JP2022147269A - Cutting device - Google Patents

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Abstract

To provide a cutting device capable of preventing a metal from mixing into a working liquid.SOLUTION: A cutting device cutting a workpiece comprises: a chuck table holding the workpiece; a cutting unit equipped with a cutting blade cutting the workpiece held by the chuck table and including a working liquid supply nozzle for supplying the working liquid to the workpiece; and a working liquid supply unit for supplying the working liquid to the working liquid supply nozzle. The working liquid supply unit comprises: a liquid generating unit generating liquid; a branch path supplying the liquid supplied from the liquid generating unit to a working liquid supply path connected to the working liquid supply nozzle and a measurement liquid supply path; a measurement unit measuring the resistivity or conductivity of the liquid supplied to the measurement liquid supply path; and a disposal path through which the liquid whose resistivity or conductivity is measured is discharged.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、被加工物を切削する切削装置に関する。 The present invention relates to a cutting device for cutting a workpiece.

デバイスチップの製造プロセスでは、格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にそれぞれデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハをストリートに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。デバイスチップは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に搭載される。 In the process of manufacturing device chips, a wafer is used in which devices are formed in a plurality of areas partitioned by a plurality of streets (dividing lines) arranged in a grid pattern. A plurality of device chips each having a device is obtained by dividing the wafer along the streets. Device chips are mounted on various electronic devices such as mobile phones and personal computers.

ウェーハの分割には、切削装置が用いられる。切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、被加工物に切削加工を施す切削ユニットとを備えている。切削ユニットはスピンドルを備えており、スピンドルの先端部には被加工物を切削するための環状の切削ブレードが装着される。ウェーハをチャックテーブルで保持し、回転する切削ブレードをウェーハに切り込ませることにより、ウェーハが切削、分割される。 A cutting device is used to divide the wafer. A cutting device includes a chuck table that holds a workpiece, and a cutting unit that cuts the workpiece. The cutting unit has a spindle, and an annular cutting blade for cutting the workpiece is attached to the tip of the spindle. The wafer is cut and divided by holding the wafer on a chuck table and cutting the wafer with a rotating cutting blade.

切削ブレードでウェーハを切削する際には、ウェーハ及び切削ブレードに加工液が供給される(特許文献1参照)。この加工液により、ウェーハと切削ブレードとが冷却されるとともに、切削によって生じた屑(切削屑)が洗い流される。 When cutting a wafer with a cutting blade, a working fluid is supplied to the wafer and the cutting blade (see Patent Document 1). This working fluid cools the wafer and the cutting blade and washes away debris (cutting debris) generated by cutting.

特開2004-303855号公報JP 2004-303855 A

切削装置で被加工物を加工する際に供給される加工液としては、純水が用いられることが多い。ただし、純水は比抵抗(電気抵抗率)が高いため、切削加工中に被加工物及び切削ブレードに純水が供給されると、高速で回転する切削ブレードと被加工物との接触領域において静電気が生じやすくなる。これにより、被加工物に形成されたデバイスの静電破壊が発生し、デバイスチップの歩留まりが低下するおそれがある。 2. Description of the Related Art Pure water is often used as a working fluid that is supplied when a workpiece is machined by a cutting device. However, since pure water has a high specific resistance (electrical resistivity), if pure water is supplied to the workpiece and cutting blade during cutting, the contact area between the cutting blade rotating at high speed and the workpiece will Static electricity is easily generated. As a result, the devices formed on the workpiece may be electrostatically damaged, and the yield of device chips may be reduced.

そこで、二酸化炭素が混合された純水(炭酸水)が加工液として用いられることがある。炭酸水は、純水と比較して比抵抗が小さいため、切削加工中に被加工物及び切削ブレードに供給されても静電気を生じさせにくい。これにより、デバイスの静電破壊が抑制される。 Therefore, pure water mixed with carbon dioxide (carbonated water) is sometimes used as the working fluid. Since carbonated water has a lower specific resistance than pure water, it does not easily generate static electricity even if it is supplied to the workpiece and the cutting blade during cutting. This suppresses electrostatic breakdown of the device.

加工液として炭酸水を用いる場合には、純水に添加される二酸化炭素の量を調節することにより、加工液の比抵抗の値を制御できる。例えば、切削ユニットに加工液を供給する加工液供給路に、液体の比抵抗を測定する比抵抗測定器が設置される。そして、加工液供給路を流れる加工液の比抵抗が比抵抗測定器によって測定され、測定結果に基づいて純水に添加される二酸化炭素の量が調節される。これにより、加工液の比抵抗の値がフィードバックされ、切削ユニットに供給される加工液の比抵抗の値が所望の範囲内に維持される。 When carbonated water is used as the working fluid, the specific resistance value of the working fluid can be controlled by adjusting the amount of carbon dioxide added to the pure water. For example, a resistivity measuring device that measures the resistivity of the liquid is installed in the working fluid supply path that supplies the working fluid to the cutting unit. Then, the resistivity of the machining fluid flowing through the machining fluid supply path is measured by a resistivity measuring device, and the amount of carbon dioxide added to the pure water is adjusted based on the measurement result. Thereby, the value of the specific resistance of the working fluid is fed back, and the value of the specific resistance of the working fluid supplied to the cutting unit is maintained within a desired range.

しかしながら、比抵抗測定器の測定針には銅等の金属が用いられている。そのため、加工液供給路を流れる加工液の比抵抗を比抵抗測定器によって測定すると、切削ユニットに供給される加工液に金属が混入する。その結果、金属を含む加工液が被加工物に供給され、被加工物の汚染、デバイスの動作不良等の不都合が発生するおそれがある。 However, a metal such as copper is used for the measuring needle of the resistivity measuring device. Therefore, when the resistivity of the machining fluid flowing through the machining fluid supply path is measured by a resistivity measuring device, the machining fluid supplied to the cutting unit contains metal. As a result, the machining liquid containing metal is supplied to the workpiece, which may cause problems such as contamination of the workpiece and malfunction of the device.

本発明は、かかる問題に鑑みてなされたものであり、加工液への金属の混入を防止することが可能な切削装置の提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cutting apparatus capable of preventing metal from entering a machining fluid.

本発明の一態様によれば、被加工物を切削する切削装置であって、該被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルによって保持された該被加工物を切削する切削ブレードが装着され、該被加工物に加工液を供給する加工液供給ノズルを備える切削ユニットと、該加工液供給ノズルに該加工液を供給する加工液供給ユニットと、を備え、該加工液供給ユニットは、液体を生成する液体生成ユニットと、該液体生成ユニットから供給された該液体を、該加工液供給ノズルに接続された加工液供給路と、測定液供給路とに供給する分岐路と、該測定液供給路に供給された該液体の比抵抗又は導電率を測定する測定ユニットと、該測定ユニットによって比抵抗又は導電率が測定された該液体が排出される廃棄路と、を備える切削装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a cutting device for cutting a workpiece, which includes a chuck table for holding the workpiece and a cutting blade for cutting the workpiece held by the chuck table. a cutting unit including a machining fluid supply nozzle that supplies machining fluid to the workpiece; and a machining fluid supply unit that supplies the machining fluid to the machining fluid supply nozzle, the machining fluid supply unit comprising: a liquid generation unit that generates a liquid; a branch path that supplies the liquid supplied from the liquid generation unit to a machining liquid supply path connected to the machining liquid supply nozzle; a measurement liquid supply path; A cutting device comprising a measuring unit for measuring the resistivity or conductivity of the liquid supplied to the liquid supply channel, and a waste channel through which the liquid whose resistivity or conductivity is measured by the measuring unit is discharged provided.

なお、好ましくは、該液体生成ユニットは、純水を供給する純水供給源と、二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給源と、該純水供給源から供給された純水と、該二酸化炭素供給源から供給された二酸化炭素とを混合する混合部と、該二酸化炭素供給源から該混合部に供給される二酸化炭素の量を調節する二酸化炭素供給バルブと、を備える。 Preferably, the liquid generation unit includes a pure water supply source that supplies pure water, a carbon dioxide supply source that supplies carbon dioxide, pure water supplied from the pure water supply source, and the carbon dioxide supply source. A mixing section for mixing with carbon dioxide supplied from a source, and a carbon dioxide supply valve for adjusting the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section from the carbon dioxide supply source.

