JP7443969B2 - Extrusion film manufacturing method and extrusion film - Google Patents

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本発明は、押出成形フィルムの製造方法及び押出成形フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing an extruded film and an extruded film.

テトラフルオロエチレン系ポリマーは、比誘電率及び誘電正接が低いため、高周波信号を伝送するプリント配線板の電気絶縁体層に用いられる。プリント配線板では、電気絶縁体層の両側に導体が設けられた積層体に貫通孔を形成し、貫通孔の内壁面にメッキ層を形成して、導体同士の間の導通が確保される場合が多い。貫通孔の形成には、UV-YAGレーザーが使用される。
また、テトラフルオロエチレン系ポリマーは、UV波長域の吸収率が低い。そのため、テトラフルオロエチレン系ポリマーの層を有するプリント配線板では、貫通孔を形成するために、高出力のレーザー照射が必要である。その結果、レーザー照射の際に発生する熱によって、上記層や導体が変形し、層間剥離等が生じやすい。
Tetrafluoroethylene-based polymers have low dielectric constants and dielectric loss tangents, so they are used for electrical insulating layers of printed wiring boards that transmit high-frequency signals. In printed wiring boards, a through hole is formed in a laminate with conductors on both sides of an electrical insulator layer, and a plating layer is formed on the inner wall of the through hole to ensure continuity between the conductors. There are many. A UV-YAG laser is used to form the through holes.
Furthermore, tetrafluoroethylene polymers have low absorption in the UV wavelength region. Therefore, in printed wiring boards having a layer of tetrafluoroethylene polymer, high-power laser irradiation is required to form through holes. As a result, the layers and conductors are deformed by the heat generated during laser irradiation, and delamination or the like is likely to occur.

特許文献1では、UV吸収剤をフィルムに含有させて、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性を向上させているが、UV吸収剤によりフィルムの電気絶縁特性等の電気特性が低下する。
特許文献2では、テトラフルオロエチレン系ポリマーを高温処理して、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性を向上させているが、高温処理に適した製造装置が必要になる。
In Patent Document 1, a UV absorber is included in the film to improve the processability of hole punching using a UV-YAG laser, but the UV absorber deteriorates the electrical properties of the film, such as the electrical insulation properties.
In Patent Document 2, the tetrafluoroethylene-based polymer is treated at high temperature to improve the workability of hole-drilling with UV-YAG laser, but a manufacturing device suitable for high-temperature treatment is required.

特表平4-503081号公報Special Publication No. 4-503081 国際公開2019/087939号International Publication 2019/087939

本発明者らは、電気特性と、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性とを両立したフィルムを得るべく鋭意検討した。その結果、所定のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び所定の芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、所定のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を、溶融押出成形して得たフィルムは、両者の物性に優れることを知見した。また、かかるフィルムは他材料との接着性にも優れていた。 The inventors of the present invention have conducted intensive studies to obtain a film that has both good electrical properties and good workability for perforation using a UV-YAG laser. As a result, a film obtained by melt-extruding a mixture of a melt-kneaded product of particles of a predetermined tetrafluoroethylene polymer and particles of a predetermined aromatic polymer, and particles of a predetermined tetrafluoroethylene polymer was obtained. It was discovered that the physical properties of both are excellent. Furthermore, this film had excellent adhesion to other materials.

本発明は、下記の態様を有する。
<1> 溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び平均粒子径が1~10μmの芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を溶融押出成形して、前記芳香族性ポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルムを得る、押出成形フィルムの製造方法。
<2> 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー及び前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーが、それぞれ独立に、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>の製造方法。
<3> 前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーと前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーとが、同じテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>又は<2>の製造方法。
<4> 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、<1>~<3>のいずれかの製造方法。
<5> 前記芳香族性ポリマーのガラス転移温度が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にある、<1>~<4>のいずれかの製造方法。
<6> 前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融流れ速度が、前記溶融混練ペレットの溶融流れ速度±7g/10分の範囲にある、<1>~<5>のいずれかの製造方法。
<7> 前記溶融混練物における前記芳香族性ポリマーの含有量が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー100質量部に対して、5~30質量部である、<1>~<6>のいずれかの製造方法。
<8> 前記混合物において、前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子の、前記溶融混練物に対する質量での混合比が、5~20である、<1>~<7>のいずれかの製造方法。
<9> 溶融温度が270~320℃のテトラフルオロエチレン系ポリマーの海ドメインと芳香族性ポリマーの島ドメインとを含む押出成形フィルムであって、前記押出成形フィルムにおける前記芳香族性ポリマーの含有量が、10質量%以下であり、前記島ドメインの平均ドメイン径が、1~10μmであり、かつ、厚さ25μmの前記押出成形フィルムにおける波長355nmの光線の透過率が、80%以下である、押出成形フィルム。
<10> 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<9>の押出成形フィルム。
<11> 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、<9>又は<10>の押出成形フィルム。
<12> 前記芳香族ポリマーの含有量が、0.1~5質量%である、<9>~<11>のいずれかの押出成形フィルム。
<13> 前記厚さ25μmの押出成形フィルムの面内において、前記透過率の最大値と最小値との差が、7%以下である、<9>~<12>のいずれかの押出成形フィルム。
<14> 前記押出成形フィルムの厚さが、前記島ドメインの平均ドメイン径の2倍超である、<9>~<13>のいずれかの押出成形フィルム。
The present invention has the following aspects.
<1> A melt-kneaded product of particles of a first tetrafluoroethylene polymer having a melting temperature of 270 to 320°C and particles of an aromatic polymer having an average particle diameter of 1 to 10 μm, and a mixture having a melting temperature of 270 to 320°C. A method for producing an extruded film, comprising melt-extruding a mixture with particles of a second tetrafluoroethylene polymer to obtain an extruded film containing 10% by mass or less of the aromatic polymer.
<2> A tetrafluoroethylene polymer in which the first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer each independently contain a unit based on perfluoro(alkyl vinyl ether) and have a polar functional group; Alternatively, the method for producing <1>, which is a tetrafluoroethylene polymer containing 2.0 to 5.0 mol% of units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) based on the total units and having no polar functional group.
<3> The manufacturing method of <1> or <2>, wherein the first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer are the same tetrafluoroethylene polymer.
<4> The manufacturing method according to any one of <1> to <3>, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide.
<5> The manufacturing method according to any one of <1> to <4>, wherein the glass transition temperature of the aromatic polymer is in the range of the melting temperature of the first tetrafluoroethylene polymer +20° C. or higher.
<6> The manufacturing method according to any one of <1> to <5>, wherein the melt flow rate of the second tetrafluoroethylene polymer is within the range of ±7 g/10 minutes of the melt flow rate of the melt-kneaded pellets.
<7> The content of the aromatic polymer in the melt-kneaded material is 5 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the first tetrafluoroethylene polymer, <1> to <6>. Any manufacturing method.
<8> The production according to any one of <1> to <7>, wherein in the mixture, a mixing ratio by mass of the second tetrafluoroethylene polymer particles to the melt-kneaded material is 5 to 20. Method.
<9> An extruded film comprising a sea domain of a tetrafluoroethylene polymer having a melting temperature of 270 to 320°C and an island domain of an aromatic polymer, wherein the content of the aromatic polymer in the extruded film is is 10% by mass or less, the average domain diameter of the island domains is 1 to 10 μm, and the transmittance of light at a wavelength of 355 nm in the extruded film having a thickness of 25 μm is 80% or less, Extruded film.
<10> The tetrafluoroethylene polymer contains a unit based on perfluoro(alkyl vinyl ether) and has a polar functional group, or the tetrafluoroethylene polymer contains 2 units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) with respect to all units. The extruded film of <9>, which is a tetrafluoroethylene polymer containing .0 to 5.0 mol% and having no polar functional group.
<11> The extrusion film of <9> or <10>, wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide.
<12> The extruded film according to any one of <9> to <11>, wherein the content of the aromatic polymer is 0.1 to 5% by mass.
<13> The extruded film according to any one of <9> to <12>, wherein the difference between the maximum value and the minimum value of the transmittance is 7% or less in the plane of the extruded film having a thickness of 25 μm. .
<14> The extruded film according to any one of <9> to <13>, wherein the extruded film has a thickness more than twice the average domain diameter of the island domains.

本発明によれば、電気特性と、UV-YAGレーザーによる孔開けの加工性(以下、「UV加工性」とも記す。)とに優れる、押出成形フィルムの製造方法を提供できる。また、かかる特性に優れる押出成形フィルムを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an extrusion-molded film that has excellent electrical properties and processability of perforation using a UV-YAG laser (hereinafter also referred to as "UV processability"). Furthermore, it is possible to provide an extrusion-molded film having excellent properties.

以下の用語は、以下の意味を有する。
「平均粒子径(D50)」は、レーザー回折・散乱法によって求められる対象物(粒子、フィラー)の体積基準累積50%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によって対象物の粒度分布を測定し、対象物の粒子の集団の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が50%となる点の粒子径である。
「D90」は、同様にして測定される、対象物の体積基準累積90%径である。
「溶融温度(融点)」は、示差走査熱量測定(DSC)法で測定したポリマーの融解ピークの最大値に対応する温度である。
「ガラス転移点(Tg)」は、動的粘弾性測定(DMA)法でポリマー、硬化物又はエラストマーを分析して測定される値である。
「粒子の比表面積」は、ガス吸着(定容法)BET多点法によりNOVA4200e(Quantachrome Instruments社製)を使用して求められる。
「溶融流れ速度(MFR)」とは、JIS K 7210:1999(ISO 1133:1997)に規定される、ポリマーのメルトマスフローレートを意味する。
「フィルムの厚さ」は、接触式厚み計DG-525H(小野測器社製)にて、測定子AA-026(Φ10mm、SR7)を使用して、フィルムの厚さを、幅方向に距離が等しくなるように10点測定した測定値の平均値である。
「金属箔層の表面の十点平均粗さ(Rzjis)」は、JIS B 0601:2013の附属書JAに規定される値である。
「誘電正接」は、SPDR法により、24℃、50%RHの環境下にて、周波数10GHzで測定される値である。
ポリマーにおける「単位」は、モノマーから直接形成された原子団であってもよく、得られたポリマーを所定の方法で処理して、構造の一部が変換された原子団であってもよい。ポリマーに含まれる、モノマーAに基づく単位を、単に「モノマーA単位」とも記す。
The following terms have the following meanings:
"Average particle diameter (D50)" is the volume-based cumulative 50% diameter of the target object (particles, filler) determined by laser diffraction/scattering method. In other words, the particle size distribution of the target object is measured using a laser diffraction/scattering method, a cumulative curve is determined with the total volume of the target particle population as 100%, and the particles at the point on the cumulative curve where the cumulative volume is 50% are determined. It is the diameter.
"D90" is the volume-based cumulative 90% diameter of the object, which is measured in the same manner.
"Melting temperature (melting point)" is the temperature corresponding to the maximum value of the melting peak of the polymer measured by differential scanning calorimetry (DSC).
"Glass transition point (Tg)" is a value measured by analyzing a polymer, cured product, or elastomer using a dynamic mechanical analysis (DMA) method.
"Specific surface area of particles" is determined by gas adsorption (constant volume method) BET multipoint method using NOVA4200e (manufactured by Quantachrome Instruments).
"Melt flow rate (MFR)" means the melt mass flow rate of a polymer as defined in JIS K 7210:1999 (ISO 1133:1997).
"Film thickness" is a contact thickness meter DG-525H (manufactured by Ono Sokki Co., Ltd.) using a measuring point AA-026 (Φ10 mm, SR7) to measure the thickness of the film at a distance in the width direction. This is the average value of measurements taken at 10 points so that the values are equal.
“Ten-point average roughness (Rzjis) of the surface of the metal foil layer” is a value specified in Annex JA of JIS B 0601:2013.
"Dielectric loss tangent" is a value measured at a frequency of 10 GHz in an environment of 24° C. and 50% RH using the SPDR method.
A "unit" in a polymer may be an atomic group directly formed from a monomer, or may be an atomic group whose structure is partially converted by processing the resulting polymer in a predetermined manner. A unit based on monomer A contained in a polymer is also simply referred to as a "monomer A unit."

