JP2022111055A - 組成物、膜、積層体および表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下における二色比の低下が抑制される偏光膜を形成可能な組成物を提供する。【解決手段】式（１）の化合物と、極大吸収波長が５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下である式（２）の化合物と、液晶性化合物とを含む組成物である。ｎ、ｍは１または２である。Ｒ１及びＲ３は置換基を表す。Ｒ２及びＲ４はアルキルアミノ基、アルコキシ基またはアルキルチオ基を表す。Ｐは、単結合、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－またはＮ＝ＣＨ－を表す。Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は１，４－フェニレン基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表し、Ａｒ１及びＡｒ２の少なくとも１つはフッ素置換されている。Ａｒ４、Ａｒ５及びＡｒ６は１，４－フェニレン基、ナフタレンジイル基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。TIFF2022111055000055.tif35116【選択図】なし

Description

本発明は、組成物、膜、積層体および表示装置に関する。

画像表示パネル等のディスプレイに対して薄型化の継続的な要求が存在しており、その構成要素の１つである偏光板、偏光子等に対してもさらなる薄型化が要求されている。このような要求に対して、例えば、重合性液晶化合物と二色性を示す色素化合物とを含む偏光膜を備える薄型のホストゲスト型偏光子が提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。

特表２００７－５１０９４６号公報 特開２０１３－３７３５３号公報

複数の色素を含むホストゲスト型偏光子においては、偏光膜の光劣化等により５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における二色比が低下する場合があった。本発明の目的は、５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における二色比の低下が抑制される偏光膜を形成可能な組成物を提供することにある。

本発明は、下記［１］から［８］を提供する。
［１］ 下記式（１）で表される第１化合物と、極大吸収波長を５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に有し、下記式（２）で表される第２化合物と、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含む液晶性化合物とを含む組成物。

［式（１）および（２）中、ｎおよびｍは、それぞれ独立に１または２を表す。
Ｒ^１およびＲ^３は、それぞれ独立に置換基を表す。
Ｒ^２およびＲ^４は、それぞれ独立に、アルキルアミノ基、アルコキシ基およびアルキルチオ基からなる群から選択される１つの基を表し、これらの基が有する水素原子は、重合性基に置換されていてもよい。
Ｐは、単結合、または－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－および－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる少なくとも１つの基を表す。
Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を置換基として有していてもよい、１，４－フェニレン基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。
Ａｒ^１およびＡｒ^２の少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。ここでＡｒ^２がフッ素原子を有し、Ａｒ^２が２つ存在する場合、少なくとも一方のＡｒ^２がフッ素原子を有していればよい。
Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を置換基として有していてもよい、１，４－フェニレン基、ナフタレンジイル基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。
ｎが２である場合、２つのＡｒ^２およびＰは、それぞれ同一であってもよく、相異なっていてもよい。
ｍが２である場合、２つのＡｒ^５は同一であってもよく、相異なっていてもよい。］
［２］ 前記式（２）中、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６の少なくとも１つは、２価の含硫黄芳香族複素環基を表す［１］に記載の組成物。
［３］ 前記式（２）中、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６の少なくとも１つは、チエノ［２，３－ｄ］チアゾール－２，５－ジイル基を表す［１］または［２］に記載の組成物。
［４］ 前記式（１）中、Ｐが、単結合、または－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－および－Ｎ＝Ｎ－からなる群から選ばれる少なくとも１つの基を表す［１］から［３］のいずれかに記載の組成物。
［５］ 前記液晶性化合物が、スメクチック液晶性化合物である［１］から［４］のいずれかに記載の組成物。
［６］ ［１］から［５］のいずれかに記載の組成物を形成材料とする膜。
［７］ ［６］に記載の膜を備える積層体。
［８］ ［７］に記載の積層体を備える表示装置。

本発明によれば、５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における二色比の低下が抑制される偏光膜を形成可能な組成物を提供することができる。

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。また組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

＜組成物＞
本実施形態にかかる組成物は、下記式（１）で表される第１化合物と、極大吸収波長を５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に有し、下記式（２）で表される第２化合物と、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含む液晶性化合物と、を含む。組成物は、例えば偏光膜の形成材料として用いられる。すなわち組成物は、偏光膜形成用組成物であってよい。組成物を形成材料として得られる偏光膜を備える偏光板は、耐光性が向上し、５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における光劣化に伴う二色比の低下を抑制することができる。

第１化合物
組成物は、第１化合物の少なくとも１種を含む。第１化合物は式（１）で表される構造を有し、Ａｒ^１及びＡｒ^２の少なくとも一方に置換基としてフッ素原子を有している。これにより、第１化合物は優れた耐光性を示すと考えられる。第１化合物が優れた耐光性を示すことで、例えば、組成物から形成される偏光膜における光劣化による色素化合物の配向の乱れが抑制され、第２化合物に由来する５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における二色比の低下を抑制することができると考えられる。なお、第２化合物は、例えば溶液状態で、５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に極大吸収波長を有するが、偏光膜を形成することで吸収波長が長波長側にシフトすると考えられる。

式（１）中、Ｒ^１は置換基を表す。Ｒ^１で表される置換基は、例えば、少なくともアルキレン基を含む置換基であってよく、アルキレン基、アルケンジイル基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基及びジアルキルシランジイル基からなる群から選択される少なくとも１種から形成される２価基に水素原子または重合性基が付加された置換基であってもよい。Ｒ^１で表される置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アルコキシアルキレン基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルアルキレンオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシアルキレン基、トリアルキルシリルオキシアルキレン基、トリアルキルシリルオキシアルキレンオキシ基等が挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも１種であってよい。また、Ｒ^１で表される置換基は、ニトロ基、シアノ基、ペルフルオロアルキル基等のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子等であってもよく、これらからなる群から選択される少なくとも１種であってもよい。一態様においてＲ^１で表される置換基は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アルコキシアルキレン基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルアルキレンオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシアルキレン基、トリアルキルシリルオキシアルキレン基、トリアルキルシリルオキシアルキレンオキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン化アルキル基、およびハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも１種であってよい。

Ｒ^１で表される置換基に含まれるアルキル基は直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Ｒ^１で表される置換基に含まれるアルキル基の炭素数は、例えば、１から１２であってよく、好ましくは１から１０、より好ましくは１から８である。Ｒ^１で表される置換基に含まれるアルキレン基の炭素数は、例えば、１から１２であってよく、好ましくは１から１０、より好ましくは１から８である。

Ｒ^１で表される置換基に含まれるアルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、ペンチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、ヘキシル基、１，１－ジメチル－２－メチルプロピル基、ヘプチル基、１－エチルペンチル基、オクチル基、１－エチルヘキシル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、３，７－ジメチルオクチル基等が挙げられる。Ｒ^１で表される置換基に含まれるアルキレン基の具体例としては、例えば、メチレン基、エタン－１，１－ジイル基、エタン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基等を挙げることができる。

Ｒ^１で表される置換基が有する水素原子は、その少なくとも１つが重合性基に置換されていてもよい。ここで重合性基としては、例えば、（メタ）アクリレート基（（メタ）アクリロイルオキシ基）、ビニルフェニル基、ビニル基、エポキシ基等を挙げることができる。重合性基は、ラジカル重合性基であることが好ましく、中でも、（メタ）アクリレート基が好ましい。Ｒ^１が重合性基を有する場合、その数は、例えば、１または２個であり、好ましくは１個である。

Ｒ^２は、アルキルアミノ基、アルコキシ基およびアルキルチオ基からなる群から選択される１つの基を表し、好ましくはアルキルアミノ基またはアルコキシ基である。アルキルアミノ基はモノアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基であってよく、好ましくはジアルキルアミノ基である。Ｒ^２は、より好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基、オキサゾリジニル基、メトキシ基またはエトキシ基である。Ｒ^２で表される基が有する水素原子の少なくとも１つは、重合性基に置換されていてもよい。Ｒ^２が重合性基を有する場合、その数は、例えば、１または２個であり、好ましくは１個である。

Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、または置換基を有していてもよい２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。２価の含硫黄芳香族複素環基としては、ベンゾチアゾールジイル基、チエノチアゾールジイル基およびチアゾールジイル基が挙げられ、好ましくはベンゾチアゾールジイル基である。Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３における置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であってよく、好ましくはフッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、メチル基またはメトキシ基であり、より好ましくはフッ素原子またはヒドロキシ基である。Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３における置換基数は、それぞれ独立に、例えば０、１または２であり、好ましくは０または１である。

Ａｒ^１およびＡｒ^２の少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。すなわち、Ａｒ^１およびＡｒ^２の少なくとも一方が置換基としてフッ素原子を有していてもよいし、Ａｒ^２が置換基としてフッ素原子を有し、Ａｒ^２が２つ存在する場合、少なくとも一方のＡｒ^２が置換基としてフッ素原子を有していればよい。Ａｒ^１およびＡｒ^２におけるフッ素原子の総数は、例えば、１から４であり、好ましくは１から３、または１もしくは２である。Ａｒ^１およびＡｒ^２におけるフッ素原子の置換位置は、例えば、アゾ基に対してメタ位であってよい。Ａｒ^１およびＡｒ^２の少なくとも一方は、フッ素原子に加えてヒドロキシ基を有していてもよい。フッ素原子とヒドロキシ基はＡｒ^１およびＡｒ^２の一方に置換していてもよく、Ａｒ^１およびＡｒ^２のそれぞれに置換していてもよい。フッ素原子とヒドロキシ基は、同程度の大きさおよび電気陰性度を示すことから、第１化合物の耐光性を同様に向上させることができると考えられる。