また、好ましくは、該測定液供給路に供給される該液体の量は、該加工液供給路に供給される該液体の量よりも少ない。また、好ましくは、該加工液供給ユニットは、該分岐路から該測定ユニットに供給される該液体の量を調節する測定液供給バルブを更に備える。また、好ましくは、該切削装置は、該分岐路から供給された該液体を、該加工液供給路と洗浄液供給路とに供給する分岐路を更に備える。 Also, preferably, the amount of the liquid supplied to the measuring liquid supply path is smaller than the amount of the liquid supplied to the machining liquid supply path. Moreover, preferably, the working liquid supply unit further includes a measurement liquid supply valve for adjusting the amount of the liquid supplied from the branch passage to the measurement unit. Moreover, preferably, the cutting device further includes a branch passage for supplying the liquid supplied from the branch passage to the machining liquid supply passage and the cleaning liquid supply passage.

本発明の一態様に係る切削装置では、液体生成ユニットから供給された液体が分岐され、加工液供給路と測定液供給路とに供給される。そして、測定液供給路から測定ユニットに供給され、比抵抗又は導電率が測定された液体は、廃棄路に排出される。これにより、被加工物に供給される加工液に金属が混入することを防止できる。 In the cutting apparatus according to one aspect of the present invention, the liquid supplied from the liquid generation unit is branched and supplied to the machining liquid supply path and the measurement liquid supply path. Then, the liquid supplied from the measurement liquid supply path to the measurement unit and whose specific resistance or conductivity has been measured is discharged to the disposal path. As a result, it is possible to prevent the metal from being mixed into the machining fluid supplied to the workpiece.

切削装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a cutting device. 図2(A)は切削ユニットを示す斜視図であり、図2(B)はブレードカバーが装着された切削ユニットを示す斜視図である。FIG. 2(A) is a perspective view showing the cutting unit, and FIG. 2(B) is a perspective view showing the cutting unit to which the blade cover is attached. 加工液供給ユニットを示すブロック図である。4 is a block diagram showing a working fluid supply unit; FIG. 測定液供給バルブを備える加工液供給ユニットを示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a machining liquid supply unit having a measurement liquid supply valve; 分岐路が接続された加工液供給ユニットを示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing a working fluid supply unit to which a branch path is connected;

以下、添付図面を参照して本実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る切削装置の構成例について説明する。図1は、切削装置2を示す斜視図である。なお、図1において、X軸方向(加工送り方向、左右方向、第1水平方向)とY軸方向(割り出し送り方向、前後方向、第2水平方向)とは、互いに垂直な方向である。また、Z軸方向(鉛直方向、上下方向、高さ方向)は、X軸方向及びY軸方向と垂直な方向である。 Hereinafter, this embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of a cutting device according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a cutting device 2. FIG. In FIG. 1, the X-axis direction (processing feed direction, left-right direction, first horizontal direction) and the Y-axis direction (indexing feed direction, front-rear direction, second horizontal direction) are perpendicular to each other. Also, the Z-axis direction (vertical direction, vertical direction, height direction) is a direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.

切削装置2は、切削装置2を構成する各構成要素を支持及び収容する基台4を備える。基台4の前端側の角部には開口4aが形成されており、開口4aの内部には、昇降機構(不図示)によってZ軸方向に沿って移動(昇降)するカセット支持台6が設けられている。カセット支持台6上には、切削装置2によって加工される複数の被加工物11を収容可能なカセット8が搭載される。なお、図1ではカセット8の輪郭を二点鎖線で示している。 The cutting device 2 includes a base 4 that supports and accommodates each component constituting the cutting device 2 . An opening 4a is formed at the corner of the front end of the base 4, and a cassette support 6 is provided inside the opening 4a to move (elevate) along the Z-axis direction by means of an elevating mechanism (not shown). It is A cassette 8 capable of accommodating a plurality of workpieces 11 to be machined by the cutting device 2 is mounted on the cassette support base 6 . In FIG. 1, the contour of the cassette 8 is indicated by a chain double-dashed line.

例えば被加工物11は、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハであり、互いに概ね平行な表面及び裏面を備える。被加工物11は、互いに交差するように格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって、複数の矩形状の領域に区画されている。また、ストリートによって区画された領域の表面側にはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)、LED(Light Emitting Diode)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイス等のデバイスが形成されている。切削装置2によって被加工物11をストリートに沿って切削、分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。 For example, the workpiece 11 is a disk-shaped wafer made of a semiconductor material such as silicon, and has a front surface and a back surface that are substantially parallel to each other. The workpiece 11 is partitioned into a plurality of rectangular regions by a plurality of streets (planned division lines) arranged in a lattice so as to intersect each other. Devices such as ICs (Integrated Circuits), LSIs (Large Scale Integrations), LEDs (Light Emitting Diodes), and MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) devices are formed on the surface side of the regions partitioned by the streets. there is A plurality of device chips each having a device are manufactured by cutting and dividing the workpiece 11 along the streets by the cutting device 2 .

ただし、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば被加工物11は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、サファイア、ガラス(石英ガラス、ホウケイ酸ガラス等)、樹脂、セラミックス、金属等でなるウェーハ(基板)であってもよい。また、デバイスの種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物11にはデバイスが形成されていなくてもよい。 However, the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11 are not limited. For example, the workpiece 11 is a wafer (substrate) made of a semiconductor other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), sapphire, glass (quartz glass, borosilicate glass, etc.), resin, ceramics, metal, or the like. good too. Moreover, there are no restrictions on the type, number, shape, structure, size, arrangement, etc. of the device, and the device may not be formed on the workpiece 11 .

切削装置2によって被加工物11を加工する際には、SUS(ステンレス鋼)等の金属でなる環状のフレーム13によって被加工物11が支持される。フレーム13の中央部には、フレーム13を厚さ方向に貫通する円形の開口が設けられている。フレーム13の開口の直径は被加工物11の直径よりも大きく、被加工物11は、フレーム13の開口の内側に配置される。 When the workpiece 11 is processed by the cutting device 2, the workpiece 11 is supported by an annular frame 13 made of metal such as SUS (stainless steel). A circular opening penetrating through the frame 13 in the thickness direction is provided in the central portion of the frame 13 . The diameter of the opening of frame 13 is larger than the diameter of workpiece 11 , and workpiece 11 is placed inside the opening of frame 13 .

被加工物11及びフレーム13には、テープ15が貼付される。テープ15は、円形に形成されたフィルム状の基材と、基材上に設けられた粘着層(糊層)とを含む。例えば基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなる。また、粘着層は、エポキシ系、アクリル系、又はゴム系の接着剤等でなる。なお、粘着層は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂であってもよい。 A tape 15 is attached to the workpiece 11 and the frame 13 . The tape 15 includes a circular film-like base material and an adhesive layer (glue layer) provided on the base material. For example, the base material is made of resin such as polyolefin, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate. Also, the adhesive layer is made of an epoxy-based, acrylic-based, or rubber-based adhesive or the like. Note that the adhesive layer may be an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays.

テープ15の中央部が被加工物11の裏面(下面)側に貼付され、テープ15の外周部がフレーム13に貼付されると、被加工物11がテープ15を介してフレーム13によって支持される。そして、被加工物11はフレーム13によって支持された状態でカセット8に収容される。 When the central portion of the tape 15 is attached to the back (lower surface) side of the workpiece 11 and the outer peripheral portion of the tape 15 is attached to the frame 13, the workpiece 11 is supported by the frame 13 via the tape 15. . The workpiece 11 is accommodated in the cassette 8 while being supported by the frame 13 .

開口4aの後方には、被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)10が設けられている。搬送ユニット10は、Y軸方向に沿って移動可能に構成されており、被加工物11をカセット8から搬出するとともに被加工物11をカセット8に搬入する。また、搬送ユニット10の開口4a側(カセット8側)の端部には、フレーム13を把持する把持部10aが設けられている。 A transport unit (transport mechanism) 10 for transporting the workpiece 11 is provided behind the opening 4a. The transport unit 10 is configured to be movable along the Y-axis direction, and unloads the workpiece 11 from the cassette 8 and loads the workpiece 11 into the cassette 8 . A gripping portion 10a for gripping the frame 13 is provided at the end of the transport unit 10 on the side of the opening 4a (the side of the cassette 8).

開口4aと搬送ユニット10との間には、カセット8から搬出された被加工物11、又は、カセット8に搬入される被加工物11が仮置きされる仮置き領域12が設けられている。仮置き領域12には、Y軸方向に沿って互いに概ね平行に配置された一対のガイドレール14が設けられている。一対のガイドレール14は、X軸方向に沿って互いに接近及び離隔するように移動し、フレーム13を挟み込んで被加工物11の位置合わせを行う。 A temporary placement area 12 is provided between the opening 4 a and the transport unit 10 to temporarily place the workpiece 11 unloaded from the cassette 8 or the workpiece 11 to be loaded into the cassette 8 . A pair of guide rails 14 arranged substantially parallel to each other along the Y-axis direction is provided in the temporary placement area 12 . The pair of guide rails 14 move toward and away from each other along the X-axis direction, sandwiching the frame 13 and aligning the workpiece 11 .

