JP2022165236A - 磁気冷凍システム - Google Patents
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Abstract
【課題】単位時間あたりの磁場作用回数を大きくすることができる磁気冷凍システムを提供する。【解決手段】磁気冷凍システム10は、一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質13と、磁気作業物質13に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石11と、第一の磁石11による磁気作業物質13への磁場印加をシールド可能な第二の磁石12と、第二の磁石12を回転させる回転軸20と、を備える。【選択図】図2
Description
本発明は、磁気冷凍システムに関する。
脱炭素社会に向けたエネルギー源として、太陽光・風力・水力等の自然エネルギーの他、水素の利用が考えられている。水素をエネルギー源として活用するには、安定した製造・運搬・貯蔵のサプライチェーンが構築される必要がある。水素をエネルギー源として運搬・貯蔵する場合、エネルギー密度の高い液化水素を利用することが望ましい。
近年、磁性体のエントロピーと温度の依存性から生じる熱交換(磁気熱量効果)を利用した高効率な水素液化技術が開発されている。磁気熱量効果を利用することで、一定温度で磁気作業物質に磁場を印加した際に磁気モーメントが整列してエントロピーが減少する状態と、断熱状態にして磁場を取り除くことで外部から熱を吸収して磁気モーメントが不均一となりエントロピーが増加する状態を繰り返すことで冷却することが可能となる。
近年、磁性体のエントロピーと温度の依存性から生じる熱交換(磁気熱量効果)を利用した高効率な水素液化技術が開発されている。磁気熱量効果を利用することで、一定温度で磁気作業物質に磁場を印加した際に磁気モーメントが整列してエントロピーが減少する状態と、断熱状態にして磁場を取り除くことで外部から熱を吸収して磁気モーメントが不均一となりエントロピーが増加する状態を繰り返すことで冷却することが可能となる。
磁気熱量効果を利用した磁気冷凍装置では、磁気作業物質に対して磁場を印加する状態(励磁)と磁場を取り除いた状態(消磁)を繰り返すこと、および、磁気作業物質と熱交換する作業流体の制御が必要である。
特許文献1には、ギャップを介して磁界を発生する磁界発生手段と、印加磁界の変化により温度変化する磁気熱量効果を有する磁気作業物質が充填され当該磁気作業物質に媒体を通過させることにより熱交換する熱交換器と、磁気作業物質をギャップ中に配設するように調整制御することにより磁界発生手段が磁界を磁気作業物質に印加する第1状態と、磁気作業物質以外の磁気通過物質をギャップ中に配設するように調整制御することにより磁界発生手段により磁気作業物質に印加された磁界を低減する第2状態と、に繰り返し制御する制御手段と、を備える磁気式温度調整装置が記載されている。特許文献1記載の磁気式温度調整装置では、磁石が回転体に備えられ、回転位置に応じて磁気作業物質の励磁および消磁が繰り返される。
エネルギー源として液体水素を利用するためには、大容量の水素を効率よく液化し、安定した供給を確保することが必要である。そのため磁気熱量効果を利用した水素液化装置には、大量の磁気作業物質に対し、高い磁場での励磁/消磁が求められ、かつ、単位時間あたりの磁場作用回数を増やすことが求められる。すなわち、水素と熱交換するために磁気冷凍材料に磁場を印加する(磁場体積)×(磁場強度)×(単位時間あたりの磁場切替)を大きくすることが求められる。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、単位時間あたりの磁場作用回数を大きくすることができる磁気冷凍システムを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の磁気冷凍システムは、一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質と、前記磁気作業物質に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石と、前記第一の磁石による前記磁気作業物質への磁場印加をシールド可能な第二の磁石と、前記第二の磁石を回転させる回転軸と、を備えることを特徴とする。
本発明のその他の態様については、後記する実施形態において説明する。
本発明のその他の態様については、後記する実施形態において説明する。
本発明によれば、単位時間あたりの磁場作用回数を大きくすることができる磁気冷凍システムを提供する。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1および図2は、本発明の第1の実施形態に係る磁気冷凍システム10を模式的に示す軸方向断面図である。図1は、磁気冷凍システム10の<励磁・排熱時>の軸方向断面図であり、図2は、磁気冷凍システム10の<消磁・吸熱時>の軸方向断面図である。
図3A,B,Cは、磁気冷凍システム10の<励磁・排熱時>の円周方向断面図であり、図3Aは、図1のA-A断面図、図3Bは、図1のB-B断面図、図3Cは、図1のC-C断面図である。
図4A,B,Cは、磁気冷凍システム10の<消磁・吸熱時>の円周方向断面図であり、図4Aは、図2のA-A断面図、図4Bは、図2のB-B断面図、図4Cは、図2のC-C断面図である。
(第1の実施形態)