Ｐは、単結合、または－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－および－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる少なくとも１つの基を表す。Ｐは好ましくは、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－Ｎ＝Ｎ－であり、より好ましくは、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、または－Ｎ＝Ｎ－である。

ｎは１または２を表す。ｎが２の場合、２つのＡｒ^２およびＰは、それぞれ同一であってもよく、相異なっていてもよい。すなわち、２つのＡｒ^２は、それぞれ同一であってもよく、相異なっていてもよく、また２つのＰは、それぞれ同一であってもよく、相異なっていてもよい。

第１化合物は、極大吸収波長（λｍａｘ）を、例えば、後述する第２化合物の極大吸収波長とは異なる波長範囲に有していてよい。第１化合物の極大吸収波長は、例えば３５０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であってよく、好ましくは３８０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下であってよい。極大吸収波長は、第１化合物のクロロホルム溶液について、室温（例えば、２５℃）で測定される。第１化合物の極大吸収波長は、例えば、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３の骨格構造、Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３における置換基、ｎ、Ｒ^２等を適宜選択することで所望の波長に調整することができる。

第１化合物の具体例としては、以下の式（１－１）から式（１－７０）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の具体例中、Ｅｔはエチル基を、ｎ－Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。

第１化合物は、二色比維持の観点から、式（１－１）から（１－５１）および（１－６０）から（１－７０）のいずれかで表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、式（１－１）から（１－４０）および式（１－６４）から（１－７０）のいずれかで表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種がより好ましい。

第２化合物
組成物は、第２化合物の少なくとも１種を含む。第２化合物は式（２）で表される構造を有し、極大吸収波長を５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に有する。

式（２）中、Ｒ^３は置換基を表す。Ｒ^３で表される置換基の詳細は、式（１）におけるＲ^１で表される置換基と同様である。Ｒ^４は、アルキルアミノ基、アルコキシ基およびアルキルチオ基からなる群から選択される１つの基を表し、好ましくはアルキルアミノ基であり、例えばジアルキルアミノ基である。Ｒ^４は、より好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基、またはオキサゾリジニル基である。Ｒ^４で表される基が有する水素原子の少なくとも１つは、重合性基に置換されていてもよい。Ｒ^４が重合性基を有する場合、その数は、例えば、１または２個であり、好ましくは１個である。

Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６はそれぞれ独立に、置換基をして有していてもよい１，４－フェニレン基、置換基をして有していてもよいナフタレンジイル基または置換基をして有していてもよい２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。２価の含硫黄芳香族複素環基としては、例えば、チアゾールジイル基、ベンゾチアゾールジイル基、チエノチアゾールジイル基等が挙げられる。Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６は、好ましくは少なくとも１つが２価の含硫黄芳香族複素環基を表し、より好ましくは少なくとも１つがチエノチアゾールジイル基を表す。さらに好ましくはＡｒ^６がチエノチアゾールジイル基を表す。

Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６におけるナフタレンジイル基は、例えばナフタレン－１，４－ジイル基であってよい。また、チアゾールジイル基は、チアゾール－２，４－ジイル基またはチアゾール－２，５－ジイル基であってよく、ベンゾチアゾールジイル基は、ベンゾチアゾール－２，５－ジイル基またはベンゾチアゾール－２，６－ジイル基であってよく、チエノチアゾールジイル基は、チエノ［２，３－ｄ］チアゾール－２，５－ジイル基であってよい。

Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６における置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であってよく、好ましくはフッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、メチル基またはメトキシ基であり、より好ましくはフッ素原子またはヒドロキシ基である。Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６における置換基数は、それぞれ独立に、例えば０、１または２であり、好ましくは０または１である。

ｍは１または２を表す。ｍが２である場合、２つのＡｒ^５は同一であってもよく、相異なっていてもよい。

第２化合物は、極大吸収波長（λｍａｘ）を、５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に有するが、好ましくは５６０ｎｍ以上６４０ｎｍ以下、より好ましくは５７０ｎｍ以上６３０ｎｍ以下の波長範囲に有していてよい。極大吸収波長は、第２化合物のクロロホルム溶液について、室温（例えば、２５℃）で測定される。第２化合物の極大吸収波長は、例えば、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６の骨格構造、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６における置換基、ｎ、Ｒ^４等を適宜選択することで所望の波長に調整することができる。

第２化合物の具体例としては、以下の式（２－１）から式（２－４２）で表される化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

第２化合物は、二色比の観点から、式（２－１）から（２－３２）および（２－４０）から（２－４２）のいずれかで表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、式（２－１）から（２－１８）のいずれかで表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種がより好ましい。

組成物における、第１化合物の含有量は、例えば、組成物の固形分１００質量部に対して、５０質量部以下であると好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下の範囲がより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下の範囲がさらに好ましい。上記範囲内であれば、第１化合物の分散が十分にできる。これにより、第１化合物を含む組成物を形成材料とする膜であって、欠陥発生が十分に抑制された膜を効率的に得ることができる。なお本明細書において、固形分とは、組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた成分の合計量をいう。組成物は、第１化合物の１種のみを含んでいてもよく、構造の異なる２種以上を組み合わせて含んでいてもよい。組成物が２種以上の第１化合物を含む場合、それらは互いに異なる極大吸収波長を有していてもよい。

組成物における、第２化合物の含有量は、例えば、組成物の固形分１００質量部に対して、５０質量部以下であると好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下の範囲がより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下の範囲がさらに好ましい。上記範囲内であれば、第１化合物の分散が十分にできる。これにより、第２化合物を含む組成物を形成材料とする膜であって、欠陥発生が十分に抑制された膜を効率的に得ることができる。組成物は、第２化合物の１種のみを含んでいてもよく、構造の異なる２種以上を組み合わせて含んでいてもよい。組成物が２種以上の第２化合物を含む場合、それらは互いに異なる極大吸収波長を有していてもよい。

組成物における第１化合物と第２化合物の含有比は、第１化合物の含有量に対する第２化合物の含有量の比として、例えば、０．５以上２．０以下であってよく、好ましくは０．６以上１．８以下、または０．７以上１．５以下であってよい。

第１化合物および第２化合物の製造方法
第１化合物および第２化合物は、従来公知の合成方法を適宜適用することで製造することができる。具体的に、第１化合物および第２化合物におけるアゾ構造（－Ｎ＝Ｎ－）は、例えば、国際公開ＷＯ２０１６／１３６５６１号の段落［０２２０］から［０２６８］の製造例の記載等を参考に、１級アミノ基を有する芳香族アミン化合物を亜硝酸ナトリウムなどでジアゾニウム塩に変換し、芳香族化合物とジアゾカップリングさせることで構築することができる。また、チアゾール構造を含むアゾ構造は、例えば、J. Mol. Struct., 2011, 987,158.の記載を参照して構築することができる。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３またはＲ^４が、アルコキシ基である化合物は、例えば、ヒドロキシ基を有する前駆体にＳ_Ｎ２置換反応を適用することで所望のアルコキシ基を有する化合物として製造することができる。Ｓ_Ｎ２置換反応は、従来公知の反応条件を適宜適用してもよいし、例えば、J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 13079の記載を参照してもよい。

第１化合物または第２化合物が、－ＯＣ（＝Ｏ）－またはＣ（＝Ｏ）Ｏ－を含む場合、例えば、カルボキシ基を有する前駆体と、水酸基を有する前駆体とを用いて、Jiang, L.; Lu, X.; Zhang, H.; Jiang, Y.; Ma, D. J. Org. Chem. 2009, 74 (3), 4542-4546.などを参考にして脱水縮合反応を適用することで合成することができる。具体的には例えば、溶媒中、エステル化縮合剤の存在下で縮合する条件が挙げられる。

第１化合物または第２化合物が、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－またはＣ（＝Ｏ）ＮＨ－を含む場合、例えば、カルボキシ基を有する前駆体と、アミノ基を有する前駆体とを用いて、脱水縮合反応を適用することで合成することができる。具体的には例えば、溶媒中、アミド化縮合剤の存在下で縮合する条件が挙げられる。

第１化合物または第２化合物が、脂肪族炭化水素基で置換されたシリルオキシ基を有する場合、水酸基を有する前駆体と、脂肪族炭化水素基で置換されたハロゲン化シランとをもちいて、塩基の存在下、一般的なシリル化反応の条件を適用することで合成することができる。Ｓ_Ｎ２置換反応の条件は、例えば、J. Am. Chem. Soc., 1972, 94, 6190等を参照することができる。

第１化合物におけるＰが－Ｃ≡Ｃ－である化合物は、例えば、エチニル基（－Ｃ≡ＣＨ）有する前駆体と、ハロゲン原子を有する前駆体とを用いて、Ｐｄ、Ｃｕ触媒を用いる薗頭カップリングを適用することで合成することができる。

第１化合物におけるＰが－Ｃ＝Ｃ－である化合物は、例えば、エテニル基（－Ｃ＝ＣＨ）有する前駆体と、ハロゲン原子を有する前駆体とを用いて、Ｐｄ触媒、リン配位子を用いるＨｅｃｋ反応を適用することで合成することができる。

第１化合物におけるＰが－ＣＨ＝Ｎ－または－Ｎ＝ＣＨ－である化合物は、ホルミル基を有する前駆体と、アミノ基を有する前駆体とを一般的な脱水縮合反応させることで合成することができる。

第１化合物または第２化合物の製造方法における反応時間は、反応途中の反応混合物を適宜サンプリングし、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段により、原料化合物の消失の度合い、第１化合物または第２化合物の生成の度合いなどを確認して定めることもできる。