仮置き領域12の近傍には、被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)16が設けられている。例えば搬送ユニット16は、フレーム13の上面側を吸引保持する複数の吸引パッドを備える。 A transport unit (transport mechanism) 16 that transports the workpiece 11 is provided near the temporary placement area 12 . For example, the transport unit 16 includes a plurality of suction pads that suction-hold the top surface of the frame 13 .

開口4aの側方には、長手方向がX軸方向に沿うように形成された矩形状の開口4bが設けられている。開口4bの内部には、平板状の移動テーブル18aを備える移動ユニット(移動機構)18が設けられている。移動ユニット18は、例えばボールねじ式の移動機構であり、移動テーブル18aをX軸方向に沿って移動させる。また、移動テーブル18aの両側には、X軸方向に沿って伸縮する蛇腹状の防塵防滴カバー20が移動ユニット18の構成要素を覆うように設けられている。 On the side of the opening 4a, there is provided a rectangular opening 4b whose longitudinal direction is along the X-axis direction. A moving unit (moving mechanism) 18 having a plate-like moving table 18a is provided inside the opening 4b. The moving unit 18 is, for example, a ball screw type moving mechanism, and moves the moving table 18a along the X-axis direction. On both sides of the moving table 18a, bellows-shaped dust and splash proof covers 20 that expand and contract along the X-axis direction are provided so as to cover the components of the moving unit 18. As shown in FIG.

移動テーブル18a上には、被加工物11を保持するチャックテーブル(保持テーブル)22が設けられている。チャックテーブル22の上面は、水平方向(XY平面方向)と概ね平行な平坦面であり、被加工物11を保持する保持面22aを構成している。保持面22aは、チャックテーブル22の内部に設けられた流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。また、チャックテーブル22の周囲には、フレーム13を把持して固定する複数のクランプ24が設けられている。 A chuck table (holding table) 22 for holding the workpiece 11 is provided on the moving table 18a. The upper surface of the chuck table 22 is a flat surface substantially parallel to the horizontal direction (XY plane direction), and constitutes a holding surface 22a that holds the workpiece 11 . The holding surface 22a is connected to a suction source (not shown) such as an ejector through a channel (not shown) provided inside the chuck table 22, a valve (not shown), and the like. A plurality of clamps 24 for holding and fixing the frame 13 are provided around the chuck table 22 .

移動ユニット18は、チャックテーブル22を移動テーブル18aとともにX軸方向に沿って移動させる。そして、チャックテーブル22は移動ユニット18によって、被加工物11の搬送が行われる搬送領域Aと、被加工物11の加工が行われる加工領域Bとに位置付けられる。また、チャックテーブル22にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、この回転駆動源はチャックテーブル22をZ軸方向に概ね平行な回転軸の周りで回転させる。 The moving unit 18 moves the chuck table 22 along the X-axis direction together with the moving table 18a. The chuck table 22 is positioned by the moving unit 18 in a transfer area A where the workpiece 11 is transferred and a machining area B where the workpiece 11 is machined. A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the chuck table 22, and this rotary drive source rotates the chuck table 22 around a rotary shaft substantially parallel to the Z-axis direction.

加工領域Bには、被加工物11に切削加工を施す切削ユニット26が設けられている。切削ユニット26には、環状の切削ブレード28が装着される。切削ユニット26は、切削ブレード28を回転させて被加工物11に切り込ませることにより、被加工物11を切削する。 The machining area B is provided with a cutting unit 26 for cutting the workpiece 11 . An annular cutting blade 28 is attached to the cutting unit 26 . The cutting unit 26 cuts the workpiece 11 by rotating the cutting blade 28 to cut into the workpiece 11 .

切削ユニット26には、切削ユニット26をY軸方向及びZ軸方向に沿って移動させる移動ユニット(移動機構、不図示)が接続されている。例えば移動ユニットは、Y軸方向に沿って配置されたY軸ボールねじとZ軸方向に沿って配置されたZ軸ボールねじとを備えるボールねじ式の移動機構である。この移動ユニットによって、切削ユニット26に装着された切削ブレード28のY軸方向及びZ軸方向における位置が調節される。 A moving unit (moving mechanism, not shown) that moves the cutting unit 26 along the Y-axis direction and the Z-axis direction is connected to the cutting unit 26 . For example, the movement unit is a ball-screw movement mechanism including a Y-axis ball screw arranged along the Y-axis direction and a Z-axis ball screw arranged along the Z-axis direction. This movement unit adjusts the position of the cutting blade 28 attached to the cutting unit 26 in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

チャックテーブル22の移動経路(搬送領域Aと加工領域Bとの間)と重なる位置には、チャックテーブル22によって保持された被加工物11等を撮像する撮像ユニット30が設けられている。例えば撮像ユニット30は、可視光を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える可視光カメラや、赤外線を受光して電気信号に変換する撮像素子を備える赤外線カメラを備える。撮像ユニット30によって取得された画像は、被加工物11と切削ユニット26との位置合わせ等に用いられる。 An imaging unit 30 that captures an image of the workpiece 11 held by the chuck table 22 is provided at a position that overlaps with the movement path of the chuck table 22 (between the transport area A and the processing area B). For example, the imaging unit 30 includes a visible light camera having an imaging element that receives visible light and converts it into an electric signal, or an infrared camera that has an imaging element that receives infrared light and converts it into an electric signal. The image acquired by the imaging unit 30 is used for alignment between the workpiece 11 and the cutting unit 26, and the like.

チャックテーブル22の後方には、被加工物11を洗浄する洗浄ユニット(洗浄機構)32が設けられている。例えば洗浄ユニット32は、被加工物11を保持して回転するスピンナテーブルと、スピンナテーブルによって保持された被加工物11に向かって洗浄用の液体(洗浄液)を供給する洗浄ノズルとを備える。 A cleaning unit (cleaning mechanism) 32 for cleaning the workpiece 11 is provided behind the chuck table 22 . For example, the cleaning unit 32 includes a spinner table that holds and rotates the workpiece 11, and a cleaning nozzle that supplies cleaning liquid (cleaning liquid) toward the workpiece 11 held by the spinner table.

洗浄ユニット32の上方には、チャックテーブル22と洗浄ユニット32との間で被加工物11を搬送する搬送ユニット(搬送機構)34が設けられている。例えば搬送ユニット34は、フレーム13の上面側を吸引保持する複数の吸引パッドを備える。 A transport unit (transport mechanism) 34 that transports the workpiece 11 between the chuck table 22 and the cleaning unit 32 is provided above the cleaning unit 32 . For example, the transport unit 34 includes a plurality of suction pads that suction-hold the upper surface of the frame 13 .

加工領域Bの後方には支持台36が設けられており、支持台36上には表示ユニット(表示部、表示装置)38が搭載されている。さらに、基台4の前端部には、切削装置2に各種の情報を入力するための入力ユニット(入力部、入力装置)40が設けられている。 A support base 36 is provided behind the processing area B, and a display unit (display section, display device) 38 is mounted on the support base 36 . Further, an input unit (input unit, input device) 40 for inputting various information to the cutting device 2 is provided at the front end of the base 4 .

表示ユニット38としては、各種のディスプレイが用いられる。また、入力ユニット40としては、複数の操作キーを備える操作パネル、マウス、キーボード等が用いられる。なお、切削装置2は、ユーザーインターフェースとして機能するタッチパネルを備えていてもよい。この場合には、タッチパネルが表示ユニット38及び入力ユニット40として機能する。そして、オペレーターは、タッチパネルのタッチ操作によって切削装置2に情報を入力できる。 Various displays are used as the display unit 38 . Also, as the input unit 40, an operation panel having a plurality of operation keys, a mouse, a keyboard, or the like is used. Note that the cutting device 2 may include a touch panel that functions as a user interface. In this case, the touch panel functions as the display unit 38 and the input unit 40 . The operator can input information to the cutting device 2 by touching the touch panel.

切削装置2を構成する各構成要素(カセット支持台6、搬送ユニット10、ガイドレール14、搬送ユニット16、移動ユニット18、チャックテーブル22、クランプ24、切削ユニット26、撮像ユニット30、洗浄ユニット32、搬送ユニット34、表示ユニット38、入力ユニット40等)はそれぞれ、制御ユニット(制御部、制御装置)42に接続されている。制御ユニット42は、切削装置2の各構成要素の動作を制御する制御信号を生成することにより、切削装置2の稼働を制御する。 Components constituting the cutting device 2 (cassette support 6, transfer unit 10, guide rail 14, transfer unit 16, transfer unit 18, chuck table 22, clamp 24, cutting unit 26, imaging unit 30, cleaning unit 32, The transport unit 34 , display unit 38 , input unit 40 , etc.) are each connected to a control unit (control section, control device) 42 . The control unit 42 controls the operation of the cutting device 2 by generating control signals that control the operation of each component of the cutting device 2 .

