JP2022088277A

JP2022088277A - スピロ化合物、重合体、組成物、硬化物、成形体及び硬化物の製造方法

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Publication number: JP2022088277A
Application number: JP2020200638A
Authority: JP
Inventors: 友泰川原; Tomoyasu Kawahara; 憲司原; Kenji Hara; 進熊谷; Susumu Kumagai; 直美佐藤; Naomi Sato
Original assignee: Adeka Corp
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 2020-12-02
Filing date: 2020-12-02
Publication date: 2022-06-14

Abstract

【課題】低溶融粘度、高屈折率、及び高ガラス転移温度を有し、優れた光学材料となりうる重合体及び該重合体を与える化合物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表される骨格を有するスピロ化合物をモノマーとして、重合体を得る。TIFF2022088277000042.tif54158【選択図】なし

Description

本発明は、スピロ化合物及びその重合体、これらを含む組成物及びその硬化物、当該組成物を用いた硬化物の製造方法、並びに前記重合体の成形体に関するものである。

カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性や透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れており、様々な屈折率（ｎＤ）やアッベ数（νＤ）を有する多種類の材料が存在している。しかし、光学ガラスは、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。とりわけ、収差補正に使用される非球面レンズに加工するには、極めて高度な技術と高いコストがかかるため実用上大きな障害となっている。

一方、光学用透明樹脂、中でも熱可塑性透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、現在カメラ用レンズ用途として使用されている。光学用透明樹脂としては、ポリスチレン、ポリ－４－メチルペンテン、ポリメチルメタクリレートなどが例示される。

しかしながら、光学用透明樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数以外にも、耐熱性が求められるため、樹脂の特性バランスによって使用箇所が限定されてしまうという弱点がある。例えば、ポリスチレン、ポリ－４－メチルペンテン、ポリメチルメタクリレートは何れも耐熱性が低い等の弱点を有するため使用箇所が限られてしまい好ましくない。

一方、一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい面で実現できるため、発生する収差量を小さくできる。高屈折率化は、レンズの枚数の低減、レンズの偏心感度の低減、レンズ厚の低減によるレンズ系の小型軽量化を可能にするため有用である。

特許文献１においてはフルオレン骨格を有するポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂が、光学材料用途に好適な樹脂として提案されている。

特開２０１７－１７１８２７号公報

しかしながら、特許文献１に記載されたようなフルオレン骨格のジオキシ単位を有する樹脂は、溶融粘度が高く、成形性に劣る。
本発明が解決しようとする課題は、低溶融粘度、高屈折率、及び高ガラス転移温度を有し、優れた光学材料となりうる重合体及び当該重合体を与える化合物を提供することである。

本発明者は、鋭意検討を行い、特定の構造を有するスピロ化合物を用いることで上記課題を解決できることを知見した。

すなわち、本発明は以下の各項に関するものである。
［１］下記式（Ｉ）で表される骨格を有するスピロ化合物。

［２］下記式（ＩＩ）で表される骨格を有する請求項１に記載のスピロ化合物。

［３］反応性基を有する［１］又は［２］に記載のスピロ化合物。

［４］下記式（Ｖ）で表される［１］～［３］の何れかに記載のスピロ化合物。

（式中、環Ａ１及び環Ａ２は、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環から選ばれる少なくとも一種であり、Ｒ^５１及びＲ^５３はそれぞれ独立して水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
ｐ及びｑは０以上の整数であってそれぞれ環Ａ１及び環Ａ２において取りうる数であり、
Ｒ^５２及びＲ^５４は、それぞれ独立に、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、下記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、ｐ又はｑが２以上の場合、複数存在するＲ^５２同士、複数存在するＲ^５４同士はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^２５－、－ＮＲ^２５ＣＯ－、及び－Ｓ－であり、
Ｒ^２５は、水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）
［５］式（Ｖ）で表される化合物が、下記式（ＶＩ）で表される化合物である、［４］に記載の化合物。

（式中、Ｒ^１’～Ｒ^１０’は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３’及びＲ^４’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^８’及びＲ^９’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）
［６］式（Ｖ）で表される化合物が、下記式（ＶＩＩ）で表される化合物である、［４］に記載の化合物。

（式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９、Ｒ^４０、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^４４のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^３８、Ｒ^３７及びＲ^３９のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）

［７］［３］～［６］の何れかに記載のスピロ化合物をモノマーとする重合体。

［８］［１］～［６］のいずれか１項に記載のスピロ化合物を含有するか、又は、［７］に記載の重合体を含有する組成物。

［９］重合開始剤を含有する［８］に記載の組成物。

［１０］［９］に記載の組成物より得られる硬化物。

［１１］［７］に記載の重合体を有する成形体。

［１２］［９］に記載の組成物を加熱する工程、又は当該組成物に光を照射する工程を有する、硬化物の製造方法。

本発明によれば、高屈折率、高ガラス転移温度、及び低溶融粘度を有する重合体を提供できるとともに当該重合体を与えるモノマーであるスピロ化合物を提供できる。本発明の化合物を用いれば、優れた高屈折率と耐熱性を有し、小型軽量化を図れる光学レンズを良好な成形性により得ることができる。

以下、本発明について、その好ましい実施形態について詳細に説明する。
１．スピロ化合物

本発明のスピロ化合物は式（Ｉ）で表される骨格を有する。

本発明のスピロ化合物は式（Ｉ）で表される骨格を有する化合物の中でも、下記式（ＩＩ）で表される骨格を有することが高屈折率かつ高アッベ数を示すことから好ましい。

本発明のスピロ化合物は、反応性基を有することが、高屈折率、高アッベ数が必要となる硬化物を得ることができる重合体又は重合性組成物を与える誘導体として有用であるため好ましい。

上記反応性基としては、反応して共有結合を形成できるものであれば制限がないが、例えば、水酸基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、ビニル基、イソシアネート基、メルカプト基、アミノ基（－ＮＨ_２、第１級アミノ基、第２級アミノ基）、カルボキシル基、酸無水物基などが挙げられ、耐熱性が高い硬化物が得られること、様々な誘導体に応用できることから水酸基が特に好ましい。

特に本発明のスピロ化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表されるスピロ化合物であることが高屈折率かつ高アッベ数を示すことから好ましく、とりわけ下記式（ＩＶ）で表されるスピロ化合物であることが、製造容易性の点で好ましい。

