JP2022521531A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102907251B1 (ko) * 2022-05-03 2026-01-02 (주)휴넷플러스 유기중합체, 이를 포함하는 반도체 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 패턴화 방법
JP7805883B2 (ja) 2022-07-08 2026-01-26 信越化学工業株式会社 金属酸化膜形成用組成物、パターン形成方法、及び金属酸化膜形成方法
IL305619A (en) 2022-09-14 2024-04-01 Shinetsu Chemical Co Compound for forming a metal-containing layer, composition for forming a metal-containing layer, printing method, and semiconductor masking sensitizer
JP2024068637A (ja) * 2022-11-08 2024-05-20 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP2024089633A (ja) 2022-12-21 2024-07-03 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用重合体、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP2024091495A (ja) * 2022-12-22 2024-07-04 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP2024097388A (ja) * 2023-01-06 2024-07-19 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP7802711B2 (ja) 2023-01-06 2026-01-20 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
KR102795114B1 (ko) * 2023-02-14 2025-04-10 삼성에스디아이 주식회사 하드마스크 조성물, 하드마스크 층 및 패턴 형성 방법
JP7802029B2 (ja) 2023-02-15 2026-01-19 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
JP2024122656A (ja) * 2023-02-28 2024-09-09 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
EP4435516A1 (en) * 2023-03-16 2024-09-25 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for forming resist underlayer film and patterning process
JP7839127B2 (ja) * 2023-06-07 2026-04-01 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP2025032887A (ja) 2023-08-28 2025-03-12 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP2025032875A (ja) 2023-08-28 2025-03-12 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP2025099570A (ja) 2023-12-22 2025-07-03 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
JP2025099887A (ja) 2023-12-22 2025-07-03 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
JP2025102051A (ja) * 2023-12-26 2025-07-08 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
JP2025101957A (ja) * 2023-12-26 2025-07-08 信越化学工業株式会社 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3474054A (en) 1966-09-13 1969-10-21 Permalac Corp The Surface coating compositions containing pyridine salts or aromatic sulfonic acids
US4251665A (en) 1978-05-22 1981-02-17 King Industries, Inc. Aromatic sulfonic acid oxa-azacyclopentane adducts
US4200729A (en) 1978-05-22 1980-04-29 King Industries, Inc Curing amino resins with aromatic sulfonic acid oxa-azacyclopentane adducts
US5187019A (en) 1991-09-06 1993-02-16 King Industries, Inc. Latent catalysts
US20100040838A1 (en) * 2008-08-15 2010-02-18 Abdallah David J Hardmask Process for Forming a Reverse Tone Image
US8906590B2 (en) * 2011-03-30 2014-12-09 Az Electronic Materials Usa Corp. Antireflective coating composition and process thereof
WO2012145330A1 (en) * 2011-04-18 2012-10-26 The University Of British Columbia Fluorene-9-bisphenol compounds and methods for their use
US9365510B2 (en) * 2012-04-16 2016-06-14 British Columbia Cancer Agency Branch Aziridine bisphenol ethers and related compounds and methods for their use
US9315636B2 (en) * 2012-12-07 2016-04-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds, their compositions and methods
US9152051B2 (en) * 2013-06-13 2015-10-06 Az Electronics Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Antireflective coating composition and process thereof
US9296922B2 (en) 2013-08-30 2016-03-29 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds as hardmasks and filling materials, their compositions and methods of use
US9274426B2 (en) * 2014-04-29 2016-03-01 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Antireflective coating compositions and processes thereof
US9499698B2 (en) * 2015-02-11 2016-11-22 Az Electronic Materials (Luxembourg)S.A.R.L. Metal hardmask composition and processes for forming fine patterns on semiconductor substrates
JP6641879B2 (ja) 2015-03-03 2020-02-05 Jsr株式会社 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法
US9958781B2 (en) 2015-04-24 2018-05-01 Jsr Corporation Method for film formation, and pattern-forming method
JP6712188B2 (ja) 2015-07-13 2020-06-17 信越化学工業株式会社 レジスト下層膜形成用組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP6625934B2 (ja) 2015-07-14 2019-12-25 信越化学工業株式会社 レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及び化合物

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