JP2022097070A - 搬送システム及び搬送システムの制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】可動子の位置の検出時における可動子の移動量を低減し得る搬送システムを提供する。【解決手段】搬送方向に沿って所定の間隔で配され、各々に流れる電流を独立に制御可能な複数のコイルと、前記搬送方向に沿って所定の間隔で配された複数の磁石よりなる磁石群を備え、前記複数のコイルと前記磁石群との間に生じる磁力に応じて前記搬送方向に移動する可動子と、前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値に基づいて前記可動子の位置を推定する位置推定部と、を有する。【選択図】図４

Description

本発明は、搬送システム及び搬送システムの制御方法に関する。

特許文献１には、リニアモータにおける磁極の位置検出方法が開示されている。特許文献１には、初期調整時における磁極の位置検出方法として、出力電圧の位相角を調整することにより、モータを左側に移動させたときの移動後の位置と、右側に移動させたときの移動後の位置との中心を初期励磁位置として検出することが記載されている。

特開平１０－１２７０７８号公報

特許文献１に記載された技術においては、磁極の位置を検出するために可動子を移動させる処理が行われる。しかしながら、可動子と他の構造物との干渉の回避等の理由により、可動子の移動量を低減することが望まれる場合もある。

そこで、本発明は、可動子の位置の検出時における可動子の移動量を低減し得る搬送システム及び搬送システムの制御方法を提供することを目的とする。

本発明の一観点によれば、搬送方向に沿って所定の間隔で配され、各々に流れる電流を独立に制御可能な複数のコイルと、前記搬送方向に沿って所定の間隔で配された複数の磁石よりなる磁石群を備え、前記複数のコイルと前記磁石群との間に生じる磁力に応じて前記搬送方向に移動する可動子と、前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値に基づいて前記可動子の位置を推定する位置推定部と、を有することを特徴とする搬送システムが提供される。

本発明の他の一観点によれば、搬送方向に沿って所定の間隔で配され、各々に流れる電流を独立に制御可能な複数のコイルと、前記搬送方向に沿って配された複数の磁石よりなる磁石群を備え、前記複数のコイルと前記磁石群との間に生じる磁力に応じて前記搬送方向に移動する可動子と、を有する搬送システムの制御方法であって、前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値に基づいて前記可動子の位置を推定するステップを有することを特徴とする制御方法が提供される。

本発明によれば、可動子の位置の検出時における可動子の移動量を低減し得る搬送システム及び搬送システムの制御方法が提供される。

第１実施形態に係る搬送システムの全体構成を示す概略図である。 第１実施形態に係る可動子の構成を示す概略図である。 第１実施形態に係る搬送システムの制御システムの構成を示す概略図である。 第１実施形態に係る搬送システムの制御方法を示すフローチャートである。 第１実施形態に係る事前準備の処理を説明する概略図である。 第１実施形態に係る初期位置推定の処理を説明する概略図である。 第１実施形態に係る初期位置推定の処理を説明する概略図である。 第２実施形態に係る搬送システムの制御方法を示す概略図である。 第２実施形態に係る初期位置推定の処理を説明する概略図である。 第２実施形態に係る初期位置推定の処理を説明する概略図である。 第３実施形態に係る加工システムの構成を示すブロック図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。複数の図面にわたって同一の要素又は対応する要素には共通の符号が付されており、その説明は省略又は簡略化されることがある。また、同一の数字の符号の末尾に小文字のアルファベットを識別子として付記することにより、異なる位置に配された同種の構成要素を区別することもある。また、特に区別して説明する必要がない場合には、識別子を付さず数字のみの符号を用いることもある。

［第１実施形態］
まず、本実施形態に係る搬送システム１の構成について図１（ａ）、図１（ｂ）、図１（ｃ）、図２（ａ）、図２（ｂ）及び図３を相互に参照しつつ説明する。図１（ａ）、図１（ｂ）及び図１（ｃ）は、本実施形態に係る可動子１０１及び固定子２０１（２０１ａ、２０１ｂ）を含む搬送システム１の全体構成を示す概略図である。なお、図１（ａ）は搬送システム１をＺ方向から見た平面図であり、図１（ｂ）は搬送システム１をＹ方向から見た側面図であり、図１（ｃ）は搬送システム１をＸ方向から見た断面図である。

図１（ａ）に示すように、本実施形態による搬送装置を有する搬送システム１は、台車、スライダ又はキャリッジを構成する可動子１０１と、搬送路を構成する複数の固定子２０１とを有している。可動子１０１には搬送方向に沿って複数の永久磁石を含む永久磁石群１０２が配されており、固定子２０１には搬送方向に沿って複数のコイル２０２及び複数のリニアエンコーダ２０３が配されている。このように、搬送システム１は、可動磁石型リニアモータ（ムービング永久磁石リニアモータ、可動界磁型リニアモータ）による搬送システムである。

搬送システム１は、可動子１０１を搬送することにより、可動子１０１上に配されたワーク１１０を、ワーク１１０に対して加工作業を施す工程装置等に搬送するものであり得る。ワーク１１０に加工作業を施すことにより、高品質な物品を製造することができる。なお、図１（ａ）及び図１（ｂ）では、複数の固定子２０１に対して１つの可動子１０１が図示されているが、可動子１０１及び固定子２０１の個数はこれに限定されるものではない。搬送システム１においては、複数の可動子１０１が１つ又は複数の固定子２０１上を搬送され得る。本実施形態は、そのような複数の可動子１０１が配置される状況にも適用可能である。

ここで、以下の説明において用いる座標軸、方向等を定義する。まず、可動子１０１の搬送方向である水平方向に沿ってＸ軸をとり、可動子１０１の搬送方向、すなわち、コイル２０２が並ぶ方向をＸ方向（搬送方向）とする。また、Ｘ方向に直交する方向である鉛直に沿ってＺ軸をとり、鉛直方向をＺ方向とする。また、Ｘ方向及びＺ方向に直交する方向に沿ってＹ軸をとり、Ｘ方向及びＺ方向に直交する方向をＹ方向とする。なお、可動子１０１の搬送方向は必ずしも水平方向である必要はないが、その場合も搬送方向をＸ方向として同様にＹ方向及びＺ方向を定めることができる。また、以下の数式において、乗算の記号として“＊”を使用することがある。

