JP2022025031A - 紫外線ランプシステム用の無線周波数スクリーン - Google Patents

紫外線ランプシステム用の無線周波数スクリーン Download PDF

Info

Publication number
JP2022025031A
JP2022025031A JP2021116149A JP2021116149A JP2022025031A JP 2022025031 A JP2022025031 A JP 2022025031A JP 2021116149 A JP2021116149 A JP 2021116149A JP 2021116149 A JP2021116149 A JP 2021116149A JP 2022025031 A JP2022025031 A JP 2022025031A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
screen
mesh pattern
individual openings
triangle
triangles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021116149A
Other languages
English (en)
Inventor
勝鈞 楊
Sheng-Chun Yang
伯維 梁
Po-Wei Liang
昭宏 萬
Akihiro Yorozu
藝民 林
Yi-Ming Lin
哲綱 劉
Zhe Gang Liu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Original Assignee
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd filed Critical Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Publication of JP2022025031A publication Critical patent/JP2022025031A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/0033Heating devices using lamps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32623Mechanical discharge control means
    • H01J37/32651Shields, e.g. dark space shields, Faraday shields
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/04Electrodes; Screens; Shields
    • H01J61/10Shields, screens, or guides for influencing the discharge
    • H01J61/103Shields, screens or guides arranged to extend the discharge path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
    • H01J65/042Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
    • H01J65/044Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by a separate microwave unit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/0033Heating devices using lamps
    • H05B3/0038Heating devices using lamps for industrial applications
    • H05B3/0047Heating devices using lamps for industrial applications for semiconductor manufacture
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02Details
    • H01J2237/026Shields
    • H01J2237/0266Shields electromagnetic

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Aerials With Secondary Devices (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Planar Illumination Modules (AREA)

Abstract

【課題】マイクロ波駆動型紫外線(UV)ランプシステム用の無線周波数(RF)スクリーンを提供する。【解決手段】RFスクリーンは、導電性材料を含むシート310と、前記シートの縁部の周囲のフレーム320と、を含む。導電性材料は、実質的にスクリーンの動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを規定する。個々の開口部のそれぞれは、三角形である。【選択図】図3