反応後の反応混合物からは、再結晶、再沈殿、抽出および各種クロマトグラフィーといった公知の方法により、或いはこれらの操作を適宜組み合わせることにより、第１化合物または第２化合物を取り出すことができる。

組成物は、第１化合物および第２化合物以外のその他の色素化合物、例えば二色性色素の少なくとも１種を更に含んでいてもよい。その他の色素化合物としては、例えば、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素などのアゾ色素を挙げることができ、これらからなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。組成物は、その他の色素化合物を１種単独で含んでいてもよく、２種以上を組み合わせて含んでいてもよい。例えば塗布型偏光板材料として用いる場合では、組成物が含むその他の色素化合物は、第１化合物および第２化合物とは異なる波長範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。例えば塗布型偏光板材料として用いる場合では、組成物は、第１化合物および第２化合物を含めて、３種類以上の二色性色素を組み合わせて含むことが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせて含むことがより好ましい。組成物が極大吸収波長の異なる３種以上の色素化合物を組み合わせて含むことで、例えば、組成物から形成される膜によって可視光全域で吸収を得ることができる。

組成物が、その他の色素化合物を含む場合、その含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、０．１質量部以上１０質量部以下の範囲がより好ましく、０．１質量部以上５質量部以下の範囲がさらに好ましい。上記範囲内であれば、その他の色素化合物の分散が十分に可能になる。

液晶性化合物
組成物は、第１化合物および第２化合物に加えて、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含む液晶性化合物を含む。組成物は、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の一方のみを含んでいても、両方を含んでいてもよい。また、組成物に含まれる重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物は、それぞれ２種以上であってもよい。組成物が重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含むことで、第１化合物および第２化合物が液晶性化合物に分散した組成物を構成することができる。

液晶性の高分子化合物は、サーモトロピック液晶型ポリマーを構成するものであってもよいし、リオトロピック液晶型ポリマーを構成するものであってもよい。液晶性の高分子化合物は、緻密な膜厚制御が可能な点で、サーモトロピック液晶型ポリマーを構成するものであることが好ましい。

液晶の分類としては、液晶状態での分子配列の構造により、スメクチック液晶、ネマチック液晶、コレステリック液晶に分類される。なかでも偏光膜用途においてはスメクチック液晶が好ましく用いられる。したがって、重合性液晶化合物は、重合性スメクチック液晶化合物であることが好ましく、液晶性の高分子化合物は、スメクチック液晶性の高分子化合物であることが好ましい。

スメクチック液晶性を示す重合性液晶化合物およびスメクチック液晶性を示す高分子化合物を用いることにより、配向秩序度の高い偏光膜を形成することができる。重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の示す液晶状態は、好ましくはスメクチック相（スメクチック液晶状態）であり、より高い配向秩序度を実現し得る観点から、高次スメクチック相（高次スメクチック液晶状態）であることがより好ましい。ここで、高次スメクチック相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相およびスメクチックＬ相を意味し、これらの中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相およびスメクチックＩ相がより好ましい。配向秩序度の高い偏光膜は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークを意味する。組成物から得られる偏光膜が有する周期間隔（秩序周期）は、好ましくは０．３ｎｍ以上０．６ｎｍ以下である。重合性液晶化合物または液晶性の高分子化合物は、Ｘ線回折測定において高次構造由来のブラッグピークを示す、重合性スメクチック液晶化合物またはスメクチック液晶性の高分子化合物であってよい。

重合性液晶化合物
重合性液晶化合物とは、分子内に少なくとも１つの重合性基を有し、配向することによって液晶相を示すことができる化合物である。重合性液晶化合物は、好ましくは単独で配向することによって液晶相を示すことができる化合物である。重合性基とは、重合反応に関与し得る官能基を意味し、ラジカル重合性基であることが好ましい。

重合性液晶化合物としては、少なくとも１つの重合性基を有し、好ましくはスメクチック液晶性を示す液晶化合物であれば特に限定されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができる。重合性液晶化合物として具体的には、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」ともいう）が好ましく挙げられる。
Ｕ^１－Ｖ^１－Ｗ^１－（Ｘ^１－Ｙ^１）_ｋ－Ｘ^２－Ｙ^２－Ｘ^３－Ｗ^２－Ｖ^２－Ｕ^２ （Ａ）

式（Ａ）中、ｋは１から３の整数である。Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３は、各々独立して、２価の芳香族基または２価の脂環式炭化水素基を表す。ｋが２または３である場合、複数のＸ^１は互いに同一であっても相異なっていてもよい。Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３からなる群から選択される少なくとも３つが２価の炭化水素６員環基を表す。Ｙ^１、Ｙ^２、Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ｋが２または３である場合、Ｙ^１は互いに同一であっても相異なっていてもよい。Ｖ^１およびＶ^２は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１から２０のアルカンジイル基を表す。アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－の少なくとも１つは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－または－ＮＨ－に置換されていてもよい。Ｕ^１およびＵ^２は、それぞれ独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも一方は重合性基を表す。

Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３における２価の芳香族基としては、１，４－フェニレン基、１，４－ナフチレン基（ナフタレン－１，４－ジイル基）等が挙げられる。２価の脂環式炭化水素基としては、シクロヘキサン－１，４－ジイル基等が挙げられる。Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３における２価の芳香族基および２価の脂環式炭化水素基の少なくとも１つは、置換基を有していてもよい。置換基としては、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基等の炭素数１から４のアルキル基、シアノ基、ハロゲン原子などが挙げられる。２価の脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の少なくとも１つは、－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＲ－に置換されていてもよい。ここで、Ｒは、炭素数１から６のアルキル基またはフェニル基を表す。

Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３における２価の炭化水素６員環基としては、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基等が挙げられる。

Ｘ^１、Ｘ^２およびＸ^３における２価の芳香族基は、好ましくは置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基であり、より好ましくは無置換の１，４－フェニレン基である。また２価の脂環式炭化水素基は、好ましくは置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であり、より好ましくは置換基を有していてもよいトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であり、さらに好ましくは無換基のトランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基である。

Ｙ^１およびＹ^２は、各々独立して単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基は、例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ－、－Ｃ≡Ｃ－および－ＣＲ^ａ＝Ｎ－からなる群から選択される少なくとも１種である。ここでＲ^ａおよびＲ^ｂは、各々独立して、水素原子または炭素数１から４のアルキル基を表す。Ｙ^１は、好ましくは－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－または単結合である。Ｙ^２は、好ましくは－ＣＨ_２ＣＨ_２－または－ＣＨ_２Ｏ－である。

Ｗ^１およびＷ^２は、各々独立して、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基は、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－および－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－からなる群から選択される少なくとも１種である。Ｗ^１およびＷ^２は、各々独立して、好ましくは単結合または－Ｏ－である。

Ｖ^１およびＶ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１から２０のアルカンジイル基を表す。前記アルカンジイル基を構成する－ＣＨ_２－の少なくとも１つは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－または－ＮＨ－に置き換わっていてもよい。

Ｖ^１およびＶ^２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１－ジイル基、およびイコサン－１，２０－ジイル基が挙げられる。Ｖ^１およびＶ^２は、好ましくは炭素数２から１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６から１２のアルカンジイル基である。

置換基を有していてもよい炭素数１から２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基およびハロゲン原子が挙げられる。当該アルカンジイル基は、好ましくは置換基を有していないアルカンジイル基であり、より好ましくは置換基を有しておらず、かつ直鎖状のアルカンジイル基である。

Ｕ^１およびＵ^２は、それぞれ独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも一方は重合性基を表す。Ｕ^１およびＵ^２は、好ましくは重合性基である。Ｕ^１およびＵ^２がともに重合性基であることが好ましく、ともにラジカル重合性基であることが好ましい。Ｕ^１で示される重合性基とＵ^２で示される重合性基とは、互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。Ｕ^１およびＵ^２における重合性基としては、重合性液晶化合物が有する重合性基として先に例示した重合性基と同様のものが挙げられる。中でも、Ｕ^１およびＵ^２で表される重合性基は、ビニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

重合性液晶化合物（Ａ）の具体例としては、下記式（Ａ－１）から式（Ａ－１７）で表される化合物が挙げられる。重合性液晶化合物（Ａ）がシクロヘキサン－１，４－ジイル基を有する場合には、そのシクロヘキサン－１，４－ジイル基は、トランス型であることが好ましい。

中でも、重合性液晶化合物（Ａ）は、式（Ａ－２）、式（Ａ－３）、式（Ａ－４）、式（Ａ－５）、式（Ａ－６）、式（Ａ－７）、式（Ａ－８）、式（Ａ－１３）、式（Ａ－１４）、式（Ａ－１５）、式（Ａ－１６）および式（Ａ－１７）のいずれかで表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物（Ａ）は、例えば、Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas,115,321-328(1996)、特許第４７１９１５６号公報等の公知文献に記載の方法により製造することができる。

液晶性の高分子化合物
液晶性の高分子化合物とは、前記重合性液晶化合物を重合させた化合物（以下、重合性液晶化合物の重合体ともいう）であってもよく、その他の液晶性の高分子化合物であってもよく、好ましくは、前記重合性液晶化合物の重合体である。

前記重合性液晶化合物の重合体は、２種以上の前記重合性液晶化合物を原料モノマーとして用いてもよい。また、前記重合性液晶化合物の重合体は、前記重合性液晶化合物以外のその他のモノマーを原料モノマーとして含んでいてもよい。

