JP2022155355A - R-t-b系永久磁石用合金およびr-t-b系永久磁石の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気特性を向上させたR-T-B系永久磁石を作製できるR-T-B系永久磁石用合金を提供する。【解決手段】R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金である。断面における微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20%以下である。【選択図】図7
Description
本発明は、R-T-B系永久磁石用合金およびR-T-B系永久磁石の製造方法に関する。
特許文献1には、厚さおよび表面粗さを特定の範囲内とすることを特徴とする希土類磁石用合金薄片に関する発明が記載されている。鋳造用回転ロール表面の表面粗さを特定の範囲内とすることで、希土類磁石用合金薄片における微細Rリッチ相領域を減少させて磁気特性を向上させている。
特許文献2には、鋳造用回転ロールの鋳造面の形状を特定の形状とし、かつ、鋳造用回転ロールの鋳造面の表面粗さを特定の範囲内とすることを特徴とする希土類含有合金薄片の製造方法に関する発明が記載されている。当該製造方法により作製されたR-T-B系合金薄片は微細Rリッチ相領域が減少し、均質性に優れている。
特許文献3には、デンドライト二次アームが生成している領域の体積率を特定の範囲内とすることを特徴とするR-T-B系磁石用原料合金に関する発明が記載されている。デンドライト二次アームの生成により組織が微細化されるため、当該R-T-B系磁石用原料合金を原料として得られるR-T-B系焼結磁石は保磁力が向上する。
本発明は、磁気特性を向上させたR-T-B系永久磁石を作製できるR-T-B系永久磁石用合金を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係るR-T-B系永久磁石用合金は、
R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金であって、断面における微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20%以下である。
R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金であって、断面における微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20%以下である。
前記断面における前記微細線状Rリッチ相含有組織と、微細点状Rリッチ相含有組織との合計面積比率が1.0%以上24.0%以下であってもよい。
前記断面におけるチル晶組織と、前記微細線状Rリッチ相含有組織と、微細点状Rリッチ相含有組織との合計面積比率が1.0%以上27.0%以下であってもよい。
Rの含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、Bの含有量が0.70質量%以上0.96質量%未満であってもよい。
本発明に係るR-T-B系永久磁石の製造方法は、上記のR-T-B系永久磁石用合金を粉砕する工程を含む。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
<R-T-B系永久磁石用合金の組織>
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石用合金は、R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金である。そして、断面において、後述する微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20%以下である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石用合金は、R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金である。そして、断面において、後述する微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20%以下である。
一般的に、R-T-B系永久磁石用合金は、R2T14B型結晶構造を有する柱状晶である主相と、主相よりもRの含有量が多いRリッチ相と、を含む。
R-T-B系永久磁石用合金の断面においては、図1の反射電子像に示すように、主相11とRリッチ相13との間に明確な差異が確認でき、かつ、大部分のRリッチ相13の形状が線状である組織7(以下、通常組織7と呼ぶ)が大半を占める。通常組織7に含まれる主相11の大部分が柱状晶である。通常組織7において、形状が線状であるRリッチ相(以下、線状Rリッチ相と呼ぶ)の間隔は平均で2μm以上ある。また、通常組織7は合金の凝固の方向、言いかえれば合金の厚み方向に1次デンドライトが伸びた組織である。
また、R-T-B系永久磁石用合金は、通常組織7に加えて、柱状晶ではない主相を含む組織を含む。柱状晶ではない主相を非柱状晶と呼び、非柱状晶を含む組織を非柱状晶組織と呼ぶ。また、非柱状晶組織は必ずしも合金の凝固の方向に1次デンドライトが伸びていない組織である。
R-T-B系永久磁石用合金に含まれる非柱状晶組織は、後述する組織1aと組織1bとを区別する場合には、主に6種類に分類される。以下、6種類の非柱状晶組織について図面(反射電子像)を用いて説明する。
図2にはチル晶組織1が含まれ、チル晶組織1には組織1a、1bが含まれる。組織1aは組織1bと比較して通常組織7からの差異が大きい。組織1aは主相およびRリッチ相に明確な差異が見られない。組織1aは反射電子像における輝度が主相とRリッチ相との中間程度である。さらに、組織1aは反射電子像における濃淡の変動が滑らかである。
