JP2022020322A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としてのリソグラフィ装置は、基板上の層に第１パターンを形成するリソグラフィ装置であり、前記層の前記第１パターンが形成される領域とは異なる領域において第２パターンが形成される前に、前記第１パターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記基板に照射光を照射し、マークを形成するマーク形成部と、前記マーク形成部を制御する制御部と、前記マークの位置を計測するマーク計測部と、を有し、前記制御部は、前記マーク形成部により形成されるマークの形成位置に関する情報に基づいて、第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を決定することを特徴とする。

Claims (19)

1. 基板上の層に第１パターンを形成するリソグラフィ装置であり、前記層の前記第１パターンが形成される領域とは異なる領域において第２パターンが形成される前に、前記第１パターンを形成するリソグラフィ装置であって、
   前記基板に照射光を照射し、マークを形成するマーク形成部と、
   前記マーク形成部を制御する制御部と、
   前記マークの位置を計測するマーク計測部と、を有し、
   前記制御部は、前記マーク形成部により形成されるマークの形成位置に関する情報に基づいて、第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を決定することを特徴とするリソグラフィ装置。
2. 前記情報は、前記第１マークより以前に形成された第２マークの位置を前記マーク計測部で計測した結果であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記制御部は、前記第２マークが形成される想定位置と前記第２マークが実際に形成された位置との差分が所定の閾値を越えた場合に、前記第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記情報は、マーク形成部の位置を示す情報であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記照射光を検出するセンサを更に有し、
   前記センサは、前記マーク形成部の位置を示す情報を取得することで、前記マークの形成位置に関する情報を得ることを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記制御部は、前記第１マークより以前に形成された第２マークが形成される想定位置と、前記第２マークを形成するときの前記マーク形成部の位置に関する情報に基づいて予測される前記第２マークの位置との差分が所定の閾値を越えた場合に、前記第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項４又は５に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記制御部は、前記第１マークが形成される想定位置と、前記第１マークを形成するときの前記マーク形成部の位置に関する情報に基づいて予測される前記第１マークの位置との差分が所定の閾値を越えた場合に、前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と基板の相対位置を制御することを特徴とする請求項４又は５に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記マーク形成部は、光源と、前記基板に照射光を照射するための光学素子を含み、
   前記制御部は、光源及び光学素子のうち少なくとも一方の位置を制御することを特徴とする請求項４乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記光学素子は、ミラー及びレンズの少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記制御部は、前記第１マークより以前に形成された複数のマークの形成位置に関する情報に基づいて、前記第１マークが形成される位置を予測することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記制御部は、前記第１マークが形成される基板よりも前にパターン形成が行われた基準基板に形成されたマークの形成位置に関する情報に基づいて、前記第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記基準基板は、ロットの先頭基板であることを特徴とする請求項１１に記載のリソグラフィ装置。
13. 前記制御部は、前記マーク計測部が前記第１マークを計測できる位置となるように、前記第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときの前記マーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
14. 前記基板を保持する基板ステージを更に有し、
    前記制御部は、前記基板ステージを制御し、前記基板の位置を制御することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記マークは、前記リソグラフィ装置で形成される第１パターンと、前記リソグラフィ装置とは別のリソグラフィ装置で形成される第２パターンの相対位置関係を決定するための位置合わせ用のマークであることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
16. 基板にマークを形成するマーク形成方法であって、
    前記基板に照射光を照射し、マークを形成するマーク形成工程と、
    前記マークの位置を計測するマーク計測工程と、を有し、
    前記マーク形成工程は、マーク形成部により形成されるマークの形成位置に関する情報に基づいて、第１マークを形成するときの前記マーク形成部から前記基板に照射される照射光と前記基板の相対位置、及び前記第１マークを計測するときのマーク計測部と前記基板の相対位置の少なくとも一方を決定することを特徴とするマーク形成方法。
17. 請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて前記基板にパターンを形成する第１パターン形成工程と、
    前記リソグラフィ装置とは別のリソグラフィ装置を用いて前記基板にパターンを形成する第２パターン形成工程と、を含むパターン形成方法。
18. 請求項１７に記載のパターン形成方法により前記基板を露光する露光工程と、
    前記露光工程で露光された前記基板を現像する現像工程と、
    前記現像工程で現像された前記基板の処理を行う処理工程と、を含み、
    前記処理工程で処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
19. 請求項１７に記載のパターン形成方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。