本発明の押出成形フィルムの製造方法(以下、「本法」とも記す。)は、溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー(以下、「第1のFポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「第1のF粒子」とも記す。)及びD50が1~10μmの芳香族性ポリマー(以下、「ARポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「AR粒子」とも記す。)の溶融混練物と、ARポリマーを含まない、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマー(以下、「第2のFポリマー」とも記す。)の粒子(以下、「第2のF粒子」とも記す。)との混合物を溶融押出成形して、ARポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルム(以下、「本フィルム」とも記す。)を得る方法である。
The method for producing an extruded film of the present invention (hereinafter also referred to as "the present method") uses a first tetrafluoroethylene polymer (hereinafter also referred to as "first F polymer") having a melting temperature of 270 to 320°C. ) particles (hereinafter also referred to as "first F particles") and particles of an aromatic polymer (hereinafter also referred to as "AR polymer") with a D50 of 1 to 10 μm (hereinafter also referred to as "AR particles"). ) and particles of a second tetrafluoroethylene polymer (hereinafter also referred to as "second F polymer") that does not contain an AR polymer and has a melting temperature of 270 to 320°C. (also referred to as "second F particles") is melt-extruded to obtain an extruded film (hereinafter also referred to as "main film") containing 10% by mass or less of an AR polymer.

本法によれば、電気特性とUV加工性とに優れた本フィルムが得られる。その理由は必ずしも明確ではないが、以下の通りであると考えられる。
本フィルムは、ARポリマーを少量含む。そのため、本フィルム中では、2つのFポリマーを含むドメインを海とし、ARポリマーを含むドメインを島とする海島構造が形成されている。
According to this method, a film having excellent electrical properties and UV processability can be obtained. Although the reason is not necessarily clear, it is thought to be as follows.
The film contains a small amount of AR polymer. Therefore, in this film, a sea-island structure is formed in which the domains containing the two F polymers form the sea and the domains containing the AR polymer form the islands.

本法においては、第1のFポリマー及びARポリマーを含む溶融混錬物(溶融混練ペレット)を得て、この溶融混錬物と第2のF粒子とから本フィルムを製造する。溶融混錬物は、マスターバッチともみなせる。マスターバッチを形成する際に、ポリマーに充分な剪断がかかるために、ARポリマーが凝集しにくく、本フィルム中においてサイズの揃った島ドメインが形成されると考えられる。さらに、本フィルムを形成する際に、ARポリマーと2つのFポリマーとが充分に混合され、本フィルム中で島ドメインが均一に分散し、高いUV吸収性を発現すると考えられる。 In this method, a melt-kneaded product (melt-kneaded pellets) containing a first F polymer and an AR polymer is obtained, and the film is produced from this melt-kneaded product and second F particles. The melt-kneaded product can also be regarded as a masterbatch. It is thought that sufficient shear is applied to the polymer when forming the masterbatch, making it difficult for the AR polymer to aggregate, resulting in the formation of island domains of uniform size in the film. Furthermore, it is believed that when forming the present film, the AR polymer and the two F polymers are sufficiently mixed, and the island domains are uniformly dispersed in the present film, resulting in high UV absorption.

また、本発明者らは、島ドメインの平均ドメイン径が所定の範囲にあると、光線が効果的に島ドメインに侵入できるため、本フィルム中のARポリマーの含有量が少ない場合にも、本フィルムにおける光線の吸収性が高まることを知見している。形成される島ドメインの平均ドメイン径は、AR粒子のD50に依存すると考えられる。本法においては、所定のD50(1~10μm)を有するAR粒子を用いて、本フィルムを形成する。このため、本フィルムでは、ARポリマーの含有量が少なくとも、適度なドメイン径を有する島ドメインが形成され、高いUV吸収性を有すると考えられる。 The present inventors also found that when the average domain diameter of the island domains is within a predetermined range, light rays can effectively penetrate into the island domains, so even when the content of the AR polymer in the present film is small, the present invention is effective. It has been found that the absorption of light in the film increases. The average domain diameter of the island domains formed is considered to depend on the D50 of the AR particles. In this method, the film is formed using AR particles having a predetermined D50 (1 to 10 μm). Therefore, in this film, it is considered that when the content of the AR polymer is at least, island domains having an appropriate domain diameter are formed and the film has high UV absorbability.

本法において、第1のFポリマーと第2のFポリマーとは、同じFポリマーであるのが好ましい。この場合、溶融押出成形の際に、第1のFポリマーと第2のFポリマーとが均一に混合され、本フィルム中において均質な海ドメインが形成されやすい。
本法において、ARポリマーのガラス転移温度は、第1のFポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にあるのが好ましく、溶融温度+30℃以上の範囲にあるのがより好ましい。ARポリマーのガラス転移温度は、第1のFポリマーの溶融温度+60℃以下の範囲にあるのが好ましく、溶融温度+50℃以下の範囲にあるのがより好ましい。この場合、溶融混練物の形成及び溶融押出成形の際に、ARポリマーの種類によらず、ARポリマーが溶融状態になりにくくなり、本フィルム中において適度なドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。
In this method, the first F polymer and the second F polymer are preferably the same F polymer. In this case, the first F polymer and the second F polymer are uniformly mixed during melt extrusion molding, and a homogeneous sea domain is likely to be formed in the film.
In this method, the glass transition temperature of the AR polymer is preferably in the range of the melting temperature of the first F polymer +20°C or more, and more preferably in the range of the melting temperature +30°C or more. The glass transition temperature of the AR polymer is preferably in the range of +60°C or lower than the melting temperature of the first F polymer, and more preferably in the range of +50°C or lower. In this case, regardless of the type of AR polymer, during the formation of the melt-kneaded product and the melt extrusion molding, the AR polymer is less likely to be in a molten state, and island domains with appropriate domain diameters are likely to be formed in the film. .

第2のFポリマーのMFRは、溶融混練物のMFR±7g/10分の範囲にあるのが好ましく、±5g/10分の範囲にあるのがより好ましい。この場合、第2のFポリマーのMFRと溶融混練物のMFRとが接近するため、本フィルムを形成する際に、ARポリマーと2つのFポリマーとが充分に混合され、本フィルム中で島ドメインが均一に分散し、より高いUV吸収性を発現できる。
溶融混練物におけるARポリマーの含有量は、第1のFポリマー100質量部に対して、5~30質量部であるのが好ましく、10~20質量部であるのがより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、電気特性とUV加工性とがバランスしやすい。
混合物において、第2のF粒子の、溶融混練物に対する質量での混合比は、5~20であるのが好ましく、5~10であるのがより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、電気特性とUV加工性とがよりバランスしやすい。
The MFR of the second F polymer is preferably within the range of MFR of the melt-kneaded product ±7 g/10 minutes, more preferably within the range of ±5 g/10 minutes. In this case, since the MFR of the second F polymer and the MFR of the melt-kneaded product are close to each other, when forming the main film, the AR polymer and the two F polymers are sufficiently mixed, and the island domain is formed in the film. is uniformly dispersed, and higher UV absorption can be achieved.
The content of the AR polymer in the melt-kneaded product is preferably 5 to 30 parts by weight, more preferably 10 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the first F polymer. In this case, in this film, electrical properties and UV processability are easily balanced.
In the mixture, the mixing ratio of the second F particles to the melt-kneaded material by mass is preferably 5 to 20, more preferably 5 to 10. In this case, in this film, electrical properties and UV processability are more likely to be balanced.

本発明における第1のFポリマーは、テトラフルオロエチレン(TFE)に基づく単位(TFE単位)を含むポリマーである。本発明における第1のFポリマーは、熱溶融性である。この第1のFポリマーの溶融温度は、270~320℃であり、275~315℃が好ましく、290~310℃がより好ましい。この場合、第1のFポリマーの成形加工性と、本フィルムの機械強度とがバランスしやすい。
第1のFポリマーのガラス転移点は、75~125℃が好ましく、80~100℃がより好ましい。
第1のFポリマーのMFRは、0.5~100g/10分が好ましく、1~30g/10分がより好ましい。この場合、本フィルムが、表面平滑性、外観、機械強度に優れやすい。
The first F polymer in the present invention is a polymer containing units based on tetrafluoroethylene (TFE) (TFE units). The first F polymer in the present invention is thermofusible. The melting temperature of this first F polymer is 270 to 320°C, preferably 275 to 315°C, and more preferably 290 to 310°C. In this case, the moldability of the first F polymer and the mechanical strength of the film are easily balanced.
The glass transition point of the first F polymer is preferably 75 to 125°C, more preferably 80 to 100°C.
The MFR of the first F polymer is preferably 0.5 to 100 g/10 minutes, more preferably 1 to 30 g/10 minutes. In this case, the film tends to have excellent surface smoothness, appearance, and mechanical strength.

第1のFポリマーとしては、TFE単位及びペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)に基づく単位(PAVE単位)を含むポリマー(PFA)、ヘキサフルオロプロペン(HFP)に基づく単位を含むポリマー(FEP)が挙げられ、PFAであるのが好ましい。PAVEとしては、CF=CFOCF、CF=CFOCFCF及びCF=CFOCFCFCF(PPVE)が好ましく、PPVEがより好ましい。 Examples of the first F polymer include a polymer containing TFE units and units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) (PAVE) (PAVE units), and a polymer containing units based on hexafluoropropene (HFP) (FEP). and is preferably PFA. As PAVE, CF 2 =CFOCF 3 , CF 2 =CFOCF 2 CF 3 and CF 2 =CFOCF 2 CF 2 CF 3 (PPVE) are preferred, and PPVE is more preferred.

第1のFポリマーは、極性官能基を有するのが好ましい。極性官能基は、第1のFポリマー中の単位に含まれていてもよく、第1のFポリマーの主鎖の末端基に含まれていてもよい。後者の態様としては、重合開始剤、連鎖移動剤等に由来する末端基として極性官能基を有する第1のFポリマー、プラズマ処理や電離線処理して得られる極性官能基を有する第1のFポリマーが挙げられる。極性官能基は、水酸基含有基又はカルボニル基含有基が好ましい。 Preferably, the first F polymer has a polar functional group. The polar functional group may be included in a unit in the first F polymer, or may be included in a terminal group of the main chain of the first F polymer. The latter embodiment includes a first F polymer having a polar functional group as a terminal group derived from a polymerization initiator, a chain transfer agent, etc., and a first F polymer having a polar functional group obtained by plasma treatment or ionizing radiation treatment. Examples include polymers. The polar functional group is preferably a hydroxyl group-containing group or a carbonyl group-containing group.