次に、本実施形態による搬送システム１における搬送対象である可動子１０１について、主として図２（ａ）及び図２（ｂ）を用いて説明する。図２（ａ）及び図２（ｂ）は、本実施形態に係る可動子１０１の構成を示す概略図である。なお、図２（ａ）は可動子１０１をＹ方向から見た側面図であり、図２（ｂ）は可動子１０１をＸ方向から見た断面図である。

図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、可動子１０１は、永久磁石群１０２、バックヨーク１０４及びリニアスケール１０３を有している。

永久磁石群１０２は、複数の永久磁石により構成された磁石群である。永久磁石群１０２は、固定子２０１のコイル２０２側（Ｙ軸の正方向）に向かう外側の磁極の極性が交互になるようにＸ方向に沿って配置されている。なお、永久磁石群１０２を構成する永久磁石の数は、５個に限定されるものではなく、複数個であればよい。更に、図２（ａ）において永久磁石群１０２は、搬送方向であるＸ方向に沿って１列に配置されているが、コイル２０２の配置に合わせて２列以上配されていてもよい。永久磁石群１０２が配された可動子１０１は、固定子２０１に配された複数のコイル２０２から永久磁石が受ける磁力により搬送方向に移動可能に構成されている。

永久磁石群１０２は、バックヨーク１０４に取り付けられている。バックヨーク１０４は、鉄等の大きな透磁率を有する物質で構成されている。これにより、永久磁石群１０２からの磁束の外部への漏出を低減する効果が得られる。

リニアスケール１０３は、固定子２０１のリニアエンコーダ２０３に対向するように、Ｘ方向に沿って帯状に配置されている。

また、可動子１０１は、固定子２０１のガイドレール２０４によってＹ方向及びＺ方向に移動しないように規制されている。なお、可動子１０１の規制に用いられる規制部材はガイドレール２０４に限定されない。本実施形態ではガイドレール２０４によって規制する例を示しているが、例えば、ガイドローラーによってＹ方向及びＺ方向に可動子１０１が移動しないような規制を行ってもよい。

可動子１０１は、その上面に搬送すべきワーク１１０を載置又は装着した状態で搬送される。可動子１０１は、例えば、ワークホルダ等のワーク１１０を可動子１０１に保持する保持機構を有していてもよい。この場合、可動子１０１の下面にワーク１１０が保持されていてもよい。

次に、本実施形態による搬送システム１における固定子２０１について、図１（ａ）及び図１（ｂ）を用いてより詳細に説明する。

図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、固定子２０１は、可動子１０１の搬送方向であるＸ方向に沿って１列に所定の間隔を空けて配された複数のコイル２０２を有している。固定子２０１ａ、２０１ｂは、搬送方向であるＸ方向に延在して可動子１０１の搬送路を形成する。複数のコイル２０２は、可動子１０１の側面の永久磁石群１０２と対向可能なように、Ｘ方向に沿って１列に配されて固定子２０１に取り付けられている。

複数のコイル２０２は、後述するコイルコントローラ３０２に接続されている。複数のコイル２０２の各々を流れる電流は、独立に制御可能である。また、複数のコイル２０２の各々を流れる電流は、複数個（例えば３個）の群を単位として制御されてもよい。複数のコイル２０２は、コイルコントローラ３０２の制御に応じて通電されることにより、可動子１０１の永久磁石群１０２との間で磁力を発生する。これにより、複数のコイル２０２は、可動子１０１に対して力を印加する。

固定子２０１は、可動子１０１の搬送方向であるＸ方向に沿って配された複数のリニアエンコーダ２０３を有している。複数のリニアエンコーダ２０３は、可動子１０１に配されたリニアスケール１０３に対向するように、固定子２０１に取り付けられている。リニアエンコーダ２０３は、リニアスケール１０３を読み取ることにより、可動子１０１のＸ方向の位置を検出することができる。

複数のリニアエンコーダ２０３が配される間隔は、リニアスケール１０３のＸ方向の長さ以下であることが望ましい。この構成によれば、可動子１０１がどの位置にあっても、複数のリニアエンコーダ２０３のうちのいずれかがリニアスケール１０３を読み取って可動子１０１の位置を検出することができる。

リニアエンコーダ２０３は、インクリメンタル方式のリニアエンコーダである。インクリメンタル方式は、基本的には相対位置を検出する方式であるため、可動子１０１の絶対位置を取得するためには電源投入時に可動子１０１の初期位置を設定する必要がある。本実施形態の搬送システム１は、複数のコイル２０２のインダクタンスを測定し、インダクタンスの測定値に基づいて可動子１０１の初期位置を推定する機能を有している。

また、上述のように、固定子２０１は、可動子１０１の搬送方向であるＸ方向に沿って配されたガイドレール２０４を有している。ガイドレール２０４は、可動子１０１がＹ方向及びＺ方向に移動しないように規制する規制部材である。

次に、本実施形態による搬送システム１を制御する制御システム３０について、図３を用いて説明する。図３は、本実施形態による搬送システム１を制御する制御システム３０の構成を示す概略図である。

図３に示すように、搬送システム１の制御システム３０は、上位コントローラ３００、統合コントローラ３０１、コイルコントローラ３０２及びセンサコントローラ３０３を有する。これらのコントローラは、協働して、可動子１０１と固定子２０１とを含む搬送システム１の全体を制御する。上位コントローラ３００には、複数の統合コントローラ３０１が通信可能に接続されている。１つの統合コントローラ３０１には、複数のコイルコントローラ３０２とセンサコントローラ３０３とが通信可能に接続されている。１つのコイルコントローラ３０２には、複数のコイル２０２が接続されている。センサコントローラ３０３には、複数のリニアエンコーダ２０３が接続されている。各コントローラは、制御に必要な情報を記憶する記憶装置を含み得る。

上位コントローラ３００は、搬送システム１全体の制御を行う。また、上位コントローラ３００は、搬送装置と可動子１０１上のワーク１１０に加工作業を施す工程装置等を含めた生産装置全体の制御を行ってもよい。上位コントローラ３００は、統合コントローラ３０１に対して、可動子１０１の移動指令を送信する。移動指令は、移動先の位置、移動速度、移動時の加減速等に関する情報を含み得る。

