JP2022161630A - 表面処理組成物 - Google Patents
表面処理組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022161630A JP2022161630A JP2021066578A JP2021066578A JP2022161630A JP 2022161630 A JP2022161630 A JP 2022161630A JP 2021066578 A JP2021066578 A JP 2021066578A JP 2021066578 A JP2021066578 A JP 2021066578A JP 2022161630 A JP2022161630 A JP 2022161630A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- component
- surface treatment
- treatment composition
- structural unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims abstract description 103
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 claims abstract description 109
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical group C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 41
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 41
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 76
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 52
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 45
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 38
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 33
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 claims description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 82
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 42
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 28
- -1 3-Sulfopropyl Chemical group 0.000 description 25
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 23
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 22
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 20
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical group C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 16
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 11
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 6,7-dimethoxy-3,4-dihydronaphthalene-2-carboxylic acid Chemical compound C1CC(C(O)=O)=CC2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 WIYVVIUBKNTNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 230000003699 hair surface Effects 0.000 description 7
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 6
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000002453 shampoo Substances 0.000 description 6
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 6
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BCAIDFOKQCVACE-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azaniumyl]propane-1-sulfonate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)CCCS([O-])(=O)=O BCAIDFOKQCVACE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 5
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 5
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC DENRZWYUOJLTMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Chemical class 0.000 description 3
- 239000002184 metal Chemical class 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSZRUEAFVQITHH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl 2-(trimethylazaniumyl)ethyl phosphate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C ZSZRUEAFVQITHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSMWMVVVPBPVPX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butanedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C(O)=O)CC(O)=O JSMWMVVVPBPVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RESQVPCTJIALIE-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CC(=C)C(O)=O RESQVPCTJIALIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUZRRICLUFMAQD-UHFFFAOYSA-N N-Methyltaurine Chemical compound CNCCS(O)(=O)=O SUZRRICLUFMAQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 2
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 229940008406 diethyl sulfate Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000118 hair dye Substances 0.000 description 2
- 239000003676 hair preparation Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N methylparaben Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 LXCFILQKKLGQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 2
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- NEXZVOLIDKSFBH-UHFFFAOYSA-N (1,1-diphenyl-2-phosphonooxyethyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(COP(O)(O)=O)(OC(=O)C(=C)C)C1=CC=CC=C1 NEXZVOLIDKSFBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIOTLGRXFJRTJ-UHFFFAOYSA-N (1,1-diphenyl-2-phosphonooxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C=C)(COP(O)(=O)O)C1=CC=CC=C1 YRIOTLGRXFJRTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIRHAGAOHOYLNO-UHFFFAOYSA-N (3-cyclopentyloxy-4-methoxyphenyl)methanol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1OC1CCCC1 JIRHAGAOHOYLNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(C)=C1 LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxyethane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)OC1=CC=CC=C1 NKVCQMYWYHDOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 2-[hydroxy-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phosphoryl]oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(=O)OCCOC(=O)C(C)=C NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQGWPPQNIZBTBM-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethanol;sulfuric acid Chemical compound NCCO.OS(O)(=O)=O IQGWPPQNIZBTBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacrylic acid Chemical compound OC(=C)C(O)=O FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)C#N RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 108010020346 Polyglutamic Acid Proteins 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002260 anti-inflammatory agent Substances 0.000 description 1
- 229940121363 anti-inflammatory agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BKUYVGOACRJHQO-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid;sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O.OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 BKUYVGOACRJHQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229940106189 ceramide Drugs 0.000 description 1
- 150000001783 ceramides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWJAMLIFNZMKEW-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfate;2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOS(=O)(=O)OCC.CN(C)CCOC(=O)C(C)=C HWJAMLIFNZMKEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-O dimethylaminium Chemical compound C[NH2+]C ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N ethenyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC=C BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(O)=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011147 magnesium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004292 methyl p-hydroxybenzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010270 methyl p-hydroxybenzoate Nutrition 0.000 description 1
- CAAULPUQFIIOTL-UHFFFAOYSA-L methyl phosphate(2-) Chemical compound COP([O-])([O-])=O CAAULPUQFIIOTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960002216 methylparaben Drugs 0.000 description 1
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002643 polyglutamic acid Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004300 potassium benzoate Substances 0.000 description 1
- 235000010235 potassium benzoate Nutrition 0.000 description 1
- 229940103091 potassium benzoate Drugs 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000011083 sodium citrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000008234 soft water Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011782 vitamin Substances 0.000 description 1
- 235000013343 vitamin Nutrition 0.000 description 1
- 229940088594 vitamin Drugs 0.000 description 1
- 229930003231 vitamin Natural products 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
【課題】高い親水化効果を有し、さらに毛髪への適用においては毛髪のシュリンクを抑制することができる表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、及び該表面処理組成物を用いる表面処理方法を提供する。【解決手段】次の成分(A)及び成分(B):(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー、(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマーを含有する、表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、及び、該表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含む表面処理方法である。【選択図】なし