前記重合性液晶化合物の重合体における前記重合性液晶化合物の含有割合は、前記重合性液晶化合物の重合体を構成する前記重合性液晶化合物に由来する構成単位の合計量に対して、通常１モル％以上１００モル％以下であり、前記重合性液晶化合物の重合体の配向性を高くするという観点から、３０モル％以上１００モル％以下であることが好ましく、５０モル％以上１００モル％以下であることがより好ましく、８０モル％以上１００モル％以下であることがさらに好ましい。

前記その他の液晶性の高分子化合物としては、液晶性基を有する高分子化合物が挙げられる。例えば、母骨格となる高分子化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネンポリマーなどの環状オレフィン樹脂；ポリアルキレンエーテル、ポリビニルアルコール；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；等が挙げられ、これらの高分子化合物が液晶性基を有する。中でも、液晶性基を有するポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルが好ましい。

前記その他の液晶性の高分子化合物は、２種類以上の液晶性基を含んでいてもよい。液晶性基は、母骨格となる高分子化合物の主鎖に含まれていてもよく、母骨格となる高分子化合物の側鎖に含まれていてもよく、母骨格となる高分子化合物の主鎖および側鎖ともに含まれていてもよい。液晶性基としては、少なくとも２つの炭化水素６員環構造を有する化合物から１個の水素原子を除いて形成される基、または、該化合物から２個の水素原子を除いて形成される基が挙げられる。

前記その他の液晶性の高分子化合物における液晶性基の含有割合は、前記その他の液晶性の高分子化合物の母骨格となる高分子化合物を構成する構成単位の合計量に対して、通常１モル％以上１００モル％以下であり、前記その他の液晶性の高分子化合物の配向性を高くするという観点から、３０モル％以上１００モル％以下であることが好ましく、５０モル％以上１００モル％以下であることがより好ましく、８０モル％以上１００モル％以下であることがさらに好ましい。

組成物において、２種類以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、そのうちの少なくとも１種類が重合性液晶化合物（Ａ）であることが好ましく、そのうちの２種類以上が重合性液晶化合物（Ａ）であることがより好ましい。２種類以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度であっても液晶相を一時的に保持することができる場合がある。組成物に含まれる重合性液晶化合物（Ａ）の含有量は、組成物中の全重合性液晶化合物の総質量に対して合計で、好ましくは４０質量％以上であり、より好ましくは６０質量％以上であり、全ての重合性液晶化合物が重合性液晶化合物（Ａ）であってもよい。重合性液晶化合物（Ａ）の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物が高い配向秩序度で並びやすく、それに沿って第１化合物および第２化合物が配向することにより、優れた偏光性能を有する偏光膜を得ることができる。

組成物における重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の合計含有割合は、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の配向性を高くするという観点から、組成物の固形分１００質量部に対して、例えば５０質量部以上であり、好ましくは７０質量部以上９９．９質量部以下であり、より好ましくは７０質量部以上９９．５質量部以下であり、更に好ましくは８０質量部以上９９質量部以下であり、特に好ましくは８０質量部以上９４質量部以下であり、より更に好ましくは８０質量部以上９０質量部以下である。

組成物における第１化合物および第２化合物の総含有量は、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の合計量１００質量部に対して、通常、０．１質量部以上５０質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上２０質量部以下であり、より好ましくは０．１質量部以上１０質量部以下であり、さらに好ましくは０．１質量部以上、５質量部以下である。重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の合計量に対する第１化合物および第２化合物の総含有量が５０質量部以下であると、重合性液晶化合物、液晶性の高分子化合物および第１化合物および第２化合物の配向の乱れが少なく、高い配向秩序度を有する偏光膜を得ることができる傾向がある。

高分子化合物
組成物は、第１化合物および第２化合物、ならびに重合液晶性化合物に加えて、高分子化合物を更に含んでいてもよい。組成物が高分子化合物を含むことで、第１化合物および第２化合物が組成物中に分散し易くなる場合がある。組成物が含みうる高分子化合物としては、第１化合物および第２化合物を分散可能であれば、特に制限はない。第１化合物および第２化合物を均一に分散させやすい点から、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル系ポリマーが好ましい。また高分子化合物は、既述の重合性液晶化合物を重合した高分子化合物であってもよい。高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、例えば１万以上２０万以下であり、好ましくは２万以上１５万以下である。

組成物が高分子化合物を含む場合、その含有量は、目的等に応じて適宜選択することができる。高分子化合物の含有量は、組成物の固形分１００質量部に対して、１０質量部以下であると好ましく、５．０質量部以下の範囲がより好ましく、３．０質量部以下の範囲がさらに好ましい。

組成物は、好ましくは溶剤等の液媒体および重合開始剤をさらに含み、必要に応じて光増感剤、重合禁止剤、レベリング剤等をさらに含んでいてもよい。

溶剤
溶剤は、第１化合物および第２化合物、重合性液晶化合物、液晶性の高分子化合物、ならびに高分子化合物を完全に溶解し得る溶剤であることが好ましい。また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。

溶剤としては、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、脂肪族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ニトリル溶剤、エーテル溶剤、塩素含有溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

組成物が溶剤を含む場合において、溶剤の含有割合は、組成物の総量に対して５０質量％以上９８質量％以下が好ましい。換言すると、組成物における固形分の含有割合は、２質量％以上５０質量％以下が好ましい。当該固形分が５０質量％以下であると、組成物の粘度が低くなり、組成物から得られる膜、例えば膜の厚みが略均一になり、当該膜にムラが生じ難くなる傾向がある。かかる固形分の含有割合は、製造しようとする膜の厚さを考慮して定めることができる。

重合開始剤
重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤は、より低温条件下で重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩などが挙げられる。重合開始剤は、公知の重合開始剤から目的等に応じて適宜選択することができる。また、重合開始剤は、１種単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成物に含まれる重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜決定すればよい。重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、例えば０．００１質量部以上、０．０１質量部以上、０．１質量部以上または０．５質量部以上であり、例えば３０質量％以下、１０質量％以下または８質量％以下である。また重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．００１質量部以上３０質量部以下が好ましく、０．０１質量部以上１０質量部以下がより好ましく、０．１質量部以上８質量部以下がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。

光増感剤
組成物が光重合開始剤を含有する場合、組成物は、好ましくは光増感剤の少なくとも１種を含有してよい。組成物が光重合開始剤および光増感剤を含有することにより、重合性液晶化合物の重合反応がより促進される傾向がある。当該光増感剤としては、キサントンおよびチオキサントン等のキサントン化合物；アントラセンおよびアルコキシ基置換アントラセン等のアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン；などが挙げられる。光増感剤は、１種単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

組成物が光増感剤を含む場合、組成物における光増感剤の含有量は、光重合開始剤および重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜決定すればよい。組成物における光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下であり、より好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下であり、さらに好ましくは０．５質量部以上８質量部以下である。

重合禁止剤
組成物は、重合禁止剤の少なくとも１種を含んでいてもよい。重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えばブチルカテコール）、ピロガロール、２，２，６，６－テトラメチル－１－ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β－ナフチルアミン類およびβ－ナフトール類；などが挙げられる。組成物が重合禁止剤を含むことにより、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いを制御することができる。

組成物が重合禁止剤を含む場合、組成物における重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下であり、より好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下であり、さらに好ましくは０．５質量部以上８質量部以下である。

レベリング剤
組成物は、レベリング剤の少なくとも１種を含んでいてもよい。レベリング剤は、組成物の流動性を調整し、該組成物を塗布することにより得られる塗膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。レベリング剤は、１種単独または２種以上を組み合わせて使用できる。

組成物がレベリング剤を含む場合、レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部以上５質量部以下であり、より好ましくは０．０５質量部以上３質量部以下である。レベリング剤の含有量が前記範囲内であると、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物を水平配向させやすく、かつ、ムラが生じ難く、より平滑な膜、例えば偏光膜を得られる傾向がある。

レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物を水平配向させることが容易であり、かつ、得られる膜がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られる膜にムラが生じ易い傾向がある。

酸化防止剤
組成物は酸化防止剤を含んでいてもよい。酸化防止剤は、組成物が本発明の効果を発揮し得るものであれば特に限定されず、公知の酸化防止剤を用いることができる。酸化防止剤は、第１化合物および第２化合物の光劣化に対する高い抑制効果を有する観点から、ラジカルを捕捉して自動酸化の防止作用を有する、いわゆる一次酸化防止剤が好ましい。したがって、組成物に含まれる酸化防止剤は、フェノール系化合物、脂環式アルコール系化合物およびアミン系化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種のみを単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

組成物における上記酸化防止剤の含有量は、組成物１００質量部に対して好ましくは０．１質量部以上１５質量部以下であり、より好ましくは０．３質量部以上、さらに好ましくは０．５質量部以上であり、より好ましくは１２質量部以下であり、さらに好ましくは１０質量部以下である。酸化防止剤の含有量が上記下限値以上であると、第１化合物および第２化合物の光劣化をより効果的に抑制することができる。また、酸化防止剤の含有量が上記上限値以下であると、重合性液晶化合物の配向をより乱し難く、かつ、第１化合物および第２化合物の光劣化に対するより高い抑制効果を期待できる。

組成物は、上記以外の他の添加剤を含有してよい。他の添加剤としては、例えば、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤および滑剤などが挙げられる。組成物が他の添加剤を含有する場合、他の添加剤の含有量は、組成物の固形分に対して、０％を超えて２０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０％を超えて１０質量％以下である。

組成物は、従来公知の組成物の調製方法により製造することができる。例えば、第１化合物および第２化合物と、液晶性化合物と、必要に応じて酸化防止剤、レベリング剤などの添加剤とを混合、撹拌することにより調製することができる。

