JP2022021681A - タイヤの製造方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】タイヤ内側に周方向に延在して設置されたシーラント材の表面の粘着性を低減させたタイヤを高い汎用性を有して効率的に製造できる方法および装置を提供する。【解決手段】タイヤ９の内側に設置されるシーラント材１１と同種のテストサンプル１１Ｔに対して、表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施した際のテスト処理条件とテストサンプル１１Ｔの表面での粘着性の低減具合との相関関係を予め把握し、この相関関係に基づいて決定されたシーラント材１１に対する処理条件が制御部８に入力されていて、タイヤ９の内側に設置される前または設置された後のシーラント材１１の所定領域１１Ａに対して、決定した処理条件で処理機２を用いてレーザ処理が施される制御を行って所定領域１１Ａの表面の粘着性を許容範囲に低減させる。【選択図】図４

Description

本発明は、タイヤの製造方法および装置に関し、さらに詳しくは、表面の粘着性が低減されたシーラント材がタイヤの内側に設置されているタイヤを、高い汎用性を有して効率的に製造できるタイヤの製造方法および装置に関するものである。

タイヤのパンクを防止するためにタイヤ内側にシーラント材が設置されたタイヤが知られている。シーラント材は、タイヤを貫通した穴を塞いでパンクを防止する。このシーラント材は相当の粘着性を有しているため、タイヤがホイールに取付けられて使用されるまでの保管中、タイヤ内側で大気に露出しているシーラント材の表面には、埃など様々な異物が付着し易い。

このような異物がシーラント材の表面に付着することを防止するために、シーラント材の表面にＵＶ照射を行って、表面の粘着性を低減させることが提案されている（特許文献１参照）。しかしながら、シーラント材の表面にＵＶ照射を行っても粘着性を十分に低減させることが難しい。その理由として例えば、ＵＶ照射を行って粘着性を低減できるシーラント材の特性が非常に限定されている、または、照射するＵＶの仕様や照射条件が非常に限定的であることなどが考えられる。それ故、汎用的にシーラント材の表面の粘着性を大きく低減させるには改善の余地がある。

特表２０１９－５０５４０７号公報

本発明の目的は、表面の粘着性が低減されたシーラント材がタイヤの内側に設置されているタイヤを、高い汎用性を有して効率的に製造できるタイヤの製造方法および装置を提供することにある。

上記目的を達成するため本発明のタイヤの製造方法は、シーラント材がタイヤの内側にタイヤ周方向に延在して設置されているタイヤの製造方法において、前記シーラント材と同種のテストサンプルに対して表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施した際のテスト処理条件と前記テストサンプルの表面での粘着性の低減具合との相関関係を予め把握しておき、前記相関関係に基づいて前記シーラント材に対する処理条件を決定し、前記タイヤの内側に設置される前または設置された後の前記シーラント材の所定領域に対して、決定した前記処理条件で前記表面処理を施して前記所定領域の表面の粘着性を許容範囲に低減させることを特徴とする。

本発明のタイヤの製造装置は、シーラント材がタイヤの内側にタイヤ周方向に延在して設置されているタイヤの製造装置において、前記タイヤの内面に設置する前または設置した後の前記シーラント材の所定領域に対して、表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施す処理機と、前記処理機のヘッドを前記シーラント材に対して相対移動させる相対移動機構と、前記処理機および前記相対移動機構を制御する制御部とを備えて、予め把握されている前記シーラント材と同種のテストサンプルに対して表面処理としてレーザ処理を施した際のテスト処理条件と前記テストサンプルの表面での粘着性の低減具合との相関関係に基づいて決定された前記シーラント材に対する処理条件が前記制御部に入力されていて、この決定された前記処理条件で前記所定領域に対して、前記表面処理が施される制御が行われて、前記所定領域の表面の粘着性が許容範囲に低減される構成にしたことを特徴とする。

本発明によれば、前記タイヤの内側に設置される前または設置された後の前記シーラント材の所定領域の表面に対して、表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施すことで、様々なシーラント材の表面の粘着性を低減させることができる。そして、前記シーラント材と同種のテストサンプルに対して表面処理としてレーザ処理を施した際のテスト処理条件と前記テストサンプルの表面での粘着性の低減具合との相関関係を予め把握して、この相関関係に基づいて決定した処理条件で前記所定領域に対してレーザ処理を施すことで、過不足なく前記所定領域の表面の粘着性を許容範囲に低減させることができる。即ち、シーラント材のシール機能を損なうことなく、シーラント材の前記所定領域の表面に異物が付着することが防止できる。それ故、シーラント材の所定領域の表面の粘着性を低減させたタイヤを汎用的かつ効率的に製造することが可能になる。

