JP2022520954A - 放射ビームを測定するための方法およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2019年2月13日に出願された欧州出願19156895.5号の優先権を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
本発明は、放射ビームを測定するための方法およびリソグラフィ装置に関する。
1.ステップモードでは、放射ビームBに付与された全体パターンがターゲット部分C上に一度に投影される(すなわち単一静的露光)間に、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が実質的に静止状態に維持される。その後、異なるターゲット部分Cが露光されるように、基板テーブルWTまたは「基板サポート」はXおよび/またはY方向に駆動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズを制限する。
2.スキャンモードでは、放射ビームBに付与されたパターンがターゲット部分C上に投影される(すなわち単一動的露光)間に、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が同時にスキャンされる。パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定しうる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光におけるターゲット部分の幅(非スキャン方向)を制限し、スキャン動作の長さがターゲット部分の高さ(スキャン方向)を決定する。
3.他のモードでは、パターン付与された放射ビームがターゲット部分C上に投影される間に、プログラマブルパターニングデバイスを保持するパターニングデバイス(例えばマスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」が実質的に静止状態に維持され、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が駆動またはスキャンされる。このモードでは、一般的にパルス放射源が利用され、基板テーブルWTまたは「基板サポート」の各動作後またはスキャン中の連続する放射パルスの間に、プログラマブルパターニングデバイスが必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のタイプのプログラマブルミラーアレイ等のプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
これは、放射ビームが開口O5を通過した際に、例えば図4Aおよび4Bの第2測定位置で測定を行うことに対応する。
項目1:
光軸を有し、放射ビームを投影する投影システムと、
投影システムによって投影された放射ビームを測定する測定ユニットと、
を備え、
測定ユニットは、
稼働中に放射ビームが通過する開口と、
光軸に交差するように広がり、開口を通過する放射ビームを測定するセンシング面と、
を備え、
リソグラフィ装置は光軸に交差する平面内の複数の測定位置の間でセンシング面を駆動し、
放射ビームは前記平面内で視野を定義し、
測定ユニットは、センシング面が各測定位置において100%視野より小さい視野の一部を検知するように構成される、
リソグラフィ装置。
項目2:
項目1に記載のリソグラフィ装置において、センシング面が放射ビームを複数の測定位置で測定するように構成される場合、リソグラフィ装置は投影システムによって投影された放射ビームの位置を実質的に一定の位置に維持するように構成される。
項目3:
項目1または2に記載のリソグラフィ装置において、一つの測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分の少なくとも一部は、他の測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分と重複しない。
項目4:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、開口が格子を備える。
項目5:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、測定ユニットが支持テーブル上に設けられる。
項目6:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、投影システムによって投影された放射ビームが光軸に沿い、センシング面が駆動される平面が光軸に直交する。
項目7:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、前記平面内で視野の100%の測定結果を提供するために、リソグラフィ装置は複数の測定位置で検知される視野の部分を結合するように構成される。
項目8:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、開口とセンシング面の間の距離は、前記平面内の視野の100%領域がセンシング面より大きくなるように設定される。
項目9:
項目8に記載のリソグラフィ装置において、センシング面が、前記平面内の視野の100%領域の約70%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約60%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約50%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約30%以下である。
