JP2022019196A - Method for producing extrusion-molded film and extrusion-molded film - Google Patents

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Abstract

To provide a method for producing an extrusion-molded film excellent in electric characteristics and UV processability, and to provide an extrusion-molded film excellent in such characteristics.SOLUTION: The method for producing an extrusion-molded film according to the present invention provides an extrusion-molded film containing 10 mass% or less of an aromatic polymer by melt extrusion molding of a mixture of: a melt-kneaded product of particles of a first tetrafluoroethylene polymer having a melting temperature of 270-320°C and particles of the aromatic polymer having an average particle diameter of 1-10 μm; and particles of a second tetrafluoroethylene polymer having a melting temperature of 270-320°C.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、押出成形フィルムの製造方法及び押出成形フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing an extruded film and an extruded film.

テトラフルオロエチレン系ポリマーは、比誘電率及び誘電正接が低いため、高周波信号を伝送するプリント配線板の電気絶縁体層に用いられる。プリント配線板では、電気絶縁体層の両側に導体が設けられた積層体に貫通孔を形成し、貫通孔の内壁面にメッキ層を形成して、導体同士の間の導通が確保される場合が多い。貫通孔の形成には、UV-YAGレーザーが使用される。
また、テトラフルオロエチレン系ポリマーは、UV波長域の吸収率が低い。そのため、テトラフルオロエチレン系ポリマーの層を有するプリント配線板では、貫通孔を形成するために、高出力のレーザー照射が必要である。その結果、レーザー照射の際に発生する熱によって、上記層や導体が変形し、層間剥離等が生じやすい。
Since the tetrafluoroethylene polymer has a low relative permittivity and dielectric loss tangent, it is used for an electric insulator layer of a printed wiring board that transmits a high frequency signal. In a printed wiring board, when a through hole is formed in a laminated body in which conductors are provided on both sides of an electrical insulator layer, and a plating layer is formed on the inner wall surface of the through hole to ensure continuity between the conductors. There are many. A UV-YAG laser is used to form the through holes.
Further, the tetrafluoroethylene polymer has a low absorption rate in the UV wavelength range. Therefore, in a printed wiring board having a layer of a tetrafluoroethylene polymer, high-power laser irradiation is required in order to form through holes. As a result, the layers and conductors are deformed by the heat generated during laser irradiation, and delamination and the like are likely to occur.

特許文献1では、UV吸収剤をフィルムに含有させて、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性を向上させているが、UV吸収剤によりフィルムの電気絶縁特性等の電気特性が低下する。
特許文献2では、テトラフルオロエチレン系ポリマーを高温処理して、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性を向上させているが、高温処理に適した製造装置が必要になる。
In Patent Document 1, a UV absorber is contained in the film to improve the processability of drilling with a UV-YAG laser, but the UV absorber deteriorates the electrical properties such as the electrical insulation property of the film.
In Patent Document 2, the tetrafluoroethylene polymer is treated at a high temperature to improve the processability of drilling with a UV-YAG laser, but a manufacturing apparatus suitable for the high temperature treatment is required.

特表平4-503081号公報Special Table 4-503081 Gazette 国際公開2019/087939号International Publication No. 2019/0893939

本発明者らは、電気特性と、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性とを両立したフィルムを得るべく鋭意検討した。その結果、所定のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び所定の芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、所定のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を、溶融押出成形して得たフィルムは、両者の物性に優れることを知見した。また、かかるフィルムは他材料との接着性にも優れていた。 The present inventors have diligently studied to obtain a film having both electrical characteristics and processability of drilling with a UV-YAG laser. As a result, the film obtained by melt-extruding a mixture of the predetermined tetrafluoroethylene polymer particles and the predetermined aromatic polymer particles in a melt-kneaded product and the predetermined tetrafluoroethylene polymer particles is obtained. It was found that both have excellent physical properties. In addition, the film was also excellent in adhesiveness to other materials.

本発明は、下記の態様を有する。
<1> 溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び平均粒子径が1~10μmの芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を溶融押出成形して、前記芳香族性ポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルムを得る、押出成形フィルムの製造方法。
<2> 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー及び前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーが、それぞれ独立に、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>の製造方法。
<3> 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーと前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーとが、同じテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>又は<2>の製造方法。
<4> 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、<1>~<3>のいずれかの製造方法。
<5> 前記芳香族性ポリマーのガラス転移温度が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にある、<1>~<4>のいずれかの製造方法。
<6> 前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融流れ速度が、前記溶融混練ペレットの溶融流れ速度±7g/10分の範囲にある、<1>~<5>のいずれかの製造方法。
<7> 前記溶融混練物における前記芳香族性ポリマーの含有量が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー100質量部に対して、5~30質量部である、<1>~<6>のいずれかの製造方法。
<8> 前記混合物において、前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子の、前記溶融混練物に対する質量での混合比が、5~20である、<1>~<7>のいずれかの製造方法。
<9> 溶融温度が270~320℃のテトラフルオロエチレン系ポリマーの海ドメインと芳香族性ポリマーの島ドメインとを含む押出成形フィルムであって、前記押出成形フィルムにおける前記芳香族性ポリマーの含有量が、10質量%以下であり、前記島ドメインの平均ドメイン径が、1~10μmであり、かつ、厚さ25μmの前記押出成形フィルムにおける波長355nmの光線の透過率が、80%以下である、押出成形フィルム。
<10> 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<9>の押出成形フィルム。
<11> 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、<9>又は<10>の押出成形フィルム。
<12> 前記芳香族ポリマーの含有量が、0.1~5質量%である、<9>~<11>のいずれかの押出成形フィルム。
<13> 前記厚さ25μmの押出成形フィルムの面内において、前記透過率の最大値と最小値との差が、7%以下である、<9>~<12>のいずれかの押出成形フィルム。
<14> 前記押出成形フィルムの厚さが、前記島ドメインの平均ドメイン径の2倍超である、<9>~<13>のいずれかの押出成形フィルム。
The present invention has the following aspects.
<1> A melt-kneaded product of first tetrafluoroethylene polymer particles having a melting temperature of 270 to 320 ° C. and aromatic polymer particles having an average particle diameter of 1 to 10 μm, and a melting temperature of 270 to 320 ° C. A method for producing an extrusion-molded film, wherein a mixture with particles of a second tetrafluoroethylene polymer is melt-extruded to obtain an extrusion-molded film containing the aromatic polymer in an amount of 10% by mass or less.
<2> A tetrafluoroethylene-based polymer in which the first tetrafluoroethylene-based polymer and the second tetrafluoroethylene-based polymer each independently contain a unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) and have a polar functional group. Alternatively, the method for producing <1>, which is a tetrafluoroethylene-based polymer containing 2.0 to 5.0 mol% of units based on perfluoro (alkyl vinyl ether) with respect to all units and having no polar functional group.
<3> The method for producing <1> or <2>, wherein the first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer are the same tetrafluoroethylene polymer.
<4> The production method according to any one of <1> to <3>, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide.
<5> The production method according to any one of <1> to <4>, wherein the glass transition temperature of the aromatic polymer is in the range of the melting temperature of the first tetrafluoroethylene polymer + 20 ° C. or higher.
<6> The production method according to any one of <1> to <5>, wherein the melt flow rate of the second tetrafluoroethylene polymer is in the range of ± 7 g / 10 minutes of the melt flow rate of the melt-kneaded pellets.
<7><1> to <6>, wherein the content of the aromatic polymer in the melt-kneaded product is 5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first tetrafluoroethylene-based polymer. Either manufacturing method.
<8> Production of any one of <1> to <7>, wherein in the mixture, the mixing ratio of the particles of the second tetrafluoroethylene-based polymer to the melt-kneaded product by mass is 5 to 20. Method.
<9> An extruded film containing a sea domain of a tetrafluoroethylene-based polymer having a melting temperature of 270 to 320 ° C. and an island domain of an aromatic polymer, and the content of the aromatic polymer in the extruded film. However, the average domain diameter of the island domain is 10% by mass or less, the average domain diameter of the island domain is 1 to 10 μm, and the transmittance of light having a wavelength of 355 nm in the extruded film having a thickness of 25 μm is 80% or less. Extruded film.
<10> The tetrafluoroethylene-based polymer contains a unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) and has a polar functional group, or a tetrafluoroethylene-based polymer having a polar functional group, or a unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) for all units. The extrusion-molded film of <9>, which is a tetrafluoroethylene-based polymer containing 0.0 to 5.0 mol% and having no polar functional group.
<11> The extruded film of <9> or <10>, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide.
<12> The extruded film according to any one of <9> to <11>, wherein the content of the aromatic polymer is 0.1 to 5% by mass.
<13> The extruded film according to any one of <9> to <12>, wherein the difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance is 7% or less in the plane of the extruded film having a thickness of 25 μm. ..
<14> The extruded film according to any one of <9> to <13>, wherein the thickness of the extruded film is more than twice the average domain diameter of the island domain.

本発明によれば、電気特性と、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性(以下、「UV加工性」とも記す。)とに優れる、押出成形フィルムの製造方法を提供できる。また、かかる特性に優れる押出成形フィルムを提供できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an extruded film, which is excellent in electrical characteristics and processability for drilling holes by a UV-YAG laser (hereinafter, also referred to as "UV processability"). Further, it is possible to provide an extruded film having such excellent characteristics.

以下の用語は、以下の意味を有する。
「平均粒子径(D50)」は、レーザー回折・散乱法によって求められる対象物(粒子、フィラー)の体積基準累積50%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によって対象物の粒度分布を測定し、対象物の粒子の集団の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が50%となる点の粒子径である。
「D90」は、同様にして測定される、対象物の体積基準累積90%径である。
「溶融温度(融点)」は、示差走査熱量測定(DSC)法で測定したポリマーの融解ピークの最大値に対応する温度である。
「ガラス転移点(Tg)」は、動的粘弾性測定(DMA)法でポリマー、硬化物又はエラストマーを分析して測定される値である。
「粒子の比表面積」は、ガス吸着(定容法)BET多点法によりNOVA4200e(Quantachrome Instruments社製)を使用して求められる。
「溶融流れ速度(MFR)」とは、JIS K 7210:1999(ISO 1133:1997)に規定される、ポリマーのメルトマスフローレートを意味する。
「フィルムの厚さ」は、接触式厚み計DG-525H(小野測器社製)にて、測定子AA-026(Φ10mm、SR7)を使用して、フィルムの厚さを、幅方向に距離が等しくなるように10点測定した測定値の平均値である。
「金属箔層の表面の十点平均粗さ(Rzjis)」は、JIS B 0601:2013の附属書JAに規定される値である。
「誘電正接」は、SPDR法により、24℃、50%RHの環境下にて、周波数10GHzで測定される値である。
ポリマーにおける「単位」は、モノマーから直接形成された原子団であってもよく、得られたポリマーを所定の方法で処理して、構造の一部が変換された原子団であってもよい。ポリマーに含まれる、モノマーAに基づく単位を、単に「モノマーA単位」とも記す。
The following terms have the following meanings.
The "average particle diameter (D50)" is a volume-based cumulative 50% diameter of an object (particle, filler) determined by a laser diffraction / scattering method. That is, the particle size distribution of the object is measured by the laser diffraction / scattering method, the cumulative curve is obtained with the total volume of the group of particles of the object as 100%, and the particles at the point where the cumulative volume is 50% on the cumulative curve. The diameter.
“D90” is the volume-based cumulative 90% diameter of the object, which is similarly measured.
The "melting temperature (melting point)" is the temperature corresponding to the maximum value of the melting peak of the polymer measured by the differential scanning calorimetry (DSC) method.
The "glass transition point (Tg)" is a value measured by analyzing a polymer, cured product or elastomer by a dynamic viscoelasticity measurement (DMA) method.
The "specific surface area of particles" is determined by using NOVA4200e (manufactured by Quantachrome Instruments) by the gas adsorption (constant volume method) BET multipoint method.
"Melting flow rate (MFR)" means the melt mass flow rate of a polymer as defined in JIS K 7210: 1999 (ISO 1133: 1997).
"Film thickness" is determined by using a contact type thickness gauge DG-525H (manufactured by Ono Sokki Co., Ltd.) and using a stylus AA-026 (Φ10 mm, SR7) to measure the film thickness in the width direction. It is an average value of the measured values measured at 10 points so that is equal.
The “ten-point average roughness (Rzjis) of the surface of the metal foil layer” is a value specified in Annex JA of JIS B 0601: 2013.
The "dielectric loss tangent" is a value measured by the SPDR method at a frequency of 10 GHz in an environment of 24 ° C. and 50% RH.
The "unit" in the polymer may be an atomic group formed directly from the monomer, or may be an atomic group in which a part of the structure is converted by treating the obtained polymer by a predetermined method. The unit based on the monomer A contained in the polymer is also simply referred to as "monomer A unit".

