JP2022013799A - Nanoimprint replica mold manufacturing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はナノインプリント用レプリカモールド製作装置に関する。 The present invention relates to a replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint.
最近ディスプレイ工程および半導体工程で基板(例えば、ディスプレイパネルおよびウェハー(Wafer)等)の表面にパターン(例えば、構造化された成形パターンおよび食刻または蒸着のためのマスクパターンなど)を形成するためにナノインプリント(Nano Imprint)工程が利用されている。 Recently, in display and semiconductor processes, to form patterns on the surface of substrates (eg, display panels and wafers, etc.), such as structured molding patterns and mask patterns for etching or vapor deposition. A NanoImplint process is used.
モールド(Mold)を利用してインプリント(Imprint)形態に基板の表面にナノメートル~マイクロメートル大きさの微細パターンを形成するナノインプリント工程は、マスターモールド10を利用して基板の表面に直接パターンを形成してもよいが、最近ではマスターモールド10からレプリカモールド20を製作し、製作されたレプリカモールド20を利用して基板の表面にパターンを形成する方法が主に利用されている。
In the nanoimprint process of forming a fine pattern of nanometer to micrometer size on the surface of a substrate in an Imprint form using Mold, the pattern is directly formed on the surface of the substrate using Master Mold 10. Although it may be formed, recently, a method of manufacturing a
この時、マスターモールド10から製作された1次レプリカモールド20から複製された2次レプリカモールド20を製作することができる。このような、2次レプリカモールド20を製作する1次レプリカモールド20もマスターモールド10と指し示すことができる。すなわち、マスターモールド10はレプリカモールド20を製作するモールドを通称する意味であり得る。また、レプリカモールド20はマスターモールド10から製作されるモールドを通称する意味であり得る。
At this time, the
このような、レプリカモールド20を製作する多様な方法の一つにおいて、プレスローラ部120をフィルム60の上側で前進(モールディング工程)および後進(ディモールディング(Demolding)工程)することによってフィルム60にレプリカモールド20を形成するロール転写方法がある。
In one of various methods for manufacturing such a
一方、ロール転写方法を遂行するレプリカモールド20製作装置は、プレスローラ部120が前進する長さに比例して装置の大きさが大きくなる問題点がある。
On the other hand, the
また、レプリカモールド20製作装置は、フィルム60がプレスローラ部120に進入する角度を一定にするために装置の大きさが大きくなる問題点がある。
Further, the
また、レプリカモールド20製作装置は、マスターモールド10のパターンにレジン70を塗布する時、塗布容量の偏差が発生する問題点がある。
Further, the
本発明はナノインプリント用レプリカモールド製作装置を提供することにその目的がある。 An object of the present invention is to provide a replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint.
本発明の実施例に係るナノインプリント用レプリカモールド製作装置は、一側から供給されるフィルムにレプリカモールドを形成する転写部と、前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部と、
前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部を含み、前記転写部は、レジンが塗布されるパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部と、水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部と、前記プレスローラ部を一側の待機位置から他側に移動させ再び前記待機位置に復帰させるために駆動される転写部駆動ユニットと、前記レジンに光を照射する光照射部と、前記光照射部および前記プレスローラ部と結合されて共に前記駆動ユニットによって移動される結合移動部と、を含み、前記光照射部は照射方向が前記ステージ部と垂直な下側方向を基準として前記プレスローラ部に向かうように傾く。
The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to the embodiment of the present invention has a transfer portion that forms a replica mold on a film supplied from one side, and the film is intermittently unwound and the film is directed toward the transfer portion. The film supply unit to supply and
The transfer unit includes a film recovery unit that intermittently winds the film and collects the film from the transfer unit, and the transfer unit is horizontal to a stage unit on which a master mold having a pattern to which a resin is applied is mounted. A press roller unit that moves in a direction to form the replica mold, and a transfer unit drive unit that is driven to move the press roller unit from a standby position on one side to the other side and return it to the standby position again. The light irradiation unit includes a light irradiation unit that irradiates the resin with light, a coupling moving unit that is coupled to the light irradiation unit and the press roller unit and is moved by the drive unit, and the light irradiation unit has the irradiation direction described above. Tilt toward the press roller portion with reference to the lower direction perpendicular to the stage portion.
実施例によると、前記光照射部は、照射方向が10度~80度内で傾くようにガイドする照射方向ガイド部を含む。 According to the embodiment, the light irradiation unit includes an irradiation direction guide unit that guides the irradiation direction so as to be tilted within 10 to 80 degrees.
実施例によると、前記光照射部は、前記光照射部から突出するように配置されて前記レジンに照射する光が拡散して前記レジンに重複的に光が照射されることを遮蔽する遮光部をさらに含む。 According to the embodiment, the light irradiation unit is arranged so as to project from the light irradiation unit, and is a light-shielding unit that shields the resin from being diffused by the light irradiating the resin and irradiating the resin with light. Including further.
実施例によると、前記フィルム回収部と前記転写部の間に一つ以上配置されてフィルムの進入角度を調整するガイドロールをさらに含み、前記転写部は、前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように前記プレスローラ部と垂直および水平方向に離隔するフィルム角度維持ローラ部をさらに含み、前記フィルム角度維持ローラ部は前記プレスローラ部より前記フィルム供給部から供給されたフィルムが先に進入するように位置し、前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面に接触する、ディモールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部が前記レプリカモールドに接触しないように、前記フィルム角度維持ローラ部と前記プレスローラ部の間のフィルムの長さは前記プレスローラ部が前記レプリカモールドを形成するために水平方向に移動する長さに対応し、前記ガイドロールは前記フィルム回収部に回収される前記フィルムに沿って移動する前記レプリカモールドに接触しないように、前記ガイドロールは前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面と異なる面に接触する。 According to the embodiment, one or more guide rolls are arranged between the film recovery section and the transfer section to adjust the approach angle of the film, and the transfer section further includes the film entering the press roller section. A film angle maintaining roller section that is vertically and horizontally separated from the press roller section so as to change the angle is further included, and the film angle maintaining roller section is preceded by the film supplied from the film supply section from the press roller section. The film angle maintaining roller portion is in contact with the surface of both sides of the film on which the replica mold is formed. The length of the film between the film angle maintaining roller section and the press roller section corresponds to the length of the press roller section moving horizontally to form the replica mold so as not to contact the mold. The guide roll is placed on both sides of the film, which is different from the surface on which the replica mold is formed, so that the guide roll does not come into contact with the replica mold that moves along the film collected by the film recovery unit. Contact.
実施例によると、一側の待機位置に位置する前記プレスローラ部と前記マスターモールドのパターンの間の空間である塗布領域に、前記マスターモールドのパターンと重ならないように前記レジンを塗布するディスペンサ部と、前記プレスローラ部の垂直位置を移動させて前記ステージ部と前記プレスローラ部の間に間隔が形成されるように駆動するプレスローラ駆動ユニットをさらに含み、前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の間隔を通じて前記プレスローラ部が一側の待機位置から他側に移動する水平方向に前記レジンを拡散させて前記マスターモールドのパターンに塗布する。 According to the embodiment, the dispenser portion that applies the resin to the coating region, which is the space between the press roller portion located at the standby position on one side and the pattern of the master mold, so as not to overlap the pattern of the master mold. Further includes a press roller drive unit that moves the vertical position of the press roller portion to drive the stage portion and the press roller portion so as to form a space between the stage portion and the press roller portion. The resin is diffused in the horizontal direction in which the press roller portion moves from the standby position on one side to the other side through the interval between them, and is applied to the pattern of the master mold.
実施例によると、前記ステージ部を昇下降させるステージ駆動ユニットと、前記レジンを塗布するために前記ステージ駆動ユニットによって下降されたステージ部に前記ディスペンサ部を引き込ませ再び前記ディスペンサ部を引き出させるディスペンサ駆動ユニットをさらに含む。 According to the embodiment, the dispenser drive that pulls the dispenser part into the stage drive unit that raises and lowers the stage part and the stage part that is lowered by the stage drive unit to apply the resin and pulls out the dispenser part again. Includes more units.
実施例によると、一側から供給されるフィルムにレプリカモールドを形成する転写部と、前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部と、前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部と、前記フィルム回収部と前記転写部の間に一つ以上配置されて前記フィルムを前記フィルム回収部に案内するガイドロールと、を含み、前記ガイドロールが前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成されない面にのみ接触し、前記レプリカモールドが形成される面には接触しないようにするために、前記転写部は、水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するように、前記フィルム回収部より下側に位置し前記ガイドロールより前記フィルムが供給される一側に位置するプレスローラ部と、前記プレスローラ部を待機位置から前記フィルムが供給される一側に向かって移動させてモールディング工程を進行し再び前記待機位置に復帰させてディモールディング工程を進行するために駆動される転写部駆動ユニットと、前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように、前記プレスローラ部より前記フィルムが供給される一側に位置して前記プレスローラ部を挟んで前記ガイドロールと反対側に位置し、前記プレスローラ部より上側に位置するフィルム角度維持ローラ部と、前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部をともに移動させるように結合し、前記転写部駆動ユニットによって移動される結合移動部を含み、前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルム供給部から前記転写部に前記フィルムが供給され、前記モールディング工程を進行し、前記ディモールディング工程を進行し、前記転写部から前記フィルム回収部に前記フィルムが回収される間前記プレスローラ部との位置が変更されず、前記ガイドロールは前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部が移動する間位置が移動されず、前記モールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部は前記ガイドロールから離隔距離が増加し、前記ディモールディング工程が進行される間前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部は前記ガイドロールから離隔距離が減少する。 According to an embodiment, a transfer unit that forms a replica mold on a film supplied from one side, a film supply unit that intermittently unwinds the film and supplies the film toward the transfer unit, and the film. A film recovery unit that is intermittently wound to collect the film from the transfer unit, and a guide roll that is arranged between the film collection unit and the transfer unit to guide the film to the film collection unit. In order to prevent the guide roll from contacting only the surface of both sides of the film where the replica mold is not formed and not the surface where the replica mold is formed, the transfer portion is horizontal. The press roller section located below the film recovery section and one side to which the film is supplied from the guide roll and the press roller section stand by so as to move in the direction to form the replica mold. The transfer unit drive unit driven to move the film from the position toward one side to which the film is supplied to proceed with the molding process, return to the standby position again, and proceed with the demolding process, and the film is said to be said. The press roller is located on one side where the film is supplied from the press roller portion and is located on the opposite side of the guide roll with the press roller portion sandwiched so as to change the angle of entry into the press roller portion. The film includes a film angle maintaining roller portion located above the portion, a coupling moving portion that is coupled so as to move both the film angle maintaining roller portion and the press roller portion, and is moved by the transfer unit driving unit. In the angle maintaining roller section, the film is supplied from the film supply section to the transfer section, the molding step is advanced, the demolding step is advanced, and the film is recovered from the transfer section to the film recovery section. The position of the guide roll with the press roller portion is not changed, the position of the guide roll is not moved while the film angle maintaining roller portion and the press roller portion move, and the film angle is maintained while the molding process is performed. The separation distance of the roller portion and the press roller portion from the guide roll increases, and the separation distance of the film angle maintaining roller portion and the press roller portion decreases from the guide roll while the dimolding step is in progress.
