JP2022160249A - 易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体 - Google Patents
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Abstract
【課題】有機溶媒に溶けやすくする２つ以上の置換基と、反応させやすくする２つ以上のハロゲノ基等を有し、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を提供する。【解決手段】分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上とを有し、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。【選択図】 なし
Description
本発明は、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に関する。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、機能性材料として有望な材料である。ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン構造の最大の特徴は、非平面性の高いパイ共役系構造にあり、多くの興味がもたれてきた。ここで、非平面性とは、π共役系芳香族基がらせん状にねじれていることを意味し、らせん構造が薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子として期待されている。光量子物性（量子収率・励起寿命）、電子的特性、耐熱性において潜在的価値が高く、高分子材料へ組み込むことが試みられている。また、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは屈折率が高く、プラスチックレンズなどの光学材料としても期待されている。
しかしながら、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、反応性置換基を有しておらず、機能性材料として使用するためには反応性置換基を導入する必要がある。たとえば、ハロゲン、窒素、酸素、硫黄等のヘテロ原子を導入し、該ヘテロ原子を他の置換基に変換後、末端に三員環エーテル、メタクリレート基、末端アルケン等の重合可能な置換基を導入して、重合させたり高分子の側鎖や末端に反応させたりして機能性材料を作製する必要がある。しかしながら、多環式芳香族炭化水素は、有機溶媒に溶けにくいという問題がある。
非特許文献１には、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの２位と１０位に水酸基を、６位と１４位にｎ－ヘキシル基を有し、有機溶媒に対する溶解性が改善された化合物が開示されているが、分岐構造を有するアルキル基も、全ての置換基の数が６以上である化合物も開示されていない。また、非特許文献２には、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンの７位と１０位にブロモ基を、２位と１５位にｔ－ブチル基を、それぞれ有する化合物が開示されているが、全ての置換基の数が６以上である化合物は開示されていない。
特許文献１には、複数の置換基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体が開示されているが、３つのヨード基を有する誘導体までしか開示されておらず、６つ以上の置換基を有する誘導体の製造方法も開示されていない。特許文献２には、複数の置換基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体が開示されているが、４つのヨード基を有する誘導体は開示されているが、それ以外の置換基を有する誘導体は開示されておらず、その製造方法も開示されていない。
Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０１９，５８，７３８５－７３８９
Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ，２０１７，６３６，８－１４
本発明は、有機溶媒に溶けやすくする２つ以上の置換基と、反応させやすくする２つ以上のハロゲノ基等を有し、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上とを有し、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に関する。
前記誘導体において、下記式
、または、
であることが好ましい。
また、本発明は、分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上と、フルオレン骨格とを有し、全ての置換基の数が６以上であるスピロケトン誘導体に関する。
前記誘導体は、下記式
、または、
であることが好ましい。
さらに、本発明は、（ａ）分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を有し、全ての置換基の数が３以上であるフルオレノン誘導体を二量化し、スピロケトン誘導体を作製する工程、
（ｂ）得られたスピロケトン誘導体を還元し、水酸基を有するスピロケトン誘導体を作製する工程、および、
（ｃ）得られたスピロケトン誘導体を脱水し、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を得る工程
を含む前記ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法に関する。
（ｂ）得られたスピロケトン誘導体を還元し、水酸基を有するスピロケトン誘導体を作製する工程、および、
（ｃ）得られたスピロケトン誘導体を脱水し、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を得る工程
を含む前記ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法に関する。
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、嵩高い分岐構造を有するアルキル基と、さまざまな官能基に変換可能なハロゲノ基等を有する９―フルオレノンを二量化して、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を作製した。複数の嵩高い分岐構造を有するアルキル基等により、有機溶媒に対する溶解性が非常に高いという効果を奏する。また、複数の臭素原子等により、位置を定めて官能基を導入できる足場分子（プラットホーム型分子）の開発につながり、分子多様性を確保する性能を有している。実際に、臭素原子を水酸基に変換することにも成功し、さまざまな種類の置換基を有するジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を創出・創製できることを示すことができた。
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、
分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上とを有し、全ての置換基の数が６以上であることを特徴とする。
分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上とを有し、全ての置換基の数が６以上であることを特徴とする。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンは、下記化学式
で表される化合物である。各炭素の置換位置を図中に示す。
分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基の個数は２個以上であるが、４個以上が好ましい。上限は８個以下が好ましい。ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基の数は２個以上であり、上限は８個以下が好ましい。
アルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基の中でも、幅広い種類の有機溶媒に対する溶解性の点で、アルキル基が好ましい。
アルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基の置換位置は特に限定されないが、３、６、１１、１４位の位置に置換されていることが好ましい。
ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基なる群から選択される置換基の置換位置は特に限定されないが、１，３、６、８、９、１１、１４、１６位の位置に置換されていることが好ましい。
分枝構造を有するアルキル基の炭素数は３～１２が好ましく、３～８がより好ましい。例えば、ｉｓｏ－プロピル、ｉｓｏ－ブチル、ｔ－ブチル、２，２－ジメチルプロピル、ｉｓｏ－ヘキシル、ｉｓｏ－ヘプチル、ｉｓｏ－オクチル、ｉｓｏ－ノニル、ｉｓｏ－デシル、ｉｓｏ－ウンデシル、ｉｓｏ－ドデシル等が挙げられる。なかでも、ｉｓｏ－プロピル、ｉｓｏ－ブチル、ｔ－ブチルが好ましい。アルケニル基は、前記アルキル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキニル基は、前記アルキル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられ、ブロモ基が好ましい。
アルキルエーテル基としては、置換基を有していてもよい直鎖状又は分枝状のアルキルエーテル基が挙げられる。アルキルエーテル基の炭素数は１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。例えば、メチルエーテル基、エチルエーテル基、ノルマルプロピルエーテル基、イソプロピルエーテル基、ｎ－ブチルエーテル基、２―メチルプロピルエーテル基、ｎ－ペンチルエーテル基、２，２－ジメチルプロピルエーテル基、ｎ－ヘキシルエーテル基、ｎ－ヘプチルエーテル基、ｎ－オクチルエーテル基、ｎ－ノニルエーテル基、ｎ－デシルエーテル基、ｎ－ウンデシルエーテル基、ｎ－ドデシルエーテル基等が挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、プロピルエーテル基、ｎ－ブチルエーテル基、２―メチルプロピルエーテル基、ｎ－ペンチルエーテル基、２，２－ジメチルプロピルエーテル基、ｎ－ヘキシルエーテル基が好ましい。アルケニルエーテル基は、前記アルキルエーテル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキニルエーテル基は、前記アルキルエーテル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
ポリオキシアルキレン基としては、アルキレンジオールの単独重合体または共重合体の末端の水素を取った置換基である。このような置換基を導入することで、水または水溶性有機溶媒に溶解しやすくなる。ポリオキシアルキレンとしては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等が挙げられる。重合度は、ポリエチレングリコールの場合には４～４５０が好ましく、ポリエチレンオキシドの場合には４５０～１００００が好ましい。
全ての置換基の数は６以上であり、上限は１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。
前記ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の中でも、下記式
、または、
で表される化合物が好ましい。
また、本発明のスピロケトン誘導体は、分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上と、フルオレン骨格とを有し、全ての置換基の数が６以上であることを特徴とする。
分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基の個数は２個以上であるが、４個以上が好ましい。上限は８個以下が好ましい。ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基の数は２個以上であり、上限は８個以下が好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基の中でも、幅広い種類の有機溶媒に対する溶解性の点で、アルキル基が好ましい。
アルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基の置換位置は特に限定されないが、３、６、１１、１４位の位置に置換されていることが好ましい。
ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基の置換位置は特に限定されないが、１，３、６、８、９、１１、１４、１６位の位置に置換されていることが好ましい。
分枝構造を有するアルキル基の炭素数は３～１２が好ましく、３～８がより好ましい。例えば、ｉｓｏ－プロピル、ｉｓｏ－ブチル、ｔ－ブチル、２，２－ジメチルプロピル、ｉｓｏ－ヘキシル、ｉｓｏ－ヘプチル、ｉｓｏ－オクチル、ｉｓｏ－ノニル、ｉｓｏ－デシル、ｉｓｏ－ウンデシル、ｉｓｏ－ドデシル等が挙げられる。なかでも、ｉｓｏ－プロピル、ｉｓｏ－ブチル、ｔ－ブチルが好ましい。アルケニル基は、前記アルキル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキニル基は、前記アルキル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
ハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が挙げられ、ブロモ基が好ましい。
アルキルエーテル基としては、置換基を有していてもよい直鎖状又は分枝状のアルキルエーテル基が挙げられる。アルキルエーテル基の炭素数は１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。例えば、メチルエーテル基、エチルエーテル基、プロピルエーテル基、ｎ－ブチルエーテル基、２―メチルプロピルエーテル基、ｎ－ペンチルエーテル基、２，２－ジメチルプロピルエーテル基、ｎ－ヘキシルエーテル基、ｎ－ヘプチルエーテル基、ｎ－オクチルエーテル基、ｎ－ノニルエーテル基、ｎ－デシルエーテル基、ｎ－ウンデシルエーテル基、ｎ－ドデシルエーテル基等が挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、プロピルエーテル基、ｎ－ブチルエーテル基、２―メチルプロピルエーテル基、ｎ－ペンチルエーテル基、２，２－ジメチルプロピルエーテル基、ｎ－ヘキシルエーテル基が好ましい。アルケニルエーテル基は、前記アルキルエーテル基の内部または末端に二重結合を有する基であり、アルキニルエーテル基は、前記アルキルエーテル基の内部または末端に三重結合を有する基である。
ポリオキシアルキレン基としては、アルキレンジオールの単独重合体または共重合体の末端の水素を取った置換基である。このような置換基を導入することで、水または水溶性有機溶媒に溶解しやすくなる。ポリオキシアルキレンとしては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等が挙げられる。重合度は、ポリエチレングリコールの場合には４～４５０が好ましく、ポリエチレンオキシドの場合には４５０～１００００が好ましい。
全ての置換基の数は６以上であり、上限は１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。
前記誘導体は、下記式
または、
であることが好ましい。
また、本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法は、
（ａ）分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を有し、全ての置換基の数が３以上であるフルオレノン誘導体を二量化し、スピロケトン誘導体を作製する工程、
（ｂ）得られたスピロケトン誘導体を還元し、水酸基を有するスピロケトン誘導体を作製する工程、および、
（ｃ）得られたスピロケトン誘導体を脱水し、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を得る工程
を含むことを特徴とする。
（ａ）分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を有し、全ての置換基の数が３以上であるフルオレノン誘導体を二量化し、スピロケトン誘導体を作製する工程、
（ｂ）得られたスピロケトン誘導体を還元し、水酸基を有するスピロケトン誘導体を作製する工程、および、
（ｃ）得られたスピロケトン誘導体を脱水し、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を得る工程
を含むことを特徴とする。
全ての置換基の数が３以上であるフルオレノン誘導体における分岐構造を有するアルキル基等の置換基、ハロゲノ基等の置換基は、前述した置換基と同じ置換基である。全ての置換基の数は３以上であり、上限は５以下が好ましく、４以下がより好ましい。
フルオレノン誘導体の二量化方法は特に限定されず、亜リン酸トリアルキルなどの酸素親和性の高いルイス塩基試薬の存在下で行う方法が挙げられる。亜リン酸トリアルキルなどの活性化試薬は２当量以上が好ましい。反応温度は特に限定されず、９０～２００℃が好ましい。
スピロケトン誘導体の還元法は特に限定されず、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウムなどが挙げられる。
水酸基を有するスピロケトン誘導体の脱水法は特に限定されず、二塩化エチルアルミニウム、三塩化アルミニウム、濃塩酸、塩酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げられる。
得られたジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体に、ハロゲノ基を有する場合には、ナトリウムアルコキシドとヨウ化銅や臭素化銅や塩化銅などによって、ハロゲノ基をアルコキシ基に変換することができる。
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体、および、スピロケトン誘導体は、高分子材料、光機能性材料、電子材料の分野に適用される。具体的には、リソグラフィー用材料、有機ＥＬ用材料、接着剤等の樹脂用材料、スーパーエンジニアリングプラスチック用材料等が挙げられる。特に、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子や、その前駆体の化合物として応用可能である。また、屈折率が高く、プラスチックレンズなどの光学材料として応用可能である。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されない。
実施例において、禁水反応はアルゴンまたは窒素雰囲気下で行なっており、特に断りのない限り実験は禁水条件で実施した。購入した無水溶媒・試薬は、改めて精製して純度を向上させることなく使用した。薄層クロマトグラフィーとしてＭｅｒｃｋ ｓｉｌｉｃａ ６０Ｆ２５４を使用し、カラムクロマトグラフィーとしてシリカゲル６０Ｎ（関東化学（株）製）を用いた。高分解能質量測定（ＨＲＭＳ）として飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦまたはＬＣＭＳ－ＩＴ－ＴＯＦ）または直接質量分析法（ＤＡＲＴ－ＭＳ）のいずれかを用いた。
１Ｈ－ＮＭＲ、１３Ｃ－ＮＭＲスペクトルについては、５ｍｍのＱＮＰプローブを用い、それぞれ４００ＭＨｚ、１００ＭＨｚで測定した。化学シフト値はδ（ｐｐｍ）で示しており、それぞれの溶媒中での基準値は１Ｈ－ＮＭＲ：ＣＨＣｌ３（７．２６），ＣＨ２Ｃｌ２（５．３２）、ＤＭＳＯ（２．５０）；１３Ｃ－ＮＭＲ：ＣＤＣｌ３（７７．０）、ＤＭＳＯ（３９．５）としている。分裂のパターンは、ｓ：単一線、ｄ：二重線、ｔ：三重線、ｑ：四重線、ｍ：多重線、ｂｒ：幅広線で示す。
合成例１
４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（化合物１）の合成
空気下、２００ｍＬの一径フラスコに４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレン（５．７２ｇ，１６ｍｍｏｌ）とピリジン（３２ｍＬ）と塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物（８６４ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）を加えた。ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（６．６ｍＬ，４８ｍｍｏｌ，７０％水溶液）を５分かけて滴下後、８０℃に昇温した。反応１時間後、さらにｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（２．２ｍＬ，１６ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、１時間後に原料の完全消失を確認した。反応溶液をシリカゲルとセライトを詰めたグラスフィルターで濾過、除媒濃縮後、得られた黄色固体を塩化メチレン（３０ｍＬ）に溶かし抽出操作を行った。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝乾燥、除媒濃縮後、黄色の粗生成物５．８３ｇを得た。これをイソプロピルアルコール（８．４ｍＬ／ｇ）で再結晶操作を行い、化合物１を５．２２ｇ（８８％）の黄色の結晶として得た。
４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（化合物１）の合成
空気下、２００ｍＬの一径フラスコに４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレン（５．７２ｇ，１６ｍｍｏｌ）とピリジン（３２ｍＬ）と塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物（８６４ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）を加えた。ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（６．６ｍＬ，４８ｍｍｏｌ，７０％水溶液）を５分かけて滴下後、８０℃に昇温した。反応１時間後、さらにｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（２．２ｍＬ，１６ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、１時間後に原料の完全消失を確認した。反応溶液をシリカゲルとセライトを詰めたグラスフィルターで濾過、除媒濃縮後、得られた黄色固体を塩化メチレン（３０ｍＬ）に溶かし抽出操作を行った。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝乾燥、除媒濃縮後、黄色の粗生成物５．８３ｇを得た。これをイソプロピルアルコール（８．４ｍＬ／ｇ）で再結晶操作を行い、化合物１を５．２２ｇ（８８％）の黄色の結晶として得た。
化合物１の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３７（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝１９／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．１８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），
７．７３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），１．３５（ｓ，９Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９３．６，１５４．２，１５３．１，１４１．４，１４０．２，１３７．３，１３６．３，１３４．８，１３１．９，１２３．１，１２１．９，１２０．９，１１７．３，３５．３３，３５．３０，３１．４，３１．３ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：３７１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９６０，１７１４（Ｃ＝Ｏ），１６０６，１４７５，１３６０，１１４８，８２６，７７８，５６３ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２１Ｈ２４ＢｒＯ：３７１．１０１１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：３７１．１００９；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２１Ｈ２３ＢｒＯ：Ｃ，６７．９３；Ｈ，６．２４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６７．７３；Ｈ，６．１０．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３７（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝１９／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．１８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），