本発明により製造されたタイヤをタイヤ幅方向断面視で例示する説明図である。 図１のタイヤの内側を平面視で例示する説明図である。 本発明のタイヤの製造装置の実施形態を平面視で例示する説明図である。 図３の製造装置による表面処理工程をタイヤの幅方向断面視で例示する説明図である。 図４の表面処理工程を、タイヤの一部を切り欠いて平面視で例示する説明図である。 シーラント材のテストサンプルに対して表面処理を施す工程を例示する説明図である。 表面処理によるシーラント材（テストサンプル）の表面での粘着性の低減具合を例示するグラフ図である。 表面処理されたシーラント材をタイヤ幅方向断面視で例示する説明図である。 本発明により製造されたタイヤの変形例をタイヤ幅方向断面視で示す説明図である。 図９のタイヤの内側を平面視で例示する説明図である。 タイヤの製造装置の別の実施形態を側面視で例示する説明図である。 図１１の製造装置を平面視で例示する説明図である。

本発明のタイヤの製造方法および装置を、図に示した実施形態に基づいて説明する。

本発明によって図１、図２に例示する空気入りタイヤ９が製造される。このタイヤ９の内面１０には、シーラント材１１がタイヤ周方向全周に延在して層状に接合されている。この実施形態では、トレッド面全範囲に対応する内面１０にシーラント材１１が設置されているが、より幅広の範囲またはより幅狭の範囲にシーラント材１１が設置されることもある。図中の一点鎖線ＣＬはタイヤ９（シーラント材１１）の幅方向中心を示している。

シーラント材１１は、タイヤ９が釘を踏んだ場合などにタイヤ９を貫通する貫通穴からの空気の漏洩を防止するため、粘着性および若干の流動性を有している。この流動性とは、換言すると変形し易さである。公知の種々の仕様のシーラント材１１を用いることができる。シーリング材１１は、自身の粘着性によって内面１０に接合される場合も、接着剤を介して接合される場合もある。

後述する表面処理Ｓが施されないシーリング材１１は相当の粘着性を有していて、その表面には埃などの異物が付着し易い。そのため、このタイヤ９の内面１０で大気に露出しているシーリング材１１の所定領域１１Ａに対しては、表面処理Ｓとしてレーザ光を照射するレーザ処理が施されている。この実施形態では、シーリング材１１の表面全体が所定領域１１Ａになっている。表面処理Ｓが施された所定領域１１Ａの表面は、表面処理Ｓが施される前よりも粘着性および流動性が低減されていて、その粘着性（粘着力）が許容範囲Ａｒにされている。

一方で、シーリング材１１のシール機能を損なわないように、シーリング材１１の内部の大部分は本来の粘着性および流動性が維持されている。即ち、施された表面処理Ｓによってシーリング材１１の粘着性が低減されているのは、所定領域１１Ａの実質的に表面近傍だけになっている。即ち、表面処理Ｓによって粘着性が低減されるのはシーリング材１１の表面から深さｔが例えば１ｍｍ以下、或いは０．５ｍｍ以下程度の範囲である。

図３～図５に例示する本発明のタイヤの製造装置１の実施形態は、表面処理Ｓとしてレーザ処理を施す処理機２と、処理機２を構成する処理ヘッド４を任意の位置に自在に移動させるアーム６と、タイヤ９が横倒し状態で載置される載置台７と、制御部８とを備えている。制御部８は、処理機２、アーム６および載置台７を制御する。制御部８としてはコンピュータ等が用いられる。アーム６および載置台７が、処理ヘッド４をシーラント材１１に対して相対移動させる相対移動機構になっている。

処理機２は、加硫済みのタイヤ９の内面１０に設置される前または設置された後のシーラント材１１の所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓを施す。この実施形態では、タイヤ９の内面１０に設置された後のシーラント材１１の所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓを施す場合を例にしている。