Description
本発明は、表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、該表面処理組成物を用いる表面処理方法に関する。
従来、固体表面の処理方法としては、親水化処理、撥水化処理といった固体表面の濡れを制御する方法が知られている。中でも、固体表面の親水化処理は、固体表面の水に対する接触角を低下させ、固体表面を水に対して濡れ易くすることにより、該処理後の固体表面に汚れが付着した際には、汚れが洗浄時に落ち易くなる効果や汚れの再付着を防止する効果が期待できる他、ガラス、鏡等の防曇、帯電防止、熱交換器のアルミニウムフィンの着霜防止、浴槽及びトイレ表面等の防汚性付与等の効果が期待できるため、様々な産業分野で用いられ、固体表面の処理及び方法の検討が進められてきた。
例えば、特許文献1では、優れた親水化能力を長期間発揮する親水化処理剤を含有する親水化処理組成物の提供を目的として、ベタイン基を含む構成単位と芳香族基を有する構成単位とを含む共重合体、アニオン性界面活性剤及び水を含有する親水化処理剤組成物が記載されている。
ここで、毛髪化粧料の分野においては、毛髪の収縮(シュリンク)により、毛髪がまとまり難くなるといった毛髪の扱い難さが問題となることがある。
特に洗髪直後の濡れた髪の状態では望ましいヘアスタイルが保たれている場合であっても、毛髪の乾燥に伴い毛髪の長さ方向におけるシュリンクが発生し、理想とする長さやボリューム等のヘアスタイルに仕上がらないことがある。
本発明者らの研究によれば、毛髪が濡れた状態では毛髪間に存在する水により毛髪同士を引きつけるメニスカス力が発生し、このメニスカス力によりシュリンクが抑制されているが、毛髪の乾燥により毛髪間のメニスカス力が小さくなることによりシュリンクが発生することが判明した。毛髪間のメニスカス力は、毛髪表面の水に対する接触角を低下させることにより増大させることができる。そのため、毛髪等の固体表面に高い親水性を付与することができる表面処理組成物が求められている。特に、毛髪表面は疎水性が強いキューティクル片が積層した構造を有する一方で、キューティクル片のエッジ付近は親水性であるため、毛髪表面には疎水的な部位と親水的な部位とが混在し、これらの部位を共に親水化することが求められる。
しかしながら、特許文献1の技術では、種々の固体表面に親水性を付与することができるものの、特に毛髪への適用においては、親水化効果が未だ十分でなく、表面処理組成物の親水化効果の更なる向上が求められている。
本発明は、高い親水化効果を有し、さらに毛髪への適用においては毛髪のシュリンクを抑制することができる表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、及び該表面処理組成物を用いる表面処理方法を提供することを課題とする。
特に洗髪直後の濡れた髪の状態では望ましいヘアスタイルが保たれている場合であっても、毛髪の乾燥に伴い毛髪の長さ方向におけるシュリンクが発生し、理想とする長さやボリューム等のヘアスタイルに仕上がらないことがある。
本発明者らの研究によれば、毛髪が濡れた状態では毛髪間に存在する水により毛髪同士を引きつけるメニスカス力が発生し、このメニスカス力によりシュリンクが抑制されているが、毛髪の乾燥により毛髪間のメニスカス力が小さくなることによりシュリンクが発生することが判明した。毛髪間のメニスカス力は、毛髪表面の水に対する接触角を低下させることにより増大させることができる。そのため、毛髪等の固体表面に高い親水性を付与することができる表面処理組成物が求められている。特に、毛髪表面は疎水性が強いキューティクル片が積層した構造を有する一方で、キューティクル片のエッジ付近は親水性であるため、毛髪表面には疎水的な部位と親水的な部位とが混在し、これらの部位を共に親水化することが求められる。
しかしながら、特許文献1の技術では、種々の固体表面に親水性を付与することができるものの、特に毛髪への適用においては、親水化効果が未だ十分でなく、表面処理組成物の親水化効果の更なる向上が求められている。
本発明は、高い親水化効果を有し、さらに毛髪への適用においては毛髪のシュリンクを抑制することができる表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、及び該表面処理組成物を用いる表面処理方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、少なくともベタイン基とカチオン性基を含むカチオン性ポリマー、及び少なくともベタイン基とアニオン性基を含むアニオン性ポリマーを含有する表面処理組成物により、前記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は下記[1]~[3]を提供する。
[1]次の成分(A)及び成分(B):
(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー
(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマー
を含有する、表面処理組成物。
[2]前記[1]に記載の表面処理組成物を含有する、毛髪処理剤。
[3]前記[1]に記載の表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含む、表面処理方法。
すなわち、本発明は下記[1]~[3]を提供する。
[1]次の成分(A)及び成分(B):
(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー
(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマー
を含有する、表面処理組成物。
[2]前記[1]に記載の表面処理組成物を含有する、毛髪処理剤。
[3]前記[1]に記載の表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含む、表面処理方法。
本発明によれば、高い親水化効果を有し、さらに毛髪への適用においては毛髪のシュリンクを抑制することができる表面処理組成物、該表面処理組成物を含有する毛髪処理剤、及び該表面処理組成物を用いる表面処理方法を提供することができる。
[表面処理組成物]
本発明の表面処理組成物は、次の成分(A)及び成分(B):
(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー
(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマー
を含有する。
本発明の表面処理組成物は、次の成分(A)及び成分(B):
(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー
(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマー
を含有する。
本発明によれば、高い親水化効果を有し、さらに毛髪への適用においては毛髪のシュリンクを抑制することができる。このような効果を奏する理由は定かではないが、以下のように考えられる。
本発明の表面処理組成物を処理対象物に適用することにより、成分(A)のカチオン性基と成分(B)のアニオン性基の作用により形成されたポリイオンコンプレックスを処理対象物の表面に効果的に吸着させることができ、成分(A)及び成分(B)の親水的なベタイン基により処理対象物に高い親水性を付与することができると考えられる。
そして、本発明の表面処理組成物の毛髪への適用においては、上記のとおりポリイオンコンプレックスが処理対象物である毛髪の表面に効果的に吸着し、成分(A)及び成分(B)の親水的なベタイン基により毛髪表面に高い親水性を付与することができ、これにより毛髪間のメニスカス力が増大し、毛髪のシュリンクを抑制することができると考えられる。
本発明の表面処理組成物を処理対象物に適用することにより、成分(A)のカチオン性基と成分(B)のアニオン性基の作用により形成されたポリイオンコンプレックスを処理対象物の表面に効果的に吸着させることができ、成分(A)及び成分(B)の親水的なベタイン基により処理対象物に高い親水性を付与することができると考えられる。
そして、本発明の表面処理組成物の毛髪への適用においては、上記のとおりポリイオンコンプレックスが処理対象物である毛髪の表面に効果的に吸着し、成分(A)及び成分(B)の親水的なベタイン基により毛髪表面に高い親水性を付与することができ、これにより毛髪間のメニスカス力が増大し、毛髪のシュリンクを抑制することができると考えられる。
<成分(A)>
成分(A)は、少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマーであり、全体としてカチオン性を示す。
本発明において「ベタイン基」とは、カチオン部位とアニオン部位とを有する官能基であって、該官能基全体としては電荷をもたない官能基を意味する。
ベタイン基のカチオン部位とは、正電荷を帯びた原子団であり、好ましくはカチオン性基である。
本発明において「カチオン性基」とは、カチオン基、又は、イオン化されてカチオン基になり得る基をいう。カチオン性基としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、第四級アンモニウム基が挙げられる。これらの中でも、成分(A)のベタイン基のカチオン部位は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは第四級アンモニウム基である。
成分(A)は、少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマーであり、全体としてカチオン性を示す。
本発明において「ベタイン基」とは、カチオン部位とアニオン部位とを有する官能基であって、該官能基全体としては電荷をもたない官能基を意味する。
ベタイン基のカチオン部位とは、正電荷を帯びた原子団であり、好ましくはカチオン性基である。
本発明において「カチオン性基」とは、カチオン基、又は、イオン化されてカチオン基になり得る基をいう。カチオン性基としては、第一級アミノ基、第二級アミノ基、第三級アミノ基、第四級アンモニウム基が挙げられる。これらの中でも、成分(A)のベタイン基のカチオン部位は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは第四級アンモニウム基である。
ベタイン基のアニオン部位とは、負電荷を帯びた原子団であり、好ましくはアニオン性基である。
本発明において「アニオン性基」とは、アニオン基、又は、イオン化されてアニオン基になり得る基をいう。
アニオン性基としては、カルボキシ基(-COOM)、スルホン酸基(-SO3M)、リン酸基(-OPO3M2)等が挙げられる。前記化学式中、Mは、水素原子、アルカリ金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す。
本発明において「アニオン性基」とは、アニオン基、又は、イオン化されてアニオン基になり得る基をいう。
アニオン性基としては、カルボキシ基(-COOM)、スルホン酸基(-SO3M)、リン酸基(-OPO3M2)等が挙げられる。前記化学式中、Mは、水素原子、アルカリ金属、アンモニウム又は有機アンモニウムを示す。
成分(A)のベタイン基は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはスルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基であり、より好ましくはスルホベタイン基又はホスホベタイン基であり、更に好ましくはスルホベタイン基であって、これらのベタイン基のカチオン部位は好ましくは第四級アンモニウム基である。
ベタイン基は、1種であってもよく、2種以上であってもよい。
ベタイン基は、1種であってもよく、2種以上であってもよい。
成分(A)は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはベタイン基を側鎖に有するカチオン性ポリマーであり、より好ましくは下記式(1)で表されるベタイン基を有する構成単位(a1)と下記式(2)で表されるカチオン性基を有する構成単位(a2)とを少なくとも含むポリマーである。
〔式(1)中、
R1~R3は、同一又は異なって、水素原子、又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
R4は、炭素数1以上4以下のアルキレン基、又は-Y1-OPO3 --Y2-を示し、Y1及びY2は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
R5及びR6は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X1は、酸素原子又はNR7基を示し、R7は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示す。〕
〔式(2)中、
R8~R10は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
X3は、酸素原子又はNR18基を示し、R18は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
R11は、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
X4は、N+R12R13R14X5又はNR15R16を示し、R12~R16は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、X5は陰イオンを示す。〕
〔式(1)中、
R1~R3は、同一又は異なって、水素原子、又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
R4は、炭素数1以上4以下のアルキレン基、又は-Y1-OPO3 --Y2-を示し、Y1及びY2は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
R5及びR6は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X1は、酸素原子又はNR7基を示し、R7は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示す。〕
〔式(2)中、
R8~R10は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
X3は、酸素原子又はNR18基を示し、R18は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
R11は、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
X4は、N+R12R13R14X5又はNR15R16を示し、R12~R16は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、X5は陰イオンを示す。〕
〔構成単位(a1)〕
構成単位(a1)は、前記式(1)で表されるベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(a1)は、好ましくは、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(a1)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(a1)は、例えば、下記式(1’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
構成単位(a1)は、前記式(1)で表されるベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(a1)は、好ましくは、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(a1)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(a1)は、例えば、下記式(1’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
式(1)及び(1’)中、R1~R6、X1、X2の具体例又は好ましい態様は、親水化効果を高める観点、配合安定性及び吸着性の観点、並びに毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、以下のとおりである。
R1及びR2は、好ましくは水素原子である。
R3は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X1は、好ましくは酸素原子である。
R4は、好ましくは炭素数1以上4以下のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
R5及びR6は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、好ましくはR17SO3 -である。R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基又は炭素数2以上4以下のヒドロキシアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より更に好ましくは炭素数3のアルキレン基である。
X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基である。
R1及びR2は、好ましくは水素原子である。
R3は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X1は、好ましくは酸素原子である。
R4は、好ましくは炭素数1以上4以下のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