７．７３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，Ｊ＝８．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），１．３５（ｓ，９Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９３．６，１５４．２，１５３．１，１４１．４，１４０．２，１３７．３，１３６．３，１３４．８，１３１．９，１２３．１，１２１．９，１２０．９，１１７．３，３５．３３，３５．３０，３１．４，３１．３ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：３７１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９６０，１７１４（Ｃ＝Ｏ），１６０６，１４７５，１３６０，１１４８，８２６，７７８，５６３ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２１Ｈ２４ＢｒＯ：３７１．１０１１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：３７１．１００９；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２１Ｈ２３ＢｒＯ：Ｃ，６７．９３；Ｈ，６．２４．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６７．７３；Ｈ，６．１０．
実施例１
スピロケトン誘導体（化合物３、ｉｓｏ－３）の合成
空気下、５０ｍＬの一径フラスコに４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（６．６８ｇ，１６ｍｍｏｌ）と亜リン酸トリエチル（６．２ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）を加え、室温下のオイルバスに浸し１７５℃に昇温した。６０時間撹拌後、６０℃に自然に降温した。水道水（６．５ｍＬ，３６０ｍｍｏｌ）を３分かけて添加後、再び８０℃に昇温した。２時間撹拌後、減圧濾取し、水（２００ｍＬ）と冷メタノール（３０ｍＬ）で洗浄した。２００ｍＬの一径フラスコにメタノール（５３ｍＬ）を加え９５℃で加熱還流した。３０分撹拌後、室温に自然降温、減圧濾取し、冷メタノール（５０ｍＬ）で洗浄した。加熱真空乾燥後、黄白色の粗生成物を５．１７ｇ（７９％，異性体比５０：５０）得た。その内５００ｍｇを用いてシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝１／１）を行い、化合物３を２０９ｍｇ（２８％）、化合物ｉｓｏ－３を１７８ ｍｇ（３３％）の白色固体として得た。化学構造は、Ｘ線結晶構造解析により決定した。
スピロケトン誘導体（化合物３、ｉｓｏ－３）の合成
空気下、５０ｍＬの一径フラスコに４－ブロモ－２、７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（６．６８ｇ，１６ｍｍｏｌ）と亜リン酸トリエチル（６．２ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）を加え、室温下のオイルバスに浸し１７５℃に昇温した。６０時間撹拌後、６０℃に自然に降温した。水道水（６．５ｍＬ，３６０ｍｍｏｌ）を３分かけて添加後、再び８０℃に昇温した。２時間撹拌後、減圧濾取し、水（２００ｍＬ）と冷メタノール（３０ｍＬ）で洗浄した。２００ｍＬの一径フラスコにメタノール（５３ｍＬ）を加え９５℃で加熱還流した。３０分撹拌後、室温に自然降温、減圧濾取し、冷メタノール（５０ｍＬ）で洗浄した。加熱真空乾燥後、黄白色の粗生成物を５．１７ｇ（７９％，異性体比５０：５０）得た。その内５００ｍｇを用いてシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝１／１）を行い、化合物３を２０９ｍｇ（２８％）、化合物ｉｓｏ－３を１７８ ｍｇ（３３％）の白色固体として得た。化学構造は、Ｘ線結晶構造解析により決定した。
化合物３の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．７０（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．３，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），１．３２（ｓ，９Ｈ），１．１５（ｓ，９Ｈ），１．１３（ｓ，９Ｈ），１．０９（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９８．３，１５２．５，１５２．１，１５２．０，１５１．４，１４８．０，１４５．８，１４０．７，１３８．０，１３７．３，１３４．９，１３２．９，１３２．６，１３０．６，１３０．５，１２９．７，１２８．６，１２５．３，１２５．１，１２４．９，１２３．４，１２２．４，１２２．２，１２０．７，１１６．６，７０．３，３５．１，３５．０（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３４．９，３１．５，３１．４，３１．３，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦ）ｍ／ｚ：７２７［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５９，１７０２（Ｃ＝Ｏ），１４５４，１３６２，１２２９，８２９，７５３ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｂｒ２Ｏ：７２７．１９７３ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７２７．１９７１；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｂｒ２Ｏ：Ｃ，６９．４２；Ｈ，６．３８．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６９．３５；Ｈ，６．３４．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．７０（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５０（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ）７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．３，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８４（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），１．３２（ｓ，９Ｈ），１．１５（ｓ，９Ｈ），１．１３（ｓ，９Ｈ），１．０９（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９８．３，１５２．５，１５２．１，１５２．０，１５１．４，１４８．０，１４５．８，１４０．７，１３８．０，１３７．３，１３４．９，１３２．９，１３２．６，１３０．６，１３０．５，１２９．７，１２８．６，１２５．３，１２５．１，１２４．９，１２３．４，１２２．４，１２２．２，１２０．７，１１６．６，７０．３，３５．１，３５．０（ｔｗｏ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３４．９，３１．５，３１．４，３１．３，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦ）ｍ／ｚ：７２７［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５９，１７０２（Ｃ＝Ｏ），１４５４，１３６２，１２２９，８２９，７５３ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｂｒ２Ｏ：７２７．１９７３ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７２７．１９７１；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｂｒ２Ｏ：Ｃ，６９．４２；Ｈ，６．３８．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６９．３５；Ｈ，６．３４．
化合物ｉｓｏ－３の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．７４（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．５５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．４４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ， Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄｄ，Ｊ ＝８．３，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．３，２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０４－７．０３（ｍ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），１．３０（ｓ，９Ｈ），１．１９（ｓ，９Ｈ）１．１８（ｓ，９Ｈ），１．１４（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９８．０，１５２．８，１５２．３，１５１．９，１５１．２，１４７．２，１４４．９，１３８．１，１３８．０，１３７．７，１３７．４，１３６．１，１３４．０，１３０．５，１２８．９，１２８．８，１２５．２，１２５．１，１２４．９，１２４．４，１２３．４，１２２．９，１２２．７，１１９．５，１１６．６，６９．９，３５．１（ｆｏｕｒ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３１．５２，３１．４５，３１．３，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：７２７［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５９，１６９９（Ｃ＝Ｏ），１４４７，１３６２，１２３４，１１５７，８３０，７４６，６９５ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｂｒ２Ｏ：７２７．１９７３［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７２７．１９８８；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｂｒ２Ｏ：Ｃ，６９．４２；Ｈ，６．３８． Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６９．５９；Ｈ，６．４１．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．７４（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．５５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．４４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０３（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ， Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４３（ｄｄ，Ｊ ＝８．３，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．３，２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．０４－７．０３（ｍ，２Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ），１．３０（ｓ，９Ｈ），１．１９（ｓ，９Ｈ）１．１８（ｓ，９Ｈ），１．１４（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９８．０，１５２．８，１５２．３，１５１．９，１５１．２，１４７．２，１４４．９，１３８．１，１３８．０，１３７．７，１３７．４，１３６．１，１３４．０，１３０．５，１２８．９，１２８．８，１２５．２，１２５．１，１２４．９，１２４．４，１２３．４，１２２．９，１２２．７，１１９．５，１１６．６，６９．９，３５．１（ｆｏｕｒ ｐｅａｋｓ ａｒｅ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３１．５２，３１．４５，３１．３，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｍ／ｚ：７２７［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５９，１６９９（Ｃ＝Ｏ），１４４７，１３６２，１２３４，１１５７，８３０，７４６，６９５ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４７Ｂｒ２Ｏ：７２７．１９７３［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７２７．１９８８；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４６Ｂｒ２Ｏ：Ｃ，６９．４２；Ｈ，６．３８． Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，６９．５９；Ｈ，６．４１．