（式中、Ｒ^１～Ｒ^１０は、それぞれ独立に、水素原子、反応性基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、下記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１～Ｒ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、下記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^２５－、－ＮＲ^２５ＣＯ－、及び－Ｓ－であり、
Ｒ^２５は、水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^４とＲ^５、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^９とＲ^１０、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）

Ｒ^１１～Ｒ^２４で表される基が反応性基を有さない化合物は、保存安定性に優れることから好ましい。

（式中、Ｒ^１～Ｒ^１４は、式ＩＩＩと同じである。）

Ｒ^１～Ｒ^２５で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基としては、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～２０のアルケニル基、炭素原子数６～２０のアリール基及び炭素原子数７～２０のアリールアルキル基等であることが好ましい。炭素原子数１～２０のアルキル基は、炭素原子数１～２０の鎖状アルキル基のほか、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基を含む。これらの炭化水素基の中でも、光学材料として用いる場合、原料の入手容易性及び化合物の製造容易性の点から炭素原子数１～１０の鎖状アルキル基、炭素原子数２～１０のアルケニル基、炭素原子数３～１０のシクロアルキル基、炭素原子数４～１０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６～１０のアリール基及び炭素原子数７～１０のアリールアルキル基等であることがより好ましい。

上記炭素原子数１～２０の鎖状アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２－エチルヘキシル、ｔ－オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等が挙げられる。

上記炭素原子数２～２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル、２－プロペニル、３－ブテニル、２－ブテニル、４－ペンテニル、３－ペンテニル、２－ヘキセニル、３－ヘキセニル、５－ヘキセニル、２－ヘプテニル、３－ヘプテニル、４－ヘプテニル、３－オクテニル、３－ノネニル、４－デセニル、３－ウンデセニル、４－ドデセニル、３－シクロヘキセニル、２，５－シクロヘキサジエニル－１－メチル、及び４，８，１２－テトラデカトリエニルアリル等が挙げられる。

上記炭素原子数３～２０のシクロアルキル基とは、３～２０の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられる。これらのシクロアルキル基の水素原子の１つ又は２以上は、炭素原子数が２０以下となる範囲で、アルキル基、アルケニル基で置換されていてもよい。

上記炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された４～２０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、シクロデシルメチル、２－シクロブチルエチル、２－シクロペンチルエチル、２－シクロヘキシルエチル、２－シクロヘプチルエチル、２－シクロオクチルエチル、２－シクロノニルエチル、２－シクロデシルエチル、３－シクロブチルプロピル、３－シクロペンチルプロピル、３－シクロヘキシルプロピル、３－シクロヘプチルプロピル、３－シクロオクチルプロピル、３－シクロノニルプロピル、３－シクロデシルプロピル、４－シクロブチルブチル、４－シクロペンチルブチル、４－シクロヘキシルブチル、４－シクロヘプチルブチル、４－シクロオクチルブチル、４－シクロノニルブチル、４－シクロデシルブチル、３－３－アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられる。

上記炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、ナフチル、アンスリル、フェナントレニル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やシクロアルキル基等で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、４－メチルフェニル、４－ビニルフェニル、４－メチルフェニル、２，４，６－トリメチルフェニル等が挙げられる。

上記炭素原子数７～２０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７～２０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α－メチルベンジル、α、α－ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられる。上記炭素原子数７～１０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７～１０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α－メチルベンジル、α、α－ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。

上記Ｒ^１～Ｒ^２４で表される、炭素原子数１～２０の炭化水素基におけるメチレン基が＜群Ａ＞より選ばれる基により置換された基としては、上記Ｒ^１～Ｒ^２４で表される１価の炭化水素基として挙げた各種の基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が＜群Ａ＞から選ばれる基で置換された基が挙げられる。なお、本明細書では、炭化水素基中のメチレン基の１つ又は２つ以上が＜群Ａ＞より選ばれる基により置換されている基において、＜群Ａ＞から選ばれる基は互いに隣り合わないものとする。同様に、後述する炭化水素基中のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基において、－Ｏ－同士は隣り合わず、－Ｓ－同士は隣り合わず、－Ｏ－及び－Ｓ－も互いに隣り合わないものとする。

Ｒ^１～Ｒ^２４で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基又は炭素原子数１～２０の炭化水素基中のメチレン基が上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基中の水素原子の１つ又は２つ以上は、ハロゲン原子、反応性基、第３級アミノ基、ニトロ基、シアノ基、又は炭素原子数２～１９の複素環含有基（以下、これらを単に「置換基」と記載する場合がある。）で置換される場合がある。このような置換基を有する場合、Ｒ^１～Ｒ^２４で表される炭化水素基やそのメチレン基の１つ又は２つ以上が上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基の炭素原子数の規定は、上記置換基の炭素原子数を含めた数とする。このことは、Ｒ^５２、Ｒ^５４、Ｒ^１’～Ｒ^１０’及びＲ^３１～Ｒ^４４で表される置換された炭化水素基又は当該炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞より選ばれる基により置換された基についても同様である。

置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

置換基としてのＲ^１～Ｒ^２４で表される炭素原子数２～１９の複素環含有基としては、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジニル、トリアジニルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、キノキサリル、キナゾリル、シンノリル、フタラジル、プリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾトリアゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２－ピロリジノン－１－イル、２－ピペリドン－１－イル、２，４－ジオキシイミダゾリジン－３－イル及び２，４－ジオキシオキサゾリジン－３－イルや、イソシアヌル、１、３－ジオキソラニル等の複素環基や、これらの複素環基が上記の炭化水素基又は炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞で置換された基と結合した基が挙げられる。複素環基が炭化水素基又は炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞で置換された基において、結合手は複素環上に存在してもよく、上記の炭化水素基又は炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞で置換された基に存在してもよい。

置換基としてのアミノ基並びに上記Ｒ^１～Ｒ^１０で表されるアミノ基としては、－ＮＨ_２、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基が挙げられる。