R5及びR6は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、好ましくはR17SO3 -である。R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基又は炭素数2以上4以下のヒドロキシアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より更に好ましくは炭素数3のアルキレン基である。
X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基である。
構成単位(a1)は、好ましくは、N-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、N-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン等のスルホベタイン基を有するモノマー;2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン等のホスホベタイン基を有するモノマー;N-カルボキシメチル-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、N-カルボキシメチル-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン等のカルボベタイン基を有するモノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より好ましくはスルホベタイン基を有するモノマー及びホスホベタイン基を有するモノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、更に好ましくはスルホベタイン基を有するモノマー由来の構成単位であり、より更に好ましくはN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、及びN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタインから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より更に好ましくはN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン由来の構成単位である。
成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)の含有量は、親水化効果を高める観点、配合安定性及び吸着性の観点、並びに毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは55mol%以上、より好ましくは60mol%以上、更に好ましくは65mol%以上、より更に好ましくは70mol%以上、より更に好ましくは75mol%以上、より更に好ましくは80mol%以上、より更に好ましくは85mol%以上、より更に好ましくは90mol%以上、より更に好ましくは93mol%以上であり、そして、好ましくは99mol%以下、より好ましくは98mol%以下、更に好ましくは97mol%以下である。
なお、成分(A)の全構成単位中の各構成単位の含有量はNMR等の分析により測定することができる。また、成分(A)の製造時の各モノマーの仕込み比より算出することもできる。
なお、成分(A)の全構成単位中の各構成単位の含有量はNMR等の分析により測定することができる。また、成分(A)の製造時の各モノマーの仕込み比より算出することもできる。
〔構成単位(a2)〕
構成単位(a2)は、前記式(2)で表されるカチオン性基を有する構成単位である。構成単位(a2)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(a2)は、例えば、下記式(2’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
構成単位(a2)は、前記式(2)で表されるカチオン性基を有する構成単位である。構成単位(a2)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(a2)は、例えば、下記式(2’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
式(2)及び(2’)中、R8~R11、X3、X4の具体例又は好ましい態様は、効率的にポリイオンコンプレックスを形成して、親水化効果を高める観点及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、以下のとおりである。
R8及びR9は、好ましくは水素原子である。
R10は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X3は、好ましくは酸素原子である。
R11は、好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
X4は、N+R12R13R14X5が好ましく、R12、R13、R14は、前記と同様の観点から、好ましくはそれぞれメチル基又はエチル基であり、より好ましくはR12、R13、及びR14のいずれか一つはエチル基である。
R15及びR16は、親水化効果を高める観点及び4級化反応の容易性の観点から、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X5は、好ましくはハロゲンイオン又はC2H5SO4 -であり、より好ましくはC2H5SO4 -である。
R8及びR9は、好ましくは水素原子である。
R10は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X3は、好ましくは酸素原子である。
R11は、好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
X4は、N+R12R13R14X5が好ましく、R12、R13、R14は、前記と同様の観点から、好ましくはそれぞれメチル基又はエチル基であり、より好ましくはR12、R13、及びR14のいずれか一つはエチル基である。
R15及びR16は、親水化効果を高める観点及び4級化反応の容易性の観点から、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X5は、好ましくはハロゲンイオン又はC2H5SO4 -であり、より好ましくはC2H5SO4 -である。
構成単位(a2)は、効率的にポリイオンコンプレックスを形成して、親水化効果を高める観点及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸又はその四級化物由来の構成単位であり、より好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸の四級化物由来の構成単位であり、更に好ましくは、(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルの四級化物、(メタ)アクリル酸2-(ジエチルアミノ)エチルの四級化物、及び(メタ)アクリル酸3-(ジメチルアミノ)プロピルの四級化物から選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より更に好ましくは(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルのジエチル硫酸塩由来の構成単位である。
本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。
成分(A)の全構成単位中の構成単位(a2)の含有量は、効率的にポリイオンコンプレックスを形成して、親水化効果を高める観点及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点、並びに配合安定性及び吸着性の観点から、好ましくは1mol%以上、より好ましくは2mol%以上、更に好ましくは3mol%以上であり、そして、好ましくは45mol%以下、より好ましくは40mol%以下、更に好ましくは35mol%以下、より更に好ましくは30mol%以下、より更に好ましくは25mol%以下、より更に好ましくは20mol%以下、より更に好ましくは15mol%以下、より更に好ましくは10mol%以下、より更に好ましくは7mol%以下である。
成分(A)は、本発明の効果を損なわない範囲で、構成単位(a1)及び構成単位(a2)以外の他の構成単位を含有してもよい。他の構成単位としては、(メタ)アクリル酸エステル、アルキル(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン、スチレン系モノマー等のノニオン性のモノマー;アニオン性基含有重合性不飽和モノマーなどの他のモノマー由来の構成単位が挙げられる。
本明細書において「(メタ)アクリルアミド」とは、アクリルアミド又はメタクリルアミドを意味する。
本明細書において「(メタ)アクリルアミド」とは、アクリルアミド又はメタクリルアミドを意味する。
(メタ)アクリル酸エステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸iso-ブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸n-ヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n-デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ミリスチル、(メタ)アクリル酸パルミチル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベヘニル等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸ベンジル等の芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル等の炭素数1以上30以下の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル;ポリエチレングリコール(メタ)アクリル酸エステル等のポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル(アルキレンオキシドの平均付加モル数は好ましくは2以上30以下である。);メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、オクトキシ(ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリコール共重合)(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル(アルキレンオキシドの平均付加モル数は好ましくは2以上30以下である。);フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシ(ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリコール共重合)(メタ)アクリレート等のフェノキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル(アルキレンオキシドの平均付加モル数は好ましくは2以上30以下である。)などが挙げられる。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
アルキル(メタ)アクリルアミドとしては、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-t-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド等の炭素数1以上22以下のアルキル基を有するN―アルキル(メタ)アクリルアミドが挙げられる。
スチレン系モノマーとしては、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン等が挙げられる。
スチレン系モノマーとしては、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン等が挙げられる。
アニオン性基含有重合性不飽和モノマーとしては、後述の成分(B)で例示するカルボキシ基含有重合性不飽和モノマー、スルホン酸基含有重合性不飽和モノマー、リン酸基含有重合性不飽和モノマー等が挙げられる。
成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)及び構成単位(a2)以外の他の構成単位の含有量は、好ましくは30mol%以下、より好ましくは20mol%以下、更に好ましくは10mol%以下、より更に好ましくは5mol%以下、より更に好ましくは3mol%以下、より更に好ましくは1mol%以下であり、他の構成単位の含有量は0mol%であってもよい。
成分(A)は、他の構成単位として、芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、フェノキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル等の芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含むものであってもよいが、成分(A)の全構成単位中の芳香族基含有モノマー由来の構成単位の含有量は、親水化効果の観点から、好ましくは1mol%以下、より好ましくは0.5mol%以下、更に好ましくは0.1mol%以下、より更に好ましくは0.05mol%以下であり、より更に好ましくは、成分(A)は芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含まないことが好ましい。
成分(A)は、他の構成単位として、芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、フェノキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル等の芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含むものであってもよいが、成分(A)の全構成単位中の芳香族基含有モノマー由来の構成単位の含有量は、親水化効果の観点から、好ましくは1mol%以下、より好ましくは0.5mol%以下、更に好ましくは0.1mol%以下、より更に好ましくは0.05mol%以下であり、より更に好ましくは、成分(A)は芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含まないことが好ましい。
成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)及び構成単位(a2)の合計含有量は、好ましくは70mol%以上、より好ましくは80mol%以上、更に好ましくは90mol%以上、より更に好ましくは95mol%以上、より更に好ましくは97mol%以上、より更に好ましくは99mol%以上であり、成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)及び構成単位(a2)の合計含有量は、100mol%であってもよい。
成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)と構成単位(a2)とのmol比〔構成単位(a1)/構成単位(a2)〕は、好ましくは1以上、より好ましくは2以上、更に好ましくは3以上、より更に好ましくは4以上、より更に好ましくは5以上、より更に好ましくは7以上、より更に好ましくは9以上、より更に好ましくは10以上、より更に好ましくは15以上であり、そして、好ましくは50以下、より好ましくは40以下、更に好ましくは30以下、より更に好ましくは25以下、より更に好ましくは20以下である。
(成分(A)の製造)
成分(A)の製造方法は特に制限はなく、例えば、下記の(x1)、(y1)の方法が挙げられる。
(x1)前記式(1’)で表されるモノマー及び前記式(2’)で表されるモノマーを含む原料モノマーを共重合する方法
(y1)下記式(1’-1)で表されるモノマー及び前記式(2’)で表されるモノマーを含む原料モノマーを共重合した後、ベタイン化剤によってベタイン化する方法
これらの中でも、モノマーの入手性及び製造の容易性の観点から、(y1)の方法が好ましい。
成分(A)の製造方法は特に制限はなく、例えば、下記の(x1)、(y1)の方法が挙げられる。
(x1)前記式(1’)で表されるモノマー及び前記式(2’)で表されるモノマーを含む原料モノマーを共重合する方法
(y1)下記式(1’-1)で表されるモノマー及び前記式(2’)で表されるモノマーを含む原料モノマーを共重合した後、ベタイン化剤によってベタイン化する方法
これらの中でも、モノマーの入手性及び製造の容易性の観点から、(y1)の方法が好ましい。
(y1)の方法を用いる場合であって、例えば構成単位(a1)がスルホベタイン基を有するモノマー由来の構成単位である場合は、前記式(1’-1)で表されるモノマーを含む原料モノマーを重合した後、ベタイン化剤として下記式(1’-2)で表される化合物又は下記式(1’-3)で表される化合物を反応させてベタイン化することができ、中でも、下記式(1’-2)で表される化合物が好ましい。
Z-R17-SO3M (1’-3)
〔式(1’-3)中、ZはCl又はBr、好ましくはClであり、R17は水酸基を有してもよい炭素数2以上4以下のアルキレン基、好ましくは2-ヒドロキシプロピレン基、MはNa又はKを示す。〕
〔式(1’-3)中、ZはCl又はBr、好ましくはClであり、R17は水酸基を有してもよい炭素数2以上4以下のアルキレン基、好ましくは2-ヒドロキシプロピレン基、MはNa又はKを示す。〕
成分(A)の重量平均分子量は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは3,000以上、より好ましくは5,000以上、更に好ましくは10,000以上、より更に好ましくは30,000以上であり、そして、配合安定性及び吸着性の観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下、更に好ましくは300,000以下、より更に好ましくは200,000以下である。成分(A)の重量平均分子量は、実施例に記載の方法で測定することができる。
