５－ビス［［４－（６－プロパ－２－エノイルオキシヘキソキシ）ベンゾイル］オキシ］ベンゾエートの化合物２９．２６部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．２４部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
２５０mJの直線偏光に暴露させておいたガラス（D263）基板上にコートされた１００nmの光配向層上に、その溶液を、バーサイズ３（bar N°3）のK-barコーティングによってコーティングする。その後、基板をオーブン内にて９０℃で５分間加熱し、室温まで冷ます。次いで、コートされたＬＣＰ層を、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用して室温でおよそ２分間、ＵＶ光を照射することによって光重合させ、液晶の配向状態を固定する。
実施例２９：比較例４を用いた偏光フィルムの形成
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載される米国特許第7,670,505 B2号明細書からの［４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシフェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート（Paliocolor（登録商標）LC1057）２９．３３部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．１８部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
米国特許第7,670,505 B2号明細書に記載される米国特許第7,670,505 B2号明細書からの［４－［６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボニル］オキシフェニル］６－（４－プロパ－２－エノイルオキシブトキシカルボニルオキシ）ナフタレン－２－カルボキシレート（Paliocolor（登録商標）LC1057）２９．３３部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．１８部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
２５０mJの直線偏光に暴露させておいたガラス（D263）基板上にコートされた１００nmの光配列層上に、その溶液を、バーサイズ３のK-barコーティングによってコーティングする。その後、基板をオーブン内にて９０℃で５分間加熱し、室温まで冷ます。次いで、コートされたＬＣＰ層を、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用して室温でおよそ２分間、ＵＶ光を照射することによって光重合させ、液晶の配向状態を固定する。
実施例３０：実施例１５からの化合物を用いた偏光フィルムの形成
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
実施例１５の化合物２９．４５部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．０６部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
実施例１５の化合物２９．４５部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．０６部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン６８．５部に溶解させる。
２５０mJの直線偏光に暴露させておいたガラス（D263）基板上にコートされた１００nmの光配列層上に、その溶液を、バーサイズ３のK-barコーティングによってコーティングする。その後、基板をオーブン内にて９０℃で５分間加熱し、室温まで冷ます。次いで、コートされたＬＣＰ層を、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用して室温でおよそ２分間、ＵＶ光を照射することによって光重合させ、液晶の配向状態を固定する。
実施例３１：実施例１５からの化合物を用いた偏光フィルムの形成
組成物は、以下の成分を混合することによって得られた：
実施例１５の化合物１６．４２部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．００部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン８２部に溶解させる。
組成物は、以下の成分を混合することによって得られた：
実施例１５の化合物１６．４２部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．００部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．９５部および２，６－ジ－tert－ブチル－４－メチルフェノール０．０１６部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン８２部に溶解させる。
２５０mJの直線偏光に暴露させておいたガラス（D263）基板上にコートされた１００nmの光配列層上に、その溶液を、バーサイズ３のK-barコーティングによってコーティングする。その後、基板をオーブン内にて９０℃で５分間加熱し、室温まで冷ます。次いで、コートされたＬＣＰ層を、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用して室温でおよそ２分間、ＵＶ光を照射することによって光重合させ、液晶の配向状態を固定する。
