JP2022027735A - Repair method for electronic element mounting board, repair material, cured product and wiring board - Google Patents

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Abstract

To provide a repair method for an electronic element mounting board, with which reworking operations are facilitated and high connection reliability can be obtained.SOLUTION: In an electronic element mounting board, an electrode and an electronic element on a wiring board are mounted to allow current flow therebetween via a cured product of a conductive paste composition. A repair method for the electronic element mounting board includes: heating an electronic element mounting area where at least an electronic element not mounted normally is included and removing the electronic element not mounted normally from the wiring board; irradiating the area, where the electronic element has been removed, with laser beams and removing an entire or at least part of a cured product of the conductive paste composition from the wiring board; and remounting an electronic element in an area where the cured product has been removed.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、電子素子実装基板のリペア方法、それに用いられるリペア材、リペア材の硬化物およびその硬化物を備える配線基板に関する。 The present invention relates to a method for repairing an electronic element mounting substrate, a repair material used thereof, a cured product of the repair material, and a wiring board including the cured product thereof.

液晶表示装置等の電気光学装置は、コンピュータや携帯電話その他各種電子機器の表示部などとして用いられ、特に液晶表示装置は軽量・薄型で消費電力も少ないことから各種電子機器の表示部として広く利用されている。これら液晶表示装置においては、液晶パネル等の電気光学部品の背面側に、いわゆるバックライトを備えたものが多く用いられている。 Electro-optical devices such as liquid crystal displays are used as display units for computers, mobile phones and other electronic devices. In particular, liquid crystal displays are lightweight, thin, and consume less power, so they are widely used as display units for various electronic devices. Has been done. In these liquid crystal display devices, those equipped with a so-called backlight on the back side of an electro-optic component such as a liquid crystal panel are often used.

近年、電気光学装置等に使用されるバックライトとして、LEDアレイ基板が使用されるようになってきている。LEDアレイ基板は、配線基板上に複数のLEDチップをマトリックス状に実装したものであり、個々のLEDチップと配線基板とがはんだ等によって電気的に接続されたものである。最近はバックライトの小型化や効率化のため、LEDアレイ基板においても、より小さなLEDチップを使用し、個々のLEDチップを集積化して配線基板上に実装することが行われるようになってきた。それにともない、LEDチップの実装においても、従来のはんだによる電気的接続にかえて、異方性導電材料とよばれる導電ペーストや導電フィルムが使用されはじめている。異方性導電材料とは、絶縁性の硬化性樹脂バインダーに導電性粒子を分散させたものであり、電子部品どうし(ここでは、配線基板とLEDチップ)の電極部分を熱圧着することで、加圧方向にのみ導電性粒子を介して電子部品どうしの電気的接続を行い、隣接する電極間は絶縁性を維持しながら、硬化性樹脂バインダーの硬化により電子部品を固定することができるものである(例えば、特許文献1等)。 In recent years, LED array substrates have come to be used as backlights used in electro-optical devices and the like. The LED array board is a board in which a plurality of LED chips are mounted in a matrix, and the individual LED chips and the wiring board are electrically connected by solder or the like. Recently, in order to reduce the size and efficiency of backlights, it has become common to use smaller LED chips in LED array boards, integrate individual LED chips, and mount them on wiring boards. .. Along with this, even in the mounting of LED chips, conductive pastes and conductive films called anisotropic conductive materials have begun to be used instead of the conventional electrical connection using solder. The anisotropic conductive material is a material in which conductive particles are dispersed in an insulating curable resin binder, and the electrode portions of electronic components (here, a wiring board and an LED chip) are thermally pressure-bonded to each other. Electronic components can be electrically connected to each other via conductive particles only in the pressurizing direction, and the electronic components can be fixed by curing the curable resin binder while maintaining insulation between adjacent electrodes. There is (for example, Patent Document 1 etc.).

はんだに代えて異方性導電材料を使用する利点は、多数のLEDチップを同時にかつ短時間で配線基板に実装できることにある。その反面、異方性導電材料は、はんだ接続に比べてリワーク性が悪いといった問題がある。即ち、はんだ接続であれば、リワーク対象部品を加熱することで容易に対象部品を配線基板から取り外し再実装することができるが、上記のような異方性導電材料による接続では、電子部品どうしが樹脂バインダーにより強固に接着しているため容易に取り外すことができず、電子部品を取り外しができた場合であっても硬化した樹脂バインダーが配線基板上に残存しているため、専用の溶剤等で樹脂バインダーを除去するなどする必要があった。 The advantage of using an anisotropic conductive material instead of solder is that a large number of LED chips can be mounted on a wiring board at the same time and in a short time. On the other hand, the anisotropic conductive material has a problem that the reworkability is worse than that of the solder connection. That is, in the case of solder connection, the target component can be easily removed from the wiring board and remounted by heating the target component to be reworked, but in the connection using the anisotropic conductive material as described above, the electronic components are connected to each other. Since it is firmly adhered by the resin binder, it cannot be easily removed, and even if the electronic components can be removed, the cured resin binder remains on the wiring board, so use a special solvent or the like. It was necessary to remove the resin binder.

これらの課題に対応すべく、特許文献2には、硬化させた異方性導電材を配線基板に残存させたまま、新しい異方性導電フィルムを貼り付け、リペア剤を使用することなく電子部品を再圧着可能な技術が記載されている。 In order to deal with these problems, in Patent Document 2, a new anisotropic conductive film is attached while the cured anisotropic conductive material remains on the wiring board, and electronic components are used without using a repair agent. The technology that can be re-crimped is described.

特開平8-003529号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-003529 特開2010-272545号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-272545

しかしながら、特許文献2において提案されている方法では、異方性導電フィルムの硬化物の150℃における弾性率を10MPa以下とする設計が必要であるため、電子部品間の接続信頼性(耐熱性)を得るのが困難であった。また、電子部品を再実装する際に加圧が必要であるため、配線基板としてFPC(フレキシブル配線基板)などを使用する場合は配線基板へのダメージが避けられない。 However, the method proposed in Patent Document 2 requires a design in which the elastic modulus of the cured product of the anisotropic conductive film at 150 ° C. is 10 MPa or less, so that the connection reliability (heat resistance) between electronic components is required. Was difficult to obtain. Further, since pressurization is required when remounting electronic components, damage to the wiring board is unavoidable when an FPC (flexible wiring board) or the like is used as the wiring board.

さらに、近年においては、LEDチップの小型化が進み、例えば、外形寸法が数十ミクロン程度のLEDチップを1mm以下の隣接間隔で配線基板に実装したLEDアレイ基板も実用化されており、リペアのためにLEDチップを配線基板から取り外すことが益々困難になってきている。また、不具合のあるLEDチップを取り外した箇所が狭小であるため、配線基板側に残存する硬化した樹脂バインダーの除去作業も非常に困難になる。強力な除去溶剤を使用することも考えられるが、その場合、実装されている周囲の電子素子等にダメージを与える恐れがある。 Furthermore, in recent years, the miniaturization of LED chips has progressed, and for example, LED array boards in which LED chips with external dimensions of several tens of microns are mounted on wiring boards at adjacent intervals of 1 mm or less have also been put into practical use. Therefore, it is becoming more and more difficult to remove the LED chip from the wiring board. Further, since the portion where the defective LED chip is removed is narrow, it is very difficult to remove the cured resin binder remaining on the wiring board side. It is conceivable to use a strong removing solvent, but in that case, there is a risk of damaging the surrounding electronic elements and the like mounted.

本発明は、このような課題のもとになされたものであり、その目的は、リワーク作業を容易にするとともに、高い接続信頼性が得られる電子素子実装基板のリペア方法を提供することである。また、本発明の別の目的は、このようなリペア方法に使用されるリペア材、リペア材の硬化物、およびリペア材の硬化物を備える配線基板を提供することである。 The present invention has been made based on such a problem, and an object of the present invention is to provide a method for repairing an electronic element mounting substrate which facilitates rework work and can obtain high connection reliability. .. Another object of the present invention is to provide a wiring board including a repair material, a cured product of the repair material, and a cured product of the repair material used in such a repair method.

上記課題に対して、本発明者らは、従来の電子素子実装基板のリペア時に残存していた樹脂成分を、電子素子を再実装する前にレーザー照射によって除去することにより、リワーク作業を容易にするとともに、再実装した電子素子の接続信頼性を改善できる、との知見を得た。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。即ち、本発明の要旨は以下のとおりである。 To solve the above problems, the present inventors can easily perform the rework work by removing the resin component remaining at the time of repairing the conventional electronic element mounting substrate by laser irradiation before remounting the electronic element. At the same time, it was found that the connection reliability of the remounted electronic element can be improved. The present invention has been completed based on such findings. That is, the gist of the present invention is as follows.

[1] 導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板のリペア方法であって、
正常に実装されていない電子素子を少なくとも含む電子素子実装領域を加熱して、前記正常に実装されていない電子素子を配線基板から除去し、
前記電子素子が除去された前記領域にレーザー光を照射して、前記配線基板から前記導電性ペースト組成物の硬化物の全部または少なくとも一部を除去し、
前記硬化物が除去された領域に電子素子を再実装する、
ことを含むことを特徴とする、方法。
[2] 前記硬化物が除去された領域または再実装しようとする電子素子に、硬化性樹脂を含むリペア材を塗布して、電子素子を再実装する、[1]に記載の方法。
[3] 前記導電性ペースト組成物が、硬化性樹脂および導電性粒子を含み、前記硬化性樹脂の硬化物および前記導電性粒子の少なくとも1種の光吸収波長が300nm~10600nmである、[1]または[2]に記載の方法。
[4]、 前記電子素子実装領域を、前記硬化物のガラス転移点よりも高い温度、かつ前記導電性粒子の融点以上の温度で加熱する、[3]に記載の方法。
[5] 前記導電性ペースト組成物および前記リペア材がフラックスを含んでなり、
前記リペア材に含まれるフラックス量は、前記導電性ペースト組成物に含まれるフラックス量に対して質量基準で2~10倍である、[2]~[4]のいずれかに記載の方法。
[6] 前記リペア材は、前記フラックスをリペア材の固形分量に対して0.5~20質量%の割合で含む、[5]に記載の方法。
[7] 導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板から、正常に実装されていない電子素子を除去し、電子素子を再実装する際に使用されるリペア材であって、
硬化性樹脂およびフラックスを少なくとも含み、
前記フラックスをリペア材の固形分量に対して0.5~20質量%の割合で含むことを特徴とする、リペア材。
[8] 導電性粒子をさらに含んでなる、[7]に記載の方法。
[9] [7]または[8]に記載のリペア材の硬化物。
[10] [8]に記載の硬化物を備える、配線基板。
[1] A method for repairing an electronic element mounting substrate in which an electrode on a wiring board and an electronic element are mounted so as to be energized via a cured product of a conductive paste composition.
The electronic element mounting region containing at least the improperly mounted electronic element is heated to remove the improperly mounted electronic element from the wiring board.
The region from which the electronic element has been removed is irradiated with laser light to remove all or at least a part of the cured product of the conductive paste composition from the wiring board.
The electronic element is remounted in the region where the cured product has been removed.
A method characterized by including.
[2] The method according to [1], wherein the repair material containing a curable resin is applied to the region from which the cured product has been removed or the electronic element to be remounted, and the electronic element is remounted.
[3] The conductive paste composition contains a curable resin and conductive particles, and the light absorption wavelength of at least one of the cured product of the curable resin and the conductive particles is 300 nm to 10600 nm [1]. ] Or the method according to [2].
[4] The method according to [3], wherein the electronic element mounting region is heated at a temperature higher than the glass transition point of the cured product and at a temperature equal to or higher than the melting point of the conductive particles.
[5] The conductive paste composition and the repair material contain flux.
The method according to any one of [2] to [4], wherein the amount of flux contained in the repair material is 2 to 10 times the amount of flux contained in the conductive paste composition on a mass basis.
[6] The method according to [5], wherein the repair material contains the flux in a proportion of 0.5 to 20% by mass with respect to the solid content of the repair material.
[7] An electronic element that is not normally mounted is removed from an electronic element mounting board that is mounted so that an electrode on a wiring board and an electronic element are energized via a cured product of the conductive paste composition. , A repair material used when remounting electronic elements.
Contains at least curable resin and flux,
A repair material comprising the flux at a ratio of 0.5 to 20% by mass with respect to the solid content of the repair material.
[8] The method according to [7], further comprising conductive particles.
[9] The cured product of the repair material according to [7] or [8].
[10] A wiring board comprising the cured product according to [8].

