JP2022068832A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2022068832A5
JP2022068832A5 JP2021142700A JP2021142700A JP2022068832A5 JP 2022068832 A5 JP2022068832 A5 JP 2022068832A5 JP 2021142700 A JP2021142700 A JP 2021142700A JP 2021142700 A JP2021142700 A JP 2021142700A JP 2022068832 A5 JP2022068832 A5 JP 2022068832A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement object
image data
position information
processing device
reliability
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021142700A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2022068832A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to TW110137269A priority Critical patent/TWI862875B/zh
Priority to US17/502,514 priority patent/US12307643B2/en
Priority to CN202111214067.1A priority patent/CN114384772A/zh
Priority to KR1020210140701A priority patent/KR102907522B1/ko
Publication of JP2022068832A publication Critical patent/JP2022068832A/ja
Publication of JP2022068832A5 publication Critical patent/JP2022068832A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2021142700A 2020-10-22 2021-09-01 処理装置、計測装置、リソグラフィ装置、物品製造方法、モデル、処理方法、計測方法、生成方法、およびコンピュータ Pending JP2022068832A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW110137269A TWI862875B (zh) 2020-10-22 2021-10-07 處理裝置和方法、測量裝置和方法、微影裝置、製造物品的方法、模型、產生方法和裝置
US17/502,514 US12307643B2 (en) 2020-10-22 2021-10-15 Processing apparatus, measurement apparatus, lithography apparatus, method of manufacturing article, model, processing method, measurement method, generation method, and generation apparatus
CN202111214067.1A CN114384772A (zh) 2020-10-22 2021-10-19 处理装置和方法、测量装置和方法、光刻装置、制造物品的方法、模型、生成方法和装置
KR1020210140701A KR102907522B1 (ko) 2020-10-22 2021-10-21 처리 장치, 계측 장치, 리소그래피 장치, 물품을 제조하는 방법, 모델, 처리 방법, 계측 방법, 생성 방법, 및 생성 장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020177445 2020-10-22
JP2020177445 2020-10-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022068832A JP2022068832A (ja) 2022-05-10
JP2022068832A5 true JP2022068832A5 (https=) 2024-08-27

Family

ID=81460048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021142700A Pending JP2022068832A (ja) 2020-10-22 2021-09-01 処理装置、計測装置、リソグラフィ装置、物品製造方法、モデル、処理方法、計測方法、生成方法、およびコンピュータ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022068832A (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI864820B (zh) 2022-09-26 2024-12-01 日商斯庫林集團股份有限公司 標記檢測方法、電腦程式以及對準方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120621B2 (ja) * 1989-05-08 1995-12-20 キヤノン株式会社 位置合せ方法
JPH0737770A (ja) * 1993-07-23 1995-02-07 Canon Inc 位置合わせ装置
JP3666051B2 (ja) * 1995-04-13 2005-06-29 株式会社ニコン 位置合わせ方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP3450645B2 (ja) * 1997-04-07 2003-09-29 キヤノン株式会社 位置検出方法及び位置検出装置
JP2001237298A (ja) * 2000-02-22 2001-08-31 Canon Inc アライメント計測用パラメータ調整方法、アライメント方法および露光装置
US10210606B2 (en) * 2014-10-14 2019-02-19 Kla-Tencor Corporation Signal response metrology for image based and scatterometry overlay measurements
WO2018072980A1 (en) * 2016-10-21 2018-04-26 Asml Netherlands B.V. Methods of determining corrections for a patterning process
JP2020519928A (ja) * 2017-05-08 2020-07-02 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法
WO2019063245A1 (en) * 2017-09-28 2019-04-04 Asml Netherlands B.V. LITHOGRAPHIC METHOD
JP2020004918A (ja) * 2018-06-29 2020-01-09 キヤノン株式会社 情報処理装置、プログラム、加工装置、加工システム、および物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI498549B (zh) Defect detection method
CN105830069B (zh) 依据要求的目标及工艺灵敏度分析
TWI817134B (zh) 判定圖案化製程之校正之方法、元件製造方法、用於微影裝置之控制系統及微影裝置
CN112801328B (zh) 产品印刷参数设定装置、方法及计算机可读存储介质
US10026011B2 (en) Mask inspection apparatus, mask evaluation method and mask evaluation system
CN105765461B (zh) 用于获得与工业过程有关的诊断信息的方法和设备
CN106547171B (zh) 一种用于光刻装置的套刻补偿系统及方法
JP2015527740A5 (https=)
CN105573048B (zh) 一种光学临近修正模型的优化方法
KR20180027578A (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2015534267A (ja) 位置ずれ対象の不正確性を概算および補正するための方法
CN110763696B (zh) 用于晶圆图像生成的方法和系统
US11226567B2 (en) Methods and apparatus for use in a device manufacturing method
TW201937625A (zh) 使用電子顯微法之半導體度量衡及缺陷分類
JP2020008841A5 (https=)
JP2021504743A (ja) マイクロリソグラフィのためのマスクの認定のための方法
JP2020136502A5 (ja) 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、物品の製造システム、及び出力方法
CN103545174B (zh) 光刻对焦参数测试方法及系统
JP2022068832A5 (https=)
JP6588766B2 (ja) 評価方法、露光方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法
JP2022166688A5 (https=)
JP2023086568A5 (https=)
TWI715289B (zh) 產品印刷參數設定裝置、方法及電腦可讀取存儲介質
CN118134897B (zh) 基于oct和深度学习的3d打印缺陷识别方法和系统
TW202518002A (zh) 半導體檢驗期間的光響應不均勻性校正