実施例によると、前記フィルム角度維持ローラ部と前記フィルム供給部の間の距離は前記プレスローラ部と前記フィルム供給部の間の距離より短く、前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面に接触する、前記ディモールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部が前記レプリカモールドに接触しないように、前記フィルム角度維持ローラ部と前記プレスローラ部の間のフィルムの長さは前記プレスローラ部が前記レプリカモールドを形成するために水平方向に移動する長さに対応する。 According to the embodiment, the distance between the film angle maintaining roller section and the film supply section is shorter than the distance between the press roller section and the film supply section, and the film angle maintaining roller section is on both sides of the film. Between the film angle maintaining roller portion and the press roller portion so that the film angle maintaining roller portion does not come into contact with the replica mold during the progress of the dimolding step of contacting the surface on which the replica mold is formed. The length of the film corresponds to the length by which the press roller portion moves horizontally to form the replica mold.
実施例によると、一側から供給されるフィルムにレプリカモールドを形成する転写部と、ディスペンサ部を含み、前記転写部は、上面にパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部と、水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部と、前記プレスローラ部を待機位置から水平方向に移動させ再び前記待機位置に復帰させるために駆動される転写部駆動ユニットを含み、前記ディスペンサ部は前記待機位置に位置する前記プレスローラ部と前記マスターモールドのパターンの間の空間である前記ステージ部の上面の塗布領域に、前記マスターモールドのパターンと重ならないようにレジンを塗布し、前記プレスローラ部は、前記待機位置から水平方向に移動しながら、前記マスターモールドのパターンと重ならない領域である前記塗布領域から前記水平方向に前記レジンを拡散させて前記マスターモールドの上面に前記レジンを塗布し、前記マスターモールドの上面に塗布された前記レジンの上側を移動しながら、前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合してレプリカモールドを形成し、前記塗布領域内で前記レジンが最初に塗布される位置と前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合する位置は水平方向に離隔する。 According to an embodiment, a transfer portion for forming a replica mold on a film supplied from one side and a dispenser portion are included, and the transfer portion is horizontal to a stage portion on which a master mold having a pattern formed on an upper surface is mounted. The dispenser includes a press roller unit that moves in a direction to form the replica mold, and a transfer unit drive unit that is driven to move the press roller unit horizontally from a standby position and return the press roller unit to the standby position again. The portion is a space between the press roller portion located at the standby position and the pattern of the master mold, and the resin is applied to the coating area on the upper surface of the stage portion so as not to overlap with the pattern of the master mold. While moving horizontally from the standby position, the press roller portion diffuses the resin in the horizontal direction from the coating area, which is a region that does not overlap with the pattern of the master mold, and spreads the resin on the upper surface of the master mold. The resin is applied and the resin is bonded to the pattern of the master mold to form a replica mold while moving the upper side of the resin applied to the upper surface of the master mold, and the resin is first applied in the application area. The position to be formed and the position to bond the resin to the pattern of the master mold are separated in the horizontal direction.
実施例によると、前記ステージ部を昇下降させるステージ駆動ユニットと、前記レジンを塗布するために前記ステージ駆動ユニットによって下降されたステージ部に前記ディスペンサ部を引き込ませ再び前記ディスペンサ部を引き出させるディスペンサ駆動ユニットをさらに含む。 According to the embodiment, the dispenser drive that pulls the dispenser part into the stage drive unit that raises and lowers the stage part and the stage part that is lowered by the stage drive unit to apply the resin and pulls out the dispenser part again. Includes more units.
実施例によると、前記プレスローラ部の垂直位置を移動させて前記ステージ部と前記プレスローラ部の間に間隔が形成されるように駆動するプレスローラ駆動ユニットをさらに含み、前記プレスローラ部は前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の空間から移動して前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の間隔を通じて前記レジンを拡散させる。 According to the embodiment, the press roller drive unit further includes a press roller drive unit that moves the vertical position of the press roller portion to drive the stage portion and the press roller portion so as to form a space between the stage portion and the press roller portion. The resin is diffused through the space between the stage portion and the press roller portion by moving from the space between the stage portion and the press roller portion.
実施例によると、ステージ部が下降するステージ下降段階と、ディスペンサ部が前記ステージ部の内側に引き込まれ引き出されながら直接的にマスターモールドのパターンにレジンを塗布せずに、前記マスターモールドの上面に形成されたパターンと離隔した空間でありながら前記ステージ部の上面である塗布領域にレジンを塗布する塗布段階と、ステージ部が上昇する上昇段階と、プレスローラ部が待機位置から水平方向に移動しながら前記レジンが前記マスターモールドの上面に形成されたパターンに塗布されるように、前記レジンを水平方向に拡散させるモールディング段階を含み、前記モールディング段階では、前記プレスローラ部が前記マスターモールドの上面に塗布された前記レジンの上側を移動しながら、前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合してレプリカモールドを形成し、前記塗布領域内で前記レジンが最初に塗布される位置と前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合する位置は水平方向に離隔する。 According to the embodiment, the stage lowering stage in which the stage portion is lowered and the dispenser portion are pulled out to the inside of the stage portion and pulled out to the upper surface of the master mold without directly applying the resin to the pattern of the master mold. A coating stage in which the resin is applied to the coating area on the upper surface of the stage portion while being a space separated from the formed pattern, an ascending stage in which the stage portion rises, and a press roller portion move horizontally from the standby position. While including a molding step of horizontally diffusing the resin so that the resin is applied to a pattern formed on the upper surface of the master mold, in the molding step, the press roller portion is placed on the upper surface of the master mold. While moving on the upper side of the applied resin, the resin is bonded to the pattern of the master mold to form a replica mold, and the position where the resin is first applied and the pattern of the master mold in the application area are formed. The positions where the resin is bonded to the metal are separated in the horizontal direction.
実施例によると、前記マスターモールドと前記レプリカモールドが分離されてフィルムの下側に付着されるように前記プレスローラ部を前記待機位置に移動させるディモールディング段階と、前記レプリカモールドをフィルム回収部側に移動させるために前記フィルムを移動させる回収段階をさらに含み、前記モールディング段階では、光照射部が前記プレスローラ部とともに移動しながら前記レジンを硬化させ、前記ディモールディング段階で前記レプリカモールドは、前記プレスローラ部が前記待機位置に移動しながらフィルム角度維持ローラ部により形成された前記フィルムの前記プレスローラ部に進入する角度を通じて前記マスターモールドから分離され、前記回収段階の後には、他のレプリカモールドを形成するために前記ステージ下降段階、前記塗布段階、前記上昇段階、前記モールディング段階、前記ディモールディング段階および前記回収段階が再遂行される。 According to the embodiment, a dimolding step of moving the press roller portion to the standby position so that the master mold and the replica mold are separated and adhered to the lower side of the film, and the replica mold on the film recovery portion side. Further includes a recovery step of moving the film to move to, in the molding step the light irradiating section moves with the press roller section to cure the resin, and in the demolding step the replica mold is said to be said. The press roller portion is separated from the master mold through the angle at which the press roller portion enters the press roller portion of the film formed by the film angle maintaining roller portion while moving to the standby position, and after the recovery step, another replica mold is used. The stage descending step, the coating step, the ascending step, the molding step, the dimolding step and the recovery step are re-performed in order to form.
実施例によると、一側から供給されるフィルムにレプリカモールドを形成する転写部と、前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部と、前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部と、を含み、前記転写部は、レジンが塗布されるパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部と、水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部と、前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように前記プレスローラ部と垂直および水平方向に離隔するフィルム角度維持ローラ部を含み、前記プレスローラ部および前記フィルム角度維持ローラ部は、前記フィルム供給部から巻き出された前記フィルムが前記フィルム回収部に回収されるように移動する前記フィルムの移動方向と反対となる方向に移動してモールディング工程を遂行し、前記プレスローラ部および前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの移動方向に移動してディモールディング工程を遂行する。 According to an embodiment, a transfer unit that forms a replica mold on a film supplied from one side, a film supply unit that intermittently unwinds the film and supplies the film toward the transfer unit, and the film. The transfer section includes a film recovery section that intermittently winds up and recovers the film from the transfer section, and the transfer section includes a stage section on which a master mold having a pattern to which a resin is applied is mounted, and a horizontal direction. Includes a press roller section that moves to form the replica mold and a film angle maintaining roller section that separates the film vertically and horizontally from the press roller section so as to change the angle at which the film enters the press roller section. The press roller section and the film angle maintaining roller section move in a direction opposite to the moving direction of the film, which moves so that the film unwound from the film supply section is collected by the film recovery section. Then, the molding step is executed, and the press roller portion and the film angle maintaining roller portion move in the moving direction of the film to carry out the demolding step.