複数の統合コントローラ３０１の各々は、上位コントローラ３００から移動指令を受信する。各統合コントローラ３０１は、対応するセンサコントローラ３０３から受信した可動子１０１の現在位置に基づいて位置指令（可動子１０１の移動先を示す指令）を生成し、複数のコイルコントローラ３０２に送信する。また、各統合コントローラ３０１は、対応する１つの固定子２０１に対して制御を行う。すなわち、図３では、統合コントローラ３０１ａは、固定子２０１ａの複数のコイル２０２を制御し、統合コントローラ３０１ｂは、固定子２０１ｂの複数のコイル２０２を制御する。

コイルコントローラ３０２は、統合コントローラ３０１から位置指令を受信し、各コイル２０２に対応する電流指令を出力する。コイルコントローラ３０２は、接続された複数のコイル２０２の各々を流れる電流を制御する。

コイルコントローラ３０２は、接続された複数のコイル２０２の各々に対して、個別に電流の制御を行うことができる。また、順番に接続された３個のコイル２０２に対して、Ｕ相、Ｖ相及びＷ相からなる三相交流の電流を流すような制御を行うこともできる。

コイルコントローラ３０２は、電流検出部（図示しない）を有する。電流検出部は、接続された複数のコイル２０２の各々を流れる電流を個別に計測することができる。

こうして、制御システム３０の上位コントローラ３００、統合コントローラ３０１、コイルコントローラ３０２及びセンサコントローラ３０３は、協働して可動子１０１の搬送の制御を行うことができる。なお、図３に示している制御システム３０の構成は例示であり、これ以外の構成であってもよい。例えば、上位コントローラ３００は、搬送システム１の外部の装置であってもよい。

なお、本実施形態では、コイルコントローラ３０２が電流指令を算出する例を挙げているが、他のコントローラが電流指令の算出を行ってもよい。例えば、統合コントローラ３０１が電流指令を算出してコイルコントローラ３０２に送信してもよい。この場合、コイルコントローラ３０２は、電流指令に基づいて、複数のコイル２０２の各々に指令値通りの電流が流れるようにする制御を行う。

次に、本実施形態における可動子１０１の初期位置推定方法について図４乃至図７を相互に参照しつつ説明する。図４は、本実施形態に係る搬送システム１における可動子１０１の初期位置推定方法を示すフローチャートである。図４におけるステップＳ１０１からステップＳ１０４は、初期位置推定を行うための事前準備の処理であり、搬送システム１の起動後に少なくとも１度実施される。事前準備の完了後、ステップＳ１０５からステップＳ１０７の初期位置推定の処理を行うことができる。なお、図４の処理は、上述の上位コントローラ３００、統合コントローラ３０１、コイルコントローラ３０２及びセンサコントローラ３０３の１つ又は複数の協働により実行される。以下の説明では事前準備又は初期位置推定の処理を行うコントローラを具体的に特定せずに、単に制御システム３０と呼ぶこともある。言い換えると、制御システム３０は、可動子１０１の位置を推定する位置推定部として機能し得る。

搬送システム１の起動後等において、図４に示す処理が開始される。ステップＳ１０１において、制御システム３０は、コイル固有情報が制御システム３０内の記憶領域に既に登録済みであるか否かを判定する。この判定は、例えば、コイル固有情報が登録されていることを示すフラグを参照することにより行われる。コイル固有情報とは、可動子１０１が近傍にないときの複数のコイル２０２の各々のインダクタンス等の、複数のコイル２０２の各々に固有の情報である。ステップＳ１０１においてコイル固有情報が登録済みではないと判定された場合（ステップＳ１０１におけるＮｏ）、処理はステップＳ１０２に移行する。ステップＳ１０１においてコイル固有情報が登録済みであると判定された場合（ステップＳ１０１におけるＹｅｓ）、処理はステップＳ１０３に移行する。

ステップＳ１０２において、制御システム３０は、コイル固有情報の登録を行う。コイル固有情報の登録処理及びコイル固有情報の具体例については後述する。

ステップＳ１０３において、制御システム３０は、インダクタンス値変化パターンが制御システム３０内の記憶領域に既に登録済みであるか否かを判定する。インダクタンス値変化パターンとは、可動子１０１とコイル２０２の位置関係を変化させたときのコイル２０２のインダクタンスの変化を示す情報である。この判定は、例えば、インダクタンス値変化パターンが登録されていることを示すフラグを参照することにより行われる。インダクタンス値変化パターンについては後述する。ステップＳ１０３においてインダクタンス値変化パターンが登録済みではないと判定された場合（ステップＳ１０３におけるＮｏ）、処理はステップＳ１０４に移行する。ステップＳ１０３においてインダクタンス値変化パターンが登録済みであると判定された場合（ステップＳ１０３におけるＹｅｓ）、処理はステップＳ１０５に移行する。

ステップＳ１０４において、制御システム３０は、インダクタンス値変化パターンの登録を行う。インダクタンス値変化パターンの登録処理及びインダクタンス値変化パターンの具体例については後述する。

上述のステップＳ１０１からステップＳ１０４の事前準備について図５（ａ）及び図５（ｂ）を用いてより詳細に説明する。図５（ａ）及び図５（ｂ）は、上述の事前準備の処理を説明する概略図である。図５（ａ）は、図４のステップＳ１０２（コイル固有情報登録）について説明する図であり、図５（ｂ）は、図４のステップＳ１０４（インダクタンス値変化パターン登録）について説明する図である。図５（ａ）及び図５（ｂ）に示されているコイル２０２等の部材は、Ｚ方向から見たものが図示されている。

まず、図５（ａ）を参照して、ステップＳ１０２（コイル固有情報登録）の処理について説明する。図５（ａ）に示すように、制御システム３０は、可動子１０１を制御して、固定子２０１のコイル２０２の近傍に可動子１０１がない状態にする。そして、制御システム３０は、複数のコイル２０２を制御して各々のインダクタンス値（図５における「Ｌ」）を測定し、コイル２０２の番号（図５における「Ｃｏｉｌ＿Ｎｏ．」）と対応付けた形でコイル固有情報５０１として制御システム３０内に登録する。なお、コイル固有情報５０１は、コイルコントローラ３０２内の記憶装置に記憶されていてもよく、統合コントローラ３０１内の記憶装置に記憶されていてもよい。