水酸基含有基は、アルコール性水酸基を含有する基が好ましく、-CFCHOH又は-C(CFOHがより好ましい。
カルボニル基含有基は、カルボニル基(>C(O))を含む基であり、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、イソシアネート基、カルバメート基(-OC(O)NH)、酸無水物残基(-C(O)OC(O)-)、イミド残基(-C(O)NHC(O)-等)又はカーボネート基(-OC(O)O-)が好ましく、酸無水物残基がより好ましい。
The hydroxyl group-containing group is preferably a group containing an alcoholic hydroxyl group, and more preferably -CF 2 CH 2 OH or -C(CF 3 ) 2 OH.
The carbonyl group-containing group is a group containing a carbonyl group (>C(O)), and includes a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, an isocyanate group, a carbamate group (-OC(O)NH 2 ), and an acid anhydride residue. Groups (-C(O)OC(O)-), imide residues (-C(O)NHC(O)-, etc.) or carbonate groups (-OC(O)O-) are preferred, and acid anhydride residues is more preferable.

第1のFポリマーは、TFE単位及びPAVE単位を含む、極性官能基を有するポリマー(1)、又は、TFE単位及びPAVE単位を含み全単位に対してPAVE単位を2.0~5.0モル%含む、極性官能基を有さないポリマー(2)が好ましい。
これらのポリマーは、本フィルム中において微小球晶を形成するので、他の成分との密着性が高まりやすく、適度なドメイン径を有する島ドメインも形成されやすい。その結果、表面平滑性、接着性、電気特性及びUV吸収性(UV加工性)に優れた本フィルムが得られる。
The first F polymer is a polymer (1) containing a polar functional group containing a TFE unit and a PAVE unit, or a polymer containing a TFE unit and a PAVE unit and containing 2.0 to 5.0 mol of PAVE units based on the total units. %, polymers (2) without polar functional groups are preferred.
Since these polymers form microspherulites in the present film, adhesion with other components is likely to increase, and island domains having appropriate domain diameters are also likely to be formed. As a result, this film is obtained that has excellent surface smoothness, adhesiveness, electrical properties, and UV absorption (UV processability).

ポリマー(1)は、TFE単位、PAVE単位及び極性官能基を有するモノマーに基づく単位を含むポリマーであるのが好ましく、全単位に対して、これらの単位をこの順に、90~99モル%、0.5~9.97モル%、0.01~3モル%で含むポリマーであるのがより好ましい。また、極性官能基を有するモノマーは、無水イタコン酸、無水シトラコン酸又は5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物(以下、「NAH」とも記す。)が好ましい。ポリマー(1)の具体例としては、国際公開第2018/16644号に記載されるポリマーが挙げられる。 The polymer (1) is preferably a polymer containing TFE units, PAVE units, and units based on monomers having polar functional groups, and these units are contained in this order in an amount of 90 to 99 mol%, 0 More preferably, it is a polymer containing 0.5 to 9.97 mol%, and 0.01 to 3 mol%. Furthermore, the monomer having a polar functional group is preferably itaconic anhydride, citraconic anhydride, or 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (hereinafter also referred to as "NAH"). Specific examples of the polymer (1) include the polymers described in International Publication No. 2018/16644.

ポリマー(2)は、TFE単位及びPAVE単位のみからなり、全単位に対して、TFE単位を95.0~98.0モル%、PAVE単位を2.0~5.0モル%で含有するのが好ましい。ポリマー(2)におけるPAVE単位の含有量は、全単位に対して、2.1モル%以上が好ましく、2.2モル%以上がより好ましい。
なお、ポリマー(2)が極性官能基を有さないとは、ポリマー主鎖を構成する炭素原子数の1×10個あたり、ポリマーが有する極性官能基の数が500個未満であることを意味する。上記極性官能基の数は100個以下が好ましく、50個未満がより好ましい。上記極性官能基の数の下限は、通常、0個である。
Polymer (2) consists only of TFE units and PAVE units, and contains 95.0 to 98.0 mol% of TFE units and 2.0 to 5.0 mol% of PAVE units based on the total units. is preferred. The content of PAVE units in the polymer (2) is preferably 2.1 mol% or more, more preferably 2.2 mol% or more, based on all units.
In addition, polymer (2) does not have a polar functional group, which means that the number of polar functional groups that the polymer has is less than 500 per 1 × 10 6 carbon atoms constituting the polymer main chain. means. The number of polar functional groups is preferably 100 or less, more preferably less than 50. The lower limit of the number of polar functional groups is usually 0.

ポリマー(2)は、ポリマー鎖の末端基として極性官能基を生じない、重合開始剤や連鎖移動剤等を使用して製造してもよく、極性官能基を有する第1のFポリマー(重合開始剤に由来する極性官能基をポリマーの主鎖の末端基に有するポリマー(1)等)をフッ素化処理して製造してもよい。フッ素化処理の方法としては、フッ素ガスを使用する方法(特開2019-194314号公報等を参照)が挙げられる。 Polymer (2) may be produced using a polymerization initiator, chain transfer agent, etc. that does not produce a polar functional group as the terminal group of the polymer chain, and may be produced using a polymerization initiator or chain transfer agent that does not produce a polar functional group as the terminal group of the polymer chain. It may also be produced by fluorinating a polymer (1), etc., which has a polar functional group derived from the agent at the end group of the main chain of the polymer. Examples of the fluorination treatment method include a method using fluorine gas (see Japanese Patent Application Publication No. 2019-194314, etc.).

本発明における第1のF粒子は、第1のFポリマーを含有する粒子であり、第1のF粒子中の第1のFポリマーの含有量は、80質量%以上が好ましく、100質量%がより好ましい。
第1のF粒子は、第1のFポリマーとは異なるポリマーを含んでもよい。異なるポリマーとしては、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、マレイミドが挙げられる。
第1のF粒子は、無機物を含んでもよい。無機物としては、酸化物、窒化物、金属単体、合金及びカーボンが好ましく、酸化ケイ素(シリカ)、金属酸化物(酸化ベリリウム、酸化セリウム、アルミナ、ソーダアルミナ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)、窒化ホウ素、及びメタ珪酸マグネシウム(ステアタイト)がより好ましく、シリカ及び窒化ホウ素がさらに好ましく、シリカが特に好ましい。この場合、本フィルムが電気特性、低線膨張性及びUV吸水性に優れやすい。無機物を含むF粒子は、Fポリマーをコアとし、このコアの表面に、無機物を有するのが好ましい。かかるF粒子は、例えば、Fポリマーの粒子と無機物の粒子とを合着(衝突、凝集等)させて得られる。
The first F particles in the present invention are particles containing a first F polymer, and the content of the first F polymer in the first F particles is preferably 80% by mass or more, and 100% by mass. More preferred.
The first F particles may include a different polymer than the first F polymer. Different polymers include aromatic polyesters, polyamideimides, polyimides, polyphenylene ethers, polyphenylene oxides, maleimides.
The first F particles may contain an inorganic substance. As the inorganic substance, oxides, nitrides, elemental metals, alloys and carbon are preferable, and silicon oxide (silica), metal oxides (beryllium oxide, cerium oxide, alumina, soda alumina, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.) , boron nitride, and magnesium metasilicate (steatite) are more preferred, silica and boron nitride are even more preferred, and silica is particularly preferred. In this case, the film tends to have excellent electrical properties, low linear expansion, and UV water absorption. The F particles containing an inorganic substance preferably have an F polymer as a core and have an inorganic substance on the surface of this core. Such F particles are obtained, for example, by coalescing (colliding, aggregating, etc.) F polymer particles and inorganic particles.

第1のF粒子はペレット状であってもよく、粉体状であってもよい。第1のF粒子は粉体状であるのが好ましい。
粉体状の第1のF粒子のD50は、50μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、8μm以下がさらに好ましい。第1のF粒子のD50は、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、1μm以上がさらに好ましい。また、第1のF粒子のD90は、100μm未満が好ましく、90μm以下がより好ましい。
粉体状の第1のF粒子の比表面積は、1~8m/gが好ましく、1~5m/gがより好ましく、1~3m/gがさらに好ましい。
粉体状の第1のF粒子のD50、D90及び比表面積が、上記範囲にあれば、溶融混練物を形成する際に、AR粒子との混合を円滑に行いやすい。
The first F particles may be in the form of pellets or powder. The first F particles are preferably in powder form.
D50 of the powdered first F particles is preferably 50 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 8 μm or less. The D50 of the first F particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and even more preferably 1 μm or more. Moreover, D90 of the first F particles is preferably less than 100 μm, more preferably 90 μm or less.
The specific surface area of the powdered first F particles is preferably 1 to 8 m 2 /g, more preferably 1 to 5 m 2 /g, and even more preferably 1 to 3 m 2 /g.
If the D50, D90 and specific surface area of the powdered first F particles are within the above ranges, it is easy to mix them with the AR particles when forming a melt-kneaded product.

本発明におけるARポリマーとしては、液晶ポリエステル、ポリフタルアミド、芳香族ポリエーテルケトン、シンジオタクチックポリスチレン、芳香族ポリイミド、芳香族マレイミド、芳香族ビスマレイミド、ポリフェニレンエーテル、スチレンエラストマー等の芳香族エラストマー又は芳香族ポリアミック酸が好ましく、芳香族ポリイミド又は芳香族ポリアミック酸がより好ましい。
芳香族ポリイミドは、熱可塑性であってもよく、非熱可塑性であってもよい。熱可塑性ポリイミドとは、イミド化が完了した、イミド化反応がさらに生じないポリイミドを意味する。
中でも、ARポリマーとしては、非熱可塑性ポリイミドが好ましい。かかる非熱可塑性ポリイミドを使用すれば、本フィルム中において、目的とするドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。このため、本フィルムは、より優れたUV加工性を発揮できる。
The AR polymer in the present invention is an aromatic elastomer such as liquid crystal polyester, polyphthalamide, aromatic polyether ketone, syndiotactic polystyrene, aromatic polyimide, aromatic maleimide, aromatic bismaleimide, polyphenylene ether, styrene elastomer, etc. Aromatic polyamic acid is preferred, and aromatic polyimide or aromatic polyamic acid is more preferred.
The aromatic polyimide may be thermoplastic or non-thermoplastic. Thermoplastic polyimide means a polyimide that has undergone imidization and no further imidization reaction occurs.
Among these, non-thermoplastic polyimide is preferred as the AR polymer. If such a non-thermoplastic polyimide is used, island domains having the desired domain diameter are likely to be formed in the film. Therefore, this film can exhibit better UV processability.