実施例によると、前記フィルム角度維持ローラ部は前記プレスローラ部より前記フィルムの移動方向と反対となる方向に向かうように位置する。 According to the embodiment, the film angle maintaining roller portion is located so as to face the direction opposite to the moving direction of the film from the press roller portion.
実施例によると、前記フィルム回収部は前記プレスローラ部より上側に位置する。 According to the embodiment, the film recovery section is located above the press roller section.
実施例によると、前記転写部は、前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部をともに移動させるように結合し、転写部駆動ユニットによって移動される結合移動部をさらに含む。 According to the embodiment, the transfer portion further includes a coupling moving portion that is coupled so as to move the film angle maintaining roller portion and the press roller portion together and is moved by the transfer unit driving unit.
実施例によると、前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面に接触する、前記ディモールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部が前記レプリカモールドに接触しないように、前記フィルム角度維持ローラ部と前記プレスローラ部の間のフィルムの長さは前記プレスローラ部が前記レプリカモールドを形成するために水平方向に移動する長さに対応する。 According to an embodiment, the film angle maintaining roller portion is in contact with the surface of both sides of the film on which the replica mold is formed, and the film angle maintaining roller portion is attached to the replica mold while the dimolding step is in progress. The length of the film between the film angle maintaining roller portion and the press roller portion corresponds to the length of the press roller portion moving horizontally to form the replica mold so as not to come into contact with each other.
実施例によると、前記フィルム角度維持ローラ部は前記プレスローラ部より前記フィルム供給部から供給されたフィルムが先に進入するように位置する。 According to the embodiment, the film angle maintaining roller section is positioned so that the film supplied from the film supply section enters the press roller section first.
実施例によると、前記フィルム回収部と前記転写部の間に一つ以上配置されてフィルムの進入角度を調整するガイドロールをさらに含み、前記ガイドロールは前記フィルム回収部に回収される前記フィルムに沿って移動する前記レプリカモールドに接触しないように、前記ガイドロールは前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面と異なる面に接触する。 According to the embodiment, one or more guide rolls arranged between the film recovery unit and the transfer unit to adjust the approach angle of the film are further included, and the guide roll is applied to the film collected by the film recovery unit. The guide roll contacts both sides of the film, which are different from the surface on which the replica mold is formed, so as not to contact the replica mold moving along the film.
まず、第1最小間隔の長さより小さい長さである第2最小間隔を具備してプレスローラ部が移動する最小限の長さが小さくなるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。また、第1最小間隔に比べてフィルムの消耗量が減少する効果がある。また、第2最小間隔を具備するフィルムを使ってナノインプリント工程を進行すると、第1最小間隔に比べてレプリカモールドから次のレプリカモールドに移動するのに所要する時間が減少するため、工程時間を短縮できる効果がある。また、プレスローラ部によりマスターモールドに加圧されたレジンを即時に硬化するため、レジンの硬化に必要とされる工程時間を短縮できる効果がある。また、レジンが即時に硬化するためプレスローラ部によってレジンに形成されたパターンの変化が最小化された状態でレプリカモールドを形成するため、レプリカモールドに不良が発生することを防止する効果がある。 First, since the minimum length for the press roller portion to move is reduced by providing the second minimum interval, which is smaller than the length of the first minimum interval, there is an effect that the size of the device is reduced. Further, there is an effect that the amount of film consumed is reduced as compared with the first minimum interval. Further, when the nanoimprint process is carried out using the film having the second minimum interval, the time required to move from the replica mold to the next replica mold is reduced as compared with the first minimum interval, so that the process time is shortened. There is an effect that can be done. Further, since the resin pressurized to the master mold by the press roller portion is immediately cured, there is an effect that the process time required for curing the resin can be shortened. Further, since the resin is cured immediately, the replica mold is formed in a state where the change in the pattern formed on the resin by the press roller portion is minimized, so that there is an effect of preventing the replica mold from being defective.
また、照射方向ガイド部は光照射部の光照射方向の傾きを目的に合うように限定された数値内で変更できるようにガイドする効果がある。 Further, the irradiation direction guide unit has an effect of guiding the inclination of the light irradiation direction of the light irradiation unit so that it can be changed within a limited numerical value so as to suit the purpose.
また、遮光部はレジンの硬化の程度が一定であるように、拡散照射領域がレジンに重複的に光が照射されることを遮蔽してディモールディング工程に影響を与えないため、レプリカモールドに不良が発生することを防止する効果がある。また、第1離隔距離の長さより小さい長さである第2離隔距離を具備してプレスローラ部が移動する最小限の長さが小さくなるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。 In addition, the light-shielding portion is defective in the replica mold because the diffused irradiation region shields the resin from being repeatedly irradiated with light so that the degree of curing of the resin is constant and does not affect the dimolding process. Has the effect of preventing the occurrence of. Further, since the minimum length for the press roller portion to move is reduced by providing the second separation distance, which is a length smaller than the length of the first separation distance, there is an effect that the size of the device is reduced.
また、フィルム角度維持ローラ部は進入角度を一定に維持する効果がある。また、フィルム角度維持ローラ部はプレスローラ部と隣接したガイドロールの離隔した水平位置を最小化できるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。また、フィルム角度維持ローラ部はプレスローラ部の移動による進入角度の変更を防止することによって、別途の手段がなくてもフィルムの張力を維持することができ、ひいてはフィルムの断続的な供給を円滑にすることができる効果がある。 Further, the film angle maintaining roller portion has an effect of maintaining a constant approach angle. Further, since the film angle maintaining roller portion can minimize the separated horizontal position of the guide roll adjacent to the press roller portion, there is an effect that the size of the apparatus is reduced. Further, the film angle maintaining roller portion can maintain the tension of the film without any other means by preventing the approach angle from being changed due to the movement of the press roller portion, and thus the intermittent supply of the film is smooth. There is an effect that can be.
また、フィルム角度維持ローラ部がプレスローラ部と分離されて位置を移動する構成を含んだり、モールディング工程とディモールディング工程のための構成を別途に分離せずとも、フィルム角度維持ローラ部にレプリカモールドが接触して損傷することを防止する効果がある。 Further, even if the film angle maintaining roller portion is separated from the press roller portion and the position is moved, or the configuration for the molding process and the demolding process is not separately separated, the film angle maintaining roller portion is replica-molded. Has the effect of preventing contact and damage.
また、プレスローラ部より上側に位置するフィルム回収部はガイドロールがレプリカモールドに接触することを防止する効果がある。 Further, the film collecting portion located above the press roller portion has an effect of preventing the guide roll from coming into contact with the replica mold.
また、レジンを間接的に拡散させてマスターモールドのパターンに塗布するため、マスターモールドのパターンに塗布されたレジンの塗布容量の偏差が発生しない効果がある。 Further, since the resin is indirectly diffused and applied to the master mold pattern, there is an effect that the deviation of the coating capacity of the resin applied to the master mold pattern does not occur.
以下、添付図面を参照して本発明の実施例について、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。 Hereinafter, examples of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so as to be easily carried out by a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs.
本発明は多様な異なる形態で具現され得、ここで説明する実施例に限定されない。 The present invention can be embodied in a variety of different forms and is not limited to the examples described herein.
本発明で水平方向は図面においてX軸への方向または左側および右側への方向を意味し得、垂直方向は図面においてY軸への方向または上側および下側への方向を意味し得る。 In the present invention, the horizontal direction may mean the direction toward the X-axis or the left and right directions in the drawing, and the vertical direction may mean the direction toward the Y-axis or the upper and lower directions in the drawing.
本発明で長さはX軸に対する相対的距離を意味し得、高さはY軸に対する相対的距離を意味し得る。 In the present invention, length can mean a relative distance to the X-axis and height can mean a relative distance to the Y-axis.
最近ディスプレイ工程および半導体工程で基板(例えば、ディスプレイパネルおよびウェハー(Wafer)等)の表面にパターン(例えば、構造化された成形パターンおよび食刻または蒸着のためのマスクパターンなど)を形成するためにナノインプリント(Nano Imprint)工程が利用されている。 Recently, in display and semiconductor processes, to form patterns on the surface of substrates (eg, display panels and wafers, etc.), such as structured molding patterns and mask patterns for etching or vapor deposition. A NanoImplint process is used.
