JP2022019776A - インプリント装置、インプリント方法、および、物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は第1実施形態におけるインプリント装置IMPの構成を示した図である。図1を用いてインプリント装置IMPの構成について説明する。図1に示すように、基板13が配置される面をXY面、それに直交する方向をZ方向として各軸を決める。インプリント装置IMPは、型を用いて基板上のインプリント材を成形する装置である。インプリント装置IMPは、基板13上に供給されたインプリント材を型と接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。図1のインプリント装置IMPは、物品としての半導体デバイスなどのデバイスの製造に使用される。ここでは光硬化法を採用したインプリント装置IMPについて説明する。
吐出チップ1は、図2(A)の工程で基板13上にインプリント材を供給する際、基板ステージ11によって、基板13を図2(A)に示した矢印方向へと移動させながら、移動と同期して吐出動作を行う。従って、吐出口5が配列された吐出チップ1の平面と、基板13との距離、及び平行度が所望の精度に配置されていなければ、インプリント材23が基板13に到達するまでの時間がずれて、その結果、供給位置は想定された位置からずれてしまう。図5を用いた説明では、図中のXY平面に関する位置ずれの補正方法に関して説明したが、実際には図中Z方向に関する、吐出チップ1表面と基板13との相対距離、及び平行度も精密に管理・補正する必要がある。
上述の実施形態では、計測装置22を吐出チップ1の吐出面で2方向に走査することによって基準マーク4a、4bの位置を読み取る例を示したが、第3実施形態では、吐出面で1方向に走査して供給装置21の位置を求める場合について説明する。
次に、図8を用いて第4実施形態による供給装置21(吐出チップ1)の位置の計測方法について説明する。図8は第4実施形態の供給装置21に設けられた吐出チップ1を示した図である。第4実施形態の吐出チップ1は、図8に示すように吐出チップ1の表面には凹凸構造の基準マークは形成されていない。第4実施形態では吐出チップ1の外形輪郭線を基準マークとして用いる。第4実施形態のインプリント装置は、吐出チップ1と吐出チップベース2との段差を凹凸構造として計測装置22が検出することにより外形輪郭線の位置を求める。上述のように、吐出チップ1は半導体製造工程を用いて三次元的に製造される。従って、吐出チップ1と吐出チップベース2との段差で生じる外形輪郭形状も吐出口5に対して、精度よく成型する事が可能である。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
Claims (9)
- 型を用いて基板上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
吐出口が形成された吐出面を有し、該吐出口から前記基板上にインプリント材を供給する供給装置と、
前記型の表面の位置を計測する計測装置と、を備え、
前記計測装置が、前記吐出面と垂直な方向に対して凸状又は凹状に形成された凹凸構造の位置を計測することによって、前記吐出口の位置を計測することを特徴とするインプリント装置。 - 前記凹凸構造の形状を計測することによって前記吐出口の位置を計測することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記凹凸構造の高さを計測することによって前記吐出口の位置を計測することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記凹凸構造は前記吐出口に対して前記吐出面の所定の位置に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のインプリント装置。
- 前記計測装置は、前記基板を保持する基板保持部に設けられていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のインプリント装置。
- 前記凹凸構造が前記吐出面に複数形成されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のインプリント装置。
- 前記凹凸構造の位置の計測結果に基づいて、前記吐出口から前記基板上に供給される前記インプリント材の位置を制御する制御部を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のインプリント装置。
- 型を用いて基板上のインプリント材を成形するインプリント方法であって、
前記型の表面の高さを計測する計測装置を用いて、前記基板上にインプリント材を供給する吐出口が形成された吐出面と垂直な方向に対して凸状又は凹状に形成された凹凸構造の位置を計測する工程と、
前記計測する工程によって計測された前記凹凸構造の位置に基づいて前記吐出口から前記基板上に供給されるインプリント材の位置を制御することによって、前記基板上にインプリント材を供給する工程と、を有することを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1乃至7の何れか1項に記載のインプリント装置を用いて基板の上にインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する加工工程と、を有し、該加工工程により加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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