本発明によれば、電子素子実装基板から電子素子を除去した領域にレーザー光を照射することで、配線基板に残存していた導電性ペースト組成物の硬化物を除去するため、リペア材によって簡易かつ容易にリワーク作業を実施することができるとともに、再実装した電子素子の接続信頼性も改善することができる。特に小型化したLEDチップのリペアの際に有効である。 According to the present invention, the cured product of the conductive paste composition remaining on the wiring board is removed by irradiating the region where the electronic component is removed from the electronic element mounting substrate with a laser beam. Moreover, the rework work can be easily carried out, and the connection reliability of the remounted electronic element can be improved. This is especially effective when repairing a miniaturized LED chip.

発明を実施するための態様Aspects for carrying out the invention

本発明の電子素子実装基板のリペア方法は、(i)正常に実装されていない電子素子を少なくとも含む電子素子実装領域を加熱して、前記正常に実装されていない電子素子を配線基板から除去する工程、(ii)前記電子素子が除去された前記領域にレーザー光を照射して、前記配線基板から前記導電性ペースト組成物の硬化物の全部または少なくとも一部を除去する工程、および(iii)前記硬化物が除去された領域に電子素子を再実装する工程、を含む。 The method for repairing an electronic element mounting board of the present invention is (i) heating an electronic element mounting region containing at least an electronic element that is not normally mounted, and removing the improperly mounted electronic element from the wiring board. Steps, (ii) a step of irradiating the region from which the electronic element has been removed with laser light to remove all or at least a part of the cured product of the conductive paste composition from the wiring board, and (iii). The step of remounting the electronic element in the region from which the cured product has been removed is included.

本発明のリペア方法に使用する電子素子実装基板は、導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる配線基板を指すものとする。しかしながら、はんだ等の電気接続手段によって配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されている電子素子実装基板を積極的に排除するものではなく、配線基板上に電子素子が樹脂を介して固定(接着)されている電子素子実装基板であれば、本発明のリペア方法を適用できることはいうまでもない。 The electronic element mounting substrate used in the repair method of the present invention refers to a wiring board in which an electrode on a wiring board and an electronic element are mounted so as to be energized via a cured product of a conductive paste composition. do. However, it does not positively exclude the electronic element mounting board on which the electrode on the wiring board and the electronic element are energized by an electric connection means such as solder, and the electronic element puts a resin on the wiring board. Needless to say, the repair method of the present invention can be applied to an electronic element mounting substrate that is fixed (bonded) via the same.

配線基板への電子素子の実装は、通常、上記したように、異方導電性接着剤等のような導電性ペースト組成物を配線基板に塗布し、配線基板上の電極位置に各電子素子を配置し、続いて加熱することにより組成物を固化させて電子素子を配線基板に接着するとともに、組成物中の導電性粒子を介して配線基板の電極と電子素子との導通接続が行われる。加熱の際、所望により電子素子側から加圧してもよい。導電性ペースト組成物自体は絶縁性であるが、加熱により導電性ペースト組成物に含有される導電性粒子が溶融し、配線基板側の電極と電子素子側の電極との間に挟まることで導電する経路が形成される。その結果、部材間の電気的な接続が可能となる。一方、加熱後も電極間に挟まれなかった領域は、導電性粒子が分散したままであるため、絶縁性が維持される。これによって、いわゆる異方導電性の接続構造体となる。無論、電子素子実装基板は、上記以外の方法により製造されていてもよく、上記した方法により製造されたものに限定して解釈されるものではない。 To mount an electronic element on a wiring board, usually, as described above, a conductive paste composition such as an anisotropic conductive adhesive is applied to the wiring board, and each electronic element is placed at an electrode position on the wiring board. By arranging and subsequently heating, the composition is solidified and the electronic element is adhered to the wiring board, and the electrode of the wiring board and the electronic element are electrically connected via the conductive particles in the composition. At the time of heating, if desired, pressurization may be performed from the electronic element side. Although the conductive paste composition itself is insulating, the conductive particles contained in the conductive paste composition are melted by heating and are sandwiched between the electrode on the wiring board side and the electrode on the electronic element side to be conductive. Path is formed. As a result, electrical connection between the members becomes possible. On the other hand, in the region not sandwiched between the electrodes even after heating, the conductive particles remain dispersed, so that the insulating property is maintained. This results in a so-called anisotropically conductive connection structure. Of course, the electronic element mounting substrate may be manufactured by a method other than the above, and is not limited to the one manufactured by the above method.

本発明のリペア方法に適用される電子素子実装基板は、上記のような導電性ペースト組成物を使用して作製された電子素子実装基板であれば、特にその製造方法に制限はなく、例えば、配線基板上に塗布し、配線基板上に導電性ペースト組成物を介して電子素子を配置した後、電子素子を配線基板に加熱することで配線基板上に電子素子を実装して作製してもよい。 The electronic element mounting substrate applied to the repair method of the present invention is not particularly limited as long as it is an electronic element mounting substrate manufactured by using the conductive paste composition as described above, and the manufacturing method thereof is not particularly limited, for example. Even if it is applied on a wiring board, an electronic element is placed on the wiring board via a conductive paste composition, and then the electronic element is heated on the wiring board to mount the electronic element on the wiring board. good.

また、本発明のリペア方法を適用できる電子素子実装基板としては、ベアチップやLEDチップ等の電子素子を配線基板上に直接搭載して接続するチップオンボード(COB)等が挙げられる。以下、本発明の電子素子実装基板のリペア方法について詳述する。 Further, examples of the electronic element mounting substrate to which the repair method of the present invention can be applied include a chip-on-board (COB) in which an electronic element such as a bare chip or an LED chip is directly mounted on a wiring board and connected. Hereinafter, the repair method of the electronic element mounting substrate of the present invention will be described in detail.

<正常に実装されていない電子素子の除去工程>
先ず、配線基板上に実装されている電子素子のうち、正常に実装されていない電子素子(以下、「不良箇所」ともいう)を特定する。本発明において不良箇所とは、電子素子実装基板において通電検査を実施した際に、電子素子の欠陥によって正常に機能しない箇所のみならず、電子素子自体は正常に機能するが、配線基板の電極と接続不良を生じている箇所や、電子素子および配線基板の電極との接続も正常であるが、位置がずれている等の電子素子の配置が良好でない箇所も含む。また、配線基板としては、リジッドプリント配線板のみならず、フレキシブルプリント配線板であってもよい。
<Process for removing electronic elements that are not mounted normally>
First, among the electronic elements mounted on the wiring board, the electronic elements that are not normally mounted (hereinafter, also referred to as “defective points”) are identified. In the present invention, the defective part is not only the part that does not function normally due to the defect of the electronic element when the energization inspection is performed on the electronic element mounting board, but also the electrode of the wiring board that the electronic element itself functions normally. It also includes the places where the connection is poor and the places where the electronic elements and the electrodes of the wiring board are connected normally, but the positions of the electronic elements are not good, such as the positions are misaligned. Further, the wiring board may be not only a rigid printed wiring board but also a flexible printed wiring board.

不良箇所の特定は、目視で行ってもよく、また汎用の検査機械等を使用して行ってもよい。例えば、電子素子実装基板がLEDアレイ基板であるような場合は、不良箇所の特定には点灯検査を実施することによって行ってもよく、不点灯や発光色や輝度などに不具合があるLEDチップを特定する。 The defective portion may be identified visually or by using a general-purpose inspection machine or the like. For example, when the electronic element mounting board is an LED array board, a lighting inspection may be performed to identify a defective part, and an LED chip having a non-lighting or a defect in emission color or brightness may be used. Identify.

次いで、上記のようにして特定した不良箇所を少なくとも含む電子素子実装領域を加熱して、正常に実装されていない電子素子を配線基板から除去する。ここでの電子素子実装領域は、特定された正常に実装されていない電子素子のみであってもよいし、また、当該電子素子を含む周囲領域であってもよい。例えば、1個の電子素子のみに不良があった場合、その電子素子が実装されている箇所のみでもよいし、当該電子素子の周囲にある正常に機能する電子素子を含む周囲領域であってもよい。 Next, the electronic element mounting region including at least the defective portion identified as described above is heated to remove the electronic element that is not normally mounted from the wiring board. The electronic element mounting region here may be only the specified electronic element that is not normally mounted, or may be a peripheral region including the electronic element. For example, if only one electronic element is defective, it may be only in the place where the electronic element is mounted, or even in the peripheral region including the normally functioning electronic element around the electronic element. good.

加熱する領域としては、特定された電子素子が含まれていればよく、不良箇所が1箇所のみである場合は当該不良箇所のみを加熱して、特定された電子素子を除去することができる。また、電子素子実装基板中に不良箇所が複数箇所ある場合は、個々の不良箇所を加熱してもよいし、配線基板全体を加熱して、特定された電子素子を除去してもよい。 The region to be heated may include the specified electronic element, and when there is only one defective part, only the defective part can be heated to remove the specified electronic element. When there are a plurality of defective parts in the electronic element mounting substrate, the individual defective parts may be heated, or the entire wiring board may be heated to remove the specified electronic element.

加熱温度としては、配線基板に実装されている電子素子が除去できる温度であれば特に制限はないが、導電性ペースト組成物の硬化物のガラス転移点よりも高い温度であることが好ましく、かつ導電性粒子の溶融固化物(即ち、導電性ペースト組成物に含まれる導電性粒子)の融点以上の温度であることが好ましい。使用する導電性ペースト組成物に含まれる硬化性樹脂および導電性粒子にもよるが、加熱は、100~240℃で行われることが好ましく、120~220℃で行われることがより好ましく、特に好ましくは140~200℃である。また、加熱時間は1~60秒、好ましくは1~30秒、より好ましくは1~15秒である。 The heating temperature is not particularly limited as long as it can be removed by the electronic element mounted on the wiring substrate, but is preferably a temperature higher than the glass transition point of the cured product of the conductive paste composition. It is preferable that the temperature is equal to or higher than the melting point of the molten solidified product of the conductive particles (that is, the conductive particles contained in the conductive paste composition). Although it depends on the curable resin and the conductive particles contained in the conductive paste composition used, the heating is preferably performed at 100 to 240 ° C, more preferably 120 to 220 ° C, and particularly preferably. Is 140-200 ° C. The heating time is 1 to 60 seconds, preferably 1 to 30 seconds, and more preferably 1 to 15 seconds.

加熱は、配線基板の電子素子が実装されている側の面から行ってもよく、反対側の面から行ってもよいが、電子素子への熱ダメージを最小限に留める観点からは、配線基板の電子素子が実装されている側とは反対側の面から加熱することが好ましい。また、加熱手段としては特に限定されず、種々の方法を使用することができ、例えば、不良箇所のみを局所的に加熱する場合には、スポットヒーターやヒートドライヤ等の加熱手段を適用することができ、また、配線基板全体を加熱する場合には、ホットプレート等の面状加熱手段を適用することができる。 The heating may be performed from the side of the wiring board on which the electronic element is mounted or from the opposite surface, but from the viewpoint of minimizing the thermal damage to the electronic element, the wiring board may be heated. It is preferable to heat from the surface opposite to the side on which the electronic element is mounted. Further, the heating means is not particularly limited, and various methods can be used. For example, in the case of locally heating only a defective portion, a heating means such as a spot heater or a heat dryer may be applied. In addition, when the entire wiring board is heated, a planar heating means such as a hot plate can be applied.