モールド(Mold)を利用してインプリント(Imprint)形態に基板の表面にナノメートル~マイクロメートル大きさの微細パターンを形成するナノインプリント工程は、マスターモールド10を利用して基板の表面に直接パターンを形成してもよいが、最近ではマスターモールド10からレプリカモールド20を製作し、製作されたレプリカモールド20を利用して基板の表面にパターンを形成する方法が主に利用されている。
In the nanoimprint process of forming a fine pattern of nanometer to micrometer size on the surface of a substrate in an Imprint form using Mold, the pattern is directly formed on the surface of the substrate using
この時、マスターモールド10から製作された1次レプリカモールド20から複製された2次レプリカモールド20を製作することができる。このような、2次レプリカモールド20を製作する1次レプリカモールド20もマスターモールド10と指し示すことができる。すなわち、マスターモールド10はレプリカモールド20を製作するモールドを通称する意味であり得る。また、レプリカモールド20はマスターモールド10から製作されるモールドを通称する意味であり得る。
At this time, the
このような、レプリカモールド20を製作する多様な方法の一つにおいて、プレスローラ部120をフィルム60の上側で前進(モールディング工程)および後進(ディモールディング工程)することによってフィルム60にレプリカモールド20を形成するロール転写方法がある。
In one of various methods for manufacturing the
一方、ロール転写方法を遂行するレプリカモールド20製作装置は、プレスローラ部120が前進する長さに比例して装置の大きさが大きくなる問題点がある。
On the other hand, the
また、レプリカモールド20製作装置は、フィルム60がプレスローラ部120に進入する角度を一定にするために装置の大きさが大きくなる問題点がある。
Further, the
また、レプリカモールド20製作装置は、マスターモールド10のパターンにレジン70を塗布する時、塗布容量の偏差が発生する問題点がある。
Further, the
このような問題点を解決するために、図1~図3に図示された通り、本発明の実施例に係るナノインプリント用レプリカモールド20製作装置は、転写部100、フィルム供給部30およびフィルム回収部40を含むことができる。
In order to solve such a problem, as shown in FIGS. 1 to 3, the
転写部100は一側から供給されるフィルム60の下側にレプリカモールド20を形成することができる。
The
フィルム供給部30はフィルム60を断続的に巻き出して転写部100に向かってフィルム60を供給することができる。
The
フィルム回収部40はフィルム60を断続的に巻き取って転写部100からフィルム60を回収することができる。
The
このような、転写部100はステージ部110、プレスローラ部120および転写部駆動ユニット130を含むことができる。
Such a
ステージ部110はレジン70が塗布されるパターンが形成されたマスターモールド10が装着され得る。
The
マスターモールド10に形成されたパターンは硬質のベースの上面に直接パターンが加工されて形成されるか、ベースの上面にパターンが付着されて形成され得る。以下、マスターモールド10を説明する場合、パターンが形成されることを省略して説明し得る。
The pattern formed on the
プレスローラ部120は水平方向に移動してロール転写方法でレプリカモールド20を形成することができる。
The
転写部駆動ユニット130はプレスローラ部120を一側の待機位置から他側に移動させ再び待機位置に復帰させるために駆動され得る。すなわち、転写部駆動ユニット130はプレスローラ部120を待機位置から水平方向に移動させ再び待機位置に復帰させるために駆動され得る。例えば、転写部駆動ユニット130はプレスローラ部120を待機位置からフィルム60が供給される一側に向かって移動させてモールディング工程を進行し、再び待機位置に復帰させてディモールディング工程を進行するために駆動され得る。
The transfer
転写部駆動ユニット130はアクチュエータであり得る。例えば、図3に図示された通り、転写部駆動ユニット130はモータ131とモータ131によって回転するボールスクリュー132とボールスクリュー132によって移動するブロック133を含むことができる。また、ブロック133は後述する結合移動部150と結合されて共に移動することによって、結合移動部150に結合されたプレスローラ部120を水平方向に移動させることができる。
The transfer
フィルム供給部30と転写部100の間およびフィルム回収部40と転写部100の間のうち一つ以上には、フィルム60の進入角度 FG を調整するガイドロール50が一つ以上配置され得る。例えば、ガイドロール50はフィルム回収部40と転写部100の間に一つ以上配置されてフィルム60をフィルム回収部40に案内することができる。
One or more guide rolls 50 for adjusting the approach angle FG of the
ステージ部110とフィルム60の間にはマスターモールド10とレジン70が位置することができる。例えば、ステージ部110の上側にマスターモールド10が装着され、マスターモールド10の上面に形成されたパターンの上側にレジン70が塗布され、レジン70の上側にフィルム60が位置され得る。この時、フィルム60の上側で水平方向に移動するプレスローラ部120がフィルム60を加圧することによって、フィルム60の下側に位置するレジン70をマスターモールド10に加圧することができる。
The
プレスローラ部120は一側の待機位置から他側に移動しながら、マスターモールド10のパターンにレジン70を結合(モールディング工程)してレプリカモールド20を形成することができる。また、プレスローラ部120は他側から一側の待機位置に復帰しながら、マスターモールド10とレプリカモールド20を分離(ディモールディング工程)してフィルム60の下側に付着したレプリカモールド20を形成することができる。すなわち、プレスローラ部120は待機位置から水平方向に移動してモールディング工程を進行し、再び待機位置に復帰してディモールディング工程を進行してレプリカモールド20を形成することができる。例えば、プレスローラ部120は待機位置からフィルム60が供給される一側に向かって移動してモールディング工程を進行し、再び待機位置に復帰してディモールディング工程を進行してレプリカモールド20を形成することができる。
The
レプリカモールド20製作装置の主な実施例として、光照射部140、フィルム角度維持ローラ部170およびディスペンサ部180に関する実施例がある。以下、光照射部140、フィルム角度維持ローラ部170およびディスペンサ部180に関する実施例をそれぞれ説明するが、実施例としてレプリカモールド20製作装置にそれぞれまたは二以上が共に適用され得る。
As a main embodiment of the
まず、レプリカモールド20製作装置の光照射部140に関する実施例を説明する。
First, an embodiment relating to the
図4(a)に図示された通り、光照射部140の照射方向がステージ部110と垂直な下側方向に向かう場合、光照射部140の照射領域がプレスローラ部120が通り過ぎたマスターモールド10領域に到達するまでの長さに比例して、フィルム60に互いに隣接するように形成される一対のレプリカモールド20の間の離隔した長さである第1最小間隔L1が決定され得る。
As shown in FIG. 4A, when the irradiation direction of the
このような、第1最小間隔L1はプレスローラ部120が移動する最小限の長さであるため、第1最小間隔L1に比例して装置の大きさが大きくなる問題点がある。また、第1最小間隔L1に比例してフィルム60の消耗量が増加する問題点がある。また、第1最小間隔L1を具備するフィルム60を使ってナノインプリント工程を進行すると、第1最小間隔L1に比例してレプリカモールド20から次のレプリカモールド20に移動するのに所要する時間が増加するため、工程の速度が増加する問題点がある。一方、プレスローラ部120によってレジン70に形成されたパターンは時間の経過につれて変化が発生してレプリカモールド20に不良が発行する問題点がある。
Since the first minimum interval L1 is the minimum length for the
このような問題点を解決するために、図4(b)および図5に図示された通り、実施例の具体的な説明として、転写部100は光照射部140および結合移動部150を含むことができる。
In order to solve such a problem, as illustrated in FIGS. 4 (b) and 5, as a specific description of the embodiment, the
光照射部140は光源である発光部143によって発生した光を通じてレジン70に光を照射することができる。
The
この時、レジン70は光エネルギーによって硬化する光景化樹脂であり得る。また、光照射部140がレジン70に照射する光は紫外線(Ultraviolet light)であり得る。すなわち、レジン70は光照射部140が照射する光によって硬化され得る。
At this time, the
光照射部140は照射方向がステージ部110と垂直な下側方向を基準としてプレスローラ部120に向かうように傾いた傾斜度AGが形成され得る。
The
光照射部140の傾斜度AGはプレスローラ部120が通り過ぎたマスターモールド10を即時に光照射するための傾きに形成され得る。すなわち、プレスローラ部120によりマスターモールド10に加圧されたレジン70を即時に硬化することができる。
The inclination AG of the
図5に図示された通り、光照射部140の傾斜度AGは0度に定義されたステージ部110に向かう方向および90度に定義されたプレスローラ部120に向かう方向を基準として10度~80度の傾きに形成され得る。
As shown in FIG. 5, the inclination AG of the
光照射部140がレジン70を照射する光は、光がレジン70に到達する照射領域を形成することができる。
The light that the
結合移動部150は光照射部140およびプレスローラ部120と結合されて共に転写部駆動ユニット130により移動することができる。
The
光照射部140の照射方向がステージ部110と垂直な下側方向を基準としてプレスローラ部120に向かうように傾いて傾斜度AGが形成された場合、光照射部140の照射領域がプレスローラ部120が通り過ぎたマスターモールド10領域に到達するまでの長さに比例してフィルム60に形成される互いに隣接する一対のレプリカモールド20の間の第2最小間隔L2が決定され得る。
When the inclination AG is formed by tilting the irradiation direction of the
このような、第2最小間隔L2は、光照射部140の照射方向がステージ部110と垂直な下側方向に向かう場合より照射領域がプレスローラ部120が通り過ぎたマスターモールド10領域に到達するまでの長さが小さいため、第2最小間隔L2の長さは第1最小間隔L1の長さより小さくてもよい。
Such a second minimum interval L2 is set until the irradiation region reaches the
このように、第1最小間隔L1の長さより小さい長さである第2最小間隔L2を具備してプレスローラ部120が移動する最小限の長さが小さくなるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。また、第1最小間隔L1に比べてフィルム60の消耗量が減少する効果がある。また、第2最小間隔L2を具備するフィルム60を使ってナノインプリント工程を進行すると、第1最小間隔L1に比べてレプリカモールド20から次のレプリカモールド20に移動するのに所要する時間が減少するため、工程時間を短縮できる効果がある。また、プレスローラ部120によりマスターモールド10に加圧されたレジン70を即時に硬化するため、レジン70の硬化に必要とされる工程時間を短縮できる効果がある。また、レジン70が即時に硬化するため、プレスローラ部120によってレジン70に形成されたパターンの変化が最小化された状態でレプリカモールド20を形成するため、レプリカモールド20に不良が発生することを防止する効果がある。
As described above, since the minimum length for the
図5および図6に図示された通り、実施例の具体的な説明として、光照射部140は照射方向ガイド部160を含むことができる。
As illustrated in FIGS. 5 and 6, as a specific description of the embodiment, the
照射方向ガイド部160はプレスローラ部120の下側を照射するように、0度であるステージ部110と垂直な下側方向を基準として照射方向が10度~80度内で傾くようにガイドすることができる。
The irradiation
照射方向ガイド部160は一実施例として、図5および図6に図示された通り、回転可能なように形成された光照射部140から突出した突出部161の移動をガイドして光照射方向の傾きをガイドするように長さを具備する曲線形態で形成されたガイド溝162に照射方向の傾きが変更されないように固定する固定部163が結合される構造であり得る。
