JP2022100112A - ビニル系重合体の製造方法 - Google Patents
ビニル系重合体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022100112A JP2022100112A JP2020214276A JP2020214276A JP2022100112A JP 2022100112 A JP2022100112 A JP 2022100112A JP 2020214276 A JP2020214276 A JP 2020214276A JP 2020214276 A JP2020214276 A JP 2020214276A JP 2022100112 A JP2022100112 A JP 2022100112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymerization
- reactor
- meth
- monomer
- vinyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 76
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 220
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 121
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 78
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 111
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 50
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 42
- -1 nitroxy radical Chemical class 0.000 description 111
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 description 57
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 30
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 239000012987 RAFT agent Substances 0.000 description 14
- AISZNMCRXZWVAT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfanylcarbothioylsulfanyl-2-methylpropanenitrile Chemical compound CCSC(=S)SC(C)(C)C#N AISZNMCRXZWVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- FOPRTYVWUFOIFE-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC([SiH](OC)OC)C FOPRTYVWUFOIFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 5
- HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L trithiocarbonate Chemical compound [S-]C([S-])=S HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 4
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- LAKYXBYUROTWBI-UHFFFAOYSA-N bis(benzylsulfanyl)methanethione Chemical compound C=1C=CC=CC=1CSC(=S)SCC1=CC=CC=C1 LAKYXBYUROTWBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SFLRURCEBYIKSS-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2-[[1-(butylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound CCCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCCC SFLRURCEBYIKSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000012989 trithiocarbonate Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-hydroxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical class C1=CC(O)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O BLLFPKZTBLMEFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 2
- YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=C)=C1 YNGIFMKMDRDNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101710141544 Allatotropin-related peptide Proteins 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108091007065 BIRCs Proteins 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000012711 chain transfer polymerization Methods 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- XZHNPVKXBNDGJD-UHFFFAOYSA-N tetradecyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C XZHNPVKXBNDGJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triethoxyethane Chemical compound CCOC(C)(OCC)OCC NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxyethane Chemical compound COC(C)(OC)OC HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIYKOUEZOEMMC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylpropyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)CN1C(=O)C=CC1=O NBIYKOUEZOEMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISGBKWSEHGAUNF-UHFFFAOYSA-N 1-(4-acetylphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical class C1=CC(C(=O)C)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O ISGBKWSEHGAUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FECSFBYOMHWJQG-UHFFFAOYSA-N 1-(4-bromophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FECSFBYOMHWJQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O FPZQYYXSOJSITC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAHCEMQKWSQGLQ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methoxyphenyl)pyrrole-2,5-dione Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1N1C(=O)C=CC1=O XAHCEMQKWSQGLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(C=C)=C1 BOVQCIDBZXNFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEAIIFHWFHOYMQ-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopentylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCC1 YEAIIFHWFHOYMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O SJLLJZNSZJHXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=C VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=CC(C=C)=C1 PECUPOXPPBBFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTMSSJKVUVVWNJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(2-methylpropyl)benzene Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C=C)C=C1 VTMSSJKVUVVWNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COEKMFUFXAWJGI-UHFFFAOYSA-N 1-heptylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O COEKMFUFXAWJGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPVUBVZRPURIU-UHFFFAOYSA-N 1-hexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCN1C(=O)C=CC1=O FBPVUBVZRPURIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEOXIOXMKNFLQ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-prop-2-enylbenzene Chemical group CC1=CC=C(CC=C)C=C1 WAEOXIOXMKNFLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLZCMFSCBLOLX-UHFFFAOYSA-N 