JP2022169853A - 倒立顕微鏡装置 - Google Patents

Abstract

【課題】容器の底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去可能な倒立顕微鏡装置を提供する。【解決手段】観察装置１は、倒立顕微鏡装置である。観察装置１は、対物レンズ１２と、少なくとも対物レンズ１２の光軸と直交する方向に移動するＸＹステージ４と、ＸＹステージ４に置かれたウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する除去装置１８と、を備える。除去装置１８は、ＸＹステージ４の移動によりウェルプレートＣの底面を走査するように構成される。【選択図】図１

Description

本明細書の開示は、倒立顕微鏡装置に関する。

現在、細胞を３次元的に培養したスフェロイドやオルガノイドなどの細胞凝集塊を使った研究が注目されている。近年では、顕微鏡装置を用いてスフェロイドやオルガノイドを撮影し、取得した顕微鏡画像データに対して画像解析技術を用いて創薬のためにスクリーニングを行い、薬効を評価するといったことも行われている。

上記のような観察対象物に対する深部撮影やＺシリーズ撮影（Ｚスタック撮影ともいう。）は、観察対象物を培養液や透明化溶液とともに容器内に収容した状態で、自動化された倒立顕微鏡装置によって行われるのが一般的である。このような技術は、例えば、特許文献１に記載されている。

特開２００８－１７０８６７号公報

上記のような観察対象物は、１００μｍから５００μｍ程度の大きさを有し、観察対象物の内部を撮影する深部撮影において球面収差による画質の劣化が生じやすい。このため、深部撮影における球面収差の主要な要因である屈折率ミスマッチを抑制可能な液浸対物レンズの使用が強く望まれている。特に、深さ方向（光軸方向）に広い範囲で深部撮影を可能とするため、長い作動距離を有する液浸対物レンズの使用が望ましい。

その一方で、液浸対物レンズの使用は、浸液の処理という新たな課題を生じさせる。倒立顕微鏡装置では、浸液は対物レンズと容器の間に供給されるため、撮影終了後には、対物レンズと容器の底面のそれぞれに付着した浸液を除去する必要がある。このうち、容器に関しては、撮影終了後、顕微鏡装置外へ運ばれるため、浸液が適切に処理されなければ、容器の底面に付着した浸液が容器の移動中に液滴となって落下し、床や机などを汚してしまうことがある。特に、長い作動距離を有する液浸対物レンズが使用される場合には、容器の底面に大量の浸液が残存することになるため、容器移動中に液滴が落下する可能性が高くなる。

以上のような実情を踏まえ、本発明の一側面に係る目的は、容器の底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去可能な倒立顕微鏡装置を提供することである。

本発明の一態様に係る倒立顕微鏡は、液浸対物レンズと、少なくとも前記液浸対物レンズの光軸と直交する方向に移動する電動ステージと、前記電動ステージに置かれた容器の底面に付着した浸液を除去する除去手段と、を備える。前記除去手段は、前記電動ステージの移動により前記底面を走査するように構成される。

上記の態様によれば、容器の底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去可能な倒立顕微鏡装置を提供することが可能となる。

第１の実施形態に係る観察装置１の構成を例示した図である。 ウェルプレートＣの構成を例示した図である。 ワイパー２０の構成を説明するための図である。 ワイパー２０の構成を説明するための別の図である。 観察装置１の動作を説明するための図である。 観察装置１の動作を説明するための別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１の動作を説明するための更に別の図である。 第２の実施形態に係る観察装置１ａの構成を例示した図である。 観察装置１ａの動作を説明するための図である。 観察装置１ａの動作を説明するための別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ａの動作を説明するための更に別の図である。 第３の実施形態に係る観察装置１ｂの構成を例示した図である。 第４の実施形態に係る観察装置１ｃの構成を例示した図である。 観察装置１ｃの動作を説明するための図である。 観察装置１ｃの動作を説明するための別の図である。 観察装置１ｃの動作を説明するための更に別の図である。 観察装置１ｃの動作を説明するための更に別の図である。 第４の実施形態に係る観察装置１ｄの構成を例示した図である。 観察装置１ｄの動作を説明するための図である。 観察装置１ｄの動作を説明するための別の図である。 観察装置１ｄの動作を説明するための更に別の図である。

［第１の実施形態］
図１は、本実施形態に係る観察装置１の構成を例示した図である。図２は、ウェルプレートＣの構成を例示した図である。図３及び図４は、ワイパー２０の構成を説明するための図である。以下、図１から図４を参照しながら、観察装置１の構成について説明する。

観察装置１は、倒立型顕微鏡装置であり、試料を収容した容器の搬送から容器に収容された試料の撮影までを自動的に行う自動顕微鏡装置である。観察装置１では、顕微鏡の照明系や検出系などの光学構造は、図１に示すように、観察装置１の筐体内部に収容され、外部環境から遮断されている。これにより、観察装置１が設置される室内の照明環境によらず、一定の環境で試料を撮影可能となっている。観察装置１で取得される試料の画像の種類は、特に限定しないが、例えば、蛍光画像、明視野画像などである。

観察装置１が扱う容器の種類は、特に限定しないが、例えば、図２に示すようなウェルプレートＣを用いることができる。なお、ウェルプレートはマクロプレートとも称される。ウェルプレートＣのサイズ（縦横の幅Ｄ１、幅Ｄ２）は、規格によって定められていて、ウェルプレートＣに設けられたウェルＷの数によらず一定である。このため、後述する容器の大きさに応じて設計されるべき要素（ワイパー２０、ロール紙２６、ノズル３６）については、ウェルプレートＣの規格化されたサイズに基づいて設計されればよい。なお、観察装置１が扱う容器は、例えば、ディッシュやフラスコなど、ウェルプレートＣとは異なる種類の容器であってもよい。

観察装置１の筐体内は、上部構造２と下部構造３で構成されている。試料を収容したウェルプレートＣは、上部構造２内を移動する。上部構造２は、試料の環境を維持するための保温構造として機能し、ＸＹステージ４、インキュベータ６、透過照明系８、対物レンズ（対物レンズ１１、対物レンズ１２など）などを含んでいる。一方、下部構造３は、対物レンズと透過照明系８とを除く、多光子励起顕微鏡１６の主要な構成を含んでいる。下部構造３は、さらに、浸液を供給する供給装置１５と、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する除去装置１８を含んでいる。昇降機５とレボルバ９と焦準部１０は、上部構造２と下部構造３の境界の一部として機能する。