図1および図2は、本発明の第1の実施形態に係る磁気冷凍システム10を模式的に示す軸方向断面図である。図1は、磁気冷凍システム10の<励磁・排熱時>の軸方向断面図であり、図2は、磁気冷凍システム10の<消磁・吸熱時>の軸方向断面図である。
図3A,B,Cは、磁気冷凍システム10の<励磁・排熱時>の円周方向断面図であり、図3Aは、図1のA-A断面図、図3Bは、図1のB-B断面図、図3Cは、図1のC-C断面図である。
図4A,B,Cは、磁気冷凍システム10の<消磁・吸熱時>の円周方向断面図であり、図4Aは、図2のA-A断面図、図4Bは、図2のB-B断面図、図4Cは、図2のC-C断面図である。
[磁気冷凍システムの構成]
図1~図4に示すように、磁気冷凍システム10は、一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質13と、磁気作業物質13に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石11と、第一の磁石11による磁気作業物質13への磁場印加をシールド可能な第二の磁石12(図2、図4B参照)と、第二の磁石12を回転させる回転軸20と、を備える。
図1~図4に示すように、磁気冷凍システム10は、一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質13と、磁気作業物質13に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石11と、第一の磁石11による磁気作業物質13への磁場印加をシールド可能な第二の磁石12(図2、図4B参照)と、第二の磁石12を回転させる回転軸20と、を備える。
第一の磁石11は、励磁コイルであり、一様磁界を生成する。第一の磁石11は、永久磁石、または、永久電流モード運転の超電導磁石である。第一の磁石11は、ヨークを兼ねたフレーム21に備えられる。本実施形態では、第一の磁石11は、それぞれ同じ寸法・形状(円環状)のものである。
第二の磁石12は、遮蔽コイルであり、磁気作業物質13および磁気作業物質13に印加される磁界を遮蔽する。第二の磁石12は、環状のコイルである。第二の磁石12は、回転軸20に備えられる(第二の磁石12は回転軸20の拡径した部分(円板状又は鍔状の部分)に固定されている)。本実施形態では、第二の磁石12も、それぞれ同じ寸法・形状(円環状)のものである。
第一の磁石11および第二の磁石12は、例えば超電導線材で構成されたコイルである。ちなみに、図3Aや図4A等などでは、図1等における第一の磁石11や第二の磁石12の断面を図示している。
第一の磁石11および第二の磁石12は、例えば超電導線材で構成されたコイルである。ちなみに、図3Aや図4A等などでは、図1等における第一の磁石11や第二の磁石12の断面を図示している。
磁気作業物質13は、磁気熱量効果を奏する磁性体(例えば、Mn3GaN、MnAs)である。磁気作業物質13は、ブロック化して構成されている。
磁気作業物質13は、第一の磁石11と軸方向で対向する位置に配置される。
磁気作業物質13は、磁気作業物質13と熱交換する作業流体を流す吸排気通路である冷媒配管14の中に置かれる。作業流体である冷媒として、例えば水素が用いられる。
磁気作業物質13は、第一の磁石11と軸方向で対向する位置に配置される。
磁気作業物質13は、磁気作業物質13と熱交換する作業流体を流す吸排気通路である冷媒配管14の中に置かれる。作業流体である冷媒として、例えば水素が用いられる。
図3A,B,Cおよび図4A,B,Cに示すように、第一の磁石11と磁気作業物質13は、回転軸20の同軸上に重ねて同数配置される。第二の磁石12は、図3Bに示すように、回転方向(図3Bの矢印17参照)に回転軸20と共に回転する。
図3A,B,Cは、磁気作業物質13が励磁されている状態の図1のA-A断面図、図1のB-B断面図、1のC-C断面図を示す。
図4A,B,Cは、磁気作業物質13が消磁されている状態の図2のA-A断面図、図2のB-B断面図、図2のC-C断面図を示す。
図4A,B,Cは、磁気作業物質13が消磁されている状態の図2のA-A断面図、図2のB-B断面図、図2のC-C断面図を示す。
このように、磁気冷凍システム10は、第一の磁石11、第二の磁石12、および、磁気作業物質13が、回転軸20の軸方向で各層に分かれている。また、各層に分かれている、第一の磁石11、第二の磁石12、および、磁気作業物質13が、同心円状に(かつ、本実施形態では等間隔で)配置される。
[磁気冷凍システム内の磁束の流れ]
磁気冷凍システム10内の磁束の流れについて説明する。
図5および図6は、磁気冷凍システム10内の磁束の流れを示す模式図であり、図5は、図1の<励磁・排熱時>の磁束の流れ(矢印30参照)を示し、図6は、図2の<消磁・吸熱時>の磁束の流れ(矢印31参照)を示す。
図5に示す<励磁・排熱時>の状態時、図3Cに示す方向(矢印15参照)に作業流体(冷媒)を流すことで排熱する。また、図6に示す<消磁・吸熱時>の状態時、図4Cに示す方向(矢印16参照)に作業流体を流すことで吸熱する。作業流体の熱は、図示しない熱交換器によって熱交換される。上記、磁気作業物質13の励磁/消磁を切り替えにより、磁気冷凍システム10が構築される。
磁気冷凍システム10内の磁束の流れについて説明する。
図5および図6は、磁気冷凍システム10内の磁束の流れを示す模式図であり、図5は、図1の<励磁・排熱時>の磁束の流れ(矢印30参照)を示し、図6は、図2の<消磁・吸熱時>の磁束の流れ(矢印31参照)を示す。