成分(A)のカチオン電荷密度は、好ましくは0.01meq/g以上、より好ましくは0.05meq/g以上、更に好ましくは0.1meq/g以上、より更に好ましくは0.15meq/g以上であり、そして、好ましくは1.5meq/g以下、より好ましくは1.0meq/g以下、更に好ましくは0.8meq/g以下、より更に好ましくは0.6meq/g以下、より更に好ましくは0.4meq/g以下、より更に好ましくは0.2meq/g以下である。
本発明において、成分(A)のカチオン電荷密度は、成分(A)中のカチオン性基のmol数/g×1000(カチオン電荷密度;meq/g)から成分(A)中のアニオン性基のmol数/g×1000(アニオン電荷密度;meq/g)を差し引いた値をいう。
成分(A)のカチオン電荷密度は、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率から算出することができる。
なお、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率はNMR等の分析により測定することができる。
成分(A)は、全体としてカチオン性を示すポリマーであるが、本発明の効果を損なわない範囲で該ポリマー中にベタイン基に含まれるアニオン性基以外のアニオン性基を有するものであってもよい。
また、成分(A)は、全体としてカチオン性を示すポリマーを2種以上用いてもよい。この場合のカチオン電荷密度は、それぞれのポリマーのカチオン電荷密度と配合量から加重平均して算出することにより求めることができる。
本発明において、成分(A)のカチオン電荷密度は、成分(A)中のカチオン性基のmol数/g×1000(カチオン電荷密度;meq/g)から成分(A)中のアニオン性基のmol数/g×1000(アニオン電荷密度;meq/g)を差し引いた値をいう。
成分(A)のカチオン電荷密度は、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率から算出することができる。
なお、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率はNMR等の分析により測定することができる。
成分(A)は、全体としてカチオン性を示すポリマーであるが、本発明の効果を損なわない範囲で該ポリマー中にベタイン基に含まれるアニオン性基以外のアニオン性基を有するものであってもよい。
また、成分(A)は、全体としてカチオン性を示すポリマーを2種以上用いてもよい。この場合のカチオン電荷密度は、それぞれのポリマーのカチオン電荷密度と配合量から加重平均して算出することにより求めることができる。
<成分(B)>
成分(B)は、少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマーであり、全体としてアニオン性を示す。
成分(B)のベタイン基のカチオン部位は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは第四級アンモニウム基である。
成分(B)のベタイン基は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはスルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基であり、より好ましくはスルホベタイン基又はホスホベタイン基であり、更に好ましくはスルホベタイン基であって、これらのベタイン基のカチオン部位は好ましくは第四級アンモニウム基である。
ベタイン基は、1種であってもよく、2種以上であってもよい。
成分(B)は、少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマーであり、全体としてアニオン性を示す。
成分(B)のベタイン基のカチオン部位は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは第四級アンモニウム基である。
成分(B)のベタイン基は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはスルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基であり、より好ましくはスルホベタイン基又はホスホベタイン基であり、更に好ましくはスルホベタイン基であって、これらのベタイン基のカチオン部位は好ましくは第四級アンモニウム基である。
ベタイン基は、1種であってもよく、2種以上であってもよい。
成分(B)は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくはベタイン基を側鎖に有するアニオン性ポリマーであり、より好ましくは下記式(1)で表されるベタイン基を有する構成単位(b1)とアニオン性基を有する構成単位(b2)とを少なくとも含むポリマーである。
〔構成単位(b1)〕
構成単位(b1)は、好ましくは、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(b1)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(b1)は、例えば、下記式(1’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
構成単位(b1)は、好ましくは、スルホベタイン基、ホスホベタイン基、又はカルボベタイン基を有する構成単位である。
構成単位(b1)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(b1)は、例えば、下記式(1’)で表されるモノマー由来の構成単位である。
式(1)及び(1’)中、R1~R6、X1、X2の具体例又は好ましい態様は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、以下のとおりである。
R1及びR2は、好ましくは水素原子である。
R3は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X1は、好ましくは酸素原子である。
R4は、好ましくは炭素数1以上4以下のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
R5及びR6は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、好ましくはR17SO3 -である。R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基又は炭素数2以上4以下のヒドロキシアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より更に好ましくは炭素数3のアルキレン基である。
X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基である。
R1及びR2は、好ましくは水素原子である。
R3は、好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X1は、好ましくは酸素原子である。
R4は、好ましくは炭素数1以上4以下のアルキレン基であり、より好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2のアルキレン基である。
R5及びR6は、好ましくはメチル基又はエチル基であり、より好ましくはメチル基である。
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、好ましくはR17SO3 -である。R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基又は炭素数2以上4以下のヒドロキシアルキレン基であり、より好ましくは炭素数1以上3以下のアルキレン基であり、更に好ましくは炭素数2又は3のアルキレン基であり、より更に好ましくは炭素数3のアルキレン基である。
X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、好ましくは炭素数1以上4以下の炭化水素基であり、より好ましくはメチル基である。
構成単位(b1)は、好ましくは、N-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、N-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン等のスルホベタイン基を有するモノマー;2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン等のホスホベタイン基を有するモノマー;N-カルボキシメチル-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、N-カルボキシメチル-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン等のカルボベタイン基を有するモノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より好ましくはスルホベタイン基を有するモノマー及びホスホベタイン基を有するモノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、更に好ましくはスルホベタイン基を有するモノマー由来の構成単位であり、より更に好ましくはN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン、及びN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルアミドプロピル-N,N-ジメチルアンモニウムベタインから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より更に好ましくはN-(3-スルホプロピル)-N-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン由来の構成単位である。
成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)の含有量は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは55mol%以上、より好ましくは60mol%以上、更に好ましくは65mol%以上、より更に好ましくは70mol%以上、より更に好ましくは75mol%以上、より更に好ましくは80mol%以上、より更に好ましくは85mol%以上、より更に好ましくは90mol%以上、より更に好ましくは93mol%以上であり、そして、好ましくは99mol%以下、より好ましくは98mol%以下、更に好ましくは97mol%以下である。
なお、成分(B)の全構成単位中の各構成単位の含有量はNMR等の分析により測定することができる。また、成分(B)の製造時の各モノマーの仕込み比より算出することもできる。
なお、成分(B)の全構成単位中の各構成単位の含有量はNMR等の分析により測定することができる。また、成分(B)の製造時の各モノマーの仕込み比より算出することもできる。
〔構成単位(b2)〕
構成単位(b2)は、アニオン性基を有する構成単位であり、好ましくはアニオン性基含有重合性不飽和モノマー由来の構成単位である。
アニオン性基含有重合性不飽和モノマーとしては、カルボキシ基含有重合性不飽和モノマー、スルホン酸基含有重合性不飽和モノマー、リン酸基含有重合性不飽和モノマー等が挙げられる。
構成単位(b2)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
構成単位(b2)は、アニオン性基を有する構成単位であり、好ましくはアニオン性基含有重合性不飽和モノマー由来の構成単位である。
アニオン性基含有重合性不飽和モノマーとしては、カルボキシ基含有重合性不飽和モノマー、スルホン酸基含有重合性不飽和モノマー、リン酸基含有重合性不飽和モノマー等が挙げられる。
構成単位(b2)は、1種であってもよく、2種以上の異なる構成単位であってもよい。
カルボキシ基含有重合性不飽和モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、2-メタクリロイルオキシメチルコハク酸等が挙げられる。
スルホン酸基含有重合性不飽和モノマーとしては、スチレンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、3-スルホプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
リン酸基含有重合性不飽和モノマーとしては、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス(メタクリロイルオキシエチル)ホスフェート、ジフェニル-2-アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル-2-メタクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
スルホン酸基含有重合性不飽和モノマーとしては、スチレンスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、3-スルホプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
リン酸基含有重合性不飽和モノマーとしては、ビニルホスホン酸、ビニルホスフェート、ビス(メタクリロイルオキシエチル)ホスフェート、ジフェニル-2-アクリロイルオキシエチルホスフェート、ジフェニル-2-メタクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
これらの中でも、構成単位(b2)は、効率的にポリイオンコンプレックスを形成して、親水化効果を高める観点及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは、カルボキシ基含有重合性不飽和モノマー、スルホン酸基含有重合性不飽和モノマー、及びリン酸基含有重合性不飽和モノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より好ましくはカルボキシ基含有重合性不飽和モノマー及びスルホン酸基含有重合性不飽和モノマーから選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、更に好ましくはカルボキシ基含有重合性不飽和モノマーであり、より更に好ましくは(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、及び2-メタクリロイルオキシメチルコハク酸から選ばれる少なくとも1種由来の構成単位であり、より更に好ましくは(メタ)アクリル酸由来の構成単位である。
成分(B)の全構成単位中の構成単位(b2)の含有量は、効率的にポリイオンコンプレックスを形成して、親水化効果を高める観点及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点、並びに配合安定性及び吸着性の観点から、好ましくは1mol%以上、より好ましくは2mol%以上、更に好ましくは3mol%以上であり、そして、好ましくは45mol%以下、より好ましくは40mol%以下、更に好ましくは35mol%以下、より更に好ましくは30mol%以下、より更に好ましくは25mol%以下、より更に好ましくは20mol%以下、より更に好ましくは15mol%以下、より更に好ましくは10mol%以下である。
成分(B)は、本発明の効果を損なわない範囲で、構成単位(b1)及び構成単位(b2)以外の他の構成単位を含有してもよい。他の構成単位としては、(メタ)アクリル酸エステル、アルキル(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン、スチレン系モノマー等のノニオン性のモノマー;カチオン性基を有するモノマーなどの他のモノマー由来の構成単位が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステル、アルキル(メタ)アクリルアミド、スチレン系モノマーは、前述の成分(A)で例示したものと同様のものが挙げられる。
カチオン性基を有するモノマーとしては、例えば、前述の成分(A)で例示する前記式(2’)で表されるモノマーが挙げられ、好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸又はその四級化物であり、より好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸の四級化物であり、更に好ましくは、(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルの四級化物、(メタ)アクリル酸2-(ジエチルアミノ)エチルの四級化物、及び(メタ)アクリル酸3-(ジメチルアミノ)プロピルの四級化物から選ばれる少なくとも1種、より更に好ましくは(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルのジエチル硫酸塩である。
(メタ)アクリル酸エステル、アルキル(メタ)アクリルアミド、スチレン系モノマーは、前述の成分(A)で例示したものと同様のものが挙げられる。
カチオン性基を有するモノマーとしては、例えば、前述の成分(A)で例示する前記式(2’)で表されるモノマーが挙げられ、好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸又はその四級化物であり、より好ましくはN,N-(ジアルキルアミノ)アルキル(メタ)アクリル酸の四級化物であり、更に好ましくは、(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルの四級化物、(メタ)アクリル酸2-(ジエチルアミノ)エチルの四級化物、及び(メタ)アクリル酸3-(ジメチルアミノ)プロピルの四級化物から選ばれる少なくとも1種、より更に好ましくは(メタ)アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルのジエチル硫酸塩である。