例えば制御ユニット42は、コンピュータによって構成される。具体的には、制御ユニット42は、切削装置2の稼働に必要な演算を行う演算部と、演算部における演算に用いられる各種の情報(データ、プログラム等)を記憶する記憶部とを備える。演算部は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサを含んで構成される。また、記憶部は、主記憶装置、補助記憶装置等として機能するROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等のメモリを含んで構成される。 For example, the control unit 42 is configured by a computer. Specifically, the control unit 42 includes a calculation section that performs calculations required for operation of the cutting device 2 and a storage section that stores various information (data, programs, etc.) used for calculations in the calculation section. The calculation unit includes a processor such as a CPU (Central Processing Unit). The storage unit includes memories such as a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory) functioning as a main storage device and an auxiliary storage device.

上記の切削装置2によって、被加工物11が加工される。具体的には、まず、搬送ユニット10がカセット8に向かって移動し、カセット8に収容されているフレーム13の端部を把持部10aで把持する。その後、搬送ユニット10はY軸方向に沿ってカセット8から離れるように移動する。これにより、被加工物11がカセット8から引き出され、一対のガイドレール14上に配置される。 A workpiece 11 is machined by the cutting device 2 described above. Specifically, first, the transport unit 10 moves toward the cassette 8, and grips the end portion of the frame 13 accommodated in the cassette 8 with the grip portion 10a. After that, the transport unit 10 moves away from the cassette 8 along the Y-axis direction. Thereby, the workpiece 11 is pulled out from the cassette 8 and placed on the pair of guide rails 14 .

一対のガイドレール14は、フレーム13を下側から支持した状態で互いに接近し、フレーム13を挟み込む。これにより、被加工物11の位置合わせが行われる。その後、被加工物11は搬送ユニット16によって吸引保持され、搬送領域Aに位置付けられたチャックテーブル22に搬送される。 The pair of guide rails 14 approach each other while supporting the frame 13 from below to sandwich the frame 13 therebetween. As a result, the workpiece 11 is aligned. After that, the workpiece 11 is sucked and held by the transport unit 16 and transported to the chuck table 22 positioned in the transport area A. As shown in FIG.

被加工物11は、チャックテーブル22の保持面22a上にテープ15を介して配置される。また、フレーム13が複数のクランプ24によって固定される。この状態で、保持面22aに吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、被加工物11がテープ15を介してチャックテーブル22によって吸引保持される。そして、被加工物11を保持したチャックテーブル22は、移動ユニット18によって加工領域Bに位置付けられる。 The workpiece 11 is placed on the holding surface 22a of the chuck table 22 with the tape 15 interposed therebetween. Also, the frame 13 is fixed by a plurality of clamps 24 . In this state, when the suction force (negative pressure) of the suction source is applied to the holding surface 22a, the workpiece 11 is suction-held by the chuck table 22 via the tape 15. As shown in FIG. Then, the chuck table 22 holding the workpiece 11 is positioned in the machining area B by the moving unit 18 .

次に、切削ユニット26に装着された切削ブレード28によって、被加工物11が切削される。例えば、切削ブレード28の下端を被加工物11の上面よりも下方に位置付けた状態で、切削ブレード28を回転させつつチャックテーブル22をX軸方向に沿って移動させる(加工送り)。これにより、チャックテーブル22と切削ユニット26とがX軸方向に沿って相対的に移動し、回転する切削ブレード28が被加工物11に切り込む。その結果、被加工物11が線状に切削される。 Next, the workpiece 11 is cut by the cutting blade 28 attached to the cutting unit 26 . For example, with the lower end of the cutting blade 28 positioned below the upper surface of the workpiece 11, the chuck table 22 is moved along the X-axis direction while rotating the cutting blade 28 (processing feed). As a result, the chuck table 22 and the cutting unit 26 move relative to each other along the X-axis direction, and the rotating cutting blade 28 cuts into the workpiece 11 . As a result, the workpiece 11 is linearly cut.

被加工物11の加工が完了すると、被加工物11は搬送ユニット34によってチャックテーブル22から洗浄ユニット32に搬送され、洗浄ユニット32によって洗浄される。そして、洗浄後の被加工物11は搬送ユニット16によって一対のガイドレール14上に搬送された後、搬送ユニット10の把持部10aに把持されてカセット8に収容される。 When the processing of the workpiece 11 is completed, the workpiece 11 is transported from the chuck table 22 to the cleaning unit 32 by the transport unit 34 and is cleaned by the cleaning unit 32 . After the cleaned workpiece 11 is conveyed onto the pair of guide rails 14 by the conveying unit 16 , it is held by the grasping portion 10 a of the conveying unit 10 and accommodated in the cassette 8 .

図2(A)は、切削ユニット26を示す斜視図である。切削ユニット26は、中空の円柱状に形成されたハウジング50を備える。ハウジング50には、Y軸方向に沿って配置された円柱状のスピンドル52が収容されている。スピンドル52の先端部(一端側)は、ハウジング50から露出している。また、スピンドル52の基端部(他端側)には、スピンドル52を回転させるモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。 FIG. 2A is a perspective view showing the cutting unit 26. FIG. The cutting unit 26 includes a hollow cylindrical housing 50 . The housing 50 accommodates a cylindrical spindle 52 arranged along the Y-axis direction. A tip portion (one end side) of the spindle 52 is exposed from the housing 50 . A rotation drive source (not shown) such as a motor for rotating the spindle 52 is connected to the base end (the other end) of the spindle 52 .

スピンドル52の先端部には、切削ブレード28を支持するマウント54が固定されている。マウント54は、円盤状のフランジ部56と、フランジ部56の表面56aの中央部から突出する円柱状の支持軸(ボス部)58とを備える。フランジ部56の外周部の表面56a側には、表面56aから突出する環状の凸部56bが、フランジ部56の外周縁に沿って設けられている。凸部56bの先端面は、表面56aと概ね平行に形成されている。また、支持軸58の外周面には、ねじ部58aが形成されている。 A mount 54 that supports the cutting blade 28 is fixed to the tip of the spindle 52 . The mount 54 includes a disk-shaped flange portion 56 and a cylindrical support shaft (boss portion) 58 protruding from the central portion of the surface 56 a of the flange portion 56 . An annular convex portion 56 b protruding from the surface 56 a is provided along the outer peripheral edge of the flange portion 56 on the surface 56 a side of the outer peripheral portion of the flange portion 56 . A tip end surface of the convex portion 56b is formed substantially parallel to the surface 56a. A threaded portion 58 a is formed on the outer peripheral surface of the support shaft 58 .

マウント54には、被加工物11を切削する環状の切削ブレード28が装着される。切削ブレード28は、アルミニウム合金等の金属でなる環状の基台28aと、基台28aの外縁部に沿って形成された環状の切り刃28bとを備える。また、切削ブレード28の中央部には、切削ブレード28を厚さ方向に貫通する円柱状の開口28cが設けられている。 An annular cutting blade 28 for cutting the workpiece 11 is attached to the mount 54 . The cutting blade 28 includes an annular base 28a made of metal such as an aluminum alloy, and an annular cutting edge 28b formed along the outer edge of the base 28a. A cylindrical opening 28c is provided in the central portion of the cutting blade 28 so as to pass through the cutting blade 28 in the thickness direction.

切り刃28bは、基台28aの外周縁から基台28aの半径方向外側に向かって突出するように形成される。例えば切り刃28bは、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(cBN:cubic Boron Nitride)等でなる砥粒を、ニッケルめっき層等の結合材で固定することにより形成される。なお、砥粒の材質、砥粒の粒径、結合材の材質等に制限はなく、被加工物11の材質等に応じて適宜選択される。 The cutting edge 28b is formed to protrude radially outward from the base 28a from the outer peripheral edge of the base 28a. For example, the cutting edge 28b is formed by fixing abrasive grains made of diamond, cubic boron nitride (cBN) or the like with a binder such as a nickel plating layer. The material of the abrasive grains, the grain size of the abrasive grains, the material of the binder, etc. are not limited, and are appropriately selected according to the material of the workpiece 11 and the like.