組織1bは、組織1aよりは通常組織7に近い組織である。しかし、組織1bは主相およびRリッチ相に明確な差異が見られない。組織1bは反射電子像における輝度が主相とRリッチ相との中間程度である。さらに、組織1bは反射電子像における濃淡の変動が滑らかである。また、組織1aとは異なり、組織1bには、一部、線状Rリッチ相が含まれる。
以下の記載では、単にチル晶組織と記載する場合には組織1aと組織1bとを区別しない。
図3、図4には微細点状Rリッチ相含有組織3(以下、組織3と記載することがある)が含まれる。なお、図3と図4とでは異なる合金片を観察している。組織3は、主相およびRリッチ相に明確な差異が見られる。しかし、組織3は図1に示す通常組織7と比較して、Rリッチ相が点状に凝集し、かつ、過度に密集している。さらに、後述する点状Rリッチ相含有組織4と比較して、点状Rリッチ相が微細である。
そして、組織3に含まれる点状Rリッチ相の寸法が円相当径で0.3~1.5μmであり、寸法が円相当径で0.3~1.5μmである点状Rリッチ相の単位面積中の個数が0.25個/μm2以上である。
さらに、組織3は、局所的に点状Rリッチ相の円相当径および密集状態が微妙に異なる箇所ごとに切り分けることができる。図4には実際に切り分けた状態が点線で示されている。切り分けられた多角形の領域は長径が10μm以上120μm以下、短径が5μm以上80μm以下である。なお、長径は多角形の両側から接する2本の平行線間の距離の中での最長距離を指し、短径は多角形の両側から接する2本の平行線間の距離の中での最短距離を指す。
以上より、寸法が円相当径で0.3~1.5μmである点状Rリッチ相の単位面積中の個数が0.25個/μm2以上であり、かつ、多角形に切り分けた場合に長径および短径が上記の範囲内である多角形の範囲内に存在する組織を組織3とする。
図5には、点状Rリッチ相含有組織4(以下、組織4と記載することがある)が含まれる。組織4は、組織3と比較して、点状Rリッチ相自体が大きい。さらに、点状Rリッチ相が凝集した部分において、主相よりも暗い相が存在している。
図6、図7には微細線状Rリッチ相含有組織5(以下、組織5と記載することがある)が含まれる。なお、図6と図7とでは異なる合金片を観察している。組織5は、主相およびRリッチ相に明確な差異が見られる。しかし、組織5は図1に示す通常組織7と比較して、線状Rリッチ相が細く、かつ、過度に密集している。
そして、組織5に含まれる線状Rリッチ相の長さが4~125μm、幅が0.3~10μm、当該線状Rリッチ相の間隔が1.0~1.8μmである。
さらに、組織5は、局所的に線状Rリッチ相の長さ、幅および密集状態が微妙に異なる箇所ごとに切り分けることができる。図7には実際に切り分けた状態が点線で示されている。切り分けられた多角形の領域は長径が30μm以上200μm以下、短径が5μm以上150μm以下である。
以上より、長さが4~125μm、幅が0.3~10μmである線状Rリッチ相を有し、かつ、当該線状Rリッチ相の間隔が1.0~1.8μmであり、かつ、多角形に切り分けた場合に長径および短径が上記の範囲内である多角形の範囲内に存在する組織を組織5とする。
図8には大型点状Rリッチ相含有組織6(以下、組織6と記載することがある)が含まれる。組織6では、Rリッチ相が大きめに凝集している。そして、凝集したRリッチ相の周囲にある主相の輝度が若干、高くなる。また、大きめに凝集したRリッチ相同士の間に線状Rリッチ相が挟まることがある。
上記の通常組織7および6種類の非柱状晶組織はR-T-B系永久磁石用合金の断面の反射電子像から目視にて区別することができる。各組織を区別するために用いる反射電子像の倍率には特に制限はない。例えば200~500倍であってもよい。
本発明者らは、組織5の面積比率が0.5%以上20.0%以下であるR-T-B系永久磁石用合金を用いて作製したR-T-B系永久磁石は磁気特性が良好であることを見出した。組織5の面積比率が1.0%以上であってもよく、3.4%以上であってもよい。また、19.2%以下であってもよい。
組織3と組織5との合計面積比率が1.0%以上24.0%以下であってもよい。1.1%以上であってもよく、3.6%以上であってもよい。23.4%以下であってもよく、3.6%以上23.4%以下であってもよい。
組織1aと組織1bと組織3と組織5との合計面積比率が1.0%以上27.0%以下であってもよい。1.3%以上であってもよく、4.0%以上であってもよく、4.3%以上であってもい。また、26.2%以下であってもよい。
組織1aと組織1bと組織3と組織4と組織5と組織6との合計面積割合が1.2%以上36.0%以下であってもよく、1.4%以上30.3%以下であってもよい。
<R-T-B系永久磁石用合金の組成>
R-T-B系永久磁石用合金の組成には特に制限はない。Rは、希土類元素の少なくとも1種を表す。希土類元素とは、長周期型周期表の第3族に属するScとYとランタノイド元素とのことをいう。ランタノイド元素には、例えば、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等が含まれる。希土類元素は、軽希土類元素および重希土類元素に分類され、重希土類元素とは、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luをいい、軽希土類元素は重希土類元素以外の希土類元素である。本実施形態においては、製造コストおよび磁気特性を好適に制御する観点から、RとしてNdおよび/またはPrを含んでもよい。また、特にHcJを向上させる観点から軽希土類元素と重希土類元素との両方を含んでもよい。重希土類元素の含有量には特に制限はなく、重希土類元素を含まなくてもよい。重希土類元素の含有量は例えば5質量%以下(0質量%を含む)である。