Description

紫外線(UV)ランプシステムは、半導体製造プロセスで使用して、様々な用途でインク、コーティング、フォトレジスト、および接着剤を硬化させることができる。これらの用途としては、例えば、加飾、ラミネート、ハードコート保護、回路基板のコンフォーマルコーティング、フォトレジスト、フォトリソグラフィ、印刷、太陽シミュレーションなどが挙げられる。UVランプは、UV、可視、赤外スペクトルで高強度の放射エネルギーを生成する。この高強度の放射エネルギーは、紙、プラスチックフィルム、木材、金属などの様々な基板に適用されるインク、コーティング、フォトレジストおよび接着剤を硬化させるために用いることができる。
マイクロ波駆動型UVランプシステムは、電力を無線周波数(RF)エネルギーに変換するための照射装置を有する。マイクロ波エネルギーまたはRFエネルギーは、RFエネルギーを吸収してプラズマ状態に変化するようにUVバルブが配置されているキャビティに導かれる。プラズマは、UVランプシステムにおいてUV光として放射エネルギーを生成する。マイクロ波駆動型UVランプシステムは、光エネルギーがスクリーン開口部を通って伝達されることを可能にしながら、キャビティ内のRFエネルギーを捕捉して密封するための開口部を備えたRFスクリーンを有する。
以下、本開示の様々な例示的な実施形態について、以下の図面を参照して詳細に説明する。なお、図面は、例示のみを目的として提供されており、読者が本開示の理解を容易にするために、本開示の例示的な実施形態を示しているにすぎない。したがって、図面は、本開示の広さ、範囲、または適用性を限定するものと見なされるべきではない。図の明瞭化および簡易化のために、これらの図面は必ずしも正しい縮尺で作図されていないことに注意されたい。
本開示のいくつかの実施形態に係る、RFスクリーンを備えた例示的なUVランプシステムを示す断面図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る、リフレクタに取り付けられた例示的なRFスクリーンを示す斜視図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る例示的なRFスクリーンを示す平面図である。 本開示のいくつかの実施形態に係るRFスクリーン開口部の例示的な形状を示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る直角三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る正三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る正三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。 本開示のいくつかの実施形態に係る、UV誘導堆積を実行するための方法のフローチャートを示す図である。
以下、本開示の様々な例示的な実施形態について、当業者が本開示を作成および使用することを可能にするために、添付図面を参照して説明する。当業者には明らかであるように、本開示を読んだ後、本開示の範囲から逸脱することなく、本明細書に記載の実施例に様々な変形または変更を行うことができる。したがって、本開示は、本明細書に記載および図示された例示的な実施形態および用途に限定されない。加えて、本明細書に開示される方法におけるステップの特定の順序および/または階層は、例示的なアプローチであるにすぎない。設計の嗜好に基づいて、開示された方法またはプロセスのステップの特定の順序または階層は、本開示の範囲内で並べ替えることができる。したがって、当業者は、本明細書に開示される方法および技術が、サンプルの順序で様々なステップまたは動作を提供し、本開示は、特に明記されない限り、提供される特定の順序または階層に限定されないことを理解するであろう。
さらに、図示されているように、ここで、ある要素又は構造と別の要素又は構造との関係を説明しやすくするために、「下方」、「下」、「下部」、「上方」、「上部」などのような空間的に相対的な用語を使用することができる。空間的に相対的な用語は、図に示されている方向に加えて、使用中又は動作中の装置の異なる方向を包含することを意図している。装置は、他の方向に配向してもよく(90度又は他の配向に回転されてもよい)、本明細書で使用される空間的に相対的な記述子は、同様にそれに応じて解釈され得る。「取り付けられた」、「固定された」、「接続された」および「相互接続された」などの用語は、特に明記されない限り、構造が、介在する構造を介して直接的または間接的に互いに固定または取り付けられている関係、ならびに可動または剛性の両方の取り付けまたは関係を指す。
特に定義されない限り、本明細書では使用されるすべての用語(技術用語および学術用語を含む)は、本開示が属する当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。一般的に使用される辞書で定義されているような用語は、関連技術および本開示の文脈におけるそれらの意味と一致する意味を有すると解釈されるべきであり、本明細書で明示的に定義されない限り、理想的または過度に形式的な意味で解釈されることはないことがさらに理解されたい。
以下、本開示の本実施形態を詳細に参照し、その例は添付図面に示される。可能な限り、同じまたは類似の部品を参照するために、図面および説明において同じ参照番号が使用されている。
本開示は、より優れた信頼性と高い光出力を得ることができるUVランプシステムにおけるRFスクリーンを提供する。開示されたRFスクリーンは、実質的にスクリーンの動作領域にわたる個々の開口部のメッシュパターンを有する。本開示の様々な実施形態によれば、スクリーン開口部は、二等辺三角形、正三角形、直角三角形、および/または不等辺三角形などの三角形である。一実施形態では、RFスクリーンの個々の開口部は、複数のタイプの三角形である。メッシュパターンの2つの隣接する行における三角形は、互いに整列してもよく、整列しなくてもよい。矩形、正方形、または六角形の開口部を遊羽するRFスクリーンと比較して、三角形の開口部を有する開示されたRFスクリーンは、より高い応力を受け、より小さい変形を有し、したがってより優れた信頼性を有することができる。また、開示されたRFスクリーンは、より良いUV光透過率、すなわち、RFスクリーンを通るより高いUV光出力を達成することができ、これは、UVランプシステムの効率を向上させ、UVランプシステムへのダウンタイムの量を減らすことができる。
図1は、本開示のいくつかの実施形態に係る、RFスクリーン108を備えた例示的なUVランプシステム100の断面図を示す。いくつかの実施形態では、UVランプシステム100は、基板上に配置された材料層(または膜)などの材料を加熱して硬化させる。簡略さと明瞭性のために、図1は、本開示の態様の理解を容易にするために、UVランプシステム全体の選択部分のみを示している。付加的な特徴は、UVランプシステム100に付加することができ、後述するいくつかの特徴は、UVランプシステム100の他の実施形態に置き換えるか、または削除することができる。
図1に示すように、UVランプシステム100は、放射線発生器110を含む。放射線発生器110は、基板上に配置された材料層(膜)を加熱または硬化させるための放射線を発生させる。一実施形態では、放射線発生器110は、UVランプモジュールである。放射線発生器110は、例えば、揺動動作、回転動作、その他の適切な動作、またはそれらの組み合わせで移動するように構成される動的部位を含んでよい。