試料を収容したウェルプレートＣは、図１に示すように、開閉扉７がスライドすることで露出した昇降機５の上面に配置される。以降では、昇降機５の上面に置かれるときのウェルプレートＣの位置を、ウェルプレートＣを観察装置１に受け渡すための位置という意味で、受け渡し位置と記す。受け渡し位置へウェルプレートＣを配置する作業は、ユーザにより手動で行われてもよく、又は、ロボットハンドなどの図示しない電動機構によって自動化されてもよい。

受け渡し位置に置かれたウェルプレートＣは、電動ステージによって対物レンズの光軸上の観察位置まで運ばれる。具体的には、昇降機５によって筐体内部へ鉛直方向に運ばれて、その後、ＸＹステージ４によって観察位置まで水平方向に運ばれる。なお、観察装置１の電動ステージは、鉛直方向に移動する昇降機５と、水平方向に移動するＸＹステージ４と、を含んでいる。また、鉛直方向は、後述する液浸対物レンズの光軸と平行な方向であり、水平方向は、後述する液浸対物レンズの光軸と直交する方向である。

観察位置での撮影終了後には、ウェルプレートＣは、電動ステージによって受け渡し位置まで運ばれる。具体的には、ＸＹステージ４によって受け渡し位置の下方にまで水平方向に運ばれて、その後、昇降機５によって受け渡し位置まで鉛直方向に運ばれる。このように、観察装置１では、受け渡し位置と観察位置の間のウェルプレートＣの移動は電動ステージによって自動的に行われる。

上部構造２に設けられたインキュベータ６は、ステージトップ型のインキュベータである。インキュベータ６は、ウェルプレートＣを支持する支持部６ａと、支持部６ａに対して相対的にスライドする蓋部６ｂと、を含んでいる。

支持部６ａは、ＸＹステージ４上に固定されているのに対して、蓋部６ｂは、上部構造２内において、観察位置に対応する所定位置に固定されている。このように構成されることで、ＸＹステージ４の移動により、支持部６ａに対して蓋部６ｂが開閉する構造が実現されている。より具体的には、ＸＹステージ４がウェルプレートＣを観察位置まで運ぶことで、ＸＹステージ４に固定された支持部６ａがＸＹステージ４とともに蓋部６ｂの下方まで移動する。この状態では、支持部６ａの上部開口は蓋部６ｂによって覆われ、また、支持部６ａの下部開口はウェルプレートＣによって覆われることになるため、インキュベータ６内にウェルプレートＣを含む密閉された空間が形成される。従って、観察装置１は、ウェルプレートＣが観察位置にある状態では、インキュベータ６によって管理された環境下で、ウェルプレートＣの各ウェル内の試料を撮影することができる。

観察装置１では、インキュベータ６により温度環境を制御することができる。蓋部６ｂの下側表面には、透明なヒーター膜が蒸着されている。図示しない温度制御器が蓋部６ｂに設けられたヒーター膜に通電することで、蓋部６ｂを閉じた状態におけるインキュベータ６の内部温度を制御することができる。なお、蓋部６ｂの大部分は、光を透過するガラスで構成されている。これにより、観察装置１は、透過照明を用いた観察（例えば、透過照明系８を用いた撮影）と落射照明を用いた観察（例えば、多光子励起顕微鏡１６を用いた撮影）の両方に対応可能となっている。また、ヒーター膜を透明に構成することで、観察への悪影響を回避しながら、温度環境を適切に制御することができる。

観察装置１では、インキュベータ６により湿度環境も制御可能である。支持部６ａは、水を貯える図示しない構造を有している。支持部６ａに水を貯えることで、蓋部６ｂを閉じた状態において、インキュベータ６内部に十分な湿度を与えることができる。

レボルバ９には、複数の対物レンズが装着されている。複数の対物レンズには、マクロ観察で使用される低倍の乾燥系の対物レンズ１１と、対物レンズ１１よりも高い倍率を有する対物レンズ１２が含まれていることが望ましい。なお、図１には、レボルバ９に２本の対物レンズが装着された様子が示されているが、レボルバ９には３本以上の対物レンズが装着されてもよい。対物レンズ１１と対物レンズ１２に加えて、より高倍の例えば２５倍の倍率を有する液浸対物レンズがレボルバ９に装着されてもよい。

対物レンズ１１は、例えば、縮小倍率、つまり、１倍未満の倍率を有してもよく、観察装置１は、対物レンズ１１を用いたマクロ観察によって、少ない撮影回数でウェルプレートＣ全体を撮影してもよい。なお、マクロ観察は、透過照明系８を用いて行われる。

対物レンズ１２は、液浸対物レンズであり、拡大倍率、例えば、１０倍の倍率を有し、浸液として水を利用する水浸対物レンズである。なお、対物レンズ１２は、油浸対物レンズであってもよい。対物レンズ１２は、屈折率ミスマッチを抑制して試料の深部まで良好に観察することが可能なため、多光子励起顕微鏡１６を用いた撮影に使用される。また、液浸対物レンズである対物レンズ１２は高い開口数を有し、試料からの光を効率良く取り込むことができる。このため、多光子励起顕微鏡１６を用いた撮影における対物レンズ１２の使用は、球面収差の抑制だけではなく、高い分解能とカメラの露光時間の短縮によるスループットの向上とを同時に実現可能といった点においても望ましい。

なお、多光子励起顕微鏡１６の構成については詳述しないが、多光子励起顕微鏡１６の落射照明系には、例えば、複数の異なる波長のレーザ光を出射する超短パルスレーザと、レーザ光で試料を走査するスキャナが含まれている。また、多光子励起顕微鏡１６の検出系には、レーザ光の照射によって試料から生じた蛍光を検出する２チャンネル以上のディテクタが設けられている。さらに、多光子励起顕微鏡１６には、オートフォーカスユニット１７が含まれていて、オートフォーカスユニット１７によって深さ方向（ｚ方向）の基準となるウェルプレートＣの底面を検出する。