加熱により、配線基板と電子素子とを固定(接着)している導電性ペースト組成物の硬化物が軟化し、硬化物中の導電性粒子の溶融固化物が再溶融することで、不要な応力をかけずに電子素子を電子素子実装基板から除去することができる。電子素子を除去する手段として、ピンセット等を用いて手動により行ってもよく、また、専用の把持具を備えた除去装置を使用してもよい。 By heating, the cured product of the conductive paste composition that fixes (bonds) the wiring board and the electronic element softens, and the molten solidified product of the conductive particles in the cured product remelts, resulting in unnecessary stress. The electronic element can be removed from the electronic element mounting board without applying stress. As a means for removing the electronic element, it may be performed manually using tweezers or the like, or a removing device provided with a dedicated gripping tool may be used.

<硬化物の除去工程>
上記のようにして特定の電子素子を電子素子実装基板から除去すると、除去後の電子素子実装基板表面には、配線基板と電子素子とを接着していた導電性ペースト組成物の硬化物が残存している。このような残存物は、新しい電子素子を再実装した際に、接続不良の原因となったり、電子素子の実装位置がずれたりする場合がある。本発明においては、導電性ペースト組成物の硬化物にレーザー光を照射して、レーザー光照射のエネルギーを熱に変換し、その熱によって、残存する硬化物を構成している樹脂成分を除去する。即ち、上記のようにして電子素子実装基板から特定の電子素子を除去した領域にレーザー光を照射して、配線基板上に残存する導電性ペースト組成物の硬化物を除去する。再実装後の電子素子の接続安定性の観点からは、配線基板上に残存する全ての硬化物が除去されることが好ましいといえるが、必ずしも硬化物の全部が除去されていなくてもよく、少なくとも一部が除去されていればよい。例えば、硬化物中には、樹脂成分と導電性粒子由来成分(導電性粒子が溶融固化したもの)とが含まれるが、レーザー照射によって樹脂成分は除去できるが、導電性粒子由来成分はほとんど除去されない。本発明において、基板に残存した硬化物を効率的に除去する観点からは、硬化物は、硬化性樹脂とレーザー光の波長帯域の少なくとも一部を吸収し得る導電性粒子とを含む導電性ペースト組成物の硬化物であることが好ましい。
<Curing product removal process>
When a specific electronic element is removed from the electronic element mounting substrate as described above, a cured product of the conductive paste composition in which the wiring board and the electronic element are adhered remains on the surface of the electronic element mounting substrate after removal. is doing. Such a residue may cause a connection failure or the mounting position of the electronic element may shift when a new electronic element is remounted. In the present invention, the cured product of the conductive paste composition is irradiated with laser light to convert the energy of the laser light irradiation into heat, and the heat removes the resin component constituting the remaining cured product. .. That is, the region from which the specific electronic component has been removed from the electronic element mounting substrate as described above is irradiated with laser light to remove the cured product of the conductive paste composition remaining on the wiring board. From the viewpoint of connection stability of the electronic element after remounting, it is preferable to remove all the cured products remaining on the wiring board, but it is not always necessary to remove all the cured products. It suffices if at least a part is removed. For example, the cured product contains a resin component and a component derived from conductive particles (a melt-solidified conductive particle). The resin component can be removed by laser irradiation, but most of the components derived from conductive particles are removed. Not done. In the present invention, from the viewpoint of efficiently removing the cured product remaining on the substrate, the cured product is a conductive paste containing a curable resin and conductive particles capable of absorbing at least a part of the wavelength band of laser light. It is preferably a cured product of the composition.

照射するレーザー光としては、導電性ペースト組成物の硬化物中に含まれる導電性粒子が照射光を吸収して熱に変換できるような波長範囲(300nm~10600nm)であれば、特に制限なく種々の波長ないし種類のレーザー光を使用することができ、連続波レーザーであってもパルス波レーザーであってもよい。連続波レーザーとしては、例えば、YVOレーザー、ファイバーレーザー、エキシマレーザー、グリーンレーザー、炭酸ガスレーザー、紫外線レーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、ガラスレーザー、ルビーレーザー、He-Neレーザー、窒素レーザー、キレートレーザー、色素レーザー等を用いることができる。また、パルス波レーザーとしては、例えば、ナノセックパルスレーザー、ミリセックパルスレーザー等を用いることができる。 The laser light to be irradiated is not particularly limited as long as it is in a wavelength range (300 nm to 10600 nm) in which the conductive particles contained in the cured product of the conductive paste composition can absorb the irradiation light and convert it into heat. Laser light of the same wavelength or type can be used, and it may be a continuous wave laser or a pulse wave laser. Examples of continuous wave lasers include YVO4 lasers, fiber lasers, excima lasers, green lasers, carbon dioxide gas lasers, ultraviolet lasers, YAG lasers, semiconductor lasers, glass lasers, ruby lasers, He-Ne lasers, nitrogen lasers, and chelate lasers. , Dye laser and the like can be used. Further, as the pulse wave laser, for example, a nanosec pulse laser, a millisec pulse laser, or the like can be used.

レーザー光の出力は、硬化物中の樹脂成分が除去できる程度であれば特に制限されるものはないが、出力が高いと過度の熱が発生し基板を損傷してしまう恐れがある。そのため、0.2~1.0W程度の平均出力で、繰り返しレーザー光照射を行うことが好ましい。繰り返しの回数は特に制限はないが、基板の損傷と実用性との両立からは5~50回程度であることが好ましい。また、連続波レーザーを用いて繰り返しレーザー光照射を行ってもよく、パルス波レーザーを用いてもよい。レーザー光のビーム径は、例えば、5μm~200μm程度である。 The output of the laser beam is not particularly limited as long as the resin component in the cured product can be removed, but if the output is high, excessive heat may be generated and the substrate may be damaged. Therefore, it is preferable to repeatedly irradiate the laser beam with an average output of about 0.2 to 1.0 W. The number of repetitions is not particularly limited, but is preferably about 5 to 50 times from the viewpoint of achieving both damage to the substrate and practicality. Further, the continuous wave laser may be used to repeatedly irradiate the laser beam, or a pulse wave laser may be used. The beam diameter of the laser beam is, for example, about 5 μm to 200 μm.

本発明のリペア方法においては、実装されていた電子素子を除去した際に配線基板上に残存する硬化物(導電性ペースト組成物の硬化物)のうち、レーザー光照射により、主として樹脂成分が分解し、除去される。レーザー光照射によれば、狭小な領域であっても的確に硬化物の全部または少なくとも一部を除去することができるとともに、周囲に与える熱の影響を少なくとすることができるため、実装されている他の正常な電子素子に熱による悪影響を与えにくい。したがって、ベアチップやLEDチップ等の電子素子を基板上に直接搭載して接続するチップオンボード(COB)等の電子素子実装基板のリペアに好適であるといえる。特に、外寸が0.3mm以下、より好ましくは0.2mm以下であるような電子素子を配線基板から除去して再実装する際に好適に利用することができる。なお、電子素子の外寸とは、縦、横、高さの三辺のうち最も長い辺の長さを言うものとする。また、このような小型の電子素子が高密度で実装されている基板のリペアにも好適である。例えば、隣接する電子素子の間隔が5mm以下、好ましくは4mm以下であるような電子素子実装基板のリペアに特に好適である。 In the repair method of the present invention, among the cured products (cured products of the conductive paste composition) remaining on the wiring board when the mounted electronic elements are removed, the resin component is mainly decomposed by laser light irradiation. And be removed. According to laser light irradiation, it is possible to accurately remove all or at least a part of the cured product even in a narrow area, and it is possible to reduce the influence of heat on the surroundings, so that it is mounted. It is unlikely that other normal electronic devices will be adversely affected by heat. Therefore, it can be said that it is suitable for repairing an electronic element mounting board such as a chip-on-board (COB) in which an electronic element such as a bare chip or an LED chip is directly mounted and connected on the substrate. In particular, it can be suitably used when an electronic element having an outer dimension of 0.3 mm or less, more preferably 0.2 mm or less, is removed from the wiring board and remounted. The outer dimension of the electronic element means the length of the longest side among the three sides of length, width, and height. It is also suitable for repairing a substrate on which such a small electronic element is mounted at a high density. For example, it is particularly suitable for repairing an electronic element mounting substrate in which the distance between adjacent electronic elements is 5 mm or less, preferably 4 mm or less.

ここで、本発明のリペア方法が適用される電子素子実装基板に好適に使用される導電性ペースト組成物について説明する。導電性ペースト組成物は、一般的に硬化性樹脂および導電性粒子を含むものであるが、上記したような異方性導電接着機能を損なわなければ他の成分を含んでいてもよい。 Here, a conductive paste composition suitably used for an electronic element mounting substrate to which the repair method of the present invention is applied will be described. The conductive paste composition generally contains a curable resin and conductive particles, but may contain other components as long as the anisotropic conductive adhesive function as described above is not impaired.

導電性ペースト組成物に含まれる硬化性樹脂は、導電性微粒子のバインダーとして機能するとともに、硬化して配線基板と電子素子とを固着する機能を併せ持つ。硬化性樹脂としては、熱により硬化する硬化性樹脂が好ましく、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、マレイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、シアネート樹脂、アクリル樹脂等が挙げられ、これらのなかでもエポキシ樹脂やアクリル樹脂を好ましく使用でき、特にエポキシ樹脂が好ましい。 The curable resin contained in the conductive paste composition functions as a binder for the conductive fine particles and also has a function of being cured to fix the wiring board and the electronic element. The curable resin is preferably a curable resin that is cured by heat, and examples thereof include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, maleimide resin, polyurethane resin, silicone resin, cyanate resin, and acrylic resin. Among them, epoxy resin and acrylic resin can be preferably used, and epoxy resin is particularly preferable.

エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであれば制限なく使用することができる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ノルボルネン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポキシ樹脂、アミノクレゾール型エポキシ樹脂、アルキルフェノール型エポキシ樹脂等を挙げることができる。上記したエポキシ樹脂は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The epoxy resin can be used without limitation as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A. Novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phosphorus Examples thereof include epoxy resin, anthracene type epoxy resin, norbornen type epoxy resin, adamantan type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, aminophenol type epoxy resin, aminocresol type epoxy resin, alkylphenol type epoxy resin and the like. The above-mentioned epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

上記したエポキシ樹脂のかなでも、組成物をペースト状の形態とする観点においては、固体状よりも液状であることが好ましい。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂が好ましい。これらの市販品としては、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のZX-1059(ビスフェノールA型・ビスフェノールF型エポキシ樹脂の混合品)や三菱ケミカル株式会社製のjER-828、同jER-834、同jER-1001(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、同jER-807、同jER-4004P(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、エア・ウォーター社製のR710(ビスフェノールE型エポキシ樹脂)等が挙げられる。 Even among the above-mentioned epoxy resins, it is preferable that the composition is liquid rather than solid from the viewpoint of forming a paste. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol E type epoxy resin are preferable. These commercially available products include ZX-1059 (a mixture of bisphenol A type and bisphenol F type epoxy resin) manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., jER-828 and jER-834 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. Examples thereof include jER-1001 (bisphenol A type epoxy resin), jER-807, jER-4004P (bisphenol F type epoxy resin), and R710 (bisphenol E type epoxy resin) manufactured by Air Water.

アクリル樹脂としては、(メタ)アクリル基を有する樹脂であれば特に制限はなく、例えばトリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチルプロパン骨格を有するエポキシアクリレート等の3官能のメタクリレートモノマー等が挙げられる。これらのなかでも、単官能(メタ)アクリレート、2官能(メタ)アクリレート、3官能以上の多官能(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、2官能以上のポリエステル(メタ)アクリレートを好ましく使用することができる。 The acrylic resin is not particularly limited as long as it is a resin having a (meth) acrylic group, and examples thereof include trifunctional methacrylate monomers such as trimethylolpropane trimethacrylate and epoxy acrylate having a trimethylpropane skeleton. Among these, monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, bifunctional or higher polyester (meth). Acrylate can be preferably used.