また、コイル固有情報５０１は、インダクタンス値の情報の他に、各コイル２０２のＸ位置情報（図５における「Ｐｏｓ」）も登録されている。本実施形態では、各コイル２０２のＸ位置の原点Ｏｃは、固定子２０１の上流端としている。このように、コイル固有情報５０１は、可動子１０１がコイル２０２に近接していない状態に相当するコイル２０２のインダクタンスの基準値と、複数のコイル２０２の空間配置を示す配置情報とを含む。これらの情報は後述する処理において、可動子の位置の推定に用いられ得る。

また、本実施形態におけるインダクタンス値の測定方法は、各コイル２０２に正弦波状の交流電圧を印加して、その時にコイル２０２に流れる電流を計測し、逐次パラメータ推定法に基づいてコイル２０２のインダクタンス値を推定するものである。

逐次パラメータ推定法の具体例を説明する。コイル２０２を抵抗とインダクタの直列等価回路と仮定する。このとき、以下の式（１）乃至式（３）に基づいて逐次計算を繰り返す。誤差Ｖｅｒｒ［ｋ］が所定の閾値以下となった時の推定抵抗Ｒｅｓｔ［ｋ］と推定インダクタンスＬｅｓｔ［ｋ］を推定値とする。
Ｖｅｒｒ［ｋ］＝Ｖｒｅｆ［ｋ］－Ｒｅｓｔ［ｋ－１］＊ｉ［ｋ］＋Ｌｅｓｔ［ｋ－１］＊ｄｉ／ｄｔ［ｋ］ ・・・（１）
Ｒｅｓｔ［ｋ］＝Ｒｅｓｔ［ｋ－１］－α＊ｉ［ｋ］＊Ｖｅｒｒ［ｋ］ ・・・（２）
Ｌｅｓｔ［ｋ］＝Ｌｅｓｔ［ｋ－１］－β＊ｄｉ／ｄｔ［ｋ］＊Ｖｅｒｒ［ｋ］ ・・・（３）

ここで、［ｋ］及び［ｋ－１］が付された量は引数に対応した時点のデータを示す。Ｖｒｅｆは指令電圧、Ｖｅｒｒは指令電圧と推定電圧との間の誤差、ｉは出力電流、α及びβは推定速度を決める係数である。また、コイル２０２に印加する交流電圧は、共振を避けるために、可動子１０１の固有振動数よりも高い周波数に設定されていることが望ましい。なお、可動子１０１の固有振動数は、固有値解析ソフト等を用いたシミュレーションにより求めてもよく、可動子１０１に対するハンマリング試験及び周波数応答解析といった手法により実験的に求めてもよい。

次に、図５（ｂ）を参照して、ステップＳ１０４（インダクタンス値変化パターン登録）の処理について説明する。図５（ｂ）に示すように、制御システム３０は、可動子１０１の位置を所定のピッチで順次変えつつ、固定子２０１の所定のコイル２０２のインダクタンス値を測定する。そして、制御システム３０は、測定したインダクタンス値を可動子１０１のＸ位置に紐づけて、インダクタンス値変化パターン５０２（第２パターン）として制御システム３０内、例えば、統合コントローラ３０１に登録する。したがって、インダクタンス値変化パターン５０２は、搬送方向におけるインダクタンスの測定値の分布を示している。なお、インダクタンス値変化パターン５０２は、例えば、統合コントローラ３０１内の記憶装置に記憶される。

ここで、登録されるインダクタンス測定値は、実測のインダクタンス値と上述のコイル固有情報に含まれるインダクタンス値（基準値）との差分値であってもよい。この場合、固定子２０１に位置に応じたインダクタンス値の変化量を高精度に抽出することができる。以下の説明では、インダクタンス値変化パターン５０２は、この差分値、すなわち、インダクタンス値変化量であるものとする。

図５（ｂ）のインダクタンス値変化パターン５０２に示されるように、コイル２０２に可動子１０１が対向していないＸ位置Ａでは、インダクタンス値変化量は０付近である。コイル２０２にバックヨーク１０４が対向するＸ位置Ｂでは、インダクタンス値変化量はＸ位置Ａに比べて大きい。更に、コイル２０２に永久磁石群１０２の永久磁石が対向するＸ位置Ｃでは、インダクタンス値変化量がＢ点に比べて小さく、永久磁石間の中点であるＸ位置Ｄではインダクタンス値変化量がＸ位置Ｃに比べて大きい。このように、インダクタンス値変化パターン５０２は、永久磁石群１０２の配置に応じた周期的な変化を示す。本実施形態では、このようなインダクタンス値変化パターン５０２の特性を利用して可動子１０１の初期位置推定を行う。

次に、再び図４を参照して、上述の事前準備の後に行われる、ステップＳ１０５からステップＳ１０７の初期位置推定について説明する。ステップＳ１０５において、制御システム３０は、可動子１０１の初期位置が既に検出済みであり、初期位置情報が制御システム３０内の記憶領域に既に登録済みであるか否かを判定する。この判定は、例えば、初期位置検出が既に行われていることを示すフラグを参照することにより行われる。ステップＳ１０５において初期位置が検出済みではないと判定された場合（ステップＳ１０５におけるＮｏ）、処理はステップＳ１０６に移行する。ステップＳ１０５において初期位置が検出済みであると判定された場合（ステップＳ１０５におけるＹｅｓ）、処理は終了する。

ステップＳ１０６において、制御システム３０は、固定子２０１の複数のコイル２０２に順次正弦波状の交流電圧を印加して、複数のコイル２０２の各々のインダクタンス値を測定する制御を行う。ステップＳ１０７において、制御システム３０は、測定されたインダクタンス値と、インダクタンス値変化パターンとのパターンマッチングにより、可動子１０１の初期位置を推定する処理を行う。

図６及び図７を用いてステップＳ１０５からステップＳ１０７の初期位置推定の処理をより詳細に説明する。図６及び図７は、図４のＳ１０７（パターンマッチングによる可動子位置推定）の処理を説明する概略図である。図６は、パターンマッチングの具体的な方法を説明する模式図であり、図７は、パターンマッチング時のマッチング誤差から初期位置を推定する手法を示すグラフである。