対物レンズ１２への浸液の供給は、供給装置１５によって行われる。具体的には、給水ボトル２１内の浸液（水）は、ポンプ２２によって吸い上げられ、レボルバ９の中空な回転軸内を通り、対物レンズ１２に装着されたアダプタ１３に設けられたノズル２３から対物レンズ１２の先端に向けて吐出される。観察装置１では、対物レンズ１２の作動距離に応じた距離まで対物レンズ１２をウェルプレートＣの底面に近づけた状態で、供給装置１５が動作することで、ウェルプレートＣの底面と対物レンズ１２の間の空間が浸液で満たされる。

また、対物レンズ１２の先端から流れ落ちた浸液は、アダプタ１３に設けられた配管を介して排液される。より詳細には、対物レンズ１２の先端から流れ落ちた浸液は、アダプタ１３に設けられた配管から受け部１４へ落下し、受け部１４に接続された図示しないチューブを通って排水ボトルへ集められる。

観察位置での撮影終了後、ウェルプレートＣの底面に残存した浸液の除去は、除去装置１８によって行われる。除去装置１８は、撮影終了後に電動ステージがウェルプレートＣを観察位置から受け渡し位置まで運ぶ際に、電動ステージの動きを利用してウェルプレートＣの底面を走査する。これにより、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する。換言すると、除去装置１８は、ＸＹステージ４に置かれたウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する装置であって、ＸＹステージ４の移動によりウェルプレートＣの底面を走査するように構成されている。

除去装置１８は、昇降機１９と、ワイパー２０を含んでいる。昇降機１９は、ＸＹステージ４によって水平方向に移動するウェルプレートＣに干渉する干渉位置と、ウェルプレートＣに干渉しない退避位置とへ、ワイパー２０を昇降する。即ち、昇降機１９は、ワイパー２０を動かす移動装置の一例である。

より具体的には、昇降機１９は、観察位置から受け渡し位置までＸＹステージ４がウェルプレートＣを移動する期間中であって少なくともウェルプレートＣが干渉位置を通過する期間中、ワイパー２０を干渉位置に維持する。一方で、受け渡し位置から観察位置までＸＹステージ４がウェルプレートＣを移動する期間中、ワイパー２０を退避位置に維持する。

なお、ウェルプレートＣの底面の高さはウェルプレートＣの種類やメーカなどによってさまざまであり、その結果、干渉位置もウェルプレートＣによってさまざまである。このため、昇降機１９は、観察開始前にユーザによって観察装置１に入力されたウェルプレートＣの情報に基づいて、干渉位置を特定し、退避位置と特定された干渉位置へ適宜ワイパー２０を昇降することが望ましい。また、観察装置１は、ウェルプレートＣに付された識別情報に基づいてウェルプレートＣの情報を取得してもよく、昇降機１９は、識別情報から取得したウェルプレートＣの情報に基づいて、干渉位置を特定してもよい。

ワイパー２０は、浸液に干渉する干渉部材の一例である。ワイパー２０は、観察位置から受け渡し位置までＸＹステージ４がウェルプレートＣを移動する期間中に、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液に干渉する。ワイパー２０は、昇降機１９によって干渉位置まで持ち上げられることで、ＸＹステージ４とともに移動する浸液の移動を、観察位置と受け渡し位置の間の干渉位置で遮るように配置される。これにより、ＸＹステージ４がウェルプレートＣを観察位置から受け渡し位置まで移動する期間中に、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液がワイパー２０によってワイプされて底面から落下することで、底面から引き離される。

ワイパー２０は、例えば、シリコンゴムなどの弾性部材から構成され、ウェルプレートＣの底面に適度な力で押圧されることが望ましい。これにより、ウェルプレートＣとワイパー２０間に隙間を作ることなくワイパー２０がウェルプレートＣに接触する。このため、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を底面からしっかりと拭い去って底面から落下させることができる。また、ワイパー２０のウェルプレートＣと接触する面は曲面で構成されることが望ましい。これにより、圧力に応じてワイパー２０が適度に変形することで、ワイパー２０によってウェルプレートＣに過度な圧力が加わることを避けることができる。

ワイパー２０は、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液に干渉し、底面から液滴が落下しない程度に浸液を除去できればよい。このため、ワイパー２０は、必ずしもウェルプレートＣに接触しなくてもよく、ウェルプレートＣの底面とワイパー２０の間にはわずかな隙間があってもよい。

ワイパー２０は、ウェルプレートＣの大きさに応じた幅を有することが望ましい。より望ましくは、ワイパー２０は、ＸＹステージ４によってウェルプレートＣが移動する方向と直交する方向についてのウェルプレートＣの幅に対応する幅を有することが望ましい。例えば、図３に示すようにウェルプレートＣが長手方向に沿って移動する場合であれば、ワイパー２０はウェルプレートＣの短手方向の幅Ｄ１に対応する幅を有することが望ましい。また、図４に示すように、ウェルプレートＣが短手方向に沿って移動する場合であれば、ワイパー２０はウェルプレートＣの長手方向の幅Ｄ２に対応する幅を有することが望ましい。これにより、ワイパー２０が過度に大型化することを避けながらウェルプレートＣ底面全体を走査することができる。このため、効率良くウェルプレートＣの底面から浸液を除去することができる。

ワイパー２０は、図３及び図４に示すように、ＸＹステージ４の移動方向に対して傾斜して配置されることが望ましい。ワイパー２０を傾斜させることで、ワイパー２０によってウェルプレートＣ底面から除去された浸液に所定の流れを作ることができる。このため、浸液を所望の位置へ導いて効率良く回収することができる。

即ち、ワイパー２０は、ウェルプレートＣの大きさに応じた幅を有することが望ましいが、ワイパー２０の幅方向とＸＹステージ４の移動方向は必ずしも直交する必要はない。除去装置１８は、対物レンズ１２の光軸と直交し、且つ、ワイパー２０の幅の方向と交差する方向へのＸＹステージ４の移動によりウェルプレートＣの底面をワイパー２０で走査すればよい。