1-octadecylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O HOLZCMFSCBLOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIKBJYQCJJXCBZ-UHFFFAOYSA-N 1-octylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCN1C(=O)C=CC1=O KIKBJYQCJJXCBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)N1C(=O)C=CC1=O NQDOCLXQTQYUDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEKDUBMGZZTUDY-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC(C)(C)N1C(=O)C=CC1=O YEKDUBMGZZTUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)C#N COXCGWKSEPPDAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 2-chlorostyrene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=C ISRGONDNXBCDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQQHXAJNRXJAFR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl 4-[[4-(2-hydroxyethoxycarbonyl)phenyl]methylsulfanylcarbothioylsulfanylmethyl]benzoate Chemical compound OCCOC(=O)c1ccc(CSC(=S)SCc2ccc(cc2)C(=O)OCCO)cc1 XQQHXAJNRXJAFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LYPGJGCIPQYQBW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-[[2-methyl-1-oxo-1-(prop-2-enylamino)propan-2-yl]diazenyl]-n-prop-2-enylpropanamide Chemical compound C=CCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCC=C LYPGJGCIPQYQBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1O WUQYBSRMWWRFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMICBDHJGYAFMU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxypropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC=C JMICBDHJGYAFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWXZFDWVWMQRQR-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=C)=C1 VWXZFDWVWMQRQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)CCOC(=O)C=C JRCGLALFKDKSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYJMWXCIKQYBBY-UHFFFAOYSA-N 3-pentylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CCCCCC1=CC(=O)NC1=O KYJMWXCIKQYBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REWLXMVGEZMKSG-UHFFFAOYSA-N 3-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(O)=C1 REWLXMVGEZMKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 IRQWEODKXLDORP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000723347 Cinnamomum Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012988 Dithioester Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N [(e)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound C\C=C\C1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 235000017803 cinnamon Nutrition 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004807 desolvation Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N diisononyl phthalate Chemical class CC(C)CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC(C)C HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RSJPMZRDOGFQEH-UHFFFAOYSA-N dodecylsulfanyl-[[4-(dodecylsulfanylcarbothioylsulfanylmethyl)phenyl]methylsulfanyl]methanethione Chemical compound CCCCCCCCCCCCSC(=S)SCC1=CC=C(CSC(=S)SCCCCCCCCCCCC)C=C1 RSJPMZRDOGFQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZJDNTSGQAOAXNR-UHFFFAOYSA-N n-ethenyl-2-methylpropanamide Chemical compound CC(C)C(=O)NC=C ZJDNTSGQAOAXNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N n-ethenylformamide Chemical compound C=CNC=O ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N o-Vinylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=C SFBTTWXNCQVIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-M pivalate Chemical compound CC(C)(C)C([O-])=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
【課題】リビングラジカル重合反応における反応溶液の温度上昇を抑制でき、安定してビニル系重合体を製造できるビニル系重合体の製造方法を提供すること。【解決手段】リビングラジカル重合によりビニル系重合体を製造する方法であって、反応器内に単量体及び重合溶媒を入れ、重合溶媒中において単量体を重合する重合工程を含み、重合工程の少なくとも一部の期間に、重合溶媒が沸騰している状態において、当該重合工程における重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を反応器内に連続的に供給しながら重合を行う。【選択図】なし
Description
本発明は、ビニル系重合体の製造方法に関し、特に、リビングラジカル重合によりビニル系重合体を製造する技術に関する。
リビング重合と呼ばれる精密重合法は、分子量分布が狭いポリマーを製造でき、また末端官能基化ポリマーやブロック共重合体を容易に製造できることから注目を集めている。中でも、リビングラジカル重合は、ラジカル重合の高い汎用性から利用価値が大きく、工業的に多く利用されている。リビングラジカル重合法としては、可逆的付加-開裂連鎖移動重合法(RAFT法)、ニトロキシラジカル法(NMP法)、原子移動ラジカル重合法(ATRP法)、有機テルル化合物を用いる重合法(TERP法)、有機アンチモン化合物を用いる重合法(SBRP法)、有機ビスマス化合物を用いる重合法(BIRP法)及びヨウ素移動重合法等の各種重合方法が知られている。
工業用途、例えば、塗料や粘着剤、接着剤、シーリング材等の分野においては、リビングラジカル重合により得られたビニル系ブロック共重合体を含む樹脂組成物が開発されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1には、有機テルル化合物を重合開始剤として用い、リビングラジカル重合により単量体を共重合することによって粘着テープ用のブロック共重合体を製造することが開示されている。
リビングラジカル重合では、リビング性を高めるため、重合制御剤に対する開始剤の量をできるだけ少なくしたり、溶媒への連鎖移動を防ぐために重合溶媒の量を減らしたりすることが重要である。その一方で、重合溶媒の量を減らしてモノマー濃度を高めると、重合反応における反応熱(以下、「重合熱」ともいう。)による発熱が大きくなり、除熱の必要性が生じ得る。重合熱は、ラボスケールでは特段問題になることは少ない一方、例えば400L以上の大きな生産スケールになると除熱が困難になりやすい。除熱が十分に行われない場合、重合中に反応溶液の温度が上昇することによって重合体を安定に製造できないことが懸念される。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、リビングラジカル重合反応における反応溶液の温度上昇を抑制でき、安定してビニル系重合体を製造できるビニル系重合体の製造方法を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討し、重合反応に使用する単量体の少なくとも一部を反応器内に連続的に供給することによって、初期反応溶液の大気圧下における沸点を下げることに着目し、この着目点に基づき、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明によれば以下の手段が提供される。
〔1〕 リビングラジカル重合によりビニル系重合体を製造する方法であって、反応器内に単量体及び重合溶媒を入れ、前記重合溶媒中において前記単量体を重合する重合工程を含み、前記重合工程の少なくとも一部の期間に、前記重合溶媒が沸騰している状態において、前記重合工程における重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を前記反応器内に連続的に供給しながら重合を行う、ビニル系重合体の製造方法。
〔2〕 前記重合工程では、前記単量体を前記反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、前記反応器内の圧力を大気圧よりも低い圧力にして重合を行う、上記〔1〕のビニル系重合体の製造方法。