本明細書中では、「非熱可塑性ポリイミド」とは、モノマーを組み合わせ、溶液重合させて得られる溶液(ポリイミド前駆体の溶液)を乾燥させ、さらにイミド化させて形成される成形体(フィルム等)を450℃にて1分間加熱した際、形状が保持されるポリイミドと定義する。上記成形体を450℃にて1分間加熱した際に、シワ又は伸びにより変形したり融着したりするポリイミドは「熱可塑性ポリイミド」とする。 In this specification, "non-thermoplastic polyimide" refers to a molded product (film, etc.) formed by combining monomers, drying a solution obtained by solution polymerization (solution of polyimide precursor), and further imidizing the solution. ) is defined as a polyimide that retains its shape when heated at 450°C for 1 minute. A polyimide that deforms or fuses due to wrinkles or elongation when the molded article is heated at 450° C. for 1 minute is referred to as a "thermoplastic polyimide."

熱可塑性ポリイミドの具体例としては、「ネオプリム(登録商標)」シリーズ(三菱ガス化学社製)、「スピクセリア(登録商標)」シリーズ(ソマール社製)、「Q-PILON(登録商標)」シリーズ(ピーアイ技術研究所製)、「WINGO」シリーズ(ウィンゴーテクノロジー社製)、「トーマイド(登録商標)」シリーズ(T&K TOKA社製)、「KPI-MX」シリーズ(河村産業社製)、「ユピア(登録商標)-AT」シリーズ(宇部興産社製)が挙げられる。 Specific examples of thermoplastic polyimides include the "Neoprim (registered trademark)" series (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), the "Spixeria (registered trademark)" series (manufactured by Somar Corporation), and the "Q-PILON (registered trademark)" series (manufactured by Somar Corporation). ``WINGO'' series (manufactured by Wingo Technology), ``Thomide (registered trademark)'' series (manufactured by T&K TOKA), ``KPI-MX'' series (manufactured by Kawamura Sangyo), ``Yupia (manufactured by Kawamura Sangyo), (registered trademark)-AT” series (manufactured by Ube Industries, Ltd.).

非熱可塑性ポリイミドは、非熱可塑性ブロック部位を含むのが好ましい。
非熱可塑性ブロック部位とは、ブロック部位を構成するモノマーのみを溶液重合して得られたポリイミド前駆体を、上述した非熱可塑性ポリイミドの定義における方法と同様の方法で評価した場合、形状が保持されるポリイミドを形成する、モノマーの組み合せから形成されるブロック部位を意味する。
Preferably, the non-thermoplastic polyimide includes non-thermoplastic block portions.
A non-thermoplastic block part means that when a polyimide precursor obtained by solution polymerizing only the monomers constituting the block part is evaluated using the same method as in the definition of non-thermoplastic polyimide described above, the shape is retained. refers to a block site formed from a combination of monomers to form a polyimide.

一方、熱可塑性ブロック部位とは、ブロック部位を構成するモノマーのみを溶液重合して得られたポリイミド前駆体から、上述した非熱可塑性ポリイミドの定義における方法と同様の方法で評価した場合、形状が保持されないポリイミドを形成する、モノマーの組み合せから形成されるブロック部位を意味する。
なお、ブロック部位が、熱可塑性であるか非熱可塑性であるか判断する際に、剛直なモノマーの組み合わせを選定すると成形体が破断又は粉々に割れてしまう場合がある。この場合は、その破片を集めて加熱して、その形状の保持状態から判断すればよい。
On the other hand, a thermoplastic block part is a polyimide precursor obtained by solution polymerizing only the monomers constituting the block part, and when evaluated using the same method as in the definition of non-thermoplastic polyimide described above, the shape is Refers to a blocking site formed from a combination of monomers that forms a non-retained polyimide.
Note that when determining whether a block portion is thermoplastic or non-thermoplastic, if a combination of rigid monomers is selected, the molded article may break or break into pieces. In this case, the pieces can be collected and heated, and the judgment can be made based on how well they retain their shape.

非熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度は、280℃以上が好ましく、290℃以上がより好ましい。上記ガラス転移温度は、450℃以下が好ましく、400℃以下がより好ましい。この場合、より低温での溶融押出成形により、本フィルムを成形できる。
非熱可塑性ポリイミドのイミド基密度は、0.20~0.35が好ましい。イミド基密度が上記上限以下であれば、非熱可塑性ポリイミドの吸水率がより低くなり、本フィルムの電気特性(特に、誘電特性)の変化をより抑制しやすい。上記イミド基密度が上記下限以上であれば、イミド基が極性基として機能して、本フィルムの密着性がより向上するだけでなく、吸水率が顕著に低下しやすい。
The glass transition temperature of the non-thermoplastic polyimide is preferably 280°C or higher, more preferably 290°C or higher. The glass transition temperature is preferably 450°C or lower, more preferably 400°C or lower. In this case, the film can be formed by melt extrusion molding at a lower temperature.
The imide group density of the non-thermoplastic polyimide is preferably 0.20 to 0.35. If the imide group density is below the above upper limit, the water absorption rate of the non-thermoplastic polyimide will be lower, making it easier to suppress changes in the electrical properties (particularly dielectric properties) of the film. When the imide group density is equal to or higher than the lower limit, the imide group functions as a polar group, and not only the adhesiveness of the film is further improved, but also the water absorption rate tends to be significantly lowered.

なお、イミド基密度は、ポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドにおいて、イミド基部分の単位当たり分子量(140.1)をポリイミドの単位当たり分子量で除した値である。例えば、ピロメリット酸二無水物(分子量:218.1)の1モルと3,4’-オキシジアニリン(分子量:200.2)の1モルとの2成分からなるポリイミド前駆体をイミド化したポリイミド(単位当たりの分子量:382.2)のイミド基密度は、140.1を382.2で除した値である0.37となる。 The imide group density is the value obtained by dividing the molecular weight per unit of the imide group portion (140.1) by the molecular weight per unit of the polyimide in a polyimide obtained by imidizing a polyimide precursor. For example, a polyimide precursor consisting of two components, 1 mole of pyromellitic dianhydride (molecular weight: 218.1) and 1 mole of 3,4'-oxydianiline (molecular weight: 200.2), was imidized. The imide group density of polyimide (molecular weight per unit: 382.2) is 0.37, which is the value obtained by dividing 140.1 by 382.2.

非熱可塑性ポリイミドは、2,2’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、パラフェニレンジアミン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’-n-プロピル-4,4’-ジアミノビフェニル及び4-アミノフェニル-4’-アミノベンゾエートからなる群より選択される複数の芳香族ジアミンと、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,2',3'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、1,4-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル)二無水物、p-フェニレンビス(トリテート無水物)、1,4-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル)二無水物、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、及び2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物からなる群より選択される複数の芳香族酸二無水物とから形成される単位を含むのが好ましい。この場合、非熱可塑性ポリイミドの非熱可塑性が向上し、本フィルムの密着性がより向上するだけでなく、吸水率が顕著に低下しやすい。
非熱可塑性ポリイミドは、全単位に対して、上記単位を80モル%以上含むのが好ましい。その上限は、100モル%である。
Non-thermoplastic polyimides include 2,2'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, paraphenylenediamine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, and 2,2'-dimethyl- 4,4'-diaminobiphenyl, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene, 4,4 '-Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-(1,3-phenylenediisopropylidene)bisaniline, 2,2'-n-propyl-4,4'-diaminobiphenyl and 4-amino A plurality of aromatic diamines selected from the group consisting of phenyl-4'-aminobenzoate, pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3, 3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,2',3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4, 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 1,4-phenylenebis(trimellitic acid monoester) dianhydride, p-phenylenebis(tritate anhydride), 1,4-phenylenebis(trimellitic acid monoester) ) a plurality of aromas selected from the group consisting of dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride It is preferable to include a unit formed from a group acid dianhydride. In this case, the non-thermoplasticity of the non-thermoplastic polyimide is improved, and not only the adhesion of the film is further improved, but also the water absorption rate tends to decrease significantly.
The non-thermoplastic polyimide preferably contains 80 mol% or more of the above units based on all units. Its upper limit is 100 mol%.

さらに、非熱可塑性ポリイミドは、メタフェニレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、ベンジジン、3,3’-ジメトキシベンジジン、パラキシリレンジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(3-メチル-5-アミノフェニル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン等の他のジアミンを単位のモノマー成分としていてもよい。これらの他のジアミンは、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 Furthermore, non-thermoplastic polyimides include metaphenylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene, benzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, paraxylylene diamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4 , 4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(3-methyl-5-aminophenyl)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4- Bis(4-aminophenoxy)benzene, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 3,3'-bis(trifluoromethyl) ) Other diamines such as benzidine and 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane may be used as monomer components of the unit. These other diamines may be used alone or in combination of two or more.

さらに、非熱可塑性ポリイミドは、ピロメリット酸、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸、ピリジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸、4,4’-オキシジフタル酸、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、2,3’,3,4’-ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸、5,5’-[1-メチル-1,1-エタンジイルビス(1,4-フェニレン)ビスオキシ]ビス(イソベンゾフラン-1,3-ジオン)、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物等の他のテトラカルボン酸又はその誘導体を単位のモノマー成分としていてもよい。これらの他のテトラカルボン酸又はその誘導体は、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 Furthermore, non-thermoplastic polyimides include pyromellitic acid, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid, 4,4'-oxydiphthalic acid, 3,3 ',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3',3,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, 5,5'-[1- Other tetracarboxylic acids such as methyl-1,1-ethanediylbis(1,4-phenylene)bisoxy]bis(isobenzofuran-1,3-dione), 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, etc. Alternatively, a derivative thereof may be used as a monomer component of the unit. These other tetracarboxylic acids or derivatives thereof may be used alone or in combination of two or more.

非熱可塑性ポリイミドを製造する際のポリイミド前駆体(ポリアミック酸)の合成は、溶媒存在下に行うのが好ましい。溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、N-ビニル-2-ピロリドン、フェノール、クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール、ヘキサメチルホスホルアミドが挙げられる。
ポリイミド前駆体は、ポリイミド前駆体を5~40重量%の固形分として含有する溶液に調製するのが好ましい。この場合、溶液の粘度は、100~1000Pa・sが好ましい。また、溶液においてポリイミド前駆体の一部は、イミド化されていてもよい。
The synthesis of a polyimide precursor (polyamic acid) for producing a non-thermoplastic polyimide is preferably carried out in the presence of a solvent. Specific examples of the solvent include dimethyl sulfoxide, diethylsulfoxide, N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N -vinyl-2-pyrrolidone, phenol, cresol, xylenol, halogenated phenol, catechol, hexamethylphosphoramide.
Preferably, the polyimide precursor is prepared in a solution containing the polyimide precursor as a solid content of 5 to 40% by weight. In this case, the viscosity of the solution is preferably 100 to 1000 Pa·s. Moreover, a part of the polyimide precursor may be imidized in the solution.