除去装置１８を用いることで、観察装置１は、観察位置から受け渡し位置への移動という従来から行われている動作を利用してウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。従って、観察装置１によれば、受け渡し位置へ達する前に浸液は底面から十分に除去されるため、受け渡し位置からウェルプレートＣを観察装置１外へ運ぶ際に浸液が底面から落下することを防止することができる。また、受け渡し位置でウェルプレートＣを取り出す際に浸液を落下させて床や机を汚してしまう心配がなくなる。また、観察装置１は、ウェルプレートＣの搬送ルートを変更することなく既存のルート上で浸液を除去することができる。このため、最適化された既存のルートによって実現される観察装置１の高いスループットを維持することもできる。従って、観察装置１によれば、スループットを犠牲にすることなく浸液を除去し、清掃等に要するユーザの負担を軽減することができる。

さらに、観察装置１では、除去装置１８は、ＸＹステージ４の移動を利用して底面を走査することでワイパー２０を水平方向に移動させる構造を必要としない。このため、除去装置１８は比較的コンパクトに構成可能であり、浸液を除去する機能の追加に伴う観察装置１の大型化を回避することができる。

図５から図１８は、観察装置１の動作を説明するための図である。以下、図５から図１８を参照しながら、観察装置１の動作を詳細に説明する。

図１に示すように、昇降機５上の受け渡し位置にウェルプレートＣが配置されると、観察装置１では、昇降機５が降下を開始する。昇降機５に載せられたウェルプレートＣは、図５に示すように、ウェルプレートＣの底面が支持部６ａに達するまで、昇降機５とともに観察装置１内部へ下降する。なお、開閉扉７は、例えば、ウェルプレートＣの底面が支持部６ａに達したタイミングで自動的に閉まってもよい。

図５に示す状態から昇降機５がさらに下降すると、昇降機５のみが下降を継続し、支持部６ａに支持されたウェルプレートＣは支持部６ａ上に留まる。昇降機５は、ＸＹステージ４が水平方向に移動するときに干渉しない位置まで下降し、その後、停止する。具体的には、昇降機５は、図６に示すように、昇降機５が上部構造２と下部構造３の境界面を構成する位置まで下降する。これにより、温度制御される上部構造２と温度制御されない下部構造３の間で生じる温度差に起因する熱の流れを抑制することができる。その結果として、ウェルプレートＣの上部と底部の間の温度差の発生を抑制することができる。

なお、底面が支持部６ａにまで達して支持部６ａに支持されたウェルプレートＣは、その後、支持部６ａにしっかりと保持される。支持部６ａに設けられた保持構造は、特に限定しないが、ウェルプレートＣは、例えば、支持部６ａに設けられた弾性力を有する当て付け機構により保持されてもよい。支持部６ａは、当て付け機構により、ウェルプレートＣを水平方向に挟み込んでもよく、さらに、鉛直方向に挟み込んでもよい。

昇降機５の下降が終了すると、ＸＹステージ４が水平方向に移動することで、図７に示すように、ウェルプレートＣが光軸ＡＸ上の観察位置まで運ばれる。この際、支持部６ａは、蓋部６ｂに設けられたクリック機構に嵌って固定される。

ウェルプレートＣが観察位置まで運ばれると、観察装置１は、まず、対物レンズ１１を用いてマクロ観察を行う。この際、図８に示すように、焦準部１０（図１参照）によってレボルバ９とともに対物レンズ１１を光軸ＡＸ方向に移動させることで、フォーカスを合わせる。

マクロ観察でウェルプレートＣ内の観察すべきウェルや試料が確認されると、ＸＹステージ４を微動して観察すべきウェルや試料を光軸ＡＸ上に位置付ける。さらに、レボルバ９を回転して、図９に示すように、光軸ＡＸ上に対物レンズ１２を配置する。その後、図１０に示すように、ノズル２３から浸液Ｌ（水）を吐出して対物レンズ１２とウェルプレートＣ底面の間を浸液Ｌで満たして、ミクロ観察を行う。なお、ミクロ観察は、ＸＹステージ４の移動により観察対象のウェルを変えながら繰り返し行われてもよい。

ミクロ観察が終了すると、まず、図１１に示すように、焦準部１０（図１参照）によって対物レンズをウェルプレートＣの底面から離れる方向に動かして退避する。このとき、さらに、レボルバ９を回転してマクロ観察用の対物レンズを光軸ＡＸ上に配置してもよい。

なお、対物レンズが退避すると、対物レンズとウェルプレートＣの間にあった浸液Ｌの一部は、対物レンズ側に流れ落ちる。対物レンズ側に流れ落ちた浸液Ｌは、アダプタ１３の配管、及び、受け部１４を通って排液される。残りの浸液Ｌは、図１１に示すように、ウェルプレートＣの底面に付着したまま残存する。なお、ウェルプレートＣの底面に付着している浸液Ｌは、ミクロ観察で観察対象となったウェル数が多いほど増加する傾向にある。

対物レンズの退避が完了すると、ＸＹステージ４は、昇降機５に向かって移動を開始し、図１２に示すように、ウェルプレートＣが除去装置１８上の位置に達すると、一旦停止する。

ＸＹステージ４が停止すると、図１３に示すように、昇降機１９がワイパー２０をウェルプレートＣの底面に接する干渉位置にまで持ち上げる。

ワイパー２０が干渉位置に配置されると、ＸＹステージ４は、昇降機５に向かって水平移動を再開する。ワイパー２０が干渉位置に配置された状態でＸＹステージ４が水平方向に移動することで、浸液が付着したウェルプレートＣの底面をワイパー２０が走査することになる。その結果、図１４に示すように、ワイパー２０によって浸液がワイプされて底面から落下し、図１５に示すように、受け部２４に溜まった浸液は、受け部２４に設けられた配管を通じてドレインタンクへ導かれる。

図１５に示すように、ウェルプレートＣの端までワイパー２０が達すると、その後、昇降機１９が下降し、図１６に示すように、ワイパー２０がウェルプレートＣの底面に接しない退避位置に移動する。

ワイパー２０が退避位置に移動すると、ＸＹステージ４が再び昇降機５に向かって移動を開始し、図１７に示すように、ウェルプレートＣが昇降機５の上方に達すると、ＸＹステージ４は停止する。