〔3〕 前記重合工程では、前記単量体を前記反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、前記反応器内の圧力を20kPa以上70kPa以下の圧力にして重合を行う、上記〔2〕のビニル系重合体の製造方法。
〔4〕 前記重合溶媒は、前記単量体の沸点よりも低い沸点を有する、上記〔1〕~〔3〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔5〕 前記重合溶媒は、大気圧における沸点が50℃以上100℃以下である、上記〔1〕~〔4〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔6〕 前記重合工程では、前記重合溶媒を還流させる、上記〔1〕~〔5〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔7〕 前記単量体は、(メタ)アクリル系単量体を含む、上記〔1〕~〔6〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔3〕 前記重合工程では、前記単量体を前記反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、前記反応器内の圧力を20kPa以上70kPa以下の圧力にして重合を行う、上記〔2〕のビニル系重合体の製造方法。
〔4〕 前記重合溶媒は、前記単量体の沸点よりも低い沸点を有する、上記〔1〕~〔3〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔5〕 前記重合溶媒は、大気圧における沸点が50℃以上100℃以下である、上記〔1〕~〔4〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔6〕 前記重合工程では、前記重合溶媒を還流させる、上記〔1〕~〔5〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
〔7〕 前記単量体は、(メタ)アクリル系単量体を含む、上記〔1〕~〔6〕のいずれかのビニル系重合体の製造方法。
本発明によれば、リビングラジカル重合反応における反応溶液の温度上昇を抑制でき、その結果、安定してビニル系重合体を製造することができる。
以下、本発明について詳しく説明する。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。
本発明のビニル系重合体の製造方法(以下、「本製造方法」ともいう。)は、リビングラジカル重合によりビニル系重合体を製造する方法に関するものである。本製造方法は、反応器内に単量体及び重合溶媒を入れ、重合溶媒中において単量体を重合する重合工程を含む。この重合工程では、少なくとも一部の期間において、反応器内の重合溶媒が沸騰している状態で、当該重合工程における重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を反応器内に連続的に供給しながら重合を行う。
<重合工程>
本製造方法の重合工程(以下、「本工程」ともいう。)において、リビングラジカル重合法としては公知の重合法を採用することができる。本工程におけるリビングラジカル重合法の具体例としては、交換連鎖機構のリビングラジカル重合法、結合-解離機構のリビングラジカル重合法、原子移動機構のリビングラジカル重合法等が挙げられる。
本製造方法の重合工程(以下、「本工程」ともいう。)において、リビングラジカル重合法としては公知の重合法を採用することができる。本工程におけるリビングラジカル重合法の具体例としては、交換連鎖機構のリビングラジカル重合法、結合-解離機構のリビングラジカル重合法、原子移動機構のリビングラジカル重合法等が挙げられる。
これらの具体例としては、交換連鎖機構のリビングラジカル重合法として、可逆的付加-開裂連鎖移動重合法(RAFT法)、ヨウ素移動重合法、有機テルル化合物を用いる重合法(TERP法)、有機アンチモン化合物を用いる重合法(SBRP法)、有機ビスマス化合物を用いる重合法(BIRP法)等を;結合-解離機構のリビングラジカル重合法として、ニトロキシラジカル法(NMP法)等を;原子移動機構のリビングラジカル重合法として、原子移動ラジカル重合法(ATRP法)等を、それぞれ挙げることができる。これらの中でも、最も広範囲なビニル系単量体に適用でき、かつ重合の制御性に優れている点で、交換連鎖機構のリビングラジカル重合法が好ましく、実施の簡便さの観点から、RAFT法によることが特に好ましい。
RAFT法では、重合制御剤(RAFT剤)及びラジカル重合開始剤の存在下、可逆的な連鎖移動反応を介して重合が進行する。RAFT剤としては、ジチオエステル化合物、ザンテート化合物、トリチオカーボネート化合物、及びジチオカーバメート化合物等、公知の各種RAFT剤を使用することができる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステルの重合制御性に優れる点において、トリチオカーボネート化合物を好ましく使用でき、その具体例としては、S,S-ジベンジルトリチオカーボネート、ビス[4-(2,3―ジヒドロキシプロポキシカルボニル)ベンジル]トリチオカーボネート、ビス[4-(2―ヒドロキシエトキシカルボニル)ベンジル]トリチオカーボネート、及び1,4-ビス(n-ドデシルスルファニルチオカルボニルスルファニルメチル)ベンゼン等が挙げられる。RAFT剤の使用量は、用いる単量体及びRAFT剤の種類等に応じて適宜調整される。
RAFT法による重合において、ラジカル重合開始剤としては、アゾ化合物、有機過酸化物及び過硫酸塩等の公知のラジカル重合開始剤を使用することができる。これらの中でも、安全上取り扱いやすく、ラジカル重合時の副反応が起こりにくい点で、アゾ化合物が好ましい。アゾ化合物の具体例としては、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル-2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオネート)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1’-アゾビス(シクロヘキサン-1-カルボニトリル)、2,2’-アゾビス[N-(2-プロペニル)-2-メチルプロピオンアミド]、2,2’-アゾビス(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)等が挙げられる。ラジカル重合開始剤としては、1種類のみ使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
ラジカル重合開始剤の使用量は、特に制限されないが、分子量分布がより狭い重合体を得る観点から、RAFT剤1molに対して、0.5mol以下とすることが好ましく、0.4mol以下とすることがより好ましい。また、重合反応を安定に行う観点から、ラジカル重合開始剤の使用量の下限については、RAFT剤1molに対して、0.01mol以上とすることが好ましく、0.05mol以上とすることがより好ましい。RAFT剤1molに対するラジカル重合開始剤の使用量は、0.01~0.5molが好ましく、0.05~0.4molがより好ましい。
なお、RAFT法による場合、重合反応は、必要に応じて、例えば炭素数2~20のアルキルチオール化合物等の連鎖移動剤の存在下で実施してもよい。また、必要に応じて、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル等の脱水剤を反応系に混入させてもよい。
本工程における重合に使用する単量体は特に限定されず、種々のビニル系単量体を使用することができる。重合に使用する単量体は、リビングラジカル重合法によりビニル系重合体を比較的簡便に製造できる点、及び単量体の選択の自由度が高い点で、(メタ)アクリル系単量体を含むことが好ましい。
上記重合に際し、(メタ)アクリル系単量体としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物、(メタ)アクリル酸の脂肪族環式エステル化合物、(メタ)アクリル酸の芳香族エステル化合物、及び下記式(1)で表される化合物よりなる群から選択される少なくとも1種を好ましく使用することができる。
CH2=CR1-C(=O)O-(R2O)n-R3 …(1)
(式(1)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し、R3は水素原子、炭素数1~20のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基を表す。nは1~100の整数を表す。)
CH2=CR1-C(=O)O-(R2O)n-R3 …(1)
(式(1)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数2~6の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を表し、R3は水素原子、炭素数1~20のアルキル基又は炭素数6~20のアリール基を表す。nは1~100の整数を表す。)
・(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物
(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸n-ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸イコシル等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸n-ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸イコシル等が挙げられる。
本製造方法により得られるビニル系重合体の流動性を考慮した場合、(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物としては、これらのうち、アルキルエステル部分(-COOR)におけるアルキル基(R)の炭素数が1~20である(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物を好ましく使用することができる。本重合体を構成する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物は、炭素数2~20のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物がより好ましく、炭素数2~18のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物が更に好ましく、炭素数4~18のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物を含むことがより更に好ましい。
・(メタ)アクリル酸の脂肪族環式エステル化合物
(メタ)アクリル酸の脂肪族環式エステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸tert-ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロドデシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル及び(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の脂肪族環式エステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸tert-ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロドデシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸アダマンチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル及び(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル等が挙げられる。