スチレンエラストマーとしては、スチレン-ブタジエン共重合体、水添-スチレン-ブタジエン共重合体、水添-スチレン-イソプレン共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体の水素添加物、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。
本発明におけるAR粒子のD50は、1~10μmであり、2~7μmがより好ましい。この場合、溶融混練物を形成する際に、第1のF粒子との混合を円滑に行いやすい。
芳香族ポリエーテルケトンとしては、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリエーテルエーテルケトンケトンが挙げられる。
Styrene elastomers include styrene-butadiene copolymer, hydrogenated-styrene-butadiene copolymer, hydrogenated-styrene-isoprene copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, and styrene-isoprene-styrene block copolymer. Examples include hydrogenated products of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, hydrogenated products of a styrene-isoprene-styrene block copolymer, and the like.
The D50 of the AR particles in the present invention is 1 to 10 μm, more preferably 2 to 7 μm. In this case, when forming a melt-kneaded product, mixing with the first F particles can be easily performed.
Examples of the aromatic polyetherketone include polyetherketone, polyetheretherketone, polyetherketoneketone, and polyetheretherketoneketone.

本発明における第2のFポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、上記第1のFポリマーのそれらと同様である。また、第2のF粒子の定義及び範囲も、好適な態様も含めて、上記第1のF粒子のそれらと同様である。
なお、第2のFポリマーは、上述したように、第1のFポリマーと同じFポリマーであるのが好ましい。
第2のF粒子はペレット状であるのが好ましい。
The definition and scope of the second F polymer in the present invention, including preferred embodiments, are the same as those of the first F polymer. Furthermore, the definition and range of the second F particles, including preferred aspects, are the same as those of the first F particles.
Note that, as described above, the second F polymer is preferably the same F polymer as the first F polymer.
Preferably, the second F particles are in the form of pellets.

本法における溶融混練物は、第1のF粒子及びAR粒子を溶融混錬して得られる。溶融混練物は、例えば、押出機内に、第1のF粒子とAR粒子とを投入し、押出機内において、第1のF粒子とAR粒子との混合物を加熱により溶融しつつ混練して得られる。第1のF粒子とAR粒子は、あらかじめブレンダーで混合し、押出機内に投入されてもよい。
溶融混練物は、ペレット状であるのが好ましい。かかる場合、本フィルム中において、目的とするドメイン径を有する島ドメインが形成されやすい。このため、本フィルムは、より優れたUV加工性を発揮できる。
The melt-kneaded product in this method is obtained by melt-kneading the first F particles and AR particles. The melt-kneaded product is obtained, for example, by charging the first F particles and AR particles into an extruder, and kneading the mixture of the first F particles and AR particles while melting them by heating in the extruder. . The first F particles and AR particles may be mixed in advance in a blender and then introduced into the extruder.
The melt-kneaded product is preferably in the form of pellets. In such a case, island domains having the desired domain diameter are likely to be formed in the film. Therefore, this film can exhibit better UV processability.

本法における溶融押出成形は、ダイコート法(Tダイによる溶融押出成形)を用いるのが好ましい。ダイコート法は、具体的には、次のようにして行われる。
まず、Tダイに接続された押出機内に、第1のF粒子及びAR粒子の溶融混練物と、第2のF粒子とが投入される。次に、押出機内において、上記溶融混練物と第2のF粒子との混合物が加熱により溶融されつつ混練され、溶融混練物が得られる。
次に、この溶融混練物は、Tダイ内に供給され、Tダイのリップ(吐出口)から吐出される。その後、吐出された溶融混練物は、Tダイの鉛直下方に配置された最初の冷却ロールに接触することにより、冷却されてフィルム化される。次に、フィルム化された溶融混練物は、さらに下流側に配置された他の冷却ロール及び搬送ロールに接触しつつ搬送され、最終的に、本フィルムとして巻取りロールに巻き取られる。
For melt extrusion molding in this method, it is preferable to use a die coating method (melt extrusion molding using a T-die). Specifically, the die coating method is performed as follows.
First, a melt-kneaded product of first F particles and AR particles and second F particles are introduced into an extruder connected to a T-die. Next, in an extruder, the mixture of the melt-kneaded product and the second F particles is kneaded while being melted by heating to obtain a melt-kneaded product.
Next, this melt-kneaded material is supplied into the T-die and discharged from the lip (discharge port) of the T-die. Thereafter, the discharged melt-kneaded material is cooled and formed into a film by contacting the first cooling roll disposed vertically below the T-die. Next, the melt-kneaded product formed into a film is conveyed while contacting another cooling roll and a conveyance roll arranged further downstream, and is finally wound up on a winding roll as the main film.

第1のF粒子及びAR粒子の溶融混練物と、第2のF粒子は、あらかじめブレンダーで混合され、押出機内に投入されるのが好ましい。
最初の冷却ロールの温度は、150~250℃が好ましい。この場合、溶融混練物を急冷できるので、本フィルム中において、Fポリマーの小球晶が形成されやすく、よって、ARポリマーによる適度なドメイン径を有する島ドメインも形成されやすい。
この急冷効果を高める観点から、最初の冷却ロールの直後の位置には、フィルム化された溶融混練物に対して、スリットノズルからスリット状空気流を吹き付けるエアーナイフを設けるようにしてもよい。
この場合、エアーナイフから吹き出す空気の温度は、150~200℃が好ましく、170~200℃がより好ましい。また、エアーナイフから吹き出す空気の流速は、10~20m/秒が好ましい。
It is preferable that the melt-kneaded product of the first F particles and AR particles and the second F particles are mixed in advance in a blender and then introduced into an extruder.
The initial temperature of the cooling roll is preferably 150 to 250°C. In this case, since the melt-kneaded product can be rapidly cooled, small spherulites of the F polymer are likely to be formed in the film, and therefore, island domains having an appropriate domain diameter due to the AR polymer are also likely to be formed.
From the viewpoint of enhancing this quenching effect, an air knife may be provided immediately after the first cooling roll to blow a slit-shaped air stream from a slit nozzle onto the melt-kneaded material formed into a film.
In this case, the temperature of the air blown out from the air knife is preferably 150 to 200°C, more preferably 170 to 200°C. Further, the flow velocity of the air blown out from the air knife is preferably 10 to 20 m/sec.

また、同様の観点から、Tダイから吐出された溶融混練物を、最初の冷却ロールに接触するまでの間、その温度を高く維持する非接触式加熱部を設けるようにしてもよい。非接触式加熱部は、例えば、対向配置された一対のヒータ等で構成し、それらの間に溶融混練物を通過させるように構成することができる。
この場合、Tダイ内における溶融混練物の温度をA[℃]、非接触式加熱部の温度をB[℃]と規定したとき、その差の絶対値(|A-B|)は、70℃以下が好ましく、30~50℃がより好ましい。この場合、Fポリマー及びARポリマーの変質を防止しつつ、溶融混練物の温度を、最初の冷却ロールに至るまで充分に高く維持できる。
Further, from the same viewpoint, a non-contact type heating section may be provided to maintain the temperature of the melt-kneaded material discharged from the T-die at a high level until it contacts the first cooling roll. The non-contact type heating section can be configured to include, for example, a pair of heaters arranged opposite to each other, and the melted and kneaded material can be passed between them.
In this case, when the temperature of the melt-kneaded material in the T-die is defined as A [°C] and the temperature of the non-contact heating section is defined as B [°C], the absolute value of the difference (|AB|) is 70 ℃ or less, more preferably 30 to 50°C. In this case, the temperature of the melt-kneaded product can be maintained sufficiently high until it reaches the first cooling roll while preventing the F polymer and the AR polymer from deteriorating in quality.

得られる本フィルムは、Fポリマー(第1のFポリマー及び第2のFポリマー)の海ドメインとARポリマーの島ドメインとを含み、ARポリマーの含有量が、10質量%以下であり、島ドメインの平均ドメイン径が、1~10μmである。そして、本フィルムを厚さ25μmに形成したとき、この厚さ25μmの本フィルムにおける波長355nmの光線の透過率が、80%以下である。
本フィルムにおけるFポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、本法における第1のFポリマーのそれらと同様である。また、本フィルムにおけるARポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、本法におけるARポリマーのそれらと同様である。
上述したように、本フィルムでは、ARポリマーの含有量が少なくとも、適度なドメイン径を有する島ドメインを含むため、高いUV吸収性を有する。
The resulting film includes a sea domain of F polymer (first F polymer and second F polymer) and an island domain of AR polymer, the content of the AR polymer is 10% by mass or less, and the island domain The average domain diameter of is 1 to 10 μm. When this film is formed to have a thickness of 25 μm, the transmittance of light having a wavelength of 355 nm in this 25 μm thick film is 80% or less.
The definition and scope of the F polymer in this film, including preferred embodiments, are the same as those of the first F polymer in this method. Further, the definition and scope of the AR polymer in this film, including preferred embodiments, are the same as those of the AR polymer in this method.
As described above, this film has high UV absorption because the content of the AR polymer includes at least island domains having an appropriate domain diameter.

本フィルムにおけるARポリマーの含有量は、0.1~5質量%が好ましく、0.3~4質量%がより好ましい。この場合、本フィルムにおいて、Fポリマーに基づく特性(電気特性等)が低下するのを防止しつつ、充分に高いUV吸収性を付与できる。
また、島ドメインの平均ドメイン径は、3~7μmが好ましい。この場合、光線(UV)が本フィルム(島ドメイン)により効果的に侵入できるため、本フィルムのUV吸収性がより向上する。
The content of the AR polymer in this film is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.3 to 4% by mass. In this case, the present film can be provided with sufficiently high UV absorption while preventing the properties based on the F polymer (electrical properties, etc.) from deteriorating.
Further, the average domain diameter of the island domains is preferably 3 to 7 μm. In this case, the UV absorption of the film is further improved because the light (UV) can penetrate more effectively into the film (island domain).

厚さ25μmの本フィルムにおける波長355nmの光線の透過率(以下、「光線透過率」とも記す。)は、70%以下が好ましく、60%以下がより好ましい。光線透過率の下限は、0%である。この場合、本フィルムは、充分に高いUV吸収性を有すると判断できる。
また、厚さ25μmの押出成形フィルムの面内において、光線透過率の最大値と最小値との差は、7%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。この場合、本フィルムは、均質な特性を有すると判断できる。なお、光線透過率の最大値と最小値との差の下限は、通常、1%以上である。
The transmittance of light having a wavelength of 355 nm (hereinafter also referred to as "light transmittance") in this film having a thickness of 25 μm is preferably 70% or less, more preferably 60% or less. The lower limit of light transmittance is 0%. In this case, it can be determined that the film has sufficiently high UV absorption.
Further, in the plane of the extruded film having a thickness of 25 μm, the difference between the maximum value and the minimum value of light transmittance is preferably 7% or less, more preferably 5% or less. In this case, it can be determined that the film has homogeneous characteristics. Note that the lower limit of the difference between the maximum value and the minimum value of light transmittance is usually 1% or more.

