JP2022154458A - 3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(1)で表される4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルを、弱酸性化合物及び水の存在下で環化反応させて、式(2)で表される3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンを製造する。式中、Xはハロゲン原子を示し、Rはエステル型保護基を示す。
[化1]
Description
特許文献1の実施例には、4-クロロ-3-ヒドロキシ酪酸エチルに、塩酸水溶液又は硫酸水溶液を加え、加熱還流し、苛性ソーダ液で中和し、減圧下で水を留去し、残留する結晶と油状物の混合物に酢酸エチルを加えて攪拌し、結晶物をろ別し、ろ液を減圧濃縮して3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンを製造した例が記載されている。
特許文献2には、4-クロロ-3-ヒドロキシ酪酸エチルを、含水溶媒中で、酸を添加することなく環化反応させて3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンを製造した例が記載されている。
本発明は、不純物の生成をより抑制できる3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンの製造方法を提供する。
[1] 下記式(1)で表される4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルを、弱酸性化合物及び水の存在下で環化反応させることを特徴とする、下記式(2)で表される3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンの製造方法。
式(1)中、Xはハロゲン原子を示し、Rはエステル型保護基を示す。
式(1)において、Rはエステル型保護基を示す。本明細書におけるエステル型保護基とは、エステルとしてカルボン酸を保護し得る基を意味する。
エステル型保護基としては、炭素数1~10のアルキル基、炭素数6~20のアリール基、炭素数7~20のアラルキル基、シリル系保護基等が例示できる。具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、tert-ブチル基、フェニル基、ベンジル基、α-メチルベンジル基、フェニルプロピル基、トリメチルシリル基、tert-ブチルジメチルシリル基、又はこれらの基の一部が置換基により置換された基等が挙げられる。置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基、エーテル基、アミド基等が例示できる。
Rは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、tert-ブチル基、又はベンジル基が好ましく、エチル基がより好ましい。
本製造方法で用いる4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルは、光学異性体である(R)-体又は(S)-体のいずれでもよく、これらを併用してもよい。
本明細書における弱酸性化合物とは、濃度0.5M水溶液の20℃におけるpHが2.1~6.0である化合物を意味する。具体例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、クロトン酸、アクリル酸、メタクリル酸、シュウ酸水素カリウム、酒石酸水素カリウム、フタル酸水素カリウム等の弱酸;塩化アンモニウム、トリメチルアミン塩酸塩等の弱酸性塩が挙げられる。
原料組成物における水を含む媒体の含有量は、4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルに対して1~10倍重量が好ましく、2~6倍重量がより好ましい。
原料組成物における弱酸性化合物の含有量は、4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルに対して0.05~2.0モル当量が好ましく、0.1~1.0モル当量がより好ましい。
水溶性有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒等が例示できる。
媒体に対する水の割合は30質量%以上が好ましく、60質量%以上がより好ましく、100質量%が特に好ましい。
反応時間は特に限定されないが、例えば0.5~24時間が好ましく、1~10時間がより好ましい。
4-ハロゲノ-3-ヒドロキシ酪酸エステルの環化反応では、不純物として、下記式(3)で表されるγ-クロトノラクトンが生成し得る。
例えば、後述の測定方法で得られる不純物生成比を4.3%以下、好ましくは4.2%以下、より好ましくは4.0%以下、さらに好ましく3.0%以下に低減することができる。
例えば、反応液に、苛性ソーダ、炭酸ナトリウム等のアルカリを添加して中和した後、媒体を減圧下に留去し、目的化合物と塩を含む中和液を得る。
この中和液に、目的化合物を溶解できる有機溶媒の1種以上を加えて塩を析出させ、析出物を濾別し、濾液を減圧濃縮して目的化合物の粗体を得る。さらに、この操作を複数回繰り返して精製し、目的化合物の精製品を得ることができる。
反応追跡はガスクロマトグラフィーにより実施し、収率及び不純物生成比をピーク面積比から次式により算出した。
収率(%)=目的化合物/(未反応の原料化合物+中間体+目的化合物+不純物)×100
不純物生成比(%)=不純物/目的化合物×100
例1~4において、以下のピーク面積から収率及び不純物生成比を算出した。
原料化合物:(S)-4-クロロ-3-ヒドロキシ酪酸エチルのピーク面積
目的化合物:(S)-3-ヒドロキシ-γ-ブチロラクトンのピーク面積
不純物:γ-クロトノラクトンのピーク面積
中間体:(S)-4-クロロ-3-ヒドロキシ酪酸のピーク面積
<例1>
ガラス製のフラスコに、水15mL及び酢酸456mg(7.5mmol)を加えて弱酸化合物水溶液を調製し、さらに(S)-4-クロロ-3-ヒドロキシ酪酸エチル5.00g(30mmol)を加えて原料組成物を調製した。原料組成物を2時間加熱還流して反応液を得た。弱酸性化合物水溶液の初期pHを表1に示す(以下、同様)。
得られた反応液をガスクロマトグラフィー分析し、上記の方法で収率及び不純物生成比を求めた。結果を表1に示す(以下、同様)。
例1において、酢酸7.5mmolを塩化アンモニウム7.5mmolに変更した以外は、例1と同様に実施した。
<例3>
例1において、酢酸7.5mmolを塩酸7.5mmolに変更した以外は、例1と同様に実施した。
<例4>
例1において、酢酸を加えなかった以外は、例1と同様に実施した。
強酸である塩酸の存在下で環化反応を行った例3、及び弱酸性化合物を添加しなかった例4は、例1、2に比べて不純物生成比が大きかった。
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