最後に、開閉扉７が開き、昇降機５が上昇を開始する。昇降機５は、支持部６ａからウェルプレートＣを受け取って、そのまま受け渡し位置までウェルプレートＣを持ち上げて停止する。その後、図１８に示すように、ウェルプレートＣはユーザやロボットアームなどによって観察装置１外へ移される。

以上のように、観察装置１によれば、観察位置から受け渡し位置へウェルプレートＣが移動する途中でワイパー２０によってウェルプレートＣの底面を走査することができる。このため、観察装置１のスループットを犠牲にすることなく、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。

また、観察装置１では、除去装置１８が干渉位置に配置されたワイパー２０を用いてウェルプレートＣの底面を走査する。従って、観察装置１によれば、ワイパー２０を適切な押圧力でウェルプレートＣに押し付けることで、ウェルプレートＣの底面の浸液を十分に除去することができる。また、底面を走査するためにワイパー２０は移動する必要がないため、除去装置１８をコンパクトに構成することができる。従って、観察装置１によれば、装置の大型化を回避しながら容器底面の浸液を除去することができる。

［第２の実施形態］
図１９は、本実施形態に係る観察装置１ａの構成を例示した図である。以下、図１９を参照しながら、観察装置１ａの構成のうち、第１の実施形態に係る観察装置１との相違点について説明する。

観察装置１ａは、観察装置１と同様に倒立型顕微鏡装置であり、試料を収容した容器の搬送から容器に収容された試料の撮影までを自動的に行う自動顕微鏡装置である。観察装置１ａは、除去装置１８の代わりに除去装置２５を備える点が、観察装置１とは異なっている。

除去装置２５は、撮影終了後に電動ステージがウェルプレートＣを観察位置から受け渡し位置まで運ぶ際に、電動ステージの動きを利用してウェルプレートＣの底面を走査する。これにより、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する。換言すると、除去装置２５は、ＸＹステージ４に置かれたウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する装置であって、ＸＹステージ４の移動によりウェルプレートＣの底面を走査するように構成されている。この点については、除去装置２５は、除去装置１８と同様である。

除去装置２５は、ロール状に巻かれた紙であるロール紙２６と、昇降機２７と、複数のローラ（ローラ２８、ローラ２９、ローラ３０）と、排紙部３１を含んでいる。ロール紙２６は、複数のローラに架け渡されていて、排紙部３１までに延びている。ロール紙２６は、観察位置から受け渡し位置までＸＹステージ４がウェルプレートＣを移動する期間中に、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液に干渉する干渉部材の一例である。従って、除去装置２５は、干渉部材を含む点についても除去装置１８と同様である。また、ロール紙２６は、ウェルプレートＣの大きさに応じた幅を有することが望ましい点については、除去装置１８に含まれる干渉部材であるワイパー２０と同様である。

ロール紙２６は、吸液部材の一例であり、ロール状に巻かれている。ロール紙２６は、ＸＹステージ４とともに移動する浸液を、観察位置と受け渡し位置の間の所定位置で吸収するように配置される。ロール紙２６は、ウェルプレートＣに過度な圧力を加えることなく毛細管現象を利用して底面に付着した浸液を効率良く吸収することができる。この点において、除去装置２５は、干渉部材として浸液を所定位置で遮るように配置されたワイパー２０を有する除去装置１８とは異なっている。

昇降機２７は、ローラ２８を昇降することで、干渉部材であるロール紙２６を干渉位置と退避位置へ移動させる。また、昇降機２７は、観察開始前にユーザによって観察装置１ａに入力されたウェルプレートＣの情報に基づいて、ウェルプレートＣに応じて高さの異なっている干渉位置を特定し、退避位置と特定された干渉位置へ適宜ロール紙２６を移動させてもよい。この点は、昇降機２７は、除去装置１８の昇降機１９と同様である。

除去装置２５に含まれる複数のローラ（ローラ２８、ローラ２９、ローラ３０）のうち少なくとも１つ（例えば、ローラ３０）は駆動ローラとして構成され、ロール紙２６を巻き取る巻取装置として機能する。なお、巻き取られたロール紙２６は排紙部３１に出力される。

駆動ローラは、ＸＹステージ４の移動に応じてロール紙２６を巻き取ることが望ましい。これにより、ウェルプレートＣ底面の浸液を吸収したロール紙２６の部分がウェルプレートＣの移動に合わせて巻き取られることになるため、浸液を吸収していないロール紙２６の部分が新たなに干渉位置に到達したウェルプレートＣの底面に接することになる。従って、ロール紙２６の吸水力が不足してしまい、ウェルプレートＣ底面の浸液を十分に吸収できないといった事態を回避することができる。

除去装置２５を用いることで、観察装置１ａは、観察装置１と同様に、観察位置から受け渡し位置への移動という従来から行われている動作を利用してウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。従って、観察装置１ａによっても、観察装置１と同様の効果を得ることができる。

また、観察装置１ａでは、ロール紙２６の毛細管現象を利用して浸液を除去するため、ワイパー２０でウェルプレートＣ底面を拭うことによって浸液を除去する観察装置１とは異なり、繰り返し観察が行われた場合であってもウェルプレートＣ底面を傷つけてしまう虞がない。このため、観察装置１ａによれば、ウェルプレートＣの傷を原因とする光学性能の劣化を回避することができるため、繰り返し観察した場合でも安定した性能で観察を行うことができる。

図２０から図２７は、観察装置１ａの動作を説明するための図である。以下、図２０から図２７を参照しながら、観察位置での撮影終了後の観察装置１ａの動作について詳細に説明する。

対物レンズ１２とウェルプレートＣ底面の間を浸液Ｌで満たして行うミクロ観察が終了すると、焦準部１０（図１９参照）によって対物レンズをウェルプレートＣの底面から離れる方向に動かして退避する。これにより、図２０に示すように、ウェルプレートＣの底面に浸液が付着した状態が生じる。

その後、ＸＹステージ４は、昇降機５に向かって移動を開始し、図２１に示すように、ウェルプレートＣが除去装置２５上の位置に達すると、一旦停止する。

ＸＹステージ４が停止すると、図２２に示すように、昇降機２７は、ローラ２８を持ち上げることで、ローラ２８の上面におけるロール紙２６を、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液に接触する干渉位置まで移動する。