As an example, the irradiation
照射方向ガイド部160は他の実施例として、図示してはいないが、照射方向ガイド部160はアクチュエータ(Actuator)により光照射方向の傾きが変更される構造であり得る。
Although the irradiation
このように、照射方向ガイド部160は光照射部140の光照射方向の傾きを目的に合うように限定された数値内で変更できるようにガイドする効果がある。
As described above, the irradiation
照射領域は図4に図示された通り、光照射部140の発光部143により発生した光が直接レジン70に到達する直接照射領域142Aおよび直接照射領域142Aの周囲の光が拡散してレジン70に到達する拡散照射領域142Bで構成され得る。
As shown in FIG. 4, the irradiation region includes the
光照射部140の直接照射領域142Aによりレジン70の光照射が完了した領域は、拡散照射領域142Bにより重複的に光が照射され得る。この時、重複的に光照射されたレジン70の領域は硬化の程度が変わることになる。例えば、光照射部140が光照射を始めたレジン70の一側は光照射が終るレジン70の他側より拡散照射領域142Bによりさらに多く重複的に光が照射されるため、硬化の程度がさらに高くなり得る。
The region where the light irradiation of the
このような、光照射の重複による硬化の程度の差は、マスターモールド10とレプリカモールド20の分離に影響を与えてレプリカモールド20に不良が発生する問題点がある。
Such a difference in the degree of curing due to overlapping light irradiation affects the separation of the
図7(a)に図示された通り、拡散照射領域142Bがレジン70を完全に通り過ぎるようにしてレジン70のすべての領域に重複的に光照射をすることによって硬化の程度が変わる問題点を解決することはできるが、拡散照射領域142Bが完全にレジン70を通り過ぎるだけのプレスローラ部120とレジン70の間の第1離隔距離S1が決定され得る。
As shown in FIG. 7 (a), the problem that the degree of curing is changed by irradiating all the regions of the
このような、第1離隔距離S1はプレスローラ部120が移動する最小限の長さであるため、第1離隔距離S1に比例して装置の大きさが大きくなる問題点がある。
Since the first separation distance S1 is the minimum length for the
このような問題点を解決するために、図6に図示された通り、実施例の具体的な説明として、光照射部140は遮光部141を含むことができる。
In order to solve such a problem, as illustrated in FIG. 6, as a specific description of the embodiment, the
遮光部141は光照射部140から突出するように配置されて、レジン70に照射する光が拡散してレジン70に重複的に光が照射されることを遮蔽することができる。
The light-shielding
遮光部141はプレスローラ部120との間に光照射部140の照射領域が位置するように配置され得る。
The light-shielding
遮光部141は光照射部140の光源143より大きい幅を具備し、フィルム60の移動を妨害しない範囲内で突出した長さを具備することができる。例えば、図6に図示された通り、遮光部141は板材の形状で形成されて光照射部140に配置され得る。
The light-shielding
図7(b)に図示された通り、遮光部141は拡散照射領域142Bがレジン70に重複的に光が照射されることを遮蔽することによってレジン70の硬化の程度を一定にし、プレスローラ部120とレジン70の間の第2離隔距離S2を最小化することができる。
As shown in FIG. 7B, the light-shielding
このように、遮光部141はレジン70の硬化の程度が一定であるように、拡散照射領域142Bがレジン70に重複的に光が照射されることを遮蔽してディモールディング工程に影響を与えないため、レプリカモールド20に不良が発生することを防止する効果がある。また、第1離隔距離S1の長さより小さい長さである第2離隔距離S2を具備してプレスローラ部120が移動する最小限の長さが小さくなるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。
As described above, the light-shielding
次に、レプリカモールド20製作装置のフィルム角度維持ローラ部170に関する実施例を説明する。
Next, an embodiment relating to the film angle maintaining
フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120よりフィルム供給部30から供給されたフィルム60が先に進入するように位置することができる。例えば、フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120よりフィルム60が供給される一側に位置し、プレスローラ部120より上側に位置することができる。また、フィルム角度維持ローラ部170と光照射部140はプレスローラ部120を挟んで両側に位置し、プレスローラ部120は光照射部140よりフィルム60が供給される一側に位置することができる。
The film angle maintaining
プレスローラ部120にフィルム60が進入する角度である進入角度FGは隣接したロールの水平位置によって決定され得る。
The approach angle FG, which is the angle at which the
図8(a)に図示された通り、進入角度FGはプレスローラ部120が一側の待機位置から他側に移動し再び待機位置に復帰する間に、随時進入角度FGが変更され得る。すなわち、モールディング工程およびディモールディング工程のために、プレスローラ部120が隣接したガイドロール50に水平位置が隣接するように移動し離隔するように移動することにより進入角度FGが変更され得る。
As shown in FIG. 8A, the approach angle FG may be changed at any time while the
このような、進入角度FGは待機位置に位置したプレスローラ部120と隣接したガイドロール50の水平位置が隣接するほど急激に変わる問題点がある。また、進入角度FGが急激に変わることになると、ディモールディング工程でマスターモールド10とレプリカモールド20の分離が同一の角度でなされないため、レプリカモールド20に不良が発生する問題点がある。また、モールディング工程およびディモールディング工程を遂行するためにはフィルム60の張力が維持されなければならないが、進入角度FGが急激に変わることになると、フィルム60の張力も変わることになるため、フィルム60の張力を維持するための別途の手段が必要な問題点がある。例えば、張力を維持するための別途の手段は、フィルム60の張力変化にしたがって位置が変化してフィルム60の張力を維持させるテンションロールを含むものであるか、フィルム供給部30がフィルム60を巻き出すために回転する方向の逆方向に回転するか、フィルム回収部40がフィルム60を巻き取るために回転する方向の逆方向に回転またはフィルム供給部30およびフィルム回収部40すべての逆方向に回転してフィルム60の張力を維持させるものであり得る。また、フィルム60の張力を維持するための別途の手段は円滑なフィルム60の断続的な供給を妨害する問題点がある。この時、図8(b)に図示された通り、待機位置に位置したプレスローラ部120と隣接したガイドロール50の水平位置が離隔すると進入角度FGが急激に変わる問題点を解決することはできるが、進入角度FGが変わることは小幅ではある依然として有効であり、待機位置に位置したプレスローラ部120と隣接したロールの水平位置が離隔することにより装置の大きさが大きくなるさらに他の問題点がある。
Such an approach angle FG has a problem that the horizontal position of the
このような問題点を解決するために、図2に図示された通り、実施例の具体的な説明として、転写部100はフィルム角度維持ローラ部170および結合移動部150を含むことができる。
In order to solve such a problem, as illustrated in FIG. 2, as a specific description of the embodiment, the
フィルム角度維持ローラ部170はフィルム60がプレスローラ部120に進入する角度を変更するようにプレスローラ部120と垂直および水平方向に離隔することができる。
The film angle maintaining
結合移動部150はフィルム角度維持ローラ部170およびプレスローラ部120と結合されて共に転写部駆動ユニット130により移動することができる。
The
図8(c)に図示された通り、フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120が一側の待機位置から他側に移動し再び待機位置に復帰する間、プレスローラ部120とともに移動することによってプレスローラ部120にフィルム60が進入する角度である進入角度FGが一定に維持され得る。
As shown in FIG. 8C, the film angle maintaining
フィルム角度維持ローラ部170はフィルム60の両面のうちレプリカモールド20が形成される面に接触する、ディモールディング工程を進行する間フィルム角度維持ローラ部170がレプリカモールド20に接触しないように、フィルム角度維持ローラ部170とプレスローラ部120の間のフィルム60の長さはプレスローラ部120がレプリカモールド20を形成するために水平方向に移動する長さに対応することができる。すなわち、図14に図示された通り、フィルム角度維持ローラ部170とプレスローラ部120の間のフィルム60の長さはレプリカモールド20の水平方向への長さより大きくてもよい。
The film angle maintaining
このように、フィルム角度維持ローラ部170は進入角度FGを一定に維持する効果がある。また、フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120と隣接したガイドロール50の離隔した水平位置を最小化できるため、装置の大きさが小さくなる効果がある。また、フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120の移動による進入角度FGの変更を防止することによって、別途の手段がなくともフィルム60の張力を維持することができ、ひいてはフィルム60の断続的な供給を円滑にすることができる効果がある。
As described above, the film angle maintaining
フィルム供給部30から巻き出されたフィルム60がフィルム回収部40に回収されるように移動するフィルム60の移動方向にプレスローラ部120が移動してモールディング工程を遂行し、フィルム60の移動方向と反対となる方向にプレスローラ部120が移動してディモールディング工程を遂行するためには、フィルム角度維持ローラ部170がプレスローラ部120よりフィルム60の移動方向に向かうように位置しなければならないため、モールディング工程およびディモールディング工程によって形成されたレプリカモールド20がフィルム回収部40に回収されるように移動する過程で、レプリカモールド20がフィルム角度維持ローラ部170と接触して損傷する問題点がある。
The
レプリカモールド20がフィルム角度維持ローラ部170と接触しないようにするためには、フィルム角度維持ローラ部170がプレスローラ部120と分離されて位置を移動する構成を含むか、モールディング工程とディモールディング工程のための構成を別途に分離することによって解決することができるが、好ましい問題解決方法とは言えない。
In order to prevent the
このような問題点を解決するために、フィルム60の移動方向と反対となる方向にプレスローラ部120が移動してモールディング工程を遂行し、フィルム60移動方向にプレスローラ部120が移動してディモールディング工程を遂行できる。また、フィルム角度維持ローラ部170はプレスローラ部120よりフィルム60の移動方向と反対となる方向に向かうように位置することができる。
In order to solve such a problem, the
このように、フィルム角度維持ローラ部170がプレスローラ部120と分離されて位置を移動する構成を含んだり、モールディング工程とディモールディング工程のための構成を別途に分離せずとも、フィルム角度維持ローラ部170にレプリカモールド20が接触して損傷することを防止する効果がある。
As described above, the film angle maintaining
また、フィルム回収部40に回収されるフィルム60に沿って移動するレプリカモールド20にガイドロール50が接触しないために、フィルム回収部40はプレスローラ部120より上側に位置してガイドロール50がフィルム60の両面のうちレプリカモールド20が形成される面と異なる面に接触するようにすることができる。すなわち、ガイドロール50がフィルム60の両面のうちレプリカモールド20が形成されない面にのみ接触し、レプリカモールド20が形成される面には接触しないようにすることができる。
Further, since the