本発明の押出成形フィルムの製造方法(以下、「本法」とも記す。)は、溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー(以下、「第1のFポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「第1のF粒子」とも記す。)及びD50が1~10μmの芳香族性ポリマー(以下、「ARポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「AR粒子」とも記す。)の溶融混練物と、ARポリマーを含まない、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマー(以下、「第2のFポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「第2のF粒子」とも記す。)との混合物を溶融押出成形して、ARポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルム(以下、「本フィルム」とも記す。)を得る方法である。 The method for producing an extruded film of the present invention (hereinafter, also referred to as "this method") is also referred to as a first tetrafluoroethylene-based polymer having a melting temperature of 270 to 320 ° C. (hereinafter, also referred to as "first F polymer"). ) Particles (hereinafter, also referred to as “first F particles”) and particles of an aromatic polymer having a D50 of 1 to 10 μm (hereinafter, also referred to as “AR polymer”) (hereinafter, also referred to as “AR particles”). A second tetrafluoroethylene polymer (hereinafter, also referred to as “second F polymer”) having a melting temperature of 270 to 320 ° C., which does not contain an AR polymer and is a melt-kneaded product (hereinafter referred to as “second F polymer”). It is a method of obtaining an extrusion-molded film containing 10% by mass or less of an AR polymer (hereinafter, also referred to as “this film”) by melt-extruding a mixture with “second F particles”).

本法によれば、電気特性とUV加工性とに優れた本フィルムが得られる。その理由は必ずしも明確ではないが、以下の通りであると考えられる。
本フィルムは、ARポリマーを少量含む。そのため、本フィルム中では、2つのFポリマーを含むドメインを海とし、ARポリマーを含むドメインを島とする海島構造が形成されている。
According to this method, the present film having excellent electrical characteristics and UV processability can be obtained. The reason is not always clear, but it is thought to be as follows.
This film contains a small amount of AR polymer. Therefore, in this film, a sea-island structure is formed in which the domain containing two F polymers is the sea and the domain containing the AR polymer is an island.

本法においては、第1のFポリマー及びARポリマーを含む溶融混錬物(溶融混練ペレット)を得て、この溶融混錬物と第2のF粒子とから本フィルムを製造する。溶融混錬物は、マスターバッチともみなせる。マスターバッチを形成する際に、ポリマーに充分な剪断がかかるために、ARポリマーが凝集しにくく、本フィルム中においてサイズの揃った島ドメインが形成されると考えられる。さらに、本フィルムを形成する際に、ARポリマーと2つのFポリマーとが充分に混合され、本フィルム中で島ドメインが均一に分散し、高いUV吸収性を発現すると考えられる。 In this method, a melt-kneaded product (melt-kneaded pellet) containing the first F polymer and the AR polymer is obtained, and the present film is produced from the melt-kneaded product and the second F particles. The melt-kneaded product can also be regarded as a masterbatch. It is considered that the AR polymer is less likely to aggregate and island domains of uniform size are formed in the film because the polymer is sufficiently sheared during the formation of the masterbatch. Further, it is considered that when the present film is formed, the AR polymer and the two F polymers are sufficiently mixed, the island domains are uniformly dispersed in the present film, and high UV absorption is exhibited.

また、本発明者らは、島ドメインの平均ドメイン径が所定の範囲にあると、光線が効果的に島ドメインに侵入できるため、本フィルム中のARポリマーの含有量が少ない場合にも、本フィルムにおける光線の吸収性が高まることを知見している。形成される島ドメインの平均ドメイン径は、AR粒子のD50に依存すると考えられる。本法においては、所定のD50(1~10μm)を有するAR粒子を用いて、本フィルムを形成する。このため、本フィルムでは、ARポリマーの含有量が少なくとも、適度なドメイン径を有する島ドメインが形成され、高いUV吸収性を有すると考えられる。 In addition, the present inventors can effectively invade the island domain when the average domain diameter of the island domain is within a predetermined range, so that even when the content of the AR polymer in the film is low, the present invention can be used. It has been found that the absorption of light rays in the film is enhanced. The average domain diameter of the formed island domains is believed to depend on the D50 of the AR particles. In this method, this film is formed using AR particles having a predetermined D50 (1 to 10 μm). Therefore, in this film, it is considered that an island domain having an appropriate domain diameter is formed at least with an AR polymer content, and the film has high UV absorption.

本法において、第1のFポリマーと第2のFポリマーとは、同じFポリマーであるのが好ましい。この場合、溶融押出成形の際に、第1のFポリマーと第2のFポリマーとが均一に混合され、本フィルム中において均質な海ドメインが形成されやすい。
本法において、ARポリマーのガラス転移温度は、第1のFポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にあるのが好ましく、溶融温度+30℃以上の範囲にあるのがより好ましい。ARポリマーのガラス転移温度は、第1のFポリマーの溶融温度+60℃以下の範囲にあるのが好ましく、溶融温度+50℃以下の範囲にあるのがより好ましい。この場合、溶融混練物の形成及び溶融押出成形の際に、ARポリマーの種類によらず、ARポリマーが溶融状態になりにくくなり、本フィルム中において適度なドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。
In this method, it is preferable that the first F polymer and the second F polymer are the same F polymer. In this case, during melt extrusion molding, the first F polymer and the second F polymer are uniformly mixed, and a homogeneous sea domain is likely to be formed in the present film.
In this method, the glass transition temperature of the AR polymer is preferably in the range of the melting temperature of the first F polymer + 20 ° C. or higher, and more preferably in the range of the melting temperature + 30 ° C. or higher. The glass transition temperature of the AR polymer is preferably in the range of the melting temperature of the first F polymer + 60 ° C. or lower, and more preferably in the range of the melting temperature + 50 ° C. or lower. In this case, during the formation of the melt-kneaded product and the melt extrusion molding, the AR polymer is less likely to be in a molten state regardless of the type of the AR polymer, and an island domain having an appropriate domain diameter is likely to be formed in this film. ..

第2のFポリマーのMFRは、溶融混練物のMFR±7g/10分の範囲にあるのが好ましく、±5g/10分の範囲にあるのがより好ましい。この場合、第2のFポリマーのMFRと溶融混練物のMFRとが接近するため、本フィルムを形成する際に、ARポリマーと2つのFポリマーとが充分に混合され、本フィルム中で島ドメインが均一に分散し、より高いUV吸収性を発現できる。
溶融混練物におけるARポリマーの含有量は、第1のFポリマー100質量部に対して、5~30質量部であるのが好ましく、10~20質量部であるのがより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、電気特性とUV加工性とがバランスしやすい。
混合物において、第2のF粒子の、溶融混練物に対する質量での混合比は、5~20であるのが好ましく、5~10であるのがより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、電気特性とUV加工性とがよりバランスしやすい。
The MFR of the second F polymer is preferably in the range of ± 7 g / 10 min of the MFR of the melt-kneaded product, and more preferably in the range of ± 5 g / 10 min. In this case, since the MFR of the second F polymer and the MFR of the melt-kneaded product are close to each other, the AR polymer and the two F polymers are sufficiently mixed when forming the film, and the island domain is formed in the film. Can be uniformly dispersed and higher UV absorption can be exhibited.
The content of the AR polymer in the melt-kneaded product is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first F polymer. In this case, in this film, the electrical characteristics and the UV processability are easily balanced.
In the mixture, the mixing ratio of the second F particles to the melt-kneaded product by mass is preferably 5 to 20, and more preferably 5 to 10. In this case, in this film, the electrical characteristics and the UV processability are more easily balanced.

本発明における第1のFポリマーは、テトラフルオロエチレン(TFE)に基づく単位(TFE単位)を含むポリマーである。本発明における第1のFポリマーは、熱溶融性である。この第1のFポリマーの溶融温度は、270~320℃であり、275~315℃が好ましく、290~310℃がより好ましい。この場合、第1のFポリマーの成形加工性と、本フィルムの機械強度とがバランスしやすい。
第1のFポリマーのガラス転移点は、75~125℃が好ましく、80~100℃がより好ましい。
第1のFポリマーのMFRは、0.5~100g/10分が好ましく、1~30g/10分がより好ましい。この場合、本フィルムが、表面平滑性、外観、機械強度に優れやすい。
The first F polymer in the present invention is a polymer containing a unit (TFE unit) based on tetrafluoroethylene (TFE). The first F polymer in the present invention is thermally meltable. The melting temperature of the first F polymer is 270 to 320 ° C., preferably 275 to 315 ° C., more preferably 290 to 310 ° C. In this case, the moldability of the first F polymer and the mechanical strength of the film are easily balanced.
The glass transition point of the first F polymer is preferably 75 to 125 ° C, more preferably 80 to 100 ° C.
The MFR of the first F polymer is preferably 0.5 to 100 g / 10 minutes, more preferably 1 to 30 g / 10 minutes. In this case, this film tends to be excellent in surface smoothness, appearance, and mechanical strength.

第1のFポリマーとしては、TFE単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)に基づく単位(PAVE単位)を含むポリマー(PFA)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)に基づく単位を含むポリマー(FEP)が挙げられ、PFAであるのが好ましい。PAVEとしては、CF=CFOCF、CF=CFOCFCF及びCF=CFOCFCFCF(PPVE)が好ましく、PPVEがより好ましい。 Examples of the first F polymer include a polymer (PFA) containing a TFE unit and a unit (PAVE unit) based on perfluoro (alkyl vinyl ether) (PAVE), and a polymer (FEP) containing a unit based on hexafluoropropene (HFP). Therefore, it is preferably PFA. As the PAVE, CF 2 = CFOCF 3 , CF 2 = CFOCF 2 CF 3 and CF 2 = CFOCF 2 CF 2 CF 3 (PPVE) are preferable, and PPVE is more preferable.