この例の放射線発生器110は、エネルギー源101をさらに含む。エネルギー源101は、UV光の放射線を励起するためのエネルギーを発生させることができる。例えば、エネルギー源101は、無線周波数(RF)マイクロ波エネルギー102などの、UV光の放射線を励起できるマイクロ波エネルギーを発生させるマグネトロンなどの1つ以上のマイクロ波発生器を含んでよい。エネルギー源101は、マグネトロンのフィラメントにエネルギーを与えるための1つ以上のトランスを含んでよい。エネルギー源101は、エネルギー源101に電力を供給する電源に連結されてもよい。エネルギー源101内のマグネトロンは、電源から受けた電力をマイクロ波エネルギーまたはRFエネルギーに変換することができる。
この例の放射線発生器110は、さらに、エネルギー源101に連結された放射線源103を含む。エネルギー源101は、マイクロ波エネルギーなどのエネルギー源101によって発生したエネルギーを放射線源103に導く導波路107を介して放射線源103に連結されてよい。一実施形態では、放射線源103は、マイクロ波室などのキャビティまたはチャンバ105内に配置されたUVランプ光源104を含むUV照射ランプである。チャンバ105は、UV線などの放射線源103によって発生した放射線がチャンバ環境に吸収されないことを確実にするために、無酸素雰囲気としてよい。チャンバ105は、チャンバ105内に適切な温度が維持された真空チャンバであってもよい。
放射線源103内に収容されたUVランプ光源104は、1つ以上のUVバルブを含んでよい。一例では、各UVバルブは、キセノン(Xe)、水銀(Hg)、クリプトン(Kr)、アルゴン(Ar)、他の適切なガス、またはそれらの組み合わせなどの1種以上のガスが充填された密閉型のプラズマバルブである。UVランプ光源104内で使用されるガスは、マイクロ波(RF)エネルギーを吸収し、その結果、プラズマ状態に変化し得る。このプラズマは、UVランプシステム100において、UV光として放射エネルギーを発生させることができる。一実施形態では、UVランプ光源104内で使用されるガスは、選択されたUV放射波長が放射線源103から出射されるように選択することができる。一実施形態では、選択されたUV放射波長は、200~450nmである。このように、マイクロ波エネルギーなどのエネルギー源101によって発生したエネルギーは、導波路107を介して放射線源103に導かれ、UVランプ光源104のガスなどの放射線源103の素子を励起し、その結果、放射線源103は、UV放射線106を出射する。具体的には、UVランプ光源104の各UVバルブは、RFエネルギー102によって励起されてUV光106を出射することができる。
この例の放射線発生器110は、キャビティ105をカプセル化するために放射線源103に取り付けられたRFスクリーン108をさらに含む。RFスクリーン108は、個々の開口部の所定のメッシュパターンを有する導電性材料で形成されたシートを含んでよい。RFスクリーン108は、スクリーン開口部にUV光106を透過させることを可能にするとともに、RFエネルギーがキャビティ105から逃げて通過することを防止または遮断する。一実施形態では、RFスクリーン108の開口部は、RF放射波長よりも小さく構成される。一実施形態では、RFエネルギーは、約2445~2470MHzの周波数範囲を有する。
放射線発生器110は、処理部120に連結される。放射線発生器110および処理部120は、総称して放射線処理チャンバまたはUV処理チャンバと呼ばれる。処理部120は、ウエハホルダ126を含む。ウエハホルダ126は、基板124などの基板を支持するための台座を含む。基板124は、代替的に材料層と呼ばれてもよく、または、基板124は、放射線源103からのUV放射線106に曝されるその上に配置された材料層を含んでもよい。材料層は、金属層であってもよく、半導体層であってもよく、誘電層であってもよい。ウエハホルダ126は、基板124を加熱するための加熱機構を含んでよい。一例では、処理部120内の基板124の位置は、ウエハホルダ126が処理部120内で移動可能なウエハホルダ126の機構によって調整される。例えば、ウエハホルダ126は、垂直方向、水平方向、または、その両方に移動して、基板124を放射線源103から特定の距離で位置決めることができる。放射線源103から出射されたUV光106などの放射線は、窓122を通過して処理部120に入射し、基板124を露光する。窓122は、真空を維持するのに十分な厚さを有する。窓122は、放射線106を透過させる石英などの材料をさらに含んでもよい。
一実施形態では、UVランプシステム100は、放射線源103によって出射された放射線106を検出して、検出された放射線106の強度、キャビティ105内の温度、および/または基板124の温度などの、検出された放射線106の特性を示す電子信号に変換するための放射線センサをさらに含む。特性値が所定の閾値より上または下になると、UVランプシステム100は、例えば送風ファンによっていくつかの制御パラメータを調整して、特性値を正常に戻すように変更する。
図2は、本開示のいくつかの実施形態に係る、図1のUVランプシステム100などのUVランプシステムのリフレクタに取り付けられた例示的なRFスクリーンを示す斜視図200である。図2に示すように、リフレクタは、頂部210および2つの湾曲した反射面220を含んでよい。リフレクタは、RFスクリーン240に連結される。キャビティは、RFスクリーン240、頂部210およびリフレクタの湾曲した反射面220により形成される。UVバルブ230は、RFエネルギーによって励起されたときにUV光を出射するためにキャビティ内に配置される。リフレクタは、UV光のエネルギーがRFスクリーン240を透過することを可能にすることを除いて、リフレクタ内に収容されたUVバルブ230から出射されたUV光のエネルギーを適切に集光する。
一実施形態では、UVバルブ230はガラスで製造され、リフレクタはガラスまたは石英で製造される。RFスクリーン240は、導電性材料、例えば、銅、黄銅、ステンレス、タングステン、アルミニウム、またはその他の金属、あるいは金属合金で製造されてもよい。
図3は、本開示のいくつかの実施形態に係る例示的なRFスクリーン300の平面図を示す。図3に示すように、RFスクリーン300は、シート310と、シート310の縁部の周囲に配置されたフレーム320とを含む。シート310は、銅、黄銅、ステンレス、タングステン、アルミニウム、ニッケル、銀、またはそれらの組み合わせを含む導電性材料を含んでもよい。
この例では、シート310は、4つの縁部を有する矩形であり、実質的にRFスクリーン300の動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを有する。図3に示すように、所定のメッシュパターンは、シート310の矩形面を複数の三角形でタイリングする。表面のタイリングとは、1つ以上の幾何学的な形状を用いて、表面を重なりおよび間隙がなくて充填することを意味する。個々の開口部のそれぞれは、三角形である。フレーム320には、RFスクリーン300をUVランプシステムに取り付けるための孔部330が設けられる。一実施形態では、所定のメッシュパターンは、1平方センチメートルの単位面積当たり16~36個の個々の開口部を含む。一実施形態では、RFスクリーン300の厚さは、0.001インチ~0.015インチである。
正方形、矩形、または六角形の個々の開口部を含むメッシュパターンを有する基準スクリーンと比較して、三角形の開口部を有する開示されたRFスクリーン300は、開示されたRFスクリーン300と基準スクリーンが単位面積内に同じ数の個々の開口部を有する場合、UV光透過率を高くし、最大変形を小さくし、最大応力を小さくすることができる。すなわち、三角形の開口部を有するRFスクリーンは、正方形、矩形、および六角形の開口部を有するRFスクリーンと比較して、破損したり変形したりする可能性が低く、スクリーンを介して出力されるUV光を高くすることができる。