実施例３２：実施例２２Ｋからの化合物を用いた偏光フィルムの形成
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
実施例２２Ｋの化合物１６．４２部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．００部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．５４部および２，６－ジ－tert-ブチル－４－メチルフェノール０．００９部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン８２部に溶解させる。
組成物は、以下の成分を混合することによって得られる：
実施例２２Ｋの化合物１６．４２部を、BASF製の二色性色素（登録商標）X13の黒色混合物１．００部、BASF製のIrgacure OXE03 ０．５４部および２，６－ジ－tert-ブチル－４－メチルフェノール０．００９部と混合する。この混合物をシクロヘキサノン８２部に溶解させる。
２５０mJの直線偏光に暴露させておいたガラス（D263）基板上にコートされた１００nmの光配列層上に、その溶液を、バーサイズ３のK-barコーティングによってコーティングする。その後、基板をオーブン内にて１００℃で５分間加熱し、室温まで冷ます。次いで、コートされたＬＣＰ層を、Ｎ２雰囲気下で水銀ランプを使用して室温でおよそ２分間、ＵＶ光を照射することによって光重合させ、液晶の配向状態を固定する。
実施例３３：偏光フィルムの特性
吸光度における二色比（ＤＲ）によって、偏光フィルムの偏光性能を定義することが可能である。ＤＲは、材料特性であり、それゆえ、偏光子の厚さに依存しない。吸光度におけるＤＲは、偏光分光法を通じて決定することができ、以下のとおり定義される：
ＤＲ＝Log（１／Tperp)/(Log（１／Tparal））
吸光度における二色比（ＤＲ）によって、偏光フィルムの偏光性能を定義することが可能である。ＤＲは、材料特性であり、それゆえ、偏光子の厚さに依存しない。吸光度におけるＤＲは、偏光分光法を通じて決定することができ、以下のとおり定義される：
ＤＲ＝Log（１／Tperp)/(Log（１／Tparal））
Tperpは、偏光フィルムの透過軸に対して垂直に進入した光の透過率である。Tparalは、偏光フィルムの透過軸に対して平行に進入した光の透過率である。実施例２８～３２の透過率TperpおよびTparalは、AxoScan偏光計を使用して測定し、これらを使用して４５０nm、５５０nm、６５０nmの波長の二色比（ＤＲ）を決定する。
実施例２８～３２の偏光フィルムの厚さは、Alpha-Step Stylusプロファイラーによって決定する。
実施例２８～３２の偏光フィルムの厚さおよびＤＲの結果を表３にまとめる。
二色比が高いほど、偏光フィルムはより効率的であると言うことができる。本発明の組成物を使用することによって高い二色比を有する偏光フィルムを得ることができる。実際に、本発明の化合物１５および化合物２２ｋから製造された偏光フィルムは、１３を上回る二色比を提示する一方で、比較例３および比較例４の偏光フィルムのＤＲは１０．２の最大ＤＲを有する。
Claims (12)
- 式（Ｉ）
［式中、
Ｇ１およびＧ２は、独立に、重合性メソゲン残基を表し；
Ａｒは、フェニルまたはナフタレンジイルからなる群より選択される芳香族基を表し；
ｗは、１または２であり；
Ｘは、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－および－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される基を表し；
Ｓｐは、式－（ＣＨ２）ｐ－（式中、ｐは、１～１８の整数であり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよく；あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’からなる群より選択される１つまたは２つの基によって任意選択的に置換されていてもよいが、ただし、第一に、スペーサー基が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２－である場合、ｐが０の値も有することができるとする）で示される基を表し；そして
Ｍは、式（ＩＩ）
｛式中、
ＡおよびＢは、独立に、任意選択的に置換されていてもよい６員の同素環式もしくは複素環式基、またはナフタレンジイルを表し；
Ｃは、任意選択的に置換されていてもよい、５員および６員の同素環式もしくは複素環式基、またはナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｎ１およびｎ２は、０または１であるが、ただし、第一に、１≦ｎ１＋ｎ２≦２であり、第二に、Ｃがナフタレンジイルである場合、０≦ｎ１＋ｎ２≦２であるとし；
Ｚ１は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯ－、ＯＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＲ’－、－ＮＲ’ＣＯＯ－および単結合からなる群より選択され；
式中、
Ｒ’は、水素、アキラルな低級アルキル基およびアキラルな低級アルケニル基からなる群より選択され；
Ｚ２およびＺ３は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；そして