単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、3-メチル-3-オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレートのような脂環式(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、p-クミルフェニル(メタ)アクリレート、o-ビフェニル(メタ)アクリレート、1-ナフチル(メタ)アクリレート、2-ナフチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(o-フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(1-ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(2-ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレートのような芳香族(メタ)アクリレート、2-テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-N-カルバゾールのような複素環式(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the monofunctional (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and s-butyl. (Meta) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octylheptyl (meth) ) Acrylate, Nonyl (meth) acrylate, Decyl (meth) acrylate, Undecyl (meth) acrylate, Lauryl (meth) acrylate, Tridecyl (meth) acrylate, Tetradecyl (meth) acrylate, Pentadecyl (meth) acrylate, Hexadecyl (meth) acrylate , Stearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) ) Acrylate (meth) acrylates such as acrylates, cyclopentyl (meth) acrylates, cyclohexyl (meth) acrylates, cyclopentyl (meth) acrylates, dicyclopentanyl (meth) acrylates, dicyclopentenyl (meth) acrylates, isobornyl (meth). ) Acrylate, 3-methyl-3-oxetanylmethyl (meth) acrylate, alicyclic (meth) acrylate such as 1-adamantyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, p-cumylphenyl (Meta) acrylate, o-biphenyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- Hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (1-naphthoxy) propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (2-naphthoxy) propyl (meth) acrylate Aromatic (meth) acrylates, 2-tetrahydrofurfuryl (meth) acrylates, N- (meth) acryloyloxye Examples include heterocyclic (meth) acrylates such as chillhexahydrophthalimide, 2- (meth) acryloyloxyethyl-N-carbazole.

2官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、2-メチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノール(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレートのような脂環式(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、フルオレン型ジ(メタ)アクリレートのような芳香族(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレートのような複素環式(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth). Acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butane Didioldi (meth) acrylate, 2-methyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl-1, 5-Pentanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di ( Fat group (meth) acrylates such as meta) acrylates, 1,10-decanediol di (meth) acrylates, glycerindi (meth) acrylates, tricyclodecanedimethanol (meth) acrylates, cyclohexanedimethanol (meth) acrylates, Alicyclic (meth) acrylates such as tricyclodecanedimethanol (meth) acrylates, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylates, hydrogenated bisphenol F di (meth) acrylates, bisphenol A di (meth) acrylates, bisphenol F Like di (meth) acrylates, bisphenol AF di (meth) acrylates, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylates, aromatic (meth) acrylates such as fluorene-type di (meth) acrylates, di (meth) acrylates of isocyanuric acid. Examples thereof include heterocyclic (meth) acrylates.

3官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレートのような複素環式(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher-functional polyfunctional (meth) acrylate include trimethyl propanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and di-erythritol tetra (meth) acrylate. Pentaerythritol Penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, aliphatic (meth) acrylate such as ethoxylated glycerin tri (meth) acrylate, heterocyclic (meth) acrylate such as isocyanuric acid tri (meth) acrylate. ) Acrylate can be mentioned.

導電性ペースト組成物には、他の硬化性樹脂が含まれていてもよい。例えば、上記したエポキシ樹脂以外にも、多官能エポキシ樹脂が含まれていてもよい。多官能エポキシ樹脂としては、ヒドロキシベンゾフェノン型液状エポキシ樹脂である株式会社ADEKA製のEP-3300E等、アミノフェノール型液状エポキシ樹脂(パラアミノフェノール型液状エポキシ樹脂)である三菱ケミカル株式会社製のjER-630、住友化学株式会社製のELM-100等、グリシジルアミン型エポキシ樹脂である三菱ケミカル株式会社製のjER-604、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のエポトートYH-434、住友化学工業株式会社製のスミ-エポキシELM-120、フェノールノボラック型エポキシ樹脂であるダウ・ケミカル社製のDEN-431等が挙げられる。これら多官能エポキシ樹脂は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The conductive paste composition may contain other curable resins. For example, a polyfunctional epoxy resin may be contained in addition to the above-mentioned epoxy resin. Examples of the polyfunctional epoxy resin include EP-3300E manufactured by ADEKA Co., Ltd., which is a hydroxybenzophenone type liquid epoxy resin, and jER-630 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., which is an aminophenol type liquid epoxy resin (paraaminophenol type liquid epoxy resin). , ELM-100 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., jER-604 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., which is a glycidylamine type epoxy resin, Epototo YH-434 manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., manufactured by Sumitomo Chemical Industry Co., Ltd. Examples thereof include Sumi-epoxy ELM-120 and DEN-431 manufactured by Dow Chemical Co., Ltd., which is a phenol novolac type epoxy resin. These polyfunctional epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

導電性ペースト組成物には、上記した硬化性樹脂を硬化させるための硬化剤が含まれていてもよい。硬化剤としては、熱硬化性樹脂を硬化させるために一般的に使用されている公知の硬化剤を使用することができ、例えばアミン類、イミダゾール類、多官能フェノール類、酸無水物、イソシアネート類、およびこれらの官能基を含むポリマー類があり、必要に応じてこれらを複数用いてもよい。アミン類としては、ジシアンジアミド、ジアミノジフェニルメタン等がある。イミダゾール類としては、アルキル置換イミダゾール、ベンゾイミダゾール等がある。また、イミダゾール化合物はイミダゾールアダクト体等のイミダゾール潜在性硬化剤であってもよい。多官能フェノール類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、ビスフェノールAおよびそのハロゲン化合物、さらに、これにアルデヒドとの縮合物であるノボラック、レゾール樹脂等がある。酸無水物としては、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等がある。イソシアネート類としては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等があり、このイソシアネートをフェノール類等でマスクしたものを使用してもよい。これら硬化剤は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The conductive paste composition may contain a curing agent for curing the above-mentioned curable resin. As the curing agent, a known curing agent generally used for curing a thermosetting resin can be used, and for example, amines, imidazoles, polyfunctional phenols, acid anhydrides, isocyanates, etc. can be used. , And polymers containing these functional groups, and a plurality of these may be used if necessary. Examples of amines include dicyandiamide and diaminodiphenylmethane. Examples of imidazoles include alkyl-substituted imidazoles and benzimidazoles. Further, the imidazole compound may be an imidazole latent curing agent such as an imidazole adduct. Examples of polyfunctional phenols include hydroquinone, resorcinol, bisphenol A and halogen compounds thereof, and novolak and resor resins which are condensates of aldehydes. Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid and the like. Examples of the isocyanates include tolylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, and those isocyanates masked with phenols or the like may be used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

硬化剤や硬化促進剤の種類や配合量を調整することにより、樹脂の硬化速度を制御することができるが、異方導電性の観点からは、樹脂の反応温度(硬化温度)が後記する導電性粒子の融点よりも高いことが好ましく、5℃以上高いことがより好ましい。樹脂の反応温度樹脂の反応温度(硬化温度)が導電性粒子の融点よりも高いことで、組成物中で分散していた導電性粒子を、樹脂が硬化する前に自己凝集させることができる。 The curing rate of the resin can be controlled by adjusting the type and blending amount of the curing agent and curing accelerator, but from the viewpoint of idiosyncratic conductivity, the reaction temperature (curing temperature) of the resin is the conductivity described later. It is preferably higher than the melting point of the sex particles, and more preferably 5 ° C. or higher. Reaction temperature of the resin Since the reaction temperature (curing temperature) of the resin is higher than the melting point of the conductive particles, the conductive particles dispersed in the composition can be self-aggregated before the resin is cured.

硬化性樹脂、および硬化剤や硬化促進剤の選定については、硬化後の樹脂が着色するような、組合せであってもよい。後記するように、導電性粒子はレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換する機能を有していることが好ましいが、導電性粒子がレーザー光を吸収しない場合であっても、硬化した樹脂がレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換できるものであればよい。すなわち、硬化した樹脂がレーザー光の波長帯域の少なくとも一部を吸収し得る波長帯域を有していてもよい。樹脂成分がレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換されることにより、硬化物中の樹脂成分の除去性が向上する。 Regarding the selection of the curable resin and the curing agent or curing accelerator, a combination may be used in which the cured resin is colored. As will be described later, it is preferable that the conductive particles have a function of absorbing laser light and converting it into heat energy, but even when the conductive particles do not absorb the laser light, the cured resin can be used. Anything that can absorb laser light and convert it into heat energy will do. That is, the cured resin may have a wavelength band capable of absorbing at least a part of the wavelength band of the laser light. The resin component absorbs the laser beam and is converted into heat energy, so that the removability of the resin component in the cured product is improved.

導電性粒子としては、導電性を有する材料であれば特に制限なく使用することができるが、レーザー光の波長帯域の少なくとも一部を吸収し得るものを好ましく使用することができ、例えば、金、銀、ニッケル、銅、鉛、および後述の低融点はんだ粒子などが挙げられる。導電性粒子は、核としてのガラスやセラミック、プラスチックなどの非導電性の粒子を金属層で被覆した複合粒子、前記非導電性粒子と金属粒子とを有する複合粒子であってもよい。この導電性粒子が、上記複合粒子または熱溶融性の金属粒子であると、加熱により導電性粒子が溶融変形するため、接続時に電極との接触面積が増加し、特に高い信頼性が得られる。なお、この導電性粒子としては、銀被覆銅粒子や、微細な金属粒子が多数、鎖状に繋がった形状を有する金属粒子を用いることもできる。 As the conductive particles, any material having conductivity can be used without particular limitation, but those capable of absorbing at least a part of the wavelength band of laser light can be preferably used, for example, gold. Examples include silver, nickel, copper, lead, and low melting point solder particles described below. The conductive particles may be composite particles in which non-conductive particles such as glass, ceramic, and plastic as nuclei are coated with a metal layer, and composite particles having the non-conductive particles and metal particles. When the conductive particles are the above-mentioned composite particles or heat-meltable metal particles, the conductive particles are melt-deformed by heating, so that the contact area with the electrode increases at the time of connection, and particularly high reliability can be obtained. As the conductive particles, silver-coated copper particles or metal particles having a shape in which a large number of fine metal particles are connected in a chain can also be used.

本発明においては、導電性ペースト組成物の硬化物に導電性粒子が含まれていると、硬化物の除去工程の際のレーザー光照射により、硬化物中の導電性粒子がレーザー光を吸収し光エネルギーが熱に変換され、硬化物が局所的に加熱される。その結果、主として硬化物を構成する樹脂成分が熱分解し、硬化物の全部または少なくとも一部が除去されるものと考えられる。 In the present invention, when the cured product of the conductive paste composition contains the conductive particles, the conductive particles in the cured product absorb the laser light by the laser light irradiation in the step of removing the cured product. Light energy is converted to heat and the cured product is heated locally. As a result, it is considered that the resin component mainly constituting the cured product is thermally decomposed and all or at least a part of the cured product is removed.

導電性粒子としては、熱溶融性の導電性粒子が好ましく、特に170℃以下での加熱により溶融するような導電性粒子を用いることが好ましく、なかでも低融点はんだ粒子がより好ましく、Sn-Pb系、Sn-Bi系の低融点はんだ粒子がより好ましい。なお、低融点はんだ粒子とは、融点が200℃以下、好ましくは170℃以下、より好ましくは150℃以下のはんだ粒子を意味する。特に、上記した不良電子素子の除去工程において、電子素子を除去し易くする観点からは、導電性粒子の融点は、上記した硬化性樹脂の硬化物のガラス転移温度よりも高くてもよく、低くてもよい。 As the conductive particles, heat-meltable conductive particles are preferable, and it is particularly preferable to use conductive particles that are melted by heating at 170 ° C. or lower, and among them, low melting point solder particles are more preferable, and Sn-Pb. System and Sn—Bi system low melting point solder particles are more preferable. The low melting point solder particles mean solder particles having a melting point of 200 ° C. or lower, preferably 170 ° C. or lower, and more preferably 150 ° C. or lower. In particular, from the viewpoint of facilitating the removal of the electronic element in the above-mentioned step of removing the defective electronic element, the melting point of the conductive particles may be higher or lower than the glass transition temperature of the cured product of the above-mentioned curable resin. You may.