まず、ステップＳ１０６（コイルインダクタンス値測定）の処理により、複数のコイル２０２の各々のインダクタンス値の測定が行われる。図６において、複数のコイル２０２には、Ｘ方向に並ぶ順に沿って１から１６までの番号ｊが付与されている。以下では、複数のコイル２０２の各々のインダクタンス測定値は、この番号ｊを付してＬ（ｊ）と表記することがある。すなわち、インダクタンス測定値Ｌ（ｊ）は、インダクタンスの測定値の搬送方向における分布を示すデータ（第１パターン）である。なお、以下の説明において、インダクタンス測定値は、ステップＳ１０６において実際に測定されたインダクタンス値と、上述のコイル固有情報に含まれている、可動子１０１がないときのインダクタンス値との差分値であるものとする。

次に、ステップＳ１０７（パターンマッチングによる可動子位置推定）について説明する。図６に示されているグラフにおいて、横軸は複数のコイル２０２の各々のＸ位置を示しており、縦軸は複数のコイル２０２の各々におけるインダクタンスの測定値（差分値）を示している。図６中の黒色の点は、ステップＳ１０６において測定されたコイル２０２のインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）を示しており、図６中の破線により示された曲線は、ステップＳ１０４において登録されたインダクタンス値変化パターン５０２を示している。

ステップＳ１０７の処理では、制御システム３０は、所定のピッチでインダクタンス値変化パターン５０２のＸ位置をオフセットしつつ、各オフセット量Ｘにおいてインダクタンス値変化パターン５０２とインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）とを比較する。そして、インダクタンス値変化パターン５０２とインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）とが最も一致するオフセット量Ｘを探索する。

具体的には、図６において破線で示されている状態、すなわち、インダクタンス値変化パターン５０２の原点Ｏと固定子２０１の原点Ｏｃを一致させた状態を探索開始位置とする。この探索開始位置から所定のピッチでインダクタンス値変化パターン５０２を図６における右方にオフセットする。ここで、制御システム３０は、各オフセット量Ｘにおいて、インダクタンス値変化パターン５０２とインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）との差分を二乗して得られる誤差ｅ（ｊ，Ｘ）を以下の式（４）を用いて算出する。
ｅ（ｊ，Ｘ）＝（Ｐ（Ｘｃｏｉｌ（ｊ）＋Ｘ）－Ｌ（ｊ））＾２ ・・・（４）

ここで、Ｐ（ｘ）はＯを原点とした所定の位置ｘに対応するインダクタンス値変化パターン５０２の値であり、Ｘｃｏｉｌ（ｊ）はＯｃを原点としたｊ番目のコイル２０２のＸ位置である。すなわち、原点Ｏと原点Ｏｃのオフセット量がＸのとき、ｊ番目のコイル２０２のＸ位置に対応するインダクタンス値変化パターン５０２の値はＰ（Ｘｃｏｉｌ（ｊ）＋Ｘ）である。

次に、制御システム３０は、インダクタンス値変化パターン５０２とインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）とが重複する範囲において、各コイル２０２における誤差ｅ（ｊ，Ｘ）を積算したマッチング誤差Ｅ（Ｘ）を、以下の式（５）を用いて算出する。
Ｅ（Ｘ）＝Σ（ｅ（ｊ，Ｘ））／Ｎ ・・・（５）

ここで、Ｎはインダクタンス値変化パターン５０２の範囲内にあるコイル２０２の数である。図６に示されている例では、インダクタンス値変化パターン５０２の範囲は、ＸａからＸｂの間である。例えば、図６に示されている破線の例においてオフセット量Ｘが０である場合、式（５）の演算に用いられるコイル２０２は１番目から６番目の６個（すなわち、Ｎ＝６）である。したがって、式（５）の演算に用いられるインダクタンス測定値はＬ（１）からＬ（６）であり、式（５）の演算に用いられる誤差はｅ（１，０）からｅ（６，０）である。

このようにして、制御システム３０は、インダクタンス値変化パターン５０２を所定のピッチでオフセットしつつ、各オフセット量Ｘにおけるマッチング誤差Ｅ（Ｘ）を算出する。

図７のグラフは、各オフセット量Ｘにおけるマッチング誤差Ｅ（Ｘ）の例を示している。図７の横軸はオフセット量Ｘを示しており、図７の縦軸はマッチング誤差Ｅ（Ｘ）を示している。図７中の破線の円で示す箇所は、マッチング誤差Ｅ（Ｘ）が最小値となる点である。本処理では、マッチング誤差Ｅ（Ｘ）を最小にするオフセット量Ｘが、可動子１０１の推定位置Ｘｅｓｔであると算出される。このような処理によりマッチングを行うことにより、可動子１０１の位置を推定することができる。

上述のように、本実施形態の搬送システム１は、複数のコイル２０２のインダクタンスを測定し、この測定値に基づいて可動子１０１の初期位置を推定することができる。そのため、特許文献１のような可動子１０１を移動させる処理を要せずに初期位置の推定を行うことができる。したがって、本実施形態によれば、可動子１０１の位置の検出時における可動子１０１の移動量を低減し得る搬送システム１が提供される。

［第２実施形態］
次に、第２実施形態に係る搬送システム１について図８乃至図１０（ｃ）を用いて説明する。本実施形態において、第１実施形態と相違する点は搬送システム１の制御方法であり、搬送システム１の装置構成は第１実施形態と共通であるため、説明を省略する。

図８は、本実施形態に係る搬送システム１における可動子１０１の初期位置推定方法を示すフローチャートである。図８におけるステップＳ１０１、Ｓ１０２は、初期位置推定を行うための事前準備の処理であり、搬送システム１の起動後に少なくとも１度実施される。事前準備の完了後、ステップＳ１０５、Ｓ１０６、Ｓ２０１、Ｓ２０２の初期位置推定の処理を行うことができる。ここで、ステップＳ１０１、Ｓ１０２、Ｓ１０５、Ｓ１０６の処理は、第１実施形態と同様であるため説明を省略する。