Ｒ１は、－ＣＮ、－ＣＯＲ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、－ＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＲ、ＯＣＯＯＲ、－ＯＣＯＮＲ’Ｒ、－ＮＲ’ＣＯＯＲ、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＦ３、－ＯＣＦ３、－ＯＲおよび－Ｒからなる群より選択され、
式中、
Ｒは、水素、アキラルなＣ１－１８アルキル基、および３位またはより高位に二重結合を有するアキラルなＣ４－１８アルケニル基からなる群より選択され；そして
Ｒ’は、上に定義したとおりである｝で示されるアキラル基を表す］
で示される化合物。 - Ｘが、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－および－ＯＣＯＯ－から選択される、請求項１に記載の化合物。
- 基Ｓｐの整数ｐが１～１２の値を有する、請求項１または２のいずれか一項に記載の化合物。
- 基Ｚ１が、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＯＣＯＯ－および単結合からなる群より選択される、請求項１～３のいずれか一項に記載の化合物。
- 基Ｚ２およびＺ３が、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－および単結合からなる群より選択される、請求項１～４のいずれか一項に記載の化合物。
- 基Ｒ１が、－ＣＮ、－ＣＯＯＲ、－ＯＣＯＲ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＲ、Ｒからなる群より選択され、Ｒが、アキラルなＣ１－１２アルキル、または３位もしくはより高位に二重結合を有するアキラルなＣ４－１２アルケニル基、または水素を表す、請求項１～５のいずれか一項に記載の化合物。
- 重合性メソゲン残基Ｇ１およびＧ２が各々、独立に、式ＩＩＩ
［式中、
Ｄは、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され、
Ｅは、任意選択的に置換されていてもよい１，４－フェニレン、ピリジン－２，５－ジイル、ピリミジン－２，５－ジイル、trans－１，４－シクロヘキシレン、trans－１，４－シクロヘキサン、trans－１，３－ジオキサン－２，５－ジイル、１，４－ナフタレンジイル、２，６－ナフタレンジイルおよび１，５－ナフタレンジイルからなる群より選択され；
ｍは、１または０であり、
Ｚ４およびＺ５は、独立に、単結合、－ＣＯＯ－、－ＯＯＣ－、および－ＯＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－（ＣＨ２）４－および－（ＣＨ２）３Ｏ－からなる群より選択され；
Ｚ６は、式－（ＣＨ２）ｑＸ－（式中、ｑは、１～１８の値を有する整数であり、Ｘは、請求項１に定義したとおりであり、１つまたは２つの隣接していない－ＣＨ２－基は、－ＣＨ＝ＣＨ－によって任意選択的に置換されていてもよく、あるいは、１つまたは２つの－ＣＨ２－基は、１つまたは２つの追加の連結基Ｘによって置換されていてもよいが、ただし、第一に、基Ｚ６が２つの隣接するヘテロ原子を含有せず、第二に、Ｘが－ＣＨ２である場合、ｑが０の値も有することができるとする）で示される基を表し、
Ｒ２は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｐｈ）－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯＯ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯ－ＮＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－、ＣＨ２＝ＣＨ－ＯＯＣ－、Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－、Ｒ３－Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、Ｒ３－ＯＯＣ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｐｈ－Ｏ－および２－Ｗ－エポキシエチルからなる群より選択される重合性基を表し、
式中、
Ｗは、Ｈ、Ｃｌ、Ｐｈまたは低級アルキルを表し、
Ｒ３は、低級アルキルを表すが、ただし、Ｒ３がフェニレン基（－Ｐｈ－）に結合している場合、Ｒ３は、水素または低級アルコキシを表してもよいとする］
で示される基によって表される、請求項１～６のいずれか一項に記載の化合物。 - 基Ｒ２が、ＣＨ２＝ＣＷ－ＣＯＯ－およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｏ－からなる群より選択される、請求項７のいずれか一項に記載の化合物。
- 式（Ｉ）で示される化合物を含む、ＬＣＰ混合物。
- 架橋または重合された形態の請求項１～８のいずれか一項に記載の化合物または請求項９に記載の混合物を含む、ＬＣＰネットワーク。
- 請求項１～８のいずれか一項に記載の化合物または請求項９に記載の混合物の、光学または電気光学デバイスの製造における使用。
- 請求項１～８のいずれか一項に記載の化合物、請求項９に記載の混合物または請求項１０に記載のネットワークを含む、光学または電気光学デバイス。
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