支持軸58のねじ部58aには、切削ブレード28を固定するための環状の固定ナット60が締結される。固定ナット60の中央部には、固定ナット60を厚さ方向に貫通する円柱状の開口60aが設けられている。また、開口60aの内部で露出する固定ナット60の内周面には、支持軸58のねじ部58aに対応するねじ溝が形成されている。 An annular fixing nut 60 for fixing the cutting blade 28 is fastened to the threaded portion 58 a of the support shaft 58 . A central portion of the fixing nut 60 is provided with a cylindrical opening 60a penetrating through the fixing nut 60 in the thickness direction. A thread groove corresponding to the threaded portion 58a of the support shaft 58 is formed on the inner peripheral surface of the fixing nut 60 exposed inside the opening 60a.

切削ブレード28は、開口28cに支持軸58が挿入されるように、マウント54に装着される。この状態で、固定ナット60を支持軸58のねじ部58aに螺合して締め付けると、切削ブレード28がフランジ部56の凸部56bの先端面と固定ナット60とによって挟持され、スピンドル52の先端部(マウント54)に固定される。そして、切削ブレード28は、回転駆動源からスピンドル52及びマウント54を介して伝達される動力により、Y軸方向と概ね平行な回転軸の周りを回転する。 The cutting blade 28 is attached to the mount 54 so that the support shaft 58 is inserted into the opening 28c. In this state, when the fixing nut 60 is screwed onto the threaded portion 58a of the support shaft 58 and tightened, the cutting blade 28 is held between the tip surface of the projection 56b of the flange portion 56 and the fixing nut 60, and the tip of the spindle 52 is held. portion (mount 54). The cutting blade 28 rotates about a rotation axis substantially parallel to the Y-axis direction by power transmitted from the rotation drive source via the spindle 52 and the mount 54 .

図2(B)は、ブレードカバー62が装着された切削ユニット26を示す斜視図である。切削ユニット26に装着された切削ブレード28は、ハウジング50に固定された箱型のブレードカバー62によって覆われる。ブレードカバー62は、加工液が供給される一対の接続部64と、接続部64に接続され切削ブレード28の下端部を挟むように配置される一対の加工液供給ノズル66とを備える。一対の加工液供給ノズル66にはそれぞれ、切削ブレード28に向かって開口する供給口(不図示)が形成されている。 FIG. 2B is a perspective view showing the cutting unit 26 with the blade cover 62 attached. The cutting blade 28 attached to the cutting unit 26 is covered by a box-shaped blade cover 62 fixed to the housing 50 . The blade cover 62 includes a pair of connection portions 64 to which machining fluid is supplied, and a pair of machining fluid supply nozzles 66 connected to the connection portions 64 and arranged to sandwich the lower end portion of the cutting blade 28 . A supply port (not shown) opening toward the cutting blade 28 is formed in each of the pair of machining fluid supply nozzles 66 .

切削ユニット26には、加工液供給路68が接続されている。加工液供給路68の一端側は加工液を供給する加工液供給ユニット70に接続され、加工液供給路68の他端側は一対の接続部64に接続される。 A machining fluid supply path 68 is connected to the cutting unit 26 . One end side of the machining liquid supply path 68 is connected to a machining liquid supply unit 70 that supplies the machining liquid, and the other end side of the machining liquid supply path 68 is connected to a pair of connection portions 64 .

被加工物11の切削中は、加工液供給ユニット70から加工液供給路68を介して接続部64に加工液が供給される。そして、接続部64から加工液供給ノズル66に加工液が流入し、加工液供給ノズル66の供給口から切削ブレード28の表面及び裏面に向かって加工液が供給される。加工液によって、被加工物11及び切削ブレード28が冷却されるとともに、切削加工によって生じた屑(加工屑)が洗い流される。 During cutting of the workpiece 11 , machining fluid is supplied from the machining fluid supply unit 70 to the connection portion 64 through the machining fluid supply path 68 . The machining fluid flows into the machining fluid supply nozzle 66 from the connecting portion 64 , and the machining fluid is supplied from the supply port of the machining fluid supply nozzle 66 toward the front surface and the back surface of the cutting blade 28 . The machining fluid cools the workpiece 11 and the cutting blade 28 and washes away scraps (machining scraps) generated by the cutting process.

図3は、加工液供給ユニット70を示すブロック図である。加工液供給ユニット70は、加工液を生成して加工液供給路68に供給する。具体的には、加工液供給ユニット70は、加工液として使用される液体を生成する液体生成ユニット72を備える。 FIG. 3 is a block diagram showing the working fluid supply unit 70. As shown in FIG. The machining fluid supply unit 70 generates machining fluid and supplies it to the machining fluid supply path 68 . Specifically, the working liquid supply unit 70 includes a liquid generation unit 72 that generates the liquid used as the working liquid.

液体生成ユニット72は、純水を供給する純水供給源(純水供給ユニット)74と、二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給源(二酸化炭素供給ユニット)76とを含む。また、液体生成ユニット72は、純水供給源74から供給された純水と二酸化炭素供給源76から供給された二酸化炭素とを混合する混合部78を含む。純水供給源74は、純水供給路80を介して混合部78に接続されており、二酸化炭素供給源76は二酸化炭素供給路82を介して混合部78に接続されている。 The liquid generation unit 72 includes a pure water supply source (pure water supply unit) 74 that supplies pure water and a carbon dioxide supply source (carbon dioxide supply unit) 76 that supplies carbon dioxide. The liquid generation unit 72 also includes a mixing section 78 that mixes the pure water supplied from the pure water supply source 74 and the carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply source 76 . A pure water supply source 74 is connected to a mixing section 78 via a pure water supply line 80 , and a carbon dioxide supply source 76 is connected to the mixing section 78 via a carbon dioxide supply line 82 .

例えば純水供給源74は、純水が貯留されたタンクと、タンクに貯留された純水を純水供給路80に送り出すポンプとを備え、純水供給路80に純水を供給する。また、例えば二酸化炭素供給源76は、二酸化炭素が充填されたボンベを備え、二酸化炭素供給路82に二酸化炭素を供給する。 For example, the pure water supply source 74 includes a tank storing pure water and a pump for sending the pure water stored in the tank to the pure water supply line 80 , and supplies the pure water to the pure water supply line 80 . Also, for example, the carbon dioxide supply source 76 includes a cylinder filled with carbon dioxide, and supplies the carbon dioxide to the carbon dioxide supply path 82 .

二酸化炭素供給源76と混合部78との間には、二酸化炭素供給源76から混合部78に供給される二酸化炭素の量を調節する二酸化炭素供給バルブ84が設けられている。二酸化炭素供給バルブ84は、二酸化炭素供給路82に接続されており、二酸化炭素供給バルブ84の開閉時間又は開度によって混合部78に供給される二酸化炭素の量が制御される。 A carbon dioxide supply valve 84 is provided between the carbon dioxide supply source 76 and the mixing section 78 to adjust the amount of carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply source 76 to the mixing section 78 . The carbon dioxide supply valve 84 is connected to the carbon dioxide supply path 82 , and the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 is controlled by the opening/closing time or degree of opening of the carbon dioxide supply valve 84 .

純水供給路80に供給された純水と二酸化炭素供給路82に供給された二酸化炭素とは、混合部78において合流して混合される。これにより、二酸化炭素が混入した純水(炭酸水)が生成される。そして、混合部78において生成された液体(混合液)は、混合液供給路86に供給される。 The pure water supplied to the pure water supply channel 80 and the carbon dioxide supplied to the carbon dioxide supply channel 82 are joined and mixed in the mixing section 78 . As a result, pure water (carbonated water) mixed with carbon dioxide is produced. The liquid (mixed liquid) generated in the mixing section 78 is supplied to the mixed liquid supply path 86 .

純水供給路80、二酸化炭素供給路82、混合液供給路86はそれぞれ、チューブ、パイプ等の配管によって構成される流体の流路である。そして、例えば混合部78は、純水供給路80、二酸化炭素供給路82、混合液供給路86に接続された継手(合流継手)によって構成される。また、純水供給路80、二酸化炭素供給路82、混合液供給路86を溶接等によって互いに連結させることにより、混合部78を形成してもよい。 The pure water supply path 80, the carbon dioxide supply path 82, and the mixed liquid supply path 86 are fluid flow paths configured by pipes such as tubes and pipes. For example, the mixing section 78 is configured by joints (joint joints) connected to the pure water supply channel 80 , the carbon dioxide supply channel 82 , and the liquid mixture supply channel 86 . Alternatively, the mixing section 78 may be formed by connecting the pure water supply path 80, the carbon dioxide supply path 82, and the liquid mixture supply path 86 to each other by welding or the like.

混合部78によって生成された混合液は、混合液供給路86を介して分岐路(第1分岐路)88に供給される。分岐路88は、混合液供給路86から供給された混合液を分岐させ、加工液供給路68と測定液供給路90とに供給する。 The mixed liquid produced by the mixing section 78 is supplied to the branched channel (first branched channel) 88 via the mixed liquid supply channel 86 . The branch channel 88 branches the mixed liquid supplied from the mixed liquid supply channel 86 and supplies it to the machining liquid supply channel 68 and the measurement liquid supply channel 90 .