置換基としての酸無水物基並びに上記Ｒ^１～Ｒ^１０で表される酸無水物基としては、例えば、カルボン酸無水物基、スルホン酸無水物基、燐酸無水物基等が挙げられる。

本発明のスピロ化合物は反応性基を２つ以上有することが反応性の点から好ましく、互いに同一な２つ以上の反応性基を有することが重合性の点で好ましい。
例えばスピロ化合物が２つ以上の反応性基を有する場合、そのうち２つの反応性基の置換位置は、反応性基が水酸基であった場合にスピロ化合物を２つのヒドロキシフェニル基又は２つのヒドロキシナフチル基を有する化合物とする位置であることが、当該スピロ化合物が安定性に優れ、重合性が高いので好ましい。更に安定性及び重合性を高めるために、２つの反応性基が２つのヒドロキシフェニル基を有する位置にある場合、２つのヒドロキシフェニル基は互いのベンゼン環同士が最短で１つの炭素原子で連結されていることが好ましく、同様に、２つのヒドロキシナフチル基は互いのナフタレン環同士が最短で１つの炭素原子で連結されていることが好ましい。ここで最短で１つの炭素原子で連結されているとは、環同士を最短経路で結んだ場合に両者の間に介在する炭素原子が１つという意味であり、連結基自体の炭素原子数を規定するものではない。２つのヒドロキシフェニル基が最短で１つの炭素原子で連結されている例としては例えばビスフェノールＡが挙げられる。

Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^４とＲ^５、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^９とＲ^１０、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４が、それぞれ結合し形成する環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピロリジン環、ピロール環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、テトラヒドロピリジン環、ラクトン環及びラクタム環等の５～７員環並びにナフタレン環及びアントラセン環等の縮合環等が挙げられる。これらの環中の水素原子は、上記置換基に置換されていてもよく、置換若しくは無置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞より選ばれる基で置換される基により置換されていてもよい。

また、Ｒ^１～Ｒ^５のいずれかが反応性基を有し、Ｒ^６～Ｒ^１０のいずれかが反応性基を有するか、又はＲ^１～Ｒ^５が結合するベンゼン環が縮合環の一部を構成し、Ｒ^６～Ｒ^１０が結合するベンゼン環が別の縮合環の一部を構成し、それら縮合環がそれぞれ反応性基を有することが重合性の点で好ましい。そのような縮合環としては、ナフタレン環、アントラセン環が好ましい。

スピロ化合物が２つ以上の反応性基を有する場合、そのうち２つの反応性基がＲ^１～Ｒ^５及びＲ^６～Ｒ^１０がそれぞれ結合したベンゼン環又は当該ベンゼン環が一部を構成する縮合環に、直接結合していることは、重合性の点で好ましい。
また２つの反応性基が、前記のベンゼン環又は前記の縮合環に、炭素原子数１～２０の炭化水素基又は当該炭化水素基中のメチレン基が上記＜群Ａ＞に置換された基を介して結合していることは、安定性に優れ、様々な誘導体を得やすいことから好ましい。

更に、Ｒ^３とＲ^４およびＲ^８とＲ^９がそれぞれ結合し、ベンゼン環を形成する構造を有するスピロ化合物は、屈折率が高いことから好ましい。
また、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^９、Ｒ^９とＲ^１０が、いずれも環を形成していない化合物は、低溶融粘度である点で好ましい。

高屈折率、低溶融粘度、安定性に優れ、様々な誘導体を得やすい点から、本発明のスピロ化合物としては、特に下記式（Ｖ）で表される化合物が好ましく、更に好ましくは、下記式（ＶＩ）又は（ＶＩＩ）で表される化合物である。式（ＶＩ）で表される化合物は、特に安定性に優れ、様々な誘導体を得やすいことから好ましい。（ＶＩＩ）で表される化合物は屈折率が高いことから好ましい。

（式中、環Ａ１及び環Ａ２は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環から選ばれる少なくとも一種であり、Ｒ^５１及びＲ^５３はそれぞれ独立して水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
ｐ及びｑは０以上の整数であってそれぞれ環Ａ１及び環Ａ２において取りうる数であり、
Ｒ^５２及びＲ^５４は、それぞれ独立に、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、下記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、ｐ又はｑが２以上の場合、複数存在するＲ^５２同士、複数存在するＲ^５４同士はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^２５－、－ＮＲ^２５ＣＯ－、及び－Ｓ－であり、
Ｒ^２５は、水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
Ｒ^１１～Ｒ^２４は式（ＩＩＩ）と同義である。）

いうまでもないが、環Ａ１上及び環Ａ２上の結合手のうち、Ｒ^５１、Ｒ^５２、Ｒ^５３、Ｒ^５４及び他の環（Ｒ^２３及びＲ^２４が結合するスピロ環）に結合する結合手以外の結合手には、水素原子が結合している。

（式中、Ｒ^１’～Ｒ^１０’は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３’及びＲ^４’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^８’ 及びＲ^９’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１～Ｒ^２４は式（ＩＩＩ）と同義である。）

（式中、Ｒ^３１～Ｒ^４４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^４４のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^３８、Ｒ^３７及びＲ^３９のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１～Ｒ^２４は式（ＩＩＩ）と同義である。）

Ｒ^５２、Ｒ^５４、Ｒ^１’～Ｒ^１０’及びＲ^３１～Ｒ^４４で表される置換若しくは非置換の炭化水素基又は当該炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞より選ばれる基により置換された基としては、上記Ｒ^１で表される置換若しくは非置換の炭化水素基又は炭化水素基中のメチレン基が＜群Ａ＞より選ばれる基により置換された基の例として上記で挙げたものが挙げられる。

上記Ｒ^１０１で表される炭素原子数１～２０の炭化水素基としては、上記Ｒ^１で表される１価の炭化水素基として挙げた各種の基に対応する２価の炭化水素基を挙げることができる。上記Ｒ^１０１で表される炭化水素基中の両端以外のメチレン基が－Ｏ－又は－Ｓ－で置換された基としては、上記Ｒ^１で表される１価の炭化水素基として挙げた各種の基に対応する２価の基中の酸素原子と結合する両端以外のメチレン基の１つ又は２つ以上が酸素原子又は硫黄原子が隣り合わない条件で、－Ｏ－又は－Ｓ－で置換された基が挙げられる。「両端以外のメチレン基」という記載とは、Ｒ^１０１で表される２価、つまり２つの結合手を有する基において、結合手を有するメチレン基以外のメチレン基を指す。Ｒ^１０１の炭素原子数としては、高屈折率の点から７以下であることが好ましく、５以下であることがより好ましく、３以下であることが特に好ましい。またＲ^１０１としては、安定性、高屈折の点から、アルキレン基又はアルキレン基におけるメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。Ｒ^１０１で表されるアルキレン基の例としては、メチレン、エチレン（エタン－１，２－ジイル）、プロピレン（プロパン－１，３－ジイル）、プロパン－１，１－ジイル、プロパン－１，２－ジイル、ブタン－１，１－ジイル、ブタン－１，２－ジイル、ブタン－１，３－ジイル、ペンタン－１，１－ジイル、ペンタン－１，２－ジイル、ペンタン－１，３－ジイル、ペンタン－１，４－ジイル等が挙げられる。