ロール紙２６が干渉位置に配置されると、ロール紙２６は、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液の吸収を開始する。その後、ＸＹステージ４は、図２３に示すように、昇降機５に向かって水平移動を再開する。このとき、ローラ２８もＸＹステージ４の移動量に合わせて回転を開始し、ウェルプレートＣの移動量とロール紙２６の搬送量が凡そ一致するようにロール紙２６を巻き取る。これにより、浸液を吸収したロール紙２６が排紙部３１に向かって排出されるとともに、干渉位置に到達したウェルプレートＣの底面の浸液が新たに繰り出されたロール紙２６によって吸収される。

図２４に示すように、ウェルプレートＣの端までロール紙２６が達すると、その後、昇降機２７が下降し、図２５に示すように、ＸＹステージ４が再び昇降機５に向かって移動する。そして、図２６に示すように、ウェルプレートＣが昇降機５の上方に達すると、ＸＹステージ４は停止する。

最後に、開閉扉７が開き、昇降機５が上昇を開始する。昇降機５は、支持部６ａからウェルプレートＣを受け取って、そのまま受け渡し位置までウェルプレートＣを持ち上げて停止する。その後、図２７に示すように、ウェルプレートＣはユーザやロボットアームなどによって観察装置１ａ外へ移される。

以上のように、観察装置１ａによれば、観察位置から受け渡し位置へウェルプレートＣが移動する途中でロール紙２６によってウェルプレートＣの底面を走査することができる。このため、観察装置１ａのスループットを犠牲にすることなく、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。

また、観察装置１ａでは、除去装置２５が干渉位置に配置されたロール紙２６を用いてウェルプレートＣの底面を走査する。従って、観察装置１ａによれば、浸液の除去に当たり、ウェルプレートＣ底面を傷つける虞がない。従って、観察装置１ａによれば、同じウェルプレートＣを用いて繰り返し観察が行われた場合であっても、安定した性能で観察を行うことができる。

なお、観察装置１ａでは、干渉部材としてロール紙２６を例示したが、観察装置１ａで用いられる干渉部材はロール紙２６に限らない。浸液を吸収する部材であればよく、例えば、タオルや布などであってもよい。

［第３の実施形態］
図２８は、本実施形態に係る観察装置１ｂの構成を例示した図である。以下、図２８を参照しながら、観察装置１ｂの構成のうち、第２の実施形態に係る観察装置１ａとの相違点について説明する。

観察装置１ｂは、観察装置１ａと同様に、倒立型顕微鏡装置であり、試料を収容した容器の搬送から容器に収容された試料の撮影までを自動的に行う自動顕微鏡装置である。観察装置１ｂは、除去装置２５の代わりに除去装置３２を備える点が、観察装置１ａとは異なっている。

除去装置３２は、ローラ２８がバネ３３に支持されている点が除去装置２５とは異なっている。その他の点は、除去装置２５と同様である。第２の実施形態では、ウェルプレートＣの底面の高さがウェルプレートＣの種類やメーカなどによってさまざまであることに配慮して、ウェルプレートＣの情報に基づいてウェルプレートＣに応じた干渉位置を特定する例を示したが、本実施形態では、このような干渉位置を特定する制御処理を省略してもよい。観察装置１ｂによれば、バネ３３の伸縮によりウェルプレートＣの底面の高さの違いを吸収することができるため、干渉位置をウェルプレートＣに応じて積極的に制御する処理を省略することができる。

なお、ロール紙２６はワイパー２０などに比べて薄く、従って、わずかなウェルプレートＣの底面の高さに違いによってローラ２８がロール紙２６を介してウェルプレートＣと衝突しやすい。このため、観察装置１ｃにおいても、観察装置１ｂと同様に、ウェルプレートＣに応じて干渉位置を積極的に制御する処理を行ってもよい。ウェルプレートＣに応じて干渉位置を積極的に制御する処理を行った上で、さらにローラ２８をバネ３３で支持することで、過度な圧力がウェルプレートＣに加わってしまう事態をより確実に回避することができる。

［第４の実施形態］
図２９は、本実施形態に係る観察装置１ｃの構成を例示した図である。以下、図２９を参照しながら、観察装置１ｃの構成のうち、第１の実施形態に係る観察装置１との相違点について説明する。

観察装置１ｃは、観察装置１と同様に、倒立型顕微鏡装置であり、試料を収容した容器の搬送から容器に収容された試料の撮影までを自動的に行う自動顕微鏡装置である。観察装置１ｃは、除去装置１８の代わりに除去装置３４を備える点が、観察装置１とは異なっている。

除去装置３４は、撮影終了後に電動ステージがウェルプレートＣを観察位置から受け渡し位置まで運ぶ際に、電動ステージの動きを利用してウェルプレートＣの底面を走査する。これにより、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する。換言すると、除去装置３４は、ＸＹステージ４に置かれたウェルプレートＣの底面に付着した浸液を除去する装置であって、ＸＹステージ４の移動によりウェルプレートＣの底面を走査するように構成されている。この点については、除去装置３４は、除去装置１８と同様である。

除去装置３４は、送風機３５を含んでいる。送風機３５は、観察位置から受け渡し位置までＸＹステージ４がウェルプレートＣを移動する期間中に、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液にガスを吹き付ける。除去装置３４は、送風機３５のノズル３６から噴出したガスをＸＹステージ４で搬送中のウェルプレートＣの底面に吹き付けることでウェルプレートＣの底面に付着した浸液を吹き飛ばして除去する。吹き飛ばされた浸液は、受け部３７に設けられた配管を通じて排水ボトルに集められる。

送風機３５は、例えば、コンプレッサーであるが、浸液が除去できる限り、ファンやブロワなどのコンプレッサーに比べて圧力の低い送風機であってもよい。送風機３５の噴出口を構成するノズル３６は、ウェルプレートＣの大きさに応じた幅を有し、除去装置３４は、対物レンズ１２の光軸と直交し、且つ、ノズル３６の幅の方向と交差する方向へのＸＹステージ４の移動により、ウェルプレートＣの底面を噴出口から噴出したガスで走査する。これにより、ウェルプレートＣの底面全体がガスで走査されるため、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を十分に除去することができる。