R-T-B系永久磁石用合金の組成には特に制限はない。Rは、希土類元素の少なくとも1種を表す。希土類元素とは、長周期型周期表の第3族に属するScとYとランタノイド元素とのことをいう。ランタノイド元素には、例えば、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等が含まれる。希土類元素は、軽希土類元素および重希土類元素に分類され、重希土類元素とは、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luをいい、軽希土類元素は重希土類元素以外の希土類元素である。本実施形態においては、製造コストおよび磁気特性を好適に制御する観点から、RとしてNdおよび/またはPrを含んでもよい。また、特にHcJを向上させる観点から軽希土類元素と重希土類元素との両方を含んでもよい。重希土類元素の含有量には特に制限はなく、重希土類元素を含まなくてもよい。重希土類元素の含有量は例えば5質量%以下(0質量%を含む)である。
Rの含有量は、29.0質量%以上33.5質量%以下であってもよい。Rの含有量が小さい場合には、得られるR-T-B系永久磁石のHcJが低下しやすくなる。Rの含有量が大きい場合には、Brが低下しやすくなる。
Bの含有量は0.70質量%以上であってもよく0.80質量%以上であってもよい。Bの含有量の上限は1.0質量%未満であってもよく、0.96質量%未満であってもよく、0.90質量%以下であってもよい。Bの含有量が化学量論比よりも小さい場合、具体的には1.0質量%未満である場合には、上記の各組織の面積比率を上記の範囲内としやすくなる。また、Bの含有量が小さい場合には、HcJが低下しやすくなる。さらに、高温で焼結する場合に異常粒成長が生じやすくなる。また、低温で焼結する場合にはHk/HcJが高くなりにくくなる。Bの含有量が大きい場合には、異常粒成長が生じやすくなる。そして、Brが低下しやすくなる。
Tは遷移金属元素である。Fe単独またはFeおよびCoであってもよい。Coの含有量は0質量%以上2.0質量%以下であってもよい。Coの含有量が小さい場合には、高温で焼結する場合に異常粒成長が生じやすくなる。また、低温で焼結する場合にはHk/HcJが高くなりにくくなる。Coの含有量が大きい場合には、BrおよびHcJが低下する。また、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石が高価となる傾向がある。
R-T-B系永久磁石用合金はMを含んでもよい。MはCu,Ga,ZrおよびAlから選択される1種以上である。Mの合計含有量には特に制限はない。0.1質量%以上2.0質量%以下であってもよい。
Cuの含有量には特に制限はない。例えば0.05質量%以上0.50質量%以下であってもよい。Cuを0.05質量%以上含むことにより高温で焼結する場合に異常粒成長が生じにくくなる。また、低温で焼結する場合でもHk/HcJが十分に高くなりやすくなる。Cuを0.50質量%以下、含むことにより、Brが向上しやすくなる。
Gaの含有量には特に制限はない。例えば0質量%以上1.0質量%以下であってもよい。Gaを含むことにより高温で焼結する場合に異常粒成長が生じにくくなる。さらに、低温で焼結する場合でもHk/HcJが十分に高くなりやすくなる。さらに、HcJも向上しやすくなる。Gaを1.0質量%以下含むことによりBrが向上しやすくなる。
Alの含有量には特に制限はない。例えば0.05質量%以上1.00質量%以下であってもよい。Alを0.05質量%以上含むことによりHcJが向上しやすくなる。また、高温で焼結する場合でも異常粒成長が生じにくくなる。さらに低温で焼結する場合でもHk/HcJが十分に高くなりやすくなる。Alを1.00質量%以下含むことによりBrが向上しやすくなる。
Zrの含有量には特に制限はない。例えば0.05質量%以上1.00質量%以下であってもよい。Zrを0.05質量%以上含むことにより、低温で焼結する場合でもHk/HcJが十分に高くなりやすくなる。また、高温で焼結する場合でも異常粒成長が生じにくくなる。Zrを1.00質量%以下含むことによりBrが向上しやすくなる。
Feの含有量は、R-T-B系永久磁石用合金の構成要素における実質的な残部である。Feの含有量が実質的な残部であるとは、R、Fe、Co、B、M以外の元素の合計含有量が1.0質量%以下である場合を指す。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石用合金を用いて作製されるR-T-B系永久磁石は、任意の形状に加工されて使用される。R-T-B系永久磁石の形状は特に限定されるものではなく、例えば、直方体、六面体、平板状、四角柱などの柱状、R-T-B系永久磁石の断面形状がC型の円筒状等の任意の形状とすることができる。
また、R-T-B系永久磁石には、当該磁石を加工して着磁した磁石製品と、当該磁石を着磁していない磁石製品との両方が含まれる。
<R-T-B系永久磁石用合金の製造方法>
R-T-B系永久磁石用合金を製造する方法の一例として、図9に示す鋳造装置を用いるストリップキャスト法により製造する方法を説明する。
R-T-B系永久磁石用合金を製造する方法の一例として、図9に示す鋳造装置を用いるストリップキャスト法により製造する方法を説明する。