式（Ｖ）において、環Ａ１及び環Ａ２は互いに同一であってもよく異なってもよい。同様に、Ｒ^５１及びＲ^５３は互いに同一であってもよく異なってもよい。Ｒ^５２及びＲ^５４は互いに同一であっても異なってもよい。またｐ及びｑは互いに同一であってもよく異なっていてもよい。

式（ＩＩＩ）～（ＶＩＩ）において、Ｒ^１１、Ｒ^１３、およびＲ^１４は、それぞれ独立して、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキル基又は該アルキル基中のメチレン基が群＜Ａ＞で置換された基であることが好ましく、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～３のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。このようなスピロ化合物は、安定性に優れ、様々な誘導体を得やすいためである。

また、式（ＩＩＩ）～（ＶＩＩ）において、Ｒ^１２が水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数６～２０のアリール基又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキル基であるか、或いは、Ｒ^１１とＲ^１２又はＲ^１２及びＲ^１３が結合してベンゼン環、ナフタレン環を形成していることが好ましく、Ｒ^１２が水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数６～１２のアリール基であることが特に好ましい。このようなスピロ化合物は、安定性に優れ、高屈折率を得やすいためである。

式（Ｖ）においてＲ^５２及びＲ^５４で表される基としては、それぞれ独立して、置換若しくは非置換の炭素原子数６～２０のアリール基又は、置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキルであることが好ましく、置換若しくは非置換の炭素原子数６～１２のアリール基であることがより好ましい。当該化合物は安定性に優れ、高屈折率だからである。ｐ及びｑとしては、それぞれ独立に、０以上３以下が好ましく、０以上２以下がより好ましく、０以上１以下が特に好ましい。当該化合物は安定性に優れ、高屈折率だからである。ｐ及びｑの上限は、環Ａ１、環Ａ２がベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環の場合、それぞれ４、６、８である。

式（ＶＩ）においてＲ^１’、Ｒ^２’、Ｒ^５’ 、Ｒ^６’、Ｒ^７’及びＲ^１０’並びにＲ^３’、Ｒ^４’、Ｒ^８’及びＲ^９’うち水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨ以外の基としては、それぞれ独立して、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数６～２０のアリール基又は、置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキルであることが好ましく、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数６～１２のアリール基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。当該化合物は安定性に優れ、高屈折率だからである。
式（ＶＩＩ）においてＲ^３３～Ｒ^３６及びＲ^４０～Ｒ^４３並びにＲ^３１、Ｒ^３２及びＲ^４４及びＲ^３７～Ｒ^３９のうち水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨ以外の基としては、それぞれ独立して、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数６～２０のアリール基又は、置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキルであることが好ましく、水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数６～１２のアリール基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。当該化合物は安定性に優れ、高屈折率だからである。

式（ＩＩＩ）、（Ｖ）～（ＶＩＩ）において、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^２１～Ｒ^２４は水素原子であることが化合物の製造容易性や高屈折率の点で好ましい。またＲ^１７～Ｒ^２０は水素原子又は置換若しくは非置換の炭素原子数１～５のアルキル基又はアルキル基中のメチレン基が＜群Ａ＞で置換された基であることが好ましく、特に水素原子であることが化合物原料の入手容易性の点で好ましい。

本発明のスピロ化合物としては、下記化合物Ｎｏ．Ａ１～Ａ５７並びに後述する化合物Ｎｏ．１～４が挙げられる。なお、式中のＲとしては、水素原子又は－Ｒ^１０１ＯＨであってＲ^１０１が置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基が挙げられる。Ｒ^１０１としては、安定性、高屈折の点から、アルキレン基又はアルキレン基におけるメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。Ｒ^１０１で表されるアルキレン基の例としては、メチレン、エチレン（エタン－１，２－ジイル）、プロピレン（プロパン－１，３－ジイル）、プロパン－１，１－ジイル、プロパン－１，２－ジイル、ブタン－１，１－ジイル、ブタン－１，２－ジイル、ブタン－１，３－ジイル、ペンタン－１，１－ジイル、ペンタン－１，２－ジイル、ペンタン－１，３－ジイル、ペンタン－１，４－ジイル等が挙げられる。

本発明のスピロ化合物における、例えば式（Ｖ）においてＲ^５１及びＲ^５３が水酸基である化合物としては、下記式（ＶＩＩＩ）に示される骨格を有する中間体に、フェノール類を、オキシ塩化リンなどの酸触媒、及び３－メルカプトプロピオン酸などのチオール類（又は助触媒）の存在下で反応させる方法により得ることができる。フェノール類としては、フェノール、ｏ－クレゾール、２，６－ジメチルフェノール、ビフェニル－２－オール、２－ナフトール、１－ナフトールなどが挙げられる。また、式（Ｖ）においてＲ^５１及びＲ^５３が－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基である化合物の製造方法としては、式（Ｖ）においてＲ^５１及びＲ^５３が水酸基である化合物に対し、公知の方法でヒドロキシアルキル基を付加させればよい。下記式（ＶＩＩＩ）に示される骨格を有する中間体は、下記式（ＩＸ）に示される骨格を有する中間体に、ベンゼン又はその誘導体をトリフルオロメタンスルホン酸等の酸触媒存在下で反応させればよい。下記式（ＩＸ）に示される骨格を有する中間体は例えばフルオレノン又はその誘導体から公知の方法で製造できる。

２．重合体
スピロ化合物をモノマーとする重合体とは、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される骨格を繰り返し単位の中に有する重合体であり、高屈折率、高アッベ数が必要となる硬化物を得ることができることから、特にレンズ形成用材料として有用である。

上記重合体としては、重量平均分子量５，０００～１００，０００の範囲内が好ましく、１０，０００～６０，０００の範囲内である場合がより好ましく、２０，０００～６０，０００が特に好ましい。上記平均分子量の重合体は、成形性に優れるからである。重量平均分子量は後述する実施例に記載の方法にて測定できる。

重合体の種類としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂などが挙げられ、成形性に優れることからポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリカーボネート樹脂が好ましい。