項目10:
前記項目のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、放射ビームが通過する複数の開口が用いられ、測定位置毎に一つの開口が使用される測定ユニットが設けられ、リソグラフィ装置は、センシング面の複数測定位置間の動作に応じて、複数の開口を光軸に交差する方向に駆動するように構成される。
項目11:
項目10に記載のリソグラフィ装置において、複数の開口はセンシング面に対して固定された位置にある。
項目12:
項目10または11に記載のリソグラフィ装置において、各測定位置において少なくとも一つの開口が放射ビームの外側にあるように複数の開口が配置される。
項目13:
いずれかに記載のリソグラフィ装置において、リソグラフィ装置は、各測定位置において複数の開口の一つを除いて全ての開口を覆うように構成されるマスクを備える。
項目14:
項目10から13のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、複数の開口は同じ格子を備える。
項目15:
項目1から9のいずれかに記載のリソグラフィ装置において、測定ユニットは稼働中に放射ビームが通過する唯一の開口を備え、リソグラフィ装置は、各測定位置での測定の間に、投影システムによって投影された放射ビームに対する単一の開口の位置を維持するように構成される。
項目16:
放射ビームを提供するステップと、
光軸を有する投影システムを用いて、測定ユニットにおける開口を通じて放射ビームを投影するステップと、
測定ユニットの光軸に交差するように広がるセンシング面を用いて、開口を通過した放射ビームを複数の測定位置で測定するステップと、
を備え、
放射ビームを測定するステップは、光軸に交差する平面内の複数測定位置間でセンシング面を駆動するステップを備え、
放射ビームは前記平面内で視野を定義し、
センシング面が各測定位置において100%視野より小さい視野の一部を検知する、
リソグラフィ装置における放射ビームを測定する方法。
項目17:
項目16に記載の方法において、測定するステップは、複数の測定位置でセンシング面による測定が行われる時に、投影システムによって投影された放射ビームの位置を実質的に一定の位置に維持するステップを備える。
項目18:
項目16または17に記載の方法において、一つの測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分の少なくとも一部は、他の測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分と重複しない。
項目19:
項目16から18のいずれかに記載の方法において、開口に格子のような1次元または2次元パターンが更に設けられる。
項目20:
項目16から19のいずれかに記載の方法において、測定ユニットが載置される支持テーブルを提供するステップを更に備える。
項目21:
項目16から20のいずれかに記載の方法において、投影システムによって投影された放射ビームが光軸に沿い、センシング面が駆動される平面が光軸に直交する。
項目22:
項目16から21のいずれかに記載の方法において、前記平面内で視野の100%の測定結果を提供するために、複数の測定位置で検知される視野の部分を結合するステップを更に備える。
項目23:
項目16から22のいずれかに記載の方法において、開口とセンシング面の間の距離は、前記平面内の視野の100%領域がセンシング面より大きくなるように設定される。
項目24:
項目23に記載の方法において、センシング面が、視野の100%領域の約70%以下、または、視野の100%領域の約60%以下、または、視野の100%領域の約50%以下、または、視野の100%領域の約30%以下である。
項目25:
項目16から24のいずれかに記載の方法において、測定ユニットは稼働中に放射ビームが通過する複数の開口を備え、複数の開口の一つが測定位置毎に使用され、方法は、各測定位置での測定の間に、複数の開口およびセンシング面を放射ビームに対して駆動するステップを更に備える。
項目26:
項目25に記載の方法において、複数の開口およびセンシング面を放射ビームに対して駆動する時に、複数の開口のセンシング面に対する位置が維持される。
項目27:
項目25または26に記載の方法において、各測定位置において少なくとも一つの開口が放射ビームの外側にあるように複数の開口が配置される。
項目28:
項目25から27のいずれかに記載の方法において、各測定位置において複数の開口の一つを除いて全ての開口を覆うステップを更に備える。
項目29:
項目25から28のいずれかに記載の方法において、複数の開口は同じ格子を備える。
項目30:
項目16から24のいずれかに記載の方法において、測定ユニットは稼働中に放射ビームが通過する唯一の開口を備え、方法は、各測定位置での測定の間に、投影システムによって投影された放射ビームに対する単一の開口の位置を維持するステップを更に備える。
Claims (16)
- 光軸を有し、放射ビームを投影する投影システムと、
投影システムによって投影された放射ビームを測定する測定ユニットと、
を備え、
測定ユニットは、
稼働中に放射ビームが通過する開口と、
光軸に交差するように広がり、開口を通過する放射ビームを測定するセンシング面と、
を備え、
装置は光軸に交差する平面内の複数の測定位置の間でセンシング面を駆動し、
放射ビームは前記平面内で視野を定義し、
測定ユニットは、センシング面が各測定位置において100%視野より小さい視野の一部を検知するように構成される、