第1のFポリマーは、極性官能基を有するのが好ましい。極性官能基は、第1のFポリマー中の単位に含まれていてもよく、第1のFポリマーの主鎖の末端基に含まれていてもよい。後者の態様としては、重合開始剤、連鎖移動剤等に由来する末端基として極性官能基を有する第1のFポリマー、プラズマ処理や電離線処理して得られる極性官能基を有する第1のFポリマーが挙げられる。極性官能基は、水酸基含有基又はカルボニル基含有基が好ましい。 The first F polymer preferably has a polar functional group. The polar functional group may be contained in a unit in the first F polymer, or may be contained in the terminal group of the main chain of the first F polymer. In the latter aspect, a first F polymer having a polar functional group as a terminal group derived from a polymerization initiator, a chain transfer agent, etc., and a first F having a polar functional group obtained by plasma treatment or ionization line treatment. Polymers can be mentioned. The polar functional group is preferably a hydroxyl group-containing group or a carbonyl group-containing group.

水酸基含有基は、アルコール性水酸基を含有する基が好ましく、-CFCHOH又は-C(CFOHがより好ましい。
カルボニル基含有基は、カルボニル基(>C(O))を含む基であり、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、イソシアネート基、カルバメート基(-OC(O)NH)、酸無水物残基(-C(O)OC(O)-)、イミド残基(-C(O)NHC(O)-等)又はカーボネート基(-OC(O)O-)が好ましく、酸無水物残基がより好ましい。
The hydroxyl group-containing group is preferably a group containing an alcoholic hydroxyl group, more preferably -CF 2 CH 2 OH or -C (CF 3 ) 2 OH.
The carbonyl group-containing group is a group containing a carbonyl group (> C (O)), a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, an isocyanate group, a carbamate group (-OC (O) NH 2 ), and an acid anhydride residue. Group (-C (O) OC (O)-), imide residue (-C (O) NHC (O)-etc.) or carbonate group (-OC (O) O-) is preferred, and acid anhydride residue. Is more preferable.

第1のFポリマーは、TFE単位及びPAVE単位を含む、極性官能基を有するポリマー(1)、又は、TFE単位及びPAVE単位を含み全単位に対してPAVE単位を2.0~5.0モル%含む、極性官能基を有さないポリマー(2)が好ましい。
これらのポリマーは、本フィルム中において微小球晶を形成するので、他の成分との密着性が高まりやすく、適度なドメイン径を有する島ドメインも形成されやすい。その結果、表面平滑性、接着性、電気特性及びUV吸収性(UV加工性)に優れた本フィルムが得られる。
The first F polymer is a polymer having a polar functional group (1) containing TFE units and PAVE units, or 2.0 to 5.0 mol of PAVE units with respect to all units including TFE units and PAVE units. %, The polymer (2) having no polar functional group is preferable.
Since these polymers form microspherulites in this film, adhesion to other components is likely to increase, and island domains having an appropriate domain diameter are also likely to be formed. As a result, the present film having excellent surface smoothness, adhesiveness, electrical properties and UV absorbability (UV processability) can be obtained.

ポリマー(1)は、TFE単位、PAVE単位及び極性官能基を有するモノマーに基づく単位を含むポリマーであるのが好ましく、全単位に対して、これらの単位をこの順に、90~99モル%、0.5~9.97モル%、0.01~3モル%で含むポリマーであるのがより好ましい。また、極性官能基を有するモノマーは、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又は5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物(以下、「NAH」とも記す。)が好ましい。ポリマー(1)の具体例としては、国際公開第2018/16644号に記載されるポリマーが挙げられる。 The polymer (1) is preferably a polymer containing a TFE unit, a PAVE unit and a unit based on a monomer having a polar functional group, and 90 to 99 mol% of these units are used in this order with respect to all the units, 0. More preferably, it is a polymer containing 5.5 to 9.97 mol% and 0.01 to 3 mol%. Further, as the monomer having a polar functional group, itaconic anhydride, citraconic anhydride or 5-norbornen-2,3-dicarboxylic acid anhydride (hereinafter, also referred to as “NAH”) is preferable. Specific examples of the polymer (1) include the polymers described in International Publication No. 2018/16644.

ポリマー(2)は、TFE単位及びPAVE単位のみからなり、全単位に対して、TFE単位を95.0~98.0モル%、PAVE単位を2.0~5.0モル%で含有するのが好ましい。ポリマー(2)におけるPAVE単位の含有量は、全単位に対して、2.1モル%以上が好ましく、2.2モル%以上がより好ましい。
なお、ポリマー(2)が極性官能基を有さないとは、ポリマー主鎖を構成する炭素原子数の1×10個あたり、ポリマーが有する極性官能基の数が500個未満であることを意味する。上記極性官能基の数は100個以下が好ましく、50個未満がより好ましい。上記極性官能基の数の下限は、通常、0個である。
The polymer (2) consists of only TFE units and PAVE units, and contains 95.0 to 98.0 mol% of TFE units and 2.0 to 5.0 mol% of PAVE units with respect to all the units. Is preferable. The content of PAVE units in the polymer (2) is preferably 2.1 mol% or more, more preferably 2.2 mol% or more, based on all the units.
The fact that the polymer (2) does not have polar functional groups means that the number of polar functional groups possessed by the polymer is less than 500 per 1 × 10 6 carbon atoms constituting the polymer main chain. means. The number of the polar functional groups is preferably 100 or less, more preferably less than 50. The lower limit of the number of polar functional groups is usually 0.

ポリマー(2)は、ポリマー鎖の末端基として極性官能基を生じない、重合開始剤や連鎖移動剤等を使用して製造してもよく、極性官能基を有する第1のFポリマー(重合開始剤に由来する極性官能基をポリマーの主鎖の末端基に有するポリマー(1)等)をフッ素化処理して製造してもよい。フッ素化処理の方法としては、フッ素ガスを使用する方法(特開2019-194314号公報等を参照)が挙げられる。 The polymer (2) may be produced by using a polymerization initiator, a chain transfer agent, or the like that does not generate a polar functional group as the terminal group of the polymer chain, and the first F polymer having a polar functional group (polymerization initiation). A polymer (1) or the like having a polar functional group derived from the agent at the terminal group of the main chain of the polymer may be fluorinated to produce the polymer. Examples of the fluorination treatment method include a method using fluorine gas (see JP-A-2019-194314).

本発明における第1のF粒子は、第1のFポリマーを含有する粒子であり、第1のF粒子中の第1のFポリマーの含有量は、80質量%以上が好ましく、100質量%がより好ましい。
第1のF粒子は、第1のFポリマーとは異なるポリマーを含んでもよい。異なるポリマーとしては、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、マレイミドが挙げられる。
第1のF粒子は、無機物を含んでもよい。無機物としては、酸化物、窒化物、金属単体、合金及びカーボンが好ましく、酸化ケイ素(シリカ)、金属酸化物(酸化ベリリウム、酸化セリウム、アルミナ、ソーダアルミナ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)、窒化ホウ素、及びメタ珪酸マグネシウム(ステアタイト)がより好ましく、シリカ及び窒化ホウ素がさらに好ましく、シリカが特に好ましい。この場合、本フィルムが電気特性、低線膨張性及びUV吸水性に優れやすい。無機物を含むF粒子は、Fポリマーをコアとし、このコアの表面に、無機物を有するのが好ましい。かかるF粒子は、例えば、Fポリマーの粒子と無機物の粒子とを合着(衝突、凝集等)させて得られる。
The first F particle in the present invention is a particle containing the first F polymer, and the content of the first F polymer in the first F particle is preferably 80% by mass or more, preferably 100% by mass. More preferred.
The first F particle may contain a polymer different from that of the first F polymer. Different polymers include aromatic polyesters, polyamideimides, polyimides, polyphenylene ethers, polyphenylene oxides, maleimides.
The first F particle may contain an inorganic substance. As the inorganic substance, oxides, nitrides, simple metals, alloys and carbons are preferable, and silicon oxide (silica) and metal oxides (beryllium oxide, cerium oxide, alumina, soda alumina, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.) are preferable. , Boron nitride, and magnesium metasilicate (steatite) are more preferred, silica and boron nitride are even more preferred, and silica is particularly preferred. In this case, this film tends to be excellent in electrical characteristics, low line expandability and UV water absorption. The F particles containing an inorganic substance preferably have an F polymer as a core and have an inorganic substance on the surface of the core. Such F particles are obtained, for example, by coalescing (collision, agglomeration, etc.) of F polymer particles and inorganic particles.

第1のF粒子はペレット状であってもよく、粉体状であってもよい。第1のF粒子は粉体状であるのが好ましい。
粉体状の第1のF粒子のD50は、50μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、8μm以下がさらに好ましい。第1のF粒子のD50は、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、1μm以上がさらに好ましい。また、第1のF粒子のD90は、100μm未満が好ましく、90μm以下がより好ましい。
粉体状の第1のF粒子の比表面積は、1~8m/gが好ましく、1~5m/gがより好ましく、1~3m/gがさらに好ましい。
粉体状の第1のF粒子のD50、D90及び比表面積が、上記範囲にあれば、溶融混練物を形成する際に、AR粒子との混合を円滑に行いやすい。
The first F particles may be in the form of pellets or powders. The first F particles are preferably in the form of powder.
The D50 of the powdery first F particles is preferably 50 μm or less, more preferably 20 μm or less, still more preferably 8 μm or less. The D50 of the first F particle is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, still more preferably 1 μm or more. The D90 of the first F particle is preferably less than 100 μm, more preferably 90 μm or less.
The specific surface area of the powdery first F particles is preferably 1 to 8 m 2 / g, more preferably 1 to 5 m 2 / g, and even more preferably 1 to 3 m 2 / g.
When the powdery first F particles D50, D90 and the specific surface area are within the above ranges, it is easy to smoothly mix the powdery first F particles with the AR particles when forming the melt-kneaded product.

本発明におけるARポリマーとしては、液晶ポリエステル、ポリフタルアミド、芳香族ポリエーテルケトン、シンジオタクチックポリスチレン、芳香族ポリイミド、芳香族マレイミド、芳香族ビスマレイミド、ポリフェニレンエーテル、スチレンエラストマー等の芳香族エラストマー又は芳香族ポリアミック酸が好ましく、芳香族ポリイミド又は芳香族ポリアミック酸がより好ましい。
芳香族ポリイミドは、熱可塑性であってもよく、非熱可塑性であってもよい。熱可塑性ポリイミドとは、イミド化が完了した、イミド化反応がさらに生じないポリイミドを意味する。
中でも、ARポリマーとしては、非熱可塑性ポリイミドが好ましい。かかる非熱可塑性ポリイミドを使用すれば、本フィルム中において、目的とするドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。このため、本フィルムは、より優れたUV加工性を発揮できる。
The AR polymer in the present invention includes aromatic elastomers such as liquid crystal polyester, polyphthalamide, aromatic polyetherketone, syndiotactic polystyrene, aromatic polyimide, aromatic maleimide, aromatic bismaleimide, polyphenylene ether, and styrene elastomer. Aromatic polyamic acid is preferable, and aromatic polyimide or aromatic polyamic acid is more preferable.
The aromatic polyimide may be thermoplastic or non-thermoplastic. The thermoplastic polyimide means a polyimide that has been imidized and does not undergo a further imidization reaction.
Among them, the non-thermoplastic polyimide is preferable as the AR polymer. If such a non-thermoplastic polyimide is used, an island domain having a target domain diameter is likely to be formed in this film. Therefore, this film can exhibit more excellent UV processability.