成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)及び構成単位(b2)以外の他の構成単位の含有量は、好ましくは30mol%以下、より好ましくは20mol%以下、更に好ましくは10mol%以下、より更に好ましくは5mol%以下、より更に好ましくは3mol%以下、より更に好ましくは1mol%以下であり、他の構成単位の含有量は0mol%であってもよい。
成分(B)は、他の構成単位として、芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、フェノキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル等の芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含むものであってもよいが、成分(B)の全構成単位中の芳香族基含有モノマー由来の構成単位の含有量は、親水化効果の観点から、好ましくは1mol%以下、より好ましくは0.5mol%以下、更に好ましくは0.1mol%以下、より更に好ましくは0.05mol%以下であり、より更に好ましくは、成分(B)は芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含まないことが好ましい。
成分(B)は、他の構成単位として、芳香族基含有(メタ)アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、フェノキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリル酸エステル等の芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含むものであってもよいが、成分(B)の全構成単位中の芳香族基含有モノマー由来の構成単位の含有量は、親水化効果の観点から、好ましくは1mol%以下、より好ましくは0.5mol%以下、更に好ましくは0.1mol%以下、より更に好ましくは0.05mol%以下であり、より更に好ましくは、成分(B)は芳香族基含有モノマー由来の構成単位を含まないことが好ましい。
成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)及び構成単位(b2)の合計含有量は、好ましくは70mol%以上、より好ましくは80mol%以上、更に好ましくは90mol%以上、より更に好ましくは95mol%以上、より更に好ましくは97mol%以上、より更に好ましくは99mol%以上であり、成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)及び構成単位(b2)の合計含有量は、100mol%であってもよい。
成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)と構成単位(b2)とのmol比〔構成単位(b1)/構成単位(b2)〕は、好ましくは1以上、より好ましくは2以上、更に好ましくは3以上、より更に好ましくは4以上、より更に好ましくは5以上、より更に好ましくは7以上、より更に好ましくは9以上、より更に好ましくは10以上、より更に好ましくは15以上であり、そして、好ましくは50以下、より好ましくは40以下、更に好ましくは30以下、より更に好ましくは25以下である。
(成分(B)の製造)
成分(B)の製造方法は特に制限はなく、例えば、下記の(x2)、(y2)の方法が挙げられる。
(x2)前記式(1’)で表されるモノマー及び前記アニオン性基含有重合性不飽和モノマーを含む原料モノマーを共重合する方法
(y2)前記式(1’-1)で表されるモノマー及び前記アニオン性基含有重合性不飽和モノマーを含む原料モノマーを共重合した後、ベタイン化剤によってベタイン化する方法
これらの中でも、モノマーの入手性及び製造の容易性の観点から、(y2)の方法が好ましい。
成分(B)の製造方法は特に制限はなく、例えば、下記の(x2)、(y2)の方法が挙げられる。
(x2)前記式(1’)で表されるモノマー及び前記アニオン性基含有重合性不飽和モノマーを含む原料モノマーを共重合する方法
(y2)前記式(1’-1)で表されるモノマー及び前記アニオン性基含有重合性不飽和モノマーを含む原料モノマーを共重合した後、ベタイン化剤によってベタイン化する方法
これらの中でも、モノマーの入手性及び製造の容易性の観点から、(y2)の方法が好ましい。
(y2)の方法を用いる場合であって、例えば構成単位(b1)がスルホベタイン基を有するモノマー由来の構成単位である場合は、前記式(1’-1)で表されるモノマーを含む原料モノマーを重合した後、ベタイン化剤として前記式(1’-2)で表される化合物又は前記式(1’-3)で表される化合物を反応させてベタイン化することができ、中でも、前記式(1’-2)で表される化合物が好ましい。
成分(B)の重量平均分子量は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは3,000以上、より好ましくは5,000以上、更に好ましくは10,000以上であり、そして、配合安定性及び吸着性の観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは500,000以下、更に好ましくは300,000以下、より更に好ましくは200,000以下である。成分(B)の重量平均分子量は、実施例に記載の方法で測定することができる。
成分(B)のアニオン電荷密度は、好ましくは-5meq/g以上、より好ましくは-3meq/g以上、更に好ましくは-2meq/g以上、より更に好ましくは-1meq/g以上、より更に好ましくは-0.5meq/g以上、より更に好ましくは-0.3meq/g以上であり、そして、好ましくは-0.05meq/g以下、より好ましくは-0.1meq/g以下、更に好ましくは-0.15meq/g以下である。
本発明において、成分(B)のアニオン電荷密度は、成分(B)中のアニオン性基のmol数/g×1000(アニオン電荷密度;meq/g)から成分(B)中のカチオン性基のmol数/g×1000(カチオン電荷密度;meq/g)を差し引いた値をいう。
成分(B)のアニオン電荷密度(meq/g)は、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率から算出することができる。
なお、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率はNMR等の分析により測定することができる。
成分(B)は、全体としてアニオン性を示すポリマーであるが、本発明の効果を損なわない範囲で該ポリマー中にベタイン基に含まれるカチオン性基以外のカチオン性基を有するものであってもよい。
また、成分(B)は、全体としてアニオン性を示すポリマーを2種以上用いてもよい。この場合のアニオン電荷密度は、それぞれのポリマーのアニオン電荷密度と配合量から加重平均して算出することにより求めることができる。
本発明において、成分(B)のアニオン電荷密度は、成分(B)中のアニオン性基のmol数/g×1000(アニオン電荷密度;meq/g)から成分(B)中のカチオン性基のmol数/g×1000(カチオン電荷密度;meq/g)を差し引いた値をいう。
成分(B)のアニオン電荷密度(meq/g)は、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率から算出することができる。
なお、ポリマーを構成する構成単位の種類及びモル比率はNMR等の分析により測定することができる。
成分(B)は、全体としてアニオン性を示すポリマーであるが、本発明の効果を損なわない範囲で該ポリマー中にベタイン基に含まれるカチオン性基以外のカチオン性基を有するものであってもよい。
また、成分(B)は、全体としてアニオン性を示すポリマーを2種以上用いてもよい。この場合のアニオン電荷密度は、それぞれのポリマーのアニオン電荷密度と配合量から加重平均して算出することにより求めることができる。
<成分(C)>
本発明の表面処理組成物は、好ましくは成分(C)として電解質を更に含有する。成分(C)を更に含有することにより、成分(A)と成分(B)とが成分(C)により系中に溶解した状態とすることができるため、表面処理組成物中の成分の析出が抑制され、配合安定性を向上させることができると考えられる。また、本発明の表面処理組成物を処理対象物に適用し、水等の洗浄により希釈され、系中の成分(C)の濃度が低下することにより、成分(A)のアニオン性基と成分(B)のカチオン性基の作用により形成されたポリイオンコンプレックスが析出し、該ポリイオンコンプレックスを処理対象物の表面により効果的に吸着させることができ、表面処理組成物の吸着性が更に向上し、親水的なベタイン基により処理対象物に対する親水化効果を更に向上させることができると考えられる。
そして、本発明の表面処理組成物の毛髪への適用においては、上記のとおりポリイオンコンプレックスが処理対象物である毛髪の表面により効果的に吸着し、親水的なベタイン基により毛髪表面に対する親水化効果を更に向上させることができ、これにより毛髪間のメニスカス力が増大し、毛髪のシュリンク抑制効果を更に向上させることができると考えられる。
本発明の表面処理組成物は、好ましくは成分(C)として電解質を更に含有する。成分(C)を更に含有することにより、成分(A)と成分(B)とが成分(C)により系中に溶解した状態とすることができるため、表面処理組成物中の成分の析出が抑制され、配合安定性を向上させることができると考えられる。また、本発明の表面処理組成物を処理対象物に適用し、水等の洗浄により希釈され、系中の成分(C)の濃度が低下することにより、成分(A)のアニオン性基と成分(B)のカチオン性基の作用により形成されたポリイオンコンプレックスが析出し、該ポリイオンコンプレックスを処理対象物の表面により効果的に吸着させることができ、表面処理組成物の吸着性が更に向上し、親水的なベタイン基により処理対象物に対する親水化効果を更に向上させることができると考えられる。
そして、本発明の表面処理組成物の毛髪への適用においては、上記のとおりポリイオンコンプレックスが処理対象物である毛髪の表面により効果的に吸着し、親水的なベタイン基により毛髪表面に対する親水化効果を更に向上させることができ、これにより毛髪間のメニスカス力が増大し、毛髪のシュリンク抑制効果を更に向上させることができると考えられる。
本発明において「電解質」とは、水中でイオン解離する化合物を意味する。
成分(C)としては、成分(A)と成分(B)とが成分(C)により系中に溶解した状態とし、表面処理組成物中の成分の析出を抑制して、配合安定性を向上させる観点から、有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基、及びこれらの塩が挙げられる。
有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸等のモノカルボン酸;マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等のジカルボン酸;ポリグルタミン酸等のポリカルボン酸;グリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシカルボン酸;グルタミン酸、アスパラギン酸等の酸性アミノ酸;メタンスルホン酸、N-メチルタウリン、スルファミン酸、キシレンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等のスルホン酸;ラウリル硫酸等の硫酸エステル;メチルリン酸、エチルリン酸等の有機リン酸エステルなどが挙げられる。
無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、炭酸、チオシアン酸、リン酸等が挙げられる。
有機塩基としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等が挙げられる。
無機塩基としては、カリウム、ナトリウム、リチウムといったアルカリ金属の水酸化物が挙げられる。また、無機塩基としてアンモニアを用いてもよい。
塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マグネシウム、クエン酸ナトリウム、安息香酸カリウム、塩化アンモニウム、炭酸ナトリウム、リン酸二カリウム、硫酸モノエタノールアミン等が挙げられる。
これらは、それぞれ1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
成分(C)は、表面処理組成物の製造の際には、上記の有機酸又は無機酸と有機塩基又は無機塩基とを配合して、表面処理組成物中にて塩を形成するようにしてもよい。
成分(C)としては、成分(A)と成分(B)とが成分(C)により系中に溶解した状態とし、表面処理組成物中の成分の析出を抑制して、配合安定性を向上させる観点から、有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基、及びこれらの塩が挙げられる。
有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸等のモノカルボン酸;マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸等のジカルボン酸;ポリグルタミン酸等のポリカルボン酸;グリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシカルボン酸;グルタミン酸、アスパラギン酸等の酸性アミノ酸;メタンスルホン酸、N-メチルタウリン、スルファミン酸、キシレンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等のスルホン酸;ラウリル硫酸等の硫酸エステル;メチルリン酸、エチルリン酸等の有機リン酸エステルなどが挙げられる。
無機酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、過塩素酸、炭酸、チオシアン酸、リン酸等が挙げられる。
有機塩基としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等が挙げられる。
無機塩基としては、カリウム、ナトリウム、リチウムといったアルカリ金属の水酸化物が挙げられる。また、無機塩基としてアンモニアを用いてもよい。
塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化マグネシウム、クエン酸ナトリウム、安息香酸カリウム、塩化アンモニウム、炭酸ナトリウム、リン酸二カリウム、硫酸モノエタノールアミン等が挙げられる。
これらは、それぞれ1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
成分(C)は、表面処理組成物の製造の際には、上記の有機酸又は無機酸と有機塩基又は無機塩基とを配合して、表面処理組成物中にて塩を形成するようにしてもよい。
これらの中でも、成分(C)は、配合安定性の観点から、好ましくは塩であり、より好ましくは水溶性無機塩である。水溶性無機塩の20℃における水100gに対する溶解度は、好ましくは10g以上、より好ましくは20g以上、更に好ましくは30g以上である。
成分(C)が、水溶性無機塩であれば、表面処理組成物を処理対象物に適用した後に水洗により系中の成分(C)の濃度を低下させ、該処理対象物の表面に前述のポリイオンコンプレックスを効果的に吸着し、固体表面に高い親水性を付与することができ、特に毛髪表面の適用においては毛髪のシュリンク抑制効果を向上させることができる。当該観点から、成分(C)は、更に好ましくはアルカリ金属塩及び第2族元素の金属塩から選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウム、塩化カリウム、及び塩化マグネシウムから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウム及び塩化カリウムから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウムである。
成分(C)が、水溶性無機塩であれば、表面処理組成物を処理対象物に適用した後に水洗により系中の成分(C)の濃度を低下させ、該処理対象物の表面に前述のポリイオンコンプレックスを効果的に吸着し、固体表面に高い親水性を付与することができ、特に毛髪表面の適用においては毛髪のシュリンク抑制効果を向上させることができる。当該観点から、成分(C)は、更に好ましくはアルカリ金属塩及び第2族元素の金属塩から選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウム、塩化カリウム、及び塩化マグネシウムから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウム及び塩化カリウムから選ばれる1種以上であり、より更に好ましくは塩化ナトリウムである。
<水性媒体>
本発明の表面処理組成物は、好ましくは水性媒体を含有する。水性媒体としては、水;エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;1,3-ブチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール等の炭素数6以下の低分子ジオール及びトリオールが挙げられる。中でも、水が好ましい。
本発明の表面処理組成物は、好ましくは水性媒体を含有する。水性媒体としては、水;エタノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;1,3-ブチレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール等の炭素数6以下の低分子ジオール及びトリオールが挙げられる。中でも、水が好ましい。