また、低融点はんだ粒子としては鉛を含まないはんだ粒子が好ましく、この鉛を含まないはんだ粒子とは、JIS Z 3282:2017(はんだ-化学成分および形状)で規定されている、鉛含有率0.10質量%以下のはんだ粒子を意味する。 Further, as the low melting point solder particles, lead-free solder particles are preferable, and the lead-free solder particles are defined in JIS Z 3482: 2017 (solder-chemical composition and shape) and have a lead content of 0. . Means solder particles of 10% by mass or less.

鉛を含まないはんだ粒子としては、錫、ビスマス、インジウム、銅、銀、アンチモンから選択される1種類以上の金属から構成される低融点はんだ粒子が好適に用いられる。特に、コスト、取り扱い性、接合強度のバランスの観点から、錫(Sn)とビスマス(Bi)との合金が好ましく用いられる。 As the lead-free solder particles, low melting point solder particles composed of one or more kinds of metals selected from tin, bismuth, indium, copper, silver and antimony are preferably used. In particular, an alloy of tin (Sn) and bismuth (Bi) is preferably used from the viewpoint of the balance between cost, handleability and bonding strength.

このような低融点はんだ粒子中のBiの含有割合は、15~65質量%、好ましくは35~65質量%、より好ましくは55~60質量%の範囲で適宜選択される。 The content of Bi in such low melting point solder particles is appropriately selected in the range of 15 to 65% by mass, preferably 35 to 65% by mass, and more preferably 55 to 60% by mass.

Biの含有割合を15質量%以上とすることにより、その合金は約160℃で溶融を開始する。さらにBiの含有割合を増加させると溶融開始温度は低下していき、20質量%以上で溶融開始温度が139℃となり、58質量%で共晶組成となる。したがって、Biの含有割合を15~65質量%の範囲とすることにより、低融点化効果が十分に得られる結果、低温であっても十分な導通接続が得られる。 By setting the Bi content to 15% by mass or more, the alloy starts melting at about 160 ° C. Further, when the Bi content ratio is increased, the melting start temperature is lowered, and the melting start temperature becomes 139 ° C. at 20% by mass or more, and the eutectic composition is obtained at 58% by mass. Therefore, by setting the Bi content ratio in the range of 15 to 65% by mass, the effect of lowering the melting point can be sufficiently obtained, and as a result, sufficient conduction connection can be obtained even at a low temperature.

導電性粒子は、球状であることが好ましい。ここで、球状の導電性粒子とは、導電性粒子の形状が確認できる倍率において、球状粉の長径と短径の比が1~1.5のものを90%以上含むものをいう。また、導電性粒子は、平均粒子径が1~100μmであることが好ましく、3~80μmであることがより好ましく、5~60μmであることがさらに好ましい。なお、本明細書において平均粒子径とは、レーザー回折式粒度分布計を用いて測定されたメディアン径(D50)をいう。 The conductive particles are preferably spherical. Here, the spherical conductive particles mean those containing 90% or more of the spherical powder having a ratio of the major axis to the minor axis of 1 to 1.5 at a magnification at which the shape of the conductive particles can be confirmed. Further, the conductive particles preferably have an average particle diameter of 1 to 100 μm, more preferably 3 to 80 μm, and even more preferably 5 to 60 μm. In the present specification, the average particle size means the median size (D50) measured by using a laser diffraction type particle size distribution meter.

また、導電性粒子は、比表面積が300cm/g~2000cm/gであることが好ましく、500cm/g~1500cm/gであることがより好ましい。比表面積が上記範囲にある導電性粒子を使用することにより、配線基板の電極と電子素子との導通接続の安定性が向上する。なお、導電性粒子の比表面積とは、BET法で測定された値を意味し、具体的には、一つの分子の大きさが既知の不活性ガス(例えば窒素ガス)を測定試料の表面に吸着させ、その吸着量と不活性ガスの占有面積とから比表面積を求めることができる。 The specific surface area of the conductive particles is preferably 300 cm 2 / g to 2000 cm 2 / g, and more preferably 500 cm 2 / g to 1500 cm 2 / g. By using conductive particles having a specific surface area in the above range, the stability of the conductive connection between the electrodes of the wiring board and the electronic element is improved. The specific surface area of the conductive particles means a value measured by the BET method, and specifically, an inert gas (for example, nitrogen gas) having a known molecular size is applied to the surface of the measurement sample. It is adsorbed, and the specific surface area can be obtained from the adsorbed amount and the occupied area of the inert gas.

導電性粒子の配合量は、導電性ペースト組成物中の固形分量に対して20~70質量%であることが好ましく、30~60質量%であることがより好ましく、特に40~50質量%の範囲であることが好ましい。導電性粒子の配合量を20質量%以上とすることにより、配線基板と電子素子との密着性を確保しつつ十分な導通接続を確保することができる。また、導電性粒子の配合量を70質量%以下とすることにより、導通接続性を確保しつつ十分な密着性を確保することができる。 The blending amount of the conductive particles is preferably 20 to 70% by mass, more preferably 30 to 60% by mass, and particularly 40 to 50% by mass with respect to the solid content in the conductive paste composition. It is preferably in the range. By setting the blending amount of the conductive particles to 20% by mass or more, it is possible to secure a sufficient conductive connection while ensuring the adhesion between the wiring board and the electronic element. Further, by setting the blending amount of the conductive particles to 70% by mass or less, it is possible to secure sufficient adhesion while ensuring conduction connectivity.

導電性ペースト組成物は、硬化性樹脂および導電性微粒子以外にも、他の成分が含まれていてもよい。導電性ペースト組成物には、導通接続の安定性を高めるために、フラックスが含まれていてもよい。フラックスとしては、導電性ペースト組成物に使用される公知のフラックスを使用することができ、例えば、塩化亜鉛、塩化亜鉛と無機ハロゲン化物との混合物、塩化亜鉛と無機酸との混合物、溶融塩、リン酸、リン酸の誘導体、有機ハロゲン化物、ヒドラジン、有機酸、松脂等が挙げられる。これらフラックスは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 The conductive paste composition may contain other components in addition to the curable resin and the conductive fine particles. The conductive paste composition may contain a flux in order to enhance the stability of the conductive connection. As the flux, a known flux used in the conductive paste composition can be used, for example, zinc chloride, a mixture of zinc chloride and an inorganic halide, a mixture of zinc chloride and an inorganic acid, a molten salt, and the like. Examples thereof include phosphoric acid, a derivative of phosphoric acid, an organic halide, hydrazine, an organic acid, and pine fat. These fluxes can be used alone or in combination of two or more.

上記したフラックスのなかでも、有機酸を好適に使用することができる。好ましい有機酸としては、モノカルボン酸の他、ジカルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸等の多価カルボン酸が挙げられる。モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等が挙げられる。ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸等が挙げられる。トリカルボン酸としては、ベンゼン-1,2,5-トリカルボン酸、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸、1,2,3-プロパントリカルボン酸等が挙げられる。また、テトラカルボン酸としては、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸等が挙げられる。これらのカルボン酸のなかでも、ジカルボン酸が好ましく、グルタル酸、アジピン酸がより好ましく、特にアジピン酸が好ましい。 Among the above-mentioned fluxes, organic acids can be preferably used. Preferred organic acids include monocarboxylic acids as well as polyvalent carboxylic acids such as dicarboxylic acids, tricarboxylic acids and tetracarboxylic acids. Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tubercrostearic acid. , Arakidic acid, behenic acid, lignoseric acid, glycolic acid and the like. Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartrate acid, diglycolic acid and the like. Examples of the tricarboxylic acid include benzene-1,2,5-tricarboxylic acid, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, 1,2,3-propanetricarboxylic acid and the like. Examples of the tetracarboxylic acid include benzophenone tetracarboxylic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and the like. Among these carboxylic acids, dicarboxylic acid is preferable, glutaric acid and adipic acid are more preferable, and adipic acid is particularly preferable.

導電性ペースト組成物中のフラックスの含有量は、組成物中の固形分量に対して0.5~15質量%であることが好ましく、0.5~10質量%であることがより好ましい。フラックスの含有量が上記範囲内である導電性ペースト組成物とすることにより、導通接続性をより一層向上させることができる。 The content of the flux in the conductive paste composition is preferably 0.5 to 15% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the solid content in the composition. By using a conductive paste composition having a flux content within the above range, the conductive connectivity can be further improved.

また、フラックスの活性度を調整するために、塩基性有機化合物を含んでいてもよい。塩基性有機化合物としては、塩酸アニリンおよび塩酸ヒドラジン等が挙げられる。 In addition, a basic organic compound may be contained in order to adjust the activity of the flux. Examples of the basic organic compound include aniline hydrochloride, hydrazine hydrochloride and the like.

さらに、導電性ペースト組成物には、硬化物の物理的強度等を上げるために、必要に応じてフィラーを配合することができる。フィラーとしては、公知の無機または有機フィラーが使用できるが、特に、硫酸バリウム、球状シリカ、ハイドロタルサイトおよびタルクが好ましく用いられる。また、難燃性を得るために金属酸化物や水酸化アルミ等の金属水酸化物を体質顔料フィラーとして使用することができる。これらフィラーのなかでも、レーザー光の波長帯域の少なくとも一部を吸収し得る波長帯域を有するものを好ましく使用することができ、例えば酸化チタン等が挙げられる。このようなフィラーが含まれることによって、硬化物がレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換されやすくなり、硬化物中の樹脂成分の除去性が向上する。 Further, the conductive paste composition may contain a filler, if necessary, in order to increase the physical strength of the cured product. As the filler, known inorganic or organic fillers can be used, but barium sulfate, spherical silica, hydrotalcite and talcite are particularly preferably used. Further, in order to obtain flame retardancy, a metal oxide, a metal hydroxide such as aluminum hydroxide, or the like can be used as an extender pigment filler. Among these fillers, those having a wavelength band capable of absorbing at least a part of the wavelength band of the laser beam can be preferably used, and examples thereof include titanium oxide. By including such a filler, the cured product easily absorbs the laser beam and is converted into heat energy, and the removability of the resin component in the cured product is improved.

また、フィラーを配合する場合は、導電性ペースト組成物中での分散性を高めるために、フィラーは表面処理されたものであってもよい。表面処理がされているフィラーを使用することで、凝集を抑制することができる。表面処理方法は特に限定されず、公知慣用の方法を用いればよいが、硬化性反応基を有する表面処理剤、例えば、硬化性反応基を有機基として有するカップリング剤等で無機フィラーの表面を処理することが好ましい。 When the filler is blended, the filler may be surface-treated in order to enhance the dispersibility in the conductive paste composition. Aggregation can be suppressed by using a filler that has been surface-treated. The surface treatment method is not particularly limited, and a known and commonly used method may be used. However, the surface of the inorganic filler may be treated with a surface treatment agent having a curable reactive group, for example, a coupling agent having a curable reactive group as an organic group. It is preferable to treat it.