図4は本開示のいくつかの実施形態に係るRFスクリーン開口部の例示的な形状を示す。RFスクリーンは、個々の開口部のメッシュパターンを有するが、少なくとも1つの開口部は三角形である。一実施形態では、個々の開口部のそれぞれは、三角形である。
三角形には、二等辺三角形410、正三角形420、直角三角形430、直角二等辺三角形440、不等辺三角形450など、様々な種類がある。二等辺三角形は、長さが等しい2つの辺を有する三角形である。この2つの等しい辺は脚と呼ばれ、第3の辺は三角形の底辺と呼ばれる。このように、二等辺三角形410は、2つの脚411、412と、底辺413とを有する。正三角形は、3つの辺がすべて等しい三角形である。図4に示すように、正三角形420は、3つの等しい辺421、422、423を有する。正三角形420は、任意の2つの辺を脚とし、第3の辺を底辺とする特別な二等辺三角形として扱うことができる。直角三角形は、1つの角度が直角、すなわち90度の角度である三角形である。直角の反対側は、斜辺と呼ばれる。直角に隣接する辺は脚と呼ばれる。このように、直角三角形430は、2つの脚431、432と、斜辺433とを有する。直角二等辺三角形は、二等辺三角形と直角三角形の両方である。図4に示すように、直角二等辺三角形440は、直角に隣接する2つの等しい脚441、442と、直角の反対側の底辺または斜辺443とを有する。不等辺三角形は、3つの辺の全ての長さが異なる三角形である。不等辺三角形の角度は、異なる測定値を有する。図4に示すように、不等辺三角形450の3つの辺451、452、453は、互いに異なる長さを有する。
一実施形態では、RFスクリーンの個々の開口部は、均一なタイプの三角形である。一実施形態では、RFスクリーンの個々の開口部は、二等辺三角形、直角三角形、正三角形、および不等辺三角形のうち少なくとも1つを含む複数のタイプの三角形である。
一実施形態では、メッシュパターンは、三角形を含む複数の幾何学形状でRFスクリーンの表面をタイリングする。例えば、4つの縁部を含む矩形面を有するシートを備えるRFスクリーンにおいて、メッシュパターンは、4つの縁部の近くにある複数の三角形と、複数の三角形で囲まれた複数の矩形または正方形とで、矩形面をタイリングする。
図5~図8は、本開示のいくつかの実施形態に係る直角二等辺三角形のRFスクリーン開口部の例示的なメッシュパターンを示す図である。いずれの場合も、メッシュパターンは、RFスクリーンの矩形面をいくつかの周期的な形状でタイリングすることができる。すなわち、矩形面は、周期的な形状を回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、平行移動のみで周期的な形状を繰り返すことで、重なりまたは間隙がなくてタイリングすることができる。平行移動とは、図形または形状のすべての点を特定の方向に同じ距離で移動する幾何学的変換である。一実施形態では、周期的な形状は、繰り返しパターンと呼ばれる、特定のパターンに配置された複数の直角二等辺三角形を含む。このように、図5~8に示す各矩形面のタイリングは、繰り返しパターンを有する周期的なタイリングである。
図5は、それぞれが直角二等辺三角形である複数の個々の開口部510で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン500を示す。メッシュパターン500によるタイリングは、繰り返しパターン520を有する周期的なタイリングである。図5に示すように、繰り返しパターン520は、正方形の対角線である同じ底辺を介して並んでいる2つの直角二等辺三角形を含む正方形である。繰り返しパターン520は、繰り返しパターンを回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、繰り返しパターンの平行移動のみに基づいて矩形面をタイリングするように繰り返すことができる最小のパターン要素である。このように、メッシュパターン500は、それぞれが2つの直角二等辺三角形で形成された周期的な正方形で、矩形面をタイリングすることができる。
図6は、それぞれが直角二等辺三角形である複数の個々の開口部610で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン600を示す。メッシュパターン600によるタイリングは、繰り返しパターン620を有する周期的なタイリングである。図6に示すように、繰り返しパターン620は、8つの直角二等辺三角形を含む正方形である。8つの直角二等辺三角形は、各ペアに同じ底辺を介して並んでいる2つの直角二等辺三角形が含まれる4つのペアを形成する。繰り返しパターン620は、繰り返しパターンを回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、繰り返しパターンの平行移動のみに基づいて矩形面をタイリングするように繰り返すことができる最小のパターン要素である。このように、メッシュパターン600は、それぞれが8つの直角二等辺三角形で形成された周期的な正方形で、矩形面をタイリングすることができる。
図7は、それぞれが直角二等辺三角形である複数の個々の開口部710で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン700を示す。メッシュパターン700によるタイリングは、繰り返しパターン720を有する周期的なタイリングである。図7に示すように、繰り返しパターン720は、8つの直角二等辺三角形を含む矩形である。8つの直角二等辺三角形は、各ペアに同じ底辺を介して並んでいる2つの直角二等辺三角形が含まれる4つのペアを形成する。繰り返しパターン720は、繰り返しパターンを回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、繰り返しパターンの平行移動のみに基づいて矩形面をタイリングするように繰り返すことができる最小のパターン要素である。このように、メッシュパターン700は、それぞれが8つの直角二等辺三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図8は、それぞれが直角二等辺三角形である複数の個々の開口部810で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン800を示す。メッシュパターン800によるタイリングは、繰り返しパターン820を有する周期的なタイリングである。図8に示すように、繰り返しパターン820は、4つの直角二等辺三角形を含む矩形である。4つの直角二等辺三角形は、各ペアに同じ底辺を介して並んでいる2つの直角二等辺三角形が含まれる2つのペアを形成する。繰り返しパターン820は、繰り返しパターンを回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、繰り返しパターンの平行移動のみに基づいて矩形面をタイリングするように繰り返すことができる最小のパターン要素である。このように、メッシュパターン800は、それぞれが4つの直角二等辺三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図9は、それぞれが直角三角形である複数の個々の開口部910で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン900を示す。図5におけるメッシュパターン500と同様で、図9におけるメッシュパターン900によるタイリングは、繰り返しパターン920を有する周期的なタイリングである。繰り返しパターン920は、矩形の対角線である同じ斜辺を介して並んでいる2つの直角三角形を含む矩形である。