図9に示す鋳造装置は、冷却ロール21、タンディッシュ23を有する。また、図9には図示していないが、鋳造装置は耐火物るつぼおよび捕集コンテナなど、鋳造装置の部品として周知の部品を有していてもよい。耐火物るつぼの種類には特に制限はない。例えばアルミナるつぼ、ムライトるつぼ、ジルコニアるつぼなどが挙げられる。冷却ロール21の材質には特に制限はない。例えば、銅、銅合金、銅の表面にメッキまたは溶射を行ったもの、銅合金の表面にメッキまたは溶射を行ったものなどが挙げられる。
まず、目的とするR-T-B系永久磁石用合金の合金組成となるように原料金属を秤量し、混合して原料混合物を得る。
次に、得られた原料混合物を耐火物るつぼに装填し、装填された原料混合物を溶融させて合金溶湯を得る。原料混合物を溶融させる方法には特に制限はない。例えば、原料混合物を装填した耐火物るつぼを高周波真空誘導炉内に設置して加熱する方法が挙げられる。
そして、図9に示す鋳造装置を用いるストリップキャスト法により、得られた合金溶湯を鋳造して鋳造合金薄帯(R-T-B系永久磁石用合金)を得る。具体的には、タンディッシュ23を介して、内部が水冷された冷却ロール21に合金溶湯25を供給する。冷却ロール21上に供給された合金溶湯25は冷却されてタンディッシュ23の反対側で冷却ロール21から離脱し、鋳造合金薄帯として回収される。
鋳造合金薄帯のうち、冷却ロール21に接する面がロール面、ロール面の反対側の面が自由面である。ロール面は自由面と比較して冷却ロール21により急激に冷却される。ここで、組織5などの非柱状晶組織は通常組織よりも冷却速度が速い場合に生成しやすい。非柱状晶組織の中でもチル晶組織は冷却速度が特に速い場合に生成しやすい。したがって、ロール面は自由面と比較してチル晶組織が生成しやすく非柱状晶組織が生成しやすい。なお、図1~8は全て左側にロール面がある。
上記の各組織の面積割合を算出するための観察範囲の位置には特に制限はないが、厚さ方向に平行な方向の長さについては、R-T-B系永久磁石用合金全体が含まれる長さ、すなわち合金の厚さとすることが好ましい。ロール面近傍と自由面近傍との両方が観察範囲に含まれるようにするためである。厚さ方向に垂直な方向の長さについては、少なくとも180μmの長さを設定することが好ましい。いいかえれば、少なくとも180μm×(合金の厚さ)の範囲が観察範囲に入るように観察倍率を決定する。
各組織の面積割合は、主に合金溶湯25の温度(鋳造温度)、合金溶湯25の組成、冷却ロール21のロール面粗さRz、ロール面粗さRzに影響を及ぼす凹凸の形状、溶湯ヘッド圧27、冷却ロール21のロール周速度、および冷却ロール21への合金溶湯25の供給速度(合金溶湯25と冷却ロール21との単位接触幅あたりの供給速度)により変化する。合金溶湯25の温度は例えば1300~1600℃である。冷却ロール21のロール面粗さRzは例えば10~50μmである。冷却ロール21のロール周速度は例えば0.5~2.5m/sである。冷却ロール21への合金溶湯25の供給速度は例えば0.5~2.5kg/(min・cm)である。
以下、溶湯ヘッド圧27について説明する。溶湯ヘッド圧27とは、冷却ロール21に接触する合金溶湯25の深さのことである。溶湯ヘッド圧27が大きいほど、合金溶湯25が自重により冷却ロール21に押し付けられる圧力が強くなる。そのため、溶湯ヘッド圧27が大きいほど、合金溶湯25と冷却ロール21とが強く密着し、合金溶湯25から冷却ロール21への熱伝達率が高くなる。同時に、冷却ロール21と接触する合金溶湯25の長さも変化する。したがって、他の条件が同一であれば、溶湯ヘッド圧27が高い方が、鋳造合金薄帯が厚くなる。実際には他の鋳造条件とあわせて溶湯ヘッド圧27を適宜選択する。
上記の通り、冷却速度が速いほど非柱状晶組織(チル晶組織)が生成しやすくなる。したがって、溶湯ヘッド圧27が大きいほど非柱状晶組織(チル晶組織)の面積割合が大きくなる傾向にある。
溶湯ヘッド圧27を大きくする方法としては、タンディッシュ23内における合金溶湯25の量を増やす方法が挙げられる。タンディッシュ23内における合金溶湯25の量を増やす方法としては、タンディッシュ23への合金溶湯25の供給速度を速くする方法が挙げられる。タンディッシュ23への合金溶湯25の供給速度が速くなれば鋳造合金薄帯が厚くなる。鋳造合金薄帯の厚さを変化させずに溶湯ヘッド圧27を大きくする方法としては、冷却ロール21の周速度を速くする方法が挙げられる。
すなわち、同じ厚さの鋳造合金薄帯を作製する場合には、合金溶湯25の供給速度が速く、冷却ロール21の周速度が速い場合には溶湯ヘッド圧27が大きくなり、合金溶湯25の供給速度が遅く、冷却ロール21の周速度が遅い場合には溶湯ヘッド圧27が小さくなる。
<R-T-B系永久磁石の製造方法>
上記の方法で製造したR-T-B系永久磁石用合金を用いてR-T-B系永久磁石を製造する方法には特に制限はない。例えば、以下の工程を有する方法が挙げられる。
(a)R-T-B系永久磁石用合金を粉砕する粉砕工程
(b)得られた合金粉末を成形する成形工程
(c)成形体を焼結し、R-T-B系永久磁石を得る焼結工程
(d)R-T-B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
(e)R-T-B系永久磁石を冷却する冷却工程
(f)R-T-B系永久磁石を加工する加工工程
(g)R-T-B系永久磁石の粒界に重希土類元素を拡散させる粒界拡散工程
(h)R-T-B系永久磁石に表面処理する表面処理工程
上記の方法で製造したR-T-B系永久磁石用合金を用いてR-T-B系永久磁石を製造する方法には特に制限はない。例えば、以下の工程を有する方法が挙げられる。
(a)R-T-B系永久磁石用合金を粉砕する粉砕工程
(b)得られた合金粉末を成形する成形工程
(c)成形体を焼結し、R-T-B系永久磁石を得る焼結工程
(d)R-T-B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