カップリング剤としては、シラン系、チタネート系、アルミネート系およびジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用できる。中でもシラン系カップリング剤が好ましい。かかるシラン系カップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N-(2-アミノメチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アニリノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the coupling agent, a silane-based, titanate-based, aluminate-based, zircoaluminate-based, or other coupling agent can be used. Of these, a silane-based coupling agent is preferable. Examples of such silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminomethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3-amino. Propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxy) Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

導電性ペースト組成物には、調製のし易さや塗布性の観点から有機溶剤を配合してもよい。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤など、公知慣用の有機溶剤が使用できる。これらの有機溶剤は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 An organic solvent may be added to the conductive paste composition from the viewpoint of ease of preparation and coatability. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethyl benzene; cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol and propylene glycol monomethyl ether. , Dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, tripropylene glycol monomethyl ether and other glycol ethers; ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbi Esters such as tall acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene carbonate; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, and solvent naphtha are known. Conventional organic solvents can be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

<電子素子の再実装工程>
上記のようにして、硬化物の全部または少なくとも一部が除去された領域に、電子素子を再実装する。電子素子の再実装は、配線基板上の電子素子を配置する領域または再実装しようとする電子素子にリペア材を塗布し、電子素子を配置した後、加熱してリペア材を硬化させることにより、配線基板と電子素子と固体(接着)し、電子素子を再実装することができる。加熱の際、所望により電子素子側から加圧してもよい。配線基板への電子素子の再実装時に使用するリペア材について、以下、説明する。
<Remounting process of electronic elements>
As described above, the electronic device is remounted in the region where all or at least a part of the cured product has been removed. To remount the electronic element, a repair material is applied to the area on the wiring board where the electronic element is arranged or the electronic element to be remounted, and after the electronic element is arranged, the repair material is cured by heating. The electronic element can be remounted by solidifying (adhering) the wiring board and the electronic element. At the time of heating, if desired, pressurization may be performed from the electronic element side. The repair material used when remounting the electronic element on the wiring board will be described below.

本発明のリペア方法に使用されるリペア材は、硬化物が除去された配線基板と再実装される電子素子とを接着する機能を有している必要がある。そのため、リペア材は硬化性樹脂を含む。硬化性樹脂としては、上記した導電性ペースト組成物に使用される硬化性樹脂と同様のものを使用することができる。本発明のリペア方法においては、上記したように、レーザー光の照射により配線基板上に残存する硬化物を除去した際、硬化物を構成する樹脂成分は熱分解して配線基板から除去されるものの、硬化物中に含まれている導電性粒子の溶融固化物は、レーザー光照射によって加熱されて再溶融するものの、通常は分解や蒸発することはなく、配線基板上の電極に付着した状態で残存している。そのため、残存する導電性粒子が再溶融するような温度まで加熱することで、配線基板の電極と電子素子とを導通接続することができる。また、リペア材中に含まれる硬化性樹脂は、加熱により硬化して硬化物となるため、配線基板に電子素子を固定(接着)することができる。 The repair material used in the repair method of the present invention needs to have a function of adhering the wiring board from which the cured product has been removed and the electronic element to be remounted. Therefore, the repair material contains a curable resin. As the curable resin, the same curable resin as that used in the above-mentioned conductive paste composition can be used. In the repair method of the present invention, as described above, when the cured product remaining on the wiring substrate is removed by irradiation with laser light, the resin component constituting the cured product is thermally decomposed and removed from the wiring substrate. The molten solidified of conductive particles contained in the cured product is heated by laser light irradiation and remelted, but normally does not decompose or evaporate and is attached to the electrodes on the wiring board. It remains. Therefore, by heating to a temperature at which the remaining conductive particles are remelted, the electrodes of the wiring board and the electronic elements can be conductively connected. Further, since the curable resin contained in the repair material is cured by heating to become a cured product, the electronic element can be fixed (adhered) to the wiring board.

リペア材は、硬化性樹脂に加えてフラックスを含む。フラックスとしては、上記した導電性ペースト組成物に使用されるフラックスと同様のものを使用することができる。本発明においては、上記したように、レーザー光の照射により配線基板上に残存する硬化物中の樹脂成分を除去する際、硬化物中の導電性粒子の溶融固化物は、レーザー光の光エネルギーが熱に変換される際に、酸化が進行する。特に、空気に触れている溶融固化物表面は、酸化膜が形成されている場合もある。このため、電子素子を再実装すると、酸化膜の影響により、配線基板の電極と電子素子との導通接続に不具合を生じる場合がある。本発明においては、リペア材がフラックスを含むことで、酸化膜の影響を抑制して導通接続性を向上させることができる。 The repair material contains a flux in addition to the curable resin. As the flux, the same flux as that used in the above-mentioned conductive paste composition can be used. In the present invention, as described above, when the resin component in the cured product remaining on the wiring substrate is removed by irradiation with laser light, the molten solidified of the conductive particles in the cured product is the light energy of the laser light. Oxidation proceeds as it is converted to heat. In particular, an oxide film may be formed on the surface of the molten solidified product that is in contact with air. Therefore, when the electronic element is remounted, a defect may occur in the conduction connection between the electrode of the wiring board and the electronic element due to the influence of the oxide film. In the present invention, since the repair material contains flux, the influence of the oxide film can be suppressed and the conduction connectivity can be improved.

リペア材に含まれるフラックスの含有量は、導通接続性の観点から、上記導電性ペースト組成物に含まれるフラックス量に対して質量基準で2~10倍であることが好ましく、4~6倍であることがより好ましい。また、導通接続性の観点から、フラックスの含有量は、リペア材の固形分量に対して、0.5~20質量%であることが好ましく、1~10質量%であることがより好ましい。 The content of the flux contained in the repair material is preferably 2 to 10 times, based on the mass, 4 to 6 times the amount of the flux contained in the conductive paste composition from the viewpoint of conduction connectivity. It is more preferable to have. Further, from the viewpoint of conduction connectivity, the flux content is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the solid content of the repair material.

リペア材が導電性粒子を含んでいなくても上記のようにして配線基板の電極と再実装する電子素子との導通接続は可能であるが、リペア材に導電性粒子が含まれていてもよい。導電性粒子としては、上記した導電性ペースト組成物に使用される導電性粒子と同様のものを使用することができる。リペア材に導電性粒子が含まれる場合、その配合量は、リペア材中の固形分量に対して20~70質量%であることが好ましく、30~60質量%であることがより好ましく、35~55質量%であることがさらに好ましい。 Even if the repair material does not contain conductive particles, the conductive connection between the electrodes of the wiring board and the electronic element to be remounted is possible as described above, but even if the repair material contains conductive particles, it is possible. good. As the conductive particles, the same conductive particles as those used in the above-mentioned conductive paste composition can be used. When the repair material contains conductive particles, the blending amount thereof is preferably 20 to 70% by mass, more preferably 30 to 60% by mass, and 35 to 35 to 70% by mass with respect to the solid content in the repair material. It is more preferably 55% by mass.

また、リペア材には、導電性ペースト組成物と同様の成分(例えば、フィラーや有機溶剤等)が含まれていてもよく、その配合量も導電性ペースト組成物と同程度とすることができる。 Further, the repair material may contain the same components as the conductive paste composition (for example, filler, organic solvent, etc.), and the blending amount thereof can be about the same as that of the conductive paste composition. ..

電子素子を再実装する領域(即ち、硬化物をレーザー光照射にて除去した領域)にリペア材を塗布する方法、ないし再実装しようとする電子素子にリペア材を塗布する方法としては、特に制限されるものではないが、局所的に塗布できる観点から、スクリーンメッシュやメタルマスクを介してスクレイパーにより塗布する方法や、ディスペンサーを用いて塗布する方法が挙げられる。これらの塗布方法のなかでも、簡易かつ容易に所望の領域にリペア材を塗布できることから、ディスペンサーを用いて塗布する方法が好ましい。ベアチップやLEDチップ等の電子素子を基板上に直接搭載して接続するチップオンボード(COB)等の電子素子実装基板において、狭小な領域であっても的確に適切な塗布量でリペア材を塗布することができる。ディスペンサーを使用してリペア材を塗布する場合、リペア材を充填した状態のシリンジをディスペンサーに装着し、吐出量を調節しながら所望の領域にリペア材を塗布することができる。リペア材は、電子素子を再実装する領域および再実装しようとする電子素子の両方に塗布してもよい。 The method of applying the repair material to the region where the electronic element is to be remounted (that is, the region where the cured product is removed by laser light irradiation) or the method of applying the repair material to the electronic element to be remounted is particularly limited. However, from the viewpoint of being able to be applied locally, a method of applying with a scraper via a screen mesh or a metal mask and a method of applying with a dispenser can be mentioned. Among these coating methods, the method of coating using a dispenser is preferable because the repair material can be easily and easily applied to a desired region. In an electronic element mounting board such as a chip-on-board (COB) that mounts and connects electronic elements such as bare chips and LED chips directly on the substrate, the repair material is applied with an appropriate coating amount even in a narrow area. can do. When applying the repair material using a dispenser, the syringe filled with the repair material can be attached to the dispenser, and the repair material can be applied to a desired region while adjusting the discharge amount. The repair material may be applied to both the region where the electronic device is to be remounted and the electronic device to be remounted.

電子素子を再実装する領域または電子素子にリペア材を塗布した後、リペア材が塗布された再実装領域に電子素子を配置し加熱する。加熱によりリペア材の硬化とともに、基板電極に残存していた導電性粒子の溶融固化物が再溶融し、配線基板の電極と電子素子とが導通接続され、電子素子が電子素子実装基板に固定(接着)されることで、リペアが完了する。加熱の際、所望により電子素子側から加圧してもよい。 After applying the repair material to the region where the electronic element is to be remounted or the electronic element, the electronic element is placed and heated in the remounting area to which the repair material is applied. Along with the curing of the repair material by heating, the molten solidified of the conductive particles remaining on the substrate electrode is remelted, the electrode of the wiring board and the electronic element are electrically connected, and the electronic element is fixed to the electronic element mounting substrate ( By being glued), the repair is completed. At the time of heating, if desired, pressurization may be performed from the electronic element side.

加熱時の温度は、リペア材が硬化するとともに、配線基板の電極上に残存する導電性粒子の溶融固化物が再溶融する温度であれば特に制限はないが、100~240℃、好ましくは120~200℃、より好ましくは145~200℃である。導通接続性を損なわない範囲において、加熱とともに所望により加圧して電子素子を圧着してもよい。加熱圧着する場合は、0.5~5.0MPa、好ましくは0.8~3.0MPa、より好ましくは1.0~2.0MPaで圧着を行い、加熱時間は1~60秒、好ましくは1~30秒、より好ましくは1~15秒である。このような加熱ないし圧着条件であれば、再実装される電子素子や、実装されている周囲の電子素子が加熱や圧着により損傷を受けることなく導通接続を確保することができる。 The temperature at the time of heating is not particularly limited as long as the repair material is cured and the molten solidified of the conductive particles remaining on the electrodes of the wiring board is remelted, but is not particularly limited, but is 100 to 240 ° C., preferably 120. It is about 200 ° C., more preferably 145 to 200 ° C. As long as the conduction connectivity is not impaired, the electronic element may be crimped by applying pressure as desired with heating. In the case of heat crimping, crimping is performed at 0.5 to 5.0 MPa, preferably 0.8 to 3.0 MPa, more preferably 1.0 to 2.0 MPa, and the heating time is 1 to 60 seconds, preferably 1 It is ~ 30 seconds, more preferably 1 ~ 15 seconds. Under such heating or crimping conditions, it is possible to secure a conduction connection without damaging the electronic element to be remounted and the surrounding electronic elements mounted by heating or crimping.

本発明によれば、上記したリペア材の硬化物も提供される。リペア材の硬化物における加熱時の温度等の作製条件は、例えば、上記したとおりである。 According to the present invention, a cured product of the above-mentioned repair material is also provided. The production conditions such as the temperature at the time of heating in the cured product of the repair material are as described above, for example.

また、本発明によれば、上記硬化物を備える配線基板も提供される。リペア材の硬化物を備える配線基板の種類としては、プリント配線板やガラス基板、セラミック基板に配線層を持つ基板等が挙げられる。配線基板は片面でも両面でも多層であってもよい。 Further, according to the present invention, a wiring board provided with the cured product is also provided. Examples of the type of wiring board provided with the cured product of the repair material include a printed wiring board, a glass substrate, a substrate having a wiring layer on a ceramic substrate, and the like. The wiring board may be single-sided, double-sided, or multi-layered.