加工液供給路68及び測定液供給路90は、チューブ、パイプ等の配管によって構成される流体の流路である。また、例えば分岐路88は、加工液供給路68、混合液供給路86、測定液供給路90に接続された継手(分岐継手)によって構成される。なお、加工液供給路68、混合液供給路86、測定液供給路90を溶接等によって互いに連結させることにより、分岐路88を形成してもよい。 The machining liquid supply path 68 and the measurement liquid supply path 90 are fluid flow paths configured by piping such as tubes and pipes. Further, for example, the branch channel 88 is configured by joints (branch joints) connected to the working liquid supply channel 68 , the mixed liquid supply channel 86 , and the measurement liquid supply channel 90 . The branch channel 88 may be formed by connecting the machining liquid supply channel 68, the mixed liquid supply channel 86, and the measurement liquid supply channel 90 to each other by welding or the like.

分岐路88から加工液供給路68に供給された液体(加工液)は、切削ユニット26の加工液供給ノズル66(図2(B)参照)に供給され、加工液として使用される。なお、加工液供給路68に供給される液体は、二酸化炭素が混入した純水(炭酸水)であり、炭酸水は純水と比較して比抵抗が小さい。そのため、加工液として炭酸水を用いると、切削ブレード28による被加工物11の加工中に静電気が生じにくくなる。これにより、被加工物11に形成されたデバイスの静電破壊が抑制される。 The liquid (working fluid) supplied from the branch channel 88 to the machining fluid supply channel 68 is supplied to the machining fluid supply nozzle 66 (see FIG. 2B) of the cutting unit 26 and used as the machining fluid. The liquid supplied to the machining fluid supply path 68 is pure water (carbonated water) mixed with carbon dioxide, and carbonated water has a lower specific resistance than pure water. Therefore, when carbonated water is used as the machining fluid, static electricity is less likely to occur during machining of the workpiece 11 by the cutting blade 28 . As a result, electrostatic breakdown of devices formed on the workpiece 11 is suppressed.

分岐路88から測定液供給路90に供給された液体(測定液)は、液体の比抵抗(電気抵抗率)又は導電率(電気伝導率)を測定する測定ユニット92に供給される。例えば測定ユニット92は、液体の比抵抗を測定する比抵抗測定器、液体の導電率を測定する導電率測定器等の測定器を備える。なお、測定器は、銅等の金属でなり測定対象となる液体に浸漬される測定針を含む。 The liquid (measurement liquid) supplied from the branch path 88 to the measurement liquid supply path 90 is supplied to a measurement unit 92 that measures the specific resistance (electrical resistivity) or electrical conductivity (electrical conductivity) of the liquid. For example, the measurement unit 92 includes a measuring device such as a resistivity measuring device for measuring the specific resistance of the liquid and a conductivity measuring device for measuring the conductivity of the liquid. The measuring device includes a measuring needle made of metal such as copper and immersed in the liquid to be measured.

測定液供給路90に供給された液体に測定ユニット92(測定器)の測定針を浸漬させることにより、液体の比抵抗又は導電率が測定される。なお、測定ユニット92は、測定液供給路90から供給された液体を一時的に貯留する貯留部(容器等)を備えていてもよい。この場合には、貯留部に貯留された液体に測定ユニット92の測定針が浸漬される。 By immersing the measuring needle of the measuring unit 92 (measuring device) in the liquid supplied to the measuring liquid supply path 90, the specific resistance or conductivity of the liquid is measured. Note that the measurement unit 92 may include a storage section (container or the like) that temporarily stores the liquid supplied from the measurement liquid supply path 90 . In this case, the measuring needle of the measuring unit 92 is immersed in the liquid stored in the storage section.

混合部78から分岐路88に供給される液体の総量は、加工液供給路68に供給される加工液の量と測定液供給路90に供給される測定液の量との和に相当する。そのため、測定液供給路90を流れる測定液の量を制御することにより、加工液供給路68に供給される加工液の量と測定液供給路90に供給される測定液の量との割合を調節することができる。例えば、測定液供給路90を流れる測定液の量は、分岐路88として用いられる継手の構造及び寸法、測定液供給路90の内径等によって調節できる。 The total amount of liquid supplied from the mixing section 78 to the branch channel 88 corresponds to the sum of the amount of machining liquid supplied to the machining liquid supply channel 68 and the amount of measurement liquid supplied to the measurement liquid supply channel 90 . Therefore, by controlling the amount of the measurement liquid flowing through the measurement liquid supply path 90, the ratio between the amount of the machining liquid supplied to the machining liquid supply path 68 and the amount of the measurement liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 can be adjusted. can be adjusted. For example, the amount of measurement liquid flowing through the measurement liquid supply path 90 can be adjusted by the structure and dimensions of the joint used as the branch path 88, the inner diameter of the measurement liquid supply path 90, and the like.

測定ユニット92によって測定された値(比抵抗の値、導電率の値等)は、制御ユニット42に出力される。そして、制御ユニット42は、測定値に応じて二酸化炭素供給バルブ84に制御信号を出力し、二酸化炭素供給バルブ84の開閉時間又は開度を制御する。これにより、混合部78に供給される二酸化炭素の量が調節され、混合部78から混合液供給路86に供給される混合液の比抵抗及び導電率が制御される。 The values (resistivity value, conductivity value, etc.) measured by the measurement unit 92 are output to the control unit 42 . Then, the control unit 42 outputs a control signal to the carbon dioxide supply valve 84 according to the measured value, and controls the opening/closing time or opening degree of the carbon dioxide supply valve 84 . Thereby, the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 is adjusted, and the specific resistance and conductivity of the mixed liquid supplied from the mixing section 78 to the mixed liquid supply path 86 are controlled.

例えば、測定ユニット92によって測定液の比抵抗が測定される場合には、制御ユニット42の記憶部(メモリ)に、混合液の比抵抗の許容範囲を定義する基準値(上限値及び下限値)が記憶される。そして、制御ユニット42は、測定ユニット92から入力された測定値と記憶部に記憶されている基準値とを比較することにより、混合液の比抵抗の値が許容範囲内であるか否かを判定する。 For example, when the measurement unit 92 measures the resistivity of the liquid to be measured, reference values (upper limit and lower limit) that define the allowable range of the resistivity of the mixed liquid are stored in the storage section (memory) of the control unit 42. is stored. Then, the control unit 42 compares the measured value input from the measuring unit 92 with the reference value stored in the storage unit to determine whether the specific resistance value of the mixed liquid is within the allowable range. judge.

測定値が許容範囲の上限値を超えている場合には、制御ユニット42は二酸化炭素供給バルブ84に制御信号を出力し、二酸化炭素供給バルブ84の開時間又は開度を増加させる。これにより、混合部78に供給される二酸化炭素の量が増加し、混合液の比抵抗が下がる。一方、測定値が許容範囲の下限値を下回っている場合には、制御ユニット42は二酸化炭素供給バルブ84に制御信号を出力し、二酸化炭素供給バルブ84の開時間又は開度を減少させる。これにより、混合部78に供給される二酸化炭素の量が減少し、混合液の比抵抗が上がる。 If the measured value exceeds the upper limit of the allowable range, the control unit 42 outputs a control signal to the carbon dioxide supply valve 84 to increase the opening time or degree of the carbon dioxide supply valve 84 . As a result, the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 increases, and the specific resistance of the liquid mixture decreases. On the other hand, if the measured value is below the lower limit of the allowable range, the control unit 42 outputs a control signal to the carbon dioxide supply valve 84 to decrease the opening time or degree of the carbon dioxide supply valve 84 . This reduces the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 and increases the specific resistance of the liquid mixture.

一方、測定ユニット92によって混合液の導電率が測定される場合には、制御ユニット42の記憶部(メモリ)に、混合液の導電率の許容範囲を定義する基準値(上限値及び下限値)が記憶される。そして、制御ユニット42は、測定ユニット92から入力された測定値と記憶部に記憶されている基準値とを比較することにより、混合液の導電率の値が許容範囲内であるか否かを判定する。 On the other hand, when the conductivity of the mixed liquid is measured by the measurement unit 92, reference values (upper limit and lower limit) that define the allowable range of the conductivity of the mixed liquid are stored in the storage section (memory) of the control unit 42. is stored. Then, the control unit 42 compares the measured value input from the measurement unit 92 with the reference value stored in the storage unit to determine whether the conductivity value of the mixed liquid is within the allowable range. judge.