すなわち、メッシュパターン900は、それぞれが2つの直角三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図10は、それぞれが直角三角形である複数の個々の開口部1010で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン1000を示す。図6におけるメッシュパターン600と同様で、メッシュパターン1000によるタイリングは、8つの直角三角形を含む矩形である繰り返しパターン1020を有する周期的なタイリングである。8つの直角三角形は、各ペアに同じ斜辺を介して並んでいる2つの直角三角形が含まれる4つのペアを形成する。すなわち、メッシュパターン1000は、それぞれが8つの直角三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図11は、それぞれが直角三角形である複数の個々の開口部1110で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン1100を示す。図7におけるメッシュパターン700と同様で、メッシュパターン1100によるタイリングは、8つの直角三角形を含む矩形である繰り返しパターン1120を有する周期的なタイリングである。8つの直角三角形は、各ペアに同じ斜辺を介して並んでいる2つの直角三角形が含まれる4つのペアを形成する。すなわち、メッシュパターン1100は、それぞれが8つの直角三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図12は、それぞれが直角三角形である複数の個々の開口部1210で、RFスクリーンの矩形面をタイリングすることができるメッシュパターン1200を示す。図8におけるメッシュパターン800と同様で、メッシュパターン1200によるタイリングは、4つの直角三角形を含む矩形である繰り返しパターン1220を有する周期的なタイリングである。4つの直角三角形は、各ペアに同じ斜辺を介して並んでいる2つの直角三角形が含まれる2つのペアを形成する。すなわち、メッシュパターン1200は、それぞれが4つの直角三角形で形成された周期的な矩形で、矩形面をタイリングすることができる。
図13は、それぞれが二等辺三角形である複数の個々の開口部1310で、RFスクリーンの面をタイリングすることができるメッシュパターン1300を示す。メッシュパターン1300によるタイリングは、繰り返しパターン1322を有する周期的なタイリングである。図13に示すように、繰り返しパターン1322は、平行四辺形の対角線である共有脚を介して並んでいる2つの二等辺三角形を含む平行四辺形である。繰り返しパターン1322は、繰り返しパターンを回転させたり、反射させたり、スケーリングしたりする必要がなく、繰り返しパターンの平行移動のみに基づいて面をタイリングするように繰り返すことができる最小のパターン要素である。このように、メッシュパターン1300は、それぞれが2つの二等辺三角形で形成された周期的な平行四辺形で、面をタイリングすることができる。
図13に示すように、メッシュパターン1300は、それぞれが周期的なセルまたは周期的な平行四辺形で形成された複数の行を含む。本実施形態では、2つの隣接する行における周期的なセルは、互いに整列する。例えば、メッシュパターン1300は、周期的な平行四辺形によって形成された第1の行1301を含み、周期的な平行四辺形によって形成された第2の行1302を含む。第1の行1301と第2の行1302は、互いに隣接する。第1の行1301における周期的な平行四辺形と第2の行1302における周期的な平行四辺形は互いに整列し、これは、それらが共通の辺を共有することを意味する。例えば、第1の行1301における周期的な平行四辺形1322と第2の行1302における周期的な平行四辺形1324とは、共有された共通の辺を介して並んでいる。図13に示すように、RFスクリーン面が矩形である場合、各行の両端には、それぞれ2つの直角三角形1330が形成される。
図14は、それぞれが二等辺三角形である複数の個々の開口部1410で、RFスクリーンの面をタイリングすることができるメッシュパターン1400を示す。メッシュパターン1400によるタイリングは、図14において2つの隣接する行における周期的なセルが互いに整列しないことを除いて、図13におけるメッシュパターン1300によるタイリングと同様である。例えば、メッシュパターン1400は、周期的な平行四辺形によって形成された第1の行1401を含み、周期的な平行四辺形によって形成された第2の行1402を含む。第1の行1401と第2の行1402は、互いに隣接する。第1の行1401における周期的な平行四辺形1422と第2の行1402における周期的な平行四辺形1424は互いに整列せず、これは、それらが共通の辺を共有しないことを意味する。図14に示すように、RFスクリーン面が矩形である場合、各行の両端には、それぞれ2つの直角三角形1430が形成される。
図15は、それぞれが正三角形である複数の個々の開口部1510で、RFスクリーンの面をタイリングすることができるメッシュパターン1500を示す。メッシュパターン1500によるタイリングは、図15における繰り返しパターン1522が、ダイヤモンドの対角線である共有辺を介して並んでいる2つの正三角形を含むダイヤモンドであることを除いて、図13におけるメッシュパターン1300によるタイリングと同様である。図15において、2つの隣接する行における周期的なセルは、互いに整列する。例えば、第1の行1501における周期的なダイヤモンド1522と第2の行1502における周期的なダイヤモンド1524とは互いに整列し、これは、それらが共有された共通の辺を介して並んでいることを意味する。図15に示すように、RFスクリーン面が矩形である場合、各行の両端には、それぞれ2つの直角三角形1530が形成される。
図16は、それぞれが正三角形である複数の個々の開口部1610で、RFスクリーンの面をタイリングすることができるメッシュパターン1600を示す。メッシュパターン1600によるタイリングは、図16において2つの隣接する行における周期的なセルが互いに整列しないことを除いて、図15におけるメッシュパターン1500によるタイリングと同様である。例えば、第1の行1601における周期的なダイヤモンド1622と第2の行1602における周期的なダイヤモンド1624は互いに整列せず、これは、それらが共通の辺を共有しないことを意味する。図16に示すように、RFスクリーン面が矩形である場合、各行の両端には、それぞれ2つの直角三角形1630が形成される。
図17は、本開示のいくつかの実施形態に係る、UV誘導堆積を実行するための方法1700のフローチャートを示す。この方法は、UVランプシステムの送風ファンをオンにする動作1702から開始される。動作1704では、入力電力をRFエネルギーに変換する。動作1706では、UVバルブ内のガスをRFエネルギーで励起してUV光を出射する。動作1708では、三角形の開口部を含むRFスクリーンで、RFエネルギーをスクリーニングする。次に、動作1710では、矩形または六角形の開口部を有するRFスクリーンと比較して、より高い光透過率でRFスクリーンにUV光を透過させる。一実施形態では、UV光は、70%よりも大きい光透過率でRFスクリーンを透過する。他の実施形態では、UV光は、75%よりも大きい光透過率でRFスクリーンを透過する。動作1712では、UV誘導堆積用の処理チャンバ内にガス流を流す。図17における動作の順序は、本開示の様々な実施形態に応じて変更されてもよい。
