JPS6381751A - 紫外光源用ランプ - Google Patents

紫外光源用ランプ

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Publication number
JPS6381751A
JPS6381751A JP22925586A JP22925586A JPS6381751A JP S6381751 A JPS6381751 A JP S6381751A JP 22925586 A JP22925586 A JP 22925586A JP 22925586 A JP22925586 A JP 22925586A JP S6381751 A JPS6381751 A JP S6381751A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lamp
light
light source
emitter
luminous section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22925586A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigenori Hayashi
茂則 林
Naoki Hirose
直樹 広瀬
Takashi Inushima
犬島 喬
Kenji Ito
健二 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP22925586A priority Critical patent/JPS6381751A/ja
Priority to US07/097,188 priority patent/US4768464A/en
Priority to US07/154,290 priority patent/US4803095A/en
Publication of JPS6381751A publication Critical patent/JPS6381751A/ja
Priority to US07/190,355 priority patent/US4974542A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)発明の利用分野 本発明は、産業分野、特に半導体装置作製技術分野にお
いて利用可能な紫外光源用ランプを提供するものである
(ロ)従来の技術 産業分野、特に半導体装置作製技術分野において、紫外
光を用い5inHz++−z(n=1.2.3  + 
H+ )のシラン類を分解反応させ、薄膜を形成する光
CVD法が超LSI製造において注目されている。特に
大面積に均一に薄膜を形成しようとする時、基板面およ
びv11!にの形成面への光の入射量、即ち放射照度は
基板上での膜厚の均一性に対し重要なパラメータとなる
第1図に示すように、基板上に形成された被膜の膜厚と
185nmの光の放射照度との間には明らかに相関係数
が存在する。なお、相関係数はこの場合0.7である。
従来、大面積基板上を均一に被膜を形成しようとする場
合、膜を形成しようとする面積よりも広い面積の発光体
、理想的には面発光体が得られることを前提として発光
体の形、配置等が考えられてきた。例えば300mm 
X 300mmの面積に均一に成膜するには、発光長4
00Iの直管形の低圧水銀ランプを40011II11
の巾に等ピッチに配置するというようにである。
これならば疑似的な面発光体が得られるわけであるが、
理論的には面発光体面積は無限大でなければならず、有
限の面積をもつ発光体の場合、照射面での放射照度分布
が発生してくる。
そのため、実際には照射面積に比べ発光体面積が十分大
きいとみなせる条件で用いることになる。
ところが照射面積を大きくとろうとすれば相対的に発光
体面積もそれに伴って大きくしなければならず、小面積
の時には問題とならなかった発光体からの発熱、発光体
面積増大による装置コスト高等の問題が生じてきた。そ
こでできるだけ照射面積に対する発光面積の小さな、か
つ照射面における放射照度分布の少ない紫外光源用ラン
プが求められていた。
(ハ)発明の目的 本発明は、上記の要求を満たすものであり、従来の発光
体では得られなかった広い均一照射面の得られる紫外光
源用ランプを提供するものである。
(ニ)発明の構成 上記目的を達成するために、本発明は特許請求の範囲に
記載されているように、 「大気圧より減圧状態に保持された光源用パルプ内に水
銀のみ、もしくは水銀およびAr、Kr等の希ガスを封
入した紫外光源用ランプにおいて、前記ランプ外形中に
非発光部を有しており、前記ランプを2次元的に見た場
合、非発光部を発光部が取り囲む構造を有することを特
徴とする紫外光源用ランプ。」 である。
従来の思想、即ち面発光体を基本としてランプを設計し
た場合の185nmの光の放射照度を計算によって求め
、3次元グラフ化したものを第2図に示す。この発光体
の大きさは、150mm X 150mmとした場合で
ある。X軸、Y軸は照射面の位置を示し、Z軸は発光体
からある距離離れた位置での185nmの光の放射照度
を任意スケールで示す。同図より明らかなように、照射
面の中心部分の放射強度が強く、中心部分から離れ照射
面の周辺に近いほど放射強度は弱くなり、160mm 
X 160mmの照射面内で、185nmの光の放射強
度が±10%の範囲に入る面積は18%に満たない。そ
こで照射面での放射照度を均一にしようとすれば、中心
部分の放射照度を下げ、周辺部の照度と等しくなるよう
に発光体の形状及び配置を設計すればよい。照射面の中
心部分の照度は主に発光体の中心部分に支配されるから
、中心部に発光部のない発光体を考える。