このように、プレスローラ部120より上側に位置するフィルム回収部40はガイドロール50がレプリカモールド20に接触することを防止する効果がある。
As described above, the
次に、レプリカモールド20製作装置のディスペンサ部180に関する実施例を説明する。
Next, an embodiment relating to the
レジン70を直接的にマスターモールド10のパターンに塗布することになると、均一に塗布されないため塗布容量の偏差が発生する。
When the
このような塗布容量の偏差は、塗布容量が不足した場合にはレプリカモールド20のパターンが形成されない不良が発生し、塗布容量が過度な場合にはレプリカモールド20に残余物として残存して他の構成を汚染させる不良が発生する問題点がある。
Such a deviation in the coating capacity causes a defect that the pattern of the
このような問題点を解決するために、図9に図示された通り、実施例の具体的な説明として、ディスペンサ部180およびプレスローラ駆動ユニット210を含むことができる。
In order to solve such a problem, as illustrated in FIG. 9, a
ディスペンサ部180は待機位置に位置するプレスローラ部120とマスターモールド10のパターンの間の空間である塗布領域PAに、マスターモールド10のパターンと重ならないようにレジン70を塗布することができる。この時、塗布領域PAはステージ部110の上面であり得る。
The
ディスペンサ部180はディスペンサノズル181を通じてレジン70が塗布され得る。
The
図18~図20に図示された通り、ディスペンサ部180は多様な形態でレジン70を塗布することができる。例えば、図18に図示された通り、ディスペンサ部180はレジン70を一列に列がつながるように塗布することができる。また、図19に図示された通り、ディスペンサ部180はレジン70を二列または図示してはいないがそれ以上に列がつながるように塗布することができる。また、図20に図示された通り、ディスペンサ部180はレジン70を一列または図示してはいないがそれ以上に列が複数個に分離(例えば、点線の形状)されるように塗布することができる。
As shown in FIGS. 18 to 20, the
プレスローラ駆動ユニット210はプレスローラ部120の垂直位置を移動させてステージ部110とプレスローラ部120の間に間隔が形成され得る。
The press
このような、ステージ部110とプレスローラ部120の間の間隔を通じて、プレスローラ部120が移動する水平方向にレジン70を拡散させてマスターモールド10のパターンに塗布することができる。
Through such a gap between the
プレスローラ駆動ユニット210はアクチュエータであり得る。
The press
このように、レジン70を間接的に拡散させてマスターモールド10のパターンに塗布するため、マスターモールド10のパターンに塗布されたレジン70の塗布容量の偏差が発生しない効果がある。
As described above, since the
図9に図示された通り、実施例の具体的な説明として、ステージ駆動ユニット200およびディスペンサ駆動ユニット(図示せず)を含むことができる。
As illustrated in FIG. 9, as a specific description of the embodiment, a
ステージ駆動ユニット200はステージ部110を昇下降させることができる。
The
ディスペンサ駆動ユニット(図示せず)はレジン70を塗布するために、ステージ駆動ユニット200によって下降されたステージ部110にディスペンサ部180を引き込ませ再びディスペンサ部180を引き出させることができる。
The dispenser drive unit (not shown) can pull the
ステージ駆動ユニット200およびディスペンサ駆動ユニット(図示せず)はアクチュエータであり得る。
The
前述したレプリカモールド20製作装置がレプリカモールド20を製造する工程を後述する。
The process of manufacturing the
まず、モールディング工程段階を説明する。 First, the molding process stage will be described.
図9~図12に図示された通り、直接的にマスターモールド10のパターンにレジン70を塗布せず、マスターモールド10のパターンと離隔した空間に設けられた塗布領域PAにレジン70を塗布してマスターモールド10のパターンにレジン70をモールディング(結合)してレプリカモールド20を形成することができる。
As shown in FIGS. 9 to 12, the
例えば、まず図9に図示された通り、ステージ部110が下降してフィルム60とステージ部110の間にディスペンサ部180が引き込まれ得る空間を形成することができる。
For example, first, as shown in FIG. 9, the
その後、図16に図示された通り、ディスペンサ部180がステージ部110の側面からステージ部110の内側に引き込まれ得る。
Then, as illustrated in FIG. 16, the
その後、図17および図18に図示された通り、ディスペンサ部180が引き出されながら塗布領域PAにレジン70を塗布することができる。
After that, as shown in FIGS. 17 and 18, the
その後、図10に図示された通り、レジン70が塗布されたステージ部110が上昇することができる。
After that, as shown in FIG. 10, the
その後、図11および図12に図示された通り、プレスローラ部120が一側の待機位置から他側に移動して塗布領域PAに塗布されたレジン70をマスターモールド10のパターンに塗布されるように拡散させることができる。すなわち、ステージ部110とプレスローラ部120の間の間隔を通じてプレスローラ部120が移動する水平方向にレジン70を拡散させてマスターモールド10のパターンに塗布することができる。
After that, as shown in FIGS. 11 and 12, the
この時、プレスローラ部120はマスターモールド10のパターンに塗布されたレジン70の上側を移動しながら、マスターモールド10のパターンにレジン70を結合(モールディング工程)してレプリカモールド20を形成することができる。
At this time, the
このような、塗布領域PA内でレジン70が最初に塗布される位置とマスターモールド10のパターンにレジン70を結合する位置は水平方向に離隔し得る。
Such a position in the coating area PA where the
また、プレスローラ部120とともに光照射部140が移動しながらレジン70を硬化させてレプリカモールド20を形成することができる。
Further, the
次に、ディモールディング工程段階を説明する。 Next, the dimolding process stage will be described.
図13~図15に図示された通り、マスターモールド10とレプリカモールド20を分離してフィルム60の下側に付着されたレプリカモールド20を形成することができる。
As shown in FIGS. 13 to 15, the
例えば、図13~図14に図示された通り、プレスローラ部120が他側から一側の待機位置に移動しながらフィルム角度維持ローラ部170が形成するフィルム60がプレスローラ部120に進入する角度を通じて、レプリカモールド20をマスターモールド10から分離することができる。
For example, as shown in FIGS. 13 to 14, the angle at which the
その後、図15に図示された通り、フィルム60を移動して完成されたレプリカモールド20をフィルム回収部40側に移動させ、次のレプリカモールド20を形成するためにステージ部110が下降することができる。
After that, as shown in FIG. 15, the
この時、ステージ部110が下降すると、ロボットアーム(図示せず)がマスターモールド10を他のマスターモールド10に取り替えることができる。
At this time, when the
このような、レプリカモールド20を製造する工程は数回繰り返され得る。
Such a step of manufacturing the
以上、好ましい実施例を通じて本発明に関して詳細に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲内で多様に実施され得る。 Although the present invention has been described in detail through preferred embodiments, the present invention is not limited to this, and can be variously implemented within the scope of the claims.
10:マスターモールド
20:レプリカモールド
30:フィルム供給部
40:フィルム回収部
50:ガイドロール
60:フィルム
70:レジン
100:転写部
110:ステージ部
120:プレスローラ部
130:転写部駆動ユニット
140:光照射部
141:遮光部
142A:直接照射領域
142B:拡散照射領域
143:発光部
150:結合移動部
160:照射方向ガイド部
161:突出部
162:ガイド溝
163:固定部
170:フィルム角度維持ローラ部
180:ディスペンサ部
181:ディスペンサノズル
200:ステージ駆動ユニット
210:プレスローラ駆動ユニットL1:第1最小間隔
L2:第2最小間隔
PA:塗布領域
S1:第1離隔距離
S2:第2離隔距離
AG:傾斜度
FG:進入角度
10: Master mold 20: Replica mold 30: Film supply unit 40: Film recovery unit 50: Guide roll 60: Film 70: Resin 100: Transfer unit 110: Stage unit 120: Press roller unit 130: Transfer unit drive unit 140: Optical Irradiation part 141: Light-shielding
Claims (20)
前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部;および
前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部;を含み、
前記転写部は、
レジンが塗布されるパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部;
水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部;
前記プレスローラ部を一側の待機位置から他側に移動させ再び前記待機位置に復帰させるために駆動される転写部駆動ユニット;
前記レジンに光を照射する光照射部;および
前記光照射部および前記プレスローラ部と結合されて共に前記駆動ユニットによって移動される結合移動部;を含み、
前記光照射部は照射方向が前記ステージ部と垂直な下側方向を基準として前記プレスローラ部に向かうように傾く、ナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 A transfer part that forms a replica mold on the film supplied from one side;
A film supply unit that intermittently unwinds the film and supplies the film toward the transfer unit; and a film recovery unit that intermittently winds the film and recovers the film from the transfer unit;
The transfer part is
The stage where the master mold with the pattern to which the resin is applied is mounted;
Press roller section that moves horizontally to form the replica mold;
A transfer unit drive unit driven to move the press roller unit from the standby position on one side to the other side and return it to the standby position again;
A light irradiation unit that irradiates the resin with light; and a coupling movement unit that is coupled to the light irradiation unit and the press roller unit and moved together by the drive unit;
The light irradiation unit is a replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint in which the irradiation direction is tilted toward the press roller unit with reference to the lower direction perpendicular to the stage unit.