本発明の重合体はポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂である場合、例えば、下記式（１）で表される構成単位を有する重合体から形成される。高屈折率、透明性、耐熱性の点から、式（１）で表される構成単位を有する重合体は、ｎ＝０でありＭ^２が直接結合である場合、ポリカーボネート樹脂であり、ｎ＝１でありＭ^２が２価の連結基である場合、ポリエステル樹脂である。

（式中、Ｍ^１は、下記式（ａ）で表される基を表し、
Ｍ^２は、直接結合又は２価の連結基を表し、
Ｘ^１は、直接結合又は－Ｒ^１０１Ｏ－を表し、
Ｘ^２は、直接結合又は－ＯＲ^１０１－を表し、
Ｒ^１０１は、炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基を表し、
重合体の構造中に、複数存在するＲ^１０１、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｍ^１及びＭ^２は、それぞれ、同一である場合があり、又は異なる場合があり、
ｎは、０又は１を表す。）

（式中、環Ａ１、環Ａ２、Ｒ^５２、Ｒ^５４、ｐ、ｑ、Ｒ^１１～Ｒ^２４は式（Ｖ）と同義である。＊は結合手を表す。）

上記式（１）中のＭ^２で表される２価の連結基としては、ジカルボン酸残基又はジカルボン酸誘導体残基が好ましく挙げられる。
ジカルボン酸残基又はジカルボン酸誘導体残基としては、ジカルボン酸残基、ジカルボン酸クロリド（「ジカルボン酸ジクロリド」ともいう。）残基、ジカルボン酸無水物残基が挙げられる。
ジカルボン酸残基はジカルボン酸から２つのＣＯＯＨ基を除いた構造の残基を指し、ジカルボン酸クロリド残基はジカルボン酸クロリドから２つのＣＯＣｌ基を除いた構造の残基を指す。Ｍ^２で表される２価の連結基の炭素原子数は１以上６０以下であることが重合体の製造容易性や安定性の点で好ましく、２以上４０以下であることが更に好ましく、２以上３２以下であることが特に好ましい。

式（１）中のＸ^１及びＸ^２が、直接結合である重合体は、屈折率及びガラス転移温度が高く、安定性に優れることから好ましい。
式（１）中のＸ^１及びＸ^２が、それぞれ－Ｒ^１０１Ｏ－及び－ＯＲ^１０１－である重合体は、重合性に優れることから好ましい。
なお、スピロ化合物について上記で述べた各種構成についての好ましい内容は、上記式（１）で表される重合体においても該当する。

式（１）で表される構成単位の質量が、重合体に対して１０～１００質量％である重合体は、屈折率、耐熱性に優れることから好ましく、２０～１００質量％がより好ましく、３０～１００質量％が特に好ましく、４０～１００質量％がとりわけ好ましく、６０～１００質量％が最も好ましい。

上記重合体は、耐熱性に優れることが好ましく、具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましい。重合体の製造容易性等の点からガラス転移温度は２５０℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度は後述する実施例に記載の方法にて測定できる。

上記重合体は、成形性に優れることから、３００℃の溶融粘度が１，０００Ｐａ・ｓ未満であることが好ましく、８００Ｐａ・ｓ未満であることがより好ましい。溶融粘度は後述する実施例に記載の方法にて測定できる。

式（１）においてｎ＝０でありＭ^２が直接結合である重合体はジオール成分と炭酸ジエステルを塩基性化合物触媒又はエステル交換触媒若しくはその双方からなる混合触媒の存在下で反応させる、公知の溶融重縮合法により製造できる（以下、「ポリカーボネート樹脂である重合体の製造方法」と記載する。）。
また、式（１）においてｎ＝１でありＭ^２が２価の連結基である重合体は、原料のジオール成分と、ジカルボン酸又はジカルボン酸誘導体とを反応させることにより製造することができる（以下、「ポリエステル樹脂である重合体の製造方法」と記載する）。
ここで、ジオール成分、炭酸ジエステル、ジカルボン酸及びジカルボン酸誘導体は１種のみを用いることもできるし、２種以上を用いることもできる。

まず、ポリカーボネート樹脂である重合体の製造方法について説明する。上記ジオール成分として上記式（Ｖ）に記載の化合物が挙げられる。上記ジオール成分の好ましい例としては、上記式（Ｖ）で表されるスピロ化合物の好ましいものとして上記で挙げたものが挙げられ、上記記載の化合物Ｎｏ．Ａ１～Ａ５６、下記記載の化合物Ｎｏ．１～４が挙げられる。

上記炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ－クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に重合性に優れる点でジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジオール成分１モルに対して０．９７～１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８～１．１０モルの比率である。炭酸ジエステルは１種のみを用いることもできるし、２種以上を用いることもできる。

上記塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、及び含窒素化合物等があげられる。

上記アルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。

上記アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。

上記含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシド及びそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール、基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類、２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が用いられる。

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独若しくは組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒としては、例えば、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２－エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が挙げられる。

これらの触媒は、ジオール成分の合計１モルに対して、１０^－９～１０^－２モルの比率で、好ましくは１０^－７～１０^－３モルの比率で用いられる。

溶融重縮合法は、前記の原料及び触媒を用いて、常圧又は減圧下で加熱し、副生成物を除去しながらエステル交換反応により溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段行程で実施される。

具体的には、常圧又は減圧下、第一段目の反応を１２０～２６０℃、好ましくは１８０～２４０℃の温度で０．１～５時間、好ましくは０．５～３時間行う。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めてジオール成分と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２００～３５０℃の温度で０．０５～２時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して適宜組み合わせた反応装置を使用して好適に実施される。

次いで、ポリエステル樹脂である重合体の製造方法について更に詳細に説明する。
ジオール成分及びその好ましいものとしては、ポリカーボネート樹脂である重合体の製造方法で説明したものと同様のものが挙げられる。ジカルボン酸及びジカルボン酸誘導体としては上述したものが挙げられる。

ジジカルボン酸又はジカルボン酸誘導体は、ジオール成分１モルに対して０．９７～１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８～１．１０モルの比率である。

３．成形体
次に本発明の成形体について説明する。
本発明の成形体は、上記で説明した本発明の重合体を含有していればよく、特に限定されないが、成形性が高く、高透明性、高屈折率であり、薄膜を形成できることから光学材料、特に光学レンズに好ましく使用できる。