本発明によれば、以下の実施形態を含む。
[1] 硬化性樹脂とレーザー光の波長帯域の少なくとも一部を吸収し得る導電性粒子とを含む導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板のリペア方法であって、
前記電子素子が正常に実装されていない不良箇所を特定し、
前記不良箇所を少なくとも含む電子素子実装領域を加熱して、前記特定された電子素子を配線基板から除去し、
前記電子素子が除去された前記領域にレーザー光を照射して、前記導電性ペースト組成物の硬化物の全部または少なくとも一部を除去し、
前記硬化物が除去された領域または再実装しようとする電子素子に、硬化性樹脂を含むリペア材を塗布して、前記電子素子が除去された配線基板の電極上に電子素子を載置し、前記リペア材を硬化させて前記電子素子を再実装する、
ことを含む、方法。
[2] 前記導電性ペースト組成物は、前記導電性粒子を導電性ペースト組成物中の固形分量に対して20~70質量%の割合で含む、[1]に記載の方法。
[3] 前記導電性粒子の光吸収波長が300nm~10600nmである、[1]または[2]に記載の方法。
[4]、 前記電子素子実装領域を、前記硬化物のガラス転移点よりも高い温度、かつ前記導電性粒子の融点以上の温度で加熱する、[1]~[3]のいずれかに記載の方法。
[5]、 前記導電性粒子の比表面積が300cm/g~2000cm/gである、[1]~[4]のいずれかに記載の方法。
[6] 前記導電性ペースト組成物および前記リペア材がフラックスを含んでなり、
前記リペア材に含まれるフラックス量は、前記導電性ペースト組成物に含まれるフラックス量に対して質量基準で2~10倍である、[1]~[5]のいずれかに記載の方法。
[7] 前記リペア材は、前記フラックスをリペア材の固形分量に対して1~10質量%の割合で含む、[1]~[6]のいずれかに記載の方法。
[8] 前記フラックスが、カルボン酸化合物を含む、[1]~[7]のいずれかに記載の方法。
[9] 前記硬化性樹脂がエポキシ樹脂である、[1]~[8]のいずれかに記載の方法。
[10] 前記電子素子は、1mm以下の外寸を有する、[1]~[9]のいずれかに記載の方法。
[11] 電子素子実装基板の隣接する電子素子の間隔が5mm以下である、[1]~[10]のいずれかに記載の方法。
[12] 導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板から、正常に実装されていない電子素子を除去し、電子素子を再実装する際に使用されるリペア材であって、
硬化性樹脂およびフラックスを少なくとも含み、
前記フラックスをリペア材の固形分量に対して1~20質量%の割合で含む、リペア材。
[13] 導電性粒子をさらに含んでなる、[12]に記載のリペア材。
According to the present invention, the following embodiments are included.
[1] Electrodes and electronic elements on a wiring board are energized via a cured product of a conductive paste composition containing a curable resin and conductive particles capable of absorbing at least a part of the wavelength band of laser light. It is a repair method of the electronic element mounting board that is mounted in this way.
Identify the defective part where the electronic element is not mounted normally,
The electronic element mounting region including at least the defective portion is heated to remove the specified electronic element from the wiring board.
The region from which the electronic element has been removed is irradiated with laser light to remove all or at least a part of the cured product of the conductive paste composition.
A repair material containing a curable resin is applied to the region where the cured product has been removed or the electronic element to be remounted, and the electronic element is placed on the electrode of the wiring substrate from which the electronic element has been removed. The repair material is cured and the electronic element is remounted.
The method, including that.
[2] The method according to [1], wherein the conductive paste composition contains the conductive particles at a ratio of 20 to 70% by mass with respect to the solid content in the conductive paste composition.
[3] The method according to [1] or [2], wherein the conductive particles have a light absorption wavelength of 300 nm to 10600 nm.
[4] The method according to any one of [1] to [3], wherein the electronic element mounting region is heated at a temperature higher than the glass transition point of the cured product and at a temperature equal to or higher than the melting point of the conductive particles. Method.
[5] The method according to any one of [1] to [4], wherein the specific surface area of the conductive particles is 300 cm 2 / g to 2000 cm 2 / g.
[6] The conductive paste composition and the repair material contain flux.
The method according to any one of [1] to [5], wherein the amount of flux contained in the repair material is 2 to 10 times the amount of flux contained in the conductive paste composition on a mass basis.
[7] The method according to any one of [1] to [6], wherein the repair material contains the flux at a ratio of 1 to 10% by mass with respect to the solid content of the repair material.
[8] The method according to any one of [1] to [7], wherein the flux contains a carboxylic acid compound.
[9] The method according to any one of [1] to [8], wherein the curable resin is an epoxy resin.
[10] The method according to any one of [1] to [9], wherein the electronic element has an outer dimension of 1 mm or less.
[11] The method according to any one of [1] to [10], wherein the distance between adjacent electronic elements on the electronic element mounting substrate is 5 mm or less.
[12] An electronic element that is not normally mounted is removed from an electronic element mounting board that is mounted so that an electrode on a wiring board and an electronic element are energized via a cured product of the conductive paste composition. , A repair material used when remounting electronic elements.
Contains at least curable resin and flux,
A repair material containing the flux at a ratio of 1 to 20% by mass with respect to the solid content of the repair material.
[13] The repair material according to [12], which further contains conductive particles.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the Examples. In the following, "part" and "%" are all based on mass unless otherwise specified.

[実施例1]
<電子素子実装基板の準備>
先ず、下記に示す各成分を所定割合で配合し、三本ロールミルにて混練することにより異方導電性ペースト組成物を調製した。
・エポキシ樹脂 55質量部
(jER-828、常温で液状、三菱ケミカル株式会社製)
・硬化剤(DICY、ジシアンジアミド) 3質量部
・フラックス(アジピン酸) 1質量部
・低融点はんだ粒子 41質量部
(42Sn-58Bi球状粒子、融点139℃、比表面積541cm/g(BET法で測定された値)、千住金属工業株式会社製)
[Example 1]
<Preparation of electronic element mounting board>
First, each component shown below was blended in a predetermined ratio and kneaded with a three-roll mill to prepare an anisotropic conductive paste composition.
-Epoxy resin 55 parts by mass (jER-828, liquid at room temperature, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・ Hardener (DICY, dicyandiamide) 3 parts by mass ・ Flux (azipic acid) 1 part by mass ・ Low melting point solder particles 41 parts by mass (42Sn-58Bi spherical particles, melting point 139 ° C., specific surface area 541 cm 2 / g (measured by BET method) Value), manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.)

次いで、得られた異方導電性ペースト組成物を、リジット基板(基材:FR-4、電極幅:120μm、電極長さ:200um、ピッチ幅:0.6mm、電極数150、フラッシュAu処理)上に、メタルマスク(マスク厚:100μm、開口:200μm×100μm)を介してスクレイパーにより厚みが80μmになるように塗布した。
続いて、異方導電性ペースト組成物を塗布した状態のリジッド基板の各電極位置に個々のLEDチップ(125μm×75μm)の電極が重なり合うように配置し、LEDチップ側から、180℃、10分間の加熱を行い、150個のLEDチップが実装された基板を作製した。
Next, the obtained anisotropic conductive paste composition was applied to a rigid substrate (base material: FR-4, electrode width: 120 μm, electrode length: 200 um, pitch width: 0.6 mm, number of electrodes 150, flash Au treatment). The top was coated with a scraper via a metal mask (mask thickness: 100 μm, opening: 200 μm × 100 μm) so as to have a thickness of 80 μm.
Subsequently, the electrodes of the individual LED chips (125 μm × 75 μm) are arranged so as to overlap each other at each electrode position of the rigid substrate to which the anisotropic conductive paste composition is applied, and the temperature is 180 ° C. for 10 minutes from the LED chip side. Was heated to prepare a substrate on which 150 LED chips were mounted.

<電子素子実装基板のリペア>
先ず、上記のようにして得られたLED実装基板について、信号発生器(日置電機株式会社製、DCシグナルソース7011)を用いて導通点灯検査を行い、150個のLED全てが点灯することを確認した。このなかから、任意に10個のLEDを選び、仮想的に当該10個のLEDを不良箇所として特定した。なお、10個のLEDを選ぶ際に、隣接するLEDは選択しないようにした。
次いで、不良箇所として特定したLEDが実装されている基板の裏側から、加熱面を断熱材で部分的にマスクしたホットプレートを用いて170℃で1分間加熱し、不良箇所として特定したLEDを基板から除去したあと、基板を室温まで冷却した。LEDが除去されたそれぞれの箇所を目視にて観察したとこと、10箇所全てにおいて、異方導電性ペースト組成物の硬化物が、基板表面の電極に残存していることを確認した。
続いて、LEDが除去された箇所に、ファイバーレーザー(波長:1064nm、ビーム径:40μm)を用いて、0.4Wの出力にて1秒間、レーザー光を照射した。この操作を15回繰り返した。レーザー光を照射した箇所を目視にて観察したところ、10箇所全てにおいて、基板の電極表面にはんだが残存しているものの、樹脂固形物は残存していないことを確認した。
<Repair of electronic element mounting board>
First, the LED mounting board obtained as described above was subjected to a continuity lighting inspection using a signal generator (DC signal source 7011 manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), and it was confirmed that all 150 LEDs were lit. did. From these, 10 LEDs were arbitrarily selected, and the 10 LEDs were virtually identified as defective parts. When selecting 10 LEDs, the adjacent LEDs were not selected.
Next, from the back side of the board on which the LED identified as the defective part is mounted, the LED identified as the defective part is heated at 170 ° C. for 1 minute using a hot plate whose heating surface is partially masked with a heat insulating material, and the LED identified as the defective part is used as the substrate. After removal from the substrate, the substrate was cooled to room temperature. It was confirmed by visually observing each part where the LED was removed, and that the cured product of the anisotropic conductive paste composition remained on the electrode on the surface of the substrate in all 10 parts.
Subsequently, a fiber laser (wavelength: 1064 nm, beam diameter: 40 μm) was used to irradiate the portion where the LED was removed with a laser beam at an output of 0.4 W for 1 second. This operation was repeated 15 times. When the spots irradiated with the laser beam were visually observed, it was confirmed that solder remained on the electrode surface of the substrate but no resin solids remained in all 10 spots.

異方導電性ペースト組成物を、ディスペンサー装置を用いて、LEDが除去された箇所(1箇所の面積:約120μm×200μm)に300mg塗布し、LED実装基板に使用したLEDと同じLEDをリペア材を塗布した箇所に配置し、基板の電極とLEDの電極の位置が重なり合うように調整した。
次いで、LEDチップ側から、180℃で10分間の加熱を行い、LEDの再実装を行った。
Using a dispenser device, apply 300 mg of the anisotropic conductive paste composition to the place where the LED was removed (area of one place: about 120 μm × 200 μm), and use the same LED as the LED used for the LED mounting substrate as a repair material. Was placed at the place where the above was applied, and the positions of the electrodes on the substrate and the electrodes of the LED were adjusted so as to overlap each other.
Next, the LED was remounted by heating at 180 ° C. for 10 minutes from the LED chip side.

<導通試験評価>
10個のLEDを再実装した基板について、上記と同様に信号発生器(日置電機株式会社製、DCシグナルソース7011)を用いて導通点灯検査を行ったところ、再実装したLEDのうち4個は点灯したものの、6個は点灯しなかった。
また、再実装した基板に対して、温度85℃湿度85%RH1000時間のTHテスト(Thermal Humidity Test)を実施した後に、上記と同様にして導通点灯検査を行ったところ、再実装したLEDのうち4個は点灯したものの、6個は点灯しなかった。
<Continuity test evaluation>
When a continuity lighting inspection was performed on a board on which 10 LEDs were remounted using a signal generator (DC signal source 7011 manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) in the same manner as above, 4 of the remounted LEDs were found. Although it turned on, 6 did not turn on.
Further, after conducting a TH test (Thermal Humidity Test) at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% for 1000 hours on the remounted substrate, a continuity lighting inspection was performed in the same manner as described above. Four were lit, but six were not.