実施例２
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物５、ｉｓｏ－５）混合物の合成
空気下、２５ｍＬの二径フラスコに化合物ｉｓｏ－３（５４１ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）、トルエン（３．０ｍＬ）、メタノール（０．６ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。水素化ホウ素ナトリウム（２８ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）を２０分かけて添加後（７ｍｇずつ４回に分けて５分ごとに加えた）、３０分間攪拌した。アセトン（０．５ｍＬ）を加え３０分間攪拌後、室温に自然降温した。有機層を水で洗浄し（１０ｍＬ×５）、飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て黄白色の粗生成物５２０ｍｇを得た。得られた粗生成物は精製することなくそのまま次のステップに供した。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物５、ｉｓｏ－５）混合物の合成
空気下、２５ｍＬの二径フラスコに化合物ｉｓｏ－３（５４１ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）、トルエン（３．０ｍＬ）、メタノール（０．６ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。水素化ホウ素ナトリウム（２８ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）を２０分かけて添加後（７ｍｇずつ４回に分けて５分ごとに加えた）、３０分間攪拌した。アセトン（０．５ｍＬ）を加え３０分間攪拌後、室温に自然降温した。有機層を水で洗浄し（１０ｍＬ×５）、飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て黄白色の粗生成物５２０ｍｇを得た。得られた粗生成物は精製することなくそのまま次のステップに供した。
得られた粗生成物（２５０ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）のトルエン（２．５ｍＬ）溶液にヘキサフルオロ－２－イソプロパノール（２．５ｍＬ）と濃塩酸（０．０２ｍＬ，０．２１ｍｍｏｌ，３５％水溶液）を加えた。１時間攪拌後、０℃で飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて反応停止操作を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を行い、白色の粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒はヘキサン）を行い、白色固体の混合物（化合物５：化合物ｉｓｏ－５＝９１：９）を２２１ｍｇ（９１％）で得た。
合成例２
２，５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（化合物２）の合成
空気下、２００ｍＬの一径フラスコに２、５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレン（６．３０ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）とピリジン（２６ｍＬ）と塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物（８９７ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加えた。ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（６．８ｍＬ，４９．７ｍｍｏｌ，７０％水溶液）を５分かけて滴下後、８０℃に昇温した。反応１時間後、さらにｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（２．３ｍＬ，１６．６ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、１時間後に原料の完全消失を確認した。反応溶液をシリカゲルとセライトを詰めたグラスフィルターで濾過、除媒濃縮後、得られた黄色固体をトルエン（４０ｍＬ）に溶かし抽出操作を行った。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝乾燥、除媒濃縮後、黄色の粗生成物６．４４ｇを得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８、ｖ／ｖ）を行い、５．２２ｇの黄色固体を得た。その後プロピオニトリル（２．９ｍＬ／ｇ）で再結晶操作を行い、化合物２を４．７２ｇ（７２％）の黄色固体として得た。
２，５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（化合物２）の合成
空気下、２００ｍＬの一径フラスコに２、５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレン（６．３０ｇ，１６．６ｍｍｏｌ）とピリジン（２６ｍＬ）と塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物（８９７ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加えた。ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（６．８ｍＬ，４９．７ｍｍｏｌ，７０％水溶液）を５分かけて滴下後、８０℃に昇温した。反応１時間後、さらにｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド（２．３ｍＬ，１６．６ｍｍｏｌ）を５分かけて滴下し、１時間後に原料の完全消失を確認した。反応溶液をシリカゲルとセライトを詰めたグラスフィルターで濾過、除媒濃縮後、得られた黄色固体をトルエン（４０ｍＬ）に溶かし抽出操作を行った。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝乾燥、除媒濃縮後、黄色の粗生成物６．４４ｇを得た。再沈殿操作（塩化メチレン／メタノール＝１／８、ｖ／ｖ）を行い、５．２２ｇの黄色固体を得た。その後プロピオニトリル（２．９ｍＬ／ｇ）で再結晶操作を行い、化合物２を４．７２ｇ（７２％）の黄色固体として得た。
化合物２の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３５（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝１９／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．１６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９１．６，１５５．２，１４２．６，１３９．４，１３７．４，１３６．８，１３６．５，１３６．３，１２７．８，１２４．６，１２３．５，１２１．４，１１７．７，３５．５，３１．３ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：３９３［Ｍ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，１７１３（Ｃ＝Ｏ），１４４１，１２３５，１１７５，１１４４，７８０，７０９ｃｍ－１，
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１７Ｈ１４Ｂｒ２Ｏ［Ｍ］＋：３９３．９３９１，Ｆｏｕｎｄ：３９３．９３８７；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１７Ｈ１４Ｂｒ２Ｏ，Ｃ，５１．８１；Ｈ，３．５８．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５１．７６；Ｈ，３．６６．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３５（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝１９／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．１６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），１．３３（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９１．６，１５５．２，１４２．６，１３９．４，１３７．４，１３６．８，１３６．５，１３６．３，１２７．８，１２４．６，１２３．５，１２１．４，１１７．７，３５．５，３１．３ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：３９３［Ｍ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，１７１３（Ｃ＝Ｏ），１４４１，１２３５，１１７５，１１４４，７８０，７０９ｃｍ－１，
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１７Ｈ１４Ｂｒ２Ｏ［Ｍ］＋：３９３．９３９１，Ｆｏｕｎｄ：３９３．９３８７；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１７Ｈ１４Ｂｒ２Ｏ，Ｃ，５１．８１；Ｈ，３．５８．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５１．７６；Ｈ，３．６６．
実施例３
スピロケトン誘導体（化合物４、ｉｓｏ－４）の合成
空気下、一径フラスコに２、５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（１２ｇ， ３０ｍｍｏｌ）と亜リン酸トリエチル（１０．２ｍＬ，６０ｍｍｏｌ）を加え、１７５℃で２０時間撹拌した。６０℃に自然降温後、水道水（１０．８ｍＬ，６００ｍｍｏｌ）を１０分かけて添加し、再び８０℃に昇温した。２時間撹拌後、減圧濾取し、冷メタノール（６０ｍＬ）で洗浄した。得られた固形物にメタノール（１２０ｍＬ）を加え、８５℃で加熱還流した。２０分間撹拌後、室温に自然降温、減圧濾取し、再び冷メタノール（１２０ｍＬ）で洗浄した。加熱真空乾燥後、赤色の粗生成物を８．９２ｇ（７７％）得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒はヘキサン／塩化メチレン＝４／１）の結果、白赤色固体が８．２２ｇ（７１％，異性体比７０：３０）で得られた。得られたサンプル１．２ｇを用いてプロピオニトリル再結晶操作（２３ｍＬ／ｇ）を行った結果、白色結晶の化合物ｉｓｏ－４が７０２ｍｇ（４２％）で得られた。残った混合物２５０ｍｇに対してシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝９／１）を行い６２ｍｇの化合物ｉｓｏ－４（６％）と１５２ｍｇ（１５％）の化合物４が白色固体として得られた。化学構造は、Ｘ線結晶構造解析により決定した。