本明細書中では、「非熱可塑性ポリイミド」とは、モノマーを組み合わせ、溶液重合させて得られる溶液(ポリイミド前駆体の溶液)を乾燥させ、さらにイミド化させて形成される成形体(フィルム等)を450℃にて1分間加熱した際、形状が保持されるポリイミドと定義する。上記成形体を450℃にて1分間加熱した際に、シワ又は伸びにより変形したり融着したりするポリイミドは「熱可塑性ポリイミド」とする。 In the present specification, the term "non-thermoplastic polyimide" refers to a molded product (film or the like) formed by combining monomers, drying a solution obtained by solution polymerization (solution of a polyimide precursor), and further imidizing the solution. ) Is defined as a polyimide that retains its shape when heated at 450 ° C. for 1 minute. When the molded product is heated at 450 ° C. for 1 minute, the polyimide that is deformed or fused due to wrinkles or elongation is referred to as “thermoplastic polyimide”.

熱可塑性ポリイミドの具体例としては、「ネオプリム(登録商標)」シリーズ(三菱ガス化学社製)、「スピクセリア(登録商標)」シリーズ(ソマール社製)、「Q-PILON(登録商標)」シリーズ(ピーアイ技術研究所製)、「WINGO」シリーズ(ウィンゴーテクノロジー社製)、「トーマイド(登録商標)」シリーズ(T&K TOKA社製)、「KPI-MX」シリーズ(河村産業社製)、「ユピア(登録商標)-AT」シリーズ(宇部興産社製)が挙げられる。 Specific examples of thermoplastic polyimides include "Neoprim (registered trademark)" series (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), "Spixeria (registered trademark)" series (manufactured by Somar), and "Q-PILON (registered trademark)" series ( PI Technology Research Institute), "WINGO" series (Wingo Technology), "Toamide (registered trademark)" series (T & K TOKA), "KPI-MX" series (Kawamura Sangyo), "Yupia (" Registered trademark) -AT "series (manufactured by Ube Kosan Co., Ltd.) can be mentioned.

非熱可塑性ポリイミドは、非熱可塑性ブロック部位を含むのが好ましい。
非熱可塑性ブロック部位とは、ブロック部位を構成するモノマーのみを溶液重合して得られたポリイミド前駆体を、上述した非熱可塑性ポリイミドの定義における方法と同様の方法で評価した場合、形状が保持されるポリイミドを形成する、モノマーの組み合せから形成されるブロック部位を意味する。
The non-thermoplastic polyimide preferably contains a non-thermoplastic block moiety.
The non-thermoplastic block site is a polyimide precursor obtained by solution-polymerizing only the monomers constituting the block site, and the shape is retained when evaluated by the same method as the method in the above-mentioned definition of non-thermoplastic polyimide. It means a block portion formed from a combination of monomers that forms the polyimide to be formed.

一方、熱可塑性ブロック部位とは、ブロック部位を構成するモノマーのみを溶液重合して得られたポリイミド前駆体から、上述した非熱可塑性ポリイミドの定義における方法と同様の方法で評価した場合、形状が保持されないポリイミドを形成する、モノマーの組み合せから形成されるブロック部位を意味する。
なお、ブロック部位が、熱可塑性であるか非熱可塑性であるか判断する際に、剛直なモノマーの組み合わせを選定すると成形体が破断又は粉々に割れてしまう場合がある。この場合は、その破片を集めて加熱して、その形状の保持状態から判断すればよい。
On the other hand, the thermoplastic block site has a shape when evaluated from a polyimide precursor obtained by solution-polymerizing only the monomers constituting the block site by the same method as the method in the above-mentioned definition of non-thermoplastic polyimide. It means a block site formed from a combination of monomers that forms a non-retained polyimide.
When determining whether the block portion is thermoplastic or non-thermoplastic, if a combination of rigid monomers is selected, the molded product may be broken or shattered. In this case, the debris may be collected and heated, and the shape may be determined from the holding state.

非熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度は、280℃以上が好ましく、290℃以上がより好ましい。上記ガラス転移温度は、450℃以下が好ましく、400℃以下がより好ましい。この場合、より低温での溶融押出成形により、本フィルムを成形できる。
非熱可塑性ポリイミドのイミド基密度は、0.20~0.35が好ましい。イミド基密度が上記上限以下であれば、非熱可塑性ポリイミドの吸水率がより低くなり、本フィルムの電気特性(特に、誘電特性)の変化をより抑制しやすい。上記イミド基密度が上記下限以上であれば、イミド基が極性基として機能して、本フィルムの密着性がより向上するだけでなく、吸水率が顕著に低下しやすい。
The glass transition temperature of the non-thermoplastic polyimide is preferably 280 ° C. or higher, more preferably 290 ° C. or higher. The glass transition temperature is preferably 450 ° C. or lower, more preferably 400 ° C. or lower. In this case, this film can be molded by melt extrusion molding at a lower temperature.
The imide group density of the non-thermoplastic polyimide is preferably 0.20 to 0.35. When the imide group density is not more than the above upper limit, the water absorption rate of the non-thermoplastic polyimide becomes lower, and it is easier to suppress the change in the electrical characteristics (particularly the dielectric characteristics) of the present film. When the imide group density is equal to or higher than the above lower limit, the imide group functions as a polar group, and not only the adhesion of the film is further improved, but also the water absorption rate is likely to be significantly reduced.

なお、イミド基密度は、ポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドにおいて、イミド基部分の単位当たり分子量(140.1)をポリイミドの単位当たり分子量で除した値である。例えば、ピロメリット酸二無水物(分子量:218.1)の1モルと3,4’-オキシジアニリン(分子量:200.2)の1モルとの2成分からなるポリイミド前駆体をイミド化したポリイミド(単位当たりの分子量:382.2)のイミド基密度は、140.1を382.2で除した値である0.37となる。 The imide group density is a value obtained by dividing the molecular weight per unit (140.1) of the imide group portion by the molecular weight per unit of the polyimide in the polyimide obtained by imidizing the polyimide precursor. For example, a polyimide precursor consisting of two components, 1 mol of pyromellitic dianhydride (molecular weight: 218.1) and 1 mol of 3,4'-oxydianiline (molecular weight: 200.2), was imidized. The imide group density of polyimide (molecular weight per unit: 382.2) is 0.37, which is the value obtained by dividing 140.1 by 382.2.

非熱可塑性ポリイミドは、2,2’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、パラフェニレンジアミン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’-n-プロピル-4,4’-ジアミノビフェニル及び4-アミノフェニル-4’-アミノベンゾエートからなる群より選択される複数の芳香族ジアミンと、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,2',3'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、1,4-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル)二無水物、p-フェニレンビス(トリテート無水物)、1,4-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル)二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、及び2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物からなる群より選択される複数の芳香族酸二無水物とから形成される単位を含むのが好ましい。この場合、非熱可塑性ポリイミドの非熱可塑性が向上し、本フィルムの密着性がより向上するだけでなく、吸水率が顕著に低下しやすい。
非熱可塑性ポリイミドは、全単位に対して、上記単位を80モル%以上含むのが好ましい。その上限は、100モル%である。
Non-thermoplastic polyimides are 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, paraphenylenediamine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,2'-dimethyl-. 4,4'-Diaminobiphenyl, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4 '-Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-(1,3-phenylenediisopropyridene) bisaniline, 2,2'-n-propyl-4,4'-diaminobiphenyl and 4-amino Multiple aromatic diamines selected from the group consisting of phenyl-4'-aminobenzoate, pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3. 3', 4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,2', 3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4, 4'-Benzenephenone tetracarboxylic acid dianhydride, 1,4-phenylenebis (trimellitic acid monoester) dianhydride, p-phenylenebis (tritate anhydride), 1,4-phenylenebis (trimellitic acid monoester) ) A plurality of aromatics selected from the group consisting of dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid dianhydride, and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride. It preferably contains a unit formed from the group acid benzene. In this case, the non-thermoplasticity of the non-thermoplastic polyimide is improved, and not only the adhesion of the present film is further improved, but also the water absorption rate tends to be significantly lowered.
The non-thermoplastic polyimide preferably contains 80 mol% or more of the above units with respect to all the units. The upper limit is 100 mol%.

さらに、非熱可塑性ポリイミドは、メタフェニレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、ベンジジン、3,3’-ジメトキシベンジジン、パラキシリレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(3-メチル-5-アミノフェニル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン等の他のジアミンを単位のモノマー成分としていてもよい。これらの他のジアミンは、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 In addition, non-thermoplastic polyimides include metaphenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, benzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, paraxylylene diamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4. , 4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (3-methyl-5-aminophenyl) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4- Bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-bis (trifluoromethyl) ) Other diamines such as benzidine and 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane may be used as the unit monomer component. These other diamines may be used alone or in combination of two or more.

さらに、非熱可塑性ポリイミドは、ピロメリット酸、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸、ピリジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸、4,4’-オキシジフタル酸、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸、5,5’-[1-メチル-1,1-エタンジイルビス(1,4-フェニレン)ビスオキシ]ビス(イソベンゾフラン-1,3-ジオン)、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物等の他のテトラカルボン酸又はその誘導体を単位のモノマー成分としていてもよい。これらの他のテトラカルボン酸又はその誘導体は、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 In addition, non-thermoplastic polyimides include pyromellitic acid, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, 3,3. ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 5,5'-[1- Other tetracarboxylic acids such as methyl-1,1-ethanediylbis (1,4-phenylene) bisoxy] bis (isobenzofuran-1,3-dione), 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, etc. Alternatively, the derivative thereof may be used as a unit monomer component. These other tetracarboxylic acids or derivatives thereof may be used alone or in combination of two or more.

非熱可塑性ポリイミドを製造する際のポリイミド前駆体(ポリアミック酸)の合成は、溶媒存在下に行うのが好ましい。溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-ビニル-2-ピロリドン、フェノール、クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール、ヘキサメチルホスホルアミドが挙げられる。
ポリイミド前駆体は、ポリイミド前駆体を5~40重量%の固形分として含有する溶液に調製するのが好ましい。この場合、溶液の粘度は、100~1000Pa・sが好ましい。また、溶液においてポリイミド前駆体の一部は、イミド化されていてもよい。
The synthesis of the polyimide precursor (polyamic acid) in producing a non-thermoplastic polyimide is preferably carried out in the presence of a solvent. Specific examples of the solvent include dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N. -Vinyl-2-pyrrolidone, phenol, cresol, xylenol, halogenated phenol, catechol, hexamethylphospholamide can be mentioned.
The polyimide precursor is preferably prepared in a solution containing the polyimide precursor as a solid content of 5 to 40% by weight. In this case, the viscosity of the solution is preferably 100 to 1000 Pa · s. Further, a part of the polyimide precursor may be imidized in the solution.

スチレンエラストマーとしては、スチレン-ブタジエン共重合体、水添-スチレン-ブタジエン共重合体、水添-スチレン-イソプレン共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。
本発明におけるAR粒子のD50は、1~10μmであり、2~7μmがより好ましい。この場合、溶融混練物を形成する際に、第1のF粒子との混合を円滑に行いやすい。
芳香族ポリエーテルケトンとしては、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルエーテルケトンケトンが挙げられる。
Examples of the styrene elastomer include styrene-butadiene copolymer, hydrogenated-styrene-butadiene copolymer, hydrogenated-styrene-isoprene copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene-isoprene-styrene block copolymer. Examples thereof include a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-isoprene-styrene block copolymer, and the like.
The D50 of the AR particles in the present invention is 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm. In this case, when forming the melt-kneaded product, it is easy to smoothly mix with the first F particles.
Examples of the aromatic polyetherketone include polyetherketone, polyetheretherketone, polyetherketoneketone, and polyetheretherketoneketone.