本フィルムの厚さは、島ドメインの平均ドメイン径の2倍超であるのが好ましく、4倍超であるのがより好ましく、6倍超であるのがさらに好ましい。本フィルムの厚さは、島ドメインの平均ドメイン径の15倍以下であるのが好ましく、10倍以下であるのがより好ましい。この場合、本フィルムのUV吸収性をより高めることができる。
本フィルムの具体的な厚さは、5~150μmが好ましく、10~100μmがより好ましく、20~50μmがさらに好ましい。
Preferably, the thickness of the film is more than twice the average domain diameter of the island domains, more preferably more than 4 times, even more preferably more than 6 times. The thickness of the film is preferably 15 times or less, more preferably 10 times or less, the average domain diameter of the island domains. In this case, the UV absorbability of the film can be further improved.
The specific thickness of this film is preferably 5 to 150 μm, more preferably 10 to 100 μm, and even more preferably 20 to 50 μm.

本フィルムは、2つのFポリマー及びARポリマー以外の他の成分を含んでいてもよい。本法においては、他の成分を、溶融混練物に混合してもよく、第2のF粒子に混合してもよく、溶融混練物及び第2のF粒子の双方に混合してもよい。
他の成分としては、無機フィラー、有機フィラー、上記ポリマー以外の他の樹脂、チキソ性付与剤、消泡剤、シランカップリング剤、脱水剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、粘度調節剤、難燃剤等が挙げられる。
The film may contain other components besides the two F polymers and the AR polymer. In this method, other components may be mixed into the melt-kneaded product, the second F particles, or both the melt-kneaded product and the second F particles.
Other ingredients include inorganic fillers, organic fillers, resins other than the above polymers, thixotropic agents, antifoaming agents, silane coupling agents, dehydrating agents, plasticizers, weathering agents, antioxidants, and heat stabilizers. , a lubricant, an antistatic agent, a whitening agent, a coloring agent, a conductive agent, a mold release agent, a surface treatment agent, a viscosity modifier, a flame retardant, and the like.

無機フィラーは、窒化物フィラー又は無機酸化物フィラーが好ましく、窒化ホウ素フィラー、ベリリアフィラー(ベリリウムの酸化物のフィラー)、ケイ酸塩フィラー(シリカフィラー、ウォラストナイトフィラー、タルクフィラー)、又は金属酸化物(酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)フィラーがより好ましく、シリカフィラーがさらに好ましい。
無機フィラーは、その表面の少なくとも一部が、シランカップリング剤(3-アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等)で表面処理されているのが好ましい。
The inorganic filler is preferably a nitride filler or an inorganic oxide filler, such as a boron nitride filler, beryllia filler (beryllium oxide filler), silicate filler (silica filler, wollastonite filler, talc filler), or metal. Oxide fillers (cerium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.) fillers are more preferred, and silica fillers are even more preferred.
The inorganic filler has at least a portion of its surface coated with a silane coupling agent (3-aminopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, -methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, etc.).

無機フィラーのD50は、20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。D50は、0.01μm以上が好ましく、0.1μm以上がより好ましい。
無機フィラーの形状は、粒状、針状(繊維状)、板状のいずれであってもよい。無機フィラーの具体的な形状としては、球状、鱗片状、層状、葉片状、杏仁状、柱状、鶏冠状、等軸状、葉状、雲母状、ブロック状、平板状、楔状、ロゼット状、網目状、角柱状が挙げられる。
無機フィラーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
D50 of the inorganic filler is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less. D50 is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more.
The shape of the inorganic filler may be granular, acicular (fibrous), or plate-like. Specific shapes of the inorganic filler include spherical, scale-like, layered, leaf-like, almond-like, columnar, comb-like, equiaxed, leaf-like, mica-like, block-like, tabular, wedge-like, rosette-like, and mesh. Examples include prismatic and prismatic shapes.
One type of inorganic filler may be used alone, or two or more types may be used in combination.

無機フィラーの好適な具体例としては、シリカフィラー(アドマテックス社製の「アドマファイン(登録商標)」シリーズ等)、ジカプリン酸プロピレングリコール等のエステルで表面処理された酸化亜鉛(堺化学工業株式会社製の「FINEX(登録商標)」シリーズ等)、球状溶融シリカ(デンカ社製の「SFP(登録商標)」シリーズ等)、多価アルコール及び無機物で被覆処理された(石原産業社製の「タイペーク(登録商標)」シリーズ等)、アルキルシランで表面処理されたルチル型酸化チタン(テイカ社製の「JMT(登録商標)」シリーズ等)、中空状シリカフィラー(太平洋セメント社製の「E-SPHERES」シリーズ、日鉄鉱業社製の「シリナックス」シリーズ、エマーソン・アンド・カミング社製「エココスフイヤー」シリーズ等)、タルクフィラー(日本タルク社製の「SG」シリーズ等)、ステアタイトフィラー(日本タルク社製の「BST」シリーズ等)、窒化ホウ素フィラー(昭和電工社製の「UHP」シリーズ、デンカ社製の「デンカボロンナイトライド」シリーズ(「GP」、「HGP」グレード)等)が挙げられる。 Preferred specific examples of inorganic fillers include silica filler (such as the AdmaFine (registered trademark) series manufactured by Admatex Co., Ltd.), zinc oxide surface-treated with an ester such as propylene glycol dicaprate (Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), etc. ``FINEX (registered trademark)'' series, manufactured by Denka Co., Ltd.), spherical fused silica (``SFP (registered trademark)'' series, manufactured by Denka Co., Ltd.), coated with polyhydric alcohol and inorganic substances (``Tipake'', manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) (registered trademark) series, etc.), rutile-type titanium oxide surface-treated with alkylsilane (Tayka's "JMT (registered trademark)" series, etc.), hollow silica filler (Taiheiyo Cement Co., Ltd.'s "E-SPHERES" ” series, Nippon Steel Mining Co., Ltd.'s "Silinax" series, Emerson & Cuming's "Ecocos Fire" series, etc.), talc fillers (Nippon Talc Co., Ltd.'s "SG" series, etc.), steatite fillers (Nippon Talc Co., Ltd.'s "SG" series, etc.) Boron nitride fillers (Showa Denko's "UHP" series, Denka's "Denka Boron Nitride" series ("GP", "HGP" grades), etc.) .

他の樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、多官能シアン酸エステル樹脂、多官能マレイミド-シアン酸エステル樹脂、多官能性マレイミド樹脂、ビニルエステル樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン、ポリアリルスルホンが挙げられる。 Other resins include epoxy resins, acrylic resins, phenolic resins, polyolefin resins, modified polyphenylene ether resins, polyfunctional cyanate ester resins, polyfunctional maleimide-cyanate ester resins, polyfunctional maleimide resins, vinyl ester resins, and urea resins. resins, diallyl phthalate resins, melanin resins, guanamine resins, melamine-urea cocondensation resins, polycarbonate resins, polyarylate resins, polysulfones, and polyallylsulfones.

本フィルムと金属箔とを加熱圧着することにより、ポリマー層と金属箔層とを有する金属張積層体を製造できる。
金属張積層体は、ポリマー層及び金属箔層以外の他の層を含んでもよい。他の層としては、耐熱性樹脂層が挙げられる。
かかる金属張積層体の層構成の具体例としては、金属箔層/ポリマー層/耐熱性樹脂層、金属箔層/ポリマー層/耐熱性樹脂層/ポリマー層/金属箔層、金属箔層/耐熱性樹脂層/ポリマー層/耐熱性樹脂層/金属箔層が挙げられる。
金属箔としては、銅箔が好ましい。銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔が挙げられる。銅箔には、亜鉛クロメート等の防錆層、ニッケル、コバルト等のバリア層が形成されていてもよい。また、バリア層は、めっき処理により形成されてもよく、化成処理によって形成されてもよい。
A metal-clad laminate having a polymer layer and a metal foil layer can be manufactured by heat-pressing the film and the metal foil.
The metal clad laminate may include layers other than the polymer layer and the metal foil layer. Other layers include a heat-resistant resin layer.
Specific examples of the layer structure of such a metal-clad laminate include metal foil layer/polymer layer/heat-resistant resin layer, metal foil layer/polymer layer/heat-resistant resin layer/polymer layer/metal foil layer, metal foil layer/heat-resistant resin layer Examples include heat-resistant resin layer/polymer layer/heat-resistant resin layer/metal foil layer.
As the metal foil, copper foil is preferable. Examples of the copper foil include rolled copper foil and electrolytic copper foil. The copper foil may be provided with a rust preventive layer such as zinc chromate or a barrier layer such as nickel or cobalt. Further, the barrier layer may be formed by plating treatment or by chemical conversion treatment.

金属箔層とポリマー層との密着性を向上させる観点から、金属箔層の表面は、シランカップリング剤で処理されていてもよい。シランカップリング剤としては、エポキシシラン、アミノシラン、ビニルシラン、アクリロキシシラン、メタクリロキシシラン、ウレイドシラン、メルカプトシラン、スルフィドシラン、イソシアネートシランが挙げられ、アクリロキシシラン、メタクリロキシシラン、エポキシシランが好ましい。シランカップリング剤は、1種を使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
金属箔層のポリマー層側の表面のRzjisは、0.3~1.6が好ましい。Rzjisが0.3以上であれば、UV-YAGレーザーによる孔開け加工時に金属箔層とポリマー層との間で層間剥離が生じにくい。Rzjisが1.6以下であれば、粗さに起因する伝送損失の増大を抑制できる。
金属箔層の厚さは、3~18μmが好ましく、6~12μmがより好ましい。
From the viewpoint of improving the adhesion between the metal foil layer and the polymer layer, the surface of the metal foil layer may be treated with a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include epoxysilane, aminosilane, vinylsilane, acryloxysilane, methacryloxysilane, ureidosilane, mercaptosilane, sulfidesilane, and isocyanatesilane, with acryloxysilane, methacryloxysilane, and epoxysilane being preferred. One type of silane coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.
Rzjis of the surface of the metal foil layer on the polymer layer side is preferably 0.3 to 1.6. When Rzjis is 0.3 or more, delamination is less likely to occur between the metal foil layer and the polymer layer during hole-drilling using a UV-YAG laser. If Rzjis is 1.6 or less, increase in transmission loss due to roughness can be suppressed.
The thickness of the metal foil layer is preferably 3 to 18 μm, more preferably 6 to 12 μm.

ポリマー層の誘電正接は、0.0005~0.0040が好ましく、0.0007~0.0030がより好ましい。誘電正接が低いほどポリマー層の電気特性がより優れる。
ポリマー層の厚さは、1~50μmが好ましく、2~25μmがより好ましい。ポリマー層の厚さが上記下限値以上であれば、伝送損失が小さいプリント配線板を得やすい。ポリマー層の厚さが上記上限値以下であれば、UV加工性がより向上する。なお、金属張積層体が複数のポリマー層を有する場合、それぞれの厚さを上記範囲内とするのが好ましい。
The dielectric loss tangent of the polymer layer is preferably 0.0005 to 0.0040, more preferably 0.0007 to 0.0030. The lower the dielectric loss tangent, the better the electrical properties of the polymer layer.
The thickness of the polymer layer is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 25 μm. If the thickness of the polymer layer is at least the above lower limit, it is easy to obtain a printed wiring board with low transmission loss. If the thickness of the polymer layer is below the above upper limit, UV processability will be further improved. In addition, when a metal clad laminate has a plurality of polymer layers, it is preferable that the thickness of each polymer layer is within the above range.