スピロケトン誘導体（化合物４、ｉｓｏ－４）の合成
空気下、一径フラスコに２、５－ジブロモ－７－ｔｅｒｔ－ブチルフルオレノン（１２ｇ， ３０ｍｍｏｌ）と亜リン酸トリエチル（１０．２ｍＬ，６０ｍｍｏｌ）を加え、１７５℃で２０時間撹拌した。６０℃に自然降温後、水道水（１０．８ｍＬ，６００ｍｍｏｌ）を１０分かけて添加し、再び８０℃に昇温した。２時間撹拌後、減圧濾取し、冷メタノール（６０ｍＬ）で洗浄した。得られた固形物にメタノール（１２０ｍＬ）を加え、８５℃で加熱還流した。２０分間撹拌後、室温に自然降温、減圧濾取し、再び冷メタノール（１２０ｍＬ）で洗浄した。加熱真空乾燥後、赤色の粗生成物を８．９２ｇ（７７％）得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒はヘキサン／塩化メチレン＝４／１）の結果、白赤色固体が８．２２ｇ（７１％，異性体比７０：３０）で得られた。得られたサンプル１．２ｇを用いてプロピオニトリル再結晶操作（２３ｍＬ／ｇ）を行った結果、白色結晶の化合物ｉｓｏ－４が７０２ｍｇ（４２％）で得られた。残った混合物２５０ｍｇに対してシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝９／１）を行い６２ｍｇの化合物ｉｓｏ－４（６％）と１５２ｍｇ（１５％）の化合物４が白色固体として得られた。化学構造は、Ｘ線結晶構造解析により決定した。
化合物４の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５２（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝２／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．５４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５４ （ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８１ （ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），１．３２（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，９Ｈ），ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９５．４，１５３．５，１５２．８，１４６．４，１４６．０，１４０．２，１３９．３，１３８．４，１３５．２，１３４．５，１３２．９，１３１．７，１３０．８，１３０．４，１３０．０，１２９．９，１２９．３，１２５．１，１２４．８，１２３．２，１２２．１，１２０．９，１１９．５，１１６．９，３４．９，３４．８，３０．９，３０．８ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：７７２［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９６０，１６９８，１４３９，１３９１，１２３２，１１６０，８２２，７５０，７１０ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｂｒ４Ｏ：７７２．８９１１ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７７２．８８８３［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２８Ｂｒ４Ｏ：Ｃ，５２．８８；Ｈ，３．６５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５２．６０；Ｈ，３．５４．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５２（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝２／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．５４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５４ （ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．８８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８１ （ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），１．３２（ｓ，９Ｈ），１．０８（ｓ，９Ｈ），ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９５．４，１５３．５，１５２．８，１４６．４，１４６．０，１４０．２，１３９．３，１３８．４，１３５．２，１３４．５，１３２．９，１３１．７，１３０．８，１３０．４，１３０．０，１２９．９，１２９．３，１２５．１，１２４．８，１２３．２，１２２．１，１２０．９，１１９．５，１１６．９，３４．９，３４．８，３０．９，３０．８ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：７７２［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９６０，１６９８，１４３９，１３９１，１２３２，１１６０，８２２，７５０，７１０ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｂｒ４Ｏ：７７２．８９１１ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７７２．８８８３［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２８Ｂｒ４Ｏ：Ｃ，５２．８８；Ｈ，３．６５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５２．６０；Ｈ，３．５４．
化合物ｉｓｏ－４の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５５（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝２／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．９Ｈｚ，１Ｈ）， ６．９６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），１．１７（ｓ，９Ｈ），１．１０（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９５．４，１５３．７，１５３．４，１４７．８，１４７．６，１３９．８０，１３９．７９，１３６．６，１３６．４，１３６．２， １３３．８，１３３．４，１３１．８，１３１．３，１３１．０，１３０．６，１２８．６，１２８．３，１２５．４，１２５．２，１２３．１，１２２．１，１２２．０，１２１．１，１１７．３，６９．８，３５．３，３５．１，３１．４，３１．０ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：７７２［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５５，１６８９（Ｃ＝Ｏ），１４４１，１３８９，１２４３，８１６，７４８，６８５ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｂｒ４Ｏ：７７２．８９１１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７７２．８９０２［ＭＨ］＋Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２８Ｂｒ４Ｏ：Ｃ，５２．８８；Ｈ，３．６５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５２．８０； Ｈ，３．４９．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５５（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝２／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）８．７２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．４２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．６，１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．９Ｈｚ，１Ｈ）， ６．９６（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，１Ｈ），１．１７（ｓ，９Ｈ），１．１０（ｓ，９Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１９５．４，１５３．７，１５３．４，１４７．８，１４７．６，１３９．８０，１３９．７９，１３６．６，１３６．４，１３６．２， １３３．８，１３３．４，１３１．８，１３１．３，１３１．０，１３０．６，１２８．６，１２８．３，１２５．４，１２５．２，１２３．１，１２２．１，１２２．０，１２１．１，１１７．３，６９．８，３５．３，３５．１，３１．４，３１．０ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：７７２［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５５，１６８９（Ｃ＝Ｏ），１４４１，１３８９，１２４３，８１６，７４８，６８５ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２９Ｂｒ４Ｏ：７７２．８９１１［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：７７２．８９０２［ＭＨ］＋Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ２８Ｂｒ４Ｏ：Ｃ，５２．８８；Ｈ，３．６５．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，５２．８０； Ｈ，３．４９．
実施例４
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物６、ｉｓｏ－６）の合成
空気下、２５ｍＬの二径フラスコに化合物ｉｓｏ－４（５７６ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、トルエン（２．０ｍＬ）、メタノール（０．４ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。水素化ホウ素ナトリウム（２８ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）を２０分かけて添加後（７ｍｇずつ４回に分けて５分ごとに加えた）、３０分間攪拌した。アセトン（０．５ｍＬ）を加え３０分間攪拌後、室温に自然降温した。有機層を水で洗浄（１０ｍＬ×５）、飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て黄白色の粗生成物５５６ｍｇを得た。得られた粗生成物は精製することなくそのまま次のステップに供した。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物６、ｉｓｏ－６）の合成
空気下、２５ｍＬの二径フラスコに化合物ｉｓｏ－４（５７６ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）、トルエン（２．０ｍＬ）、メタノール（０．４ｍＬ）を加え、４５℃に昇温した。水素化ホウ素ナトリウム（２８ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）を２０分かけて添加後（７ｍｇずつ４回に分けて５分ごとに加えた）、３０分間攪拌した。アセトン（０．５ｍＬ）を加え３０分間攪拌後、室温に自然降温した。有機層を水で洗浄（１０ｍＬ×５）、飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て黄白色の粗生成物５５６ｍｇを得た。得られた粗生成物は精製することなくそのまま次のステップに供した。