・(メタ)アクリル酸の芳香族エステル化合物
(メタ)アクリル酸の芳香族エステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシメチル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシエチル及び(メタ)アクリル酸3-フェノキシプロピル等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の芳香族エステル化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシメチル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシエチル及び(メタ)アクリル酸3-フェノキシプロピル等が挙げられる。
・式(1)で表される化合物
上記式(1)で表される化合物について、上記式(1)中のnが1である場合、上記式(1)で表される化合物は、オキシエチレン鎖、オキシプロピレン鎖及びオキシブチレン鎖等のオキシアルキレン構造を有する。上記式(1)中のnが1である化合物(すなわち、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル化合物)の具体例としては、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシエチル、(メタ)アクリル酸n-ブトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸エトキシプロピル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブトキシプロピル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリル酸エトキシブチル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシブチル及び(メタ)アクリル酸n-ブトキシブチル等が挙げられる。
上記式(1)で表される化合物について、上記式(1)中のnが1である場合、上記式(1)で表される化合物は、オキシエチレン鎖、オキシプロピレン鎖及びオキシブチレン鎖等のオキシアルキレン構造を有する。上記式(1)中のnが1である化合物(すなわち、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル化合物)の具体例としては、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシエチル、(メタ)アクリル酸n-ブトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸エトキシプロピル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブトキシプロピル、(メタ)アクリル酸メトキシブチル、(メタ)アクリル酸エトキシブチル、(メタ)アクリル酸n-プロポキシブチル及び(メタ)アクリル酸n-ブトキシブチル等が挙げられる。
上記式(1)中のnが2以上である場合、上記式(1)で表される化合物は、ポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖及びポリオキシブチレン鎖等のポリオキシアルキレン構造を有する。なお、nが2以上である場合、上記式(1)中の2個以上のR2は、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。したがって、上記式(1)中のnが2以上である化合物は、ポリオキシエチレン/ポリオキシプロピレンからなるブロック構造のように、1分子中に異なる種類のポリオキシアルキレン構造を有していてもよい。
上記式(1)中のnが2以上である化合物の具体例としては、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、ポリオキシプロピレン(メタ)アクリレート、ポリオキシブチレン(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレン(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、及びフェノキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
例えば、本製造方法により流動性の高いビニル系重合体を製造する場合、使用する(メタ)アクリル系単量体は、中でも、(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物が好ましく、炭素数2~18のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物を含むことがより好ましく、炭素数4~18のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物を含むことが更に好ましい。また、本重合体を構成する(メタ)アクリル系単量体は、アクリル系単量体を少なくとも含むことが好ましく、機械的強度及び流動性に優れた重合体とすることができる点で、アクリル酸アルキルエステル化合物を含むことがより好ましい。
(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合物の使用量は、本工程によりビニル系重合体を得るための重合に使用する単量体の全量に対して、40質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、60質量%以上であることが更に好ましく、70質量%以上であることがより更に好ましく、80質量%以上であることが一層好ましく、90質量%以上であることがより一層好ましい。
本工程では、上述した(メタ)アクリル系単量体以外であって、かつこれらと共重合可能なビニル系単量体(以下、「他の単量体」ともいう。)を更に使用してもよい。他の単量体としては、例えば、スチレン系化合物、マレイミド化合物、アミド基含有ビニル化合物、及び架橋性官能基を有するビニル系単量体等を挙げることができる。なお、他の単量体は、これらのうちの1種でもよく2種以上でもよい。
・スチレン系化合物
スチレン系化合物の具体例としては、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、ビニルキシレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-エチルスチレン、p-n-ブチルスチレン、p-イソブチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メトキシスチレン、o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレン、p-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、o-ヒドロキシスチレン、p-イソプロペニルフェノール、m-イソプロペニルフェノール、o-イソプロペニルフェノール、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸、p-ビニル安息香酸、ジビニルベンゼン及びビニルナフタレン等が挙げられる。
スチレン系化合物の具体例としては、スチレン、α-メチルスチレン、β-メチルスチレン、ビニルキシレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-エチルスチレン、p-n-ブチルスチレン、p-イソブチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メトキシスチレン、o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレン、p-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン、o-ヒドロキシスチレン、p-イソプロペニルフェノール、m-イソプロペニルフェノール、o-イソプロペニルフェノール、o-ビニル安息香酸、m-ビニル安息香酸、p-ビニル安息香酸、ジビニルベンゼン及びビニルナフタレン等が挙げられる。
スチレン系化合物の使用量は、本工程の重合反応に使用される単量体の全量に対して、例えば30質量%以下であり、好ましくは20質量%以下であり、より好ましくは10質量%以下であり、更に好ましくは5質量%以下である。
・マレイミド化合物
マレイミド化合物の具体例としては、マレイミド及びN-置換マレイミド化合物が挙げられる。N-置換マレイミド化合物としては、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-n-プロピルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-n-ブチルマレイミド、N-イソブチルマレイミド、N-tert-ブチルマレイミド、N-ペンチルマレイミド、N-ヘキシルマレイミド、N-ヘプチルマレイミド、N-オクチルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、及びN-ステアリルマレイミド等のN-アルキル置換マレイミド化合物;N-シクロペンチルマレイミド、及びN-シクロヘキシルマレイミド等のN-シクロアルキル置換マレイミド化合物;N-フェニルマレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド、N-(4-アセチルフェニル)マレイミド、N-(4-メトキシフェニル)マレイミド、N-(4-エトキシフェニル)マレイミド、N-(4-クロロフェニル)マレイミド、N-(4-ブロモフェニル)マレイミド、及びN-ベンジルマレイミド等のN-アリール置換マレイミド化合物等が挙げられる。
マレイミド化合物の具体例としては、マレイミド及びN-置換マレイミド化合物が挙げられる。N-置換マレイミド化合物としては、N-メチルマレイミド、N-エチルマレイミド、N-n-プロピルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-n-ブチルマレイミド、N-イソブチルマレイミド、N-tert-ブチルマレイミド、N-ペンチルマレイミド、N-ヘキシルマレイミド、N-ヘプチルマレイミド、N-オクチルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、及びN-ステアリルマレイミド等のN-アルキル置換マレイミド化合物;N-シクロペンチルマレイミド、及びN-シクロヘキシルマレイミド等のN-シクロアルキル置換マレイミド化合物;N-フェニルマレイミド、N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド、N-(4-アセチルフェニル)マレイミド、N-(4-メトキシフェニル)マレイミド、N-(4-エトキシフェニル)マレイミド、N-(4-クロロフェニル)マレイミド、N-(4-ブロモフェニル)マレイミド、及びN-ベンジルマレイミド等のN-アリール置換マレイミド化合物等が挙げられる。
マレイミド化合物の使用量は、本工程の重合反応に使用される単量体の全量に対して、例えば30質量%以下であり、好ましくは20質量%以下であり、より好ましくは10質量%以下であり、更に好ましくは5質量%以下である。
・アミド基含有ビニル化合物