処理機２は、供給源３と処理ヘッド４とを有していて、供給源３に処理ヘッド４が接続されている。供給源３となるレーザ発信器から処理ヘッド４にレーザ光Ｌが供給され、所定領域１１Ａに対して照射される。この表面処理Ｓを施すことで所定領域１１Ａはレーザ光Ｌによって改質（酸化）されて粘着性が低減される。この表面処理Ｓは、一般的に大気圧下で施される。

供給源３および処理ヘッド４を保持するアーム６はアームベース５に回転自在に取り付けられている。アーム６は、複数のアーム部６ａ、６ｂ、６ｃを回転自在に接続して構成されている。アーム６の先端部に供給源３および処理ヘッド４が着脱自在に装着されている。アーム６の動きを制御部８によって制御することにより、処理ヘッド４を３次元に自在移動させることができ、ノズル先端４ａを任意方向に向けることが可能になっている。

この実施形態では、載置台７が、載置されたタイヤ９のタイヤ軸ＴＰを中心にして回転可能になっている。図中の一点鎖線ＴＰがタイヤ軸を示している。載置台７は、タイヤ９を任意の回転方向へ任意の回転速度で任意の回転角度だけ移動させることができる。相対移動機構は、処理ヘッド４とシーラント材１１（タイヤ９）とを相対移動させて、所定領域１１Ａを網羅するようにノズル先端４ａを相対移動させることができればよい。したがって、この実施形態のように、処理ヘッド４およびシーラント材１１（タイヤ９）を移動させる構成に限らず、例えば、シーラント材１１（タイヤ９）は所定位置に固定した状態にして、このシーラント材１１（タイヤ９）に対して処理ヘッド４を移動させる構成にすることもできる。或いは、処理ヘッド４は所定位置に固定した状態にして、この処理ヘッド４に対してシーラント材１１（タイヤ９）を移動させる構成にすることもできる。尚、この実施形態ではタイヤ９を横置き状態にして表面処理Ｓを行っているが、タイヤ９は縦置き状態にしてもよく、任意の配置状態にすることができる。

制御部８には、シーラント材１１に対して表面処理Ｓを施す際の処理条件が入力されている。この処理条件は以下のように決定される。

図６に例示するように、シーラント材１１と同種のテストサンプル１１Ｔに対してレーザ光Ｌを照射する表面処理Ｓを施して、表面処理Ｓに起因するテストサンプル１１Ｔの表面での粘着性の低減具合を確認する。これにより、表面処理Ｓとしてレーザ処理を施した際のテスト処理条件とテストサンプル１１Ｔの表面での粘着性の低減具合との相関関係ＲＤを把握する。

粘着性の低減具合はシーラント材１１の単位面積当たりの粘着力の大きさで評価し、この粘着力の低下率が大きい程、粘着性の低減具合が大きいと判断する。この粘着力は例えば、所定の押圧体を所定時間、所定圧力でテストサンプル１１Ｔの表面に押圧した後、押圧体をテストサンプル１１Ｔと直交する方向に離反させ、その際に押圧体に作用する離反方向と反対方向の抵抗力の最大値を、押圧体とテストサンプルの接触面積で除して算出する。この粘着力の測定には、市販の粘着力（タッキネス）測定装置を用いることができる。

尚、テストサンプル１１Ｔを押圧する所定圧力は微力であり、同型の粘着力測定装置を使用するならば、押圧体とテストサンプル１１Ｔの接触面積は概ね一定になる。この場合は、上述した抵抗力の最大値の大きさで粘着性の低減具合を評価することができ、この抵抗力の最大値の低下率が大きい程、粘着性の低減具合が大きいと判断する。粘着力の測定に用いる装置としては、株式会社東洋精機製作所製のタッキネスチェッカ（登録商標）型式ＨＴＣ－１を例示できる。この測定装置を使用する場合は、所定の押圧体（接触子）としてアルミＲリング型式ＡＬ－Ｒ１を用いて、所定時間を３秒、所定圧力を１０Ｎにして粘着力を測定する。