耐熱性樹脂層の構成材料(耐熱樹脂材料)としては、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンオキシド、ポリエステル、ポリアミド、アラミド繊維が挙げられる。中でも、耐熱樹脂材料としては、ポリイミド、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンオキシド及びアラミド繊維からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ポリイミド又は液晶ポリマーがより好ましい。
耐熱性樹脂層は、UV加工性を高める観点から、異種材料が少ない方が好ましく、上記非熱可塑性ポリイミド単独で構成されるのが好ましい。
金属張積層体が耐熱性樹脂層を有する場合、耐熱性樹脂層の厚さ(複数の場合、合計厚さ)に対するポリマー層の厚さ(複数の場合、合計厚さ)の比は、0.5~2が好ましい。この場合、ポリマー層のUV-YAGレーザーによる孔開け加工が容易になり、また、伝送損失も低減しやすい。
Examples of the constituent material (heat-resistant resin material) of the heat-resistant resin layer include polyimide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyphenylene oxide, polyester, polyamide, and aramid fiber. Among these, the heat-resistant resin material is preferably at least one selected from the group consisting of polyimide, liquid crystal polymer, polyether ether ketone, polyphenylene oxide, and aramid fiber, and polyimide or liquid crystal polymer is more preferable.
From the viewpoint of improving UV processability, the heat-resistant resin layer preferably contains fewer different materials, and is preferably composed of the above-mentioned non-thermoplastic polyimide alone.
When the metal clad laminate has a heat-resistant resin layer, the ratio of the thickness of the polymer layer (total thickness in the case of plurality) to the thickness of the heat-resistant resin layer (total thickness in the case of plurality) is 0. 5 to 2 is preferred. In this case, it becomes easy to make holes in the polymer layer using a UV-YAG laser, and transmission loss is also easily reduced.

金属張積層体の厚さは、10~150μmが好ましく、15~100μmがより好ましく、20~50μmがさらに好ましい。この場合、金属張積層体をプリント配線板としてより安定して使用でき、UV-YAGレーザーにより貫通孔を形成しやすい。
貫通孔の開口形状としては、円形状が好ましい。この場合、直径を0.05~0.10mmの範囲に設定できる。
貫通孔の数は、1つでもよく、2つ以上でもよい。
貫通孔の内壁面には、必要に応じてメッキ層を形成してもよい。例えば、プリント配線板が厚さ方向の両側に導体を有する場合、貫通孔の内壁面にメッキ層を形成すれば、互いの導体同士の間の導通を確保できる。
The thickness of the metal-clad laminate is preferably 10 to 150 μm, more preferably 15 to 100 μm, and even more preferably 20 to 50 μm. In this case, the metal-clad laminate can be used more stably as a printed wiring board, and through holes can be easily formed using a UV-YAG laser.
The opening shape of the through hole is preferably circular. In this case, the diameter can be set within the range of 0.05 to 0.10 mm.
The number of through holes may be one or two or more.
A plating layer may be formed on the inner wall surface of the through hole, if necessary. For example, when a printed wiring board has conductors on both sides in the thickness direction, conduction between the conductors can be ensured by forming a plating layer on the inner wall surface of the through hole.

メッキ層としては、銅メッキ層、金メッキ層、ニッケルメッキ層、クロムメッキ層、亜鉛メッキ層、スズメッキ層が挙げられる。
伝送損失は、プリント配線板における、信号の入力部から出力部までの信号の減衰を表すパラメータである。
プリント配線板の伝送損失は、40GHzにおいて、-0.07dB/mm以上が好ましく、-0.06dB/mm以上がより好ましい。
Examples of the plating layer include a copper plating layer, a gold plating layer, a nickel plating layer, a chrome plating layer, a zinc plating layer, and a tin plating layer.
Transmission loss is a parameter representing the attenuation of a signal from a signal input section to an output section in a printed wiring board.
The transmission loss of the printed wiring board is preferably -0.07 dB/mm or more, more preferably -0.06 dB/mm or more at 40 GHz.

プリント配線板は、上記金属張積層体に対して、UV-YAGレーザーの照射による孔開け加工で貫通孔を形成する方法により製造できる。
UV-YAGレーザーの波長は、3倍高調波(波長355nm)又は4倍高調波(266nm)が好ましい。
孔開け加工には、UV-YAGレーザー加工機を使用できる。UV-YAGレーザーによる孔開け加工には、トレパニング加工を採用できる。具体的には、貫通孔を形成すべき箇所の周縁に沿って、径を絞ったレーザーを周回させながら照射し、金属張積層体を部分的にくり抜いて貫通孔を形成できる。
The printed wiring board can be manufactured by a method of forming through holes in the metal clad laminate by irradiating the metal clad laminate with a UV-YAG laser.
The wavelength of the UV-YAG laser is preferably 3rd harmonic (wavelength 355 nm) or 4th harmonic (266 nm).
A UV-YAG laser processing machine can be used for drilling. Trepanning processing can be used for hole-drilling processing using UV-YAG laser. Specifically, the metal clad laminate can be partially hollowed out by irradiating a laser with a narrowed diameter while circulating along the periphery of the location where the through hole is to be formed, thereby forming the through hole.

レーザーの出力、レーザー照射の周回回数、レーザーの発振周波数は、金属張積層体の厚さに応じて設定できる。
波長355nmのレーザー光を使用する場合、その出力は、0.1~3.0Wが好ましく、0.5~2.0Wがより好ましい。波長266nmのレーザー光を使用する場合、その出力は、0.01~0.5Wが好ましく、0.05~0.3Wがより好ましい。この場合、貫通孔の形成が容易になり、レーザーの熱による樹脂の飛散物も少なくできる。
レーザー照射の周回回数は、5~50回が好ましい。
波長355nmのレーザー光を使用する場合、その発振周波数は、20~80kHzが好ましい。波長266nmのレーザー光を使用する場合、その発振周波数は、1~10kHzが好ましい。
The laser output, the number of rounds of laser irradiation, and the laser oscillation frequency can be set depending on the thickness of the metal clad laminate.
When using a laser beam with a wavelength of 355 nm, its output is preferably 0.1 to 3.0 W, more preferably 0.5 to 2.0 W. When using a laser beam with a wavelength of 266 nm, its output is preferably 0.01 to 0.5W, more preferably 0.05 to 0.3W. In this case, the through-holes can be easily formed, and the amount of resin scattered due to laser heat can be reduced.
The number of rounds of laser irradiation is preferably 5 to 50 times.
When using a laser beam with a wavelength of 355 nm, its oscillation frequency is preferably 20 to 80 kHz. When using a laser beam with a wavelength of 266 nm, its oscillation frequency is preferably 1 to 10 kHz.

上記金属張積層体は、所定の海島構造を備える本フィルムで作成されたポリマー層を有し、その波長355nmの光線の透過率が制御されている。このため、ポリマー層は、添加剤を用いなくても、UV-YAGレーザーの吸収率が高まり、結果として、電気特性の低下を抑制しつつ、UV-YAGレーザーを用いて容易に小口径の貫通孔を形成できる。
このようにして製造されるプリント配線板は、高周波用途に好適に使用できる。
The metal-clad laminate has a polymer layer made of this film having a predetermined sea-island structure, and the transmittance of light having a wavelength of 355 nm is controlled. Therefore, the absorption rate of the UV-YAG laser increases even without the use of additives, and as a result, it is possible to easily penetrate small diameters using the UV-YAG laser while suppressing the deterioration of electrical properties. Pores can be formed.
The printed wiring board manufactured in this way can be suitably used for high frequency applications.

以上、本発明の押出成形フィルムの製造方法及び押出成形フィルムについて説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されない。
例えば、本発明の押出成形フィルムの製造方法は、上記実施形態の構成において、他の任意の工程を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の工程と置換されていてよい。
また、本発明の押出成形フィルムは、上記実施形態の構成において、他の任意の構成を追加で有してもよいし、同様の作用を生じる任意の構成と置換されていてよい。
Although the method for producing an extruded film and the extruded film of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the configuration of the embodiments described above.
For example, the method for producing an extruded film of the present invention may additionally include any other process in the configuration of the above embodiment, or may be replaced with any process that produces the same effect.
Furthermore, the extruded film of the present invention may additionally have any other configuration in the configuration of the above embodiment, or may be replaced with any configuration that produces the same effect.

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
1.各成分の準備
[F粒子]
F粒子1:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に97.9モル%、0.1モル%、2.0モル%含み、極性官能基を有するFポリマー1(溶融温度:300℃、MFR:28g/10min)からなる粉体状の粒子(D50:2.1μm)
F粒子2:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に97.9モル%、0.1モル%、2.0モル%含み、極性官能基を有するFポリマー2(溶融温度:300℃、MFR:22g/10min)からなるペレット状の粒子
F粒子3:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー3(溶融温度305℃、MFR:28g/10min)からなる粉体状の粒子(D50:2.3μm)
F粒子4:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー4(溶融温度305℃、MFR:22g/10min)からなるペレット状の粒子
F粒子5:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、極性官能基を有しないFポリマー5(溶融温度305℃、MFR:16g/10min)からなるペレット状の粒子
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
1. Preparation of each component [F particles]
F particle 1: F polymer 1 containing TFE units, NAH units, and PPVE units in this order at 97.9 mol%, 0.1 mol%, and 2.0 mol%, and having a polar functional group (melting temperature: 300 ° C. Powder-like particles (D50: 2.1 μm) consisting of MFR: 28 g/10 min)
F particle 2: F polymer 2 containing TFE units, NAH units, and PPVE units in this order at 97.9 mol%, 0.1 mol%, and 2.0 mol%, and having a polar functional group (melting temperature: 300 ° C. MFR: 22g/10min) F particles 3: Contains 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order, and has no polar functional groups F polymer 3 (melting temperature Powder-like particles (D50: 2.3 μm) consisting of 305° C., MFR: 28 g/10 min)
F particles 4: Pellets made of F polymer 4 (melting temperature 305°C, MFR: 22 g/10 min) containing 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order and having no polar functional groups. F particles 5: F polymer 5 containing 97.5 mol% and 2.5 mol% of TFE units and PPVE units in this order and having no polar functional group (melting temperature 305°C, MFR: 16 g/10 min) pellet-like particles consisting of

[AR粒子]
AR粒子1:非熱可塑性ポリイミド(Tg:337℃)の粒子(D50:3μm、ダイセル・エボニック社製「P84NT superfine」)
AR粒子2:非熱可塑性ポリイミド(Tg:355℃)の粒子(D50:13μm、宇部興産社製「UIP-SA」)
[銅箔]
銅箔1:低粗化銅箔(厚さ:12μm、福田金属箔粉工業社製、「CF-T49A-DS-HD2)
[AR particles]
AR particle 1: non-thermoplastic polyimide (Tg: 337°C) particle (D50: 3 μm, “P84NT superfine” manufactured by Daicel-Evonik)
AR particle 2: non-thermoplastic polyimide (Tg: 355°C) particle (D50: 13 μm, “UIP-SA” manufactured by Ube Industries, Ltd.)
[Copper foil]
Copper foil 1: Low roughening copper foil (thickness: 12 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil and Powder Industries Co., Ltd., "CF-T49A-DS-HD2")