(e)R-T-B系永久磁石を冷却する冷却工程
(f)R-T-B系永久磁石を加工する加工工程
(g)R-T-B系永久磁石の粒界に重希土類元素を拡散させる粒界拡散工程
(h)R-T-B系永久磁石に表面処理する表面処理工程
[粉砕工程]
R-T-B系永久磁石用合金を粉砕する(粉砕工程)。粉砕工程は、粒径が数百μm~数mm程度になるまで粉砕する粗粉砕工程と、粒径が数μm程度になるまで微粉砕する微粉砕工程とがある。
R-T-B系永久磁石用合金を粉砕する(粉砕工程)。粉砕工程は、粒径が数百μm~数mm程度になるまで粉砕する粗粉砕工程と、粒径が数μm程度になるまで微粉砕する微粉砕工程とがある。
(粗粉砕工程)
R-T-B系永久磁石用合金を粒径が数百μm~数mm程度になるまで粗粉砕する(粗粉砕工程)。これにより、R-T-B系永久磁石用合金の粗粉砕粉末を得る。粗粉砕は、例えばR-T-B系永久磁石用合金に水素を吸蔵させた後、異なる相間の水素吸蔵量の相違に基づいて水素を放出させ、脱水素を行なうことで自己崩壊的な粉砕を生じさせる(水素吸蔵粉砕)ことによって行うことができる。
R-T-B系永久磁石用合金を粒径が数百μm~数mm程度になるまで粗粉砕する(粗粉砕工程)。これにより、R-T-B系永久磁石用合金の粗粉砕粉末を得る。粗粉砕は、例えばR-T-B系永久磁石用合金に水素を吸蔵させた後、異なる相間の水素吸蔵量の相違に基づいて水素を放出させ、脱水素を行なうことで自己崩壊的な粉砕を生じさせる(水素吸蔵粉砕)ことによって行うことができる。
なお、粗粉砕工程は、上記のように水素吸蔵粉砕を用いる以外に、不活性ガス雰囲気中にて、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等の粗粉砕機を用いて行うようにしてもよい。
また、酸素濃度は、各製造工程における雰囲気の制御等により調節される。高い磁気特性を得る観点からは、最終的に得られるR-T-B系永久磁石の酸素量を低くしてもよい。このためには、粉砕工程から後述する焼結工程までの各工程の酸素濃度を100ppm以下としてもよい。
(微粉砕工程)
R-T-B系永久磁石用合金を粗粉砕した後、得られたR-T-B系永久磁石用合金の粗粉砕粉末を平均粒子径が数μm程度になるまで微粉砕する(微粉砕工程)。これにより、R-T-B系永久磁石用合金の微粉砕粉末を得る。粗粉砕した粉末を更に微粉砕することで、例えば1μm以上10μm以下、または3μm以上5μm以下の粒子を有する微粉砕粉末を得ることができる。
R-T-B系永久磁石用合金を粗粉砕した後、得られたR-T-B系永久磁石用合金の粗粉砕粉末を平均粒子径が数μm程度になるまで微粉砕する(微粉砕工程)。これにより、R-T-B系永久磁石用合金の微粉砕粉末を得る。粗粉砕した粉末を更に微粉砕することで、例えば1μm以上10μm以下、または3μm以上5μm以下の粒子を有する微粉砕粉末を得ることができる。
微粉砕は、粉砕時間等の条件を適宜調整しながら、ジェットミル、ボールミル、振動ミル、湿式アトライター等の微粉砕機を用いて粗粉砕した粉末の更なる粉砕を行なうことで実施される。ジェットミルは、高圧の不活性ガス(たとえば、N2ガス)を狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により原料合金の粗粉砕粉末を加速して原料合金の粗粉砕粉末同士の衝突やターゲットまたは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。
原料合金の粗粉砕粉末を微粉砕する際、ステアリン酸亜鉛、尿素、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド等の粉砕助剤を添加することにより、成形時に配向性の高い微粉砕粉末を得ることができる。
[成形工程]
微粉砕粉末を目的の形状に成形する(成形工程)。成形工程では、微粉砕粉末を、電磁石に抱かれた金型内に充填して加圧することによって、微粉砕粉末を任意の形状に成形する。このとき、磁場を印加しながら行い、磁場印加によって微粉砕粉末に所定の配向を生じさせ、結晶軸を配向させた状態で磁場中成形する。これにより成形体が得られる。得られる成形体は、特定方向に配向するので、より磁性の強い異方性を有するR-T-B系永久磁石が得られる。
微粉砕粉末を目的の形状に成形する(成形工程)。成形工程では、微粉砕粉末を、電磁石に抱かれた金型内に充填して加圧することによって、微粉砕粉末を任意の形状に成形する。このとき、磁場を印加しながら行い、磁場印加によって微粉砕粉末に所定の配向を生じさせ、結晶軸を配向させた状態で磁場中成形する。これにより成形体が得られる。得られる成形体は、特定方向に配向するので、より磁性の強い異方性を有するR-T-B系永久磁石が得られる。
成形時の加圧は、30MPa~300MPaで行ってもよい。印加する磁場は、950kA/m~1600kA/mであってもよい。印加する磁場は静磁場に限定されず、パルス状磁場とすることもできる。また、静磁場とパルス状磁場とを併用することもできる。
なお、成形方法としては、上記のように微粉砕粉末をそのまま成形する乾式成形のほか、微粉砕粉末を油等の溶媒に分散させたスラリーを成形する湿式成形を適用することもできる。
微粉砕粉末を成形して得られる成形体の形状は特に限定されるものではなく、例えば直方体、平板状、柱状、リング状等、所望とするR-T-B系永久磁石の形状に応じて任意の形状とすることができる。
[焼結工程]