いくつかの実施形態では、マイクロ波駆動型紫外線(UV)ランプシステム用の無線周波数(RF)スクリーンが開示されている。RFスクリーンは、導電性材料を含むシートと、シートの縁部の周囲のフレームとを含む。導電性材料は、実質的にスクリーンの動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを規定する。個々の開口部のそれぞれは、三角形である。所定のメッシュパターンは、1平方センチメートルの単位面積当たり16~36個の個々の開口部を含む。
いくつかの実施形態では、マイクロ波駆動型紫外線(UV)ランプシステムが開示されている。マイクロ波駆動型UVランプシステムは、電源から受けた電力を無線周波数(RF)エネルギーに変換するように構成される少なくとも1つのマグネトロンと、RFエネルギーにより励起されてUV光を出射するように構成されるUVバルブと、RFスクリーンとを含む。RFスクリーンは、導電性材料を含むシートを含む。導電性材料は、実質的にスクリーンの動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを規定する。個々の開口部の少なくとも1つは、三角形である。
いくつかの実施形態では、方法が開示されている。この方法は、入力電力を無線周波数(RF)エネルギーに変換するステップと、紫外線(UV)バルブをRFエネルギーで励起してUV光を出射するステップと、個々の開口部の所定のメッシュパターンを有するシートを含むRFスクリーンを用いてRFエネルギーをスクリーニングするステップとを含む。前記個々の開口部の少なくとも1つは、三角形である。
本開示の様々な実施形態が以上で説明されているが、それらは限定するためのものではなく、例示するためのものにすぎないことを理解されたい。同様に、様々な図は、当業者が本開示の例示的な特徴および機能を理解するために、例示的な構造または構成を示すものである。しかしながら、当業者は、本開示が、図示された例示的な構造または構成に限定されず、様々な代替の構造および構成を使用して実装することができることを理解する。また、当業者によって理解されるように、一実施形態の1つ以上の特徴は、本明細書に記載の別の実施形態の1つ以上の特徴と組み合わせることができる。したがって、本開示の広さおよび範囲は、上記例示的な実施形態のいずれによっても制限されるべきではない。
「第1」、「第2」などの呼称を使用する本明細書における要素へのいかなる言及も、一般に、それらの要素の数または順序を制限しないことも理解される。むしろ、これらの呼称は、本明細書において、2つ以上の要素または要素のインスタンスを区別するための便宜的な手段として使用される。したがって、第1および第2の要素への言及は、2つの要素しか使用できないことを意味するものではなく、第1の要素が何らかの方法で第2の要素に先行しなければならないを意味するものではない。
また、当業者は、様々な異なる技術および技法を用いて情報および信号を表すことができることを理解する。例えば、上記説明において参照され得るデータ、命令、コマンド、情報、信号、ビット、およびシンボルは、電圧、電流、電磁波、磁界または磁性粒子、光学フィールドまたは光学粒子、あるいはそれらの任意の組み合わせによって表すことができる。
当業者であればさらに理解されるように、本明細書に開示されている態様に関連して説明される様々な例示的論理ブロック、モジュール、プロセッサ、手段、回路、方法、および機能のいずれかは、電子的なハードウェア(例えば、デジタル実装、アナログ実装、またはその2つの組み合わせ)、ファームウェア、命令を組み込んだ様々な形態のプログラムまたは設計コード(本明細書では、便宜上、「ソフトウェア」または「ソフトウェアモジュール」と呼ばれてもよい)、またはそれらの技法の任意の組み合わせによって実装することができる。
ハードウェア、ファームウェアおよびソフトウェアのこの互換性を明確に示すために、様々な例示的なコンポーネント、ブロック、モジュール、回路、およびステップを、上記では概してそれらの機能に関して説明した。このような機能がハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、またはこれらの技法の組み合わせとして実装されるか否かは、特定の用途、およびシステム全体に課せられる設計上の制約によって依存する。当業者は、説明された機能を特定の用途ごとに様々な方法で実装することが可能であるが、そのような実装の決定は、本開示の範囲から逸脱することはない。様々な実施形態によれば、プロセッサ、デバイス、コンポーネント、回路、構造、機械、モジュールなどは、本明細書に記載の1つ以上の機能を実行するように構成することができる。特定の動作または機能に関して本明細書で使用される「ように構成されている」または「のために構成されている」という用語は、指定された操作または機能を実行するために物理的に構築、プログラム、配置、および/またはフォーマットされたプロセッサ、デバイス、コンポーネント、回路、構造、機械、モジュール、信号などを指す。
さらに、当業者であれば理解されるように、本明細書に記載の様々な例示的な論理ブロック、モジュール、デバイス、コンポーネントおよび回路は、デジタルシグナルプロセッサ(DSP)を含むことができる集積回路(IC)、特定用途向け集積回路(ASIC)、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)または他のプログラマブル論理デバイス、あるいはそれらの任意の組み合わせ内で実装できるか、またはそれによって実行できる。また、論理ブロック、モジュール、回路は、ネットワーク内またはデバイス内の様々なコンポーネントと通信するためのアンテナおよび/またはトランシーバをさらに含んでよい。本明細書の機能を実行するようにプログラムされたプロセッサは、特別にプログラムされた、または特別な目的のプロセッサになり、かつコンピューティングデバイスの組み合わせ、例えば、DSPとマイクロプロセッサとの組み合わせ、複数のマイクロプロセッサ、DSPコアと連携する1つ以上の複数のマイクロプロセッサ、あるいは本明細書に記載の機能を実行するための他の任意の適切な構成として実装することができる。
ソフトウェアで実装する場合、その機能は1つ以上の命令またはコードとしてコンピュータ可読媒体上に記憶することができる。したがって、本明細書に開示された方法またはアルゴリズムのステップは、コンピュータ可読媒体上に記憶されたソフトウェアとして実装することができる。コンピュータ可読媒体は、コンピュータ記憶媒体と、コンピュータプログラムまたはコードをある場所から別の場所に転送することを可能にする任意の媒体を含む通信媒体の両方を含む。記憶媒体としては、コンピュータがアクセス可能な任意の媒体を用いることができる。限定ではなく例として、このようなコンピュータ可読媒体には、RAM、ROM、EEPROM、CD-ROMまたは他の光ディスク記憶、磁気ディスク記憶または他の磁気記憶デバイス、あるいは命令またはデータ構造の形式で所望のプログラムコードを記憶するために使用でき、コンピュータがアクセス可能なその他の媒体が含まれ得る。
この文献では、本明細書で使用される「モジュール」という用語は、ソフトウェア、ファームウェア、ハードウェア、および本明細書に記載の関連機能を実行するためのこれらの要素の任意の組み合わせを指す。また、説明のために、様々なモジュールを個別のモジュールとして説明したが、当業者には明らかであるように、2つ以上のモジュールを組み合わせて、本開示の実施形態の関連機能を実行する単一のモジュールを形成することができる。
本開示に記載の実装に対する様々な変更は、当業者には明らかであり、本明細書で定義された一般的な原理は、本開示の範囲から逸脱しない限り、他の実装に適用することができる。したがって、本開示は、本明細書に示される実装に限定されることを意図するものではなく、以下の特許請求の範囲に記載されるように、本明細書に開示される新規の特徴および原理と一致する最も広い範囲が与えられる。