得られた粗生成物１００ｍｇのトルエン（１ｍＬ）溶液に二塩化エチルアルミニウム（０．１６ｍＬ，０．１６ｍｍｏｌ、１Ｍのヘキサン溶液）を－７８℃で２分かけて滴下した。その後５分間撹拌した後、０℃に昇温し、さらに４時間撹拌、０℃で水（２ｍＬ）を用いて反応停止操作を行った。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄（１０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を行い、白色の粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製（展開溶媒はヘキサン）を行い、白色固体の混合物（化合物６：化合物ｉｓｏ－６＝１９：８１）を７７ｍｇ（７９％）で得た。
実施例５
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物７、ｉｓｏ－７）の合成
アルゴン雰囲気下、５０ｍＬの一径フラスコに化合物５と化合物ｉｓｏ－５の混合物（６１８ｍｇ，０．８７ｍｍｏｌ，化合物５：化合物ｉｓｏ－５＝２０：８０）とジメチルホルムアミド（９．０ｍＬ）、ヨウ化銅（２４９ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１．３ｍＬ、６．５ｍｍｏｌ、２８％のメタノール溶液）を加えた。反応溶液を１２０℃で３０分間攪拌後、１Ｍ塩酸水溶液（２０ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層を塩化メチレン（１０ｍＬ×３）で抽出操作を行った後、飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝９／１）により、白色固体の混合物（化合物７：化合物ｉｓｏ－７ ＝２４：７６）を４４５ｍｇ（８３％）で得た。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物７、ｉｓｏ－７）の合成
アルゴン雰囲気下、５０ｍＬの一径フラスコに化合物５と化合物ｉｓｏ－５の混合物（６１８ｍｇ，０．８７ｍｍｏｌ，化合物５：化合物ｉｓｏ－５＝２０：８０）とジメチルホルムアミド（９．０ｍＬ）、ヨウ化銅（２４９ｍｇ，１．３ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１．３ｍＬ、６．５ｍｍｏｌ、２８％のメタノール溶液）を加えた。反応溶液を１２０℃で３０分間攪拌後、１Ｍ塩酸水溶液（２０ｍＬ）で反応停止操作を行った。水層を塩化メチレン（１０ｍＬ×３）で抽出操作を行った後、飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、除媒濃縮を経て粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝９／１）により、白色固体の混合物（化合物７：化合物ｉｓｏ－７ ＝２４：７６）を４４５ｍｇ（８３％）で得た。
実施例６
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物９、ｉｓｏ－９）の合成
アルゴン雰囲気下、化合物６と化合物ｉｓｏ－６の混合物（６１５ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ，化合物６：化合物ｉｓｏ－６＝６７：３３）のジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）溶液にヨウ化銅（１．８５ｇ，９．７２ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド（２５ｍＬ，１２２ ｍｍｏｌ，２８％のメタノール溶液）を加えた。反応溶液を１２０℃で３０分間撹拌後、セライトを詰めたグラスフィルターで濾過（展開溶媒はトルエン）を行い、３Ｍ塩酸水溶液（７０ｍＬ）で反応停止操作を行った。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝１／１から１／２）を行い、白黄色固体の化合物ｉｓｏ－９を１８４ｍｇ（４７％）、白色固体の化合物９を１００ｍｇ（２５％）得た。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物９、ｉｓｏ－９）の合成
アルゴン雰囲気下、化合物６と化合物ｉｓｏ－６の混合物（６１５ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ，化合物６：化合物ｉｓｏ－６＝６７：３３）のジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）溶液にヨウ化銅（１．８５ｇ，９．７２ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド（２５ｍＬ，１２２ ｍｍｏｌ，２８％のメタノール溶液）を加えた。反応溶液を１２０℃で３０分間撹拌後、セライトを詰めたグラスフィルターで濾過（展開溶媒はトルエン）を行い、３Ｍ塩酸水溶液（７０ｍＬ）で反応停止操作を行った。得られたサンプルをトルエンで希釈し、水層に対してトルエンで抽出操作（１５ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、粗生成物を得た。シリカゲルを用いた濾過カラム精製操作（展開溶媒はヘキサン／トルエン＝１／１から１／２）を行い、白黄色固体の化合物ｉｓｏ－９を１８４ｍｇ（４７％）、白色固体の化合物９を１００ｍｇ（２５％）得た。
化合物９の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３８（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／２）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．２７（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，２Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．２，２．７Ｈｚ，２Ｈ），４．１３ （ｓ，６Ｈ），３．８９（ｓ，６Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５７．９，１５７．８，１４９．５，１３２．２，１３１．１，１３０．６，１２９．９，１２４．１，１１９．４，１１８．２，１１５．８，１１０．２，１０７．５，５６．６，５５．９，３５．９，３２．２ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５６１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，１６０６，１４６３，１２３２，１０９２，１０４５，７３０，６１９ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４１Ｏ４：５６１．３００４ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６１．２９９５［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４０Ｏ４：Ｃ，８１．４０；Ｈ，７．１９．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８１．２０；Ｈ，７．２７．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．３８（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／２）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．２７（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，２Ｈ），８．３３（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），８．０７（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，２Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．２，２．７Ｈｚ，２Ｈ），４．１３ （ｓ，６Ｈ），３．８９（ｓ，６Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５７．９，１５７．８，１４９．５，１３２．２，１３１．１，１３０．６，１２９．９，１２４．１，１１９．４，１１８．２，１１５．８，１１０．２，１０７．５，５６．６，５５．９，３５．９，３２．２ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５６１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５２，１６０６，１４６３，１２３２，１０９２，１０４５，７３０，６１９ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４１Ｏ４：５６１．３００４ ［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６１．２９９５［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ． Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４０Ｏ４：Ｃ，８１．４０；Ｈ，７．１９．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８１．２０；Ｈ，７．２７．
化合物ｉｓｏ－９の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５５（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／２）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．２９（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２Ｈ），８．２５（ｄ，Ｊｘ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２１ （ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．４，２．８Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｓ，６Ｈ），３．９０（ｓ，６Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５７．７，１５７．４，１４９．１，１３１．５，１３１．２，１３０．５，１３０．１，１２９．２，１２３．８，１１９．３，１１８．４，１１４．９，１０９．７，１０７．３，５６．３，５５．７，３５．６，３１．９ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５６１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４８，１６０６，１４５５，１３８７，１２２４，１０１７，８２６，７９０ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４１Ｏ４：５６１．３００４［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６１．３００５［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４０Ｏ４：Ｃ，８１．４０；Ｈ，７．１９．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８１．４３；Ｈ，７．０１．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．５５（Ｈｅｘａｎｅ／Ｔｏｌｕｅｎｅ＝１／２）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）９．２９（ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ，２Ｈ），８．２５（ｄ，Ｊｘ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），８．１３（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，２Ｈ），７．２１ （ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．１９（ｄｄ，Ｊ＝９．４，２．８Ｈｚ，２Ｈ），４．１３（ｓ，６Ｈ），３．９０（ｓ，６Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１５７．７，１５７．４，１４９．１，１３１．５，１３１．２，１３０．５，１３０．１，１２９．２，１２３．８，１１９．３，１１８．４，１１４．９，１０９．７，１０７．３，５６．３，５５．７，３５．６，３１．９ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５６１［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４８，１６０６，１４５５，１３８７，１２２４，１０１７，８２６，７９０ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４１Ｏ４：５６１．３００４［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５６１．３００５［ＭＨ］＋；