磁場中で成形し、目的の形状に成形して得られた成形体を真空または不活性ガス雰囲気中で焼結し、R-T-B系永久磁石を得る(焼結工程)。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要がある。成形体に対して、例えば、真空中または不活性ガスの存在下、1000℃以上1200℃以下で1時間以上48時間以下、加熱することにより焼結する。これにより、微粉砕粉末が液相焼結を生じ、主相粒子の体積比率が向上したR-T-B系永久磁石(R-T-B系磁石の焼結体)が得られる。成形体を焼結して焼結体を得た後は、生産効率を向上させる観点から焼結体を急冷してもよい。
磁場中で成形し、目的の形状に成形して得られた成形体を真空または不活性ガス雰囲気中で焼結し、R-T-B系永久磁石を得る(焼結工程)。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要がある。成形体に対して、例えば、真空中または不活性ガスの存在下、1000℃以上1200℃以下で1時間以上48時間以下、加熱することにより焼結する。これにより、微粉砕粉末が液相焼結を生じ、主相粒子の体積比率が向上したR-T-B系永久磁石(R-T-B系磁石の焼結体)が得られる。成形体を焼結して焼結体を得た後は、生産効率を向上させる観点から焼結体を急冷してもよい。
[時効処理工程]
成形体を焼結した後、R-T-B系永久磁石を時効処理する(時効処理工程)。焼結後、得られたR-T-B系永久磁石を焼結時よりも低い温度で保持することなどによって、R-T-B系永久磁石に時効処理を施す。時効処理は、例えば、700℃以上1000℃以下の温度で10分から6時間、更に500℃から700℃の温度で10分から6時間加熱する2段階加熱や、600℃付近の温度で10分から6時間加熱する1段階加熱等、時効処理を施す回数に応じて適宜処理条件を調整する。このような時効処理によって、R-T-B系永久磁石の磁気特性を向上させることができる。また、時効処理工程は後述する加工工程の後に行ってもよい。
成形体を焼結した後、R-T-B系永久磁石を時効処理する(時効処理工程)。焼結後、得られたR-T-B系永久磁石を焼結時よりも低い温度で保持することなどによって、R-T-B系永久磁石に時効処理を施す。時効処理は、例えば、700℃以上1000℃以下の温度で10分から6時間、更に500℃から700℃の温度で10分から6時間加熱する2段階加熱や、600℃付近の温度で10分から6時間加熱する1段階加熱等、時効処理を施す回数に応じて適宜処理条件を調整する。このような時効処理によって、R-T-B系永久磁石の磁気特性を向上させることができる。また、時効処理工程は後述する加工工程の後に行ってもよい。
[冷却工程]
R-T-B系永久磁石に時効処理を施した後、R-T-B系永久磁石はArガス雰囲気中で急冷を行う(冷却工程)。これにより、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を得ることができる。冷却速度は、特に限定されるものではなく、30℃/min以上としてもよい。
R-T-B系永久磁石に時効処理を施した後、R-T-B系永久磁石はArガス雰囲気中で急冷を行う(冷却工程)。これにより、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を得ることができる。冷却速度は、特に限定されるものではなく、30℃/min以上としてもよい。
[加工工程]
得られたR-T-B系永久磁石は、必要に応じて所望の形状に加工してもよい(加工工程)。加工方法は、例えば切断、研削などの形状加工や、バレル研磨などの面取り加工などが挙げられる。
得られたR-T-B系永久磁石は、必要に応じて所望の形状に加工してもよい(加工工程)。加工方法は、例えば切断、研削などの形状加工や、バレル研磨などの面取り加工などが挙げられる。
[粒界拡散工程]
加工されたR-T-B系永久磁石の粒界に対して、さらに重希土類元素を拡散させてもよい(粒界拡散工程)。粒界拡散の方法には特に制限はない。例えば、塗布または蒸着等により重希土類元素を含む化合物をR-T-B系永久磁石の表面に付着させた後に熱処理を行うことで実施してもよい。また、重希土類元素の蒸気を含む雰囲気中でR-T-B系永久磁石に対して熱処理を行うことで実施してもよい。粒界拡散により、R-T-B系永久磁石のHcJをさらに向上させることができる。
加工されたR-T-B系永久磁石の粒界に対して、さらに重希土類元素を拡散させてもよい(粒界拡散工程)。粒界拡散の方法には特に制限はない。例えば、塗布または蒸着等により重希土類元素を含む化合物をR-T-B系永久磁石の表面に付着させた後に熱処理を行うことで実施してもよい。また、重希土類元素の蒸気を含む雰囲気中でR-T-B系永久磁石に対して熱処理を行うことで実施してもよい。粒界拡散により、R-T-B系永久磁石のHcJをさらに向上させることができる。
[表面処理工程]
以上の工程により得られたR-T-B系永久磁石は、めっきや樹脂被膜や酸化処理、化成処理などの表面処理を施してもよい(表面処理工程)。
以上の工程により得られたR-T-B系永久磁石は、めっきや樹脂被膜や酸化処理、化成処理などの表面処理を施してもよい(表面処理工程)。
なお、本実施形態では、加工工程、粒界拡散工程、表面処理工程を行っているが、これらの工程は必ずしも行う必要はない。
以上のようにして得られる本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、良好な磁気特性を有するとともに、焼結温度幅が広い。その結果、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、安定して生産が可能な磁石となる。