本発明における第2のFポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、上記第1のFポリマーのそれらと同様である。また、第2のF粒子の定義及び範囲も、好適な態様も含めて、上記第1のF粒子のそれらと同様である。
なお、第2のFポリマーは、上述したように、第1のFポリマーと同じFポリマーであるのが好ましい。
第2のF粒子はペレット状であるのが好ましい。
The definition and scope of the second F polymer in the present invention are the same as those of the first F polymer, including preferred embodiments. In addition, the definition and scope of the second F particle are the same as those of the first F particle, including preferred embodiments.
As described above, the second F polymer is preferably the same F polymer as the first F polymer.
The second F particle is preferably in the form of pellets.

本法における溶融混練物は、第1のF粒子及びAR粒子を溶融混錬して得られる。溶融混練物は、例えば、押出機内に、第1のF粒子とAR粒子とを投入し、押出機内において、第1のF粒子とAR粒子との混合物を加熱により溶融しつつ混練して得られる。第1のF粒子とAR粒子は、あらかじめブレンダーで混合し、押出機内に投入されてもよい。
溶融混練物は、ペレット状であるのが好ましい。かかる場合、本フィルム中において、目的とするドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。このため、本フィルムは、より優れたUV加工性を発揮できる。
The melt-kneaded product in this method is obtained by melt-kneading the first F particles and AR particles. The melt-kneaded product is obtained, for example, by charging the first F particles and AR particles into an extruder and kneading the mixture of the first F particles and AR particles in the extruder while melting the mixture by heating. .. The first F particles and AR particles may be mixed in advance with a blender and charged into the extruder.
The melt-kneaded product is preferably in the form of pellets. In such a case, an island domain having a target domain diameter is likely to be formed in this film. Therefore, this film can exhibit more excellent UV processability.

本法における溶融押出成形は、ダイコート法(Tダイによる溶融押出成形)を用いるのが好ましい。ダイコート法は、具体的には、次のようにして行われる。
まず、Tダイに接続された押出機内に、第1のF粒子及びAR粒子の溶融混練物と、第2のF粒子とが投入される。次に、押出機内において、上記溶融混練物と第2のF粒子との混合物が加熱により溶融されつつ混練され、溶融混練物が得られる。
次に、この溶融混練物は、Tダイ内に供給され、Tダイのリップ(吐出口)から吐出される。その後、吐出された溶融混練物は、Tダイの鉛直下方に配置された最初の冷却ロールに接触することにより、冷却されてフィルム化される。次に、フィルム化された溶融混練物は、さらに下流側に配置された他の冷却ロール及び搬送ロールに接触しつつ搬送され、最終的に、本フィルムとして巻取りロールに巻き取られる。
As the melt extrusion molding in this method, it is preferable to use the die coating method (melt extrusion molding by T-die). Specifically, the die coat method is performed as follows.
First, the melt-kneaded product of the first F particles and the AR particles and the second F particles are put into the extruder connected to the T die. Next, in the extruder, the mixture of the melt-kneaded product and the second F particles is kneaded while being melted by heating to obtain a melt-kneaded product.
Next, this melt-kneaded product is supplied into the T-die and discharged from the lip (discharge port) of the T-die. After that, the discharged melt-kneaded product is cooled and formed into a film by contacting with the first cooling roll arranged vertically below the T-die. Next, the melt-kneaded product formed into a film is conveyed while being in contact with other cooling rolls and transport rolls arranged further downstream, and finally is taken up by a take-up roll as the present film.

第1のF粒子及びAR粒子の溶融混練物と、第2のF粒子は、あらかじめブレンダーで混合され、押出機内に投入されるのが好ましい。
最初の冷却ロールの温度は、150~250℃が好ましい。この場合、溶融混練物を急冷できるので、本フィルム中において、Fポリマーの小球晶が形成されやすく、よって、ARポリマーによる適度なドメイン径を有する島ドメインも形成されやすい。
この急冷効果を高める観点から、最初の冷却ロールの直後の位置には、フィルム化された溶融混練物に対して、スリットノズルからスリット状空気流を吹き付けるエアーナイフを設けるようにしてもよい。
この場合、エアーナイフから吹き出す空気の温度は、150~200℃が好ましく、170~200℃がより好ましい。また、エアーナイフから吹き出す空気の流速は、10~20m/秒が好ましい。
It is preferable that the melt-kneaded product of the first F particles and the AR particles and the second F particles are mixed in advance with a blender and charged into the extruder.
The temperature of the first cooling roll is preferably 150-250 ° C. In this case, since the melt-kneaded product can be rapidly cooled, small spherulites of the F polymer are likely to be formed in the present film, and therefore island domains having an appropriate domain diameter due to the AR polymer are also likely to be formed.
From the viewpoint of enhancing this quenching effect, an air knife that blows a slit-shaped air flow from the slit nozzle to the film-formed melt-kneaded material may be provided at a position immediately after the first cooling roll.
In this case, the temperature of the air blown from the air knife is preferably 150 to 200 ° C, more preferably 170 to 200 ° C. The flow velocity of the air blown from the air knife is preferably 10 to 20 m / sec.

また、同様の観点から、Tダイから吐出された溶融混練物を、最初の冷却ロールに接触するまでの間、その温度を高く維持する非接触式加熱部を設けるようにしてもよい。非接触式加熱部は、例えば、対向配置された一対のヒータ等で構成し、それらの間に溶融混練物を通過させるように構成することができる。
この場合、Tダイ内における溶融混練物の温度をA[℃]、非接触式加熱部の温度をB[℃]と規定したとき、その差の絶対値(|A-B|)は、70℃以下が好ましく、30~50℃がより好ましい。この場合、Fポリマー及びARポリマーの変質を防止しつつ、溶融混練物の温度を、最初の冷却ロールに至るまで充分に高く維持できる。
Further, from the same viewpoint, a non-contact heating unit may be provided to maintain the temperature of the melt-kneaded product discharged from the T-die until it comes into contact with the first cooling roll. The non-contact heating unit may be composed of, for example, a pair of heaters arranged so as to face each other, and may be configured to allow a molten kneaded product to pass between them.
In this case, when the temperature of the melt-kneaded product in the T-die is defined as A [° C.] and the temperature of the non-contact heating unit is defined as B [° C.], the absolute value (| AB |) of the difference is 70. The temperature is preferably below ° C, more preferably 30 to 50 ° C. In this case, the temperature of the melt-kneaded product can be maintained sufficiently high up to the first cooling roll while preventing deterioration of the F polymer and the AR polymer.

得られる本フィルムは、Fポリマー(第1のFポリマー及び第2のFポリマー)の海ドメインとARポリマーの島ドメインとを含み、ARポリマーの含有量が、10質量%以下であり、島ドメインの平均ドメイン径が、1~10μmである。そして、本フィルムを厚さ25μmに形成したとき、この厚さ25μmの本フィルムにおける波長355nmの光線の透過率が、80%以下である。
本フィルムにおけるFポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、本法における第1のFポリマーのそれらと同様である。また、本フィルムにおけるARポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、本法におけるARポリマーのそれらと同様である。
上述したように、本フィルムでは、ARポリマーの含有量が少なくとも、適度なドメイン径を有する島ドメインを含むため、高いUV吸収性を有する。
The obtained film contains a sea domain of F polymer (first F polymer and second F polymer) and an island domain of AR polymer, and the content of AR polymer is 10% by mass or less, and the island domain. The average domain diameter of is 1 to 10 μm. When the present film is formed to have a thickness of 25 μm, the transmittance of light rays having a wavelength of 355 nm in this film having a thickness of 25 μm is 80% or less.
The definition and scope of the F polymer in this film is similar to that of the first F polymer in this method, including suitable embodiments. In addition, the definition and scope of the AR polymer in the present film are the same as those of the AR polymer in the present method, including suitable embodiments.
As described above, this film has high UV absorption because the content of the AR polymer contains at least an island domain having an appropriate domain diameter.

本フィルムにおけるARポリマーの含有量は、0.1~5質量%が好ましく、0.3~4質量%がより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、Fポリマーに基づく特性(電気特性等)が低下するのを防止しつつ、充分に高いUV吸収性を付与できる。
また、島ドメインの平均ドメイン径は、3~7μmが好ましい。この場合、光線(UV)が本フィルム(島ドメイン)により効果的に侵入できるため、本フィルムのUV吸収性がより向上する。
The content of the AR polymer in this film is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.3 to 4% by mass. In this case, in this film, it is possible to impart sufficiently high UV absorption while preventing the properties (electrical properties, etc.) based on the F polymer from deteriorating.
The average domain diameter of the island domain is preferably 3 to 7 μm. In this case, since the light rays (UV) can be effectively penetrated by the film (island domain), the UV absorption of the film is further improved.

厚さ25μmの本フィルムにおける波長355nmの光線の透過率(以下、「光線透過率」とも記す。)は、70%以下が好ましく、60%以下がより好ましい。光線透過率の下限は、0%である。この場合、本フィルムは、充分に高いUV吸収性を有すると判断できる。
また、厚さ25μmの押出成形フィルムの面内において、光線透過率の最大値と最小値との差は、7%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。この場合、本フィルムは、均質な特性を有すると判断できる。なお、光線透過率の最大値と最小値との差の下限は、通常、1%以上である。
The transmittance of light having a wavelength of 355 nm (hereinafter, also referred to as “light transmittance”) in this film having a thickness of 25 μm is preferably 70% or less, more preferably 60% or less. The lower limit of the light transmittance is 0%. In this case, it can be determined that this film has sufficiently high UV absorption.
Further, in the plane of the extruded film having a thickness of 25 μm, the difference between the maximum value and the minimum value of the light transmittance is preferably 7% or less, more preferably 5% or less. In this case, it can be determined that this film has homogeneous properties. The lower limit of the difference between the maximum value and the minimum value of the light transmittance is usually 1% or more.

本フィルムの厚さは、島ドメインの平均ドメイン径の2倍超であるのが好ましく、4倍超であるのがより好ましく、6倍超であるのがさらに好ましい。本フィルムの厚さは、島ドメインの平均ドメイン径の15倍以下であるのが好ましく、10倍以下であるのがより好ましい。この場合、本フィルムのUV吸収性をより高めることができる。
本フィルムの具体的な厚さは、5~150μmが好ましく、10~100μmがより好ましく、20~50μmがさらに好ましい。
The thickness of the present film is preferably more than twice, more preferably more than four times, and even more preferably more than six times the average domain diameter of the island domain. The thickness of this film is preferably 15 times or less, more preferably 10 times or less, the average domain diameter of the island domain. In this case, the UV absorption of this film can be further enhanced.
The specific thickness of this film is preferably 5 to 150 μm, more preferably 10 to 100 μm, and even more preferably 20 to 50 μm.