本実施形態においては、ステップＳ１０６の処理の後に、第１実施形態のステップＳ１７の処理に代えてステップＳ２０１、Ｓ２０２の処理が行われる。ステップＳ２０１において、制御システム３０は、測定されたインダクタンス値と閾値とを比較することにより、可動子１０１の初期位置を推定する処理を行う。ステップＳ２０２において、制御システム３０は、測定されたインダクタンス値の空間周波数解析を行うことにより、可動子１０１の位相を推定する処理を行う。なお、本実施形態においても、インダクタンス測定値は、ステップＳ１０６において実際に測定されたインダクタンス値と、コイル固有情報に含まれている、可動子１０１がないときのインダクタンス値との差分値であるものとする。

まず、図９（ａ）、図９（ｂ）、図１０（ａ）、図１０（ｂ）及び図１０（ｃ）を用いてステップＳ２０１及びステップＳ２０２の処理をより詳細に説明する。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、図８のステップＳ２０１（閾値判定による可動子位置推定）の処理を説明する概略図である。図１０（ａ）、図１０（ｂ）及び図１０（ｃ）は、図８のＳ２０２（空間周波数解析による可動子位相推定）を説明する概略図である。

まず、図９（ａ）及び図９（ｂ）を参照して、ステップＳ２０１（閾値判定による可動子位置推定）について説明する。図９（ａ）に示されているグラフにおいて、横軸は複数のコイル２０２の各々のＸ位置を示しており、縦軸は、複数のコイル２０２の各々におけるインダクタンスの測定値（差分値）を示している。図９（ａ）中の黒色の点は、ステップＳ１０６において測定されたコイル２０２のインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）を示しており、図９（ａ）中の一点鎖線は、可動子１０１の有無の判定に用いられる閾値を示している。なお、図９（ａ）中に破線で示されている曲線は、可動子１０１と対向しているコイル２０２のインダクタンス測定値をよりわかり易くするために、第１実施形態で説明したインダクタンス値変化パターン５０２を示すものである。しかしながら、本実施形態においては、インダクタンス値変化パターン５０２は処理に用いられなくてもよい。

図９（ａ）に示すように、ステップＳ２０１においては、制御システム３０は、各コイル２０２のインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）が所定の閾値以上であるＸ位置の推定範囲を求め、その範囲の中点を可動子１０１の推定位置Ｘ’とする。より具体的には、図９（ａ）においては、６番目から１４番目のコイル２０２のインダクタンス測定値である、Ｌ（６）からＬ（１４）が閾値以上である。したがって、Ｏｃを原点としたｊ番目のコイル２０２のＸ位置をＸｃｏｉｌ（ｊ）とした場合、インダクタンス測定値Ｌ（ｊ）が所定の閾値以上となる範囲は、Ｘｃｏｉｌ（６）からＸｃｏｉｌ（１４）の間である。その範囲の中点である推定位置Ｘ’は以下の式（６）で算出される。
Ｘ’＝（Ｘｃｏｉｌ（１４）＋Ｘｃｏｉｌ（６））／２ ・・・（６）

図９（ａ）に示す推定手法を用いることにより、比較的簡易な判定処理によって可動子１０１の推定位置Ｘ’を推定することができる。しかしながら、閾値を用いた判定手法はこれに限定されるものではなく、状況に応じて他の手法も用いられ得る。図９（ｂ）を参照しつつステップＳ２０１の処理の変形例を説明する。

図９（ａ）のインダクタンス測定値Ｌ（６）の例は、６番目のコイル２０２に可動子１０１が対向する際に、コイル２０２から出た磁束が透磁率の大きいバックヨーク１０４を通ることにより、インダクタンス測定値が大きくなることを示している。しかしながら、コイル２０２に可動子１０１が対向した状態で高周波電流を流すと、バックヨーク１０４で渦電流が発生してインダクタンス値が小さくなる現象も発生する場合がある。したがって、実際には、コイル２０２を流れる電流の周波数、コイル２０２とバックヨーク１０４の間の距離等の条件によっては、可動子１０１が接近するときにインダクタンス値が可動子１０１がないときよりも小さくなる場合も考えられる。そこで、図９（ｂ）の例では、インダクタンス値の変化が大きいエリアを検出するために、隣接するコイル２０２間のインダクタンス値の変化量と閾値とを比較して判定を行う。

図９（ｂ）は、図９（ａ）の縦軸をｊ番目のコイル２０２とその１つ前（ｊ－１番目）のコイル２０２の差の絶対値である変化量Ｄ（ｊ）に置き換えたグラフである。変化量Ｄ（ｊ）は、以下の式（７）で定義される。図９（ｂ）中の一点鎖線は変化量に対する可動子１０１の有無の判定に用いられる閾値を示している。また、変化量Ｄ（ｊ）に対応するＯｃを原点としたＸ位置Ｄ＿ｘ（ｊ）は、ｊ番目のコイル２０２とｊ－１番目のコイル２０２との中点の位置とする。
Ｄ（ｊ）＝｜Ｌ（ｊ）－Ｌ（ｊ－１）｜ ・・・（７）

図９（ｂ）に示すように、本変形例のステップＳ２０１においては、制御システム３０は、各コイル２０２の変化量Ｄ（ｊ）が所定の閾値以上となる範囲を求め、その範囲の中点を可動子１０１の推定位置Ｘ’とする。より具体的には、図９（ｂ）においては、６番目から１５番目のコイル２０２のインダクタンス測定値に基づく、変化量Ｄ（６）からＤ（１５）が閾値以上である。したがって、変化量Ｄ（ｊ）が所定の閾値以上となる範囲は、Ｄ＿ｘ（６）からＤ＿ｘ（１５）の間である。その範囲の中点である推定位置Ｘ’は以下の式（８）で算出される。
Ｘ’＝（Ｄ＿ｘ（１５）＋Ｄ＿ｘ（６））／２ ・・・（８）

図９（ｂ）に示す推定手法を用いることにより、可動子１０１が接近するときにインダクタンス値が可動子１０１がないときよりも小さくなる場合であっても、可動子１０１の推定位置Ｘ’を推定することができる。