[実施例2]
<リペア材1の調製>
下記に示す各成分を所定割合で配合し、攪拌機にて混練することでリペア材1~4を得た。
リペア材1
・エポキシ樹脂 54質量部
(jER-828、常温で液状、三菱ケミカル株式会社製)
・硬化剤(DICY、ジシアンジアミド) 3質量部
・フラックス(アジピン酸) 3質量部
・低融点はんだ粒子 40質量部
(42Sn-58Bi球状粒子、融点139℃、比表面積541cm/g、千住金属工業株式会社製)
[Example 2]
<Preparation of repair material 1>
Repair materials 1 to 4 were obtained by blending each of the components shown below in a predetermined ratio and kneading with a stirrer.
Repair material 1
-Epoxy resin 54 parts by mass (jER-828, liquid at room temperature, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・ Hardener (DICY, dicyandiamide) 3 parts by mass ・ Flux (adipic acid) 3 parts by mass ・ Low melting point solder particles 40 parts by mass (42Sn-58Bi spherical particles, melting point 139 ° C., specific surface area 541 cm 2 / g, Senju Metal Industry Co., Ltd. Made by the company)

LED再実装の際に使用した異方導電性ペースト組成物に代えてリペア材1を使用した以外は実施例1と同様にしてLEDの再実装を行い、導通試験評価を行った。その結果、再実装したLEDのうち6個は点灯したものの、4個は点灯しなかった。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDのうち6個は点灯したものの、4個は点灯しなかった。 The LED was remounted in the same manner as in Example 1 except that the repair material 1 was used instead of the anisotropic conductive paste composition used for the LED remounting, and the continuity test was evaluated. As a result, 6 of the remounted LEDs turned on, but 4 did not. In the continuity lighting inspection after the TH test, 6 of the remounted LEDs were lit, but 4 were not.

[実施例3]
<リペア材2の調製>
・エポキシ樹脂 52質量部
(jER-828、常温で液状、三菱ケミカル株式会社製)
・硬化剤(DICY、ジシアンジアミド) 3質量部
・フラックス(アジピン酸) 6質量部
・低融点はんだ粒子 39質量部
(42Sn-58Bi球状粒子、融点139℃、比表面積541cm/g、千住金属工業株式会社製)
[Example 3]
<Preparation of repair material 2>
-Epoxy resin 52 parts by mass (jER-828, liquid at room temperature, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・ Hardener (DICY, dicyandiamide) 3 parts by mass ・ Flux (adipic acid) 6 parts by mass ・ Low melting point solder particles 39 parts by mass (42Sn-58Bi spherical particles, melting point 139 ° C., specific surface area 541 cm 2 / g, Senju Metal Industry Co., Ltd. Made by the company)

LED再実装の際に使用した異方導電性ペースト組成物に代えてリペア材2を使用した以外は実施例1と同様にしてLEDの再実装を行い、導通試験評価を行った。その結果、再実装したLEDの全て10個が点灯することを確認した。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDの10個全てが点灯することを確認した。 The LED was remounted in the same manner as in Example 1 except that the repair material 2 was used instead of the anisotropic conductive paste composition used for the LED remounting, and the continuity test was evaluated. As a result, it was confirmed that all 10 of the remounted LEDs were lit. In the continuity lighting inspection after the TH test, it was confirmed that all 10 of the remounted LEDs were lit.

[実施例4]
<リペア材3の調製>
・エポキシ樹脂 49質量部
(jER-828、常温で液状、三菱ケミカル株式会社製)
・硬化剤(DICY、ジシアンジアミド) 3質量部
・フラックス(アジピン酸) 9質量部
・低融点はんだ粒子 39質量部
(42Sn-58Bi球状粒子、融点139℃、比表面積541cm/g、千住金属工業株式会社製)
[Example 4]
<Preparation of repair material 3>
-Epoxy resin 49 parts by mass (jER-828, liquid at room temperature, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・ Hardener (DICY, dicyandiamide) 3 parts by mass ・ Flux (adipic acid) 9 parts by mass ・ Low melting point solder particles 39 parts by mass (42Sn-58Bi spherical particles, melting point 139 ° C., specific surface area 541 cm 2 / g, Senju Metal Industry Co., Ltd. Made by the company)

LED再実装の際に使用した異方導電性ペースト組成物に代えてリペア材1を使用した以外は実施例1と同様にしてLEDの再実装を行い、導通試験評価を行った。その結果、再実装したLEDの10個全てが点灯することを確認した。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDのうち9個は点灯したものの、1個は点灯しなかった。 The LED was remounted in the same manner as in Example 1 except that the repair material 1 was used instead of the anisotropic conductive paste composition used for the LED remounting, and the continuity test was evaluated. As a result, it was confirmed that all 10 of the remounted LEDs were lit. In the continuity lighting inspection after the TH test, nine of the remounted LEDs were lit, but one was not.

[実施例5]
<リペア材4の調製>
・エポキシ樹脂 46質量部
(jER-828、常温で液状、三菱ケミカル株式会社製)
・硬化剤(DICY、ジシアンジアミド) 3質量部
・フラックス(アジピン酸) 12質量部
・低融点はんだ粒子 39質量部
(42Sn-58Bi球状粒子、融点139℃、比表面積541cm/g、千住金属工業株式会社製)
[Example 5]
<Preparation of repair material 4>
-Epoxy resin 46 parts by mass (jER-828, liquid at room temperature, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・ Hardener (DICY, dicyandiamide) 3 parts by mass ・ Flux (adipic acid) 12 parts by mass ・ Low melting point solder particles 39 parts by mass (42Sn-58Bi spherical particles, melting point 139 ° C., specific surface area 541 cm 2 / g, Senju Metal Industry Co., Ltd. Made by the company)

LED再実装の際に使用した異方導電性ペースト組成物に代えてリペア材1を使用した以外は実施例1と同様にしてLEDの再実装を行い、導通試験評価を行った。その結果、再実装したLEDの10個全てが点灯することを確認した。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDのうち6個は点灯したものの、4個は点灯しなかった。 The LED was remounted in the same manner as in Example 1 except that the repair material 1 was used instead of the anisotropic conductive paste composition used for the LED remounting, and the continuity test was evaluated. As a result, it was confirmed that all 10 of the remounted LEDs were lit. In the continuity lighting inspection after the TH test, 6 of the remounted LEDs were lit, but 4 were not.

[比較例1]
上記した電子素子実装基板のリペア工程において、レーザー光照射を行わなかった以外は、実施例1と同様にして10個のLEDを基板に再実装した。
次いで、実施例1と同様に導通点灯検査を行ったところ、再実装したLEDの10個全てが点灯しなかった。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDの10個全てが点灯しなかった。
[Comparative Example 1]
In the above-mentioned repair process of the electronic element mounting substrate, 10 LEDs were remounted on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the laser beam irradiation was not performed.
Next, when the continuity lighting inspection was performed in the same manner as in Example 1, all 10 of the remounted LEDs did not light. Moreover, in the continuity lighting inspection after the TH test, all 10 of the remounted LEDs did not light.

[比較例2]
上記した電子素子実装基板のリペア工程において、レーザー光照射に代えて、有機溶剤(メチルエチルケトン)を用いて、LEDチップを除去した箇所の基板の電極に残存する付着物を除去した以外は、実施例1と同様にして10個のLEDを基板に再実装した。
次いで、実施例1と同様に導通点灯検査を行ったところ、再実装したLEDの10個全てが点灯しなかった。また、THテスト実施後の導通点灯検査においては、再実装したLEDの10個全てが点灯しなかった。
[Comparative Example 2]
In the above-mentioned repair step of the electronic device mounting substrate, an organic solvent (methyl ethyl ketone) was used instead of the laser light irradiation to remove the deposits remaining on the electrodes of the substrate at the place where the LED chip was removed. Ten LEDs were remounted on the substrate in the same manner as in 1.
Next, when the continuity lighting inspection was performed in the same manner as in Example 1, all 10 of the remounted LEDs did not light. Moreover, in the continuity lighting inspection after the TH test, all 10 of the remounted LEDs did not light.

Claims (10)

導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板のリペア方法であって、
正常に実装されていない電子素子を少なくとも含む電子素子実装領域を加熱して、前記正常に実装されていない電子素子を配線基板から除去し、
前記電子素子が除去された前記領域にレーザー光を照射して、前記配線基板から前記導電性ペースト組成物の硬化物の全部または少なくとも一部を除去し、
前記硬化物が除去された領域に電子素子を再実装する、
ことを含むことを特徴とする、方法。
It is a repair method of an electronic element mounting substrate in which an electrode on a wiring board and an electronic element are mounted so as to be energized through a cured product of a conductive paste composition.
The electronic element mounting region containing at least the improperly mounted electronic element is heated to remove the improperly mounted electronic element from the wiring board.
The region from which the electronic element has been removed is irradiated with laser light to remove all or at least a part of the cured product of the conductive paste composition from the wiring board.
The electronic element is remounted in the region where the cured product has been removed.
A method characterized by including.
前記硬化物が除去された領域または再実装しようとする電子素子に、硬化性樹脂を含むリペア材を塗布して、電子素子を再実装する、請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein a repair material containing a curable resin is applied to the region from which the cured product has been removed or the electronic element to be remounted, and the electronic element is remounted. 前記導電性ペースト組成物が、硬化性樹脂および導電性粒子を含み、前記硬化性樹脂の硬化物および前記導電性粒子の少なくとも1種の光吸収波長が300nm~10600nmである、請求項1または2に記載の方法。 Claim 1 or 2 in which the conductive paste composition contains a curable resin and conductive particles, and the light absorption wavelength of at least one of the cured product of the curable resin and the conductive particles is 300 nm to 10600 nm. The method described in. 前記電子素子実装領域を、前記硬化物のガラス転移点よりも高い温度、かつ前記導電性粒子の融点以上の温度で加熱する、請求項3に記載の方法。 The method according to claim 3, wherein the electronic element mounting region is heated at a temperature higher than the glass transition point of the cured product and at a temperature equal to or higher than the melting point of the conductive particles. 前記導電性ペースト組成物および前記リペア材がフラックスを含んでなり、
前記リペア材に含まれるフラックス量は、前記導電性ペースト組成物に含まれるフラックス量に対して質量基準で2~10倍である、請求項2~4のいずれか一項に記載の方法。
The conductive paste composition and the repair material contain flux.
The method according to any one of claims 2 to 4, wherein the amount of flux contained in the repair material is 2 to 10 times the amount of flux contained in the conductive paste composition on a mass basis.
前記リペア材は、前記フラックスをリペア材の固形分量に対して0.5~20質量%の割合で含む、請求項5に記載の方法。 The method according to claim 5, wherein the repair material contains the flux in a proportion of 0.5 to 20% by mass with respect to the solid content of the repair material. 導電性ペースト組成物の硬化物を介して、配線基板上の電極と電子素子とが通電するように実装されてなる電子素子実装基板から、正常に実装されていない電子素子を除去し、電子素子を再実装する際に使用されるリペア材であって、
硬化性樹脂およびフラックスを少なくとも含み、
前記フラックスをリペア材の固形分量に対して0.5~20質量%の割合で含むことを特徴とする、リペア材。
The electronic element that is not normally mounted is removed from the electronic element mounting board that is mounted so that the electrode on the wiring board and the electronic element are energized through the cured product of the conductive paste composition, and the electronic element is used. It is a repair material used when remounting
Contains at least curable resin and flux,
A repair material comprising the flux at a ratio of 0.5 to 20% by mass with respect to the solid content of the repair material.
導電性粒子をさらに含んでなる、請求項7に記載のリペア材。 The repair material according to claim 7, further comprising conductive particles. 請求項7または8に記載のリペア材の硬化物。 The cured product of the repair material according to claim 7 or 8. 請求項9に記載の硬化物を備える、配線基板。 A wiring board comprising the cured product according to claim 9.
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