アミド基含有ビニル化合物の具体例としては、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド誘導体、及びN-ビニルアミド系単量体等が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリルアミド誘導体の具体例としては、tert-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。N-ビニルアミド系単量体の具体例としては、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルホルムアミド及びN-ビニルイソブチルアミド等が挙げられる。
アミド基含有ビニル化合物の具体例としては、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド誘導体、及びN-ビニルアミド系単量体等が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリルアミド誘導体の具体例としては、tert-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、及び(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。N-ビニルアミド系単量体の具体例としては、N-ビニルアセトアミド、N-ビニルホルムアミド及びN-ビニルイソブチルアミド等が挙げられる。
アミド基含有ビニル化合物の使用量は、本工程の重合反応に使用される単量体の全量に対して、例えば20質量%以下であり、好ましくは10質量%以下であり、より好ましくは5質量%以下であり、更に好ましくは2質量%以下である。
・架橋性官能基を有するビニル系単量体
架橋性官能基としては、例えば、架橋性シリル基、シラノール基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、エポキシ基、オキサゾリン基、イソシアネート基、及び重合性不飽和基等が挙げられる。架橋性シリル基としては、例えば、アルコキシシリル基、ハロゲノシリル基等が挙げられる。これらのうち、反応性を制御しやすい点で、アルコキシシリル基が好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基等が挙げられる。
架橋性官能基としては、例えば、架橋性シリル基、シラノール基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、エポキシ基、オキサゾリン基、イソシアネート基、及び重合性不飽和基等が挙げられる。架橋性シリル基としては、例えば、アルコキシシリル基、ハロゲノシリル基等が挙げられる。これらのうち、反応性を制御しやすい点で、アルコキシシリル基が好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基等が挙げられる。
架橋性官能基を有するビニル系単量体としては、例えば、架橋性シリル基含有ビニル化合物、不飽和カルボン酸、不飽和酸無水物、ヒドロキシ基含有ビニル化合物、エポキシ基含有ビニル化合物、1級又は2級アミノ基含有ビニル化合物、オキサゾリン基含有ビニル化合物、及びイソシアネート基含有ビニル化合物等が挙げられる。
架橋性シリル基含有ビニル化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシランン等のビニルシラン類;(メタ)アクリル酸トリメトキシシリルプロピル、(メタ)アクリル酸トリエトキシシリルプロピル、(メタ)アクリル酸メチルジメトキシシリルプロピル、(メタ)アクリル酸ジメチルメトキシシリルプロピル等のアルコキシシリル基含有(メタ)アクリル酸エステル類;トリメトキシシリルプロピルビニルエーテル等のアルコキシシリル基含有ビニルエーテル類;トリメトキシシリルウンデカン酸ビニル等のアルコキシシリル基含有ビニルエステル類等を挙げることができる。架橋性シリル基含有ビニル化合物は、架橋性シリル基同士の脱水縮合により架橋構造を形成するため、重合体を製造する際の重合反応、及びその後の架橋反応を効率的に行うことができる点において好適である。
不飽和カルボン酸としては、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、シトラコン酸、桂皮酸、さらには、不飽和ジカルボン酸のモノアルキルエステル(マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等のモノアルキルエステル)等が挙げられる。不飽和酸無水物としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等が挙げられる。
ヒドロキシ基含有ビニル化合物としては、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、ポリアルキレングリコール(例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等)のモノ(メタ)アクリル酸エステル;o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン及びp-ヒドロキシスチレン等のスチレン系化合物;N-(4-ヒドロキシフェニル)マレイミド等のマレイミド化合物等が挙げられる。なお、上記式(1)で表される化合物のうちR3が水素原子である化合物は、架橋性官能基を有するビニル系単量体でもある。
エポキシ基含有ビニル化合物としては、(メタ)アクリル酸グリシジル、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
架橋性官能基を有するビニル系単量体としては、これらのうち、硬化物の破断伸び及び破断強度の観点から、架橋性シリル基含有ビニル化合物が好ましい。
架橋性官能基を有するビニル系単量体の使用量は、特に限定されるものではないが、機械的強度に優れたビニル系重合体を得る観点から、本工程の重合反応に使用される単量体の全量に対して、例えば0.01質量%以上とすることができ、好ましくは0.5質量%以上である。架橋性官能基を有するビニル系単量体の使用量の上限については、得られるビニル系重合体の柔軟性を確保する観点から、本工程の重合反応に使用される単量体の全量に対して、例えば40質量%以下であり、好ましくは30質量%以下である。
本製造方法により、重合体ブロック(A)及び重合体ブロック(B)を有するブロック共重合体を製造する場合、原料として、重合体ブロック(B)を構成する単量体と共に、重合体ブロック(A)を構成し、かつチオカルボニルチオ基を有する重合体(以下、「重合体(a)」ともいう。)を用いることができる。この場合、重合体(a)を、単官能のRAFT剤を用いて得られる重合体とすることにより、重合体ブロック(A)/重合体ブロック(B)からなる(A)-(B)ジブロック体を得ることができる。また、重合体(a)を、S,S-ジベンジルトリチオカーボネートのような二官能のRAFT剤を用いて得られる重合体とすることにより、重合体ブロック(A)/重合体ブロック(B)/重合体ブロック(A)からなる(A)-(B)-(A)トリブロック体を得ることができる。さらに、上記において、重合体(a)として2個以上の重合体ブロックを有するブロック共重合体を用いることにより、更に高次のブロック共重合体を得ることができる。
本工程における重合反応は、リビングラジカル重合において公知の重合溶媒を用いて、当該重合溶媒中にて行われる。重合溶媒としては種々の溶媒を使用でき、例えば、飽和炭化水素化合物、芳香族化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アルコール化合物、エーテル化合物、ニトリル化合物、水等が挙げられる。重合溶媒としては、単量体を溶解可能な溶媒を用いることが好ましい。なお、重合溶媒は、1種が単独で使用されてもよく、2種以上が組み合わされて使用されてもよい。
重合溶媒としては、これらのうち、大気圧における沸点が50℃以上100℃以下である溶媒を好ましく使用することができる。上記の温度範囲内に沸点を有する溶媒を用いることにより、重合溶媒が沸騰している状態下における単量体の重合(以下、「沸点重合」ともいう。)を行う際に反応温度を設定しやすい点、及び、重合後に脱溶剤を行う場合に脱溶剤の処理が比較的容易である点において好適である。
こうした重合溶媒の具体例としては、飽和炭化水素化合物として、ヘキサン(69℃)、ヘプタン(98℃)及びシクロヘキサン(81℃)等を;芳香族化合物として、ベンゼン(80℃)等を;エステル化合物として、酢酸メチル(57℃)、酢酸エチル(77℃)、ギ酸エチル(54℃)及びプロピオン酸メチル(99℃)等を;ケトン化合物として、アセトン(56℃)及びメチルエチルケトン(80℃)等を;アルコール化合物として、メタノール(65℃)、エタノール(78℃)及びイソプロパノール(80℃)等を;エーテル化合物として、テトラヒドロフラン(66℃)等を;ニトリル化合物として、アセトニトリル(82℃)等を挙げることができる。また、重合溶媒として水(100℃)を使用してもよい。なお、上記の各重合溶媒におけるカッコ内の温度は、大気圧における沸点をそれぞれ表す。重合溶媒としては、連鎖移動定数が小さい点からエステル化合物が好ましく、エステル化合物の中でも、入手が容易な点から酢酸エチルが特に好ましい。
重合溶媒の大気圧下における沸点は、55℃以上100℃以下がより好ましく、60℃以上が更に好ましく、65℃以上がより更に好ましい。また、当該沸点の上限については、99℃以下が更に好ましく、95℃以下がより更に好ましい。
また、重合溶媒としては、本工程における重合に使用する単量体の沸点よりも低い沸点を有する溶媒を使用することが好ましい。こうした態様によれば、反応溶液の沸点をできるだけ低くしつつ、重合溶媒を沸騰させた状態において重合を行うことができる。なお、2種以上の単量体を使用する場合、重合に使用する単量体の全量に対して占める割合が最も大きい単量体の沸点と、重合溶媒の沸点とを比較する。また、2種以上の重合溶媒を使用する場合、重合に使用する重合溶媒の全量に対して占める割合が最も大きい重合溶媒の沸点と、単量体の沸点とを比較する。重合に使用する単量体の全量に対して占める割合が最も大きい単量体として複数種の単量体が存在する場合、それら複数種の単量体の各々の沸点よりも重合溶媒の沸点の方が低いことが好ましい。重合溶媒についても同様である。
重合溶媒の使用量は、重合反応に使用する単量体の合計量100質量部に対して、5~200質量部となる量が好ましく、10~100質量部となる量がより好ましい。重合溶媒の使用量を100質量部以下とすると、重合溶媒への連鎖移動を十分抑制でき、短時間で高い重合率とすることができる点で好ましい。また、重合溶媒の使用量を10質量部以上とすると、重合熱を効率的に除去でき、反応温度の上昇を抑制できる点で好ましい。
本工程では、単量体等の原料及び重合溶媒のほか、ラジカル重合開始剤、重合制御剤等を反応器内に投入し、重合溶媒中において重合反応を実施する。単量体を反応器内に投入する際には、重合に使用する単量体全部を反応器内に一括して仕込むのではなく、重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を、重合開始後において反応器内に連続的に供給する。
単量体を反応器内に連続的に供給する態様は、重合工程中の少なくとも一部の期間において単量体を反応器内に連続的に供給すればよく、特に限定されない。例えば、本工程における重合に使用する単量体の全量のうち一部を重合開始前に反応器内に仕込み、残りの単量体を重合開始後に連続的に反応器内に供給する方法を採用してもよい。また、本工程における重合に使用する単量体の全量のうち一部を重合開始前に反応器内に仕込み、残りの単量体のうち一部を重合開始後に連続的に反応器内に供給し、その後、更に残りの単量体を反応器内に一括して供給する方法を採用してもよい。あるいは、重合に使用する単量体の全部を反応器内に連続的に供給しながら重合を行う方法を採用してもよい。
初期反応溶液の沸点を十分に下げ、反応溶液の温度上昇を効果的に抑制する観点から、重合工程の前半を含む期間において単量体を連続的に供給することが好ましい。また、単量体の連続的な供給の開始は重合工程の初期とすることが好ましい。具体的には、重合開始から2時間以内に単量体の連続的な供給を開始することが好ましく、1時間以内に開始することがより好ましい。ここで、重合開始は、沸点重合の場合、反応器内の反応溶液が沸騰を開始した時点をいう。