上記成形体は、異物含有量が極力少ないことが望まれるため、上記重合体を製造する際には、溶融原料の濾過、触媒液の濾過が好適に実施される。濾過に用いるフィルターのメッシュは５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。更に、得られた上記重合体のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、上記重合体のペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス１０００以下であることが好ましく、より好ましくはクラス１００以下である。

本発明の成形体は、本発明の重合体を射出成形機あるいは射出圧縮成形機により所望の形状に射出成形することによって得ることができる。射出成形の成形条件は特に限定されないが、成形温度は好ましくは１４０～２８０℃である。また、射出圧力は好ましくは５０～１７００ｋｇ／ｃｍ^２である。

成形体への異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス１０００以下であることが好ましく、より好ましくはクラス１００以下である。

このようにして得られる本発明の成形体は、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で測定した屈折率が１．５０以上であり、好ましくは、１．５５～１．８、特に好ましくは１．６３～１．７５である。このような高屈折率の成形体を用いることで小型軽量な光学レンズが得られる好適である。

上記成形体からなる光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。これらのうちでより好ましいものは酸化ケイ素、酸化ジルコニウムであり、更に好ましいものは酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの組み合わせである。
また、反射防止層に関しては、単層／多層の組み合わせ、またそれらの成分、厚みの組み合わせ等について特に限定はされないが、好ましくは２層構成又は３層構成、特に好ましくは３層構成である。また、該反射防止層全体として、光学レンズの厚みの０．０００１７～３．３％、具体的には０．０５～３μｍ、特に好ましくは１～２μｍとなるような厚みで形成するのがよい。

４．組成物
本発明の組成物は、上記の本発明のスピロ化合物又は本発明の重合体を含有する。本発明の組成物は、本発明のスピロ化合物又は本発明の重合体に加えて任意の成分を含有していてもよい。例えば本発明のスピロ化合物又は本発明の重合体を用いて硬化物を製造する際には、本発明の組成物はラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等の硬化性成分を含有することができる。硬化性成分としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等を有していてもよい。

ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能な反応性基を有する。ラジカル重合可能な反応性基としては、例えば、アクリル基、メタアクリル基、ビニル基等のエチレン性不飽和二重結合基を挙げることができる。
カチオン重合性化合物は、カチオン重合可能な反応性基を有する。カチオン重合可能な反応性基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタン基等の環状エーテル基並びにビニルエーテル基等を挙げることができる。
アニオン重合性化合物としては、アニオン重合可能な反応性基を有する。上記アニオン重合可能な反応性基としては、例えば、エポキシ基、ラクトン基、アクリル基、メタアクリル基等を挙げることができる。
本発明の組成物は、本発明のスピロ化合物又は本発明の重合体において上記の各種反応性基を有させてもよいし、本発明のスピロ化合物又は本発明の重合体以外の化合物に上記各種の反応性基を有させてもよい。

本発明の組成物は、本発明の組成物が含む硬化性成分における反応性基に合わせた重合開始剤を含有することができる。例えば重合開始剤としては光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤、熱アニオン重合開始剤等が挙げられる。重合開始剤の量としては、硬化性成分を重合させるために適した量が挙げられる。
なお、硬化性成分及び各種重合開始剤の具体例としては、再表２０１９／０６９９６１号公報に記載のものが挙げられる。

５．硬化物及びその製造方法
本発明の組成物は加熱又は光（エネルギー線）照射によって硬化させ、硬化物を製造することができる。

以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。

［実施例１］化合物Ｎｏ．１の合成
＜ステップ１＞中間体１Ａの合成
１Ｌの４つ口フラスコに窒素をフローし、６０質量％流動パラフィン分散ＮａＨ１０．２１ｇ（０．２５５ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１１１．１１ｇを加え、攪拌を開始した。そこにホスホノ酢酸トリエチル５７．２３ｇ（０．２５５ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、１時間室温で攪拌した。次に、ＴＨＦ１１１．１１ｇに溶解させたフルオレノン４０．００ｇ（０．２２２ｍｏｌ）を滴下した後、６０℃で２時間加熱攪拌した。氷冷後、イオン交換水１１１．１１ｇ、酢酸エチル１６６．２７ｇを加え、油水分離を行った。有機層をイオン交換水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣にイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）５４．６２ｇを加え攪拌することで結晶が析出したため、結晶をろ取、乾燥した。目的物である中間体１Ａを２９．１６ｇ、収率５２．５％で得た。ＨＰＬＣ純度（２５４ｎｍ）：９８．９５％、^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１．３９ｐｐｍ（ｔ，３Ｈ）、４．３４ｐｐｍ（ｑ，２Ｈ）、６．７５ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．３０ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）、７．６３ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ）、８．８９ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）。

＜ステップ２＞中間体１Ｂの合成
５００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体１Ａ２８．００ｇ（０．１１２ｍｏｌ）、エタノール１１２．００ｇを加え攪拌を開始した。そこに、５０質量％ＮａＯＨ水溶液１１．６３ｇ（０．１４５ｍｏｌ）を滴下した後、７０℃で１時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、イオン交換水１００．００ｇ、ヘキサン１００．００ｇを加え油水分離した。水層に５質量％ＨＣｌ１１４．０１ｇ（０．１５７ｍｏｌ）を滴下することで結晶が析出したため、結晶をろ取、乾燥した。目的物である中間体１Ｂを２１．６４ｇ、収率８７．１％で得た。ＨＰＬＣ純度（２３０ｎｍ）９９．４９％、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：６．９９ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）、７．３３ｐｐｍ（ｑ，２Ｈ）、７．４５ｐｐｍ（ｑ，２Ｈ）、７．８４ｐｐｍ（ｑ，２Ｈ）、７．９３ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、８．６７ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、１３．００ｐｐｍ（ｓ，１Ｈ）。

＜ステップ３＞中間体１Ｃの合成
３００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体１Ｂ２０．００ｇ（０．０９ｍｏｌ）トリフルオロメタンスルホン酸１３５．０６ｇ（０．９０ｍｏｌ）、ベンゼン１４０．５９ｇ（１．８０ｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間加熱攪拌した。氷冷し、水６０．００ｇ、塩化メチレン６０．００ｇを加え、油水分離した。有機層を１０質量％食塩水で４回水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム）で単離した。目的物である中間体１Ｃを７．１９ｇ、収率２８．３％で得た。ＨＰＬＣ純度（２３０ｎｍ）９９．９％、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．２３ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．５６ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、７．１５ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．２７ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）、７．４２ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）、７．５０ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、７．８２ｐｐｍ（ｍ，１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）。