図5に示す<励磁・排熱時>の状態時、図3Cに示す方向(矢印15参照)に作業流体(冷媒)を流すことで排熱する。また、図6に示す<消磁・吸熱時>の状態時、図4Cに示す方向(矢印16参照)に作業流体を流すことで吸熱する。作業流体の熱は、図示しない熱交換器によって熱交換される。上記、磁気作業物質13の励磁/消磁を切り替えにより、磁気冷凍システム10が構築される。
[磁気作業物質の励磁/消磁を切り替える原理説明]
磁気作業物質13の励磁/消磁を切り替える原理について説明する。
図7A-Fは、第一の磁石11、第二の磁石12および磁気作業物質13の位置関係を示す模式図である。図8は、図7A-Fに示す第一の磁石11、第二の磁石12および磁気作業物質13の位置関係において、磁気作業物質13に印加される磁界の状態および第二の磁石12に流れる電流I(A)の関係を示すタイミングチャートである。
磁気作業物質13の励磁/消磁を切り替える原理について説明する。
図7A-Fは、第一の磁石11、第二の磁石12および磁気作業物質13の位置関係を示す模式図である。図8は、図7A-Fに示す第一の磁石11、第二の磁石12および磁気作業物質13の位置関係において、磁気作業物質13に印加される磁界の状態および第二の磁石12に流れる電流I(A)の関係を示すタイミングチャートである。
図7A-Fにおいて、一点鎖線の符号40は、第一の磁石11の左端内側と第二の磁石12の内側(先頭側)が一致する位置を示す。同様に、符号41は、磁気作業物質13の左端と第二の磁石12の内側(先頭側)が一致する位置を示し、符号42は、磁気作業物質13の右端と第二の磁石12の内側(先頭側)が一致する位置を示す。また、符号43は、第一の磁石11の左端内側と第二の磁石12の内側(後方側)が一致する位置を示し、符号43は、第一の磁石11の右端外側と第二の磁石12の内側(先頭側)が一致する位置を示す。また、第二の磁石12は、回転軸20の回転により図7A-Fの矢印17に示す方向に移動する。
図8において、T0は、第二の磁石12が位置(図7A-Fの符号40参照)に在る時刻を示し、T1は、第二の磁石12が位置(図7A-Fの符号41参照)に在る時刻を示す。T2は、第二の磁石12が位置(図7A-Fの符号42参照)に在る時刻を示し、T3は、第二の磁石12が位置(図7A-Fの符号43参照)に在る時刻を示し、T4は、第二の磁石12が位置(図7A-Fの符号44参照)に在る時刻を示す。また、図8の符号50は、磁気作業物質13に印加される磁束を示し、図8の符号51は、第二の磁石12に流れる電流を示す。
図7Aに示すように、第二の磁石12が位置(図7Aの符号40参照)に在るとき(図8の時刻T0参照)、磁気作業物質13は磁界が印加された状態(図8の符号50参照)である。
次に図7Bに示すように、回転軸20の回転によって、第二の磁石12が位置(図7Bの符号41参照)まで移動する間(図8の時刻T0~T1参照)、第二の磁石12内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図8の符号51のI(A:ampere)参照)が流れるが、磁気作業物質13には磁界が印加された状態(図8の符号50のB(T:tesla)参照)が保持される。
次に図7Bから図7Dに示すように、第二の磁石12が位置(図7B-Dの符号41参照)から位置(図7B-Dの符号43参照)に移動している間(図8の時刻T1~T3参照)、磁気作業物質13に印加させる磁束が第二の磁石12が生成する磁束と相殺され、磁気作業物質13に印加される磁束はゼロになり、消磁された状態(図8の符号50のB=0(T)参照)になる。
次に図7Dから図7Eに示すように、第二の磁石12が位置(図7Dの符号43参照)から位置(図7Eの符号44参照)に移動している間(図8の時刻T3~T4参照)、第二の磁石12内の磁束は変化しないため、第二の磁石12の電流(図8の符号51のI=0(A)参照)はゼロになり、磁気作業物質13は再び磁界が印加された状態(図8の符号50のB(T)参照)となる。
次に図7Fに示すように、第二の磁石12が位置(図7Fの符号44参照)から移動し、第一の磁石11の下から出ていく間(図8の時刻T4以降参照)、第二の磁石12内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図8の符号51の-I(A)参照)が流れる。
このように、磁気冷凍システム10は、第一の磁石11が生成する一様磁場中に磁気作業物質13が配置され、回転軸20の回転によって、第二の磁石12がこの一様磁場の外および中を交互に移動する。つまり、空間磁場に対し、第二の磁石12を移動させ、ゼロ磁場を生成する。
第二の磁石12が生成する磁束の中を磁気作業物質13が出入りする(消磁⇔励磁)と、磁気モーメントが乱雑状態と整列状態が繰り返され、エントロピー差分の吸熱(冷却)が生じる。磁気作業物質13(磁性体)に励磁/消磁(ゼロ磁場)を繰返すことで冷凍サイクルを実現する。
第二の磁石12が生成する磁束の中を磁気作業物質13が出入りする(消磁⇔励磁)と、磁気モーメントが乱雑状態と整列状態が繰り返され、エントロピー差分の吸熱(冷却)が生じる。磁気作業物質13(磁性体)に励磁/消磁(ゼロ磁場)を繰返すことで冷凍サイクルを実現する。