なお、単量体を反応器内に連続的に供給している間は、ポリマーを生長させて分子量分布が狭いビニル系重合体を得るため、重合終了まで反応器から生成物を抜き出さずに重合を行うことが好ましい。反応器内に単量体を連続的に供給する方法は特に限定されず、例えば、反応器内に単量体を滴下する方法等の公知の方法により行うことができる。
単量体を反応器内に連続的に供給する際の供給速度は特に限定されず、反応器の容積、重合溶媒の使用量等に応じて適宜設定することができる。また、反応器内に単量体を連続的に供給している時間についても特に限定されない。反応溶液の沸点の上昇を抑制し、重合熱の除去を効率的に行う観点から、反応器内に単量体を連続的に供給している時間は、重合開始から重合終了までに要する時間を1とした場合に、例えば0.2以上とすることができ、0.3~0.95とすることが好ましい。
単量体を反応器内に投入する方法の好ましい一態様としては、重合に使用する単量体の全量のうち一部を重合開始前に反応器内に仕込み、残りの単量体を重合開始後に連続的に反応器内に供給する態様が挙げられる。この場合、重合に使用する単量体の全量に対する、反応器内に連続的に供給する単量体の割合は、10質量%以上とすることが好ましい。当該割合を10質量%以上とすることにより、重合初期における反応溶液の沸点を十分に低下させることができ、安定して重合を行うことができる点で好適である。反応器内に連続的に供給する単量体の割合は、重合に使用する単量体の全量に対して、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上が更に好ましく、40質量%以上がより更に好ましく、50質量%以上が一層好ましい。
単量体を反応器内に連続的に供給している期間では、その少なくとも一部の期間において、反応器内の重合溶媒が沸騰している状態となるように反応器内の圧力を制御することが好ましい。具体的には、単量体を反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、反応器内の圧力を大気圧よりも低い圧力に制御することが好ましく、反応器内の圧力を20kPa以上70kPa以下の圧力に制御することがより好ましい。反応器内の圧力を上記範囲内に制御することにより、反応溶液の沸点を下げつつ、重合溶媒が沸騰している状態における重合を継続することができる。これにより、重合熱の発生を抑制でき、重合を安定して継続することができる。反応器内の重合溶媒が沸騰している状態で重合を行っている間は、反応器内の重合溶媒の減少を抑制するために、例えばコンデンサ(凝集器)を用いて、重合溶媒を還流させることが好ましい。
また、本発明者らの検討によれば、反応器内の圧力が低くなると、コンデンサ(凝縮器)において重合溶媒が凝縮する温度が低くなり、重合溶媒をコンデンサによっては十分に回収しきれず、反応器内の溶媒量が減少する傾向があることが分かった。この点、本工程では、重合に使用する単量体のうち少なくとも一部を反応器内に連続的に供給しながら重合を行うため、大気圧における初期反応溶液の沸点を下げることができる。このため、目的の反応温度において重合溶媒が沸騰している状態にするために反応器内の減圧度を比較的低く設定でき、コンデンサによって重合溶媒を十分に回収することが可能となる。これにより、反応器内の溶媒量の減少を抑制でき、重合熱を効率的に除去できる点で好適である。
上記の観点から、重合反応中における反応器内の圧力は、25kPa以上が好ましく、30kPa以上がより好ましく、35kPa以上が更に好ましい。また、重合反応中における反応容器内の圧力の上限については、65kPa以下が好ましく、60kPa以下がより好ましい。また、反応器内の好ましい圧力範囲は、上述した下限及び上限を適宜組み合わせることによって適宜設定することができる。すなわち、反応器内の圧力範囲は、20kPa以上65kPa以下が好ましく、25kPa以上65kPa以下がより好ましく、30kPa以上60kPa以下が更に好ましい。
なお、重合反応中に反応器内を減圧する期間は、単量体を反応器内に連続供給している期間の少なくとも一部であればよい。すなわち、単量体を反応器内に連続供給している全期間において、反応器内を減圧した状態にして重合を行ってもよく、あるいは、単量体を反応器内に連続供給している全期間のうち一部の期間において、反応器内を減圧した状態にして重合を行い、残りの期間については大気圧下で重合を行ってもよい。また、重合反応中は、反応器のジャケット温度(外温)を調整して、反応器の内外における温度差を利用して除熱を促進させるようにしてもよい。
重合反応における反応温度及び反応時間は、採用するリビングラジカル重合法の種類、並びに使用する単量体及び重合溶媒の種類等に応じて適宜設定され得る。例えばRAFT法による場合、反応温度は、好ましくは40℃以上100℃以下であり、より好ましくは45℃以上90℃以下であり、更に好ましくは50℃以上80℃以下である。反応温度が40℃以上であると、重合反応を円滑に進めることができる点で好ましく、反応温度が100℃以下であると、副反応を抑制できるとともに、使用できる開始剤や重合溶媒に関する制限が緩和される点で好ましい。また、反応時間は、例えば1時間以上48時間以下であり、2時間以上24時間以下とすることが好ましい。
上記重合により、ビニル系重合体を含む溶液が得られる。得られた重合体溶液に対し、公知の脱溶媒処理を行うことによりビニル系重合体を単離することができる。また、得られた重合体溶液をそのまま用いて、各種用途の重合体組成物を調製してもよく、あるいは必要に応じて各処理(例えば、以下の反応工程)を実施した後、各種用途の重合体組成物を調製してもよい。
<その他の工程>
本製造方法は、上記の重合工程以外のその他の工程を更に含んでいてもよい。その他の工程としては、例えば、上記重合工程により得られたビニル系重合体がRAFT剤に由来するチオカルボニルチオ基を有する場合に、当該ビニル系重合体と求核剤とを反応させる工程(以下、「反応工程」ともいう。)が挙げられる。この反応により、ビニル系重合体が有するチオカルボニルチオ基からチオール基が生成され、生成したチオール基と残存モノマーとが反応することにより、チオカルボニルチオ基が除去されたビニル系重合体を得ることができる。
本製造方法は、上記の重合工程以外のその他の工程を更に含んでいてもよい。その他の工程としては、例えば、上記重合工程により得られたビニル系重合体がRAFT剤に由来するチオカルボニルチオ基を有する場合に、当該ビニル系重合体と求核剤とを反応させる工程(以下、「反応工程」ともいう。)が挙げられる。この反応により、ビニル系重合体が有するチオカルボニルチオ基からチオール基が生成され、生成したチオール基と残存モノマーとが反応することにより、チオカルボニルチオ基が除去されたビニル系重合体を得ることができる。
求核剤としては、アンモニア類、1級及び/又は2級アミン化合物、アルカリ金属アルコキシド、水酸化物、及びチオール類等が挙げられる。これらのうち、反応性の点から、求核剤としては、1級及び/又は2級アミン化合物を好ましく使用することができる。
以上のとおり、本製造方法によれば、重合反応における反応溶液の温度上昇を効果的に抑制でき、安定してビニル系重合体を製造できる。したがって、大型のスケール(例えば、400L以上のスケール)によってビニル系重合体を製造する場合に特に適している。
本製造方法によれば、2個以上の重合体ブロックを有するブロック共重合体を、例えば400L以上の容積を有する大型の反応器を用いた場合にも安定して製造することができる。例えば、二官能のRAFT剤を用いてRAFT法により重合体ブロック(A)/重合体ブロック(B)/重合体ブロック(A)/重合体ブロック(B)/重合体ブロック(A)からなる(A)-(B)-(A)-(B)-(A)ペンタブロック体を製造する場合、以下に示す3段階の重合工程を含む方法によってビニル系重合体を製造することにより、効率的に目的物を得ることができる。
すなわち、まず第1重合工程として、重合体ブロック(A)を構成する単量体を用いて重合体ブロック(A)を得る。続いて第2重合工程として、重合体ブロック(B)を構成する単量体を重合し、重合体ブロック(A)/重合体ブロック(B)/重合体ブロック(A)からなる(A)-(B)-(A)トリブロック体を得る。さらに、第3重合工程として、重合体ブロック(A)を構成する単量体を重合し、重合体ブロック(A)-重合体ブロック(B)-重合体ブロック(A)-重合体ブロック(B)-重合体ブロック(A)からなる(A)-(B)-(A)-(B)-(A)ペンタブロック体を得る。このように3段階の重合工程によりビニル系重合体を製造する場合、上記第1重合工程~第3重合工程のうち少なくとも1つの重合工程に本製造方法を適用してもよいし、あるいは、第1重合工程~第3重合工程の全てに本製造方法を適用してもよい。また上記と同様の方法により、ビニル系重合体として、ペンタブロック体よりも更に高次のブロック共重合体を得ることもできる。
本製造方法により得られるビニル系重合体につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、例えば2,000~300,000の範囲である。ビニル系重合体のMnは、3,000~200,000であってもよく、4,000~150,000であってもよく、5,000~100,000であってもよい。
また、本製造方法によれば、GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比により表される分子量分布(Mw/Mn)が狭い重合体を得ることができる。具体的には、本製造方法により得られたビニル系重合体につき、分子量分布(Mw/Mn)は、例えば3.0以下であり、2.5以下であってもよく、2.2以下であってもよい。なお、リビングラジカル重合においては、リビング性を保つために、一般に、全ての原料を一括して反応器内に仕込んだ後に重合が開始される。これに対し、本製造方法によれば、重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を反応器内に連続的に供給しながら重合を行った場合にも、分子量分布(Mw/Mn)が2.0以下のビニル系重合体を得ることができる。
本製造方法により得られるビニル系重合体は、幅広い用途において使用することができる。具体的には、例えば、シーリング材、接着剤、粘着剤、塗料、分散剤、工業用ゴム、バインダー、コーティング剤、界面活性剤等の種々の用途に適用することができる。また、適用分野としては、土木建築用資材、包装用資材、自動車部品、家電・OA機器部品、医療用機器部品、電線、雑貨等が挙げられる。
以下、実施例に基づいて本開示を具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例により限定されるものではない。以下において「部」及び「%」は、特に断らない限り「質量部」及び「質量%」をそれぞれ意味する。製造例、実施例、参考例及び比較例で得られた重合体の分析方法の詳細は以下のとおりである。
<分子量測定>
得られた重合体について、以下に記載の条件にてゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定を行い、ポリスチレン換算による数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を得た。また、得られた値から分子量分布(Mw/Mn)を算出した。
○測定条件
カラム:東ソー製TSKgel SuperMultiporeHZ-M×4本
溶媒:テトラヒドロフラン
温度:40℃
検出器:RI
流速:600μL/min
得られた重合体について、以下に記載の条件にてゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定を行い、ポリスチレン換算による数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を得た。また、得られた値から分子量分布(Mw/Mn)を算出した。