図７には、処理強度を変化させたテスト処理条件で表面処理Ｓをシーラント材１１（テストサンプル１１Ｔ）に施した場合の表面での粘着性の低減具合のデータＤが例示されている。縦軸の値ｈは、表面処理Ｓが施されていないオリジナル状態のシーラント材１１（テストサンプル１１Ｔ）の表面の粘着力を示し、縦軸の下端は粘着力がゼロであることを示している。縦軸には表面における粘着性の許容範囲Ａｒも記載されていて、図７ではオリジナルの粘着力の０％超１０％以下が許容範囲Ａｒに設定されている。横軸の処理強度は、シーラント材１１（テストサンプル１１Ｔ）の表面が単位面積当たり、単位時間当たりに処理機２によって付与されたエネルギの大きさを意味する。

この処理強度（テスト処理条件）は、処理機２からシーラント材１１に向かって照射されるレーザ光Ｌの出力強さ（出力値）、ノズル先端４ａとシーラント材１１の表面とのすき間ｇ、レーザ光Ｌの照射時間であり、これらがパラメータになっている。出力強さを変化させるには供給源３からのレーザ光Ｌの供給量を変化させ、すき間ｇを変化させるには処理ヘッド４と所定領域１１Ａの表面との相対位置を変化させ、レーザ光Ｌの照射時間を変化させるには処理ヘッド４の所定領域１１Ａの表面に沿った移動速度を変化させる。

出力強さを大きくする程、粘着性の低減具合が大きくなる関係がある。すき間ｇを小さくする程、粘着性の低減具合が大きくなる関係がある。照射時間が長くなる程、粘着性の低減具合が大きくなる関係がある。そこで、これらの関係を相対関係ＲＤとして把握する。

そして、データＤでの許容範囲Ａｒに入る処理強度の範囲を把握して、この処理強度の範囲が得られるテスト処理条件が、シーラント材１１に表面処理Ｓを施す際の処理条件として決定される。尚、処理強度が過大であると、シーラント材１１の表面か焦げるなどの不適切な変質が生じるので、処理強度の許容上限値を設定しておき、この許容上限値を超えない処理条件にされる。

具体的には、粘着性を低減させるために必要なレーザ光Ｌの出力強さがあるので、その必要な出力強さの範囲内で出力強さが所定値に決定される。そして、この所定値の出力強さで、ノズル先端４ａと所定領域１１Ａの表面とのすき間ｇ、および、レーザ光Ｌの照射時間の組み合わせを異ならせて、最適な組み合わせを見出して、その最適な組み合わせが処理条件として決定される。

許容範囲Ａｒは、所定の試験による粘着力の測定値を用いて設定してもよい。また、許容範囲Ａｒは、シーラント材１１のオリジナル状態での粘着力の０％超１０％以下に限らず、０％超１５％以下など上限値を適宜変更することもでき、１％以上１０％以下或いは２％以上１５％以下など下限値を適宜変更することもできる。或いは、許容範囲Ａｒをオリジナル状態での粘着力の１０％以下、または１５％以下、或いは２０％以下などに設定して、実質的に粘着力がゼロの場合を含めることもできる。ただし、この場合は上述したように、シーラント材１１の表面に不適切な変質が生じないように、処理強度の許容上限値を超えないようにする。上述したようにタッキネスチェッカ（登録商標）型式ＨＴＣ－１を使用して粘着力の測定をする場合は、抵抗力の最大値が例えば２Ｎ以下、或いは１．５Ｎ以下を許容範囲Ａｒとする。

制御部８は、予め把握された相関関係ＲＤに基づいて決定された処理条件になるように、処理機２、アーム６および載置台７を制御する。これにより、所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓとしてレーザ処理を施す。

次に、この製造装置１を用いてシーラント材１１の所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓを施してタイヤ９を製造する手順の一例を説明する。

制御部８には、上述の決定されたした処理条件を入力しておく。そして、図３～図５に例示するように内面１０にシーリング材１１が設置されたタイヤ９を載置台７に載置する。次いで、決定された処理条件になるように、タイヤ９（シーリング材１１）と処理ヘッド４との少なくとも一方を連続的または断続的に移動させつつ、大気圧下で所定領域１１Ａに対して、ノズル先端４ａからレーザ光Ｌを照射して表面処理Ｓとしてレーザ処理を施す。

この実施形態では、図４、図５に例示するように、横倒し状態のタイヤ９をタイヤ軸心ＴＰを中心にして連続的または断続的に回転させつつ、処理ヘッド４をタイヤ幅方向に連続的または断続的に移動させて表面処理Ｓを施す。尚、タイヤ９を縦置きした状態で表面処理Ｓを施すこともできる。