＜ステップ４＞化合物Ｎｏ．１の合成
３００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体１Ｃ７．１０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、フェノール２３．６７ｇ（０．２５１ｍｏｌ）、３－メルカプトプロピオン酸０．６４ｇ（０．００６ｍｏｌ）、オキシ塩化リン１．９３ｇ（０．０１３ｍｏｌ）を加え、６５℃で１３時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、イオン交換水２２．７６ｇ、酢酸エチル３４．１４ｇを加え、油水分離した。有機層を５質量％ＮａＯＨ水溶液で中和、イオン交換水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣にクロロホルム１００ｇを加え分散洗浄することで結晶が析出したためろ取、乾燥した。目的物である化合物Ｎｏ．１の白色固体を６．９５ｇ、収率６１．１％で得た。ＨＰＬＣ純度（２３０ｎｍ）９７．５％、融点２２５℃、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．４４ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．２６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、６．６８ｐｐｍ（ｄ，４Ｈ）、６．７６ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．０６ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、７．３１ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ）、７．８５ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、９．３８ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。

［実施例２］化合物Ｎｏ．２の合成
１００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、化合物Ｎｏ．１６．００ｇ（０．０１３ｍｏｌ）、炭酸エチレン２．５７ｇ（０．０２９ｍｏｌ）、炭酸カリウム０．０５ｇ（３．９８×１０^－４ｍｏｌ）、ジメチルアセトアミド２１．５０ｇを加え、１２０℃で５時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、イオン交換水２０．００ｇ、酢酸エチル２０．００ｇを加え、油水分離した。有機層をイオン交換水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣のヘプタン５０．００ｇを加え、攪拌することで結晶が析出したため、ろ取、乾燥した。目的物である化合物Ｎｏ．２の白色固体を６．５２ｇ、収率９０．９％で得た。ＨＰＬＣ純度（２３０ｎｍ）９９．５％、融点１４７℃、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．６９ｐｐｍ（ｔ，４Ｈ）、４．３３ｐｐｍ（ｔ，４Ｈ）、４．９０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．２６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、６．６８ｐｐｍ（ｄ，４Ｈ）、６．７６ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．０６ｐｐｍ（ｍ，８Ｈ）、７．３１ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ）、７．８５ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）。

［実施例３］化合物Ｎｏ．３の合成
３００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体１Ｃ５．００ｇ（０．０１８ｍｏｌ）、１－ナフトール２５．５３ｇ（０．１７７ｍｏｌ）、３－メルカプトプロピオン酸０．４５ｇ（０．００４ｍｏｌ）、オキシ塩化リン１．３６ｇ（０．００９ｍｏｌ）を加え、６５℃で１６時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、イオン交換水３０．００ｇ、酢酸エチル３５．００ｇを加え、油水分離した。有機層を５質量％ＮａＯＨ水溶液で中和、イオン交換水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣にクロロホルム１００ｇを加え分散洗浄することで結晶が析出したためろ取、乾燥した。目的物である化合物Ｎｏ．３の白色固体を８．１９ｇ、収率８３．２％で得た。ＨＰＬＣ純度（２３０ｎｍ）９９．１％、融点２４３℃、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．４４ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、７．０１ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ）、７．１２ｐｐｍ（ｍ，２Ｈ）、７．３０ｐｐｍ（ｍ，９Ｈ）、７．５１ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）、７．６７ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．７８ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．９０ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、９．３９ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。

［実施例４］化合物Ｎｏ．４の合成
＜ステップ１＞中間体４Ａの合成
３００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体１Ｂ２０．００ｇ（０．０９ｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸１３５．０６ｇ（０．９０ｍｏｌ）、ビフェニル１３．８８ｇ（０．０９ｍｏｌ）、クロロホルム６４．５１ｇを加え、６０℃で１時間加熱攪拌した。氷冷し、水６０．００ｇ、塩化メチレン４０．００ｇを加え、油水分離した。有機層を１０質量％食塩水で４回水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣にメチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）１００ｇを加え攪拌することで結晶が析出したため、ろ取、乾燥した。目的物である中間体４Ａを１４．３０ｇ、収率４４．３％で得た。ＨＰＬＣ純度（２５４ｎｍ）９８．１％、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．２９ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．６３ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、７．２１ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．２９ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）、７．５０ｐｐｍ（ｍ，５Ｈ）、７．７０ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．７８ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、８．００ｐｐｍ（ｍ，３Ｈ）。

＜ステップ２＞化合物Ｎｏ．４の合成
１００ｍＬの４つ口フラスコに窒素をフローし、中間体４Ａ１０ｇ（０．０２８ｍｏｌ）、フェノール２６．２６ｇ（０．２７９ｍｏｌ）、３－メルカプトプロピオン酸０．７１ｇ（０．００７ｍｏｌ）、オキシ塩化リン４．２８ｇ（０．０２８ｍｏｌ）を加え６５℃で１５時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、イオン交換水２０．００ｇ、酢酸エチル２０．００ｇを加え、油水分離した。有機層を５質量％ＮａＯＨ水溶液で中和、イオン交換水で３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧溶媒留去を行った。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒：クロロホルム）で単離した。目的物である化合物Ｎｏ．４を８．３４ｇ、収率５６．５％で得た。ＨＰＬＣ純度（２５４ｎｍ）９９．５％、融点２５８℃（ＴＧ－ＤＴＡ）、^１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：３．５０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）、６．３６ｐｐｍ（ｄ，１Ｈ）、６．７４ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、６．７９ｐｐｍ（ｄ，４Ｈ）、７．０７～７．１７ｐｐｍ（ｍ，７Ｈ）、７．３２ｐｐｍ（ｍ，４Ｈ）、７．４２ｐｐｍ（ｔ，２Ｈ）、７．５４ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、７．８７ｐｐｍ（ｄ，２Ｈ）、９．４０ｐｐｍ（ｓ，２Ｈ）。

［実施例５］ポリカーボネート化合物Ｎｏ．５の製造（重合体Ｎｏ．１）
化合物Ｎｏ．１の１．００ｍｏｌ、ジフェニルカーボネートの１．０５ｍｏｌ、及び炭酸水素ナトリウムの１．００×１０^－６ｍｏｌを撹拌機、及び留出機付きの１Ｌ反応器に入れ、窒素雰囲気７６０ｔｏｒｒの下、攪拌しながら１８０℃に加熱した。
その後、１５分かけて減圧度を２００ｔｏｒｒ、温度を２００℃に調整し、同条件で２０分間保持し、エステル交換反応を行った。さらに３０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃１５０ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃１ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間重合反応を行った。反応終了後、反応器に窒素を吹き込んで常圧に戻し、化合物Ｎｏ．５（重合体Ｎｏ．１）を得た。