以上説明したように、磁気冷凍システム10は、一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質13と、磁気作業物質13に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石11と、第一の磁石11による磁気作業物質13への磁場印加をシールド可能な第二の磁石12と、第二の磁石12を回転させる回転軸20と、を備える。
すなわち、磁気冷凍システム10は、第一の磁石11(磁場発生部)および磁気作業物質13(磁性体)を固定し、第二の磁石12(消磁コイル/遮蔽コイル)のみを可動させ、ゼロ磁場を生成させる。
すなわち、磁気冷凍システム10は、第一の磁石11(磁場発生部)および磁気作業物質13(磁性体)を固定し、第二の磁石12(消磁コイル/遮蔽コイル)のみを可動させ、ゼロ磁場を生成させる。
特許文献1の装置では、磁性体の消磁は補助磁性体に磁束を集中させることで実現しているため、構造が複雑で機械的接触部分による損失、信頼性・耐久性低下がある。
これに対して、本実施形態では、第二の磁石12(消磁コイル/遮蔽コイル)のみを回転させればよく、ゼロ磁場生成が容易である。また、多段構成とすることが可能である。その結果、磁気冷凍による大容量水素液化システムを実現できる。
磁気冷凍システム10は、第二の磁石12のみを可動させ、第一の磁石11および磁気作業物質13は固定するという構造上の利点から、第一の磁石11の磁石に、超電導磁石を用いることが容易である。第一の磁石11の磁石に、超電導磁石を用いることで、大きな磁場空間、磁場強度を実現することができる。
磁気冷凍システム10は、第一の磁石11、第二の磁石12、および、磁気作業物質13が、回転軸20の軸方向で各層に分かれている回転型とし、第二の磁石12(消磁コイル/遮蔽コイル)を回転軸20に備えることで、シールド効果を利用して高速に磁束をオンオフさせることができる。すなわち、第二の磁石12のみの可動であり、かつ、この可動が回転軸20による回転によるものであるため、高速に磁束をオンオフさせることができる。その結果、単位時間あたりの磁場作用回数を大きくすることができる。
本実施形態では、第一の磁石11、第二の磁石12および磁気作業物質13を同数としたが、第一の磁石11と磁気作業物質13が同数であればよく、第二の磁石12の数は変更可能である。ただし、第二の磁石12の個数は、第一の磁石11と同数、または、整数倍が望ましい。
(第2の実施形態)
図9は、本発明の第2の実施形態に係る磁気冷凍システム10を模式的に示す軸方向断面図である。
第2の実施形態の磁気冷凍システム10A,10B,10Cは、図1に示す磁気冷凍システム10が、回転軸20の同軸上に多段(ここでは三段)配置される。すなわち、第2の実施形態の磁気冷凍システム10は、一段目の磁気冷凍システム10Aと、二段目の磁気冷凍システム10Bと、三段目の磁気冷凍システム10Cと、を備える。各段の磁気冷凍システム10A,10B,10Cは、同一構成であり、対応する部材には同一符号(ただし、添え字a,b,cで区別)を付している。
図9は、本発明の第2の実施形態に係る磁気冷凍システム10を模式的に示す軸方向断面図である。
第2の実施形態の磁気冷凍システム10A,10B,10Cは、図1に示す磁気冷凍システム10が、回転軸20の同軸上に多段(ここでは三段)配置される。すなわち、第2の実施形態の磁気冷凍システム10は、一段目の磁気冷凍システム10Aと、二段目の磁気冷凍システム10Bと、三段目の磁気冷凍システム10Cと、を備える。各段の磁気冷凍システム10A,10B,10Cは、同一構成であり、対応する部材には同一符号(ただし、添え字a,b,cで区別)を付している。
図10A,B,Cは、第2の実施形態に係る磁気冷凍システム10を複数段重ねる際の各段の構成例である。図3Aおよび図4Aと同一構成部分には同一符号を付している。
図10Aは、一段目の磁気冷凍システム10Aの第一の磁石11aの配置を、図10Bは、二段目の磁気冷凍システム10Bの第一の磁石11bの配置を、図10Cは、三段目の磁気冷凍システム10Cの第一の磁石11cの配置を、それぞれ示している。
図10Aは、一段目の磁気冷凍システム10Aの第一の磁石11aの配置を、図10Bは、二段目の磁気冷凍システム10Bの第一の磁石11bの配置を、図10Cは、三段目の磁気冷凍システム10Cの第一の磁石11cの配置を、それぞれ示している。
一段目の磁気冷凍システム10Aの第一の磁石11aと軸方向で対向する位置に、磁気作業物質13(図3Cおよび図4C参照)が配置される。二段目の磁気冷凍システム10Bの第一の磁石11bと軸方向で対向する位置に、磁気作業物質13(図示省略)が配置され、三段目の磁気冷凍システム10Cの第一の磁石11Cと軸方向で対向する位置に、磁気作業物質13(図示省略)が配置される。
図10Aに示す一段目の磁気冷凍システム10Aの第一の磁石11aおよびその磁気作業物質13(図3Cおよび図4C参照)と、図10Bに示す二段目の磁気冷凍システム10Bの第一の磁石11bおよびその磁気作業物質13(図示省略)と、図10Cに示す三段目の磁気冷凍システム10Cの第一の磁石11cおよびその磁気作業物質13(図示省略)とは、軸方向において位置が回転して(各段で位相を変えて)配置される。
図10Aに示す第一の磁石11aおよびその磁気作業物質13(図3Cおよび図4C参照)の配置を、基準座標(0(rad))(図10Aの符号60参照)とする。この基準座標(0(rad))からの回転角を、基準座標から回転させる角度(例えばπ/6(rad))(図10Bの符号61参照)、角度(例えばπ/3(rad))(図10Cの符号62参照)とする。