測定値が許容範囲の上限値を超えている場合には、制御ユニット42は二酸化炭素供給バルブ84に制御信号を出力し、二酸化炭素供給バルブ84の開時間又は開度を減少させる。これにより、混合部78に供給される二酸化炭素の量が減少し、混合液の導電率が下がる。一方、測定値が許容範囲の下限値を下回っている場合には、制御ユニット42は二酸化炭素供給バルブ84に制御信号を出力し、二酸化炭素供給バルブ84の開時間又は開度を増加させる。これにより、混合部78に供給される二酸化炭素の量が増加し、混合液の導電率が上がる。 If the measured value exceeds the upper limit of the allowable range, the control unit 42 outputs a control signal to the carbon dioxide supply valve 84 to decrease the opening time or degree of the carbon dioxide supply valve 84 . As a result, the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 is reduced, and the conductivity of the liquid mixture is lowered. On the other hand, if the measured value is below the lower limit of the allowable range, the control unit 42 outputs a control signal to the carbon dioxide supply valve 84 to increase the opening time or degree of the carbon dioxide supply valve 84 . As a result, the amount of carbon dioxide supplied to the mixing section 78 increases, and the conductivity of the liquid mixture increases.

ここで、測定ユニット92によって比抵抗又は導電率が測定される液体(測定液)には、前述の通り測定ユニット92(測定器)の測定針が浸漬される。このとき測定液には、測定針を構成する銅等の金属が混入する。そのため、仮に測定ユニット92による測定の対象とされた測定液が加工液として使用されると、金属を含有する加工液が被加工物11に供給され、被加工物11が汚染されるおそれがある。 Here, the measurement needle of the measurement unit 92 (measuring device) is immersed in the liquid (measurement liquid) whose resistivity or conductivity is to be measured by the measurement unit 92, as described above. At this time, metal such as copper constituting the measuring needle is mixed in the measuring liquid. Therefore, if the measurement liquid to be measured by the measurement unit 92 is used as the working liquid, the working liquid containing metal may be supplied to the work piece 11 and the work piece 11 may be contaminated. .

そこで、本実施形態においては、測定ユニット92によって比抵抗又は導電率が測定された液体を、加工液として使用せずに廃棄する。具体的には、測定ユニット92には、チューブ、パイプ等の配管によって構成される廃棄路(廃液路)94が接続されている。そして、測定ユニット92によって比抵抗又は導電率が測定された液体は、廃棄路94に供給され、加工液供給ユニット70の外部に排出される。これにより、金属を含有する測定液が被加工物11に供給されず、被加工物11の汚染が回避される。 Therefore, in the present embodiment, the liquid whose specific resistance or conductivity has been measured by the measurement unit 92 is discarded without being used as the working liquid. Specifically, the measurement unit 92 is connected to a waste channel (waste liquid channel) 94 configured by piping such as a tube and a pipe. Then, the liquid whose specific resistance or conductivity is measured by the measuring unit 92 is supplied to the disposal path 94 and discharged to the outside of the machining liquid supply unit 70 . As a result, the metal-containing measurement liquid is not supplied to the workpiece 11, and contamination of the workpiece 11 is avoided.

なお、分岐路88から測定液供給路90に供給される液体の量は、分岐路88から加工液供給路68に供給される液体の量よりも少ないことが好ましい。これにより、廃棄される測定液の量を削減し、切削ユニット26の加工液供給ノズル66(図2(B)参照)に供給される加工液の量を増加させることができる。具体的には、測定液供給路90に供給される液体の量は、加工液供給路68に供給される液体の量の30%以下、好ましくは20%以下、より好ましくは10%以下に設定される。 The amount of liquid supplied from the branch channel 88 to the measuring liquid supply channel 90 is preferably smaller than the amount of liquid supplied from the branch channel 88 to the working liquid supply channel 68 . As a result, the amount of waste measurement fluid can be reduced, and the amount of machining fluid supplied to the machining fluid supply nozzle 66 (see FIG. 2B) of the cutting unit 26 can be increased. Specifically, the amount of liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 is set to 30% or less, preferably 20% or less, more preferably 10% or less of the amount of liquid supplied to the machining liquid supply path 68. be done.

例えば、加工液供給路68に供給される液体の流量が10L/min以上15L/min以下に設定される場合、測定液供給路90に供給される液体の流量は3L/min以下に設定できる。ただし、測定液供給路90に供給される液体の量は適宜変更できる。なお、測定液供給路90に供給される液体の量を、測定ユニット92による比抵抗又は導電率の測定に必要な最低限の量に設定することにより、加工液供給路68に供給される液体の量を最大化することができる。 For example, when the flow rate of the liquid supplied to the machining liquid supply path 68 is set to 10 L/min or more and 15 L/min or less, the flow rate of the liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 can be set to 3 L/min or less. However, the amount of liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 can be changed as appropriate. By setting the amount of the liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 to the minimum amount required for the measurement of the specific resistance or conductivity by the measurement unit 92, the liquid supplied to the machining liquid supply path 68 can maximize the amount of

以上の通り、本実施形態に係る切削装置2では、液体生成ユニット72から供給された液体が分岐され、加工液供給路68と測定液供給路90とに供給される。そして、測定液供給路90から測定ユニット92に供給され、比抵抗又は導電率が測定された液体は、廃棄路94に排出される。これにより、被加工物11に供給される加工液に金属が混入することを防止でき、被加工物11の汚染が回避される。 As described above, in the cutting device 2 according to the present embodiment, the liquid supplied from the liquid generation unit 72 is branched and supplied to the machining liquid supply path 68 and the measurement liquid supply path 90 . Then, the liquid supplied from the measurement liquid supply path 90 to the measurement unit 92 and whose specific resistance or conductivity has been measured is discharged to the disposal path 94 . As a result, it is possible to prevent metal from being mixed into the machining fluid supplied to the workpiece 11, and contamination of the workpiece 11 is avoided.

なお、加工液供給ユニット70の構成は、金属を含む測定液が被加工物11に供給されない限り、適宜変更できる。例えば加工液供給ユニット70は、測定ユニット92への液体の供給量を調節する測定液供給バルブを備えていてもよい。 The configuration of the machining liquid supply unit 70 can be changed as appropriate as long as the measurement liquid containing metal is not supplied to the workpiece 11 . For example, the machining liquid supply unit 70 may include a measurement liquid supply valve that adjusts the amount of liquid supplied to the measurement unit 92 .

図4は、測定液供給バルブ96を備える加工液供給ユニット70を示すブロック図である。図4に示すように、分岐路88と測定ユニット92との間には、分岐路88から測定ユニット92に供給される液体の量を調節する測定液供給バルブ96が設けられていてもよい。測定液供給バルブ96は、測定液供給路90に接続されており、測定液供給バルブ96の開閉時間又は開度によって測定ユニット92に供給される液体の量が制御される。なお、測定液供給バルブ96の開閉は、制御ユニット42から入力される制御信号によって制御される。 FIG. 4 is a block diagram showing the machining liquid supply unit 70 having the measurement liquid supply valve 96. As shown in FIG. As shown in FIG. 4 , a measurement liquid supply valve 96 may be provided between the branch path 88 and the measurement unit 92 to adjust the amount of liquid supplied from the branch path 88 to the measurement unit 92 . The measurement liquid supply valve 96 is connected to the measurement liquid supply path 90 , and the amount of liquid supplied to the measurement unit 92 is controlled by the opening/closing time or opening degree of the measurement liquid supply valve 96 . The opening and closing of the measurement liquid supply valve 96 is controlled by a control signal input from the control unit 42 .

測定液供給バルブ96を設けることにより、分岐路88から測定ユニット92に供給される液体の量を自由に制御することが可能となる。これにより、加工液供給路68に供給される加工液の量と測定液供給路90に供給される測定液の量との割合を容易且つ厳密に制御できる。また、測定液の比抵抗又は導電率の測定を実施しない期間中は、測定液供給バルブ96を閉じることにより、混合部78において生成された混合液を全て加工液供給路68に加工液として供給することができる。 By providing the measurement liquid supply valve 96 , it becomes possible to freely control the amount of liquid supplied from the branch passage 88 to the measurement unit 92 . As a result, the ratio between the amount of the machining liquid supplied to the machining liquid supply path 68 and the amount of the measurement liquid supplied to the measurement liquid supply path 90 can be easily and strictly controlled. Further, during a period in which the measurement of the specific resistance or conductivity of the measurement liquid is not performed, by closing the measurement liquid supply valve 96, all of the mixed liquid generated in the mixing section 78 is supplied to the machining liquid supply path 68 as the machining liquid. can do.

また、加工液供給ユニット70から供給された液体は、加工液以外の用途で使用することもできる。例えば、加工液供給ユニット70から供給された液体を洗浄液として使用することもできる。 Also, the liquid supplied from the working liquid supply unit 70 can be used for purposes other than the working liquid. For example, the liquid supplied from the machining liquid supply unit 70 can also be used as the cleaning liquid.