［実施例６］ポリカーボネート化合物Ｎｏ．６の製造（重合体Ｎｏ．２）
実施例５において、用いた化合物Ｎｏ．１を化合物Ｎｏ．２に変えた以外は同様の操作を行い、化合物Ｎｏ．６（重合体Ｎｏ．２）を得た。

［実施例７］ポリカーボネート化合物Ｎｏ．７の製造（重合体Ｎｏ．３）
実施例５において、化合物Ｎｏ．１を化合物Ｎｏ．３に変えた以外は同様の操作を行い、化合物Ｎｏ．７（重合体Ｎｏ．３）を得た。

［実施例８］ポリカーボネート化合物Ｎｏ．８の製造（重合体Ｎｏ．４）
実施例５において、化合物Ｎｏ．１を化合物Ｎｏ．４に変えた以外は同様の操作を行い、化合物Ｎｏ．８（重合体Ｎｏ．４）を得た。

［比較例１］比較ポリカーボネート化合物Ｎｏ．１の製造
実施例５において、化合物Ｎｏ．１をビスフェノールＡに変えた以外は同様の操作を行い、比較化合物Ｎｏ．１を得た。

［比較例２］比較ポリカーボネート化合物Ｎｏ．２の製造
実施例５において、化合物Ｎｏ．１を９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン［ＦＬ－ＢＰ］に変えた以外は同様の操作を行い、比較化合物Ｎｏ．２を得た。

（評価例）
＜ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）＞
ＧＰＣ（日本分光社製、ＣｈｒｏｍＮＡＶ、カラム：ＫＦ－８０５、８０４、８０３連結）を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出した。

＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ：日立社製、型番：ＤＳＣ７０００Ｘ）を用いて測定し、得られたＤＳＣ曲線のベースラインと変曲点での接線との交点の温度をＴｇとした。

＜屈折率＞
得られた化合物を３ｍｍ厚×８ｍｍ×８ｍｍの直方体に成形温度１８０℃、射出圧力５００ｋｇ／ｃｍ^３でプレス成形し、ＡＴＡＧＯ社屈折率計により、ＪＩＳ－Ｋ－７１４２の方法で測定した。

＜溶融粘度＞
東洋精機製作所社製の細管流動式レオメーターを用いて、下記の操作を行い、溶融粘度を測定した。
得られた化合物を３００℃に加熱して溶融させた後、射出速度を０．０１～１５０ｍｍ／ｓに設定し、長さ（Ｌ）と径（Ｄ）の比（Ｌ／Ｄ）が４０／２、２０／１、１０／０．５、１５／１、１０／１、５／１の６種類の溶融粘度測定用のキャピラリを用いて測定した。
上記評価において溶融粘度が８００Ｐａ・ｓ未満のものを○、８００Ｐａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ未満のものを△、１，０００Ｐａ・ｓ以上のものを×とした。

本発明の化合物は表１に示すように、高品質な光学材料を提供できることから有用である。具体的には、耐熱性が高く（高Ｔｇ）、低膜厚（高屈折率）で成形性に優れる（低溶融粘度）光学材料を提供できる。これに対し、比較化合物Ｎｏ．１は屈折率が十分ではなく、比較化合物Ｎｏ．２は溶融粘度が高いことが判る。

Claims

下記式（Ｉ）で表される骨格を有するスピロ化合物。
下記式（ＩＩ）で表される骨格を有する請求項１に記載のスピロ化合物。
反応性基を有する請求項１又は２に記載のスピロ化合物。
下記式（Ｖ）で表される請求項１～３の何れか１項に記載のスピロ化合物。

（式中、環Ａ１及び環Ａ２は、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環から選ばれる少なくとも一種であり、Ｒ^５１及びＲ^５３はそれぞれ独立して水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
ｐ及びｑは０以上の整数であってそれぞれ環Ａ１及び環Ａ２において取りうる数であり、
Ｒ^５２及びＲ^５４は、それぞれ独立に、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、下記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、ｐ又はｑが２以上の場合、複数存在するＲ^５２同士、複数存在するＲ^５４同士はそれぞれ同一であっても異なってもよく、
＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＲ^２５－、－ＮＲ^２５ＣＯ－、及び－Ｓ－であり、
Ｒ^２５は、水素原子又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を表し、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）
式（Ｖ）で表される化合物が、下記式（ＶＩ）で表される化合物である、請求項４に記載の化合物。

（式中、Ｒ^１’、Ｒ^２’、Ｒ^３’、Ｒ^４’、Ｒ^５’、Ｒ^６’、Ｒ^７’、Ｒ^８’、Ｒ^９’及びＲ^１０’は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３’及びＲ^４’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^８’及びＲ^９’のいずれか一方は水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）
式（Ｖ）で表される化合物が、下記式（ＶＩＩ）で表される化合物である、請求項４に記載の化合物。

（式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９、Ｒ^４０、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３及びＲ^４４は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
但し、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^４４のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、且つ、Ｒ^３８、Ｒ^３７及びＲ^３９のいずれか一つは水酸基又は－ＯＲ^１０１ＯＨで表される基であり、
Ｒ^１０１は炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は、該炭化水素基における両端以外のメチレン基が－Ｏ－若しくは－Ｓ－で置換された基であり、式中に複数のＲ^１０１が存在する場合、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３及びＲ^２４は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは非置換の炭素原子数１～２０の炭化水素基又は該炭化水素基中のメチレン基の１つ若しくは２つ以上が、上記＜群Ａ＞より選ばれる２価の基により置換された基を表し、
Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１２とＲ^１３及びＲ^１３とＲ^１４は、それぞれ結合し環を形成する場合がある。）
請求項３～６の何れか１項に記載のスピロ化合物をモノマーとする重合体。
請求項１～６のいずれか１項に記載のスピロ化合物を含有するか、又は、請求項７に記載の重合体を含有する組成物。
重合開始剤を含有する請求項８に記載の組成物。
請求項９に記載の組成物より得られる硬化物。
請求項７に記載の重合体を有する成形体。
請求項９に記載の組成物を加熱する工程、又は当該組成物に光を照射する工程を有する、硬化物の製造方法。