図10A,B,Cに示すように、第2の実施形態に係る磁気冷凍システム10は、各段の磁気冷凍システム10A,10B,10Cにおいて、第一の磁石11および磁気作業物質13の位相を変える構成を採る。この構成により、回転軸20を回転させる際のコギングを低減することが可能となる。
各段の位相差(θ)は、第一の磁石11の個数(α)および段数(β)を用いて次式(1)で求める。図9の例では、α=4,β=3であり、各段はπ/6(rad)の位相差を設けている。
θ=2π/αβ(rad) …(1)
ここで、各段の磁束の流れは、図5および図6で示したように独立しており、共通の回転軸20を用いて磁気冷凍システム10を構築することが可能である。
θ=2π/αβ(rad) …(1)
ここで、各段の磁束の流れは、図5および図6で示したように独立しており、共通の回転軸20を用いて磁気冷凍システム10を構築することが可能である。
第2の実施形態の磁気冷凍システム10は、回転型かつ多段とすることで大容量水素液化装置を実現することができる。
各段の磁気冷凍システム10A,10B,10Cにおいて、第一の磁石11および磁気作業物質13の位相をずらすことで、回転軸20を回転させる際のコギングを低減し、小さな力で回転させることができる。
各段の磁気冷凍システム10A,10B,10Cにおいて、第一の磁石11および磁気作業物質13の位相をずらすことで、回転軸20を回転させる際のコギングを低減し、小さな力で回転させることができる。
(第3の実施形態)
図11A,B,Cは、本発明の第3の実施形態に係る磁気冷凍システムを模式的に示す軸方向断面図である。図4A,B,Cと同一構成部分には同一符号を付して重複部分の説明を省略する。
第3の実施形態の磁気冷凍システムは、第二の磁石12の個数を、図4Bに示す4個から、図11Bに示す8個に変更した例である。
図11Bに示すように、第3の実施形態の磁気冷凍システムは、図4Bに示す第二の磁石12と同様の位置に、第二の磁石12Aを配置すると共に、第二の磁石12Aに対してπ/4ずらした位置に第二の磁石12Bを配置する。この構成により、第二の磁石12Aと第二の磁石12Bとは、同心円状で均等かつ交互に8個が配置される。
図11A,B,Cは、本発明の第3の実施形態に係る磁気冷凍システムを模式的に示す軸方向断面図である。図4A,B,Cと同一構成部分には同一符号を付して重複部分の説明を省略する。
第3の実施形態の磁気冷凍システムは、第二の磁石12の個数を、図4Bに示す4個から、図11Bに示す8個に変更した例である。
図11Bに示すように、第3の実施形態の磁気冷凍システムは、図4Bに示す第二の磁石12と同様の位置に、第二の磁石12Aを配置すると共に、第二の磁石12Aに対してπ/4ずらした位置に第二の磁石12Bを配置する。この構成により、第二の磁石12Aと第二の磁石12Bとは、同心円状で均等かつ交互に8個が配置される。
図12A-Fは、第一の磁石11、第二の磁石12A、第二の磁石12Bおよび磁気作業物質13の位置関係を示す模式図である。図7A-Fと同様の表記をしている。図12A-Fの右図が、第一の磁石11、第二の磁石12Aおよび磁気作業物質13の位置関係を示し、図12A-Fの左図が、第一の磁石11、第二の磁石12Bおよび磁気作業物質13の位置関係を示す。
図13は、図12A-Fに示す第一の磁石11、第二の磁石12A、第二の磁石12Bおよび磁気作業物質13の位置関係において、磁気作業物質13に印加される磁界B(T)の状態、第二の磁石12Aおよび第二の磁石12Bに流れる電流I(A)の関係を示すタイミングチャートである。
図12A-Fにおいて、一点鎖線の符号40は、第一の磁石11の左端内側と第二の磁石12A,12Bの内側(先頭側)が一致する位置を示す。同様に、符号41は、磁気作業物質13の左端と第二の磁石12A,12Bの内側(先頭側)が一致する位置を示し、符号42は、磁気作業物質13の右端と第二の磁石12A,12Bの内側(先頭側)が一致する位置を示す。また、符号43は、第一の磁石11の左端内側と第二の磁石12A,12Bの内側(後方側)が一致する位置を示し、符号43は、第一の磁石11の右端外側と第二の磁石12A,12Bの内側(先頭側)が一致する位置を示す。
図13の中段図において、T0Aは、第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号40参照)に在る時刻を示し、T1Aは、第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号41参照)に在る時刻を示す。T2Aは、第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号42参照)に在る時刻を示し、T3Aは、第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号43参照)に在る時刻を示し、T4Aは、第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号44参照)に在る時刻を示す。図13の中段図の符号51Aは、第二の磁石12Aに流れる電流I(A)を示す。