図5は、分岐路(第2分岐路)100が接続された加工液供給ユニット70を示すブロック図である。分岐路100は、流路98を介して分岐路88に接続されている。そして、分岐路100は、分岐路88から流路98を介して供給された液体を分岐させ、加工液供給路68と洗浄液供給路102とに供給する。なお、分岐路100の具体的な構成例は、分岐路88と同様である。また、流路98及び洗浄液供給路102は、チューブ、パイプ等の配管によって構成される。 FIG. 5 is a block diagram showing the working fluid supply unit 70 to which the branch path (second branch path) 100 is connected. Branch 100 is connected to branch 88 via flow path 98 . The branch path 100 branches the liquid supplied from the branch path 88 through the flow path 98 and supplies the liquid to the machining liquid supply path 68 and the cleaning liquid supply path 102 . A specific configuration example of the fork 100 is similar to that of the fork 88 . Also, the flow path 98 and the cleaning liquid supply path 102 are configured by piping such as tubes and pipes.

洗浄液供給路102は、切削装置2の洗浄ユニット32(図1参照)に接続されている。そして、分岐路100から洗浄液供給路102に供給された液体は、洗浄ユニット32が備える洗浄ノズルに供給される。これにより、洗浄能力が高い炭酸水を洗浄液として用いて被加工物11を洗浄できる。なお、洗浄液供給路102には、分岐路100から洗浄ユニット32に供給される液体(洗浄液)の量を調節する洗浄液供給バルブが設けられていてもよい。 The cleaning liquid supply path 102 is connected to the cleaning unit 32 (see FIG. 1) of the cutting device 2 . The liquid supplied from the branch channel 100 to the cleaning liquid supply channel 102 is supplied to the cleaning nozzle provided in the cleaning unit 32 . As a result, the workpiece 11 can be washed using carbonated water with high washing ability as the washing liquid. The cleaning liquid supply path 102 may be provided with a cleaning liquid supply valve for adjusting the amount of liquid (cleaning liquid) supplied from the branch path 100 to the cleaning unit 32 .

その他、本実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the present embodiment can be changed as appropriate without departing from the scope of the purpose of the present invention.

11 被加工物
13 フレーム
15 テープ
2 切削装置
4 基台
4a,4b 開口
6 カセット支持台
8 カセット
10 搬送ユニット(搬送機構)
10a 把持部
12 仮置き領域
14 ガイドレール
16 搬送ユニット(搬送機構)
18 移動ユニット(移動機構)
18a 移動テーブル
20 防塵防滴カバー
22 チャックテーブル(保持テーブル)
22a 保持面
24 クランプ
26 切削ユニット
28 切削ブレード
28a 基台
28b 切り刃
28c 開口
28c 開口
30 撮像ユニット
32 洗浄ユニット(洗浄機構)
34 搬送ユニット(搬送機構)
36 支持台
38 表示ユニット(表示部、表示装置)
40 入力ユニット(入力部、入力装置)
42 制御ユニット(制御部、制御装置)
50 ハウジング
52 スピンドル
54 マウント
56 フランジ部
56a 表面
56b 凸部
58 支持軸(ボス部)
58a ねじ部
60 固定ナット
60a 開口
62 ブレードカバー
64 接続部
66 加工液供給ノズル
68 加工液供給路
70 加工液供給ユニット
72 液体生成ユニット
74 純水供給源(純水供給ユニット)
76 二酸化炭素供給源(二酸化炭素供給ユニット)
78 混合部
80 純水供給路
82 二酸化炭素供給路
84 二酸化炭素供給バルブ
86 混合液供給路
88 分岐路(第1分岐路)
90 測定液供給路
92 測定ユニット
94 廃棄路(廃液路)
96 測定液供給バルブ
98 流路
100 分岐路(第2分岐路)
102 洗浄液供給路
REFERENCE SIGNS LIST 11 workpiece 13 frame 15 tape 2 cutting device 4 base 4a, 4b opening 6 cassette support 8 cassette 10 transport unit (transport mechanism)
10a Gripper 12 Temporary placement area 14 Guide rail 16 Transport unit (transport mechanism)
18 mobile unit (moving mechanism)
18a moving table 20 dust and drip proof cover 22 chuck table (holding table)
22a holding surface 24 clamp 26 cutting unit 28 cutting blade 28a base 28b cutting edge 28c opening 28c opening 30 imaging unit 32 cleaning unit (cleaning mechanism)
34 transport unit (transport mechanism)
36 support base 38 display unit (display section, display device)
40 input unit (input unit, input device)
42 control unit (control unit, control device)
50 housing 52 spindle 54 mount 56 flange 56a surface 56b projection 58 support shaft (boss)
58a screw portion 60 fixing nut 60a opening 62 blade cover 64 connecting portion 66 machining fluid supply nozzle 68 machining fluid supply path 70 machining fluid supply unit 72 liquid generation unit 74 pure water supply source (pure water supply unit)
76 carbon dioxide source (carbon dioxide supply unit)
78 mixing section 80 pure water supply path 82 carbon dioxide supply path 84 carbon dioxide supply valve 86 mixed liquid supply path 88 branched path (first branched path)
90 measurement liquid supply path 92 measurement unit 94 disposal path (waste liquid path)
96 measurement liquid supply valve 98 flow path 100 branch path (second branch path)
102 cleaning liquid supply path

Claims (5)

被加工物を切削する切削装置であって、
該被加工物を保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルによって保持された該被加工物を切削する切削ブレードが装着され、該被加工物に加工液を供給する加工液供給ノズルを備える切削ユニットと、
該加工液供給ノズルに該加工液を供給する加工液供給ユニットと、を備え、
該加工液供給ユニットは、
液体を生成する液体生成ユニットと、
該液体生成ユニットから供給された該液体を、該加工液供給ノズルに接続された加工液供給路と、測定液供給路とに供給する分岐路と、
該測定液供給路に供給された該液体の比抵抗又は導電率を測定する測定ユニットと、
該測定ユニットによって比抵抗又は導電率が測定された該液体が排出される廃棄路と、を備えることを特徴とする切削装置。
A cutting device for cutting a workpiece,
a chuck table that holds the workpiece;
a cutting unit equipped with a cutting blade for cutting the workpiece held by the chuck table and having a machining fluid supply nozzle for supplying machining fluid to the workpiece;
a machining liquid supply unit that supplies the machining liquid to the machining liquid supply nozzle;
The working fluid supply unit is
a liquid generation unit for generating a liquid;
a branch path for supplying the liquid supplied from the liquid generation unit to the working liquid supply path connected to the working liquid supply nozzle and the measurement liquid supply path;
a measurement unit for measuring the specific resistance or conductivity of the liquid supplied to the measurement liquid supply channel;
and a waste path through which the liquid whose specific resistance or conductivity is measured by the measuring unit is discharged.
該液体生成ユニットは、
純水を供給する純水供給源と、
二酸化炭素を供給する二酸化炭素供給源と、
該純水供給源から供給された純水と、該二酸化炭素供給源から供給された二酸化炭素とを混合する混合部と、
該二酸化炭素供給源から該混合部に供給される二酸化炭素の量を調節する二酸化炭素供給バルブと、を備えることを特徴とする請求項1に記載の切削装置。
The liquid generation unit comprises:
a pure water supply source for supplying pure water;
a carbon dioxide source that supplies carbon dioxide;
a mixing unit for mixing pure water supplied from the pure water supply source and carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply source;
2. The cutting device according to claim 1, further comprising a carbon dioxide supply valve for adjusting the amount of carbon dioxide supplied from the carbon dioxide supply source to the mixing section.
該測定液供給路に供給される該液体の量は、該加工液供給路に供給される該液体の量よりも少ないことを特徴とする請求項1又は2記載の切削装置。 3. The cutting apparatus according to claim 1, wherein the amount of the liquid supplied to the measuring liquid supply path is smaller than the amount of the liquid supplied to the machining liquid supply path. 該加工液供給ユニットは、該分岐路から該測定ユニットに供給される該液体の量を調節する測定液供給バルブを更に備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の切削装置。 4. The cutting apparatus according to claim 1, wherein said machining liquid supply unit further comprises a measurement liquid supply valve for adjusting the amount of said liquid supplied from said branch passage to said measurement unit. 該分岐路から供給された該液体を、該加工液供給路と洗浄液供給路とに供給する分岐路を更に備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の切削装置。 5. The cutting apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising a branch path for supplying the liquid supplied from the branch path to the machining liquid supply path and the cleaning liquid supply path.
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