本フィルムは、2つのFポリマー及びARポリマー以外の他の成分を含んでいてもよい。本法においては、他の成分を、溶融混練物に混合してもよく、第2のF粒子に混合してもよく、溶融混練物及び第2のF粒子の双方に混合してもよい。
他の成分としては、無機フィラー、有機フィラー、上記ポリマー以外の他の樹脂、チキソ性付与剤、消泡剤、シランカップリング剤、脱水剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、難燃剤等が挙げられる。
The film may contain components other than the two F-polymers and AR polymers. In this method, other components may be mixed with the melt-kneaded product, the second F particles, or both the melt-kneaded product and the second F particles.
Other components include inorganic fillers, organic fillers, resins other than the above polymers, thixo-imparting agents, defoaming agents, silane coupling agents, dehydrating agents, plasticizers, weather resistant agents, antioxidants, heat stabilizers. , Lubricants, antistatic agents, whitening agents, colorants, conductive agents, mold release agents, surface treatment agents, viscosity modifiers, flame retardants and the like.

無機フィラーは、窒化物フィラー又は無機酸化物フィラーが好ましく、窒化ホウ素フィラー、ベリリアフィラー(ベリリウムの酸化物のフィラー)、ケイ酸塩フィラー(シリカフィラー、ウォラストナイトフィラー、タルクフィラー)、又は金属酸化物(酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)フィラーがより好ましく、シリカフィラーがさらに好ましい。
無機フィラーは、その表面の少なくとも一部が、シランカップリング剤(3-アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等)で表面処理されているのが好ましい。
The inorganic filler is preferably a nitride filler or an inorganic oxide filler, and is preferably a boron nitride filler, a beryllia filler (a filler of an oxide of beryllium), a silicate filler (silica filler, a wollastonite filler, a talc filler), or a metal. Oxide (cerium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.) fillers are more preferable, and silica fillers are even more preferable.
At least a part of the surface of the inorganic filler is a silane coupling agent (3-aminopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3). -It is preferable that the surface is treated with (methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-isocyandiapropyltriethoxysilane, etc.).

無機フィラーのD50は、20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。D50は、0.01μm以上が好ましく、0.1μm以上がより好ましい。
無機フィラーの形状は、粒状、針状(繊維状)、板状のいずれであってもよい。無機フィラーの具体的な形状としては、球状、鱗片状、層状、葉片状、杏仁状、柱状、鶏冠状、等軸状、葉状、雲母状、ブロック状、平板状、楔状、ロゼット状、網目状、角柱状が挙げられる。
無機フィラーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The D50 of the inorganic filler is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less. The D50 is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more.
The shape of the inorganic filler may be granular, needle-shaped (fibrous), or plate-shaped. Specific shapes of the inorganic filler include spherical, scaly, layered, leafy, apricot kernel, columnar, chicken crown, equiaxed, leafy, mica, block, flat plate, wedge, rosette, and mesh. The shape and the prismatic shape can be mentioned.
As the inorganic filler, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

無機フィラーの好適な具体例としては、シリカフィラー(アドマテックス社製の「アドマファイン(登録商標)」シリーズ等)、ジカプリン酸プロピレングリコール等のエステルで表面処理された酸化亜鉛(堺化学工業株式会社製の「FINEX(登録商標)」シリーズ等)、球状溶融シリカ(デンカ社製の「SFP(登録商標)」シリーズ等)、多価アルコール及び無機物で被覆処理された(石原産業社製の「タイペーク(登録商標)」シリーズ等)、アルキルシランで表面処理されたルチル型酸化チタン(テイカ社製の「JMT(登録商標)」シリーズ等)、中空状シリカフィラー(太平洋セメント社製の「E-SPHERES」シリーズ、日鉄鉱業社製の「シリナックス」シリーズ、エマーソン・アンド・カミング社製「エココスフイヤー」シリーズ等)、タルクフィラー(日本タルク社製の「SG」シリーズ等)、ステアタイトフィラー(日本タルク社製の「BST」シリーズ等)、窒化ホウ素フィラー(昭和電工社製の「UHP」シリーズ、デンカ社製の「デンカボロンナイトライド」シリーズ(「GP」、「HGP」グレード)等)が挙げられる。 Suitable specific examples of the inorganic filler include silica filler (“Admafine (registered trademark)” series manufactured by Admatex Co., Ltd.), zinc oxide surface-treated with an ester such as propylene glycol dicaprate (Sakai Chemical Industry Co., Ltd.). "FINEX (registered trademark)" series manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), spherical molten silica ("SFP (registered trademark)" series manufactured by Denka Co., Ltd., etc.), coated with polyhydric alcohol and inorganic substances ("Typake" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (Registered trademark) "series, etc.), rutile-type titanium oxide surface-treated with alkylsilane ("JMT (registered trademark) "series manufactured by Teika Co., Ltd.), hollow silica filler ("E-SPHERES" manufactured by Pacific Cement Co., Ltd.) Series, "Sirinax" series manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd., "Ecocos Fire" series manufactured by Emerson & Cumming, etc.), Tarkufiller ("SG" series manufactured by Nippon Tarku Co., Ltd., etc.), Steatite Filler (Nippon Tarku) "BST" series manufactured by Denka Co., Ltd.), boron nitride filler ("UHP" series manufactured by Showa Denko Co., Ltd., "Denka Boron Nightride" series manufactured by Denka Co., Ltd. ("GP", "HGP" grade), etc.). ..

他の樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、多官能シアン酸エステル樹脂、多官能マレイミド-シアン酸エステル樹脂、多官能性マレイミド樹脂、ビニルエステル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン、ポリアリルスルホンが挙げられる。 Other resins include epoxy resin, acrylic resin, phenol resin, polyolefin resin, modified polyphenylene ether resin, polyfunctional cyanic acid ester resin, polyfunctional maleimide-cyanic acid ester resin, polyfunctional maleimide resin, vinyl ester resin, urea. Examples thereof include resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, melamine-urea cocondensation resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polysulfone, and polyallylsulfone.

本フィルムと金属箔とを加熱圧着することにより、ポリマー層と金属箔層とを有する金属張積層体を製造できる。
金属張積層体は、ポリマー層及び金属箔層以外の他の層を含んでもよい。他の層としては、耐熱性樹脂層が挙げられる。
かかる金属張積層体の層構成の具体例としては、金属箔層/ポリマー層/耐熱性樹脂層、金属箔層/ポリマー層/耐熱性樹脂層/ポリマー層/金属箔層、金属箔層/耐熱性樹脂層/ポリマー層/耐熱性樹脂層/金属箔層が挙げられる。
金属箔としては、銅箔が好ましい。銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔が挙げられる。銅箔には、亜鉛クロメート等の防錆層、ニッケル、コバルト等のバリア層が形成されていてもよい。また、バリア層は、めっき処理により形成されてもよく、化成処理によって形成されてもよい。
By heat-pressing the film and the metal foil, a metal-clad laminate having a polymer layer and a metal foil layer can be manufactured.
The metal-clad laminate may include layers other than the polymer layer and the metal foil layer. Examples of the other layer include a heat-resistant resin layer.
Specific examples of the layer structure of the metal-clad laminate include a metal foil layer / polymer layer / heat-resistant resin layer, a metal foil layer / polymer layer / heat-resistant resin layer / polymer layer / metal foil layer, and a metal foil layer / heat-resistant layer. Examples thereof include a sex resin layer / a polymer layer / a heat-resistant resin layer / a metal foil layer.
As the metal foil, copper foil is preferable. Examples of the copper foil include rolled copper foil and electrolytic copper foil. The copper foil may be formed with a rust preventive layer such as zinc chromate and a barrier layer such as nickel and cobalt. Further, the barrier layer may be formed by a plating treatment or a chemical conversion treatment.

金属箔層とポリマー層との密着性を向上させる観点から、金属箔層の表面は、シランカップリング剤で処理されていてもよい。シランカップリング剤としては、エポキシシラン、アミノシラン、ビニルシラン、アクリロキシシラン、メタクリロキシシラン、ウレイドシラン、メルカプトシラン、スルフィドシラン、イソシアネートシランが挙げられ、アクリロキシシラン、メタクリロキシシラン、エポキシシランが好ましい。シランカップリング剤は、1種を使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
金属箔層のポリマー層側の表面のRzjisは、0.3~1.6が好ましい。Rzjisが0.3以上であれば、UV-YAGレーザーによる孔開け加工時に金属箔層とポリマー層との間で層間剥離が生じにくい。Rzjisが1.6以下であれば、粗さに起因する伝送損失の増大を抑制できる。
金属箔層の厚さは、3~18μmが好ましく、6~12μmがより好ましい。
From the viewpoint of improving the adhesion between the metal foil layer and the polymer layer, the surface of the metal foil layer may be treated with a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include epoxysilane, aminosilane, vinylsilane, acryloxysilane, methacrylicoxysilane, ureidosilane, mercaptosilane, sulfidesilane and isocyanatesilane, and acryloxysilane, methacrylatesilane and epoxysilane are preferable. One type of silane coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.
The Rzjis on the surface of the metal foil layer on the polymer layer side is preferably 0.3 to 1.6. When Rzjis is 0.3 or more, delamination is unlikely to occur between the metal foil layer and the polymer layer during drilling with a UV-YAG laser. When Rzjis is 1.6 or less, an increase in transmission loss due to roughness can be suppressed.
The thickness of the metal foil layer is preferably 3 to 18 μm, more preferably 6 to 12 μm.

ポリマー層の誘電正接は、0.0005~0.0040が好ましく、0.0007~0.0030がより好ましい。誘電正接が低いほどポリマー層の電気特性がより優れる。
ポリマー層の厚さは、1~50μmが好ましく、2~25μmがより好ましい。ポリマー層の厚さが上記下限値以上であれば、伝送損失が小さいプリント配線板を得やすい。ポリマー層の厚さが上記上限値以下であれば、UV加工性がより向上する。なお、金属張積層体が複数のポリマー層を有する場合、それぞれの厚さを上記範囲内とするのが好ましい。
The dielectric loss tangent of the polymer layer is preferably 0.0005 to 0.0040, more preferably 0.0007 to 0.0030. The lower the dielectric loss tangent, the better the electrical properties of the polymer layer.
The thickness of the polymer layer is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 25 μm. When the thickness of the polymer layer is at least the above lower limit value, it is easy to obtain a printed wiring board having a small transmission loss. When the thickness of the polymer layer is not more than the above upper limit value, the UV processability is further improved. When the metal-clad laminate has a plurality of polymer layers, it is preferable that the thickness of each is within the above range.

耐熱性樹脂層の構成材料(耐熱樹脂材料)としては、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンオキシド、ポリエステル、ポリアミド、アラミド繊維が挙げられる。中でも、耐熱樹脂材料としては、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンオキシド及びアラミド繊維からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ポリイミド又は液晶ポリマーがより好ましい。
耐熱性樹脂層は、UV加工性を高める観点から、異種材料が少ない方が好ましく、上記非熱可塑性ポリイミド単独で構成されるのが好ましい。
金属張積層体が耐熱性樹脂層を有する場合、耐熱性樹脂層の厚さ(複数の場合、合計厚さ)に対するポリマー層の厚さ(複数の場合、合計厚さ)の比は、0.5~2が好ましい。この場合、ポリマー層のUV-YAGレーザーによる孔開け加工が容易になり、また、伝送損失も低減しやすい。
Examples of the constituent material (heat-resistant resin material) of the heat-resistant resin layer include polyimide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyphenylene oxide, polyester, polyamide, and aramid fiber. Among them, as the heat-resistant resin material, at least one selected from the group consisting of polyimide, liquid crystal polymer, polyetheretherketone, polyphenylene oxide and aramid fiber is preferable, and polyimide or liquid crystal polymer is more preferable.
From the viewpoint of enhancing UV processability, the heat-resistant resin layer preferably contains less dissimilar materials, and is preferably composed of the non-thermoplastic polyimide alone.
When the metal-clad laminate has a heat-resistant resin layer, the ratio of the thickness of the polymer layer (total thickness in the case of a plurality of cases) to the thickness of the heat-resistant resin layer (total thickness in the case of a plurality of cases) is 0. 5 to 2 is preferable. In this case, the polymer layer can be easily drilled by the UV-YAG laser, and the transmission loss can be easily reduced.