なお、可動子１０１がコイル２０２に近接したときにインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）が小さくなることがあらかじめわかっている場合もある。このような場合には、図９（ａ）の推定範囲の判定において、判定条件をインダクタンス測定値Ｌ（ｊ）が所定の閾値以下であるというものに変形してもよい。

次に、図１０（ａ）、図１０（ｂ）及び図１０（ｃ）を参照して、ステップＳ２０２（空間周波数解析による可動子位相推定）について説明する。上述のステップＳ２０１の処理で算出される可動子１０１の推定位置Ｘ’は、コイル２０２のＸ位置に基づいて算出されるものであるため、最大でコイルピッチ分の誤差が生じる可能性がある。そこで、制御システム３０は、ステップＳ２０２の処理を行うことにより、可動子１０１の位相を算出して、より詳細に可動子１０１の位置を推定する。

図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、インダクタンス測定値Ｌ（ｊ）についての空間周波数の解析結果の例を示している。図１０（ａ）は振幅スペクトルを示すグラフであり、図１０（ｂ）は位相特性を示すグラフである。図１０（ｃ）は本実施形態におけるコイル間隔ＣｏｉｌＰｉｔｃｈと磁石間隔ＭａｇＰｉｔｃｈを説明する概略図である。

なお、本実施形態における空間周波数解析は、例えば、インダクタンス測定値Ｌ（ｊ）の数値データに対して離散フーリエ変換、高速フーリエ変換等の演算処理を行うものであり得る。これにより、空間ドメインから空間周波数ドメインに数値データが変換され、振幅スペクトルと位相特性を算出することができる。

第１実施形態において述べたように、インダクタンス値の変化は永久磁石群１０２の配置に依存する。永久磁石群１０２に含まれる各永久磁石は等間隔で配置されているため、図１０（ａ）に示すように、永久磁石の配置に対応する空間周波数ｆｍａｇ（第２空間周波数）において、振幅スペクトルのピークが現れる。

また、空間周波数解析におけるサンプリング周波数ｆｓ（第１空間周波数）は複数のコイル２０２の間隔によって決まる。本実施形態では、図１０（ｃ）に示すように永久磁石群１０２の配置間隔ＭａｇＰｉｔｃｈと複数のコイル２０２の配置間隔ＣｏｉｌＰｉｔｃｈが３：２の関係であるものとする。また、ナイキスト周波数をｆｎとすると、ナイキスト周波数ｆｎはサンプリング周波数ｆｓの１／２である。したがって、ナイキスト周波数ｆｓと空間周波数ｆｍａｇの関係は、以下の式（９）のようになる。すなわち、これらの関係はサンプリング定理を満たさないものであるため、図１０（ａ）に示すようにエイリアシングが発生する。
ｆｎ＝１／２＊ｆｓ＜ｆｍａｇ ・・・（９）

本処理では、ナイキスト周波数ｆｎと永久磁石配置の空間周波数ｆｍａｇが既知であるため、これらに基づいて折り返し後のエイリアスの空間周波数ｆｍａｇ’（第３空間周波数）を算出することができる。したがって、図１０（ｂ）に示すように空間周波数ｆｍａｇ’における位相特性から可動子１０１の推定位相φを算出することができる。

なお、図１０（ｃ）に示す例では永久磁石群１０２の配置間隔ＭａｇＰｉｔｃｈとコイル２０２の配置間隔ＣｏｉｌＰｉｔｃｈがサンプリング定理を満たさないような関係であるが、サンプリング定理を満たすような関係であってもよい。例えば、図１０（ｃ）の構成よりも複数のコイル２０２の間隔を十分に狭くすることで、サンプリング定理が満たされ得る。その場合には、エイリアシングを考慮せずに永久磁石配置の空間周波数ｆｍａｇにおいて推定位相φを算出すればよい。

これらの関係を整理すると以下のことが言える。コイル２０２のピッチに対応するサンプリング周波数ｆｓが磁石のピッチに対応する空間周波数ｆｍａｇの２倍未満である場合には、空間周波数ｆｍａｇ’における位相特性から可動子１０１の推定位相φを算出することができる。他方、コイル２０２のピッチに対応するサンプリング周波数ｆｓが磁石のピッチに対応する空間周波数ｆｍａｇの２倍以上である場合には、空間周波数ｆｍａｇにおける位相特性から可動子１０１の推定位相φを算出することができる。

この推定位相φを用いてステップＳ２０１で算出された可動子１０１のおおよその推定位置Ｘ’に対して、推定位相φを用いた補正を行うことにより、可動子１０１の位置をより精度良く算出することができる。具体的には、以下の式（１０）により可動子１０１の推定位置Ｘｅｓｔを算出することができる。なお、φ０は、可動子１０１が原点Ｏｃにある場合の基準位相である。
Ｘｅｓｔ＝Ｘ’＋（φ－φ０）／（２πｆｍａｇ’） ・・・（１０）

以上のように、本実施形態によれば、第１実施形態と同様の理由により、可動子１０１の位置の検出時における可動子１０１の移動量を低減し得る搬送システム１が提供される。

［第３実施形態］
図１１は、本実施形態に係る加工システム２の構成を示すブロック図である。図１１に示す加工システム２は、上述の第１又は第２実施形態に係る搬送システム１を有する装置である。すなわち、本実施形態に係る加工システム２は、上述の第１又は第２実施形態に係る搬送システム１が適用され得る装置の一例である。

加工システム２は、第１又は第２実施形態に係る搬送システム１と、加工装置２０とを有している。搬送システム１は、第１又は第２実施形態で述べた可動子１０１、固定子２０１等を有する搬送装置１０と、第１又は第２実施形態で述べた制御システム３０とを有している。搬送装置１０は、制御システム３０により制御される。

加工装置２０は、ワーク１１０に加工を施すことにより物品を製造する装置である。加工装置２０の用途は、特に限定されるものではないが、例えば、工業製品の組立装置、基板上に薄膜を形成する成膜装置、フォトリソグラフィー用の露光装置等であり得る。搬送システム１は、部品、半製品、半導体基板等のワーク１１０を加工装置２０に搬送する装置である。ワーク１１０は、可動子１０１により加工装置２０内に搬送される。加工装置２０はワーク１１０に対して加工を施す。なお、加工システム２内に複数の加工装置２０が設けられていてもよく、その場合、搬送システム１は、複数の加工装置２０間でワーク１１０の搬送を行うものであってもよい。