実用的には一本のバルブで構成することのできるらせん
状の発光体が望ましい。らせん状のランプであれば、光
CVD等に応用する場合、ランプを真空室内に設置する
場合が多いため、電流導入端子を最少にし、冷却も容易
になるからである。
上記設計条件を満たす発光体形状を第3図に、該発光体
で照射した時の185nmの光の照度計算結果を第4図
に示す。第4図より明らかなように、放射照度が均一と
なる部分が認められ、±10%の範囲に入る照射面積は
55%に広がる。
従来は均一な照射面を得るためには、均一な面発光体が
理想とされていたにもかかわらず、本発明は、このよう
に、均一な面発光体ではなく、ランプ外形中に非発光部
を設けることで均一な照射面を得た点において非常に大
きな特徴を有する。
以下に実施例を示す。
第3図に示した形状の光源用バルブを作製した。
管径18mmΦ、発光長は690酊となる。光源用バル
ブの両端にそれぞれ電極部を設け、所定の水銀およびA
 r + K r等のバッファガスを封入した後、低圧
水銀ランプ用安定器(200W)を接続し、放電、発光
を行わせた。ランプ面より501離れた位置での185
nmの光の放射照度を測定した結果、±5χの誤差範囲
内で第4図の計算と一致した。
本発明は、本実施例のみに限定されるものではなく、巾
広い応用が可能である。即ち、発光体の外形は実施例に
示されたらせん状以外に多角形の形状でも可能である。
しかし、この時、発光体のなす角度が90°以下、また
は90°に近い鈍角の場合は、その角付近にて光照射強
度が極度に低下する。この為、その角度を120  °
以上、理想的には円形とすることが照射面の放射照度分
布を均一にするに重要であった。
(ホ)効果 本発明により、従来では得られなかった広い均一な照射
面が得られた。また中心部に発光体がないため、ランプ
作製コストを低減させることができた。
更に、発光体専有面積に比べ、均一な放射照度分布を持
つ照射面積を1倍以上とすることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図は照度対膜厚(SiOz)の相関関係を示す。 第2図は従来ランプの放射照度分布を示す。 第3図は中心部に発光体のないランプの一例である。 第4図は中心部に発光体のないランプの放射照度分布を
示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 大気圧より減圧状態に保持された光源用バルブ内に水銀
    のみ、もしくは水銀及びAr、Kr等の希ガスを封入し
    た紫外光源用ランプにおいて、前記ランプ外形中に非発
    光部を有しており、前記ランプを2次元的に見た場合、
    非発光部を発光部が取り囲む構造を有することを特徴と
    する紫外光源用ランプ。
JP22925586A 1986-09-26 1986-09-26 紫外光源用ランプ Pending JPS6381751A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22925586A JPS6381751A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 紫外光源用ランプ
US07/097,188 US4768464A (en) 1986-09-26 1987-09-16 Chemical vapor reaction apparatus
US07/154,290 US4803095A (en) 1986-09-26 1988-02-10 Chemical vapor reaction process by virtue of uniform irradiation
US07/190,355 US4974542A (en) 1986-09-26 1988-05-05 Photochemical vapor reaction apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22925586A JPS6381751A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 紫外光源用ランプ

Publications (1)

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JPS6381751A true JPS6381751A (ja) 1988-04-12

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ID=16889242

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JP22925586A Pending JPS6381751A (ja) 1986-09-26 1986-09-26 紫外光源用ランプ

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JP (1) JPS6381751A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007287516A (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Iwasaki Electric Co Ltd 紫外線光源体及び紫外線照射装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4921878B1 (ja) * 1969-01-17 1974-06-04

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