Claims (20)

  1. 導電性材料を含むシートと、
    前記シートの縁部の周囲のフレームと、を含み、
    前記導電性材料は、実質的に前記スクリーンの動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを規定し、
    前記個々の開口部のそれぞれは、三角形である、無線周波数(RF)スクリーン。
  2. 前記個々の開口部のそれぞれは、二等辺三角形である、請求項1に記載のRFスクリーン。
  3. 前記所定のメッシュパターンは、それぞれが複数の二等辺三角形によって形成される周期的な平行四辺形で、前記シートの表面をタイリングする、請求項2に記載のRFスクリーン。
  4. 前記個々の開口部のそれぞれは、正三角形である、請求項1に記載のRFスクリーン。
  5. 前記個々の開口部のそれぞれは、直角三角形である、請求項1に記載のRFスクリーン。
  6. 前記所定のメッシュパターンは、それぞれが一定数の直角三角形によって形成される周期的な矩形で、前記シートの表面をタイリングする、請求項5に記載のRFスクリーン。
  7. 前記数は、2、4または8である、請求項6に記載のRFスクリーン。
  8. 前記所定のメッシュパターンは、少なくとも1つの三角形を含む周期的なセルによりそれぞれ形成される複数行を含み、
    少なくとも2つの隣接する行における周期的なセルは、互いに整列しない、請求項1に記載のRFスクリーン。
  9. 前記個々の開口部は、複数のタイプの三角形を有し、
    前記複数のタイプの三角形は、二等辺三角形、直角三角形、正三角形、および不等辺三角形のうち少なくとも1つを含む、請求項1に記載のRFスクリーン。
  10. 前記シートの厚さは、0.001インチ~0.015インチであり、
    前記所定のメッシュパターンは、1平方センチメートルの単位面積当たり16~36個の個々の開口部を含む、請求項1に記載のRFスクリーン。
  11. 電源から受けた電力を無線周波数(RF)エネルギーに変換するように構成される少なくとも1つのマグネトロンと、
    前記RFエネルギーにより励起されてUV光を出射するように構成されるUVバルブと、
    RFスクリーンとを含み、前記RFスクリーンは、
    導電性材料を含むシートを含み、
    前記導電性材料は、実質的に前記スクリーンの動作領域にわたる個々の開口部の所定のメッシュパターンを規定し、
    前記個々の開口部の少なくとも1つは、三角形である、マイクロ波駆動型紫外線(UV)ランプシステム。
  12. 前記個々の開口部の少なくとも1つは、矩形である、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  13. 前記シートは、4つの縁部を有する矩形面を有し、
    前記所定のメッシュパターンは、前記4つの縁部の近くにある複数の三角形と、前記複数の三角形で囲まれた複数の矩形とで、前記シートの前記矩形面をタイリングする、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  14. 前記RFスクリーンは、それぞれが正方形、矩形、または六角形である個々の開口部を含むメッシュパターンを有する基準スクリーンと比較して、UV光の透過率が高くなるように構成され、
    前記RFスクリーンと前記基準スクリーンは、単位面積に同じ数の個々の開口部を有する、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  15. 前記RFスクリーンは、それぞれが正方形、矩形、または六角形である個々の開口部を含むメッシュパターンを有する基準スクリーンと比較して、最大変形が小さくなるように構成され、
    前記RFスクリーンと前記基準スクリーンは、単位面積に同じ数の個々の開口部を有する、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  16. 前記RFスクリーンは、それぞれが正方形、矩形、または六角形である個々の開口部を含むメッシュパターンを有する基準スクリーンと比較して、最大応力が小さくなるように構成され、
    前記RFスクリーンと前記基準スクリーンは、単位面積に同じ数の個々の開口部を有する、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  17. 前記導電性材料は、銅、黄銅、ステンレス、タングステン、アルミニウム、ニッケル、銀、またはそれらの組み合わせを含む、請求項11に記載のマイクロ波駆動型UVランプシステム。
  18. 入力電力を無線周波数(RF)エネルギーに変換するステップと、
    紫外線(UV)バルブを前記RFエネルギーで励起してUV光を出射するステップと、
    個々の開口部の所定のメッシュパターンを有するシートを含むRFスクリーンを用いて前記RFエネルギーをスクリーニングするステップとを含み、前記個々の開口部の少なくとも1つは、三角形である、方法。
  19. 70%よりも大きい光透過率で前記RFスクリーンに前記UV光を透過させるステップをさらに含む、請求項18に記載の方法。
  20. 75%よりも大きい光透過率で前記RFスクリーンに前記UV光を透過させる、請求項18に記載の方法。