<他の成分>
本発明の表面処理組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、成分(A)~(C)以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、両性界面活性剤、酸化防止剤、シリコーン、芳香族アルコール、成分(A)及び(B)以外のポリマー、油剤、ビタミン剤、殺菌剤、抗炎症剤、抗フケ剤、防腐剤、キレート剤、保湿剤、パール剤、セラミド類、香料、紫外線吸収剤等が挙げられる。
本発明の表面処理組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、成分(A)~(C)以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、両性界面活性剤、酸化防止剤、シリコーン、芳香族アルコール、成分(A)及び(B)以外のポリマー、油剤、ビタミン剤、殺菌剤、抗炎症剤、抗フケ剤、防腐剤、キレート剤、保湿剤、パール剤、セラミド類、香料、紫外線吸収剤等が挙げられる。
本発明の表面処理組成物の製造は、例えば、成分(A)及び(B)、並びに必要に応じて成分(C)及び他の成分を配合し、公知の撹拌装置等を用いて混合することにより製造できる。本発明の表面処理組成物中の各成分の含有量又は配合量は以下のとおりである。
本発明の表面処理組成物中の成分(A)の含有量又は配合量は、親水化効果を高める観点、配合安定性及び吸着性の観点、並びに毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、更に好ましくは0.3質量%以上、より更に好ましくは0.5質量%以上、より更に好ましくは0.7質量%以上であり、そして、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下、更に好ましくは7質量%以下、より更に好ましくは5質量%以下、より更に好ましくは3質量%以下、より更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1.5質量%以下である。
本発明の表面処理組成物中の成分(B)の含有量又は配合量は、親水化効果を高める観点、配合安定性及び吸着性の観点、並びに毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、更に好ましくは0.1質量%以上、より更に好ましくは0.3質量%以上、より更に好ましくは0.5質量%以上、より更に好ましくは0.7質量%以上であり、そして、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下、更に好ましくは15質量%以下、より更に好ましくは10質量%以下、より更に好ましくは5質量%以下、より更に好ましくは3質量%以下、より更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1.5質量%以下である。
本発明の表面処理組成物中の成分(A)及び成分(B)の合計含有量又は合計配合量は、親水化効果を高める観点、吸着性の観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは0.02質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、更に好ましくは0.5質量%以上、より更に好ましくは1質量%以上、より更に好ましくは1.5質量%以上であり、そして、表面処理組成物の配合安定性及びハンドリング性の観点から、好ましくは50質量%以下、より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは20質量%以下、より更に好ましくは15質量%以下、より更に好ましくは10質量%以下、より更に好ましくは5質量%以下、より更に好ましくは3質量%以下、より更に好ましくは2.5質量%以下、より更に好ましくは2質量%以下である。
本発明の表面処理組成物中の成分(C)の含有量又は配合量は、配合安定性の観点から、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは0.2質量%以上、更に好ましくは0.3質量%以上、より更に好ましくは0.5質量%以上、より更に好ましくは0.7質量%以上であり、そして、親水化効果を高める観点、吸着性の観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは15質量%以下、より好ましくは10質量%以下、更に好ましくは7質量%以下、より更に好ましくは5質量%以下、より更に好ましくは3質量%以下、より更に好ましくは2質量%以下、より更に好ましくは1.5質量%以下である。
本発明の表面処理組成物中の水性媒体の含有量又は配合量は、水性媒体として水を用いる場合には、親水化効果を高める観点、吸着性の観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、更に好ましくは70質量%以上、より更に好ましくは80質量%以上、より更に好ましくは85質量%以上、より更に好ましくは90質量%以上、より更に好ましくは95質量%以上であり、そして、好ましくは99質量%以下である。
下記式(I)で表される成分(A)のカチオン量と下記式(II)で表される成分(B)のアニオン量との当量比〔(成分(A)のカチオン量)/(成分(B)のアニオン量)〕は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上、より更に好ましくは0.3以上、より更に好ましくは0.5以上、より更に好ましくは0.7以上、より更に好ましくは0.9以上であり、そして、好ましくは50以下、より好ましくは30以下、更に好ましくは10以下、より更に好ましくは7以下、より更に好ましくは5以下、より更に好ましくは3以下、より更に好ましくは1.5以下、より更に好ましくは1.3以下、より更に好ましくは1.1以下である。
成分(A)のカチオン量=〔成分(A)のカチオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(A)の含有量又は配合量(g)〕 (I)
成分(B)のアニオン量=〔成分(B)のアニオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(B)の含有量又は配合量(g)〕 (II)
成分(A)のカチオン量=〔成分(A)のカチオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(A)の含有量又は配合量(g)〕 (I)
成分(B)のアニオン量=〔成分(B)のアニオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(B)の含有量又は配合量(g)〕 (II)
[表面処理方法]
本発明の表面処理方法は、処理対象物として固体表面に前記表面処理組成物を適用することが好ましい。すなわち、本発明の表面処理方法は、前記表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含むことが好ましい。
本発明において「固体表面」とは、固体と大気との界面を意味する。
前記固体としては、特に制限はなく、ガラス、陶器、磁器、琺瑯、タイル、セラミックス、木材;アルミニウム、ステンレス、真鍮等の金属;ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ABS樹脂、FRP等の合成樹脂;木綿、絹、羊毛等の天然繊維;ポリエステル、ナイロン、レーヨン等の合成繊維;毛髪、爪、歯などが挙げられる。前記固体表面の形状は、特に制限はない。
これらの中でも、前記固体表面は、好ましくは疎水性硬質表面又は毛髪表面である。
本発明において「疎水性硬質表面」とは、接触角が70°以上であることを意味し、「親水性硬質表面」とは70°未満であることを意味する。なお接触角は、実施例に記載の方法で測定することができる。
前記疎水性硬質表面としては、好ましくはセラミックス、金属、及び合成樹脂から選ばれる1種以上が挙げられる。
また、前記固体表面が毛髪表面である場合には、毛髪のシュリンク抑制効果を向上させることができる。
本発明の表面処理方法は、処理対象物として固体表面に前記表面処理組成物を適用することが好ましい。すなわち、本発明の表面処理方法は、前記表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含むことが好ましい。
本発明において「固体表面」とは、固体と大気との界面を意味する。
前記固体としては、特に制限はなく、ガラス、陶器、磁器、琺瑯、タイル、セラミックス、木材;アルミニウム、ステンレス、真鍮等の金属;ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ABS樹脂、FRP等の合成樹脂;木綿、絹、羊毛等の天然繊維;ポリエステル、ナイロン、レーヨン等の合成繊維;毛髪、爪、歯などが挙げられる。前記固体表面の形状は、特に制限はない。
これらの中でも、前記固体表面は、好ましくは疎水性硬質表面又は毛髪表面である。
本発明において「疎水性硬質表面」とは、接触角が70°以上であることを意味し、「親水性硬質表面」とは70°未満であることを意味する。なお接触角は、実施例に記載の方法で測定することができる。
前記疎水性硬質表面としては、好ましくはセラミックス、金属、及び合成樹脂から選ばれる1種以上が挙げられる。
また、前記固体表面が毛髪表面である場合には、毛髪のシュリンク抑制効果を向上させることができる。
工程Iにおける前記表面処理組成物の固体表面への適用方法は特に制限はないが、例えば、下記の(i)~(iii)の方法が挙げられる。
(i)表面処理組成物に固体を浸漬させる方法
(ii)表面処理組成物を固体表面に噴霧又は塗布する方法
(iii)表面処理組成物を用いて常法に従い固体表面を洗浄する方法
前記表面処理組成物を固体表面に適用する際の周辺環境温度は、親水化効果を高める観点、及び作業容易性の観点から、好ましくは5℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは15℃以上であり、そして、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下である。
前記(i)の方法における浸漬する時間は、親水化効果を高める観点及び経済性の観点から、好ましくは0.1分以上、より好ましくは0.3分以上、更に好ましくは0.5分以上、より更に好ましくは1分以上であり、そして、好ましくは60分以下、より好ましくは50分以下である。
前記(ii)の方法における噴霧又は塗布する方法は、固体表面の広さ(面積)等に応じて適宜選択できる。また、噴霧した後、スポンジ等を用いて薄く塗りのばしてもよい。
本発明の表面処理組成物の固体表面への適用量は、例えば、疎水性硬質表面の場合、好ましくは1m2あたり20mL以上1,000mL以下である。
(i)表面処理組成物に固体を浸漬させる方法
(ii)表面処理組成物を固体表面に噴霧又は塗布する方法
(iii)表面処理組成物を用いて常法に従い固体表面を洗浄する方法
前記表面処理組成物を固体表面に適用する際の周辺環境温度は、親水化効果を高める観点、及び作業容易性の観点から、好ましくは5℃以上、より好ましくは10℃以上、更に好ましくは15℃以上であり、そして、好ましくは50℃以下、より好ましくは40℃以下、更に好ましくは30℃以下である。
前記(i)の方法における浸漬する時間は、親水化効果を高める観点及び経済性の観点から、好ましくは0.1分以上、より好ましくは0.3分以上、更に好ましくは0.5分以上、より更に好ましくは1分以上であり、そして、好ましくは60分以下、より好ましくは50分以下である。
前記(ii)の方法における噴霧又は塗布する方法は、固体表面の広さ(面積)等に応じて適宜選択できる。また、噴霧した後、スポンジ等を用いて薄く塗りのばしてもよい。
本発明の表面処理組成物の固体表面への適用量は、例えば、疎水性硬質表面の場合、好ましくは1m2あたり20mL以上1,000mL以下である。
本発明の表面処理方法は、親水化効果を高める観点、及び毛髪のシュリンク抑制効果を高める観点から、工程Iにより固体表面に適用された表面処理組成物を希釈する工程IIを含むことが好ましい。工程IIにおける希釈は水性媒体を用いて行うことが好ましい。希釈方法としては、例えば、表面処理組成物が適用された固体表面を水性媒体で洗浄する方法が挙げられる。これにより、表面処理組成物が成分(C)を含有する場合には、固体表面に付着した表面処理組成物中に含まれる成分(C)の濃度が低下し、ポリイオンコンプレックスが形成されて析出して固体表面に効果的に吸着し、成分(A)及び成分(B)に含まれるベタイン基により固体表面に高い親水性を付与することができる。洗浄に用いる水性媒体は、例えば水が好ましい。該水性媒体として用いる水は、特に限定されず、水道水、蒸留水、イオン交換水、硬水、軟水等を用いることができる。
[毛髪処理剤]
本発明の毛髪処理剤は、前記表面処理組成物を含有する。前記表面処理組成物は、毛髪のシュリンク抑制効果に優れるため、前記処理剤を毛髪シュリンク抑制剤として用いることができる。
前記処理剤としては、シャンプー等の毛髪洗浄剤、コンディショナー、トリートメント、染毛剤などの毛髪化粧料が挙げられる。これらの中でも、本発明の効果を得る観点、及び日常のヘアケア行動により簡単に毛髪のシュリンクを抑制できる観点からはコンディショナーが好ましい。毛髪処理剤の剤型には特に制限はなく、例えば液体状、泡状、ペースト状、クリーム状等の任意の剤型とすることができる。これらの剤型の中でも、前記毛髪処理剤は液体状であることが好ましい。
本発明の毛髪処理剤は、前記表面処理組成物を含有する。前記表面処理組成物は、毛髪のシュリンク抑制効果に優れるため、前記処理剤を毛髪シュリンク抑制剤として用いることができる。
前記処理剤としては、シャンプー等の毛髪洗浄剤、コンディショナー、トリートメント、染毛剤などの毛髪化粧料が挙げられる。これらの中でも、本発明の効果を得る観点、及び日常のヘアケア行動により簡単に毛髪のシュリンクを抑制できる観点からはコンディショナーが好ましい。毛髪処理剤の剤型には特に制限はなく、例えば液体状、泡状、ペースト状、クリーム状等の任意の剤型とすることができる。これらの剤型の中でも、前記毛髪処理剤は液体状であることが好ましい。
毛髪の表面処理方法は、前記処理剤を毛髪へ適用する工程を含むことが好ましい。前記処理剤の付与方法としては、該処理剤を毛髪に塗布、噴霧又は流延する方法、該処理剤に毛髪を浸漬させる方法等が挙げられる。
前記処理剤を適用する際の毛髪は乾燥状態でも湿潤状態でもよい。
前記処理剤を適用する際の周辺環境温度は、効率よく表面処理を行う観点から、好ましくは5℃以上50℃以下、より好ましくは15℃以上45℃以下である。
前記処理剤の適用時間は、好ましくは5秒~60分間、より好ましくは5秒~20分間である。前記処理剤の適用時間とは、前記処理剤を毛髪に塗布、噴霧又は流延する時間、あるいは前記処理剤に毛髪を浸漬させる時間を意味する。
前記処理剤を適用する際の毛髪は乾燥状態でも湿潤状態でもよい。
前記処理剤を適用する際の周辺環境温度は、効率よく表面処理を行う観点から、好ましくは5℃以上50℃以下、より好ましくは15℃以上45℃以下である。
前記処理剤の適用時間は、好ましくは5秒~60分間、より好ましくは5秒~20分間である。前記処理剤の適用時間とは、前記処理剤を毛髪に塗布、噴霧又は流延する時間、あるいは前記処理剤に毛髪を浸漬させる時間を意味する。
毛髪の表面処理方法は、前記処理剤を毛髪へ付与した後、更に該処理剤が適用された毛髪を水性媒体で洗浄する工程を含むことが好ましい。これにより、前記処理剤が成分(C)を含有する場合には、該処理剤中に含まれる成分(C)の濃度が低下し、ポリイオンコンプレックスが形成されて析出して毛髪表面に吸着し、成分(A)及び成分(B)に含まれるベタイン基により毛髪表面に高い親水性を付与することができる。その結果、毛髪間のメニスカス力が増大し、毛髪のシュリンク抑制効果を高めることができる。前記処理剤が適用された毛髪の洗浄方法は特に制限はなく、例えば水を用いて公知の方法により毛髪を濯ぐことにより行うことができる。
本発明の毛髪処理剤の毛髪への具体的な適用方法としては、例えば、毛髪処理剤がシャンプー等の毛髪洗浄剤である場合は、該毛髪洗浄剤を毛髪に塗布し、泡立てて毛髪を洗浄した後、水で洗い流す方法;毛髪処理剤がコンディショナー、トリートメント、染毛剤等の毛髪化粧料である場合は、該毛髪化粧料を毛髪に塗布し、必要に応じて短時間(0.1~5分程度)放置した後に水で洗い流す方法が挙げられる。以上のような工程を日常的に繰り返すことにより、容易に、かつ短期間で毛髪のシュリンクを抑制することができる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。なお、各種測定は、以下の方法により行った。
(成分(A)の重量平均分子量)
ゲル浸透クロマトグラフィー法を用いて下記の測定条件により測定した。
〔測定条件〕
カラム:「TSKgel α-M」(東ソー(株)製)を2本直列に連結
カラム温度:40℃
溶離液:0.15mol/LNa2SO4/1質量%CH3COOH水溶液
流速:1.0mL/min
検出器:示差屈折率検出器
サンプルサイズ:5mg/mL
標準物質:プルラン
ゲル浸透クロマトグラフィー法を用いて下記の測定条件により測定した。
〔測定条件〕
カラム:「TSKgel α-M」(東ソー(株)製)を2本直列に連結
カラム温度:40℃
溶離液:0.15mol/LNa2SO4/1質量%CH3COOH水溶液
流速:1.0mL/min
検出器:示差屈折率検出器
サンプルサイズ:5mg/mL
標準物質:プルラン
(成分(B)の重量平均分子量)
〔測定条件〕
カラム:「TSKgel G4000PWXL」+「TSKgel G2500PWXL」(東ソー(株))
カラム温度:40℃
溶離液:0.2Mリン酸バッファー/CH3CN=9/1(体積比)
流速:1.0mL/min
検出器:示差屈折率検出器
サンプルサイズ:5mg/mL
標準物質:プルラン
〔測定条件〕
カラム:「TSKgel G4000PWXL」+「TSKgel G2500PWXL」(東ソー(株))
カラム温度:40℃