図13の下段図において、T0Bは、第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号40参照)に在る時刻を示し、T1Bは、第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号41参照)に在る時刻を示す。T2Bは、第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号42参照)に在る時刻を示し、T3Bは、第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号43参照)に在る時刻を示し、T4Bは、第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号44参照)に在る時刻を示す。図13の下段図の符号51Bは、第二の磁石12Bに流れる電流I(A)を示す。
図13の上段図の符号50は、磁気作業物質13に印加される磁束B(T)を示している。
図13の上段図の符号50は、磁気作業物質13に印加される磁束B(T)を示している。
図12Aに示すように、第二の磁石12Aが位置(図12Aの符号40参照)に在るとき(図13の中段図の時刻T0A参照)、磁気作業物質13は磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50参照)である。
次に図12Bに示すように、第二の磁石12Aが位置(図12Bの符号41参照)まで移動する間(図13の中段図の時刻T0A~T1A参照)、第二の磁石12A内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図13の中段図の符号51AのI(A)参照)が流れるが、磁気作業物質13には磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50のB(T)参照)が保持される。
次に図12Bから図12Dに示すように、第二の磁石12Aが位置(図12B-Dの符号41参照)から位置(図12B-Dの符号43参照)に移動している間(図12の中段図の時刻T1A~T3A参照)、磁気作業物質13に印加させる磁束が第二の磁石12Aが生成する磁束と相殺され、磁気作業物質13に印加される磁束はゼロになり、消磁された状態(図13の中段図の符号50のB=0(T)参照)になる。
次に図12Dから図12Eに示すように、第二の磁石12Aが位置(図12Dの符号43参照)から位置(図12Eの符号44参照)に移動している間(図13の中段図の時刻T3A~T4A参照)、第二の磁石12A内の磁束は変化しないため、第二の磁石12Aの電流(図13の中段図の符号51AのI=0(A)参照)はゼロになり、磁気作業物質13は再び磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50のB(T)参照)となる。
次に図12Fに示すように、第二の磁石12Aが位置(図12Fの符号44参照)から移動し、第一の磁石11の下から出ていく間(図13の中段図の時刻T4Aから時刻T0Bに続く参照)、第二の磁石12A内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図13の中段図の符号51Aの-I(A)参照)が流れる。
第二の磁石12Aが第一の磁石11を通過後、第二の磁石12Bが再び第一の磁石11へ侵入し、第二の磁石12Aが移動したときと同様な順序で磁気作業物質13の励磁/消磁が切り替わる。
すなわち、図12Aに示すように、第二の磁石12Bが位置(図12Aの符号40参照)に在るとき(図13の下段図の時刻T0参照)、磁気作業物質13は磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50参照)である。
次に図12Bに示すように、第二の磁石12Bが位置(図12Bの符号41参照)まで移動する間(図13の下段図の時刻T0B~T1B参照)、第二の磁石12B内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図13の下段図の符号51BのI(A)参照)が流れるが、磁気作業物質13には磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50のB(T)参照)が保持される。
次に図12Bから図12Dに示すように、第二の磁石12Bが位置(図12B-Dの符号41参照)から位置(図12B-Dの符号43参照)に移動している間(図12の下段図の時刻T1B~T3B参照)、磁気作業物質13に印加させる磁束が第二の磁石12Bが生成する磁束と相殺され、磁気作業物質13に印加される磁束はゼロになり、消磁された状態(図12の上段図の符号50のB=0(T)参照)になる。
次に図12Dから図12Eに示すように、第二の磁石12が位置(図12Dの符号43参照)から位置(図12Eの符号44参照)に移動している間(図13の下段図の時刻T3B~T4B参照)、第二の磁石12B内の磁束は変化しないため、第二の磁石12の電流(図13の下段図の符号51BのI=0(A)参照)はゼロになり、磁気作業物質13は再び磁界が印加された状態(図13の上段図の符号50のB(T)参照)となる。
次に図12Fに示すように、第二の磁石12Bが位置(図12Fの符号44参照)から移動し、第一の磁石11の下から出ていく間(図13の下段図の時刻T4B以降参照)、第二の磁石12B内の磁束変化を打ち消す方向に電流(図13の下段図の符号51Bの-I(A)参照)が流れる。
第3の実施形態の磁気冷凍システムは、磁気冷凍システム複数個において、各段の第一の磁石11および磁気作業物質13の個数、および/または、第二の磁石12の個数を異ならせる(本実施形態では、第二の磁石12の個数を8個に変更)ことで、図8と図13のタイミングチャートを比較して分かるように、より少ない回転軸20の回転により、高速に磁束をオンオフさせることができる。その結果、単位時間あたりの磁場作用回数をより一層大きくすることができる。