また、ノズル３６は、所定方向に向けられた状態で固定されている。ノズル３６から噴出したガスの気流が、少なくとも観察位置から受け渡し位置へ向かうウェルプレートＣの移動方向とは逆のベクトル成分を含むように、予めノズル３６の向きを決定して固定することが望ましい。これにより、ウェルプレートＣが移動する力を利用して効率良くウェルプレートＣの底面の浸液を除去することが可能となる。

除去装置３４を用いることで、観察装置１ｃは、観察装置１と同様に、観察位置から受け渡し位置への移動という従来から行われている動作を利用してウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。従って、観察装置１ｃによっても、観察装置１と同様の効果を得ることができる。

なお、以上では、ノズル３６が固定されている例を示したが、ウェルプレートＣに応じてノズル３６の位置を調整する構造が設けられてもよく、ウェルプレートＣに応じて最適な気流がウェルプレートＣの底面に吹き付けられてもよい。また、ノズル３６を固定したままで送風機３５から噴出されるガスの流速をウェルプレートＣに応じて制御してもよい。

図３０から図３３は、観察装置１ｃの動作を説明するための図である。以下、図３０から図３３を参照しながら、観察位置での撮影終了後の観察装置１ｃの動作について詳細に説明する。

対物レンズ１２とウェルプレートＣ底面の間を浸液Ｌで満たして行うミクロ観察が終了すると、焦準部１０（図２９参照）によって対物レンズをウェルプレートＣの底面から離れる方向に動かして退避する。これにより、図３０に示すように、ウェルプレートＣの底面に浸液Ｌが付着した状態が生じる。

その後、ＸＹステージ４が昇降機５に向かって移動を開始すると同時に、送風機３５が送気を開始する。これにより、図３１に示すように、ノズル３６から噴出したガスがウェルプレートＣの底面に付着した浸液を底面から徐々に引きはがし、図３２に示すように、最終的にウェルプレートＣの底面全体から浸液が除去される。その後、送風機３５は、送気を停止する。ＸＹステージ４は、引き続きウェルプレートＣを昇降機５に向かって移動し、図３３に示すように、ウェルプレートＣが昇降機５の上方に達すると、ＸＹステージ４は停止する。

最後に、開閉扉７が開き、昇降機５が上昇を開始する。昇降機５は、支持部６ａからウェルプレートＣを受け取って、そのまま受け渡し位置までウェルプレートＣを持ち上げて停止する。その後、ウェルプレートＣはユーザやロボットアームなどによって観察装置１ｃ外へ移される。

以上のように、観察装置１ｃによれば、観察位置から受け渡し位置へウェルプレートＣが移動中にガスによってウェルプレートＣの底面を走査することができる。このため、観察装置１ｃのスループットを犠牲にすることなく、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を液滴が落下しない程度に除去することができる。

また、観察装置１ｃでは、ガスで浸液を吹き飛ばすことで浸液を除去するため、観察装置１ａや観察装置１ｂと同様に、浸液の除去に当たりウェルプレートＣ底面を傷つける虞がない。従って、観察装置１ｃによれば、同じウェルプレートＣを用いて繰り返し観察が行われた場合であっても、安定した性能で観察を行うことができる。

［第５の実施形態］
図３４は、本実施形態に係る観察装置１ｄの構成を例示した図である。以下、図３４を参照しながら、観察装置１ｄの構成のうち、第１の実施形態に係る観察装置１との相違点について説明する。

観察装置１ｄは、観察装置１と同様に、倒立型顕微鏡装置であり、試料を収容した容器の搬送から容器に収容された試料の撮影までを自動的に行う自動顕微鏡装置である。観察装置１ｄは、除去装置１８の代わりにアダプタ１３に取り付けられたワイパー３８を含む点が、観察装置１とは異なっている。また、観察装置１ｄは、観察対象のウェルを変更するためにＸＹステージ４を移動する際に、ワイパー３８を用いてウェルプレートＣの底面に付着している浸液を除去する点が、観察装置１とは異なっている。

ワイパー３８は、除去装置１８のワイパー２０に相当する干渉部材であり、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液に干渉する。ワイパー３８は、対物レンズ１２を用いたミクロ観察中にウェルプレートＣの底面に接触するように配置されている。また、ワイパー３８は、ＸＹステージ４とともに移動する浸液の移動を遮るように、アダプタ１３を介して対物レンズ１２に取り付けられている。即ち、観察装置１ｄでは、ワイパー３８が取り付けられたアダプタ１３が除去装置に相当する。

なお、図３４では、対物レンズ１２の光軸に対して対象な位置で２つのワイパー３８がアダプタ１３に取り付けられている例を示したが、ワイパー３８の数や配置はこの例に限らない。ＸＹステージ４は、観察するウェルを変更するために様々な方向に移動する。観察対象のウェルを変更するための移動中にも浸液を除去することができれば、ウェルプレートＣの底面に付着した浸液の大部分を除去可能である。従って、ワイパー３８は、ＸＹステージ４が移動し得る様々な方向に配置されてもよい。また、ワイパー３８は、対物レンズ１２の取り囲む環状形状を有してもよい。環状形状のワイパー３８を設けることでＸＹステージ４の移動方向によらず浸液を除去することができる。

以上のように構成された観察装置１ｄによっても、観察対象のウェルを変更するために従来から行われている動作を利用してウェルプレートＣ底面に付着した浸液を除去することができる。従って、観察装置１ｄによっても、観察装置１と同様の効果を得ることができる。

図３５から図３７は、観察装置１ｄの動作を説明するための図である。以下、図３５から図３７を参照しながら、観察位置での撮影終了後の観察装置１ｄの動作について詳細に説明する。

図３５は、対物レンズ１２とウェルプレートＣ底面の間を浸液Ｌで満たした状態で行う、所定のウェルに対するミクロ観察が終了した状態を示している。このとき、ワイパー３８はウェルプレートＣの底面に接触している。

その後、次のウェルに対するミクロ観察の位置へＸＹステージ４を移動する場合、対物レンズ１２を退避することなくＸＹステージ４の移動が行われる。このため、ＸＹステージ４とともにウェルプレートＣの底面に付着して移動する浸液Ｌは、図３６に示すように、ウェルプレートＣの底面に干渉しているワイパー３８によってその移動が遮られる。