照射方向が10度~80度内で傾くようにガイドする照射方向ガイド部;を含む、請求項1に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 The light irradiation unit is
The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 1, further comprising an irradiation direction guide unit that guides the irradiation direction so as to be tilted within 10 to 80 degrees.
前記光照射部から突出するように配置されて前記レジンに照射する光が拡散して前記レジンに重複的に光が照射されることを遮蔽する遮光部;をさらに含む、請求項1または請求項2に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 The light irradiation unit is
1. The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to 2.
前記転写部は、
前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように前記プレスローラ部と垂直および水平方向に離隔するフィルム角度維持ローラ部;をさらに含み、
前記フィルム角度維持ローラ部は前記プレスローラ部より前記フィルム供給部から供給されたフィルムが先に進入するように位置し、
前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面に接触する、ディモールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部が前記レプリカモールドに接触しないように、前記フィルム角度維持ローラ部と前記プレスローラ部の間のフィルムの長さは前記プレスローラ部が前記レプリカモールドを形成するために水平方向に移動する長さに対応し、
前記ガイドロールは前記フィルム回収部に回収される前記フィルムに沿って移動する前記レプリカモールドに接触しないように、前記ガイドロールは前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面と異なる面に接触する、請求項1に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Further comprising a guide roll; one or more arranged between the film recovery section and the transfer section to adjust the approach angle of the film;
The transfer part is
Further included is a film angle maintaining roller section that is vertically and horizontally separated from the press roller section so as to change the angle at which the film enters the press roller section.
The film angle maintaining roller section is positioned so that the film supplied from the film supply section enters the press roller section first.
The film angle maintaining roller portion is in contact with the surface of both sides of the film on which the replica mold is formed. The film angle maintaining roller portion is prevented from contacting the replica mold while the dimolding step is in progress. The length of the film between the film angle maintaining roller section and the press roller section corresponds to the length of the press roller section that moves horizontally to form the replica mold.
The guide roll is placed on both sides of the film, which is different from the surface on which the replica mold is formed, so that the guide roll does not come into contact with the replica mold that moves along the film collected by the film recovery unit. The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 1, which is in contact with the replica mold.
前記プレスローラ部の垂直位置を移動させて前記ステージ部と前記プレスローラ部の間に間隔が形成されるように駆動するプレスローラ駆動ユニット;をさらに含み、
前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の間隔を通じて前記プレスローラ部が一側の待機位置から他側に移動する水平方向に前記レジンを拡散させて前記マスターモールドのパターンに塗布する、請求項1に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 The dispenser section that applies the resin to the coating area, which is the space between the press roller section located at the standby position on one side and the pattern of the master mold, so as not to overlap the pattern of the master mold; and the press roller. Further included is a press roller drive unit that moves the vertical position of the section to drive such that a gap is formed between the stage section and the press roller section.
1 The replica mold manufacturing device for nanoimprint described in.
前記レジンを塗布するために前記ステージ駆動ユニットによって下降されたステージ部に前記ディスペンサ部を引き込ませ再び前記ディスペンサ部を引き出させるディスペンサ駆動ユニット;をさらに含む、請求項5に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Further includes a stage drive unit that raises and lowers the stage portion; and a dispenser drive unit that pulls the dispenser portion into the stage portion lowered by the stage drive unit to apply the resin and pulls out the dispenser portion again. , The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 5.
前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部;
前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部;および
前記フィルム回収部と前記転写部の間に一つ以上配置されて前記フィルムを前記フィルム回収部に案内するガイドロール;を含み、
前記ガイドロールが前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成されない面にのみ接触し、前記レプリカモールドが形成される面には接触しないようにするために、
前記転写部は、
水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するように、前記フィルム回収部より下側に位置し前記ガイドロールより前記フィルムが供給される一側に位置するプレスローラ部;
前記プレスローラ部を待機位置から前記フィルムが供給される一側に向かって移動させてモールディング工程を進行し再び前記待機位置に復帰させてディモールディング工程を進行するために駆動される転写部駆動ユニット;
前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように、前記プレスローラ部より前記フィルムが供給される一側に位置して前記プレスローラ部を挟んで前記ガイドロールと反対側に位置し、前記プレスローラ部より上側に位置するフィルム角度維持ローラ部;および
前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部をともに移動させるように結合し、前記転写部駆動ユニットによって移動される結合移動部;を含み、
前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルム供給部から前記転写部に前記フィルムが供給され、前記モールディング工程を進行し、前記ディモールディング工程を進行し、前記転写部から前記フィルム回収部に前記フィルムが回収される間前記プレスローラ部との位置が変更されず、
前記ガイドロールは前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部が移動する間位置が移動されず、
前記モールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部は前記ガイドロールから離隔距離が増加し、
前記ディモールディング工程が進行される間前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部は前記ガイドロールから離隔距離が減少する、ナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 A transfer part that forms a replica mold on the film supplied from one side;
A film supply unit that intermittently unwinds the film and supplies the film toward the transfer unit;
A film recovery unit that intermittently winds the film to collect the film from the transfer unit; and one or more arranged between the film collection unit and the transfer unit to guide the film to the film collection unit. Including guide rolls;
In order to prevent the guide roll from contacting only the surface of both sides of the film where the replica mold is not formed and not the surface where the replica mold is formed.
The transfer part is
A press roller section located below the film recovery section and on one side to which the film is supplied from the guide roll so as to move horizontally to form the replica mold;
A transfer unit drive unit driven to move the press roller unit from the standby position toward one side to which the film is supplied to advance the molding process, and to return the press roller unit to the standby position again to proceed with the demolding process. ;
It is located on one side where the film is supplied from the press roller portion and is located on the opposite side of the guide roll so as to sandwich the press roller portion so as to change the angle at which the film enters the press roller portion. , The film angle maintaining roller portion located above the press roller portion; and the coupling moving portion which is coupled so as to move both the film angle maintaining roller portion and the press roller portion and is moved by the transfer unit driving unit; Including
In the film angle maintaining roller section, the film is supplied from the film supply section to the transfer section, the molding step is advanced, the demolding step is advanced, and the film is collected from the transfer section to the film recovery section. The position with the press roller portion is not changed during the process.
The position of the guide roll is not moved while the film angle maintaining roller portion and the press roller portion move.
During the molding step, the film angle maintaining roller portion and the press roller portion are separated from the guide roll by increasing the separation distance.
A replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint in which the distance between the film angle maintaining roller portion and the press roller portion is reduced from the guide roll while the demolding step is in progress.
前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面に接触する、前記ディモールディング工程を進行する間、前記フィルム角度維持ローラ部が前記レプリカモールドに接触しないように、前記フィルム角度維持ローラ部と前記プレスローラ部の間のフィルムの長さは前記プレスローラ部が前記レプリカモールドを形成するために水平方向に移動する長さに対応する、請求項7に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 The distance between the film angle maintaining roller section and the film supply section is shorter than the distance between the press roller section and the film supply section.
The film angle maintaining roller portion is in contact with the surface of both sides of the film on which the replica mold is formed so that the film angle maintaining roller portion does not come into contact with the replica mold while the dimolding step is in progress. The nanoimprint according to claim 7, wherein the length of the film between the film angle maintaining roller portion and the press roller portion corresponds to the length of the press roller portion moving horizontally to form the replica mold. Replica mold making equipment for.
ディスペンサ部;を含み、
前記転写部は、
上面にパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部;
水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部;および
前記プレスローラ部を待機位置から水平方向に移動させ再び前記待機位置に復帰させるために駆動される転写部駆動ユニット;を含み、
前記ディスペンサ部は前記待機位置に位置する前記プレスローラ部と前記マスターモールドのパターンの間の空間である前記ステージ部の上面の塗布領域に、前記マスターモールドのパターンと重ならないようにレジンを塗布し、
前記プレスローラ部は、
前記待機位置から水平方向に移動しながら、前記マスターモールドのパターンと重ならない領域である前記塗布領域から前記水平方向に前記レジンを拡散させて前記マスターモールドの上面に前記レジンを塗布し、
前記マスターモールドの上面に塗布された前記レジンの上側を移動しながら、前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合してレプリカモールドを形成し、
前記塗布領域内で前記レジンが最初に塗布される位置と前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合する位置は水平方向に離隔する、ナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Includes a transfer section; and a dispenser section; that form a replica mold on the film supplied from one side.
The transfer part is
The stage part where the master mold with the pattern formed on the upper surface is mounted;
Includes a press roller section that moves horizontally to form the replica mold; and a transfer section drive unit that is driven to move the press roller section horizontally from the standby position and return it to the standby position again.
The dispenser portion applies resin to the coating area on the upper surface of the stage portion, which is a space between the press roller portion located at the standby position and the master mold pattern, so as not to overlap with the master mold pattern. ,
The press roller portion is
While moving horizontally from the standby position, the resin is diffused in the horizontal direction from the coating area, which is a region that does not overlap with the pattern of the master mold, and the resin is applied to the upper surface of the master mold.
While moving the upper side of the resin applied to the upper surface of the master mold, the resin is bonded to the pattern of the master mold to form a replica mold.
A replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint in which the position where the resin is first applied in the coating area and the position where the resin is bonded to the pattern of the master mold are separated in the horizontal direction.