2.フィルムの製造例
[例1]
F粒子1(90質量部)とAR粒子(10質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。2軸押出機(テクノベル社製、「KZW15TW-45MG」)を用いて、混合物を溶融混錬(スクリュー回転数:200rpm、設定樹脂温度:370℃)し、ペレット1を製造した。ペレット1のMFRは24g/10minであった。
ペレット1(10質量部)とF粒子2(90質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。単軸押出機(700mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機)を用いて、混合物をダイ温度340℃で押出成形し、幅500mm、長さ100m、厚さ25μmのフィルム1を得た。フィルム1における島ドメインの平均ドメイン径は、3μmであった。
なお、平均ドメイン径は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察されるフィルムの断面におけるSEM写真から、画像処理にて島ドメインを判定して求められる。
2. Film manufacturing example [Example 1]
F particles 1 (90 parts by mass) and AR particles (10 parts by mass) were stirred in a blender to prepare a mixture. The mixture was melt-kneaded (screw rotation speed: 200 rpm, set resin temperature: 370° C.) using a twin-screw extruder (manufactured by Technovel, “KZW15TW-45MG”) to produce pellets 1. The MFR of pellet 1 was 24 g/10 min.
Pellets 1 (10 parts by mass) and F particles 2 (90 parts by mass) were stirred in a blender to prepare a mixture. The mixture was extruded using a single screw extruder (a 30 mmφ single screw extruder with a 700 mm width coat hanger die) at a die temperature of 340° C. to obtain a film 1 having a width of 500 mm, a length of 100 m, and a thickness of 25 μm. The average domain diameter of the island domains in Film 1 was 3 μm.
Note that the average domain diameter is determined by determining island domains through image processing from a SEM photograph of a cross section of the film observed using a scanning electron microscope (SEM).

[例2~6]
F粒子及びAR粒子の種類と量とを、表1に示す通り変更した以外は、ペレット1と同様にして、ペレット2~5を得た。
ペレット及びF粒子の種類と量とを、表2に示す通り変更した以外は、フィルム1と同様にして、フィルム2~6を得た。
[例7]
F粒子2(99質量部)とAR粒子1(1質量部)とを、ブレンダーで撹拌し、混合物を調製した。混合物を、単軸押出機(750mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機)を用いて、ダイ温度340℃で押出成形し、幅500mm、長さ100m、厚さ25μmのフィルム7を得た。
[Examples 2 to 6]
Pellets 2 to 5 were obtained in the same manner as pellet 1, except that the types and amounts of F particles and AR particles were changed as shown in Table 1.
Films 2 to 6 were obtained in the same manner as Film 1, except that the types and amounts of pellets and F particles were changed as shown in Table 2.
[Example 7]
F particles 2 (99 parts by mass) and AR particles 1 (1 part by mass) were stirred in a blender to prepare a mixture. The mixture was extruded using a single screw extruder (a 30 mmφ single screw extruder with a 750 mm width coat hanger die) at a die temperature of 340° C. to obtain a film 7 with a width of 500 mm, a length of 100 m, and a thickness of 25 μm. .

フィルム1~7の成分、それぞれのペレットとF粒子とのMFRの差、フィルム中のARポリマーの含有量、島ドメインの平均ドメイン径も併せて、表2に示した。なお、フィルム6中には島ドメインが存在せず、フィルム7はペレットを用いなかったため、ペレットとF粒子とのMFRの差は存在しない。 The components of Films 1 to 7, the difference in MFR between each pellet and F particles, the content of AR polymer in the film, and the average domain diameter of the island domains are also shown in Table 2. Note that there is no island domain in film 6, and film 7 did not use pellets, so there is no difference in MFR between pellets and F particles.

Figure 0007443969000001
Figure 0007443969000001

Figure 0007443969000002
Figure 0007443969000002

3.積層体の製造
フィルム1の表面に銅箔1を重ね、真空熱プレスして積層体1を得た。なお、処理条件は、温度:340℃、加圧圧力:3.0MPa、加圧時間:20分間とした。
フィルム1を、フィルム2~6に変更した以外は、積層体1と同様にして、積層体2~7を得た。
3. Manufacture of laminate The copper foil 1 was layered on the surface of the film 1, and the laminate 1 was obtained by vacuum hot pressing. Note that the processing conditions were: temperature: 340°C, pressurizing pressure: 3.0 MPa, and pressurizing time: 20 minutes.
Laminates 2 to 7 were obtained in the same manner as laminate 1 except that Film 1 was changed to Films 2 to 6.

4.評価
4-1.フィルムの評価
4-1-1.光線透過性の評価
得られたフィルムの、波長355nmの紫外線の透過率を、分光光度計(株式会社島津製作所製、「UV-3600」)を使用して測定した。また、フィルムの幅方向で3点、長手方向で5mおきに、合計60点における上記紫外線の透過率を測定し、最大値と最小値との差を求めた。
4. Evaluation 4-1. Film evaluation 4-1-1. Evaluation of light transmittance The transmittance of the obtained film to ultraviolet light at a wavelength of 355 nm was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, "UV-3600"). Further, the transmittance of the ultraviolet rays was measured at 60 points in total, 3 points in the width direction of the film and every 5 m in the longitudinal direction, and the difference between the maximum value and the minimum value was determined.

4-1-2.電気特性の評価
得られたフィルムについて、SPDR(スプリットポスト誘電体共振)法にて、その誘電正接(測定周波数:10GHz)を測定した。
[評価基準]
〇:誘電正接が0.0010未満である。
△:誘電正接が0.0010以上0.0040以下である。
×:誘電正接が0.0040超である。
4-1-2. Evaluation of Electrical Properties The dielectric loss tangent (measurement frequency: 10 GHz) of the obtained film was measured using the SPDR (split post dielectric resonance) method.
[Evaluation criteria]
○: Dielectric loss tangent is less than 0.0010.
Δ: Dielectric loss tangent is 0.0010 or more and 0.0040 or less.
×: Dielectric loss tangent is over 0.0040.

4-2.積層体の評価
4-2-1.UV加工性(UVレーザー加工性)の評価
積層体に対して、レーザー加工機(esi5330)を使用して、直径100μmの円周上を周回するように、波長355nmのUV-YAGレーザーを照射した。これにより、積層体に円形の貫通孔を形成した。なお、レーザー出力を1.5W、レーザー焦点径を25μm、円周上の周回回数は16回、発振周波数は40kHzとした。
その後、貫通孔を含む積層体の断片を切り出し、熱硬化性エポキシ樹脂で固めた。次いで、貫通孔の断面が露出するまで研磨した。100個の貫通孔の周辺断面を顕微鏡で観察し、層界面における、削れ及び剥がれの発生の有無を確認し、以下の基準にて評価した。
[評価基準]
〇:全ての貫通孔で削れ及び剥がれの発生無し
△:1個以上5個以下の貫通孔で、削れ及び剥がれの発生有り
×:5個超の貫通孔で、削れ及び剥がれの発生有り
それぞれの評価結果を、まとめて表3に示す。
4-2. Evaluation of laminate 4-2-1. Evaluation of UV processability (UV laser processability) Using a laser processing machine (esi5330), the laminate was irradiated with a UV-YAG laser with a wavelength of 355 nm so as to orbit around a circle with a diameter of 100 μm. . Thereby, a circular through hole was formed in the laminate. Note that the laser output was 1.5 W, the laser focal diameter was 25 μm, the number of turns on the circumference was 16, and the oscillation frequency was 40 kHz.
Thereafter, pieces of the laminate containing through holes were cut out and hardened with thermosetting epoxy resin. Next, polishing was performed until the cross section of the through hole was exposed. The peripheral cross sections of 100 through-holes were observed with a microscope to confirm the occurrence of scraping and peeling at the layer interfaces, and evaluation was made based on the following criteria.
[Evaluation criteria]
〇: No scraping and peeling occurred in all through holes △: Scraping and peeling occurred in 1 to 5 through holes ×: Scraping and peeling occurred in more than 5 through holes The evaluation results are summarized in Table 3.

Figure 0007443969000003
Figure 0007443969000003

Claims (7)

溶融温度が270~320℃の第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子及び平均粒子径が1~10μmの芳香族性ポリマーの粒子の溶融混練物と、溶融温度が270~320℃の第2のテトラフルオロエチレンポリマーの粒子との混合物を溶融押出成形して、前記芳香族性ポリマーを10質量%以下で含む押出成形フィルムを得る、押出成形フィルムの製造方法であって、
前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融流れ速度が、前記溶融混練物の溶融流れ速度±8g/10分の範囲にある、押出成形フィルムの製造方法
A melt-kneaded product of particles of a first tetrafluoroethylene polymer having a melting temperature of 270 to 320°C and particles of an aromatic polymer having an average particle diameter of 1 to 10 μm, and a second polymer having a melting temperature of 270 to 320°C. A method for producing an extruded film, comprising melt-extruding a mixture with particles of a tetrafluoroethylene polymer to obtain an extruded film containing 10% by mass or less of the aromatic polymer ,
A method for producing an extrusion film, wherein the melt flow rate of the second tetrafluoroethylene polymer is within the range of ±8 g/10 minutes of the melt flow rate of the melt-kneaded product .
前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー及び前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーが、それぞれ独立に、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、極性官能基を有するテトラフルオロエチレン系ポリマー、又は、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を2.0~5.0モル%含み、極性官能基を有さないテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1に記載の製造方法。 The first tetrafluoroethylene polymer and the second tetrafluoroethylene polymer each independently contain a unit based on perfluoro(alkyl vinyl ether) and have a polar functional group, or a tetrafluoroethylene polymer having a polar functional group; The production method according to claim 1, which is a tetrafluoroethylene polymer containing 2.0 to 5.0 mol% of units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) based on the units and having no polar functional group. 前記芳香族性ポリマーが、非熱可塑性ポリイミドである、請求項1又は2に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 1 or 2 , wherein the aromatic polymer is a non-thermoplastic polyimide. 前記芳香族性ポリマーのガラス転移温度が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融温度+20℃以上の範囲にある、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 3 , wherein the glass transition temperature of the aromatic polymer is in the range of the melting temperature of the first tetrafluoroethylene polymer +20°C or higher. 前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの溶融流れ速度が、前記溶融混練物の溶融流れ速度±7g/10分の範囲にある、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 4 , wherein the melt flow rate of the second tetrafluoroethylene polymer is in the range of ±7 g/10 minutes of the melt flow rate of the melt-kneaded product. 前記溶融混練物における前記芳香族性ポリマーの含有量が、前記第1のテトラフルオロエチレン系ポリマー100質量部に対して、5~30質量部である、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 According to any one of claims 1 to 5 , the content of the aromatic polymer in the melt-kneaded product is 5 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of the first tetrafluoroethylene polymer. Manufacturing method described. 前記混合物において、前記第2のテトラフルオロエチレン系ポリマーの粒子の、前記溶融混練物に対する質量での混合比が、5~20である、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The manufacturing method according to any one of claims 1 to 6 , wherein in the mixture, a mixing ratio of the particles of the second tetrafluoroethylene polymer to the melt-kneaded material in terms of mass is 5 to 20. .
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