その結果、ワイパー３８に遮られた浸液Ｌは、図３７に示すように、ウェルプレートＣの底面から落下して、アダプタ１３に設けられた配管及び受け部１４を通じて排水ボトルへ導かれる。

以上のように、観察装置１ｄによれば、観察対象のウェルを変更するためのＸＹステージ４の移動中にワイパー３８によってウェルプレートＣの底面を走査することができる。このため、観察装置１ｄのスループットを犠牲にすることなく、ウェルプレートＣ底面に付着した浸液を除去することができる。

なお、観察装置１ｄでは、ワイパー３８がウェルプレートＣに接触する例を示したが、観察装置１のワイパー２０と同様に、ワイパー３８はウェルプレートＣの底面に付着した浸液に干渉すればよく、ワイパー３８は必ずしもウェルプレートＣの底面に接触しなくてもよい。ワイパー３８と底面の間にわずか隙間が形成されるようにワイパー３８はアダプタ１３に取り付けられてもよい。

上述した実施形態は、発明の理解を容易にするために具体例を示したものであり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。上述の実施形態を変形した変形形態および上述した実施形態に代替する代替形態が包含され得る。つまり、各実施形態は、その趣旨および範囲を逸脱しない範囲で構成要素を変形することが可能である。また、１つ以上の実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることにより、新たな実施形態を実施することができる。また、各実施形態に示される構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよく、または実施形態に示される構成要素にいくつかの構成要素を追加してもよい。さらに、各実施形態に示す処理手順は、矛盾しない限り順序を入れ替えて行われてもよい。即ち、本発明の倒立顕微鏡装置は、特許請求の範囲の記載を逸脱しない範囲において、さまざまな変形、変更が可能である。

例えば、観察装置１の除去装置１８と観察装置１ｄのワイパー３８の両方を備えるように、観察装置は構成されてもよい。これにより、観察装置は、ウェル間を移動中と、観察位置から受け渡し位置への移動中の両方で浸液を除去することができる。

１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ 観察装置
２ 上部構造
３ 下部構造
４ ＸＹステージ
５、１９、２７ 昇降機
６ インキュベータ
６ａ 支持部
６ｂ 蓋部
７ 開閉扉
８ 透過照明系
９ レボルバ
１０ 焦準部
１１、１２ 対物レンズ
１３ アダプタ
１４、２４、３７ 受け部
１５ 供給装置
１６ 多光子励起顕微鏡
１７ オートフォーカスユニット
１８、２５、３２、３４ 除去装置
２０、３８ ワイパー
２１ 給水ボトル
２２ ポンプ
２３、３６ ノズル
２６ ロール紙
２８、２９、３０ ローラ
３１ 排紙部
３３ バネ
３５ 送風機
Ｃ ウェルプレート
Ｄ１、Ｄ２ 幅
Ｌ 浸液
Ｗ ウェル

Claims (10)

1. 液浸対物レンズと、
   少なくとも前記液浸対物レンズの光軸と直交する方向に移動する電動ステージと、
   前記電動ステージに置かれた容器の底面に付着した浸液を除去する除去手段と、を備え、
   前記除去手段は、前記電動ステージの移動により前記底面を走査するように構成される
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
2. 請求項１に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、浸液に干渉する干渉部材を含み、
   前記干渉部材は、前記液浸対物レンズの光軸上の観察位置から前記容器を前記倒立顕微鏡装置に置くための受け渡し位置まで、前記電動ステージが前記容器を移動する期間中に、前記容器の前記底面に付着した浸液に干渉する
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
3. 請求項２に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、前記干渉部材としてワイパーを含み、
   前記ワイパーは、前記電動ステージとともに移動する前記浸液の移動を、前記観察位置と前記受け渡し位置の間の所定位置で遮るように配置される
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
4. 請求項２に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、前記干渉部材として吸液部材を含み、
   前記吸液部材は、前記電動ステージとともに移動する前記浸液を、前記観察位置と前記受け渡し位置の間の所定位置で吸収するように配置される
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
5. 請求項４に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記吸液部材は、ロール状に巻かれていて、
   前記除去手段は、さらに、前記吸液部材を巻き取る巻取装置を備え、
   前記巻取装置は、前記電動ステージの移動に応じて前記吸液部材を巻き取る
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
6. 請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、前記干渉部材を動かす移動装置を備え、
   前記移動装置は、
   前記観察位置から前記受け渡し位置まで前記電動ステージが前記容器を移動する期間中であって少なくとも前記容器が干渉位置を通過する期間中、前記干渉部材を前記干渉位置に維持し、
   前記受け渡し位置から前記観察位置まで前記電動ステージが前記容器を移動する期間中、前記干渉部材を退避位置に維持する
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
7. 請求項１に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、前記容器の前記底面に付着した浸液に干渉する干渉部材として、ワイパーを含み、
   前記ワイパーは、前記電動ステージとともに移動する前記浸液の移動を遮るように、前記液浸対物レンズに取り付けられる
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
8. 請求項２乃至請求項７のいずれか１項に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記干渉部材は、前記容器の大きさに応じた幅を有し、
   前記除去手段は、前記液浸対物レンズの光軸と直交し、且つ、前記幅の方向と交差する方向への前記電動ステージの移動により、前記底面を前記干渉部材で走査する
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
9. 請求項１に記載の倒立顕微鏡装置において、
   前記除去手段は、送風機を含み、
   前記送風機は、前記液浸対物レンズの光軸上の観察位置から前記容器を前記倒立顕微鏡装置に設置するための受け渡し位置まで前記電動ステージが前記容器を移動する期間中に、前記容器の前記底面に付着した浸液にガスを吹き付ける
   ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。
10. 請求項９に記載の倒立顕微鏡装置において、
    前記送風機の噴出口は、前記容器の大きさに応じた幅を有し、
    前記除去手段は、前記液浸対物レンズの光軸と直交し、且つ、前記幅の方向と交差する方向への前記電動ステージの移動により、前記底面を前記送風機の前記噴出口から噴出したガスで走査する
    ことを特徴とする倒立顕微鏡装置。

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