溶離液:0.2Mリン酸バッファー/CH3CN=9/1(体積比)
流速:1.0mL/min
検出器:示差屈折率検出器
サンプルサイズ:5mg/mL
標準物質:プルラン
製造例1(ポリマーA1の製造)
(工程1)
内容量1000mLの四つ口フラスコにエタノール(富士フイルム和光純薬(株)製)を126.30g入れ、78℃に昇温して還流させた。そこにメタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)181.12g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液20.98g、及びエタノール53.20gを混合させた溶液と、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)5.83g及びエタノール10.00gを混合させた溶液とをそれぞれ2時間かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、78℃で4時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。
なお、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液は、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)と硫酸ジエチル(富士フイルム和光純薬(株)製)とをmol比(1:1)で混合して得た。
(工程2)
内容量1000mLの四つ口フラスコに、工程1で得られたポリマー溶液94.70g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3.15g、及び水を150.00g添加し、50℃に昇温した。そこに1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)38.70gを1時間かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、50℃で3時間熟成させた後に、90℃/20kPaで2時間減圧加熱することによりエタノールを留去し、ポリマーA1(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA1の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
(工程1)
内容量1000mLの四つ口フラスコにエタノール(富士フイルム和光純薬(株)製)を126.30g入れ、78℃に昇温して還流させた。そこにメタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)181.12g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液20.98g、及びエタノール53.20gを混合させた溶液と、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)5.83g及びエタノール10.00gを混合させた溶液とをそれぞれ2時間かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、78℃で4時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。
なお、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液は、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)と硫酸ジエチル(富士フイルム和光純薬(株)製)とをmol比(1:1)で混合して得た。
(工程2)
内容量1000mLの四つ口フラスコに、工程1で得られたポリマー溶液94.70g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)3.15g、及び水を150.00g添加し、50℃に昇温した。そこに1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)38.70gを1時間かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、50℃で3時間熟成させた後に、90℃/20kPaで2時間減圧加熱することによりエタノールを留去し、ポリマーA1(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA1の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例2(ポリマーA2の製造)
製造例1において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を133.76g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液を73.60g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を2.04g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)を7.15g、及び1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)を111.2gに変更し、ポリマーA2(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA2の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例1において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を133.76g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液を73.60g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を2.04g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)を7.15g、及び1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)を111.2gに変更し、ポリマーA2(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA2の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例3(ポリマーA3の製造)
製造例1において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を86.19g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液を126.46g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.76g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)を4.61g、及び1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)を71.65gに変更し、ポリマーA3(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA3の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例1において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を86.19g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩の90%水溶液を126.46g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.76g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)を4.61g、及び1,3-プロパンスルトン(東京化成工業(株)製)を71.65gに変更し、ポリマーA3(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチルジエチル硫酸塩共重合体)を含有する水溶液を得た。ポリマーA3の構成単位(a1)の含有量及び構成単位(a2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例4(ポリマーB1の製造)
(工程1)
内容量500mLの四つ口フラスコにエタノール(富士フイルム和光純薬(株)製)155.38g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)77.76g、及びメタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)2.24gを入れ、65℃に昇温して還流させた。そこに、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)1.29g及びエタノール30.00gを混合させた溶液を添加し、6時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。
得られたポリマー溶液をヘキサン(富士フイルム和光純薬(株)製)を用いて再沈殿してポリマーを回収した。50℃/20kPaで12時間減圧加熱することで溶媒を留去し、乾燥したポリマーを得た。
(工程2)
内容量200mLの四つ口フラスコに、工程1で得られた乾燥したポリマー20.00g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)1.59g、エタノール(富士フイム和光純薬(株)製)40.00g、及び水40.00gを添加し、50℃に昇温した。そこに1,3-プロパンスルトン(関東化学(株)製)16.61gを40分かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、50℃で5時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をアセトン(富士フイルム和光純薬(株)製)を用いて再沈殿してポリマーを回収し、50℃/20kPaで12時間減圧加熱することで溶媒を留去し、乾燥したポリマーB1(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB1の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
(工程1)
内容量500mLの四つ口フラスコにエタノール(富士フイルム和光純薬(株)製)155.38g、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)77.76g、及びメタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)2.24gを入れ、65℃に昇温して還流させた。そこに、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)1.29g及びエタノール30.00gを混合させた溶液を添加し、6時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。
得られたポリマー溶液をヘキサン(富士フイルム和光純薬(株)製)を用いて再沈殿してポリマーを回収した。50℃/20kPaで12時間減圧加熱することで溶媒を留去し、乾燥したポリマーを得た。
(工程2)
内容量200mLの四つ口フラスコに、工程1で得られた乾燥したポリマー20.00g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)1.59g、エタノール(富士フイム和光純薬(株)製)40.00g、及び水40.00gを添加し、50℃に昇温した。そこに1,3-プロパンスルトン(関東化学(株)製)16.61gを40分かけて滴下して反応を行った。滴下終了後、50℃で5時間熟成させた後に冷却し、ポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をアセトン(富士フイルム和光純薬(株)製)を用いて再沈殿してポリマーを回収し、50℃/20kPaで12時間減圧加熱することで溶媒を留去し、乾燥したポリマーB1(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB1の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例5(ポリマーB2の製造)
製造例4において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を75.41g、メタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)を4.59g、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.32g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)2.13g、及び1,3-プロパンスルトンを16.11gに変更し、ポリマーB2(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB2の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例4において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を75.41g、メタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)を4.59g、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.32g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)2.13g、及び1,3-プロパンスルトンを16.11gに変更し、ポリマーB2(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB2の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例6(ポリマーB3の製造)
製造例4において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を58.60g、メタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)を21.40g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.54g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)9.00g、及び1,3-プロパンスルトンを12.52gに変更し、ポリマーB3(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB3の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
製造例4において、メタクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル(富士フイルム和光純薬(株)製)を58.60g、メタクリル酸(富士フイルム和光純薬(株)製)を21.40g、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(富士フイルム和光純薬(株)製)を1.54g、炭酸水素ナトリウム(富士フイルム和光純薬(株)製)9.00g、及び1,3-プロパンスルトンを12.52gに変更し、ポリマーB3(N-(3-スルホプロピル)-N-メタクリロイルオキシエチル-N,N-ジメチルアンモニウムベタイン/メタクリル酸共重合体)を得た。ポリマーB3の構成単位(b1)の含有量及び構成単位(b2)の含有量、重量平均分子量及び電荷密度は、表1及び表2に示す。
〔表面処理組成物の調製〕
実施例1~14、比較例1~3
表1及び表2に示す配合組成に従って、成分(A)として製造例1~3で得られたポリマーA1~A3、成分(B)として製造例4~6で得られたポリマーB1~B3、成分(C)として塩化ナトリウム、及び水を混合して、各表面処理組成物を調製し、以下の評価を実施した。結果を表1及び表2に示す。
なお、表中の各成分の配合量は、いずれも有効成分量(質量%)である。
実施例1~14、比較例1~3
表1及び表2に示す配合組成に従って、成分(A)として製造例1~3で得られたポリマーA1~A3、成分(B)として製造例4~6で得られたポリマーB1~B3、成分(C)として塩化ナトリウム、及び水を混合して、各表面処理組成物を調製し、以下の評価を実施した。結果を表1及び表2に示す。
なお、表中の各成分の配合量は、いずれも有効成分量(質量%)である。
(親水化効果の評価)
以下の方法により、表面処理組成物により表面処理をした基板の接触角を測定し、親水化効果を評価した。
(1)測定用基板の準備
内容量200mLのビーカーに、調製した表面処理組成物10mLを添加し、基板(縦15mm×横25mm×厚さ1mmのポリプロピレン板)を1分浸漬した後、イオン交換水190mLを添加して希釈した。希釈後、基板を液から取り出し、イオン交換水を用いて20秒間洗浄した。その後、乾燥させずに超純水に浸し、水中接触角の測定用基板として下記(2)の測定に用いた。
(2)水中接触角の測定
前記(1)で準備した測定用基板を三態系用の試料台に貼りつけ、超純水を入れた三態系用のセルに入れた。測定用基板をセットしたセルを全自動接触角測定計(協和界面科学(株)製「DM-701」)のステージに配置し、1μLの空気を付着させて0.2秒後の水中接触角の値を接線法により求めた。