＜膜＞
本実施形態にかかる膜は、第１化合物および第２化合物を形成材料として含む膜であってもよく、第１化合物および第２化合物と液晶性化合物とを含む組成物を形成材料として得られる膜であってもよい。組成物からなる膜は、組成物を基材に付与し、成膜することで形成されてよい。また、組成物が、重合性液晶化合物を含む場合、該重合性液晶化合物を重合させて得られる硬化物を含む膜は、組成物を基材に付与し、成膜した後に該重合性液晶化合物を重合し、硬化させることで形成されてよい。

組成物は、５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における光劣化による二色比の低下が抑制される膜、例えば偏光膜を形成することができる。したがって、本実施形態にかかる膜は、第１化合物および第２化合物と、液晶性化合物とを含んでなる組成物から形成される偏光膜であって、二色比の維持性に優れる偏光膜を包含する。また、組成物は、配向秩序度の高い膜、例えば偏光膜を形成することができる。したがって、本実施形態にかかる膜は、第１化合物および第２化合物と、液晶性化合物とを含んでなる組成物から形成される偏光膜であって、配向秩序度の高い偏光膜を包含する。

ここで、配向秩序度の高い偏光膜では、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。したがって、組成物から形成される偏光膜は、重合性液晶化合物または液晶性の高分子化合物がＸ線回折測定においてブラッグピークを示すように配向していることが好ましく、光を吸収する方向に重合性液晶化合物または液晶性の高分子化合物の分子が配向する「水平配向」であることがより好ましい。ブラッグピークを示すような高い配向秩序度は、用いる重合性液晶化合物または液晶性の高分子化合物の種類、第１化合物および第２化合物の量等を制御することにより実現し得る。

膜を形成するために用いる組成物を構成する第１化合物および第２化合物ならびに液晶性化合物については、既述の通りである。

膜は、例えば、以下の工程を含む方法により製造することができる。
工程Ａ：第１化合物および第２化合物と液晶性化合物と溶剤とを含む組成物の塗膜を形成すること、
工程Ｂ：前記塗膜から溶剤の少なくとも一部を除去すること、
工程Ｃ：液晶性化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後、降温して、該液晶性化合物をスメクチック相（スメクチック液晶状態）に相転移させること、および
工程Ｄ：必要に応じて、前記スメクチック相（スメクチック液晶状態）を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させること。

組成物の塗膜の形成は、例えば、基材、後述する配向膜などの上に組成物を塗布することにより行うことができる。また、偏光板を構成する位相差フィルム、その他の層上に組成物を直接塗布してもよい。

基材は通常、透明基材である。なお、基材が表示素子の表示面に設置されないとき、例えば、膜から基材を取り除いた積層体を表示素子の表示面に設置する場合は、基材は透明でなくてもよい。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長範囲にわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。

透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。

基材に求められる特性は、膜の構成によって異なるが、通常、位相差性ができるだけ小さい基材が好ましい。位相差性ができるだけ小さい基材としては、ゼロタック（コニカミノルタオプト株式会社）、Ｚタック（富士フイルム株式会社）等の位相差を有しないセルロースエステルフィルム等が挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材も好ましい。膜が積層されていない基材の面には、ハードコート処理、反射防止処理、帯電防止処理等がなされてもよい。

基材の厚みは、通常５μｍ以上３００μｍ以下であり、好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上１００μｍ以下である。前記下限値以上であれば強度の低下が抑制され、加工性が良好になる傾向がある。

組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。

次いで、組成物から得られた塗膜に含まれる溶剤の少なくとも一部を乾燥等により除去することにより乾燥塗膜が形成される。また、該塗膜中に重合性液晶化合物が含まれる場合、該重合性液晶化合物が重合しない条件で、乾燥をおこなうことにより乾燥塗膜が形成される。前記塗膜の乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、減圧乾燥法等が挙げられる。

さらに、液晶性化合物を液体相に相転移させるため、液晶性化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後、降温して液晶性化合物をスメクチック相（スメクチック液晶状態）に相転移させる。かかる相転移は、塗膜中の溶剤除去後に行ってもよいし、溶剤の除去と同時に行ってもよい。

組成物が、重合性液晶化合物を含む場合、重合性液晶化合物のスメクチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させることにより、重合性液晶化合物の硬化物を含む膜が形成される。重合方法としては光重合法が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、乾燥塗膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）およびその量に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線およびγ線からなる群から選択される１種以上の光、活性電子線等が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、組成物に含有される重合性液晶化合物、光重合開始剤の種類等を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に膜を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた膜を得ることもできる。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下で発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下であってよい。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒以上１０分以下であってよく、好ましくは０．１秒以上５分以下、より好ましくは０．１秒以上３分以下、さらに好ましくは０．１秒以上１分以下である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。

光重合を行うことにより、重合性液晶化合物は、スメクチック相、好ましくは高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合し、膜が形成される。重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して得られる膜は、二色性色素の作用にも伴い、従来のホストゲスト型偏光フィルム、すなわち、ネマチック相の液晶状態からなる膜と比較して、偏光性能が高いという利点がある。さらに、二色性色素、またはリオトロピック液晶のみを塗布したものと比較して、強度に優れるという利点もある。

膜の厚みは、適用される表示装置等に応じて適宜選択でき、好ましくは０．５μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上５μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上３μｍ以下である。

膜が、偏光膜として使用される場合、配向膜上に形成されることが好ましい。配向膜は、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。配向膜としては、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含む液晶性化合物を含有する組成物の塗布等により溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜および表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられ、配向角の精度および品質の観点から、光配向膜が好ましい。

＜積層体＞
本実施形態にかかる積層体は、第１化合物および第２化合物を形成材料として含む膜を備えていてもよく、第１化合物および第２化合物と液晶性化合物とを含む組成物を形成材料とする膜を備えていてもよい。積層体は、基材と、基材上に配置される第１化合物および第２化合物を形成材料として含む膜とを備えていてよく、基材と、基材上に配置される配向膜と、配向膜上に配置される第１化合物および第２化合物を形成材料とする膜とを備えていてよい。第１化合物および第２化合物を形成材料として含む膜は、偏光膜を構成してよい。また、基材は位相差フィルムであってもよい。積層体は、例えば、偏光板を構成することができる。積層体は、例えば、上述した膜の製造方法に準じて、基材上に膜を形成することで製造することができる。

積層体の厚みは、表示装置の屈曲性や視認性の観点から、好ましくは１０μｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下、さらに好ましくは２５μｍ以上１００μｍ以下である。

積層体が基材として位相差フィルムを備える場合、位相差フィルムの厚みは、適用される表示装置に応じて適宜選択できる。

＜表示装置＞
本実施形態の表示装置は、前記積層体を備え、積層体は偏光板であってよい。表示装置は、例えば、粘接着剤層を介して、偏光板としての積層体を表示装置の表面に貼合することにより得ることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む装置である。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置（例えば、電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インク、電気泳動素子等を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えば、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）、および圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置、および投写型液晶表示装置等のいずれも包含する。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、表示装置としては、有機ＥＬ表示装置およびタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機ＥＬ表示装置が好ましい。

＜二色性色素＞
二色性色素は、第１化合物の少なくとも１種と、第２化合物の少なくとも１種とを有効成分として含む。二色性色素は第１化合物および第２化合物を含むことで、光劣化に伴う５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における二色比の低下が抑制される偏光膜を形成することができる。二色性色素は、第１化合物および第２化合物をそれぞれ１種のみ含んでいてもよく、それぞれ構造の異なる２種以上を組み合わせて含んでいてもよい。また、二色性色素が２種以上の第１化合物または第２化合物を含む場合、それらは互いに異なる極大吸収波長を有していてもよい。また、二色性色素は、第１化合物および第２化合物に加えて、それら以外のその他の色素化合物を含んでいてもよい。その他の色素化合物については既述の通りである。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

合成例１：化合物（１－１）の合成
化合物（１－１）を合成するために、まず化合物（１－１－ａ）を合成した。続いて脱水縮合エステル化して化合物（１－１）を得た。

化合物（１－１－ａ）の合成
４－アミノ－２－フルオロ安息香酸（７．７６ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１３．２ｍＬ，１５０ｍｍｏｌ）、および水（１００ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（３．５５ｇ、５１．５ｍｍｏｌ）の水（６．５ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら３０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン（９．１０ｇ、７５．１ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１６．４ｇ，２００ｍｍｏｌ）、メタノール（６７．０ｍＬ）、および水（３３．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下した。滴下終了後常温まで昇温し、析出した固体を濾別して化合物（１－１－ｂ）を得た（１４．０ｇ、収率９７％）。

化合物（１－１）の合成
化合物（１－１－ａ）（０．７１７ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）、４－ｎ－オクチルオキシフェノール（０．６１７ｇ、２．７８ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジンの略。３２．６ｍｇ、０．２６７ｍｍｏｌ）、およびテトラヒドロフラン（２５．０ｍＬ）を混合し、ＥＤＣ・ＨＣｌ（１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩の略。０．７１９ｇ、３．７５ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を常温で３日間撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別し、メタノールで洗浄した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（１－１）を得た（０．７０１ｇ、収率５１％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．１９（ｄｄ，１Ｈ），７．９４－７．９０（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄｄ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，１Ｈ），７．１７－７．１３（ｍ，２Ｈ），６．９５－６．９１（ｍ，２Ｈ），６．７９－６．７５（ｍ，２Ｈ），３．９６（ｔ，２Ｈ），３．１３（ｓ，６Ｈ），１．７９（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５０－１．４３（ｍ，２Ｈ），１．４０－１．２５（ｍ，８Ｈ），０．９０（ｔ，３Ｈ）．