リソグラフィ装置。 - 放射ビームを提供するステップと、
光軸を有する投影システムを用いて、測定ユニットにおける開口を通じて放射ビームを投影するステップと、
測定ユニットの光軸に交差するように広がるセンシング面を用いて、開口を通過した放射ビームを複数の測定位置で測定するステップと、
を備え、
放射ビームを測定するステップは、光軸に交差する平面内の複数測定位置間でセンシング面を駆動するステップを備え、
放射ビームは前記平面内で視野を定義し、
センシング面が各測定位置において100%視野より小さい視野の一部を検知する、
リソグラフィ装置における放射ビームを測定する方法。 - 請求項1の装置の場合、センシング面が放射ビームを複数の測定位置で測定するように構成される場合、装置は投影システムによって投影された放射ビームの位置を実質的に一定の位置に維持するように構成され、
請求項2の方法の場合、測定するステップは、複数の測定位置でセンシング面による測定が行われる時に、投影システムによって投影された放射ビームの位置を実質的に一定の位置に維持するステップを備える、
請求項1に記載の装置または請求項2に記載の方法。 - 一つの測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分の少なくとも一部は、他の測定位置でセンシング面によって検知される視野の部分と重複しない、請求項1または3に記載の装置または請求項2から3のいずれかに記載の方法。
- 格子のような1次元または2次元パターンが開口に設けられる、請求項1、3、4のいずれかに記載の装置または請求項2から4のいずれかに記載の方法。
- 請求項1、3から5のいずれかの装置の場合、測定ユニットが支持テーブル上に設けられ、
請求項2から5のいずれかの方法の場合、測定ユニットが載置される支持テーブルを提供するステップを更に備える、
請求項1、3から5のいずれかに記載の装置または請求項2から5のいずれかに記載の方法。 - 投影システムによって投影された放射ビームが光軸に沿い、センシング面が駆動される平面が光軸に直交する、請求項1、3から6のいずれかに記載の装置または請求項2から6のいずれかに記載の方法。
- 請求項1、3から7のいずれかの装置の場合、前記平面内で視野の100%の測定結果を提供するために、装置は複数の測定位置で検知される視野の部分を結合するように構成され、
請求項2から7のいずれかの方法の場合、前記平面内で視野の100%の測定結果を提供するために、複数の測定位置で検知される視野の部分を結合するステップを更に備える、
請求項1、3から7のいずれかに記載の装置または請求項2から7のいずれかに記載の方法。 - 開口とセンシング面の間の距離は、前記平面内の視野の100%領域がセンシング面より大きくなるように設定される、請求項1、3から8のいずれかに記載の装置または請求項2から8のいずれかに記載の方法。
- センシング面は、前記平面内の視野の100%領域の約70%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約60%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約50%以下、または、前記平面内の視野の100%領域の約30%以下である、請求項9の装置または請求項9の方法。
- 放射ビームが通過する複数の開口が用いられ、測定位置毎に一つの開口が使用される測定ユニットが設けられ、
請求項1、3から10のいずれかの装置の場合、装置は、センシング面の複数測定位置間の動作に応じて、複数の開口を光軸に交差する方向に駆動するように構成され、
請求項2から10のいずれかの方法の場合、方法は、各測定位置での測定の間に、複数の開口およびセンシング面を放射ビームに対して駆動するステップを更に備える、
請求項1、3から10のいずれかに記載の装置または請求項2から10のいずれかに記載の方法。 - 請求項11の装置の場合、複数の開口はセンシング面に対して固定された位置にあり、
請求項11の方法の場合、複数の開口およびセンシング面を放射ビームに対して駆動する時に、複数の開口のセンシング面に対する位置が維持される、
請求項11の装置または請求項11の方法。 - 各測定位置において少なくとも一つの開口が放射ビームの外側にあるように複数の開口が配置される、請求項11または12の装置または請求項11または12の方法。
- 請求項11から13のいずれかの装置の場合、装置は、各測定位置において複数の開口の一つを除いて全ての開口を覆うように構成されるマスクを備え、
請求項11から13のいずれかの方法の場合、方法は、各測定位置において複数の開口の一つを除いて全ての開口を覆うステップを更に備える、
請求項11から13のいずれかに記載の装置または請求項11から13のいずれかに記載の方法。 - 複数の開口は同じ格子を備える、請求項11から14のいずれかに記載の装置または請求項11から14のいずれかに記載の方法。
- 測定ユニットは稼働中に放射ビームが通過する唯一の開口を備え、
請求項1、3から10のいずれかの装置の場合、装置は、各測定位置での測定の間に、投影システムによって投影された放射ビームに対する単一の開口の位置を維持するように構成され、
請求項2から10のいずれかの方法の場合、方法は、各測定位置での測定の間に、投影システムによって投影された放射ビームに対する単一の開口の位置を維持するステップを更に備える、
請求項1、3から10のいずれかに記載の装置または請求項2から10のいずれかに記載の方法。
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