ここで、処理ムラを抑えるためには、ノズル先端４ａと所定領域１１Ａの表面とのすき間ｇを一定に維持するように、処理ヘッド４の動きを制御するとよい。このすき間ｇを一定に維持するには、すき間ｇを逐次検知するセンサ（接触型でも非接触型でも可能）を用いて、その検知データに基づいて処理ヘッド４の動きを制御することが好ましい。粘着性を許容範囲Ａｒに低減させる深さｔを一定にするには、所定領域１１Ａの表面に沿って処理ヘッド４を断続的または連続的に移動させる際の移動速度はなるべく一定にして所定領域１１Ａを網羅するように移動させるとよい。

この表面処理Ｓによって、図８に例示するように、シーラント材１１の所定領域１１Ａの表面の粘着性を許容範囲Ａｒに低減させる。図８では、シーラント材１１の幅方向の主に右半分を示しているが左半分も同様である。図８では、粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた深さｔがシーラント材１１（タイヤ９）の幅方向で概ね一定になっている。粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた所は流動性も低減されている。

粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた深さｔを、シーラント材１１（タイヤ９）の幅方向で変化させることもできる。例えば、シーラント材１１（タイヤ９）の幅方向中心ＣＬに近づくに連れてこの深さｔを大きくすることも、シーラント材１１（タイヤ９）の幅方向端に近づくに連れてこの深さｔを大きくすることもできる。この深さｔを変化させるには、表面処理Ｓの処理条件のうち、例えば、所定領域１１Ａの表面に沿った処理ヘッド４の移動速度のみを変化させる、或いは、ノズル先端４ａと所定領域１１Ａの表面とのすき間ｇのみを変化させる制御を行う。

このようにシーラント材１１の所定領域１１Ａの表面に対して表面処理Ｓを施すことで、様々な種類のシーラント材１１の表面の粘着性を低減させることができる。対象となるシーラント材１１の種類や処理条件に対する制約が少ないので、高い汎用性を有した方法になっている。しかも、レーザ処理は、プラズマ処理、コロナ処理、フレーム処理などの他の種類の表面処理に比して、格段に出力エネルギが高いので、迅速に粘着性を低減させるには優れている。

そして、上述した相関関係ＲＤに基づいて決定された処理条件で、シーラント材１１の所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓを施すので、過不足なく所定領域１１Ａの表面の粘着性を許容範囲Ａｒに低減させることができる。シーラント材１１の表面を不適切に変質させることなく、また、表面から深い位置まで粘着性を低減させることがないので、シーラント材１１のシール機能を損なうことを回避しつつ、表面処理Ｓを施した表面に異物が付着することが防止できる。それ故、シーラント材１１の所定領域１１Ａの表面の粘着性を低減させたタイヤ９を汎用的かつ効率的に製造するには有利になる。

図８に例示するように粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた深さｔを、タイヤ幅方向に均等にするのが一般的な仕様である。シーラント材１１は若干の流動性を有しているため、この仕様の場合、タイヤ９が使用されて回転（高速回転）すると、タイヤ幅方向中央側が端部側よりもシーラント材１１が厚くなる現象が生じる。そこで、粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた深さｔをシーラント材１１（タイヤ９）の幅方向中心ＣＬに近づくに連れて大きくすると、タイヤ９の高速回転中にタイヤ幅方向中央側のシーラント材１１が厚くなることを回避し易くなる。

一方、上述の深さｔが大きくなると、シーラント材１１はタイヤ９の変形に追従し難くなる。タイヤ９の使用中（車両走行中）などにタイヤ９が段差などを通過した際に凹状に変形した場合、この深さｔが大きい程、タイヤ９の変形に起因してシーラント材１１の表面には過度な引張負荷が作用する。そこで、粘着性を許容範囲Ａｒに低減させた深さｔをシーラント材１１（タイヤ９）の幅方向で変化させておくと、深さｔが小さい所ほど、過大な引張負荷が作用することを回避し易くなる。

図９、図１０に例示するタイヤ９では、表面処理Ｓが施される所定領域１１Ａがシーラント材１１の幅方向一部の範囲に設定されている。この実施形態のようにシーラント材１１の幅方向中央部のみを所定領域１１Ａに設定することも、或いは、幅方向両端部のみを所定領域１１Ａに設定して表面処理Ｓを施すこともできる。表面に異物が付着し易い範囲がある場合や、異物が付着し難い範囲が明確な場合などは、このように表面処理Ｓを施す所定領域１１Ａを限定することもできる。