本発明は上記の各実施形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、他の変形例、応用例を含む。
また、ある実施形態例の構成の一部を他の実施形態例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態例の構成に他の実施形態例の構成を加えることも可能である。また、各実施形態例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
また、ある実施形態例の構成の一部を他の実施形態例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態例の構成に他の実施形態例の構成を加えることも可能である。また、各実施形態例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
10 磁気冷凍システム
10a,10b,10c 各段の磁気冷凍システム
11 第一の磁石
12,12A,12B 第二の磁石
13 磁気作業物質
14 冷媒配管
20 回転軸
21 フレーム
30 磁束の流れ(励磁時)
31 磁束の流れ(消磁時)
40 第一の磁石左端内側と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
41 磁気作業物質の左端と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
42 磁気作業物質の右端と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
43 第一の磁石左端内側と第二の磁石内側(後方側)が一致する位置
44 第一の磁石右端外側と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
50 磁気作業物質に印加される磁束
51,51A,51B 第二の磁石に流れる電流
60 基準座標
61,62 磁気冷凍システムを基準座標から回転させる角度
T0 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号40)に在る時刻
T1 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号41)に在る時刻
T2 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号42)に在る時刻
T3 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号43)に在る時刻
T4 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号44)に在る時刻
T0A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号40)に在る時刻
T1A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号41)に在る時刻
T2A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号42)に在る時刻
T3A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号43)に在る時刻
T4A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号44)に在る時刻
T0B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号40)に在る時刻
T1B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号41)に在る時刻
T2B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号42)に在る時刻
T3B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号43)に在る時刻
T4B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号44)に在る時刻
10a,10b,10c 各段の磁気冷凍システム
11 第一の磁石
12,12A,12B 第二の磁石
13 磁気作業物質
14 冷媒配管
20 回転軸
21 フレーム
30 磁束の流れ(励磁時)
31 磁束の流れ(消磁時)
40 第一の磁石左端内側と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
41 磁気作業物質の左端と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
42 磁気作業物質の右端と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
43 第一の磁石左端内側と第二の磁石内側(後方側)が一致する位置
44 第一の磁石右端外側と第二の磁石内側(先頭側)が一致する位置
50 磁気作業物質に印加される磁束
51,51A,51B 第二の磁石に流れる電流
60 基準座標
61,62 磁気冷凍システムを基準座標から回転させる角度