前記レジンを塗布するために前記ステージ駆動ユニットによって下降されたステージ部に前記ディスペンサ部を引き込ませ再び前記ディスペンサ部を引き出させるディスペンサ駆動ユニット;をさらに含む、請求項9に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Further includes a stage drive unit that raises and lowers the stage portion; and a dispenser drive unit that pulls the dispenser portion into the stage portion lowered by the stage drive unit to apply the resin and pulls out the dispenser portion again. , The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 9.
前記プレスローラ部は前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の空間から移動して前記ステージ部と前記プレスローラ部の間の間隔を通じて前記レジンを拡散させる、請求項9に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Further included is a press roller drive unit that moves the vertical position of the press roller portion to drive so that a gap is formed between the stage portion and the press roller portion.
The replica mold for nanoimprint according to claim 9, wherein the press roller portion moves from the space between the stage portion and the press roller portion and diffuses the resin through a space between the stage portion and the press roller portion. Production equipment.
ディスペンサ部が前記ステージ部の内側に引き込まれ引き出されながら直接的にマスターモールドのパターンにレジンを塗布せずに、前記マスターモールドの上面に形成されたパターンと離隔した空間でありながら前記ステージ部の上面である塗布領域にレジンを塗布する塗布段階;
ステージ部が上昇する上昇段階;および
プレスローラ部が待機位置から水平方向に移動しながら前記レジンが前記マスターモールドの上面に形成されたパターンに塗布されるように、前記レジンを水平方向に拡散させるモールディング段階;を含み、
前記モールディング段階では、
前記プレスローラ部が前記マスターモールドの上面に塗布された前記レジンの上側を移動しながら、前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合してレプリカモールドを形成し、
前記塗布領域内で前記レジンが最初に塗布される位置と前記マスターモールドのパターンに前記レジンを結合する位置は水平方向に離隔する、ナノインプリント用レプリカモールド製作方法。 Stage descent stage where the stage part descends;
While the dispenser portion is pulled in and pulled out from the inside of the stage portion, the resin is not directly applied to the pattern of the master mold, and the space is separated from the pattern formed on the upper surface of the master mold, but the stage portion is formed. The coating stage where the resin is applied to the coating area on the upper surface;
The ascending stage in which the stage portion rises; and the resin is horizontally diffused so that the resin is applied to the pattern formed on the upper surface of the master mold while the press roller portion moves horizontally from the standby position. Including the molding stage;
At the molding stage,
While the press roller portion moves on the upper side of the resin applied to the upper surface of the master mold, the resin is bonded to the pattern of the master mold to form a replica mold.
A method for manufacturing a replica mold for nanoimprint, wherein the position where the resin is first applied in the coating area and the position where the resin is bonded to the pattern of the master mold are separated in the horizontal direction.
前記レプリカモールドをフィルム回収部側に移動させるために前記フィルムを移動させる回収段階;をさらに含み、
前記モールディング段階では、
光照射部が前記プレスローラ部とともに移動しながら前記レジンを硬化させ、
前記ディモールディング段階で前記レプリカモールドは、
前記プレスローラ部が前記待機位置に移動しながらフィルム角度維持ローラ部により形成された前記フィルムの前記プレスローラ部に進入する角度を通じて前記マスターモールドから分離され、
前記回収段階の後には、
他のレプリカモールドを形成するために前記ステージ下降段階、前記塗布段階、前記上昇段階、前記モールディング段階、前記ディモールディング段階および前記回収段階が再遂行される、請求項12に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作方法。 A dimolding step in which the press roller section is moved to the standby position so that the master mold and the replica mold are separated and adhered to the underside of the film; and to move the replica mold to the film recovery section side. Further including a recovery step of moving the film;
At the molding stage,
The resin is cured while the light irradiation unit moves together with the press roller unit.
At the dimolding stage, the replica mold is
The press roller portion is separated from the master mold through an angle of entering the press roller portion of the film formed by the film angle maintaining roller portion while moving to the standby position.
After the recovery stage,
12. The replica mold for nanoimprint according to claim 12, wherein the stage descending step, the coating step, the ascending step, the molding step, the dimolding step and the recovery step are re-performed to form another replica mold. Manufacturing method.
前記フィルムを断続的に巻き出して前記転写部に向かって前記フィルムを供給するフィルム供給部;
前記フィルムを断続的に巻き取って前記転写部から前記フィルムを回収するフィルム回収部;を含み、
前記転写部は、
レジンが塗布されるパターンが形成されたマスターモールドが装着されるステージ部;
水平方向に移動して前記レプリカモールドを形成するプレスローラ部;
前記フィルムが前記プレスローラ部に進入する角度を変更するように前記プレスローラ部と垂直および水平方向に離隔するフィルム角度維持ローラ部;を含み、
前記プレスローラ部および前記フィルム角度維持ローラ部は、前記フィルム供給部から巻き出された前記フィルムが前記フィルム回収部に回収されるように移動する前記フィルムの移動方向と反対となる方向に移動してモールディング工程を遂行し、前記プレスローラ部および前記フィルム角度維持ローラ部は前記フィルムの移動方向に移動してディモールディング工程を遂行する、ナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 A transfer part that forms a replica mold on the film supplied from one side;
A film supply unit that intermittently unwinds the film and supplies the film toward the transfer unit;
A film recovery unit that intermittently winds the film and recovers the film from the transfer unit;
The transfer part is
The stage where the master mold with the pattern to which the resin is applied is mounted;
Press roller section that moves horizontally to form the replica mold;
A film angle maintaining roller section that is vertically and horizontally separated from the press roller section so as to change the angle at which the film enters the press roller section;
The press roller section and the film angle maintaining roller section move in a direction opposite to the moving direction of the film, which moves so that the film unwound from the film supply section is collected by the film recovery section. A replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint, wherein the press roller portion and the film angle maintaining roller portion move in the moving direction of the film to carry out the dimolding step.
前記フィルム角度維持ローラ部および前記プレスローラ部をともに移動させるように結合し、転写部駆動ユニットによって移動される結合移動部;をさらに含む、請求項14に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 The transfer part is
The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 14, further comprising a coupling moving portion that is coupled so as to move both the film angle maintaining roller portion and the press roller portion and is moved by the transfer unit driving unit.
前記ガイドロールは前記フィルム回収部に回収される前記フィルムに沿って移動する前記レプリカモールドに接触しないように、前記ガイドロールは前記フィルムの両面のうち前記レプリカモールドが形成される面と異なる面に接触する、請求項14に記載のナノインプリント用レプリカモールド製作装置。 Further comprising a guide roll; one or more arranged between the film recovery section and the transfer section to adjust the approach angle of the film;
The guide roll is placed on both sides of the film, which is different from the surface on which the replica mold is formed, so that the guide roll does not come into contact with the replica mold that moves along the film collected by the film recovery unit. The replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint according to claim 14, which is in contact with the replica mold.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007281099A (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Meisho Kiko Kk | Nano-imprint apparatus and nano-imprint method |
JP2011071191A (en) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Toshiba Mach Co Ltd | Transfer device and transfer method |
JP2014046579A (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Transfer apparatus, object to be molded, and transfer method |
JP2018006553A (en) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | Mold, imprint method, imprint apparatus, and commodity manufacturing method |
JP6694101B1 (en) * | 2019-08-09 | 2020-05-13 | Aiメカテック株式会社 | Fine structure transfer apparatus and fine structure transfer method |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010225785A (en) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Fujimori Kogyo Co Ltd | Method of manufacturing transfer film for imprinting, and transfer film for imprinting |
KR101215990B1 (en) * | 2010-05-27 | 2012-12-27 | 에이피시스템 주식회사 | Imprint apparatus and imprint method using it |
JP5638463B2 (en) * | 2011-05-16 | 2014-12-10 | 株式会社東芝 | Pattern transfer method |
CA2886852C (en) * | 2012-10-05 | 2017-07-25 | Jx Nippon Oil & Energy Corporation | Manufacturing method for optical substrate using film shaped mold, manufacturing device, and optical substrate obtained thereby |
KR102214828B1 (en) * | 2014-05-02 | 2021-02-15 | 삼성전자주식회사 | Imprint apparatus and imprint method thereof |
US10549494B2 (en) * | 2016-04-20 | 2020-02-04 | Himax Technologies Limited | Imprinting apparatus and imprinting method |
CN110023234B (en) * | 2016-12-02 | 2024-01-09 | 分子印记公司 | Configuring optical layers in imprint lithography processes |
CN106827786B (en) * | 2017-02-16 | 2019-04-05 | 中国科学技术大学 | A kind of dynamic device of contactless continuous rolling |
KR102524604B1 (en) | 2017-12-14 | 2023-04-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for imprint and imprint method using the same |
KR102237277B1 (en) * | 2020-07-01 | 2021-04-07 | 주식회사 기가레인 | Nano imprint replica mold making device |
CN115921146A (en) * | 2022-12-16 | 2023-04-07 | 深圳市吉迩科技有限公司 | Atomizing core based on heating of heating wire and manufacturing method thereof |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007281099A (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Meisho Kiko Kk | Nano-imprint apparatus and nano-imprint method |
JP2011071191A (en) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Toshiba Mach Co Ltd | Transfer device and transfer method |
JP2014046579A (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Toshiba Mach Co Ltd | Transfer apparatus, object to be molded, and transfer method |
JP2018006553A (en) * | 2016-06-30 | 2018-01-11 | キヤノン株式会社 | Mold, imprint method, imprint apparatus, and commodity manufacturing method |
JP6694101B1 (en) * | 2019-08-09 | 2020-05-13 | Aiメカテック株式会社 | Fine structure transfer apparatus and fine structure transfer method |
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