金属張積層体の厚さは、10~150μmが好ましく、15~100μmがより好ましく、20~50μmがさらに好ましい。この場合、金属張積層体をプリント配線板としてより安定して使用でき、UV-YAGレーザーにより貫通孔を形成しやすい。
貫通孔の開口形状としては、円形状が好ましい。この場合、直径を0.05~0.10mmの範囲に設定できる。
貫通孔の数は、1つでもよく、2つ以上でもよい。
貫通孔の内壁面には、必要に応じてメッキ層を形成してもよい。例えば、プリント配線板が厚さ方向の両側に導体を有する場合、貫通孔の内壁面にメッキ層を形成すれば、互いの導体同士の間の導通を確保できる。
The thickness of the metal-clad laminate is preferably 10 to 150 μm, more preferably 15 to 100 μm, still more preferably 20 to 50 μm. In this case, the metal-clad laminate can be used more stably as a printed wiring board, and a through hole can be easily formed by a UV-YAG laser.
The opening shape of the through hole is preferably a circular shape. In this case, the diameter can be set in the range of 0.05 to 0.10 mm.
The number of through holes may be one or two or more.
A plating layer may be formed on the inner wall surface of the through hole, if necessary. For example, when the printed wiring board has conductors on both sides in the thickness direction, if a plating layer is formed on the inner wall surface of the through hole, conduction between the conductors can be ensured.

メッキ層としては、銅メッキ層、金メッキ層、ニッケルメッキ層、クロムメッキ層、亜鉛メッキ層、スズメッキ層が挙げられる。
伝送損失は、プリント配線板における、信号の入力部から出力部までの信号の減衰を表すパラメータである。
プリント配線板の伝送損失は、40GHzにおいて、-0.07dB/mm以上が好ましく、-0.06dB/mm以上がより好ましい。
Examples of the plating layer include a copper plating layer, a gold plating layer, a nickel plating layer, a chrome plating layer, a zinc plating layer, and a tin plating layer.
The transmission loss is a parameter representing the attenuation of the signal from the input unit to the output unit of the signal in the printed wiring board.
The transmission loss of the printed wiring board is preferably −0.07 dB / mm or more, and more preferably −0.06 dB / mm or more at 40 GHz.

プリント配線板は、上記金属張積層体に対して、UV-YAGレーザーの照射による孔開け加工で貫通孔を形成する方法により製造できる。
UV-YAGレーザーの波長は、3倍高調波(波長355nm)又は4倍高調波(266nm)が好ましい。
孔開け加工には、UV-YAGレーザー加工機を使用できる。UV-YAGレーザーによる孔開け加工には、トレパニング加工を採用できる。具体的には、貫通孔を形成すべき箇所の周縁に沿って、径を絞ったレーザーを周回させながら照射し、金属張積層体を部分的にくり抜いて貫通孔を形成できる。
The printed wiring board can be manufactured by a method of forming through holes in the metal-clad laminate by drilling holes by irradiating the metal-clad laminate with a UV-YAG laser.
The wavelength of the UV-YAG laser is preferably a third harmonic (wavelength 355 nm) or a fourth harmonic (266 nm).
A UV-YAG laser processing machine can be used for drilling. Trepanning can be used for drilling with a UV-YAG laser. Specifically, it is possible to form a through hole by partially hollowing out the metal-clad laminate by irradiating the laser with a narrowed diameter while orbiting along the peripheral edge of the portion where the through hole should be formed.

レーザーの出力、レーザー照射の周回回数、レーザーの発振周波数は、金属張積層体の厚さに応じて設定できる。
波長355nmのレーザー光を使用する場合、その出力は、0.1~3.0Wが好ましく、0.5~2.0Wがより好ましい。波長266nmのレーザー光を使用する場合、その出力は、0.01~0.5Wが好ましく、0.05~0.3Wがより好ましい。この場合、貫通孔の形成が容易になり、レーザーの熱による樹脂の飛散物も少なくできる。
レーザー照射の周回回数は、5~50回が好ましい。
波長355nmのレーザー光を使用する場合、その発振周波数は、20~80kHzが好ましい。波長266nmのレーザー光を使用する場合、その発振周波数は、1~10kHzが好ましい。
The laser output, the number of laser irradiation laps, and the laser oscillation frequency can be set according to the thickness of the metal-clad laminate.
When a laser beam having a wavelength of 355 nm is used, the output is preferably 0.1 to 3.0 W, more preferably 0.5 to 2.0 W. When a laser beam having a wavelength of 266 nm is used, the output is preferably 0.01 to 0.5 W, more preferably 0.05 to 0.3 W. In this case, the formation of through holes becomes easy, and the amount of resin scattered due to the heat of the laser can be reduced.
The number of laps of laser irradiation is preferably 5 to 50 times.
When a laser beam having a wavelength of 355 nm is used, the oscillation frequency is preferably 20 to 80 kHz. When a laser beam having a wavelength of 266 nm is used, the oscillation frequency is preferably 1 to 10 kHz.

上記金属張積層体は、所定の海島構造を備える本フィルムで作成されたポリマー層を有し、その波長355nmの光線の透過率が制御されている。このため、ポリマー層は、添加剤を用いなくても、UV-YAGレーザーの吸収率が高まり、結果として、電気特性の低下を抑制しつつ、UV-YAGレーザーを用いて容易に小口径の貫通孔を形成できる。
このようにして製造されるプリント配線板は、高周波用途に好適に使用できる。
The metal-clad laminate has a polymer layer made of this film having a predetermined sea-island structure, and the transmittance of light rays having a wavelength of 355 nm is controlled. For this reason, the polymer layer has an increased absorption rate of the UV-YAG laser without the use of additives, and as a result, the UV-YAG laser can easily penetrate a small diameter while suppressing deterioration of the electrical characteristics. Can form holes.
The printed wiring board manufactured in this way can be suitably used for high frequency applications.

以上、本発明の押出成形フィルムの製造方法及び押出成形フィルムについて説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されない。
例えば、本発明の押出成形フィルムの製造方法は、上記実施形態の構成において、他の任意の工程を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の工程と置換されていてよい。
また、本発明の押出成形フィルムは、上記実施形態の構成において、他の任意の構成を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の構成と置換されていてよい。
Although the method for producing the extruded film and the extruded film of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the configuration of the above-described embodiment.
For example, the method for producing an extruded film of the present invention may additionally have any other step in the configuration of the above embodiment, or may be replaced with any step that produces the same action.
In addition, the extruded film of the present invention may additionally have any other configuration in the configuration of the above embodiment, or may be replaced with any configuration that produces the same effect.

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
1.各成分の準備
[F粒子]
F粒子1:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に97.9モル%、0.1モル%、2.0モル%含み、極性官能基を有するFポリマー1(溶融温度:300℃、MFR:28g/10min)からなる粉体状の粒子(D50:2.1μm)
F粒子2:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に97.9モル%、0.1モル%、2.0モル%含み、極性官能基を有するFポリマー2(溶融温度:300℃、MFR:22g/10min)からなるペレット状の粒子
F粒子3:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー3(溶融温度305℃、MFR:28g/10min)からなる粉体状の粒子(D50:2.3μm)
F粒子4:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー4(溶融温度305℃、MFR:22g/10min)からなるペレット状の粒子
F粒子5:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー5(溶融温度305℃、MFR:16g/10min)からなるペレット状の粒子
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
1. 1. Preparation of each component [F particle]
F particle 1: F polymer 1 containing 97.9 mol%, 0.1 mol%, 2.0 mol% of TFE unit, NAH unit and PPVE unit in this order and having a polar functional group (melting temperature: 300 ° C., Powdery particles (D50: 2.1 μm) consisting of MFR: 28 g / 10 min)
F particle 2: F polymer 2 containing 97.9 mol%, 0.1 mol%, 2.0 mol% of TFE unit, NAH unit and PPVE unit in this order and having a polar functional group (melting temperature: 300 ° C., Pellet-shaped particles consisting of MFR: 22 g / 10 min) F particles 3: F polymer 3 (melting temperature) containing 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order and having no polar functional group. Powdery particles (D50: 2.3 μm) consisting of 305 ° C., MFR: 28 g / 10 min)
F particle 4: Pellet composed of F polymer 4 (melting temperature 305 ° C., MFR: 22 g / 10 min) containing 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order and having no polar functional group. Particles in the form F particles 5: F polymer 5 containing 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order and having no polar functional group (melting temperature 305 ° C., MFR: 16 g / 10 min). Pellet-like particles consisting of

[AR粒子]
AR粒子1:非熱可塑性ポリイミド(Tg:337℃)の粒子(D50:3μm、ダイセル・エボニック社製「P84NT superfine」)
AR粒子2:非熱可塑性ポリイミド(Tg:355℃)の粒子(D50:13μm、宇部興産社製「UIP-SA」)
[銅箔]
銅箔1:低粗化銅箔(厚さ:12μm、福田金属箔粉工業社製、「CF-T49A-DS-HD2)
[AR particles]
AR particles 1: Particles of non-thermoplastic polyimide (Tg: 337 ° C.) (D50: 3 μm, “P84NT superfine” manufactured by Daicel Evonik).
AR particles 2: Non-thermoplastic polyimide (Tg: 355 ° C.) particles (D50: 13 μm, “UIP-SA” manufactured by Ube Industries, Ltd.)
[Copper foil]
Copper foil 1: Low-roughened copper foil (thickness: 12 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd., “CF-T49A-DS-HD2)

2.フィルムの製造例
[例1]
F粒子1(90質量部)とAR粒子(10質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。2軸押出機(テクノベル社製、「KZW15TW-45MG」)を用いて、混合物を溶融混錬(スクリュー回転数:200rpm、設定樹脂温度:370℃)し、ペレット1を製造した。ペレット1のMFRは24g/10minであった。
ペレット1(10質量部)とF粒子2(90質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。単軸押出機(700mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機)を用いて、混合物をダイ温度340℃で押出成形し、幅500mm、長さ100m、厚さ25μmのフィルム1を得た。フィルム1における島ドメインの平均ドメイン径は、3μmであった。
なお、平均ドメイン径は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察されるフィルムの断面におけるSEM写真から、画像処理にて島ドメインを判定して求められる。
2. 2. Film production example [Example 1]
F particles 1 (90 parts by mass) and AR particles (10 parts by mass) were stirred with a blender to prepare a mixture. The mixture was melt-kneaded (screw rotation speed: 200 rpm, set resin temperature: 370 ° C.) using a twin-screw extruder (“KZW15TW-45MG” manufactured by Technobel Co., Ltd.) to produce pellet 1. The MFR of pellet 1 was 24 g / 10 min.
Pellets 1 (10 parts by mass) and F particles 2 (90 parts by mass) were stirred with a blender to prepare a mixture. The mixture was extruded at a die temperature of 340 ° C. using a single-screw extruder (a 30 mmφ single-screw extruder having a 700 mm wide coated hanger die) to obtain a film 1 having a width of 500 mm, a length of 100 m, and a thickness of 25 μm. The average domain diameter of the island domain in film 1 was 3 μm.
The average domain diameter is determined by determining the island domain by image processing from an SEM photograph of a cross section of a film observed using a scanning electron microscope (SEM).