シーラント材１１において表面処理Ｓを施されていない範囲は、施された所定領域１１Ａに比して粘着性、流動性が高いので、タイヤ９の変形に追従し易い。そのため、タイヤ９の使用中（車両走行中）などにタイヤ９が変形した場合、表面処理Ｓを施されていない範囲は、タイヤ９の変形に起因して過度な引張負荷が作用することを回避できるメリットがある。

図１１、１２に例示する製造装置１の実施形態は、タイヤ９の内面１０に設置される前のシーラント材１１の所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓを施す場合に使用される。この実施形態の製造装置１は、先の実施形態とは載置台７が異なっていて、その他の構成は実質的に同様である。

この実施形態では、載置台７としてベルトコンベヤが使用されている。このベルトコンベヤ７に帯状のシーラント材１１が載置される。そして、ベルトコンベヤ７を稼働させてシーラント材１１を延在方向に移動させつつ、処理ヘッド４をシーラント材１１の幅方向に移動させて所定領域１１Ａに対して、決定された処理条件で表面処理Ｓが施される。載置台７として平坦な単純な台を使用することもできる。この場合は載置台７に固定状態で載置されたシーラント材１１に対して、処理ヘッド４をシーラント材１１の延在方向および幅方向に移動させて所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓが施される。

所定領域１１Ａに対して表面処理Ｓとしてレーザ処理を施すことにより、所定領域１１Ａの表面の粘着性を許容範囲Ａｒに低減させる。次いで、表面処理Ｓが施された帯状のシーラント材１１を、タイヤ９の内面１０に周方向に延在させて設置、接合することでタイヤ９が製造される。

１ 製造装置
２ 処理機
３ 供給源
４ 処理ヘッド
４ａ ノズル先端
５ アームベース
６ アーム
６ａ、６ｂ、６ｃ アーム部
７ 載置台
８ 制御部
９ タイヤ
１０ 内面
１１ シーラント材
１１Ｔ テストサンプル
１１Ａ 所定領域

Claims (5)

1. シーラント材がタイヤの内側にタイヤ周方向に延在して設置されているタイヤの製造方法において、
   前記シーラント材と同種のテストサンプルに対して表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施した際のテスト処理条件と前記テストサンプルの表面での粘着性の低減具合との相関関係を予め把握しておき、前記相関関係に基づいて前記シーラント材に対する処理条件を決定し、
   前記タイヤの内側に設置される前または設置された後の前記シーラント材の所定領域に対して、決定した前記処理条件で前記表面処理を施して前記所定領域の表面の粘着性を許容範囲に低減させることを特徴とするタイヤの製造方法。
2. 前記所定領域の表面の単位面積当たりの粘着力が、前記表面処理を施した後では、前記表面処理を施す前の０％超１０％以下であることを、前記許容範囲として設定する請求項１に記載のタイヤの製造方法。
3. 前記所定領域を前記シーラント材の延在方向全長かつ幅方向全幅にする請求項１または２に記載のタイヤの製造方法。
4. 前記所定領域を前記シーラント材の延在方向全長かつ幅方向一部の範囲にする請求項１または２に記載のタイヤの製造方法。
5. シーラント材がタイヤの内側にタイヤ周方向に延在して設置されているタイヤの製造装置において、
   前記タイヤの内面に設置する前または設置した後の前記シーラント材の所定領域に対して、表面処理としてレーザ光を照射するレーザ処理を施す処理機と、前記処理機のヘッドを前記シーラント材に対して相対移動させる相対移動機構と、前記処理機および前記相対移動機構を制御する制御部とを備えて、
   予め把握されている前記シーラント材と同種のテストサンプルに対して表面処理としてレーザ処理を施した際のテスト処理条件と前記テストサンプルの表面での粘着性の低減具合との相関関係に基づいて決定された前記シーラント材に対する処理条件が前記制御部に入力されていて、
   この決定された前記処理条件で前記所定領域に対して、前記表面処理が施される制御が行われて、前記所定領域の表面の粘着性が許容範囲に低減される構成にしたことを特徴とするタイヤの製造装置。

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