T0 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号40)に在る時刻
T1 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号41)に在る時刻
T2 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号42)に在る時刻
T3 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号43)に在る時刻
T4 第二の磁石が位置(図7A-Fの符号44)に在る時刻
T0A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号40)に在る時刻
T1A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号41)に在る時刻
T2A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号42)に在る時刻
T3A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号43)に在る時刻
T4A 第二の磁石12Aが位置(図12A-Fの符号44)に在る時刻
T0B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号40)に在る時刻
T1B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号41)に在る時刻
T2B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号42)に在る時刻
T3B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号43)に在る時刻
T4B 第二の磁石12Bが位置(図12A-Fの符号44)に在る時刻
Claims (9)
- 一様磁場中に配置された磁気熱量効果を有する磁気作業物質と、
前記磁気作業物質に対し磁場を印加する位置に配置され、一様磁場を生成する第一の磁石と、
前記第一の磁石による前記磁気作業物質への磁場印加をシールド可能な第二の磁石と、
前記第二の磁石を回転させる回転軸と、を備える
ことを特徴とする磁気冷凍システム。 - 前記第一の磁石が、永久磁石、または、永久電流モード運転の超電導磁石である
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気冷凍システム。 - 前記第二の磁石が、環状のコイルである
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気冷凍システム。 - 前記第一の磁石、前記第二の磁石、および、前記磁気作業物質が、前記回転軸の軸方向で各層に分かれている
ことを特徴とする請求項1に記載の磁気冷凍システム。 - 前記各層に分かれている、前記第一の磁石、前記第二の磁石、および、前記磁気作業物質が、同心円状に配置される
ことを特徴とする請求項4に記載の磁気冷凍システム。 - 請求項1に記載の磁気冷凍システムを複数個、前記回転軸の軸方向に重ねて各段に配置する
ことを特徴とする磁気冷凍システム。 - 請求項6に記載の磁気冷凍システムを複数個配置した場合において、各段の前記第一の磁石および前記磁気作業物質の個数を異ならせる
ことを特徴とする磁気冷凍システム。 - 請求項6に記載の磁気冷凍システムを複数個配置した場合において、各段の前記第二の磁石の個数を異ならせる
ことを特徴とする磁気冷凍システム。 - 請求項6に記載の磁気冷凍システムを複数個配置した場合において、各段の前記第一の磁石および前記磁気作業物質の個数と段数とに基づいて、各段の前記第一の磁石および前記磁気作業物質の位相を変更する
ことを特徴とする磁気冷凍システム。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021070508A JP2022165236A (ja) | 2021-04-19 | 2021-04-19 | 磁気冷凍システム |
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KR20160003693A (ko) * | 2013-05-08 | 2016-01-11 | 바스프 에스이 | 자기 냉각 장치를 위한 회전 자기 차폐 시스템의 용도 |
GB201321088D0 (en) * | 2013-11-29 | 2014-01-15 | Oxford Instr Nanotechnology Tools Ltd | Cryogenic cooling apparatus and system |
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2022
- 2022-03-24 WO PCT/JP2022/014026 patent/WO2022224695A1/ja active Application Filing
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WO2022224695A1 (ja) | 2022-10-27 |
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