Ａｎａｌ．Ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４０Ｏ４：Ｃ，８１．４０；Ｈ，７．１９．Ｆｏｕｎｄ：Ｃ，８１．４３；Ｈ，７．０１．
実施例７
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物８、ｉｓｏ－８）の合成
アルゴン雰囲気下、２５ｍＬフラスコに化合物７と化合物ｉｓｏ－７の混合物（４４５ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ，化合物７：化合物ｉｓｏ－７＝２４：７６）と塩化メチレン（５．０ｍＬ）を加えた。０℃で１０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（２．２ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した。０℃で４時間撹拌させた後、水（１０ｍＬ）を加えて反応停止操作を行った。水層を塩化メチレン（１０ｍＬ×３）で抽出操作を行った。飽和食塩水で洗浄（３０ｍＬ）、芒硝乾燥、減圧濃縮、真空乾燥を行い、４５１ｍｇの茶白色の粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製（展開溶媒はトルエン／ヘキサン＝４／１）の結果、７１ｍｇ（１７％）の化合物８と２７０ｍｇ（６３％）の化合物ｉｓｏ－８が白色固体として得られた。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物８、ｉｓｏ－８）の合成
アルゴン雰囲気下、２５ｍＬフラスコに化合物７と化合物ｉｓｏ－７の混合物（４４５ｍｇ，０．７３ｍｍｏｌ，化合物７：化合物ｉｓｏ－７＝２４：７６）と塩化メチレン（５．０ｍＬ）を加えた。０℃で１０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（２．２ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を５分かけて滴下した。０℃で４時間撹拌させた後、水（１０ｍＬ）を加えて反応停止操作を行った。水層を塩化メチレン（１０ｍＬ×３）で抽出操作を行った。飽和食塩水で洗浄（３０ｍＬ）、芒硝乾燥、減圧濃縮、真空乾燥を行い、４５１ｍｇの茶白色の粗生成物を得た。シリカゲルを用いたカラム精製（展開溶媒はトルエン／ヘキサン＝４／１）の結果、７１ｍｇ（１７％）の化合物８と２７０ｍｇ（６３％）の化合物ｉｓｏ－８が白色固体として得られた。
化合物８の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．２８（Ｔｏｌｕｅｎｅ ｏｎｌｙ）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．５９（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．５７（ｓ，２Ｈ），１．４１（ｓ，１８Ｈ），１．４０（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５３．４，１５０．１，１４９．０，１３１．９，１３０．４，１２９．６，１２７．５，１２７．２，１２４．９，１２４．０，１１８．３，１１７．５，１１１．８，３５．３３，３５．２８，３１．９，３１．８ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５８５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４７０，２９６０，１６１０，１４０４，１２３２，１２０４，７５９ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４９Ｏ２：５８５．３７３３［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５８５．３７２５．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．２８（Ｔｏｌｕｅｎｅ ｏｎｌｙ）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．１５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ），８．５９（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），８．２４（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，２Ｈ），５．５７（ｓ，２Ｈ），１．４１（ｓ，１８Ｈ），１．４０（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５３．４，１５０．１，１４９．０，１３１．９，１３０．４，１２９．６，１２７．５，１２７．２，１２４．９，１２４．０，１１８．３，１１７．５，１１１．８，３５．３３，３５．２８，３１．９，３１．８ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５８５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４７０，２９６０，１６１０，１４０４，１２３２，１２０４，７５９ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４９Ｏ２：５８５．３７３３［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５８５．３７２５．
化合物ｉｓｏ－８の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．４２（Ｔｏｌｕｅｎｅ ｏｎｌｙ）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．６０（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ），１．３９（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５２．３，１４８．９，１４８．０，１３１．１，１２９．２，１２９．０，１２７．９，１２６．６，１２６．３，１２３．９，１２３．１，１１７．３，１１６．４，１１０．６，３４．３，３４．２，３０．８，３０．７ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５８５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０９，３２３５，２９５６，１６１５，１３９９，１２３６，１０９７，９４２ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４９Ｏ２：５８５．３７３３［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５８５．３７３７．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ ０．４２（Ｔｏｌｕｅｎｅ ｏｎｌｙ）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．６０（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，２Ｈ），８．２３（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），５．５６（ｓ，２Ｈ），１．４２（ｓ，１８Ｈ），１．３９（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５２．３，１４８．９，１４８．０，１３１．１，１２９．２，１２９．０，１２７．９，１２６．６，１２６．３，１２３．９，１２３．１，１１７．３，１１６．４，１１０．６，３４．３，３４．２，３０．８，３０．７ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５８５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０９，３２３５，２９５６，１６１５，１３９９，１２３６，１０９７，９４２ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４９Ｏ２：５８５．３７３３［Ｈ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５８５．３７３７．
実施例８
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物１０）の合成
アルゴン雰囲気下、２０ｍＬ一径フラスコに化合物９（０．３６ｍｍｏｌ，２００ｍｇ）と塩化メチレン（２ｍＬ）を加えた。０℃で２０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（２．２ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を３分かけて滴下し、反応溶液を４時間撹拌した。室温まで自然昇温し、３０分間撹拌後に、０℃で水（１０ｍＬ）を用いて反応停止操作を行った。得られたサンプルを酢酸エチルで希釈し、水層に対して酢酸エチルで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（１５ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、１２６ｍｇ（９０％）の化合物１０を白黄色固体として得た。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物１０）の合成
アルゴン雰囲気下、２０ｍＬ一径フラスコに化合物９（０．３６ｍｍｏｌ，２００ｍｇ）と塩化メチレン（２ｍＬ）を加えた。０℃で２０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（２．２ｍＬ，２．２ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を３分かけて滴下し、反応溶液を４時間撹拌した。室温まで自然昇温し、３０分間撹拌後に、０℃で水（１０ｍＬ）を用いて反応停止操作を行った。得られたサンプルを酢酸エチルで希釈し、水層に対して酢酸エチルで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（１５ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、１２６ｍｇ（９０％）の化合物１０を白黄色固体として得た。