○測定条件
カラム:東ソー製TSKgel SuperMultiporeHZ-M×4本
溶媒:テトラヒドロフラン
温度:40℃
検出器:RI
流速:600μL/min
1.重合体の製造
<製造例1>
撹拌翼、温度計、コンデンサを備えた100L反応器に、RAFT剤としてS,S-ジベンジルトリチオカーボネート(以下、「DBTTC」ともいう。)(2.0kg)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(85g)、アクリル酸n-ブチル(以下、「nBA」ともいう。)(17kg)、アクリル酸エチル(以下、「EA」ともいう。)(1.2kg)、アクリル酸テトラデシル(以下、「TDA」ともいう。)(4.7kg)、メチルジメトキシシリルプロピルメタクリレート(4.7kg)、酢酸エチル(24kg)、及びオルト酢酸トリメチル(以下、「MOA」ともいう。)(6.0kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、58℃に昇温して重合を開始した。重合は大気圧下で行った。2時間後、1時間かけて70℃まで昇温し、さらに4時間70℃で反応させた。その後、室温まで冷却し反応を停止した。得られた重合体aの分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定(ポリスチレン換算)より、Mn4,300、Mw6,000、Mw/Mn1.40であった。
<製造例1>
撹拌翼、温度計、コンデンサを備えた100L反応器に、RAFT剤としてS,S-ジベンジルトリチオカーボネート(以下、「DBTTC」ともいう。)(2.0kg)、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(85g)、アクリル酸n-ブチル(以下、「nBA」ともいう。)(17kg)、アクリル酸エチル(以下、「EA」ともいう。)(1.2kg)、アクリル酸テトラデシル(以下、「TDA」ともいう。)(4.7kg)、メチルジメトキシシリルプロピルメタクリレート(4.7kg)、酢酸エチル(24kg)、及びオルト酢酸トリメチル(以下、「MOA」ともいう。)(6.0kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、58℃に昇温して重合を開始した。重合は大気圧下で行った。2時間後、1時間かけて70℃まで昇温し、さらに4時間70℃で反応させた。その後、室温まで冷却し反応を停止した。得られた重合体aの分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定(ポリスチレン換算)より、Mn4,300、Mw6,000、Mw/Mn1.40であった。
<実施例1>
撹拌機、温度計、コンデンサ、モノマー混合槽を備え、容器内を減圧可能な400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(57kg)、EA(3.8kg)、TDA(15kg)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(以下、「ABN-E」ともいう。)(97g)、酢酸エチル(136kg)、及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、70℃に昇温を開始した。内温が60℃付近になったところで反応器内を43kPaに減圧した。内温が70℃付近になると還流が激しくなったことを確認した。内温が70℃になった時点を重合開始とし、外温を40℃に一定にした。減圧度を調整し、還流させることによって内温を70℃に一定にした。
また、反応器が備えるモノマー混合槽に、nBA(113kg)、EA(7.6kg)及びTDA(30kg)を撹拌混合することにより単量体混合物溶液を調製した。この調製した単量体混合物溶液を、重合開始から30分後、反応器へ4時間かけて連続供給した。重合開始から3時間後、減圧を解除し、大気圧に戻した。単量体混合物溶液の連続供給が終了した後、ABN-E(57g)及び酢酸エチル(1.0kg)の混合溶液を反応器に供給し、内温を30分かけて60℃にした。重合開始から8時間後、反応器内のトリブロック共重合体bを含む重合体溶液を室温まで冷却して反応を停止した。得られたトリブロック共重合体bの分子量はGPC測定(ポリスチレン換算)より、Mn70,200、Mw84,900、Mw/Mn1.21であった。
撹拌機、温度計、コンデンサ、モノマー混合槽を備え、容器内を減圧可能な400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(57kg)、EA(3.8kg)、TDA(15kg)、2,2’-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)(以下、「ABN-E」ともいう。)(97g)、酢酸エチル(136kg)、及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、70℃に昇温を開始した。内温が60℃付近になったところで反応器内を43kPaに減圧した。内温が70℃付近になると還流が激しくなったことを確認した。内温が70℃になった時点を重合開始とし、外温を40℃に一定にした。減圧度を調整し、還流させることによって内温を70℃に一定にした。
また、反応器が備えるモノマー混合槽に、nBA(113kg)、EA(7.6kg)及びTDA(30kg)を撹拌混合することにより単量体混合物溶液を調製した。この調製した単量体混合物溶液を、重合開始から30分後、反応器へ4時間かけて連続供給した。重合開始から3時間後、減圧を解除し、大気圧に戻した。単量体混合物溶液の連続供給が終了した後、ABN-E(57g)及び酢酸エチル(1.0kg)の混合溶液を反応器に供給し、内温を30分かけて60℃にした。重合開始から8時間後、反応器内のトリブロック共重合体bを含む重合体溶液を室温まで冷却して反応を停止した。得られたトリブロック共重合体bの分子量はGPC測定(ポリスチレン換算)より、Mn70,200、Mw84,900、Mw/Mn1.21であった。
<参考例1>
実施例1の重合により得られたトリブロック共重合体bを以下のように処理した。
実施例1で得られた、トリブロック共重合体bを含む重合体溶液に、メチルジメトキシシリルプロピルメタクリレート(2.1kg)、ABN-E(199g)及びMOA(316g)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、60℃に昇温することで重合を開始した。7時間後、室温まで冷却して反応を停止し、ペンタブロック共重合体cを含む溶液を得た。得られたペンタブロック共重合体cの分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定(ポリスチレン換算)より、Mn76,500、Mw98,100、Mw/Mn1.28であった。
ペンタブロック共重合体cは、nBA、EA、TDA及びメチルジメトキシシリルプロピルメタクリレートからなる重合体ブロック(A)、並びに、nBA、EA及びTDAからなる重合体ブロック(B)を有し、(A)-(B)-(A)-(B)-(A)のブロック構造を有するペンタブロック共重合体である。重合率から重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の組成比は(A)/(B)/(A)/(B)/(A)=2.4/43.7/7.8/43.7/2.4(wt%)であり、まとめると(A)/(B)≒13/87(wt%)であった。
実施例1の重合により得られたトリブロック共重合体bを以下のように処理した。
実施例1で得られた、トリブロック共重合体bを含む重合体溶液に、メチルジメトキシシリルプロピルメタクリレート(2.1kg)、ABN-E(199g)及びMOA(316g)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、60℃に昇温することで重合を開始した。7時間後、室温まで冷却して反応を停止し、ペンタブロック共重合体cを含む溶液を得た。得られたペンタブロック共重合体cの分子量はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定(ポリスチレン換算)より、Mn76,500、Mw98,100、Mw/Mn1.28であった。
ペンタブロック共重合体cは、nBA、EA、TDA及びメチルジメトキシシリルプロピルメタクリレートからなる重合体ブロック(A)、並びに、nBA、EA及びTDAからなる重合体ブロック(B)を有し、(A)-(B)-(A)-(B)-(A)のブロック構造を有するペンタブロック共重合体である。重合率から重合体ブロック(A)と重合体ブロック(B)の組成比は(A)/(B)/(A)/(B)/(A)=2.4/43.7/7.8/43.7/2.4(wt%)であり、まとめると(A)/(B)≒13/87(wt%)であった。
ペンタブロック共重合体cを含む溶液に対して、窒素バブリングで十分脱気した後、n-プロピルアミン(880g、ペンタブロック共重合体cのトリチオカーボネート基に対して5モル当量)を仕込み、40℃の恒温槽でトリチオカーボネート基の分解反応を開始した。5時間後、室温まで冷却して反応を停止し、トリブロック共重合体dを含む溶液を得た。得られた溶液を真空乾燥し、トリブロック共重合体dを回収した。
得られたトリブロック共重合体dは、nBA、EA、TDA及びメチルジメトキシシリルプロピルメタクリレートからなる重合体ブロック(A)、並びに、nBA、EA及びTDAからなる重合体ブロック(B)を有し、(A)-(B)-(A)のブロック構造を有するトリブロック共重合体である。1H-NMR測定から、ペンタブロック共重合体cで観測されたトリチオカーボネート基に隣接する炭素に結合する水素のピーク(4.8ppm)がトリブロック共重合体dでは消失し、残存アクリレート化合物とのマイケル付加による分子構造(下記式(3)で表される末端分子構造)に由来するピーク(3.3ppm、2.9ppm)が現れたことを確認した。この結果から、得られたトリブロック共重合体は、ペンタブロック共重合体cのトリチオカーボネート基がn-プロピルアミンによって分解されてできたチオールと、ブロック共重合体cに含まれる残存アクリレート化合物とのマイケル付加体であるといえる。トリブロック共重合体dの分子量は、Mn44,600、Mw59,500、Mw/Mn1.33であった。また、RAFT剤1個当たりのメチルジメトキシシリルプロピルメタクリレートの導入量から、重合体ブロック(A)が有する1分子当たりの架橋性官能基数を求めた結果、平均3.0個と算出された。
(式(3)中、Rはアルキル基を表す。)
<比較例1>
撹拌機、温度計、コンデンサを備え、容器内を減圧可能な400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(170kg)、EA(11kg)、TDA(45kg)、ABN-E(190g)、酢酸エチル(37kg)及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、60℃に昇温を開始した。反応器の内温が50℃付近になったところで反応器内を17kPaに減圧した。反応器の内温が60℃付近になると還流が激しくなったことを確認した。反応器の内温が60℃になった時点を重合開始とし、外温を40℃に一定にした。減圧度を調整し、内温を60℃に一定にしようとした。しかし、真空ラインの弁開度を全開にしても、設定した減圧度を維持できず、重合溶媒が減少して、反応器の内温は徐々に上昇した。反応器の内温が74℃となったところで、酸素濃度が5%の酸素/窒素混合ガスを吹込み、反応を停止した。