合成例２：化合物（１－２）の合成
化合物（１－２）を合成するために、まず化合物（１－２－ａ）、化合物（１－２－ｂ）、および化合物（１－２－ｃ）を経て化合物（１－２－ｄ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－２）を得た。

化合物（１－２－ａ）の合成
４’－アミノアセトアニリド（７．５１ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（６．６ｍＬ，７５ｍｍｏｌ）、および水（１５０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（５．１８ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）の水（１０．０ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら６０分間撹拌し、さらにアミド硫酸（２．４３ｇ，２５．０ｍｍｏｌ）の水（１５．０ｍＬ）溶液を滴下してジアゾ液を調製した。一方、フェノール（７．０７ｇ、７５．１ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１２．３ｇ，１５０ｍｍｏｌ）、および水（２５０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下した。滴下終了後常温まで昇温し、析出した固体を濾別して化合物（１－２－ａ）を得た（７．５８ｇ、収率５９％）。

化合物（１－２－ｂ）の合成
化合物（１－２－ａ）（５．１１ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）、ヨードメタン（１４．２ｇ、１００ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（８．２９ｇ、６０．０ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５０ｍＬ）を混合し、５０℃で３時間加熱撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別して化合物（１－２－ｂ）を得た（５．０４ｇ、収率９４％）。

化合物（１－２－ｃ）の合成
化合物（１－２－ｂ）（５．３９ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム（２０．０ｇ、５０１ｍｍｏｌ）、メタノール（２０ｍＬ）、および水（１０ｍＬ）を混合し、１１０℃で８時間加熱撹拌した。固体を濾別して化合物（１－２－ｃ）を得た（４．２５ｇ、収率９３％）。

化合物（１－２－ｄ）の合成
化合物（１－２－ｃ）（１．３６ｇ、６．００ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１．６ｍＬ，１８ｍｍｏｌ）、酢酸（１８．０ｍＬ）、および水（１８．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．４３３ｇ、６．２８ｍｍｏｌ）の水（０．８０ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら３０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、２－フルオロフェノール（１．０２ｇ、９．１１ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１．９８ｇ，２４．１ｍｍｏｌ）、メタノール（２４．０ｍＬ）、および水（１２．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下した。滴下終了後常温まで昇温し５時間攪拌した。析出した固体を濾別して化合物（１－２－ｄ）を得た（１．７７ｇ、収率８４％）。

化合物（１－２）の合成
化合物（１－２－ｄ）（０．３５３ｇ、１．０１ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．３７２ｇ、２．０２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．４２４ｇ、３．０１ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５．０ｍＬ）を混合し、９０℃で１時間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－２）を得た（０．３０２ｇ、収率７４％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．０１（ｓ，４Ｈ），７．９８－７．９４（ｍ，２Ｈ），７．８１－７．７８（ｍ，１Ｈ），７．７３（ｄｄ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ），７．０６－７．０２（ｍ，２Ｈ），４．１４（ｔ，２Ｈ），３．９１（ｓ，３Ｈ），１．８７（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５５（ｓｅｘｔ，２Ｈ），１．０１（ｔ，３Ｈ）．

合成例３：化合物（１－３）の合成
化合物（１－３）を合成するために、原料として化合物（１－２－ｃ）を用いて化合物（１－３－ａ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－３）を得た。

化合物（１－３－ａ）の合成
化合物（１－２－ｃ）（１．６４ｇ、７．００ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１．８５ｍＬ，２１．０ｍｍｏｌ）、酢酸（２１．０ｍＬ）、および水（２１．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．５０９ｇ、７．３８ｍｍｏｌ）の水（１．００ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら３０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、２，６－ジフルオロフェノール（１．４０ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（２．３１ｇ，２８．２ｍｍｏｌ）、メタノール（２８．０ｍＬ）、および水（１４．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下した。滴下終了後常温まで昇温し５時間攪拌した。析出した固体を濾別して化合物（１－３－ａ）を得た（２．３４ｇ、収率９１％）。

化合物（１－３）の合成
化合物（１－３－ａ）（０．３６８ｇ、１．００ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．３７２ｇ、２．０２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．４２３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５．０ｍＬ）を混合し、１００℃で３０分間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－２）を得た（０．３０９ｇ、収率７３％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ（ｐｐｍ）＝８．０２（ｓ，４Ｈ），７．９９－７．９５（ｍ，２Ｈ），７．６１－７．５４（ｍ，２Ｈ），７．０６－７．０２（ｍ，２Ｈ），４．２７（ｔ，２Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），１．８０（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５３（ｓｅｘｔ，２Ｈ），０．９９（ｔ，３Ｈ）．

合成例４：化合物（１－４）の合成
化合物（１－４）を合成するために、まず化合物（１－４－ａ）、化合物（１－４－ｂ）、および化合物（１－４－ｃ）を経て化合物（１－４－ｄ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－４）を得た。

化合物（１－４－ａ）の合成
３－フルオロ－４－ニトロアニリン（２．１２ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（３．６０ｍＬ，４０．８ｍｍｏｌ）、酢酸（１３．５ｍＬ）、および水（１３．５ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（５．１８ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）の水（１０．０ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら６０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、フェノール（１．９７ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（４．５１ｇ，５５．０ｍｍｏｌ）、および水（２７．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下した。滴下終了後常温まで昇温し、析出した固体を濾別して化合物（１－４－ａ）を得た（３．４４ｇ、収率９７％）。

化合物（１－４－ｂ）の合成
化合物（１－４－ａ）（１．５７ｇ、６．００ｍｍｏｌ）、ヨードエタン（１．８８ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２．５４ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１２．０ｍＬ）を混合し、７０℃で３０分間加熱撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別して化合物（１－４－ｂ）を得た（１．６７ｇ、収率９６％）。

化合物（１－４－ｃ）の合成
化合物（１－４－ｂ）（１．６２ｇ、５．６０ｍｍｏｌ）、硫化ナトリウム９水和物（２．７７ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）、エタノール（１４ｍＬ）、および水（１４ｍＬ）を混合し、３０分間加熱還流した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別して化合物（１－４－ｃ）を得た（０．９８１ｇ、収率６７％）。

化合物（１－４－ｄ）の合成
化合物（１－４－ｃ）（０．９０８ｇ、３．５０ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（０．９５ｍＬ，１１ｍｍｏｌ）、酢酸（１１．０ｍＬ）、および水（１１．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．４３３ｇ、６．２８ｍｍｏｌ）の水（０．８０ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら３０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、２－フルオロフェノール（０．５９５ｇ、５．３０ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１．１６ｇ，１４．１ｍｍｏｌ）、メタノール（１４．０ｍＬ）、および水（７．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下し、０℃から５℃を維持したまま２時間攪拌した。常温まで昇温後、析出した固体を濾別して化合物（１－４－ｄ）を得た（１．１７ｇ、収率８８％）。

化合物（１－４）の合成
化合物（１－４－ｄ）（０．５７４ｇ、１．５０ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．５５８ｇ、３．０３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．６３５ｇ、４．５１ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（７．５ｍＬ）を混合し、１００℃で１時間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、トルエンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－４）を得た（０．３７３ｇ、収率５７％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝７．９７－７．９３（ｍ，２Ｈ），７．８８（ｄｄ，１Ｈ），７．８３－７．７４（ｍ，４Ｈ），７．０９（ｄｄ，１Ｈ），７．０４－７．００（ｍ，２Ｈ），４．１７－４．１２（ｍ，４Ｈ），１．８７（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５５（ｓｅｘｔ，２Ｈ），１．４７（ｔ，３Ｈ），１．０１（ｔ，３Ｈ）．

合成例５：化合物（１－５）の合成
化合物（１－５）を合成するために、原料として化合物（１－４－ｃ）を用いて化合物（１－５－ａ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－５）を得た。

化合物（１－５－ａ）の合成
化合物（１－４－ｃ）（０．８０３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（０．８０ｍＬ，９．１ｍｍｏｌ）、酢酸（９．０ｍＬ）、および水（９．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．２１９ｇ、３．１７ｍｍｏｌ）の水（０．５０ｍＬ）溶液を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら３０分間撹拌しジアゾ液を調製した。一方、２，６－ジフルオロフェノール（１．４０ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（２．３１ｇ，２８．２ｍｍｏｌ）、メタノール（２８．０ｍＬ）、および水（１４．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下し、０℃から５℃を維持したまま２時間攪拌した。常温まで昇温後、析出した固体を濾別して化合物（１－５－ａ）を得た（１．０４ｇ、収率９１％）。

化合物（１－５）の合成
化合物（１－５－ａ）（０．３８３ｇ、１．００ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．３７３ｇ、２．０３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．４２３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５．０ｍＬ）を混合し、１００℃で３０分間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、トルエンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－５）を得た（０．２１８ｇ、収率５０％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝７．９７－７．８４（ｍ，４Ｈ），７．７９－７．７４（ｍ，２Ｈ），７．０４－７．００（ｍ，２Ｈ），６．７９－６．７５（ｍ，２Ｈ），４．１５（ｑ，２Ｈ），４．０５（ｔ，２Ｈ），１．８２（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５７－１．４６（ｍ，５Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ）．