化合物１０の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ０．３１（Ｔｏｌｕｅｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝４／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．２９（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｓ，２Ｈ），７．２０（ｓ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．７，９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．３９（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５５．０，１５４．４，１４７．８，１３０．８，１２９．７，１２９．６，１２８．３，１２２．３，１１６．７，１１５．３，１１５．０，１１１．７，１１０．９，３４．４，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５０５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５３０，３３８２，２９５６，１６０６，１４０７，１１８８，８５４，７７４ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ４：５０５．２３７８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５０５．２３８５．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ０．３１（Ｔｏｌｕｅｎｅ／ＥｔＯＡｃ＝４／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．２９（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），８．１７（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｓ，２Ｈ），７．２０（ｓ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝２．７，９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．３９（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５５．０，１５４．４，１４７．８，１３０．８，１２９．７，１２９．６，１２８．３，１２２．３，１１６．７，１１５．３，１１５．０，１１１．７，１１０．９，３４．４，３１．１ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５０５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５３０，３３８２，２９５６，１６０６，１４０７，１１８８，８５４，７７４ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ４：５０５．２３７８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５０５．２３８５．
実施例９
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物ｉｓｏ－１０）の合成
アルゴン雰囲気下、２０ｍＬ一径フラスコに化合物ｉｓｏ－９（０．２８ｍｍｏｌ，１６０ｍｇ）と塩化メチレン（２ｍＬ）を加えた。０℃で２０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（１．７ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を３分かけて滴下し、反応溶液を４時間撹拌させた。水（５ｍＬ）で反応停止操作を行った後、得られたサンプルを酢酸エチルで希釈し、水層に対して酢酸エチルで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、１３０ｍｇ（９３％）の化合物ｉｓｏ－１０を白緑色固体として得た。
ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体（化合物ｉｓｏ－１０）の合成
アルゴン雰囲気下、２０ｍＬ一径フラスコに化合物ｉｓｏ－９（０．２８ｍｍｏｌ，１６０ｍｇ）と塩化メチレン（２ｍＬ）を加えた。０℃で２０分間撹拌後、１Ｍ三臭化ホウ素（１．７ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ，塩化メチレン溶液）を３分かけて滴下し、反応溶液を４時間撹拌させた。水（５ｍＬ）で反応停止操作を行った後、得られたサンプルを酢酸エチルで希釈し、水層に対して酢酸エチルで抽出操作（１０ｍＬ×３）を行った。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄（２０ｍＬ）、芒硝乾燥、真空乾燥後、１３０ｍｇ（９３％）の化合物ｉｓｏ－１０を白緑色固体として得た。
化合物ｉｓｏ－１０の分析データ
Ｒｆ ｖａｌｕｅ０．２９（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ，１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．２８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｓ，２Ｈ），７．２６（ｓ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ， Ｊ＝２．６，９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．３６（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５５．１，１５４．５，１４７．７，１３０．４，１３０．１，１２９．８，１２７．４，１２２．１，１１７．０，１１５．７，１１５．０，１１１．１，１１０．９，３４．４，３１．２ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５０５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０１，３３４６，２９５５，１６０６，１４０４，１２２２，１１７９，１０８４，８５１，７９１ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ４：５０５．２３７８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５０５．２３７２．
Ｒｆ ｖａｌｕｅ０．２９（Ｈｅｘａｎｅ／ＥｔＯＡｃ，１／１）；
１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＣＮ）９．２８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），８．１１（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｓ，２Ｈ），７．２６（ｓ，２Ｈ），７．１９（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ， Ｊ＝２．６，９．０Ｈｚ，２Ｈ），１．３６（ｓ，１８Ｈ）ｐｐｍ；
１３ＣＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６）１５５．１，１５４．５，１４７．７，１３０．４，１３０．１，１２９．８，１２７．４，１２２．１，１１７．０，１１５．７，１１５．０，１１１．１，１１０．９，３４．４，３１．２ｐｐｍ；
ＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｍ／ｚ：５０５［ＭＨ］＋；
ＩＲ（ｎｅａｔ）：３５０１，３３４６，２９５５，１６０６，１４０４，１２２２，１１７９，１０８４，８５１，７９１ｃｍ－１；
ＨＲＭＳ（ＤＡＲＴ－ＴＯＦＭＳ）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３３Ｏ４：５０５．２３７８［ＭＨ］＋，Ｆｏｕｎｄ：５０５．２３７２．
本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法は、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子として有用なジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法として適用可能である。また、本発明のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体は、薄膜トランジスターの正孔輸送物質や有機発光ダイオードの発光素子に適用可能である。
本発明の最も重要な要素は、嵩高い分岐構造を有するアルキル基等、および、さまざまな官能基へと変換可能なハロゲノ基等を有する９－フルオレノンを二量化したことである。その主たる効果は、以下の通りである。
（１）ハロゲノ基等を持ち、なおかつ有機溶媒に問題なく溶けるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を、極めて簡単簡便に合成できる。
（２）ハロゲノ基等を足掛かりとした多彩かつ多様な官能基の導入が可能となる。さらに、クロスカップリング反応やリチウムーハロゲン交換反応による精密な置換反応を行うことで、新化合物を生み出すことが可能となり、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを基軸とした新しい機能性材料を生み出すきっかけとなる。
（３）水酸基を持ち、なおかつ有機溶媒に問題なく溶けるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を、極めて簡単簡便に合成でき、高分子材料を製造する関連産業に対して有用な発明の一つと考えられ、業界への貢献が期待される。
（１）ハロゲノ基等を持ち、なおかつ有機溶媒に問題なく溶けるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を、極めて簡単簡便に合成できる。
（２）ハロゲノ基等を足掛かりとした多彩かつ多様な官能基の導入が可能となる。さらに、クロスカップリング反応やリチウムーハロゲン交換反応による精密な置換反応を行うことで、新化合物を生み出すことが可能となり、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセンを基軸とした新しい機能性材料を生み出すきっかけとなる。
（３）水酸基を持ち、なおかつ有機溶媒に問題なく溶けるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を、極めて簡単簡便に合成でき、高分子材料を製造する関連産業に対して有用な発明の一つと考えられ、業界への貢献が期待される。
Claims (5)
- 分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上とを有し、全ての置換基の数が６以上であるジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体。
- 下記式
- 分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基を２個以上と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を２個以上と、フルオレン骨格を有し、全ての置換基の数が６以上であるスピロケトン誘導体。
- 下記式
- （ａ）分岐構造を有するアルキル基、アルケニル基、および、アルキニル基からなる群から選択される置換基と、ハロゲノ基、水酸基、アルキルエーテル基、および、ポリオキシアルキレン基からなる群から選択される置換基を有し、全ての置換基の数が３以上であるフルオレノン誘導体を二量化し、スピロケトン誘導体を作製する工程、
（ｂ）得られたスピロケトン誘導体を還元し、水酸基を有するスピロケトン誘導体を作製する工程、および、
（ｃ）得られたスピロケトン誘導体を脱水し、ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体を得る工程
を含む請求項１または２に記載のジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021064888A JP2022160249A (ja) | 2021-04-06 | 2021-04-06 | 易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021064888A JP2022160249A (ja) | 2021-04-06 | 2021-04-06 | 易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022160249A true JP2022160249A (ja) | 2022-10-19 |
Family
ID=83657636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021064888A Pending JP2022160249A (ja) | 2021-04-06 | 2021-04-06 | 易溶性ジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2022160249A (ja) |
-
2021
- 2021-04-06 JP JP2021064888A patent/JP2022160249A/ja active Pending
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