このようにして得られる本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、例えば、ロータ表面に磁石を取り付けた表面磁石型(Surface Permanent Magnet:SPM)回転機、インナーロータ型のブラシレスモータのような内部磁石埋込型(Interior Permanent Magnet:IPM)回転機、PRM(Permanent magnet Reluctance Motor)などの磁石として好適に用いられる。具体的には、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、ハードディスクドライブのハードディスク回転駆動用スピンドルモータやボイスコイルモータ、電気自動車やハイブリッドカー用モータ、自動車の電動パワーステアリング用モータ、工作機械のサーボモータ、携帯電話のバイブレータ用モータ、プリンタ用モータ、発電機用モータ等の用途として好適に用いられる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
以下、実施例により発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
(R-T-B系永久磁石用合金の作製)
Ndメタル(純度99質量%以上)、NdとPrとの合金(ジジム、純度99質量%以上)、Tbメタル(純度99質量%以上)と、フェロボロン(Fe含有量80質量%、B含有量20質量%)、Feメタル(純度99質量%以上)、Coメタル(純度99質量%以上)、Zrメタル(純度99質量%以上)、Cuメタル(純度99質量%)、Alメタル(純度99質量%以上)、Gaメタル(純度99質量%以上)を、下記の表1に示す合金組成になるように秤量し、混合して原料混合物を得た。表1における「T.RE」は希土類元素(Nd、Pr、DyおよびTb)の合計含有量(質量%)、「T.RL」は軽希土類元素(NdおよびPr)の合計含有量(質量%)である。「bal.」は残部である。Feの含有量を「bal.」と記載するのは、Feの含有量が表1に記載した元素以外の元素を含むR-T-B系永久磁石用合金全体を100質量%とした場合の残部であることを示すためである。
Ndメタル(純度99質量%以上)、NdとPrとの合金(ジジム、純度99質量%以上)、Tbメタル(純度99質量%以上)と、フェロボロン(Fe含有量80質量%、B含有量20質量%)、Feメタル(純度99質量%以上)、Coメタル(純度99質量%以上)、Zrメタル(純度99質量%以上)、Cuメタル(純度99質量%)、Alメタル(純度99質量%以上)、Gaメタル(純度99質量%以上)を、下記の表1に示す合金組成になるように秤量し、混合して原料混合物を得た。表1における「T.RE」は希土類元素(Nd、Pr、DyおよびTb)の合計含有量(質量%)、「T.RL」は軽希土類元素(NdおよびPr)の合計含有量(質量%)である。「bal.」は残部である。Feの含有量を「bal.」と記載するのは、Feの含有量が表1に記載した元素以外の元素を含むR-T-B系永久磁石用合金全体を100質量%とした場合の残部であることを示すためである。
得られた原料混合物をアルミナるつぼに装填した。原料混合物を装填したアルミナるつぼを高周波真空誘導炉内に設置した後に高周波真空誘導炉内をArで置換した。そして、高周波真空誘導炉内を加熱することでアルミナるつぼに装填された原料混合物を溶融させて合金溶湯を得た。図9に示す鋳造装置を用いるストリップキャスト法により、得られた合金溶湯を鋳造して鋳造合金薄帯(R-T-B系永久磁石用合金)を得た。鋳造はAr雰囲気中で行った。
合金溶湯の温度、冷却ロールのロール面粗さRz、および溶湯ヘッド圧は表2に記載されたR-T-B系希永久磁石用合金が得られるように適宜選択した。具体的には、合金溶湯の温度(鋳造温度)が1300~1600℃、冷却ロールのロール面粗さRzが5~50μm、溶湯ヘッド圧が5~25mmの範囲内で適宜、選択した。また、冷却ロールの材質は銅合金とした。冷却ロールのロール周速度、および冷却ロールへの溶湯の供給速度(溶湯と冷却ロールの単位接触幅あたりの供給速度)は下記の表2に示す値となるように調整した。
(各組織の面積比率の測定)
電子顕微鏡(日本電子製)を用いてR-T-B系永久磁石用合金における各組織の面積比率を測定した。
電子顕微鏡(日本電子製)を用いてR-T-B系永久磁石用合金における各組織の面積比率を測定した。
まず、評価用サンプルを採取した。具体的には、1製造ロット分のR-T-B系永久磁石用合金が上記のストリップキャスト法により供給される工程にて、一定時間間隔で供給されるR-T-B系永久磁石用合金から合金片をサンプリングした。R-T-B系永久磁石用合金から無作為に30枚の合金片を採取して各合金片を評価用サンプルとした。
次に、採取した評価用サンプルの厚さを測定した。そして、30枚の評価用サンプルのうち、厚さが2、3、4番目に厚いサンプルを厚めサンプル、14、15、16番目に厚いサンプルを平均付近サンプル、27、28、29番目に厚いサンプルを薄めサンプルとして選別した。
次に、選別した9枚の評価用サンプルのそれぞれについて、断面における各組織の面積比率を測定した。具体的には、電子顕微鏡の倍率を350倍として観察範囲を設定した。観察範囲としては、各評価用サンプルの観察面のうち、平均的な状態である部分を選択した。また、観察範囲の厚さ方向の長さは各サンプルの平均厚さとした。ロール面と自由面との両方が含まれるようにするためである。また、厚さ方向に垂直な方向の長さは270μmとした。そして、上記の9枚のサンプルについて各組織の面積比率を測定し、平均した。結果を表2に示す。なお、表2の「組織3+5」欄は組織3と組織5との合計面積比率を表す。表2の「組織1a+1b+3+5」欄は組織1aと組織1bと組織3と組織5との合計面積比率を表す。
(R-T-B系永久磁石の作製)