合成例６：化合物（１－６４）の合成
原料として化合物（１－１－ａ）を用いて脱水縮合エステル化により化合物（１－６４）を得た。

化合物（１－６４）の合成
化合物（１－１－ａ）（０．２８８ｇ、１．００ｍｍｏｌ）、４－ｎ－ブチルフェノール（０．１８３ｇ、１．２２ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１５．２ｍｇ、０．１２４ｍｍｏｌ）、およびテトラヒドロフラン（１０．０ｍＬ）を混合し、ＥＤＣ・ＨＣｌ（０．２８６ｇ、１．４９ｍｍｏｌ）を加え、反応溶液を常温で２日間撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別し、メタノールで洗浄した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（１－６４）を得た（０．２４８ｇ、収率４８％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．１９（ｄｄ，１Ｈ），７．９４－７．９０（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄｄ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，１Ｈ），７．２５－７．２２（ｍ，２Ｈ），７．１７－７．１３（ｍ，２Ｈ），６．７９－６．７５（ｍ，２Ｈ），３．１３（ｓ，６Ｈ），２．６４（ｔ，２Ｈ），１．６２（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．３８（ｓｅｘｔ，２Ｈ），０．９４（ｔ，３Ｈ）．

合成例７：化合物（１－６５）の合成
原料として化合物（１－１－ａ）を用いて脱水縮合エステル化により化合物（１－６５）を得た。

化合物（１－６５）の合成
化合物（１－１－ａ）（２．００ｇ、６．８４ｍｍｏｌ）、４－（ｔｒａｎｓ－４－ブチルシクロヘキシル）フェノール（１．９５ｇ、８．２０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（８４．４ｍｇ、０．６８４ｍｍｏｌ）、およびクロロホルム（２０．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへＤＩＣ（Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルカルボジイミドの略。１．２ｍＬ、７．５ｍｍｏｌ）を滴下した。その後、０℃から５℃を保ちながら２時間撹拌し、常温まで昇温し１．５時間攪拌した。反応溶液をシリカろ過し、ろ液を濃縮後にメタノールおよびクロロホルムを用いた再結晶にて精製し、化合物（１－６５）を得た（２．５１ｇ、収率７３％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．１９（ｄｄ，１Ｈ），７．９４－７．９０（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｄｄ，１Ｈ），７．６３（ｄｄ，１Ｈ），７．２８－７．２４（ｍ，２Ｈ），７．１８－７．１４（ｍ，２Ｈ），６．７９－６．７５（ｍ，２Ｈ），３．１３（ｓ，６Ｈ），２．５３－２．４６（ｍ，１Ｈ），１．９４－１．８６（ｍ，４Ｈ），１．５１－１．４０（ｍ，２Ｈ），１．３３－１．２１（ｍ，７Ｈ），１．１１－１．０１（ｍ，２Ｈ），０．９１（ｔ，３Ｈ）．

合成例８：化合物（１－６６）の合成
化合物（１－６６）を合成するために、まず化合物（１－６６－ａ）、化合物（１－６６－ｂ）、および化合物（１－６６－ｃ）を経て化合物（１－６６－ｄ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－６６）を得た。

化合物（１－６６－ａ）の合成
４－ニトロアニリン（６．９１ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１３．２ｍＬ，１５０ｍｍｏｌ）、酢酸（５０．０ｍＬ）、および水（５０．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（３．５５ｇ、５１．５ｍｍｏｌ）の水（６．５ｍＬ）溶液を２０分かけて滴下しジアゾ液を調製した。一方、フェノール（７．２２ｇ、７５．２ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１６．５ｇ，２０２ｍｍｏｌ）、および水（１００ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を２０分かけて滴下した。滴下終了後常温まで昇温し、析出した固体を濾別して化合物（１－６６－ａ）を得た（１１．７ｇ、収率９６％）。

化合物（１－６６－ｂ）の合成
化合物（１－６６－ａ）（３．６５ｇ、１５．００ｍｍｏｌ）、ヨードエタン（４．６９ｇ、３０．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６．３５ｇ、４５．０ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（３０．０ｍＬ）を混合し、７０℃で１時間加熱撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別して化合物（１－６６－ｂ）を得た（３．９８ｇ、収率９８％）。

化合物（１－６６－ｃ）の合成
化合物（１－６６－ｂ）（３．８０ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）、硫化ナトリウム９水和物（６．８８ｇ、２８．１ｍｍｏｌ）、エタノール（３５ｍＬ）、および水（３５ｍＬ）を混合し、３０分間加熱還流した。反応溶液に水を加え、析出した固体を濾別して化合物（１－６６－ｃ）を得た（３．０６ｇ、収率９０％）。

化合物（１－６６－ｄ）の合成
化合物（１－６６－ｃ）（０．９９６ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１．０５ｍＬ，１１．９ｍｍｏｌ）、酢酸（１２．０ｍＬ）、および水（１２．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．２９０ｇ、４．２１ｍｍｏｌ）の水（０．６０ｍＬ）溶液を５分かけて滴下しジアゾ液を調製した。一方、３－フルオロフェノール（０．７００ｇ、６．１２ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１．４１ｇ，１７．２ｍｍｏｌ）、および水（２４．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を５分かけて滴下し、０℃から５℃を維持したまま１時間攪拌した。常温まで昇温後さらに１日撹拌した。析出した固体を濾別して化合物（１－６６－ｄ）を得た（１．３２ｇ、収率９１％）。

化合物（１－６６）の合成
化合物（１－６６－ｄ）（０．３６７ｇ、１．０１ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．３７４ｇ、２．０３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．４２３ｇ、３．００ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５．０ｍＬ）を混合し、１００℃で３０分間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－６６）を得た（０．１９９ｇ、収率４７％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．０５－７．９９（ｍ，４Ｈ），７．９７－７．９３（ｍ，２Ｈ），７．８３（ｄｄ，１Ｈ），７．０４－７．００（ｍ，２Ｈ），６．８０－６．７５（ｍ，２Ｈ），４．１４（ｑ，２Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ），１．８２（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５２（ｓｅｘｔ，２Ｈ），１．４７（ｔ，３Ｈ），１．００（ｔ，３Ｈ）．

合成例９：化合物（１－６７）の合成
化合物（１－６７）を合成するために、化合物（１－６６－ｃ）を原料として用いて化合物（１－６７－ａ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－６７）を得た。

化合物（１－６７－ａ）の合成
化合物（１－６６－ｃ）（０．９１９ｇ、３．８１ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１．００ｍＬ，１１．３ｍｍｏｌ）、酢酸（３．８ｍＬ）、および水（３．８ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（０．２７８ｇ、４．０２ｍｍｏｌ）の水（０．５０ｍＬ）溶液を滴下しジアゾ液を調製した。一方、２，５－ジフルオロフェノール（０．７２２ｇ、５．４４ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（１．２６ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）、および水（１５．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量を滴下し、０℃から５℃を維持したまま１日攪拌した。５０℃まで昇温後さらに１時間撹拌した。析出した固体を濾別して化合物（１－６７－ａ）を得た（１．４０ｇ、収率９６％）。

化合物（１－６７）の合成
化合物（１－６７－ａ）（０．３８４ｇ、１．００ｍｍｏｌ）、１－ヨードブタン（０．３７３ｇ、２．０３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．４３１ｇ、３．０５ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１０．０ｍＬ）を混合し、１００℃で３０分間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、クロロホルムを移動相とした分取ＧＰＣにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－６７）を得た（０．２２２ｇ、収率５０％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．０５－７．９９（ｍ，４Ｈ），７．９７－７．９３（ｍ，２Ｈ），７．６６（ｄｄ，１Ｈ），７．０４－７．００（ｍ，２Ｈ），６．８６（ｄｄ，１Ｈ），４．１４（ｑ，２Ｈ），４．１１（ｔ，２Ｈ），１．８７（ｑｕｉｎ，２Ｈ），１．５５（ｓｅｘｔ，２Ｈ），１．４７（ｔ，３Ｈ），１．０１（ｔ，３Ｈ）．

合成例１０：化合物（１－６８）の合成
化合物（１－６８）を合成するために、化合物（１－６６－ａ）を原料として用いて、化合物（１－６８－ａ）を経て化合物（１－６８－ｂ）を合成した。続いてアルキル化して化合物（１－６８）を得た。

化合物（１－６８－ａ）の合成
化合物（１－６６－ａ）（０．９７３ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、硫化ナトリウム９水和物（２．００ｇ、８．１４ｍｍｏｌ）、エタノール（ｃｍＬ）、および水（４．０ｍＬ）を混合し、３０分間加熱還流した。反応溶液を塩化アンモニウム（１．００ｇ）の水（５０ｍＬ）溶液に注ぎ、析出した固体を濾別して化合物（１－６８－ａ）を得た（０．７３４ｇ、収率８６％）。

化合物（１－６８－ｂ）の合成
化合物（１－６８－ａ）（０．１０３ｇ、０．４８２ｍｍｏｌ）、３５％塩酸（１０．１５ｍＬ，１．７ｍｍｏｌ）、酢酸（０．５０ｍＬ）、および水（０．５ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、そこへ亜硝酸ナトリウム（３７．６ｍｇ、０．５４５ｍｍｏｌ）の水（０．２０ｍＬ）溶液を滴下し、０℃から５℃で１時間攪拌しジアゾ液を調製した。一方、２，５－ジフルオロフェノール（０．１０４ｇ、０．７８５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（０．１７４ｇ，２．１２ｍｍｏｌ）、および水（２．０ｍＬ）を混合して０℃から５℃に冷却し、先ほど調製したジアゾ液全量をかけて滴下し、０℃から５℃を維持したまま１日攪拌した。４０℃まで昇温後さらに３５時間撹拌した。析出した固体を濾別して化合物（１－６８－ｂ）を得た（０．１２２ｇ、収率６２％）。