本実施形態によれば、上述の第１又は第２実施形態に係る搬送システム１が適用された加工システム２が提供される。

なお、加工システム２の構成は例示であり、加工システム２の構成は適宜変更可能である。例えば、制御システム３０が加工システム２全体の制御を行ってもよい。その場合、加工装置２０は制御システム３０によって制御される。

［その他の実施形態］
なお、上述の実施形態は、いずれも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。上述の説明におけるハードウェア構成、ソフトウェア構成、処理フロー、寸法、形状等は、本発明の範囲を限定する趣旨のものではない。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。例えば、いずれかの実施形態の一部の構成を、他の実施形態に追加した実施形態、あるいは他の実施形態の一部の構成と置換した実施形態も本発明を適用し得る実施形態であると理解されるべきである。

上述の実施形態においては、主に搬送システム１に含まれる可動子１０１の数が１つである例を示しているが、可動子１０１の個数は複数であってもよい。この場合、複数の可動子１０１が近接して配置され得る。この状態で特許文献１のように可動子１０１を移動させる処理を要する初期位置の推定手法を適用すると、複数の可動子１０１同士が干渉する可能性がある。上述の実施形態では、可動子１０１の位置の検出時における可動子１０１の移動量を低減することができるため、複数の可動子１０１同士が干渉する可能性を低減することができる。したがって、上述の実施形態の構成は、搬送システム１に含まれる可動子１０１の数が複数である場合においても好適に用いられ得る。

本発明は、上述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。

１ 搬送システム
３０ 制御システム
１０１ 可動子
１０２ 永久磁石群
２０１ 固定子
２０２ コイル

Claims (20)

1. 搬送方向に沿って所定の間隔で配され、各々に流れる電流を独立に制御可能な複数のコイルと、
   前記搬送方向に沿って所定の間隔で配された複数の磁石よりなる磁石群を備え、前記複数のコイルと前記磁石群との間に生じる磁力に応じて前記搬送方向に移動する可動子と、
   前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値に基づいて前記可動子の位置を推定する位置推定部と、
   を有することを特徴とする搬送システム。
2. 前記位置推定部は、前記可動子が近接していない状態に相当する前記複数のコイルの各々のインダクタンスの基準値に更に基づいて前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項１に記載の搬送システム。
3. 前記位置推定部は、前記複数のコイルの各々のインダクタンスの前記測定値と前記基準値との差に基づいて前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項２に記載の搬送システム。
4. 前記位置推定部は、前記複数のコイルの前記搬送方向における配置を示す配置情報に更に基づいて前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の搬送システム。
5. 前記位置推定部は、前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値の前記搬送方向における分布を示す第１パターンに更に基づいて前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の搬送システム。
6. 前記位置推定部は、前記第１パターンと、前記複数のコイルのうちの１つのコイルに対する前記可動子の位置関係を変化させたときの前記１つのコイルにおけるインダクタンスの変化を示す第２パターンと、に基づいて前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項５に記載の搬送システム。
7. 前記位置推定部は、前記第１パターンと前記第２パターンのマッチング誤差が最小になるように前記可動子の位置を推定する
   ことを特徴とする請求項６に記載の搬送システム。
8. 前記位置推定部は、前記第１パターンにおいて、インダクタンスが所定の閾値以上である範囲を前記可動子の推定範囲とする
   ことを特徴とする請求項５に記載の搬送システム。
9. 前記位置推定部は、前記第１パターンにおいて、インダクタンスが所定の閾値以下である範囲を前記可動子の推定範囲とする
   ことを特徴とする請求項５に記載の搬送システム。
10. 前記位置推定部は、前記第１パターンにおいて、前記搬送方向において隣接するコイル間のインダクタンスの差分が所定の閾値以上である範囲を前記可動子の推定範囲とする
    ことを特徴とする請求項５に記載の搬送システム。
11. 前記位置推定部は、前記推定範囲の中点を前記可動子の位置と推定する
    ことを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の搬送システム。
12. 前記位置推定部は、前記第１パターンを空間周波数ドメインに変換して得られた位相に更に基づいて前記可動子の位置を推定する
    ことを特徴とする請求項８乃至１１のいずれか１項に記載の搬送システム。
13. 前記複数のコイルの間隔に対応する第１空間周波数は、前記複数の磁石の間隔に対応する第２空間周波数の２倍未満であり、
    前記位置推定部は、前記第２空間周波数のエイリアスである第３空間周波数における位相に基づいて前記可動子の位置を推定する
    ことを特徴とする請求項１２に記載の搬送システム。
14. 前記複数のコイルの間隔に対応する第１空間周波数は、前記複数の磁石の間隔に対応する第２空間周波数の２倍以上であり、
    前記位置推定部は、前記第２空間周波数における位相に基づいて前記可動子の位置を推定する
    ことを特徴とする請求項１２に記載の搬送システム。
15. 複数の前記可動子を有する
    ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の搬送システム。
16. 請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の搬送システムと、
    前記可動子により搬送されるワークに対して加工を施す加工装置と、
    を有することを特徴とする加工システム。
17. 請求項１６に記載の加工システムを用いて物品を製造する製造方法であって、
    前記可動子により前記ワークを搬送する工程と、
    前記可動子により搬送された前記ワークに対して前記加工装置により前記加工を施す工程と、
    を有することを特徴とする製造方法。
18. 搬送方向に沿って所定の間隔で配され、各々に流れる電流を独立に制御可能な複数のコイルと、
    前記搬送方向に沿って所定の間隔で配された複数の磁石よりなる磁石群を備え、前記複数のコイルと前記磁石群との間に生じる磁力に応じて前記搬送方向に移動する可動子と、
    を有する搬送システムの制御方法であって、
    前記複数のコイルの各々のインダクタンスの測定値に基づいて前記可動子の位置を推定するステップ
    を有することを特徴とする制御方法。
19. コンピュータに請求項１８に記載の制御方法を実行させるためのプログラム。
20. コンピュータに請求項１８に記載の制御方法を実行させるためのプログラムを記憶する記憶媒体。

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