接触角の値は、得られた水中接触角の値を180°から差し引いた値を用いる。接触角の値が小さいほど、親水化効果が高い。
以下の方法により、表面処理組成物により表面処理をした基板の接触角を測定し、親水化効果を評価した。
(1)測定用基板の準備
内容量200mLのビーカーに、調製した表面処理組成物10mLを添加し、基板(縦15mm×横25mm×厚さ1mmのポリプロピレン板)を1分浸漬した後、イオン交換水190mLを添加して希釈した。希釈後、基板を液から取り出し、イオン交換水を用いて20秒間洗浄した。その後、乾燥させずに超純水に浸し、水中接触角の測定用基板として下記(2)の測定に用いた。
(2)水中接触角の測定
前記(1)で準備した測定用基板を三態系用の試料台に貼りつけ、超純水を入れた三態系用のセルに入れた。測定用基板をセットしたセルを全自動接触角測定計(協和界面科学(株)製「DM-701」)のステージに配置し、1μLの空気を付着させて0.2秒後の水中接触角の値を接線法により求めた。
接触角の値は、得られた水中接触角の値を180°から差し引いた値を用いる。接触角の値が小さいほど、親水化効果が高い。
(配合安定性の評価)
調製した表面処理組成物10mLの調製直後の表面処理組成物の状態を目視観察し、下記の評価基準に従い、配合安定性を評価した。下記の評価基準で3であれば配合安定性に優れる。下記の評価基準で3であれば実用上特に好適であり、下記の評価基準で2であれば実用上好適である。
〔評価基準〕
3:析出物が認められず、均一で透明な状態である。
2:析出物が認められるが、微細で全体に均一に分散し、白濁した状態である。
1:析出物が認められ、局所的に凝集(分離)又は沈殿している。
調製した表面処理組成物10mLの調製直後の表面処理組成物の状態を目視観察し、下記の評価基準に従い、配合安定性を評価した。下記の評価基準で3であれば配合安定性に優れる。下記の評価基準で3であれば実用上特に好適であり、下記の評価基準で2であれば実用上好適である。
〔評価基準〕
3:析出物が認められず、均一で透明な状態である。
2:析出物が認められるが、微細で全体に均一に分散し、白濁した状態である。
1:析出物が認められ、局所的に凝集(分離)又は沈殿している。
(吸着性の評価)
調製した表面処理組成物10mLにイオン交換水190mLを添加して希釈した。希釈後の表面処理組成物の状態を目視観察し、下記の評価基準に従い、吸着性を評価した。下記の評価基準で3であれば吸着性に優れる。下記の評価基準で3であれば実用上特に好適であり、下記の評価基準で2であれば実用上好適である。
〔評価基準〕
3:微細で全体に均一に分散した析出物が認められ、白濁した状態である。
2:析出物が認められず、均一で透明な状態である。
1:粗大な凝集物又は沈殿が認められる。
ここで、本発明の表面処理組成物を用いて処理対象物を処理する際、希釈時にポリイオンコンプレックスが形成されて析出することにより、該ポリイオンコンプレックスが処理対象物に吸着することで親水化処理の効果が高まると考えられる。そのため、希釈時に析出物が微細で全体に均一に分散し、白濁した状態であるものをスコア3とした。また、ポリイオンコンプレックスの析出により凝集物又は沈殿が認められるものは、処理対象物の表面を均一に処理することができないと推察されるため、スコア1とした。
調製した表面処理組成物10mLにイオン交換水190mLを添加して希釈した。希釈後の表面処理組成物の状態を目視観察し、下記の評価基準に従い、吸着性を評価した。下記の評価基準で3であれば吸着性に優れる。下記の評価基準で3であれば実用上特に好適であり、下記の評価基準で2であれば実用上好適である。
〔評価基準〕
3:微細で全体に均一に分散した析出物が認められ、白濁した状態である。
2:析出物が認められず、均一で透明な状態である。
1:粗大な凝集物又は沈殿が認められる。
ここで、本発明の表面処理組成物を用いて処理対象物を処理する際、希釈時にポリイオンコンプレックスが形成されて析出することにより、該ポリイオンコンプレックスが処理対象物に吸着することで親水化処理の効果が高まると考えられる。そのため、希釈時に析出物が微細で全体に均一に分散し、白濁した状態であるものをスコア3とした。また、ポリイオンコンプレックスの析出により凝集物又は沈殿が認められるものは、処理対象物の表面を均一に処理することができないと推察されるため、スコア1とした。
(ハンドリング性の評価)
調製した表面処理剤組成物50mLをスクリュー管(株式会社マルエム製 No.7)に入れ、5回上下に振とう、その直後から目視により消泡するまでの時間を測定し、下記の評価基準により評価した。消泡までの時間が短い程、表面処理組成物の粘度が低く、ハンドリング性に優れる傾向にある。そのため、下記の評価基準でAであれば、処理対象物に表面処理を行う際のハンドリング性に優れることを意味する。
〔評価基準〕
A:消泡までの時間が600秒未満
B:消泡までの時間が600秒以上
なお、評価Bである実施例13の表面処理組成物の粘度を、B型粘度計(東機産業(株)社製「TVB-10形」)を用いて測定したところ、59mPa・sであった。測定条件は、サンプル量:50mL、SPINDLE No.:M2、回転数:30rpmで行った。
調製した表面処理剤組成物50mLをスクリュー管(株式会社マルエム製 No.7)に入れ、5回上下に振とう、その直後から目視により消泡するまでの時間を測定し、下記の評価基準により評価した。消泡までの時間が短い程、表面処理組成物の粘度が低く、ハンドリング性に優れる傾向にある。そのため、下記の評価基準でAであれば、処理対象物に表面処理を行う際のハンドリング性に優れることを意味する。
〔評価基準〕
A:消泡までの時間が600秒未満
B:消泡までの時間が600秒以上
なお、評価Bである実施例13の表面処理組成物の粘度を、B型粘度計(東機産業(株)社製「TVB-10形」)を用いて測定したところ、59mPa・sであった。測定条件は、サンプル量:50mL、SPINDLE No.:M2、回転数:30rpmで行った。
表1及び表2より、実施例の表面処理組成物は、配合安定性及び吸着性に優れ、比較例のものと比べて接触角が小さく、親水化効果が高いことがわかる。
本発明の表面処理組成物を毛髪へ適用した際のシュリンク抑制効果について、以下に示す方法によりシュリンク率を測定し、評価した。
(毛髪のシュリンク抑制効果の評価)
実施例1、比較例1及び2で調製した各処理液10mLを、1gのアフリカ系アメリカ人の毛髪トレスに塗布し、1分間静置後、水道水で20回指を通しながら濯ぐことにより、評価用トレスを得た。得られたトレスを、水道水を入れたポリカップに30秒間浸漬した後、一気に引き上げ、大気中で30分間静置した。30分経過後のトレスの図1に示す最大長(Lmax)及び最大幅(Wmax)を測定し、シュリンク係数(Shrink Coefficient)(=Wmax/Lmax)を算出した。
ここで、以下に示す組成のプレーンシャンプーで洗ったトレスを水道水を入れたポリカップに浸漬し、引き揚げた直後のシュリンク係数を「シュリンク率」が0であるとし、前記プレーンシャンプーで洗った後、市販のコンディショナー(花王(株)製「エッセンシャルヘアコンディショナー」)で処理したトレスを水道水を入れたポリカップに浸漬し、引き揚げてから30分経過後のシュリンク係数を「シュリンク率」が100であるとして、それらの値から、シュリンク係数を規格化したものを、シュリンク率とした。結果を表3に示す。
<プレーンシャンプーの組成>
(プレーンシャンプー) (質量%)
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム
(エマールE-27C(有効成分27質量%)、花王(株)製) 42
ヤシ油脂肪酸N-メチルエタノールアミド
(アミノーン C-11S、花王(株)製) 3
クエン酸 0.2
メチルパラベン 0.3
精製水 残 余
計 100
(毛髪のシュリンク抑制効果の評価)
実施例1、比較例1及び2で調製した各処理液10mLを、1gのアフリカ系アメリカ人の毛髪トレスに塗布し、1分間静置後、水道水で20回指を通しながら濯ぐことにより、評価用トレスを得た。得られたトレスを、水道水を入れたポリカップに30秒間浸漬した後、一気に引き上げ、大気中で30分間静置した。30分経過後のトレスの図1に示す最大長(Lmax)及び最大幅(Wmax)を測定し、シュリンク係数(Shrink Coefficient)(=Wmax/Lmax)を算出した。
ここで、以下に示す組成のプレーンシャンプーで洗ったトレスを水道水を入れたポリカップに浸漬し、引き揚げた直後のシュリンク係数を「シュリンク率」が0であるとし、前記プレーンシャンプーで洗った後、市販のコンディショナー(花王(株)製「エッセンシャルヘアコンディショナー」)で処理したトレスを水道水を入れたポリカップに浸漬し、引き揚げてから30分経過後のシュリンク係数を「シュリンク率」が100であるとして、それらの値から、シュリンク係数を規格化したものを、シュリンク率とした。結果を表3に示す。
<プレーンシャンプーの組成>
(プレーンシャンプー) (質量%)
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム
(エマールE-27C(有効成分27質量%)、花王(株)製) 42
ヤシ油脂肪酸N-メチルエタノールアミド
(アミノーン C-11S、花王(株)製) 3
クエン酸 0.2
メチルパラベン 0.3
精製水 残 余
計 100
表3より、接触角が低いほどシュリンク率の値が低いことがわかる。このことから、毛髪表面に高い親水性を付与することができ、その結果シュリンク抑制効果を向上させることができることがわかる。
本発明の表面処理組成物によれば、固体表面に高い親水性を付与することができ、特に毛髪への適用においては高いシュリンク抑制効果を得ることができる。
Claims (13)
- 次の成分(A)及び成分(B):
(A)少なくともベタイン基とカチオン性基とを含むカチオン性ポリマー
(B)少なくともベタイン基とアニオン性基とを含むアニオン性ポリマー
を含有する、表面処理組成物。 - 下記式(I)で表される成分(A)のカチオン量と下記式(II)で表される成分(B)のアニオン量との当量比〔(成分(A)のカチオン量)/(成分(B)のアニオン量)〕が0.1以上10以下である、請求項1に記載の表面処理組成物。
成分(A)のカチオン量=〔成分(A)のカチオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(A)の含有量又は配合量(g)〕 (I)
成分(B)のアニオン量=〔成分(B)のアニオン電荷密度(meq/g)〕×〔表面処理組成物中の成分(B)の含有量又は配合量(g)〕 (II) - 成分(C)として電解質を更に含有する、請求項1又は2に記載の表面処理組成物。
- 成分(C)の含有量が、0.1質量%以上10質量%以下である、請求項3に記載の表面処理組成物。
- 成分(A)が、下記式(1)で表されるベタイン基を有する構成単位(a1)と下記式(2)で表されるカチオン性基を有する構成単位(a2)とを少なくとも含むポリマーである、請求項1~4のいずれかに記載の表面処理組成物。
〔式(1)中、
R1~R3は、同一又は異なって、水素原子、又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
R4は、炭素数1以上4以下のアルキレン基、又は-Y1-OPO3 --Y2-を示し、Y1及びY2は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
R5及びR6は、同一又は異なって、炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X1は、酸素原子又はNR7基を示し、R7は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
X2は、R4が炭素数1以上4以下のアルキレン基のとき、R17SO3 -、又はR17COO-を示し、R17は水酸基を有してもよい炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、X2は、R4が-Y1-OPO3 --Y2-のとき、水素原子、又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示す。〕
〔式(2)中、
R8~R10は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1もしくは2のアルキル基を示し、
X3は、酸素原子又はNR18基を示し、R18は、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、
R11は、炭素数1以上4以下のアルキレン基を示し、
X4は、N+R12R13R14X5又はNR15R16を示し、R12~R16は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1以上4以下の炭化水素基を示し、X5は陰イオンを示す。〕 - 成分(A)の全構成単位中の構成単位(a1)の含有量が70mol%以上である、請求項5に記載の表面処理組成物。
- 成分(B)の全構成単位中の構成単位(b1)の含有量が70mol%以上である、請求項7に記載の表面処理組成物。
- 成分(A)及び成分(B)の合計含有量が、0.1質量%以上30質量%以下である、請求項1~8のいずれかに記載の表面処理組成物。
- 請求項1~9のいずれかに記載の表面処理組成物を含有する、毛髪処理剤。
- 毛髪シュリンク抑制剤である、請求項10に記載の毛髪処理剤。
- 請求項1~9のいずれかに記載の表面処理組成物を固体表面へ適用する工程Iを含む、表面処理方法。
- 工程Iにより固体表面に適用された表面処理組成物を希釈する工程IIを含む、請求項12に記載の表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021066578A JP2022161630A (ja) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 表面処理組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021066578A JP2022161630A (ja) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 表面処理組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022161630A true JP2022161630A (ja) | 2022-10-21 |
Family
ID=83658452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021066578A Pending JP2022161630A (ja) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 表面処理組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022161630A (ja) |
-
2021
- 2021-04-09 JP JP2021066578A patent/JP2022161630A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5245397B2 (ja) | ブロックポリマー及びその製造方法と、このブロックポリマーを含有した化粧料組成物 | |
US8158115B2 (en) | Copolymer and detergent composition employing it | |
RU2002129801A (ru) | Косметические композиции, содержащие аминированный силикон и компонент с кондиционирующим действием, и их применения | |
JP2001181601A (ja) | 防汚組成物 | |
JP6254835B2 (ja) | 共重合体の製造方法 | |
JP2012106985A (ja) | 共重合体、化粧料組成物および毛髪化粧料 | |
JP2007137830A (ja) | 化粧料組成物 | |
JP2009235059A (ja) | 毛髪用洗浄剤組成物 | |
JP2022161628A (ja) | 表面処理組成物 | |
WO2019102823A1 (ja) | 親水化処理剤 | |
JP2010024267A (ja) | シリコーン含有ブロックポリマーと、このシリコーン含有ブロックポリマーを含む化粧料組成物 | |
US20220008319A1 (en) | Hair cosmetic and hair treatment method using same | |
JP2022161630A (ja) | 表面処理組成物 | |
JP7042063B2 (ja) | 親水化処理剤 | |
JP2022161623A (ja) | 表面処理組成物 | |
JP6167635B2 (ja) | 共重合体、化粧料組成物及びコンディショニング剤 | |
JP2017179121A (ja) | 共重合体、これを含む溶液、毛髪化粧料組成物、毛髪洗浄剤、コンディショニング剤、アウトバストリートメント剤 | |
JP2022161634A (ja) | 固体表面親水化方法 | |
JP6167636B2 (ja) | 化粧料組成物及びコンディショニング剤 | |
JP4171497B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP4037971B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP5818564B2 (ja) | 毛髪化粧料組成物 | |
JP2023180172A (ja) | 表面処理組成物 | |
JP3762119B2 (ja) | 毛髪化粧料 | |
JP2023180173A (ja) | 表面処理組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240318 |