撹拌機、温度計、コンデンサを備え、容器内を減圧可能な400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(170kg)、EA(11kg)、TDA(45kg)、ABN-E(190g)、酢酸エチル(37kg)及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、60℃に昇温を開始した。反応器の内温が50℃付近になったところで反応器内を17kPaに減圧した。反応器の内温が60℃付近になると還流が激しくなったことを確認した。反応器の内温が60℃になった時点を重合開始とし、外温を40℃に一定にした。減圧度を調整し、内温を60℃に一定にしようとした。しかし、真空ラインの弁開度を全開にしても、設定した減圧度を維持できず、重合溶媒が減少して、反応器の内温は徐々に上昇した。反応器の内温が74℃となったところで、酸素濃度が5%の酸素/窒素混合ガスを吹込み、反応を停止した。
<比較例2>
撹拌機、温度計、コンデンサ、モノマー混合槽を備える400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(57kg)、EA(3.8kg)、TDA(15kg)、ABN-E(97g)、酢酸エチル(136kg)及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、70℃に昇温を開始した。内温が70℃になった時点を重合開始とし、外温を下げて内温を70℃に維持した。なお、重合は大気圧下で行った。
反応器が備えるモノマー混合槽に、nBA(113kg)、EA(7.6kg)及びTDA(30kg)を撹拌混合することにより単量体混合物溶液を調製し、この調製した単量体混合物溶液を重合開始から30分後、反応器へ4時間かけて連続供給しようと試みた。しかし、外温の調節が追い付かず、反応器の内温が徐々に上昇した。反応器の内温が78℃となったところで、酸素濃度が5%の酸素/窒素混合ガスを吹込み、反応を停止した。
撹拌機、温度計、コンデンサ、モノマー混合槽を備える400L反応器に、製造例1で得られた重合体a(26kg)、nBA(57kg)、EA(3.8kg)、TDA(15kg)、ABN-E(97g)、酢酸エチル(136kg)及びMOA(9.4kg)を仕込み、窒素バブリングで十分脱気し、70℃に昇温を開始した。内温が70℃になった時点を重合開始とし、外温を下げて内温を70℃に維持した。なお、重合は大気圧下で行った。
反応器が備えるモノマー混合槽に、nBA(113kg)、EA(7.6kg)及びTDA(30kg)を撹拌混合することにより単量体混合物溶液を調製し、この調製した単量体混合物溶液を重合開始から30分後、反応器へ4時間かけて連続供給しようと試みた。しかし、外温の調節が追い付かず、反応器の内温が徐々に上昇した。反応器の内温が78℃となったところで、酸素濃度が5%の酸素/窒素混合ガスを吹込み、反応を停止した。
2.結果
リビングラジカル重合によるトリブロック共重合体の製造において、実施例1では、減圧下かつ重合溶媒が沸騰している状態下における単量体の重合(減圧沸点重合)により、トリブロック共重合体を短時間で、かつ安定して製造できた。また、内外温差による反応器からの除熱と、重合溶媒(酢酸エチル)の蒸発における潜熱による除熱とを利用し、重合熱を効率的に除去することができた。これは、重合体a、nBA、EA及びTDAを重合してトリブロック共重合体bを製造する際に、単量体(nBA、EA及びTDA)のうちの一部を重合溶媒に対し連続滴下することによって初期の反応溶液の沸点が下がり、反応器内の圧力をさほど低下させなくても沸点重合を行うことができ、これによってコンデンサで重合溶媒(酢酸エチル)を効率良く回収でき、反応器内の重合溶媒の濃度を重合反応中に維持できたからであると考えられる。
リビングラジカル重合によるトリブロック共重合体の製造において、実施例1では、減圧下かつ重合溶媒が沸騰している状態下における単量体の重合(減圧沸点重合)により、トリブロック共重合体を短時間で、かつ安定して製造できた。また、内外温差による反応器からの除熱と、重合溶媒(酢酸エチル)の蒸発における潜熱による除熱とを利用し、重合熱を効率的に除去することができた。これは、重合体a、nBA、EA及びTDAを重合してトリブロック共重合体bを製造する際に、単量体(nBA、EA及びTDA)のうちの一部を重合溶媒に対し連続滴下することによって初期の反応溶液の沸点が下がり、反応器内の圧力をさほど低下させなくても沸点重合を行うことができ、これによってコンデンサで重合溶媒(酢酸エチル)を効率良く回収でき、反応器内の重合溶媒の濃度を重合反応中に維持できたからであると考えられる。
一方、比較例1では、重合体a、nBA、EA及びTDAを重合してトリブロック共重合体を製造する際に、単量体(nBA、EA及びTDA)の全量を最初に一括して反応器内に仕込んで減圧沸点重合を行ったが、反応器の内温を一定温度に維持できず、トリブロック共重合体を製造できなかった。これは、反応溶液の沸点が高く、沸点重合を行うために反応器内の圧力を20kPaより低くしたため、重合溶媒(酢酸エチル)をコンデンサで十分に回収しきれず、反応器内の重合溶媒の濃度が徐々に低くなり、反応溶液の沸点の上昇に伴って反応器の内温が上昇したことに起因するものと考えられる。
また、比較例2では、重合体a、nBA、EA及びTDAを重合してトリブロック共重合体を製造する際に、単量体(nBA、EA及びTDA)の一部を連続滴下することによって大気圧下で重合を行い、これによりトリブロック共重合体を製造しようと試みたが、重合初期の発熱が大きいため、内外温差による反応器からの除熱だけでは追い付かず、反応器の内温が上昇し、安定して重合できなかった。
Claims (7)
- リビングラジカル重合によりビニル系重合体を製造する方法であって、
反応器内に単量体及び重合溶媒を入れ、前記重合溶媒中において前記単量体を重合する重合工程を含み、
前記重合工程の少なくとも一部の期間に、前記重合溶媒が沸騰している状態において、前記重合工程における重合に使用する単量体の全量のうち少なくとも一部を前記反応器内に連続的に供給しながら重合を行う、ビニル系重合体の製造方法。 - 前記重合工程では、前記単量体を前記反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、前記反応器内の圧力を大気圧よりも低い圧力にして重合を行う、請求項1に記載のビニル系重合体の製造方法。
- 前記重合工程では、前記単量体を前記反応器内に連続的に供給している期間の少なくとも一部において、前記反応器内の圧力を20kPa以上70kPa以下の圧力にして重合を行う、請求項2に記載のビニル系重合体の製造方法。
- 前記重合溶媒は、前記単量体の沸点よりも低い沸点を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のビニル系重合体の製造方法。
- 前記重合溶媒は、大気圧における沸点が50℃以上100℃以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載のビニル系重合体の製造方法。
- 前記重合工程では、前記重合溶媒を還流させる、請求項1~5のいずれか1項に記載のビニル系重合体の製造方法。
- 前記単量体は、(メタ)アクリル系単量体を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載のビニル系重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020214276A JP2022100112A (ja) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | ビニル系重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020214276A JP2022100112A (ja) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | ビニル系重合体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022100112A true JP2022100112A (ja) | 2022-07-05 |
Family
ID=82269340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020214276A Pending JP2022100112A (ja) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | ビニル系重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2022100112A (ja) |
-
2020
- 2020-12-23 JP JP2020214276A patent/JP2022100112A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6150468A (en) | Water soluble amphiphilic heteratom star polymers and their use as emulsion stabilizers in emulsion polymerization | |
CN110312775B (zh) | 粘合剂组合物及其制造方法 | |
TWI774874B (zh) | (甲基)丙烯酸系嵌段共聚物及含有其之活性能量線硬化性組成物 | |
JP7081592B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びその製造方法 | |
JP5404222B2 (ja) | ビニル系ポリマーの製造方法 | |
JP5637500B2 (ja) | ビニル系ポリマーの製造方法及びビニル系ポリマー | |
JPWO2019208386A1 (ja) | 硬化性樹脂組成物、並びに、ブロック共重合体及びその製造方法 | |
JP2015140407A (ja) | 架橋重合体、その製造方法及びこれを含有する塗料組成物 | |
WO2015163321A1 (ja) | ブロックポリマ | |
JP2022100112A (ja) | ビニル系重合体の製造方法 | |
JP2007079527A (ja) | カラーフィルター保護膜用一液型熱硬化性組成物およびこれを用いたカラーフィルター | |
WO2021095739A1 (ja) | 重合体微粒子の製造方法及び分散安定剤 | |
JP2022100113A (ja) | ビニル系重合体の製造方法 | |
JP2022175692A (ja) | ブロック共重合体の製造方法 | |
WO2018199268A1 (ja) | 2-シアノアクリレート系接着剤組成物 | |
WO2001096411A1 (en) | Water soluble ampiphilic heteratom star polymers and their use as emulsion stabilizers in emulsion polymerization | |
JP2020007503A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物 | |
JP2019023319A (ja) | ブロックポリマ及びその製造方法 | |
JP7415485B2 (ja) | ブロック共重合体の製造方法 | |
JP2015214614A (ja) | ブロックポリマ及びその製造方法 | |
WO2021095740A1 (ja) | ポリアクリル酸系微粒子 | |
JP2022116592A (ja) | 重合体の製造方法 | |
WO2023085154A1 (ja) | 共重合体エマルジョンならびに該共重合体エマルジョンを用いた一液系熱硬化性樹脂組成物、二液系熱硬化性樹脂組成物、塗料、樹脂硬化膜および塗膜 | |
JP6484927B2 (ja) | ブロックポリマ及びその製造方法 | |
TWI751145B (zh) | (甲基)丙烯酸酯系塗料用清漆之製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240910 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240924 |