R-T-B系永久磁石用合金に対して室温で水素を吸蔵させた後、真空中で600℃、1時間の脱水素を行う水素粉砕処理(粗粉砕)を行い、合金粉末(粗粉砕粉末)を得た。なお、本実施例では、水素粉砕処理から焼結までの各工程(微粉砕および成形)を、50ppm未満の酸素濃度のAr雰囲気下または真空中で行った。
R-T-B系永久磁石用合金に対して室温で水素を吸蔵させた後、真空中で600℃、1時間の脱水素を行う水素粉砕処理(粗粉砕)を行い、合金粉末(粗粉砕粉末)を得た。なお、本実施例では、水素粉砕処理から焼結までの各工程(微粉砕および成形)を、50ppm未満の酸素濃度のAr雰囲気下または真空中で行った。
次に、合金粉末に対して、粉砕助剤として、ステアリン酸亜鉛およびステアリン酸アミドを添加し、ナウタミキサを用いて混合した。ステアリン酸亜鉛の添加量は粗粉砕粉末100質量部に対して0.05質量部である。ステアリン酸アミドの添加量は粗粉砕粉末100質量部に対して0.05質量部である。その後、ジェットミルを用いて微粉砕を行い、平均粒径が3.0μm程度の微粉砕粉末とした。
得られた微粉砕粉末を、電磁石中に配置された金型内に充填し、1200kA/mの磁場を印加しながら120MPaの圧力を加える磁場中成形を行い、成形体を得た。
その後、得られた成形体を、真空中にて1050℃で4時間保持して焼結した後、急冷して、表1に示す磁石組成を有する焼結体を得た。そして、得られた焼結体に対して、900℃で1時間、および、500℃で1時間(ともにAr雰囲気下)の2段階の時効処理を施し、R-T-B系永久磁石(R-T-B系焼結磁石)を得た。
[磁気特性]
各試料のBr、HcJおよびHk/HcJはB-Hトレーサーを用いて測定した。全ての試料について室温でBrを測定した。実施例1~4および比較例1ではHcJおよびHk/HcJを室温で測定した。その他の実施例および比較例ではHcJおよびHk/HcJを150℃で測定した。なお、本実施例でのHkは、減磁曲線の第二象限において磁化がBr×0.9であるときの磁界の値である。
各試料のBr、HcJおよびHk/HcJはB-Hトレーサーを用いて測定した。全ての試料について室温でBrを測定した。実施例1~4および比較例1ではHcJおよびHk/HcJを室温で測定した。その他の実施例および比較例ではHcJおよびHk/HcJを150℃で測定した。なお、本実施例でのHkは、減磁曲線の第二象限において磁化がBr×0.9であるときの磁界の値である。
実施例1~4および比較例1より、組織5の面積比率が0.5%以上20%以下であるR-T-B系永久磁石用合金を用いて作製された実施例1~4のR-T-B系永久磁石は、組織5の面積比率が上記の範囲外である点以外は同条件で作製されたR-T-B系永久磁石用合金を用いて作製された比較例1のR-T-B系永久磁石と比較してBrが高く、HcJが同程度であり、Hk/HcJが高くなった。特に室温でのHk/HcJが高くなった。
実施例5~11より、R-T-B系永久磁石用合金における組織1aと組織1bと組織3と組織5との合計面積比率が4.0%以上27.0%以下である実施例6~11は、R-T-B系永久磁石用合金における組織1aと組織1bと組織3と組織5との合計面積比率が4.0%未満である点以外は同条件で作製された実施例5と比較してHcJが高くなった。
実施例6~11より、R-T-B系永久磁石用合金における組織3と組織5との合計面積比率を1.0%以上24.0%以下で変化させた点以外は同条件で作製されたR-T-B系永久磁石は、R-T-B系永久磁石用合金における組織3と組織5との合計面積比率が高いほどHcJが高くなる傾向にあった。
比較例2はBの含有量が0.96質量%であり他の実施例よりも高い。そのため、他の実施例に近い鋳造条件としても非柱状晶組織の面積比率、特に組織5の面積比率が低下した。その結果、実施例と比較してHcJが低下した。
1…チル晶組織
3…微細点状Rリッチ相含有組織
4…点状Rリッチ相含有組織
5…微細線状Rリッチ相含有組織
6…大型点状Rリッチ相含有組織
7…通常組織
11…主相
13…Rリッチ相
21…冷却ロール
23…タンディッシュ
25…合金溶湯
27…溶湯ヘッド圧
3…微細点状Rリッチ相含有組織
4…点状Rリッチ相含有組織
5…微細線状Rリッチ相含有組織
6…大型点状Rリッチ相含有組織
7…通常組織
11…主相
13…Rリッチ相
21…冷却ロール
23…タンディッシュ
25…合金溶湯
27…溶湯ヘッド圧
Claims (5)
- R,TおよびBを有し、Rが希土類元素、Tが遷移金属元素、Bがホウ素であるR-T-B系永久磁石用合金であって、断面における微細線状Rリッチ相含有組織の面積比率が0.5%以上20.0%以下であるR-T-B系永久磁石用合金。
- 前記断面における前記微細線状Rリッチ相含有組織と、微細点状Rリッチ相含有組織との合計面積比率が1.0%以上24.0%以下である請求項1に記載のR-T-B系永久磁石用合金。
- 前記断面におけるチル晶組織と、前記微細線状Rリッチ相含有組織と、微細点状Rリッチ相含有組織との合計面積比率が1.0%以上27.0%以下である請求項1または2に記載のR-T-B系永久磁石用合金。
- Rの含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、Bの含有量が0.70質量%以上0.96質量%未満である請求項1~3のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石用合金。
- 請求項1~4のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石用合金を粉砕する工程を含むR-T-B系永久磁石の製造方法。
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