JP2021116149A 2020-07-15 2021-07-14 紫外線ランプシステム用の無線周波数スクリーン Pending JP2022025031A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US16/929,881 US11670491B2 (en) 2020-07-15 2020-07-15 Radio frequency screen for an ultraviolet lamp system
US16/929,881 2020-07-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022025031A true JP2022025031A (ja) 2022-02-09

Family

ID=77206922

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021116149A Pending JP2022025031A (ja) 2020-07-15 2021-07-14 紫外線ランプシステム用の無線周波数スクリーン

Country Status (5)

Country Link
US (3) US11670491B2 (ja)
EP (1) EP3941155A1 (ja)
JP (1) JP2022025031A (ja)
CN (1) CN113394073A (ja)
TW (1) TWI828974B (ja)

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5811936A (en) * 1996-01-26 1998-09-22 Fusion Lighting, Inc. One piece microwave container screens for electrodeless lamps
GB2399216B (en) * 2003-03-06 2007-05-09 Quay Technologies Ltd Ultraviolet light source
US6841790B1 (en) * 2003-10-07 2005-01-11 Miltec Corporation Snap-in radio frequency screen for ultraviolet lamp system
US8242908B2 (en) * 2005-12-09 2012-08-14 Tego Inc. Methods and systems of a multiple radio frequency network node RFID tag
US20160321480A1 (en) * 2005-12-09 2016-11-03 Tego, Inc. Methods and systems for rf communications in blood-extraction procedures
WO2007068002A2 (en) * 2005-12-09 2007-06-14 Tego Inc. Multiple radio frequency network node rfid tag
US20080186180A1 (en) * 2005-12-09 2008-08-07 Butler Timothy P Methods and systems of a multiple radio frequency network node rfid tag
JP2008198861A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路基板および電子機器
CN201139801Y (zh) * 2008-01-17 2008-10-29 武汉市吉星环保科技有限责任公司 滤芯式多功能空气消毒净化装置
US20100096569A1 (en) * 2008-10-21 2010-04-22 Applied Materials, Inc. Ultraviolet-transmitting microwave reflector comprising a micromesh screen
US8101931B2 (en) * 2010-04-05 2012-01-24 Miltec Corporation RF screen assembly for microwave powered UV lamps
JP2014205082A (ja) * 2011-07-14 2014-10-30 ハリソン東芝ライティング株式会社 紫外線照射装置
US8841629B2 (en) * 2012-06-27 2014-09-23 Applied Materials, Inc. Microwave excursion detection for semiconductor processing
CN103400919B (zh) * 2013-06-26 2017-05-10 电子科技大学 一种场电子激励下的紫外光源结构及其制备方法
EP3140785A4 (en) * 2014-05-08 2017-12-13 Tego Inc. Flexible rfid tag for mounting on metal surface
JP2015144127A (ja) * 2015-02-18 2015-08-06 ミルテック・コーポレーション マイクロ波駆動のuvランプのためのrfスクリーン組立体
US20170040170A1 (en) * 2015-08-06 2017-02-09 Lam Research Corporation Systems and Methods for Separately Applying Charged Plasma Constituents and Ultraviolet Light in a Mixed Mode Processing Operation
US10854442B2 (en) * 2018-06-29 2020-12-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Orientation chamber of substrate processing system with purging function
CN213566273U (zh) * 2020-11-04 2021-06-29 广西贵港欧派电动车有限公司 一种多功能的电动车踏板

Also Published As

Publication number Publication date
CN113394073A (zh) 2021-09-14
TWI828974B (zh) 2024-01-11
US12020910B2 (en) 2024-06-25
US20230260764A1 (en) 2023-08-17
TW202205355A (zh) 2022-02-01
EP3941155A1 (en) 2022-01-19
US11670491B2 (en) 2023-06-06
US20220020573A1 (en) 2022-01-20
US20240304426A1 (en) 2024-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102187441B (zh) 具有冷却剂气体孔洞的紫外线反射器及方法
KR20110084261A (ko) 마이크로메시 스크린을 포함하는 자외선-투과 마이크로파 반사기
JP2012506622A5 (ja)
CN104380147B (zh) 光学设备
CN105161800B (zh) 优化电磁传输特性的双屏频率选择表面
US8251526B2 (en) Spread reflector for a lamp structure
JP2012049305A (ja) 真空紫外光処理装置
JP2013094737A (ja) 紫外線照射装置
JP2022025031A (ja) 紫外線ランプシステム用の無線周波数スクリーン
WO2017158943A1 (ja) パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
TW540146B (en) Device for thermally treating substrates
US11315810B2 (en) Apparatus for wafer processing
TWI655706B (zh) 用於基板熱處理之裝置與用於該裝置之支撐架及基板支撐元件
CN111508872B (zh) 光照射装置及半导体加工设备
KR102302122B1 (ko) 많은 작은 방사체들을 가진 대면적 높은-균일성 uv 소스
JP2011204435A (ja) 紫外線照射装置
US20080231184A1 (en) Higher efficiency incandescent lighting using photon recycling
Ury et al. New deep ultraviolet source for microlithography
JP2006332541A (ja) 光加熱装置
JPS6381751A (ja) 紫外光源用ランプ
JP2019079596A (ja) 発光パターン形成用マスク及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JPS613115A (ja) 擬似太陽光照射方法およびその装置
JP2013034977A (ja) 光照射装置および面照射型の光照射装置
KR20040006511A (ko) 반도체 소자 테스트 장비
JPH0477416B2 (ja)