[例2~6]
F粒子及びAR粒子の種類と量とを、表1に示す通り変更した以外は、ペレット1と同様にして、ペレット2~5を得た。
ペレット及びF粒子の種類と量とを、表2に示す通り変更した以外は、フィルム1と同様にして、フィルム2~6を得た。
[例7]
F粒子2(99質量部)とAR粒子1(1質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。混合物を、単軸押出機(750mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機)を用いて、ダイ温度340℃で押出成形し、幅500mm、長さ100m、厚さ25μmのフィルム7を得た。
[Examples 2 to 6]
Pellets 2 to 5 were obtained in the same manner as in pellet 1 except that the types and amounts of F particles and AR particles were changed as shown in Table 1.
Films 2 to 6 were obtained in the same manner as in Film 1, except that the types and amounts of pellets and F particles were changed as shown in Table 2.
[Example 7]
F particles 2 (99 parts by mass) and AR particles 1 (1 part by mass) were stirred with a blender to prepare a mixture. The mixture was extruded using a single-screw extruder (a 30 mmφ single-screw extruder having a 750 mm wide coated hanger die) at a die temperature of 340 ° C. to obtain a film 7 having a width of 500 mm, a length of 100 m, and a thickness of 25 μm. ..

フィルム1~7の成分、それぞれのペレットとF粒子とのMFRの差、フィルム中のARポリマーの含有量、島ドメインの平均ドメイン径も併せて、表2に示した。なお、フィルム6中には島ドメインが存在せず、フィルム7はペレットを用いなかったため、ペレットとF粒子とのMFRの差は存在しない。 The components of films 1 to 7, the difference in MFR between each pellet and F particles, the content of AR polymer in the film, and the average domain diameter of the island domain are also shown in Table 2. Since the island domain did not exist in the film 6 and the pellet was not used in the film 7, there is no difference in MFR between the pellet and the F particle.

Figure 2022019196000001
Figure 2022019196000001

Figure 2022019196000002
Figure 2022019196000002

3.積層体の製造
フィルム1の表面に銅箔1を重ね、真空熱プレスして積層体1を得た。なお、処理条件は、温度:340℃、加圧圧力:3.0MPa、加圧時間:20分間とした。
フィルム1を、フィルム2~6に変更した以外は、積層体1と同様にして、積層体2~7を得た。
3. 3. Production of Laminated Body A copper foil 1 was laminated on the surface of the film 1 and vacuum heat pressed to obtain a laminated body 1. The treatment conditions were temperature: 340 ° C., pressurizing pressure: 3.0 MPa, and pressurizing time: 20 minutes.
Laminated bodies 2 to 7 were obtained in the same manner as the laminated body 1 except that the film 1 was changed to films 2 to 6.

4.評価
4-1.フィルムの評価
4-1-1.光線透過性の評価
得られたフィルムの、波長355nmの紫外線の透過率を、分光光度計(株式会社島津製作所製、「UV-3600」)を使用して測定した。また、フィルムの幅方向で3点、長手方向で5mおきに、合計60点における上記紫外線の透過率を測定し、最大値と最小値との差を求めた。
4. Evaluation 4-1. Evaluation of film 4-1-1. Evaluation of Light Transparency The transmittance of ultraviolet rays having a wavelength of 355 nm of the obtained film was measured using a spectrophotometer (“UV-3600” manufactured by Shimadzu Corporation). Further, the transmittance of the ultraviolet rays was measured at 3 points in the width direction of the film and every 5 m in the longitudinal direction at a total of 60 points, and the difference between the maximum value and the minimum value was obtained.

4-1-2.電気特性の評価
得られたフィルムについて、SPDR(スプリットポスト誘電体共振)法にて、その誘電正接(測定周波数:10GHz)を測定した。
[評価基準]
〇:誘電正接が0.0010未満である。
△:誘電正接が0.0010以上0.0040以下である。
×:誘電正接が0.0040超である。
4-1-2. Evaluation of Electrical Characteristics The obtained film was measured for its dielectric loss tangent (measurement frequency: 10 GHz) by the SPDR (split post dielectric resonance) method.
[Evaluation criteria]
〇: The dielectric loss tangent is less than 0.0010.
Δ: The dielectric loss tangent is 0.0010 or more and 0.0040 or less.
X: The dielectric loss tangent is more than 0.0040.

4-2.積層体の評価
4-2-1.UV加工性(UVレーザー加工性)の評価
積層体に対して、レーザー加工機(esi5330)を使用して、直径100μmの円周上を周回するように、波長355nmのUV-YAGレーザーを照射した。これにより、積層体に円形の貫通孔を形成した。なお、レーザー出力を1.5W、レーザー焦点径を25μm、円周上の周回回数は16回、発振周波数は40kHzとした。
その後、貫通孔を含む積層体の断片を切り出し、熱硬化性エポキシ樹脂で固めた。次いで、貫通孔の断面が露出するまで研磨した。100個の貫通孔の周辺断面を顕微鏡で観察し、層界面における、削れ及び剥がれの発生の有無を確認し、以下の基準にて評価した。
[評価基準]
〇:全ての貫通孔で削れ及び剥がれの発生無し
△:1個以上5個以下の貫通孔で、削れ及び剥がれの発生有り
×:5個超の貫通孔で、削れ及び剥がれの発生有り
それぞれの評価結果を、まとめて表3に示す。
4-2. Evaluation of laminated body 4-2-1. Evaluation of UV Processability (UV Laser Processability) A laser processing machine (esi5330) was used to irradiate the laminate with a UV-YAG laser having a wavelength of 355 nm so as to orbit around a circumference of 100 μm in diameter. .. As a result, a circular through hole was formed in the laminated body. The laser output was 1.5 W, the laser focal diameter was 25 μm, the number of orbits on the circumference was 16, and the oscillation frequency was 40 kHz.
Then, a fragment of the laminate including the through hole was cut out and hardened with a thermosetting epoxy resin. Then, polishing was performed until the cross section of the through hole was exposed. The peripheral cross sections of the 100 through holes were observed with a microscope, and the presence or absence of scraping and peeling at the layer interface was confirmed and evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
〇: No shaving or peeling in all through holes Δ: 1 or more and 5 or less through holes have shaving and peeling ×: More than 5 through holes have shaving and peeling The evaluation results are summarized in Table 3.

Figure 2022019196000003
Figure 2022019196000003

Claims (14)

溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び平均粒子径が1~10μmの芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を溶融押出成形して、前記芳香族性ポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルムを得る、押出成形フィルムの製造方法。 A melt-kneaded product of first tetrafluoroethylene polymer particles having a melting temperature of 270 to 320 ° C. and aromatic polymer particles having an average particle diameter of 1 to 10 μm, and a second melt kneaded product having a melting temperature of 270 to 320 ° C. A method for producing an extrusion-molded film, wherein a mixture with particles of a tetrafluoroethylene polymer is melt-extruded to obtain an extrusion-molded film containing the aromatic polymer in an amount of 10% by mass or less. 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー及び前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーが、それぞれ独立に、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1に記載の製造方法。 The first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer each independently contain a unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) and have a polar functional group, or all of them. The production method according to claim 1, which is a tetrafluoroethylene-based polymer containing 2.0 to 5.0 mol% of units based on perfluoro (alkyl vinyl ether) with respect to the units and having no polar functional group. 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーと前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーとが、同じテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1又は2に記載の製造方法。 The production method according to claim 1 or 2, wherein the first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer are the same tetrafluoroethylene polymer. 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、請求項1~3のいずれか1項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide. 前記芳香族性ポリマーのガラス転移温度が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にある、請求項1~4のいずれか1項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 4, wherein the glass transition temperature of the aromatic polymer is in the range of the melting temperature of the first tetrafluoroethylene polymer + 20 ° C. or higher. 前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融流れ速度が、前記溶融混練物の溶融流れ速度±7g/10分の範囲にある、請求項1~5のいずれか1項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 5, wherein the melt flow rate of the second tetrafluoroethylene polymer is in the range of ± 7 g / 10 minutes of the melt flow rate of the melt-kneaded product. 前記溶融混練物における前記芳香族性ポリマーの含有量が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー100質量部に対して、5~30質量部である、請求項1~6のいずれか1項に記載の製造方法。 The item according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of the aromatic polymer in the melt-kneaded product is 5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first tetrafluoroethylene-based polymer. The manufacturing method described. 前記混合物において、前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子の、前記溶融混練物に対する質量での混合比が、5~20である、請求項1~7のいずれか1項に記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 7, wherein in the mixture, the mixing ratio of the particles of the second tetrafluoroethylene polymer to the melt-kneaded product by mass is 5 to 20. .. 溶融温度が270~320℃のテトラフルオロエチレン系ポリマーの海ドメインと芳香族性ポリマーの島ドメインとを含む押出成形フィルムであって、前記押出成形フィルムにおける前記芳香族性ポリマーの含有量が、10質量%以下であり、前記島ドメインの平均ドメイン径が、1~10μmであり、かつ、厚さ25μmの前記押出成形フィルムにおける波長355nmの光線の透過率が、80%以下である、押出成形フィルム。 An extruded film containing a sea domain of a tetrafluoroethylene-based polymer having a melting temperature of 270 to 320 ° C. and an island domain of an aromatic polymer, wherein the content of the aromatic polymer in the extruded film is 10. The extruded film having an average domain diameter of 1 to 10 μm or less and having a thickness of 25 μm and having an average domain diameter of 1 to 10 μm and having a light transmittance of 80% or less at a wavelength of 355 nm in the extruded film having a mass% or less and a thickness of 25 μm. .. 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項9に記載の押出成形フィルム。 The tetrafluoroethylene-based polymer contains a unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) and has a polar functional group, or a tetrafluoroethylene-based polymer having a polar functional group, or 2.0 to 2.0 to all units based on perfluoro (alkyl vinyl ether). The extrusion-molded film according to claim 9, which is a tetrafluoroethylene-based polymer containing 5.0 mol% and having no polar functional group. 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、請求項9又は10に記載の押出成形フィルム。 The extruded film according to claim 9 or 10, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide. 前記芳香族ポリマーの含有量が、0.1~5質量%である、請求項9~11のいずれか1項に記載の押出成形フィルム。 The extruded film according to any one of claims 9 to 11, wherein the content of the aromatic polymer is 0.1 to 5% by mass. 前記厚さ25μmの押出成形フィルムの面内において、前記透過率の最大値と最小値との差が、7%以下である、請求項9~12のいずれか1項に記載の押出成形フィルム。 The extrusion-molded film according to any one of claims 9 to 12, wherein the difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance is 7% or less in the plane of the extrusion-molded film having a thickness of 25 μm. 前記押出成形フィルムの厚さが、前記島ドメインの平均ドメイン径の2倍超である、請求項9~13のいずれか1項に記載の押出成形フィルム。

The extruded film according to any one of claims 9 to 13, wherein the thickness of the extruded film is more than twice the average domain diameter of the island domain.

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