化合物（１－６８）の合成
化合物（１－６８－ｂ）（０．１０９ｇ、０．３０８ｍｍｏｌ）、１－ヨード－２－メチルプロパン（０．１８２ｇ、０．９８７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．１７１ｇ、１．２１ｍｍｏｌ）、およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（３．０ｍＬ）を混合し、１００℃で２時間加熱撹拌した。反応溶液に１－ヨード２－メチルプロパン（０．２０ｍＬ、１．７４ｍｍｏｌ）を加え、さらに３０分間加熱撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、析出した固体を濾別した。得られた固体を、クロロホルムを移動相とした分取ＧＰＣにて精製し、さらにクロロホルム／メタノールからの再沈殿により精製し、化合物（１－６８）を得た（０．０２７５ｇ、収率１９％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝８．０５－７．９９（ｍ，４Ｈ），７．９７－７．９３（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｄｄ，１Ｈ），７．０４－７．００（ｍ，２Ｈ），３．８６（ｄ，２Ｈ），３．８３（ｄ，２Ｈ），２．２０（ｓｅｐｔ，１Ｈ），２．１４（ｓｅｐｔ，１Ｈ），１．０７（ｔ，１２Ｈ）．

下記化合物（２－１）および（２－２）を、特開２０１７－１９７６３０号公報に記載の化合物Ａ－１およびＢ－１の製造方法に準じて合成した。

合成例１１：化合物（２－８）の合成
化合物（２－８）を合成するために、化合物（２－８－ａ）を公知のジアゾカップリング法によって合成した。続いてシリル化して化合物（２－８）を得た。

化合物（２－８－ａ）（０．１３９ｇ、０．２９９ｍｍｏｌ）、イミダゾール（０．０６１ｇ、０．９０ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（５．０ｍＬ）に溶かし、０℃に冷却した後、クロロジメチルテキシルシラン（０．１１２ｇ、０．６２６ｍｍｏｌ）を加え、室温に戻し５時間撹拌した。反応容器に水を加え、析出した固体を濾別し、メタノールで洗浄した。得られた固体を、クロロホルムを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、化合物（２－８）を得た（０．１３０ｇ、収率７５％）。

^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝７．９５（ｄ、２Ｈ）、７．９１（ｓ、１Ｈ）、７．８０（ｄ、２Ｈ）、７．３３（ｄ、２Ｈ）、６．７５（ｄ、２Ｈ）、３．８４（ｔ、２Ｈ）、３．５２（ｑ、４Ｈ）、２．８８（ｔ、２Ｈ）、１．６３－１．５８（ｍ、１Ｈ）、１．２８（ｔ、６Ｈ）、０．８６（ｍ、６Ｈ）、０．８２（ｍ、６Ｈ）、０．０３（ｓ、６Ｈ）

実施例１：化合物（１－１）、化合物（２－１）および化合物（２－２）を含む組成物Ｅ１の調製
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、組成物Ｅ１を得た。
・重合性液晶化合物（Ａ－６） ７５質量部
・重合性液晶化合物（Ａ－７） ２５質量部
・化合物（１－１） ２．０質量部
・化合物（２－１） １．０質量部
・化合物（２－２） １．０質量部
・重合開始剤： ２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９；ＢＡＳＦジャパン社製）
６質量部
・レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２質量部
・溶剤：ｏ－キシレン ２５０質量部

重合性液晶化合物（Ａ－６）

重合性液晶化合物（Ａ－７）

なお、重合性液晶化合物（Ａ－６）は、Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996)に記載の方法で合成した。また、この方法に準拠して、重合性液晶化合物（Ａ－７）を製造した。

＜実施例２から１０＞：組成物Ｅ２からＥ１０の調製
化合物（１－１）の代わりに、化合物（１－２）から（１－５）および（１－６４）から（１－６８）をそれぞれ用いたこと、ならびに実施例６および７において化合物（２－１）および化合物（２－２）の代わりに化合物（２－８）を２．０質量部用いたこと以外は実施例１と同様にして、実施例２から１０の組成物Ｅ２からＥ１０をそれぞれ得た。

＜比較例１および２＞：組成物Ｃ１およびＣ２の調製
化合物（１－１）の代わりに、下式で表される化合物（３－１）または（３－２）をそれぞれ用いたこと以外は実施例１と同様にして、比較例１および２の組成物Ｃ１およびＣ２をそれぞれ得た。なお、下記化合物（３－１）および（３－２）は、上記合成例に記載の方法に準じて合成した。

＜偏光板の製造＞
１．配向膜の形成
透明基材としてガラス基板を用いた。ガラス基板上に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２質量％水溶液（配向層形成用組成物）をスピンコート法により塗布し、乾燥後、厚さ１００ｎｍの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施すことにより配向膜を形成し、ガラス基板上に配向膜が形成された基材を得た。

２．偏光膜の形成
上記で得られた基材の配向膜上に、上記で得られた組成物をスピンコート法により塗布し、１２０℃のホットプレート上で３分間加熱乾燥した後、速やかに７０℃（降温時にスメクチック液晶相を示す温度）以下に冷却して、配向膜上に乾燥皮膜が形成された積層体を得た。

次いで、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用い、紫外線を、露光量２４００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）で乾燥皮膜に照射することにより、乾燥皮膜に含まれる重合性液晶化合物を、組成物の液晶状態を保持したまま重合させ、乾燥皮膜から偏光膜を形成して偏光板を得た。

＜評価＞
得られた偏光板について、以下のようにして二色比の測定を行った。偏光板の偏光膜の５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲における極大吸収波長（λmax）における透過軸方向の吸光度（Ａ１）及び吸収軸方向の吸光度（Ａ２）を、分光光度計（島津製作所株式会社製 ＵＶ－３１５０）に、偏光板を備えるフォルダーをセットした装置を用いて、ダブルビーム法で測定した。該フォルダーには、リファレンス側に光量を５０％カットするメッシュを設置した。測定された透過軸方向の吸光度（Ａ１）及び吸収軸方向の吸光度（Ａ２）の値から、比（Ａ２／Ａ１）を算出し、耐光試験前二色比（ＤＲ０）とした。

また、形成された偏光膜の表面に保護フィルム（４０μｍＴＡＣ（コニカミノルタ株式会社製「ＫＣ４ＵＹ」））を配置し、その上から下記条件で光を照射することによって耐光性を評価した。耐光性試験後の５７０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における極大吸収波長（λmax）における二色比を算出し、耐光試験後二色比（ＤＲ１）とした。さらに耐光試験後二色比（ＤＲ１）を対抗試験前二色比（ＤＲ０）で除して百分率を求めて二色比維持率（％）とした。結果を表１に示す。なお、二色比維持率が９５％を超える場合、偏光膜として良好と判断される。

耐光性試験における光の照射条件は以下の通りである。
使用機器：ＡＴＬＡＳ社製Ｃｉ４０００
使用光源：キセノンアークランプ
露光条件：１２０Ｗ／ｍ^２（３００ｎｍ－４００ｎｍ）
試験時間：２０時間
暴露量：８６４０ＫＪ／ｍ^２
温度：６５℃。

表１から、第１化合物および第２化合物を含む組成物を形成材料とする膜を備える偏光板は優れた二色比維持率を達成できることがわかる。

Claims (8)

1. 下記式（１）で表される第１化合物と、極大吸収波長を５５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の波長範囲に有し、下記式（２）で表される第２化合物と、重合性液晶化合物および液晶性の高分子化合物の少なくとも１種を含む液晶性化合物とを含む組成物。
   

   

   
   ［式（１）および（２）中、ｎおよびｍは、それぞれ独立に１または２を表す。
   Ｒ^１およびＲ^３は、それぞれ独立に置換基を表す。
   Ｒ^２およびＲ^４は、それぞれ独立に、アルキルアミノ基、アルコキシ基およびアルキルチオ基からなる群から選択される１つの基を表し、これらの基が有する水素原子は、重合性基に置換されていてもよい。
   Ｐは、単結合、または－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－および－Ｎ＝ＣＨ－からなる群から選ばれる少なくとも１つの基を表す。
   Ａｒ^１、Ａｒ^２およびＡｒ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を置換基として有していてもよい、１，４－フェニレン基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。
   Ａｒ^１およびＡｒ^２の少なくとも１つは、置換基としてフッ素原子を有する。ここでＡｒ^２がフッ素原子を有し、Ａｒ^２が２つ存在する場合、少なくとも一方のＡｒ^２がフッ素原子を有していればよい。
   Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メチル基およびメトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を置換基として有していてもよい、１，４－フェニレン基、ナフタレンジイル基または２価の含硫黄芳香族複素環基を表す。
   ｎが２である場合、２つのＡｒ^２およびＰは、それぞれ同一であってもよく、相異なっていてもよい。
   ｍが２である場合、２つのＡｒ^５は同一であってもよく、相異なっていてもよい。］
2. 前記式（２）中、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６の少なくとも１つは、２価の含硫黄芳香族複素環基を表す請求項１に記載の組成物。
3. 前記式（２）中、Ａｒ^４、Ａｒ^５およびＡｒ^６の少なくとも１つは、チエノ［２，３－ｄ］チアゾール－２，５－ジイル基を表す請求項１または２に記載の組成物。
4. 前記式（１）中、Ｐが、単結合、または－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－および－Ｎ＝Ｎ－からなる群から選ばれる少なくとも１つの基を表す請求項１から３のいずれか１項に記載の組成物。
5. 前記液晶性化合物が、スメクチック液晶性化合物である請求項１から４のいずれか１項に記載の組成物。
6. 請求項１から５のいずれか１項に記載の組成物を形成材料とする膜。
7. 請求項６に記載の膜を備える積層体。
8. 請求項７に記載の積層体を備える表示装置。